TW202100758A - 移動淬火裝置及移動淬火方法 - Google Patents

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Abstract

此移動淬火裝置是用於對具有本體部與小徑部的軸狀體進行移動淬火的移動淬火裝置，前述小徑部是設置在前述本體部的軸線方向的中間部，且外徑比前述本體部更小，前述移動淬火裝置具備一次線圈、電流供給裝置、單軸致動器、及控制裝置。並且，在與前述一次線圈的圓周方向正交的平面內，將前述一次線圈的半徑方向設為橫軸，並且將與前述半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現。

Description

移動淬火裝置及移動淬火方法
本發明是有關於一種移動淬火裝置及移動淬火方法。 本案依據已於2019年5月23日於日本提出專利申請之特願2019-096624號主張優先權，並在此引用其內容。
以往，有在進行的是藉由感應加熱對軸狀體進行移動淬火來提升軸狀體的疲勞強度。在此所謂的移動淬火是指相對於軸狀體而一邊使線圈構件等在軸狀體的軸線方向上移動，一邊進行移動淬火。 在感應加熱中，是將軸狀體插入至形成為環狀的一次線圈構件內，並且使高頻電流流動於一次線圈中，藉由感應加熱來加熱軸狀體。在感應加熱中，軸狀體與一次線圈構件的距離越短，軸狀體就會被越高的溫度加熱。因此，在軸狀體具備本體部與設置在本體部且直徑比本體部更小的小徑部之情況下，會有和本體部相較之下小徑部較難以被加熱的課題。
對於此課題，已提出有一種在一次線圈構件的內側具備二次線圈構件的移動淬火裝置(參照例如下述專利文獻1~3)，前述二次線圈構件具有比一次線圈構件的內徑更小的外徑。二次線圈構件是形成為O字形或C字形。在已提出的使用了二次線圈的裝置中，由於軸狀體與靠近軸狀體的線圈構件之距離在本體部與小徑部上差異不大，因此可以同等地加熱本體部與小徑部。 在這些移動淬火裝置中，由於複數個線圈構件是配置成同心圓狀，因此軸狀體與靠近軸狀體的線圈構件之距離會在圓周方向上成為均等。由於可以使用增加了匝數且電流效率佳的線圈構件，因此可以藉由較少的電流來均勻且有效率地加熱軸狀體。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特公昭52-021215號公報 專利文獻2：日本特開2015-108188號公報 專利文獻3：日本特開2000-87134號公報
發明欲解決之課題
但是，如上述以往技術地使用形成為O字形或C字形的二次線圈的情況下，當一次線圈相對於軸狀體而相對地移動時(亦即移動淬火中)，並無法在一次線圈與軸狀體(特別是小徑部)之間的空隙中自由地配置或取出二次線圈。為了實現該效果就必須在移動淬火裝置中導入複雜的機構，因此會變成導致開發成本等之增加。 因此，從以往就有在要求開發一種藉由比較簡易的構成，即可以進行具有直徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體之淬火的移動淬火裝置。
本發明是有鑒於上述的情形而完成的發明，目的在於提供一種藉由比較簡易的構成，即可以進行具有直徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體之淬火的移動淬火裝置、以及可以藉由該移動淬火裝置來實現的移動淬火方法。 用以解決課題之手段
本發明為了解決上述課題並達成所述之目的，採用以下的辦法。 (1)本發明的一態樣之移動淬火裝置是用於對具有本體部與小徑部的軸狀體進行移動淬火的移動淬火裝置，前述小徑部是設置在前述本體部的軸線方向的中間部，且外徑比前述本體部更小，前述移動淬火裝置具備：一次線圈，具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有圓環形狀；電流供給裝置，將高頻電流供給至前述一次線圈；單軸致動器，構成為：在將前述一次線圈支撐成前述軸狀體通過前述一次線圈的半徑方向內側的狀態下，可進行前述軸線方向上之前述一次線圈的定位；及控制裝置，控制前述電流供給裝置及前述單軸致動器。在與前述一次線圈的圓周方向正交的平面內，將前述一次線圈的半徑方向設為橫軸，並且將與前述半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現。
(2)在上述(1)所記載之移動淬火裝置中，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣亦可是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。
(3)上述(1)或(2)所記載之移動淬火裝置亦可更具備：冷卻環，具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有設置了複數個噴嘴的內周面；及冷卻液供給裝置，將冷卻液供給至前述冷卻環。 在此情況下，前述單軸致動器亦可構成為：在將前述一次線圈及前述冷卻環支撐成前述軸狀體通過前述一次線圈及前述冷卻環的半徑方向內側並且前述一次線圈相對於前述冷卻環配置在前述軸線方向的一側的狀態下，可進行前述軸線方向上之前述一次線圈的定位。 又，前述控制裝置亦可將前述單軸致動器、前述電流供給裝置、及前述冷卻液供給裝置同步控制成：一邊使前述高頻電流供給至前述一次線圈且使前述冷卻液供給至前述冷卻環，一邊使前述一次線圈及前述冷卻環從前述軸線方向的另一側朝向前述一側移動。
