TW202103808A - 多層薄膜的製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種多層薄膜的製造方法，其係包含「於長條狀之基材薄膜塗布塗布液之工序」之多層薄膜的製造方法，其中在塗布工序中，基材薄膜係沿由包含具有曲面之支撐體的支撐裝置之曲面所規範的搬運路徑搬運，支撐體係自曲面噴出氣體而以非接觸狀態支撐所要搬運之基材薄膜的部件，支撐體自搬運路徑之上游起依序包含第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部，塗布液之塗布係藉由在基材薄膜之正面透過與第2支撐部對向設置的塗布裝置設置塗布液之層體來進行，氣體自曲面的噴出為F2＜F1＜F3（F1為自第1支撐部噴出之氣體的流量，F2為自第2支撐部噴出之氣體的流量，F3為自第3支撐部噴出之氣體的流量）。

Description

多層薄膜的製造方法
本發明係關於多層薄膜的製造方法。
設置有包含功能性材料之層體的多層薄膜，得藉由一邊以背托輥支撐長條狀之基材薄膜，一邊塗布包含功能性材料的塗布液來製造。在此種多層薄膜的製造中，於使用與基材薄膜之非塗布面接觸來支撐之背托輥的情況下，有時會有配置在附著於背托輥的灰塵等異物之上的基材薄膜因局部膨起而產生點狀之塗布不均的情形。並且，在塗布液所排出至的部分，基材薄膜有時會因排出之塗布液而貼壓於背托輥，產生強摩擦力而發生速度不均，產生塗布厚度的不均或皺褶等。
已研究一邊懸浮搬運基材薄膜，一邊塗布塗布液的方法來作為解決此種問題者（參照例如專利文獻1）。
『專利文獻』 《專利文獻1》日本專利公開第H5-7816號公報
基材薄膜的懸浮搬運，得藉由自表面噴出氣體而以非接觸狀態支撐基材薄膜的支撐裝置來進行。在出自此種支撐裝置的氣體之噴出量於基材薄膜之搬運方向上為均勻的情況下，於甫塗布完塗布液的基材薄膜，會在基材薄膜的重量加上塗布液的重量。是故，可知帶有塗布液之層體之基材薄膜的懸浮量，會較塗布塗布液之前的基材薄膜有所變化，懸浮量會變得不均勻，其結果，會有基材薄膜與支撐裝置接觸而產生損傷之虞。
並且，可知在出自支撐裝置的氣體之噴出量於基材薄膜之搬運方向上為均勻的情況下，於塗布塗布液的部分會因氣體變得難以逸散以致基材薄膜的懸浮量容易變得較其他部分還大，因而基材薄膜之懸浮狀態變得不穩定，可能產生會在基材薄膜之幅寬方向上產生之厚度大的條紋（橫紋）。
由於有時點狀之不均、皺褶、橫紋等表面狀態不良或者損傷存在於薄膜即會對功能性材料之功能造成負面影響，故要將產生表面狀態不良或損傷的部分自薄膜去除。因此，要求抑制表面狀態不良或損傷之產生的薄膜的製造方法。
本發明係鑑於上述問題而首創者，其目的在於提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生並具有包含功能性材料之塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
本發明人等為能解決前述問題而潛心研究的結果，發現在包含將塗布液塗布於基材薄膜之塗布工序之多層薄膜的製造方法中，透過「具有噴出氣體之曲面且在塗布液之塗布前、塗布中及塗布後之出自該曲面的氣體之流量滿足指定關係」的支撐體來以非接觸狀態支撐並搬運基材薄膜，藉此得解決上述問題，進而完成本發明。
亦即，本發明包含下述內容。
［1］一種多層薄膜的製造方法，其係包含「於具有正面及背面之長條狀之基材薄膜的正面塗布包含功能性材料之塗布液的塗布工序」之多層薄膜的製造方法，其中 在前述塗布工序中，前述基材薄膜係沿由包含具有曲面之支撐體的支撐裝置之前述曲面所規範的搬運路徑搬運， 前述支撐體係自前述曲面噴出氣體而以非接觸狀態自前述背面側支撐所要搬運之前述基材薄膜的部件， 前述支撐體自前述搬運路徑之上游起依序包含第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部， 前述塗布液的塗布係藉由在前述基材薄膜之前述正面透過與前述支撐體之前述第2支撐部對向設置的塗布裝置設置前述塗布液之層體來進行， 前述氣體自前述曲面的噴出滿足下述式（1）： F2＜F1＜F3　　　（1） 式中，F1為自前述第1支撐部噴出之氣體的流量， F2為自前述第2支撐部噴出之氣體的流量， F3為自前述第3支撐部噴出之氣體的流量。
［2］如［1］所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述第2支撐部包含了在與所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向平行之方向上的邊緣部及中央部， 自前述邊緣部噴出之氣體的流量F2s較自前述中央部噴出之氣體的流量F2c還要大。
［3］如［2］所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述第2支撐部之前述邊緣部設置於對應較所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向邊緣部更內側的位置， 前述第2支撐部更包含對應較所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向邊緣部更外側的外側邊緣部， 自前述外側邊緣部噴出之氣體的流量F2os較自前述邊緣部噴出之氣體的流量F2s還要大。
［4］如［1］～［3］之任1項所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述支撐裝置包含對前述支撐體供應前述氣體的多個供應管， 前述多個供應管分別具有調整對前述支撐體之前述氣體之供應量的調整閥， 在前述塗布工序中，包含藉由前述調整閥來將前述氣體自前述曲面的噴出調整成滿足前述式（1）一事。
［5］如［1］～［4］之任1項所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述支撐體包含多孔質部件。
［6］如［5］所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的孔徑在前述搬運路徑中相異。
［7］如［5］或［6］所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的孔徑在前述基材薄膜之幅寬方向上相異。
［8］如［5］～［7］之任1項所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的平均孔徑為0.1 μm～30 μm。
［9］如［1］～［8］之任1項所記載之多層薄膜的製造方法，其中前述塗布裝置係模塗機。
根據本發明，可提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生並具有包含功能性材料之塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
在以下說明中，所謂「長條狀」之薄膜，係謂相對於幅寬具有5倍以上之長度的薄膜，以具有10倍或其以上之長度為佳，具體上係具有可收捲成卷狀儲存或搬運之程度之長度的薄膜。長條狀之薄膜的長度之上限並無特別限制，得定為例如相對於幅寬為10萬倍以下。
在本發明中，所謂長條狀之薄膜的幅寬方向，係謂相對於薄膜之搬運方向為垂直之方向且平行於薄膜之面的方向。所謂薄膜的搬運方向，係由支撐裝置所支撐之長條狀之薄膜搬運的方向，通常與長條狀之薄膜的長邊方向平行。
在以下說明中，所謂元件的方向為「平行」及「垂直」，除非另有註記，否則在不損及本發明之效果的範圍內，亦可包含例如±4°──以±3°為佳，以±1°為較佳──之範圍內的誤差。
在以下說明中，所謂「斜向」表示對內筒部件之長邊方向既不平行（相對於長邊方向夾角度0°的方向）亦不垂直（相對於長邊方向夾角度90°的方向）的方向。
［本發明之多層薄膜的製造方法之概要］
