TW202113155A - 鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用 - Google Patents

Abstract

本發明提供了一種鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和 應用，其中所述鍍膜設備包括一反應腔體和一可運動支架裝置，其中所述反應腔體具有一反應腔，其中所述可運動支架裝置被容納於所述反應腔，其中所述可運動支架裝置包括至少一電極和一可運動支架，其中所述可運動支架相對於所述反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於所述可運動支架隨著所述可運動支架運動。

Description

鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用

本發明涉及到鍍膜領域，特別涉及到鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用。

塗層能夠對於材料表面進行防護，可以賦予材料良好的物理、化學耐久性。部分塗層比如說聚合物塗層具有一定的防腐蝕性能，其在電子電器、電路板等電子元器件表面形成保護膜層，可以有效地保護電路在腐蝕環境下免遭侵蝕、破壞，從而提高電子元器件的可靠性。

在鍍膜過程中，需要將待鍍膜工件放置在反應腔室內，然後通入反應氣體。反應氣體在等離子體的作用下在待鍍膜工件表面進行化學氣相沉積形成塗層。在這個過程中，需要持續地抽真空以使得反應材料在工件表面不斷反應產生的尾氣可被移出，從而維持穩定的鍍膜壓力條件。然而值得注意的是，反應氣體通入進料口時，反應原料容易聚集在進料口附近，使得進料口氣體濃度較高，而在抽氣口位置則氣體濃度較低，因此較容易因反應腔室內的反應氣體濃度不一，造成反應腔體內不同位置的鍍膜工件納米塗層厚度不均的情況出現。目前行業內部分廠商採用轉動的載物台，其中載物台用於放置待鍍膜工件。載物台能夠相對於反應腔室轉動，以起到攪拌的作用，有利於反應氣體的濃度均衡。

傳統鍍膜設備中，一般可根據工件是否放置於電極之間分 為兩種等離子體鍍膜方式。一種是將鍍膜工件直接放在電極板之間(電場內)，電極板由相對的兩塊或者多塊電極被固定設置在反應腔室內，每對電極的一塊電極板與高頻電源相接，相對的另外一塊電極板接地或者與電源的另一極相接。接通電源時，一對電極板之間產生電場並將位於其中的氣體原料啟動形成等離子體。一般來說，大規模工業生產裝置大多采平行板電極，平行板電極放電穩定、效率高，可以獲得較大面積的加工處理能力。但是，實際應用中發現，由於電極之間的等離子體能量普遍較大，直接轟擊放置於其中的工件表面，容易造成工件表面的損傷。比較典型的是電子產品的螢幕，比如手機、電子手錶、PAD等的螢幕往往預先經過防指紋處理，其表面具有一層很薄的防指紋塗料。這層塗料會在等離子體的轟擊下發生損傷，從而導致防指紋效果的損失。

另外一種等離子體鍍膜方式，是將工件放置於電極之外，被啟動的反應原料(含有等離子體)通過擴散到工件表面，然後經過沉積反應形成防護塗層。由於工件不直接放在電極板之間，等離子體在離開電場區域後的運動過程中能量不斷衰減，到達工件表面時等離子體的能量已經比較低，這種電極設計相對於前一種而言，對工件表面的轟擊比較弱。但同時在實際應用中也發現，這種電極設置導致沉積速率較慢，一些需要高能等離子體啟動的單體不能有效地被激發成等離子體狀態，使其用途受到了限制。另外，市場上目前的大部分的等離子鍍膜裝置的，電極和反應腔室之間位置相對固定，電極的放電位置是固定的，只向反應腔室內提供固定的放電環境。並且當載物台轉動時，電極的放電可能被載物台影響，轉動的載物台起到了遮罩作用，最後可能對於產品的良率造成影響。

CN206775813公開了一種帶有定轉電極組的等離子體引發聚合裝置，該裝置中固定金屬直杆通過絕緣基座沿真空室軸向等間距固定連接在真空室內壁上，固定金屬直杆經導線串聯連接構成固定電極；轉動金屬直杆沿真空室軸向等間距固定連接在金屬可運動支架上，構成轉動電極；固定電極連接高頻電源輸出端，轉動電極接地。工作時，開啟高頻電源使之連續輸出高頻功率，並使轉動電極轉動。轉動電極的週期性靠近和遠離固定電極，從而產生週期性燃滅的等離子體。這種裝置的優勢是通過接觸放電，達到不需要脈衝調製即可實現週期性間隔放電的效果；在該裝置中，轉動電極與基材相對靜止，且等離子體是通過擴散再沉積到基材表面形成聚合物塗層，不同空間位置的等離子體濃度仍然存在梯度問題。

本發明的一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述鍍膜設備的一個或多個電極能夠轉動，以在所述鍍膜設備的反應腔中提供相對均勻的放電環境。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述鍍膜設備的所述電極能夠向位於能夠轉動的一可運動支架的待鍍膜工件放電，即轉動的所述電極向運動的待鍍膜工件放電，以提高鍍膜均勻性。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中相對于傳統鍍膜設備中固定設置的電極，本發明的所述鍍膜設備的所述電極能夠隨著所述可運動支架一同轉動，並且用於承載待鍍膜工件的一載台在隨著所述可運動支架轉動時還繞 其中軸自轉，從而所述鍍膜設備的所述電極與待鍍膜工件之間產生的相對移動由所述載台自轉引起，從而使所述電極對這些待鍍膜工件提供相對均一的放電環境。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述鍍膜設備中的待鍍膜工件可通過與電極的相對運動使待鍍膜工件在鍍膜過程中既可以處於相對電極內部又可以遠離相對電極內部區域，避免工件長時間位於電極內部區域導致工件表面損傷。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述鍍膜設備中的待鍍膜工件可通過和所述電極的相對運動使得待鍍膜工件在鍍膜過程中既可以處於相對的電極內部又可以遠離相對的電極內部區域，避免等離子體僅依靠擴散而沉積在待鍍膜工件表面導致沉積速度較慢。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中對於傳統鍍膜設備中固定設置在腔壁上的電極，本發明的所述鍍膜設備的所述電極距離所述載台的待鍍膜工件的距離更近。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述可運動支架裝置的所述電極能夠運動，這種運動電極不僅使鍍膜均勻，而且由於鍍膜原料氣體有的能夠穿過放電區被充分電離，有的未穿過所述電極的放電區被不完全電離，這樣不同電離形態的原料可以通過鍍膜參數的調節得到更加豐富的鍍膜結構和更 穩定的鍍膜品質。

本發明的另一優勢在於提供一鍍膜設備及其運動電極裝置、可運動支架裝置和應用，其中所述電極和所述可運動支架之間的相對位置固定，所述鍍膜設備的所述可運動支架能夠不干擾電極的放電。

根據本發明的一方面，本發明提供了一鍍膜設備，其包括：

一反應腔體，其中所述反應腔體具有一反應腔；

一抽氣裝置，其中所述抽氣裝置被可連通地連接於所述反應腔體；

一進料裝置，其中所述反應腔體具有一進料口，所述進料口連通所述反應腔，所述進料裝置連通所述進料口；以及

一可運動支架裝置，其中所述可運動支架裝置被容納於所述反應腔，其中所述可運動支架裝置包括至少一電極和一可運動支架，其中所述可運動支架相對於所述反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於所述可運動支架隨著所述可運動支架運動。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極位於所述可運動支架的周向方向。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極具有一放電表面，其中所述放電表面朝向的方向被設置為朝向所述可運動支架的中心軸線。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極具有一 放電表面，其中所述放電表面朝向的方向被設置為朝向該待鍍膜工件。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極位於所述可運動支架的徑向方向。

根據本發明的至少一個實施例，所述鍍膜設備進一步包括設置於所述可運動支架的至少一載台，其中該待鍍膜工件適於被放置於所述載台並且所述載台被可相對於所述可運動支架具有相對運動地安裝於所述可運動支架，以使得所述電極相對於該待鍍膜工件具有相對運動。

根據本發明的至少一個實施例，至少一所述電極位於相鄰的所述載台之間。

根據本發明的至少一個實施例，位於相鄰的所述載台之間的各個所述電極朝向的方向為朝向所述載台。

根據本發明的至少一個實施例，相鄰的兩個所述電極形成一V形結構，並且V形開口朝外，其中兩個所述電極分別對應朝向相鄰的兩個所述載台。

根據本發明的至少一個實施例，所述電極具有一放電表面，所述可運動支架被設置有與各個所述電極相對設置的至少一導電板，其中所述導電板具有一導電面，並且形成夾角的相鄰的兩個所述導電板的所述導電面和相對設置的所述電極的所述放電表面形成一個三角放電區。

