CN112538617B - 镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一反应腔体和一可运动支架装置，其中所述反应腔体具有一反应腔，其中所述可运动支架装置被容纳于所述反应腔，其中所述可运动支架装置包括至少一电极和一可运动支架，其中所述可运动支架相对于所述反应腔体可运动，其中至少一个所述电极被可跟随所述可运动支架一同运动地设置于所述可运动支架，其中至少一待镀膜工件适于被保持于所述可运动支架随着所述可运动支架运动。

Description

镀膜设备

技术领域

本发明涉及到镀膜领域，特别涉及到镀膜设备。

背景技术

涂层能够对于材料表面进行防护，可以赋予材料良好的物理、化学耐久性。部分涂层比如说聚合物涂层具有一定的防腐蚀性能，其在电子电器、电路板等电子元器件表面形成保护膜层，可以有效地保护电路在腐蚀环境下免遭侵蚀、破坏，从而提高电子元器件的可靠性。

在镀膜过程中，需要将待镀膜工件放置在反应腔室内，然后通入反应气体。反应气体在等离子体的作用下在待镀膜工件表面进行化学气相沉积形成涂层。在这个过程中，需要持续地抽真空以使得反应材料在工件表面不断反应产生的尾气可被移出，从而维持稳定的镀膜压力条件。然而值得注意的是，反应气体通入进料口时，反应原料容易聚集在进料口附近，使得进料口气体浓度较高，而在抽气口位置则气体浓度较低，因此较容易因反应腔室内的反应气体浓度不一，造成反应腔体内不同位置的镀膜工件纳米涂层厚度不均的情况出现。目前行业内部分厂商采用转动的载物台，其中载物台用于放置待镀膜工件。载物台能够相对于反应腔室转动，以起到搅拌的作用，有利于反应气体的浓度均衡。

传统镀膜设备中，一般可根据工件是否放置于电极之间分为两种等离子体镀膜方式。一种是将镀膜工件直接放在电极板之间(电场内)，电极板由相对的两块或者多块电极被固定设置在反应腔室内，每对电极的一块电极板与高频电源相接，相对的另外一块电极板接地或者与电源的另一极相接。接通电源时，一对电极板之间产生电场并将位于其中的气体原料激活形成等离子体。一般来说，大规模工业生产装置大多采平行板电极，平行板电极放电稳定、效率高，可以获得较大面积的加工处理能力。但是，实际应用中发现，由于电极之间的等离子体能量普遍较大，直接轰击放置于其中的工件表面，容易造成工件表面的损伤。比较典型的是电子产品的屏幕，比如手机、电子手表、PAD等的屏幕往往预先经过防指纹处理，其表面具有一层很薄的防指纹涂料。这层涂料会在等离子体的轰击下发生损伤，从而导致防指纹效果的损失。

另外一种等离子体镀膜方式，是将工件放置于电极之外，被激活的反应原料(含有等离子体)通过扩散到工件表面，然后经过沉积反应形成防护涂层。由于工件不直接放在电极板之间，等离子体在离开电场区域后的运动过程中能量不断衰减，到达工件表面时等离子体的能量已经比较低，这种电极设计相对于前一种而言，对工件表面的轰击比较弱。但同时在实际应用中也发现，这种电极设置导致沉积速率较慢，一些需要高能等离子体激活的单体不能有效地被激发成等离子体状态，使其用途受到了限制。另外，市场上目前的大部分的等离子镀膜装置的，电极和反应腔室之间位置相对固定，电极的放电位置是固定的，只向反应腔室内提供固定的放电环境。并且当载物台转动时，电极的放电可能被载物台影响，转动的载物台起到了屏蔽作用，最后可能对于产品的良率造成影响。

CN206775813公开了一种带有定转电极组的等离子体引发聚合装置，该装置中固定金属直杆通过绝缘基座沿真空室轴向等间距固定连接在真空室内壁上，固定金属直杆经导线串联连接构成固定电极；转动金属直杆沿真空室轴向等间距固定连接在金属可运动支架上，构成转动电极；固定电极连接高频电源输出端，转动电极接地。工作时，开启高频电源使之连续输出高频功率，并使转动电极转动。转动电极的周期性靠近和远离固定电极，从而产生周期性燃灭的等离子体。这种装置的优势是通过接触放电，达到不需要脉冲调制即可实现周期性间隔放电的效果；在该装置中，转动电极与基材相对静止，且等离子体是通过扩散再沉积到基材表面形成聚合物涂层，不同空间位置的等离子体浓度仍然存在梯度问题。

发明内容

本发明的一目的在于提供一镀膜设备，其中所述镀膜设备的一个或多个电极能够转动，以在所述镀膜设备的反应腔中提供相对均匀的放电环境。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中所述镀膜设备的所述电极能够向位于能够转动的一可运动支架的待镀膜工件放电，即转动的所述电极向运动的待镀膜工件放电，以提高镀膜均匀性。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中相对于传统镀膜设置中固定设置的电极，本发明的所述镀膜设备的所述电极能够随着所述可运动支架一同转动，并且用于承载待镀膜工件的一载台在随着所述可运动支架转动时还绕其中轴自转，从而所述镀膜设备的所述电极与待镀膜工件之间产生的相对移动由所述载台自转引起，从而使所述电极对这些待镀膜工件提供相对均一的放电环境。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中所述镀膜设备中的待镀膜工件可通过与电极的相对运动使待镀膜工件在镀膜过程中既可以处于相对电极内部又可以远离相对电极内部区域，避免工件长时间位于电极内部区域导致工件表面损伤。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中所述镀膜设备中的待镀膜工件可通过和所述电极的相对运动使得待镀膜工件在镀膜过程中既可以处于相对的电极内部又可以远离相对的电极内部区域，避免等离子体仅依靠扩散而沉积在待镀膜工件表面导致沉积速度较慢。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中对于传统镀膜设置中固定设置在腔壁上的电极，本发明的所述镀膜设备的所述电极距离所述载台的待镀膜工件的距离更近。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中所述可运动支架装置的所述电极能够运动，这种运动电极可不仅使镀膜均匀，而且由于镀膜原料气体有的能够穿过放电区被充分电离，有的未穿过所述电极的放电区被不完全电离，这样不用电离形态的原料可以通过镀膜参数的调节得到更加丰富的镀膜结构和更稳定的镀膜质量。

本发明的另一目的在于提供一镀膜设备，其中所述电极和所述可运动支架之间的相对位置固定，所述镀膜设备的所述可运动支架能够不干扰电极的放电。

根据本发明的一方面，本发明提供了一镀膜设备，其包括：

一反应腔体，其中所述反应腔体具有一反应腔；

一抽气装置，其中所述抽气装置被可连通地连接于所述反应腔体；

一进料装置，其中所述反应腔体具有一进料口，所述进料口连通所述反应腔，所述进料装置连通所述进料口；以及

一可运动支架装置，其中所述可运动支架装置被容纳于所述反应腔，其中所述可运动支架装置包括至少一电极和一可运动支架，其中所述可运动支架相对于所述反应腔体可运动，其中至少一个所述电极被可跟随所述可运动支架一同运动地设置于所述可运动支架，其中至少一待镀膜工件适于被保持于所述可运动支架随着所述可运动支架运动。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极位于所述可运动支架的周向方向。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向所述可运动支架的中心轴线。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向该待镀膜工件。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极位于所述可运动支架的径向方向。

