TW202117826A - 切割裝置 - Google Patents

Abstract

[課題]本發明提供一種可抑制霧氣從加工室洩露並抑制刀片蓋之氣孔堵塞的切割裝置。[解決手段]切割裝置包含切割單元，該切割單元具備：主軸，其裝設有切割刀片；刀片蓋，其覆蓋切割刀片；及噴嘴，其供給切割水。刀片蓋具有：管道，其從入口接收因切割刀片的旋轉而飛散的切割水的霧氣，並導引至遠離入口的出口；及氣液分離部，其設置於管道內；氣液分離部具備：衝擊面，其為霧氣進行衝擊處；及積水部，其積聚從衝擊面落下的液體；積水部延伸至管道的出口，霧氣及氣體通過積水部的水面從出口進行排氣。

Description

切割裝置

本發明係關於一種切割裝置。

以切割刀片將半導體晶圓、封裝基板、陶瓷、玻璃等的板狀被加工物進行切割的切割裝置已為人所知（例如，參照專利文獻1）。這種切割裝置係對切割刀片與被加工物供給切割水，一邊抑制加工熱的影響並沖洗產生之切割屑，一邊進行切割加工。 [習知技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2016-82083號公報

[發明所欲解決的課題] 上述切割裝置中，切割刀片係以30000rpm至100000rpm的高速進行旋轉，故供給至切割刀片的切割水成為包含切割屑的霧氣而高速地往切割刀片後方（側面）飛散。因此，覆蓋切割刀片與卡盤台的加工室中容易充滿霧氣，若加工室的排氣不充分，則有造成下述不良影響之虞：包含霧氣之環境氣體從加工室洩露，侵入電氣零件或致動器的軸部，而在該等構件上附著切割屑等。於是，有人設計了一種刀片蓋，其係在將高速飛散的霧氣導引至旋轉軸方向的管道中設置海綿狀的過濾器，以將霧氣進行氣液分離。

然而，仍有在此刀片蓋上附著切割屑而導致海綿狀的過濾器發生氣孔堵塞的疑慮。

本發明係鑒於所述問題點而完成，其目的在於提供一種可抑制霧氣從加工室洩露並抑制刀片蓋之氣孔堵塞的切割裝置。

[解決課題的技術手段] 根據本發明之一態樣，可提供一種切割裝置，其包含：卡盤台，其保持被加工物；切割單元，其以切割刀片將保持於該卡盤台之被加工物進行切割；以及移動單元，其使該卡盤台與該切割單元相對移動；該切割單元具備：主軸，其可旋轉地支撐於主軸外殼，且裝設有該切割刀片；刀片蓋，其固定於該主軸外殼，並覆蓋該切割刀片；以及噴嘴，其對該切割刀片供給切割水；其中，該刀片蓋具有：管道，其從入口接收因該切割刀片的旋轉而飛散的該切割水的霧氣，並導引至遠離該入口的出口；以及氣液分離部，其設置於該管道內，將該霧氣分離成氣體與液體；該氣液分離部具備：衝擊面，其為因該切割刀片的旋轉而飛散的該霧氣進行衝擊處；以及積水部，其積聚從該衝擊面落下之液體；該積水部延伸至該管道的出口，通過該積水部的水面而從出口進行排氣。

在前述切割裝置中，該管道亦可從裝設於主軸前端之切割刀片的側面朝向該主軸後端延伸，且該衝擊面具備：第1衝擊面，其與該霧氣的飛散方向交叉；及第2衝擊面，其為被導引至該主軸後方的該霧氣進行衝擊處。

[發明功效] 本發明之一態樣的切割裝置發揮可抑制霧氣從加工室洩露並抑制刀片蓋之氣孔堵塞的效果。

針對用以實施本發明的方式（實施方式），參照圖式進行詳細說明。本發明並不限定於以下實施方式所記載的內容。又，以下所記載的構成要件中包含本領域中具有通常知識者可輕易設想的構成、實質上相同的構成。再者，以下所記載的構成可適當組合。又，在不脫離本發明之主旨的範圍內，可進行構成的各種省略、置換或變更。

[第1實施方式] 基於圖式說明本發明之第1實施方式的切割裝置。圖1係表示第1實施方式之切割裝置的構成例的立體圖。圖2係圖1所示之切割裝置的切割單元的前視圖。圖3係圖2所示之切割單元的俯視圖。

