TW202120068A - 防曬化妝料 - Google Patents
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Abstract
本發明係提供肌膚融合感良好、且具有優越之耐摩擦性的防曬化妝料。
本發明之防曬化妝料係含有下述成分(A)、(B)及(C)。
(A)融點55℃以上之蠟 0.05~1.5質量%
(B)(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂
(C)紫外線遮蔽劑 2.5~45質量%
Description
本發明係關於防曬化妝料。
對於防曬化妝料,不僅要求紫外線防禦效果,尚要求容易連續使用之使用感。例如,為了獲得水潤且延展佳之使用感與優越的紫外線防禦效果,已提案有調配特定量之烷基改質聚矽氧蠟般之固形或半固形油,進一步將油相之總量設為一定以下的水中油型防曬化妝料(專利文獻1)。
然而,專利文獻1所揭示之防曬化妝料係耐摩擦性不足,在摩擦塗佈部表面時容易發生剝離。
(專利文獻1)日本專利特開2017-66140號公報
(專利文獻2)日本專利特開2019-14708號公報
本發明係提供一種防曬化妝料,其含有下述成分(A)、(B)及(C)。
(A)融點55℃以上之蠟 0.05~1.5質量%
(B)(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂
(C) 紫外線遮蔽劑 2.5~45質量%
為了改善併用於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之丙烯酸系聚合體與紫外線吸收劑時的耐摩擦性,已提案有於此等成分中進一步調配(丙烯酸酯/丙烯酸烷基酯(C10-C30))交聯聚合物而作成防曬化妝料(專利文獻2),但於該化妝料中,在耐摩擦性方面尚有改善空間。又,專利文獻2所揭示之化妝料係於塗佈後感覺黏瘩、肌膚融合感不足。
本發明係提供肌膚融合感良好、且具有優越之耐摩擦性的防曬化妝料。
本案發明人等發現,藉由對紫外線遮蔽劑組合特定量之融點55℃以上之蠟與(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂,可獲得肌膚融合感良好、且具有優越之耐摩擦性的防曬化妝料,遂完成本發明。
本發明之防曬化妝料係肌膚融合感良好、且具有優越之耐摩擦性。
<成分(A)>
本發明之防曬化妝料係含有(A)融點55℃以上之蠟。又,成分(A)之蠟係排除成分(B)及(D)之概念。
本發明所載用之成分(A)之蠟的融點為55℃以上,由肌膚融合感、耐摩擦性等觀點而言,較佳為57.5℃以上、更佳60℃以上,又,由製造容易性等觀點而言,較佳為140℃以下、更佳125℃以下、特佳110℃以下。作為具體範圍,較佳為55℃以上且140℃以下、更佳57.5℃以上且125℃以下、又更佳60℃以上且110℃以下。
本說明書中,融點意指依照JISK0064所測定之融點。
作為成分(A)之蠟,較佳為油溶性蠟。又,較佳係1大氣壓、25℃下呈固體之蠟。
又,成分(A)之蠟若融點為55℃以上,則可為天然蠟或合成蠟。可舉例如烴系蠟、聚矽氧系蠟,棕櫚蠟、堪地里拉蠟、米蠟、葵花蠟、氫化荷荷芭油等植物系蠟;蜜蠟等動物系蠟;氟系蠟;合成蜜蠟等。又,此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
此等之中,由肌膚融合感、耐摩擦性等觀點而言,較佳為選自烴系蠟及聚矽氧系蠟之1種以上,更佳為烴系蠟與聚矽氧系蠟之組合、或聚矽氧系蠟,特佳為烴系蠟與聚矽氧系蠟的組合。在將烴系蠟與聚矽氧系蠟組合使用時,由耐摩擦性等觀點而言,相對於(A-1)烴系蠟之(A-2)聚矽氧系蠟之含有質量比[(A-2)/(A-1)]較佳為0.1~10、更佳0.25~4、又更佳0.5~2。
作為(A-1)烴系蠟,可舉例如地蠟、純地蠟等之礦物系烴蠟;石蠟、微晶蠟等之石油系烴蠟;費托蠟、聚乙烯蠟、碳數28以上之α-烯烴等之合成烴蠟。α-烯烴之碳數較佳為30~60、更佳30~50。又,作為α-烯烴,可舉例如直鏈狀α-烯烴、分枝鏈狀α-烯烴,較佳為直鏈狀α-烯烴。
烴系蠟中,由耐摩擦性的觀點而言,較佳為純地蠟、石蠟、微晶蠟、合成烴蠟,特佳為純地蠟、合成烴蠟。
作為(A-2)聚矽氧系蠟,較佳為烷基改質聚矽氧蠟。
作為烷基改質聚矽氧蠟,由耐摩擦性及使用感(無黏瘩)等觀點而言,較佳係以碳數9~80之烷基所改質者。
上述烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀。該烷基之碳數係由耐摩擦性的觀點而言,較佳為16以上、更佳20以上、又更佳24以上、特佳28以上;又,由製造容易性、使用感(無覆膜感)等觀點而言,較佳為70以下、更佳60以下、特佳50以下。又,此烷基之取代位置為任意,取代形態可為單末端型、兩末端型、側鏈型等任一種。又,烷基之取代個數亦為任意,於分子內可為1個或2個以上。烷基之取代個數為2個以上時,2個以上之烷基可為相同或相異。又,亦可使用藉不同種類烷基所改質的聚矽氧蠟之混合物。
又,作為烷基改質聚矽氧蠟,具體可舉例如烷基(C26-28)聚甲基矽氧烷(methicone)、烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷等之烷基聚甲基矽氧烷蠟;烷基(C30-45)聚二甲基矽氧烷(dimethicone)等之烷基聚二甲基矽氧烷蠟;烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙烯矽倍半氧烷等之矽倍半氧烷樹脂蠟等,此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。此等之中,由肌膚融合感、耐摩擦性等觀點而言,較佳為烷基聚甲基矽氧烷蠟、矽倍半氧烷樹脂蠟,特佳為烷基聚甲基矽氧烷蠟。
融點55℃以上之蠟可使用市售物,亦可使用依常法所合成得者。作為純地蠟之市售物,可舉例如純地蠟#810(日興理科公司製)、純地蠟SP-1020P(STRAHL&PITSCH公司製)等。作為石蠟之市售物,可舉例如石蠟140、145、150、155、HNP-3、5、9(以上,日本精蠟公司製)等。作為微晶蠟之市售物,可舉例如Multiwax W-445、W-835(以上,SONNEBORN公司製)、Paracera M(Paramelt公司製)、Hi-Mic-1045、1070、2045、HNP-0190(以上日本精蠟公司製)、精製微晶蠟(日興理科公司製)、155∘微蠟(日本石油公司製)等。作為聚乙烯蠟之市售物,可舉例如PERFORMALENE 400、500、655、700EP、PL(以上,NEW PHASE TECHNOLOGIES公司製)、LASH WAX P(除味物)(日本Natural Products公司製)、聚乙烯蠟PW-655N(東色色素公司製)等。又,作為合成烴蠟之市售物,除了上述聚乙烯蠟之外,可舉例如LIPWAX A-4(日本Natural Products公司製)等。
又,作為烷基(C26-28)聚甲基矽氧烷之市售物,可舉例如BELSIL CM 7026 VP(旭化成WACKER SILICONE公司製,融點70℃)等。作為烷基(C30-45) 聚甲基矽氧烷之市售物,可舉例如SF-1642(Momentive Performance Materials Japan合同公司製,融點60~70℃)等。作為烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙烯矽倍半氧烷之市售物,可舉例如SW-8005 C30 Resin Wax(東麗道康寧公司製,融點63~71℃)等。作為烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴(C30~45)之混合物的市售物,可舉例如AMS-C30 Cosmetic Wax(東麗道康寧公司製,融點73~77℃)等。
尚且,融點55℃以上之蠟可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
融點55℃以上之蠟的含量,係於本發明之防曬化妝料中為0.05~1.5質量%。藉由使融點55℃以上之蠟的含量為此種範圍,則肌膚融合感變得良好。
融點55℃以上之蠟的含量係由製造容易性等觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.075質量%以上、更佳0.1質量%以上;又,由製造容易性等觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為1.25質量%以下、更佳1質量%以下。作為具體範圍,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.075~1.25質量%、更佳0.1~1質量%。又,(A-2)聚矽氧系蠟之含量係由肌膚融合感的觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.25質量%以上、更佳0.5質量%以上;又,由肌膚融合感的觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為1.25質量%以下、更佳1質量%以下。作為具體範圍,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.25~1.25質量%、更佳0.5~1質量%。
<成分(B)>
本發明之防曬化妝料係含有(B)(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂。藉由含有(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂,可改善耐摩擦性。
本說明書中,所謂成分(B)之(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂,係指於主鏈具有來自(甲基)丙烯酸酯系單體之重複構造單位之鏈段,並於側鏈具有聚矽氧鏈段者。又,聚矽氧鏈段可為鏈狀構造或樹狀構造等之分枝構造。
作為(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂,可舉例如於1大氣壓、25℃下呈液體、半固體狀或固體者,較佳係1大氣壓、25℃下呈固體者。又,亦可使用混合於十甲基環戊矽氧烷等之分散媒中者。
作為(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂,可舉例如於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體、(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物等。此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
此等之中,由耐摩擦性之觀點而言,較佳係於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體。
(於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體)
作為於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體,較佳係具有下式(1)所示構造單位的(甲基)丙烯酸系聚合體。
[式(1)中,
R1
表示氫原子或甲基,
R2
表示碳數1~10之伸烷基(alkanediyl),
D表示樹枝型聚矽氧構造。]
式(1)中,R2
所示伸烷基之碳數較佳為1~3。R2
所示伸烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀,可舉例如甲烷-1,1-二基、乙烷-1,1-二基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-2,2-二基等。