根据本发明的至少一个实施例，所述镀膜设备进一步包括设置于所述可运动支架的至少一载台，其中该待镀膜工件适于被放置于所述载台并且所述载台被可相对于所述可运动支架具有相对运动地安装于所述可运动支架，以使得所述电极相对于该待镀膜工件具有相对运动。

根据本发明的至少一个实施例，至少一所述电极位于相邻的所述载台之间。

根据本发明的至少一个实施例，位于相邻的所述载台之间的各个所述电极朝向的方向为朝向所述载台。

根据本发明的至少一个实施例，相邻的两个所述电极形成一V形结构，并且V形开口朝外，其中两个所述电极分别对应朝向相邻的两个所述载台。

根据本发明的至少一个实施例，所述电极具有一放电表面，所述可运动支架被设置有与各个所述电极相对设置的至少一导电板，其中所述导电板具有一导电面，并且形成夹角的相邻的两个所述导电板的所述导电面和相对设置的所述电极的所述放电表面形成一个三角放电区。

根据本发明的至少一个实施例，至少一所述电极位于多个所述载台的内侧，以作为至少一内侧电极。

根据本发明的至少一个实施例，至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

根据本发明的至少一个实施例，至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

根据本发明的至少一个实施例，所述可运动支架被可绕其中心的第一轴线转动地安装于所述反应腔体。

根据本发明的至少一个实施例，所述载台被可绕其中心的第二轴线转动地安装所述可运动支架并且所述第二轴线位于第一轴线的周侧，其中所述可运动支架被可绕其中心的所述第一轴线转动地安装于所述反应腔体。

根据本发明的至少一个实施例，所述可运动支架装置进一步包括一载台支撑架，其中所述载台支撑架被可绕所述第二轴线转动地安装于所述可运动支架，多个所述载台沿着高度方向被间隔地叠置于所述载台支撑架，其中所述电极位于相邻的两个所述载台支撑架之间。

根据本发明的至少一个实施例，所述镀膜设备进一步包括一导电单元，其中所述导电单元包括一第一导电部件和一第二导电部件，其中所述第一导电部件被设置于所述反应腔体，所述第二导电部件被设置于所述可运动支架，并且第一导电部件被可导通地连接于所述第二导电部件，所述第二导电部件被可导通地连接于所述电极，当所述可运动支架相对于所述反应腔体绕所述第一轴线转动，相对于所述第一导电部件转动的所述第二导电部件保持和所述第一导电部件的导通，来自所述反应腔外部的电能经过所述第一导电部件传递至所述第二导电部件，然后传递至所述电极。

根据本发明的至少一个实施例，所述可运动支架包括一上支撑件和一下支撑件，所述上支撑件被保持于所述下支撑件上方并且形成一载物空间，所述第二导电部件位于所述上支撑件，所述第一导电部件被压紧地支撑于所述第二导电部件。

根据本发明的至少一个实施例，各个所述载台包括一载台传动件，所述可运动支架包括一可运动支架啮合件，其与所述载台传动件实施为互相啮合并且能够产生相对运动的齿轮。

根据本发明的至少一个实施例，各个所述电极分别是一电极板，所述可运动支架被设置有与各个所述电极相对设置的至少一导电板，并且形成夹角的相邻的两个所述导电板和相对设置的所述电极板形成三角结构。

根据本发明的至少一个实施例，多个所述电极呈中心对称地布置在所述第一轴线周围。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极的所述放电表面是一平面或弧面。

根据本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极是一弧状电极。

根据本发明的至少一个实施例，所述电极和所述可运动支架互为相反极，从而所述电极对所述可运动支架放电。

根据本发明的至少一个实施例，所述可运动支架接地。

根据本发明的至少一个实施例，所述可运动支架具有与各个所述电极尺寸相匹配的一导电面。

根据本发明的至少一个实施例，各个所述电极是一电极板，所述可运动支架具有与各个所述电极相对设置的一导电板。

根据本发明的至少一个实施例，所述镀膜设备还包括一电极架，所述电极架可相对于所述反应腔体可运动地设置在所述反应腔体内，所述电极安装于所述电极架。

根据本发明的至少一个实施例，所述电极架与所述可运动支架相互独立。

根据本发明的至少一个实施例，所述电极架和所述可运动支架是一体结构，所述电极架是所述可运动支架的一部分。

附图说明

图1是根据本发明的一较佳实施例的一镀膜设备的示意图。

图2是根据本发明的一较佳实施例的一可运动支架装置的示意图。

图3是根据本发明的上述较佳实施例的所述可运动支架装置的示意图。

图4是根据本发明的上述较佳实施例的所述可运动支架装置的俯视示意图。

图5A是根据本发明的上述较佳实施例的所述可运动支架装置的放电示意图。

图5B是根据本发明的另一较佳实施例的一可运动支架装置的放电示意图。

图5C是根据本发明的另一较佳实施例的一可运动支架装置的放电示意图。

图5D是根据本发明的另一较佳实施例的一可运动支架装置的放电示意图。

图5E是根据本发明的另一较佳实施例的一可运动支架装置的放电示意图。

图6是根据本发明的上述较佳实施例的所述镀膜设备的电极导电示意图。

图7是根据本发明的上述较佳实施例的所述镀膜设备的另一种电极导电方式示意图。

图8是根据本发明的上述较佳实施例的所述镀膜设备的进料示意图。

图9是根据本发明的上述较佳实施例的所述镀膜设备的应用示意图。

具体实施方式

以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。

本领域技术人员应理解的是，在本发明的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本发明的限制。

可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。

参考附图1至附图4所示，是根据本发明的一较佳实施例的一可运动支架装置30和一镀膜设备1被分别阐明。参考附图9，是所述镀膜设备1的一应用示意图。

所述镀膜设备1能够对于待镀膜工件的表面进行镀膜，镀膜在待镀膜工件表面能够起到保护作用，以有利于延长待镀膜工件的使用寿命

所述镀膜设备1包括一进料装置10、一抽气装置20、所述可运动支架装置30、一反应腔体40以及一运动电极装置50，其中所述反应腔体40包括一壳体41和具有一反应腔400，其中所述壳体41围绕形成所述反应腔400。