本發明之多層薄膜的製造方法，包含了於具有正面及背面之長條狀之基材薄膜的正面塗布包含功能性材料之塗布液的塗布工序。在塗布工序中，基材薄膜係沿由包含具有曲面之支撐體的支撐裝置之曲面所規範的搬運路徑搬運。支撐體係自曲面噴出氣體而在以接觸狀態自背面側支撐所要搬運之基材薄膜的部件，並自搬運路徑之上游起依序包含第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部。塗布液的塗布係藉由在基材薄膜之正面透過與支撐體之第2支撐部對向設置的塗布裝置設置塗布液之層體來進行。氣體自曲面的噴出滿足下述式（1）。 F2＜F1＜F3　　　（1） （式中，F1為自第1支撐部噴出之氣體的流量，F2為自第2支撐部噴出之氣體的流量，F3為自第3支撐部噴出之氣體的流量。）
［實施型態1］
以下參照圖1～3，同時說明本發明相關之實施型態1之多層薄膜的製造方法。圖1係繪示本實施型態相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的前視示意圖。圖2係自側視方向繪示支撐裝置的立體示意圖。圖3係繪示在圖1之Y1―Y1線上之剖面的剖面示意圖。圖1圖示有自所要搬運之基材薄膜的幅寬方向觀察到的支撐裝置，在本申請案中將此種觀察方向規範為前視方向。
本實施型態之多層薄膜的製造方法包含了於具有正面及背面之長條狀之基材薄膜的正面塗布包含功能性材料之塗布液的塗布工序。
在塗布工序中，基材薄膜11，如圖1所示，係沿由具有曲面110T之支撐體110之曲面110T所規範的搬運路徑搬運。在圖1中，A1表示搬運方向。
自順出裝置（並未圖示）順出的基材薄膜11，一邊與支撐體110之曲面110T保持非接觸狀態，一邊沿前述曲面110T朝A1所示之方向搬運，當抵達塗布裝置160之正下方時，塗布液即塗布於基材薄膜11的正面11A。於塗布有塗布液之基材薄膜11的正面11A會形成包含塗布液之層體12，並沿曲面110搬運至圖式下方。
基材薄膜11在進行利用塗布裝置160之塗布前（較塗布裝置160還要位於搬運路徑之上游），係因自支撐體110之第1支撐部110A噴出的氣體而以與支撐體110為非接觸狀態受到支撐。基材薄膜11在進行利用塗布裝置160之塗布時（位於塗布裝置160之正下方及其附近），係因自支撐體110之第2支撐部110B噴出的氣體而以非接觸狀態受到支撐。基材薄膜11在利用塗布裝置160之塗布後（較塗布裝置160還要位於搬運路徑之下游），係因自支撐體110之第3支撐部110C噴出的氣體而以非接觸狀態受到支撐。在塗布工序中，氣體自支撐體110之曲面110T的噴出，係以滿足式（1）的方式進行。 F2＜F1＜F3　　　（1）
式（1）中，F1為自第1支撐部噴出之氣體的流量，F2為自第2支撐部噴出之氣體的流量，F3為自第3支撐部噴出之氣體的流量。換言之，在塗布工序中，係以自第2支撐部110B噴出之氣體的流量F2、自第1支撐部110A噴出之氣體的流量F1、自第3支撐部110C噴出之氣體的流量F3依序變大的方式進行氣體自曲面的噴出。
以下進一步具體說明本實施型態之製造方法。
［基材薄膜］
在本實施型態中所使用之基材薄膜11，係具有正面11A及背面11B的長條狀之薄膜。
作為基材薄膜，可舉出例如：由熱塑性樹脂而成的薄膜。熱塑性樹脂包含聚合物。作為該聚合物，可列舉：含脂環結構聚合物、聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、丙烯酸聚合物、甲基丙烯酸聚合物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、三乙酸纖維素、聚氯乙烯、聚醯亞胺、聚苯硫醚、聚四氟乙烯、聚醚醚酮、聚醚碸、聚芳醯胺及此等之組合。此等之中，就定向限制力高、透明性、低吸濕性、尺寸穩定性及輕量性優異的觀點而言，以含脂環結構聚合物為佳。作為含脂環結構聚合物，以降𦯉烯系聚合物為較佳。
作為基材薄膜，得使用已於塗布液之塗布之前進行過指定處理者。舉例而言，在使用包含具有聚合性之液晶化合物的塗布液作為塗布液之情況下，為了促進聚合性液晶化合物的定向，以使用經施加用以賦予定向限制力之處理者作為基材薄膜為佳。所謂定向限制力，係謂可使液晶組成物所包含之聚合性液晶化合物等液晶化合物定向之「面的性質」。作為用以對支撐面賦予定向限制力的處理，可列舉例如：定向膜形成處理、光定向處理、摩擦處理、離子束定向處理、延伸處理等。
［塗布液］
塗布液包含功能性材料。舉例而言，塗布液得包含具有聚合性的液晶性化合物、聚合起始劑、交聯劑、單體、抗氧化劑、界面活性劑等功能性材料。並且，塗布液得包含有機溶劑、水等溶劑。塗布液可為於分散介質中分散有功能性材料的分散液，亦可為膠體狀溶液。
［塗布裝置］
塗布裝置係將塗布液塗布於基材薄膜11的裝置。作為塗布裝置，可列舉：模塗機、輪轉凹版塗布機等。此等之中以模塗機為佳。於本實施型態中，說明使用模塗機作為塗布裝置160之例。
塗布裝置160（模塗機）與擠製塗布液的擠製裝置連結。模塗機具備與支撐體110之第2支撐部110B對向的唇，自形成於唇前端的排出口161排出塗布液，於所要搬運之基材薄膜11的正面11A連續塗布塗布液。藉此，於基材薄膜11之正面11A形成塗布液之層體12。
［支撐裝置］
在塗布工序中支撐基材薄膜11的支撐裝置100包含具有曲面110T的支撐體110。並且，在本實施型態中，支撐裝置100包含對支撐體110供應氣體的供應管151A、151B（151B1～151B5）、151C（多個供應管）。
［支撐體］
支撐體110係自曲面110T噴出氣體而以非接觸狀態自背面11B側支撐所要搬運之基材薄膜11的部件。支撐體110係於圓筒狀之部件之上重疊有正面視角下為C字形之部件的形狀（參照圖1）。如圖2所示，支撐體110之長邊方向（X1方向）的長度較基材薄膜11之幅寬尺寸還要長，基材薄膜11之幅寬尺寸與C字形之部件之長邊方向的長度幾乎相同。C字形之部件的上側面係支撐體110的曲面110T，該曲面110T的形狀，如圖1所示，係圓弧狀。由支撐體之曲面110T規範基材薄膜11的搬運路徑。
支撐體110的圍包角以80°以上為佳，以120°以上為較佳，且以250°以下為佳，以240°以下為較佳。在本實施型態中，所謂圍包角，意謂在描繪與曲面11A相同曲線的圓中，基材薄膜11與曲面110A之間隔呈1 mm以下之部分的角度。在圖1中，110P係圓（描繪與曲面110A相同曲線的圓）的中心。
支撐體110自搬運路徑之上游起依序包含第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C。如圖1所示，第2支撐部110B設置於與塗布裝置160對向的位置。第1支撐部110A設置於較塗布裝置160還要位於搬運路徑之上游的位置，第3支撐部110C設置於較塗布裝置160還要位於搬運路徑之下游的位置。在本實施型態中，第2支撐部110B係支撐體曲面之「塗布裝置之正下方的部分及自該塗布裝置之正下方之部分沿搬運方向（支撐體曲面）±25 mm的部分」，但本發明並不受限於此。舉例而言，亦可為支撐體曲面之「塗布裝置之正下方的部分及自該塗布裝置之正下方之部分沿搬運方向±60 mm的部分或±40 mm的部分」。
第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C係由分隔牆112A、112B所分隔。於第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C分別連結供應管151A、151B、151C。供應管151A、151B、151C分別以其內腔連通至第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C各自之內部的空隙之方式設置。藉由此種構造，變得可自支撐體110之外部中介供應管151A、151B、151C對第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C獨立供應氣體。供應管151A、151B、151C分別具有調整對第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C之氣體之供應量的調整閥150A、150B、150C。於本實施型態，在塗布工序中包含藉由調整閥150A、150B、150C來將氣體自曲面110T的噴出調整成滿足上述式（1）一事。在圖1中，分別以1A、1B、1C之箭號來表示氣體自第1支撐部110A、第2支撐部110B、第3支撐部110C噴出的狀況。
