TW202136696A - 熱處理裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題在於提供一種熱處理裝置,其可防止藉由過熱水蒸氣進行被處理物之熱處理的熱處理裝置之結構的複雜化,並且可抑制在進行被處理物之熱處理的熱處理室內發生環境氛圍(atmosphere)之停滯的情形。熱處理裝置1具備有熱處理室11、水蒸氣供給部13、及水蒸氣排出部15。熱處理室11設置有供被處理物10搬入的入口31及供被處理物10搬出的出口32,以進行從入口31朝向出口32被搬送之被處理物10的熱處理。水蒸氣供給部13被設置在熱處理室11中的加熱區域HR,對熱處理室11內供給過熱水蒸氣。水蒸氣排出部15在熱處理室11中,相對於水蒸氣供給部13分別被設置在入口31側及出口32側,將熱處理室11內之過熱水蒸氣朝向熱處理室11的外部排出。
Description
本發明係關於利用過熱水蒸氣加熱被處理物來進行被處理物之熱處理的熱處理裝置。
過去以來,已知有利用過熱水蒸氣加熱被處理物來進行被處理物之熱處理的熱處理裝置(例如,參照專利文獻1)。專利文獻1所記載的熱處理裝置,具備有作為加熱爐被設置而進行被處理物之熱處理的熱處理室,且用於加熱被處理物的加熱區域被形成於熱處理室內。熱處理室內的加熱區域被劃分為從被處理物之搬送方向的上游側朝向下游側依序地鄰接而被設置的複數個區段(zone)。而且,專利文獻1的熱處理裝置,被構成為被處理物一邊在各區段內依序地被搬送一邊由過熱水蒸氣所加熱,而實施被處理物的熱處理。
又,專利文獻1的熱處理裝置,被構成為在熱處理室內之複數個區段之各者被供給作為過熱水蒸氣的水蒸氣。更具體而言,被構成為在熱處理室中各區段的上表面設置有開孔部,從各區段的上表面的開孔部向各區段內供給作為過熱水蒸氣的水蒸氣。又,在專利文獻1的熱處理裝置中,在熱處理室的各區段的下表面設置有排氣孔。藉此,專利文獻1的熱處理裝置,被構成為在熱處理室內的各區段中,從上表面的開孔部被供給而通過各區段內的水蒸氣,從下表面的排氣孔被排出。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本專利特開2015-2325號公報
(發明所欲解決之問題)
專利文獻1所揭示的熱處理裝置,被構成為在熱處理室內沿著被處理物之搬送方向排列的複數個區段之各者中,從上表面的開孔部供給過熱水蒸氣,並將水蒸氣從下表面的排氣孔排出。因此,存在有熱處理裝置會因如下的結構而複雜化的問題:熱處理室內之複數個區段之各者需要用以對熱處理室內供給過熱水蒸氣,並在其後將使用於被處理物之加熱後的水蒸氣朝向外部排出。
又,專利文獻1的熱處理裝置如以上所述,在熱處理室內之複數個區段之各者中,從上表面的開孔部供給過熱水蒸氣並將水蒸氣從下表面的排氣孔排出。因此,在熱處理室內的各區段中,水蒸氣從上表面的開孔部朝向下表面的排氣孔流動,而分別在每個區段中不均勻地形成從上方朝向下方流動之水蒸氣的流動。藉此,在熱處理室內,則難以產生沿著與被處理物之搬送方向平行之方向的水蒸氣的流動。所以,沿著與被處理物之搬送方向平行之方向的水蒸氣的流動會產生較大的偏差,而容易產生水蒸氣之流動停滯的區域,其結果,在熱處理室內容易產生環境氛圍停滯的區域。
又其存在有如下的問題:若在熱處理室內容易發生環境氛圍的停滯,在熱處理室內便容易發生過熱水蒸氣之分佈的不均,在相同的熱處理室內實施熱處理之複數個被處理物之間便會容易發生熱處理的不均。又,在當熱處理時一部分成分從被處理物氣化而產生氣體之處理的情形時, 若在熱處理室內發生滯留,從被處理物所產生的氣體便會在發生滯留的區域滯留。而且,其存在有如下的問題:若發生環境氛圍之停滯而當熱處理時從被處理物所產生的氣體滯留,加熱區域內之過熱水蒸氣的純度便會降低,其會導致熱處理效率的降低。又,從被處理物所產生並滯留於環境氛圍之停滯區域的氣體並不會從熱處理室被排出,而會伴隨著熱處理結束時之溫度的降低而液化,從而在熱處理室內的頂壁或牆壁面結露。此外,其存在有如下的問題:當開始新的熱處理時,在熱處理室內的頂壁或牆壁面所結露的成分會滴落至被處理物上,而使被處理物產生髒污。
再者,作為當熱處理時一部分的成分從被處理物氣化而產生氣體的處理,例如為燒結處理。在燒結處理中為進行如下的處理:對作為利用含有油脂成分之黏合劑所一體化之被燒結體的被處理物進行加熱,使黏合劑氣化而將其加以去除。當進行該處理時,若氣化之黏合劑滯留在環境氛圍的停滯區域而不被排出,便會伴隨著熱處理結束時之溫度的降低而液化,從而在熱處理室內的頂壁或牆壁面結露。而且,當開始新的熱處理時,在熱處理室內的頂壁或牆壁面所結露的黏合劑的成分會滴落至被處理物上,而使被處理物產生髒污。
如上述般,若在熱處理室內容易發生環境氛圍的停滯,在相同的熱處理室內實施熱處理之複數個被處理物之間便會容易發生熱處理的不均,而且,也容易發生如下的問題:伴隨從被處理物中所產生之氣體的滯留之熱處理效率的降低、及被處理物之髒污的產生。因此, 期望可實現抑制熱處理室內之環境氛圍之停滯發生之情形的熱處理裝置。
本發明鑒於上述實情,其目的在於提供一種熱處理裝置,其可防止藉由過熱水蒸氣來進行被處理物之熱處理的熱處理裝置之結構的複雜化,並且可抑制環境氛圍之停滯在進行被處理物之熱處理的熱處理室內發生的情形。
(解決問題之技術手段)
(1) 為了解決上述課題,本發明一態樣之熱處理裝置係關於利用過熱水蒸氣對被處理物進行加熱來實施該被處理物之熱處理者。而且,本發明一態樣之熱處理裝置具備有:熱處理室,其設置有供上述被處理物搬入的入口及供上述被處理物搬出的出口,對從上述入口朝向上述出口被搬送之上述被處理物實施熱處理;水蒸氣供給部,其被設置於上述熱處理室中作為實施上述被處理物之加熱之區域的加熱區域,其對上述熱處理室內供給過熱水蒸氣;以及水蒸氣排出部,其在上述熱處理室中,相對於上述水蒸氣供給部分別被設置於上述入口側及上述出口側,將上述熱處理室內的過熱水蒸氣朝向上述熱處理室的外部排出。
根據該構成,被處理物藉由從被設置於熱處理室之加熱區域之水蒸氣供給部而被供給至熱處理室內的過熱水蒸氣所加熱,來實施被處理物的熱處理。而且,被使用於被處理物之加熱的過熱水蒸氣,從被設置於加熱區域的水蒸氣供給部朝向分別被設置於熱處理室的入口側及出口側的水蒸氣排出部流動,而從水蒸氣排出部朝向熱處理室的外部被排出。因此,在熱處理室中,形成有從加熱區域內的水蒸氣供給部朝向入口側流動而從水蒸氣排出部朝向外部被排出之水蒸氣的流動、及從加熱區域內之水蒸氣供給部朝向出口側流動而從水蒸氣排出部朝向外部被排出之水蒸氣的流動。而且,在熱處理室內,從加熱區域內之水蒸氣供給部朝向入口側及出口側之各者,沿著與被處理物之搬送方向平行之方向形成有流速之偏差較少之更為相同之水蒸氣的流動。藉此,在熱處理室內,難以產生水蒸氣之流動停滯的區域, 其結果,在熱處理室內難以產生環境氛圍停滯的區域。
因此,根據上述構成,可抑制在實施被處理物之熱處理的熱處理室內發生環境氛圍之停滯的情形。又,根據上述構成,由於可抑制在熱處理室內發生環境氛圍之停滯的情形,因此可抑制在相同的熱處理室內實施熱處理之複數個被處理物之間發生熱處理之不均的情形,而且,也可抑制伴隨從被處理物中所產生之氣體的滯留之熱處理效率之降低及被處理物之髒污的發生。
又,根據上述構成,藉由水蒸氣供給部被設置於熱處理室的加熱區域,水蒸氣排出部被設置於熱處理室的入口側及出口側之簡單的構成,可實現抑制熱處理室內之環境氛圍之停滯的發生的熱處理裝置。因此,可防止藉由過熱水蒸氣進行被處理物之熱處理的熱處理裝置之結構的複雜化。
如上述般,根據上述構成,可提供一種熱處理裝置,其可防止藉由過熱水蒸氣對被處理物實施熱處理之熱處理裝置之結構的複雜化,並且可抑制在對被處理物實施熱處理之熱處理室內發生環境氛圍之停滯的情形。
(2) 其存在有下述之情形:進一步具備有對上述熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一者的氣體供給部,上述入口相對於上述熱處理室的外部被開放,在上述熱處理裝置中具有入口側氣體供給部作為上述氣體供給部,該入口側氣體供給部設於較相對於上述熱處理室中之上述水蒸氣供給部而被設在上述入口側之上述水蒸氣排出部更靠上述入口側。
根據該構成,由於熱處理室的入口相對於外部被開放,因此可連續地迅速地且容易地進行被處理物朝向熱處理室內的搬入作業。藉此,可將熱處理程式加以連續化而謀求熱處理之作業效率的提升。而且,根據上述構成,除了入口被開放之外,也設置有,相對於水蒸氣供給部被設置有,在較被設置於入口側之水蒸氣排出部更靠入口側而對熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一氣體的入口側氣體供給部。因此,藉由從入口側氣體供給部供給之氣體,可在對外部被開放的入口與水蒸氣排出部之間分離熱處理室內的環境氛圍。亦即,可將從水蒸氣供給部至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從對外部被開放的入口至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍加以分離。藉此,在為了熱處理之作業效率之提升而入口被開放的熱處理裝置中,可將從水蒸氣供給部至水蒸氣排出部為止之區域的環境氛圍相對於外部加以遮斷,而可效率佳地進行加熱區域中之利用過熱水蒸氣之被處理物的熱處理。
(3) 其存在有下述之情形:上述入口側氣體供給部被設置為一對,於上述熱處理室中,在一對上述入口側氣體供給部之間,設置有將上述熱處理室內之氣體朝向上述熱處理室之外部排出的入口側排氣部。
根據該構成,入口側氣體供給部被設置為一對且在該等之間設置有入口側排氣部。因此,從水蒸氣排出部朝向入口側,依照水蒸氣排出部、一對入口側氣體供給部之一者、入口側排氣部、及一對入口側氣體供給部之另一者的順序,該等被配置。根據該構成, 未被水蒸氣排出部完全排出而以洩漏的方式朝向入口側流動之些微的水蒸氣,則與從一對入口側氣體供給部之一者被供給的氣體混合而被稀釋。而且,與從一對入口側氣體供給部之一者被供給的氣體混合而被稀釋的水蒸氣,則從入口側排氣部朝向外部被排出。因此,從水蒸氣排出部以洩漏的方式朝向入口側流動之些微的水蒸氣,也從入口側排氣部被排出。其結果, 可防止水蒸氣流入入口側排氣部與入口之間的區域即溫度較低的區域之情形。藉此,可防止水蒸氣流入入口側排氣部與入口之間之溫度較低的區域而發生結露之情形。藉由防止結露的發生,可防止水分滴落至從入口被搬入的被處理物上而弄濕被處理物之情形,從而對被處理物的熱處理狀態產生影響之情形。又,根據上述構成,藉由從一對入口側氣體供給部之另一者所供給的氣體、即藉由從被配置於入口側排氣部與入口之間之入口側氣體供給部所供給的氣體, 可更確實地將從水蒸氣供給部至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從入口至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
(4) 其存在有下述之情形:進一步具備有對上述熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一者的氣體供給部,上述出口相對於上述熱處理室的外部被開放,在上述熱處理裝置中具有出口側氣體供給部作為上述氣體供給部,該出口側氣體供給部設於較相對於上述熱處理室中之上述水蒸氣供給部而被設在上述出口側之上述水蒸氣排出部更靠上述出口側。
根據該構成,由於熱處理室的出口相對於外部被開放,因此可連續地迅速地且容易地進行被處理物從熱處理室的搬出作業。藉此,可將熱處理程式加以連續化而謀求熱處理之作業效率的提升。而且,根據上述構成,除了出口被開放之外,也設置有相對於水蒸氣供給部被設置在較被設置於出口側之水蒸氣排出部更靠出口側而對熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一氣體的出口側氣體供給部。因此,藉由從出口側氣體供給部供給的氣體,可在朝外部被開放的出口與水蒸氣排出部之間將熱處理室內的環境氛圍加以分離。亦即,可將從水蒸氣供給部至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從朝外部被開放的出口至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍加以分離。藉此,在為了熱處理之作業效率的提升而出口被開放的熱處理裝置中,可將從水蒸氣供給部至水蒸氣排出部為止之區域的環境氛圍相對於外部加以遮斷,而可有效率地實施加熱區域中之利用過熱水蒸氣之被處理物的熱處理。
(5) 上述出口側氣體供給部被設置為一對,於上述熱處理室中,在一對上述出口側氣體供給部之間設置有將上述熱處理室內之氣體朝向上述熱處理室之外部排出的出口側排氣部。
根據該構成,出口側氣體供給部被設置為一對且在該等之間設置有出口側排氣部。因此,從水蒸氣排出部朝向出口側,依照水蒸氣排出部、一對出口側氣體供給部之一者、出口側排氣部、及一對出口側氣體供給部之另一者的順序,該等被配置。根據該構成,未被水蒸氣排出部完全排出而以洩漏的方式朝向出口側流動之些微的水蒸氣,則與從一對出口側氣體供給部之一者被供給的氣體混合而被稀釋。而且,與從一對出口側氣體供給部之一者被供給的氣體混合而被稀釋的水蒸氣,則從出口側排氣部朝向外部被排出。因此,從水蒸氣排出部以洩漏的方式朝向出口側流動之些微的水蒸氣,也從出口側排氣部被排出。其結果, 可防止水蒸氣流入出口側排氣部與出口之間的區域即溫度較低的區域之情形。藉此,可防止水蒸氣流入出口側排氣部與出口之間之溫度較低的區域而發生結露之情形。藉由防止結露的發生,可防止當被處理物從出口被搬出時水分滴在被處理物上而弄濕被處理物之情形。又, 根據上述構成,藉由從一對出口側氣體供給部之另一者所供給的氣體、即藉由從被配置於出口側排氣部與出口之間之出口側氣體供給部所供給的氣體,可更確實地將從水蒸氣供給部至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從出口至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
(6) 上述水蒸氣供給部具備有在上述被處理物的搬送方向上相互地對向而被配置的一對噴嘴部,一對上述噴嘴部之各者被構成為朝向相對向之一對上述噴嘴部的中間位置側吹出過熱水蒸氣。
根據該構成,從水蒸氣供給部之一對噴嘴部分別被吹出的過熱水蒸氣,朝向相對向之一對噴嘴部的中間位置側流動。於相對向之一對噴嘴部之間的區域,存在設置有被構成為局部地限制在與被處理物之搬送方向平行之方向上之氣體之流動的隔板之情形、及未設置有該隔板之情形。在設置有隔板的情形時,從各噴嘴部被吹出而朝向一對噴嘴部之中間位置側流動的各過熱水蒸氣與隔板碰撞,從而在加熱區域內一邊涵蓋與被處理物之搬送方向垂直之截面的整體擴散一邊以在與被處理物之搬送方向平行的方向上翻轉而折回的方式流動。又,在未設置有隔板的情形時,從各噴嘴部吹出而朝向一對噴嘴部之中間位置側流動的各過熱水蒸氣則相互地碰撞,從而在加熱區域內一邊涵蓋與被處理物之搬送方向垂直之截面的整體擴散一邊以在與被處理物之搬送方向平行的方向上翻轉而折回的方式流動。因此,無論在設置有隔板之情形與未設置有隔板之情形之任一者時,從各噴嘴部被吹出的過熱水蒸氣皆在朝向一對噴嘴部之中間位置側流動並翻轉後,以在加熱區域內涵蓋與被處理物之搬送方向垂直之截面的整體擴散的狀態,朝向與一對噴嘴部之中間位置側之相反方向而沿著與被處理物之搬送方向平行的方向流動。亦即,從一對噴嘴部分別被吹出的過熱水蒸氣,其流動在一對噴嘴部之中間位置側翻轉後,以擴散至加熱區域之截面之整體的狀態,沿著與被處理物之搬送方向平行的方向並沿著相互地遠離的方向流動。因此,從一對噴嘴部之一者所吹出的過熱水蒸氣,從一對噴嘴部之中間位置側朝向熱處理室的入口側並以擴散至加熱區域之截面之整體的狀態流動。而且,從一對噴嘴部之另一者所吹出的過熱水蒸氣,則以從一對噴嘴部之中間位置側朝向熱處理室之出口側擴散至加熱區域之截面之整體的狀態流動。藉此,於熱處理室內,其以如下之狀態形成流速之偏差更少之更相同之水蒸氣的流動:從一對噴嘴部之中間位置側分別朝向入口側及出口側,而沿著與被處理物之搬送方向平行的方向擴散至加熱區域之截面的整體。藉此,於熱處理室內,則更難以產生水蒸氣之流動停滯的區域,其結果,於熱處理室內則更難以產生環境氛圍停滯的區域。因此,根據上述構成,可進一步抑制於熱處理室內發生環境氛圍之停滯的情形。