所述进料装置10用于进料，比如说反应气体，所述反应气体直接来自于气体源或者由液体原料汽化生成。所述进料装置10被可连通于所述反应腔400地连接于所述壳体41。

所述抽气装置20用于抽气，以保证所述反应腔400处于预期的负压环境。所述抽气装置20被可连通于所述反应腔400地连接于所述壳体41。

所述可运动支架装置30用于放置待镀膜工件，被保持在所述可运动支架装置30的待镀膜工件可以在所述反应腔体40内被镀膜。所述可运动支架装置30被容纳于所述反应腔400并且被可转动地连接于所述壳体41。

所述运动电极装置50能够放电并且相对于待镀膜工件运动，以有利于待镀膜工件的镀膜效果。所述运动电极装置50包括多个电极36，并且至少一个所述电极36与所述反应腔体40之间能够产生相对运动。

可选地，所述反应腔体40具有一对称结构，比如说圆柱形，以有利于反应气体在所述反应腔400内的均匀分布。

所述可运动支架装置30包括一可运动支架31，其中所述可运动支架装置30的所述可运动支架31能够相对于所述反应腔体40运动并且待镀膜工件能够被保持于所述可运动支架装置30以使得待镀膜工件相对于所述反应腔体40运动。

所述可运动支架31可以但是并不限制于转动的方式相对于所述反应腔体40运动，比如说转动，往复运动，摆动等方式。

所述电极36能够放电，比如说相对于所述反应腔体40运动的所述电极36是阴极，所述反应腔体40可以是由导电金属制成的，以作为阳极，从而在所述反应腔400内放电。在本发明的这个实施例中，所述可运动支架31与所述电极36互为相反极，从而所述电极36能够向所述可运动支架31放电，所述可运动支架31可以进一步地接地。

在本实施例中，所述可运动支架装置30被可绕第一轴线A转动地连接于所述壳体41，所述壳体41包括一上壳411、一下壳412以及一侧壁413，其中所述侧壁413延伸于所述上壳411和所述下壳412之间，所述上壳411、所述下壳412和所述侧壁413围绕形成所述反应腔400。所述上壳411和所述下壳412被相对设置。

所述进料装置10可以被连接于所述壳体41的所述上壳411、所述下壳体412或者是所述侧壁413。所述抽气装置20可以被连接于所述壳体41的所述上壳411、所述下壳体412或者是所述侧壁413。可选地，所述反应腔体40的一进料口401和一抽气口被对称地设置。当然，此处仅为举例说明，本领域技术人员可以根据自己的需求设置。

可选地，所述第一轴线A是所述反应腔体40的中心轴线，所述第一轴线A也可以是所述可运动支架装置30的中心轴线。

待镀膜工件被布置在所述第一轴线A周围，并且可以跟随所述可运动支架装置30的转动，以绕着所述第一轴线A转动。在这个过程中，一方面所述可运动支架装置30带动了所述反应腔体40内的气体流动，所述可运动支架装置30本身起到了一个搅拌器的作用，有利于所述反应腔体40内的反应气体的混合均匀。另一方面，待镀膜工件被所述可运动支架装置30带动以相对于所述反应腔体40移动，增加了待镀膜工件和所述反应腔体40的各个位置的反应气体接触的几率，从而有利于最后成膜的均匀性。

值得一提的是，待镀膜工件不仅可以绕第一轴线A转动，还可以绕第二轴线B转动。所述第二轴线B位于所述第一轴线A的周侧，并且当所述载台32的数目是多个时，每一所述载台32对应于一个所述第二轴线B。优选地，所述第一轴线A是所述可运动支架31的中心轴线，所述第二轴线B是所述载台32的中心轴线。

可以理解的是，待镀膜工件除了绕其中心轴自转外，在其他实施例中，也可以是其他方式的运动，如往复运动、椭圆周运动、球面运动、行星运动等。所述电极36相对于所述反应腔体40运动的同时，也相对于待镀膜工件发生相对运动。

具体地说，所述可运动支架装置30包括所述可运动支架31和至少一载台32，其中所述载台32被安装于所述可运动支架31。所述载台32用于容纳待镀膜工件。单个所述可运动支架31可以被安装有多个所述载台32，所述载台32可以被平铺，也可以被重叠放置。也就是说，所述可运动支架31具有预定的高度，可以在高度方向上放置多个所述载台32，以容纳较多的待镀膜工件。

所述载台32可以跟随所述可运动支架31以绕着所述第一轴线A转动。所述载台32还可以绕着所述第二轴线B转动。换句话说，所述载台32可以绕所述第一轴线A转动，并且同时所述载台32还可以绕所述第二轴线B转动。通过这样的方式，一方面有利于增大所述可运动支架31装置30对于整个所述反应腔体40内的反应气体的搅拌强度，另一方面有利于增大位于所述载台32的待镀膜工件的各个部位和所述反应腔体40内的反应气体的接触几率，以有利于待镀膜工件的各个位置的镀膜的均匀性。

详细地说，所述可运动支架31包括一上支撑件311、一下支撑件312以及多个立柱313，其中所述上支撑件311的位置高于所述下支撑件312，所述上支撑件311靠近于所述壳体41的所述上壳411，所述下支撑件312靠近于所述壳体41的所述下壳412。所述立柱313分别连接于所述上支撑件311和所述下支撑件312。所述上支撑件311通过所述立柱313被支撑于所述下支撑件312。

所述可运动支架31具有至少一载物空间310，其中所述载物空间310位于所述反应腔400并且连通于所述反应腔400。所述载台32被保持于所述载物空间310的预设高度位置，并且所述载台32被可转动地保持于所述载物空间310。

更加具体地说，所述可运动支架装置30进一步包括一载台支撑架33，其中所述载台支撑架33被分别连接于所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312，并且所述载台支撑架33被可绕所述第二轴线B转动地连接于所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312。所述载台支撑架33的数目可以是多个，多个所述载台支撑架33被围绕着所述第一轴线A安装于所述可运动支架31。

所述可运动支架装置30的所述可运动支架31被驱动以绕所述第一轴线A转动时，所述可运动支架装置30的所述载台支撑架33能够被驱动以绕所述第二轴线B转动，从而放置于所述可运动支架装置30的待镀膜工件在绕所述第一轴线A转动的同时，也在绕着所述第二轴线B转动。

进一步地，多个所述载台32可以被设置于单个所述载台支撑架33，并且在高度方向上叠置于所述载台支撑架33。可选地，所述第二轴线B穿过单个所述载台32支撑件的每个所述载台32的中心。也就是说，所述载台32在所述反应腔400内可以绕所述第一轴线A公转，也可以绕所述第二轴线B自转。

可选地，所述载台32的形状可以是圆形、三角形、矩形等形状。当然，所述载台32也可以是不规则形状。本领域技术人员应该理解的是，此处仅为举例说明，并不对于本发明造成限制。

在本实施例中，所述载台支撑架33包括一上支撑部331、一下支撑部332以及一侧支撑部333，其中所述上支撑部331和所述下支撑部332被相对设置，所述上支撑部331和所述下支撑部332通过所述侧支撑部333连接。所述载台32被固定于所述侧支撑部333，所述侧支撑部333可以被设置多个所述载台32。