(4)本發明的一態樣之移動淬火方法是用於對具有本體部與小徑部的軸狀體進行移動淬火的移動淬火方法，前述小徑部是設置在前述本體部的軸線方向的中間部，且外徑比前述本體部更小，前述移動淬火方法具有：第1步驟，準備一次線圈，前述一次線圈具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有圓環形狀；及第2步驟，一邊將高頻電流供給至前述一次線圈，一邊使前述一次線圈沿著前述軸線方向移動，以使前述軸狀體通過前述一次線圈的半徑方向內側。在與前述一次線圈的圓周方向正交的平面內，將前述一次線圈的半徑方向設為橫軸，並且將與前述半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現。
(5)在上述(4)所記載之移動淬火方法中，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣亦可是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。
(6)在上述(4)或(5)所記載之移動淬火方法的前述第1步驟中，除了前述一次線圈之外，亦可還準備冷卻環，前述冷卻環具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有設置了複數個噴嘴的內周面。在此情況的前述第2步驟中，亦可在已將前述一次線圈相對於前述冷卻環而配置在前述軸線方向的一側的狀態下，一邊將前述高頻電流供給至前述一次線圈且將冷卻液供給至前述冷卻環，一邊使前述一次線圈及前述冷卻環從前述軸線方向的另一側朝向前述一側移動，以使前述軸狀體通過前述一次線圈及前述冷卻環的半徑方向內側。 發明效果
根據本發明的上述各態樣，即可以提供一種藉由比較簡易的構成，即可以進行具有直徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體之淬火的移動淬火裝置、以及可以藉由該移動淬火裝置來實現的移動淬火方法。
用以實施發明之形態
首先，針對被加熱體即軸狀體51，一邊參照圖1A及圖1B一邊進行說明。如圖1A及圖1B所示，軸狀體51具備有本體部52與小徑部53，前述小徑部53是設置在本體部52的軸線C方向的中間部。本體部52及小徑部53是分別形成為圓柱狀，且小徑部53的軸線是與本體部52的軸線C一致。 在以下，在本體部52當中，將相對於小徑部53而配置在軸線C方向的一側D1的部分稱為第1本體部52A。將相對於小徑部53而配置在軸線C方向的另一側D2的部分稱為第2本體部52B。 第1本體部52A、小徑部53、及第2本體部52B是分別形成為圓柱狀，並且配置在共通的軸線C上。小徑部53的外徑是分別比第1本體部52A及第2本體部52B的外徑更小。
為了使如上述的軸狀體51的淬火部位之金屬組織變態成沃斯田相，通常需要加熱到超過700℃的Ac1點以上的溫度。在軸狀體51的加熱中，一般是使用如圖1A所示的一次線圈100。此一次線圈100是具有圓環形狀的線圈，且是藉由捲繞成螺旋狀之線圈的束線所形成。一邊使高頻電流流動於一次線圈100，一邊使一次線圈100沿著軸線C方向移動，以使軸狀體51通過一次線圈100的半徑方向內側後，即會藉由電磁感應現象而依序在軸狀體51的表面產生渦電流。其結果，藉由依據焦耳定律所產生之發熱來加熱軸狀體51的表面。
為了在軸狀體51的表面感應出能夠加熱到Ac1點以上的高溫的渦電流，也必須使大電流流動於一次線圈100。例如，若使大電流流動於一匝線圈，則電力效率會降低，且線圈也會變得較容易過熱。因此，一般而言是採取以下對策：如圖1A所示的一次線圈100，使用以像是沿著軸狀體51的表面的形狀來複數次捲繞成螺旋狀的線圈，藉此減少每一個線圈的電流值。以像是沿著軸狀體51的表面的形狀來將線圈捲繞成螺旋狀的理由，是因為若線圈與軸狀體51的距離分開，則藉由線圈所產生的磁通密度的變化帶給軸狀體51的影響就會變小。
在此，例如，如圖1A所示，當一次線圈100到達與小徑部53的上端部(軸線C方向的一側D1的端部)對應的位置時，會成為一次線圈100的上端部接近於角部54的情形，前述角部54是直徑從第1本體部52A朝向小徑部53開始變化的部位。此時，藉由集膚效應，磁通會集中在接近於一次線圈100的上端部的角部54。另一方面，在加熱小徑部53時，由於一次線圈100與軸狀體51的距離會成為最大，因此必須使流動於一次線圈100的高頻電流的振幅值增大。其結果，當一次線圈100到達圖1A所示的位置時，磁通集中的角部54會變成被過加熱到超過目標溫度的高溫。 另外，像這樣的角部54的過加熱現象，在直徑從第2本體部52B朝向小徑部53開始變化的部位即角部55上也會同樣地發生。