(7) 在一對上述入口側氣體供給部之各者與上述入口側排氣部之間分別設置有入口側隔板,上述入口側隔板被構成為局部地限制上述熱處理室中之與上述被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體的流動。
根據該構成,在一對入口側氣體供給部之各者與入口側排氣部之間,設置有局部地限制與被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體之流動的入口側隔板。因此,在夾著入口側排氣部而被配置的一對入口側氣體供給部之間,可一邊維持環境氛圍以氣體可流動之方式連通的狀態,一邊形成更容易將環境氛圍加以分離的狀態。藉此,可更有效率地將從水蒸氣供給部至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從入口至入口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
(8) 在一對上述出口側氣體供給部之各者與上述出口側排氣部之間分別設置有出口側隔板,上述出口側隔板被構成為局部地限制上述熱處理室中之與上述被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體的流動。
根據該構成,在一對出口側氣體供給部之各者與出口側排氣部之間,設置有局部地限制與被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體之流動的出口側隔板。因此,在夾著出口側排氣部而被配置的一對出口側氣體供給部之間,可一邊維持環境氛圍以氣體可流動之方式連通的狀態,一邊形成更容易將環境氛圍加以分離的狀態。藉此,可更有效率地將從水蒸氣供給部至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍、與從出口至出口側氣體供給部為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
(對照先前技術之功效)
根據本發明,可防止藉由過熱水蒸氣進行被處理物之熱處理的熱處理裝置之結構的複雜化,並且可抑制在進行被處理物之熱處理的熱處理室內發生環境氛圍之停滯的情形。
以下,一邊參照圖式一邊對用以實施本發明之形態進行說明。
[熱處理裝置的概略]
圖1係示意性地表示本發明之實施形態之熱處理裝置1之一例的圖。圖2係示意地表示關於熱處理裝置1之水蒸氣供給部13、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出部15、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給部17、及氣體供給系統18等的圖。圖3係將熱處理裝置1之一部分放大而加以表示的圖,圖3(A)係將熱處理裝置1之熱處理室11之入口31及其附近放大而加以表示的圖,而圖3(B)係將熱處理裝置1之熱處理室1之出口32及其附近放大而加以表示的圖。
參照圖1至圖3,熱處理裝置1係構成為利用過熱水蒸氣來加熱金屬製之被處理物10而進行被處理物10之熱處理的裝置。再者,過熱水蒸氣係被加熱至比沸點高之溫度的水蒸氣,為比沸點高之溫度之乾燥的水蒸氣。熱處理裝置1具備設置有供被處理物10搬入之入口31及供被處理物10搬出之出口32的熱處理室11。而且,在熱處理裝置1中,於熱處理室11內,被處理物10一邊從入口31朝向出口32被搬送一邊利用過熱水蒸氣被加熱,而進行被處理物10的熱處理。作為在熱處理裝置1中使用過熱水蒸氣所進行之對被處理物10的熱處理,例如可例示脫脂處理、及燒結處理。
於熱處理裝置1進行脫脂處理的情形時,在利用熱處理裝置1之處理前的處理步驟中被施以機械加工等的被處理物10,會被搬入熱處理裝置1。而且,於熱處理裝置1中,附著於被處理物10的油脂會由過熱水蒸氣所加熱而被氣化,從而從被處理物10上被去除。又,於熱處理裝置1中進行燒結處理之情形時,被構成為由含有油脂成分之黏合劑所結合之被燒結材料的被處理物10,會被搬入熱處理裝置1。而且,於熱處理裝置1中,被處理物10會由過熱水蒸氣所加熱,黏合劑便會被氣化而被去除,接著,藉由進一步由過熱水蒸氣所加熱,經去除黏合劑的被處理物10便會被燒結。
於熱處理裝置1中,被處理物10會被搬入熱處理室11,而在熱處理室11內一邊被搬送一邊由過熱水蒸氣所加熱。藉此,進行對被處理物10之熱處理。然後,熱處理室11內之熱處理結束後的被處理物10會從熱處理室11被搬出。又,被處理物10連續地朝向熱處理室11被搬送,在熱處理室11內一邊被連續地搬送一邊被施以熱處理,並從熱處理室11連續地被搬出。
會由熱處理裝置11所處理的被處理物10,例如被設為金屬製的構件,並被設為外形呈大致環狀或大致圓筒狀的構件。作為外形呈大致環狀或大致圓筒狀的被處理物10,例如可例示電動馬達的鐵芯(core)、滾動軸承之外圈及內圈等的座圈(race)構件、正齒輪等的齒輪、滾動軸承的滾子、軸桿、墊圈等。再者,被處理物10既可不被構成為大致環狀或大致圓筒狀的構件,亦可作為被形成為大致環狀或大致圓筒狀以外之形狀的構件而被構成。例如,亦可為圓柱狀、角柱狀、方筒狀、長方體狀、立方體狀、棒狀、板狀、及具有特殊之截面形狀或表面形狀之形狀等的各種形狀。
在熱處理裝置1之熱處理室11的入口31及其附近的放大圖即圖3(A)中,表示被處理物10被搬入熱處理室11的狀態。又,在熱處理裝置1之熱處理室11的出口32及其附近的放大圖即圖3(B)中,表示被處理物10在熱處理室11內被搬送且從熱處理室11被搬出的狀態。參照圖3(A)及圖3(B),被處理物10當被搬入熱處理室11時,例如會以被配置在被形成為薄型之箱狀之殼體10a內的狀態被搬入。於殼體10a中,複數個被處理物10會以大致等間隔地擴散而被配置的狀態被收納。然後,被處理物10會以被配置於殼體10a內的狀態被搬入熱處理室11內。再者,於收納複數個被處理物10的殼體10a,會以可供周圍的氣體幾乎無阻力地通過之方式,例如設置有被形成於周圍側面及底面的複數個孔、以及被形成於上表面的開口。藉此,被構成為熱處理室11內之環境氛圍的過熱水蒸氣會通過殼體10a而流動。再者,殼體10a只要為可供熱處理室11內之環境氛圍的過熱水蒸氣以幾乎無阻力地通過殼體10a之方式流動的結構即可,例如亦可為由網狀之構件所形成的形態。
熱處理裝置1被構成為具備有熱處理室11、加熱器12、水蒸氣供給部13、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出部15、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給部17、氣體供給系統18、入口側排氣部19、出口側排氣部20、排氣系統(21a、21b)、隔板22、黏合劑排出部23、空氣簾部24、及控制部25等。以下,對熱處理裝置1的結構詳細地進行說明。
[熱處理室]
圖4係將熱處理裝置1之熱處理室11中水蒸氣供給部13及其附近放大而加以表示的圖。圖5係熱處理裝置11之一部分之示意性的剖視圖,圖5(A)係表示從圖4的A-A箭頭位置所觀察之狀態的圖,而圖5(B)係表示從圖4的B-B箭頭位置所觀察之狀態的圖。參照圖1至圖5,熱處理室11設置有供被處理物10搬入的入口31及供被處理物10搬出的出口32,被構成為進行會從入口31朝向出口32被搬送之被處理物10之熱處理的熱處理爐。
熱處理室11具有呈直線地且筒狀地延伸之隧道狀的外形,在內部設置有被處理物10會被搬送並且進行被處理物10之熱處理的處理空間。被處理物10的搬送方向、即在熱處理室11內被處理物10會被搬送的方向,係與熱處理室11呈筒狀地延伸之長度方向平行的方向。再者,在圖1至圖3中,關於被處理物10的搬送方向,利用一點鏈線的箭頭X1來表示,以下,將其稱為搬送方向X1。
熱處理室11具有一對側壁(11a、11b)、頂壁11c、及底壁11d。熱處理室11的一對側壁(11a、11b)、頂壁11c、及底壁11d係由鋼鐵製的板狀構件形成。熱處理室11由鋼鐵製之板狀的構件所形成,藉此被構成為來自從外部對熱處理室11進行加熱之後述之加熱器12的熱會易於傳導。一對側壁(11a、11b)平行地被配置,且均被設為沿著上下方向及搬送方向X1延伸的壁部。頂壁11c被設為將熱處理室11之上部之頂面部分加以劃分的壁部,而以將一對側壁(11a、11b)之上端部結合為一體的方式被設置。又,頂壁11c被形成為在與搬送方向X1垂直的截面上呈拱形地延伸。底壁11d被設為將熱處理室11的底面部分加以劃分的壁部,而以將一對側壁(11a、11b)之下端部結合為一體的方式被設置。
熱處理室11之入口31被設為熱處理室11中供被處理物10搬入的開口。於本實施方式中,入口31被設為由側壁11a的端部、側壁11b的端部、頂壁11c的端部、及底壁11d的端部所劃分的開口。而且,於熱處理室11中,入口31被設為在與搬送方向X1平行之方向上之一方向之端部的開口,而在熱處理室11之搬送方向X1之上游側的端部開口。入口31相對於熱處理室11的外部被開放,且未設置門板,而始終相對於外部被開放。再者,被處理物10如前所述般,會以被收納於殼體10a的狀態,從入口31被搬入熱處理室11。
熱處理室11之出口32被設為熱處理室11中供被處理物10搬出的開口。於本實施方式中,出口32被設為由側壁11a的端部、側壁11b的端部、頂壁11c的端部、及底壁11d的端部所劃分的開口。而且,於熱處理室11中,出口32被設為與搬送方向X1平行之方向上之入口31側的端部相反側之端部的開口,而在熱處理室11之搬送方向X1之下游側的端部開口。出口32相對於熱處理室11的外部被開放,且未設置門板,而始終相對於外部被開放。又,被處理物10如前所述般,會以被收納於殼體10a的狀態,從出口32朝向熱處理室11的外部被搬出。
又,於熱處理室11中,設有作為進行被處理物10之加熱之區域的加熱區域HR。加熱區域HR於熱處理室11中,被設定為搬送方向X1上之一部分的區域。再者,在圖1中,關於熱處理室11中的加熱區域HR,作為搬送方向X1上既定的範圍,係以雙向箭頭來表示,且係以熱處理室11之外部所圖示的雙向箭頭示意性地表示。
在熱處理室11內,被處理物10會由從後述之水蒸氣供給部13被供給的過熱水蒸氣所加熱,並且亦會藉由經由熱處理室11所加熱之熱處理室11內的環境氛圍所加熱,其中,該熱處理室11會藉由從外部對熱處理室11進行加熱之後述的加熱器12所加熱。因此,於熱處理室11中,作為進行被處理物10之加熱之區域的加熱區域HR,被構成為進行利用過熱水蒸氣所進行的加熱及利用來自加熱器12之熱所進行的加熱(即,利用藉由來自加熱器12之熱而經由熱處理室11被加熱之熱處理室11內之環境氛圍所進行的加熱)中之至少任一者的區域。
再者,於熱處理室11內,利用來自加熱器12之熱所進行之被處理物10的加熱,會在搬送方向X1上配置有加熱器12之區域內進行。而且,利用過熱水蒸氣所進行之被處理物10的加熱,會在熱處理室11內環境氛圍中含有過熱水蒸氣的區域內進行。於本實施形態中,在熱處理室11中進行利用過熱水蒸氣所進行之被處理物10之加熱的區域,係從水蒸氣供給部13至後述之氣體供給部17中之入口側氣體供給部36a為止的區域、及從水蒸氣供給部13至後述之氣體供給部17中之出口側氣體供給部37b為止的區域。而且,於本實施形態中, 在熱處理室11中,進行利用來自加熱器12所進行之被處理物10之加熱的區域,包含在進行利用過熱水蒸氣所進行之被處理物10之加熱的區域中。亦即,於熱處理室11的搬送方向X1上,進行利用來自加熱器12之熱所進行之被處理物10之加熱的區域,被配置在進行利用過熱水蒸氣所進行之被處理物10之加熱的區域的內側。因此,於本實施形態中,加熱區域HR係從水蒸氣供給部13至後述之氣體供給部17之入口側氣體供給部36a為止的區域、及從水蒸氣供給部13至後述之氣體供給部17之出口側氣體供給部37b為止的區域。
又,於本實施方式中,如上所述,進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱的區域,被配置在進行利用過熱水蒸氣所進行之加熱的區域的內側。因此,於加熱區域HR內之區域、且進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱的區域中,會進行利用來自加熱器12所進行之熱的加熱及利用過熱水蒸氣所進行之加熱雙方的加熱。而且,於加熱區域HR內之區域、且未配置加熱器12而不進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱的區域中,僅會進行利用過熱水蒸氣所進行的加熱。
又,於本實施形態中,雖已例示進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱的區域被配置在進行利用過熱水蒸氣所進行之加熱之區域的內側的形態,但亦可並非如此。進行利用來自加熱器12之所進行之對被處理物10之加熱的區域,亦可被配置為從進行利用過熱水蒸氣所進行之被處理物10之加熱之區域的內側涵蓋至外側為止。於該情形時,進行利用過熱水蒸氣所進行之加熱之區域,會被配置在進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱之區域的內側。而且,加熱區域HR係包含進行利用過熱水蒸氣所進行之加熱之區域的區域,為進行利用來自加熱器12之熱所進行之加熱的區域。
又,於熱處理室11設置有搬送機構33。搬送機構33被設為將被處理物10在熱處理室11內進行搬送的機構。再者,於本實施形態中,搬送機構33被構成為將被處理物10以整個殼體10a為單位來進行搬送、即將被處理物10以被收納於殼體10a的狀態來進行搬送。搬送機構33被配置在熱處理室11內下方的區域,且在底壁11d的上方沿著搬送方向X1與底壁11d的牆壁面平行地被配置。搬送機構33例如被構成為藉由環繞之環狀的網格帶34來搬送被處理物10的機構。而且,搬送機構33被構成為藉由網格帶34進行環繞,而將被配置於在網格帶34之上表面之殼體10a中所收納的被處理物10與殼體10a一起進行搬送。
再者,環狀之網格帶34例如被構成為具有在其寬度方向之兩緣部分別設置有滾子鏈的結構,由設置有與滾子鏈嚙合之鏈輪的複數個驅動軸35所驅動而進行環繞。複數個驅動軸35被設置為以被插通於網格帶34之內側的狀態分別繞軸心進行旋轉。複數個驅動軸35以相互平行地延伸之方式被配置,並被配置為沿著相對於一對側壁(11a、11b)垂直之方向延伸。又,各驅動軸35相對於一對側壁(11a、11b)旋轉自如地被支撐。又,於各驅動軸35設置有離開其軸向被配置之一對鏈輪(35a、35a),且各鏈輪35a與網格帶34之兩緣部的各滾子鏈嚙合。又,複數個驅動軸35中之至少一者被構成為,由根據來自控制部25之控制指令作動的電動馬達(省略圖示)所旋轉驅動。若驅動軸35由電動馬達所旋轉驅動,驅動軸35的旋轉驅動便會經由鏈輪35a與滾子鏈的嚙合被傳遞至網格帶34。然後,藉由複數個驅動軸35環繞自如地被支撐之網格帶34的環繞動作便會被進行。若網格帶34進行環繞動作,以被收納於殼體10a之狀態被配置於網格帶34之上表面的被處理物10便會被搬送。