整个所述载台支撑架33能够被驱动以绕着穿过所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312以及所述载台支撑架33的所述上支撑部331和所述下支撑部332的所述第二轴线B转动。

所述载台支撑架33经过预定的设计以使得所述载台32被充分暴露在所述反应腔400，以有利于放置在所述载台32的待镀膜工件和所述反应腔400内的反应气体的接触。可选地，所述载台支撑架33是一矩形结构。可选地，所述载台支撑架33是一镂空结构。

在本实施例中，所述载台支撑架33的数目是四个，被分别布置所述第一轴线A周围。优选地，所述载台支撑架33被均匀地排列在所述第一轴线A的周围。

可以理解的是，所述载台支撑架33的数目可以是一个、二个或者是更多，本领域技术人员可以根据实际需求对于所述载台支撑架33的数目合理的调整。

进一步地，所述可运动支架装置30的所述可运动支架31绕所述第一轴线A转动和所述载台支撑架33绕所述第二轴线B转动能够被联动。

可参考附图4，具体地说，所述可运动支架装置30还包括一可运动支架啮合件34和至少一载台传动件35，所述载台传动件35实施为齿轮结构，所述可运动支架啮合件34是与对应的所述载台传动件35相啮合的一个中间齿轮，其中所述可运动支架啮合件34被固定安装于所述可运动支架31，每一所述载台传动件35载台传动件35可与所述可运动支架啮合件34产生相对转动，并载台传动件35所述载台传动件35位于所述可运动支架啮合件34的周围。

换句话说，所述可运动支架啮合件34的转动限制于所述载台传动件35，所述载台支撑架33转动件的转动限制于所述可运动支架啮合件34。所述可运动支架啮合件34和所述载台传动件35相互影响。而所述可运动支架啮合件34固定于所述可运动支架31，所述可运动支架啮合件34和所述可运动支架31能够共同绕所述第一轴线A转动。所述载台传动件35固定于所述载台支撑架33，所述载台传动件35和所述载台支撑架33能够共同绕所述第二轴线B转动。因此，可以通过控制所述可运动支架啮合件34和所述载台传动件35来控制所述可运动支架31和所述载台支撑架33的相对运动。这样待镀膜工件可以绕所述第一轴线A公转，并且红所述第二轴线B自转，所述可运动支架装置30的具体结构可以进一步参考ZL201611076982,8，其内容以引用方式合并在本申请中。

可选地，所述可运动支架啮合件34和所述载台传动件35被分别实施为一齿轮，并且所述可运动支架啮合件34啮合于所述载台传动件35。通过控制所述可运动支架啮合件34和所述载台传动件35相关参数的大小就可以控制所述可运动支架31和所述载台支撑架33的相对运动，比如说所述可运动支架31和所述载台支撑架33的运动速率比。

值得一提的是，借助所述可运动支架啮合件34和所述载台传动件35，通过驱动所述可运动支架31或者一个所述载台支撑架33就可以实现所述可运动支架31和所述载台支撑架33的同时转动。

在本实施例中，所述可运动支架啮合件34被实施为和所述可运动支架31相对固定，然后通过所述可运动支架啮合件34和各个所述载台传动件35之间的传动关系来控制各个所述载台传动件35的运动，比如说保持各个所述载台传动件35运动的均衡性。

在本实施例中，所述可运动支架啮合件34位于所述可运动支架31的所述上支撑件311的上方。所述可运动支架啮合件34可以被支撑于所述上支撑件311。所述载台传动件35位于所述可运动支架31的所述上支撑件311的上方。所述载台传动件35和所述上支撑件311保持一定的距离以有利于所述载台传动件35相对于所述上支撑件311的转动。

进一步地，可参考附图4和附图5A，所述可运动支架装置30包括多个所述电极36，其中所述电极36被设置于所述可运动支架31。所述电极36在通电后能够在所述反应腔体40内相对于所述可运动支架31放电，以使得反应气体在电离环境中反应然后沉积到待镀膜工件表面以形成涂层。

换句话说，在本实施例中，所述电极36能够和所述可运动支架31一同转动，以使得所述电极36能够相对于所述反应腔体40运动，以有利于待镀膜工件镀膜的均匀性。

具体地说，在所述镀膜设备1使用过程中，所述反应腔体40的所述壳体41保持固定，所述可运动支架装置30的所述可运动支架31绕所述第一轴线A转动，位于所述可运动支架31的所述电极36和所述载台32一同绕所述第一轴线A转动，同时所述载台32绕所述第二轴线B转动。也就是说，所述电极36和所述载台32之间存在相对运动。所述电极36放电以生成等离子环境，相对于被放置在所述载台32的待镀膜工件而言，运动的所述电极36有利于为待镀膜工件提供较为均匀的镀膜环境。

值得注意的是，所述电极36可以被均匀地布置所述载台32周围，以有利于提供均匀的等离子环境。尤其是对于双面镀膜的待镀膜工件而言，待镀膜工件可以被立于所述载台32，位于所述载台32周侧的一个所述电极36可以朝向待镀膜工件的正面，位于所述载台32周侧的另一个所述电极36可以朝向待镀膜工件的背面，以有利于待镀膜工件的双面镀膜均匀。

详细地说，至少一个立柱313被布置在所述上支撑件311和所述下支撑件312的周沿位置，所述电极36被布置在所述立柱313，并且朝向所述可运动支架31的中间位置。

所述电极36可以是一电极板，并且被立在所述上支撑件311和所述下支撑件312之间。在本实施例中，所述电极36通过所述立柱313被保持在所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312之间。

在本实施例中，每两个所述载台支撑架33之间被布置有一个所述电极36。当所述载台支撑架33的数目是四个时，位于所述可运动支架31的周沿位置的所述电极36数目可以是四个。

进一步地，所述可运动支架装置30可以包括一电极架37，所述电极架37被安装于所述反应腔体40的所述壳体41，并且能够相对于所述反应腔体40运动。所述电极36被布置于所述电极架37以跟随所述电极架37一同运动。值得注意的是，跟随所述电极架37运动的所述电极36不仅能够相对于所述反应腔体40运动，还可以相对于所述待镀膜工件运动。

值得注意的是，所述电极36可以是一负极或者是一正极，所述电极36能够和另一导电板51配合以放电，从而提供电场。所述导电板51可以被设置于所述电极架37或者是所述反应腔室40的所述壳体41。

所述导电板51具有一导电面511，其中所述导电面511朝向所述电极36的一放电表面361。值得注意的是，所述导电面511和所述放电表面361可以是一平面，也可以是一弧面。在本实施例中，所述导电面511和所述放电表面361被分别实施为一弧面，并且在所述导电面511和所述放电表面361之间保持一定的距离形成一放电区360。可选地，所述导电面511到到所述放电表面361之间的距离相同。

