JP7459868B2 - 反射防止用円偏光板およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、反射防止用偏光板に関する。更に詳しくは、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）画像表示装置に好適に用いられる反射防止用偏光板に関する。

従来、有機ＥＬ画像表示装置には外光反射による、表示画質の低下、コントラスト低下を防止するために画像表示装置の視認側に反射防止用偏光板（円偏光板）が積層されている。このような反射防止用偏光板は視認者側から偏光子保護基材、偏光子、λ／４位相差層の順に積層されてなる。偏光子としては、一般にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素や二色性染料を吸収させ、一軸延伸したものが用いられている。λ／４位相差層はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムに液晶化合物配向層を設ける方法や、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）フィルムや変性アクリルフィルムを延伸する方法、更にはＰＶＡフィルムに液晶化合物配向層を直接転写する方法等が提案されている。偏光子保護基材として従来、前述のＴＡＣフィルムが使用されており、有機ＥＬ画像表示装置の優れた画質を実現する為に、透明性、光学等方性等の優れた特性が生かされていた（例えば、特許文献１参照）。
しかし、ＴＡＣは溶液製膜が必要であるなどコスト的に不利なだけでなく、耐湿性や耐熱性が十分ではなく、特に水分の透過率が大きいために、高湿度下で偏光子であるポリビニルアルコール（ＰＶＡ）への水分の浸透を防ぐことができず、偏光度低下による反射防止機能の低下が起こったり、ＴＡＣフィルムの吸湿軟化により、一軸延伸ＰＶＡ偏光子の収縮力が抑制しきれなくなり、偏光子の収縮による画像表示パネルの変形が起こったりする、等の問題があった。

特開2017-15845号公報

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、外光反射を防止するための優れた反射防止用円偏光板を提供し、それによって高湿度下での偏光度低下による反射防止機能の低下の極めて少なく、また、画像表示パネルの変形の小さい、優れた画像表示装置を提供することができる、特に有機ＥＬ画像表示装置に適した反射防止用円偏光板を提供することにある。

代表的な本発明は、以下のとおりである。
項１．
反射低減層、光透過性基材フィルム、偏光子、λ/４位相差層がこの順に積層された反射防止用偏光板であって、該光透過性基材フィルムの水分透過率が１００ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下であることを特徴とする反射防止用円偏光板。
項２．
光透過性基材フィルムがポリエステルフィルムである項１記載の反射防止用円偏光板。
項３．
光透過性基材フィルムの面内リタデーションが３０００～３００００ｎｍである項１又は２に記載の反射防止用円偏光板。
項４．
項１～３のいずれかに記載の反射防止用円偏光板を有する画像表示装置。
項５．
画像表示装置が有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置である項４に記載の画像表示装置。
項６．
画像表示装置から出光される光のスペクトルを青色、緑色、赤色の各色領域にピークトップを持つ正規分布ピークに分解した場合に、下記（１）～（６）の特徴を満足するスペクトルである、項４に記載の画像表示装置。
（１）400ｎｍ≦λＢ≦495ｎｍ
（２）495ｎｍ＜λＧ≦580ｎｍ
（３）580ｎｍ＜λＲ≦680ｎｍ
（４）12ｎｍ≦αＢ≦30ｎｍ
（５）15ｎｍ≦αＧ≦45ｎｍ
（６）20ｎｍ≦αＲ≦60ｎｍ
上記において、λＢは青色ピークのピークトップ波長であり、λＧは緑色ピークのピークトップ波長であり、λＲは赤色ピークのピークトップ波長であり、αＢは青色ピークの標準偏差であり、αＧは緑色ピークの標準偏差であり、αＲは赤色ピークの標準偏差である。

本発明により、画像表示装置の外光反射を防止するための優れた反射防止用円偏光板を提供し、それによって高湿度下での偏光度低下による反射防止機能の低下の極めて少ない、また、画像表示パネルの変形の小さい優れた画像表示装置（有機ＥＬ画像表示装置）を提供することができる。

実施例で用いた有機ＥＬ表示装置Ａの円偏光板を取り除いた状態での発光スペクトルである。 実施例で用いた有機ＥＬ表示装置Ｂの円偏光板を取り除いた状態での発光スペクトルである。 有機ＥＬ表示装置Ａの発光スペクトルに対してカーブフィッティングを行った結果のグラフである。 有機ＥＬ表示装置Ｂの発光スペクトルに対してカーブフィッティングを行った結果（カーブフィッティング後）のグラフである。

本発明は、反射低減層、光透過性基材フィルム、偏光子、λ／４位相差層が積層された反射防止用円偏光板である。反射低減層、光透過性基材フィルム、偏光子、λ／４位相差層は、この順に積層されることが好ましい。ここで、「この順」とは、反射低減層、光透過性基材フィルム、偏光子、λ／４位相差層が基本的にはこの順で積層されるが、各層の間に、他の層が存在する場合も含む概念である。本発明の反射防止用円偏光板は、有機ＥＬ光源を有する画像表示装置に使用することができる。

（光透過性基材フィルム）
まず、光透過性基材フィルムに関して説明する。以下、光透過性基材フィルムを単に基材フィルムと称することがある。
基材フィルムの水分透過率の上限は１００ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは５０ｇ／ｍ²・ｄａｙであり、さらに好ましくは３０ｇ／ｍ²・ｄａｙであり、特に好ましくは２０ｇ／ｍ²・ｄａｙであり、最も好ましくは１５ｇ／ｍ²・ｄａｙであり、特に最も好ましくは１０ｇ／ｍ²・ｄａｙである。上記を越えると高湿度下でパネル変形が起こったり、高湿度下に長時間放置した場合に反射防止性能の低下によるコントラストの低下が生じることがある。
水分透過率の下限は好ましくは０．０１ｇ／ｍ²・ｄａｙであり、より好ましくは０．１ｇ／ｍ²・ｄａｙである。上記未満にしようとすると、基材フィルムを厚くする必要があり画像表示装置の薄型化にそぐわなかったり、別途バリア層を設ける必要がありコストが高くなったりする。

基材フィルムの樹脂としては特に制限はないが、ポリエステル、共重合ポリエステル、アクリル、変性アクリル、環状ポリオレフィンが好ましく、ポリエステルがさらに好ましい。ポリエステルとしてはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートは、１０モル％（酸成分、ジオール成分をそれぞれ１００モル％として、酸成分、ジオール成分の合計量）以下であれば共重合していても良いが、共重合量は、さらには５モル％以下が好ましく、特に好ましくは３モル％以下である。共重合量の下限は０．１モル％が好ましく、より好ましくは０．５モル％である。なお、上記共重合量には、重合時に副生するジエチレングリコールも含まれる。

（基材フィルムの面内レタデーション）
基材フィルムは光学等方性のフィルムであってもよい。基材フィルムを構成する樹脂は、共重合ポリエステル、アクリル、変性アクリル、環状ポリオレフィンなどが挙げられる。光学等方性のフィルムの場合、基材フィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）は２００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１５０ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下、特に好ましくは７０ｎｍ以下である。２００ｎｍを超えると、偏光サングラスをかけて観察した場合や裸眼であっても斜めから観察した場合に着色や虹ムラが生じる場合がある。

また、基材フィルムの機械的強度を高めるためには延伸フィルムを用いることが好ましい。延伸フィルムにする場合には、ポリエステルが好ましい。特にはＰＥＴまたはＰＥＮが好ましい。

