JPH10317171A - 試料支持装置 - Google Patents
試料支持装置Info
- Publication number
- JPH10317171A JPH10317171A JP13193597A JP13193597A JPH10317171A JP H10317171 A JPH10317171 A JP H10317171A JP 13193597 A JP13193597 A JP 13193597A JP 13193597 A JP13193597 A JP 13193597A JP H10317171 A JPH10317171 A JP H10317171A
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- Japan
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- sample
- sample stage
- metal fitting
- pressing piece
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】試料ステージ１４Ａの試料を配置する面積を増
加させたり、或いは試料を試料ステージに着脱するのを
容易にすることにある。 【解決手段】試料ステージ１４Ａに設けた内側押金具３
０と外側押金具３１との間に複数の試料１３Ａ〜１３Ｄ
を仮固定後、外側押金具３１で各試料を内側押金具３０
方向に移動し、両押金具間に各試料１３Ａ〜１３Ｄを固
定することにある。
加させたり、或いは試料を試料ステージに着脱するのを
容易にすることにある。 【解決手段】試料ステージ１４Ａに設けた内側押金具３
０と外側押金具３１との間に複数の試料１３Ａ〜１３Ｄ
を仮固定後、外側押金具３１で各試料を内側押金具３０
方向に移動し、両押金具間に各試料１３Ａ〜１３Ｄを固
定することにある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は試料支持装置に係わ
り、特にイオンビーム加工装置の試料ホルダに取付ける
試料ステージと試料との設置構造に関する。
り、特にイオンビーム加工装置の試料ホルダに取付ける
試料ステージと試料との設置構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】イオンビーム加工装置の試料ホルダは従
来試料ステージ１個に１枚の試料を取付けていた。試料
ステージ１個に１枚の試料を取付けているため、１枚の
試料は４個所で固定手段により、試料ステージに固定さ
れていた。従来のイオンビーム加工装置として特開昭６
２−１０８４４０号公報を挙げることが出来る。また試
料支持装置として特開平６−１４５９７８号公報を挙げ
ることが出来る。
来試料ステージ１個に１枚の試料を取付けていた。試料
ステージ１個に１枚の試料を取付けているため、１枚の
試料は４個所で固定手段により、試料ステージに固定さ
れていた。従来のイオンビーム加工装置として特開昭６
２−１０８４４０号公報を挙げることが出来る。また試
料支持装置として特開平６−１４５９７８号公報を挙げ
ることが出来る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、固定す
るための余分な部分が大きくとられ、試料取付けスペー
スが非常に少なくなってしまう。又１枚１枚固定するた
めに取付けに非常に時間を要する欠点があった。
るための余分な部分が大きくとられ、試料取付けスペー
スが非常に少なくなってしまう。又１枚１枚固定するた
めに取付けに非常に時間を要する欠点があった。
【０００４】本発明の目的は、同一面積内においてより
多くの試料が取付け可能で、試料の脱着（交換）が容易
な構造を有する試料支持装置を提供することにある。
多くの試料が取付け可能で、試料の脱着（交換）が容易
な構造を有する試料支持装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の試料支持装置
は、回転可能な試料ステージに設けた内側押金具と外側
押金具との間に試料を配置し、外側押金具で試料を内側
押金具側に押圧し、両押金具間に試料を固定することに
ある。
は、回転可能な試料ステージに設けた内側押金具と外側
押金具との間に試料を配置し、外側押金具で試料を内側
押金具側に押圧し、両押金具間に試料を固定することに
ある。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１〜
図６に示すイオンビーム加工装置より説明する。図１は
本発明のイオンビーム加工装置である。図２は本発明の
イオンビーム加工装置の内部構造を示す図である。図３
は本発明の試料ステージの全体配置図を示す。図４、図
５は図３の試料ステージの平面図で、図６乃至図８は図
４の断面図である。
図６に示すイオンビーム加工装置より説明する。図１は
本発明のイオンビーム加工装置である。図２は本発明の
