WO2020262251A1 - 複層フィルムの製造方法 - Google Patents

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WO2020262251A1
WO2020262251A1 PCT/JP2020/024207 JP2020024207W WO2020262251A1 WO 2020262251 A1 WO2020262251 A1 WO 2020262251A1 JP 2020024207 W JP2020024207 W JP 2020024207W WO 2020262251 A1 WO2020262251 A1 WO 2020262251A1
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WO
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support
gas
base film
support portion
film
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PCT/JP2020/024207
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English (en)
French (fr)
Inventor
伊藤 学
祐哉 平野
Original Assignee
日本ゼオン株式会社
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    • B05C13/02Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
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    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
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    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
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    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H20/00Advancing webs
    • B65H20/10Advancing webs by a feed band against which web is held by fluid pressure, e.g. suction or air blast

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a multilayer film.
  • a multi-layer film provided with a layer containing a functional material can be produced by applying a coating liquid containing the functional material while supporting a long base film with a backup roll.
  • a coating liquid containing the functional material when a backup roll that is in contact with and supports the non-coated surface of the base film is used, the base film arranged on foreign matter such as dust adhering to the backup roll is a portion. By swelling, spot-like coating unevenness may occur. Further, in the portion where the coating liquid is discharged, the base film is pressed against the backup roll by the discharged coating liquid, a strong frictional force is generated, speed unevenness occurs, uneven coating thickness and wrinkles occur. Sometimes. As a solution to such a problem, a method of applying the coating liquid while floating and transporting the base film has been studied (see, for example, Patent Document 1).
  • the floating transfer of the base film can be performed by a support device that ejects gas from the surface and supports the base film in a non-contact state.
  • a support device that ejects gas from the surface and supports the base film in a non-contact state.
  • the amount of gas ejected from such a support device is uniform in the transport direction of the base film, the weight of the coating liquid is added to the weight of the base film in the base film immediately after the coating liquid is applied. .. Therefore, the floating amount of the base film with the coating liquid layer changes as compared with the base film before the coating liquid is applied, and the floating amount becomes non-uniform. As a result, the base film becomes a support device. It was found that there is a risk of contact and scratches.
  • the amount of gas ejected from the support device is uniform in the transport direction of the base film, the base material is more difficult to escape in the portion where the coating liquid is applied than in the other portions. It was found that the amount of floating of the film tends to be large, which makes the floating state of the base film unstable, and that thick streaks (horizontal steps) generated in the width direction of the base film can occur.
  • the present invention has been devised in view of the above problems, and provides a method for producing a multi-layer film having a layer of a coating liquid containing a functional material, which suppresses the occurrence of surface defects and scratches.
  • the purpose is.
  • the present inventors have a curved surface for ejecting gas and a curved surface in a method for producing a multi-layer film including a coating step of applying a coating liquid to a base film.
  • the above problem is solved by supporting and transporting the base film in a non-contact state by a support in which the flow rate of gas from the curved surface satisfies a predetermined relationship before, during, and after coating the coating liquid.
  • the present invention includes the following.
  • a method for producing a multi-layer film which comprises a coating step of applying a coating liquid containing a functional material to the front surface of a long base film having a front surface and a back surface.
  • the base film is conveyed along a transfer path defined by the curved surface of the support device including the support having a curved surface.
  • the support is a member that ejects gas from the curved surface to support the base film to be conveyed from the back surface side in a non-contact state.
  • the support includes a first support portion, a second support portion, and a third support portion in order from the upstream of the transport path.
  • the coating liquid is applied by providing a layer of the coating liquid on the front surface of the base film by a coating device provided so as to face the second support portion of the support.
  • the method for producing a multi-layer film, wherein the gas ejection from the curved surface satisfies the following formula (1): F2 ⁇ F1 ⁇ F3 (1)
  • F1 is the flow rate of the gas ejected from the first support portion.
  • F2 is the flow rate of the gas ejected from the second support portion.
  • F3 is the flow rate of the gas ejected from the third support portion.
  • the second support portion includes an end portion and a center portion in a direction parallel to the width direction of the base film to be conveyed.
  • the end portion of the second support portion is provided at a position corresponding to the inside of the widthwise end portion of the base film to be conveyed.
  • the second support further includes an outer end corresponding to the outside of the widthwise end of the substrate film to be conveyed.
  • the method for producing a multilayer film according to [2] wherein the flow rate F2os of the gas ejected from the outer end portion is larger than the flow rate F2s of the gas ejected from the end portion.
  • the support device includes a plurality of supply pipes for supplying the gas to the support.
  • Each of the plurality of supply pipes has a regulating valve for adjusting the amount of the gas supplied to the support.
  • Method for manufacturing layered film [5] The method for producing a multilayer film according to any one of [1] to [4], wherein the support includes a porous member.
  • [6] The method for producing a multilayer film according to [5], wherein the pore diameter of the porous member differs in the transport path.
  • the present invention it is possible to provide a method for producing a multi-layer film having a layer of a coating liquid containing a functional material, which suppresses the occurrence of surface defects and scratches.
  • FIG. 1 is a front view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing the support device from the side direction.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section taken along the line Y1-Y1 of FIG.
  • FIG. 4 is a side view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the second embodiment.
  • FIG. 5 is a side view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to a third embodiment.
  • FIG. 6 is a perspective view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to a fourth embodiment.
  • the "long" film means a film having a length of 5 times or more with respect to the width, preferably having a length of 10 times or more, and specifically a roll.
  • the upper limit of the length of a long film is not particularly limited, and may be, for example, 100,000 times or less with respect to the width.
  • the width direction of a long film means a direction perpendicular to the transport direction of the film and parallel to the surface of the film.
  • the film conveying direction is the direction in which the long film supported by the support device is conveyed, and is usually parallel to the longitudinal direction of the long film.
  • the directions of the elements are “parallel” and “vertical”, unless otherwise specified, within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, ⁇ 4 °, preferably ⁇ 3 °, more preferably ⁇ 1. It may include errors within the range of °.
  • the "diagonal direction” is neither parallel to the longitudinal direction of the inner cylinder member (direction forming an angle of 0 ° with respect to the longitudinal direction) nor perpendicular (direction forming an angle of 90 ° with respect to the longitudinal direction). Indicates the direction.
  • the method for producing a multilayer film of the present invention includes a coating step of applying a coating liquid containing a functional material to the front surface of a long base film having a front surface and a back surface.
  • the base film is transported along a transport path defined by the curved surface of the support device including the support having a curved surface.
  • the support is a member that ejects gas from a curved surface to support the conveyed base film from the back surface side in a non-contact state, and is a first support portion, a second support portion, and a support portion in order from the upstream of the transfer path. Includes a third support.
  • the coating liquid is applied by providing a layer of the coating liquid on the front surface of the base film by a coating device provided so as to face the second support portion of the support.
  • the gas ejection from the curved surface satisfies the following equation (1).
  • F2 ⁇ F1 ⁇ F3 (1) In the formula, F1 is the flow rate of the gas ejected from the first support portion, F2 is the flow rate of the gas ejected from the second support portion, and F3 is the flow rate of the gas ejected from the third support portion. is there.
  • FIG. 1 is a front view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing the support device from the side direction.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section taken along the line Y1-Y1 of FIG.
  • FIG. 1 illustrates a support device observed from the width direction of the base film to be conveyed, and in the present application, the observation direction is defined as the front direction.
  • the method for producing a multilayer film of the present embodiment includes a coating step of applying a coating liquid containing a functional material to the front surface of a long base film having a front surface and a back surface.
  • the coating step as shown in FIG. 1, the base film 11 is transported along the transport path defined by the curved surface 110T of the support 110 having the curved surface 110T.
  • A1 indicates a transport direction.
  • the base film 11 unwound from the feeding device (not shown) is conveyed along the curved surface 110T in the direction indicated by A1 while maintaining a non-contact state with the curved surface 110T of the support 110, and is directly under the coating device 160.
  • the coating liquid is applied to the front surface 11A of the base film 11.
  • a layer 12 containing the coating liquid is formed on the front surface 11A of the base film 11 coated with the coating liquid, and is conveyed downward in the drawing along the curved surface 110.
  • the base film 11 Before coating by the coating device 160 (upstream of the transport path from the coating device 160), the base film 11 is not in contact with the support 110 due to the gas ejected from the first support portion 110A of the support 110. Supported in the state.
  • the base film 11 When the base film 11 is coated by the coating device 160 (immediately below or in the vicinity of the coating device 160), the base film 11 is supported in a non-contact state by the gas ejected from the second support portion 110B of the support 110.
  • the base film 11 After coating by the coating device 160 (downstream of the transport path from the coating device 160), the base film 11 is supported in a non-contact state by the gas ejected from the third support portion 110C of the support 110.
  • the gas is ejected from the curved surface 110T of the support 110 so as to satisfy the equation (1).
  • F1 is the flow rate of the gas ejected from the first support portion
  • F2 is the flow rate of the gas ejected from the second support portion
  • F3 is the flow rate of the gas ejected from the third support portion.
  • the flow rate that is, in the coating step, the gas ejected from the curved surface is the flow rate F2 of the gas ejected from the second support portion 110B, the flow rate F1 of the gas ejected from the first support portion 110A, and the gas ejected from the third support portion 110C.
  • the flow rate is increased in the order of F3.
  • the manufacturing method of the present embodiment will be described in more detail.
  • the base film 11 used in the present embodiment is a long film having a front surface 11A and a back surface 11B.
  • the base film examples include a film made of a thermoplastic resin.
  • the thermoplastic resin contains a polymer.
  • the polymer include alicyclic structure-containing polymer, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, acrylic polymer, methacrylic polymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polystyrene, triacetyl cellulose, polyvinyl chloride, polyimide, polyphenylene sulfide, and the like. Examples thereof include polytetrafluoroethylene, polyether ether ketone, polyether sulfone, aramid, and combinations thereof.
  • an alicyclic structure-containing polymer is preferable from the viewpoint of high orientation-regulating power, transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, and light weight.
  • a norbornene-based polymer is more preferable.
  • a film that has undergone a predetermined treatment before the application of the coating liquid can be used.
  • a coating liquid containing a polymerizable liquid crystal compound is used as the coating liquid
  • the orientation regulating force refers to the property of a surface capable of orienting a liquid crystal compound such as a polymerizable liquid crystal compound contained in a liquid crystal composition.
  • the treatment for imparting an orientation regulating force to the support surface include an alignment film forming treatment, a photoalignment treatment, a rubbing treatment, an ion beam orientation treatment, and a stretching treatment.
  • the coating liquid containing the functional material includes the functional material.
  • the coating liquid may contain functional materials such as polymerizable liquid crystal compounds, polymerization initiators, cross-linking agents, monomers, antioxidants, and surfactants.
  • the coating liquid may contain a solvent such as an organic solvent and water.
  • the coating liquid may be a dispersion liquid in which a functional material is dispersed in a dispersion medium, or may be a colloidal liquid.
  • the coating device is a device that coats the coating liquid on the base film 11.
  • Examples of the coating device include a die coater and a gravure coater. Of these, a die coater is preferable. In this embodiment, an example in which a die coater is used as the coating device 160 will be described.
  • the coating device 160 (die coater) is connected to an extruder that pushes out the coating liquid.
  • the die coater includes a lip facing the second support portion 110B of the support 110, and discharges the coating liquid from the discharge port 161 formed at the tip of the lip and conveys the coating liquid to the front surface 11A of the base film 11.
  • the coating liquid is continuously applied to.
  • the coating liquid layer 12 is formed on the front surface 11A of the base film 11.