（切割裝置） 第1實施方式的圖1所示之切割裝置1，係將被加工物200進行切割（加工）的裝置。第1實施方式中，被加工物200係以矽、藍寶石、鎵等為母材的圓板狀半導體晶圓或光學元件晶圓等的晶圓。在被加工物200的正面201，由形成網格狀的多條分割預定線202劃分成網格狀的區域中，形成有元件203。

又，本發明之被加工物200可為使中央部薄化而在外周部形成有厚壁部的所謂TAIKO（註冊商標）晶圓，除了晶圓以外，亦可為具有多個由樹脂密封之元件的矩形封裝基板、陶瓷製成之基板、鐵氧體基板、或包含鎳及鐵之至少一者的基板、玻璃基板等。在第1實施方式中，被加工物200的背面204黏貼於在外周緣裝設有環狀框架205的黏著膠膜206上，而被環狀框架205所支撐。

圖1所示之切割裝置1係以卡盤台10保持被加工物200並沿著分割預定線202以切割刀片21進行切割（相當於加工）的裝置。如圖1所示，切割裝置1具備：卡盤台10，其以保持面11吸引保持被加工物200；切割單元20，其以切割刀片21將保持於卡盤台10之被加工物200進行切割；攝像單元30，其拍攝保持於卡盤台10之被加工物200；及控制單元100。

又，如圖1所示，切割裝置1具備使卡盤台10與切割單元20相對移動的移動單元40。移動單元40具備：X軸移動單元41，其使卡盤台10在與水平方向及裝置本體2之短邊方向平行的X軸方向上加工進給；Y軸移動單元42，其使切割單元20在與水平方向及裝置本體2之長邊方向平行且與X軸方向正交的Y軸方向上分度進給；Z軸移動單元43，其使切割單元20在與垂直方向平行的Z軸方向上切入進給，該垂直方向與X軸方向和Y軸方向兩者正交；及旋轉移動單元44，其使卡盤台10繞著與Z軸方向平行的軸心旋轉，並且藉由X軸移動單元41而與卡盤台10一同在X軸方向上加工進給。如圖1所示，切割裝置1係具備2個切割單元20、亦即雙主軸切割機、所謂對向式雙主軸型（facing dual type）的切割裝置。

X軸移動單元41係藉由使卡盤台10在加工進給方向的X軸方向上移動，而使卡盤台10與切割單元20相對地沿著X軸方向加工進給。X軸移動單元41使卡盤台10橫跨被加工物200被搬入搬出之搬入搬出區域301及加工區域302而在X軸方向上移動；其中，於該加工區域302中藉由切割單元20將保持於卡盤台10之被加工物200進行切割加工。

Y軸移動單元42係藉由使切割單元20在分度進給方向的Y軸方向上移動，而使卡盤台10與切割單元20相對地沿著Y軸方向分度進給。Z軸移動單元43係藉由使切割單元20在切入進給方向的Z軸方向上移動，而使卡盤台10與切割單元20相對地沿著Z軸方向切入進給。

X軸移動單元41、Y軸移動單元42及Z軸移動單元43具備：習知的滾珠螺桿，其設置成繞著軸心旋轉自如；習知的馬達，其使滾珠螺桿繞著軸心旋轉；及習知的導軌，其將卡盤台10或切割單元20移動自如地支撐於X軸方向、Y軸方向或Z軸方向。

卡盤台10為圓盤形狀，且保持被加工物200的保持面11係由多孔陶瓷等所形成。又，卡盤台10設置成藉由X軸移動單元41，橫跨搬入搬出區域301與加工區域302，而在X軸方向上移動自如，且藉由旋轉移動單元44而繞著與Z軸方向平行的軸心旋轉自如。卡盤台10與圖中未顯示的真空吸引源連接，利用真空吸引源進行吸引，藉此將載置於保持面11的被加工物200進行吸引、保持。第1實施方式中，卡盤台10透過黏著膠膜206吸引、保持被加工物200的背面204側。又，如圖1所示，在卡盤台10的周圍設有多個夾持環狀框架205的夾具部12。

切割單元20係裝卸自如地裝設有切割刀片21的切割手段，切割刀片21將保持於卡盤台10的被加工物200進行切割。切割單元20設置成分別相對於卡盤台10所保持之被加工物200，藉由Y軸移動單元42在Y軸方向上移動自如，且藉由Z軸移動單元43在Z軸方向上移動自如。