根據本發明的至少一個實施例，至少一所述電極位於多個所述載台的內側，以作為至少一內側電極。

根據本發明的至少一個實施例，至少一所述電極沿著所述可運動支架的圓周方向佈置並位於相鄰的兩個所述載台之間，以作為至少 一外側電極。

根據本發明的至少一個實施例，所述可運動支架被可繞其中心的第一軸線轉動地安裝於所述反應腔體。

根據本發明的至少一個實施例，所述載台被可繞其中心的第二軸線轉動地安裝於所述可運動支架並且所述第二軸線位於第一軸線的周側，其中所述可運動支架被可繞其中心的所述第一軸線轉動地安裝於所述反應腔體。

根據本發明的至少一個實施例，所述可運動支架裝置進一步包括一載台支撐架，其中所述載台支撐架被可繞所述第二軸線轉動地安裝於所述可運動支架，多個所述載台沿著高度方向被間隔地疊置於所述載台支撐架，其中所述電極位於相鄰的兩個所述載台支撐架之間。

根據本發明的至少一個實施例，所述鍍膜設備進一步包括一導電單元，其中所述導電單元包括一第一導電部件和一第二導電部件，其中所述第一導電部件被設置於所述反應腔體，所述第二導電部件被設置於所述可運動支架，並且第一導電部件被可導通地連接於所述第二導電部件，所述第二導電部件被可導通地連接於所述電極，當所述可運動支架相對於所述反應腔體繞所述第一軸線轉動，相對於所述第一導電部件轉動的所述第二導電部件保持和所述第一導電部件的導通，來自所述反應腔外部的電能經過所述第一導電部件傳遞至所述第二導電部件，然後傳遞至所述電極。

根據本發明的至少一個實施例，所述可運動支架包括一上支撐件和一下支撐件，所述上支撐件被保持於所述下支撐件上方並且形成 一載物空間，所述第二導電部件位於所述上支撐件，所述第一導電部件被壓緊地支撐於所述第二導電部件。

根據本發明的至少一個實施例，各個所述載台包括一載台傳動件，所述可運動支架包括一可運動支架嚙合件，其與所述載台傳動件實施為互相嚙合並且能夠產生相對運動的齒輪。

根據本發明的至少一個實施例，各個所述電極分別是一電極板，所述可運動支架被設置有與各個所述電極相對設置的至少一導電板，並且形成夾角的相鄰的兩個所述導電板和相對設置的所述電極板形成三角結構。

根據本發明的至少一個實施例，多個所述電極呈中心對稱地佈置在所述第一軸線周圍。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極的所述放電表面是一平面或弧面。

根據本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極是一弧狀電極。

根據本發明的至少一個實施例，所述電極和所述可運動支架互為相反極，從而所述電極對所述可運動支架放電。

根據本發明的至少一個實施例，所述可運動支架接地。

根據本發明的至少一個實施例，所述可運動支架具有與各個所述電極尺寸相匹配的一導電面。

根據本發明的至少一個實施例，各個所述電極是一電極板，所述可運動支架具有與各個所述電極相對設置的一導電板。

根據本發明的至少一個實施例，所述鍍膜設備還包括一電極架，所述電極架可相對於所述反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內，所述電極安裝於所述電極架。

根據本發明的至少一個實施例，所述電極架與所述可運動支架相互獨立。

根據本發明的至少一個實施例，所述電極架和所述可運動支架是一體結構，所述電極架是所述可運動支架的一部分。

根據本發明的一方面，本發明還提供一運動電極裝置，應用於一鍍膜設備，該鍍膜設備包括一反應腔體，其中所述運動電極裝置包括一個或多個電極，其中所述電極是運動電極，其相對於所述反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內。

在本發明的至少一個實施例中，該鍍膜設備還包括一可運動支架，所述可運動支架可相對於該反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於該可運動支架隨著該可運動支架運動，所述電極安裝於該可運動支架。

在本發明的至少一個實施例中，該載台被可繞其中心的第二軸線轉動地安裝於該可運動支架並且該第二軸線位於該第一軸線的周側。

在本發明的至少一個實施例中，多個所述電極呈中心對稱地佈置在該第一軸線周圍。

在本發明的至少一個實施例中，至少一個所述電極的所述放電表面是一平面或弧面。

在本發明的至少一個實施例中，至少一個所述電極是一弧狀電極。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極和該可運動支架互為相反極，從而所述電極對該可運動支架放電。

在本發明的至少一個實施例中，該可運動支架接地。

在本發明的至少一個實施例中，該可運動支架具有與各個所述電極尺寸相匹配的一導電面。

在本發明的至少一個實施例中，各個所述電極是一電極板，該可運動支架具有與各個所述電極相對設置的一導電板。

在本發明的至少一個實施例中，該鍍膜設備還包括一可運動支架，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於該可運動支架隨著該可運動支架運動，其中所述運動電極裝置還包括一電極架，所述電極架可相對於該反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內，所述電極安裝於所述電極架。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極架與所述可運動支架相互獨立。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極架和該可運動支架是一體結構，所述電極架是所述可運動支架的一部分。

根據本發明的另一方面，本發明提供一可運動支架裝置，應用於一鍍膜設備，該鍍膜設備包括一反應腔體，其中所述可運動支架裝置包括：

至少一電極；

一可運動支架，其中所述可運動支架相對於該反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架；和

至少一載台，其中所述載台被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架。

在本發明的至少一個實施例中，所述可運動支架被可繞第一軸線轉動地安裝於該反應腔體，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同轉動地設置於所述可運動支架，其中所述載台被可跟隨所述可運動支架一同繞所述第一軸線轉動地設置於所述可運動支架，並且其中每一所述載台被可繞第二軸線轉動地保持於所述可運動支架。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極具有一放電表面，其中所述放電表面被設置為朝向所述可運動支架的中心軸線，或者所述電極具有一放電表面，其中所述放電表面被設置為朝向所述載台並且所述電極被保持在所述載台的周側。

在本發明的至少一個實施例中，至少一個所述電極被保持在所述可運動支架的周沿位置。

在本發明的至少一個實施例中，進一步包括一載台支撐架，其中所述載台支撐架被可繞所述第二軸線轉動地安裝於所述可運動支架，多個所述載台沿著高度方向被間隔地疊置於所述載台支撐架，其中所述電極位於相鄰的兩個所述載台支撐架之間。

在本發明的至少一個實施例中，進一步包括一載台支撐架，其中所述載台支撐架被可繞所述第二軸線轉動地安裝於所述可運動支 架，多個所述載台沿著高度方向被間隔地疊置於所述載台支撐架，其中所述電極位於相鄰的兩個所述載台支撐架之間。

在本發明的至少一個實施例中，所述載台是一圓形載台，並且所述電極的弧度和所述圓形載台的弧度相同。

在本發明的至少一個實施例中，所述第二軸線是所述載台的中心軸線。

在本發明的至少一個實施例中，至少兩個所述電極被對稱地佈置在所述第一軸線的周圍。

在本發明的至少一個實施例中，至少兩個所述電極被對稱地佈置在所述第二軸線的周圍。

在本發明的至少一個實施例中，所述載台支撐架包括一上支撐部、一下支撐部和一側支撐部，其中所述上支撐部通過所述側支撐部被支撐於所述下支撐部，所述第二軸線穿過所述上支撐部、所述載台和所述下支撐部，至少一個所述電極位於所述側支撐部外側。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極具有一放電表面，該可運動支架被設置有與各個所述電極相對設置的至少一導電板，其中所述導電板具有一導電面，並且形成夾角的相鄰的兩個所述導電板的所述導電面和相對設置的所述電極的所述放電表面形成一個三角放電區。

在本發明的至少一個實施例中，至少二個所述載台支撐架被對稱地設置在所述第一軸線的周圍，至少兩個所述電極位於所述載台支撐架的內側。

在本發明的至少一個實施例中，進一步包括一導電單元， 其中所述導電單元包括一第一導電部件和一第二導電部件，其中所述第一導電部件被設置於該反應腔體該反應腔體，所述第二導電部件被設置於所述可運動支架，並且第一導電部件被可導通地連接於所述第二導電部件，所述第二導電部件被可導通地連接於所述電極，當所述可運動支架相對於該反應腔體繞所述第一軸線轉動，相對於所述第一導電部件轉動的所述第二導電部件保持和所述第一導電部件的導通，來自該反應腔外部的電能經過所述第一導電部件傳遞至所述第二導電部件，然後傳遞至所述電極。