本案發明人針對使用二次線圈來抑制如上述的角部54、55上所產生的過加熱現象的方法進行了檢討。其結果得知，為了抑制過加熱現象，必須將非常複雜的機械性機構導入至移動淬火裝置，前述機械性機構是可以在一次線圈100與軸狀體51(小徑部53)之間的空隙中自由地配置或取出二次線圈的機械性機構。
於是，本案發明人針對藉由比較簡易的構成，即可以進行具有直徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體之淬火的辦法，進行了仔細檢討。其結果發現，例如，將以如圖1B所示的形狀來捲繞複數次的線圈作為一次線圈110來使用，藉此即使不使用二次線圈等，仍然可以抑制角部54、55上所產生的過加熱現象。
如圖1B所示，在與一次線圈110的圓周方向正交的平面內，將一次線圈110的半徑方向設為橫軸，並且將與該半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在上述平面之一次線圈110的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。 若使用具有像這樣的截面形狀的一次線圈110，則如圖1B所示，當一次線圈110到達與小徑部53的上端部對應的位置時，可以使一次線圈110的上端部遠離角部54。其結果，可以抑制磁通集中在角部54的情形，因此可以抑制角部54上所產生的過加熱現象。針對角部55上所產生的過加熱現象也同樣地可以抑制。
另一方面，若使用具有像這樣的截面形狀的一次線圈110，則軸狀體51與一次線圈110的距離會增加，因此會有變得難以在軸狀體51的表面感應出加熱到目標溫度所需的渦電流之疑慮。但是，本案發明人所進行的解析的結果，已確認到可以在軸狀體51的表面感應出加熱到目標溫度所需的充分渦電流(針對解析結果將於後文描述)。
本發明是依據上述知識見解而完成的發明，以下，針對本發明的一實施形態，一邊參照圖式一邊詳細地說明。
[移動淬火裝置] 圖2是將本實施形態之移動淬火裝置1的一部分切斷來示意地顯示的側面圖。如該圖2所示，移動淬火裝置1是使用高頻電流來對鐵路車輛用的車軸等之軸狀體51進行移動淬火用的裝置。
軸狀體51具備有本體部52與小徑部53，前述小徑部53是設置在本體部52的軸線C方向的中間部。本體部52及小徑部53是分別形成為圓柱狀，且小徑部53的軸線是與本體部52的軸線C一致。 在以下，在本體部52當中，將相對於小徑部53而配置在軸線C方向的一側D1的部分稱為第1本體部52A。將相對於小徑部53而配置在軸線C方向的另一側D2的部分稱為第2本體部52B。
第1本體部52A、小徑部53、及第2本體部52B是分別形成為圓柱狀，並且配置在共通的軸線C上。小徑部53的外徑是比第1本體部52A及第2本體部52B各自的外徑更小。 軸狀體51是由肥粒鐵相的碳鋼、含有95重量%以上的鐵(Fe)的低合金鋼等之具有導電性的材料所形成。
移動淬火裝置1具備有支撐構件6、一次線圈11、變流器12(電流供給裝置)、冷卻環36、泵37(冷卻液供給裝置)、單軸致動器(39、40、42)、及控制裝置46。
如圖2所示，支撐構件6具備有下方中心件7與上方中心件8。下方中心件7是從第2本體部52B的下方來支撐軸狀體51的第2本體部52B。上方中心件8是從第1本體部52A的上方來支撐軸狀體51的第1本體部52A。下方中心件7及上方中心件8是支撐著軸狀體51，以使軸線C沿著上下方向，且使軸線C方向的一側D1成為上方，另一側D2成為下方。
一次線圈11是具有比本體部52的外徑更大的內徑，並且具有圓環形狀的線圈。如圖2所示，在與一次線圈11的圓周方向正交的平面內，將一次線圈11的半徑方向設為橫軸，並且將與該半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在上述平面之一次線圈11的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。亦即，在圖2的軸線C的紙面右側，一次線圈11的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。同樣地，在圖2的軸線C的紙面左側，一次線圈11的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。
將具有如上述的截面形狀的一次線圈11之一例顯示於圖3。圖3是一次線圈11的立體圖。圖3所示的一次線圈11可以藉由如以下的順序來製作。
(1)如圖4A所示，首先，將符號111所示的部位設為一次線圈11的第1拉出端部時，將此第1拉出端部111設為起點而將線圈束線捲繞為圓環狀，藉此形成外側上段部110，前述外側上段部110為一次線圈11的半徑方向外側且為上側(軸線C方向的一側D1)的部位。外側上段部110是在圖4A中以灰色顯示的部分。 (2)接著，如圖4B所示，將線圈束線延伸成從外側上段部110的前端部112(第1拉出端部111的相反側的端部)朝向第1拉出端部111之正下方的位置下降，藉此形成第1連接部120，前述第1連接部120是連接外側上段部110與後述的外側下段部130之間。第1連接部120是在圖4B中以灰色顯示的部分。