基材フィルムがＰＥＴやＰＥＮの延伸フィルムである場合、基材フィルムの面内レタデーションは１０００ｎｍ以上であることが好ましい。１０００ｎｍ未満にするためには必要以上に薄型化する必要があり機械的強度が確保できない場合があったり、二軸延伸で高度な延伸の制御が必要となり生産性が低下する場合がある。

本発明では、後述する反射低減層により着色や虹ムラが低減されているが、より効果的に着色や虹ムラを低減させるためには、基材フィルムの面内レタデーションをさらに上げることが好ましい。
延伸フィルムで着色を低減する方法としては、（Ａ）偏光子の透過軸（消光軸と垂直な方向）方向の屈折率と、基材フィルムの同方向の屈折率との差を小さくする方法、（Ｂ）基材フィルムの面内レタデーションを高くする方法、が挙げられる。

（Ａ）の方法の場合、好ましい面内リタデーションの下限は１５００ｎｍであり、より好ましいリタデーションの下限値は２０００ｎｍ、さらに好ましい下限値は２５００ｎｍ、特に好ましい下限値は３０００ｎｍである。
（Ａ）の方法の場合、偏光子の透過軸方向と基材フィルムの進相軸方向との角度は１０度以下が好ましく、より好ましくは７度以下、さらに好ましくは５度以下、特に好ましくは３度以下である。

（Ａ）の方法の場合、偏光子の透過軸方向の屈折率と基材フィルムの進相軸方向の屈折率との屈折率差は０．１５以下が好ましく、より好ましくは０．１２以下、さらに好ましくは０，１１以下、特に好ましくは０．１以下である。

偏光子がヨウ素を吸着させた延伸ポリビニルアルコールであり、基材フィルムとしてＰＥＴフィルムを用いる場合は、ＰＥＴフィルムの進相軸方向の屈折率（ｎｘ）は、１．５３以上１．６２以下であることが好ましい。好ましくは１．６１以下であり、より好ましくは１．６０以下であり、さらに好ましくは１．５９以下であり、よりさらに好ましくは１．５８以下である。

（Ｂ）の方法の場合、面内レタデーションの下限は好ましくは３０００ｎｍであり、より好ましくは４０００ｎｍであり、さらに好ましくは４５００ｎｍであり、特に好ましくは５０００ｎｍである。上記未満であると斜め方向から画像を見た場合に虹ムラが起こりやすくなることがある。

ＰＥＴフィルムの進相軸方向の屈折率を効果的に下げるためや、面内レタデーションを大きくするためには、一軸延伸性を高め、進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率差を大きくすることが好ましい。
基材フィルムの進相軸方向の屈折率（ｎｘ）と遅相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｙ－ｎｘ）は０．０５～０．２であることが好ましい。進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率との差の下限は０．０６がより好ましく、０．０７がさらに好ましく、０．０８が特に好ましい。進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率との差の上限は０．１７がより好ましく、０．１５がさらに好ましく、０．１３が特に好ましい。

基材フィルムレタデーションの上限は好ましくは３００００ｎｍであり、より好ましくは１５０００ｎｍであり、さらに好ましくは１００００ｎｍ、特に好ましくは９０００ｎｍである。それ以上のレタデーションを有していたとしても更なる視認性の改善効果は実質的に得られないばかりか、上記を越えると基材フィルムを厚くする必要があり、画像表示装置が厚くなる場合がある。

基材フィルムのレタデーションは、２軸方向の屈折率と厚みを測定して求めることができ、ＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社）等の市販の自動複屈折測定装置を用いて求めることもできる。

基材フィルムは面内レタデーション（Ｒｅ）と厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）との比が特定の範囲であることが好ましい。厚さ方向位相差は、フィルムを厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△Ｎｘｚ、△Ｎｙｚにそれぞれフィルム厚さｄを掛けて得られる位相差の平均を意味する。面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの差が小さいほど、観察角度による複屈折の作用は等方性を増すため、観察角度によるレタデーションの変化が小さくなる。そのため、観察角度による虹状の色斑が発生し難くなると考えられる。

基材フィルムの面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は、好ましくは０．２００以上、より好ましくは０．４００以上、さらに好ましくは０．５００以上、特に好ましくは０．６００以上である。上記面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、観察角度による虹状の色斑の発生が生じ難くなる。そして、完全な１軸性（１軸対称）フィルムでは上記面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は２．０となる。しかし、前述のように完全な１軸性（１軸対称）フィルムに近づくにつれ配向方向と直行する方向の機械的強度が著しく低下する。

一方、基材フィルムの面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．２以下、さらに好ましくは１．０以下である。

（Ｎｚ係数）
基材フィルムは、｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で表されるＮｚ係数が１．７以下であることが好ましい。Ｎｚ係数は次のようにして求めることができる。分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いてフィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向とこれに直交する方向の二軸の屈折率（ｎｙ、ｎｘ、但しｎｙ＞ｎｘ）、及び厚さ方向の屈折率（ｎｚ）をアッべ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）によって求める。こうして求めたｎｘ、ｎｙ、ｎｚを、｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で表される式に代入して、Ｎｚ係数を求めることができる。

基材フィルムのＮｚ係数が１．７を超えると、画像表示装置を斜め方向から観察した際に、角度によっては虹斑が生じ得る場合がある。Ｎｚ係数はより好ましくは１．６５以下、さらに好ましくは１．６３以下である。Ｎｚ係数の下限値は、１．２０である。これは、１．２０未満のフィルムを得ることは製造技術的に難しいためである。また、フィルムの機械的強度を保つためには、Ｎｚ係数の下限値は１．３０以上が好ましく、より好ましくは１．４０以上、さらに好ましくは１．４５以上である。

（面配向度）
基材フィルムは（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚで表される面配向度を特定値以下にすることが好ましい。ここで、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚの値は、Ｎｚ係数と同様の方法で求められる。基材フィルムの面配向度は０．１３以下が好ましく、より好ましくは０．１２５以下、さらに好ましくは０．１２以下である。面配向度が０．１３を超えると、画像表示装置を斜め方向から観察した場合に角度によって虹斑が観察される場合がある。面配向度が０．０８未満では、フィルム厚みが変動し、レタデーションの値がフィルム面内で不均一となる場合がある。

基材フィルムの厚みの下限は好ましくは１０μｍであり、より好ましくは２０μｍであり、さらに好ましくは３０μｍであり、特に好ましくは３５μｍである。上記未満であると好ましい面内リタデーションが確保できなくなることがある。
基材フィルム厚みの上限は好ましくは５００μｍであり、より好ましくは２００μｍであり、さらに好ましくは１００μｍであり、特に好ましくは９０μｍである。上記を越えると画像表示装置が厚くなる。

偏光子に用いられる二色性色素の劣化を抑制するため、基材フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が２０％以下であることが望ましい。３８０ｎｍの光線透過率は１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。前記光線透過率が２０％以下であれば、光学機能性色素の紫外線による変質を抑制することができる。なお、透過率は、フィルムの平面に対して垂直方向に測定したものであり、分光光度計（例えば、日立Ｕ－３５００型）を用いて測定することができる。

基材フィルムの波長３８０ｎｍの透過率を２０％以下にするためには、紫外線吸収剤の種類、濃度、及びフィルムの厚みを適宜調節することが望ましい。本発明で使用される紫外線吸収剤は公知の物質である。紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤が挙げられるが、透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが上述した吸光度の範囲であれば特に限定されない。しかし、耐久性の観点からはベンゾトリアゾール系、環状イミノエステル系が特に好ましい。２種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。