在本发明的这个实施例中，所述导电板51一体地设置于接地的所述可运动支架31，或者所述可运动支架31可以不具有明显的板体，而是在对应所述电极36的位置形成与所述电极36尺寸相匹配的导电面511。

也可以是，所述反应腔室40的所述壳体41的至少部分是可以导电的，从而在所述电极36和所述反应腔室40的所述壳体41之间放电。

在本实施例中，所述电极架37被安装于所述可运动支架31，并且所述电极架37包括至少一个所述立柱313。或者说，所述电极架37是所述可运动支架31的一部分，以使所述电极36直接安装于所述可运动支架31。而在另外可能的变形实施例中，所述电极架37和所述可运动支架31可以是互相独立的，即在本发明的另本发明的至少一个实施例，所述电极架37可以被直接安装于所述反应腔体40的所述壳体41，并且所述电极架37可以但是并不限制于以转动的方式被安装于所述壳体41。

在本发明的这个实施例中，所述电极36和所述导电板51可以被安装于所述可运动支架31，并且相互之间绝缘。所述导电板51位于所述电极36的内侧，当所述电极36和所述导电板51分别被导电时，位于所述导电板51外侧的所述电极36朝向所述导电板51放电。当然，本领域技术人员应当理解的是，此处的放电方式仅为举例说明。

值得注意的是，所述电极36被布置在相邻的所述载台支撑架33之间，也就是相邻的所述载台32之间，并且位于所述可运动支架31的周沿位置。当所述电极36不被布置在所述可运动支架31时，相邻的所述载台支撑架33之间的空间是空置的。因此所述电极36被布置在所述可运动支架31并没有占据所述可运动支架31的有效空间，所述可运动支架31也不需要因为布置所述电极36而扩大尺寸。

值得注意的是，所述电极36位于所述可运动支架31的周沿位置，可以是所述电极36被设置在所述可运动支架31的周沿位置，位于所述上支撑件311和所述下支撑件312之间，也可以是所述电极架37被设置于所述可运动支架31的周沿位置，位于所述上支撑件311和所述下支撑件312之间，所述电极36被安装于所述电极架37，所述电极36通过所述电极架37被布置在所述可运动支架31的周沿位置。

在本发明的另本发明的至少一个实施例中，每一所述载台支撑架33可以对应一个所述电极36，所述电极36可以被布置在所述载台支撑架33的外侧。

在本发明的另本发明的至少一个实施例中，所述电极36可以被布置在相邻的所述载台支撑架33之间，并且所述电极36到所述可运动支架31中间的位置的距离小于所述可运动支架31的半径。当然，本领域技术人员可以理解的是，所述可运动支架31的横截面可以是一圆形、三角形或者是其他的形状。

在本发明的另本发明的至少一个实施例中，所述电极36可以被布置在所述载台支撑架33。也就是说，所述电极36可以在绕所述第一轴线A转动的同时，绕所述第二轴线B转动。

进一步地，至少部分所述电极36被布置在所述可运动支架31的中间位置。具体地说，至少部分所述电极36被布置在多个所述载台支撑架33之间，围绕所述第一轴线A被布置。也就是说，所述电极36可以被布置在所述载台支撑架33内侧，以靠近于所述第一轴线A。

一个所述立柱313或者是多个所述立柱313可以被安装在所述上支撑件311和所述下支撑件312的中间位置，所述电极36可以被安装于所述立柱313并位于所述上支撑件311和所述下支撑件312之间。

位于所述可运动支架31的中间位置的所述电极36数目可以是多个，比如说四个。位于所述可运动支架31的中间位置的所述电极36被相向设置，在通电后能够在所述可运动支架31的中间位置放电。其他的所述电极36可以被布置在所述可运动支架31的中间位置的外侧，比如说所述可运动支架31的周沿位置。

优选地，所述电极36被对称地布置在所述第一轴线A周围。值得注意的是，在本实施例中，至少部分所述电极36位于内侧，至少部分所述电极36位于外侧，位于外侧的所述电极36朝向所述可运动支架31的中间位置并且能够朝向所述可运动支架31的中间位置放电，使得整个所述可运动支架31形成一个等离子环境。位于内侧的所述电极36被称为内侧电极36b，位于外侧的所述电极36被称为外侧电极36a，其中所述内电极36b相对于所述外侧电极36a更加靠近于所述第一轴线A。

所述内侧电极36b能够朝向位于中间位置的所述立柱313放电，至少部分所述立柱313可以是由导电材料制成的。所述外侧电极36a能够朝向位于内侧的所述导电板51放电，所述导电板51可以被绝缘地安装于所述电极架37。也就是说，所述立柱313可以提供所述导电面511，可以被作为所述导电板51的至少部分使用以和所述电极36配合放电。

所述电极36可以是一平面的电极板，可以是镂空的，也可以是一带有弧度的电极板，比如说参考附图5B所示。

举例说明，部分所述电极36被布置在所述可运动支架31的周沿位置，并且所述电极36的弧度可以被设置为贴合所述可运动支架31的圆周的弧度。

换句话说，所述电极36具有一放电表面361，其中所述放电表面361可以朝向所述可运动支架31的中间位置或者是其他位置。

所述放电表面361可以是一平面或一弧面，以有利于提供均匀的电环境。

整个所述电极36也可以是一弧状电极，比如说圆弧电极，或者是带有波浪起伏放电表面的电极。

值得注意的是，对于所述待镀膜工件而言，所述待镀膜工件在随着所述第一轴线A和所述第二轴线B转动的过程中，有的时候能够转动到位于外侧的所述电极36和位于内侧的所述电极36之间的位置，也就是两个相对的所述电极36的内部区域，以有利于等离子体在电场作用下较快地沉积到所述待镀膜工件的表面。有的时候能够转动到位于外侧的所述电极36和位于内侧的所述电极36的内部区域之外的位置，以避免长时间处于相对的两个所述电极36之间而造成对于所述待镀膜工件表面的损失。

可以理解的是，本发明的所述反应腔体40内还可以有其他电极，其可以被固定设置在所述反应腔体40。这些电极在固定位置放电，配合本发明的可运动的所述电极36，以给所述反应腔体40内提供合适的放电环境。

值得一提的是，所述可运动支架装置30的所述电极36能够运动，这种运动的所述电极36不仅可以使镀膜均匀，而且由于镀膜原料气体中的部分能够穿过放电区而被充分电离，部分未穿过所述电极36和所述导电板51之间的放电区被不完全电离，这样不用电离形态的原料可以通过镀膜参数的调节得到更加丰富的镀膜结构和更稳定的镀膜质量。

所述电极36也可以根据其他的方式被布置，比如说参考附图5C所示，是根据本发明的上述较佳实施例的所述可运动支架装置30的所述电极36的另一种布置方式被阐明。

在本实施例中，至少部分所述电极36朝向所述载台32被布置。也就是说，至少部分所述电极36的放电表面361朝向所述载台32。

所述可运动支架31具有所述载物空间310，其中一个所述载台支撑架33分隔所述载物空间310。

至少一个所述电极36被布置在一个所述载台支撑架33对应的所述载台32的周围，并且所述电极36被立在所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312之间。