在本實施型態中，第2支撐部110B，如圖3所示，包含了在與所要搬運之基材薄膜11之幅寬方向平行之方向（X1方向）上的邊緣部110S1及110S2與中央部110BC。第2支撐部110B的邊緣部110S1及110S2，分別設置於對應較基材薄膜11之幅寬方向邊緣部11S1、11S2更內側的位置。第2支撐部110B更包含對應較所要搬運之基材薄膜11之幅寬方向邊緣部11S1、11S2更外側的外側邊緣部110SO1、110SO2。換言之，第2支撐部110B包含外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2、外側邊緣部110SO2。在本實施型態中，第2支撐部110B的邊緣部110S1及110S2得定為自對應基材薄膜11之幅寬方向邊緣部11S1、11S2的位置至向幅寬方向內側100 mm～200 mm的部分。
第2支撐部110B，如圖3所示，係由4個分隔牆112C1、112C2、112C3及112C4分隔成5個部分（外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2）。
於外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2分別連結供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5。供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5分別以其內腔連通至外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2各自之內部的空隙之方式設置。藉由此種構造，變得可自支撐體110之外部中介此等供應管對邊緣部、中央部及外側邊緣部獨立供應氣體。供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5分別具有調整對外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2之氣體之供應量的調整閥150B1、150B2、150B3、150B4及150B5。藉此，變得能夠調整對外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2的氣體之供應量。在圖2及圖3中，分別以1B1、1B2、1B3、1B4、1B5之箭號來表示氣體自第2支撐部110B之外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2噴出的狀況。
在本實施型態中，第2支撐部110B具有5個部分，於各部分裝設有供應管，但在調整成滿足式（1）時，會使自第2支撐部之中央部110BC噴出之氣體的流量變得較自第1支撐部及第3支撐部噴出之氣體的流量還要小。
第2支撐部110B的邊緣部110S1、110S2係對應基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部的部分，故自該邊緣部110S1、110S2噴出的氣體會變得容易自基材薄膜11之邊緣部逸散。若噴出氣體在塗布工序中自基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部逸散，則在多層薄膜10之幅寬方向的邊緣部上，有時塗布液之層體的厚度會變得較其他部分還要大。如上所述，於本實施型態中，對第2支撐部之各部分（外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2）之氣體之供應量的調整，可藉由調整閥150B1、150B2、150B3、150B4及150B5來進行。因此，藉由以自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s變得較自中央部110BC噴出之氣體的流量F2c還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出，可抑制所噴出的氣體自基材薄膜11之邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大。自2個邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。
並且，於本實施型態中，第2支撐部110B於邊緣部110S1、110S2之外側包含外側邊緣部，如上所述，亦能夠調整對外側邊緣部110SO1、110SO2的氣體之供應量。因此，藉由以自外側邊緣部110SO1及110SO2噴出之氣體的流量F2os變得較自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出，可抑制所噴出的氣體自基材薄膜11之邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大。
以自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s變得較自中央部110BC噴出之氣體的流量F2c還要大，且自外側邊緣部110SO1及110SO2噴出之氣體的流量F2os變得較自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出為佳。藉由進行此種流量之調節，可更有效抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大，進行膜厚之均勻性優異之多層薄膜的製造。自2個邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。關於自2個外側邊緣部110SO1及110SO2噴出之氣體的流量亦以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。
支撐體110以包含多孔質部件為佳。支撐體110可為一部分（例如：第1支撐部、第2支撐部、第3支撐部）以由多孔質材料而成之部件構成，亦可為整體以由多孔質材料而成之部件構成。
作為構成多孔質部件的多孔質材料，可列舉：多孔碳、多孔鋁等。若使用包含由此種多孔質材料而成之部件的內筒部件，則可藉由自支撐體110之曲面110T噴出之氣體的壓力，於在與支撐體110之間空出間隙的狀態（分隔一段距離的狀態）下支撐基材薄膜11。
在支撐體110包含多孔質部件的情況下，多孔質部件的平均孔徑以0.1 μm以上為佳，以0.5 μm以上為較佳，且以30 μm以下為佳，以3.0 μm以下為較佳。在孔徑過大的情況下，有時會有一部分之孔洞堵塞而自其他孔洞發生氣體之漏逸，但若將孔徑做成上限值以下，則即使一部分之孔洞堵塞，亦可防止氣體之漏逸，基材薄膜11得受到支撐體110以均勻之力量在分隔一段距離的狀態下支撐。此事推測係因以下機制所致者。在孔徑過大的情況下，於一部分之孔洞受到基材薄膜11覆蓋時，有時壓力的變動會傳達至支撐體110的內部結構，致使大量氣體自未受到基材薄膜11覆蓋之部分漏出，而變得無法在分隔一段距離的狀態下支撐基材薄膜11。若將孔徑做成上限值以下，則即使在一部分之孔洞受到基材薄膜11覆蓋時，壓力的變動亦難以傳達至支撐體110的內部結構，而可抑制大量氣體朝未受到基材薄膜11覆蓋之部分漏逸，基材薄膜11得受到支撐體110以均勻之力量在分隔一段距離的狀態下支撐。多孔質部件的平均孔徑，舉例而言，得藉由光學顯微鏡觀察或SEM觀察來量測。