在本發明的至少一個實施例中，所述可運動支架包括一上支撐件和一下支撐件，所述上支撐件被保持於所述下支撐件上方並且形成一載物空間，所述第二導電部件位於所述上支撐件，所述第一導電部件被壓緊地支撐於所述第二導電部件。

在本發明的至少一個實施例中，各個所述載台包括一載台傳動件，所述可運動支架包括一可運動支架嚙合件，其與所述載台傳動件實施為互相嚙合並且能夠產生相對運動的齒輪。

本發明還提供一電極放電方法，其包括如下步驟：

在至少一待鍍膜工件隨著一可運動支架相對於一反應腔體運動時，相對於所述反應腔體運動的至少一電極在所述反應腔體內相對於所述可運動支架放電。

在本發明的至少一個實施例中，所述電極放電方法包括步驟：使所述電極和所述待鍍膜工件一同隨著所述可運動支架運動。

在本發明的至少一個實施例中，所述包括步驟：使所述電極和所述待鍍膜工件進一步地產生相對運動。

在本發明的至少一個實施例中，所述包括步驟：使承載所述待鍍膜工件的至少一載台被所述可運動支架驅動而運動。

在本發明的至少一個實施例中，所述包括步驟：使所述載台繞所述可運動支架中心的第一軸線轉動並且繞所述載台中心的一第二軸線轉動，並且使所述電極繞所述第一軸線轉動。

10:進料裝置

20:抽氣裝置

30:可運動支架裝置

31:運動支架

310:載物空間

311:上支撐件

312:下支撐件

313:立柱

32:載台

33:載台支撐架

331:上支撐部

332:下支撐部

333:側支撐部

34:可運動支架嚙合件

340:通道

35:載台傳動件

36:電極

360:放電區

36a:外側電極

36b:內電極

37:電極架

38:導電單元

381:第一導電部件

382:第二導電部件

3811:絕緣組件

3812:導電元件

38121:第一導電端

38122:第二導電端

38A:導電單元

381A:第一導電部件

382A:第二導電部件

3812A:導電元件

3812A:導電組件

38121A:第一導電端

38122A:第二導電端

39:連接軸

40:反應腔體

400:反應腔

401:進料口

41:殼體

411:上殼

412:下殼

413:側壁

50:運動電極裝置

51:導電板

511:導電面

60:絕緣材料

圖1是根據本發明的一較佳實施例的一鍍膜設備的示意圖。

圖2是根據本發明的一較佳實施例的一可運動支架裝置的示意圖。

圖3是根據本發明的上述較佳實施例的所述可運動支架裝置的示意圖。

圖4是根據本發明的上述較佳實施例的所述可運動支架裝置的俯視示意圖。

圖5A是根據本發明的上述較佳實施例的所述可運動支架裝置的放電示意圖。

圖5B是根據本發明的另一較佳實施例的一可運動支架裝置的放電示意圖。

圖5C是根據本發明的另一較佳實施例的一可運動支架裝置的放電示意圖。

圖5D是根據本發明的另一較佳實施例的一可運動支架裝置的放電示意圖。

圖5E是根據本發明的另一較佳實施例的一可運動支架裝置 的放電示意圖。

圖6是根據本發明的上述較佳實施例的所述鍍膜設備的電極導電示意圖。

圖7是根據本發明的上述較佳實施例的所述鍍膜設備的另一種電極導電方式示意圖。

圖8是根據本發明的上述較佳實施例的所述鍍膜設備的進料示意圖。

圖9是根據本發明的上述較佳實施例的所述鍍膜設備的應用示意圖。

以下描述用於揭露本發明以使本領域技術人員能夠實現本發明。以下描述中的優選實施例只作為舉例，本領域技術人員可以想到其他顯而易見的變型。在以下描述中界定的本發明的基本原理可以應用於其他實施方案、變形方案、改進方案、等同方案以及沒有背離本發明的精神和範圍的其他技術方案。

本領域技術人員應理解的是，在本發明的揭露中，術語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”、“豎直”、“水準”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關係是基於附圖所示的方位或位置關係，其僅是為了便於描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此上述術語不能理解為對本發明的限制。

可以理解的是，術語“一”應理解為“至少一”或“一個或多個”，即在一個實施例中，一個元件的數量可以為一個，而在另外的實施例中，該元件的數量可以為多個，術語“一”不能理解為對數量的限制。

參考附圖1至附圖4所示，是根據本發明的一較佳實施例的一可運動支架裝置30和一鍍膜設備1被分別闡明。參考附圖9，是所述鍍膜設備1的一應用示意圖。

所述鍍膜設備1能夠對於待鍍膜工件的表面進行鍍膜，鍍膜在待鍍膜工件表面能夠起到保護作用，以有利於延長待鍍膜工件的使用壽命。

所述鍍膜設備1包括一進料裝置10、一抽氣裝置20、所述可運動支架裝置30、一反應腔體40以及一運動電極裝置50，其中所述反應腔體40包括一殼體41和具有一反應腔400，其中所述殼體41圍繞形成所述反應腔400。

所述進料裝置10用於進料，比如說反應氣體，所述反應氣體直接來自於氣體源或者由液體原料汽化生成。所述進料裝置10被可連通於所述反應腔400地連接於所述殼體41。

所述抽氣裝置20用於抽氣，以保證所述反應腔400處於預期的負壓環境。所述抽氣裝置20被可連通於所述反應腔400地連接於所述殼體41。

所述可運動支架裝置30用於放置待鍍膜工件，被保持在所述可運動支架裝置30的待鍍膜工件可以在所述反應腔體40內被鍍膜。所 述可運動支架裝置30被容納於所述反應腔400並且被可轉動地連接於所述殼體41。

所述運動電極裝置50能夠放電並且相對於待鍍膜工件運動，以有利於待鍍膜工件的鍍膜效果。所述運動電極裝置50包括多個電極36，並且至少一個所述電極36與所述反應腔體40之間能夠產生相對運動。

可選地，所述反應腔體40具有一對稱結構，比如說圓柱形，以有利於反應氣體在所述反應腔400內的均勻分佈。

所述可運動支架裝置30包括一可運動支架31，其中所述可運動支架裝置30的所述可運動支架31能夠相對於所述反應腔體40運動並且待鍍膜工件能夠被保持於所述可運動支架裝置30以使得待鍍膜工件相對於所述反應腔體40運動。

所述可運動支架31可以但是並不限制於轉動的方式相對於所述反應腔體40運動，比如說轉動，往復運動，擺動等方式。

所述電極36能夠放電，比如說相對於所述反應腔體40運動的所述電極36是陰極，所述反應腔體40可以是由導電金屬製成的，以作為陽極，從而在所述反應腔400內放電。在本發明的這個實施例中，所述可運動支架31與所述電極36互為相反極，從而所述電極36能夠向所述可運動支架31放電，所述可運動支架31可以進一步地接地。

在本實施例中，所述可運動支架裝置30被可繞第一軸線A轉動地連接於所述殼體41，所述殼體41包括一上殼411、一下殼412以及一側壁413，其中所述側壁413延伸於所述上殼411和所述下殼412之間，所述上殼411、所述下殼412和所述側壁413圍繞形成所述反應腔400。所述上殼 411和所述下殼412被相對設置。

所述進料裝置10可以被連接於所述殼體41的所述上殼411、所述下殼體412或者是所述側壁413。所述抽氣裝置20可以被連接於所述殼體41的所述上殼411、所述下殼體412或者是所述側壁413。可選地，所述反應腔體40的一進料口401和一抽氣口被對稱地設置。當然，此處僅為舉例說明，本領域技術人員可以根據自己的需求設置。

可選地，所述第一軸線A是所述反應腔體40的中心軸線，所述第一軸線A也可以是所述可運動支架裝置30的中心軸線。

待鍍膜工件被佈置在所述第一軸線A周圍，並且可以跟隨所述可運動支架裝置30的轉動，以繞著所述第一軸線A轉動。在這個過程中，一方面所述可運動支架裝置30帶動了所述反應腔體40內的氣體流動，所述可運動支架裝置30本身起到了一個攪拌器的作用，有利於所述反應腔體40內的反應氣體的混合均勻。另一方面，待鍍膜工件被所述可運動支架裝置30帶動以相對於所述反應腔體40移動，增加了待鍍膜工件和所述反應腔體40的各個位置的反應氣體接觸的幾率，從而有利於最後成膜的均勻性。