  • the support device 100 that supports the base film 11 in the coating step includes a support 110 having a curved surface 110T. Further, in the present embodiment, the support device 100 includes supply pipes 151A, 151B (151B1 to 151B5), 151C (plural supply pipes) for supplying gas to the support 110.
  • the support 110 is a member that ejects gas from the curved surface 110T to support the conveyed base film 11 from the back surface 11B side in a non-contact state.
  • the support 110 has a shape in which a C-shaped member in front view is superposed on a cylindrical member (see FIG. 1). As shown in FIG. 2, the length of the support 110 in the longitudinal direction (X1 direction) is longer than the width dimension of the base film 11, and the width dimension of the base film 11 is the longitudinal direction of the C-shaped member. It is almost the same as the length of.
  • the upper surface of the C-shaped member is a curved surface 110T of the support 110, and the shape of the curved surface 110T is an arc shape as shown in FIG.
  • the curved surface 110T of the support defines the transport path of the base film 11.
  • the hugging angle of the support 110 is preferably 80 ° or more, more preferably 120 ° or more, preferably 250 ° or less, and more preferably 240 ° or less.
  • the hugging angle means the angle of a portion where the distance between the base film 11 and the curved surface 110A is 1 mm or less in a circle drawing the same curve as the curved surface 11A.
  • 110P is the center of a circle (a circle that draws the same curve as the curved surface 110A).
  • the support 110 includes a first support 110A, a second support 110B, and a third support 110C in order from the upstream of the transport path.
  • the second support portion 110B is provided at a position facing the coating device 160.
  • the first support portion 110A is provided at a position upstream of the transport path from the coating device 160
  • the third support portion 110C is provided at a position downstream of the coating device 160 in the transport path.
  • the second support portion 110B is a portion of the curved surface of the support directly below the coating device and a portion ⁇ 25 mm along the transport direction (curved surface of the support) from the portion directly below the coating device.
  • the present invention is not limited to this. For example, it may be a portion directly below the coating device on the curved surface of the support, and a portion ⁇ 60 mm or ⁇ 40 mm along the transport direction from the portion directly below the coating device.
  • the first support portion 110A, the second support portion 110B, and the third support portion 110C are partitioned by partition walls 112A and 112B.
  • Supply pipes 151A, 151B, 151C are connected to the first support portion 110A, the second support portion 110B, and the third support portion 110C, respectively.
  • Each of the supply pipes 151A, 151B, and 151C is provided so that the lumen thereof communicates with the internal voids of the first support portion 110A, the second support portion 110B, and the third support portion 110C.
  • gas is independently supplied from the outside of the support 110 to the first support 110A, the second support 110B, and the third support 110C via the supply pipes 151A, 151B, 151C. ing.
  • the supply pipes 151A, 151B, and 151C have adjusting valves 150A, 150B, and 150C for adjusting the amount of gas supplied to the first support portion 110A, the second support portion 110B, and the third support portion 110C, respectively.
  • the coating step includes adjusting the ejection of gas from the curved surface 110T by adjusting valves 150A, 150B, 150C so as to satisfy the above formula (1).
  • FIG. 1 the state in which gas is ejected from the first support portion 110A, the second support portion 110B, and the third support portion 110C is shown by arrows 1A, 1B, and 1C, respectively.
  • the second support portion 110B includes end portions 110S1 and 110S2 and a central portion 110BC in a direction parallel to the width direction (X1 direction) of the base film 11 to be conveyed. including.
  • the ends 110S1 and 110S2 of the second support portion 110B are provided at positions corresponding to the inside of the widthwise end portions 11S1 and 11S2 of the base film 11, respectively.
  • the second support portion 110B further includes outer end portions 110SO1, 110SO2 corresponding to the outer side of the widthwise end portions 11S1, 11S2 of the base film 11 to be conveyed.
  • the second support portion 110B includes an outer end portion 110SO1, an end portion 110S1, a central portion 110BC, an end portion 110S2, and an outer end portion 110SO2.
  • the ends 110S1 and 110S2 of the second support portion 110B may be portions from 100 mm to 200 mm inward in the width direction from the positions corresponding to the width direction ends 11S1 and 11S2 of the base film 11.
  • the second support portion 110B has five portions (outer end portion 110SO1, end portion 110S1, central portion 110BC, end portion 110S2 and outer portion) by four partition walls 112C1, 112C2, 112C3, and 112C4. It is partitioned by the end 110SO2).
  • Supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B5 are connected to the outer end 110SO1, the end 110S1, the central 110BC, the end 110S2 and the outer end 110SO2, respectively.
  • the inner cavity of each of the supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B5 communicates with the internal voids of the outer end 110SO1, the end 110S1, the central 110BC, the end 110S2 and the outer end 110SO2, respectively. Is provided. With this configuration, gas is independently supplied from the outside of the support 110 to the end portion, the central portion, and the outer end portion via these supply pipes.
  • the supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B5 are adjusting valves 150B1 and 150B2 for adjusting the amount of gas supplied to the outer end 110SO1, the end 110S1, the central 110BC, the end 110S2 and the outer end 110SO2, respectively. , 150B3, 150B4 and 150B5. This makes it possible to adjust the amount of gas supplied to the outer end portion 110SO1, the end portion 110S1, the central portion 110BC, the end portion 110S2, and the outer end portion 110SO2.
  • the second support portion 110B has five parts, and a supply pipe is attached to each part.
  • the second support part The flow rate of the gas ejected from the central portion 110BC is made smaller than the flow rate of the gas ejected from the first support portion and the third support portion.
  • the gas ejected from the ends 110S1 and 110S2 is the end portion of the base film 11. It is easier to escape from.
  • the thickness of the coating liquid layer may be larger at the widthwise end portion of the multilayer film 10 than other portions.
  • the gas is ejected from the curved surface 110T so that the flow rate F2s of the gas ejected from the end portions 110S1 and 110S2 is larger than the flow rate F2c of the gas ejected from the central portion 110BC. It is possible to suppress the escape of the gas ejected from the end portion and to prevent the thickness of the coating liquid layer from increasing at the end portion in the width direction of the multilayer film 10.
  • the flow rates of the gases ejected from the two ends 110S1 and 110S2 are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • the second support portion 110B includes an outer end portion on the outer side of the end portions 110S1 and 110S2, and as described above, the amount of gas supplied to the outer end portions 110SO1 and 110SO2 can be adjusted. is there. Therefore, the gas is ejected from the curved surface 110T so that the flow rate F2os of the gas ejected from the outer end portions 110SO1 and 110SO2 is larger than the flow rate F2s of the gas ejected from the end portions 110S1 and 110S2. It is possible to suppress the escape of the gas ejected from the end portion of the film 11 and to suppress the increase in the thickness of the coating liquid layer at the end portion in the width direction of the multilayer film 10.
  • the flow rate F2s of the gas ejected from the curved surfaces 110T from the end portions 110S1 and 110S2 is larger than the flow rate F2c of the gas ejected from the central portion 110BC, and the flow rate F2os of the gas ejected from the outer end portions 110SO1 and 110SO2.
  • the flow rate of the gas ejected from the ends 110S1 and 110S2 is larger than the flow rate F2s.
  • the flow rates of the gases ejected from the two ends 110S1 and 110S2 are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • the flow rates of the gases ejected from the two outer end portions 110SO1 and 110SO2 are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • the support 110 preferably includes a porous member.
  • Part of the support 110 (for example, the first support portion, the second support portion, and the third support portion) may be made of a member made of a porous material, and the whole is made of a member made of a porous material. It may be configured.
  • porous material constituting the porous member examples include porous carbon and porous alumina.
  • the base film 11 is in a state of having a gap between the base film 11 and the support 110 due to the pressure of the gas ejected from the curved surface 110T of the support 110. Can be supported in (isolated state).
  • the average pore size of the porous member is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, preferably 30 ⁇ m or less, and more preferably 3.0 ⁇ m or less. If the hole diameter is too large, some of the holes may be blocked and gas may leak from other holes.However, if the hole diameter is set to the upper limit or less, even if some of the holes are blocked, the gas may leak. Leakage can be prevented, and the base film 11 can be supported by the support 110 with a uniform force in a separated state. This is presumed to be due to the following mechanism.
  • the pore diameter is too large, when some of the holes are covered with the base film 11, pressure fluctuations are transmitted through the internal structure of the support 110, and a large amount of gas is transmitted from the portion not covered with the base film 11. Leaks out, and the base film 11 may not be able to be supported in a separated state.
  • the pore diameter is set to the upper limit or less, even when some of the holes are covered with the base film 11, the pressure fluctuation is not easily transmitted to the internal structure of the support 110, and the portion not covered with the base film 11 is reached. The leakage of a large amount of gas is suppressed, and the base film 11 can be supported by the support 110 with a uniform force in a separated state.
  • the average pore size of the porous member can be measured, for example, by observation with an optical microscope or SEM observation.
  • the gas supplied from the support 110 to the gap S1 between the support 110 and the base film 11 is preferably high-pressure air.
  • the pressure is preferably 0.10 MPa or more, more preferably 0.30 MPa or more, preferably 0.70 MPa or less, and more preferably 0.50 MPa or less.
  • the pressure of the gas supplied by the support 110 is within the above range, the base film 11 can be supported in a non-contact state.
  • the coating liquid discharged from the coating port 161 is applied to the front surface 11A of the base film 11. While the coating liquid is applied, the base film 11 is supported in a non-contact state by the gas ejected from the second support portion 110B. The base film 11 after the coating liquid has been applied is supported in a non-contact state by the gas ejected from the third support portion 110C, and is further conveyed downstream of the transfer path.
  • the base film 11 provided with the coating liquid layer 12 is transported to the most downstream of the transport path, and then is subjected to the next step (for example, orientation treatment step, polymerization step, winding step, etc.) as necessary. , The multilayer film 10 is obtained.
  • the base film 11 is supported in a non-contact state with the support 110 in the coating step, spot-like coating unevenness due to foreign matter adhering to the support is generated. Can be prevented.
  • the gas ejection from the curved surface 110T is the gas flow rate F2 ejected from the second support portion 110B, the gas flow rate F1 ejected from the first support portion 110A, and the third support portion.
  • the flow rate F3 of the gas ejected from 110C is increased in this order (so as to satisfy the equation (1)). That is, according to the present embodiment, the flow rate F3 of the gas ejected from the third support portion 110C that supports the base film after the coating liquid is applied is larger than the other portions, so that the coating liquid is applied to the base film 11. It is possible to prevent the base film 11 from coming into contact with the support 110 due to the addition of weight, and to suppress the occurrence of scratches due to the contact.
  • the flow rate F2 of the gas ejected from the second support portion 110B which is a portion where the gas is difficult to escape, is smaller than that of the other portions, it is possible to suppress an increase in the floating amount of the base film 11. This makes it possible to suppress the occurrence of thick streaks (horizontal rows) that occur in the width direction of the base film due to the large amount of floating of the base film. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to provide a method for producing a multi-layer film having a layer of a coating liquid in which the occurrence of surface defects and the occurrence of scratches are suppressed.
  • the support device 100 includes a plurality of supply pipes 151A, 151B, 151C for supplying gas to the support 110, and each of the plurality of supply pipes 151A, 151B, 151C is a gas to the support 110. It has adjusting valves 150A, 150B, 150C for adjusting the supply amount of the gas, and in the coating step, the ejection of gas from the curved surface 110T is adjusted by the adjusting valves 150A, 150B, 150C so as to satisfy the above formula (1).
  • the amount of gas supplied can be adjusted so as to satisfy the equation (1) by operating the adjusting valves 150A, 150B, 150C. Therefore, the surface condition is deteriorated by a simple method. It is possible to provide a method for producing a multi-layer film having a layer of a coating liquid in which the generation and the occurrence of scratches are suppressed.
