TW202043821A - 抗反射用圓偏光板及使用其之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種用於防止外光反射之優異的抗反射用圓偏光板，藉此而高濕度下的偏光度降低所造成的抗反射功能之降低極少，還有可提供一種影像顯示面板的變形小之優異的影像顯示裝置，尤其提供一種適合有機EL影像顯示裝置之抗反射用圓偏光板。 該抗反射用圓偏光板係依序積層有反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層之抗反射用偏光板，其特徵為：該透光性基材薄膜之水分穿透率為100g/m2 ・day以下。

Description

抗反射用圓偏光板及使用其之影像顯示裝置
本發明關於抗反射用偏光板。更詳細而言，關於有機電致發光(有機EL)影像顯示裝置所適用的抗反射用偏光板。
以往，於有機EL影像顯示裝置中，為了防止外光反射所造成的顯示畫質之降低、對比降低，而在影像顯示裝置的視覺辨認側積層有抗反射用偏光板(圓偏光板)。如此的抗反射用偏光板係從視覺辨認者側起依偏光鏡保護基材、偏光鏡、λ/4相位差層之順序積層而成。作為偏光鏡，一般使用使聚乙烯醇(PVA)薄膜吸收碘或二色性染料，進行單軸延伸者。λ/4相位差層係有提案在三乙醯纖維素(TAC)薄膜上設置液晶化合物配向層之方法，或將環狀聚烯烴(COP)薄膜或改質丙烯酸薄膜予以延伸之方法，更且將液晶化合物配向層直接轉印至PVA薄膜之方法等。作為偏光鏡保護基材，以往使用前述TAC薄膜，為了實現有機EL影像顯示裝置之優異畫質，靈活運用透明性、光學等向性(isotropy)等之優異特性(例如，參照專利文獻1)。 然而，TAC不僅需要溶液製膜等而成本上不利，而且耐濕性或耐熱性不充分，尤其因為水分的穿透率大，故無法防止高濕度下水分往偏光鏡的聚乙烯醇(PVA)之滲透，發生因偏光度降低所致的抗反射功能之降低，或因TAC薄膜的吸濕軟化，而無法抑制單軸延伸PVA偏光鏡的收縮力，或發生因偏光鏡的收縮所致的影像顯示面板之變形等問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2017-15845號公報
[發明欲解決之課題]
本發明係以如此習知技術的問題為背景而完成者。即，本發明之目的在於提供一種用於防止外光反射之優異的抗反射用圓偏光板，藉此而高濕度下的偏光度降低所造成的抗反射功能之降低極少，還有提供一種影像顯示面板的變形小之優異的影像顯示裝置，尤其提供一種適合有機EL影像顯示裝置之抗反射用圓偏光板。 [用以解決課題之手段]
代表的本發明係如以下。 項1. 一種抗反射用圓偏光板，其係依序積層有反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層之抗反射用偏光板，其特徵為：該透光性基材薄膜之水分穿透率為100g/m2 ・day以下。 項2. 如項1記載之抗反射用圓偏光板，其中透光性基材薄膜係聚酯薄膜。 項3. 如項1或2記載之抗反射用圓偏光板，其中透光性基材薄膜之面內遲滯為3000～30000nm。 項4. 一種影像顯示裝置，其具有如項1至3中任一項記載之抗反射用圓偏光板。 項5. 如項4記載之影像顯示裝置，其中影像顯示裝置係有機電致發光影像顯示裝置。 項6. 如項4記載之影像顯示裝置，其中將從影像顯示裝置所發出的光之光譜分解成在藍色、綠色、紅色之各色區域中具有峰頂的常態分布波峰時，為滿足下述(1)～(6)之特徵的光譜： (1)400nm≦λB≦495nm (2)495nm＜λG≦580nm (3)580nm＜λR≦680nm (4)12nm≦αB≦30nm (5)15nm≦αG≦45nm (6)20nm≦αR≦60nm 上述中，λB係藍色波峰的峰頂波長，λG係綠色波峰的峰頂波長，λR係紅色波峰的峰頂波長，αB係藍色波峰的標準偏差，αG係綠色波峰的標準偏差，αR係紅色波峰的標準偏差。 [發明之效果]
依照本發明，可提供一種用於防止影像顯示裝置的外光反射之優異的抗反射用圓偏光板，藉此而高濕度下的偏光度降低所造成的抗反射功能之降低極少，還有可提供一種影像顯示面板的變形小之優異的影像顯示裝置(有機EL影像顯示裝置)。
[用以實施發明的形態]
本發明係積層有反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層之抗反射用圓偏光板。反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層較佳為依此順序積層。此處所謂「此順序」，就是反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層基本上依此順序積層，但亦包含在各層之間存在其它層的情況之概念。本發明之抗反射用圓偏光板係可使用於具有有機EL光源之影像顯示裝置。
(透光性基材薄膜) 首先，關於透光性基材薄膜進行說明。以下，將透光性基材薄膜亦僅稱基材薄膜。 基材薄膜的水分穿透率之上限較佳為100g/m2 ・day以下，更佳為50g/m2 ・day，尤佳為30g/m2 ・day，特佳為20g/m2 ・day，最佳為15g/m2 ・day，尤最佳為10g/m2 ・day。若超過上述則高濕度下發生面板變形，或在高濕度下長時間放置時，發生因抗反射性能之降低所造成的對比降低。 水分穿透率之下限較佳為0.01g/m2 ・day，更佳為0.1g/m2 ・day。若欲小於上述，則必須增厚基材薄膜，不適合於影像顯示裝置之薄型化，或必須另外設置障壁層而成本變高。
作為基材薄膜之樹脂，並沒有特別的限制，但較佳為聚酯、共聚合聚酯、丙烯酸、改質丙烯酸、環狀聚烯烴，更佳為聚酯。作為聚酯，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)。聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯若為10莫耳%(將酸成分、二醇成分各自當作100莫耳%，酸成分、二醇成分之合計量)以下，則亦可共聚合，共聚合量更佳為5莫耳%以下，特佳為3莫耳%以下。共聚合量之下限較佳為0.1莫耳%，更佳為0.5莫耳%。還有，於上述共聚合量中，亦包含在聚合時副生成的二乙二醇。
(基材薄膜之面內遲滯(retardation)) 基材薄膜可為光學等向性的薄膜。構成基材薄膜的樹脂係可舉出共聚合聚酯、丙烯酸、改質丙烯酸、環狀聚烯烴等。於光學等向性的薄膜之情況，基材薄膜之面內遲滯(Re)較佳為200nm以下，更佳為150nm以下，尤佳為100nm以下，特佳為70nm以下。若超過200nm，則即使戴上偏光太陽眼鏡觀察時或裸眼，也在斜向觀察時有發生著色或虹斑之情況。
又，為了提高基材薄膜的機械強度，較佳為使用延伸薄膜。成為延伸薄膜時，較佳為聚酯，特佳為PET或PEN。
基材薄膜為PET或PEN的延伸薄膜時，基材薄膜之面內遲滯較佳為1000nm以上。為了小於1000nm，必須超出需要地薄型化而有無法確保機械強度之情況，或必須以雙軸延伸且高度的延伸控制，有生產性降低之情況。
於本發明中，藉由後述之反射減低層而減低著色或虹斑，但為了更有效果地減低著色或虹斑，較佳為進一步提高基材薄膜之面內遲滯。 作為以延伸薄膜減低著色之方法，可舉出(A)減小偏光鏡之穿透軸(與消光軸垂直的方向)方向的折射率與基材薄膜之同方向的折射率之差之方法，(B)提高基材薄膜之面內遲滯之方法。
於(A)之方法的情況，較佳的面內遲滯之下限為1500nm，更佳的遲滯之下限值為2000nm，尤佳的下限值為2500nm，特佳的下限值為3000nm。 於(A)之方法的情況，偏光鏡的穿透軸方向與基材薄膜的快軸方向之角度較佳為10度以下，更佳為7度以下，尤佳為5度以下，特佳為3度以下。
於(A)之方法的情況，偏光鏡的穿透軸方向的折射率與基材薄膜的快軸方向的折射率之折射率差較佳為0.15以下，更佳為0.12以下，尤佳為0.11以下，特佳為0.1以下。
偏光鏡係吸附有碘之延伸聚乙烯醇，使用PET薄膜作為基材薄膜時，PET薄膜的快軸方向之折射率(nx)較佳為1.53以上1.62以下。較佳為1.61以下，更佳為1.60以下，尤佳為1.59以下，尤更佳為1.58以下。
於(B)之方法的情況，面內遲滯之下限較佳為3000nm，更佳為4000nm，尤佳為4500nm，特佳為5000nm。若小於上述，則從斜方向觀看影像時會容易發生虹斑。
為了有效果地降低PET薄膜的快軸方向之折射率，或為了增大面內遲滯，較佳為提高單軸延伸性，增大快軸方向的折射率與慢軸方向的折射率差。 基材薄膜的快軸方向之折射率(nx)與慢軸方向之折射率(ny)之差(ny-nx)較佳為0.05～0.2。快軸方向之折射率與慢軸方向之折射率之差的下限較佳為0.06，更佳為0.07，特佳為0.08。快軸方向之折射率與慢軸方向之折射率之差的上限更佳為0.17，尤佳為0.15，特佳為0.13。
基材薄膜遲滯之上限較佳為30000nm，更佳為15000nm，尤佳為10000nm，特佳為9000nm。即使具有其以上的遲滯也實質上得不到進一步的視覺辨認性之改善效果，而且若超過上述，則必須增厚基材薄膜，有影像顯示裝置變厚之情況。
基材薄膜之遲滯係可測定2軸方向的折射率與厚度而求出，亦可使用KOBRA-21ADH(王子計測機器股份有限公司)等市售的自動雙折射測定裝置而求出。
基材薄膜較佳為面內遲滯(Re)與厚度方向的遲滯(Rth)之比為特定範圍。厚度方向相位差係意指將從厚度方向剖面來觀看薄膜時的2個雙折射△Nxz、△Nyz各自乘以薄膜厚度d而得的相位差之平均。由於面內遲滯與厚度方向遲滯之差愈小，觀察角度所造成的雙折射之作用愈增加等向性，故觀察角度所造成的遲滯之變化愈小。因此，判斷觀察角度所造成之虹狀的色斑愈難以發生。
基材薄膜的面內遲滯與厚度方向遲滯之比(Re/Rth)較佳為0.200以上，更佳為0.400以上，尤佳為0.500以上，特佳為0.600以上。上述面內遲滯與厚度方向遲滯之比(Re/Rth)愈大，雙折射之作用愈增加等向性，觀察角度所造之虹狀的色斑之發生愈難以發生。而且，於完全1軸性(1軸對稱)薄膜中，上述面內遲滯與厚度方向遲滯之比(Re/Rth)成為2.0。然而如前述，隨著接近完全1軸性(1軸對稱)薄膜，與配向方向呈正交的方向之機械強度係顯著降低。
另一方面，基材薄膜的面內遲滯與厚度方向遲滯之比(Re/Rth)較佳為1.5以下，更佳為1.2以下，尤佳為1.0以下。
(Nz係數) 基材薄膜係以｜ny-nz｜/｜ny-nx｜表示的Nz係數較佳為1.7以下。Nz係數係可如以下地求出。使用分子配向計(王子計測器股份有限公司製MOA-6004型分子配向計)，求出薄膜的配向軸方向，藉由阿貝折射率計(ATAGO公司製NAR-4T，測定波長589nm)求出配向軸方向及與其正交的方向之二軸的折射率(ny、nx，惟ny＞nx)及厚度方向的折射率(nz)。將如此求出的nx、ny、nz代入｜ny-nz｜/｜ny-nx｜所示的式中，可求出得Nz係數。
若基材薄膜之Nz係數超過1.7，則在從斜方向觀察影像顯示裝置之際，有因角度而可能發生虹斑之情況。Nz係數更佳為1.65以下，尤佳為1.63以下。Nz係數之下限值為1.20。此係因為得到小於1.20的薄膜者係製造技術上困難。又，為了保持薄膜的機械強度，Nz係數之下限值較佳為1.30以上，更佳為1.40以上，尤佳為1.45以上。
(面配向度) 基材薄膜較佳為使(nx+ny)/2-nz所示的面配向度成為特定值以下。此處，nx、ny及nz之值係以與Nz係數同樣之方法求出。基材薄膜的面配向度較佳為0.13以下，更佳為0.125以下，尤佳為0.12以下。若面配向度超過0.13，則從斜方向觀察影像顯示裝置時，有因角度而看到虹斑之情況。面配向度小於0.08時，有薄膜厚度變動，遲滯之值在薄膜面內變不均勻之情況。