また、紫外線吸収剤以外に、本発明の効果を妨げない範囲で、触媒以外の各種の添加剤を含有させることも好ましい様態である。添加剤として、例えば、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。また、高い透明性を奏するためにはポリエステル基材フィルムに実質的に粒子を含有しないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、ケイ光Ｘ線分析で無機元素を定量した場合に５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。

（基材フィルムの製造方法）
基材となるフィルムは延伸することにより、所定の面内レタデーションを付与することができる。延伸は特性が得られる限り、一軸延伸でも二軸延伸でも良い。基材フィルムの遅相軸は基材フィルムの長手方向であっても長手方向と直交する方向であっても良いし、斜め方向であっても良い。なお、ここでの長手方向はフィルムを連続生産する場合の走行方向であることを意味する。基材フィルムの長手方向と遅相軸とのなす角度は、遅相軸が基材フィルムの長手方向の場合は１０度以下、特には７度以下が好ましい。基材フィルムの遅相軸が基材フィルムの長手方向と直行する場合は、基材フィルムの長手方向と遅相軸とのなす角度は、８０～１００度、特には８３～９７度が好ましい。斜め方向の場合は、３５～５５度の範囲であることが好ましい。また、基材フィルムの遅相軸のバラツキは長手方向と直交する方向で１５度以内であることが好ましく、より好ましくは１０度以内、さらに好ましくは８度以内、特に好ましくは５度以内である。上記範囲を超えると、偏光サングラスをかけて画像を観察した場合に画面の明るさが不均一となる場合がある。

延伸条件について、長手方向と直交する方向に遅相軸を持つＰＥＴの基材フィルムの場合を例にして具体的に説明する。

溶融したＰＥＴを冷却ロール上に押し出して得られた未延伸原反の両端をクリップで把持してテンター内に導き、予熱後、加熱しながら横方向に延伸する。なお、横方向の延伸前に、連続ロールで縦方向に延伸しても良い。また、同時二軸延伸を行っても良い。縦延伸温度、横延伸温度は８０～１３０℃が好ましく、特に好ましくは９０～１２０℃である。縦延伸倍率は１．０～３．５倍が好ましく、特に好ましくは１．０倍～３．０倍である。また、横延伸倍率は２．５～６．０倍が好ましく、特に好ましくは３．０～５．５倍である。レタデーションを上記範囲に制御するためには、縦延伸倍率と横延伸倍率の比率を制御することが好ましい。縦横の延伸倍率の差が小さすぎるとレタデーション高くすることが難しくなり好ましくない。また、延伸温度を低く設定することもレタデーションを高くする上では好ましい対応である。続く熱処理においては、処理温度は１００～２５０℃が好ましく、特に好ましくは１８０～２４５℃である。
長手方向に遅相軸を持つ基材フィルムを得るためには、連続ロールで縦延伸を行うことが好ましい。縦延伸工程前には横延伸を行っても良い。

また、基材フィルムの主配向主軸と長手方向または長手方向と直交する方向との角度は、２０度以下であることが好ましい。さらには１５度以下、特には１０度以下が好ましく、最も好ましくは５度以下である。２０度を超えると偏光サングラス等を通して観察した場合に角度による明るさの変化が大きくなる場合がある。なお、長手方向に延伸した場合は主配向方向が長手方向になるため主配向主軸と長手方向との角度とし、幅方向に延伸した場合は主配向主軸と長手方向と直交する方向との角度とする。

（易接着層）
基材フィルムには、反射低減層や偏光子との接着性を高めるため、易接着層を設けてもよい。
易接着層に用いられる樹脂は、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂などが用いられ、ポリエステル樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、アクリル樹脂が好ましい。偏光子との接着剤としてポリビニルアルコールを用いる場合には、さらにポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂を加えてもよい。
易接着層は架橋されていることが好ましい。架橋剤としては、イソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物等が挙げられる。また、ポリビニルアルコールやポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミドなど配向層や偏光膜に用いられる樹脂と類似する樹脂を添加することも密着性を向上させるために有用な手段である。

易接着層はこれら樹脂と必要により架橋剤、粒子等を添加した水系塗料として基材フィルムに塗布・乾燥して設けることができる。粒子としては上述の基材に用いられるものが例示される。
易接着層は、延伸済みの基材にオフラインで設けても良いが、製膜工程中にインラインで設けることが好ましい。インラインで設ける場合は、縦延伸前、横延伸前のいずれであっても良いが、横延伸直前に塗工され、テンターによる予熱、加熱、熱処理工程で乾燥、架橋されることが好ましい。なお、ロールによる縦延伸直前でインラインコートする場合には塗工後、縦型乾燥機で乾燥させた後に延伸ロールに導くことが好ましい。
易接着層の塗工量は０．０１～１．０ｇ／ｍ^２が好ましく、さらには０．０３～０．５ｇ／ｍ^２が好ましい。

（反射低減層）
基材フィルムの偏光子が積層される面とは反対側の面には、反射低減層が設けられていることが好ましい。反射低減層を設けることで、ポリエステルなどの位相差のあるフィルムであっても虹ムラを低減させることができる。

基材フィルムの反射低減層側から測定した反射率の上限は好ましくは５％であり、より好ましくは４％であり、さらに好ましくは３％であり、特に好ましくは２％であり、最も好ましくは１．５％である。上記を越えると虹ムラが認識されやすかったり、色再現性低下する場合がある。
反射率の下限は好ましくは特に規定されるものではないが、現実的な面から好ましくは０．０１％であり、さらに好ましくは０．１％である。
反射低減層としては、低反射層、反射防止層、防眩層など様々な種類がある。

（低反射層）
低反射層は、基材フィルムの表面に低屈折率の層（低屈折率層）を設けることで空気との屈折率差を小さくして、反射率を低減させる機能を有する層である。
低反射層の場合、反射率の上限は好ましくは５％であり、より好ましくは４％であり、さらに好ましくは３％である。
低反射層の場合、反射率の下限は好ましくは０．８％であり、より好ましくは１％である。低屈折率層で空気との屈折率差を小さくするだけでは、現実的に０．８％未満にすることは困難である。

（反射防止層）
反射防止層は、低屈折率層の厚みをコントロールして、低屈折率層の上側界面（低屈折率層－空気の界面）と低屈折の下側界面（例えば、基材フィルム－低屈折率層の界面）との反射光を干渉させて反射を制御する層である。この場合、低屈折率層の厚みは、可視光の波長（４００～７００ｍｎ）／（低屈折率層の屈折率×４）程度となることが好ましい。
反射防止層と基材フィルムとの間には高屈折率層を設けることも好ましい形態であり、低屈折率層や高屈折率層を２層以上設け、多重干渉により反射防止効果をさらに高めても良い。

また、別の形態の反射防止層として表面をモスアイ構造とすることも好ましい。モスアイ構造は、空気との界面に可視光の波長以下の周期の凹凸構造を設け、擬似的に、連続的に界面の屈折率を変化させて反射を防止する層である。

反射防止層の場合、反射率の上限は好ましくは２％であり、より好ましくは１．５％であり、さらに好ましくは１．２％であり、特に好ましくは１％である。

（低屈折率層）
低屈折率層の屈折率は、１．４５以下が好ましく、１．４２以下がより好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、１．２０以上が好ましく、１．２５以上がより好ましい。
なお、低屈折率層の屈折率は、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。

低屈折率層の厚みは限定されないが、通常、３０ｎｍ～１μｍ程度の範囲内から適宜設定すればよい。また、低屈折率層表面の反射と、低屈折率層とその内側の層（基材フィルム、ハードコート層、光学等方層等）との界面反射とを相殺させて、より反射率を低くする目的であれば、低屈折率層の厚みは７０～１２０ｎｍが好ましく、７５～１１０ｎｍがより好ましい。