又,作為樹枝型聚矽氧構造,可舉例如下式(2)所示者。
[式(2)中,
R3
表示碳數1~10之烷基或芳基,
X1
表示下式(3)所示之矽基烷基中、i=1的基,
﹡表示鍵結鍵。]
式(2)中,作為R3
所示烷基,可舉例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基等碳數1~10(較佳碳數1~5)的直鏈狀或分枝鏈狀之烷基;環戊基、環己基等之碳數3~10(較佳碳數4~8)之環烷基。
又,作為芳基,可舉例如苯基、萘基。
此種R3
中,較佳為甲基、苯基,特佳為甲基。
尚且,式(2)中複數存在之R3
可為相同或相異。又,複數存在之X1
亦同樣可為相同或相異。
[式(3)中,
R3
係與上述同義,
R4
表示碳數2~10之伸烷基,
R5
表示碳數1~10之烷基,
Xi+1
表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳基或與Xi
相同之矽基烷基,
ai
表示0~3之整數,
﹡表鍵結鍵。]
R4
所示伸烷基之碳數較佳為2~6。R4
所示伸烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀,可舉例如乙烷-1,1-二基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-2,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、己烷-1,5-二基、己烷-2,5-二基等。此等之中,特佳為乙烷-1,2-二基。
R5
所示烷基若與R3
所示烷基相同者即可,較佳為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基。
Xi+1
所示烷基、芳基較佳係與R3
所示者相同。
尚且,ai
為2或3時,2或3個之R5
可為相同或相異。又,ai
為0或1時,2或3個之Xi+1
可為相同或相異。
又,i為1~10之整數,意指上述矽基烷基之階層數(矽基烷基之重複數)。
又,作為樹枝型聚矽氧構造,較佳係矽基烷基之階層數為1者。此種樹枝型聚矽氧構造可由下式(4)所表示。
[式(4)中,
R6
表示氫原子、碳數1~10之烷基或芳基,R6
所示烷基、芳基較佳係與R3
所示者相同。
a1
係與ai
同樣,但樹枝型聚矽氧構造中之a1
之平均合計數較佳為0~7。
又,其他記號係與上述同義。]
作為於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體,除了上式(1)所示構造單位之外,較佳係具有該構造單位以外之來自(甲基)丙烯酸酯系單體的構造單位。
作為此種(甲基)丙烯酸酯系單體,可舉例如(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等。此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
又,(甲基)丙烯酸烷基酯所含之烷基,可為直鏈狀、分枝鏈狀、環狀之任一種。作為(甲基)丙烯酸烷基酯,較佳係烷基之碳數為1~30者、更佳係烷基碳數為1~22者、又更佳係烷基碳數為1~8者、再更佳係烷基碳數為1~3者、特佳係烷基碳數為1者。作為(甲基)丙烯酸烷基酯,可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸廿二酯。此等之中,較佳為(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸廿二酯,特佳為(甲基)丙烯酸甲酯。
作為式(1)所示構造單位與來自(甲基)丙烯酸烷基酯之構造單位的合計含量,係相對於主鏈之總構造單位,較佳為90~100莫耳%、更佳95~100莫耳%、特佳99~100莫耳%。
於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體,可使用市售物,亦可使用依照日本專利特開平11-1530號公報、特開2000-63225號公報等記載之方法所合成得者。例如, 作為(丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共聚物,已市售有FA 4001 CM(30質量%十甲基環戊矽氧烷溶液)、FA 4002 ID(40質量%異十二烷溶液)、FA 4003 DM(40質量%聚二甲基矽氧烷溶液)(以上為東麗道康寧公司製)。
((甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物)
作為(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物,較佳係於分子鏈之單末端具有自由基聚合性基的有機聚矽氧烷化合物、與該化合物以外之(甲基)丙烯酸酯系單體的自由基聚合體。可使用例如日本專利特開平2-25411號公報、特開平2-132141號公報、特開平3-162442號公報、特開2003-104825號公報等記載者。
作為(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物,較佳係具有下式(5)所示構造單位者。
[式(5)中,
R11
表示氫原子或甲基,
R12
表示碳數1~10之伸烷基,
k表示3~300之整數。]
式(5)中,R12
所示伸烷基之碳數較佳為1~3。R12
所示伸烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀,可舉例如甲烷-1,1-二基、乙烷-1,1-二基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-2,2-二基等。
又,k較佳為5~100之整數。
作為(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物,除了上式(5)所示構造單位之外,較佳係具有該構造單位以外之來自(甲基)丙烯酸酯系單體之構造單位者。
作為此種(甲基)丙烯酸酯系單體,可舉例如(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯等。此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
作為(甲基)丙烯酸酯,較佳係使用與於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體中可使用之(甲基)丙烯酸烷基酯相同者。
(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物中之式(5)所示構造單位與來自(甲基)丙烯酸烷基酯之構造單位的莫耳比,較佳為1:10~10:1。
又,作為式(5)所示構造單位與來自(甲基)丙烯酸烷基酯之構造單位的合計含量,係相對於主鏈之總構造單位,較佳為90~100莫耳%、更佳95~100莫耳%、特佳99~100莫耳%。
作為(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物,具體可舉例如(丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物、(丙烯酸酯/丙烯酸乙基己酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物、(丙烯酸酯/丙烯酸硬脂酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物、(丙烯酸酯/丙烯酸廿二酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物(以上為化妝品表示名稱)等。
(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物可使用市售物,亦可使用依常法合成得者。作為(丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物之市售物,可舉例如KP-541(與異丙醇之混合物,含量:60質量%)、KP-545(與十甲基環戊己烷之混合物,含量:30質量%)、KP-549(與甲基三甲基聚矽氧的混合物,含量:40質量%)、KP-550(與異十二烷的混合物,含量:40質量%)(以上為信越化學工業公司製)。
又,作為(丙烯酸酯/丙烯酸乙基己酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物之市售物,可舉例如KP-575(與十甲基環戊矽氧烷的混合物,含量:30質量%);作為(丙烯酸酯/丙烯酸硬脂酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物之市售物,可舉例如KP-561P;作為(丙烯酸酯/丙烯酸廿二酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物的市售物,可舉例如KP-562P(以上為信越化學工業公司製)。
(甲基)丙烯酸酯系聚矽氧樹脂可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂之含量係由耐摩擦性等的觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.01質量%以上、更佳0.05質量%以上、又更佳0.1質量%以上、特佳0.2質量%以上;又,由耐摩擦性、肌膚融合感等觀點而言,本發明之防曬化妝料中,較佳為10質量%以下、更佳6質量%以下、又更佳3質量%以下、特佳1.5質量%以下。作為具體範圍,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.01質量%以上且10質量%以下、更佳0.05質量%以上且6質量%以下、又更佳0.1質量%以上且3質量%以下、再更佳0.1質量%以上且1.5質量%以下、特佳0.2質量%以上且1.5質量%以下。
又,成分(A)相對於成分(B)之含有質量比[(A)/(B)],較佳為0.01以上、更佳0.05以上、又更佳0.1以上、再更佳0.4以上、特佳0.55以上;又,較佳為10以下、更佳5以下、又更佳2.5以下、特佳1.5以下。具體之範圍較佳為0.01以上且10以下、更佳0.05以上且5以下、又更佳0.1以上且2.5以下、再更佳0.4以上且1.5以下、特佳0.55以上且1.5以下。
<成分(C)>
本發明之防曬化妝料係含有(C)紫外線遮蔽劑。
作為紫外線遮蔽劑,可舉例如選自疏水化處理紫外線散射劑及紫外線吸收劑之1種以上。
(疏水化處理紫外線散射劑)
作為疏水化處理紫外線散射劑,較佳為疏水化處理微粒子金屬氧化物。 作為疏水化處理微粒子金屬氧化物中所使用之微粒子金屬氧化物,由取得容易性之觀點而言,較佳為選自氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鐵及氧化鉻中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物。該等微粒子金屬氧化物中,由紫外線防禦效果、耐摩擦性等觀點而言,較佳為選自氧化鋅、氧化鈦及氧化鈰中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物,更佳為選自氧化鋅及氧化鈦中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物,特佳為微粒子氧化鋅。
尚且,可於此等微粒子金屬氧化物中含有+2價以上之微量元素,可於微粒子金屬氧化物中,單獨地或組合2種以上含有鐵、鋯、鈣、錳、鎂、釔等金屬。
上述「微粒子金屬氧化物」之形狀無特別限定,可舉例如球狀、板狀、棒狀、紡錘狀、針狀、不定形狀等。