一側的切割單元20，如圖1所示，透過Y軸移動單元42、Z軸移動單元43等，設置於從裝置本體2立設的門型支撐框架3之一側的柱部。另一側的切割單元20，如圖1所示，透過Y軸移動單元42、Z軸移動單元43等，設置於支撐框架3之另一側的柱部。此外，支撐框架3中，藉由水平樑將柱部的上端彼此連結。切割單元20可藉由Y軸移動單元42及Z軸移動單元43，將切割刀片21定位於卡盤台10之保持面11的任意位置。

如圖2及圖3所示，切割單元20具備：主軸外殼22，其設置成藉由Y軸移動單元42及Z軸移動單元43，在Y軸方向及Z軸方向上移動自如；主軸23，其以可繞著軸心旋轉的方式設置於主軸外殼22上，且藉由圖中未顯示的馬達進行旋轉，並且前端裝設有切割刀片21；刀片蓋24，其固定於主軸外殼22的前端面221；及噴嘴25，其對切割刀片21供給切割水。

切割刀片21係具有大致環形的極薄切割磨石。在第1實施方式中，切割刀片21係所謂的輪轂型刀片（hub blade），其具備：圓環狀的圓形基台211；及圓環狀的刀刃212，其配設於圓形基台211的外周緣以切割被加工物200。刀刃212係由金剛石或CBN（Cubic Boron Nitride，立方氮化硼）等的磨粒與金屬或樹脂等的黏合材（結合材）所構成，其形成預定厚度。此外，本發明中，切割刀片21亦可為僅由刀刃212所構成的所謂墊圈型刀片(washer blade)。

主軸23藉由馬達而繞著軸心旋轉，藉此使切割刀片21往圖2中的箭頭400方向旋轉。在第1實施方式中，主軸23的旋轉數為30000rpm以上且100000rpm以下。此外，以下，本說明書中，將箭頭400所示方向作為切割刀片21的旋轉方向。切割刀片21係藉由主軸23而繞著軸心於旋轉方向400旋轉，故在切割被加工物200的刀刃212之下端，將切割被加工物200所產生的切割屑連同切割水一起朝向刀刃212之下端的旋轉方向400後側的方向401噴射。此外，主軸23的旋轉數為30000rpm以上且100000rpm以下的高速，故在從切割刀片21的刀刃212之下端朝向旋轉方向400之後側的方向401上飛散的切割水，係以變成霧氣的狀態飛散。如此，朝向後側的方向401，係霧氣從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的方向，以下將其作為飛散方向。

刀片蓋24是覆蓋切割刀片21的構件。刀片蓋24具備：蓋體本體241，其固定於主軸外殼22的前端面221，且覆蓋切割刀片21的上側；及前側蓋體242，其固定於蓋體本體241，且覆蓋切割刀片21之搬入搬出區域301側的前側。蓋體本體241具備在加工區域302側的後側向下方延伸的一對噴嘴支撐構件243。

噴嘴25具備：噴淋噴嘴（shower nozzle）251，其設置於前側蓋體242；及一對冷卻噴嘴252，其被蓋體本體241的噴嘴支撐構件243所支撐。噴淋噴嘴251在X軸方向上面向切割刀片21的刀刃212之刀尖，於切割中對切割刀片21的刀刃212之刀尖供給切割水。冷卻噴嘴252與X軸方向平行地延伸，互相在Y軸方向上空開間隔而配置。冷卻噴嘴252將切割刀片21的刀刃212之下端定位在彼此之間，並於切割中對切割刀片21的刀刃212之下端供給切割水。

（管道） 又，刀片蓋24具有管道26，該管道26固定於蓋體本體241之加工區域302側的後側。圖4係圖2所示之切割單元的管道的前視圖。圖5係圖4所示之管道的立體圖。圖6係沿著圖5中的VI-VI線的剖面圖。

管道26從入口261接收因切割中切割刀片21的旋轉而從切割刀片21的刀刃212之下端沿著飛散方向401飛散的切割水的霧氣，並導引至遠離入口261的出口262。管道26形成為中空狀，其內側設有將入口261與出口262連通的通路。