低屈折率層としては、好ましくは（１）バインダ樹脂及び低屈折率粒子を含有する樹脂組成物からなる層、（２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂からなる層、（３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂組成物からなる層、(４）シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率物質の薄膜等が挙げられる。

（１）の樹脂組成物に含有されるバインダ樹脂としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリカーボネート、アクリルなど特に制限なく用いることができる。中でもアクリルが好ましく、光照射により光重合性化合物を重合（架橋）させて得られたものであることが好ましい。

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマー又は光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。

（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、ＴＨＦ等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。

多官能モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。

これらの中でも硬度が高い機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。

（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（光重合性ポリマー）
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる基材フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、２官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

コート剤には、上記成分の他に重合開始剤、架橋剤の触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤などが含まれていてもよい。

（１）の樹脂組成物に含まれる低屈折率粒子としては、シリカ粒子（例えば、中空シリカ粒子）、フッ化マグネシウム粒子等が挙げられ、中でも、中空シリカ粒子が好ましい。このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５－０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法により作製できる。

低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、５～２００ｎｍが好ましく、５～１００ｎｍがより好ましく、１０～８０ｎｍがさらに好ましい。

低屈折率粒子は、シランカップリング剤で表面処理されたものがより好ましく、中でも（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されたものが好ましい。

低屈折率層における低屈折率粒子の含有量は、バインダ樹脂１００質量部に対して１０～２５０質量部が好ましく、５０～２００質量部がより好ましく、１００～１８０質量部がさらに好ましい。

（２）のフッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、光重合性官能基、熱硬化極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これら複数の硬化反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体は、上記の硬化反応性基等を有しないものである。

光重合性官能基を有する化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。

低屈折率層には耐指紋性を向上させる目的で、公知のポリシロキサン系又はフッ素系の防汚剤を適宜添加することも好ましい。ポリシロキサン系防汚剤の好ましい例としては、例えばアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサンなどが挙げられる。フッ素系防汚剤は、低屈折率層の形成又は低屈折率層との相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は、１個又は複数個あってもよく、複数個の置換基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。

低屈折率層の表面は、防眩性を出すために凹凸面であってもよいが、平滑面であることも好ましい。
低屈折率層の表面が平滑面である場合、低屈折率層の表面の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以下であり、特に好ましくは１～８ｎｍである。
また、低屈折率層の表面の十点平均粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、好ましくは１６０ｎｍ以下であり、より好ましくは５０～１５５ｎｍである。
低屈折率層のＲａを上記範囲にするためには、例えば、以下の方法を採用することができる。
・低屈折率層中に低屈折率層の厚みの１／２を超える粒径の粒子を用いないか、その添加量を少なくする。
・低屈折率層よりも内側の層（基材フィルム層、高屈折率層、ハードコート層等）の表面粗さを小さくする。
・基材フィルムの粗さが大きい場合はハードコート層、高屈折率層等で平滑化させる。

（高屈折率層）
高屈折率層の屈折率は１．５５～１．８５とすることが好ましく、１．５６～１．７０とすることがより好ましい。
なお、高屈折率層の屈折率は、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。

高屈折率層の厚みは、３０～２００ｎｍあることが好ましく、５０～１８０ｎｍであることがより好ましい。高屈折率層は複数の層であってもよいが、２層以下が好ましく、単層がより好ましい。複数の層の場合は、複数の層の厚みの合計が、上記範囲内であることが好ましい。

高屈折率層を２層とする場合は、低屈折率層側の高屈折率層の屈折率をより高くすることが好ましく、具体的には、低屈折率層側の高屈折率層の屈折率は１．６０～１．８５であることが好ましく、他方の高屈折率層の屈折率は１．５５～１．７０であることが好ましい。

高屈折率層は高屈折率粒子及び樹脂を含む樹脂組成物からなることが好ましい。
中でも、高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン粒子（１．７９）、酸化亜鉛粒子（１．９０）、酸化チタン粒子（２．３～２．７）、酸化セリウム粒子（１．９５）、スズドープ酸化インジウム粒子（１．９５～２．００）、アンチモンドープ酸化スズ粒子（１．７５～１．８５）、酸化イットリウム粒子（１．８７）、及び酸化ジルコニウム粒子（２．１０）等が好ましい。なお、上記かっこ内は、各粒子の材料の屈折率を示す。これらの中でも酸化チタン粒子及び酸化ジルコニウム粒子が好適である。

高屈折率粒子は２種以上を併用してもよい。特に、第１の高屈折率粒子とそれより表面電荷量が少ない第２の高屈折率粒子とを添加することも凝集を防ぐためには好ましい。また、高屈折率粒子は表面処理されていることも分散性の面から好ましい。

高屈折率粒子の一次粒子の好ましい平均粒子径は、低屈折率粒子と同様である。

高屈折率粒子の含有量は、樹脂１００質量部に対して、３０～４００質量部であることが好ましく、５０～２００質量部であることがより好ましく、８０～１５０質量部であることがさらに好ましい。

高屈折率層に用いられる樹脂としては、フッ素系樹脂を除いて低屈折率層で挙げた樹脂と同じである。

高屈折率層の上に設けられる低屈折率層を平坦にするためには、高屈折率層の表面も平坦であることが好ましい。高屈折率層の表面を平坦にする方法としては、上記の低屈折率層を平坦にする方法が用いられる。

高屈折率層および低屈折率層は、例えば、光重合性化合物を含む樹脂組成物を、基材フィルムに塗布し、乾燥させた後、塗膜状の樹脂組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより形成することができる。

高屈折率層および低屈折率層の樹脂組成物には、必要に応じて、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。

（防眩層）
防眩層は表面に凹凸を設けて乱反射させることで、外光が表面で反射する場合の光源の形の映り込みを防止したり、眩しさを低減したりさせる層である。

防眩層の表面には、防眩性表面の傾斜角度（表面角度）が０．０５°以上である領域が５０％以上存在することが好ましく、５５％以上であることがより好ましく、６０％以上であることがさらに好ましい。また、表面角度が０．０５°以上である領域の割合の上限は、９５％以下であることが好ましく、９０％以下であることがより好ましい。表面角度が上記範囲にあると、防眩性表面自体の干渉による虹斑を低減することができる。

防眩層の表面の二乗平均平方根傾斜（ＲΔｑ）は、０．００４以下であることが好ましい。

防眩層の表面のクルトシス（Ｒｋｕ）は、好ましくは５以下であり、より好ましくは４以下であり、さらに好ましくは３以下である。当該Ｒｋｕは、好ましくは２以上である。

防眩層の表面のスキューネス（ＲＳｋ）は、好ましくは－１．０～１．０であり、より好ましくは－０．５～０．５であり、さらに好ましくは－０．３～０．３である。

防眩層の表面の凹凸の平均傾斜角（θａ）は、好ましくは０．０１～１．５°であり、より好ましくは０．０４～１．２°であり、さらに好ましくは０．１～０．５°である。

防眩層の表面の凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは０．０２～０．２５μｍであり、より好ましくは０．０２～０．１５μｍであり、さらに好ましくは０．０２～０．１２μｍである。

防眩層の表面の凹凸の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は、好ましくは０．１５～２．００μｍであり、より好ましくは０．２０～１．２０μｍであり、さらに好ましくは０．３０～０．８０μｍである。