所述电极36可以朝向所述载物空间310内的所述载台32放电。和上一实施例的不同之处在于，在上一实施例中，位于外侧所述电极36都朝向所述可运动支架31的中间位置放电，整个所述可运动支架31是一个大的等离子环境。

在本实施例中，所述电极36在邻近相对应的所述载台32处放电，不同的所述电极36邻近不同的一个或多个所述载台32，有利于每个所述载物空间310的镀膜均匀性的控制。

进一步地，每一个所述载台支撑架33对应于至少两个所述电极36。优选地，所述电极36被对称地布置在所述第二轴线B的周围。

具体地说，所述电极36自所述可运动支架31的周沿位置朝内延伸，围绕在所述载台32的周围。所述电极36和所述载台支撑架33、所述载台32分别具有一定的距离以使得所述载台支撑架33在转动时所述电极36不会阻碍所述载台支撑架33和所述载台32的转动。

在所述载台支撑架33和所述载台32绕所述第二轴线B转动时，所述载台支撑架33和所述载台32相对于所述电极36运动，以有利于所述电极36放电后生成的等离子体在所述载台32的均匀扩散。

值得注意的是，对于所述待镀膜工件而言，所述待镀膜工件在随着所述第一轴线A和所述第二轴线B转动的过程中，有的时候能够转动到位于所述载台32两侧的所述电极36之间的位置，也就是两个相对的所述电极36的内部区域，以有利于等离子体在电场作用下较快地沉积到所述待镀膜工件的表面。有的时候能够转动到位于所述载台32两侧的所述电极36的内部区域之外的位置，以避免长时间处于相对的两个所述电极36之间而造成对于所述待镀膜工件表面的损失。

进一步地，所述电极36被安装于所述电极架37的所述立柱313，所述立柱313位于所述电极36内侧，并且所述立柱313是镂空形状的，以有利于所述电极36的放电。

值得一提的是，在本实施例中，位于外侧的所述电极36具有一定的弧度，以有利于所述电极36的放电均匀性。所述电极架37被设置为和所述电极36具有相同的弧度。

具体地说，放置在所述载台32的待镀膜工件在绕所述第二轴线B转动时的运动轨迹是一圆形轨迹，所述电极36被设置为圆弧电极36以使得所述电极36的放电能够和待镀膜工件的运动轨迹配合，以有利于为待镀膜工件营造均匀的镀膜环境。

优选地，待镀膜工件的圆形轨迹的弧度和所述电极36的弧度相同，并且具有相同的圆心。

进一步地，在本实施例中，所述载台支撑架33的数目是四个，相邻的所述载台支撑架33之间被布置有所述电极36，并且相邻的所述载台支撑架33的所述电极36被安装在同一所述电极架37部分。相邻的所述电极36可以相互连接并且形成一个类似V形结构，并且V形开口朝外。

参考附图5D所示，根据本发明的所述可运动支架装置30的另一种实施方式被阐明。在本实施例中，和所述电极36被相对设置的所述导电板51被设置为朝向所述载台32。所述电极36的所述放电表面361和所述导电板51的所述导电面511形成所述放电区360，并且所述放电区360是一个三角腔室。

相邻的所述导电板51形成一V形结构。所述电极36是电极板并且朝向构成V形结构的所述导电板51以形成一三角结构。

具体地说，所述导电板51可以被设置于所述可运动支架31并且所述导电板51被设置为接地的。相邻的所述导电板51位于两个所述载台32之间并且一个所述导电板51朝向一个所述载台32，相邻的另一个所述导电板51朝向相邻的另一个所述载台32。相邻的两个所述导电板51之间形成一个夹角，并且这一夹角朝向所述电极36。

所述电极36的一端靠近于一个所述载台32，所述电极35的另一端靠近于另一个所述载台32。从所述电极36的一端到另一端，所述电极36和所述导电板51之间的距离从逐渐扩大，到逐渐缩小。也就是说，对应于所述电极36的一端到另一端所述放电区360的尺寸从逐渐扩大变为逐渐缩小。

值得注意的是，所述导电板51可以被设置为平面结构的，也可以是弧面结构的。在本实施例中，所述导电板51被设置为朝向所述载台32弯曲的。

换句话说，所述电极36和所述导电板51被相对设置，由于所述电极36和所述导电板51形成三角结构，所述电极36和接地的所述导电板51之间的接地距离是变化的。当所述电极36放电时，放电可以自主选择所述电极36和所述导电板51之间的的所述放电区360的最佳通道，整个放电过程可以更加稳定可靠。

值得一提的是，放电过程中产生的等离子体能够被约束在所述电极36和所述导电板51形成的所述放电区360内，从而有利于改善外部均匀性。

进一步地，参考附图5E所示，所述电极36可以被沿着所述可运动支架31的径向方向被布置。具体地说，所述电极36自靠近所述第一轴线A的位置朝向靠近于所述可运动支架31的周沿位置延伸。

所述电极36位于相邻的所述载台32之间。可选地，每两个相邻的所述载台32之间被设置有一个所述电极36。当所述载台32的数目是四个时，所述电极36的数目也是四个。可选地，每一所述电极36的放电方向相同，比如说在俯视视角上都沿着顺时针方向或者是逆时针方向。

优选地，多个所述电极36被均匀地布置在所述第一轴线A的周围，以有利于为每一个所述载台32的多个待镀膜工件提供均匀的电场。

进一步地，参考附图3和附图6所示，是根据本发明的上述较佳实施例的所述可运动支架装置30的一导电单元38被阐明。

所述导电单元38包括一第一导电部件381和一第二导电部件382，其中所述第一导电部件381被安装于所述反应腔体40的所述壳体41，所述第二导电部件382被安装于所述可运动支架31，并且所述第二导电部件382能够跟随所述可运动支架31运动。

所述第一导电部件381和所述第二导电部件382可以相对移动，从而在所述可运动支架装置30的所述可运动支架31相对于所述反应腔体40转动时，外接的电源可以为在所述反应腔体40内的跟随所述可运动支架31一同转动的所述电极36供电。

在本实施例中，所述第一导电部件381被设置于所述壳体41的所述上壳411并且被支撑于所述可运动支架31的所述上支撑件311。也就是说，所述导电单元38的所述第一导电部件381位于所述上壳411和所述可运动支架31之间。所述第一导电部件381用于将所述反应腔体40外部的电力传递至位于所述反应腔体40内的所述可运动支架31。所述第二导电部件382被设置于所述可运动支架31，用于将来自于所述第二导电部件382的电力传递至被设置于所述可运动支架31的所述电极36。