基材薄膜的厚度之下限較佳為10μm，更佳為20μm，尤佳為30μm，特佳為35μm。若小於上述，則會無法確保較佳的面內遲滯。 基材薄膜厚度之上限較佳為500μm，更佳為200μm，尤佳為100μm，特佳為90μm。若超過上述，則影像顯示裝置變厚。
為了抑制偏光鏡所用的二色性色素之劣化，基材薄膜係波長380nm的光線穿透率宜為20%以下。380nm的光線穿透率更佳為15%以下，尤佳為10%以下，特佳為5%以下。若前述光線穿透率為20%以下，則可抑制光學功能性色素之因紫外線所造成的變質。還有，穿透率係在對於薄膜的平面呈垂直方向中測定，可使用分光光度計(例如日立U-3500型)測定。
為了使基材薄膜的波長380nm之穿透率成為20%以下，最好適宜調節紫外線吸收劑的種類、濃度及薄膜之厚度。本發明所使用之紫外線吸收劑係眾所周知的物質。作為紫外線吸收劑，可舉出有機系紫外線吸收劑與無機系紫外線吸收劑，但從透明性之觀點來看，較佳為有機系紫外線吸收劑。作為有機系紫外線吸收劑，可舉出苯并三唑系、二苯基酮系、環狀亞胺基酯系等及其組合，惟只要是上述吸光度之範圍，則沒有特別的限定。但是，從耐久性之觀點來看，特佳為苯并三唑系、環狀亞胺基酯系。併用2種以上的紫外線吸收劑時，由於可同時吸收各自的波長之紫外線，可更改善紫外線吸收效果。
又，於紫外線吸收劑以外，在不妨礙本發明的效果之範圍內，含有觸媒以外的各種添加劑者亦為較佳的樣態。作為添加劑，例如可舉出無機粒子、耐熱性高分子粒子、鹼金屬化合物、鹼土類金屬化合物、磷化合物、抗靜電劑、耐光劑、難燃劑、熱安定劑、抗氧化劑、防凝膠化劑、界面活性劑等。又，為了達成高的透明性，亦較佳為在聚酯薄膜中實質上不含粒子。所謂「實質上不含粒子」，例如於無機粒子之情況，以螢光X射線分析來定量無機元素時，意指50ppm以下，較佳為10ppm以下，特佳為檢測極限以下的含量。
(基材薄膜之製造方法) 成為基材的薄膜係藉由延伸，可賦予指定的面內遲滯。延伸只要能得到特性，則可為單軸延伸，也可為雙軸延伸。基材薄膜的慢軸可為基材薄膜的長度方向，也可為與長度方向正交的方向，亦可為斜方向。還有，此處的長度方向係意指連續生產薄膜時的行進方向。基材薄膜的長度方向與慢軸所成之角度，於慢軸為基材薄膜的長度方向時較佳為10度以下，特佳為7度以下。基材薄膜的慢軸與基材薄膜的長度方向正交時，基材薄膜的長度方向與慢軸所成之角度較佳為80～100度，特佳為83～97度。斜方向之情況較佳為35～55度之範圍。又，基材薄膜的慢軸之偏差係在與長度方向正交的方向中較佳為15度以內，更佳為10度以內，尤佳為8度以內，特佳為5度以內。若超過上述範圍，則在戴上偏光太陽眼鏡觀察影像時，有畫面的明亮度變不均勻之情況。
關於延伸條件，以在與長度方向正交的方向中具有慢軸的PET之基材薄膜之情況為例，具體地說明。
將經熔融的PET擠出至冷卻輥上，以夾具抓住所得之未延伸原材的兩端，導引至拉幅機內，預熱後，邊加熱邊在橫向中延伸。還有，於橫向的延伸前，亦可用連續輥在縱向中延伸。又，也可同時進行雙軸延伸。縱延伸溫度、橫延伸溫度較佳為80～130℃，特佳為90～120℃。縱延伸倍率較佳為1.0～3.5倍，特佳為1.0倍～3.0倍。另外，橫延伸倍率較佳為2.5～6.0倍，特佳為3.0～5.5倍。為了將遲滯控制在上述範圍，較佳為控制縱延伸倍率與橫延伸倍率之比率。若縱橫的延伸倍率之差過小，則遲滯難以升高而不宜。還有，設定低的延伸溫度者亦在提高遲滯之方面為較佳的對應。於後續的熱處理中，處理溫度較佳為100～250℃，特佳為180～245℃。 為了得到在長度方向中具有慢軸的基材薄膜，較佳為以連續輥進行縱延伸。在縱延伸步驟前，亦可進行橫延伸。
又，基材薄膜的主配向主軸與長度方向或和長度方向正交的方向之角度較佳為20度以下，更佳為15度以下，特佳為10度以下，最佳為5度以下。若超過20度，則在通過偏光太陽眼鏡等觀察時，有因角度而明亮度的變化變大之情況。還有，於長度方向中延伸時，由於主配向方向成為長度方向，故主配向主軸與長度方向之角度，於寬度方向中延伸時為主配向主軸與和長度方向正交的方向之角度。
(易接著層) 於基材薄膜上，為了提高與反射減低層或偏光鏡之接著性，亦可設置易接著層。 易接著層所用的樹脂係使用聚酯樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂等，較佳為聚酯樹脂、聚酯聚胺甲酸酯樹脂、聚碳酸酯聚胺甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂。使用聚乙烯醇作為與偏光鏡之接著劑時，可更添加聚乙烯醇等的水溶性樹脂。 易接著層較佳為被交聯。作為交聯劑，可舉出異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、環氧樹脂、
Figure 109109742-A0304-12-0059-1
唑啉化合物等。又，添加聚乙烯醇或聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺等之與配向層或偏光膜所用的樹脂類似的樹脂，亦為使密著性升高的有用手段。
易接著層係可將加有此等樹脂與視需要的交聯劑、粒子等之水系塗料，在基材薄膜上塗布・乾燥而設置。作為粒子，可例示在上述之基材所用者。 易接著層亦可在離線(off-line)設置於延伸完畢的基材上，但較佳為於製膜步驟中在線內(in-line)設置。於線內設置時，可為縱延伸前、橫延伸前之任一者，但較佳為在即將橫延伸之前塗布，於拉幅機的預熱、加熱、熱處理步驟中乾燥，使其交聯。還有，在即將藉由輥的縱延伸之前於線內塗布時，較佳為在塗布後，於縱型乾燥機中使其乾燥後，導引至延伸輥。 易接著層之塗布量較佳為0.01～1.0g/m2 ，更佳為0.03～0.5g/m2 。
(反射減低層) 於基材薄膜之與積層偏光鏡的面相反側之面上，較佳為設置反射減低層。藉由設置反射減低層，即使為聚酯等具有相位差的薄膜，也可減低虹斑。
從基材薄膜的反射減低層側所測定的反射率之上限較佳為5%，更佳為4%，尤佳為3%，特佳為2%，最佳為1.5%。若超過上述，則容易看到虹斑，或有色再現性降低之情況。 反射率之下限雖然較佳為沒有特別的規定，但是從實際方面來看，較佳為0.01%，更佳為0.1%。 作為反射減低層，有低反射層、抗反射層、防眩層等各式各樣的種類。
(低反射層) 低反射層係藉由在基材薄膜之表面上設置低折射率的層(低折射率層)而減小與空氣的折射率差，具有減低反射率之功能的層。 於低反射層之情況，反射率之上限較佳為5%，更佳為4%，尤佳為3%。 於低反射層之情況，反射率之下限較佳為0.8%，更佳為1%。低折射率層只是減小與空氣的折射率差，實際上成為小於0.8%者係困難。
(抗反射層) 抗反射層係控制低折射率層之厚度，干涉低折射率層的上側界面(低折射率層-空氣之界面)與低折射的下側界面(例如基材薄膜-低折射率層之界面)之反射光，而控制反射之層。此時，低折射率層之厚度較佳成為可見光的波長(400～700mn)/(低折射率層的折射率×4)左右。 於抗反射層與基材薄膜之間設置高折射率層者亦為較佳的形態，也可設置2層以上的低折射率層或高折射率層，藉由多重干涉而進一步提高抗反射效果。
又，作為其它形態的抗反射層，較佳為使表面成為蛾眼構造。蛾眼構造係在與空氣的界面設置可見光的波長以下之周期的凹凸構造，模擬地使界面的折射率連續地變化而防止反射之層。
於抗反射層之情況，反射率之上限較佳為2%，更佳為1.5%，尤佳為1.2%，特佳為1%。
(低折射率層) 低折射率層之折射率較佳為1.45以下，更佳為1.42以下。又，低折射率層之折射率較佳為1.20以上，更佳為1.25以上。 再者，低折射率層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
低折射率層之厚度係沒有限定，但通常只要從30nm～1μm左右之範圍內來適宜設定即可。又，若以使低折射率層表面之反射與低折射率層及其內側的層(基材薄膜、硬塗層、光學等向層等)之界面反射相抵，更減低反射率為目的，則低折射率層之厚度較佳為70～120nm，更佳為75～110nm。
作為低折射率層，較佳可舉出：(1)由含有黏結劑樹脂及低折射率粒子的樹脂組成物所成之層、(2)由低折射率樹脂的氟系樹脂所成之層、(3)由含有矽石或氟化鎂的氟系樹脂組成物所成之層、(4)矽石、氟化鎂等的低折射率物質之薄膜等。
作為(1)之樹脂組成物中所含有的黏結劑樹脂，可無特別限制地使用聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚碳酸酯、丙烯酸等。其中較佳為丙烯酸，較佳為藉由光照射使光聚合性化合物聚合(交聯)而得者。
作為光聚合性化合物，可舉出光聚合性單體、光聚合性寡聚物、光聚合性聚合物，可適宜調整此等而使用。作為光聚合性化合物，較佳為光聚合性單體與光聚合性寡聚物或光聚合性聚合物之組合。
(光聚合性單體) 光聚合性單體係重量平均分子量小於1000者。作為光聚合性單體，較佳為具有2個(即2官能)以上的光聚合性官能基之多官能單體。於本說明書中，「重量平均分子量」係溶解於THF等溶劑中，藉由習知的凝膠滲透層析(GPC)法以聚苯乙烯換算所得之值。
作為多官能單體，例如可舉出三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基二(甲基)丙烯酸酯、異
Figure 109109742-003-010-1
基二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、此等經PO、EO等所改質者。
於此等之中，從得到硬度高的功能層之觀點來看，較佳為季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。
(光聚合性寡聚物) 光聚合性寡聚物係重量平均分子量為1000以上且小於10000者。作為光聚合性寡聚物，較佳為2官能以上的多官能寡聚物。作為多官能寡聚物，可舉出聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
(光聚合性聚合物) 光聚合性聚合物係重量平均分子量為10000以上者，重量平均分子量較佳為10000以上80000以下，更佳為10000以上40000以下。重量平均分子量超過80000時，由於黏度高而塗布適應性會降低，有所得之基材薄膜的外觀變差之虞。作為光聚合性聚合物，較佳為2官能以上的多官能聚合物。作為多官能聚合物，可舉出胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
於塗劑中，除了上述成分之外，還可包含聚合起始劑、交聯劑的觸媒、聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、調平劑、界面活性劑等。
作為(1)之樹脂組成物中所含有的低折射率粒子，可舉出矽石粒子(例如中空矽石粒子)、氟化鎂粒子等，其中較佳為中空矽石粒子。如此的中空矽石粒子例如可藉由日本特開2005-099778號公報之實施例中記載之製造方法而製作。
低折射率粒子的一次粒子之平均粒徑較佳為5～200nm，更佳為5～100nm，尤佳為10～80nm。
低折射率粒子更佳為經矽烷偶合劑所表面處理者，其中較佳為經具有(甲基)丙烯醯基的矽烷偶合劑所表面處理者。
相對於100質量份的黏結劑樹脂，低折射率層中的低折射率粒子之含量較佳為10～250質量份，更佳為50～200質量份，尤佳為100～180質量份。