又,上述「微粒子金屬氧化物」之平均粒徑,較佳為0.01μm以上,更佳為0.012μm以上,特佳為0.015μm以上;又,較佳為1μm以下,更佳為0.8μm以下,特佳為0.5μm以下。作為平均粒徑之具體範圍,較佳為0.01μm以上且1μm以下之範圍,更佳為0.012μm以上且0.8μm以下之範圍,特佳為0.015μm以上且0.5μm以下之範圍。
尚且,微粒子金屬氧化物之平均粒徑係指利用雷射繞射/散射法測定之平均粒徑。
作為微粒子氧化鋅,市售有例如FINEX-25、FINEX-30、FINEX-50、FINEX-75(堺化學工業公司製);MZ500系列、MZ700系列(TEIKA公司製);ZnO-350(住友大阪水泥公司製)等。作為微粒子氧化鈦,市售有例如TTO-55系列、TTO-51系列(石原產業公司製造);JR系列、JA系列(TEIKA公司製)等。作為微粒子氧化鈰,例如可使用由Nikki公司或SEIMI CHEMICAL公司販售之高純度鈰。
對上述微粒子金屬氧化物之疏水化處理,可使用疏水化之公知之表面處理劑進行,可舉例如氟化物處理、聚矽氧處理、聚矽氧樹脂處理、側鏈處理(pendant treatment)、矽烷偶合劑處理、鈦偶合劑處理、油劑處理、N-醯化離胺酸處理、聚丙烯酸處理、金屬皂處理、胺基酸處理、無機化合物處理、電漿處理、化學機械處理、矽烷化合物處理、矽氮烷化合物處理等。
此等處理中,由分散穩定性等觀點而言,較佳為利用聚矽氧或聚矽氧樹脂之處理、利用矽烷化合物或矽氮烷化合物之處理、異硬脂酸鋁等金屬皂處理。
作為聚矽氧或聚矽氧樹脂,可舉例如甲基聚矽氧烷、甲基苯基聚矽氧烷、甲基氫聚矽氧烷、甲基氫聚矽氧烷‧二甲基聚矽氧烷共聚物、八甲基環四矽氧烷、十甲基環戊矽氧烷、十二甲基環己矽氧烷、八甲基三矽氧烷、十四甲基六矽氧烷、二甲基矽氧烷‧甲基(聚氧乙烯)矽氧烷‧甲基(聚氧丙烯)矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷‧甲基(聚氧乙烯)矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷‧甲基(聚氧丙烯)矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷‧甲基鯨蠟氧基矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷‧甲基硬脂氧基矽氧烷共聚物等。作為甲基氫聚矽氧烷‧二甲基聚矽氧烷共聚物,較佳為下式(6)所示者。
[式(6)中,m及n為0以上之整數,且1≦m+n≦60。]
作為上述矽烷化合物或矽氮烷化合物,較佳為具有碳數1~20之烷基或碳數1~20之氟烷基,且與無機氧化物具有反應性之矽烷化合物或矽氮烷化合物,更佳為下式(7)所示矽烷化合物或下式(8)所示之矽氮烷化合物。尚且,此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
R21
(R22
)p
Si(Z)3-p
…(7)
[式(7)中,
R21
表示碳數1~20之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、或碳數1~20之直鏈狀或分枝鏈狀之氟烷基,
R22
表示碳數1~6之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基,
Z表示鹵原子或烷氧基,
p表示0或1。]
R23
R24
R25
SiNHSiR26
R27
R28
…(8)
[式(8)中,
R23
~R28
分別獨立地表示碳數1~20之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、或者碳數1~20之直鏈狀或分枝鏈狀之氟烷基。]
作為矽烷化合物,由分散穩定性等觀點而言,較佳為烷基烷氧基矽烷或氟烷基烷氧基矽烷,更佳為烷基三烷氧基矽烷或氟烷基三烷氧基矽烷。具體可舉例如己基三甲氧基矽烷、辛基三甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、十八基三甲氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷等。再者,此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。此等之中,更佳為辛基三甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷。
又,作為矽氮烷化合物,具體可例如六甲基二矽氮烷等。
由乳化穩定性、分散穩定性等觀點而言,疏水化處理中所使用之表面處理劑的被覆量,係相對於微粒子金屬氧化物100質量份,較佳為1質量份以上,更佳為3質量份以上;又,由乳化穩定性、分散穩定性等觀點而言,相對於微粒子金屬氧化物100質量份,較佳為15質量份以下,更佳為10質量份以下。
疏水化處理之方法可適當選擇習知公知之方法進行。例如,作為利用上述聚矽氧或聚矽氧樹脂之處理,可舉例如日本專利第3187440號公報中所記載般,藉由使用包含有機聚矽氧烷類及聚矽氧樹脂之聚矽氧化合物(其中,矽烷化合物除外)之至少1種以上,於非氣相狀態下被覆微粒子金屬氧化物後,於含氧環境中以600~950℃之溫度進行燒成,而藉氧化矽被覆微粒子金屬氧化物表面的方法。
又,作為使用矽烷化合物或矽氮烷化合物之處理方法,可舉例如化學鍵結法,更具體而言,可舉例如於正己烷、環己烷、低級醇等有機溶劑中混合矽烷化合物或矽氮烷化合物與微粒子金屬氧化物,並視需要將其微粉碎後,藉由加熱(例如80~250℃)或減壓去除有機溶劑的方法。又,亦可舉例如日本專利特開2007-326902號公報中所記載般,利用聚矽氧烷化合物進行被覆處理後,利用矽烷化合物於水中進行表面處理的方法。
尚且,疏水化處理紫外線散射劑可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
(紫外線吸收劑)
作為紫外線吸收劑,由耐水性、耐摩擦性、溶解性等觀點而言,較佳為有機紫外線吸收劑。
作為有機紫外線吸收劑,可舉例如苯甲酸系紫外線吸收劑、鄰胺苯甲酸系紫外線吸收劑、水楊酸系紫外線吸收劑、肉桂酸系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、三𠯤系紫外線吸收劑、聚矽氧系紫外線吸收劑等。此等之中,由紫外線防禦效果、溶解性等觀點而言,較佳為選自肉桂酸系紫外線吸收劑及三𠯤系紫外線吸收劑中之1種或2種以上。又,作為有機紫外線吸收劑,較佳為油溶性有機紫外線吸收劑。
作為苯甲酸系紫外線吸收劑,可舉例如對胺基苯甲酸(para-aminobenzoic acid:PABA)、甘油基PABA、乙基二羥基丙基PABA、N-乙氧化物PABA乙酯、N-二甲基PABA乙酯、N-二甲基PABA丁酯、N-二甲基PABA戊酯、辛基二甲基PABA、二乙基胺基羥基苯甲醯苯甲酸己酯等。
作為鄰胺苯甲酸系紫外線吸收劑,可舉例如N-乙醯基鄰胺基苯甲酸-3,3,5-三甲基環己酯等。
作為水楊酸系紫外線吸收劑,可舉例如水楊酸戊酯、水楊酸䓝酯、水楊酸三甲環己酯、水楊酸辛酯、水楊酸苯酯、水楊酸苄酯、對異丙醇水楊酸苯酯等。
作為肉桂酸系紫外線吸收劑,可舉例如肉桂酸辛酯、4-異丙基肉桂酸乙酯、2,4-二異丙基肉桂酸乙酯、2,4-二異丙基肉桂酸甲酯、對甲氧基肉桂酸丙酯、對甲氧基肉桂酸異丙酯、對甲氧基肉桂酸異戊酯、對甲氧基肉桂酸2-乙基己酯、對甲氧基肉桂酸2-乙氧基乙酯、對甲氧基肉桂酸環己酯、α-氰基-β-苯基肉桂酸乙酯、α-氰基-β-苯基肉桂酸2-乙基己酯、單-2-乙基己醯基二對甲氧基肉桂酸甘油酯等。
作為二苯甲酮系紫外線吸收劑,可舉例如2,4-二羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-4'-甲基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4'-苯基二苯甲酮-2-羧酸2-乙基己酯、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、4-羥基-3-羧基二苯甲酮等。
作為三𠯤系紫外線吸收劑,可舉例如2,4,6-參[4-(2-乙基己氧基羰基)苯胺基]-1,3,5-三𠯤、二辛基丁醯胺基三𠯤酮、2,4-雙-[{4-(2-乙基己氧基)-2-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤等。
作為聚矽氧系紫外線吸收劑,可舉例如聚二甲基矽氧烷二乙基亞苄基丙二酸酯等。
作為其他有機紫外線吸收劑,可舉例如3-(4'-甲基亞苄基)-dl-樟腦、3-亞苄基-dl-樟腦、尿刊酸乙酯、2-苯基-5-甲基苯并㗁唑、2,2'-羥基-5-甲基苯基苯并三唑、2-(2'-羥基-5-第三辛基苯基)苯并三唑、二苄肼、聯大茴香甲醯基甲烷、4-甲氧基-4'-第三丁基二苯甲醯基甲烷、5-(3,3-二甲基-2-亞降𦯉基)-3-戊烷-2-酮、日本專利特開平2-212579號公報記載之苯‧雙-1,3-二酮衍生物、日本專利特開平3-220153號公報記載之苯甲醯基三級丁基乙酮衍生物等。
又,有機紫外線吸收劑可大致分為1大氣壓下於25℃呈固體之有機紫外線吸收劑、與1大氣壓下於25℃呈液體之有機紫外線吸收劑。例如,上述所列舉之二乙基胺基羥基苯甲醯基苯甲酸己酯、2,4-雙-[{4-(2-乙基己氧基)-2-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤、2,4,6-參[4-(2-乙基己氧基羰基)苯胺基]-1,3,5-三𠯤等,係1大氣壓下於25℃呈固體之有機紫外線吸收劑。又,上述所列舉之對甲氧基肉桂酸異丙酯、對甲氧基肉桂酸2-乙基己酯、對甲氧基肉桂酸2-乙氧基乙酯等,係1大氣壓下於25℃呈液體之有機紫外線吸收劑。
尚且,紫外線吸收劑可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
紫外線遮蔽劑之含量係於本發明之防曬化妝料中為2.5~45質量%。藉由紫外線遮蔽劑之含量為此種範圍,可抑制塗佈後之黏瘩,且可發揮充分之紫外線防禦效果。
紫外線遮蔽劑之含量係由紫外線防禦效果、耐摩擦性等觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上、更佳7質量%以上、特佳10質量%以上;又,由無黏瘩、保存穩定性等觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為40質量%以下、更佳35質量%以下、特佳30質量%以下。作為具體範圍,於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上且40質量%以下、更佳7質量%以上且35質量%以下、特佳10質量%以上且30質量%以下。
又,於使用疏水化處理紫外線散射劑作為紫外線遮蔽劑時,作為疏水化處理紫外線散射劑之含量,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.5質量%以上且25質量%以下、更佳1質量%以上且20質量%以下、特佳2.5質量%以上且15質量%以下。
又,於使用紫外線吸收劑作為紫外線遮蔽劑時,作為紫外線吸收劑之含量,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.5質量%以上且25質量%以下、更佳1質量%以上且20質量%以下、特佳2.5質量%以上且15質量%以下。
又,成分(A)相對於成分(C)之含有質量比[(A)/(C)],係由肌膚融合感等觀點而言,較佳為0.0005以上、更佳0.001以上,又,由製造容易性等觀點而言,較佳為1以下、更佳0.7以下、又更佳0.5以下、特佳0.3以下。作為具體範圍,較佳為0.0005以上且1以下、更佳0.0005以上且0.7以下、又更佳0.001以上且0.5以下、特佳0.001以上且0.3以下。