具体地说，所述第一导电部件381包括一导电组件3812并且所述导电组件3812被设置有一绝缘组件3811，其中所述绝缘组件3811形成一绝缘空间并且所述导电组件3812位于所述绝缘组件3811形成所述绝缘空间。

所述导电组件3812具有一第一导电端38121和一第二导电端38122，其中所述第一导电端38121用于连接外部电源，所述第一导电端被暴露在所述绝缘空间之外。所述第二导电端38122用于导通所述第二导电组件382，所述第二导电端38122被暴露在所述绝缘空间之外。

所述第一导电部件381的所述导电组件3812的所述第二导电端38122被可导通地连接于所述第二导电部件382，以将外部电力传递至所述电极36。

具体地说，在所述第二导电部件382相对于所述第一导电部件381的所述第二导电端38122移动的过程中，所述第一导电部件381的所述第二导电端被始终可导通地连接于所述第二导电部件382以保持所述电极36供电的稳定性。所述反应腔体40的所述壳体41的所述上壳411可以被开孔以使得所述第一导电部件381的所述第二导电端38122被暴露，从而所述第一导电部件381可以和外部导电。

所述第一导电部件381也可以延伸至靠近于所述壳体41的所述侧壁413，然后所述壳体41的所述侧壁413可以被开孔以使得所述第二导电端38122可以通过所述壳体41的所述侧壁413和外部导通。

在本实施例中，所述第一导电部件381朝远离所述可运动支架31的中心轴线的方向延伸以使得所述第一导电部件381的所述第二导电端3812位于一较远位置。

所述第二导电部件382的至少部分位于所述可运动支架31的所述上支撑件311并且被至少部分被暴露在所述上支撑件311的顶侧以导通于所述第一导电部件381。所述第二导电部件382的一端被导通于所述第一导电部件381，并且所述第二导电部件382的另一端被导通于每一所述电极36以将来自于外部的电能通过所述导电单元38传递至所述电极。

值得注意的是，在本实施例中，所述导电单元38被安装于所述可运动支架31的中心轴位置，而所述可运动支架啮合件34也位于这一位置。

所述可运动支架啮合件34被实施为齿轮结构，并且所述可运动支架啮合件34具有多个通道340，其中所述第一导电部件381的至少部分自上而下穿过所述可运动支架啮合件34的通道340，以可导通地贴合于位于所述可运动支架啮合件34下方的所述第二导电部件382的所述导电垫片3821。

进一步地，在本实施例中，所述可运动支架啮合件34的所述通道340相互独立，互不连通，从而所述可运动支架啮合件34的转动被所述第一导电部件381的所述导电传递件38126限制。

在所述可运动支架31相对于所述反应腔体40转动时，所述可运动支架啮合件34也可以是被限制自转。位于所述可运动支架啮合件34周围的所述载台传动件35仍然可以绕着所述可运动支架啮合件34转动，并且能够在绕着所述第一轴线A转动的同时也绕着所述第二轴线B转动。

所述载台传动件35的转动受到所述可运动支架啮合件34的限制，通过所述可运动支架啮合件34，可以使得多个所述载台传动件35保持均一的转动，从而有利于镀膜的均匀性。

值得注意的是，所述导电单元38被可拆卸地连接于所述反应腔体40的所述壳体41，以方便所述导电单元38的更换和维修。

参考附图7所示，同时参考附图3，是根据本发明的上述较佳实施例的所述导电单元38A的另一种实施方式被阐明。

在本实施例中，所述导电单元38A包括一第一导电部件381A和一第二导电部件382A，其中所述第一导电部件381A被设置于所述反应腔体40的所述壳体41的所述上壳411，所述第二导电部件382A被设置于所述可运动支架31。

所述第一导电部件381A被可导通地连接于所述第二导电部件382A，并且在所述第二导电部件382A跟随所述可运动支架31转动时，发生相对移动的所述第一导电部件381A和所述第二导电部件382A还是可以保持导通，以使得所述反应腔体40内的所述电极36可以被持续供电。

具体地说，所述第一导电部件381A包括一导电组件3812A并且所述导电组件3812A被设置有一绝缘组件3811A，其中所述绝缘组件3811A形成一绝缘空间并且所述导电组件3812A位于所述绝缘组件3811形成所述绝缘空间。

所述导电组件3812A具有一第一导电端38121A和一第二导电端38122A，其中所述第一导电端38121A用于连接外部电源，所述第一导电端被暴露在所述绝缘空间之外。所述第二导电端38122A用于导通所述第二导电组件382A，所述第二导电端38122A被暴露在所述绝缘空间之外。

所述第一导电部件381A的所述第二导电端38122A被可导通地连接于所述第二导电部件382A，以将外部电力传递至所述电极36。

本实施例和上述实施例的不同之处在于，在本实施例中，所述第一导电部件381A的所述第一导电端38121A位于所述第二导电端38122A的上方。

进一步地，所述可运动支架啮合件34具有至少一所述通道340，所述第一导电部件381A的至少部分穿过所述可运动支架啮合件34的所述通道340导通于所述第二导电部件382A。

所述可运动支架啮合件34可以是绝缘材料制成的。可选地，所述第二导电部件382A位于所述可运动支架啮合件34的下方，并且所述第二导电部件382A的至少部分可以正对于所述可运动支架啮合件34的所述通道340，以减少第二导电部件382A和所述可运动支架啮合件34的接触，从而有利于减少所述可运动支架啮合件34和所述第二导电部件382A之间的摩擦。

进一步地，参考附图8，所述可运动支架装置30可以包括至少一连接轴39，其中所述连接轴39可以连接于所述可运动支架31，驱动所述连接轴39就可以带动所述可运动支架31转动。

在本实施例，所述连接轴39的数目是二，一个所述连接轴39位于所述可运动支架31的所述上支撑件311，另一个所述连接轴39位于所述可运动支架31的所述下支撑件312。两个所述连接轴39位于所述可运动支架31的中心轴线。

所述镀膜设备1的所述反应腔体40具有一进料口401，其中所述进料口401可以被设置于所述反应腔体40的所述壳体41的所述上壳411的一中间位置或者是所述上壳411的预设位置，比如说围绕所述第一轴线A对称地设置。

位于所述中间位置的所述进料口401连通所述可运动支架装置30内的一进料通道402，其中所述进料通道402位于所述可运动支架装置30的一中间位置，比如说位于多个所述电极36之间，所述电极36可以被设置为部分镂空的，以供反应气体通过。所述连接轴39可以穿过所述导电单元38。

根据本发明的上述实施例，本发明提供了一电极放电方法，其包括如下步骤：

在载台32绕所述第一轴线A和所述第二轴线B转动时，被安装于所述可运动支架31的所述电极36在所述可运动支架31绕所述第一轴线A转动时相对于所述可运动支架放电。

可以理解提，在镀膜工艺中，所述电极36得以朝向绕所述第一轴线A和所述第二轴线B转动的待镀膜工件放电，并且待镀膜工件和所述电极36的相对运动只有待镀膜工件绕所述第二轴线B的转动，从而所述电极36得以向承载在所述载台32的多个待镀膜工件产生均一的电离环境，以提高所述载台32上的多个待镀膜工件的镀膜均匀性。