作為(2)之氟系樹脂，可使用至少在分子中包含氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物，並沒有特別的限定，但例如較佳為具有光聚合性官能基、熱硬化極性基等硬化反應性基者。又，亦可為同時兼具此等複數的硬化反應性基之化合物。對於該聚合性化合物，聚合物係不具有上述的硬化反應性基等者。
作為具有光聚合性官能基的化合物，例如可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵的含氟單體。
於低折射率層中，以提高耐指紋性為目的，亦較佳為適宜添加眾所周知的聚矽氧烷系或氟系的防污劑。作為聚矽氧烷系防污劑的較佳例，例如可舉出具有丙烯酸基的聚醚改質聚二甲基矽氧烷、聚醚改質二甲基矽氧烷、具有丙烯酸基的聚酯改質二甲基矽氧烷、聚醚改質聚二甲基矽氧烷、聚酯改質聚二甲基矽氧烷、芳烷基改質聚甲基烷基矽氧烷等。氟系防污劑較佳為具有能助於低折射率層的形成或與低折射率層的相溶性之取代基。該取代基可為1個或複數個，複數個的取代基可互相相同，也可不同。作為較佳的取代基之例，可舉出丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、芳基、桂皮醯基、環氧基、氧雜環丁基、羥基、聚氧化烯基、羧基、胺基等。
低折射率層之表面係為了出現防眩性，可為凹凸面，但亦較佳為平滑面。 低折射率層之表面為平滑面時，低折射率層之表面的算術平均粗糙度Ra(JIS B0601：1994)較佳為20nm以下，更佳為15nm以下，尤佳為10nm以下，特佳為1～8nm。又，低折射率層之表面的十點平均粗糙度Rz(JIS B0601：1994)較佳為160nm以下，更佳為50～155nm。 為了使低折射率層之Ra成為上述範圍，例如可採用以下之方法。 ・於低折射率層中不使用超過低折射率層的厚度之1/2的粒徑之粒子，或減少其添加量。 ・減小比低折射率層更內側的層(基材薄膜層、高折射率層、硬塗層等)之表面粗糙度。 ・基材薄膜之粗糙度大時，以硬塗層、高折射率層等使其平滑化。
(高折射率層) 高折射率層之折射率較佳為1.55～1.85，更佳為1.56～1.70。 再者，高折射率層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
高折射率層之厚度較佳為30～200nm，更佳為50～180nm。高折射率層可為複數之層，但較佳為2層以下，更佳為單層。複數之層時，複數之層的厚度之合計較佳為上述範圍內。
將高折射率層設為2層時，較佳為更提高低折射率層側的高折射率層之折射率，具體而言，低折射率層側的高折射率層之折射率較佳為1.60～1.85，另一方的高折射率層之折射率較佳為1.55～1.70。
高折射率層較佳為由包含高折射率粒子及樹脂的樹脂組成物所成。 其中，作為高折射率粒子，較佳為五氧化二銻粒子(1.79)、氧化鋅粒子(1.90)、氧化鈦粒子(2.3～2.7)、氧化鈰粒子(1.95)、錫摻雜氧化銦粒子(1.95～2.00)、銻摻雜氧化錫粒子(1.75～1.85)、氧化釔粒子(1.87)及氧化鋯粒子(2.10)等。還有，上述括弧內表示各粒子的材料之折射率。於此等之中，宜為氧化鈦粒子及氧化鋯粒子。
高折射率粒子係可併用2種以上。特別地，藉由添加第1高折射率粒子與比其表面電荷量少的第2高折射率粒子，由於亦防止凝聚而較宜。又，高折射率粒子被表面處理者，亦從分散性之方面來看較宜。
高折射率粒子的一次粒子之較佳平均粒徑係與低折射率粒子同樣。
相對於100質量份的樹脂，高折射率粒子之含量較佳為30～400質量份，更佳為50～200質量份，尤佳為80～150質量份。
作為高折射率層所用之樹脂，除了氟系樹脂之外，可舉出與在低折射率層所列舉的樹脂相同。
為了使在高折射率層之上所設置的低折射率層成為平坦，高折射率層之表面較佳為亦平坦。作為使高折射率層之表面成為平坦之方法，使用使上述低折射率層成為平坦之方法。
高折射率層及低折射率層例如可藉由將包含光聚合性化合物的樹脂組成物塗布於基材薄膜，使其乾燥後，對於塗膜狀的樹脂組成物照射紫外線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)而形成。
於高折射率層及低折射率層之樹脂組成物中，視需要可添加熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、溶劑、聚合起始劑。再者，亦可添加分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、紫外線吸收劑、黏著賦與劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
(防眩層) 防眩層係藉由在表面上設置凹凸而漫反射，防止外光被表面反射時的光源之形狀的映入，或減低眩光之層。
於防眩層之表面，防眩性表面的傾斜角度(表面角度)為0.05°以上之區域較佳為存在50%以上，更佳為55%以上，尤佳為60%以上。又，表面角度為0.05°以上之區域的比例之上限較佳為95%以下，更佳為90%以下。若表面角度在上述範圍，則可減低因防眩性表面本身之干涉所造成的虹斑。
防眩層之表面的均方根傾斜(root mean square slope)(RΔq)較佳為0.004以下。
防眩層之表面的峰度(kurtosis)(Rku)較佳為5以下，更佳為4以下，尤佳為3以下。該Rku較佳為2以上。
防眩層之表面的偏度(skewness)(RSk)較佳為-1.0～1.0，更佳為-0.5～0.5，尤佳為-0.3～0.3。
防眩層之表面的凹凸之平均傾斜角(θ a)較佳為0.01～1.5°，更佳為0.04～1.2°，尤佳為0.1～0.5°。
防眩層之表面的凹凸之算術平均粗糙度(Ra)較佳為0.02～0.25μm，更佳為0.02～0.15μm，尤佳為0.02～0.12μm。
防眩層之表面的凹凸之十點平均粗糙度(Rzjis)較佳為0.15～2.00μm，更佳為0.20～1.20μm，尤佳為0.30～0.80μm。
若RΔq、Rku、RSk、θ a、Ra及Rzjis之值為下限以上，則可更有效果地抑制外光之映入。 若RΔq、Rku、RSk、θ a、Ra、及Rzjis之值為上限以下，則亮度及對比優異。
防眩性表面之凹凸的平均間隔(RSm)較佳為50～600μm，更佳為100～400μm，尤佳為120～300μm，特佳為150～280μm。若該RSm之值為下限以上，則凝聚之控制為容易。若該RSm之值為上限以下，則可再現映像的細緻度。
RΔq、Rku、RSk、θ a、Ra、Rzjis及RSm係依據JIS B0601-1994或JIS B0601-2001，從使用接觸型粗糙度計所測定的粗糙度曲線來算出。
作為在基材薄膜上設置防眩層之方法，例如可舉出以下之方法。 ・將包含粒子(填料)等的防眩層用塗料予以塗布 ・於使防眩層用樹脂接觸具有凹凸構造的模具之狀態下硬化 ・將防眩層用樹脂塗布於具有凹凸構造的模具，轉印至基材薄膜 ・塗布在乾燥、製膜時發生離相分解(spinodal decomposition)之塗料
防眩層之厚度之下限較佳為0.1μm，更佳為0.5μm。防眩層之厚度之上限較佳為100μm，更佳為50μm，尤佳為20μm。
防眩層之折射率較佳為1.20～1.80，更佳為1.40～1.70。 減低防眩層本身之折射率而尋求低反射效果時，防眩層之折射率較佳為1.20～1.45，更佳為1.25～1.40。 於防眩層之上設置後述的低折射率層時，防眩層之折射率較佳為1.50～1.80，更佳為1.55～1.70。 再者，防眩層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
以下，說明防眩層包含微粒子及黏結劑樹脂之例。
(微粒子) 微粒子可為無機微粒子或有機微粒子之任一者，但於此等之中，較佳為無機微粒子。作為較佳的無機粒子，可舉出在低折射率層或高折射率層所列舉者，於此等以外可舉出氧化鋁粒子。
無機微粒子較佳為經矽烷系化合物、矽氮烷系化合物等所表面處理者。無機微粒子較佳為凝聚粒子，其中較佳為煙薰矽石微粒子。 又，無機微粒子亦可在調整防眩層的折射率之際使用。提高折射率時，較佳為在高折射率層所列舉者，降低折射率時，較佳為在低折射率層所列舉者。 將抗靜電性賦予至防眩層時，宜使用五氧化二銻微粒子、錫摻雜氧化銦微粒子、銻摻雜氧化錫微粒子等。
作為有機微粒子，例如可舉出聚苯乙烯珠、三聚氰胺樹脂珠、丙烯酸珠、丙烯酸-苯乙烯珠、聚矽氧珠、苯并胍胺珠、苯并胍胺-甲醛縮合珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠等。
有機微粒子較佳為經三次元交聯者，可藉由交聯的程度、硬度來調整凹凸形狀。
防眩層中的微粒子之含量，若目的為調整折射率調整，則較佳為分別在低折射率層或高折射率層所陳述的範圍。若僅為了形成凹凸，則較佳為0.1質量%以上5.0質量%以下。微粒子之含量之下限更佳為0.5質量%以上，微粒子之含量之上限更佳為3.0質量%以下。
使用無機微粒子(例如無機氧化物微粒子)作為微粒子時，無機微粒子之平均一次粒徑較佳為1nm以上100nm以下。無機微粒子之平均一次粒徑之下限更佳為5nm以上，無機微粒子之平均一次粒徑之上限更佳為50nm以下。
使用有機微粒子作為微粒子時，平均一次粒徑較佳為小於8.0μm，更佳為5.0μm以下。又，平均一次粒徑較佳為0.5μm以上，更佳為1.0μm以上。
使用無機氧化物微粒子作為微粒子時，無機氧化物微粒子之凝聚體的平均粒徑較佳為100nm以上2.0μm以下。下限更佳為200nm以上，上限更佳為1.5μm以下。
於防眩層用塗料中，可添加上述其它的樹脂或各種添加劑。又，亦可添加防污劑。
可在低折射率層設置凹凸而成為防眩性低反射層，也可在凹凸上設置低折射率層而具有抗反射功能並作為防眩性抗反射層。
(硬塗層) 設置硬塗層作為上述反射減低層之下層者亦為較佳的形態。 硬塗層係鉛筆硬度較佳為H以上，更佳為2H以上。硬塗層例如可藉由塗布熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂之組成物溶液，使其硬化而設置。
作為熱硬化性樹脂，可舉出丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、酚樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂、此等之組合等。於熱硬化性樹脂組成物中，可在此等硬化性樹脂中視需要地添加硬化劑。
放射線硬化性樹脂較佳為具有放射線硬化性官能基的化合物，作為放射線硬化性官能基，可舉出(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等之乙烯性不飽和鍵基、環氧基、氧雜環丁基等。其中，作為電離放射線硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基的化合物，更佳為具有2個以上的乙烯性不飽和鍵基的化合物，其中尤佳為具有2個以上的乙烯性不飽和鍵基的多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，可為單體，也可為寡聚物，亦可為聚合物。