又,成分(B)相對於成分(C)之含有質量比[(B)/(C)],係由耐摩擦性等觀點而言,較佳為0.0005以上、更佳0.001以上、特佳0.004以上,又,由使用感(肌膚融合感)等觀點而言,較佳為1.5以下、更佳0.5以下、又更佳0.1以下、特佳0.05以下。作為具體範圍,較佳為0.0005以上且1.5以下、更佳0.001以上且0.5以下、又更佳0.001以上且0.1以下、特佳0.004以上且0.05以下。
<成分(D)>
作為本發明之防曬化妝料,由耐摩擦性、肌膚融合感等觀點而言,除了成分(A)~(C)之外,較佳係進一步含有(D)聚矽氧系覆膜形成劑。
本說明書中,成分(D)之聚矽氧系覆膜形成劑係指以鏈狀構造或分枝構造之聚矽氧鏈段作為主鏈,且具有覆膜形成能力的劑。作為分枝構造之聚矽氧鏈段,可舉例如倍半矽氧烷鏈段。
作為聚矽氧系覆膜形成劑,可舉例如聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧(例如㗁唑啉改質聚矽氧)、聚烷基倍半矽氧烷、三甲基矽氧基矽酸、(三甲基矽氧基矽酸/聚二甲基矽氧烷)交聯聚合物等。此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
此等之中,由耐摩擦性、肌膚融合感等觀點而言,較佳為聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧、聚烷基倍半矽氧烷,更佳為聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧。
(聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧)
作為聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧,係於構成主鏈之有機聚矽氧烷鏈段之矽原子的至少2個,經由含有雜原子之伸烷基,鍵結含有下述一般式(9)所示重複單位之聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段而成的有機聚矽氧烷,聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之數量平均分子量為500~4000,構成主鏈之有機聚矽氧烷之重量平均分子量為10000~200000的有機聚矽氧烷(以下亦將此有機聚矽氧烷稱為有機聚矽氧烷(OX))。
[式(9)中,R41
表示氫原子、碳數1~22之烷基、芳烷基或芳基,t表示2或3。]
於此,詳細說明有機聚矽氧烷(OX)。
聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段係於構成有機聚矽氧烷鏈段之任意矽原子上,經由含有雜原子之伸烷基而鍵結至少2個,但較佳係於有機聚矽氧烷鏈段之兩末端除外之1個以上矽原子上經由上述伸烷基鍵結著,更佳係於兩末端除外之2個以上矽原子上經由上述伸烷基鍵結著。
含有雜原子之伸烷基,係作為聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之連結基之機能。
含有雜原子之伸烷基,可舉例如含有1~3個氮原子、氧原子或硫原子的碳數2~20之伸烷基此等之中,較佳為下式(A1)~(A10)之任一者所示基,更佳為下式(A1)~(A4)之任一者所示基,特佳為式(A1)或(A2)所示基。
尚且,式中,An-
表示四級銨鹽之相對離子。可舉例如鹵化物離子(例如氯化物離子、碘化物離子)、硫酸離子、磷酸離子、醋酸離子、乳酸離子、對甲苯磺酸離子、過氯酸離子、單烷基硝酸離子(例如甲基硫酸離子、乙基硫酸離子)等。
構成聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之N-醯基伸烷基亞胺單位中,一般式(9)中R41
所示烷基之碳數為1~22,較佳為1~14、更佳1~6、特佳1~3。又,上述烷基可為直鏈狀或分枝鏈狀。可舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、戊基、己基等。
作為R41
所示芳烷基,較佳係碳數7~15之芳烷基。可舉例如苄基、苯乙基、三苯甲基、萘甲基、蒽甲基等。
作為R41
所示芳基,較佳係碳數6~14之芳基。可舉例如苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基、蒽基、菲基等。
此等之中,作為R41
,較佳為氫原子、碳數1~3之直鏈狀或分枝鏈狀的烷基,更佳為碳數1~3之直鏈狀或分枝鏈狀的烷基。
式(9)中之t表示2或3,較佳為2。
有機聚矽氧烷(OX)中,於相鄰接之聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段間的有機聚矽氧烷鏈段的重量平均分子量(以下亦稱為「MWg」),係由耐摩擦性等觀點而言,較佳為1000~40000、更佳1500~30000、特佳1750~5000。
本說明書中,所謂「相鄰接之聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段間的有機聚矽氧烷鏈段」,係如下式(10)所示般,為由聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段對有機聚矽氧烷鏈段之鍵結點(鍵結點A)起、至與此鄰接之聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之鍵結點(鍵結點B)為止的2點間,被虛線所包圍的部分,係指由1個R42
SiO單位、1個R43
、與y+1個之(R42
)2
SiO單位所構成的鏈段。又,所謂「聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段」係指鍵結於上述R43
的-Z11
-R44
。
[式(10)中,R42
分別獨立表示碳數1~22之烷基或苯基,R43
表示含雜原子之伸烷基,-Z11
-R44
表示聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段,R44
表示聚合起始劑之殘基或氫原子,y表示正數。又,複數之R42
、R43
、R44
可為相同或相異。]
MWg為上式(10)中由虛線所包圍之部分的分子量,可理解為聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段每1莫耳之有機聚矽氧烷鏈段之質量(g/mol)。又,若將原料化合物之改質有機聚矽氧烷之官能基藉由聚(N-醯基伸烷基亞胺)100%取代,則與改質有機聚矽氧烷之官能基當量(g/mol)一致。
又,聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之分子量係由N-醯基伸烷基亞胺單位之分子量與聚合度所算出,或可藉由凝膠滲透層析(GPC)法進行測定,本說明書中,係設為依後述測定條件所進行之GPC所測定的聚苯乙烯換算的數量平均分子量(以下亦稱為「MNox」)。由耐摩擦性的觀點而言,MNox較佳為800~3500、更佳1000~3000。
又,MWg可使用構成主鏈之有機聚矽氧烷鏈段的含有率(質量%)(以下亦稱為Csi),由下式(I)求得。
MWg=Csi×MNox/(100-Csi) (I)
構成主鏈之有機聚矽氧烷鏈段之重量平均分子量(以下亦稱為MWsi)係由耐摩擦性的觀點而言,較佳為15000~160000、更佳20000~150000、特佳25000~100000。
構成主鏈之有機聚矽氧烷鏈段,由於具有與原料化合物之改質有機聚矽氧烷共通的骨架,故MWsi係與原料化合物之改質有機聚矽氧烷之重量平均分子量略相同。又,原料化合物之改質有機聚矽氧烷的重量平均分子量為依下述測定條件所進行之GPC所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量。
(改質有機聚矽氧烷之重量平均分子量的測定條件)
管柱:Super HZ4000+Super HZ2000(東曹股份有限公司製)
洗提液:1mM三乙基胺/THF
流量:0.35mL/min
管柱溫度:40℃
檢測器:UV
樣本:50μL
有機聚矽氧烷(OX)之重量平均分子量(以下亦稱為MWt)係由耐摩擦性等觀點而言,較佳為12000~200000、更佳25000~160000、特佳35000~150000。MWt設為依後述測定條件所進行之GPC所測定的聚苯乙烯換算值。
(MNox及MWt之測定條件)
管柱:K-804L(東曹公司製)2根串聯使用
洗提液:1mM二甲基十二基胺/氯仿
流量:1.0mL/min
管柱溫度:40℃
檢測器:RI
樣本:50μL
尚且,在聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段為聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)鏈段時,用於算出質量比(a/b)之1
H-NMR測定例如可依下述條件進行。
(1H-NMR測定條件)
針對使聚合物樣本0.5g溶解於測定溶劑(氘代氯仿)2g者,藉由1
H-NMR(400MHz Varian製)進行測定。然後,藉由各積分值算出聚矽氧與聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)的比率。
PULSE SEQUENCE
‧Relax. Delay:30秒 ‧Pulse:45度 ‧累積次數:8次
確認波峰0ppm附近:聚二甲基矽氧烷之甲基
3.4ppm附近:伸乙基亞胺之亞甲基部分。
有機聚矽氧烷(OX)亦可使用依照日本專利特開2008-143820號公報、特開2009-24114號公報、特開2015-67603號公報等記載方法所合成而得者。例如,可藉由使利用衍生上述「含雜原子之伸烷基」之官能基所改質的有機聚矽氧烷、與將對應一般式(9)所示重複單位之環狀亞胺基醚進行開環聚合所得之末端反應性聚(N-醯基伸烷基亞胺),進行反應而製造。
(聚烷基倍半矽氧烷)
作為聚烷基倍半矽氧烷,可使用例如日本專利特開平4-312511號公報記載者。具體可舉例如含有R51
SiO1.5
單位:50~99莫耳%及R52 3
SiO0.5
單位:1~50莫耳%的聚矽氧樹脂(式中,R51
及R52
分別獨立表示取代或非取代之1價烴基)等。
此種聚烷基倍半矽氧烷係相對於含有R51
SiO1.5
重複單位的含矽醇基之聚烷基倍半矽氧烷(式中,R51
係與上述同義)100質量份,使由(R52 3
Si)q
R53
(式中,R52
與上述同義,q表示1或2,R53
係在q為1時表示氫原子、羥基或水解性基(水解性基較佳為甲氧基、乙氧基等碳數1~4之烷氧基),q為2時表示-O-、-N(R54
)-或-S-。於此,R54
表示氫原子、取代或非取代之1價烴基或R52 3
Si-)所示之聚矽氧化合物5~100質量份反應而可獲得。
R51
、R52
及R54
所示1價烴基之碳數較佳為1~4。作為1價烴基,較佳為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基等直鏈狀或分枝鏈狀之烷基。又,作為1價烴基上可取代之基,可舉例如氯原子、溴原子等鹵原子。
作為聚烷基倍半矽氧烷,較佳係1大氣壓、25℃下呈半固體狀或固體者。又,亦可使用混合於十甲基環戊矽氧烷等分散媒中者。
作為聚烷基倍半矽氧烷,具體可舉例如聚甲基倍半矽氧烷、聚丙基倍半矽氧烷等。又,聚烷基倍半矽氧烷可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。其中較佳為聚丙基倍半矽氧烷。
聚烷基倍半矽氧烷亦可使用市售物、或依常法所合成得者。作為聚烷基倍半矽氧烷之市售物,可舉例如670 Fluid(與十甲基環戊矽氧烷之混合物,含量:50質量%)、680 ID Fluid(與異十二烷之混合物,含量:75質量%)(以上為東麗道康寧公司製)、SilForm Flexible resin 、SilForm Flexible fluid(與十甲基環戊矽氧烷之混合物,含量:50質量%)(以上為Momentive Performance Materials公司製)等。