如圖4、圖5及圖6所示，管道26一體地具備：入口部263，其設有入口261；延伸部264，其與入口部263的Y軸方向之側面相連；及出口部265，其與延伸部264的前端相連且設有出口262。第1實施方式之管道26中，入口部263與切割刀片21在X軸方向上並排，延伸部264在Y軸方向上從入口部263延伸，且延伸部264與出口部265在Y軸方向上並排。

入口部263形成為筒狀，其固定於蓋體本體241的加工區域302側，且形成有面對蓋體本體241之入口261。入口部263中，從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的切割水的霧氣從入口261侵入。又，第1實施方式中，如圖5所示，入口部263具備在X軸方向上延伸的一對側壁266及將一對側壁266之下端彼此連結的連結壁267。側壁266及連結壁267與入口261的內緣相連。第1實施方式中，一側的側壁266與蓋體本體241的側面重疊。

延伸部264的一端與入口部263中遠離蓋體本體241側的一端相連。延伸部264形成為筒狀，其另一端從與入口部263相連之一端沿著Y軸方向在主軸外殼22的後端側延伸。延伸部264的上壁從一端往另一端緩緩地朝下傾斜。出口部265形成為扁平的筒狀，其與延伸部264之另一端的下端部相連，且上方形成有開口的出口262。出口部265將切割水的霧氣中的氣體排出至管道26的外部。

如此，管道26一體地具備入口部263、延伸部264及出口部265，從裝設於主軸23之前端的切割刀片21之側面往主軸23之後端延伸。

又，管道26的內側具有氣液分離部27。氣液分離部27將切割水的霧氣分離成氣體與液體的切割水。第1實施方式中，氣液分離部27具備：衝擊面的第1衝擊面271、衝擊面的第2衝擊面272及積水部273。

第1衝擊面271及第2衝擊面272係供因切割刀片21的旋轉而飛散的霧氣進行衝擊的構件。第1衝擊面271係供從入口261沿著飛散方向401侵入管道26內的切割水的霧氣進行衝擊而將霧氣分離成氣體與切割水的構件，第1實施方式中，其係在X軸方向上面對入口部263之入口261的內面。第1衝擊面271與切割水的霧氣從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的飛散方向401交叉。衝擊第1衝擊面271而未分離成氣體與切割水的霧氣，沿著圖3及圖6中的箭頭402被導引至出口部265、即主軸23之後方的延伸部264之另一端側。

第2衝擊面272係供即使衝擊第1衝擊面271仍未分離成氣體與切割水的霧氣進行衝擊而將霧氣分離成氣體與切割水的構件，第1實施方式中，其係延伸部264之上壁的內面。第2衝擊面272係供從第1衝擊面271被導引至延伸部264之另一端側的霧氣進行衝擊。積水部273積聚已衝擊第1衝擊面271與第2衝擊面272而從氣體分離，並從衝擊面271、272落下的切割水，第1實施方式中，其係由出口部265的內面所構成。因此，積水部273延伸至管道26的出口262。

如此，第1實施方式之切割裝置1，刀片蓋24的管道26內未設置具有吸水性的海綿狀等的過濾器。

攝像單元30以與切割單元20一體移動的方式，固定於切割單元20。攝像單元30具備攝像元件，其對卡盤台10所保持的切割前被加工物200之應分割的區域進行拍攝。攝像元件例如為CCD（Charge-Coupled Device，電荷耦合元件）攝像元件或CMOS（Complementary MOS，互補式金屬氧化物半導體）攝像元件。攝像單元30拍攝卡盤台10所保持的被加工物200，而得到用以實行被加工物200與切割刀片21的對位之對準等的影像，並將所得到之影像輸出至控制單元100。

又，切割裝置1具備：圖中未顯示的X軸方向位置檢測單元，其用以檢測卡盤台10在X軸方向的位置；圖中未顯示的Y軸方向位置檢測單元，其用以檢測切割單元20在Y軸方向的位置；及Z軸方向位置檢測單元，其用以檢測切割單元20在Z軸方向的位置。X軸方向位置檢測單元及Y軸方向位置檢測單元可由與X軸方向或Y軸方向平行的線性尺標（linear scale）及讀取頭所構成。Z軸方向位置檢測單元係以馬達的脈衝來檢測切割單元20在Z軸方向的位置。X軸方向位置檢測單元、Y軸方向位置檢測單元及Z軸方向位置檢測單元將卡盤台10在X軸方向、切割單元20在Y軸方向或Z軸方向的位置輸出至控制單元100。此外，第1實施方式中，切割裝置1的各構成要件在X軸方向、Y軸方向及Z軸方向的位置，係由以預先設定的圖中未顯示之基準位置作為基準的位置來確定。