作為此等之具體例，可使用在上述黏結劑樹脂所列舉者。 為了達成作為硬塗層的硬度，於具有放射線硬化性官能基的化合物中，2官能以上的單體較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上。再者，於具有放射線硬化性官能基的化合物中，3官能以上的單體較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上。 上述具有放射線硬化性官能基的化合物可為1種或組合2種以上使用。
硬塗層之厚度較佳為0.1～100μm之範圍，更佳為0.8～20μm之範圍。
硬塗層之折射率更佳為1.45～1.70，尤佳為1.50～1.60。 再者，硬塗層之折射率係在波長589nm之條件所測定的值。
為了調整硬塗層之折射率，可舉出調整樹脂之折射率的方法，添加粒子時，可舉出調整粒子之折射率的方法。 作為粒子，可舉出在防眩層之粒子所例示者。 再者，於本發明中，有亦包含硬塗層而稱為反射減低層之情況。
(抗靜電層) 另外設置抗靜電層者亦為較佳的形態。抗靜電層較佳為設置在基材薄膜與反射減低層之間或設置在基材薄膜之未設置反射減低層之面等。抗靜電層較佳為由抗靜電劑及黏結劑樹脂所成者。 作為抗靜電劑，可舉出四級銨鹽、聚苯胺或聚噻吩等之導電性高分子、針狀金屬填料、錫摻雜氧化銦微粒子、銻摻雜氧化錫微粒子等之導電性高折射率微粒子、此等之組合。 作為黏結劑樹脂，可使用聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、丙烯酸等。 再者，亦可於硬塗層中添加抗靜電劑，使硬塗層具有抗靜電層之功能。作為添加至硬塗層的抗靜電劑，可使用習知者，例如可使用四級銨鹽等之陽離子性抗靜電劑、錫摻雜氧化銦(ITO)等之微粒子、導電性聚合物等。相對於硬塗層的全部固體成分之合計質量，上述抗靜電劑之含量較佳為1～30質量%。
(偏光鏡) 作為用於偏光板的偏光鏡，例如可無特別限制地使用使經單軸延伸的聚乙烯醇(PVA)吸附碘或有機系的二色性色素者、使液晶化合物與有機系的二色性色素配向者或由液晶性的二色性色素所成之液晶性的偏光鏡、線柵方式者等。
可使用PVA系、紫外線硬化型等之接著劑或黏著劑，將使經單軸延伸的聚乙烯醇(PVA)吸附碘或有機系的二色性色素而成的薄膜狀偏光鏡與捲取成捲筒狀的基材薄膜貼合，捲取成捲筒狀。此類型的偏光鏡之厚度較佳為5～50μm，更佳為10～30μm，特佳為12～25μm。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，更佳為2～5μm。
又，亦較宜使用：在PET或聚丙烯等的未延伸之基材上塗布PVA，與基材一起進行單軸延伸，使吸附碘或有機系的二色性色素之偏光鏡。此偏光鏡之情況係可以接著劑或黏著劑將在基材上所積層的偏光鏡之偏光鏡面(未積層基材之面)與基材薄膜貼合，然後將在製作偏光鏡時所用的基材剝離，而使基材薄膜與偏光鏡貼合。此情況亦較佳為以捲筒狀貼合，進行捲取。此類型的偏光鏡之厚度較佳為1～10μm，更佳為2～8μm，特佳為3～6μm。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，更佳為2～5μm。
於液晶性的偏光鏡之情況，藉由在基材薄膜上積層使由液晶化合物與有機系的二色性色素所成之偏光鏡配向者，或在本發明之基材薄膜上塗布含有液晶性的二色性色素之塗液後，使其乾燥，進行光或熱硬化而積層偏光鏡，可形成偏光板。作為使液晶性的偏光鏡配向之方法，可舉出摩擦處理塗布對象物的表面之方法、照射偏光的紫外線而邊使液晶性的偏光鏡配向邊使其硬化之方法等。可直接摩擦處理本發明之基材薄膜的表面，塗布塗液，也可在基材薄膜上直接塗布塗液，對其照射偏光紫外線。又，於設置液晶性的偏光鏡之前，在本發明的基材薄膜上設置配向層(即，在本發明的基材薄膜上隔著配向層積層液晶性的偏光鏡)者亦為較佳的方法。作為設置配向層之方法，可舉出： ・塗布聚乙烯醇及其衍生物、聚醯亞胺及其衍生物、丙烯酸樹脂、聚矽氧烷衍生物等，摩擦處理其表面而成為配向層(摩擦配向層)之方法， ・藉由將包含具有桂皮醯基及查耳酮基等光反應性基之聚合物或單體與溶劑之塗布液予塗布，照射偏光紫外線而使其配向硬化，成為配向層(光配向層)之方法等。
亦可於具有脫模性的薄膜上，依據上述方法設置液晶性的偏光鏡，以接著劑或黏著劑貼合液晶性的偏光鏡面與本發明的基材薄膜，然後剝離具有脫模性的薄膜，而使基材薄膜與偏光鏡貼合。
液晶性的偏光鏡之厚度較佳為0.1～7μm，更佳為0.3～5μm，特佳為0.5～3μm。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，更佳為2～5μm。
若為線柵方式，則只要在基材薄膜上設置微細導電線即可。於為了設置微細導電線而需要微細的溝之情況，可另外設置用於設置溝之層。
偏光鏡的穿透軸與基材薄膜的慢軸所成之角度係沒有特別的限定，但若將從偏光鏡穿透來的直線偏光直接當作直線偏光，發射到視覺辨認側，則上述較佳為平行或垂直。所謂「平行或垂直」，係容許從0度或90度較佳偏移到±10度為止，更佳偏移到±7度，尤其到±5度。藉由成為平行或垂直，可容易以捲筒狀直接貼合而捲取。
又，若使從偏光鏡穿透來的直線偏光消除，防止以偏光太陽眼鏡觀看時的轉暗，則偏光鏡的穿透軸與基材薄膜的慢軸所成之角度較佳為20～70度，更佳為25～65度，尤佳為30～60度，特佳為35～55度。如此地為了成為斜方向，有以單片切出而使其貼合之方法，但若以捲筒狀貼合，則可舉出將基材薄膜在斜方向中延伸之方法，將因基材薄膜之延伸時的拱起現象(bowing phenomenon)所發生的端部之斜方向中配向的部分予以切出而使用等之方法。
偏光鏡係設置在基材薄膜之與反射減低層相反側。可在基材薄膜上設置反射減低層後，設置偏光鏡，也可在基材薄膜上設置偏光鏡後，設置反射減低層，但在不易對偏光鏡造成損傷，於塗布反射減低層時操作容易之點上，前者較佳。
再者，使偏光鏡的穿透軸與基材薄膜的慢軸之角度成為平行或垂直時，以偏光太陽眼鏡觀察影像時發生轉暗，但藉由在偏光鏡與基材薄膜之間或在與基材薄膜與反射減低層之間於斜方向中設置λ/4相位差層，可防止轉暗。此時，λ/4相位差層的慢軸方向係相對於偏光鏡的消光軸方向(吸收軸方向)，較佳為30～60度，更佳為35～55度，特佳為40～50度。
在偏光鏡之另一面(偏光鏡之與積層基材薄膜之側相反側之面)上，設置λ/4相位差層，但亦可在偏光鏡之另一面上隔著TAC等的光學等向性之偏光鏡保護膜，設置λ/4相位差層，也可在偏光鏡上直接設置λ/4相位差層。再者，此處在偏光鏡直接設置λ/4相位差層者，亦包含以接著劑或黏著劑貼合偏光鏡與λ/4相位差層者。又，亦可在偏光鏡上設置保護塗層，在此保護塗層上設置λ/4相位差層。
(λ/4相位差層) λ/4相位差層係擔任將通過偏光鏡而進入的直線偏光轉換成圓偏光，將被有機EL影像顯示內的配線、玻璃基板等所反射的圓偏光轉換成與所入射的直線偏光錯開90度之直線偏光之角色。λ/4相位差層可為λ/4相位差層單獨，也可λ/4相位差層與λ/2相位差層之複合λ/4相位差層。再者，亦可設置C板相位差層等，於本發明中亦有將包含此等的複合λ/4相位差層，稱為λ/4相位差層之情況。
λ/4相位差層可為TAC、COP、聚丙烯、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯等的延伸薄膜。於延伸薄膜之情況，較佳為在斜方向中經延伸者，或如前述採用發生有拱起的部分。
又，可為在光學等向性的薄膜上設有由液晶化合物所成的λ/4相位差層之λ/4相位差薄膜。作為光學等向性薄膜，可舉出TAC作為較佳例。 此等之薄膜狀的λ/4相位差層之厚度較佳為10～80μm，更佳為20～60μm。
然而，近年來要求影像顯示裝置的薄型化，因此特佳的形態為在偏光鏡上直接設置由液晶化合物所成的λ/4相位差層。 作為在偏光鏡上直接設置由液晶化合物所成的λ/4相位差層之方法，可舉出：將液晶化合物塗布於偏光鏡上之方法，另外在脫模性薄膜上設置相位差層，將其轉印之方法。
λ/4相位差層之面內遲滯較佳為100～180nm，更佳為120～150nm。 λ/2相位差層之面內遲滯較佳為200～360nm，更佳為240～300nm。
(由液晶化合物所成的λ/4相位差層之轉印)
於脫模性薄膜上設置由液晶化合物所成的相位差層，將其轉印之方法中，有在脫模性薄膜上塗布包含液晶化合物的塗料後，使液晶化合物配向，進行固定化之必要。
作為使液晶化合物配向之方法，有對於液晶化合物配向層之下層(脫模性薄膜之脫模面)進行摩擦處理等，賦予配向控制功能之方法，或將液晶化合物塗布於脫模性薄膜後，照射偏光紫外線等，直接使液晶化合物配向之方法。
(配向控制層) 又，亦較佳為在脫模性薄膜上設置配向控制層，在此配向控制層上設置液晶化合物配向層之方法。還有，於本發明中，不是液晶化合物配向層單獨，而是合併配向控制層與液晶化合物配向層之總稱，亦稱為液晶化合物配向層。作為配向控制層，只要使液晶化合物配向層成為所欲的配向狀態，則可為任何樣式的配向控制層，但可舉出將樹脂的塗布膜摩擦處理後的摩擦處理配向控制層，或藉由偏光之光照射而使分子配向，產生配向功能之光配向控制層，作為合適例。
(摩擦處理配向控制層) 作為藉由摩擦處理形成的配向控制層所用的聚合物材料，較宜使用聚乙烯醇及其衍生物、聚醯亞胺及其衍生物、丙烯酸樹脂、聚矽氧烷衍生物等。
以下，說明摩擦處理配向控制層之形成方法。首先，將包含上述聚合物材料之摩擦處理配向控制層塗布液塗布於脫模性薄膜的脫模面上後，進行加熱乾燥等，得到摩擦處理前的配向控制層。配向控制層塗布液亦可具有交聯劑。
作為摩擦處理配向控制層塗布液之溶劑，只要是溶解聚合物材料者，則可無限制地使用。作為具體例，可舉出水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、賽珞蘇等之醇；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁內酯等之酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮等之酮系溶劑；甲苯或二甲苯等之芳香族烴溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等之醚系溶劑等。此等溶劑係可單獨使用，也可組合。
摩擦處理配向控制層塗布液之濃度係可按照聚合物之種類或所欲製造的配向控制層之厚度而適宜調節，但以固體成分濃度表示，較佳為0.2～20質量%，特佳為0.3～10質量%之範圍。作為塗布之方法，可採用凹版塗布法、模塗法、棒塗法及塗刷法等之塗布法，或柔版法等之印刷法等眾所周知的方法。
加熱乾燥溫度亦取決於脫模性薄膜，但PET時較佳為30℃～170℃之範圍，更佳為50～150℃，尤佳為70～130℃。乾燥溫度低時，發生需要增長乾燥時間之必要，有生產性差之情況。乾燥溫度過高時，脫模性薄膜因熱而伸長，或熱收縮變大，無法達成符合設計的光學功能，或有平面性變差之情況。加熱乾燥時間例如可為0.5～30分鐘，較佳為1～20分鐘，更佳為2～10分鐘。
摩擦處理配向控制層之厚度較佳為0.01～10μm，更佳為0.05～5μm，特佳為0.1μm～1μm。
接著，施予摩擦處理。摩擦處理一般可藉由紙或布在一定方向中摩擦聚合物層之表面而實施。一般而言，使用尼龍、聚酯、丙烯酸等之纖維的起毛布之摩擦輥，摩擦處理配向控制層表面。為了設置相對於長條狀薄膜之長度方向而言在斜的指定方向中配向的液晶化合物配向控制層，配向控制層的摩擦方向亦必須成為配合其之角度。角度之調整係可藉由調整摩擦輥與脫模性薄膜之角度、調整脫模性薄膜的搬運速度與輥的旋轉數而使其一致。
再者，亦可對於脫模性薄膜的脫模面直接進行摩擦處理，而使脫模性薄膜表面具有配向控制功能，此情況亦包含於本發明之技術範圍中。