聚矽氧系覆膜形成劑之含量係由耐摩擦性、肌膚融合感等觀點而言,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.0001質量%以上、更佳0.0005質量%以上、又更佳0.001質量%以上、特佳0.005質量%以上;又,由耐摩擦性、肌膚融合感、製造容易性等觀點而言,本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以下、更佳1質量%以下、又更佳0.5質量%以下、特佳0.2質量%以下。作為具體範圍,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.0001質量%以上且5質量%以下、更佳0.0005質量%以上且1質量%以下、又更佳0.001質量%以上且0.5質量%以下、特佳0.005質量%以上且0.2質量%以下。
又,成分(D)相對於成分(C)之含有質量比[(D)/(C)],係由耐摩擦性、肌膚融合感等觀點而言,較佳為0.00001以上、更佳0.0001以上、又更佳0.001以上;又,由製造容易性、使用感(延展良好)等觀點而言,較佳為1以下、更佳0.1以下、又更佳0.05以下。具體之範圍較佳為0.00001以上且1以下、更佳0.0001以上且0.1以下、特佳0.001以上且0.05以下。
本發明之防曬化妝料係除了上述各成分之外,亦可含有水;1大氣壓25℃下呈液體之有機紫外線吸收劑以外的液狀油劑(以下亦稱為「其他液狀油劑」);陰離子界面活性劑、陽離子界面活性劑、非離子界面活性劑、兩性界面活性劑等界面活性劑;疏水化處理紫外線散射劑以外的粉體;上述以外之蠟類;三仙膠、(丙烯酸鈉/丙烯醯基二甲基牛磺酸鈉)共聚物等水溶性高分子;乙醇、丙醇等單元醇;乙二醇、丙二醇、1,3-丁二醇、甘油、二甘油、聚甘油等多元醇;嵌合劑;防腐劑;香料;pH調整劑;保濕劑;清涼劑;調理劑等。又,此等之中可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。
作為水之含量,於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上且90質量%以下、更佳7質量%以上且80質量%以下、又更佳10質量%以上且70質量%以下、特佳20質量%以上且70質量%以下。
其他液狀油劑係指1大氣壓25℃下呈液體之油劑中、有機紫外線吸收劑以外者,可為揮發性油劑或不揮發性油劑。又,可僅單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。又,揮發性油劑係於25℃顯示揮發性之油劑;不揮發性油劑係於25℃不顯示揮發性之油劑。
作為揮發性油劑,可舉例如輕質異烷烴、十甲基環戊矽氧烷、十甲基環丁矽氧烷、十二甲基環己矽氧烷、甲基三甲基聚矽氧烷、十甲基四矽氧烷、乙基三矽氧烷、揮發性甲基聚矽氧烷等。
作為輕質異烷烴之市售物,可舉例如Isopar H(ESSO化學公司製)、異十二烷(拜耳公司製)、異十六烷(Uniqema公司製)、IP SOLVENT 1620MU、IP SOLVENT 2028MU、IP SOLVENT 2835(以上為出光興產公司製)等。作為十甲基環戊矽氧烷之市售物,可舉例如TFS405(Momentive Performance Materials Japan合同公司製);SH245、DC345(東麗道康寧公司製);KF-995(信越化學工業公司製)等。作為甲基聚三甲基矽氧烷(methyl trimethicone)之市售物,可舉例如SILICONE TMF-1.5(信越化學工業公司製)等。作為十甲基四矽氧烷之市售物,可舉例如KF-96L-1.5CS(信越化學工業公司製)等。作為乙基三矽氧烷之市售物,可舉例如SILSOFTETS(Momentive Performance Materials Japan合同公司製)等。作為揮發性甲基聚矽氧烷之市售物,可舉例如KF-96L-2CS(信越化學工業公司製)等。
作為不揮發性油劑,可舉例如輕質液狀石蠟、液狀石蠟、重質液狀異烷烴、角鯊烷等不揮發性烴油;不揮發性二甲基聚矽氧烷、不揮發性甲基苯基聚矽氧烷等不揮發性聚矽氧油;2-乙基己酸鯨蠟酯、異壬酸異壬酯、異壬酸異十三烷基酯、肉豆蔻酸異丙酯、棕櫚酸異丙酯、棕櫚酸2-乙基己酯、硬脂酸2-乙基己酯、硬脂酸硬脂酯等不揮發性脂肪酸酯油;苯甲酸烷基(C12-15)酯等。又,作為不揮發性脂肪酸酯油,亦可使用三(辛酸/癸酸)甘油酯、三(2-乙基己酸)甘油酯等脂肪酸三甘油酯;新戊二醇二癸酸酯、新戊二醇二乙基己酸酯等脂肪酸與新戊二醇之酯;多元醇脂肪酸酯油等。
作為液狀石蠟之市售物,可舉例如PARLEAM 4(日油公司製)等。作為不揮發性二甲基聚矽氧烷之市售物,可舉例如KF-96A-10CS(信越化學工業公司製)等。作為棕櫚酸異丙酯之市售物,可舉例如EXCEPARL IPP(花王公司製)等。作為苯甲酸烷基(C12-15)酯之市售物,可舉例如FINSOLV TN(Innospec Active Chemicals公司製)等。作為新戊二醇二癸酸酯之市售物,可舉例如Estemol N-01(Nisshin OilliO Group公司製)等。
作為其他液狀油劑之含量,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.5質量%以上且80質量%以下、更佳為1質量%以上且70質量%以下、又更佳為5質量%以上且60質量%以下、特佳為5質量%以上且50質量%以下。
作為本發明之防曬化妝料的劑型,可舉例如液狀、乳液狀、乳霜狀、膏狀、凝膠狀等非固體狀,較佳為液狀、乳液狀、乳霜狀。
又,作為本發明之防曬化妝料,較佳為乳化化妝料。乳化之型式並無特別限定,具體可舉例如水中油型、油中水型。本發明之防曬化妝料即使為水中油型時,仍具有優越的耐摩擦性、可獲得塗膜受摩擦時之紫外線防禦效果。
又,本發明之防曬化妝料可塗佈於皮膚(較佳為除頭皮以外之皮膚,更佳為臉、身體、手腳等)作為防曬使用。又,其使用方法並無特別限定,較佳為利用手或塗佈用器具進行塗佈。
本發明之防曬化妝料可依常法製造。
本發明之防曬化妝料係肌膚融合感良好,且具有優越的耐摩擦性,塗膜受摩擦時之紫外線防禦效果仍優越。
關於上述實施形態,本發明進一步揭示以下之防曬化妝料等。
<1>一種防曬化妝料,其含有下述成分(A)、(B)及(C)。
(A)融點55℃以上之蠟 0.05~1.5質量%
(B)(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂
(C) 紫外線遮蔽劑 2.5~45質量%
<2>如<1>之防曬化妝料,其中,成分(A)之蠟的融點較佳為57.5℃以上、更佳60℃以上,又,較佳為140℃以下、更佳125℃以下、特佳110℃以下。
<3>如<1>或<2>之防曬化妝料,其中,成分(A)之蠟較佳為選自烴系蠟及聚矽氧系蠟之1種以上,更佳為烴系蠟與聚矽氧系蠟之組合、或聚矽氧系蠟,特佳為烴系蠟與聚矽氧系蠟的組合。
<4>如<1>~<3>中任一項之防曬化妝料,其中,烴系蠟較佳為選自礦物系烴蠟、石油系烴蠟及合成烴蠟之1種以上,更佳為選自地蠟、純地蠟、石蠟、微晶蠟、費托蠟、聚乙烯蠟、及碳數28以上之α-烯烴的1種以上,更佳為選自純地蠟、石蠟、微晶蠟及合成烴蠟之1種以上,特佳為選自純地蠟及合成烴蠟之1種以上。
<5>如<1>~<4>中任一項之防曬化妝料,其中,聚矽氧系蠟較佳為烷基改質聚矽氧蠟,更佳為選自烷基聚甲基矽氧烷蠟、烷基聚二甲基矽氧烷蠟及矽倍半氧烷樹脂蠟之1種以上,又更佳為選自烷基聚甲基矽氧烷蠟及矽倍半氧烷樹脂蠟之1種以上,特佳為烷基聚甲基矽氧烷蠟。
<6>如<1>~<5>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(A)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.075質量%以上、更佳0.1質量%以上;又,於本發明之防曬化妝料中,較佳為1.25質量%以下、更佳1質量%以下。
<7>如<1>~<5>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(A)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.075~1.25質量%、更佳0.1~1質量%。
<8>如<1>~<7>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(B)較佳係選自於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體及(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物之1種以上,更佳為於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體。
<9>如<8>之防曬化妝料,其中,於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體,較佳係具有下式(1)所示構造單位的(甲基)丙烯酸系聚合體,更佳係式(1)中之D所示樹枝型矽氧烷構造為下式(2)所示者,特佳係(丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共聚物。
[式(1)中,
R1
表示氫原子或甲基,
R2
表示碳數1~10之伸烷基,
D表示樹枝型聚矽氧構造。]
[式(2)中,
R3
表示碳數1~10之烷基或芳基,
X1
表示下式(3)所示之矽基烷基中、i=1的基,
﹡表示鍵結鍵。]
[式(3)中,
R3
係與上述同義,
R4
表示碳數2~10之伸烷基,
R5
表示碳數1~10之烷基,
Xi+1
表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳基或與Xi
相同之矽基烷基,
ai
表示0~3之整數,
﹡表鍵結鍵。]
<10>如<8>之防曬化妝料,其中,作為(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物,較佳為選自(丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物、(丙烯酸酯/丙烯酸乙基己酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物、(丙烯酸酯/丙烯酸硬脂酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物及(丙烯酸酯/丙烯酸廿二酯/甲基丙烯酸聚二甲基矽氧烷)共聚物之1種以上。
<11>如<1>~<10>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(B)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.01質量%以上、更佳0.05質量%以上、又更佳0.1質量%以上、特佳0.2質量%以上;又,本發明之防曬化妝料中,較佳為10質量%以下、更佳6質量%以下、又更佳3質量%以下、特佳1.5質量%以下。
<12>如<1>~<10>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(B)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.01質量%以上且10質量%以下、更佳0.05質量%以上且6質量%以下、又更佳0.1質量%以上且3質量%以下、再更佳0.1質量%以上且1.5質量%以下、特佳0.2質量%以上且1.5質量%以下。