イオンビーム加工装置の内部構造を示す図である。図３
は本発明の試料ステージの全体配置図を示す。図４、図
５は図３の試料ステージの平面図で、図６乃至図８は図
４の断面図である。
【０００７】真空チャンバ１の上部に設けた真空ポンプ
２は主ゲート弁３を制御して真空チャンバ内を真空圧に
制御する。真空チャンバ内の一側にはフィラメント端子
４及びフィラメント５とガス供給口６を設けている。ガ
ス供給口６に連通しているボンベ７のガス例えばＡｒガ
スをイオン源アーク室８に供給し、フィラメント端子４
及びフィラメント５と真空チャンバ内との間を接続した
放電回路９で放電し、Ａｒガスをイオン化したイオンガ
スを加速電極１１で加速し、イオンビーム１２にし、こ
のイオンビーム１２を図３に示す試料１３に照射する。
加速電極１１と試料１３との間にはシャッター１２Ａを
設けている。
２は主ゲート弁３を制御して真空チャンバ内を真空圧に
制御する。真空チャンバ内の一側にはフィラメント端子
４及びフィラメント５とガス供給口６を設けている。ガ
ス供給口６に連通しているボンベ７のガス例えばＡｒガ
スをイオン源アーク室８に供給し、フィラメント端子４
及びフィラメント５と真空チャンバ内との間を接続した
放電回路９で放電し、Ａｒガスをイオン化したイオンガ
スを加速電極１１で加速し、イオンビーム１２にし、こ
のイオンビーム１２を図３に示す試料１３に照射する。
加速電極１１と試料１３との間にはシャッター１２Ａを
設けている。
【０００８】イオンビーム１２は回転している試料１３
に照射し、試料１３を試料ステージ１４に支持し、試料
１３は図４に示す内側押金具１５と外側押金具１６との
間に保持されている。内側押金具１５と外側押金具１６
とは試料ステージ１４に設けられている。試料１３を試
料ステージ１４に配置する配置方法及び両金具１５，１
６の構造については後述する。試料ステージ１４は回転
可能な試料ホルダ１７に支持されている。試料ホルダ１
７は螺合する２個の傘歯車１８，１９を介して駆動モー
タ２０に連結している。試料ホルダ１７と駆動モータ２
０との間は収納容器２１内に収まっている。駆動モータ
２０の出力軸は回転駆動機構部２２に連結している。回
転駆動機構部２２によりイオンビーム加工装置は、複数
の試料ステージがそれぞれが自転しながら試料ホルダの
軸を中心に同一円周上を公転している。回転駆動機構部
２２及び収納容器２１等は扉２３に支持されている。
に照射し、試料１３を試料ステージ１４に支持し、試料
１３は図４に示す内側押金具１５と外側押金具１６との
間に保持されている。内側押金具１５と外側押金具１６
とは試料ステージ１４に設けられている。試料１３を試
料ステージ１４に配置する配置方法及び両金具１５，１
６の構造については後述する。試料ステージ１４は回転
可能な試料ホルダ１７に支持されている。試料ホルダ１
７は螺合する２個の傘歯車１８，１９を介して駆動モー
タ２０に連結している。試料ホルダ１７と駆動モータ２
０との間は収納容器２１内に収まっている。駆動モータ
２０の出力軸は回転駆動機構部２２に連結している。回
転駆動機構部２２によりイオンビーム加工装置は、複数
の試料ステージがそれぞれが自転しながら試料ホルダの
軸を中心に同一円周上を公転している。回転駆動機構部
２２及び収納容器２１等は扉２３に支持されている。
【０００９】扉２３は図示していないヒンジを介して扉
２２を矢印方向Ｙに回動すれば、扉２２を開放し、試料
１３、試料ステージ１４、試料ホルダ１７等を外部に露
出することが出来る。尚、この図では扉２２を矢印方向
Ｙに回動すれば、収納容器２１が真空チャンバ１の一部
に当接し、外部に引き出すことは出来ない図になってい
るが、実際には真空チャンバ内で収納容器２１が当接し
ない広さを有している。
２２を矢印方向Ｙに回動すれば、扉２２を開放し、試料
１３、試料ステージ１４、試料ホルダ１７等を外部に露
出することが出来る。尚、この図では扉２２を矢印方向
Ｙに回動すれば、収納容器２１が真空チャンバ１の一部
に当接し、外部に引き出すことは出来ない図になってい
るが、実際には真空チャンバ内で収納容器２１が当接し
ない広さを有している。
【００１０】外部に露出した試料ステージ１４には図３
に示すように４個の試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄを配置
している。各試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄには４個の試
料１３Ａ〜１３Ｄを配置している。
に示すように４個の試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄを配置
している。各試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄには４個の試
料１３Ａ〜１３Ｄを配置している。