(光配向控制層) 所謂光配向控制層，就是指將包含具有光反應性基的聚合物或單體與溶劑之塗布液塗布於脫模性薄膜，藉由照射偏光、較佳偏光紫外線，而賦予有配向管制力的配向膜者。所謂光反應性基，就是指藉由光照射而產生液晶配向能力的基。具體而言，發生因照射光而產生的分子之配向誘發或如異構化反應、二聚化反應、光交聯反應或光分解反應般之成為液晶配向能力的起源之光反應者。於該光反應性基之中，發生二聚化反應或光交聯反應者，係在配向性優異，保持λ/4相位差層的液晶狀態之點上較宜。作為能發生如以上的反應之光反應性基，較佳為具有不飽和鍵，尤其雙鍵，特佳為具有選自由C=C鍵、C=N鍵、N=N鍵、C=O鍵所組成之群組的至少一個之基。
作為具有C=C鍵的光反應性基，例如可舉出乙烯基、多烯基、二苯乙烯(stilbene)基、苯乙烯基吡啶(stilbazole)基、苯乙烯基吡啶鎓(stilbazolium)基、查耳酮基及桂皮醯基等。作為具有C=N鍵的光反應性基，可舉出具有芳香族希夫鹼及芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵的光反應性基，可舉出具有偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲䐶基等或偶氮氧基苯作為基本結構者。作為具有C=O鍵的光反應性基，可舉出二苯基酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來醯亞胺基等。此等之基亦可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基及鹵化烷基等之取代基。
其中，較佳為能發生光二聚化反應的光反應性基，桂皮醯基及查耳酮基由於光配向所需要的偏光照射量比較少，且容易得到熱安定性或隨著時間經過的安定性優異之光配向控制層而較宜。進一步而言，作為具有光反應性基的聚合物，特佳為該聚合物側鏈的末端部具有成為如桂皮酸結構的桂皮醯基者。作為主鏈之結構，可舉出聚醯亞胺、聚醯胺、(甲基)丙烯酸、聚酯等。
作為具體的配向控制層，例如可舉出日本特開2006-285197號公報、日本特開2007-76839號公報、日本特開2007-138138號公報、日本特開2007-94071號公報、日本特開2007-121721號公報、日本特開2007-140465號公報、日本特開2007-156439號公報、日本特開2007-133184號公報、日本特開2009-109831號公報、日本特開2002-229039號公報、日本特開2002-265541號公報、日本特開2002-317013號公報、日本特表2003-520878號公報、日本特表2004-529220號公報、日本特開2013-33248號公報、日本特開2015-7702號公報、日本特開2015-129210號公報中記載之配向控制層。
作為光配向控制層形成用塗布液之溶劑，只要是能溶解具有光反應性基的聚合物及單體者，則可無限制地使用。作為具體例，可例示在摩擦處理配向控制層之形成方法所列舉者。於光配向控制層形成用塗布液中，亦較佳為添加光聚合起始劑、聚合抑制劑、各種安定劑。又，亦可添加具有光反應性基的聚合物及單體以外的聚合物或不具有與具光反應性基的單體能共聚合的光反應性基之單體。
光配向控制層形成用塗布液之濃度、塗布方法、乾燥條件亦可例示在摩擦處理配向控制層之形成方法所列舉者。厚度亦與摩擦處理配向控制層的較佳厚度同樣。
偏光較佳為從配向前的光配向控制層面之方向來照射。
偏光之波長較佳為具有光反應性基的聚合物或單體之光反應性基能吸收光能量之波長區域者。具體而言，較佳為波長250～400nm之範圍的紫外線。作為偏光的光源，可舉出氙燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等之紫外光雷射等，較佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。
偏光例如係藉由使來自前述光源的光通過偏光鏡而得。藉由調整前述偏光鏡的偏光角，可調整偏光的方向。前述偏光鏡可舉出偏光濾片或格蘭-湯姆森(Glan-Thomson)、格蘭-泰勒(Glan-Taylor)等之偏光稜鏡或線柵型之偏光鏡。偏光較佳為實質上平行光。
藉由調整所照射的偏光之角度，可任意地調整光配向控制層之配向管制力的方向。
照射強度雖然因聚合起始劑或樹脂(單體)之種類或量而不同，但例如以365nm基準，較佳為10～10000mJ/cm2 ，更佳為20～5000mJ/cm2 。
(λ/4相位差層) λ/4相位差層較佳為使用棒狀液晶化合物。再者，如上述亦較佳為不是λ/4相位差層單獨，而是與λ/2相位差層組合成為複數的λ/4層，但與λ/2相位差層亦同樣地，較佳為使用棒狀液晶化合物。
作為此等之相位差層所用的液晶化合物，於能固定配向狀態之方面，較佳為具有雙鍵等的聚合性基之聚合性液晶化合物。
作為棒狀液晶化合物之例，可舉出日本特開2002-030042號公報、日本特開2004-204190號公報、日本特開2005-263789號公報、日本特開2007-119415號公報、日本特開2007-186430號公報及日本特開平11-513360號公報中記載之具有聚合性基的棒狀液晶化合物。 作為具體的化合物，可舉出： CH2 =CHCOO-(CH2 )m -O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2 )n -OCO-CH=CH2 CH2 =CHCOO-(CH2 )m -O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2 )n -OCO-CH=CH2 CH2 =CHCOO-(CH2 )m -O-Ph1-COO-Ph2-OCH3 CH2 =CHCOO-(CH2 )m -O-Ph1-COO-Ph1-Ph1-CH2 CH(CH3 )C2 H5 式中，m、n為2～6之整數， Ph1、Ph2為1,4-苯基(Ph2係2位可為甲基)，NPh為2,6-萘基。 此等之棒狀液晶化合物係來自BASF公司製的作為LC242等市售，可利用彼等。
此等之棒狀液晶化合物係可以任意之比率組合複數種而使用。
相位差層係可塗布相位差層用組成物塗料而設置。相位差層用組成物塗料可包含溶劑、聚合起始劑、增感劑、聚合抑制劑、調平劑及聚合性非液晶化合物、交聯劑等。此等係可使用在配向控制層或液晶偏光鏡之部分所說明之物。
將相位差層用組成物塗料塗布於脫模性薄膜的脫模面或配向控制層上後，藉由乾燥、加熱、硬化，而設置相位差層。
此等之條件亦使用在配向控制層或液晶偏光鏡之部分所說明之條件作為較佳的條件。
(λ/4相位差層與偏光鏡之積層) 接著，關於λ/4相位差層與偏光鏡之積層，以將由液晶化合物所成的λ/4相位差層積層於與基材薄膜所積層的偏光鏡面上之方法為中心，進行說明。 作為λ/4相位差層，僅使用λ/4層時，λ/4層的配向軸(慢軸)與偏光鏡的穿透軸較佳為35～55度，更佳為40度～50度，尤佳為42～48度。與聚乙烯醇的延伸薄膜之偏光鏡組合使用時，由於偏光鏡的消光軸(吸收軸)一般成為長條偏光鏡薄膜的長度方向，故在長條的轉印用配向薄膜(脫模性薄膜)上設置λ/4層時，較佳為相對於長條的轉印用配向薄膜之長度方向，以成為上述範圍之方式使液晶化合物配向。還有，偏光鏡的消光軸之角度與上述不同時，加上偏光鏡的穿透軸之角度，使成為如上述關係的液晶化合物配向。
於λ/4相位差層與偏光鏡之積層中，將積層有λ/4相位差層與脫模性薄膜之相位差層轉印用積層體的λ/4相位差層貼合至積層有基材薄膜的偏光鏡面後，剝離脫模性薄膜。
作為貼附方法，可使用接著劑、黏著劑等習知者。作為接著劑，較宜使用聚乙烯醇系接著劑、丙烯酸或環氧樹脂等之紫外線硬化型接著劑、環氧樹脂或異氰酸酯(胺基甲酸酯)等之熱硬化型接著劑。黏著劑可舉出丙烯酸或胺基甲酸酯系、橡膠系等之黏著劑。又，亦較佳為使用無丙烯酸基材的光學用透明黏著劑片。
於合併λ/4相位差層與λ/2相位差層的複合λ/4相位差層之情況，較佳為配置成在兩層成為如λ/4的相位差之角度。具體而言，λ/2層的配向軸(慢軸)與偏光鏡的穿透軸之角度(θ )較佳為5～20度，更佳為7度～17度。λ/2層的配向軸(慢軸)與λ/4的配向軸(慢軸)之角度較佳為2θ +45度±10度之範圍，更佳為2θ +45度±5度之範圍，尤佳為2θ +45度±3度之範圍。
此時，亦於與聚乙烯醇的延伸薄膜之偏光鏡組合使用之情況中，由於一般而言偏光鏡的消光軸(吸收軸)成為長條偏光鏡薄膜的長度方向，當將λ/2層或λ/4層設置於長條的脫模性薄膜時，較佳為相對於長條的脫模性薄膜之長度方向或長度的垂直方向，以成為上述範圍之方式使液晶化合物配向。再者，偏光鏡的消光軸之角度與上述不同時，加上偏光鏡的穿透軸之角度，使成為如上述關係的液晶化合物配向。
作為此等方法或相位差層之例，可參考日本特開2008-149577號公報、日本特開2002-303722號公報、WO2006/100830號公報、日本特開2015-64418號公報等。
再者，為了減低從斜向觀看時的著色變化等，亦較佳的形態為在λ/4層之上設置C板層。C板層係配合λ/4層或λ/2層之特性，使用正或負的C板層。
作為此等之積層方法，例如若為λ/4層與λ/2層之組合，則可舉出以下之方法： ・於偏光鏡上藉由轉印而設置λ/2層，更於其上藉由轉印而設置λ/4層。 ・於轉印用配向薄膜上依序設置λ/4層與λ/2層，將其轉印至偏光鏡上。
又，積層C板時，亦可採用於偏光鏡上所設置的λ/4層之上轉印C板層之方法，或於脫模性薄膜上設置C板層，更於其上設置λ/4層或λ/2層與λ/4層，將其轉印之方法等各式各樣的方法。
(保護層) 為了防止相位差層之損傷等，亦可在相位差層上設置保護層。作為保護層，可舉出透明樹脂之塗布層。作為透明樹脂，可為聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚苯乙烯、丙烯酸樹脂、環氧樹脂等，並沒有特別的限定。亦可於此等樹脂中添加交聯劑，成為交聯結構。又，亦可為使如硬塗的丙烯酸等之光硬化性組成物硬化者。另外，可在將保護層設於配向薄膜上後，摩擦處理保護層，在其上不設置配向層，設置液晶化合物配向層。
(有機EL影像顯示裝置) 本發明之抗反射用圓偏光板係可適用作為有機EL影像顯示裝置之抗反射用圓偏光板。 作為本發明所使用之有機EL影像顯示裝置，只要是使用有機EL作為顯示影像用的發光元件，則沒有特別的限制。作為有機EL元件，並沒有特別的限定，可舉出習知者。例如，可舉出陽極/有機EL層/陰極之積層構造。又，作為有機EL層，可舉出由發光層、電子與電洞的注入層及輸送層所成之構成。
作為有機EL影像顯示裝置，可為使用有機發光二極體作為發光體，藉由控制其發光強度而顯示全彩的影像者，也可為使用白色的有機EL發光體作為背光光源，以偏光板與液晶層控制其穿透光量之影像顯示裝置。其中，較佳為使用有機發光二極體作為發光體，藉由控制其發光強度而顯示全彩的影像者。以下，說明前者之有機EL影像顯示裝置。
有機EL影像顯示裝置可舉出：(a)具有紅、綠、藍之各色不同的有機EL發光元件者，(b)使用有機EL發光元件進行白色發光，以彩色濾光片著色成紅、綠、藍之各色，形成紅、綠、藍之各色發光者，(c)具有單一色(例如藍)的有機EL發光元件，其它色(例如紅、綠)係以螢光體等將來自單一色的有機EL發光元件之光進行色轉換而發光者。作為(b)，可舉出混合EL的發光有機物而使其白色發光者(b1)，具有單一色(例如藍)的有機發光元件，其他色(例如紅、綠)係被螢光體等轉換而成為白色光者(b2)。還有，於(c)中，為了進一步提高色的純度，亦包含使用彩色濾光片截止中間色者。 於此等之中，可舉出具有特定的發光光譜特性者作為合適的有機EL影像顯示裝置，此具有特定的發光光譜特性之有機EL影像顯示裝置由於可更減低差色或虹斑而較宜。又，(b)或(c)，尤其(b2)者，係即使在高濕、高溫下長時間暴露時，也各色的強度降低少，作為組合本發明之抗反射用圓偏光板之對象較宜。