[加熱器]
參照圖1,加熱器12被設為從外部對熱處理室11進行加熱的機構,且設有複數個。複數個加熱器12沿著熱處理室11的長度方向(即,沿著搬送方向X1)串聯地被排列而配置。再者,在圖2及圖4以後的圖式中,省略加熱器12的圖示。
各加熱器12被構成為具備有被配置於熱處理室11之周圍的發熱體(省略圖示)、及在被配置於熱處理室11之周圍之發熱體的更外側並以覆蓋熱處理室11之周圍與發熱體的方式被配置的絕熱構件(省略圖示)。發熱體被配置為從外部對熱處理室11內的一對側壁(11a、11b)、頂壁11c、及底壁11d進行加熱。發熱體被構成為例如具備有將從省略圖示之電源所供給的電能轉換為熱能的電熱體,並藉由對電熱體進行通電而進行發熱。又,加熱器12的發熱體根據來自控制部25的控制指令作動作而進行發熱。若加熱器12的發熱體根據來自控制部25的控制指令動作而進行發熱,熱處理室11的一對側壁(11a、11b)、頂壁11c、及底壁11d便會藉由來自加熱器12之發熱體的熱所加熱。藉此,熱處理室11內的環境氛圍會被加熱。然後,在熱處理室11中被搬送的被處理物10,會由過熱水蒸氣所加熱,並且亦會藉由被來自加熱器12之熱加熱之熱處理室11內的環境氛圍所加熱。
[水蒸氣供給部]
參照圖1、圖2、圖4、圖5,水蒸氣供給部13被設置於熱處理室11中的加熱區域HR,被設為對熱處理室11內供給過熱水蒸氣的機構。於本實施形態已例示的熱處理裝置1中,水蒸氣供給部13被設在加熱區域HR內之被處理物10之搬送方向X1的中央部分。再者,水蒸氣供給部13只要被配置於加熱區域HR即可,亦可被設於較搬送方向X1之中央部分更靠入口31側或出口32側。
水蒸氣供給部13被構成為具備有將從後述之水蒸氣供給系統14所供給之過熱水蒸氣朝向熱處理室11內供給的一對噴嘴部(38a、38b)。一對噴嘴部(38a、38b)分別被設為呈圓筒狀地延伸並且圓筒軸方向的兩端部被封閉的構件。一對噴嘴部(38a、38b)在被處理物10之搬送方向X1上相互地對向而被配置。而且,在被處理物10的搬送方向X1上,噴嘴部38a相對於噴嘴部38b被配置於入口31側,而噴嘴部38b相對於噴嘴部38a被配置於出口32側。又,於本實施形態中,一對噴嘴部(38a、38b)於熱處理室11內被配置在加熱區域HR內之搬送方向X1的中央部分。而且,噴嘴部38a被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置更靠入口31側,而噴嘴部38b被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置更靠出口32側。又,各噴嘴部(38a、38b)以其圓筒軸方向沿著熱處理室11之寬度方向水平地延伸的狀態,被配置在熱處理室11內。再者,熱處理室11的寬度方向被規定為相對於水平地延伸之熱處理室11的長度方向(即,搬送方向X1)及熱處理室11的高度方向(即,上下方向)垂直的方向。
又,各噴嘴部(38a、38b)在其圓筒軸方向上之大致中央位置,與後述之水蒸氣供給系統14的各水蒸氣供給配管(42a、42b)連接。再者,噴嘴部38a與水蒸氣供給配管42a連接,而噴嘴部38b與水蒸氣供給配管42b連接。各水蒸氣供給配管(42a、42b)貫通熱處理室11的頂壁11c,與熱處理室11內的各噴嘴部(38a、38b)連接。與各噴嘴部(38a、38b)連接的各水蒸氣供給配管(42a、42b),以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,在熱處理室11內,各噴嘴部(38a、38b)經由各水蒸氣供給配管(42a、42b)而被支撐於頂壁11c。
各噴嘴部(38a、38b)之內部與各水蒸氣供給配管(42a、42b)的內部連通,從各水蒸氣供給配管(42a、42b)所供給的過熱水蒸氣,會被供給至各噴嘴部(38a、38b)的內部。又,於各噴嘴部(38a、38b)設有複數個噴嘴孔39。各噴嘴孔39例如被設為呈圓形之形狀開口的貫通孔。再者,各噴嘴孔39之開口形狀並不限於圓形之形狀,例如亦可被形成為矩形之形狀、狹縫狀之形狀等的各種形狀。複數個噴嘴孔39在各噴嘴部(38a、38b)沿著其圓筒軸方向呈直線狀地排列而被配置,例如等間隔地排列而被配置。再者,各噴嘴部(38a、38b)的圓筒軸方向由於沿著熱處理室11的寬度方向,因此各噴嘴部(38a、38b)的複數個噴嘴孔39沿著熱處理室11的寬度方向被配置。從各水蒸氣供給配管(42a、42b)朝向各噴嘴部(38a、38b)所供給的過熱水蒸氣,會充滿各噴嘴部(38a、38b)內,而且會從複數個噴嘴孔39朝向外部吹出。藉由從複數個噴嘴孔39吹出過熱水蒸氣,過熱水蒸氣會從各噴嘴部(38a、38b)被供給至熱處理室11內。
又,於噴嘴部38a,沿著其圓筒軸方向被配置的複數個噴嘴孔39,均朝向相對向之一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側開口,並朝向出口32側開口。因此,從一對噴嘴部(38a、38b)中被配置於入口31側的噴嘴部38a朝向熱處理室11內所供給的過熱水蒸氣,會朝向與入口31側相反側的出口32側,並從噴嘴部38a被吹出。又,於本實施形態中, 在噴嘴部38a,複數個噴嘴孔39朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側開口。再者,噴嘴部38a被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置更靠入口31側,噴嘴部38a的各噴嘴孔39朝向出口32側開口。因此,從被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1之中央位置更靠入口31側的噴嘴部38a被供給至熱處理室11內的過熱水蒸氣,會從入口31側朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側,並從噴嘴部38a被吹出。
又,於噴嘴部38b,沿著其圓筒軸方向被配置的複數個噴嘴孔39,均朝向相對向之一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側開口,並朝向入口31側開口。因此,從一對噴嘴部(38a、38b)中被配置於出口32側的噴嘴部38b被供給至熱處理室11內的過熱水蒸氣,會朝向與出口32側相反側的入口31側,並從噴嘴部38b被吹出。又,於本實施形態中,在噴嘴部38b,複數個噴嘴孔39朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側開口。再者,噴嘴部38b被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置更靠出口32側,噴嘴部38b的各噴嘴孔39朝向入口31側開口。因此,從被配置於較加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置更靠出口32側的噴嘴部38a被供給至熱處理室11內的過熱水蒸氣,會從出口32側朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側,並從噴嘴部38b被吹出。
根據上述之構成,一對噴嘴部(38a、38b)分別被構成為朝向相對向之一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側吹出過熱水蒸氣。又,於本實施形態中,噴嘴部38a被配置為在加熱區域HR內之搬送方向X1的中央部分,從入口31側朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側吹出過熱水蒸氣。而且,噴嘴部38b被配置為在加熱區域HR內之搬送方向X1的中央部分,從出口32側朝向加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置側吹出過熱水蒸氣。因此,一對噴嘴部(38a、38b)夾隔著加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置,在被處理物10的搬送方向X1上相互地對向而被配置。而且,一對噴嘴部(38a、38b)分別被構成為朝向加熱區域HR內之被處理物10之搬送方向X1的中央位置側吹出過熱水蒸氣。
[水蒸氣供給系統]
參照圖2、圖4及圖5,水蒸氣供給系統14被設為生成過熱水蒸氣並朝向水蒸氣供給部13供給過熱水蒸氣的機構。而且,水蒸氣供給系統14被構成為具備有過熱水蒸氣生成部40、及水蒸氣供給配管(41、42a、42b)。
過熱水蒸氣生成部40被設為對水進行加熱而生成過熱水蒸氣的機構,具備有鍋爐及過熱器。鍋爐對水進行加熱使其蒸發而生成沸點程度之溫度的飽和水蒸氣,過熱器進一步對在鍋爐所生成之飽和水蒸氣進行加熱而生成過熱水蒸氣。過熱水蒸氣生成部40根據來自控制部25的控制指令作動,而生成過熱水蒸氣。亦即,鍋爐及過熱器會根據來自控制部25的控制指令作動,而進行過熱水蒸氣的生成。若過熱水蒸氣生成部40根據來自控制部25的控制指令作動而生成過熱水蒸氣,過熱水蒸氣便會經由後述之水蒸氣供給配管(41、42a、42b)被供給至水蒸氣供給部13的一對噴嘴部(38a、38b)。
水蒸氣供給配管41在其上游端側被連接於過熱水蒸氣生成部40,被設為供給由過熱水蒸氣生成部40所生成之過熱水蒸氣的配管系統。又,水蒸氣供給配管41在其下游端側,與水蒸氣供給配管42a及水蒸氣供給配管42b連接。亦即,水蒸氣供給配管41以並列地分支的方式與水蒸氣供給配管(42a、42b)連接。水蒸氣供給配管42a被設為連接水蒸氣供給配管41與噴嘴部38a的配管系統,被構成為將由過熱水蒸氣生成部40所生成並經由水蒸氣供給配管41所供給的過熱水蒸氣攻擊至噴嘴部38a。水蒸氣供給配管42b被設為連接水蒸氣供給配管41與噴嘴部38b的配管系統,被構成為將由過熱水蒸氣生成部40所生成並經由水蒸氣供給配管41所供給的過熱水蒸氣供給至噴嘴部38b。
[水蒸氣排出部]
圖6係將熱處理裝置1之熱處理室11中後述之入口側水蒸氣排出部15a及後述之入口側氣體供給部(36a、36b)以及其附近放大而加以表示的圖。圖7係熱處理裝置1之一部分之示意性的剖視圖,圖7(A)係表示從圖6之C-C箭頭位置所觀察之狀態的圖,而圖7(B)係表示從圖6之D-D箭頭位置所觀察之狀態的圖。圖8係將熱處理裝置1之熱處理室11中後述之出口側水蒸氣排出部15b及後述之出口側氣體供給部(37a、37b)以及其附近放大而加以表示的圖。圖9係熱處理裝置1之一部分之示意性的剖視圖,圖9(A)係表示從圖8之E-E箭頭方向所觀察之狀態的圖,而圖9(B)係表示從圖8之F-F箭頭方向所觀察之狀態的圖。
參照圖1至圖3、圖6至圖9,水蒸氣排出部15被設為用以將熱處理室11內之過熱水蒸氣朝向熱處理室11之外部排出的機構。而且,水蒸氣排出部15在熱處理室11中,相對於水蒸氣供給部13分別被設於入口31側及出口32側。
在熱處理室11的入口31側,作為水蒸氣排出部15,設置有入口側水蒸氣排出部15a。於熱處理室11之出口32側,作為水蒸氣排出部15,而設置有出口側水蒸氣排出部15b。於本實施形態中,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b被配置於熱處理室11內之加熱區域HR內,且分別被配置於加熱區域HR內之搬送方向X1之兩端部附近的區域。又,於本實施形態中,入口側水蒸氣排出部15a在熱處理室11中,被配置於與沿著搬送方向X1排列之複數個加熱器12中最靠入口31側被配置之加熱器12對應的位置。而且,出口側水蒸氣排出部15b在熱處理室11中,被配置於與沿著搬送方向X1排列之複數個加熱器12中最靠出口32側被配置之加熱器12對應的位置。又,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b在與加熱區域HR之搬送方向X1平行的方向上之兩端部至各者附近的區域中,被配置於頂壁11c側的區域、即熱處理室11之與搬送方向X1垂直的截面上之上半部分側的區域。
入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b被構成為相同,而被形成為沿著熱處理室11之寬度方向延伸之中空的箱狀。而且,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b分別被構成為具備有在與搬送方向X1垂直之截面上沿著頂壁11c呈拱形地延伸的上壁43a、水平地延伸的下壁43b、及沿著與搬送方向X1垂直之截面延伸的一對側壁(43c、43d)。藉此,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之內側的中空區域,被形成為由上壁43a、下壁43b 、及一對側壁(43c、43d)所包圍之圓弧狀之圓頂型的中空區域。
又,於入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之下壁43b,設有用以將過熱水蒸氣吸入的複數個貫通孔(省略圖示)。過熱水蒸氣分別從入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b被吸入,並從熱處理室11被排出。
[水蒸氣排出系統]
參照圖2及圖6至圖9,水蒸氣排出系統(16a、16b)被設為將過熱水蒸氣從入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b吸入並將過熱水蒸氣朝向熱處理室11之外部排出的機構。而且,水蒸氣排出系統(16a、16b)分別被連接於入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b。再者,水蒸氣排出系統16a被連接於入口側水蒸氣排出部15a,被吸入入口側水蒸氣排出部15a的過熱水蒸氣,會被吸入水蒸氣排出系統16a並從熱處理室11被排出。而且,水蒸氣排出系統16b被連接於出口側水蒸氣排出部15b,被吸入出口側水蒸氣排出部15b的過熱水蒸氣,會被吸入水蒸氣排出系統16b並從熱處理室11被排出。
水蒸氣排出系統16a及水蒸氣排出系統16b被構成為相同,均被構成為具備有水蒸氣排出管44及噴射器45。
水蒸氣排出系統(16a、16b)的各水蒸氣排出管44,貫通熱處理室11之頂壁11c,分別被連接於熱處理室11內的入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b。入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之內部與各水蒸氣排出管44連通,分別被吸入入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b的過熱水蒸氣,會被吸入各水蒸氣排出管44。又,分別被連接於入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b的各水蒸氣排出管44,以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,在熱處理室11內,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b分別經由各水蒸氣排出管44,被支撐於頂壁11c。