值得一提的是，待鍍膜工件不僅可以繞第一軸線A轉動，還可以繞第二軸線B轉動。所述第二軸線B位於所述第一軸線A的周側，並且當所述載台32的數目是多個時，每一所述載台32對應於一個所述第二軸線B。優選地，所述第一軸線A是所述可運動支架31的中心軸線，所述第二軸線B是所述載台32的中心軸線。

可以理解的是，待鍍膜工件除了繞其中心軸自轉外，在 其他實施例中，也可以是其他方式的運動，如往復運動、橢圓周運動、球面運動、行星運動等。所述電極36相對於所述反應腔體40運動的同時，也相對於待鍍膜工件發生相對運動。

具體地說，所述可運動支架裝置30包括所述可運動支架31和至少一載台32，其中所述載台32被安裝於所述可運動支架31。所述載台32用於容納待鍍膜工件。單個所述可運動支架31可以被安裝有多個所述載台32，所述載台32可以被平鋪，也可以被重疊放置。也就是說，所述可運動支架31具有預定的高度，可以在高度方向上放置多個所述載台32，以容納較多的待鍍膜工件。

所述載台32可以跟隨所述可運動支架31以繞著所述第一軸線A轉動。所述載台32還可以繞著所述第二軸線B轉動。換句話說，所述載台32可以繞所述第一軸線A轉動，並且同時所述載台32還可以繞所述第二軸線B轉動。通過這樣的方式，一方面有利於增大所述可運動支架裝置30對於整個所述反應腔體40內的反應氣體的攪拌強度，另一方面有利於增大位於所述載台32的待鍍膜工件的各個部位和所述反應腔體40內的反應氣體的接觸幾率，以有利於待鍍膜工件的各個位置的鍍膜的均勻性。

詳細地說，所述可運動支架31包括一上支撐件311、一下支撐件312以及多個立柱313，其中所述上支撐件311的位置高於所述下支撐件312，所述上支撐件311靠近於所述殼體41的所述上殼411，所述下支撐件312靠近於所述殼體41的所述下殼412。所述立柱313分別連接於所述上支撐件311和所述下支撐件312。所述上支撐件311通過所述立柱313被支撐於所述下支撐件312。

所述可運動支架31具有至少一載物空間310，其中所述載物空間310位於所述反應腔400並且連通於所述反應腔400。所述載台32被保持於所述載物空間310的預設高度位置，並且所述載台32被可轉動地保持於所述載物空間310。

更加具體地說，所述可運動支架裝置30進一步包括一載台支撐架33，其中所述載台支撐架33被分別連接於所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312，並且所述載台支撐架33被可繞所述第二軸線B轉動地連接於所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312。所述載台支撐架33的數目可以是多個，多個所述載台支撐架33被圍繞著所述第一軸線A安裝於所述可運動支架31。

所述可運動支架裝置30的所述可運動支架31被驅動以繞所述第一軸線A轉動時，所述可運動支架裝置30的所述載台支撐架33能夠被驅動以繞所述第二軸線B轉動，從而放置於所述可運動支架裝置30的待鍍膜工件在繞所述第一軸線A轉動的同時，也在繞著所述第二軸線B轉動。

進一步地，多個所述載台32可以被設置於單個所述載台支撐架33，並且在高度方向上疊置於所述載台支撐架33。可選地，所述第二軸線B穿過單個所述載台32支撐件的每個所述載台32的中心。也就是說，所述載台32在所述反應腔400內可以繞所述第一軸線A公轉，也可以繞所述第二軸線B自轉。

可選地，所述載台32的形狀可以是圓形、三角形、矩形等形狀。當然，所述載台32也可以是不規則形狀。本領域技術人員應該理解的是，此處僅為舉例說明，並不對於本發明造成限制。

在本實施例中，所述載台支撐架33包括一上支撐部331、一下支撐部332以及一側支撐部333，其中所述上支撐部331和所述下支撐部332被相對設置，所述上支撐部331和所述下支撐部332通過所述側支撐部333連接。所述載台32被固定於所述側支撐部333，所述側支撐部333可以被設置多個所述載台32。

整個所述載台支撐架33能夠被驅動以繞著穿過所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312以及所述載台支撐架33的所述上支撐部331和所述下支撐部332的所述第二軸線B轉動。

所述載台支撐架33經過預定的設計以使得所述載台32被充分暴露在所述反應腔400，以有利於放置在所述載台32的待鍍膜工件和所述反應腔400內的反應氣體的接觸。可選地，所述載台支撐架33是一矩形結構。可選地，所述載台支撐架33是一鏤空結構。

在本實施例中，所述載台支撐架33的數目是四個，被分別佈置所述第一軸線A周圍。優選地，所述載台支撐架33被均勻地排列在所述第一軸線A的周圍。

可以理解的是，所述載台支撐架33的數目可以是一個、二個或者是更多，本領域技術人員可以根據實際需求對於所述載台支撐架33的數目合理的調整。

進一步地，所述可運動支架裝置30的所述可運動支架31繞所述第一軸線A轉動和所述載台支撐架33繞所述第二軸線B轉動能夠被聯動。

可參考附圖4，具體地說，所述可運動支架裝置30還包括 一可運動支架嚙合件34和至少一載台傳動件35，所述載台傳動件35實施為齒輪結構，所述可運動支架嚙合件34是與對應的所述載台傳動件35相嚙合的一個中間齒輪，其中所述可運動支架嚙合件34被固定安裝於所述可運動支架31，每一所述載台傳動件35可與所述可運動支架嚙合件34產生相對轉動，並且所述載台傳動件35位於所述可運動支架嚙合件34的周圍。

換句話說，所述可運動支架嚙合件34的轉動限制於所述載台傳動件35，所述載台支撐架33的轉動限制於所述可運動支架嚙合件34。所述可運動支架嚙合件34和所述載台傳動件35相互影響。而所述可運動支架嚙合件34固定於所述可運動支架31，所述可運動支架嚙合件34和所述可運動支架31能夠共同繞所述第一軸線A轉動。所述載台傳動件35固定於所述載台支撐架33，所述載台傳動件35和所述載台支撐架33能夠共同繞所述第二軸線B轉動。因此，可以通過控制所述可運動支架嚙合件34和所述載台傳動件35來控制所述可運動支架31和所述載台支撐架33的相對運動。這樣待鍍膜工件可以繞所述第一軸線A公轉，並且紅所述第二軸線B自轉，所述可運動支架裝置30的具體結構可以進一步參考ZL201611076982,8，其內容以引用方式合併在本申請中。

可選地，所述可運動支架嚙合件34和所述載台傳動件35被分別實施為一齒輪，並且所述可運動支架嚙合件34嚙合於所述載台傳動件35。通過控制所述可運動支架嚙合件34和所述載台傳動件35相關參數的大小就可以控制所述可運動支架31和所述載台支撐架33的相對運動，比如說所述可運動支架31和所述載台支撐架33的運動速率比。

值得一提的是，借助所述可運動支架嚙合件34和所述載 台傳動件35，通過驅動所述可運動支架31或者一個所述載台支撐架33就可以實現所述可運動支架31和所述載台支撐架33的同時轉動。

在本實施例中，所述可運動支架嚙合件34被實施為和所述可運動支架31相對固定，然後通過所述可運動支架嚙合件34和各個所述載台傳動件35之間的傳動關係來控制各個所述載台傳動件35的運動，比如說保持各個所述載台傳動件35運動的均衡性。

在本實施例中，所述可運動支架嚙合件34位於所述可運動支架31的所述上支撐件311的上方。所述可運動支架嚙合件34可以被支撐於所述上支撐件311。所述載台傳動件35位於所述可運動支架31的所述上支撐件311的上方。所述載台傳動件35和所述上支撐件311保持一定的距離以有利於所述載台傳動件35相對於所述上支撐件311的轉動。

進一步地，可參考附圖4和附圖5A，所述可運動支架裝置30包括多個所述電極36，其中所述電極36被設置於所述可運動支架31。所述電極36在通電後能夠在所述反應腔體40內相對於所述可運動支架31放電，以使得反應氣體在電離環境中反應然後沉積到待鍍膜工件表面以形成塗層。