(3)接著，如圖5A所示，將第1連接部120的前端部121設為起點，將線圈束線捲繞成圓環狀而到外側上段部110的前端部112之正下方的位置，藉此形成外側下段部130，前述外側下段部130為一次線圈11的半徑方向外側且為下側(軸線C方向的另一側D2)的部位。此外側下段部130是形成為具有和外側上段部110相同的內徑及外徑。圖5B是從下方來觀看外側下段部130的圖。外側下段部130是在圖5A及圖5B中以灰色顯示的部分。
(4)接著，如圖6A所示，將線圈束線從外側下段部130的前端部131朝向相鄰於第1連接部120的前端部121之半徑方向內側的位置彎曲延伸，藉此形成第2連接部140，前述第2連接部140是連接外側下段部130與後述的內側下段部150之間。第2連接部140是在圖6A中以灰色顯示的部分。 (5)接著，如圖6B所示，將第2連接部140的前端部141設為起點，將線圈束線捲繞成圓環狀而到相鄰於外側下段部130的前端部131之半徑方向內側的位置，藉此形成內側下段部150，前述內側下段部150為一次線圈11的半徑方向內側且為下側的部位。內側下段部150是在圖6B中以灰色顯示的部分。
(6)接著，如圖7A及圖7B所示，將線圈束線延伸成從內側下段部150的前端部151朝向相鄰於第1拉出端部111之半徑方向內側的位置上升，藉此形成第3連接部160，前述第3連接部160是連接內側下段部150與後述的內側上段部170之間。第3連接部160是在圖7A及圖7B中以灰色顯示的部分。 (7)最後，如圖8所示，將第3連接部160的前端部161設為起點，將線圈束線捲繞成圓環狀而到相鄰於外側上段部110的前端部112之半徑方向內側的位置，藉此形成內側上段部170，前述內側上段部170為一次線圈11的半徑方向內側且為上側的部位。此內側上段部170是形成為具有和內側下段部150相同的內徑及外徑。內側上段部170的前端部會成為一次線圈11的第2拉出端部171。內側上段部170是在圖8中以灰色顯示的部分。
藉由如以上的順序，即可以製作圖3所示的一次線圈11。在本實施形態中，一次線圈11的外徑是指外側上段部110及外側下段部130的外徑，一次線圈11的內徑是指內側下段部150及內側上段部170的內徑。
以下，回到圖2來繼續說明。 一次線圈11的各端部(第1拉出端部111及第2拉出端部171)是對變流器12電性及機械性連接。變流器12是在控制裝置46所進行的控制之下，將高頻電流供給至一次線圈11的電流供給裝置。亦即，在一次線圈11的第1拉出端部111與第2拉出端部171之間流動有高頻電流。
冷卻環36是具有比本體部52的外徑更大的內徑之圓環狀構件。在冷卻環36內形成有內部空間36a。在冷卻環36的內周面上，連通於內部空間36a的複數個噴嘴36b是在圓周方向上互相分離來形成。在冷卻環36的半徑方向內側，以同軸的方式插入有軸狀體51。冷卻環36是比一次線圈11更配置在軸線C方向的另一側D2。 在冷卻環36上，透過送水管37a連結有泵37。泵37是在控制裝置46所進行的控制之下，透過送水管37a將水等之冷卻液L供給至冷卻環36的內部空間36a內的冷卻液供給裝置。已供給至冷卻環36的內部空間36a的冷卻液L是通過複數個噴嘴36b而朝向軸狀體51的外周面噴出，來冷卻軸狀體51。
一次線圈11、變流器12、冷卻環36、及泵37是固定於支撐板39。在支撐板39形成有小齒輪39a。在支撐板39安裝有驅動小齒輪39a的馬達40。 支撐板39的小齒輪39a是嚙合於齒條42。在驅動馬達40後，小齒輪39a即會正旋轉或反旋轉，因此支撐板39會相對於齒條42而往上方或下方(亦即軸線C方向)移動。 另外，齒條42亦可為滾珠螺桿。在此情況下，小齒輪39a亦可配置複數個以夾住滾珠螺桿。
上述具有小齒輪39a的支撐板39、馬達40、及齒條42是構成本發明的單軸致動器之一例的機械要素。亦即，由這些機械要素所形成的單軸致動器是構成為：在將一次線圈11及冷卻環36支撐成軸狀體51通過一次線圈11及冷卻環36的半徑方向內側並且一次線圈11相對於冷卻環36配置在軸線C方向的一側D1的狀態下，可進行軸線C方向上之一次線圈11的定位。
雖然未圖示，但控制裝置46具備有運算電路與記憶體。在記憶體中，儲存有用於驅動運算電路的控制程式等。控制裝置46是連接於變流器12、泵37、及馬達40(單軸致動器的機械要素)，並且依照控制程式來同步控制這些構件的動作。
[移動淬火方法] 接著，針對使用如上述所構成的移動淬火裝置1來實現的移動淬火方法，一邊參照圖9~圖13一邊進行說明。本實施形態之移動淬火方法，作為基本的程序，具有準備程序(第1步驟)與淬火程序(第2步驟)。 在準備程序中，準備被加熱體即軸狀體51與具備上述構成的移動淬火裝置1。並且，藉由上方中心件8來支撐第1本體部52A的上方側(軸線C方向的一側D1)的端面，並且藉由下方中心件7來支撐第2本體部52B的下方側(軸線C方向的另一側D2)的端面，以使軸狀體51的軸線C相對於水平面成為垂直(參照圖2)。在此情況下，軸線C方向的一側D1(上方側)會成為一次線圈11及冷卻環36的行進方向。