水蒸氣排出系統(16a、16b)的各噴射器45,相對於各水蒸氣排出管44,在各水蒸氣排出管44中分別與連接於入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之端部相反側的端部被連接。而且,各噴射器45被設為藉由使用高壓流體產生負壓,經由各水蒸氣排出管44分別從入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b抽吸過熱水蒸氣,而且將所抽吸的過熱水蒸氣朝向外部排出的機構。
水蒸氣排出系統(16a、16b)的各噴射器45被構成為例如具備有會被供給作為高壓流體之壓縮空氣的噴嘴、覆蓋噴嘴之周圍的主體、及與主體連通並且設有朝外部開口之吐出口的擴散器。噴嘴被構成為壓縮空氣從壓縮空氣供給源(省略圖示)被供給。再者,於噴嘴之上游側,設置有根據來自後述之控制部25的控制指令而進行開閉的電磁閥,來控制朝向噴嘴之壓縮空氣的供給與排出。主體將噴嘴之下游端之周圍的區域劃分為負壓產生區域,並且被連接於各水蒸氣排出管44。再者,於主體中與各水蒸氣排出管44之下游端連接的部分,設置有根據來自控制部25的控制指令來進行開閉的電磁閥,在使噴射器45作動而進行經由各水蒸氣排出管44之過熱水蒸氣之抽吸動作的情形時,該電磁閥會被開放。
當進行利用入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之黏合劑的排出時,根據來自控制部25的控制指令,水蒸氣排出系統(16a、16b)之各噴射器45的電磁閥會被開放,噴射器45會作動。亦即,噴嘴之上游側的電磁閥被開放,並且在主體中連接於各水蒸氣排出管44之下游端之部分所設的電磁閥會被開放,各噴射器45會作動。若各噴射器45作動,藉由壓縮空氣從噴嘴以高速朝主體內吹出便會在主體內產生負壓,藉此,入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之內部的過熱水蒸氣,便會經由各水蒸氣排出管44被抽吸。藉由入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之內部的過熱水蒸氣被抽吸至各水蒸氣排出管44,熱處理室11 內的過熱水蒸氣會從被設於入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b之各者之下壁43b的複數個貫通孔被吸入。分別被吸入入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b的過熱水蒸氣,會經由各水蒸氣排出管44朝向各噴射器45的主體流動,而在主體內與從噴嘴被吹出的壓縮空氣混合。而且,混合過熱水蒸氣與壓縮空氣之狀態的混合氣體會在擴散器內朝向下游側流動,而從擴散器之排出口朝向外部被排出。如此一來,熱處理室11內之過熱水蒸氣便會分別從入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b被吸入,並經由各水蒸氣排出管44及各噴射器45朝向外部被排出。
[氣體供給部]
參照圖1至圖3及圖6至圖9,氣體供給部17被設為對熱處理室11內供給惰性氣體及空氣中之至少任一者的機構。亦即,氣體供給部17被設為對熱處理室11內供給惰性氣體的機構、或被設為對熱處理室11內供給空氣的機構、或者被設為對熱處理室11內供給惰性氣體及空氣之混合氣體的機構。再者,於本實施形態中,例示有氣體供給部17被構成為對熱處理室11內供給惰性氣體之機構的形態。氣體供給部17對熱處理室11內供給的惰性氣體例如為氮氣。再者,作為氣體供給部17所供給之氮氣以外的惰性氣體,例如可例示氦氣及氬氣。
於熱處理裝置1中,作為氣體供給部17,設置有入口側氣體供給部(36a、36b)、及出口側氣體供給部(37a、37b)。於熱處理室11中,入口側氣體供給部(36a、36b)相對於水蒸氣供給部13被設置在入口31側,而出口側氣體供給部(37a、37b)相對於水蒸氣供給部13被設置在出口32側。
入口側氣體供給部(36a、36b)被設置為一對,在熱處理室11中相對於水蒸氣供給部13被設置於較被設置於入口31側之入口側水蒸氣排出部15a更靠入口31側。一對入口側氣體供給部(36a、36b)分別被設為例如呈圓筒狀地延伸並且圓筒軸方向之兩端部被封閉的構件。於本實施形態中,一對入口側氣體供給部(36a、36b)被配置於與加熱區域HR之搬送方向X1平行的方向上之入口31側之端部之附近的區域。而且,一對入口側氣體供給部(36a、36b)沿著搬送方向X1排列而被配置,且入口側氣體供給部36a相對於入口側氣體供給部36b被配置於入口31側。又,各入口側氣體供給部(36a、36b)以其圓筒軸方向沿著熱處理室11之寬度方向水平地延伸的狀態,被配置於熱處理室11內。
又,各入口側氣體供給部(36a、36b)在其圓筒軸方向上之大致中央位置,連接於供給惰性氣體之後述之氣體供給系統18的各分支配管(48a、48b)。再者,入口側氣體供給部36a連接於分支配管48a連接,而入口側氣體供給部36b連接於分支配管48b。各分支配管(48a、48b)貫通熱處理室11的頂壁11c,並連接於熱處理室11內的各入口側氣體供給部(36a、36b)。與各入口側氣體供給部(36a、36b)連接的各分支配管(48a、48b),以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,於熱處理室11內,各入口側氣體供給部(36a、36b)藉由各分支配管(48a、48b)而被支撐於頂壁11c。
各入口側氣體供給部(36a、36b)之內部與各分支配管(48a、48b)的內部連通,從各分支配管(48a、48b)所供給的惰性氣體,會被供給至各入口側氣體供給部(36a、36b) 的內部。又,於各入口側氣體供給部(36a、36b)設有複數個噴嘴孔(省略圖示)。複數個噴嘴孔於各入口側氣體供給部(36a、36b),沿著其圓筒軸方向呈直線狀地排列而被配置,例如等間隔地排列而被配置。又,於各入口側氣體供給部(36a、36b)沿著圓筒軸方向被配置的複數個噴嘴孔均朝向下方開口。因此,惰性氣體會從各入口側氣體供給部(36a、36b)朝向下方被吹出。
根據上述的構成,從各分支配管(48a、48b)朝向各入口側氣體供給部(36a、36b)被供給的惰性氣體,會充滿在各入口側氣體供給部(36a、36b)內,而且會從複數個噴嘴孔朝向下方而朝向外部吹出。而且,藉由惰性氣體從複數個噴嘴孔吹出,惰性氣體會從各入口側氣體供給部(36a、36b)被供給至熱處理室11內。藉由惰性氣體被從設置於較入口側水蒸氣排出部15a更靠入口31側的入口側氣體供給部(36a、36b)被供給,在入口31與入口側水蒸氣排出部15a之間,熱處理室11內的環境氛圍會被分離。
出口側氣體供給部(37a、37b)被設置為一對,且在熱處理室11中相對於水蒸氣供給部13被設在較被設於出口32側之出口側水蒸氣排出部15b更靠出口32側。一對出口側氣體供給部(37a、37b)分別被設為例如呈圓筒狀地延伸並且圓筒軸方向的兩端部被封閉的構件。於本實施形態中,一對出口側氣體供給部(37a、37b)被配置於與加熱區域HR之搬送方向X1平行之方向上之出口32側之端部之附近的區域。而且,一對出口側氣體供給部(37a、37b)沿著搬送方向X1排列而被配置,出口側氣體供給部37b相對於出口側氣體供給部37a被配置於出口32側。又,各出口側氣體供給部(37a、37b)以其圓筒軸方向沿著熱處理室11之寬度方向水平地延伸的狀態,被配置於熱處理室11內。
又,各出口側氣體供給部(37a、37b)於其圓筒軸方向上的大致中央位置,連接於供給惰性氣體之後述之氣體供給系統18的各分支配管(48c、48d)。再者,出口側氣體供給部37a連接於分支配管48c,而出口側氣體供給部37b連接於分支配管48d。各分支配管(48c、48d)貫通熱處理室11的頂壁11c,與熱處理室11內的各出口側氣體供給部(37a、37b)連接。連接於各出口側氣體供給部(37a、37b)的各分支配管(48c、48d),以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,於熱處理室11內,各出口側氣體供給部(37a、37b)經由各分支配管(48c、48d),被支撐於頂壁11c。
各出口側氣體供給部(37a、37b)之內部與各分支配管(48c、48d)的內部連通,從各分支配管(48c、48d)所供給的惰性氣體,會被供給至各出口側氣體供給部(37a、37b)的內部。又,於各出口側氣體供給部(37a、37b)設有複數個噴嘴孔(省略圖示)。複數個噴嘴孔在各出口側氣體供給部(37a、37b)中,沿著其圓筒軸方向呈直線狀地排列而被配置,例如等間隔地排列而被配置。又,於各出口側氣體供給部(37a、37b),沿著圓筒軸方向被配置的複數個噴嘴孔均朝向下方開口。因此,惰性氣體會從各出口側氣體供給部(37a、37b)朝向下方被吹出。
根據上述的構成,從各分支配管(48c、48d)朝向各出口側氣體供給部(37a、37b)被供給的惰性氣體,會充滿各出口側氣體供給部(37a、37b)內,而且會從複數個噴嘴孔朝向下方而朝向外部吹出。而且,通過從複數個噴嘴孔吹出惰性氣體,從各出口側氣體供給部(37a、37b)向熱處理室11內供給惰性氣體。通過從設置在比出口側水蒸氣排出部15b更靠出口32側的位置的出口側氣體供給部(37a、37b)供給惰性氣體,在出口32和出口側水蒸氣排出部15b之間,熱處理室11內的環境氛圍被分離。
[氣體供給系統]
參照圖2及圖6至圖9,氣體供給系統18被設為對氣體供給部17供給惰性氣體的機構。而且,氣體供給系統18被構成為具備有惰性氣體供給源46、共同配管47、分支配管(48a、48b、48c、48d)、及氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)。
惰性氣體供給源46被設為供給大氣壓以上之高壓之惰性氣體的供給源,例如被構成為儲藏有被壓縮為大氣壓以上之高壓的狀態之惰性氣體的槽或儲氣瓶等之容器。共同配管46a被連接於惰性氣體供給源46,被設為用以將高壓的惰性氣體從惰性氣體供給源46供給至分支配管(48a、48b、48c、48d)的配管系統。
分支配管(48a、48b、48c、48d)從共同配管47分支,被設為將共同配管47與氣體供給部17之入口側氣體供給部(36a、36b)及出口側氣體供給部(37a、37b)加以連接的配管系統。4個分支配管(48a、48b、48c、48d)從共同配管47並列地分支。而且,各分支配管(48a、48b)分別連接於各入口側氣體供給部(36a、36b),而各分支配管(48c、48d)分別連接於各出口側氣體供給部(37a、37b)。具體而言,分支配管48a被構成為將共同配管47與入口側氣體供給部36a加以連接,而將惰性氣體供給至入口側氣體供給部36a。分支配管48b被構成為將共同配管47與入口側氣體供給部36b加以連接,而將惰性氣體供給至入口側氣體供給部36b。分支配管48c被構成為將共同配管47與出口側氣體供給部37a加以連接,而將惰性氣體供給至出口側氣體供給部37a。分支配管48d被構成為將共同配管47與出口側氣體供給部37b加以連接,而將惰性氣體供給至出口側氣體供給部37b。
氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)分別被設為電磁閥,且分別被設於分支配管(48a、48b、48c、48d)。再者,氣體供給閥49a被設於分支配管48a,氣體供給閥49b被設於分支配管48b,氣體供給閥49c被設於分支配管48c,而氣體供給閥49d被設於分支配管48d。各氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)被構成為藉由進行開閉動作,而將各個分支配管(48a、48b、48c、48d)的狀態在開放狀態與封閉狀態之間進行切換。各氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)根據來自控制部 25 的控制指令作動。在各氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)根據來自控制部 25 的控制指令進行打開動作,而各分支配管(48a、48b、48c、48d)的狀態被切換為開放狀態時,惰性氣體供給源46與各入口側氣體供給部(36a、36b)及各出口側氣體供給部(37a、37b)會經由共同配管47與各分支配管(48a、48b、48c、48d)而連通。藉此,會從惰性氣體供給源46被供給的惰性氣體,便會經由共同配管47及各分支配管(48a、48b、48c、48d)被供給至各入口側氣體供給部(36a、36b)及各出口側氣體供給部(37a、37b)。然後,惰性氣體會從各入口側氣體供給部(36a、36b)及各出口側氣體供給部(37a、37b)被供給至熱處理室11內。再者,根據來自控制部25的控制指令,各氣體供給閥(49a、49b、49c、49d)進行關閉動作,在各分支配管(48a、48b、48c、48d)的狀態被切換為關閉狀態而連通被切斷時,惰性氣體不會被供給至熱處理室11。
[入口側排氣部、出口側排氣部]
參照圖1至圖3及圖6至圖9,入口側排氣部19及出口側排氣部20被設為用以將熱處理室11內之氣體朝向熱處理室11之外部排氣的機構。
入口側排氣部19於熱處理室11中,被設於一對入口側氣體供給部(36a、36b)之間。亦即,入口側排氣部19於熱處理室11中,被設於入口側氣體供給部36a與入口側氣體供給部36b之間的區域。因此,於熱處理室11內之較入口側水蒸氣排出部15a更靠入口31側的區域內,從入口側水蒸氣排出部15a側朝向入口31側,入口側水蒸氣排出部15a、入口側氣體供給部36b、入口側排氣部19、及入口側氣體供給部36a會依此順序被配置。又,入口側排氣部19於熱處理室11內之一對入口側氣體供給部(36a、36b)之間的區域內,被配置於頂壁11c側的區域、即熱處理室11之與搬送方向X1垂直之截面上之上半部分側的區域。
出口側排氣部20於熱處理室11,被設於一對出口側氣體供給部(37a、37b)之間。亦即,出口側排氣部20於熱處理室11中,被設於出口側氣體供給部37a與出口側氣體供給部37b之間的區域。因此,於熱處理室11內之較出口側水蒸氣排出部15b更靠出口32側的區域內,從出口側水蒸氣排出部15b側朝向出口32側,出口側水蒸氣排出部15b、出口側氣體供給部37a、出口側排氣部20、及出口側氣體供給部36b依次順序地被配置。又,出口側排氣部20於熱處理室11內之一對出口側氣體供給部(37a、37b)之間的區域內,被配置於頂壁11c側的區域、即熱處理室11之與搬送方向X1垂直之截面之上半部分側的區域。
入口側排氣部19及出口側排氣部20被構成為相同,被形成為沿著熱處理室11之寬度方向延伸之中空的箱狀。而且,入口側排氣部19及出口側排氣部20被構成為分別具備有在與搬送方向X1垂直之截面上沿著頂壁11c呈拱形地延伸的上壁50a、水平延伸的下壁50b、沿著與搬送方向X1垂直的截面延伸的一對側壁(50c、50d)。藉此, 入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之內側的中空區域,被形成為由上壁50a、下壁50b、及一對側壁(50c、50d)所包圍之圓弧狀之圓頂型的中空區域。
又,於入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之下壁50b,設有用以吸入熱處理室11內之氣體的複數個貫通孔(省略圖示)。熱處理室11內的氣體,會分別從入口側排氣部19及出口側排氣部20被吸入並從熱處理室11被排出。再者,從入口側排氣部19,從入口側氣體供給部36b被供給至熱處理室 11 內的惰性氣體、從入口側氣體供給部36a被供給至熱處理室11內並朝向與入口31側為相反側流動的惰性氣體、及未由入口側水蒸氣排出部15a所排出而朝向入口31側流動之些微的過熱水蒸氣,會作為熱處理室11內的氣體被吸入並被排出。又,從出口側排氣部20,從出口側氣體供給部37a被供給至熱處理室11內的惰性氣體、從出口側氣體供給部37b被供給至熱處理室11內並朝向與出口32側而相反側流動的惰性氣體、及未由出口側水蒸氣排出部15b所排出而朝向出口32側流動之些微的過熱水蒸氣,會作為熱處理室11內的氣體被吸入並被排出。