換句話說，在本實施例中，所述電極36能夠和所述可運動支架31一同轉動，以使得所述電極36能夠相對於所述反應腔體40運動，以有利於待鍍膜工件鍍膜的均勻性。

具體地說，在所述鍍膜設備1使用過程中，所述反應腔體40的所述殼體41保持固定，所述可運動支架裝置30的所述可運動支架31繞所述第一軸線A轉動，位於所述可運動支架31的所述電極36和所述載台32 一同繞所述第一軸線A轉動，同時所述載台32繞所述第二軸線B轉動。也就是說，所述電極36和所述載台32之間存在相對運動。所述電極36放電以生成等離子環境，相對於被放置在所述載台32的待鍍膜工件而言，運動的所述電極36有利於為待鍍膜工件提供較為均勻的鍍膜環境。

值得注意的是，所述電極36可以被均勻地佈置所述載台32周圍，以有利於提供均勻的等離子環境。尤其是對於雙面鍍膜的待鍍膜工件而言，待鍍膜工件可以被立於所述載台32，位於所述載台32周側的一個所述電極36可以朝向待鍍膜工件的正面，位於所述載台32周側的另一個所述電極36可以朝向待鍍膜工件的背面，以有利於待鍍膜工件的雙面鍍膜均勻。

詳細地說，至少一個立柱313被佈置在所述上支撐件311和所述下支撐件312的周沿位置，所述電極36被佈置在所述立柱313，並且朝向所述可運動支架31的中間位置。

所述電極36可以是一電極板，並且被立在所述上支撐件311和所述下支撐件312之間。在本實施例中，所述電極36通過所述立柱313被保持在所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312之間。

在本實施例中，每兩個所述載台支撐架33之間被佈置有一個所述電極36。當所述載台支撐架33的數目是四個時，位於所述可運動支架31的周沿位置的所述電極36數目可以是四個。

進一步地，所述可運動支架裝置30可以包括一電極架37，所述電極架37被安裝於所述反應腔體40的所述殼體41，並且能夠相對於所述反應腔體40運動。所述電極36被佈置於所述電極架37以跟隨所述電極架 37一同運動。值得注意的是，跟隨所述電極架37運動的所述電極36不僅能夠相對於所述反應腔體40運動，還可以相對於所述待鍍膜工件運動。

值得注意的是，所述電極36可以是一負極或者是一正極，所述電極36能夠和另一導電板51配合以放電，從而提供電場。所述導電板51可以被設置於所述電極架37或者是所述反應腔室40的所述殼體41。

所述導電板51具有一導電面511，其中所述導電面511朝向所述電極36的一放電表面361。值得注意的是，所述導電面511和所述放電表面361可以是一平面，也可以是一弧面。在本實施例中，所述導電面511和所述放電表面361被分別實施為一弧面，並且在所述導電面511和所述放電表面361之間保持一定的距離形成一放電區360。可選地，所述導電面511到所述放電表面361之間的距離相同。

在本發明的這個實施例中，所述導電板51一體地設置於接地的所述可運動支架31，或者所述可運動支架31可以不具有明顯的板體，而是在對應所述電極36的位置形成與所述電極36尺寸相匹配的導電面511。所述導電板51與所述電極36是相反兩極，所述導電面511和所述放電表面361之間形成所述放電區360，所述電極36與所述可運動支架31相絕緣地組裝，如圖3中所示，通過絕緣材料60將所述電極36與所述可運動支架32相隔離。

也可以是，所述反應腔室40的所述殼體41的至少部分是可以導電的，從而在所述電極36和所述反應腔室40的所述殼體41之間放電。

在本實施例中，所述電極架37被安裝於所述可運動支架31，並且所述電極架37包括至少一個所述立柱313。或者說，所述電極架37 是所述可運動支架31的一部分，以使所述電極36直接安裝於所述可運動支架31，但與所述可運動支架32絕緣地相組裝。而在另外可能的變形實施例中，所述電極架37和所述可運動支架31可以是互相獨立的，即在本發明的另本發明的至少一個實施例，所述電極架37可以被直接安裝於所述反應腔體40的所述殼體41，並且所述電極架37可以但是並不限制於以轉動的方式被安裝於所述殼體41。

在本發明的這個實施例中，所述電極36和所述導電板51可以被安裝於所述可運動支架31，並且相互之間絕緣。所述導電板51位於所述電極36的內側，當所述電極36和所述導電板51分別被導電時，位於所述導電板51外側的所述電極36朝向所述導電板51放電。當然，本領域技術人員應當理解的是，此處的放電方式僅為舉例說明。

值得注意的是，所述電極36被佈置在相鄰的所述載台支撐架33之間，也就是相鄰的所述載台32之間，並且位於所述可運動支架31的周沿位置。當所述電極36不被佈置在所述可運動支架31時，相鄰的所述載台支撐架33之間的空間是空置的。因此所述電極36被佈置在所述可運動支架31並沒有佔據所述可運動支架31的有效空間，所述可運動支架31也不需要因為佈置所述電極36而擴大尺寸。

值得注意的是，所述電極36位於所述可運動支架31的周沿位置，可以是所述電極36被設置在所述可運動支架31的周沿位置，位於所述上支撐件311和所述下支撐件312之間，也可以是所述電極架37被設置於所述可運動支架31的周沿位置，位於所述上支撐件311和所述下支撐件312之間，所述電極36被安裝於所述電極架37，所述電極36通過所述電極架37 被佈置在所述可運動支架31的周沿位置。

在本發明的另本發明的至少一個實施例中，每一所述載台支撐架33可以對應一個所述電極36，所述電極36可以被佈置在所述載台支撐架33的外側。

在本發明的另本發明的至少一個實施例中，所述電極36可以被佈置在相鄰的所述載台支撐架33之間，並且所述電極36到所述可運動支架31中間的位置的距離小於所述可運動支架31的半徑。當然，本領域技術人員可以理解的是，所述可運動支架31的橫截面可以是一圓形、三角形或者是其他的形狀。

在本發明的另本發明的至少一個實施例中，所述電極36可以被佈置在所述載台支撐架33。也就是說，所述電極36可以在繞所述第一軸線A轉動的同時，繞所述第二軸線B轉動。

進一步地，至少部分所述電極36被佈置在所述可運動支架31的中間位置。具體地說，至少部分所述電極36被佈置在多個所述載台支撐架33之間，圍繞所述第一軸線A被佈置。也就是說，所述電極36可以被佈置在所述載台支撐架33內側，以靠近於所述第一軸線A。

一個所述立柱313或者是多個所述立柱313可以被安裝在所述上支撐件311和所述下支撐件312的中間位置，所述電極36可以被安裝于所述立柱313並位於所述上支撐件311和所述下支撐件312之間。

位於所述可運動支架31的中間位置的所述電極36數目可以是多個，比如說四個。位於所述可運動支架31的中間位置的所述電極36被相向設置，在通電後能夠在所述可運動支架31的中間位置放電。其他的所 述電極36可以被佈置在所述可運動支架31的中間位置的外側，比如說所述可運動支架31的周沿位置。

優選地，所述電極36被對稱地佈置在所述第一軸線A周圍。值得注意的是，在本實施例中，至少部分所述電極36位於內側，至少部分所述電極36位於外側，位於外側的所述電極36朝向所述可運動支架31的中間位置並且能夠朝向所述可運動支架31的中間位置放電，使得整個所述可運動支架31形成一個等離子環境。位於內側的所述電極36被稱為內側電極36b，位於外側的所述電極36被稱為外側電極36a，其中所述內電極36b相對於所述外側電極36a更加靠近於所述第一軸線A。

所述內側電極36b能夠朝向位於中間位置的所述立柱313放電，至少部分所述立柱313可以是由導電材料製成的。所述外側電極36a能夠朝向位於內側的所述導電板51放電，所述導電板51可以被絕緣地安裝於所述電極架37。也就是說，所述立柱313可以提供所述導電面511，可以被作為所述導電板51的至少部分使用以和所述電極36配合放電。