又，切割裝置1具備：卡匣升降機60，其載置容納切割前後之被加工物200的卡匣61且使卡匣61在Z軸方向上移動；清洗單元70，其將切割後的被加工物200進行清洗；及搬送單元80，其於卡匣61搬入搬出被加工物200並且搬送被加工物200。

又，如圖1所示，切割裝置1具備：加工室壁6，其圍住加工區域302的外側以抑制切割水擴散；及加工室用排氣管道8。在第1實施方式中，加工室壁6中，將容納定位於加工區域302之卡盤台10及切割單元20的加工室303形成於切割裝置1內。排氣管道8的一端與加工室壁6相連，藉由圖中未顯示的排氣用風扇等，將加工室壁6內、即加工室303內的環境氣體排氣至切割裝置1外。

控制單元100分別控制切割裝置1的上述各單元，而實施切割裝置1對被加工物200的加工動作。此外，控制單元100係具有下述構件的電腦：運算處理裝置，具有如CPU（Central Processing Unit，中央處理單元）的微處理器；記憶裝置，具有如ROM（read only memory，唯讀記憶體）或RAM（random access memory，隨機存取記憶體）的記憶體；及輸入輸出界面裝置。控制單元100的運算處理裝置係依照記憶於記憶裝置中的電腦程式，由運算處理裝置實施運算處理，並透過輸入輸出界面裝置將用以控制切割裝置1的控制訊號輸出至切割裝置1的上述構成要件。

又，控制單元100與顯示單元102及輸入單元連接；該顯示單元102係由顯示加工動作的狀態或影像等的液晶顯示裝置等所構成；該輸入單元係操作員用於登錄加工內容資訊等。輸入單元係由設置於顯示單元102的觸控面板及鍵盤等的外部輸入裝置之中的至少一者所構成。

上述構成的切割裝置1是操作員將加工內容資訊登錄於控制單元100，並使容納有被加工物200之卡匣61載置於卡匣升降機60，當控制單元100接收到來自操作員的加工動作的開始指示時，則開始加工動作。當開始加工動作時，切割裝置1中，使主軸23繞著軸心旋轉，搬送單元80從卡匣61內取出一片被加工物200，透過黏著膠膜206將背面204側載置於卡盤台10的保持面11。

切割裝置1中，透過黏著膠膜206將被加工物200吸引保持於保持面11，並且以夾具部12夾持環狀框架205。切割裝置1藉由移動單元40使卡盤台10移動至攝像單元30的下方，並藉由攝像單元30拍攝吸引保持於卡盤台10的被加工物200，以實行對準。

切割裝置1根據加工內容資訊，一邊藉由移動單元40使切割刀片21與被加工物200沿著分割預定線202相對移動，同時從噴淋噴嘴251、冷卻噴嘴252供給切割水，一邊針對被加工物200的分割預定線202，使切割刀片21切入至到達黏著膠膜206為止，以進行切割。若切割裝置1將被加工物200的全部分割預定線202進行切割，則藉由搬送單元80將被加工物200搬送至清洗單元70，以清洗單元70清洗後，藉由搬送單元80搬入卡匣61內。

切割裝置1將卡匣61內的被加工物200依序進行切割加工。若切割裝置1將卡匣61內的全部被加工物200進行切割加工，則結束加工動作。又，切割裝置1中，於切割中從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的切割水的霧氣，沿著飛散方向401通過入口261而被導引至管道26的入口部263內，並衝擊第1衝擊面271而一部分分離成氣體與切割水。切割裝置1中，侵入管道26之入口部263內，衝擊第1衝擊面271但未分離成氣體與切割水的霧氣會衝擊第2衝擊面272而分離成氣體與切割水。

切割裝置1中，自霧氣分離的切割水從衝擊面271、272落下而積聚於設置在出口部265的積水部273內，超過積水部273之上端的切割水通過出口262而排出至管道26外。又，切割裝置1中，使未氣液分離的霧氣在積聚於管道26之積水部273內的切割水之水面上通過，使其與切割水接觸以進一步氣液分離，而氣體及未完全氣液分離之霧氣則從出口262被排氣至管道26外。又，第1實施方式之切割裝置1，在實施加工動作期間，從排氣管道8將加工室壁6內、即加工室303內的環境氣體排氣至切割裝置1外。