自支撐體110供應至支撐體110與基材薄膜11之間之縫隙S1的氣體，以高壓空氣為佳。在氣體係高壓空氣的情況下，其壓力以0.10 MPa以上為佳，以0.30 MPa以上為較佳，且以0.70 MPa以下為佳，以0.50 MPa以下為較佳。若支撐體110所供應之氣體的壓力為前述範圍，即得以非接觸狀態支撐基材薄膜11。
［作用及效果］
茲說明本實施型態之多層薄膜的製造方法的作用及效果。
自順出裝置順出之基材薄膜11在抵達由曲面110T所規範之搬運路徑的最上游之位置時，會因自曲面110T噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐，並沿曲面110T搬運。基材薄膜11於與第1支撐部110A對向的位置會因自第1支撐部110A噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐，當抵達與第2支撐部110B對向之位置時，則會因自第2支撐部110B噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐。
當基材薄膜11抵達塗布裝置160之正下方時，自排出口161排出之塗布液即會塗布於基材薄膜11的正面11A。塗布塗布液的期間，基材薄膜11亦會因自第2支撐部110B噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐。塗布過塗布液之後的基材薄膜11會因自第3支撐部110C噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐，並進一步搬運至搬運路徑的下游。設置有塗布液之層體12的基材薄膜11，會在搬運至搬運路徑之最下游之後，視需求供予接下來的工序（例如：定向處理工序、聚合工序、收捲工序等），獲得多層薄膜10。
換言之，根據本實施型態，由於基材薄膜11在塗布工序中係以與支撐體110為非接觸狀態受到支撐，故可防止因異物附著支撐體而導致之點狀之塗布不均的產生。
並且，於本實施型態，在塗布工序中，係以自第2支撐部110B噴出之氣體的流量F2、自第1支撐部110A噴出之氣體的流量F1、自第3支撐部110C噴出之氣體的流量F3依序變大的方式（以滿足式（1）的方式）進行氣體自曲面110T的噴出。換言之，根據本實施型態，由於自支撐塗布塗布液後之基材薄膜的第3支撐部110C噴出之氣體的流量F3較其他部分還要大，故可防止由在基材薄膜11疊加塗布液之重量所致之基材薄膜11與支撐體110的接觸，抑制因接觸而導致之損傷的產生。並且，根據本實施型態，由於自係為氣體難以逸散之部分的第2支撐部110B噴出之氣體的流量F2較其他部分還要小，故可抑制基材薄膜11之懸浮量變大，而可抑制因基材薄膜之懸浮量變大而導致之「於基材薄膜之幅寬方向上產生之厚度大的條紋（橫紋）」之產生。
因此，根據本實施型態，可提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生之具有塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
並且在本實施型態中，支撐裝置100包含對支撐體110供應氣體的多個供應管151A、151B、151C，多個供應管151A、151B、151C分別具有調整對支撐體110之氣體之供應量的調整閥150A、150B、150C，在塗布工序中，氣體自曲面110T的噴出係藉由調整閥150A、150B、150C來調整成滿足上述式（1）。其結果，根據本實施型態，可藉由調整閥150A、150B、150C之操作，將氣體之供應量調整成滿足式（1），故可藉由簡易之方法提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生之具有塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
再者，在本實施型態中，於第2支撐部110B的外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2，分別連結供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5。供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5分別以其內腔連通至外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2及外側邊緣部110SO2各自之內部的空隙之方式設置。藉由此種構造，變得可自支撐體110之外部中介此等供應管對邊緣部、中央部及外側邊緣部獨立供應氣體。供應管151B1、151B2、151B3、151B4及151B5分別具有調整氣體之供應量的調整閥150B1、150B2、150B3、150B4及150B5。藉此，得輕易進行對第2支撐部110B之各部分的氣體之供應量的調整。因此，藉由以自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s變得較自中央部110BC噴出之氣體的流量F2c還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出，可抑制所噴出的氣體自基材薄膜11邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大。其結果，可提供在幅寬方向上之膜厚之均勻性優異的多層薄膜的製造方法。
並且，藉由以自外側邊緣部110SO1及110SO2噴出之氣體的流量F2os變得較自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出，可抑制所噴出的氣體自基材薄膜11之邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大。其結果，可提供在幅寬方向上之膜厚之均勻性優異的多層薄膜的製造方法。再者，藉由以自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s變得較自中央部110BC噴出之氣體的流量F2c還要大，且自外側邊緣部110SO1及110SO2噴出之氣體的流量F2os變得較自邊緣部110S1及110S2噴出之氣體的流量F2s還要大的方式進行氣體自曲面110T的噴出，可提供膜厚之均勻性更為優異之多層薄膜的製造方法。
［實施型態2］
以下參照圖4，同時說明本發明相關之實施型態2之多層薄膜的製造方法。圖4係繪示本實施型態相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的側視示意圖。
本實施型態之多層薄膜的製造方法在塗布工序中使用之支撐裝置的構造與實施型態1相異。下面對與實施型態1同樣的構造，賦予相同之符號並省略重複之說明。
在本實施型態之支撐裝置200中，支撐體210為圓筒狀。由於支撐體210之長邊方向（X1方向）的長度與基材薄膜11的幅寬尺寸相同，故支撐體210之長邊方向的邊緣部配置於與基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部對應的位置。在圖4中，塗布裝置雖未圖示，但塗布裝置配置於基材薄膜11之上方。圓筒狀之支撐體210的周面對應一曲面，由該曲面規範搬運路徑。