以下具體地關於較佳的發光光譜進行說明。為了成為白色，只要在紅、綠、藍之各波長區域中具有發光即可，但由於各波長區域的波峰之寬度愈窄則發色的色域愈廣，若波峰的寬度變窄則發光效率降低，故考慮所要求的色域與發光效率之平衡來設計發光光譜之形狀。 本發明者們查明藉由常態分布函數的最小平方法之曲線擬合，將有機EL的光譜分解成藍、綠、紅之波長區域的常態分布波峰，與此經分解的藍、綠、紅之波長區域的常態分布波峰形狀成為最合適的有機EL組合，可使差色或虹斑變不顯眼。
作為曲線擬合之方法，可從來自有機EL單元的出射光譜數據，讀取藍、綠、紅的3個波峰之峰頂波長(nm)與標準偏差，由此等的6個數值(參數)作成3個常態分布函數(高斯函數)之數據列b、g、r，利用微軟公司之試算表軟體(Excel)增益工具所具備的解算器功能，以數據列的和b+g+r的和與實測的出射光譜之差的平方和成為最小之方式，調節常態分布函數的6個參數，進行曲線擬合。再者，光譜數據係在360～760nm之範圍中，以等間隔的波長，在401點以上(1nm間隔以下)讀入者為佳。 以下，將藉由該曲線擬合所算出的藍色、綠色、紅色之各色的常態分布波峰當作藍色波峰、綠色波峰、紅色波峰。
藍色波峰的峰值波長(λB)之下限較佳為400nm，更佳為420nm，尤佳為440nm。藍色波峰的峰值波長(λB)之上限較佳為495nm，更佳為485nm，尤佳為480nm。
綠色波峰的峰值波長(λG)之下限較佳為超過495nm，更佳為500nm以上，尤佳為510nm以上。綠色波峰的峰值波長(λG)之上限較佳為580nm，更佳為570nm，尤佳為560nm。
紅色波峰的峰值波長(λR)之下限較佳為超過580nm，更佳為590nm以上。 紅色波峰的峰值波長(λR)之上限較佳為680nm，更佳為660nm，尤佳為650nm。
於各色之波峰的峰值波長為上述範圍者中使用本發明之圓偏光板，可確保優異的色再現性。
藍色波峰的標準偏差(αB)之下限較佳為11nm，更佳為12nm，尤佳為13nm，特佳為14nm。藍色波峰的標準偏差(αB)之上限較佳為30nm，更佳為25nm，尤佳為20nm。
綠色波峰的標準偏差(αG)之下限較佳為15nm，更佳為18nm，尤佳為20nm。綠色波峰的標準偏差(αG)之上限較佳為45nm，更佳為35nm，尤佳為30nm。
紅色波峰的標準偏差(αR)之下限較佳為20nm，更佳為25nm，尤佳為30nm。紅色波峰的標準偏差(αR)之上限較佳為60nm，更佳為50nm，尤佳為47nm。
藉由使各色之波峰的標準偏差成為上述以上，可抑制色斑，藉由成為上述以下，可確保高的色再現性。
αB/λB之下限較佳為0.024，更佳為0.026，尤佳為0.028，特佳為0.030。αB/λB之上限較佳為0.065，更佳為0.055，尤佳為0.045。
αG/λG之下限較佳為0.027，更佳為0.033，尤佳為0.036。αG/λG之上限較佳為0.083，更佳為0.064，尤佳為0.055。
αR/λR之下限較佳為0.033，更佳為0.042，尤佳為0.05。αR/λR之上限較佳為0.1，更佳為0.083，尤佳為0.078。
又，使光源與基材薄膜之面內遲滯亦成為特定範圍者，由於色斑的減低或色再現性而較宜。 αB/λB×Re之下限較佳為50nm，更佳為70nm，尤佳為90nm，特佳為100nm。αB/λB×Re之上限較佳為1000nm，更佳為500nm，尤佳為350nm，特佳為300nm。
αG/λG×Re之下限較佳為70nm，更佳為80nm，尤佳為100nm，特佳為120nm，最佳為150nm。αG/λG×Re之上限較佳為1200nm，更佳為600nm，尤佳為400nm，特佳為350nm。
αR/λR×Re之下限較佳為100nm，更佳為150nm，尤佳為200nm，特佳為250nm。αR/λR×Re之上限較佳為2000nm，更佳為1000nm，尤佳為700nm，特佳為600nm。
藉由使αB/λB、αG/λG、αR/λR、αB/λB×Re、αG/λG×Re、αR/λR×Re成為上述以上，可抑制色斑，藉由成為上述以下，可確保高的色再現性。
在綠色波峰的峰值波長之強度值與在藍色波峰的峰值波長之強度值的比(G/B波峰強度比)之下限較佳為0.2，更佳為0.25，尤佳為0.3。G/B波峰強度比之上限較佳為0.7，更佳為0.6，尤佳為0.5。
在紅色波峰的峰值波長之強度值與在藍色波峰的峰值波長之強度值的比(R/B波峰強度比)之下限較佳為0.17，更佳為0.2。R/B波峰強度比之上限較佳為0.6，更佳為0.5，尤佳為0.4。
藉由使波峰強度比成為上述範圍，可成為色再現性優異之影像顯示裝置。再者，所謂各色之波峰的峰值波長的強度，就是在各色的最大強度之值。
綠色波峰的面積強度與藍色波峰的面積強度之比(G/B面積強度比)的下限較佳為0.3，更佳為0.4，尤佳為0.45。G/B面積強度比之上限較佳為1.0，更佳為0.8，尤佳為0.7。
紅色波峰的面積強度與藍色波峰的面積強度之比(R/B面積強度比)的下限較佳為0.3，更佳為0.4，尤佳為0.45。R/B面積強度比之上限較佳為1.0，更佳為0.8，尤佳為0.7。
藉由使面積強度比成為上述範圍，可成為色再現性優異之影像顯示裝置。再者，各色之波峰的面積強度係可作為各色的在360～760nm之各波長的強度值之總計求出。 [實施例]
以下，參照實施例，更具體地說明本發明。本發明不限定於下述實施例，在能適合本發明的宗旨之範圍內，亦可加以適宜變更而實施。還有，彼等皆包含於本發明之技術範圍中。 實施例中的物性之評價方法係如以下。
(1)水分穿透率 根據JIS Z 0208，於25℃・90%RH之條件下進行。
(2)基材薄膜的配向軸方向、折射率 使用分子配向計(王子計測器股份有限公司製MOA-6004型分子配向計)，求出基材薄膜的配向軸方向，以配向軸方向成為長邊之方式切出4cm×2cm的長方形，當作測定用樣品。對於此樣品，使用阿貝折射率計(ATAGO公司製NAR-4T，測定波長589nm)，測定正交的雙軸之折射率(nx,ny)及厚度方向之折射率(nz)。在薄膜的寬度方向中測定5點(中央部、兩端部、中央部與端部之中間部)，取其平均。
(3)原材薄膜之厚度(d) 使用電氣測微計(FEINPRUF公司製Millitron 1245D)，測定5點之厚度，求出其平均值。
(4)面內遲滯(Re) 由折射率的異向性(△Nxy)與薄膜的厚度d(nm)之積(△Nxy×d)，求出面內遲滯(Re)。
(5)Nz係數 將｜ny-nz｜/｜ny-nx｜所得之值當作Nz係數。
(6)面配向度(ΔP) 將(nx+ny)/2-nz所得之值當作面配向度(ΔP)。
(7)厚度方向遲滯(Rth) 所謂厚度方向遲滯，就是表示將從薄膜厚度方向剖面來觀看時的2個雙折射△Nxz(=｜nx-nz｜)、△Nyz(=｜ny-nz｜)各自乘以薄膜厚度d而得之遲滯的平均之參數。以與前述同樣之方法求出nx、ny、nz與薄膜厚度d(nm)，算出(△Nxz×d)與(△Nyz×d)之平均值，求出厚度方向遲滯(Rth)：Rth=(△Nxz×d+△Nyz×d)/2。
(8)防眩性表面的粗糙度(RSm、Ra、Rzjis、θ a、Rku、RSk、RΔq) 防眩性表面的各參數係使用接觸型粗糙度計(MITUTOYO公司製SJ-410，檢測器：178-396-2，觸控筆：標準觸控筆122AC731(2μm))，從所測定的粗糙度曲線求出。設定係如以下地進行。 曲線：R 濾波器：GAUSS λc：0.8mm λs：2.5μm 測定長度：5mm 測定速度：0.5mm/s 再者，RSm、Ra、Rzjis、θ a、Rku、RSk、RΔq係依據JIS B0601-2001求出。
(9)波長380nm的光線穿透率 使用分光光度計(日立製作所製U-3500型)，以空氣層為標準，測定各薄膜之波長300～500nm區域的光線穿透率，求出波長380nm的光線穿透率。
(10)反射減低層厚度 將設有反射減低層的基材薄膜包埋於環氧樹脂中，切出其剖面的切片，以穿透型電子顯微鏡進行觀察。
(11)反射率 使用分光光度計(島津製作所製UV-3150)，從反射減低層(抗反射層側(或低反射層側))之表面來測定在波長550nm的5度反射率。再者，於聚酯薄膜之與設有反射減低層(抗反射層(或低反射層))之側相反側之面上，塗黑色奇異墨水後，貼上黑色聚氯乙烯膠帶(共和聚氯乙烯膠帶(股)HF-737 寬度50mm)，進行測定。
(易接著層成分之製造) (聚酯樹脂之聚合) 於具備攪拌機、溫度計及部分回流式冷卻器之不銹鋼製高壓釜中，加入194.2質量份的對苯二甲酸二甲酯、184.5質量份的間苯二甲酸二甲酯、14.8質量份的5-鈉磺基間苯二甲酸二甲酯、233.5質量份的二乙二醇、136.6質量份的乙二醇及0.2質量份的鈦酸四正丁酯，於160℃至220℃之溫度費4小時進行酯交換反應。接著升溫到255℃，將反應系統徐徐地減壓後，於30Pa之減壓下反應1小時30分鐘，得到共聚合聚酯樹脂。所得之共聚合聚酯樹脂係淡黃色透明。測定共聚合聚酯樹脂之對比黏度(reduced viscosity)，結果為0.70dl/g。DSC測定的玻璃轉移溫度為40℃。
(聚酯水分散體之調製) 於具備攪拌機、溫度計與回流裝置之反應器中，置入30質量份的共聚合聚酯樹脂及15質量份的乙二醇正丁基醚，在110℃加熱、攪拌而溶解樹脂。完全溶解樹脂後，將55質量份的水邊攪拌邊徐徐添加至聚酯溶液。添加後，邊攪拌液體邊冷卻到室溫為止，製作固體成分30質量%的乳白色聚酯水分散體。
(易接著層所用的封端聚異氰酸酯系交聯劑之聚合) 於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻管之燒瓶中，加入100質量份的以六亞甲基二異氰酸酯作為原料之具有異三聚氰酸酯結構的聚異氰酸酯化合物(旭化成化學製Duranate TPA)、55質量份的丙二醇單甲基醚乙酸酯及30質量份的聚乙二醇單甲基醚(平均分子量750)，於氮氣環境下，在70℃保持4小時。然後，將反應液溫度降低至50℃，滴下47質量份的甲基乙基酮肟。測定反應液之紅外光譜，確認異氰酸酯基之吸收已消失，得到固體成分75質量%的封端聚異氰酸酯水分散液。
(易接著層用塗布液之調整) 混合下述的塗劑，作成P1塗布液。 水                                               50.00質量% 異丙醇                                         33.00質量% 聚酯水分散體                                 12.00質量% 封端異氰酸酯系交聯劑                        0.80質量% 粒子                                              1.40質量% (平均粒徑100nm的矽溶膠，固體成分濃度40質量%) 觸媒 (有機錫系化合物　固體成分濃度14質量%) 0.30質量% 界面活性劑                                     0.50質量% (矽系、固體成分濃度10質量%)