  • the outer end 110SO1, the end 110S1, the central 110BC, the end 110S2, and the outer 110SO2 of the second support 110B have supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B4, respectively. 151B5 are connected.
  • the inner cavity of each of the supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B5 communicates with the internal voids of the outer end 110SO1, the end 110S1, the central 110BC, the end 110S2 and the outer end 110SO2, respectively. Is provided. With this configuration, gas is independently supplied from the outside of the support 110 to the end portion, the central portion, and the outer end portion via these supply pipes.
  • the supply pipes 151B1, 151B2, 151B3, 151B4 and 151B5 have adjusting valves 150B1, 150B2, 150B3, 150B4 and 150B5, respectively, for adjusting the amount of gas supplied.
  • the gas is ejected from the curved surface 110T so that the flow rate F2s of the gas ejected from the end portions 110S1 and 110S2 is larger than the flow rate F2c of the gas ejected from the central portion 110BC. It is possible to suppress the escape of the gas ejected from the portion and to suppress the increase in the thickness of the coating liquid layer at the end portion in the width direction of the multilayer film 10. As a result, it is possible to provide a method for producing a multilayer film having excellent film thickness uniformity in the width direction.
  • the gas is ejected from the curved surface 110T so that the flow rate F2os of the gas ejected from the outer end portions 110SO1 and 110SO2 is larger than the flow rate F2s of the gas ejected from the end portions 110S1 and 110S2. It is possible to suppress the escape of the gas ejected from the end portion of the film 11 and to suppress the increase in the thickness of the coating liquid layer at the end portion in the width direction of the multilayer film 10. As a result, it is possible to provide a method for producing a multilayer film having excellent film thickness uniformity in the width direction.
  • the flow rate F2s of the gas ejected from the end portions 110S1 and 110S2 is larger than the flow rate F2c of the gas ejected from the central portion 110BC, and the gas ejected from the outer end portions 110SO1 and 110SO2.
  • FIG. 4 is a side view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the present embodiment.
  • the method for producing the multilayer film of the present embodiment is different from that of the first embodiment in the configuration of the support device used in the coating process.
  • the same configurations as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
  • the support 210 has a cylindrical shape. Since the length of the support 210 in the longitudinal direction (X1 direction) is the same as the width dimension of the base film 11, the longitudinal end of the support 210 corresponds to the width end of the base film 11. It is arranged in the position to do. Although the coating device is not shown in FIG. 4, the coating device is arranged above the base film 11. The peripheral surface of the cylindrical support 210 corresponds to a curved surface, and the curved surface defines the transport path.
  • the support 210 is partitioned by four partition walls 212A, 212B, 212C, 212D into five portions 211A, 211B, 211C, 211D, 211E arranged in the longitudinal direction of the support 210.
  • the first support portion side is shown in FIG. 4, the second support portion and the third support portion are also divided into five portions by four partition walls 212A, 212B, 212C, and 212D.
  • a partition wall for partitioning the first support portion, the second support portion, and the third support portion is provided.
  • Supply pipes 251A, 251B, 251C are provided for each portion (211A, 211B, 211C, 211D, 211E, etc.) partitioned by the partition wall (212A, 212B, 212C, 212D) and the partition wall that partitions each support portion, respectively. , 251D and 251E are connected.
  • Each of the supply pipes 251A, 251B, 251C, 251D and 251E is provided so that its lumen communicates with the internal void of each portion (211A, 211B, 211C, 211D, 211E, etc.).
  • gas is supplied from the outside of the support 210 via these supply pipes 251A, 251B, 251C, 251D and 251E.
  • the supply pipes 251A, 251B, 251C, 251D and 251E have adjusting valves 250A, 250B, 250C, 250D and 250E for adjusting the amount of gas supplied to each portion (211A, 211B, 211C, 211D, 211E, etc.), respectively.
  • FIG. 4 the state in which the gas is ejected from the second support portion arranged in the upper part of the drawing is indicated by the arrows 2B1, 2B2, 2B3, 2B4, and 2B5, respectively.
  • the base film 11 is supported in a non-contact state by the gases ejected from the first support portion, the second support portion, and the third support portion, respectively, and the coating step is performed. Be told. That is, also in the present embodiment, since the base film 11 is supported in a non-contact state with the support 110 in the coating process, it is possible to prevent the occurrence of spot-like coating unevenness due to foreign matter adhering to the support. can do.
  • the gas is ejected from the curved surface of the support 210 so as to satisfy the above formula (1), so that the occurrence of surface defects and scratches are similar to those in the first embodiment. It is possible to provide a method for producing a multilayer film in which the occurrence of is suppressed.
  • each support portion has five portions, and a supply pipe is attached to each portion.
  • the central portion of the second support portion is used. The flow rate of the gas ejected from the first support portion is made smaller than the flow rate of the gas ejected from the central portion of the first support portion and the central portion of the third support portion.
  • the gas ejected from the end portion of the base film 11 is suppressed from escaping, and the thickness of the coating liquid layer at the end portion in the width direction of the double glazing film 10 is suppressed from increasing. Therefore, it is possible to provide a method for producing a multilayer film having excellent film thickness uniformity in the width direction.
  • FIG. 5 is a side view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the present embodiment.
  • the method for producing the multilayer film of the present embodiment is different from that of the first embodiment in the configuration of the support device used in the coating process.
  • the same configurations as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
  • the support 310 has a cylindrical shape. Since the length of the support 310 in the longitudinal direction (X1 direction) is the same as the width dimension of the base film 11, the longitudinal end of the support 310 corresponds to the width end of the substrate film 11. It is arranged in the position to do. In FIG. 5, the coating device is not shown, but the coating device is arranged above the base film 11.
  • the peripheral surface of the cylindrical support 310 corresponds to a curved surface, and the curved surface defines the transport path.
  • the support 310 is provided with a partition wall for partitioning the first support portion, the second support portion, and the third support portion.
  • a supply pipe is connected to each of the first support portion, the second support portion, and the third support portion partitioned by the partition wall.
  • Each of the supply pipes is provided so that its lumen communicates with the respective internal void of each support. With such a configuration, gas is supplied from the outside of the support 310 through these supply pipes.
  • Each supply pipe has a regulating valve that adjusts the amount of gas supplied to each support portion. This makes it possible to adjust the amount of gas supplied to each support portion.
  • the support 310 includes a porous member, and the pore diameter of the porous member differs in the width direction of the base film.
  • the pore diameter of the porous member differs in the width direction of the base film means that the average pore diameter of the porous member depends on the position of the base film in the width direction (for example, the end portion and the center portion in the width direction). It means that the size of is different.
  • the average pore diameter is the smallest in the central portion 311C arranged in the center, and the average pore diameter increases toward the end.
  • the hole diameters increase in the order of 311C, 311B and 311D, 311A and 311E.
  • the pore diameters of 311B and 311D are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • the pore diameters of 311A and 311E are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • FIG. 5 the state in which gas is ejected from the five portions 311A, 311B, 311C, 311D, and 311E is indicated by arrows 3B1, 3B2, 3B3, 3B4, and 3B5, respectively.
  • the base film 11 is supported in a non-contact state by the gases ejected from the first support portion, the second support portion, and the third support portion, respectively, and the coating step is performed. Be told. That is, also in the present embodiment, since the base film 11 is supported in a non-contact state with the support 310 in the coating step, it is possible to prevent the occurrence of spot-like coating unevenness due to foreign matter adhering to the support. can do.
  • the gas is ejected from the curved surface of the support 310 so as to satisfy the above formula (1), so that the occurrence of surface defects and scratches are similar to those in the first embodiment. It is possible to provide a method for producing a multi-layer film having a layer of a coating liquid in which the occurrence of is suppressed.
  • the support 310 has the smallest hole diameter in the central portion 311C. Since the porous member having a larger pore diameter toward the end is included, the flow rate of the gas ejected from the end portions 311A and 311E of the support can be made larger than that of the central portion 311C. As a result, according to the present embodiment, the gas ejected from the widthwise end of the base film 11 is suppressed from escaping, and the thickness of the coating liquid layer at the widthwise end of the multilayer film 10 is large. It can be suppressed from becoming.
  • the pore diameters of the porous members are different in the width direction of the base film 11, it is not necessary to provide a partition wall for partitioning the portion in the width direction.
  • FIG. 6 is a perspective view schematically showing a support device used in the method for producing a multilayer film according to the present embodiment.
  • the method for producing the multilayer film of the present embodiment is different from that of the first embodiment in the configuration of the support device used in the coating process.
  • the same configurations as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
  • the support 410 has a cylindrical shape.
  • the coating device is not shown in FIG. 6, the coating device is arranged at a position facing the second support portions 411B1, 411B2, and 411B3.
  • the peripheral surface of the cylindrical support 410 corresponds to a curved surface, and the curved surface defines the transport path.
  • the support 400 includes a cylindrical porous member.
  • the pore diameter of this porous member differs in the width direction of the base film and also in the transport path.
  • the pore diameters of the porous members differ in the transport path means that the average pore diameter of the porous members varies depending on the positions in the transport path (first support portion, second support portion, and third support portion). Means that they are different. More specifically, one of the average pore diameter of the first support portion, the average pore diameter of the second support portion, and the average pore diameter of the third support portion is different from the other two, or they are all different from each other. It can be.
  • the porous member whose average pore diameter differs depending on the position in the transport path, it is possible to change the amount of gas ejected depending on the position in the transport path without partitioning by the partition wall.
  • the partition wall that divides the support into a plurality of portions in the width direction of the base film is also transported. There is no need for a partition wall that separates the three supports that line up along the path.
  • the three portions 411A1, 411A2, 411A3 arranged on the lower side of the support 410 are the first support portions, and the three portions 411B1, 411B2, 411B3 arranged on the first support portion are the second support portions.
  • the third support portion is a portion, and three portions 411C1, 411C2, 411C3 arranged on the second support portion are the third support portion.
  • the pore diameters of the porous members are in the order of 411B2, 411A2, 411C2, that is, the second support portion and the first support, when comparing three portions arranged in the direction of the transport path, for example, 411A2, 411B2, 411C2.
  • the largest part is in the order of the third support part.
  • the pore diameter of the porous member is larger in the end portions 411A1 and 411A3 than in the central portion 411A2 when comparing the three portions arranged in the width direction of the base film 11, for example, 411A1, 411A2, 411A3.
  • the pore diameters of the two ends of the base film 11 in the width direction are preferably the same, but may be different. If they are different, the difference is preferably small.
  • the base film 11 is supported in a non-contact state by the gases ejected from the first support portion, the second support portion, and the third support portion, respectively, and the coating step is performed. Be told. That is, also in this embodiment, since the base film 11 is supported in a non-contact state with the support 410 in the coating step, it is possible to prevent the occurrence of spot-like coating unevenness due to foreign matter adhering to the support. can do.
  • the support 410 includes a porous member having a larger pore diameter in the order of the second support portion, the first support portion, and the third support portion.
  • each support portion includes a porous member having a larger pore diameter at the end portion than the central portion in the width direction of the base film 11, for example, in the second support portion, the base film 11
  • the flow rate of the gas ejected from the end portions 411B1 and 411B3 in the width direction can be made larger than that of the central portion 411B2.
  • the gas is ejected on the curved surface at the end of the central portion 411B2. Since the portions can be increased in portions 411B1 and 411B3, a multilayer film having excellent uniformity of film thickness (thickness of the coating liquid layer) in the width direction can be produced by a simple structure.
  • the thickness of the coating liquid layer at 9 points in the width direction of the film is measured by an interference type film thickness meter (Filmetrics, F20 film thickness measurement system, model name: F20-EXR).
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the coating liquid layer was calculated, and the uniformity of the thickness of the coating liquid layer in the film width direction was evaluated according to the following criteria.