在本實施型態中，支撐體210係由4個分隔牆212A、212B、212C、212D分隔成在支撐體210之長邊方向上排列的5個部分211A、211B、211C、211D、211E。於圖4中繪示了第1支撐部側，但關於第2支撐部及第3支撐部，亦由4個分隔牆212A、212B、212C、212D分隔成5個部分。並且，儘管細節並未圖示，但本實施型態中與實施型態1相同，設置有分隔第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部的分隔牆。於分隔牆（212A、212B、212C、212D）以及由分隔各支撐部之分隔牆所分隔的各部分（211A、211B、211C、211D、211E等），分別連結供應管251A、251B、251C、251D及251E。供應管251A、251B、251C、251D及251E分別以其內腔連通至各部分（211A、211B、211C、211D、211E等）各自之內部的空隙之方式設置。藉由此種構造，變得可自支撐體210之外部中介此等供應管251A、251B、251C、251D及251E供應氣體。供應管251A、251B、251C、251D及251E分別具有調整對各部分（211A、211B、211C、211D、211E等）之氣體之供應量的調整閥250A、250B、250C、250D及250E。藉此，變得能夠調整對各部分（211A、211B、211C、211D、211E等）的氣體之供應量。在圖4中，分別以2B1、2B2、2B3、2B4、2B5之箭號來表示氣體自配置於圖式上半部之第2支撐部噴出的狀況。
［作用及效果］
在本實施型態中，亦與實施型態1相同，基材薄膜11因自第1支撐部、第2支撐部、第3支撐部分別噴出的氣體而以非接觸狀態受到支撐，來進行塗布工序。換言之，在本實施型態中，由於基材薄膜11在塗布工序中亦以與支撐體110為非接觸狀態受到支撐，故可防止因異物附著於支撐體而導致之點狀之塗布不均的產生。
並且，依據本實施型態，由於在塗布工序中，氣體自支撐體210之曲面的噴出亦以滿足上述式（1）的方式進行，故與實施型態1相同，可提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生的多層薄膜的製造方法。在本實施型態中，各支撐部具有5個部分，於各部分裝設有供應管，但在調整成滿足式（1）時，會使自第2支撐部之中央之部分噴出之氣體的流量變得較自第1支撐部之中央之部分及第3支撐部之中央之部分噴出之氣體的流量還要小。
如2B6及2B7之箭號所示，氣體變得容易自支撐體210之長邊方向的邊緣部逸散，但由於在本實施型態中，能夠藉由調整閥250A1、250B、250C、250D及250E調整對各部分（211A、211B、211C、211D、211E等）之氣體的供應量，故得輕易進行「使氣體自曲面的噴出在中央部分211C變得最小而愈往邊緣部變得愈大」一事。其結果，根據本實施型態，可抑制所噴出之氣體自基材薄膜11邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大，故可提供在幅寬方向上之膜厚之均勻性優異的多層薄膜的製造方法。
［實施型態3］
以下參照圖5，同時說明本發明相關之實施型態3之多層薄膜的製造方法。圖5係繪示本實施型態相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的側視示意圖。
本實施型態之多層薄膜的製造方法，在塗布工序中使用之支撐裝置的構造與實施型態1相異。下面對與實施型態1同樣的構造，賦予相同之符號並省略重複之說明。
在本實施型態之支撐裝置300中，支撐體310為圓筒狀。由於支撐體310之長邊方向（X1方向）的長度與基材薄膜11的幅寬尺寸相同，故支撐體310之長邊方向的邊緣部配置於與基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部對應的位置。在圖5中，塗布裝置雖未圖示，但塗布裝置配置於基材薄膜11之上方。圓筒狀之支撐體310的周面對應一曲面，由該曲面規範搬運路徑。
細節雖未圖示，但本實施型態中與實施型態1相同，於支撐體310設置有分隔第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部的分隔牆。於由分隔牆所分隔之第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部分別連結供應管。
供應管分別以其內腔連通至各支撐部各自之內部的空隙之方式設置。藉由此種構造，變得可自支撐體310之外部中介此等供應管供應氣體。供應管分別具有調整對各支撐部之氣體之供應量的調整閥。藉此，變得能夠調整對各支撐部的氣體之供應量。
在本實施型態中，支撐體310包含多孔質部件，多孔質部件的孔徑在基材薄膜之幅寬方向上相異。在本發明中，所謂「多孔質部件的孔徑在基材薄膜之幅寬方向上相異」，係謂多孔質部件之平均孔徑的大小因在基材薄膜之幅寬方向上的位置（例如：幅寬方向之邊緣部與中央部）而異。藉由使用孔徑如此因在基材薄膜之幅寬方向上的位置而異的多孔質部件，即使不以分隔牆分隔，仍能依在基材薄膜之幅寬方向上的位置改變氣體的噴出量。
於本實施型態中，在支撐體310之5個部分311A、311B、311C、311D、311E之中，配置於中央之中央部311C上的平均孔徑最小，隨著向邊緣部移動，平均孔徑會變大。換言之，孔徑以311C、311B及311D、311A及311E之順序變大。311B與311D的孔徑以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。311A與311E的孔徑以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。
在圖5中，分別以3B1、3B2、3B3、3B4及3B5之箭號表示氣體自5個部分311A、311B、311C、311D、311E噴出的狀況。
［作用及效果］
在本實施型態中，亦與實施型態1相同，基材薄膜11因自第1支撐部、第2支撐部、第3支撐部分別噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐，來進行塗布工序。換言之，在本實施型態中，由於基材薄膜11在塗布工序中亦以與支撐體310為非接觸狀態受到支撐，故可防止因異物附著於支撐體而導致之點狀之塗布不均的產生。
並且，根據本實施型態，由於在塗布工序中，氣體自支撐體310之曲面的噴出亦以滿足上述式（1）的方式進行，故與實施型態1相同，可提供具有抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生之具有塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
如3B6及3B7之箭號所示，氣體變得容易自支撐體310之長邊方向的邊緣部逸散，但在本實施型態中，由於支撐體310包含孔徑在中央部311C上最小、隨著向邊緣部移動孔徑變大的多孔質部件，故可使自支撐體之邊緣部之部分311A及311E噴出之氣體的流量較中央之部分311C還要大。藉此，根據本實施型態，可抑制所噴出的氣體自基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部逸散，抑制多層薄膜10之幅寬方向之邊緣部上的塗布液之層體的厚度變大。並且，在本實施型態中，由於在基材薄膜11之幅寬方向上多孔質部件的孔徑相異，故無需設置用以分隔幅寬方向之部分的分隔牆。其結果，根據本實施型態，能夠簡化支撐裝置的結構，且可提供在幅寬方向上之膜厚之均勻性優異的多層薄膜的製造方法。
［實施型態4］
以下參照圖6，同時說明本發明相關之實施型態4之多層薄膜的製造方法。圖6係繪示本實施型態相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的立體示意圖。
本實施型態之多層薄膜的製造方法在塗布工序中使用之支撐裝置的構造與實施型態1相異。下面對與實施型態1同樣的構造，賦予相同之符號並省略重複之說明。
在本實施型態之支撐裝置中，支撐體410為圓筒狀。在圖6中塗布裝置雖未圖示，但塗布裝置配置於與第2支撐部411B1、411B2、411B3對向的位置。圓筒狀之支撐體410的周面對應一曲面，由該曲面規範搬運路徑。