ＲΔｑ、Ｒｋｕ、ＲＳｋ、θａ、Ｒａ、及びＲｚｊｉｓの値が下限以上であると、より効果的に外光の映り込みを抑制することができる。
ＲΔｑ、Ｒｋｕ、ＲＳｋ、θａ、Ｒａ、及びＲｚｊｉｓの値が上限以下であると、輝度及びコントラストに優れる。

防眩性表面の凹凸の平均間隔（ＲＳｍ）は、好ましくは５０～６００μｍであり、より好ましくは１００～４００μｍであり、さらに好ましくは１２０～３００μｍであり、特に好ましくは１５０～２８０μｍである。当該ＲＳｍの値が下限以上であると、凝集の制御が容易である。当該ＲＳｍの値が上限以下であると、映像の細やかさを再現することができる。

ＲΔｑ、Ｒｋｕ、ＲＳｋ、θａ、Ｒａ、Ｒｚｊｉｓ、及びＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１－１９９４又はＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。

基材フィルムに防眩層を設ける方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
・粒子（フィラー）等を含む防眩層用塗料を塗工する
・防眩層用樹脂を凹凸構造を有する金型に接触させた状態で硬化させる
・防眩層用樹脂を凹凸構造を有する金型に塗布し、基材フィルムに転写する
・乾燥、製膜時にスピノーダル分解が生じる塗料を塗工する

防眩層の厚みの下限は、好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍである。防眩層の厚みの上限は、好ましくは１００μｍであり、より好ましくは５０μｍであり、さらに好ましくは２０μｍである。

防眩層の屈折率は、好ましくは１．２０～１．８０であり、より好ましくは１．４０～１．７０である。
防眩層自体の屈折率を低くして低反射効果を求める場合、防眩層の屈折率は、１．２０～１．４５が好ましく、１．２５～１．４０がより好ましい。
防眩層の上に後述の低屈折率層を設ける場合、防眩層の屈折率は、１．５０～１．８０が好ましく、１．５５～１．７０がより好ましい。
なお、防眩層の屈折率は、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。

以下、防眩層が、微粒子及びバインダ樹脂を含んでいる例について説明する。

（微粒子）
微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子のいずれであってもよいが、これらの中でも、無機微粒子が好ましい。好ましい無機粒子としては低屈折率層や高屈折率層で挙げたもの、これら以外ではアルミナ粒子が挙げられる。

無機微粒子は、シラン系化合物、シラザン系化合物などで表面処理されていることが好ましい。無機微粒子は凝集粒子であることが好ましく、中でも、フュームドシリカ微粒子が好ましい。
また、無機微粒子は防眩層の屈折率を調整する際に用いることもできる。屈折率を高くする場合は高屈折率層で挙げたものが好ましく、屈折率を低くする場合は低屈折率層で挙げたものが好ましい。
防眩層に帯電防止性を付与する場合、五酸化アンチモン微粒子、スズドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化スズ微粒子等が好適に用いられる。

有機微粒子としては、例えば、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル－スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

有機微粒子は、三次元架橋されていることが好ましく、架橋の程度、硬さにより、凹凸形状を調整することができる。

防眩層中の微粒子の含有量は、屈折率調整の目的であれば、それぞれ低屈折率層や高屈折率層で述べた範囲が好ましい。単に凹凸形成のためであれば、０．１質量％以上５．０質量％以下であることが好ましい。微粒子の含有量の下限は０．５質量％以上であることがより好ましく、微粒子の含有量の上限は３．０質量％以下であることがより好ましい。

微粒子として無機微粒子（例えば、無機酸化物微粒子）を用いる場合、無機微粒子の平均一次粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。無機微粒子の平均一次粒径の下限は５ｎｍ以上であることがより好ましく、無機微粒子の平均一次粒径の上限は５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

微粒子として有機微粒子を用いる場合、平均一次粒径は８．０μｍ未満であることが好ましく、５．０μｍ以下であることがより好ましい。また、平均一次粒径は０．５μｍ以上であることが好ましく、１．０μｍ以上であることがより好ましい。

微粒子として無機酸化物微粒子を用いる場合、無機酸化物微粒子の凝集体の平均粒子径は、１００ｎｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましい。下限が２００ｎｍ以上であることがより好ましく、上限が１．５μｍ以下であることがより好ましい。

防眩層用塗料には、上述した他の樹脂や各種添加剤を加えてもよい。また、防汚剤を加えてもよい。

低屈折率層に凹凸を設けて防眩性低反射層としても良く、凹凸上に低屈折率層を設けて反射防止機能を持たせ、防眩性反射防止層としても良い。

（ハードコート層）
上記の反射低減層の下層としてハードコート層を設けることも好ましい形態である。
ハードコート層は鉛筆硬度でＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。ハードコート層は、例えば、熱硬化性樹脂又は放射線硬化性樹脂の組成物溶液を塗布、硬化させて設けることができる。

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、これらの組合せ等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

放射線硬化性樹脂は、放射線硬化性官能基を有する化合物であることが好ましく、放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。このうち、電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマーであってもオリゴマーであってもポリマーであってもよい。

これらの具体例としては、上記のバインダ樹脂として挙げたものが用いられる。
ハードコートとしての硬度を達成するためには、放射線硬化性官能基を有する化合物中、２官能以上のモノマーが５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。さらには、放射線硬化性官能基を有する化合物中、３官能以上のモノマーが５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
上記放射線硬化性官能基を有する化合物は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

ハードコート層の厚みは、０．１～１００μｍの範囲が好ましく、０．８～２０μｍの範囲がより好ましい。

ハードコート層の屈折率は、１．４５～１．７０であることがより好ましく、１．５０～１．６０であることがさらに好ましい。
なお、ハードコート層の屈折率は、波長５８９ｎｍの条件で測定される値である。

ハードコート層の屈折率を調整するためには、樹脂の屈折率を調整する方法、粒子を添加する場合は粒子の屈折率を調整する方法が挙げられる。
粒子としては、防眩層の粒子として例示したものが挙げられる。
なお、本発明において、ハードコート層も含めて、反射低減層と称する場合がある。

（帯電防止層）
帯電防止層を別途設けることも好ましい形態である。帯電防止層は、基材フィルムと反射低減層との間や基材フィルムの反射低減層が設けられていない面などに設けることが好ましい。帯電防止層は帯電防止剤及びバインダ樹脂からなるものが好ましい。
帯電防止剤としては、４級アンモニウム塩、ポリアニリンやポリチオフェンなどの導電性高分子、針状金属フィラー、スズドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化スズ微粒子などの導電性高屈折率微粒子、これらの組合せが挙げられる。
バインダ樹脂としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、アクリルなどが用いられる。
なお、ハードコート層に帯電防止剤を添加し、ハードコート層が帯電防止層として機能してもよい。ハードコート層に添加する帯電防止剤としては、従来公知のものを用いることができ、例えば、第４級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の微粒子、導電性ポリマー等を用いることができる。上記帯電防止剤の含有量は、ハードコート層の全固形分の合計質量に対して、１～３０質量％であることが好ましい。

（偏光子）
偏光板に用いる偏光子としては、例えば、一軸延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させたもの、液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させたもの又は液晶性の二色性色素とからなる液晶性の偏光子、ワイヤーグリッド方式のものなどを特に制限なく用いることができる。

一軸延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させたフィルム状の偏光子とロール状に巻き取られた基材フィルムとをＰＶＡ系、紫外線硬化型などの接着剤、又は粘着剤を用いて貼り合わせ、ロール状に巻き取ることができる。このタイプの偏光子の厚みとしては、５～５０μｍが好ましく、さらには１０～３０μｍが好ましく、特には１２～２５μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１～１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２～５μｍである。