  • B The difference between the maximum value and the minimum value of the layer thickness of the coating liquid is 0.1 ⁇ m or more and less than 0.2 ⁇ m.
  • C The difference between the maximum value and the minimum value of the layer thickness of the coating liquid is 0.2 ⁇ m or more and less than 1.0 ⁇ m.
  • D The difference between the maximum value and the minimum value of the layer thickness of the coating liquid is 1.0 ⁇ m or more.
  • Example 1 (1-1. Preparation of support device) As the support device, the support device 100 having the shape described in the first embodiment was prepared. Porous carbon having an average pore diameter of 1.0 ⁇ m was used as the material of the support. Inside the support 110, five partition walls 112A and 112B and a second support 110B for partitioning the first support 110A, the second support 110B and the third support 110C are provided in the width direction of the base film 11. Partition walls 112C1, 112C21, 112C3, 112C4 for partitioning the portions (outer end 110SO1, end 110S1, central 110BC, end 110S2, outer end 110SO2) were provided.
  • the portion directly below the coating device on the curved surface of the support and the portion ⁇ 25 mm along the curved surface of the support (conveying direction) from the portion directly below the coating device is the second supporting portion, and is upstream of the transport path from the second supporting portion.
  • the portion downstream of the transport path from the second support portion was designated as the third support portion.
  • the ends 110S1 and 110S2 of the second support portion are formed from the positions corresponding to the widthwise end portions 11S1 and 11S2 of the base film 11 to 200 mm inward in the width direction.
  • a supply pipe with a regulating valve that independently adjusts the flow rate of gas was attached to the portion partitioned by the partition wall.
  • liquid crystal composition (X) was prepared by mixing 0.84 parts (4 parts with respect to 100 parts of the polymerizable liquid crystal compound) and 78 parts of a mixed solvent of cyclopentanone and 1,3-dioxolane.
  • Flow rate of gas ejected from the first support F1 0.090 mL / min ⁇ cm 2
  • Flow rate F2 of gas ejected from the second support portion (flow rate F2c of gas ejected from the central portion 110BC of the second support portion): 0.030 mL / min ⁇ cm 2
  • Flow rate of gas ejected from the ends 110S1 and 110S2 of the second support portion F2s 0.060 mL / min ⁇ cm 2
  • Flow rate of gas ejected from the outer end 110SO1 and 110SO2 of the second support part F2os 0.085 mL / min ⁇ cm 2
  • Flow rate of gas ejected from the third support F3 0.160 mL / min ⁇ cm 2 That is, in this example, the coating step was performed under the condition of satisfying the equation (1).
  • the layer of the coating liquid after the treatment of (1-4) is irradiated with ultraviolet rays having an integrated illuminance of 700 mJ / cm 2 (irradiation intensity 350 mW / cm 2 , irradiation time 2 seconds) or more.
  • ultraviolet rays having an integrated illuminance of 700 mJ / cm 2 (irradiation intensity 350 mW / cm 2 , irradiation time 2 seconds) or more.
  • a polymer layer formed of a cured product of a homogeneously oriented composition having a dry film thickness of 2.4 ⁇ m is obtained, and a multi-layer film having a layer structure of (base material) / (polymer layer) is obtained. It was.
  • an evaluation test was carried out on the obtained multi-layer film, no surface defects (horizontal steps and spot unevenness) and scratches were generated, and the uniformity of the film thickness in the width direction was excellent.
  • Example 2 A multilayer film was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that F2os was set to 0.060 mL / min ⁇ cm 2 in (1-3) of Example 1. In this example as well, the coating step was performed under the conditions satisfying the formula (1). When the evaluation test was carried out on the obtained multi-layer film, no surface defects (horizontal steps and spot unevenness) and no scratches were generated. The film thickness was slightly at the edge in the width direction of the film, but the film thickness uniformity was good.
  • Example 3 The same operation as in Example 1 was performed except that F2s was 0.030 mL / min ⁇ cm 2 and F2os was 0.030 mL / min ⁇ cm 2 in (1-3) of Example 1, and the multilayer film was formed. Got In this example as well, the coating step was performed under the conditions satisfying the formula (1). When the evaluation test was carried out on the obtained multi-layer film, no surface defects (horizontal steps and spot unevenness) and no scratches were generated. The edge in the width direction of the film was a little thick, but it was within the range where there was no problem in use.
  • Example 4 In (1-3) of Example 1, the support device described below was used instead of the support device prepared in (1-1), F1 was 1.0 mL / min ⁇ cm 2 , and F2 (F2c). ) was 0.50 mL / min ⁇ cm 2 , F2s was 0.50 mL / min ⁇ cm 2 , F2os was 0.50 mL / min ⁇ cm 2 , and F3 was 1.8 mL / min ⁇ cm 2. The same operation as in 1 was performed to obtain a multilayer film. In this example as well, the coating step was performed under the conditions satisfying the formula (1).
  • Support device Using stainless steel (SUS) as a material, a support device provided with a support having holes having a diameter of 2 mm uniformly provided was prepared. The structure of the support 110 was the same as that of the first embodiment.
  • Example 1 (Comparative Example 1) In (1-3) of Example 1, except that the 0.03 mL / min ⁇ cm 2, F2os a 0.03 mL / min ⁇ cm 2, F3 and F2s was 0.09 mL / min ⁇ cm 2, carried The same operation as in Example 1 was performed to obtain a multilayer film. When the evaluation test was carried out on the obtained multilayer film, no surface defect was found, but scratches due to a small amount of levitation were observed in the third support portion. Further, the film thickness of the end portion is increased due to the small amount of floating of the end portion in the width direction of the film, and the uniformity of the film thickness is poor.
  • Example 3 (Comparative Example 3) The same operation as in Example 1 was performed except that the following steps (C3-3) were performed in place of the step (1-3) in Example 1 to obtain a multilayer film. When the evaluation test was carried out on the obtained multi-layer film, no scratches were observed and the film thickness was good in uniformity, but horizontal and spot-like coating unevenness occurred.
  • Multi-layer film 11 Base film 11A ... Front surface 11B ... Back surface 12 ... Layer containing coating liquid 100, 200, 300 ... Support device 110, 210, 310, 410 ... Support 110A ... First support 110B ... 2nd support 110BC ... Central 110S1, 110S2 ... End 110SO1, 110S2 ... Outer end 110C ... 3rd support 110T ... Curved surface 112A, 112B, 112C1, 112C2, 112C3, 112C4 ... Partition wall 150A, 150B ( 150B1 to 150B5), 150C ... Preparation valves 151A, 151B (151B1 to 151B5), 151C ...

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Abstract