如以上所說明，第1實施方式之切割裝置1，刀片蓋24中從入口261接收霧氣並導引至出口262的管道26，具備：衝擊面271、272，其為包含切割屑之霧氣進行衝擊處；及積水部273，積聚從衝擊面271、272落下的切割液；由於積水部273設置於管道26的出口部265，故在衝擊面271、272經氣液分離的切割水被持續供給至積水部273，管道26內未氣液分離的霧氣則在積聚於積水部273內的切割水之水面上通過，而從出口262排氣。因此，切割裝置1除了以衝擊面271、272將霧氣進行氣液分離以外，亦可藉由在積聚於積水部273內之切割水的水面上通過來使霧氣進行氣液分離，而具有高度的氣液分離效果，以抑制加工室303中充滿霧氣。結果，切割裝置1可抑制霧氣從加工室303內洩露。

又，切割裝置1中，刀片蓋24的管道26不具備海綿狀的過濾器，因此不會因切割屑而在管道26內發生氣孔堵塞，亦有管道26等的維護頻率低的效果。其結果，第1實施方式之切割裝置1發揮可抑制霧氣從加工室303洩露並抑制刀片蓋24之管道26內的氣孔堵塞的效果。

又，第1實施方式之切割裝置1具備相對於霧氣從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的方向401交叉的第1衝擊面271、以及在衝擊第1衝擊面271後沿著箭頭402被導引至主軸23之後方的霧氣所衝擊的第2衝擊面272，因此可使霧氣確實地衝擊各衝擊面271、272。

[第2實施方式] 基於圖式說明本發明之第2實施方式的切割裝置。圖7係第2實施方式之切割裝置的切割單元的前視圖。此外，圖7中，針對與第1實施方式相同的部分，標註相同符號並省略說明。

第2實施方式之切割裝置1-2的管道26-2不具備第1衝擊面271，如圖7所示，入口部263、延伸部264及出口部265在X軸方向並排，除此以外與第1實施方式相同。第2實施方式之切割裝置1-2中，於切割中從切割刀片21的刀刃212之下端飛散的切割水的霧氣，沿著飛散方向401通過入口261而被導引至管道26-2的入口部263內，並衝擊第2衝擊面272而一部分分離成氣體與切割水。

切割裝置1-2中，自霧氣分離之切割水從第2衝擊面272落下而積聚於設置在出口部265的積水部273內，超過積水部273之上端的切割水通過出口262而排出至管道26-2外。又，切割裝置1中，使未氣液分離的霧氣在積聚於管道26-2之積水部273內的切割水之水面上通過，使其與切割水接觸以進一步氣液分離，而氣體及未完全氣液分離之霧氣則從出口262被排氣至管道26-2外。

第2實施方式之切割裝置1-2，刀片蓋24中從入口261接收霧氣並導引至出口262的管道26-2，具備第2衝擊面272及積水部273，積水部273設置於管道26-2的出口部265，故與第1實施方式相同地，在第2衝擊面272經氣液分離的切割水被持續供給至積水部273，管道26-2內未氣液分離的霧氣則在積聚於積水部273內的切割水之水面上通過，而從出口262排氣。其結果，第2實施方式之切割裝置1-2除了以第2衝擊面272使霧氣進行氣液分離以外，亦可藉由在積聚於積水部273內之切割水的水面上通過來使霧氣進行氣液分離，而發揮高度的氣液分離效果，並且刀片蓋24的管道26-2不具備海綿狀的過濾器，故與第1實施方式相同地，其發揮可抑制霧氣從加工室303洩露並抑制刀片蓋24之管道26-2內的氣孔堵塞的效果。

[第3實施方式] 基於圖式說明本發明之第3實施方式之切割裝置。圖8係第3實施方式之切割裝置的切割單元的俯視圖。圖9係圖8所示之切割單元的管道的剖面圖。此外，圖8及圖9中，針對與第1實施方式相同的部分，標註相同符號並省略說明。

第3實施方式之切割裝置1-3的管道26-3，如圖8及圖9所示，氣液分離部27具備衝擊面的第3衝擊面274，除此以外，與第1實施方式相同。第3實施方式之切割裝置1-3的管道26-3的第3衝擊面274係供從延伸部264被導引至出口部265的霧氣進行衝擊而使霧氣進行氣液分離的構件。在第3實施方式中，第3衝擊面274係從構成出口部265的外壁之中離延伸部264最遠且在Y軸方向上面對延伸部264的外壁立設之立設壁268的內面。