また、ＰＥＴ又はポリプロピレンなどの未延伸の基材にＰＶＡを塗工し、基材と共に一軸延伸してヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させた偏光子も好ましく用いられる。この偏光子の場合は、基材に積層された偏光子の偏光子面（基材が積層されていない面）と基材フィルムとを接着剤又は粘着剤で貼り合わせ、その後偏光子を作製する時に用いた基材を剥離することで、基材フィルムと偏光子を貼り合わせることができる。この場合も、ロール状で貼り合わせ、巻き取りを行うことが好ましい。このタイプの偏光子の厚みとしては、１～１０μｍが好ましく、さらには２～８μｍが好ましく、特には３～６μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１～１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２～５μｍである。

液晶性の偏光子の場合は、基材フィルムに液晶化合物と有機系の二色性色素とからなる偏光子を配向させたものを積層するか、又は本発明の基材フィルムに液晶性の二色性色素を含有するコート液を塗工した後、乾燥させ、光又は熱硬化させて偏光子を積層することにより、偏光板とすることができる。液晶性の偏光子を配向させる方法としては、塗工対象物の表面をラビング処理する方法、偏光の紫外線を照射して液晶性の偏光子を配向させながら硬化させる方法等が挙げられる。本発明の基材フィルムの表面を直接ラビング処理して、コート液を塗工してもよく、基材フィルムに直接コート液を塗工してこれに偏光紫外線を照射してもよい。また、液晶性の偏光子を設ける前に、本発明の基材フィルムに配向層を設ける（すなわち、本発明の基材フィルムに配向層を介して液晶性の偏光子を積層する）ことも好ましい方法である。配向層を設ける方法としては、
・ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリイミド及びその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などを塗工し、その表面をラビング処理して配向層（ラビング配向層）とする方法、
・シンナモイル基及びカルコン基等の光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を塗布し、偏光紫外線を照射することによって配向硬化させ配向層（光配向層）とする方法
等が挙げられる。

離型性を有するフィルムに上記の方法に準じて液晶性の偏光子を設け、液晶性の偏光子面と本発明の基材フィルムとを接着剤又は粘着剤で貼り合わせ、その後、離型性を有するフィルムを剥離することで、基材フィルムと偏光子とを貼り合わせることもできる。

液晶性の偏光子の厚みとしては、０．１～７μｍが好ましく、さらには０．３～５μｍが好ましく、特には０．５～３μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１～１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２～５μｍである。

ワイヤーグリッド方式であれば、基材フィルム上に微細導電ワイヤーを設ければよい。微細導電ワイヤーを設けるために微細な溝が必要な場合は、別途溝を設けるための層を設けてもよい。

偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とがなす角度は特に限定するものではないが、偏光子から透過してきた直線偏光をそのまま直線偏光として視認側へ出光するのであれば、上記は、平行又は垂直であることが好ましい。「平行又は垂直」とは０度又は９０度から好ましくは±１０度、さらには±７度、特には±５度までのズレが許容される。平行又は垂直にすることで、ロール状のまま貼り合わせて巻き取ることが容易にできる。

また、偏光子から透過してきた直線偏光を解消させ、偏光サングラスで見た場合のブラックアウトを防ぐのであれば、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とがなす角度は、好ましくは２０～７０度であり、より好ましくは２５～６５度であり、さらに好ましくは３０～６０度であり、特に好ましくは３５～５５度である。この様に斜め方向にするためには、枚葉で切り出して貼り合わせる方法があるが、ロール状で貼り合わせるのであれば、基材フィルムを斜め方向に延伸する方法、基材フィルムの延伸時のボーイング現象により生じた端部の斜め方向に配向した部分を切り出して用いるなどの方法が挙げられる。

偏光子は基材フィルムの反射低減層とは反対側に設けられる。基材フィルムに反射低減層を設けた後に偏光子を設けてもよく、基材フィルムに偏光子を設けた後に反射低減層を設けてもよいが、偏光子に傷を付けにくい、反射低減層を塗工する時に取り扱いし易いといった点で前者が好ましい。

なお、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸との角度を平行又は垂直にした場合、画像を偏光サングラスで観察した場合はブラックアウトが起こるが、偏光子と基材フィルムの間、または、基材フィルムと反射低減層の間にλ／４位相差層を斜め方向に設けることで、ブラックアウトを防いでもよい。この場合、λ／４位相差層の遅相軸方向は偏光子の消光軸方向（吸収軸方向）に対して３０～６０度が好ましく、さらには３５～５５度が好ましく、特には４０～５０度が好ましい。

偏光子の他方の面（偏光子の、基材フィルムを積層する側とは反対側の面）には、λ／４位相差層が設けられるが、偏光子の他方の面にＴＡＣ等の光学等方性の偏光子保護フィルムを介してλ／４位相差層が設けられていてもよく、偏光子に直接λ／４位相差層が設けられていてもよい。なお、ここで偏光子に直接λ／４位相差層が設けられるとは、偏光子とλ／４位相差層が接着剤又は粘着剤で貼り合わされていることも含む。また、偏光子上に保護コートが設けられ、この保護コート上にλ／４位相差層が設けられていてもよい。

（λ／４位相差層）
λ／４位相差層は、偏光子を通して入ってきた直線偏光を円偏光に変換し、有機ＥＬ画像表示内の配線、ガラス基板などで反射された円偏光を入射してきた直線偏光とは９０度ずれた直線偏光に変換する役割を担う。λ／４位相差層はλ／４位相差層単独であってもよく、λ／４位相差層とλ／２位相差層との複合λ／４位相差層であってもよい。さらにＣプレート位相差層などが設けられていてもよく、本発明ではこれらの複合λ／４位相差層も含めてλ／４位相差層と称する場合がある。

λ／４位相差層は、ＴＡＣ、ＣＯＰ、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネートなどの延伸フィルムであってもよい。延伸フィルムの場合は、斜め方向に延伸されたものであるか、前述のようにボーイングが生じた部分を採用することが好ましい。

また、光学等方性のフィルムに液晶化合物からなるλ／４位相差層を設けたλ／４位相差フィルムであってよい。光学等方性フィルムとしてはＴＡＣが好ましい例として挙げられる。
これらのフィルム状のλ／４位相差層の厚みは１０～８０μｍが好ましく、さらには２０～６０μｍが好ましい。

しかしながら、近年、画像表示装置の薄型化が要望されており、このためには偏光子に直接、液晶化合物からなるλ／４位相差層を設けることが特に好ましい形態である。
偏光子に直接、液晶化合物からなるλ／４位相差層を設ける方法としては、液晶化合物を偏光子上に塗工する方法、別途離型性フィルムに位相差層を設け、これを転写する方法が挙げられる。

λ／４位相差層の面内レタデーションは１００～１８０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは１２０～１５０ｎｍである。
λ／２位相差層の面内レタデーションは２００～３６０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは２４０～３００ｎｍである。

（液晶化合物からなるλ／４位相差層の転写）

離型性フィルムに液晶化合物からなる位相差層を設けこれを転写する方法では、離型性フィルム上に液晶化合物を含む塗料を塗工後、液晶化合物を配向させ、固定化する必要がある。

液晶化合物を配向させる方法としては、液晶化合物配向層の下層（離型性フィルムの離型面）にラビング処理等を行い配向制御機能を付与する方法や、液晶化合物を離型性フィルムに塗布後、偏光紫外線等を照射して直接液晶化合物を配向させる方法がある。