＜基材薄膜用聚酯樹脂之製造＞ (製造例1-聚酯X) 將酯化反應槽升溫，於到達200℃之時間點，加入86.4質量份的對苯二甲酸及64.6質量份的乙二醇，邊攪拌邊加入作為觸媒之0.017質量份的三氧化二銻、0.064質量份的乙酸鎂四水合物、0.16質量份的三乙胺。接著，進行加壓升溫，於錶壓0.34MPa、240℃之條件下進行加壓酯化反應後，使酯化反應槽回到常壓，添加0.014質量份的磷酸。再者，費15分鐘升溫至260℃，添加0.012質量份的磷酸三甲酯。接著，於15分鐘後，以高壓分散機進行分散處理，於15分鐘後，將所得之酯化反應生成物移送至聚縮合反應槽，於280℃、減壓下進行聚縮合反應。
於聚縮合反應結束後，以95%截止徑為5μm的Naslon製過濾器進行過濾處理，從噴嘴擠出股束(strand)狀，使用已預先進行過濾處理(孔徑：1μm以下)的冷卻水，使其冷卻、固化，切割成丸粒狀。所得之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(X)的固有黏度為0.62dl/g，惰性粒子及內部析出粒子係實質上不含。(以後，簡稱PET(X))。
(製造例2-聚酯Y) 混合10質量份的經乾燥之紫外線吸收劑(2,2’-(1,4-伸苯基)雙(4H-3,1-苯并
Figure 109109742-A0304-12-0059-1
Figure 109109742-A0304-12-0000-4
-4-酮)與90質量份的不含粒子的PET(X)(固有黏度為0.62dl/g)，使用混煉擠壓機，得到含有紫外線吸收劑之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(Y)。(以後，簡稱PET(Y))。
＜基材薄膜1之製造＞ 作為基材薄膜中間層用原料，將90質量份的不含粒子的PET(X)樹脂丸粒與10質量份的含有紫外線吸收劑的PET(Y)樹脂丸粒在135℃下減壓乾燥(1Torr)6小時後，供給至擠壓機2(中間層II層用)，而且藉由常用方法將PET(X)乾燥，分別供給至擠壓機1(外層I層及外層III用)，在285℃溶解。將此2種聚合物各自以不銹鋼燒結體的濾材(標稱過濾精度10μm粒子95%截止)來過濾，於2種3層匯流區中積層，從噴嘴擠出成片狀後，使用靜電施加澆鑄法，捲繞於表面溫度30℃的澆鑄滾筒上而冷卻固化，製作未延伸薄膜。此時，以I層、II層、III層的厚度之比成為10：80：10的方式，調整各擠壓機的吐出量。
接著，藉由逆輥法，於此未延伸PET薄膜的兩面，皆以乾燥後的塗布量成為0.08g/m2 之方式，塗布易接著用塗布液後，導引至乾燥機，在80℃乾燥20秒。
將此形成有塗布層的未延伸薄膜導引至拉幅延伸機，一邊以夾具抓住薄膜的端部，一邊導引至溫度125℃的熱風區，在寬度方向中延伸至4.0倍。隨後，保持寬度方向中經延伸的寬度，以溫度225℃處理10秒，更進行3.0%的鬆弛處理。然後，以切刀切斷經冷卻至130℃為止的薄膜之兩端部，於0.5kg/mm2 之張力下，切下耳部後進行捲取，得到薄膜厚度80μm的單軸配向PET薄膜。將所得之薄膜的中央部切割成150cm的寬度，成為長度約300m的薄膜捲筒。所得之薄膜的慢軸方向係對於薄膜的長度方向而言為89.5～90.5度，平均為90度(對於長度方向，將右旋當作+)。
＜基材薄膜2＞ 除了變更線速而改變未延伸薄膜之厚度以外，與基材薄膜1同樣地製膜，得到薄膜厚度不同的薄膜(基材薄膜2)。慢軸的方向係與基材薄膜1相同。
(基材薄膜3) 使用經加熱的輥群及紅外線加熱器，將經由與基材薄膜1同樣之方法所製作的未延伸薄膜(易接著層塗布完畢)加熱至105℃，然後以具有圓周速度差的輥群，在行進方向中延伸3.5倍後，導引至溫度135℃的熱風區，在寬度方向中延伸3.5倍，以後與基材薄膜1同樣地得到基材薄膜3。惟，調整使薄膜之厚度成為80μm的擠壓機之塗出量。所得之薄膜的慢軸方向係對於薄膜的長度方向而言為87～93度，平均為90度。
(基材薄膜4) 除了變更線速而改變未延伸薄膜之厚度以外，與基材薄膜3同樣地製膜，得到薄膜厚度不同的薄膜(基材薄膜4)。慢軸的方向係與基材薄膜3相同。
(基材薄膜5) 從剛得到基材薄膜4之製膜後的捲筒，切割寬度方向的最端部而得到基材薄膜5。所得之薄膜的慢軸方向係對於薄膜的寬度方向而言為26～40度，平均為32度。
(基材薄膜6) 將對於對排聚苯乙烯(重量平均分子量300,000)加有2.0重量%的平均粒徑2μm之交聯聚苯乙烯微粒子作為滑劑之聚合物碎片與未添加滑劑之聚合物碎片，以重量比為1比9之比例混合後，將經乾燥者供給至擠壓機1，將僅對排聚苯乙烯乾燥者供給至擠壓機2，將各自在295℃熔融，與基材薄膜1同樣地得到未延伸片。
於未延伸片之兩面塗布易接著用塗布液及乾燥後，將薄膜導引至拉幅延伸機，一邊以夾具抓住薄膜的端部，一邊導引至溫度120℃的熱風區，在寬度方向中延伸至3.5倍。 接著，保持著寬度方向經延伸的寬度，在溫度265℃下處理10秒，更在230℃下進行3.0%的鬆弛處理。
(基材薄膜7) 將PMMA樹脂(旭化成化學(股)製Delpet 80N)在90℃的真空乾燥機中乾燥後，投入單軸混煉擠壓機中，在235℃混煉擠出。以不銹鋼燒結體的濾材(標稱過濾精度10μm粒子95%截止)過濾熔融樹脂，從噴嘴擠出成片狀。所擠出的樹脂係捲附在表面溫度103℃的澆鑄滾筒上，從背面接觸99℃的接觸輥後，由澆鑄滾筒剝離，在冷卻滾筒上冷卻而製作厚度50μm的丙烯酸薄膜。
(基材薄膜8) 使用厚度60μm的TAC薄膜。
表1中顯示各基材薄膜之特性。
[表1]
基材薄膜1 基材薄膜2 基材薄膜3 基材薄膜4 基材薄膜5 基材薄膜6 基材薄膜7 基材薄膜8
樹脂 PET PET PET PET PET SPS PMMA TAC
厚度(μm) 80 60 80 50 50 60 50 60
Re (nm) 8160 6180 3840 2400 2450 5160 ～0 ～0
Re/Rth 0.887 0.892 0.293 0.287 0.298 0.905 - -
Nz係數 1.63 1.62 3.92 3.98 3.86 1.60 - -
ΔP 0.115 0.116 0.164 0.167 0.165 0.095 - -
水分 穿透率 (g/m2 ・day) 7 9 7 11 11 74 55 300
380nm 光線 穿透率 (%) 1 1 1 1.5 1.5 78 90 1
(偏光鏡之作成) 使用聚酯X作為熱塑性樹脂基材，作成厚度100μm的未延伸薄膜，於此未延伸薄膜之單面上，塗布聚合度2400、皂化度99.9莫耳%的聚乙烯醇之水溶液及乾燥，形成PVA層。 在120℃下於圓周速度不同的輥間，將所得之積層體在長度方向中延伸至2倍及捲取。接著，將所得之積層體以4%的硼酸水溶液進行30秒的處理後，以碘(0.2%)與碘化鉀(1%)之混合水溶液浸漬60秒而染色，接著以碘化鉀(3%)與硼酸(3%)之混合水溶液處理30秒。 再者，將此積層體在72℃的硼酸(4%)與碘化鉀(5%)混合水溶液中，在長度方向中進行單軸延伸，接著以4%碘化鉀水溶液洗淨，以氣刀去除水溶液後，在80℃的烘箱中乾燥，切割兩端部及捲取，得到在寬度80cm、長度1000m之聚酯基材上所積層的偏光鏡。合計的延伸倍率為6.5倍，偏光鏡之厚度為5μm。還有，厚度係將在聚酯基材上所積層的偏光鏡包埋於環氧樹脂中，切出切片，以光學顯微鏡觀察而讀取。
(λ/4相位差層轉印薄膜之作成) 於寬度150cm、厚度50μm的雙軸延伸聚酯薄膜(東洋紡(股)製Cosmoshine (R)A4100)之非易接著塗布面上，使用棒塗機塗布下述組成之摩擦處理配向控制層用塗料，導引至120℃之烘箱而使其乾燥，作成厚度200nm之膜。接著，以捲繞有尼龍製的起毛布之摩擦輥處理所得之膜的表面，得到積層有摩擦處理配向控制層之轉印用配向薄膜。摩擦係以平行於薄膜的流動方向之方式進行。 ＜摩擦處理配向控制層用塗料＞ 完全皂化型聚乙烯醇(重量平均分子量800)   2質量份 離子交換水                                      100質量份 界面活性劑                                       0.5質量份
接著，於施有摩擦處理之面上，使用棒塗機塗布下述組成之相位差層(液晶化合物配向層)形成用溶液，導引至110℃的烘箱進行乾燥後，照射紫外線而使其硬化，作成λ/4相位差層轉印薄膜。 ＜相位差層形成用溶液＞ 棒狀液晶化合物(BASF公司製的LC242)   75質量份 下述化合物                                        20質量份
Figure 02_image001
三羥甲基丙烷三丙烯酸酯                         5質量份 Irgacure 379                                      3質量份 界面活性劑                                       0.1質量份 甲基乙基酮                                      250質量份
使用市售的光學用黏著劑片，將λ/4相位差層轉印薄膜的相位差層轉印至玻璃版，重疊2片的積層有此λ/4相位差層的玻璃板，放置於平行尼科耳的偏光板之間，從背面照射光而進行觀察，結果為大致消光狀態，確認為λ/4相位差層。
作為低折射率層用組成物及高折射率層用組成物、低折射率性防眩層用組成物，準備以下。 (低折射率層用組成物) Peltron(商標) A-2508LR(PELNOX股份有限公司製，含有中空矽石的類型，折射率1.33(阿貝))
(高折射率層用組成物) Peltron(商標) A-2300(PELNOX股份有限公司製，折射率1.65(阿貝))
(低折射率性防眩層用組成物) 交聯丙烯酸粒子(平均粒徑1.5μm)                  3.5g (MX-150　綜研化學(股)製) 交聯丙烯酸粒子(平均粒徑3.0μm)                  1.5g (MX-300　綜研化學(股)製) 低折射率硬化性樹脂(硬化後的折射率1.35)      900g (Peltron(R)　A-2502LR　PELNOX(股)製) 再者，對於此等之組成物，添加3質量%(對固體成分)的Irgacure 184作為光聚合起始劑。
(實施例1) 於基材薄膜1之單面上塗布高折射率層用組成物。然後，於烘箱中在80℃下乾燥1分鐘而使溶劑蒸發，照射紫外線而形成高折射率層(厚度130nm)。再者，於高折射率層之上塗布低折射率層用組成物，與上述同樣地形成低折射率層(厚度86nm)，得到積層有抗反射層的基材薄膜1。
接著，於基材薄膜1之與積層有抗反射層之側相反側的面上，塗布紫外線硬化型的接著劑，使其與在上述聚酯基材上所積層的偏光鏡之偏光鏡面疊合。疊合係將基材薄膜1、在聚酯基材上所積層的偏光鏡切斷成單片，使基材薄膜1的長度方向與偏光鏡的長度方向成為45度(基材薄膜1的慢軸與偏光鏡的消光軸為45度)。接著，從聚酯基材側照射紫外線而使接著劑硬化後，剝離偏光鏡的聚酯基材，得到抗反射層/基材薄膜1/偏光鏡之積層體(80cm×130cm)。
再者，於此積層體的偏光鏡面上塗布紫外線硬化型的接著劑，貼合經切出成單片的λ/4相位差層轉印薄膜之相位差層面後，剝離λ/4相位差層轉印薄膜的聚酯薄膜(A4100)，切割端部而得到70cm×122cm的圓偏光板。再者，λ/4相位差層轉印薄膜係使用摩擦方向對於長邊呈45度之方式，切出大小80cm×130cm者。再者，偏光鏡的消光軸與λ/4相位差層的配向方向(摩擦方向)為45度。
(實施例2) 於實施例1所用之積層有抗反射層的基材薄膜1之與積層有抗反射層之側相反側的面上，塗布紫外線硬化型的接著劑，貼合λ/4相位差層轉印薄膜的相位差層面後，剝離λ/4相位差層轉印薄膜的聚酯薄膜(A4100)，得到抗反射層/基材薄膜1/λ/4相位差層之積層體。