第3實施方式之切割裝置1-3中，刀片蓋24中從入口261接收霧氣並導引至出口262的管道26-3，具備衝擊面271、272、274及積水部273，積水部273設置於管道26-3的出口部265，故在衝擊面271、272、274經氣液分離的切割水被持續供給至積水部273，管道26-3內未氣液分離的霧氣則在積聚於積水部273內的切割水之水面上通過，而從出口262排氣。結果，第3實施方式之切割裝置1-3除了將霧氣在衝擊面271、272、274進行氣液分離以外，亦可藉由在積聚於積水部273內之切割水的水面上通過來將霧氣進行氣液分離，而發揮高度的氣液分離效果，並且刀片蓋24的管道26-3不具備海綿狀的過濾器，故與第1實施方式相同地，其發揮可抑制霧氣從加工室303洩露並抑制刀片蓋24之管道26-3內的氣孔堵塞的效果。

又，第3實施方式之切割裝置1-3的管道26-3除了第1衝擊面271及第2衝擊面272以外，還具備第3衝擊面274，故發揮比第1實施方式之管道26更高的氣液分離效果。

此外，本發明並不限定於上述實施方式及變化例。亦即，在不脫離本發明之要點的範圍內可進行各種變形而實施。

1:切割裝置 10:卡盤台 20:切割單元 21:切割刀片 22:主軸外殼 23:主軸 24:刀片蓋 25:噴嘴 26:管道 27:氣液分離部 40:移動單元 261:入口 262:出口 271:第1衝擊面（衝擊面） 272:第2衝擊面（衝擊面） 273:積水部 274:第3衝擊面（衝擊面） 200:被加工物 401:飛散方向

圖1係表示第1實施方式之切割裝置的構成例的立體圖。 圖2係圖1所示之切割裝置的切割單元的前視圖。 圖3係圖2所示之切割單元的俯視圖。 圖4係圖2所示之切割單元的管道的前視圖。 圖5係圖4所示之管道的立體圖。 圖6係沿著圖5中的VI-VI線的剖面圖。 圖7係第2實施方式之切割裝置的切割單元的前視圖。 圖8係第3實施方式之切割裝置的切割單元的俯視圖。 圖9係圖8所示之切割單元的管道的剖面圖。

1:切割裝置

20:切割單元

21:切割刀片

22:主軸外殼

23:主軸

24:刀片蓋

25:噴嘴

26:管道

27:氣液分離部

212:刀刃

221:前端面

241:蓋體本體

242:前側蓋體

251:噴淋噴嘴

252:冷卻噴嘴

261:入口

262:出口

263:入口部

264:延伸部

265:出口部

266:側壁

271:第1衝擊面(衝擊面)

272:第2衝擊面(衝擊面)

273:積水部

401:飛散方向

402:箭頭

Claims (2)

1. 一種切割裝置，其包含：卡盤台，其保持被加工物；切割單元，其以切割刀片將保持於該卡盤台之被加工物進行切割；以及移動單元，其使該卡盤台與該切割單元相對移動； 該切割單元具備：主軸，其可旋轉地支撐於主軸外殼，且裝設有該切割刀片；刀片蓋，其固定於該主軸外殼，並覆蓋該切割刀片；以及噴嘴，其對該切割刀片供給切割水；其中， 該刀片蓋具有：管道，其從入口接收因該切割刀片的旋轉而飛散的該切割水的霧氣，並導引至遠離該入口的出口；以及氣液分離部，其設置於該管道內，將該霧氣分離成氣體與液體； 該氣液分離部具備：衝擊面，其為因該切割刀片的旋轉而飛散的該霧氣進行衝擊處；以及積水部，其積聚從該衝擊面落下之液體； 該積水部延伸至該管道的出口，通過該積水部的水面而從出口進行排氣。
2. 如請求項1之切割裝置，其中，該管道從裝設於主軸前端之切割刀片的側面朝向該主軸後端延伸，且該衝擊面具備：第1衝擊面，其與該霧氣的飛散方向交叉；及第2衝擊面，其為被導引至該主軸後方的該霧氣進行衝擊處。

Images