所述電極36可以是一平面的電極板，可以是鏤空的，也可以是一帶有弧度的電極板，比如說參考附圖5B所示。

舉例說明，部分所述電極36被佈置在所述可運動支架31的周沿位置，並且所述電極36的弧度可以被設置為貼合所述可運動支架31的圓周的弧度。

換句話說，所述電極36具有一放電表面361，其中所述放電表面361可以朝向所述可運動支架31的中間位置或者是其他位置。

所述放電表面361可以是一平面或一弧面，以有利於提供 均勻的電環境。

整個所述電極36也可以是一弧狀電極，比如說圓弧電極，或者是帶有波浪起伏放電表面的電極。

值得注意的是，對於所述待鍍膜工件而言，所述待鍍膜工件在隨著所述第一軸線A和所述第二軸線B轉動的過程中，有的時候能夠轉動到位於外側的所述電極36和位於內側的所述電極36之間的位置，也就是兩個相對的所述電極36的內部區域，以有利於等離子體在電場作用下較快地沉積到所述待鍍膜工件的表面。有的時候能夠轉動到位於外側的所述電極36和位於內側的所述電極36的內部區域之外的位置，以避免長時間處於相對的兩個所述電極36之間而造成對於所述待鍍膜工件表面的損失。

可以理解的是，本發明的所述反應腔體40內還可以有其他電極，其可以被固定設置在所述反應腔體40。這些電極在固定位置放電，配合本發明的可運動的所述電極36，以給所述反應腔體40內提供合適的放電環境。

值得一提的是，所述可運動支架裝置30的所述電極36能夠運動，這種運動的所述電極36不僅可以使鍍膜均勻，而且由於鍍膜原料氣體中的部分能夠穿過放電區而被充分電離，部分未穿過所述電極36和所述導電板51之間的放電區被不完全電離，這樣不用電離形態的原料可以通過鍍膜參數的調節得到更加豐富的鍍膜結構和更穩定的鍍膜品質。

所述電極36也可以根據其他的方式被佈置，比如說參考附圖5C所示，是根據本發明的上述較佳實施例的所述可運動支架裝置30的所述電極36的另一種佈置方式被闡明。

在本實施例中，至少部分所述電極36朝向所述載台32被佈置。也就是說，至少部分所述電極36的放電表面361朝向所述載台32。

所述可運動支架31具有所述載物空間310，其中一個所述載台支撐架33分隔所述載物空間310。

至少一個所述電極36被佈置在一個所述載台支撐架33對應的所述載台32的周圍，並且所述電極36被立在所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312之間。

所述電極36可以朝向所述載物空間310內的所述載台32放電。和上一實施例的不同之處在於，在上一實施例中，位於外側所述電極36都朝向所述可運動支架31的中間位置放電，整個所述可運動支架31是一個大的等離子環境。

在本實施例中，所述電極36在鄰近相對應的所述載台32處放電，不同的所述電極36鄰近不同的一個或多個所述載台32，有利於每個所述載物空間310的鍍膜均勻性的控制。

進一步地，每一個所述載台支撐架33對應於至少兩個所述電極36。優選地，所述電極36被對稱地佈置在所述第二軸線B的周圍。

具體地說，所述電極36自所述可運動支架31的周沿位置朝內延伸，圍繞在所述載台32的周圍。所述電極36和所述載台支撐架33、所述載台32分別具有一定的距離以使得所述載台支撐架33在轉動時所述電極36不會阻礙所述載台支撐架33和所述載台32的轉動。

在所述載台支撐架33和所述載台32繞所述第二軸線B轉動時，所述載台支撐架33和所述載台32相對於所述電極36運動，以有利於所 述電極36放電後生成的等離子體在所述載台32的均勻擴散。

值得注意的是，對於所述待鍍膜工件而言，所述待鍍膜工件在隨著所述第一軸線A和所述第二軸線B轉動的過程中，有的時候能夠轉動到位於所述載台32兩側的所述電極36之間的位置，也就是兩個相對的所述電極36的內部區域，以有利於等離子體在電場作用下較快地沉積到所述待鍍膜工件的表面。有的時候能夠轉動到位於所述載台32兩側的所述電極36的內部區域之外的位置，以避免長時間處於相對的兩個所述電極36之間而造成對於所述待鍍膜工件表面的損失。

進一步地，所述電極36被安裝於所述電極架37的所述立柱313，所述立柱313位於所述電極36內側，並且所述立柱313是鏤空形狀的，以有利於所述電極36的放電。

值得一提的是，在本實施例中，位於外側的所述電極36具有一定的弧度，以有利於所述電極36的放電均勻性。所述電極架37被設置為和所述電極36具有相同的弧度。

具體地說，放置在所述載台32的待鍍膜工件在繞所述第二軸線B轉動時的運動軌跡是一圓形軌跡，所述電極36被設置為圓弧電極36以使得所述電極36的放電能夠和待鍍膜工件的運動軌跡配合，以有利於為待鍍膜工件營造均勻的鍍膜環境。

優選地，待鍍膜工件的圓形軌跡的弧度和所述電極36的弧度相同，並且具有相同的圓心。

進一步地，在本實施例中，所述載台支撐架33的數目是四個，相鄰的所述載台支撐架33之間被佈置有所述電極36，並且相鄰的所 述載台支撐架33的所述電極36被安裝在同一所述電極架37部分。相鄰的所述電極36可以相互連接並且形成一個類似V形結構，並且V形開口朝外。

參考附圖5D所示，根據本發明的所述可運動支架裝置30的另一種實施方式被闡明。在本實施例中，和所述電極36被相對設置的所述導電板51被設置為朝向所述載台32。所述電極36的所述放電表面361和所述導電板51的所述導電面511形成所述放電區360，並且所述放電區360是一個三角腔室。

相鄰的所述導電板51形成一V形結構。所述電極36是電極板並且朝向構成V形結構的所述導電板51以形成一三角結構。

具體地說，所述導電板51可以被設置於所述可運動支架31並且所述導電板51被設置為接地的。相鄰的所述導電板51位於兩個所述載台32之間並且一個所述導電板51朝向一個所述載台32，相鄰的另一個所述導電板51朝向相鄰的另一個所述載台32。相鄰的兩個所述導電板51之間形成一個夾角，並且這一夾角朝向所述電極36。

所述電極36的一端靠近於一個所述載台32，所述電極36的另一端靠近於另一個所述載台32。從所述電極36的一端到另一端，所述電極36和所述導電板51之間的距離從逐漸擴大，到逐漸縮小。也就是說，對應於所述電極36的一端到另一端所述放電區360的尺寸從逐漸擴大變為逐漸縮小。

值得注意的是，所述導電板51可以被設置為平面結構的，也可以是弧面結構的。在本實施例中，所述導電板51被設置為朝向所述載台32彎曲的。

換句話說，所述電極36和所述導電板51被相對設置，由於所述電極36和所述導電板51形成三角結構，所述電極36和接地的所述導電板51之間的接地距離是變化的。當所述電極36放電時，放電可以自主選擇所述電極36和所述導電板51之間的的所述放電區360的最佳通道，整個放電過程可以更加穩定可靠。

值得一提的是，放電過程中產生的等離子體能夠被約束在所述電極36和所述導電板51形成的所述放電區360內，從而有利於改善外部均勻性。

進一步地，參考附圖5E所示，所述電極36可以被沿著所述可運動支架31的徑向方向被佈置。具體地說，所述電極36自靠近所述第一軸線A的位置朝向靠近於所述可運動支架31的周沿位置延伸。

所述電極36位於相鄰的所述載台32之間。可選地，每兩個相鄰的所述載台32之間被設置有一個所述電極36。當所述載台32的數目是四個時，所述電極36的數目也是四個。可選地，每一所述電極36的放電方向相同，比如說在俯視視角上都沿著順時針方向或者是逆時針方向。

優選地，多個所述電極36被均勻地佈置在所述第一軸線A的周圍，以有利於為每一個所述載台32的多個待鍍膜工件提供均勻的電場。

進一步地，參考附圖3和附圖6所示，是根據本發明的上述較佳實施例的所述可運動支架裝置30的一導電單元38被闡明。

所述導電單元38包括一第一導電部件381和一第二導電部件382，其中所述第一導電部件381被安裝於所述反應腔體40的所述殼體41， 所述第二導電部件382被安裝於所述可運動支架31，並且所述第二導電部件382能夠跟隨所述可運動支架31運動。

所述第一導電部件381和所述第二導電部件382可以相對移動，從而在所述可運動支架裝置30的所述可運動支架31相對於所述反應腔體40轉動時，外接的電源可以為在所述反應腔體40內的跟隨所述可運動支架31一同轉動的所述電極36供電。