【００１１】各試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄに試料１３
Ａ〜１３Ｄを固定する場合を図４ないし図７により説明
する。各試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄは構成が同じなの
で、試料ステージ１４Ａを例にとり説明する。試料ステ
ージ１４Ａは４個の試料１３Ａ〜１３Ｄを配置し、左側
の試料１３Ａ及び１３Ｂと右側の試料１３Ｃ及び１３Ｄ
とは内側押金具３０と外側押金具３１とに支持され、両
押金具３０，３１をネジ３２により試料ステージ１４Ａ
に締め付け固定している。
Ａ〜１３Ｄを固定する場合を図４ないし図７により説明
する。各試料ステージ１４Ａ〜１４Ｄは構成が同じなの
で、試料ステージ１４Ａを例にとり説明する。試料ステ
ージ１４Ａは４個の試料１３Ａ〜１３Ｄを配置し、左側
の試料１３Ａ及び１３Ｂと右側の試料１３Ｃ及び１３Ｄ
とは内側押金具３０と外側押金具３１とに支持され、両
押金具３０，３１をネジ３２により試料ステージ１４Ａ
に締め付け固定している。
【００１２】更に詳細に図６で説明すると、内側押金具
３０にはネジ３２を固定する幅を備えた底部３０Ａは試
料ステージ１４Ａに接している。底部３０Ａの両側面は
上方に延び、途中で上端が外側押金具方向に折り曲げら
れた先端部３０Ｂを形成している。つまり先端部３０Ｂ
と試料ステージ１４Ａとの間に試料例えば１３Ｃの一方
側を挟持する。また外側押金具３１は試料ステージ１４
Ａに接する底部３１Ａを有している。底部３１Ａの内側
押金具３０と対応する側面は上方に延び、途中で内側押
金具方向に折り曲げた先端部３１Ｂを形成している。つ
まり先端部３１Ｂと試料ステージ１４Ａとの間に試料１
３Ｃの他方側を挟持する。
３０にはネジ３２を固定する幅を備えた底部３０Ａは試
料ステージ１４Ａに接している。底部３０Ａの両側面は
上方に延び、途中で上端が外側押金具方向に折り曲げら
れた先端部３０Ｂを形成している。つまり先端部３０Ｂ
と試料ステージ１４Ａとの間に試料例えば１３Ｃの一方
側を挟持する。また外側押金具３１は試料ステージ１４
Ａに接する底部３１Ａを有している。底部３１Ａの内側
押金具３０と対応する側面は上方に延び、途中で内側押
金具方向に折り曲げた先端部３１Ｂを形成している。つ
まり先端部３１Ｂと試料ステージ１４Ａとの間に試料１
３Ｃの他方側を挟持する。
【００１３】試料１３Ａ〜１３Ｄを内側押金具３０及び
外側押金具３１と試料ステージ１４Ａとの間にネジ３２
で固定する場合を図７により説明する。図７は試料１３
Ｃを試料１３Ａのように固定する場合について説明す
る。内側押金具３０のネジ穴に挿入したネジ３２を回し
て試料ステージ１４Ａに仮固定した状態で、外側押金具
３１の底部３１Ａに設けた楕円穴１３Ｅ及び試料ステー
ジ１４Ａの穴にネジ３２を挿入した状態で、外側押金具
３１で試料１３Ｃを左側に押圧すると、外側押金具３１
が楕円穴１３Ｅ、ネジ３２を介して内側押金具方向に移
動して、先端部３０Ｂと先端部３１Ｂとの間の試料ステ
ージ１４Ａ上に試料１３Ｃを挿入する。
外側押金具３１と試料ステージ１４Ａとの間にネジ３２
で固定する場合を図７により説明する。図７は試料１３
Ｃを試料１３Ａのように固定する場合について説明す
る。内側押金具３０のネジ穴に挿入したネジ３２を回し
て試料ステージ１４Ａに仮固定した状態で、外側押金具
３１の底部３１Ａに設けた楕円穴１３Ｅ及び試料ステー
ジ１４Ａの穴にネジ３２を挿入した状態で、外側押金具
３１で試料１３Ｃを左側に押圧すると、外側押金具３１
が楕円穴１３Ｅ、ネジ３２を介して内側押金具方向に移
動して、先端部３０Ｂと先端部３１Ｂとの間の試料ステ
ージ１４Ａ上に試料１３Ｃを挿入する。
【００１４】この状態で外側押金具３１を更に左側に移
動し、両押金具間に試料１３Ｃを挟持した後、ネジ３２
を締付けて外側押金具３１を試料ステージ１４Ａに固定
する。仮固定している内側押金具３０はネジ３２を締付
け、内側押金具３０を試料ステージ１４Ａに固定する。
また試料１３Ｂ，１３Ｄについても上述と同じで方法で
固定することが出来るので、説明を省略する。又内側押
金具３０に楕円穴を設けて、内側押金具３０を移動でき
るようにしても良い。
動し、両押金具間に試料１３Ｃを挟持した後、ネジ３２
を締付けて外側押金具３１を試料ステージ１４Ａに固定
する。仮固定している内側押金具３０はネジ３２を締付
け、内側押金具３０を試料ステージ１４Ａに固定する。
また試料１３Ｂ，１３Ｄについても上述と同じで方法で
固定することが出来るので、説明を省略する。又内側押
金具３０に楕円穴を設けて、内側押金具３０を移動でき
るようにしても良い。
【００１５】この実施例では内側押金具３０及び外側押
金具３１との間で試料１３Ａ〜１３Ｄを固定するように
したので、従来の試料の４辺で固定していたのに比べ
て、固定個所が少なくなつた分だけ、試料１３の配置面
積を増加することが出来るようになった。また試料１３
を外側から挿入できるので、挿入作業、固定手段の締め