長尺の基材フィルムに、塗布液を塗布する工程を含む複層フィルムの製造方法であって、塗布工程において、基材フィルムは、曲面を有する支持体を含む支持装置の曲面により規定される搬送経路に沿って搬送され、支持体は、曲面から気体を噴出して、搬送される基材フィルムを、非接触状態で支持する部材であり、支持体は、搬送経路の上流から順に、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を含み、塗布液の塗布は、第2支持部に対向して設けられた塗布装置により、基材フィルムの表面に、塗布液の層を設けることにより行われ、曲面からの気体の噴出は、F2<F1<F3である、複層フィルムの製造方法(F1は、第1支持部から噴出する気体の流量、F2は、第2支持部から噴出する気体の流量、F3は、第3支持部から噴出する気体の流量である)。

Description

複層フィルムの製造方法
 本発明は、複層フィルムの製造方法に関する。
 機能性材料を含む層を設けた複層フィルムは、長尺の基材フィルムを、バックアップロールで支持しながら、機能性材料を含む塗布液を塗布することにより製造しうる。このような複層フィルムの製造において、基材フィルムの非塗布面と接触して支持するバックアップロールを用いる場合、バックアップロールに付着したほこりなどの異物の上に配された基材フィルムが、部分的にふくらむことで、スポット状の塗布ムラが生じることがある。また、塗布液が吐出される部分では、基材フィルムが、吐出した塗布液により、バックアップロールに押し付けられて、強い摩擦力が生じ、速度ムラが発生し、塗布厚みのムラやしわ等が生じることがある。
 このような問題を解決するものとして、基材フィルムを浮上搬送させながら塗布液を塗布する方法が検討されている(例えば特許文献1を参照)。
特開平5-7816号公報
 基材フィルムの浮上搬送は、表面から気体を噴出して、基材フィルムを非接触状態で支持する支持装置により行いうる。このような支持装置からの気体の噴出量が、基材フィルムの搬送方向において均一である場合、塗布液が塗布された直後の基材フィルムでは、基材フィルムの重量に塗布液の重量が加わる。そのため、塗布液の層を伴う基材フィルムの浮上量は、塗布液を塗布する前の基材フィルムに比べて変化し、浮上量が不均一になり、その結果、基材フィルムが支持装置と接触して傷が発生するおそれがあるということがわかった。
 また、支持装置からの気体の噴出量が、基材フィルムの搬送方向において均一である場合、塗布液が塗布される部分では、気体が逃げにくくなっているために、他の部分よりも基材フィルムの浮上量が大きくなりやすく、これにより、基材フィルムの浮上状態が不安定となり、基材フィルムの幅方向に生じる厚みの大きいスジ(横段)が生じうるということがわかった。
 スポット状のムラ、しわ、横段等の面状不良や、傷がフィルムに存在すると、機能性材料の機能に悪影響を引き起こす場合があるため、面状不良や傷が発生した部分はフィルムから除去される。したがって、面状不良や傷の発生を抑制したフィルムの製造方法が求められている。
 本発明は、上記課題に鑑みて創案されたものであって、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した、機能性材料を含む塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、基材フィルムに塗布液を塗布する塗布工程を含む複層フィルムの製造方法において、気体を噴出する曲面を有し、かつ、塗布液の塗布前、塗布中及び塗布後における、当該曲面からの気体の流量が所定の関係を満たす支持体により、基材フィルムを非接触状態で支持し搬送することにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。
 すなわち、本発明は、下記のものを含む。
 〔1〕 おもて面及び裏面を有する長尺の基材フィルムのおもて面に、機能性材料を含む塗布液を塗布する塗布工程を含む複層フィルムの製造方法であって、
 前記塗布工程において、前記基材フィルムは、曲面を有する支持体を含む支持装置の前記曲面により規定される搬送経路に沿って搬送され、
 前記支持体は、前記曲面から気体を噴出して、搬送される前記基材フィルムを、前記裏面側から非接触状態で支持する部材であり、
 前記支持体は、前記搬送経路の上流から順に、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を含み、
 前記塗布液の塗布は、前記支持体の前記第2支持部に対向して設けられた塗布装置により、前記基材フィルムの前記おもて面に、前記塗布液の層を設けることにより行われ、
 前記曲面からの前記気体の噴出は、下記式(1)を満たす、複層フィルムの製造方法:
 F2<F1<F3   (1)
 式中、F1は、前記第1支持部から噴出する気体の流量であり、
 F2は、前記第2支持部から噴出する気体の流量であり、
 F3は、前記第3支持部から噴出する気体の流量である。
 〔2〕 前記第2支持部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向と平行な方向における、端部及び中央部を含み、
 前記端部から噴出する気体の流量F2sが、前記中央部から噴出する気体の流量F2cよりも大きい、〔1〕に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔3〕 前記第2支持部の前記端部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向端部より内側に対応する位置に設けられ、
 前記第2支持部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向端部より外側に対応する外端部をさらに含み、
 前記外端部から噴出する気体の流量F2osが、前記端部から噴出する気体の流量F2sよりも大きい、〔2〕に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔4〕 前記支持装置が、前記支持体へ前記気体を供給する、複数の供給管を含み、
 前記複数の供給管のそれぞれは、前記支持体への前記気体の供給量を調整する調整弁を有し、
 前記塗布工程において、前記曲面からの前記気体の噴出を、前記調整弁により、前記式(1)を満たすよう調整することを含む、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔5〕 前記支持体が多孔質部材を含む、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔6〕 前記多孔質部材の孔径は、前記搬送経路において異なる、〔5〕に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔7〕 前記多孔質部材の孔径は、前記基材フィルムの幅方向において異なる、〔5〕または〔6〕に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔8〕 前記多孔質部材の平均孔径が0.1μm~30μmである、〔5〕~〔7〕のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
 〔9〕 前記塗布装置がダイコーターである、〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
 本発明によれば、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した、機能性材料を含む塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することができる。
図1は、実施形態1に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す正面図である。 図2は、支持装置を、側面方向から模式的に示す斜視図である。 図3は、図1のY1-Y1線における断面を模式的に示す断面図である。 図4は、実施形態2に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す側面図である。 図5は、実施形態3に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す側面図である。 図6は、実施形態4に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す斜視図である。
 以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長尺のフィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下としうる。
 本発明において、長尺のフィルムの幅方向とは、フィルムの搬送方向に対して垂直な方向であって、フィルムの面に平行な方向をいう。フィルムの搬送方向とは、支持装置により支持された長尺のフィルムが搬送される方向であり、通常は長尺のフィルムの長手方向と平行である。
 以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±4°、好ましくは±3°、より好ましくは±1°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
 以下の説明において、「斜め方向」とは、内筒部材の長手方向に平行(長手方向に対して角度0°をなす方向)でも垂直(長手方向に対して角度90°をなす方向)でもない方向を表す。
 [本発明の複層フィルムの製造方法の概要]
 本発明の複層フィルムの製造方法は、おもて面及び裏面を有する長尺の基材フィルムのおもて面に、機能性材料を含む塗布液を塗布する塗布工程を含む。塗布工程において、基材フィルムは、曲面を有する支持体を含む支持装置の曲面により規定される搬送経路に沿って搬送される。支持体は、曲面から気体を噴出して、搬送される基材フィルムを、裏面側から非接触状態で支持する部材であり、搬送経路の上流から順に、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を含む。塗布液の塗布は、支持体の第2支持部に対向して設けられた塗布装置により、基材フィルムのおもて面に、塗布液の層を設けることにより行われる。曲面からの気体の噴出は、下記式(1)を満たす。
 F2<F1<F3   (1)
 (式中、F1は、第1支持部から噴出する気体の流量であり、F2は、第2支持部から噴出する気体の流量であり、F3は、第3支持部から噴出する気体の流量である。)
 [実施形態1]
 以下、本発明に係る実施形態1の複層フィルムの製造方法について、図1~3を参照しつつ説明する。図1は、本実施形態に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す正面図である。図2は、支持装置を、側面方向から模式的に示す斜視図である。図3は、図1のY1-Y1線における断面を模式的に示す断面図である。図1は、搬送される基材フィルムの幅方向から観察した支持装置を図示しており、本願においてはかかる観察方向を正面方向と規定する。
 本実施形態の複層フィルムの製造方法は、おもて面及び裏面を有する長尺の基材フィルムのおもて面に、機能性材料を含む塗布液を塗布する塗布工程を含む。
 塗布工程において、基材フィルム11は、図1に示すように、曲面110Tを有する支持体110の、曲面110Tにより規定される搬送経路に沿って搬送される。図1においてA1は搬送方向を示す。
 繰り出し装置(図示せず)から繰り出された基材フィルム11は、支持体110の曲面110Tと非接触状態を保ちながら、前記曲面110Tに沿ってA1で示す方向に搬送され、塗布装置160の直下に至ると、基材フィルム11のおもて面11Aに塗布液が塗布される。塗布液が塗布された基材フィルム11のおもて面11Aには、塗布液を含む層12が形成され、曲面110に沿って、図示下方に搬送される。
 基材フィルム11は、塗布装置160による塗布を行う前(塗布装置160よりも搬送経路の上流)においては、支持体110の第1支持部110Aから噴出する気体により、支持体110とは非接触状態で支持される。基材フィルム11は、塗布装置160による塗布を行うとき(塗布装置160の直下及びその近傍)には、支持体110の第2支持部110Bから噴出する気体により非接触状態で支持される。基材フィルム11は、塗布装置160による塗布後(塗布装置160よりも搬送経路の下流)においては、支持体110の第3支持部110Cから噴出する気体により非接触状態で支持される。塗布工程において、支持体110の曲面110Tからの気体の噴出は、式(1)を満たすように行う。
 F2<F1<F3   (1)
 式(1)中、F1は、第1支持部から噴出する気体の流量であり、F2は、第2支持部から噴出する気体の流量であり、F3は、第3支持部から噴出する気体の流量である。つまり、塗布工程において、曲面からの気体の噴出を、第2支持部110Bから噴出する気体の流量F2、第1支持部110Aから噴出する気体の流量F1、第3支持部110Cから噴出する気体の流量F3の順で大きくなるように行う。
 以下、本実施形態の製造方法について、さらに具体的に説明する。
 [基材フィルム]
 本実施形態で用いる基材フィルム11は、おもて面11A及び裏面11Bを有する長尺のフィルムである。
 基材フィルムとしては、例えば熱可塑性樹脂からなるフィルムが挙げられる。熱可塑性樹脂は、重合体を含む。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル重合体、メタクリル重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、アラミド、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらのうち、配向規制力が高く、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れるという観点から、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体としては、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
 基材フィルムとしては、塗布液の塗布の前に、所定の処理を行ったものを用いうる。例えば塗布液として、重合性を有する液晶化合物を含む塗布液を用いる場合、重合性液晶化合物の配向を促進するため、基材フィルムとして配向規制力を付与するための処理が施されているものを用いることが好ましい。配向規制力とは、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物等の液晶化合物を配向させることができる、面の性質をいう。支持面に配向規制力を付与するため処理としては、例えば、配向膜形成処理、光配向処理、ラビング処理、イオンビーム配向処理、延伸処理などが挙げられる。
 [塗布液]
 機能性材料を含む塗布液は、塗布液は機能性材料を含む。例えば、塗布液は、重合性を有する液晶性化合物、重合開始剤、架橋剤、モノマー、酸化防止剤、界面活性剤などの機能性材料を含みうる。また塗布液は、有機溶媒、水などの溶媒を含みうる。塗布液は、分散媒中に、機能性材料が分散した分散液であってもよく、コロイド状液であってもよい。
 [塗布装置]
 塗布装置は、塗布液を基材フィルム11に塗布する装置である。塗布装置としては、ダイコーター、グラビアコーター等が挙げられる。これらのうちダイコーターが好ましい。本実施形態では、塗布装置160としてダイコーターを用いた例について説明する。
 塗布装置160(ダイコーター)は、塗布液を押し出す押出装置と連結されている。ダイコーターは、支持体110の第2支持部110Bと対向するリップを備え、リップ先端に形成された吐出口161から、塗布液を吐出し、搬送される基材フィルム11のおもて面11Aに連続的に塗布液を塗布する。これにより、基材フィルム11のおもて面11Aに、塗布液の層12が形成される。
 [支持装置]