[排氣系統]
參照圖2及圖6至圖9,排氣系統(21a、21b)被設為將熱處理室11內的氣體從入口側排氣部19及出口側排氣部20吸入並將該所吸入的氣體朝向熱處理室11的外部排氣的機構。而且,排氣系統(21a、21b)分別被連接於入口側排氣部19及出口側排氣部20。再者,排氣系統21a被連接於入口側排氣部19,被吸入入口側排氣部19之熱處理室11內的氣體,會被吸入排氣系統21a並從熱處理室11被排出。而且,排氣系統21b被連接於出口側排氣部20,被吸入出口側排氣部20之熱處理室11內的氣體,會被吸入排氣系統21b並從熱處理室11被排出。
排氣系統21a及排氣系統21b被構成為相同,均被構成為具備有氣體排氣管51及噴射器52。
排氣系統(21a、21b)的各氣體排氣管51貫通熱處理室11的頂壁11c,分別被連接於熱處理室11內的入口側排氣部19及出口側排氣部20。入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之內部與各氣體排氣管51連通,分別被吸入入口側排氣部19及出口側排氣部20的氣體,會被吸入各氣體排氣管51。又,分別被連接於入口側排氣部19及出口側排氣部20的各氣體排氣管51,以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,於熱處理室11內,入口側排氣部19及出口側排氣部20分別經由各氣體排氣管51被支撐於頂壁11c。
排氣系統(21a、21b)的各噴射器52相對於各氣體排氣管51,在各氣體排氣管51中分別與連接於入口側排氣部19及出口側排氣部20之端部相反側的端部被連接。而且,各噴射器52被設為藉由使用高壓流體產生負壓,經由各氣體排氣管51分別從入口側排氣部19及出口側排氣部20抽吸氣體,而且將所抽吸之氣體朝向外部排出的機構。排氣系統(21a、21b)的各噴射器 52 與水蒸氣排出系統(16a、16b)的各噴射器45被構成為相同。亦即,各噴射器52被構成為具備有會被供給作為高壓流體之壓縮空氣的噴嘴、覆蓋噴嘴之周圍的主體、及與主體連通並且設有朝向外部開口之吐出口的擴散器。而且,噴射器52的動作係藉由被設於噴嘴之上游側及主體中連接於氣體排氣管51之下游端的部分的電磁閥根據來自後述之控制部25的控制指令進行開閉而被控制。
當進行利用入口側排氣部19及出口側排氣部20所進行之熱處理室11內之氣體的排出時,根據來自控制部25的控制指令,排氣系統(21a、21b)之各噴射器52的電磁閥會被開放,噴射器52會作動。亦即,噴嘴之上游側的電磁閥會被開放,並且在主體中連接於各氣體排氣管51之下游端之部分所設的電磁閥會被開放,各噴射器52會作動。藉由各噴射器52作動,入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之內部的氣體會經由各氣體排氣管51被抽吸。藉由入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之氣體被抽吸至各氣體排氣管51,熱處理室11內的氣體會從被設於入口側排氣部19及出口側排氣部20之各者之下壁50b的複數個貫通孔被吸入。分別被吸入入口側排氣部19及出口側排氣部20的氣體,會經由各氣體排氣管51朝向各噴射器52的主體流動,而在主體內與壓縮空氣混合,並從各噴射器52之擴散器的吐出口朝向外部被排出。如此一來,熱處理室11內之氣體便會分別從入口側排氣部19及出口側排氣部20被吸入,並經由各氣體排氣管51及各噴射器52朝向外部被排出。
[隔板]
參照圖1至圖9,隔板22設有複數個,於本實施形態中,作為複數個隔板22,而設有隔板(22a、22b、22c、22d、22e、22f、22g、22h、22i、22j)。複數個隔板22(22a~j)在熱處理室11內沿著搬送方向X1被配置。
各隔板22(22a~j)被設為僅局部地封閉熱處理室11之與搬送方向X1垂直之截面之上半部分之平板狀的構件。又,各隔板22(22a~j)之上端的邊緣部分沿著頂壁11c被配置,並相對於頂壁11c被固定。而且,各隔板22(22a~j)在熱處理室11內之上半部分的區域,以沿著熱處理室11之與搬送方向X1垂直的截面擴展的方式被設置。各隔板22(22a~j)藉由如上述般被設置,被構成為局部地限制熱處理室11內之與被處理物10之搬送方向X1平行之方向上之氣體的流動。再者,於本實施形態中,各隔板22(22a~j)被構成為在熱處理室11之與搬送方向X1垂直的截面上,限制上半部分側之區域之氣體的流動,並容許下半部分側之區域之氣體的流動。
又,參照圖2、圖3、圖6、圖7,複數個隔板22中之隔板(22a、22b)被設為本實施形態中之入口側隔板(22a、22b)。入口側隔板(22a、22b)分別被設於一對入口側氣體供給部(36a、36b)之各者與入口側排氣部19之間。更具體而言,入口側隔板22a被設於入口側氣體供給部36a與入口側排氣部19之間,相對於入口側排氣部19在入口31側相鄰地被配置。又,入口側隔板22b被設於入口側排氣部19與入口側氣體供給部36b之間,相對於入口側排氣部19在出口32側相鄰地被配置。
根據上述的配置構成,在熱處理室11內之入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域內,從入口31側朝向出口32側入口側氣體供給部36a、入口側隔板22a、入口側排氣部19、入口側隔板22b、及入口側氣體供給部36b依次順序地排列而被設置。而且,入口側隔板(22a、22b),被構成為在入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域內,局部地限制熱處理室11中之與被處理物10之搬送方向X1平行之方向上之氣體的流動。
又,參照圖2、圖3、圖6、圖7,複數個隔板22中之隔板(22c、22d),在熱處理室11內被配置於入口側水蒸氣排出部15a的附近。又,隔板(22c、22d)相對於入口側水蒸氣排出部15a,被配置在搬送方向X1上之兩側。更具體而言,隔板22c被設於入口側氣體供給部36b與水蒸氣排出部15a之間,相對於入口側水蒸氣排出部15a在入口31側相鄰地被配置。又,隔板22d相對於入口側水蒸氣排出部15a在出口32側相鄰地被配置。
又,參照圖2、圖4、圖5,複數個隔板22中之隔板(22e、22f)在熱處理室11內,被設於水蒸氣供給部13中之一對噴嘴部(38a、38b)之間。又,在隔板22e與隔板22f之間配置有後述之黏合劑排出部23。再者,隔板22e相對於黏合劑排出部23在入口31側相鄰地被配置,而隔板22f相對於黏合劑排出部23在出口32側相鄰地被配置。
又,參照圖2、圖3、圖8、圖9,複數個隔板22中之隔板(22g、22h)在熱處理室11內,被配置於出口側水蒸氣排出部15b的附近。又,隔板(22g、22h)相對於出口側水蒸氣排出部15b,被配置於搬送方向X1上之兩側。更具體而言,隔板22g相對於出口側水蒸氣排出部15b在入口31側相鄰地被配置。又,隔板22h被設於水蒸氣排出部15b與出口側氣體供給部37a之間,相對於出口側水蒸氣排出部15b在出口32側相鄰地被配置。
又,參照圖2、圖3、圖8、圖9,複數個隔板22中之隔板(22i、22j),被設為本實施形態中之出口側隔板(22i、22j)。出口側隔板(22i、22j)分別被設於一對出口側氣體供給部(37a、37b)之各者與出口側排氣部20之間。更具體而言,出口側隔板22i被設於出口側氣體供給部37a與出口側排氣部20之間,相對於出口側排氣部20在出口32側相鄰地被配置。又,出口側隔板22j被設於出口側排氣部20與出口側氣體供給部37b之間,相對於出口側排氣部20在出口32側相鄰地被配置。
根據上述的配置構成,於熱處理室11內之出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的區域內,從入口31側朝向出口32側,出口側氣體供給部37a、出口側隔板22i、出口側排氣部20、出口側隔板22j、及出口側氣體供給部37b依此順序地排列而被設置。而且,出口側隔板(22i、22j)被構成為於出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的區域內,局部地限制熱處理室11中之與被處理物10之搬送方向X1平行之方向上之氣體的流動。
[黏合劑排出部]
參照圖1、圖2、圖4及圖5,黏合劑排出部23被設為當在熱處理裝置1中進行燒結處理時用以將從被處理物10所產生之氣化的黏合劑朝向熱處理室11之外部排出的機構。黏合劑排出部23例如當在熱處理裝置1中之燒結處理時,在從被處理物10會大量地產生黏合劑之情形時,被使用於用以將所大量產生之黏合劑加以排出。
黏合劑排出部23於熱處理室11中,被配置於隔板22e與隔板22f之間,且被配置於加熱區域HR內之搬送方向X1的中央位置。隔板(22e、22f)被配置於水蒸氣供給部13的一對噴嘴部(38a、38b)之間,且相對於黏合劑排出部23,隔板22e被配置於入口31側,而隔板22f被配置於出口32側。因此,於本實施形態中,在加熱區域HR內之搬送方向X1的中央部分,從入口31側朝向出口32側,噴嘴部38a、隔板22e、黏合劑排出部23、隔板22f、及噴嘴部38b依此順序地排列而被設置。又,於熱處理室11內之隔板(22e、22f) 之間的區域內,黏合劑排出部23被配置於頂壁11c側的區域、即熱處理室11之與搬送方向X1垂直之截面上之上半部分側的區域。
黏合劑排出部23被形成為沿著熱處理室11之寬度方向延伸之中空的箱狀。而且,黏合劑排出部23被構成為具備有在與搬送方向X1垂直之截面上沿著頂壁11c呈拱形地延伸的上壁23a、水平延伸的下壁23b、及沿著與搬送方向X1垂直之截面延伸的一對側壁(23c、23d)。藉此,黏合劑排出部23內的中空區域被形成為由上壁23a、下壁23b及一對側壁(23c、23d)所包圍之圓弧狀之圓頂型的中空區域。而且,於黏合劑排出部23的下壁23b,設有用以吸入黏合劑的複數個貫通孔(省略圖示)。再者,當黏合劑從黏合劑排出部23被吸入並從熱處理室11被排出時,黏合劑會與熱處理室11內之環境氛圍的氣體一起被吸入黏合劑排出部23而被排出。亦即,藉由熱處理室11內之環境氛圍中含有高濃度之黏合劑的氣體被吸入黏合劑排出部23,黏合劑會被吸入黏合劑排出部23並從熱處理室11被排出。
又,黏合劑排出部23被連接於黏合劑排出系統53,該黏合劑排出系統53係用以從黏合劑排出部23吸入含有較多黏合劑的氣體,並將含有黏合劑的氣體朝向熱處理室11的外部者。黏合劑排出系統53被構成為具備有黏合劑排出管54、及噴射器55。
黏合劑排出管54貫通熱處理室11的頂壁11c,被連接於熱處理室11內的黏合劑排出部23。黏合劑排出部23的內部與黏合劑排出管54連通,被吸入黏合劑排出部23之含有黏合劑的氣體會被吸入黏合劑排出管54。又,連接於黏合劑排出部23的黏合劑排出管54,以貫通頂壁11c的狀態被固定於頂壁11c。藉此,於熱處理室11內, 黏合劑排出部23經由黏合劑排出管54被支撐於頂壁11c。
噴射器55相對於黏合劑排出管54,在與連接於黏合劑排出部23之端部相反側的端部被連接。而且,噴射器55被設為藉由使用高壓流體產生負壓,經由黏合劑排出管54從黏合劑排出部23抽吸含有黏合劑的氣體,而且將所抽吸之氣體朝向外部排出的機構。黏合劑排出系統53的噴射器55與水蒸氣排出系統(16a、16b)的噴射器45被構成為相同。亦即,噴射器55被構成為具備有會被供給作為高壓流體之壓縮空氣的噴嘴、覆蓋噴嘴之周圍的主體、及與主體連通並且設有朝外部開口之吐出口的擴散器。而且,噴射器55的動作係藉由被設於噴嘴之上游側與主體中連接於黏合劑排出管54之下游端之部分的電磁閥根據來自後述之控制部25的控制指令進行開閉而被控制。
當進行利用黏合劑排出部23所進行之黏合劑的排出時,根據來自控制部25的控制指令, 噴射器55的電磁閥會被開放,噴射器55會作動。亦即,噴嘴之上游側的電磁閥會被開放,並且在主體中連接於黏合劑排氣管54之下游端之部分的電磁閥會被開放,噴射器55會作動。藉由噴射器55作動,黏合劑排出部23內之氣體會經由黏合劑排氣管54被抽吸。藉由黏合劑排出部23的氣體被抽吸至黏合劑排氣管54,熱處理室11內之含有黏合劑的氣體會從被設於黏合劑排氣部23之下壁23b的複數個貫通孔被吸入。被吸入黏合劑排氣部23之含有黏合劑的氣體,會經由黏合劑排氣管54朝向噴射器55的主體流動,而在主體內與從噴嘴被吹出的壓縮空氣混合,並從噴射器55之擴散器的吐出口朝向外部被排出。如此一來,熱處理室11內之含有黏合劑的氣體便會從黏合劑排出部23被吸入,並經由黏合劑排氣管54及噴射器55朝向外部被排出。
[空氣簾部]
參照圖1及圖3,空氣簾部24被設為在熱處理室11內之入口31側的端部與出口32側的端部,以形成惰性氣體呈窗簾狀地擴散之區域的方式來噴射惰性氣體的機構。於熱處理室11之入口31側的端部,設有作為空氣簾部24的入口空氣簾部24a,而在熱處理室11之出口32側的端部,設有作為空氣簾部24的出口空氣簾部24b。
入口空氣簾部24a及出口空氣簾部24b分別被形成為中空的箱狀,並且具有會被供給來自惰性氣體供給源46之惰性氣體的氣體供給箱。入口空氣簾部24a的氣體供給箱被設於熱處理室11內之入口31側的端部,而出口空氣簾部24b的氣體供給箱被設於熱處理室11內之出口32側的端部。入口空氣簾部24a及出口空氣簾部24b之各者之氣體供給箱相對於氣體供給系統18的共同配管47,經由省略圖示的配管被連接,被構成為會被供給來自惰性氣體供給源46的惰性氣體。
又,於入口空氣簾部24a及出口空氣簾部24b的各氣體供給箱,設有與熱處理室11內連通的複數個噴射孔。而且,被設於各氣體供給箱的複數個噴射孔,被構成為將從惰性氣體供給源46所供給之惰性氣體朝熱處理室11的內部噴射。又,入口空氣簾部24a之氣體供給箱的複數個噴射孔,被構成為以惰性氣體會沿著與入口31之開口面平行的方向呈窗簾狀地擴散的方式噴射惰性氣體。而且,出口空氣簾部24b之氣體供給箱的複數個噴射孔,構成為以惰性氣體會沿著與出口32的之開口面平行的方向呈窗簾狀地擴散的方式噴射惰性氣體。於熱處理室11之入口31側的端部,藉由惰性氣體從入口空氣簾部24a呈窗簾狀地被噴射,在熱處理室11之入口31的附近,熱處理室11之內側的區域與外側的區域的環境氛圍會被分離。又,藉由在熱處理室11之出口32側的端部,惰性氣體會從出口空氣簾部24b呈窗簾狀地被噴射,在熱處理室11之出口32的附近,熱處理室11之內側的區域與外側的區域的環境氛圍會被分離。
[控制部]
參照圖2,熱處理室11的搬送機構33、加熱器12、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給系統18、排氣系統(21a、21b)、及黏合劑排出系統53的動作,會由控制部25所控制。具體而言,控制部25藉由控制對搬送機構33進行驅動之驅動軸35的電動馬達、加熱器12的發熱體、水蒸氣供給系統14之過熱水蒸氣生成部40的鍋爐及過熱器、水蒸氣排出系統(16a、16b)之噴射器45的電磁閥、氣體供給系統18的氣體供給閥(49a~d)、排氣系統(21a、21b)之噴射器52的電磁閥、以及黏合劑排出系統53之噴射器55的電磁閥的作動,來控制搬送機構33、加熱器12、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給系統18、排氣系統(21a、21b)、以及黏合劑排出系統53的動作。