<13>如<1>~<12>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(A)相對於成分(B)之含有質量比[(A)/(B)],較佳為0.01以上、更佳0.05以上、又更佳0.1以上、再更佳0.4以上、特佳0.55以上;又,較佳為10以下、更佳5以下、又更佳2.5以下、特佳1.5以下。
<14>如<1>~<12>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(A)相對於成分(B)之含有質量比[(A)/(B)]較佳為0.01以上且10以下、更佳0.05以上且5以下、又更佳0.1以上且2.5以下、再更佳0.4以上且1.5以下、特佳0.55以上且1.5以下。
<15>如<1>~<14>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(C)較佳為選自疏水化處理紫外線散射劑及紫外線吸收劑之1種以上。
<16>如<15>之防曬化妝料,其中,疏水化處理紫外線散射劑較佳為疏水化處理微粒子金屬氧化物。
<17>如<16>之防曬化妝料,其中,微粒子金屬氧化物較佳為選自氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鐵及氧化鉻中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物,更佳為選自氧化鋅、氧化鈦及氧化鈰中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物,又更佳為選自氧化鋅及氧化鈦中之1種或2種以上之微粒子金屬氧化物,特佳為微粒子氧化鋅。
<18>如<15>~<17>中任一項之防曬化妝料,其中,疏水化處理較佳為選自氟化物處理、聚矽氧處理、聚矽氧樹脂處理、側鏈處理(pendant treatment)、矽烷偶合劑處理、鈦偶合劑處理、油劑處理、N-醯化離胺酸處理、聚丙烯酸處理、金屬皂處理、胺基酸處理、無機化合物處理、電漿處理、化學機械處理、矽烷化合物處理、及矽氮烷化合物處理之1種以上,更佳為選自利用聚矽氧或聚矽氧樹脂之處理、利用矽烷化合物或矽氮烷化合物之處理、金屬皂處理之1種以上。
<19>如<15>~<18>中任一項之防曬化妝料,其中,紫外線吸收劑較佳為有機紫外線吸收劑,更佳為選自苯甲酸系紫外線吸收劑、鄰胺苯甲酸系紫外線吸收劑、水楊酸系紫外線吸收劑、肉桂酸系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、三𠯤系紫外線吸收劑及聚矽氧系紫外線吸收劑之1種以上,又更佳為選自肉桂酸系紫外線吸收劑及三𠯤系紫外線吸收劑中之1種以上。
<20>如<1>~<19>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(C)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上、更佳7質量%以上、特佳10質量%以上;又,於本發明之防曬化妝料中,較佳為40質量%以下、更佳35質量%以下、特佳30質量%以下。
<21>如<1>~<19>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(C)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上且40質量%以下、更佳7質量%以上且35質量%以下、特佳10質量%以上且30質量%以下。
<22>如<1>~<21>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(A)相對於成分(C)之含有質量比[(A)/(C)],較佳為0.0005以上、更佳0.001以上,又,較佳為1以下、更佳0.7以下、又更佳0.5以下、特佳0.3以下。
<23>如<1>~<22>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(B)相對於成分(C)之含有質量比[(B)/(C)],較佳為0.0005以上、更佳0.001以上、特佳0.004以上,又,較佳為1.5以下、更佳0.5以下、又更佳0.1以下、特佳0.05以下。
<24>如<1>~<23>中任一項之防曬化妝料,其中,進一步含有(D)聚矽氧系覆膜形成劑。
<25>如<24>之防曬化妝料,其中,成分(D)較佳係選自聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧、聚烷基倍半矽氧烷、三甲基矽氧基矽酸、(三甲基矽氧基矽酸/聚二甲基矽氧烷)交聯聚合物之1種以上,更佳為選自聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧及聚烷基倍半矽氧烷之1種以上,特佳為聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧。
<26>如<25>之防曬化妝料,其中,聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧較佳係於構成主鏈之有機聚矽氧烷鏈段之矽原子的至少2個,經由含有雜原子之伸烷基,鍵結含有下述一般式(9)所示重複單位之聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段而成的有機聚矽氧烷,聚(N-醯基伸烷基亞胺)鏈段之數量平均分子量為500~4000,構成主鏈之有機聚矽氧烷之重量平均分子量為10000~200000的有機聚矽氧烷。
[式(9)中,R41
表示氫原子、碳數1~22之烷基、芳烷基或芳基,t表示2或3。]
<27>如<25>或<26>之防曬化妝料,其中,聚烷基倍半矽氧烷較佳係含有R51
SiO1.5
單位:50~99莫耳%及R52 3
SiO0.5
單位:1~50莫耳%的聚矽氧樹脂(式中,R51
及R52
分別獨立表示取代或非取代之1價烴基),更佳係選自聚甲基倍半矽氧烷及聚丙基倍半矽氧烷之1種以上,特佳為聚丙基倍半矽氧烷。
<28>如<24>~<27>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(D)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.0001質量%以上、更佳0.0005質量%以上、又更佳0.001質量%以上、特佳0.005質量%以上;又,本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以下、更佳1質量%以下、又更佳0.5質量%以下、特佳0.2質量%以下。
<29>如<24>~<27>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(D)之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.0001質量%以上且5質量%以下、更佳0.0005質量%以上且1質量%以下、又更佳0.001質量%以上且0.5質量%以下、特佳0.005質量%以上且0.2質量%以下。
<30>如<24>~<29>中任一項之防曬化妝料,其中,成分(D)相對於成分(C)之含有質量比[(D)/(C)],較佳為0.00001以上、更佳0.0001以上、又更佳0.001以上;又,較佳為1以下、更佳0.1以下、又更佳0.05以下。
<31>如<1>~<30>中任一項之防曬化妝料,其中,進一步含有選自水、1大氣壓25℃下呈液體之有機紫外線吸收劑以外的液狀油劑、界面活性劑、疏水化處理紫外線散射劑以外的粉體、上述以外之蠟類、水溶性高分子、單元醇、多元醇、嵌合劑、防腐劑、香料、pH調整劑、保濕劑、清涼劑及調理劑之1種以上。
<32>如<31>之防曬化妝料,其中,水之含量係於本發明之防曬化妝料中,較佳為5質量%以上且90質量%以下、更佳7質量%以上且80質量%以下、又更佳10質量%以上且70質量%以下、特佳20質量%以上且70質量%以下。
<33>如<31>或<32>之防曬化妝料,其中,1大氣壓25℃下呈液體之有機紫外線吸收劑以外的液狀油劑的含量,於本發明之防曬化妝料中,較佳為0.5質量%以上且80質量%以下、更佳為1質量%以上且70質量%以下、又更佳為5質量%以上且60質量%以下、特佳為5質量%以上且50質量%以下。
<34>如<1>~<33>中任一項之防曬化妝料,其中,較佳為非固體狀,更佳為液狀、乳液狀、乳霜狀、膏狀或凝膠狀,特佳為液狀、乳液狀或乳霜狀。
<35>如<1>~<34>中任一項之防曬化妝料,其中,較佳為乳化化妝料,更佳為水中油型乳化化妝料或油中水型乳化化妝料,特佳為水中油型乳化化妝料。
[實施例]
以下列舉實施例詳細說明本發明,但本發明並不限定於此等實施例。又,本實施例中,各種測定及評價係藉由以下方法進行。
‧評價方法
(1)使用感(肌膚融合感良好度)
針對肌膚融合感,由10位專門官能檢查員進行官能評價。評價基準如以下所示。又,所謂「良好之肌膚融合感」係指塗佈時無滑動感,且塗佈後、經過一定時間、肌膚狀態穩定後,於肌膚並無滑膩或黏瘩感的感覺。
(使用感之評價基準)
AA:9名以上之官能檢查員認為於塗佈時無滑動感,且塗佈後未感到滑膩或黏瘩感。
A:8名以上之官能檢查員認為於塗佈時無滑動感,且塗佈後未感到滑膩或黏瘩感。
B+:5~7名之官能檢查員認為於塗佈時無滑動感,且塗佈後未感到滑膩或黏瘩感。
B-:3~4名之官能檢查員認為於塗佈時無滑動感,且塗佈後未感到滑膩或黏瘩感。
C:2名以下之官能檢查員認為於塗佈時無滑動感,且塗佈後未感到滑膩或黏瘩感。
(2)紫外線防禦效果、耐摩擦性
於PMMA板依成為1.3mg/cm2
之方式均勻塗佈各化妝料後,使其自然乾燥15分鐘,使用SPF分析器(Optometrics公司,Labsphere UV-2000S)測定SPF(摩擦前SPF)。
其後,使用摩擦試驗機(Tribomaster,Trinity-lab. Inc.),於2×2cm2
之附有綿布之端子施加100g負重,擦拭PMMA板之化妝料塗佈部分。藉上述SPF分析器測定經擦拭後之SPF(摩擦後SPF),由下式算出SPF殘存率,評價耐摩擦性。SPF殘存率之值越高、可獲耐摩擦性越高。
(SPF殘存率(%))={(摩擦後SPF)/(摩擦前SPF)} ×100
(實施例1~19及比較例1~4 水中油型乳化化妝料)
依照表1~4所示配方,藉常法製造實施例1~19及比較例1~4之水中油型乳化化妝料,評價使用感(肌膚融合感良好度)、紫外線防禦效果及耐摩擦性。其結果示於表1~4。
[表1]
成分(質量%) | 實施例 | |||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | ||
A | 烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴 (C30-45)之混合物(融點:73~77℃) *1 | 1.000 | 1.000 | 1.000 | 1.000 | 1.000 |
A | 烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙基倍半 矽氧烷(融點:63~71℃) *2 | — | — | — | — | — |
A | 石蠟155(融點:69℃) *3 | — | — | — | — | — |
A | 石蠟HNP-9(融點:75℃) *4 | — | — | — | — | — |
A | LIPWAX A-4(融點:92~104℃) *5 | — | — | — | — | — |
A | Multiwax W-445 S (融點:76.7~82.4℃) *6 | — | — | — | — | — |
A | 純地蠟SP-1020P (融點:73.3~76.1℃) *7 | — | — | — | — | — |
A’ | 硬脂基聚二甲基矽氧烷 (融點:28~35℃) *8 | — | — | — | — | — |