在本實施例中，所述第一導電部件381被設置於所述殼體41的所述上殼411並且被支撐於所述可運動支架31的所述上支撐件311。也就是說，所述導電單元38的所述第一導電部件381位於所述上殼411和所述可運動支架31之間。所述第一導電部件381用於將所述反應腔體40外部的電力傳遞至位於所述反應腔體40內的所述可運動支架31。所述第二導電部件382被設置於所述可運動支架31，用於將來自於所述第二導電部件382的電力傳遞至被設置於所述可運動支架31的所述電極36。

具體地說，所述第一導電部件381包括一導電元件3812並且所述導電組件3812被設置有一絕緣組件3811，其中所述絕緣元件3811形成一絕緣空間並且所述導電元件3812位於所述絕緣元件3811形成所述絕緣空間。

所述導電元件3812具有一第一導電端38121和一第二導電端38122，其中所述第一導電端38121用於連接外部電源，所述第一導電端被暴露在所述絕緣空間之外。所述第二導電端38122用於導通所述第二導電元件382，所述第二導電端38122被暴露在所述絕緣空間之外。

所述第一導電部件381的所述導電元件3812的所述第二導電 端38122被可導通地連接於所述第二導電部件382，以將外部電力傳遞至所述電極36。

具體地說，在所述第二導電部件382相對於所述第一導電部件381的所述第二導電端38122移動的過程中，所述第一導電部件381的所述第二導電端被始終可導通地連接於所述第二導電部件382以保持所述電極36供電的穩定性。所述反應腔體40的所述殼體41的所述上殼411可以被開孔以使得所述第一導電部件381的所述第二導電端38122被暴露，從而所述第一導電部件381可以和外部導電。

所述第一導電部件381也可以延伸至靠近於所述殼體41的所述側壁413，然後所述殼體41的所述側壁413可以被開孔以使得所述第二導電端38122可以通過所述殼體41的所述側壁413和外部導通。

在本實施例中，所述第一導電部件381朝遠離所述可運動支架31的中心軸線的方向延伸以使得所述第一導電部件381的所述第二導電端38122位於一較遠位置。

所述第二導電部件382的至少部分位於所述可運動支架31的所述上支撐件311並且被至少部分被暴露在所述上支撐件311的頂側以導通於所述第一導電部件381。所述第二導電部件382的一端被導通於所述第一導電部件381，並且所述第二導電部件382的另一端被導通於每一所述電極36以將來自於外部的電能通過所述導電單元38傳遞至所述電極。

值得注意的是，在本實施例中，所述導電單元38被安裝於所述可運動支架31的中心軸位置，而所述可運動支架嚙合件34也位於這一位置。

所述可運動支架嚙合件34被實施為齒輪結構，並且所述可運動支架嚙合件34具有多個通道340，其中所述第一導電部件381的至少部分自上而下穿過所述可運動支架嚙合件34的通道340，以可導通地貼合於位於所述可運動支架嚙合件34下方的所述第二導電部件382的一導電墊片3821。

進一步地，在本實施例中，所述可運動支架嚙合件34的所述通道340相互獨立，互不連通，從而所述可運動支架嚙合件34的轉動被所述第一導電部件381的一導電傳遞件38126限制。

在所述可運動支架31相對於所述反應腔體40轉動時，所述可運動支架嚙合件34也可以是被限制自轉。位於所述可運動支架嚙合件34周圍的所述載台傳動件35仍然可以繞著所述可運動支架嚙合件34轉動，並且能夠在繞著所述第一軸線A轉動的同時也繞著所述第二軸線B轉動。

所述載台傳動件35的轉動受到所述可運動支架嚙合件34的限制，通過所述可運動支架嚙合件34，可以使得多個所述載台傳動件35保持均一的轉動，從而有利於鍍膜的均勻性。

值得注意的是，所述導電單元38被可拆卸地連接於所述反應腔體40的所述殼體41，以方便所述導電單元38的更換和維修。

參考附圖7所示，同時參考附圖3，是根據本發明的上述較佳實施例的所述導電單元38A的另一種實施方式被闡明。

在本實施例中，所述導電單元38A包括一第一導電部件381A和一第二導電部件382A，其中所述第一導電部件381A被設置於所述反應腔體40的所述殼體41的所述上殼411，所述第二導電部件382A被設置於所述可 運動支架31。

所述第一導電部件381A被可導通地連接於所述第二導電部件382A，並且在所述第二導電部件382A跟隨所述可運動支架31轉動時，發生相對移動的所述第一導電部件381A和所述第二導電部件382A還是可以保持導通，以使得所述反應腔體40內的所述電極36可以被持續供電。

具體地說，所述第一導電部件381A包括一導電元件3812A並且所述導電組件3812A被設置有一絕緣組件3811A，其中所述絕緣元件3811A形成一絕緣空間並且所述導電元件3812A位於所述絕緣元件3811形成所述絕緣空間。

所述導電元件3812A具有一第一導電端38121A和一第二導電端38122A，其中所述第一導電端38121A用於連接外部電源，所述第一導電端被暴露在所述絕緣空間之外。所述第二導電端38122A用於導通所述第二導電元件382A，所述第二導電端38122A被暴露在所述絕緣空間之外。

所述第一導電部件381A的所述第二導電端38122A被可導通地連接於所述第二導電部件382A，以將外部電力傳遞至所述電極36。

本實施例和上述實施例的不同之處在於，在本實施例中，所述第一導電部件381A的所述第一導電端38121A位於所述第二導電端38122A的上方。

進一步地，所述可運動支架嚙合件34具有至少一所述通道340，所述第一導電部件381A的至少部分穿過所述可運動支架嚙合件34的所述通道340導通於所述第二導電部件382A。

所述可運動支架嚙合件34可以是絕緣材料製成的。可選 地，所述第二導電部件382A位於所述可運動支架嚙合件34的下方，並且所述第二導電部件382A的至少部分可以正對於所述可運動支架嚙合件34的所述通道340，以減少第二導電部件382A和所述可運動支架嚙合件34的接觸，從而有利於減少所述可運動支架嚙合件34和所述第二導電部件382A之間的摩擦。

進一步地，參考附圖8，所述可運動支架裝置30可以包括至少一連接軸39，其中所述連接軸39可以連接於所述可運動支架31，驅動所述連接軸39就可以帶動所述可運動支架31轉動。

在本實施例，所述連接軸39的數目是二，一個所述連接軸39位於所述可運動支架31的所述上支撐件311，另一個所述連接軸39位於所述可運動支架31的所述下支撐件312。兩個所述連接軸39位於所述可運動支架31的中心軸線。

所述鍍膜設備1的所述反應腔體40具有一進料口401，其中所述進料口401可以被設置於所述反應腔體40的所述殼體41的所述上殼411的一中間位置或者是所述上殼411的預設位置，比如說圍繞所述第一軸線A對稱地設置。

位於所述中間位置的所述進料口401連通所述可運動支架裝置30內的一進料通道402，其中所述進料通道402位於所述可運動支架裝置30的一中間位置，比如說位於多個所述電極36之間，所述電極36可以被設置為部分鏤空的，以供反應氣體通過。所述連接軸39可以穿過所述導電單元38。

根據本發明的上述實施例，本發明提供了一電極放電方 法，其包括如下步驟：

在載台32繞所述第一軸線A和所述第二軸線B轉動時，被安裝於所述可運動支架31的所述電極36在所述可運動支架31繞所述第一軸線A轉動時相對於所述可運動支架放電。

可以理解提，在鍍膜工藝中，所述電極36得以朝向繞所述第一軸線A和所述第二軸線B轉動的待鍍膜工件放電，並且待鍍膜工件和所述電極36的相對運動只有待鍍膜工件繞所述第二軸線B的轉動，從而所述電極36得以向承載在所述載台32的多個待鍍膜工件產生均一的電離環境，以提高所述載台32上的多個待鍍膜工件的鍍膜均勻性。

根據本發明的本發明的至少一個實施例，被佈置在所述可運動支架31周沿位置的所述電極36朝向所述可運動支架31中間位置放電，待鍍膜工件被放置所述可運動支架31的所述上支撐件311和所述下支撐件312之間。