又,控制部25被構成為具備有CPU(Central Processing Unit;中央處理單元)等之硬體處理器、RAM(Random Access Memory;隨機存取記憶體)及ROM(Read Only Memory;唯讀記憶體)等之記憶體,由使用者所操作之操作面板等的操作部、以及介面回路等。於控制部25的記憶體,儲存有用以生成控制指令的程式,該控制指令係對驅動驅動軸35的電動馬達、加熱器12的發熱體、過熱水蒸氣生成部40的鍋爐及過熱器、噴射器45的電磁閥、氣體供給閥(49a~d)、噴射器52的電磁閥、噴射器55的電磁閥等的動作進行控制者。例如,藉由操作部由作業人員所操作,上述的程式會由硬體處理器從記憶體所讀出並被執行。藉此,上述的控制指令會被生成,而根據該控制指令,驅動驅動軸35的電動馬達、加熱器12的發熱體、過熱水蒸氣生成部40的鍋爐及過熱器、噴射器45的電磁閥、氣體供給閥(49a~d)、噴射器52的電磁閥、以及噴射器55的電磁閥等會作動。
[熱處理裝置的動作]
其次,對熱處理裝置1之處理動作的一例進行說明。在開始熱處理裝置1的處理動作時,首先,根據來自控制部25的控制指令,開始熱處理室11的搬送機構33、加熱器12、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給系統18、及排氣系統(21a、21b)的動作。若根據來自控制部25的控制指令而開始熱處理裝置1的處理動作,具體而言,在熱處理裝置1中便會進行以下的動作。
首先,進行利用加熱器12所進行之熱處理室11內之環境氛圍的加熱。具體而言,進行對加熱器12之發熱體之電熱體的通電,發熱體會發熱,而熱處理室11便會從外部由加熱器12所加熱。而且,藉由熱處理室11從外部被加熱,來進行熱處理室11內之環境氛圍的加熱。
又,於熱處理室11中,開始對搬送機構33之驅動軸35進行驅動之電動馬達的運轉,而開始搬送機構33之網格帶34的環繞動作,便會成為可進行利用搬送機構33所進行在熱處理室11內之被處理物10之搬送的狀態。再者,藉由適當設定電動馬達的旋轉速度,當藉由網格帶34的環繞動作來搬送被處理物10時的搬送速度、即利用搬送機構33所進行之被處理物10的搬送速度會被設定為既定的速度。又,利用搬送機構33所進行之被處理物10的搬送速度,會對應於會在熱處理室11內被熱處理之被處理物10之熱處理時間等的熱處理條件而被適當設定。
又,水蒸氣供給系統14之過熱水蒸氣生成部40的鍋爐及過熱器作動,而連續地進行過熱水蒸氣的生成。再者,在過熱水蒸氣生成部40所生成之過熱水蒸氣的溫度與每單位時間所生成之過熱水蒸氣的量,會對應於被處理物10的熱處理條件而被適當設定,而該被處理物10係作為藉由利用過熱水蒸氣所進行之加熱來進行之熱處理的熱處理對象者。在過熱水蒸氣生成部40所生成的加熱水蒸氣,會經由水蒸氣供給配管(41、42a、42b)連續地被供給至水蒸氣供給部13的一對噴嘴部(38a、38b)。此外,被供給至各噴嘴部(38a、38b)的過熱水蒸氣,會從各噴嘴部(38a、38b)的複數個噴嘴孔39吹出,過熱水蒸氣會連續地被供給至熱處理室11內。
又,開始水蒸氣排出系統(16a、16b)之各噴射器45的作動。藉此,熱處理室11內之過熱水蒸氣,會分別從入口側水蒸氣排出部15a及出口側水蒸氣排出部15b被吸入,並經由各水蒸氣排出管44及各噴射器45朝向外部連續地被排出。
又,開始從氣體供給部17之入口側氣體供給部(36a、36b)及出口側氣體供給部(37a、37b)之朝向熱處理室11內之惰性氣體的供給。具體而言,以氣體供給系統18的氣體供給閥(49a~d)進行打開動作之方式作動,從惰性氣體供給源46所供給的惰性氣體會經由共同配管47及各分支配管(48a~d)連續地被供給至入口側氣體供給部(36a、36b)及出口側氣體供給部(37a、37b)。然後,惰性氣體從入口側氣體供給部(36a、36b)及出口側氣體供給部(37a、37b)朝向熱處理室11內連續地被供給。
又,開始排氣系統(21a、21b)之噴射器52的作動。藉此,熱處理室11內之氣體會分別從入口側排氣部19及出口側排氣部20被吸入,並經由各氣體排氣管51及各噴射器52朝向外部連續地被排出。
又,黏合劑排出系統53在熱處理裝置1進行燒結處理,如從被處理物10會大量地產生黏合劑般之熱處理條件的情形時,會根據來自控制部25的控制指令作動。在黏合劑排出系統53之噴射器55的作動中,熱處理室11內之環境氛圍中含有高濃度黏合劑的氣體,會被吸入黏合劑排出部23並從熱處理室11被排出。
如上述般,若開始熱處理裝置1的處理動作,從被設置在加熱區域HR內之搬送方向X1之中央部分之水蒸氣供給部13所供給的過熱水蒸氣便會一邊充滿在熱處理室11內一邊進行流動。而且,從水蒸氣供給部13朝向入口31側及出口32側之水蒸氣排出部15流動之過熱水蒸氣的流動會持續地被形成。亦即,在熱處理室11內一邊充滿過熱水蒸氣,從水蒸氣供給部13流向入口側水蒸氣排出部15a之過熱水蒸氣的流動、及從水蒸氣供給部13流向出口側水蒸氣排出部15b之過熱水蒸氣的流動會一邊持續地被形成。
又,從氣體供給部17之入口側氣體供給部(36a、36b)所供給的惰性氣體,會以在熱處理室11內之入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域擴散的方式流動。藉此,在入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域內,進行利用惰性氣體所進行之環境氛圍的分離。又,從氣體供給部17之出口側氣體供給部(37a、37b)所供給的惰性氣體,會以在熱處理室11內之出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的區域擴散的方式流動。藉此,在出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的區域內,進行利用惰性氣體所進行之環境氛圍的分離。
如上述般,若開始熱處理裝置1的處理動作,於熱處理室11內,從水蒸氣供給部13朝向入口31側及出口32側之水蒸氣排出部15流動之過熱水蒸氣的流動便會持續地被形成,並且亦會進行利用從氣體供給部17所供給之惰性氣體所進行之環境氛圍的分離。
此處,進一步對熱處理裝置1之動作中之熱處理室11內之水蒸氣的流動與利用惰性氣體所進行之環境氛圍的分離進行說明。圖10及圖11係用以說明熱處理裝置1中熱處理室11內之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖。再者,圖11(A)係說明在水蒸氣供給部13之周圍之區域的過熱水蒸氣之流動的圖。圖11(B)係說明入口側水蒸氣排出部15a及入口側氣體供給部(36a、36b)之周圍之區段的過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖。圖11(C)係說明在出口側水蒸氣排出部15b及出口側氣體供給部(37a、37b)之周圍之區域的過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖。再者,在圖10及圖11中,以虛線之箭頭示意地表示熱處理室11內之過熱水蒸氣之流動的方向,並以實線之箭頭示意地表示熱處理室11內之惰性氣體之流動的方向。
如圖10及圖11(A)所示,從水蒸氣供給部13之一對噴嘴部(38a、38b)之各者分別被吹出的過熱水蒸氣,會朝向一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側流動,而於本實施形態中,會朝向加熱區域HR內之被處理物10之搬送方向X1的中央位置側流動。又,在一對噴嘴部(38a、38b)之間的區域且加熱區域HR之中央位置附近的區域,設置有隔板(22e、22f)。因此,從各噴嘴部(38a、38b)被吹出並朝向一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側(於本實施形態中,係加熱區域HR之中央位置側)流動的各過熱水蒸氣,會與隔板(22e、22f)碰撞。亦即,從噴嘴部38a所吹出的過熱水蒸氣會與隔板22e碰撞,而從噴嘴部38b所吹出之過熱水蒸氣會與隔板22f碰撞。然後,從各噴嘴部(38a、38b)被吹出並與隔板(22e、22f)碰撞的各過熱水蒸氣,會一邊在加熱區域HR內涵蓋與搬送方向X1垂直之截面的整體擴散,一邊以在與搬送方向X1平行的方向上翻轉而折回的方式流動。
如上述般,從噴嘴部38a被吹出的過熱水蒸氣,會在朝向一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側流動並翻轉後,以在加熱區域HR內涵蓋與搬送方向X1垂直之截面的整體擴散的狀態,朝向與一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側相反方向而沿著與搬送方向X1平行的方向流動。亦即,從噴嘴部38a所吹出的過熱水蒸氣,會以從一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側朝向熱處理室11的入口31側擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態流動。而且,從噴嘴部38b所吹出的過熱水蒸氣,朝向一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側流動並翻轉後,以在加熱區域HR內涵蓋與搬送方向X1垂直之截面的整體擴散的狀態,朝向與一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側相反方向而沿著與搬送方向X1平行的方向流動。亦即,從噴嘴部38b所吹出的過熱水蒸氣,會以從一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側朝向熱處理室11的出口32側擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態流動。藉此,於熱處理室11內,會在從一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側之各者朝向入口31側及出口32側而沿著與搬送方向X1平行之方向擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態下,形成流速之偏差較少之大致相同之水蒸氣的流動。
又,從噴嘴部38a被吹出並朝向入口31側流動的過熱水蒸氣,如圖10及圖11(B)所示般,會朝向入口側水蒸氣排出部15a流動,而從入口側水蒸氣排出部15a被吸入並朝向熱處理室11的外部被排出。再者,朝向入口側水蒸氣排出部15a流動的過熱水蒸氣,會通過隔板22d之下方的區域,而從入口側水蒸氣排出部15a之下壁43b之複數個貫通孔被吸入入口側水蒸氣排出部15a。又,從噴嘴部38b被吹出並朝向出口32側流動的過熱水蒸氣,如圖10及圖11(C)所示般,會朝向出口側水蒸氣排出部15b流動,從出口側水蒸氣排出部15b被吸入並朝向熱處理室11的外部被排出。再者,朝向出口側水蒸氣排出部15b流動的過熱水蒸氣,會通過隔板22g之下方的區域,而從出口側水蒸氣排出部15b之下壁43b的複數個貫通孔被吸入入口側水蒸氣排出部15a。
如上述般,於熱處理室11內,從水蒸氣供給部13朝向入口31側及出口32側之水蒸氣排出部15流動之大致相同之過熱水蒸氣的流動會持續地被形成。因此,在從水蒸氣供給部13至入口31側及出口32側之水蒸氣排出部15為止的區域內,充滿呈流動狀態之過熱水蒸氣,並且在擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態下,流速偏差較少之大致相同之過熱水蒸氣的流動會持續地被形成。
又,在熱處理室11內之較入口側水蒸氣排出部15a更靠入口31側的區域內, 如圖10及圖11(B)所示般,惰性氣體會分別從入口側氣體供給部36a及入口側氣體供給部36b被吹出。
惰性氣體從入口側氣體供給部36a,會以朝向下方擴散的方式被吹出。從入口側氣體供給部36a被吹出的惰性氣體,會以充滿入口側氣體供給部36b之附近之區域的方式擴散。而且,以充滿入口側氣體供給部36a之附近之區域的方式擴散之惰性氣體的一部分,會朝向較入口側氣體供給部36a更靠入口31側的區域流動。因此,可阻止較入口側氣體供給部36a更靠入口31側之區域之環境氛圍的氣體朝向入口側氣體供給部36a側流動之情形。藉此,從水蒸氣供給部13至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍、與從入口31至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍,會更確實地被分離並被遮斷。又,從入口側氣體供給部36a被吹出之惰性氣體的一部分,會朝向入口側氣體排氣部19流動,並在以充滿隔板22a之下方之區域的方式擴散的狀態下通過隔板22a之下方的區域。然後,通過隔板22a之下方之區域的惰性氣體,會從入口側氣體排氣部19之下壁50b的複數個貫通孔被吸入入口側氣體排氣部19,並朝向熱處理室11的外部被排出。
又,惰性氣體亦可從入口側氣體供給部36b,以朝向下方擴散的方式被吹出。從入口側氣體供給部36b朝向下方擴散而被吹出的惰性氣體,會朝向入口側氣體排氣部19流動,並在以充滿隔板22b之下方之區域的方式擴散的狀態下通過隔板22b之下方的區域。然後,通過隔板22b之下方之區域的惰性氣體,會從入口側氣體排氣部19之下壁50b的複數個貫通孔被吸入入口側氣體排氣部19,並朝向熱處理室11的外部被排出。
又,於入口側氣體供給部36b之附近的區域內,以在入口側水蒸氣排出部15a不會完全被排出而洩漏的方式朝向入口31側流動之些微的水蒸氣,會與從入口側氣體供給部36b被供給至熱處理室11內的惰性氣體混合而被稀釋。然後,與從入口側氣體供給部36b被供給至熱處理室11內之惰性氣體混合而被稀釋的水蒸氣,會從入口側排氣部19朝向外部被排出。因此,以從入口側水蒸氣排出部15a洩漏的方式朝向入口31側流動之些微的水蒸氣,亦會從入口側排氣部19被排出。
如上述般,從入口側氣體供給部(36a、36b)所供給之惰性氣體,會以在熱處理室11內之入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域擴散的方式流動。而且,朝向入口31側流動之惰性氣體的流動、及朝向被配置於入口側氣體供給部(36a、36b)之間之入口側氣體排氣部19流動之惰性氣體的流動,會持續地被形成。藉此,在入口側氣體供給部(36a、36b)之附近的區域內,會進行利用從入口側氣體供給部(36a、36b)被供給至熱處理室11內之惰性氣體所進行之環境氛圍的分離。
又,在熱處理室11內之較出口側水蒸氣排出部15b更靠出口32側的區域中,如圖10及圖11(C)所示般,惰性氣體會分別從出口側氣體供給部37a及出口側氣體供給部37b被吹出。
惰性氣體從出口側氣體供給部37a,會以朝向下方擴散的方式被吹出。從出口側氣體供給部37a朝向下方擴散而被吹出的惰性氣體,會朝向出口側氣體排氣部20流動,並以充滿隔板22i之下方之區域之方式擴散的狀態通過隔板22i之下方的區域。然後,通過隔板22i之下方之區域的惰性氣體,會從出口側氣體排氣部20之下壁50b的複數個貫通孔被吸入出口側氣體排氣部20,並朝向熱處理室11的外部被排出。