B | (丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共 聚物 *9 | 0.800 | 0.800 | — | 0.800 | 0.800 |
B | (丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物*10 | — | — | 0.800 | — | — |
C | 甲氧基桂皮酸乙基己酯 | 8.000 | 1.670 | 8.000 | 8.000 | 8.000 |
C | 乙基己基三唑 | 2.000 | 0.420 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 雙乙基己基氧基酚甲氧基苯基三 | 2.000 | 0.420 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧化鋅 | 12.000 | 2.500 | 12.000 | 12.000 | 12.000 |
D | 聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)改質聚矽氧*11 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | — | — |
D | 聚丙基倍半矽氧烷*12 | — | — | — | — | 0.100 |
異壬酸異壬酯 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | |
聚二甲基矽氧烷(2cs) | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | |
環戊矽氧烷 | — | — | 1.890 | — | 0.096 | |
丙烯酸鈉‧丙烯醯基二甲基牛磺酸鈉 共聚物/異十六烷/聚山梨醇酯80 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
三仙膠 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | |
1,3-丁二醇 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
甘油 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
EDTA-2Na | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | |
乙醇 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | |
水 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | |
合計 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | |
質量比[(A)/(B)] | 1.25 | 1.25 | 1.25 | 1.25 | 1.25 | |
評 價 結 果 | 摩擦前SPF | 68.46 | 25.19 | 69.06 | 69.19 | 71.33 |
摩擦後SPF | 58.66 | 18.06 | 50.53 | 49.72 | 52.59 | |
SPF殘存率(%) | 85.69 | 71.69 | 73.17 | 71.86 | 73.73 | |
使用感(肌膚融合感之良好度) | AA | A | A | B+ | B+ |
[表2]
成分(質量%) | 實施例 | ||||||
6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | ||
A | 烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴 (C30-45)之混合物(融點:73~77℃) *1 | — | — | — | — | — | — |
A | 烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙基倍 半矽氧烷(融點:63~71℃) *2 | 1.000 | — | — | — | — | — |
A | 石蠟155(融點:69℃) *3 | — | 1.000 | — | — | — | — |
A | 石蠟HNP-9(融點:75℃) *4 | — | — | 1.000 | — | — | — |
A | LIPWAX A-4(融點:92~104℃) *5 | — | — | — | 1.000 | — | — |
A | Multiwax W-445 S(融點:76.7~ 82.4℃) *6 | — | — | — | — | 1.000 | — |
A | 純地蠟SP-1020P(融點:73.3~ 76.1℃) *7 | — | — | — | — | — | 1.000 |
A’ | 硬脂基聚二甲基矽氧烷(融點:28~ 35℃) *8 | — | — | — | — | — | — |
B | (丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧 烷)共聚物 *9 | 0.800 | 0.800 | 0.800 | 0.800 | 0.800 | 0.800 |
B | (丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物 *10 | — | — | — | — | — | — |
C | 甲氧基桂皮酸乙基己酯 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 |
C | 乙基己基三唑 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 雙乙基己基氧基酚甲氧基苯基三 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧化 鋅 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 |
D | 聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)改質聚矽氧 *11 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 |
D | 聚丙基倍半矽氧烷*12 | — | — | — | — | — | — |
異壬酸異壬酯 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | |
聚二甲基矽氧烷(2cs) | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | |
環戊矽氧烷 | — | — | — | — | — | — | |
丙烯酸鈉‧丙烯醯基二甲基牛磺酸鈉 共聚物/異十六烷/聚山梨醇酯80 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
三仙膠 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | |
1,3-丁二醇 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
甘油 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
EDTA-2Na | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | |
乙醇 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | |
水 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | |
合計 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | |
質量比[(A)/(B)] | 1.25 | 1.25 | 1.25 | 1.25 | 1.25 | 1.25 | |
評 價 結 果 | 摩擦前SPF | 71.88 | 72.31 | 72.99 | 69.01 | 71.01 | 68.78 |
摩擦後SPF | 50.88 | 54.60 | 52.42 | 51.20 | 50.94 | 54.18 | |
SPF殘存率(%) | 70.78 | 75.51 | 71.82 | 74.19 | 71.74 | 78.77 | |
使用感(肌膚融合感之良好度) | AA | AA | AA | A | A | AA |
[表3]
成分(質量%) | 實施例 | ||||||||
12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | ||
A | 烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴 (C30-45)之混合物(融點:73~77℃) *1 | 0.100 | 1.500 | 1.000 | 1.000 | 1.000 | 1.000 | 1.000 | 1.000 |
A | 烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙基倍 半矽氧烷(融點:63~71℃) *2 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A | 石蠟155(融點:69℃) *3 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A | 石蠟HNP-9(融點:75℃) *4 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A | LIPWAX A-4(融點:92~104℃) *5 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A | Multiwax W-445 S(融點:76.7~82.4℃) *6 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A | 純地蠟SP-1020P(融點:73.3~76.1℃) *7 | — | — | — | — | — | — | — | — |
A’ | 硬脂基聚二甲基矽氧烷(融點:28~ 35℃) *8 | — | — | — | — | — | — | — | — |
B | (丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧 烷)共聚物 *9 | 0.800 | 0.800 | 0.120 | 2.000 | 4.000 | 5.000 | 0.800 | 0.800 |
B | (丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物 *10 | — | — | — | — | — | — | — | — |
C | 甲氧基桂皮酸乙基己酯 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 |
C | 乙基己基三唑 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 雙乙基己基氧基酚甲氧基苯基三 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧 化鋅 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 |