 塗布工程において基材フィルム11を支持する支持装置100は、曲面110Tを有する支持体110を含む。また、本実施形態において、支持装置100は、支持体110へ気体を供給する供給管151A,151B(151B1~151B5),151C(複数の供給管)を含む。
 [支持体]
 支持体110は、曲面110Tから気体を噴出して、搬送される基材フィルム11を裏面11B側から非接触状態で支持する部材である。支持体110は円筒状の部材の上に、正面視C字状の部材を重ねた形状である(図1参照)。図2に示すように、支持体110の長手方向(X1方向)の長さは、基材フィルム11の幅寸法よりも長く、基材フィルム11の幅寸法は、C字状の部材の長手方向の長さとほぼ同じである。C字状の部材の上面は支持体110の曲面110Tであり、当該曲面110Tの形状は、図1に示すように、円弧状である。支持体の曲面110Tにより、基材フィルム11の搬送経路が規定される。
 支持体110の抱き角は、好ましくは80°以上、より好ましくは120°以上であり、好ましくは250°以下、より好ましくは240°以下である。本実施形態において、抱き角とは、曲面11Aと同じカーブを描く円において、基材フィルム11と曲面110Aとの間隔が1mm以下となった部分の角度をいう。図1において110Pは円(曲面110Aと同じカーブを描く円)の中心である。
 支持体110は、搬送経路の上流から順に、第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cを含む。図1に示すように、第2支持部110Bは、塗布装置160と対向する位置に設けられている。第1支持部110Aは、塗布装置160よりも搬送経路の上流の位置に設けられ、第3支持部110Cは塗布装置160よりも搬送経路の下流の位置に設けられている。本実施形態において、第2支持部110Bは、支持体曲面の、塗布装置の直下の部分、及び、当該塗布装置の直下の部分から搬送方向(支持体曲面)に沿って±25mmの部分であるが、本発明はこれに限定されない。例えば支持体曲面の塗布装置の直下の部分、及び、当該塗布装置の直下の部分から搬送方向に沿って±60mmの部分または±40mmの部分であってもよい。
 第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cは、仕切り壁112A,112Bにより仕切られている。第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cには、それぞれ、供給管151A,151B,151Cが連結される。供給管151A,151B,151Cのそれぞれは、その内腔が、第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cのそれぞれの内部の空隙に連通するよう設けられる。かかる構成により、支持体110の外部から、供給管151A,151B,151Cを介して、第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cに独立に気体が供給されるようになっている。供給管151A,151B,151Cは、それぞれ、第1支持部110A、第2支持部110B及び第3支持部110Cへの気体の供給量を調整する調整弁150A,150B,150Cを有する。本実施形態では、塗布工程においては、曲面110Tからの気体の噴出を、調整弁150A,150B,150Cにより上記式(1)を満たすように調整することを含む。図1においては、第1支持部110A、第2支持部110B、第3支持部110Cから気体が噴出する様子を、それぞれ、1A、1B、1Cの矢印で示している。
 本実施形態において、第2支持部110Bは、図3に示すように、搬送される基材フィルム11の幅方向と平行な方向(X1方向)における、端部110S1及び110S2と中央部110BCと、を含む。第2支持部110Bの端部110S1及び110S2は、それぞれ、基材フィルム11の幅方向端部11S1,11S2より内側に対応する位置に設けられている。第2支持部110Bは、搬送される基材フィルム11の幅方向端部11S1,11S2より外側に対応する外端部110SO1,110SO2をさらに含む。つまり第2支持部110Bは、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2、外端部110SO2を含む。本実施形態においては、第2支持部110Bの端部110S1および110S2は、基材フィルム11の幅方向端部11S1,11S2に対応する位置から、幅方向内側へ100mm~200mmまでの部分としうる。
 第2支持部110Bは、図3に示すように、4つの仕切り壁112C1、112C2、112C3、および112C4により、5つの部分(外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2および外端部110SO2)に仕切られている。
 外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2には、それぞれ、供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5が連結される。供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5のそれぞれは、その内腔が、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2のそれぞれの内部の空隙に連通するよう設けられる。かかる構成により、支持体110の外部から、これらの供給管を介して端部、中央部及び外端部に独立に気体が供給されるようになっている。供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5は、それぞれ、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2への気体の供給量を調整する調整弁150B1、150B2、150B3、150B4及び150B5を有している。これにより、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2への気体の供給量の調整が可能となっている。図2及び図3においては、第2支持部110Bの、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2から気体が噴出する様子を、それぞれ、1B1、1B2、1B3、1B4、1B5の矢印で示している。
 本実施形態において、第2支持部110Bは、5つの部分を有し、各部分に供給管が取り付けられているが、式(1)を満たすように調整する際には、第2支持部の中央部110BCから噴出する気体の流量を、第1支持部及び第3支持部から噴出する気体の流量よりも小さくなるようにする。
 第2支持部110Bの端部110S1,110S2は、基材フィルム11の幅方向の端部に対応する部分であるため、当該端部110S1,110S2から噴出する気体は、基材フィルム11の端部から逃げやすくなっている。塗布工程において基材フィルム11の幅方向の端部から噴出気体が逃げると、複層フィルム10の幅方向の端部において、他の部分よりも塗布液の層の厚みが大きくなることがある。上述したように、本実施形態では、第2支持部の各部分(外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2)への気体の供給量の調整は、調整弁150B1、150B2、150B3、150B4及び150B5により行うことができる。したがって、曲面110Tからの気体の噴出を、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sが、中央部110BCから噴出する気体の流量F2cよりも大きくなるように行うことで、基材フィルム11の端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができる。2つの端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量は同一であるのが好ましいが相違していてもよい。相違している場合、その差は小さいほうが好ましい。
 また、本実施形態では、第2支持部110Bは端部110S1,110S2の外側に外端部を含んでおり、上述したように外端部110SO1,110SO2への気体の供給量の調整も可能である。したがって、曲面110Tからの気体の噴出を、外端部110SO1及び110SO2から噴出する気体の流量F2osを、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sよりも大きくなるように行うことで、基材フィルム11の端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができる。
 曲面110Tからの気体の噴出を、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sが、中央部110BCから噴出する気体の流量F2cよりも大きく、外端部110SO1及び110SO2から噴出する気体の流量F2osが、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sよりも大きくなるように行うことが、好ましい。かかる流量の調節を行うことにより、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのをより有効に抑制し、膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造を行うことができる。2つの端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量は同一であるのが好ましいが相違していてもよい。相違している場合その差は小さいほうが好ましい。2つの外端部110SO1及び110SO2から噴出する気体の流量についても同一であるのが好ましいが、相違していてもよい。相違している場合、その差は小さいほうが好ましい。
 支持体110は多孔質部材を含むことが好ましい。支持体110は、一部(例えば、第1支持部、第2支持部、第3支持部)が、多孔質材料からなる部材で構成されていてもよく、全体が多孔質材料からなる部材で構成されていてもよい。
 多孔質部材を構成する多孔質材料としては、ポーラスカーボン、ポーラスアルミナ等が挙げられる。このような多孔質材料からなる部材を含む内筒部材を用いると、支持体110の曲面110Tから噴出する気体の圧力により、基材フィルム11を、支持体110との間に間隙をあけた状態(離隔状態)で支持することができる。
 支持体110が多孔質部材を含む場合、多孔質部材の平均孔径は好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは3.0μm以下である。孔径が大きすぎる場合、一部の孔がふさがれて、他の孔から気体の漏れが生じることがあるが、孔径を上限値以下とすると、一部の孔がふさがれたとしても、気体の漏れを防止することができ、基材フィルム11が、支持体110に均一な力で、離隔状態で支持されうる。このことは、以下のメカニズムによるものと推測される。孔径が大きすぎる場合、一部の孔が基材フィルム11で覆われたときに、圧力の変動が支持体110の内部構造を伝わって、基材フィルム11で覆われていない部分から多量の気体が漏れ出てしまい、基材フィルム11を、離隔状態で支持できなくなくなることがある。孔径を上限値以下とすると、一部の孔が基材フィルム11で覆われたときにも、圧力の変動が支持体110の内部構造に伝わりにくく、基材フィルム11で覆われていない部分への大量の気体の漏れが抑制され、基材フィルム11が支持体110に均一な力で、離隔状態で支持されうる。多孔質部材の平均孔径は、例えば光学顕微鏡観察や、SEM観察により測定しうる。
 支持体110から、支持体110と基材フィルム11との間の隙間S1に供給される気体は、高圧空気であることが好ましい。気体が高圧空気である場合、その圧力は好ましくは0.10MPa以上、より好ましくは0.30MPa以上であり、好ましくは0.70MPa以下、より好ましくは0.50MPa以下である。支持体110が供給する気体の圧力が前記範囲であると、基材フィルム11を非接触状態で支持しうる。
 [作用及び効果]
 本実施形態の複層フィルムの製造方法の作用及び効果について説明する。
 繰り出し装置から繰り出された基材フィルム11は、曲面110Tにより規定される搬送経路の最も上流の位置に至ると、曲面110Tから噴出する気体により、非接触状態に支持され、曲面110Tに沿って搬送される。基材フィルム11は、第1支持部110と対向する位置では第1支持部110Aから噴出する気体により非接触状態で支持され、第2支持部110Bと対向する位置に至ると、第2支持部110Bから噴出する気体により非接触状態で支持される。
 基材フィルム11が塗布装置160の直下に至ると、基材フィルム11のおもて面11Aに塗布口161から吐出された塗布液が塗布される。塗布液が塗布される間も、基材フィルム11は第2支持部110Bから噴出する気体により非接触状態で支持される。塗布液が塗布された後の基材フィルム11は、第3支持部110Cから噴出する気体により非接触状態で支持され、さらに搬送経路の下流に搬送される。塗布液の層12が設けられた基材フィルム11は、搬送経路の最下流まで搬送された後、必要に応じ、次の工程(たとえば配向処理工程、重合工程、巻取工程等)に供され、複層フィルム10が得られる。
 つまり本実施形態によれば、基材フィルム11が、塗布工程において、支持体110と非接触状態で支持されるので、支持体に異物が付着することに起因するスポット状の塗布ムラの発生を防止することができる。
 また、本実施形態では、塗布工程において、曲面110Tからの気体の噴出を、第2支持部110Bから噴出する気体の流量F2、第1支持部110Aから噴出する気体の流量F1、第3支持部110Cから噴出する気体の流量F3の順で大きくなるように(式(1)を満たすように)行う。つまり、本実施形態によれば、塗布液塗布後の基材フィルムを支持する第3支持部110Cから噴出する気体の流量F3は、他の部分よりも大きいので、基材フィルム11に塗布液の重みが加わることによる基材フィルム11と支持体110との接触を防止し、接触に起因する傷の発生を抑制することができる。また、本実施形態によれば、気体が逃げにくい部分である第2支持部110Bから噴出する気体の流量F2が他の部分よりも小さいので、基材フィルム11の浮上量が大きくなることを抑制することができ、基材フィルムの浮上量が大きくなることに起因する、基材フィルムの幅方向に生じる厚みの大きいスジ(横段)の発生を抑制することができる。