又,在出口側氣體供給部37a之附近的區域內,以在出口側水蒸氣排出部15b不會完全被排出而洩漏的方式朝向出口32側流動之些微的水蒸氣,會與從出口側氣體供給部37a對熱處理室11內被供給的惰性氣體混合而被稀釋。然後,與從出口側氣體供給部37a供給至熱處理室11內的惰性氣體混合而稀釋的水蒸氣從出口側排氣部20向外部排出。因此,以從出口側水蒸氣排出部15b洩漏的方式朝向出口32側流動之些微的水蒸氣,亦會從出口側排氣部20被排氣。
又,惰性氣體亦會從出口側氣體供給部37b,以朝向下方擴散的方式被吹出。從出口側氣體供給部37b被吹出的惰性氣體,會以充滿出口側氣體供給部37b之附近之區域的方式擴散。而且,以充滿出口側氣體供給部37b之附近之區域的方式擴散之惰性氣體的一部分,會朝向較出口側氣體供給部37b更靠出口32側之區域流動。因此,可阻止較出口側氣體供給部37b更靠出口32側之區域之環境氛圍的氣體朝向出口側氣體供給部37b側流動的情形。藉此,從水蒸氣供給部13至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區段的環境氛圍、與從出口32至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍,會更確實地被分離並被遮斷。又,從出口側氣體供給部37b被吹出之惰性氣體的一部分,會朝向出口側氣體排氣部20流動,並以充滿隔板22j之下方之區域的方式擴散的狀態,通過隔板22j之下方的區域。然後,通過隔板22j之下方之區域的惰性氣體,會從出口側氣體排氣部20之下壁50b的複數個貫通孔被吸入出口側氣體排氣部20,並朝向熱處理室11的外部被排出。
如上述般,從出口側氣體供給部(37a、37b)所供給的惰性氣體,會以在熱處理室11內之出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的區域擴散的方式流動。然後,朝向出口32側流動之惰性氣體的流動、與朝向被配置於出口側氣體供給部(37a、37b)之間之出口側氣體排氣部20流動之惰性氣體的流動,會持續地被形成。藉此,在出口側氣體供給部(37a、37b)附近的區域內,會進行利用從出口側氣體供給部(37a、37b)被供給至熱處理室11內的惰性氣體所進行之環境氛圍的分離。
如上述般,若開始熱處理裝置1的處理動作而各機器開始作動,在從水蒸氣供給部13至入口31側及出口32側的水蒸氣排出部15為止的區域內,會成為一邊在熱處理室11內充滿一邊大致相同地流動之過熱水蒸氣之流動會持續地被形成的狀態。而且,在入口側氣體供給部(36a、36b)之附近及出口側氣體供給部(37a、37b)之附近的各者,會成為進行利用惰性氣體所進行之環境氛圍之分離的狀態。在該狀態下,被收納於殼體10a的被處理物10會朝向熱處理室11被搬入。
被收納於殼體10a之狀態的被處理物10,會從入口31朝向熱處理室11內反覆而連續地且依序地被搬入。更具體而言,若一個收納有複數個被處理物10的殼體10a從入口31朝向熱處理室11被搬入,經過既定時間後,下一個收納有複數個被處理物10的殼體10a便會從入口31朝向熱處理室11被搬入。然後,每當再經過既定時間,再下一個收納有複數個被處理物10的殼體10a便會從入口31朝向熱處理室11被搬入。如此,收納有複數個被處理物10的殼體10a,會從入口31朝向熱處理室11內反覆連續地且依序地被搬入。
收納有被處理物10的殼體10a,若從入口31朝向熱處理室11內被搬入,便會在被配置於搬送機構33之網格帶34之上表面的狀態下,與網格帶34的環繞動作一起,在熱處理室11內朝搬送方向X1被搬送。在熱處理室11內與殼體10a一起朝搬送方向X1被搬送的被處理物10,若通過入口側氣體供給部36a的下方,便會進入加熱區域HR,而開始在加熱區域HR之利用過熱水蒸氣所進行的加熱。再者,被處理物10從通過入口側氣體供給部36a之下方後至到達入口側氣體供給部36b之附近為止的期間,會藉由不會被入口側水蒸氣排出部15a所排出而朝向入口31側流動之些微的過熱水蒸氣所加熱。而且,從到達入口側氣體供給部36b之附近起至通過入口側水蒸氣排出部15a之下方之區域為止的期間,會藉由朝向入口31側流動之上述之些微的過熱水蒸氣、及被來自加熱器12的熱進行加熱的環境氛圍所加熱。
被處理物10若通過入口側水蒸氣排出部15a的下方,便會在過熱水蒸氣之環境氛圍中朝搬送方向X1被搬送,其中,該過熱水蒸氣會在熱處理室11內一邊充滿一邊大致相同地從水蒸氣供給部13朝向入口側水蒸氣排出部15a流動。然後,被處理物10會在過熱水蒸氣流動之上述的環境氛圍中被繼續加熱。再者,於該期間內,被處理物10亦會由被來自加熱器12之熱加熱的環境氛圍所加熱。
被處理物10如上述般一邊被加熱一邊被搬送至加熱區域HR的中央部分。然後, 被處理物10若通過被設置在加熱區域HR之中央部分之水蒸氣供給部13的下方,便會在過熱水蒸氣之環境氛圍中朝搬送方向X1被搬送,其中,該過熱水蒸氣會在熱處理室11內一邊充滿一邊大致相同地從水蒸氣供給部13朝向出口側水蒸氣排出部15b流動。然後,被處理物10會在過熱水蒸氣流動之上述的環境氛圍中被繼續加熱。再者,於該期間內,被處理物10亦會由被來自加熱器12之熱加熱的環境氛圍所加熱。
在熱處理室11內如上述般一邊被加熱一邊朝搬送方向X1被搬送的被處理物10,會一邊持續被加熱一邊被搬送至出口側水蒸氣排出部15b之下方的區域。再者,必須對被處理物10進行之利用過熱水蒸氣所進行的熱處理,主要藉由在從通過入口側水蒸氣排出部15a之下方起經過水蒸氣供給部13之下方的區域到達出口側水蒸氣排出部15b之下方之區域為止的期間之利用過熱水蒸氣所進行的加熱來進行。
被處理物10若通過出口側水蒸氣排出部15b之下方的區域,便會由不會被出口側水蒸氣排出部15b所排出而朝向出口32側流動之些微的過熱水蒸氣所加熱。此外,被處理物10若從出口側水蒸氣排出部15b之下方的區域朝向出口32側被搬送,便會通過出口側排氣部20的下方到達出口側氣體供給部37b之下方的區域,而脫離加熱區域HR。被處理物10若通過出口側氣體供給部37b之下方的區域而脫離加熱區域HR,便不會進行加熱處理,而在熱處理室11內朝搬送方向X1被搬送至出口32。然後,若到達出口32,被收納於殼體10a之狀態的被處理物10便會從出口32朝向熱處理室11之外被搬出。再者,收納有被處理物10的殼體10a會反覆連續地且依序地朝向熱處理室11內被搬入,當從出口32之搬出時,也會被反覆連續地且依序地被搬出。
若必須進行熱處理裝置1中之熱處理之所有被處理物10的熱處理結束,所有被處理物10從熱處理室11被搬出時,根據來自控制部25的控制指令,搬送機構33、加熱器12、水蒸氣供給系統14、水蒸氣排出系統(16a、16b)、氣體供給系統18、排氣系統(21a、21b)的作動便會被停止。藉此,熱處理裝置1的處理動作結束。
[本實施形態的效果]
如以上所說明般,根據本實施形態的熱處理裝置1,被處理物10會藉由從被設置在熱處理室11之加熱區域HR之水蒸氣供給部13被供給至熱處理室11內的過熱水蒸氣所加熱,而進行被處理物10的熱處理。而且,被使用於被處理物10之加熱的過熱水蒸氣,會從被設置在加熱區域HR的水蒸氣供給部13朝向分別被設置在熱處理室11之入口31側與出口32側的水蒸氣排出部15(15a、15b)流動,並從水蒸氣排出部15(15a、15b)朝向熱處理室的外部被排出。因此,於熱處理室11,形成有從加熱區域HR內之水蒸氣供給部13朝向入口31側流動並從入口側水蒸氣排出部15a朝向外部被排出之水蒸氣的流動、及從加熱區域HR內之水蒸氣供給部13朝向出口32側流動並從出口側水蒸氣排出部15b朝向外部被排出之水蒸氣的流動。而且,於熱處理室11內,從加熱區域HR內的水蒸氣供給部13朝向入口31側及出口32側之各者,形成有沿著與被處理物10之搬送方向X1平行的方向流速偏差較少之更相同之水蒸氣的流動。藉此,於熱處理室11內,會難以產生水蒸氣之流動會停滯的區域,其結果,在熱處理室11內會難以產生環境氛圍會停滯的區域。
因此,根據本實施形態的熱處理裝置1,可抑制在進行被處理物10之熱處理的熱處理室11內發生環境氛圍之停滯的情形。又,根據熱處理裝置1,由於可抑制在熱處理室11內發生環境氛圍之停滯的情形,因此可抑制在相同之熱處理室11內進行熱處理的複數個被處理物10之間產生熱處理之不均的情形,而且,亦可抑制伴隨從被處理物10中所產生之氣體的滯留之熱處理效率的降低及被處理物10之髒污的發生。
又,根據本實施形態,藉由水蒸氣供給部13被設置在熱處理室11的加熱區域HR,且水蒸氣排出部15(15a、15b)被設置在熱處理室11之入口31側及出口32側之簡單的構成,可實現可抑制熱處理室11內之環境氛圍之停滯的發生的熱處理裝置1。因此,可防止利用過熱水蒸氣來進行被處理物10之熱處理的熱處理裝置1之結構的複雜化。
如以上所述般,根據本實施形態,可提供一種熱處理裝置1,其可防止利用過熱水蒸氣來進行被處理物10之熱處理的熱處理裝置1之結構的複雜化,並且可抑制在進行被處理物10之熱處理的熱處理室11內發生環境氛圍之停滯的情形。
又,根據本實施方式的熱處理裝置1,由於熱處理室11的入口31相對於外部被開放,因此可連續地迅速地且容易地進行被處理物10朝向熱處理室11內的搬入作業。藉此,可使熱處理程式連續化而謀求熱處理之作業效率的提升。而且,根據熱處理裝置1,除了入口31被開放之外,還設置有入口側氣體供給部(36a、36b),其中,該入口側氣體供給部(36a、36b)相對於水蒸氣供給部13被設置在較被設置於入口31側之入口側水蒸氣排出部15a更靠入口31側而對熱處理室11內供給惰性氣體。因此,藉由從入口側氣體供給部(36a、36b)供給的惰性氣體,可在朝外部被開放的入口31與入口側水蒸氣排出部15a之間將熱處理室11內的環境氛圍加以分離。亦即,可將從水蒸氣供給部13至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍、與從朝外部被開放的入口31至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍加以分離。藉此,在為了提升熱處理的作業效率而入口31被開放的熱處理裝置1中,可相對於外部遮斷從水蒸氣供給部13至入口側水蒸氣排出部15a為止之區域的環境氛圍,而可效率佳地進行利用加熱區域HR內之過熱水蒸氣所進行之被處理物10的熱處理。
又,根據本實施形態的熱處理裝置1,入口側氣體供給部(36a、36b)被設置為一對,且在該等之間設置有入口側排氣部19。因此,從入口側水蒸氣排出部15a朝向入口31側,依照入口側水蒸氣排出部15a、入口側氣體供給部36b、入口側排氣部19、及入口側氣體供給部36a 的順序,該等會被配置。根據該構成,以在入口側水蒸氣排出部15a不會完全被排出而洩漏的方式朝向入口31側流動之些微的水蒸氣,會與從入口側氣體供給部36b所供給的惰性氣體混合而被稀釋。然後,與從入口側氣體供給部36b所供給的惰性氣體混合而被稀釋的水蒸氣,會從入口側排氣部19朝向外部被排出。因此,以從入口側水蒸氣排出部15a洩漏的方式朝向入口31側流動之些微的水蒸氣,亦會從入口側排氣部19被排氣。其結果,可防止水蒸氣流入入口側排氣部19與入口31之間的區域且溫度較低之區域的情形。藉此,可防止水蒸氣流入入口側排氣部19與入口31之間之溫度較低的區域而發生結露的情形。藉由防止結露的發生,可防止水分滴落至從入口31被搬入的被處理物10而弄濕被處理物10,從而對被處理物10之熱處理狀態產生影響的情形。又,根據上述的構成,藉由從被配置在入口側排氣部19與入口31之間的入口側氣體供給部36a所供給的惰性氣體,可更確實地將從水蒸氣供給部13至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍、與從入口31至入口側氣體供給部(36a、36b)為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
又,根據本實施形態的熱處理裝置1,由於熱處理室11的出口32相對於外部被開放,因此可連續地迅速地且容易地進行被處理物10從熱處理室11的搬出作業。藉此,可使熱處理程式連續化而謀求熱處理之作業效率的提升。而且,根據熱處理裝置1,除了出口32被開放之外,還設置有出口側氣體供給部(37a、37b),其中,該出口側氣體供給部(37a、37b)相對於水蒸氣供給部13被設置在較被設置於出口32側的出口側水蒸氣排出部15b更靠出口32側,而對熱處理室11內供給惰性氣體。因此,藉由從出口側氣體供給部(37a、37b)供給的惰性氣體,可在朝外部被開放的出口32與出口側水蒸氣排出部15b之間將熱處理室11內的環境氛圍加以分離。亦即,可將從水蒸氣供給部13至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍、與從朝外部被開放的出口32至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍加以分離。藉此,在為了提升熱處理的作業效率而出口32被開放的熱處理裝置1中,可將從水蒸氣供給部13至出口側水蒸氣排出部15b為止之區域的環境氛圍相對於外部遮斷,而可效率佳地進行利用加熱區域HR內之過熱水蒸氣所進行之被處理物10的熱處理。
又,根據本實施形態的熱處理裝置1,出口側氣體供給部(37a、37b)被設置為一對,在該等之間設置有出口側排氣部20。因此,從出口側水蒸氣排出部15b朝向出口32側,依照出口側水蒸氣排出部15b、出口側氣體供給部37a、出口側排氣部20、及出口側氣體供給部37b的順序,該等構件會被配置。根據該構成,以在出口側水蒸氣排出部15b不會完全被排出而洩漏的方式朝向出口32側流動之些微的水蒸氣,會與從出口側氣體供給部37a所供給的惰性氣體混合而被稀釋。然後,與從出口側氣體供給部37b所供給的惰性氣體混合而被稀釋的水蒸氣,會從出口側排氣部20朝向外部被排出。因此,以從出口側水蒸氣排出部15b洩漏的方式朝向出口32側流動之些微的水蒸氣,亦會從出口側排氣部20被排氣。其結果,可防止水蒸氣流入出口側排氣部20與出口32之間的區域且溫度較低的區域之情形。藉此,可防止水蒸氣流入出口側排氣部20與出口32之間的溫度較低的區域而發生結露的情形。藉由防止結露的發生,當被處理物10從出口32被搬出時,可防止水分滴落至被處理物10而弄濕被處理物10的情形。又,根據上述的構成,藉由從被配置在出口側排氣部20與出口32之間的出口側氣體供給部37b所供給的氣體,可更確實地將從水蒸氣供給部13至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍、與從出口32至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