在淬火程序中，首先，作為初始設定處理，移動淬火裝置1的控制裝置46是進行用於使一次線圈11移動到軸線C方向上事先設定的初始位置(移動開始位置)並使其待機的處理。 具體而言，如圖9所示，作為初始設定處理，控制裝置46是將前述單軸致動器的馬達40控制成使一次線圈11在移動開始位置待機，前述移動開始位置是設定在與第2本體部52B的下端部對應的位置。此一次線圈11的移動開始位置可設定在與第2本體部52B的下端部對應的位置。或者，一次線圈11的移動開始位置亦可設定在從第2本體部52B的下端部更進一步地朝軸線C方向的另一側D2(下方側)分開距離的位置，前述距離是比與一次線圈11的半徑方向正交的方向之線圈寬度更短的距離。換言之，移動開始位置只要設定在可以藉由一次線圈11的移動(上升)來感應加熱軸狀體51整體的位置即可。
如上述，具備支撐板39、馬達40、及齒條42的單軸致動器是構成為：在將一次線圈11及冷卻環36支撐成軸狀體51以同軸的方式通過一次線圈11及冷卻環36的半徑方向內側並且一次線圈11相對於冷卻環36配置在軸線C方向的一側D1(上方側)的狀態下，可進行軸線C方向上之一次線圈11的定位。因此，藉由控制由這些機械要素所形成的單軸致動器，即可以在一次線圈11相對於冷卻環36而配置在上方側(行進方向側)的狀態下，使一次線圈11移動到移動開始位置並使其待機。
接著，控制裝置46是在如上述的初始設定處理結束之後，如圖10所示，將單軸致動器的馬達40控制成：使一次線圈11從移動開始位置朝向軸線C方向的一側D1(行進方向側)移動(上升)。此時，維持住一次線圈11相對於冷卻環36而配置在上方側(行進方向側)的狀態，使冷卻環36也和一次線圈11一起上升。當一次線圈11及冷卻環36在行進方向上移動時，控制裝置46是將變流器12、泵37、及單軸致動器的馬達40同步控制成：使高頻電流供給至一次線圈11，並且使冷卻液L供給至冷卻環36。
像這樣地同步控制變流器12、泵37、及單軸致動器的的馬達40。藉此，在已將一次線圈11相對於冷卻環36而配置在行進方向側的狀態下，一邊將高頻電流供給至一次線圈11且將冷卻液L供給至冷卻環36，一邊使一次線圈11及冷卻環36朝向行進方向上升，以使軸狀體51(第2本體部52B)通過一次線圈11及冷卻環36的半徑方向內側。
藉由一次線圈11一邊接收高頻電流的供給一邊沿著軸線C方向上升，而沿著軸線C方向來連續地感應加熱第2本體部52B，使第2本體部52B的表面之金屬組織變態成沃斯田相。此時，由於冷卻環36也會以緊接著一次線圈11的形態來上升，因此在第2本體部52B被感應加熱後，馬上藉由來自冷卻環36的冷卻液L的噴射使第2本體部52B沿著軸線C方向連續地冷卻。其結果，第2本體部52B的表面之金屬組織會從沃斯田相變態成硬質的麻田散相。如此一來，即可伴隨於一次線圈11及冷卻環36的上升，無縫地進行第2本體部52B的淬火。
當一次線圈11通過第2本體部52B後，接下來，以軸狀體51的小徑部53通過一次線圈11的半徑方向內側的形態，使一次線圈11朝向行進方向側繼續上升。藉此，小徑部53會緊接著第2本體部52B而沿著軸線C方向被連續地感應加熱，使小徑部53的表面之金屬組織變態成沃斯田相。另外，在加熱小徑部53時，由於一次線圈11與軸狀體51的距離會成為最大，因此控制裝置46是將變流器12控制成：使流動於一次線圈11的高頻電流的振幅值增大。
當一次線圈11通過小徑部53時，冷卻環36也會以緊接著一次線圈11的形態來上升。因此，在小徑部53被感應加熱後，馬上藉由來自冷卻環36的冷卻液L的噴射使小徑部53沿著軸線C方向連續地冷卻。其結果，小徑部53的表面之金屬組織會從沃斯田相變態成硬質的麻田散相。如此一來，即可伴隨於一次線圈11及冷卻環36的上升，緊接著第2本體部52B來無縫地進行小徑部53的淬火。
圖11是顯示一次線圈11到達與小徑部53的下端部對應的位置之狀態。符號55是顯示直徑從第2本體部52B朝向小徑部53開始變化的部位即角部。如圖11所示，當一次線圈11到達與小徑部53的下端部對應的位置時，可以使一次線圈11的下端部遠離軸狀體51的角部55。其結果，可以抑制磁通集中在角部55的情形，因此可以抑制角部55上所產生的過加熱現象。
圖12是顯示一次線圈11到達與小徑部53的上端部對應的位置之狀態。符號54是顯示直徑從第1本體部52A朝向小徑部53開始變化的部位即角部。如圖12所示，當一次線圈11到達與小徑部53的上端部對應的位置時，可以使一次線圈11的上端部遠離軸狀體51的角部54。其結果，可以抑制磁通集中在角部54的情形，因此也可以抑制角部54上所產生的過加熱現象。
當一次線圈11通過小徑部53後，接下來，以軸狀體51的第1本體部52A通過一次線圈11的半徑方向內側的形態，使一次線圈11朝向行進方向繼續上升。藉此，第1本體部52A會緊接著小徑部53而沿著軸線C方向被連續地感應加熱，使第1本體部52A的表面之金屬組織變態成沃斯田相。另外，在加熱第1本體部52A時，由於一次線圈11與軸狀體51的距離會回到最小，因此控制裝置46是將變流器12控制成：使流動於一次線圈11的高頻電流的振幅值返回至原本的值。