於本實施型態中，支撐體400包含圓筒狀之多孔質部件。此多孔質部件的孔徑在基材薄膜之幅寬方向上相異，且在搬運路徑上亦相異。在本發明中，所謂「多孔質部件的孔徑在搬運路徑上相異」，係謂多孔質部件之平均孔徑的大小因在搬運路徑上之位置（第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部）而異。更具體而言，得做成：第1支撐部的平均孔徑、第2支撐部的平均孔徑及第3支撐部的平均孔徑之中之一者與其他二者相異或者此等彼此皆互異者。如此，藉由使用平均孔徑因搬運路徑上之位置而異的多孔質部件，即使不以分隔牆分隔，仍能依在搬運路徑上位置改變氣體的噴出量。於本實施型態中，由於多孔質部件的孔徑在基材薄膜之幅寬方向上相異且在搬運路徑上亦相異，故不需要將支撐體在基材薄膜之幅寬方向上分隔成多個部分的分隔牆，亦不需要將支撐體分隔成沿搬運路徑排列之3個支撐部的分隔牆。
於本實施型態中，排列在支撐體410之圖式下側的3個部分411A1、411A2、411A3為第1支撐部，排列於第1支撐部之上的3個部分411B1、411B2、411B3為第2支撐部，排列於第2支撐部之上的3個部分411C1、411C2、411C3為第3支撐部。
於本實施型態中，多孔質部件的孔徑，若比較沿搬運路徑之方向排列的3個部分，例如411A2、411B2、411C2，則係以411B2、411A2、411C2之順序──即第2支撐部、第1支撐部、第3支撐部之順序──排到大。多孔質部件的孔徑，若比較沿基材薄膜11之幅寬方向排列的3個部分，例如411A1、411A2、411A3，邊緣部411A1及411A3較中央之部分411A2還要大。基材薄膜11之幅寬方向之2個邊緣部的孔徑以相同為佳，但亦可相異。在相異的情況下，其差以小者為佳。
［作用及效果］
在本實施型態中，亦與實施型態1相同，基材薄膜11因自第1支撐部、第2支撐部、第3支撐部分別噴出之氣體而以非接觸狀態受到支撐，來進行塗布工序。換言之，在本實施型態中，由於基材薄膜11在塗布工序中亦以與支撐體410為非接觸狀態受到支撐，故可防止因異物附著於支撐體而導致之點狀之塗布不均的產生。
於本實施型態中，支撐體410包含孔徑以第2支撐部、第1支撐部、第3支撐部之順序排到大的多孔質部件。其結果，根據本實施型態，即使不設置分隔第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部的分隔牆、對各支撐部供應氣體的供應管及調整閥，亦可在塗布工序中以滿足上述式（1）的方式進行氣體自支撐體410之曲面的噴出，故可簡化支撐裝置的結構，且可提供抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生之具有塗布液之層體的多層薄膜的製造方法。
並且，於本實施型態中，由於在各支撐部中包含孔徑在邊緣部上較基材薄膜11之幅寬方向之中央部還要大的多孔質部件，故可在例如第2支撐部中，使自基材薄膜11之幅寬方向之邊緣部411B1及411B3噴出之氣體的流量較中央部411B2還要大。其結果，根據本實施型態，即使不設置分隔支撐體內的分隔牆、對各個部分供應氣體的供應管及調整閥，亦可使曲面上的氣體之噴出在前述邊緣部411B1及411B3上較前述中央部411B2還要大，故得藉由簡易之結構製造在幅寬方向上之膜厚（塗布液之層體的厚度）之均勻性優異的多層薄膜。
『實施例』
以下揭示實施例以具體說明本發明。惟本發明並非受限於以下所示之實施例者，在不脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍的範圍中得任意變更而實施。
在以下說明中，表示量的「%」及「份」，除非另有註記，否則係重量基準。並且，以下所說明之操作，除非另有註記，否則係在常溫常壓大氣中進行。
［評價方法］
（1.表面狀態評價方法）
自在各例中所製造之多層薄膜裁切出幅寬1.33 m×長度1.0 m之大小的薄膜片。裁切時，以薄膜片之各邊呈平行於多層薄膜之搬運方向或幅寬方向的方式操作。將裁切出的薄膜片配置於已配置成平行尼寇稜鏡狀態的一對偏光板之間，製作評價樣本。對評價樣本照射光源並與其他部分相比，透過肉眼觀察有無色彩不同之點狀之不均（直徑2 mm～20 mm之圓形之不均）、有無薄膜幅寬方向之條紋（橫紋），藉由以下評價基準來評價。
（點狀之不均的評價基準） 良：無點狀之不均產生。 不良：有點狀之不均產生。
（橫紋的評價基準） A：無法在平行尼寇稜鏡狀態之目視觀察下確認到橫紋。 B：可在平行尼寇稜鏡狀態之目視觀察下確認到橫紋，並且橫紋之相鄰山部與谷部的厚度差未達0.01 μm。 C：有橫紋產生。可在平行尼寇稜鏡狀態之目視觀察下確認到橫紋，並且橫紋之相鄰山部與谷部的厚度差為0.01 μm以上且未達0.02 μm。 D：有橫紋產生。可在平行尼寇稜鏡狀態之目視觀察下確認到橫紋，並且橫紋之相鄰山部與谷部的厚度差為0.02 μm以上。
（2.損傷之產生之有無的評價）
自在各例中所製造之多層薄膜，裁切出幅寬1.33 m×長度1.0 m之大小的薄膜片。裁切時，以薄膜片之各邊呈平行於多層薄膜之搬運方向或幅寬方向的方式操作。對裁切出的薄膜片照射Polarion light（Polarion公司製，NP-1），透過肉眼觀察多層薄膜之正面及背面有無損傷之產生。尤其針對與塗布面相反之側的面（背面），確認有無因與支撐體之接觸而產生之損傷。 A：無損傷產生。 B：於多層薄膜之背面看到因與支撐體之接觸而局部產生之損傷。 C：於多層薄膜之背面看到因與支撐體之接觸而連續產生之損傷。
（3.塗布液之層體的厚度之均勻性的評價）
針對在各例中所製造之多層薄膜，使用干涉式膜厚計（Filmetrics公司製，F20膜厚量測系統，機種名：F20-EXR）量測在薄膜之幅寬方向之9處的塗布液之層體的厚度，計算出塗布液之層體之最大值與最小值的差，藉由以下基準來評價在薄膜幅寬方向上之塗布液之層體的厚度之均勻性。 A：塗布液之層體之厚度之最大值與最小值的差未達0.1 μm。 B：塗布液之層體之厚度之最大值與最小值的差為0.1 μm以上且未達0.2 μm。 C：塗布液之層體之厚度之最大值與最小值的差為0.2 μm以上且未達1.0 μm。 D：塗布液之層體之厚度之最大值與最小值的差為1.0 μm以上。
［實施例1］
（1-1.支撐裝置的準備）
準備已在實施型態1中說明之形狀的支撐裝置100作為支撐裝置。使用平均孔徑為1.0 μm的多孔碳作為支撐體之材料。於支撐體110之內部，設置分隔第1支撐部110A、第2支撐部110B及第3支撐部110C的分隔牆112A、112B，與將第2支撐部110B沿基材薄膜11之幅寬方向分隔成5個部分（外側邊緣部110SO1、邊緣部110S1、中央部110BC、邊緣部110S2、外側邊緣部110SO2）的分隔牆112C1、112C2、112C3、112C4。將支撐體曲面之塗布裝置之正下方的部分及自該塗布裝置之正下方之部分沿支撐體曲面（搬運方向）±25 mm的部分定為第2支撐部，將較第2支撐部還要位於搬運路徑之上游的部分定為第1支撐部，將較第2支撐部還要位於搬運路徑之下游的部分定為第3支撐部。並且，第2支撐部的邊緣部110S1、110S2，定為自對應基材薄膜11之幅寬方向邊緣部11S1、11S2的位置至向幅寬方向內側200 mm的部分。於由分隔牆所分隔的部分，分別裝設有獨立調整氣體之流量之附帶調整閥的供應管。
（1-2.塗布液的製備）
將由下述式（A-1）表示之化合物19.18份、交聯劑（商品名「NK ESTER A-DCP」，新中村化學工業公司製）1.92份（相對於聚合性液晶化合物100份為10份）、界面活性劑（商品名「MEGAFAC F-562」，DIC公司製）0.06份、光聚合起始劑（商品名「Irgacure OXE04」，BASF公司製）0.84份（相對於聚合性液晶化合物100份為4份）以及環戊酮與1,3-二氧口 柬的混合溶劑78份混合，作為聚合性液晶化合物，製備液晶組成物（X）。
『化1』
Figure 02_image001
（A-1）