根據本發明的本發明的至少一個實施例，被佈置在所述可運動支架31周沿位置的所述電極36朝向待鍍膜工件放電。

根據本發明的本發明的至少一個實施例，被均勻佈置在所述可運動支架31周沿位置的多個所述電極36朝向待鍍膜工件放電。

根據本發明的另一方面，本發明提供一電極供電方法，其包括如下步驟：

傳遞外部電能自所述第一導電部件381至相對於所述第一導電部件381轉動的被導通於所述電極36的所述第二導電部件382，以傳遞電能至所述電極36。

根據本發明的本發明的至少一個實施例，所述第二導電部件382和所述電極36共同繞所述第一軸線A轉動。

根據本發明的本發明的至少一個實施例，至少一個所述電極36位於所述可運動支架31的中間位置，至少一個所述電極36位於所述可運動支架31的周沿位置。

本領域的技術人員應理解，上述描述及附圖中所示的本發明的實施例只作為舉例而並不限制本發明。本發明的優勢已經完整並有效地實現。本發明的功能及結構原理已在實施例中展示和說明，在沒有背離所述原理下，本發明的實施方式可以有任何變形或修改。

30:可運動支架裝置

31:運動支架

311:上支撐件

32:載台

34:可運動支架嚙合件

35:載台傳動件

40:反應腔體

Claims (36)

1. 一鍍膜設備，其特徵在於，包括：

   一反應腔體，其中所述反應腔體具有一反應腔；

   一抽氣裝置，其中所述抽氣裝置被可連通地連接於所述反應腔體；

   一進料裝置，其中所述反應腔體具有一進料口，所述進料口連通所述反應腔，所述進料裝置連通所述進料口；以及

   一可運動支架裝置，其中所述可運動支架裝置被容納於所述反應腔，其中所述可運動支架裝置包括至少一電極和一可運動支架，其中所述可運動支架相對於所述反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於所述可運動支架隨著所述可運動支架運動。
2. 根據請求項1所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極位於所述可運動支架的周向方向。
3. 根據請求項1所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極具有一放電表面，其中所述放電表面朝向的方向被設置為朝向所述可運動支架的中心軸線。
4. 根據請求項1所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極具有一放電表面，其中所述放電表面朝向的方向被設置為朝向該待鍍膜工件。
5. 根據請求項1所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極位於所述可運動支架的徑向方向。
6. 根據請求項1所述的鍍膜設備，其中所述鍍膜設備進一步包括設置於所述可運動支架的至少一載台，其中該待鍍膜工件適於被放置於所述載台並且所述載台被可相對於所述可運動支架具有相對運動地安裝於所述可運動支架，以使得所述電極相對於該待鍍膜工件具有相對運動。
7. 根據請求項6所述的鍍膜設備，其中至少一所述電極位於相鄰的所述載台之間。
8. 根據請求項7所述的鍍膜設備，其中位於相鄰的所述載台之間的各個所述電極朝向的方向為朝向所述載台。
9. 根據請求項8所述的鍍膜設備，其中相鄰的兩個所述電極形成一V形結構，並且V形開口朝外，其中兩個所述電極分別對應朝向相鄰的 兩個所述載台。
10. 根據請求項6所述的鍍膜設備，其中所述電極具有一放電表面，所述可運動支架被設置有與各個所述電極相對設置的至少一導電板，其中所述導電板具有一導電面，並且形成夾角的相鄰的兩個所述導電板的所述導電面和相對設置的所述電極的所述放電表面形成一個三角放電區。
11. 根據請求項6所述的鍍膜設備，其中至少一所述電極位於多個所述載台的內側，以作為至少一內側電極。
12. 根據請求項6所述的鍍膜設備，其中至少一所述電極沿著所述可運動支架的圓周方向佈置並位於相鄰的兩個所述載台之間，以作為至少一外側電極。
13. 根據請求項11所述的鍍膜設備，其中至少一所述電極沿著所述可運動支架的圓周方向佈置並位於相鄰的兩個所述載台之間，以作為至少一外側電極。
14. 根據請求項6所述的鍍膜設備，其中所述可運動支架被可繞其中心的第一軸線轉動地安裝於所述反應腔體。
15. 根據請求項8所述的鍍膜設備，其中所述載台被可繞其中心的第二軸線轉動地安裝於所述可運動支架並且所述第二軸線位於第一軸線的周側，其中所述可運動支架被可繞其中心的所述第一軸線轉動地安裝於所述反應腔體。
16. 根據請求項15所述的鍍膜設備，其中所述可運動支架裝置進一步包括一載台支撐架，其中所述載台支撐架被可繞所述第二軸線轉動地安裝於所述可運動支架，多個所述載台沿著高度方向被間隔地疊置於所述載台支撐架，其中所述電極位於相鄰的兩個所述載台支撐架之間。
17. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，進一步包括一導電單元，其中所述導電單元包括一第一導電部件和一第二導電部件，其中所述第一導電部件被設置於所述反應腔體，所述第二導電部件被設置於所述可運動支架，並且第一導電部件被可導通地連接於所述第二導電部件，所述第二導電部件被可導通地連接於所述電極，當所述可運動支架相對於所述反應腔體繞所述第一軸線轉動，相對於所述第一導電部件轉動的所述第二導電部件保持和所述第一導電部件的導通，來自所述反應腔外部的電能經過 所述第一導電部件傳遞至所述第二導電部件，然後傳遞至所述電極。
18. 根據請求項17所述的鍍膜設備，其中所述可運動支架包括一上支撐件和一下支撐件，所述上支撐件被保持於所述下支撐件上方並且形成一載物空間，所述第二導電部件位於所述上支撐件，所述第一導電部件被壓緊地支撐於所述第二導電部件。
19. 根據請求項6至15任一所述的鍍膜設備，其中各個所述載台包括一載台傳動件，所述可運動支架包括一可運動支架嚙合件，其與所述載台傳動件實施為互相嚙合並且能夠產生相對運動的齒輪。
20. 根據請求項6至15任一所述的鍍膜設備，其中各個所述電極分別是一電極板，所述可運動支架被設置有與各個所述電極相對設置的至少一導電板，並且形成夾角的相鄰的兩個所述導電板和相對設置的所述電極板形成三角結構。
21. 根據請求項14所述的鍍膜設備，其中多個所述電極呈中心對稱地佈置在所述第一軸線周圍。
22. 根據請求項3或4所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極的所述放電表面是一平面或弧面。
23. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中至少一個所述電極是一弧狀電極。
24. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中所述電極和所述可運動支架互為相反極，從而所述電極對所述可運動支架放電。
25. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中所述可運動支架接地。
26. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中所述可運動支架具有與各個所述電極尺寸相匹配的一導電面。
27. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中各個所述電極是一電極板，所述可運動支架具有與各個所述電極相對設置的一導電板。
28. 根據請求項1至16任一所述的鍍膜設備，其中所述鍍膜設備還包括一電極架，所述電極架可相對於所述反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內，所述電極安裝於所述電極架。
29. 根據請求項28所述的鍍膜設備，其中所述電極架與所述可運 動支架相互獨立。
30. 根據請求項28所述的鍍膜設備，其中所述電極架和所述可運動支架是一體結構，所述電極架是所述可運動支架的一部分。
31. 一運動電極裝置，應用於一鍍膜設備，該鍍膜設備包括一反應腔體，其特徵在於，所述運動電極裝置包括一個或多個電極，其中所述電極是運動電極，其相對於所述反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內。
32. 根據請求項31所述的運動電極裝置，其中該鍍膜設備還包括一可運動支架，所述可運動支架可相對於該反應腔體可運動地設置在所述反應腔體內，其中至少一待鍍膜工件適於被保持於該可運動支架隨著該可運動支架運動，所述電極安裝於該可運動支架。
33. 一可運動支架裝置，應用於一鍍膜設備，該鍍膜設備包括一反應腔體，其特徵在於，所述可運動支架裝置包括：

    至少一電極；

    一可運動支架，其中所述可運動支架相對於該反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架；和

    至少一載台，其中所述載台被可跟隨所述可運動支架一同運動地設置於所述可運動支架。
34. 根據請求項33所述的可運動支架裝置，其中所述可運動支架被可繞第一軸線轉動地安裝於該反應腔體，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同轉動地設置於所述可運動支架，其中所述載台被可跟隨所述可運動支架一同繞所述第一軸線轉動地設置於所述可運動支架，並且其中每一所述載台被可繞第二軸線轉動地保持於所述可運動支架。
35. 一電極放電方法，其特徵在於，包括如下步驟：

    在至少一待鍍膜工件隨著一可運動支架相對於一反應腔體運動時，相對於所述反應腔體運動的至少一電極在所述反應腔體內相對於所述可運動支架放電。
36. 根據請求項35所述的電極放電方法，其中包括步驟：使一載台繞所述可運動支架中心的第一軸線轉動並且繞所述載台中心的一第二軸線轉動，並且使所述電極繞所述第一軸線轉動。

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