又,根據本實施形態的熱處理裝置1,水蒸氣供給部13具備有一對噴嘴部(38a、38b)。而且,從一對噴嘴部(38a、38b)之各者被吹出的過熱水蒸氣,會朝向相對向之一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側流動。在相對向之一對噴嘴部(38a、38b)之間的區域,設置有被構成為局部地限制與被處理物10之搬送方向X1平行之方向上的氣體之流動的隔板(22e、22f)。從各噴嘴部(38a、38b)被吹出並朝向一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側流動的各過熱水蒸氣會與隔板(22e、22f)碰撞,而在加熱區域HR內一邊涵蓋與被處理物10之搬送方向X1垂直的截面之整體擴散一邊以在與被處理物10之搬送方向X1平行的方向上翻轉而折回之方式流動。因此,從各噴嘴部(38a、38b)被吹出的過熱水蒸氣,會於朝向一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側流動並翻轉後,以在加熱區域HR內涵蓋與被處理物10之搬送方向X1垂直的截面之整體擴展的狀態,朝向與一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側相反方向,沿著與被處理物10之搬送方向X1平行的方向流動。亦即,從一對噴嘴部(38a、38b)之各者被吹出的過熱水蒸氣,會在一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側流動並翻轉後,以擴展至加熱區域HR之截面之整體的狀態,沿著與被處理物10之搬送方向X1平行的方向並沿著相互地離開的方向流動。因此,從噴嘴部38a吹出的過熱水蒸氣,會以從一對噴嘴部(38a、38b)的中間位置側朝向熱處理室11的入口31側而擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態流動。而且,從噴嘴部38b吹出的過熱水蒸氣,會以從一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側朝向熱處理室11的出口32側而擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態流動。藉此,於熱處理室11內,從一對噴嘴部(38a、38b)之中間位置側朝向入口31側及出口32側之各者,以沿著與被處理物10之搬送方向X1平行的方向擴散至加熱區域HR之截面之整體的狀態,形成有流速偏差更少之更相同之水蒸氣的流動。藉此,於熱處理室11內,會更難以產生水蒸氣之流動會停滯的區域,其結果,於熱處理室11內會更難以產生環境氛圍會停滯的區域。因此,根據上述的構成,可進一步抑制在熱處理室11內發生環境氛圍之停滯的情形。
又,根據本實施方式的熱處理裝置1,在一對入口側氣體供給部(36a、36b)之各者與入口側排氣部19之間,設置有局部地限制與被處理物10的搬送方向X1平行的方向上的氣體的流動的入口側隔板(22a、22b)。因此,在夾著入口側排氣部19而配置的一對入口側氣體供給部(36a、36b)之間,可維持以氣體可流動的方式連通環境氛圍的狀態,並且可形成更容易分離環境氛圍的狀態。藉此,可更有效地分離並遮斷從水蒸氣供給部13到入口側氣體供給部(36a、36b)的區段的環境氛圍和從入口31到入口側氣體供給部(36a、36b)的區段的環境氛圍。
又,根據本實施形態的熱處理裝置1,在一對出口側氣體供給部(37a、37b)之各者與出口側排氣部20之間,設置有局部地限制與被處理物10之搬送方向X1平行的方向上之氣體之流動的出口側隔板(22i、22j)。因此,在夾著出口側排氣部20被配置的一對出口側氣體供給部(37a、37b)之間,可一邊維持環境氛圍以氣體可進行流動之方式連通的狀態,一邊形成更容易分離環境氛圍的狀態。藉此,可更有效地將從水蒸氣供給部13至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍、與從出口32至出口側氣體供給部(37a、37b)為止之區域的環境氛圍分離並加以遮斷。
[變形例]
以上,雖已對本發明之實施形態進行說明,但本發明並非被限定於上述之實施形態者,在申請專利範圍所記載的範圍內可進行各種變更並加以實施。例如,亦可實施如下的變形例。
(1) 在前述的實施形態中,雖已例示加熱區域被構成為從水蒸氣供給部至入口側氣體供給部為止的區域、及從水蒸氣供給部至出口側氣體供給部為止之區域的形態,但亦可並非如此,而亦可實施其他的形態。加熱區域只要為進行熱處理室內之被處理物之加熱的區域即可,可被構成為進行利用過熱水蒸氣所進行之加熱與利用來自加熱器之熱所進行的加熱(即,利用藉由來自加熱器的熱而經由熱處理室加熱之熱處理室內之環境氛圍所進行的加熱)中之至少任一者的區域。例如,若為從外部對熱處理室進行加熱的加熱器涵蓋從熱處理室的入口至出口為止的區段被配置的形態,熱處理室內涵蓋從入口至出口為止之全長的區域便為加熱區域。
(2) 又,在前述的實施形態中,雖已例示水蒸氣排出部被設置在加熱區域內之被處理物之搬送方向之中央部分的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如, 亦可實施水蒸氣供給部被設置在加熱區域內之較被處理物之搬送方向的中央部分更靠入口側或出口側的形態。
(3) 又,在前述的實施形態中,雖已例示水蒸氣供給部被構成為具備有在被處理物之搬送方向上相互地對向而被配置的一對噴嘴部的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,亦可實施水蒸氣供給部被構成為具備有1個或3個以上的噴嘴部的形態。又,在前述的實施形態中,雖已例示被形成為圓筒狀的噴嘴部,但噴嘴部的形狀可以並非如此,亦可進行各種變更來實施。例如,亦可實施噴嘴部被形成為箱狀、方筒狀、或複數個圓筒狀的部分以該等之內部連通之狀態被連結的形狀等之各種形狀的形態。又,在前述的實施形態中,雖已例示在噴嘴部,複數個噴嘴孔被設置為朝向一對噴嘴部之中間位置側吹出過熱水蒸氣的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,在噴嘴部,亦可實施複數個噴嘴孔被設置為朝向上方或下方吹出過熱水蒸氣的形態。或者,在噴嘴部,亦可實施複數個噴嘴孔被設置為朝向與一對噴嘴部之中間位置側的相反側吹出過熱水蒸氣的形態。
(4) 又,在前述的實施形態中,雖已例示在水蒸氣供給部的一對噴嘴部之間設置有一對隔板及黏合劑排出部的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,亦可實施在水蒸氣供給部的一對噴嘴部之間不設置黏合劑排出部而設置1張隔板的形態。或者,亦可實施在水蒸氣供給部的一對噴嘴部之間不設置隔板而設置黏合劑排出部的形態。或者,亦可實施在水蒸氣供給部的一對噴嘴部之間未設置有隔板及黏合劑排出部之任一者的形態。
(5) 又,在前述的實施形態中,雖已例示氣體供給部對熱處理室內供給惰性氣體的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,亦可實施氣體供給部對熱處理室內供給空氣的形態。或者,亦可實施氣體供給部對熱處理室內供給惰性氣體與空氣之混合氣體的形態。
(6) 又,在前述的實施形態中,雖已例示入口側氣體供給部被設置為一對的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,亦可實施設置有1個或3個以上之入口側氣體供給部的形態。又,在前述的實施形態中,雖已例示被形成為圓筒狀的入口側氣體供給部,但入口側氣體供給部的形狀亦可並非如此,亦可進行各種變更來實施。例如,亦可實施入口側氣體供給部被形成為箱狀、方筒狀、或複數個圓筒狀的部分以該等之內部連通的狀態被連結的形狀等之各種形狀的形態。又,在前述的實施形態中, 雖已例示在入口側氣體供給部,複數個噴嘴孔被設為朝向下方吹出氣體的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,在噴嘴部,亦可實施複數個噴嘴孔被設為朝向下方以外的方向吹出氣體的形態。
(7) 又,在前述的實施形態中,雖已例示出口側氣體供給部被設置為一對的形態, 但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,亦可實施設置有1個或3個以上之出口側氣體供給部的形態。又,在前述的實施形態中,雖已例示被形成為圓筒狀的出口側氣體供給部,但出口側氣體供給部的形狀亦可並非如此,亦可進行各種變更來實施。例如,亦可實施出口側氣體供給部被形成為箱狀、方筒狀、或者複數個圓筒狀的部分以該等之內部連通的狀態被連結的形狀等之各種形狀的形態。又,在前述的實施形態中, 雖已例示在出口側氣體供給部,複數個噴嘴孔被設為朝向下方吹出氣體的形態,但亦可並非如此,亦可實施其他的形態。例如,在噴嘴部,亦可實施複數個噴嘴孔被設為朝向下方以外之方向吹出氣體的形態。
(產業上之可利用性)
本發明係關於利用過熱水蒸氣對被處理物進行加熱來進行被處理物之熱處理的熱處理裝置,而可廣泛地加以應用。
1:熱處理裝置
10:被處理物
10a:殼體
11:熱處理室
11a:側壁
11b:側壁
11c:頂壁
11d:底壁
12:加熱器
13:水蒸氣供給部
14:水蒸氣供給系統
15:水蒸氣排出部
15a:水蒸氣排出部
15b:水蒸氣排出部
16a:水蒸氣排出系統
16b:水蒸氣排出系統
17:氣體供給部
18:氣體供給系統
19:入口側排氣部
20:出口側排氣部
21a:排氣系統
21b:排氣系統
22:隔板
22a:隔板
22b:隔板
22c:隔板
22d:隔板
22e:隔板
22f:隔板
22g:隔板
22h:隔板
22i:隔板
22j:隔板
23:黏合劑排出部;黏合劑排氣部
23a:上壁
23b:水平延伸的下壁
23c:側壁
23d:側壁
24:空氣簾部
24a:入口空氣簾部
24b:出口空氣簾部
25:控制部
31:入口
32:出口
33:搬送機構
34:網格帶
35:驅動軸
35a:鏈輪
36a:入口側氣體供給部(氣體供給部)
36b:入口側氣體供給部(氣體供給部)
37a:出口側氣體供給部(氣體供給部)
37b:出口側氣體供給部(氣體供給部)
38a:噴嘴部
38b:噴嘴部
39:噴嘴孔
40:過熱水蒸氣生成部
41:水蒸氣供給配管
42a:水蒸氣供給配管
42b:水蒸氣供給配管
43a:上壁
43b:下壁
43c:側壁
43d:側壁
44:水蒸氣排出管
45:噴射器
46:惰性氣體供給源
46a:共同配管
47:共同配管
48a:分支配管
48b:分支配管
48c:分支配管
48d:分支配管
49a:氣體供給閥
49b:氣體供給閥
49c:氣體供給閥
49d:氣體供給閥
50a:上壁
50b:下壁
50c:側壁
50d:側壁
51:氣體排氣管
52:噴射器
53:黏合劑排出系統
54:黏合劑排出管;黏合劑排氣管
55:噴射器
HR:加熱區域
X1:搬送方向
圖1係示意性地表示本發明之實施形態之熱處理裝置之一例的圖。
圖2係示意地表示關於熱處理裝置之水蒸氣供給部、水蒸氣供給系統、水蒸氣排出部、水蒸氣排出系統、氣體供給部、及氣體供給系統等的圖。
圖3係將熱處理裝置之一部分放大而加以表示的圖,圖3(A)係將熱處理裝置中熱處理室之入口及其附近放大而加以表示的圖,而圖3(B)係將熱處理裝置中熱處理室之出口及其附近放大而加以表示的圖。
圖4係將熱處理裝置之熱處理室中水蒸氣供給部及其附近放大而加以表示的圖。
圖5係熱處理裝置之一部分之示意性的剖視圖,圖5(A)係表示從圖4之A-A箭頭位置所觀察之狀態的圖,而圖5(B)係表示從圖4之B-B箭頭位置所觀察之狀態的圖。
圖6係將熱處理裝置之熱處理室中入口側水蒸氣排出部及入口側氣體供給部以及其附近放大而加以表示的圖。
圖7係熱處理裝置之一部分之示意性的剖視圖,圖7(A)係表示從圖6之C-C箭頭位置所觀察之狀態的圖,而圖7(B)係表示從圖6之D-D箭頭位置所觀察之狀態的圖。
圖8係將熱處理裝置之熱處理室中出口側水蒸氣排出部及出口側氣體供給部以及其附近放大而加以表示的圖。
圖9係熱處理裝置之一部分之示意性的剖視圖,圖9(A)係表示從圖8之E-E箭頭位置所觀察之狀態的圖,而圖9(B)係表示從圖8之F-F箭頭位置所觀察之狀態的圖。
圖10係用以說明熱處理裝置中熱處理室內之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖。
圖11係用以說明熱處理裝置中熱處理室內之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖,圖11(A)係說明在水蒸氣供給部之周圍之區域之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖,圖11(B)係說明在入口側水蒸氣排出部及入口側氣體供給部之周圍之區域之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖,而圖11(C)係說明出口側水蒸氣排出部及出口側氣體供給部之周圍之區域之過熱水蒸氣及惰性氣體之流動的圖。
1:熱處理裝置
10:被處理物
10a:殼體
11:熱處理室
12:加熱器
13:水蒸氣供給部
15:水蒸氣排出部
15a:水蒸氣排出部
15b:水蒸氣排出部
17:氣體供給部
19:入口側排氣部
20:出口側排氣部
22:隔板
23:黏合劑排出部
24:空氣簾部
24a:入口空氣簾部
24b:出口空氣簾部
31:入口
32:出口
33:搬送機構
36a:入口側氣體供給部(氣體供給部)
36b:入口側氣體供給部(氣體供給部)
37a:出口側氣體供給部(氣體供給部)
37b:出口側氣體供給部(氣體供給部)
HR:加熱區域
X1:搬送方向
Claims (8)
- 一種熱處理裝置,係利用過熱水蒸氣對被處理物進行加熱來實施該被處理物之熱處理者;其具備有: 熱處理室,其設置有供上述被處理物搬入的入口及供上述被處理物搬出的出口,對從上述入口朝向上述出口被搬送之上述被處理物實施熱處理; 水蒸氣供給部,其被設置於上述熱處理室中作為實施上述被處理物之加熱之區域的加熱區域,其對上述熱處理室內供給過熱水蒸氣;以及 水蒸氣排出部,其在上述熱處理室中,相對於上述水蒸氣供給部分別被設置於上述入口側及上述出口側,將上述熱處理室內的過熱水蒸氣朝向上述熱處理室的外部排出。
- 如請求項1之熱處理裝置,其進一步具備有對上述熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一者的氣體供給部, 上述入口相對於上述熱處理室的外部被開放, 在上述熱處理裝置中具有入口側氣體供給部作為上述氣體供給部,該入口側氣體供給部設於較相對於上述熱處理室中之上述水蒸氣供給部而被設在上述入口側之上述水蒸氣排出部更靠上述入口側。
- 如請求項2之熱處理裝置,其中, 上述入口側氣體供給部被設置為一對, 於上述熱處理室中,在一對上述入口側氣體供給部之間,設置有將上述熱處理室內之氣體朝向上述熱處理室之外部排出的入口側排氣部。
- 如請求項1之熱處理裝置,其進一步具備有對上述熱處理室內供給惰性氣體及空氣中之至少任一者的氣體供給部, 上述出口相對於上述熱處理室的外部被開放, 在上述熱處理裝置中具有出口側氣體供給部作為上述氣體供給部,該出口側氣體供給部設於較相對於上述熱處理室中之上述水蒸氣供給部而被設在上述出口側之上述水蒸氣排出部更靠上述出口側。
- 如請求項4之熱處理裝置,其中, 上述出口側氣體供給部被設置為一對, 於上述熱處理室中,在一對上述出口側氣體供給部之間設置有將上述熱處理室內之氣體朝向上述熱處理室之外部排出的出口側排氣部。
- 如請求項1至5中任一項之熱處理裝置,其中, 上述水蒸氣供給部具備有在上述被處理物的搬送方向上相互地對向而被配置的一對噴嘴部, 一對上述噴嘴部之各者被構成為朝向相對向之一對上述噴嘴部的中間位置側吹出過熱水蒸氣。
- 如請求項3之熱處理裝置,其中, 在一對上述入口側氣體供給部之各者與上述入口側排氣部之間分別設置有入口側隔板, 上述入口側隔板被構成為局部地限制上述熱處理室中之與上述被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體的流動。
- 如請求項5之熱處理裝置,其中, 在一對上述出口側氣體供給部之各者與上述出口側排氣部之間分別設置有出口側隔板, 上述出口側隔板被構成為局部地限制上述熱處理室中之與上述被處理物之搬送方向平行之方向上的氣體的流動。
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