D | 聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)改質聚矽氧 *11 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.001 | 0.300 |
D | 聚丙基倍半矽氧烷*12 | — | — | — | — | — | — | — | — |
異壬酸異壬酯 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | |
聚二甲基矽氧烷(2cs) | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 6.900 | 8.400 | 5.100 | 5.100 | |
環戊矽氧烷 | — | — | — | — | — | — | — | — | |
丙烯酸鈉‧丙烯醯基二甲基牛磺酸鈉 共聚物/異十六烷/聚山梨醇酯80 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
三仙膠 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | |
1,3-丁二醇 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
甘油 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
EDTA-2Na | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | |
乙醇 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | |
水 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | |
合計 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | |
質量比[(A)/(B)] | 0.13 | 1.88 | 8.33 | 0.50 | 0.25 | 0.20 | 1.25 | 1.25 | |
評 價 結 果 | 摩擦前SPF | 72.58 | 75.11 | 76.15 | 73.65 | 72.38 | 69.38 | 75.26 | 69.19 |
摩擦後SPF | 54.33 | 55.32 | 59.24 | 51.63 | 52.22 | 50.98 | 54.88 | 49.72 | |
SPF殘存率(%) | 74.86 | 74.86 | 77.79 | 70.10 | 72.15 | 73.48 | 72.92 | 71.86 | |
使用感(肌膚融合感之良好度) | AA | A | AA | A | B- | B- | A | A |
[表4]
成分(質量%) | 比較例 | ||||
1 | 2 | 3 | 4 | ||
A | 烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴(C30-45)之混合物(融點:73~77℃) *1 | — | — | — | 2.000 |
A | 烷基(C30-45)二甲基矽基聚丙基倍半矽氧烷(融點:63~71℃) *2 | — | — | — | — |
A | 石蠟155(融點:69℃) *3 | — | — | — | — |
A | 石蠟HNP-9(融點:75℃) *4 | — | — | — | — |
A | LIPWAX A-4(融點:92~104℃) *5 | — | — | — | — |
A | Multiwax W-445 S(融點:76.7~82.4℃) *6 | — | — | — | — |
A | 純地蠟SP-1020P(融點:73.3~76.1℃) *7 | — | — | — | — |
A’ | 硬脂基聚二甲基矽氧烷(融點:28~35℃) *8 | — | — | 1.000 | — |
B | (丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共聚物 *9 | 0.800 | — | 0.800 | 0.800 |
B | (丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物*10 | — | — | — | — |
C | 甲氧基桂皮酸乙基己酯 | 8.000 | 8.000 | 8.000 | 8.000 |
C | 乙基己基三唑 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 雙乙基己基氧基酚甲氧基苯基三 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧化鋅 | 12.000 | 12.000 | 12.000 | 12.000 |
D | 聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)改質聚矽氧*11 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 |
D | 聚丙基倍半矽氧烷*12 | — | — | — | — |
異壬酸異壬酯 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | 4.500 | |
聚二甲基矽氧烷(2cs) | 5.100 | 5.100 | 5.100 | 5.100 | |
環戊矽氧烷 | — | — | — | — | |
丙烯酸鈉‧丙烯醯基二甲基牛磺酸鈉共聚物/異十六烷/聚山梨醇酯80 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
三仙膠 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | |
1,3-丁二醇 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
甘油 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | 2.000 | |
EDTA-2Na | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | |
乙醇 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | 10.000 | |
水 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | 平衡 | |
合計 | 100 | 100 | 100 | 100 | |
質量比[(A)/(B)] | 0 | — | 0 | 2.50 | |
評價 結果 | 摩擦前SPF | 61.75 | 68.18 | 66.03 | 82.82 |
摩擦後SPF | 38.71 | 37.83 | 36.04 | 59.22 | |
SPF殘存率(%) | 62.69 | 55.49 | 54.58 | 71.50 | |
使用感(肌膚融合感之良好度) | C | C | C | C |
表中記號分別如以下所示。
*1:AMS-C30 Cosmetic Wax(融點:73~77℃,東麗道康寧公司製);烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷:54質量%與烯烴(C30-45):46質量%的混合物
*2:SW-8005 C30 Resin Wax(融點:63~71℃,東麗道康寧公司製)
*3:石蠟155(融點:69℃,日本精蠟公司製)
*4:石蠟HNP-9(融點:75℃,日本精蠟公司製)
*5:LIPWAX A-4(融點:92~104℃,日本Natural Products公司製)
*6:Multiwax W-445 S(融點:76.7~82.4℃,SONNEBORN公司製)
*7:純地蠟SP-1020P(融點:73.3~76.1℃,STRAHL&PITSCH公司製)
*8:2503 COSMETIC WAX(融點:28~35℃,東麗道康寧公司製)
*9:(丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共聚物FA 4003 DM(東麗道康寧公司製)
*10:(丙烯酸酯/聚二甲基矽氧烷)共聚物KP-545(信越化學工業公司製)
*11:根據日本專利特開2015-168663號公報合成例1記載而調製者
*12:聚丙烯倍半矽氧烷670 Fluid(東麗道康寧公司製)
(實施例20 油中水型乳化化妝料)
依照以下所示配方,藉常法製造實施例20之油中水型乳化化妝料,評價使用感(肌膚融合感良好度)、紫外線防禦效果及耐摩擦性。其結果示於表5。
[表5]
成分(質量%) | 實施例20 | |
A | 烷基(C30-45)聚甲基矽氧烷與烯烴(C30-45) 之混合物 *1 | 1.0 |
B | (丙烯酸酯/甲基丙烯酸聚三甲基矽氧烷)共聚物 *9 | 0.8 |
C | 甲氧基桂皮酸乙基己酯 | 10.0 |
C | 乙基己基三唑 | 0.5 |
C | 雙乙基己基氧基酚甲氧基苯基三 | 2.0 |
C | 聚二甲基矽氧烷二乙基亞苄基丙二酸酯 | 1.0 |
C | 二乙基胺基羥基苄甲醯基苯甲酸己酯 | 0.5 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧化鋅 | 15.0 |
C | 三乙氧基辛醯基矽烷處理微粒子氧化鈦 | 5.0 |
D | 聚(N-丙醯基伸乙基亞胺)改質聚矽氧*11 | 0.1 |
PEG-8三氟丙基聚二甲基矽氧烷共聚物 (信越化學工業公司製FPD-6131) | 2.0 | |
山梨醇酐異硬脂酸酯 | 1.0 | |
癸二酸二異丙酯 | 3.0 | |
異壬酸異壬酯 | 2.0 | |
甲基三甲基聚矽氧烷(信越化學工業公司製TMF-1.5) | 19.5 | |
聚二甲基矽氧烷(2cs) | 10.5 | |
乙醇 | 7.0 | |
甘油 | 1.0 | |
水 | 18.1 | |
合計 | 100.0 | |
質量比[(A)/(B)] | 1.25 | |
評價結果 | 摩擦前SPF | 97.64 |
摩擦後SPF | 74.86 | |
SPF殘存率(%) | 76.67 | |
使用感(肌膚融合感之良好度) | AA |
Claims (9)
- 一種防曬化妝料,其含有下述成分(A)、(B)及(C); (A)融點55℃以上之蠟 0.05~1.5質量% (B)(甲基)丙烯酸系聚矽氧樹脂 (C)紫外線遮蔽劑 2.5~45質量%。
- 如請求項1之防曬化妝料,其中,成分(A)之蠟為選自烴系蠟及聚矽氧系蠟之1種以上。
- 如請求項1之防曬化妝料,其中,成分(B)為選自於側鏈具有樹枝型矽氧烷構造之(甲基)丙烯酸系聚合體及(甲基)丙烯酸-聚矽氧系接枝共聚物之1種以上。
- 如請求項1之防曬化妝料,其中,成分(B)之含量為0.01~10質量%。
- 如請求項1之防曬化妝料,其中,成分(B)之含量為0.1~3質量%。
- 如請求項1之防曬化妝料,其中,進一步含有(D)聚矽氧系覆膜形成劑。
- 如請求項6之防曬化妝料,其中,(D)聚矽氧系覆膜形成劑為聚(N-醯基伸烷基亞胺)改質聚矽氧。
- 如請求項1之防曬化妝料,其為乳化化妝料。
- 如請求項1至8中任一項之防曬化妝料,其為水中油型乳化化妝料。
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