當一次線圈11通過第1本體部52A時，冷卻環36也會以緊接著一次線圈11的形態來上升。因此，在第1本體部52A被感應加熱後，馬上藉由來自冷卻環36的冷卻液L的噴射使第1本體部52A沿著軸線C方向連續地冷卻。其結果，第1本體部52A的表面之金屬組織會從沃斯田相變態成硬質的麻田散相。如此一來，即可伴隨於一次線圈11及冷卻環36的上升，緊接著小徑部53來無縫地進行第1本體部52A的淬火。
並且，如圖13所示，控制裝置46在最後是將單軸致動器的馬達40控制成：使一次線圈11上升到移動停止位置，並且使一次線圈11停止在該移動停止位置，前述移動停止位置是設定在從第1本體部52A朝軸線C方向的一側D1分開的位置。另外，控制裝置46是將變流器12及泵37連同單軸致動器一起同步控制成：在一次線圈11超過第1本體部52A的上端時，停止高頻電流的供給，另一方面，在一次線圈11停止在移動停止位置之前，繼續使冷卻液L供給至冷卻環36。 藉由如以上的程序，當一次線圈11到達移動停止位置時，軸狀體51整體的淬火即完成。
如以上所說明，根據本實施形態，藉由使用具有特定的截面形狀的一次線圈11，即使不使用二次線圈等，仍然可以抑制軸狀體51的角部54及角部55上所產生的過加熱現象。亦即，根據本實施形態，即可以提供一種藉由比較簡易的構成，即可以進行具有外徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體51之淬火的移動淬火裝置1、以及可以藉由該移動淬火裝置1來實現的移動淬火方法。
以上，雖然針對本發明的一實施形態進行了說明，但是本發明並不僅限定於上述實施形態，在不脫離本發明之要旨的範圍內可進行各種變更。 例如，在上述實施形態中，軸狀體51亦可不配置成使軸線C沿著上下方向(鉛直方向)，亦可配置成使軸線C相對於上下方向傾斜。在此情況下，一次線圈11及冷卻環36是相對於上下方向傾斜來移動。 軸狀體51雖然是設為鐵路車輛用的車軸，但是亦可為滾珠螺桿等之其他軸狀體。
[解析結果] 圖14是顯示藉由模擬來解析使用具有一般的截面形狀的一次線圈100(參照圖1A)來感應加熱軸狀體51的情況之軸狀體51的表面溫度分布之結果。另外，在圖14中，僅圖示出軸狀體51的縱截面圖當中比軸線C更右半部的解析結果。 在此模擬中，將本體部52(第1本體部52A、第2本體部52B)的外徑設定為198mm，並且將小徑部53的外徑(最小徑)設定為181mm。又，將軸狀體51的材質設定為碳鋼。將流動於一次線圈100的高頻電流的頻率設為1kHz。另外，加熱小徑部53時的頻率與加熱本體部52時的頻率是相同的。
並且，一邊使高頻電流供給至一次線圈100，一邊使一次線圈100從軸狀體51的軸線C方向的另一側D2(下方側)朝向一側D1(上方側)移動，藉此沿著軸線C方向來連續地感應加熱軸狀體51。圖14是顯示為了藉由移動淬火來對軸狀體51進行一定深度的淬火而進行必要的加熱時，軸狀體51的表面溫度分布的最高值之解析結果。
圖15是顯示藉由模擬來解析使用本實施形態的一次線圈11(亦即，使用上述實施形態的移動淬火裝置1)來感應加熱軸狀體51的情況之軸狀體51的表面溫度分布之結果。在圖15中，僅圖示出軸狀體51的縱截面圖當中比軸線C更右半部的解析結果。 在此模擬中，也將本體部52(第1本體部52A、第2本體部52B)的外徑設定為198mm，並且將小徑部53的外徑(最小徑)設定為181mm。又，將軸狀體51的材質設定為碳鋼。將流動於一次線圈11的高頻電流的頻率設為1kHz。
並且，一邊使高頻電流供給至一次線圈11，一邊使一次線圈11從軸狀體51的軸線C方向的另一側D2(下方側)朝向一側D1(上方側)移動，藉此沿著軸線C方向來連續地感應加熱軸狀體51。圖15是顯示為了藉由移動淬火來對軸狀體51進行一定深度的淬火而進行必要的加熱時，軸狀體51的表面溫度分布之解析結果。
如圖14所示，使用具有一般的截面形狀的一次線圈100來感應加熱軸狀體51的情況下(比較例的情況下)，可得知在小徑部53上從表面往內大約3.5mm的深度的區域會被加熱至800℃以上，且表面溫度分布的最高值會成為1225℃。
另一方面，如圖15所示，使用本實施形態的一次線圈11(亦即，使用上述實施形態的移動淬火裝置1及移動淬火方法)來感應加熱軸狀體51的情況下(本發明例的情況下)，可得知在小徑部53上從表面往內大約4.8mm的深度的區域會被加熱至800℃以上，且表面溫度分布的最高值會成為1215℃。
由如以上的解析結果可確認到，和比較例相較之下，根據本發明例，涵蓋軸狀體51整體而從表面往內更深的區域可以加熱到800℃以上的高溫，而且可以藉由比較簡易的構成來充分地將軸狀體51進行必要的加熱及淬火。又，可確認到，和比較例相較之下，根據本發明例，可以降低軸狀體51的表面溫度的最高值，從而抑制過加熱現象。
[一次線圈的變形例] 在上述實施形態中，例示了以下情況：在與一次線圈11的圓周方向正交的平面內，將一次線圈11的半徑方向設為橫軸，並且將與該半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在上述平面之一次線圈11的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。本發明的一次線圈的截面形狀並不僅限定於此，顯現在上述平面之一次線圈的截面圖樣只要是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現的截面圖樣即可。