（配向制御層）
また、離型性フィルムに配向制御層を設け、この配向制御層上に液晶化合物配向層を設ける方法も好ましい。なお、本発明において、液晶化合物配向層単独ではなく配向制御層と液晶化合物配向層を合わせた総称としても液晶化合物配向層と呼ぶことがある。配向制御層としては、液晶化合物配向層を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向制御層でもよいが、樹脂の塗工膜をラビング処理したラビング処理配向制御層や、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向制御層が好適な例として挙げられる。

（ラビング処理配向制御層）
ラビング処理により形成される配向制御層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。

以下、ラビング処理配向制御層の形成方法を説明する。まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向制御層塗布液を離型性フィルムの離型面上に塗布したのち、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向制御層を得る。配向制御層塗布液は架橋剤を有していても良い。

ラビング処理配向制御層塗布液の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、セロソルブ、などのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマーブチロラクトン、などのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、などのケトン系溶剤；トルエン又はキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

ラビング処理配向制御層塗布液の濃度は、ポリマーの種類や製造しようとする配向制御層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、０．２～２０質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲が特に好ましい。塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。

加熱乾燥温度は、離型性フィルムにもよるが、ＰＥＴの場合３０℃～１７０℃の範囲が好ましく、より好ましくは、５０～１５０℃、さらに好ましくは、７０～１３０℃である。乾燥温度が低い場合は乾燥時間を長く取る必要が生じ、生産性に劣る場合がある。乾燥温度が高すぎる場合、離型性フィルムが熱で伸びたり、熱収縮が大きくなったりし、設計通りの光学機能が達成できなくなったり、平面性が悪くなる場合がある。加熱乾燥時間は例えば０．５～３０分であればよく、１～２０分がより好ましく、さらには２～１０分がより好ましい。

ラビング処理配向制御層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５～５μｍ、特には０．１μｍ～１μｍであることが好ましい。

次に、ラビング処理を施す。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向制御層表面をラビング処理する。長尺状のフィルムの長手方向に対して斜めの所定方向に配向する液晶化合物配向制御層を設けるためには配向制御層のラビング方向もそれに合った角度にする必要がある。角度の調整は、ラビングローラーと離型性フィルムとの角度調整、離型性フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整で合わせることができる。

なお、離型性フィルムの離型面に直接ラビング処理を行って離型性フィルム表面に配向制御機能を持たせることも可能であり、この場合も本発明の技術範囲に含まれる。

（光配向制御層）
光配向制御層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を離型性フィルムに塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、λ／４位相差層の液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向制御層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル、等が挙げられる。

具体的な配向制御層としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特開２００２－２２９０３９号公報、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、特開２０１３－３３２４８号公報、特開２０１５－７７０２号公報、特開２０１５－１２９２１０号公報に記載の配向制御層が挙げられる。

光配向制御層形成用塗工液の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としてはラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。光配向制御層形成用塗工液には、光重合開始剤、重合禁止剤、各種安定剤を添加することも好ましい。また、光反応性基を有するポリマー及びモノマー以外のポリマーや光反応性基を有するモノマーと共重合可能な光反応性基を有しないモノマーを加えても良い。

光配向制御層形成用塗工液の濃度、塗布方法、乾燥条件もラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。厚みもラビング処理配向制御層の好ましい厚みと同様である。

偏光は、配向前の光配向制御層面の方向から照射することが好ましい。

偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収できる波長領域のものが好ましい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲の紫外線が好ましい。偏光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ－ザ－などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが好ましい。

偏光は、例えば前記光源からの光に偏光子を通過させることにより得られる。前記偏光子の偏光角を調整することにより、偏光の方向を調整することができる。前記偏光子は、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ－ラ－等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子が挙げられる。偏光は、実質的に平行光であると好ましい。

照射する偏光の角度を調整することにより、光配向制御層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。

照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１０～１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、さらには２０～５０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

（λ／４位相差層）
λ／４位相差層は棒状液晶化合物を用いることが好ましい。なお、上述のようにλ／４位相差層単独ではなく、λ／２位相差層と組み合わせて複数のλ／４層にすることも好ましいが、λ／２位相差層も同様に棒状液晶化合物を用いることが好ましい。

これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという面で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物であることが好ましい。

棒状液晶化合物の例としては、特開２００２－０３００４２号公報、特開２００４－２０４１９０号公報、特開２００５－２６３７８９号公報、特開２００７－１１９４１５号公報、特開２００７－１８６４３０号公報、及び特開平１１－５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
具体的な化合物としては、下記のものが挙げられる。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ－（ＣＨ_２）_ｍ－Ｏ－Ｐｈ１－ＣＯＯ－Ｐｈ２－ＯＣＯ－Ｐｈ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ－（ＣＨ_２）_ｍ－Ｏ－Ｐｈ１－ＣＯＯ－ＮＰｈ－ＯＣＯ－Ｐｈ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ_２
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ－（ＣＨ_２）_ｍ－Ｏ－Ｐｈ１－ＣＯＯ－Ｐｈ２－ＯＣＨ_３
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ－（ＣＨ_２）_ｍ－Ｏ－Ｐｈ１－ＣＯＯ－Ｐｈ１－Ｐｈ１－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｃ_２Ｈ_５
式中、ｍ、ｎは２～６の整数であり、
Ｐｈ１、Ｐｈ２は１，４－フェニル基（Ｐｈ２は２位がメチル基であっても良い）であり、ＮＰｈは２，６－ナフチル基である。
これらの棒状液晶化合物は、ＢＡＳＦ社製からＬＣ２４２等として市販されており、それらを利用することができる。

これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

位相差層は位相差層用組成物塗料を塗工して設けることができる。位相差層用組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向制御層や液晶偏光子の部分で説明した物を用いることができる。

位相差層用組成物塗料を離型性フィルムの離型面または配向制御層上に塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、位相差層が設けられる。

これらの条件も配向制御層や液晶偏光子の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。

（λ／４位相差層と偏光子との積層）
次に、λ／４位相差層と偏光子との積層に関して、液晶化合物からなるλ／４位相差層を基材フィルムと積層された偏光子面に積層する方法を中心に説明する。
λ／４位相差層として、λ／４層のみを用いる場合、λ／４層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸は３５～５５度が好ましく、より好ましくは４０度～５０度、さらに好ましくは４２～４８度である。ポリビニルアルコールの延伸フィルムの偏光子と組み合わせて用いる場合には、偏光子の消光軸（吸収軸）が長尺偏光子フィルムの長さ方向となることが一般的であるため、長尺の転写用配向フィルム（離型性フィルム）にλ／４層を設ける場合は長尺の転写用配向フィルムの長さ方向に対して上記範囲となるように液晶化合物を配向させることが好ましい。なお、偏光子の消光軸の角度が上記と異なる場合は偏光子の透過軸の角度を加味して上記関係になるよう液晶化合物を配向させる。

λ／４位相差層と偏光子との積層においては、λ／４位相差層と離型性フィルムが積層された位相差層転写用積層体のλ／４位相差層を、基材フィルムが積層された偏光子面に貼り合わせた後、離型性フィルムを剥離する。

貼り付ける方法としては、接着剤、粘着剤など従来知られているものを用いることができる。接着剤としてはポリビニルアルコール系接着剤、アクリルやエポキシなどの紫外線硬化型接着剤、エポキシやイソシアネート（ウレタン）などの熱硬化型接着剤が好ましく用いられる。粘着剤は、アクリルやウレタン系、ゴム系などの粘着剤が挙げられる。また、アクリル基材レスの光学用透明粘着剤シートを用いることも好ましい。