根据本发明的本发明的至少一个实施例，被布置在所述可运动支架31周沿位置的所述电极36朝向所述可运动支架31中间位置放电，待镀膜工件被放置所述可运动支架31的所述上支撑件311和所述下支撑件312之间。

根据本发明的本发明的至少一个实施例，被布置在所述可运动支架31周沿位置的所述电极36朝向待镀膜工件放电。

根据本发明的本发明的至少一个实施例，被均匀布置在所述可运动支架31周沿位置的多个所述电极36朝向待镀膜工件放电。

根据本发明的另一方面，本发明提供一电极供电方法，其包括如下步骤：

传递外部电能自所述第一导电部件381至相对于所述第一导电部件381转动的被导通于所述电极36的所述第二导电部件382，以传递电能至所述电极36。

根据本发明的本发明的至少一个实施例，所述第二导电部件382和所述电极36共同绕所述第一轴线A转动。

根据本发明的本发明的至少一个实施例，至少一个所述电极36位于所述可运动支架31的中间位置，至少一个所述电极36位于所述可运动支架31的周沿位置。

本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本发明的实施例只作为举例而并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本发明的实施方式可以有任何变形或修改。

Claims (30)

1.一镀膜设备，其特征在于，包括：

一反应腔体，其中所述反应腔体具有一反应腔；

一抽气装置，其中所述抽气装置被可连通地连接于所述反应腔体；

一进料装置，其中所述反应腔体具有一进料口，所述进料口连通所述反应腔，所述进料装置连通所述进料口；以及

一可运动支架装置，其中所述可运动支架装置被容纳于所述反应腔，其中所述可运动支架装置包括至少一电极和一可运动支架，其中所述可运动支架被可绕第一轴线转动地安装于所述反应腔体，所述第一轴线为所述可运动支架的中心轴线，其中至少一个所述电极被布置在所述第一轴线周围，被可跟随所述可运动支架一同绕所述第一轴线转动地设置于所述可运动支架，其中至少一待镀膜工件适于被保持于所述可运动支架，布置在所述第一轴线周围，随着所述可运动支架的转动绕所述第一轴线转动。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极位于所述可运动支架的周向方向。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向所述可运动支架的中心轴线。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极具有一放电表面，其中所述放电表面朝向的方向被设置为朝向该待镀膜工件。

5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极位于所述可运动支架的径向方向。

6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其中所述镀膜设备进一步包括设置于所述可运动支架的至少一载台，其中该待镀膜工件适于被放置于所述载台并且所述载台被可相对于所述可运动支架具有相对运动地安装于所述可运动支架，以使得所述电极相对于该待镀膜工件具有相对运动。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极位于相邻的所述载台之间。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其中位于相邻的所述载台之间的各个所述电极朝向的方向为朝向所述载台。

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其中相邻的两个所述电极形成一V形结构，并且V形开口朝外，其中两个所述电极分别对应朝向相邻的两个所述载台。

10.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中所述电极具有一放电表面，所述可运动支架被设置有与各个所述电极相对设置的至少一导电板，其中所述导电板具有一导电面，并且形成夹角的相邻的两个所述导电板的所述导电面和相对设置的所述电极的所述放电表面形成一个三角放电区。

11.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极位于多个所述载台的内侧，以作为至少一内侧电极。

12.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

13.根据权利要求11所述的镀膜设备，其中至少一所述电极沿着所述可运动支架的圆周方向布置并位于相邻的两个所述载台之间，以作为至少一外侧电极。

14.根据权利要求6所述的镀膜设备，其中所述可运动支架被可绕其中心的第一轴线转动地安装于所述反应腔体。

15.根据权利要求8所述的镀膜设备，其中所述载台被可绕其中心的第二轴线转动地安装所述可运动支架并且所述第二轴线位于第一轴线的周侧，其中所述可运动支架被可绕其中心的所述第一轴线转动地安装于所述反应腔体。

16.根据权利要求15所述的镀膜设备，其中所述可运动支架装置进一步包括一载台支撑架，其中所述载台支撑架被可绕所述第二轴线转动地安装于所述可运动支架，多个所述载台沿着高度方向被间隔地叠置于所述载台支撑架，其中所述电极位于相邻的两个所述载台支撑架之间。

17.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，进一步包括一导电单元，其中所述导电单元包括一第一导电部件和一第二导电部件，其中所述第一导电部件被设置于所述反应腔体，所述第二导电部件被设置于所述可运动支架，并且第一导电部件被可导通地连接于所述第二导电部件，所述第二导电部件被可导通地连接于所述电极，当所述可运动支架相对于所述反应腔体绕所述第一轴线转动，相对于所述第一导电部件转动的所述第二导电部件保持和所述第一导电部件的导通，来自所述反应腔外部的电能经过所述第一导电部件传递至所述第二导电部件，然后传递至所述电极。

18.根据权利要求17所述的镀膜设备，其中所述可运动支架包括一上支撑件和一下支撑件，所述上支撑件被保持于所述下支撑件上方并且形成一载物空间，所述第二导电部件位于所述上支撑件，所述第一导电部件被压紧地支撑于所述第二导电部件。

19.根据权利要求6至15任一所述的镀膜设备，其中各个所述载台包括一载台传动件，所述可运动支架包括一可运动支架啮合件，其与所述载台传动件实施为互相啮合并且能够产生相对运动的齿轮。

20.根据权利要求6至15任一所述的镀膜设备，其中各个所述电极分别是一电极板，所述可运动支架被设置有与各个所述电极相对设置的至少一导电板，并且形成夹角的相邻的两个所述导电板和相对设置的所述电极板形成三角结构。

21.根据权利要求14所述的镀膜设备，其中多个所述电极呈中心对称地布置在所述第一轴线周围。

22.根据权利要求3或4所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极的所述放电表面是一平面或弧面。

23.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中至少一个所述电极是一弧状电极。

24.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中所述电极和所述可运动支架互为相反极，从而所述电极对所述可运动支架放电。

25.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中所述可运动支架接地。

26.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中所述可运动支架具有与各个所述电极尺寸相匹配的一导电面。

27.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中各个所述电极是一电极板，所述可运动支架具有与各个所述电极相对设置的一导电板。

28.根据权利要求1至16任一所述的镀膜设备，其中所述镀膜设备还包括一电极架，所述电极架可相对于所述反应腔体可运动地设置在所述反应腔体内，所述电极安装于所述电极架。

29.根据权利要求28所述的镀膜设备，其中所述电极架与所述可运动支架相互独立。

30.根据权利要求28所述的镀膜设备，其中所述电极架和所述可运动支架是一体结构，所述电极架是所述可运动支架的一部分。

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