（1-3.液晶組成物的塗布工序） 使用自日本瑞翁（股）製之斜向延伸薄膜（厚度77 μm，幅寬1330 mm，長度2000 m）剝離保護薄膜者，作為基材薄膜。 使用在（1-1）中所準備的支撐裝置，一邊以非接觸狀態支撐基材薄膜一邊搬運之，並藉由模塗機將在（1-2）中所獲得之塗布液直接塗布於基材薄膜之貼合有保護薄膜之側的面，形成塗布液之層體。在塗布工序中，將所噴出之氣體的流量調整如下。 自第1支撐部噴出之氣體的流量F1：0.090 mL／分鐘·cm2 自第2支撐部噴出之氣體的流量F2（自第2支撐部之中央部110BC噴出之氣體的流量F2c）：0.030 mL／分鐘·cm2 自第2支撐部之邊緣部110S1、110S2噴出之氣體的流量F2s：0.060 mL／分鐘·cm2 自第2支撐部之外側邊緣部110SO1、110SO2噴出之氣體的流量F2os：0.085 mL／分鐘·cm2 自第3支撐部噴出之氣體的流量F3：0.160 mL／分鐘·cm2 亦即，在本例中，係以滿足式（1）之條件進行塗布工序。
（1-4.定向處理）
使在（1-3）中所形成之基材薄膜上的塗布液之層體在110℃之乾燥爐中乾燥2.5分鐘。藉此，基材薄膜上之塗布液之層體經定向處理。
（1-5.聚合工序）
之後，在氮氣氣體環境下，透過EYE GRAPHICS公司製「水銀燈」對進行過（1-4）之處理後的塗布液之層體照射積算照度700 mJ／cm2 （照射強度350 mW／cm2 ，照射時間2秒）以上之紫外線，使塗布液中之聚合性液晶化合物聚合，形成固化液晶分子。藉此，獲得乾燥膜厚2.4 μm之由已均勻定向之組成物之固化物所形成的聚合物層，獲得具有（基材）／（聚合物層）之層體結構的多層薄膜。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果既無表面狀態不良（橫紋及點狀不均）之產生，亦無損傷之產生，幅寬方向之膜厚的均勻性亦優異。
（實施例2）
除了在實施例1之（1-3）中將F2os調成0.060 mL／分鐘·cm2 以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。在本例中，以滿足式（1）之條件進行塗布工序。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果既無表面狀態不良（橫紋及點狀不均）之產生，亦無損傷之產生。薄膜之幅寬方向之邊緣部的膜略微較厚，但膜厚之均勻性良好。
（實施例3）
除了在實施例1之（1-3）中將F2s調成0.030 mL／分鐘·cm2 ，並將F2os調成0.030 mL／分鐘·cm2 以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。在本例中，以滿足式（1）之條件進行塗布工序。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果既無表面狀態不良（橫紋及點狀不均）之產生，亦無損傷之產生。薄膜之幅寬方向之邊緣部的膜些許較厚，但為在使用上無問題之範圍。
（實施例4）
除了在實施例1之（1-3）中，使用以下所說明之支撐裝置代替在（1-1）中所準備之支撐裝置，並將F1調成1.0 mL／分鐘·cm2 ，將F2（F2c）調成0.50 mL／分鐘·cm2 ，將F2s調成0.50 mL／分鐘·cm2 ，將F2os調成0.50 mL／分鐘·cm2 ，將F3調成1.8 mL／分鐘·cm2 以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。在本例中，以滿足式（1）之條件進行塗布工序。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果並無損傷之產生且無表面狀態不良，但在搬運方向上看到些許不均。薄膜之幅寬方向之邊緣部的膜些許較厚，但為在使用上無問題之範圍。
支撐裝置：準備具備使用不鏽鋼（SUS）作為材料並均勻設置有直徑2 mm之孔洞之支撐體的支撐裝置。支撐體110的結構做成與實施例1相同的結構。
（比較例1）
除了在實施例1之（1-3）中，將F2s調成0.03 mL／分鐘·cm2 ，將F2os調成0.03 mL／分鐘·cm2 ，將F3調成0.09 mL／分鐘·cm2 以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果無表面狀態不良之產生，但在第3支撐部上看到因懸浮量小而導致之損傷的產生。並且，因薄膜之幅寬方向之邊緣部的懸浮量小，導致邊緣部之膜厚變大，膜厚之均勻性差。
（比較例2）
除了在實施例1之（1-3）中，將F2（F2c）調成0.09 mL／分鐘·cm2 ，將F2s調成0.09 mL／分鐘·cm2 ，將F2os調成0.09 mL／分鐘·cm2 ，將F3調成0.09 mL／分鐘·cm2 以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果在第2支撐部因懸浮量大而導致橫紋產生。並且在第3支撐部產生因懸浮量小而導致之損傷，因薄膜之幅寬方向之邊緣部的懸浮量小，導致邊緣部的膜厚變大，膜厚的均勻性差。
（比較例3）
除了進行以下（C3-3）之工序代替實施例1之（1-3）之工序以外，進行與實施例1相同之操作，獲得多層薄膜。針對所獲得之多層薄膜進行評價試驗，結果未看到損傷之產生，膜厚的均勻性良好，但產生橫紋及點狀之塗布不均。
（C3-3.液晶組成物的塗布工序）
使用自日本瑞翁（股）製之斜向延伸薄膜（厚度77 μm，幅寬1330 mm，長度2000 m）剝離保護薄膜者，作為基材薄膜。
使用碳鋼製之背托輥，一邊以接觸狀態支撐基材薄膜一邊搬運之，並藉由模塗機將在（1-2）中所獲得之塗布液直接塗布於基材薄膜之貼合有保護薄膜之側的面，形成塗布液之層體。在本例中所使用之背托輥，係未形成孔洞之圓筒狀的塗布輥。
［結果］
實施例及比較例的結果，連同在各例中之各支撐部及第2支撐部之各部分的氣體之供應量揭示於下述表1。表中，「基材薄膜之支撐狀態」欄之所謂「非接觸」，表示基材薄膜以非接觸狀態受到支撐裝置支撐，所謂「接觸」，表示基材薄膜以接觸狀態受到背托輥支撐。
『表1』 表1
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4
基材薄膜之支撐狀態 非接觸 非接觸 非接觸 非接觸
F1 mL／分鐘·cm2 0.090 0.090 0.090 1.000
F3 mL／分鐘·cm2 0.160 0.160 0.160 1.800
F2(F2c) mL／分鐘·cm2 0.030 0.030 0.030 0.500
F2s mL／分鐘·cm2 0.060 0.060 0.030 0.500
F2os mL／分鐘·cm2 0.085 0.060 0.030 0.500
F1、F2、F3之 大小關係 F2＜F1＜F3 F2＜F1＜F3 F2＜F1＜F3 F2＜F1＜F3
F2c與F2s之關係 F2c＜F2s F2c＜F2s F2c＝F2s F2c＝F2s
F2s與F2os之關係 F2s＜F2os F2s＝F2os F2s＝F2os F2s＝F2os
支撐部之材質 多孔質 多孔質 多孔質 SUS
評價結果
橫紋 A A A B
點狀之不均 良 良 良 良
損傷 A A A A
膜厚均勻性 A B C C
『表2』 表2
比較例1 比較例2 比較例3
基材薄膜之支撐狀態 非接觸 非接觸 接觸
F1 mL／分鐘·cm2 0.090 0.090 −
F3 mL／分鐘·cm2 0.090 0.090 −
F2(F2c) mL／分鐘·cm2 0.030 0.090 −
F2s mL／分鐘·cm2 0.030 0.090 −
F2os mL／分鐘·cm2 0.030 0.090 −
F1、F2、F3之 大小關係 F2＜F1＝F3 F2＝F1＝F3 −
F2c與F2s之關係 F2c＝F2s F2c＝F2s −
F2s與F2os之關係 F2s＝F2os F2s＝F2os −
支撐部之材質 多孔質 多孔質 碳鋼
評價結果
橫紋 A C D
點狀之不均 良 良 不良
損傷 C C B
膜厚均勻性 D D B
［結果］
根據以上結果可知，在以滿足式（1）之條件進行塗布工序的實施例1～4中，相較於比較例1～3，可抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生。由上述結果，根據本發明，得實現可抑制表面狀態不良之產生及損傷之產生的多層薄膜的製造方法。