 従って、本実施形態によれば、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 また本実施形態において、支持装置100は、支持体110へ気体を供給する複数の供給管151A,151B,151Cを含み、複数の供給管151A,151B,151Cのそれぞれは、支持体110への気体の供給量を調整する調整弁150A,150B,150Cを有し、塗布工程において、曲面110Tからの気体の噴出を、調整弁150A,150B,150Cにより、上記式(1)を満たすよう調整する。その結果、本実施形態によれば、調整弁150A,150B,150Cの操作により、式(1)を満たすように気体の供給量を調整することができるので、簡易な方法により、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 さらに、本実施形態において、第2支持部110Bの、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2には、それぞれ、供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5が連結される。供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5のそれぞれは、その内腔が、外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2及び外端部110SO2のそれぞれの内部の空隙に連通するよう設けられる。かかる構成により、支持体110の外部から、これらの供給管を介して端部、中央部及び外端部に独立に気体が供給されるようになっている。供給管151B1、151B2、151B3、151B4及び151B5は、それぞれ、気体の供給量を調整する調整弁150B1、150B2、150B3、150B4及び150B5を有している。これにより、第2支持部110Bの各部分への気体の供給量の調整を容易に行いうる。したがって、曲面110Tからの気体の噴出を、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sが、中央部110BCから噴出する気体の流量F2cよりも大きくなるように行うことにより、基材フィルム11端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができる。その結果、幅方向における、膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 また、曲面110Tからの気体の噴出を、外端部110SO1及び110SO2から噴出する気体の流量F2osを、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sよりも大きくなるように行うことにより、基材フィルム11の端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができる。その結果、幅方向における、膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造方法を提供することができる。さらに、曲面110Tからの気体の噴出を、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sが、中央部110BCから噴出する気体の流量F2cよりも大きく、外端部110SO1及び110SO2から噴出する気体の流量F2osが、端部110S1及び110S2から噴出する気体の流量F2sよりも大きくなるように行うことにより、より膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 [実施形態2]
 以下、本発明に係る実施形態2の複層フィルムの製造方法について、図4を参照しつつ説明する。図4は、本実施形態に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す側面図である。
 本実施形態の複層フィルムの製造方法は、塗布工程で用いる支持装置の構成が実施形態1と相違する。以下において、実施形態1と同様の構成については、同じ符号を付し、重複した説明は省略する。
 本実施形態の支持装置200において、支持体210は円筒状である。支持体210の長手方向(X1方向)の長さは基材フィルム11の幅寸法と同じであるので、支持体210の長手方向の端部は、基材フィルム11の幅方向の端部と対応する位置に配される。図4において、塗布装置は図示していないが、塗布装置は基材フィルム11の上方に配置される。円筒状の支持体210の周面は曲面に対応し、当該曲面により搬送経路が規定される。
 本実施形態において、支持体210は4つの仕切り壁212A,212B,212C,212Dにより、支持体の210の長手方向に並ぶ5つの部分211A,211B,211C,211D,211Eに仕切られている。図4では第1支持部側を示しているが、第2支持部および第3支持部についても、4つの仕切り壁212A,212B,212C,212Dにより5つの部分に仕切られている。また、詳細は図示しないが、本実施形態でも実施形態1と同様に、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を仕切る仕切り壁が設けられている。仕切り壁(212A,212B,212C,212D)ならびに各支持部を仕切る仕切り壁により、仕切られた各部分(211A,211B,211C,211D,211Eなど)には、それぞれ、供給管251A、251B、251C、251D及び251Eが連結される。供給管251A、251B、251C、251D及び251Eのそれぞれは、その内腔が、各部分(211A,211B,211C,211D,211Eなど)のそれぞれの内部の空隙に連通するよう設けられる。かかる構成により、支持体210の外部から、これらの供給管251A、251B、251C、251D及び251Eを介して気体が供給されるようになっている。供給管251A、251B、251C、251D及び251Eは、それぞれ、各部分(211A,211B,211C,211D,211Eなど)への気体の供給量を調整する調整弁250A、250B、250C、250D及び250Eを有している。これにより、各部分(211A,211B,211C,211D,211Eなど)への気体の供給量の調整が可能となっている。図4においては、図示上部に配される第2支持部から気体が噴出する様子を、それぞれ、2B1、2B2、2B3、2B4、2B5の矢印で示している。
 [作用及び効果]
 本実施形態においても、実施形態1と同様に、基材フィルム11は、第1支持部、第2支持部、第3支持部からそれぞれ噴出する気体により非接触状態で支持され、塗布工程が行われる。つまり本実施形態においても、基材フィルム11が、塗布工程において、支持体110と非接触状態で支持されるので、支持体に異物が付着することに起因するスポット状の塗布ムラの発生を防止することができる。
 また、本実施形態によっても、塗布工程において、支持体210の曲面からの気体の噴出は、上記式(1)を満たすように行うので、実施形態1と同様に、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した、複層フィルムの製造方法を提供することができる。本実施形態において、各支持部は5つの部分を有し、各部分に供給管が取り付けられているが、式(1)を満たすように調整する際には、第2支持部の中央の部分から噴出する気体の流量を、第1支持部の中央の部分及び第3支持部の中央の部分から噴出する気体の流量よりも小さくなるようにする。
 支持体210の長手方向の端部からは、2B6および2B7の矢印で示すように気体が逃げやすくなっているが、本実施形態においては、調製弁250A1、250B、250C、250D及び250Eにより、各部分(211A,211B,211C,211D,211Eなど)への気体の供給量の調整が可能であるので、曲面からの気体の噴出を、中央部分211Cで最も小さくなるようにし、端部へ行くほど大きくなるようにすることを容易に行いうる。その結果、本実施形態によれば、基材フィルム11端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができるので、幅方向における、膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 [実施形態3]
 以下、本発明に係る実施形態3の複層フィルムの製造方法について、図5を参照しつつ説明する。図5は、本実施形態に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す側面図である。
 本実施形態の複層フィルムの製造方法は、塗布工程で用いる支持装置の構成が実施形態1と相違する。以下において、実施形態1と同様の構成については、同じ符号を付し、重複した説明は省略する。
 本実施形態の支持装置300において、支持体310は円筒状である。支持体310の長手方向(X1方向)の長さは基材フィルム11の幅寸法と同じであるので、支持体310の長手方向の端部は、基材フィルム11の幅方向の端部と対応する位置に配される。図5において、塗布装置は図示していないが、塗布装置は基材フィルム11の上方に配置される。円筒状の支持体310の周面は曲面に対応し、当該曲面により搬送経路が規定される。
 詳細は図示しないが、本実施形態でも実施形態1と同様に、支持体310には、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を仕切る仕切り壁が設けられている。仕切り壁により仕切られた第1支持部、第2支持部及び第3支持部には、それぞれ、供給管が連結される。
 供給管のそれぞれは、その内腔が、各支持部のそれぞれの内部の空隙に連通するよう設けられる。かかる構成により、支持体310の外部から、これらの供給管を介して気体が供給されるようになっている。供給管は、それぞれ、各支持部への気体の供給量を調整する調整弁を有している。これにより、各支持部への気体の供給量の調整が可能となっている。
 本実施形態において、支持体310は多孔質部材を含み、多孔質部材の孔径が、基材フィルムの幅方向において異なる。本発明において、「多孔質部材の孔径が基材フィルムの幅方向において異なる」とは、基材フィルムの幅方向における位置(例えば幅方向の端部と中央部)により、多孔質部材の平均孔径の大きさが相違していることをいう。このように基材フィルムの幅方向における位置により孔径が相違する多孔質部材を用いることにより、仕切り壁で仕切らなくても、基材フィルムの幅方向における位置により気体の噴出量を変えることが可能である。
 本実施形態では、支持体310の5つの部分311A,311B、311C,311D,311Eのうち、中央に配される中央部311Cにおいて平均孔径が最も小さく、端部に行くに従い平均孔径が大きくなっている。つまり311C、311Bおよび311D、311Aおよび311Eの順で孔径が大きくなっている。311Bと311Dの孔径は同一であるのが好ましいが相違していてもよい。相違している場合、その差は小さいほうが好ましい。311Aと311Eの孔径は同一であるのが好ましいが、相違していてもよい。相違している場合、その差は小さいほうが好ましい。
 図5においては、5つの部分311A,311B,311C,311D,311Eから気体が噴出する様子を、それぞれ、3B1、3B2、3B3、3B4及び3B5の矢印で示している。
 [作用及び効果]
 本実施形態においても、実施形態1と同様に、基材フィルム11は、第1支持部、第2支持部、第3支持部からそれぞれ噴出する気体により非接触状態で支持され、塗布工程が行われる。つまり本実施形態においても、基材フィルム11が、塗布工程において、支持体310と非接触状態で支持されるので、支持体に異物が付着することに起因するスポット状の塗布ムラの発生を防止することができる。
 また、本実施形態によっても、塗布工程において、支持体310の曲面からの気体の噴出は、上記式(1)を満たすように行うので、実施形態1と同様に、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 支持体310の長手方向の端部からは、3B6および3B7の矢印で示すように気体が逃げやすくなっているが、本実施形態においては、支持体310が、中央部311Cにおいて孔径が最も小さく、端部に行くに従い孔径が大きい多孔質部材を含むので、支持体の端部の部分311Aおよび311Eから噴出する気体の流量を中央の部分311Cよりも大きくすることができる。これにより、本実施形態によれば、基材フィルム11の幅方向の端部から噴出する気体が逃げるのを抑制し、複層フィルム10の幅方向の端部における塗布液の層の厚みが大きくなるのを抑制することができる。また、本実施形態においては、基材フィルム11の幅方向において多孔質部材の孔径が異なっているので、幅方向の部分を仕切るための仕切り壁を設ける必要がない。その結果、本実施形態によれば、支持装置の構造の簡素化が可能で、かつ、幅方向における、膜厚の均一性が優れる複層フィルムの製造方法を提供することができる。
 [実施形態4]
 以下、本発明に係る実施形態4の複層フィルムの製造方法について、図6を参照しつつ説明する。図6は、本実施形態に係る複層フィルムの製造方法に用いる支持装置を模式的に示す斜視図である。
 本実施形態の複層フィルムの製造方法は、塗布工程で用いる支持装置の構成が実施形態1と相違する。以下において、実施形態1と同様の構成については、同じ符号を付し、重複した説明は省略する。
 本実施形態の支持装置において、支持体410は円筒状である。図6において塗布装置は図示していないが、塗布装置は第2支持部411B1,411B2,411B3と対向する位置に配置される。円筒状の支持体410の周面は曲面に対応し、当該曲面により搬送経路が規定される。
 本実施形態では、支持体400は、円筒状の多孔質部材を含む。この多孔質部材の孔径は、基材フィルムの幅方向において異なり、かつ、搬送経路においても異なる。本発明において、「多孔質部材の孔径が搬送経路において異なる」とは、搬送経路における位置(第1支持部、第2支持部及び第3支持部)により、多孔質部材の平均孔径の大きさが相違していることをいう。より具体的には、第1支持部の平均孔径、第2支持部の平均孔径及び第3支持部の平均孔径のうちの、1が他の2と異なるか、またはこれらがいずれも互いに異なるものとしうる。このように、搬送経路における位置により平均孔径が相違する多孔質部材を用いることにより、仕切り壁で仕切らなくても、搬送経路における位置により気体の噴出量を変えることが可能である。本実施形態では、多孔質部材の孔径は、基材フィルムの幅方向において異なり、かつ、搬送経路においても異なるので、支持体を基材フィルムの幅方向において複数の部分に仕切る仕切り壁も、搬送経路に沿って並ぶ3つの支持部を仕切る仕切り壁も不要である。
 本実施形態では、支持体410の図示下側に並ぶ3つの部分411A1,411A2,411A3が第1支持部であり、第1支持部の上に並ぶ3つの部分411B1,411B2,411B3が第2支持部であり、第2支持部の上に並ぶ3つの部分411C1,411C2,411C3が第3支持部である。
 本実施形態では、多孔質部材の孔径は、搬送経路の方向にならぶ3つの部分、たとえば、411A2,411B2,411C2を比較すると、411B2,411A2、411C2の順、つまり第2支持部、第1支持部、第3支持部の順で大きい。多孔質部材の孔径は、基材フィルム11の幅方向に並ぶ3つの部分、たとえば、411A1,411A2,411A3を比較すると、中央の部分411A2よりも、端部411A1および411A3のほうが大きい。基材フィルム11の幅方向の2つの端部の孔径は同一であるのが好ましいが相違していてもよい。相違している場合、その差は小さいほうが好ましい。
 [作用及び効果]
 本実施形態においても、実施形態1と同様に、基材フィルム11は、第1支持部、第2支持部、第3支持部からそれぞれ噴出する気体により非接触状態で支持され、塗布工程が行われる。つまり本実施形態においても、基材フィルム11が、塗布工程において、支持体410と非接触状態で支持されるので、支持体に異物が付着することに起因するスポット状の塗布ムラの発生を防止することができる。
 本実施形態では、支持体410が、第2支持部、第1支持部、第3支持部の順で孔径が大きい多孔質部材を含む。その結果本実施形態によれば、第1支持部、第2支持部および第3支持部を仕切る仕切り壁、各支持部に気体を供給する供給管および調製弁を設けなくても、塗布工程において、支持体410の曲面からの気体の噴出を、上記式(1)を満たすように行うことができるので、支持装置の構造を簡素化することができ、かつ、面状不良の発生及び傷の発生を抑制した塗布液の層を有する複層フィルムの製造方法を提供することができる。 
 また、本実施形態では、各支持部において、基材フィルム11の幅方向の中央部よりも端部において孔径が大きい多孔質部材を含むので、たとえば第2支持部においては、基材フィルム11の幅方向の端部411B1および411B3から噴出する気体の流量を中央部411B2よりも大きくすることができる。その結果、本実施形態によれば、支持体内を仕切る仕切り壁、各部分ごとに気体を供給する供給管および調製弁を設けなくても、曲面における気体の噴出を前記中央部411B2よりも前記端部411B1および411B3において大きくすることができるので、簡易な構造により、幅方向における、膜厚(塗布液の層の厚み)の均一性が優れる複層フィルムを製造しうる。
 以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
 以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。