接著，與實施例1同樣地，積層偏光鏡、λ/4相位差層，得到圓偏光板。惟，假定基材薄膜1與偏光鏡之以輥對輥貼合，使基材薄膜1的長度方向與偏光鏡的長度方向成為平行(基材薄膜1的慢軸與偏光鏡的消光軸為90度)。再者，於偏光鏡之兩側所積層的任一個λ/4相位差層，亦偏光鏡的消光軸與λ/4相位差層的配向方向(摩擦方向)所成之角度為45度。
(實施例3) 除了使用基材薄膜2以外，與實施例1同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例4) 除了使用基材薄膜3以外，與實施例1同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例5) 除了使用基材薄膜5，於基材薄膜5與偏光鏡之間不設置λ/4相位差層以外，與實施例2同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例6) 除了使用基材薄膜6以外，與實施例1同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例7) 除了使用基材薄膜4以外，與實施例1同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例8) 除了使用基材薄膜7以外，與實施例2同樣地進行，得到圓偏光板。
(實施例9) 於基材薄膜1之單面，塗布低折射率性防眩層用組成物。然後，於烘箱中在80℃下乾燥1分鐘而使溶劑蒸發，照射紫外線，得到積層有厚度4μm的低反射性防眩層之基材薄膜1。然後與實施例1同樣地得到圓偏光板。 再者，低反射性防眩層之表面的粗糙度係如以下。 RSm     260μm Ra        0.109μm Rzjis    0.064μmθ a        0.25度 Rku      2.9 RSk      0.27 RΔq     0.0032
(比較例1) 除了使用基材薄膜8以外，與實施例2同樣地進行，得到圓偏光板。
(比較例2) 除了不設置反射減低層以外，與實施例7同樣地進行，得到圓偏光板。
(有機EL顯示裝置之評價) 去掉有機EL顯示裝置之圓偏光板，代替地載置實施例、比較例所得之圓偏光板，觀察影像之狀態。
有機EL顯示裝置係使用下述者。 A：LG電子公司製 OLED 55B8PJA　藍色有機EL發光體+螢光體型 B：蘋果公司製 iphoneX 紅、綠、藍各色之發光元件型
(曲線擬合之方法) 以UPRtek製MK350測定有機EL光源的出射光譜(來自有機EL單元的出射光譜)，從所得之數據讀取藍、綠、紅的3個波峰之峰頂波長(nm)與標準偏差，由此等的6個數值(參數)作成3個常態分布函數(高斯函數)之數據列b、g、r。接著，計算3個數據列之和b+g+r，以此之和光譜(所計算的初期光譜)與實測的出射光譜之差的平方和成為最小之方式，調節常態分布函數的6個參數，進行曲線擬合。於此時的數值之收斂中，在微軟公司之試算表軟體(Excel)讀取所測定的光譜數據，利用解算器功能。光譜數據係對於360～760nm之範圍，以等間隔的波長讀入401點的數據。
去掉有機EL顯示裝置A的圓偏光板之狀態下的發光光譜係如圖1，去掉有機EL顯示裝置B的圓偏光板之狀態下的發光光譜係如圖2。
又，圖3中顯示對於有機EL顯示裝置A之發光光譜進行曲線擬合的結果之曲線圖。圖3中，虛線係曲線擬合前的藍色、綠色、紅色之波峰，實線係曲線擬合後的藍色、綠色、紅色之波峰。
又，圖4中顯示對於有機EL顯示裝置B之發光光譜進行曲線擬合的結果(曲線擬合後)之曲線圖。
再者，表2中顯示與有機EL顯示裝置A及B之發光光譜的曲線擬合有關的數據、參數。
[表2]
有機EL顯示裝置
A B
曲線擬合前 藍色峰頂波長(λB) 456nm 460nm
綠色峰頂波長(λG) 552nm 528nm
紅色峰頂波長(λR) 625nm 620nm
藍色標準偏差(αB) 16nm 13.2nm
綠色標準偏差(αG) 30nm 13.6nm
紅色標準偏差(αR) 33nm 19.3nm
在藍色波峰的峰頂波長之強度值 1 1
在綠色波峰的峰頂波長之強度值 0.8 1.25
在紅色波峰的峰頂波長之強度值 0.4 1.12
曲線擬合後 藍色峰頂波長(λB) 458nm 459nm
綠色峰頂波長(λG) 545nm 529nm
紅色峰頂波長(λR) 600nm 624nm
藍色標準偏差(αB) 16.6nm 11.3nm
綠色標準偏差(αG) 23.3nm 15.9nm
紅色標準偏差(αR) 41.1nm 19.3nm
αB/λB 0.036 0.025
αG/λG 0.043 0.030
αR/λR 0.069 0.031
G/B波峰強度比 0.372 1.071
R/B波峰強度比 0.214 1.027
G/B面積強度比 0.590 1.507
R/B面積強度比 0.530 1.753
下述評價所得之顯示裝置的影像。表3中顯示結果。
(虹斑) 使所得之顯示裝置成為一面白色顯示，從斜方向以目視觀察其虹斑之程度。在有機EL顯示裝置A及B各自進行評價。 ◎：即使從斜向觀看，也看不到虹斑。 ○：若改變角度則稍微看到因虹斑所造成的波動。 △：看到弱的虹斑。 ×：看到虹斑。
(色再現性) 在所得之顯示裝置上顯示風景照片，從正面到斜方向改變角度，目視觀察色調。評價係與更換圓偏光板之前的狀態者(從有機EL顯示裝置A及B去掉圓偏光板後之狀態者)比較。在有機EL顯示裝置A及B各自進行評價。 ◎：抑制反射光而成為鮮明的影像，未感覺色調之變化。 ○：抑制反射光而成為鮮明的影像，但在極少一部分的方向中稍微感覺色調變化。 △：抑制反射光而成為鮮明的影像，但在極少一部分的方向中色調變化。 ×：不充分抑制反射光，或在一部分中色調變化。
(轉暗) 在所得之顯示裝置上顯示風景影像，戴上偏光太陽眼鏡進行觀察。以偏光鏡與偏光太陽眼鏡成為正交尼科耳，歪著頭觀察明亮度的變化、色調的變化。再者，僅在有機EL顯示裝置A進行評價。 ◎：即使歪著頭，也沒有明亮度的變化、色調的變化。 ○：若歪著頭則有明亮度的降低。 △：若歪著頭則有色調的變化。 ×：於直著頭之狀態下轉暗。
(高濕度下的評價) 從有機EL顯示裝置A取出有機EL面板，使用光學用透明黏著片將所載置的圓偏光板與有機EL面板貼合。
(高濕度保存下的面板變形) 將所得之面板在40℃95%RH之環境下放置24小時，觀察面板的變形狀態。 ◎：未看到面板的變形。 ○：稍微看到面板的翹曲。 △：看到面板的翹曲，但為無問題之範圍。 ×：觀察到被認為無法容納於殼體內的面板之翹曲。
(高濕度保存下的抗反射性能) 再者，使用在暗處的40℃95%RH之環境下放置1個月後之面板，組裝顯示裝置，於明亮的室內顯示風景影像，觀察因抗反射功能之降低所造成的對比降低之狀態。 ◎：未看到對比降低。 ○：在周邊部稍微看到對比降低。 △：在周邊部看到對比降低。 ×：在全體看到對比降低。
[表3]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 比較例1 比較例2
積層構成 AR AR AR AR AR AR AR AR AG-LR AR -
基材薄膜1 基材薄膜1 基材薄膜2 基材薄膜3 基材薄膜5 基材薄膜6 基材薄膜4 基材薄膜7 基材薄膜1 基材薄膜8 基材薄膜4
λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層
偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡 偏光鏡
λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層 λ/4相位 差層
反射率(%) 1 1 1 1 1 1 1 1 2 1 6
基材薄膜的慢軸與偏光鏡的 消光軸之角度 45度 90度 45度 45度 58度 45度 45度 - 45度 - 45度
αB/λB×Re (有機EL顯示裝置A) 296 296 224 139 89 187 87 - 296 - 87
αG/λG×Re (有機EL顯示裝置A) 349 349 264 164 105 221 103 - 349 - 103
αR/λR×Re (有機EL顯示裝置A) 559 559 423 263 168 353 164 - 559 - 164
αB/λB×Re (有機EL顯示裝置B) 201 201 152 95 60 127 59 - 201 - 59
αG/λG×Re (有機EL顯示裝置B) 245 245 186 115 74 155 72 - 245 - 72
αR/λR×Re (有機EL顯示裝置B) 252 252 191 119 76 160 74 - 252 - 74
有機EL顯示裝置A的虹斑 ◎ ◎ ◎ ○ ○ ◎ ○ ◎ ◎ ◎ ×～△
有機EL顯示裝置A的色再現性 ◎ ◎ ◎ ○ ○ ◎ ○ ◎ ◎ ◎ ×～△
轉暗 ◎ △ ◎ ◎ ○ ◎ ◎ △ ◎ △ ○
有機EL顯示裝置B的虹斑 ◎ ◎ ○ △ ×～△ ○ ×～△ ◎ ◎ ◎ ×
有機EL顯示裝置B的色再現性 ◎ ◎ ○ △ ×～△ ○ ×～△ ◎ ◎ ◎ ×
高濕度下的面板變形 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ○ ◎ ○ ◎ × ◎
高濕度下保存下的對比 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ○ ◎ ○ ◎ × ◎
[產業上利用之可能性]
依照本發明，可提供一種用於防止外光反射之優異的抗反射用圓偏光板，藉此而高濕度下的偏光度降低所造成的抗反射功能之降低極少，還有可提供一種影像顯示面板的變形小之優異的有機EL影像顯示裝置。
無。
圖1係去掉實施例所用的有機EL顯示裝置A之圓偏光板後的狀態之發光光譜。 圖2係去掉實施例所用的有機EL顯示裝置B之圓偏光板後的狀態之發光光譜。 圖3係對於有機EL顯示裝置A之發光光譜進行曲線擬合的結果之曲線圖。 圖4係對於有機EL顯示裝置B之發光光譜進行曲線擬合的結果(曲線擬合後)之曲線圖。
無。

Claims (6)

  1. 一種抗反射用圓偏光板，其係依序積層有反射減低層、透光性基材薄膜、偏光鏡、λ/4相位差層之抗反射用偏光板，其特徵為：該透光性基材薄膜之水分穿透率為100g/m2 ・day以下。
  2. 如請求項1之抗反射用圓偏光板，其中透光性基材薄膜係聚酯薄膜。
  3. 如請求項1或2之抗反射用圓偏光板，其中透光性基材薄膜之面內遲滯為3000～30000nm。
  4. 一種影像顯示裝置，其具有如請求項1至3中任一項之抗反射用圓偏光板。
  5. 如請求項4之影像顯示裝置，其中影像顯示裝置係有機電致發光影像顯示裝置。
  6. 如請求項4之影像顯示裝置，其將從影像顯示裝置所發出的光之光譜分解成在藍色、綠色、紅色之各色區域中具有峰頂的常態分布波峰時，為滿足下述(1)～(6)之特徵的光譜： (1)400nm≦λB≦495nm (2)495nm＜λG≦580nm (3)580nm＜λR≦680nm (4)12nm≦αB≦30nm (5)15nm≦αG≦45nm (6)20nm≦αR≦60nm 上述中，λB係藍色波峰的峰頂波長，λG係綠色波峰的峰頂波長，λR係紅色波峰的峰頂波長，αB係藍色波峰的標準偏差，αG係綠色波峰的標準偏差，αR係紅色波峰的標準偏差。
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