付け作業等を容易に行うことができる。
金具３１との間で試料１３Ａ〜１３Ｄを固定するように
したので、従来の試料の４辺で固定していたのに比べ
て、固定個所が少なくなつた分だけ、試料１３の配置面
積を増加することが出来るようになった。また試料１３
を外側から挿入できるので、挿入作業、固定手段の締め
付け作業等を容易に行うことができる。
【００１６】更に、この実施例では試料１３Ａ〜１３Ｄ
の下側の試料ステージ１４Ａには、各試料１３Ａ〜１３
Ｄに対応するＯリング溝部３４を設けている。隣接する
Ｏリング溝部は二つのＯリング３５を埋め込むことが出
来る共通溝部３６にし、共通溝部３６に二つのＯリング
３５を埋め込み、両Ｏオリング間の共通溝部３６を仕切
板３７で仕切り、共通溝部上で隣接する試料片１３Ｃ´
と試料片１３Ｄ´とを当接している。
の下側の試料ステージ１４Ａには、各試料１３Ａ〜１３
Ｄに対応するＯリング溝部３４を設けている。隣接する
Ｏリング溝部は二つのＯリング３５を埋め込むことが出
来る共通溝部３６にし、共通溝部３６に二つのＯリング
３５を埋め込み、両Ｏオリング間の共通溝部３６を仕切
板３７で仕切り、共通溝部上で隣接する試料片１３Ｃ´
と試料片１３Ｄ´とを当接している。
【００１７】この結果、２本のＯリング溝部を独立して
設ける場合には、Ｏリング溝部とＯリング溝部との間に
試料ステージの一部を必要とすので、この分面積が本発
明の共通溝部３６に比べて広くなるが、本発明の共通溝
部３６であれば、試料ステージの一部を必要とせず、試
料ステージの面積は広くならず、試料ステージの直径を
縮小できるので、イオンビーム加工装置を小型化出来
る。又、共通溝部３６の仕切板３７上で試料片１３Ｃ´
と試料片１３Ｄ´とを当接できるので、仕切板３７は試
料片１３Ｃ´と試料片１３Ｄ´との位置合せつまり目印
として利用すことが出来る。更に一方の試料片１３Ｄ´
が仕切板３７を被うように配置すれば、例えばネジ３２
の締付力が強い場合には、仕切板３７上で試料片１３Ｃ
´と試料片１３Ｄ´との間を仕切板３７が突き抜けるお
それがあるが、一方の試料片１３Ｃ´が仕切板３７を被
うように鎖線個所３８で当接すれば、上述の欠点は除去
できる。
設ける場合には、Ｏリング溝部とＯリング溝部との間に
試料ステージの一部を必要とすので、この分面積が本発
明の共通溝部３６に比べて広くなるが、本発明の共通溝
部３６であれば、試料ステージの一部を必要とせず、試
料ステージの面積は広くならず、試料ステージの直径を
縮小できるので、イオンビーム加工装置を小型化出来
る。又、共通溝部３６の仕切板３７上で試料片１３Ｃ´
と試料片１３Ｄ´とを当接できるので、仕切板３７は試
料片１３Ｃ´と試料片１３Ｄ´との位置合せつまり目印
として利用すことが出来る。更に一方の試料片１３Ｄ´
が仕切板３７を被うように配置すれば、例えばネジ３２
の締付力が強い場合には、仕切板３７上で試料片１３Ｃ
´と試料片１３Ｄ´との間を仕切板３７が突き抜けるお
それがあるが、一方の試料片１３Ｃ´が仕切板３７を被
うように鎖線個所３８で当接すれば、上述の欠点は除去
できる。
【００１８】尚、この実施例ではイオンビーム加工装置
について述べたが、単に試料ステージに試料を支持する
基板支持装置にも使用できることは云うまでもない。試
料としては矩形形状が適している。
について述べたが、単に試料ステージに試料を支持する
基板支持装置にも使用できることは云うまでもない。試
料としては矩形形状が適している。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明の基板支持装置によ
れば、試料ステージに試料を複数枚取付けることによ
り、同一スペース内において従来より２〜４倍程度の設
置枚数を増加させることが可能となった。又本発明では
共通溝部により試料ステージの面積は広くならず、試料
ステージ及びイオンビーム加工装置を小型化出来る。
れば、試料ステージに試料を複数枚取付けることによ
り、同一スペース内において従来より２〜４倍程度の設
置枚数を増加させることが可能となった。又本発明では
共通溝部により試料ステージの面積は広くならず、試料
ステージ及びイオンビーム加工装置を小型化出来る。
【図１】本発明の実施例として示したイオンビーム加工
装置の概略図。
装置の概略図。
【図２】図１のイオンビーム加工装置の側断面図。
【図３】図１に使用した試料ホルダの平面図。
【図４】図３の試料ステージに試料を配置した平面図。
【図５】図３の試料ステージの平面図。
【図６】図４の試料ステージの側断面図。
【図７】図４の試料ステージに試料を配置した側断面
図。
図。
【図８】図４のＡ−Ａ側断面図。
１…真空チャンバ、２…加速電極、１３…試料、１４…
試料ステージ、１７…試料ホルダ、３０…内側押金具、
３１…外側押金具、３６…共通溝部、３７…仕切板。
試料ステージ、１７…試料ホルダ、３０…内側押金具、