例如，如圖16A所示，顯現在上述平面之一次線圈的截面圖樣亦可是以分割成縱3個×橫2個的矩陣狀的形態顯現的截面圖樣。或者，如圖16B所示，顯現在上述平面之一次線圈的截面圖樣亦可是以分割成縱2個×橫3個的矩陣狀的形態顯現的截面圖樣。或者，如圖16C所示，顯現在上述平面之一次線圈的截面圖樣亦可是以分割成縱3個×橫3個的矩陣狀的形態顯現的截面圖樣。 產業上之可利用性
根據本發明，即可以提供一種藉由比較簡易的構成，即可以進行具有直徑沿著軸線變化的形狀的軸狀體之淬火的移動淬火裝置、以及可以藉由該移動淬火裝置來實現的移動淬火方法。據此，產業上之可利用性是很大的。
1:移動淬火裝置 6:支撐構件 7:下方中心件 8:上方中心件 11,100,110:一次線圈 12:變流器(電流供給裝置) 36:冷卻環 36a:內部空間 36b:噴嘴 37:泵(冷卻液供給裝置) 37a:送水管 39:支撐板(單軸致動器的機械要素) 39a:小齒輪 40:馬達(單軸致動器的機械要素) 42:齒條(單軸致動器的機械要素) 46:控制裝置 51:軸狀體 52:本體部 52A:第1本體部 52B:第2本體部 53:小徑部 54,55:角部 110:外側上段部 111:第1拉出端部 112,121,131,141,151,161:前端部 120:第1連接部 130:外側下段部 140:第2連接部 150:內側下段部 160:第3連接部 170:內側上段部 171:第2拉出端部 C:軸線 D1:軸線方向的一側 D2:軸線方向的另一側 L:冷卻液
圖1A是顯示成為本發明的基礎之本案發明人所進行的檢討結果的圖。 圖1B是顯示成為本發明的基礎之本案發明人所進行的檢討結果的圖。 圖2是將本發明的一實施形態之移動淬火裝置的一部分切斷來示意地顯示的側面圖。 圖3是顯示同實施形態之一次線圈之一例的圖。 圖4A是有關於同一次線圈的製作順序的第1說明圖。 圖4B是有關於同一次線圈的製作順序的第1說明圖。 圖5A是有關於同一次線圈的製作順序的第2說明圖。 圖5B是有關於同一次線圈的製作順序的第2說明圖。 圖6A是有關於同一次線圈的製作順序的第3說明圖。 圖6B是有關於同一次線圈的製作順序的第3說明圖。 圖7A是有關於同一次線圈的製作順序的第4說明圖。 圖7B是有關於同一次線圈的製作順序的第4說明圖。 圖8是有關於同一次線圈的製作順序的第5說明圖。 圖9是有關於本實施形態之移動淬火方法的第1說明圖。 圖10是有關於同移動淬火方法的第2說明圖。 圖11是有關於同移動淬火方法的第3說明圖。 圖12是有關於同移動淬火方法的第4說明圖。 圖13是有關於同移動淬火方法的第5說明圖。 圖14是顯示藉由模擬來解析僅使用具有一般的截面形狀的一次線圈來感應加熱軸狀體的情況(比較例的情況)之軸狀體的表面溫度分布之結果的圖。 圖15是顯示藉由模擬來解析使用具有特定的截面形狀的一次線圈來感應加熱軸狀體的情況(本發明例的情況)之軸狀體的表面溫度分布之結果的圖。 圖16A是顯示具有特定的截面形狀的一次線圈之變形例的圖。 圖16B是顯示具有特定的截面形狀的一次線圈之其他變形例的圖。 圖16C是顯示具有特定的截面形狀的一次線圈之其他變形例的圖。
1:移動淬火裝置
6:支撐構件
7:下方中心件
8:上方中心件
11:一次線圈
12:變流器(電流供給裝置)
36:冷卻環
36a:內部空間
36b:噴嘴
37:泵(冷卻液供給裝置)
37a:送水管
39:支撐板(單軸致動器的機械要素)
39a:小齒輪
40:馬達(單軸致動器的機械要素)
42:齒條(單軸致動器的機械要素)
46:控制裝置
51:軸狀體
52:本體部
52A:第1本體部
52B:第2本體部
53:小徑部
C:軸線
D1:軸線方向的一側
D2:軸線方向的另一側
L:冷卻液

Claims (6)

  1. 一種移動淬火裝置，是用於對具有本體部與小徑部的軸狀體進行移動淬火的移動淬火裝置，前述小徑部是設置在前述本體部的軸線方向的中間部，且外徑比前述本體部更小，前述移動淬火裝置的特徵在於： 具備： 一次線圈，具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有圓環形狀； 電流供給裝置，將高頻電流供給至前述一次線圈； 單軸致動器，構成為：在將前述一次線圈支撐成前述軸狀體通過前述一次線圈的半徑方向內側的狀態下，可進行前述軸線方向上之前述一次線圈的定位；及 控制裝置，控制前述電流供給裝置及前述單軸致動器， 在與前述一次線圈的圓周方向正交的平面內，將前述一次線圈的半徑方向設為橫軸，並且將與前述半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現。
  2. 如請求項1之移動淬火裝置，其中顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。