10:多層薄膜 11:基材薄膜 11A:正面 11B:背面 12:包含塗布液之層體 100、200、300:支撐裝置 110、210、310、410:支撐體 110A:第1支撐部 110B:第2支撐部 110BC:中央部 110S1、110S2:邊緣部 110SO1、110SO2:外側邊緣部 110C:第3支撐部 110T:曲面 112A、112B、112C1、112C2、112C3、112C4:分隔牆 150A、150B（150B1～150B5）、150C:調整閥 151A、151B（151B1～151B5）、151C:供應管 211A、211B、211C、211D、211E:（支撐體的）部分 212A、212B、212C、212D:分隔牆 250A，250B、250C、250D、250E:調整閥 251:供應管 311A、311B、311C、311D、311E:（支撐體的）部分 411A1、411A2、411A3:第1支撐部 411B1、411B2、411B3:第2支撐部 411C1、411C2、411C3:第3支撐部
〈圖1〉圖1係繪示實施型態1相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的前視示意圖。
〈圖2〉圖2係自側視方向繪示支撐裝置的立體示意圖。
〈圖3〉圖3係繪示在圖1之Y1―Y1線上之剖面的剖面示意圖。
〈圖4〉圖4係繪示實施型態2相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的側視示意圖。
〈圖5〉圖5係繪示實施型態3相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的側視示意圖。
〈圖6〉圖6係繪示實施型態4相關之多層薄膜的製造方法所使用之支撐裝置的立體示意圖。
1A、1B、1C:氣體噴出的狀況
10:多層薄膜
11:基材薄膜
11A:正面
11B:背面
12:包含塗布液之層體
100:支撐裝置
110:支撐體
110A:第1支撐部
110B:第2支撐部
110C:第3支撐部
110T:曲面
112A、112B:分隔牆
150A、150B、150C:調整閥
151A、151B、151C:供應管
160:塗布裝置
161:排出口
S1:縫隙

Claims (9)

  1. 一種多層薄膜的製造方法，其係包含「於具有正面及背面之長條狀之基材薄膜的正面塗布包含功能性材料之塗布液的塗布工序」之多層薄膜的製造方法，其中在前述塗布工序中，前述基材薄膜係沿由包含具有曲面之支撐體的支撐裝置之前述曲面所規範的搬運路徑搬運，前述支撐體係自前述曲面噴出氣體而以非接觸狀態自前述背面側支撐所要搬運之前述基材薄膜的部件，前述支撐體自前述搬運路徑之上游起依序包含第1支撐部、第2支撐部及第3支撐部，前述塗布液的塗布係藉由在前述基材薄膜之前述正面透過與前述支撐體之前述第2支撐部對向設置的塗布裝置設置前述塗布液之層體來進行，前述氣體自前述曲面的噴出滿足下述式（1）：F2＜F1＜F3　　　（1）式中，F1為自前述第1支撐部噴出之氣體的流量，F2為自前述第2支撐部噴出之氣體的流量，F3為自前述第3支撐部噴出之氣體的流量。
  2. 如請求項1所述之多層薄膜的製造方法，其中前述第2支撐部包含了在與所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向平行之方向上的邊緣部及中央部，自前述邊緣部噴出之氣體的流量F2s較自前述中央部噴出之氣體的流量F2c還要大。
  3. 如請求項2所述之多層薄膜的製造方法，其中前述第2支撐部之前述邊緣部設置於對應較所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向邊緣部更內側的位置，前述第2支撐部更包含對應較所要搬運之前述基材薄膜之幅寬方向邊緣部更外側的外側邊緣部，自前述外側邊緣部噴出之氣體的流量F2os較自前述邊緣部噴出之氣體的流量F2s還要大。
  4. 如請求項1至3之任1項所述之多層薄膜的製造方法，其中前述支撐裝置包含對前述支撐體供應前述氣體的多個供應管，前述多個供應管分別具有調整對前述支撐體之前述氣體之供應量的調整閥，在前述塗布工序中，包含藉由前述調整閥來將前述氣體自前述曲面的噴出調整成滿足前述式（1）一事。
  5. 如請求項1至3之任1項所述之多層薄膜的製造方法，其中前述支撐體包含多孔質部件。
  6. 如請求項5所述之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的孔徑在前述搬運路徑中相異。
  7. 如請求項5所述之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的孔徑在前述基材薄膜的寬度方向上相異。
  8. 如請求項5所述之多層薄膜的製造方法，其中前述多孔質部件的平均孔徑為0.1 μm～30 μm。
  9. 如請求項1至3之任1項所述之多層薄膜的製造方法，其中前述塗布裝置係模塗機。
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Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6057385B2 (ja) * 1977-03-22 1985-12-14 富士写真フイルム株式会社 両面塗布方法
JP2724399B2 (ja) * 1989-02-13 1998-03-09 コニカ株式会社 ウエブ塗布装置
JP2724398B2 (ja) * 1989-02-13 1998-03-09 コニカ株式会社 ウエブ塗布装置
JPH057816A (ja) * 1991-06-28 1993-01-19 Konica Corp ウエブ塗布装置
JP3805267B2 (ja) * 2002-03-05 2006-08-02 富士写真フイルム株式会社 搬送方向転換装置
JP2006205099A (ja) * 2005-01-31 2006-08-10 Konica Minolta Photo Imaging Inc カーテンスプレー装置、カーテンスプレー塗布方法及びインクジェット用記録媒体
JP4634265B2 (ja) * 2005-09-27 2011-02-16 東京エレクトロン株式会社 塗布方法及び塗布装置
JP5441233B2 (ja) * 2009-07-15 2014-03-12 東洋鋼鈑株式会社 ウェブ浮上搬送装置及びその製造方法
JP5492633B2 (ja) * 2010-03-29 2014-05-14 株式会社日立製作所 インクジェット塗布装置及び方法
JP5048090B2 (ja) * 2010-01-20 2012-10-17 中外炉工業株式会社 両面塗工装置
JP2014065000A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 両面塗工装置、両面塗工方法および塗膜形成システム
JP6368508B2 (ja) * 2014-03-17 2018-08-01 東レエンジニアリング株式会社 基材浮上装置
JP2017036146A (ja) * 2015-08-14 2017-02-16 富士フイルム株式会社 ウェブ案内装置
JP2018030108A (ja) * 2016-08-26 2018-03-01 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 塗工装置および塗工方法
JP6845056B2 (ja) * 2017-03-21 2021-03-17 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 塗布装置および塗布方法

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