３１…外側押金具、３６…共通溝部、３７…仕切板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関本 信也 茨城県日立市国分町一丁目１番１号 株式 会社日立製作所国分工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 試料を試料ステージに支持するものにお
いて、上記試料ステージに取付けた内側押金具と外側押
金具との間に試料を配置し、両押金具の一方側で他方の
押金具側に試料を押圧し、両金具間に試料を固定するこ
とを特徴とする試料支持装置。 - 【請求項２】 試料を試料ステージに支持するものにお
いて、上記試料ステージに取付けた内側押金具と外側押
金具との間に複数の試料を固定し、各試料の下側の試料
ステージにＯリング溝部を設け、隣接するＯリング溝部
を少なくとも二つ以上のＯリングを収納出来る共通溝部
にし、共通溝部に少なくとも二つ以上のＯリングを収納
し、両Ｏオリング間の共通溝部を仕切板で仕切り、共通
溝部上で隣接する試料片と試料片とを当接するようにし
たことを特徴とする試料支持装置。 - 【請求項３】 上記仕切板を被うように配置した一方側
試料片と他方側試料片とを共通溝部上で当接するように
したことを特徴とする請求項２記載の試料支持装置。 - 【請求項４】 上記仕切板上で一方側試料片と他方側試
料片とを当接するようにしたことを特徴とする請求項２
記載の試料支持装置。 - 【請求項５】 真空チャンバ内に導入したイオンガスを
加速電極で加速したイオンビームを回転している試料に
照射し、試料を試料ステージに支持するイオンビーム加
工装置に使用することを特徴とする請求項１乃至４のい
ずれか１に記載の試料支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13193597A JPH10317171A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 試料支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13193597A JPH10317171A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 試料支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10317171A true JPH10317171A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=15069661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13193597A Pending JPH10317171A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 試料支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10317171A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112538617A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
| US11555247B2 (en) | 2019-09-20 | 2023-01-17 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. | Coating apparatus and movable electrode arrangement, movable support arrangement, and application thereof |
-
1997
- 1997-05-22 JP JP13193597A patent/JPH10317171A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112538617A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
| CN112538617B (zh) * | 2019-09-20 | 2022-02-22 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
| US11555247B2 (en) | 2019-09-20 | 2023-01-17 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. | Coating apparatus and movable electrode arrangement, movable support arrangement, and application thereof |
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