  3. 如請求項1或2之移動淬火裝置，其更具備： 冷卻環，具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有設置了複數個噴嘴的內周面；及 冷卻液供給裝置，將冷卻液供給至前述冷卻環， 前述單軸致動器是構成為：在將前述一次線圈及前述冷卻環支撐成前述軸狀體通過前述一次線圈及前述冷卻環的半徑方向內側並且前述一次線圈相對於前述冷卻環配置在前述軸線方向的一側的狀態下，可進行前述軸線方向上之前述一次線圈的定位， 前述控制裝置是將前述單軸致動器、前述電流供給裝置、及前述冷卻液供給裝置同步控制成：一邊使前述高頻電流供給至前述一次線圈且使前述冷卻液供給至前述冷卻環，一邊使前述一次線圈及前述冷卻環從前述軸線方向的另一側朝向前述一側移動。
  4. 一種移動淬火方法，是用於對具有本體部與小徑部的軸狀體進行移動淬火的移動淬火方法，前述小徑部是設置在前述本體部的軸線方向的中間部，且外徑比前述本體部更小，前述移動淬火方法的特徵在於： 具有： 第1步驟，準備一次線圈，前述一次線圈具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有圓環形狀；及 第2步驟，一邊將高頻電流供給至前述一次線圈，一邊使前述一次線圈沿著前述軸線方向移動，以使前述軸狀體通過前述一次線圈的半徑方向內側， 在與前述一次線圈的圓周方向正交的平面內，將前述一次線圈的半徑方向設為橫軸，並且將與前述半徑方向正交的方向設為縱軸時，顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱m個×橫n個(m及n皆為2以上的整數)的矩陣狀的形態顯現。
  5. 如請求項4之移動淬火方法，其中顯現在前述平面之前述一次線圈的截面圖樣是以分割成縱2個×橫2個的矩陣狀的形態顯現。
  6. 如請求項4或5之移動淬火方法，其在前述第1步驟中，除了前述一次線圈之外，還準備冷卻環，前述冷卻環具有比前述本體部的外徑更大的內徑，並且具有設置了複數個噴嘴的內周面， 在前述第2步驟中，在已將前述一次線圈相對於前述冷卻環而配置在前述軸線方向的一側的狀態下，一邊將前述高頻電流供給至前述一次線圈且將冷卻液供給至前述冷卻環，一邊使前述一次線圈及前述冷卻環從前述軸線方向的另一側朝向前述一側移動，以使前述軸狀體通過前述一次線圈及前述冷卻環的半徑方向內側。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7168086B2 (ja) * 2019-07-09 2022-11-09 日本製鉄株式会社 移動焼入れ装置及び移動焼入れ方法
WO2024004027A1 (ja) * 2022-06-28 2024-01-04 日本製鉄株式会社 移動焼入れ装置及び移動焼入れ方法
WO2024004142A1 (ja) * 2022-06-30 2024-01-04 日本製鉄株式会社 移動焼入れ装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5221215B2 (zh) 1971-09-17 1977-06-09
JP2000087134A (ja) * 1998-09-08 2000-03-28 High Frequency Heattreat Co Ltd 段付き軸体の誘導加熱コイルおよび焼入装置
JP3300290B2 (ja) * 1998-09-22 2002-07-08 富士電子工業株式会社 高周波焼入コイル体
CN1282753C (zh) * 2003-09-26 2006-11-01 上海纳铁福传动轴有限公司 阶梯轴感应加热淬火装置及方法
JP4731224B2 (ja) 2005-07-06 2011-07-20 株式会社ディスコ ウエーハの分割装置
JP2007162104A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Denki Kogyo Co Ltd 高周波誘導加熱コイル
CN202116607U (zh) * 2011-05-18 2012-01-18 柳州中驰成达机械锻造有限公司 阶梯轴类淬火感应圈
CN102181615B (zh) * 2011-05-18 2013-06-12 柳州中驰成达机械锻造有限公司 汽车半轴淬火工艺方法及淬火感应圈
JP6101608B2 (ja) * 2013-09-17 2017-03-22 高周波熱錬株式会社 誘導加熱コイル及び誘導加熱装置並びに加熱方法
JP6240975B2 (ja) * 2013-10-25 2017-12-06 高周波熱錬株式会社 誘導加熱装置及び方法並びに熱処理装置及び方法
JP6427391B2 (ja) * 2014-11-11 2018-11-21 高周波熱錬株式会社 焼入れ装置及び焼入れ方法
CN108866279B (zh) * 2018-08-20 2024-03-08 邢台隆科机械有限公司 一种高频淬火装置
JP2019096624A (ja) 2019-03-08 2019-06-20 国立大学法人九州大学 電極材料

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