 [評価方法]
 (1.面状評価方法)
 各例で製造した複層フィルムから、幅1.33m×長さ1.0mの大きさのフィルム片を切り出した。切り出しの際は、フィルム片の各辺が、複層フィルムの搬送方向又は幅方向に平行となるようにした。切り出したフィルム片を、パラニコル状態に配した一対の偏光板の間に配して、評価サンプルを作成した。評価サンプルに光源を当て、他の部分と比べて、色味が違うスポット状のムラ(直径2mm~20mmの円形状のムラ)の有無、フィルム幅方向のスジ(横段)の有無を肉眼により観察し、以下の評価基準により評価した。
 (スポット状のムラの評価基準)
 良:スポット状のムラの発生がない。
 不良:スポット状のムラの発生がある。
 (横段の評価基準)
 A:パラニコル状態の目視観察で横段が確認できない。
 B:パラニコル状態の目視観察で横段が確認でき、かつ、横段の隣接する山と谷の厚み差が0.01μm未満である。
 C:横段の発生がある。パラニコル状態の目視観察で横段が確認でき、かつ、横段の隣接する山と谷の厚み差が0.01μm以上、0.02μm未満である。
 D:横段の発生がある。パラニコル状態の目視観察で横段が確認でき、かつ、横段の隣接する山と谷の厚み差が0.02μm以上である。
 (2.傷の発生の有無の評価)
 各例で製造した複層フィルムから、幅1.33m×長さ1.0mの大きさのフィルム片を切り出した。切り出しの際は、フィルム片の各辺が、複層フィルムの搬送方向又は幅方向に平行となるようにした。切り出したフィルム片にポラリオンライト(ポラリオン社製、NP-1)を当てて、肉眼により、複層フィルムのおもて面及び裏面の傷の発生の有無を観察した。特に、塗布面とは反対側の面(裏面)について、支持体との接触により発生した傷の有無について確認した。
 A:傷の発生がなかった。
 B:複層フィルムの裏面に、部分的に支持体との接触により発生した傷が認められた。
 C:複層フィルムの裏面に、連続的に支持体との接触により発生した傷が認められた。
 (3.塗布液の層の厚みの均一性の評価)
 各例で製造した複層フィルムについて、フィルムの幅方向の9地点における塗布液の層の厚みを、干渉式膜厚計(フィルメトリクス社製、F20膜厚測定システム、機種名:F20-EXR)を用いて測定し、塗布液の層の最大値と最小値の差を算出し、以下の基準によりフィルム幅方向における塗布液の層の厚みの均一性を評価した。
 A:塗布液の層の厚みの最大値と最小値の差が0.1μm未満である。
 B:塗布液の層の厚みの最大値と最小値の差が0.1μm以上0.2μm未満である。
 C:塗布液の層の厚みの最大値と最小値の差が0.2μm以上1.0μm未満である。
 D:塗布液の層の厚みの最大値と最小値の差が1.0μm以上である。
 [実施例1]
 (1-1.支持装置の準備)
 支持装置として実施形態1で説明した形状の支持装置100を準備した。支持体の材料として平均孔径が1.0μmの多孔質カーボンを用いた。支持体110の内部に、第1支持部110A、第2支持部110Bおよび第3支持部110Cを仕切る仕切り壁112A,112Bと、第2支持部110Bを、基材フィルム11の幅方向に5つの部分(外端部110SO1、端部110S1、中央部110BC、端部110S2、外端部110SO2)に仕切る仕切り壁112C1,112C21,112C3,112C4と、を設けた。支持体曲面の塗布装置の直下の部分および当該塗布装置の直下の部分から支持体曲面(搬送方向)に沿って±25mmの部分を第2支持部とし、第2支持部よりも搬送経路の上流の部分を第1支持部とし、第2支持部よりも搬送経路の下流の部分を第3支持部とした。また、第2支持部の端部110S1、110S2は、基材フィルム11の幅方向端部11S1,11S2に対応する位置から、幅方向内側へ200mmまでの部分とした。仕切り壁により仕切られた部分には、それぞれ気体の流量を独立して調整する調整弁付きの供給管を取り付けた。
 (1-2.塗布液の調製)
 重合性液晶化合物として、下記式(A-1)で表される化合物を19.18部、架橋剤(商品名「NKエステルA-DCP」、新中村化学工業社製)1.92部(重合性液晶化合物100部に対して10部)、界面活性剤(商品名「メガファックF-562」、DIC社製)0.06部、光重合開始剤(商品名「IrgacureOXE04」、BASF社製)0.84部(重合性液晶化合物100部に対して4部)、及びシクロペンタノンおよび1,3-ジオキソランの混合溶媒78部を混合し、液晶組成物(X)を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 (1-3.液晶組成物の塗布工程)
 日本ゼオン(株)製の斜め延伸フィルム(厚み77μm、幅1330mm、長さ2000m)から保護フィルムを剥離したものを、基材フィルムとして用いた。
 (1-1)で準備した支持装置を用いて、基材フィルムを非接触状態で支持しながら搬送し、基材フィルムの保護フィルムが貼合されていた側の面に、(1-2)で得られた塗布液を、ダイコーターにより直接塗布し、塗布液の層を形成した。塗布工程においては、噴出する気体の流量を、以下のように調整した。
 第1支持部から噴出する気体の流量F1:0.090mL/分・cm
 第2支持部から噴出する気体の流量F2(第2支持部の中央部110BCから噴出する気体の流量F2c):0.030mL/分・cm
 第2支持部の端部110S1,110S2から噴出する気体の流量F2s:0.060mL/分・cm
 第2支持部の外端部110SO1,110SO2から噴出する気体の流量F2os:0.085mL/分・cm
 第3支持部から噴出する気体の流量F3:0.160mL/分・cm
 つまり本例では塗布工程を式(1)を満たす条件で行った。
 (1-4.配向処理)
 (1-3)で形成した、基材フィルム上の塗布液の層を、110℃の乾燥炉中で2.5分間乾燥させた。これにより、基材フィルム上の塗布液の層が配向処理された。
 (1-5.重合工程)
 その後、窒素雰囲気下で、(1-4)の処理を行った後の塗布液の層に、積算照度700mJ/cm(照射強度350mW/cm、照射時間2秒)以上の紫外線をアイグラフィックス社製「水銀ランプ」より照射して、塗布液中の重合性液晶化合物を重合させて、硬化液晶分子を形成した。これにより、乾燥膜厚2.4μmの、ホモジニアス配向した組成物の硬化物で形成された重合体層を得て、(基材)/(重合体層)の層構成を有する複層フィルムを得た。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、面状不良(横段およびスポットムラ)の発生も傷の発生もなく、幅方向の膜厚の均一性も優れていた。
 (実施例2)
 実施例1の(1-3)において、F2osを0.060mL/分・cmとしたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。本例でも、塗布工程を式(1)を満たす条件で行った。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、面状不良(横段およびスポットムラ)の発生も傷の発生もなかった。フィルムの幅方向の端部がわずかに膜厚であったが、膜厚の均一性は良好であった。
 (実施例3)
 実施例1の(1-3)において、F2sを0.030mL/分・cm、F2osを0.030mL/分・cmとしたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。本例でも、塗布工程を式(1)を満たす条件で行った。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、面状不良(横段およびスポットムラ)の発生も傷の発生もなかった。フィルムの幅方向の端部が少し膜厚であったが、使用において問題のない範囲であった。
 (実施例4)
 実施例1の(1-3)において、(1-1)で準備した支持装置に代えて、以下に説明する支持装置を用いたこと、F1を1.0mL/分・cm、F2(F2c)を0.50mL/分・cm、F2sを0.50mL/分・cm、F2osを0.50mL/分・cm、F3を1.8mL/分・cmとしたこと以外は実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。本例でも、塗布工程を式(1)を満たす条件で行った。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、傷の発生はなく、面状不良はなかったが、搬送方向において、少しムラが認められた。フィルムの幅方向の端部が少し膜厚であったが、使用において問題のない範囲であった。
 支持装置:材料としてステンレス鋼(SUS)を用い、直径2mmの孔を均一に設けた支持体を備える支持装置を準備した。支持体110の構造は、実施例1と同じ構造とした。
 (比較例1)
 実施例1の(1-3)において、F2sを0.03mL/分・cm、F2osを0.03mL/分・cm、F3を0.09mL/分・cmとしたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、面状不良の発生はなかったが、第3支持部において浮上量が小さいことに起因する傷の発生が認められた。また、フィルムの幅方向の端部の浮上量が小さいことに起因して端部の膜厚が大きくなり、膜厚の均一性が悪かった。
 (比較例2)
 実施例1の(1-3)において、F2(F2c)を0.09mL/分・cm、F2sを0.09mL/分・cm、F2osを0.09mL/分・cm、F3を0.09mL/分・cmとしたこと以外は、実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、第2支持部において浮上量が大きいことに起因して横段が発生した。また第3支持部において浮上量が小さいことに起因する傷が発生し、フィルムの幅方向の端部の浮上量が小さいことに起因して端部の膜厚が大きくなり、膜厚の均一性が悪かった。
 (比較例3)
 実施例1の(1-3)の工程に代えて以下の(C3-3)の工程を行ったこと以外は実施例1と同じ操作を行い、複層フィルムを得た。得られた複層フィルムについて評価試験を行ったところ、傷の発生は認められず、膜厚の均一性は良好であったが、横段およびスポット状の塗布ムラが発生した。
 (C3-3.液晶組成物の塗布工程)
 日本ゼオン(株)製の斜め延伸フィルム(厚み77μm、幅1330mm、長さ2000m)から保護フィルムを剥離したものを、基材フィルムとして用いた。
 炭素鋼製のバックアップロールを用いて、基材フィルムを接触状態で支持しながら搬送し、基材フィルムの保護フィルムが貼合されていた側の面に、(1-2)で得られた塗布液を、ダイコーターにより直接塗布し、塗布液の層を形成した。本例で用いたバックアップロールは、孔が形成されていない円筒状のコーティングロールである。
 [結果]
 実施例及び比較例の結果を、各例における各支持部および第2支持部の各部分における気体の供給量とともに下記の表1に示す。表中、「基材フィルムの支持状態」欄の「非接触」とは、支持装置により、基材フィルムが非接触状態で支持されていることを示し、「接触」とは、バックアップロールにより、基材フィルムが接触状態で支持されていることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 [結果]
 以上の結果によれば、塗布工程を、式(1)を満たす条件で行った実施例1~4では、比較例1~3と比較して、面状不良の発生及び傷の発生を抑制できるということが分かる。上記結果から、本発明によれば、面状不良の発生及び傷の発生を抑制できる複層フィルムの製造方法を実現しうる。
 10…複層フィルム
 11…基材フィルム
 11A…おもて面
 11B…裏面
 12…塗布液を含む層
 100,200,300…支持装置
 110,210,310,410…支持体
 110A…第1支持部
 110B…第2支持部
 110BC…中央部
 110S1,110S2…端部
 110SO1,110S2…外端部
 110C…第3支持部
 110T…曲面
 112A、112B、112C1、112C2、112C3、112C4…仕切り壁
 150A、150B(150B1~150B5)、150C…調製弁
 151A、151B(151B1~151B5)、151C…供給管
 211A、211B、211C、211D、211E…(支持体の)部分
 212A、212B、212C、212D…仕切り壁
 250A,250B、250C、250D、250E…調整弁
 251…供給管
 311A、311B、311C、311D、311E…(支持体の)部分
 411A1、411A2、411A3…第1支持部
 411B1、411B2、411B3…第2支持部
 411C1、411C2、411C3…第3支持部
 

Claims (9)

  1.  おもて面及び裏面を有する長尺の基材フィルムのおもて面に、機能性材料を含む塗布液を塗布する塗布工程を含む複層フィルムの製造方法であって、
     前記塗布工程において、前記基材フィルムは、曲面を有する支持体を含む支持装置の前記曲面により規定される搬送経路に沿って搬送され、
     前記支持体は、前記曲面から気体を噴出して、搬送される前記基材フィルムを、前記裏面側から非接触状態で支持する部材であり、
     前記支持体は、前記搬送経路の上流から順に、第1支持部、第2支持部及び第3支持部を含み、
     前記塗布液の塗布は、前記支持体の前記第2支持部に対向して設けられた塗布装置により、前記基材フィルムの前記おもて面に、前記塗布液の層を設けることにより行われ、
     前記曲面からの前記気体の噴出は、下記式(1)を満たす、複層フィルムの製造方法:
     F2<F1<F3   (1)
     式中、F1は、前記第1支持部から噴出する気体の流量であり、
     F2は、前記第2支持部から噴出する気体の流量であり、
     F3は、前記第3支持部から噴出する気体の流量である。
  2.  前記第2支持部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向と平行な方向における、端部及び中央部を含み、
     前記端部から噴出する気体の流量F2sが、前記中央部から噴出する気体の流量F2cよりも大きい、請求項1に記載の複層フィルムの製造方法。
  3.  前記第2支持部の前記端部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向端部より内側に対応する位置に設けられ、
     前記第2支持部が、搬送される前記基材フィルムの幅方向端部より外側に対応する外端部をさらに含み、
     前記外端部から噴出する気体の流量F2osが、前記端部から噴出する気体の流量F2sよりも大きい、請求項2に記載の複層フィルムの製造方法。
  4.  前記支持装置が、前記支持体へ前記気体を供給する、複数の供給管を含み、
     前記複数の供給管のそれぞれは、前記支持体への前記気体の供給量を調整する調整弁を有し、
     前記塗布工程において、前記曲面からの前記気体の噴出を、前記調整弁により、前記式(1)を満たすよう調整することを含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
  5.  前記支持体が多孔質部材を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
  6.  前記多孔質部材の孔径は、前記搬送経路において異なる、請求項5に記載の複層フィルムの製造方法。
  7.  前記多孔質部材の孔径は、前記基材フィルムの幅方向において異なる、請求項5または6に記載の複層フィルムの製造方法。
  8.  前記多孔質部材の平均孔径が0.1μm~30μmである、請求項5~7のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
  9.  前記塗布装置がダイコーターである、請求項1~8のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。
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