λ／４位相差層とλ／２位相差層を合わせる複合λ／４位相差層の場合、両層でλ／４の位相差となるような角度に配置されることが好ましい。具体的には、λ／２層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸の角度（θ）は５～２０度が好ましく、より好ましくは７度～１７度である。λ／２層の配向軸（遅相軸）とλ／４の配向軸（遅相軸）との角度は、２θ＋４５度±１０度の範囲が好ましく、より好ましくは２θ＋４５度±５度の範囲であり、さらに好ましくは２θ＋４５度±３度の範囲である。

この場合も、ポリビニルアルコールの延伸フィルムの偏光子と組み合わせて用いる場合には、偏光子の消光軸（吸収軸）が長尺偏光子フィルムの長さ方向となることが一般的であるため、長尺の離型性フィルムにλ／２層やλ／４層を設ける場合は長尺の離型性フィルムの長さ方向または長さの垂直方向に対して上記範囲となるように液晶化合物を配向させることが好ましい。なお、偏光子の消光軸の角度が上記と異なる場合は偏光子の透過軸の角度を加味して上記関係になるよう液晶化合物を配向させる。

これらの方法や、位相差層の例としては、特開２００８－１４９５７７号公報、特開２００２－３０３７２２号公報、ＷＯ２００６／１００８３０号公報、特開２０１５－６４４１８号公報等を参考とすることができる。

さらに、斜めから見た場合の着色の変化などを低減するためにλ／４層の上にＣプレート層を設けることも好ましい形態である。Ｃプレート層はλ／４層やλ／２層の特性に合わせ、正または負のＣプレート層が用いられる。

これらの積層方法としては、例えば、λ／４層とλ／２層の組合せであれば
・偏光子上に転写によりλ／２層を設け、さらにその上にλ／４層を転写により設ける
・離型性フィルム上にλ／４層とλ／２層をこの順に設け、これを偏光子上に転写する
方法が挙げられる。

また、Ｃプレートを積層する場合も、偏光子上に設けられたλ／４層の上にＣプレート層を転写する方法や、離型性フィルムにＣプレート層を設け、さらにこの上にλ／４層かλ／２層とλ／４層を設けてこれを転写する方法などの様々な方法が採用できる。

（保護層）
位相差層の傷付きなどを防止するために位相差層上に保護層を設けてもよい。保護層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加えて架橋構造としても良い。また、ハードコートのようなアクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであっても良い。また、保護層を配向フィルム上に設けた後、保護層をラビング処理し、その上に配向層を設けることなく液晶化合物配向層を設けても良い。

（有機ＥＬ画像表示装置）
本発明の反射防止用円偏光板は有機ＥＬ画像表示装置の反射防止用円偏光板として好適に用いられる。
本発明で用いられる有機ＥＬ画像表示装置としては、画像を表示するための発光素子として有機ＥＬが用いられていれば特に制限はない。有機ＥＬ素子としては特に限定されず、従来公知のものが挙げられる。例えば、陽極／有機ＥＬ層／陰極の積層構造が挙げられる。また、有機ＥＬ層としては発光層、電子と正孔の注入層及び輸送層からなる構成が挙げられる。

有機ＥＬ画像表示装置としては、有機発光ダイオードを発光体として用い、その発光強度を制御することでフルカラーの画像を表示するものであっても、白色の有機ＥＬ発光体をバックライト光源として用い、偏光板と液晶層でその透過光量を制御する画像表示装置でもよい。中でも有機発光ダイオードを発光体として用い、その発光強度を制御することでフルカラーの画像を表示するものが好ましい。以下、前者の有機ＥＬ画像表示装置を説明する。

有機ＥＬ画像表示装置は、（ａ）赤、緑、青の各色の別々の有機ＥＬ発光素子を有するもの、（ｂ）有機ＥＬ発光素子を用いて白色発光するが、カラーフィルターで赤、緑、青の各色に色づけして、赤、緑、青の各色発光としたもの、（ｃ）単一色（例えば青）の有機ＥＬ発光素子を有し、他の色（例えば赤、緑）は単一色の有機ＥＬ発光素子からの光を蛍光体などで色変換して発光させるものが挙げられる。（ｂ）としては、ＥＬの発光有機物を混合して白色発光させたものでも良く（ｂ１）、単一色（例えば青）の有機発光素子を有し、他の色（例えば赤、緑）は蛍光体などで変換して白色光にしたもの（ｂ２）が挙げられる。なお、（ｃ）では、さらに色の純度を上げるため、カラーフィルターを用いて中間色をカットするものも含まれる。
これらの中でも、特定の発光スペクトル特性を有するものが好適な有機ＥＬ画像表示装置として挙げられ、この特定の発光スペクトル特性を有する有機ＥＬ画像表示装置がより色付きや虹ムラを低減できるため好ましい。また、（ｂ）又は（ｃ）、特には（ｂ２）のものが高湿、高温下に長時間晒された場合であっても各色の強度低下が少なく、本発明の反射防止用円偏光板を組み合わせる対象として好ましい。

以下具体的に好ましい発光スペクトルに関して説明する。白色にするためには、赤、緑、青の各波長領域で発光があればよいが、各波長領域のピークの幅が狭いほど発色の色域が広がり、ピークの幅が狭くなると発光効率が低下することから、要求される色域と発光効率のバランスを考慮して発光スペクトルの形状が設計される。
本発明者らは、有機ＥＬのスペクトルを正規分布関数の最小二乗法によるカーブフィッティングにより青、緑、赤の波長領域の正規分布ピークに分解し、この分解された青、緑、赤の波長領域の正規分布ピーク形状が最適になるような有機ＥＬと組み合わせることで、色付きや虹ムラを目立たなくできることを明らかにした。

カーブフィッティングの方法としては、有機ＥＬセルからの出射スペクトルデータから青、緑、赤の３つのピークのピークトップ波長（ｎｍ）と標準偏差を読み取り、これらの６つの数値（パラメター）から３つの正規分布関数（ガウス関数）のデータ列ｂ、ｇ、ｒを作成し、マイクロソフト社の表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ）アドインツールとして備わっているソルバー機能を利用してデータ列の和ｂ＋ｇ＋ｒの和と実測の出射スペクトルの差の２乗和が最小になるように正規分布関数の６つのパラメターを調節し、カーブフィッティングを行うことができる。なお、スペクトルデータは３６０～７６０ｎｍの範囲で、等間隔の波長で、４０１点以上（１ｎｍ間隔以下）で読み込むことが好ましい。
以下、このカーブフィッティングにより算出された青色、緑色、赤色の各色の正規分布ピークを青色ピーク、緑色ピーク、赤色ピークとする。

青色ピークのトップ波長（λＢ）の下限は好ましくは４００ｎｍであり、より好ましくは４２０ｎｍであり、さらに好ましくは４４０ｎｍである。青色ピークのトップ波長（λＢ）の上限は好ましくは４９５ｎｍであり、より好ましくは４８５ｎｍであり、さらに好ましくは４８０ｎｍである。

緑色ピークのトップ波長（λＧ）の下限は４９５ｎｍを超えることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以上であり、さらに好ましくは５１０ｎｍ以上である。緑色ピークのトップ波長（λＧ）の上限は好ましくは５８０ｎｍであり、より好ましくは５７０ｎｍであり、さらに好ましくは５６０ｎｍである。

赤色ピークのトップ波長（λＲ）の下限は５８０ｎｍを超えることが好ましく、より好ましくは５９０ｎｍ以上である。
赤色ピークのトップ波長（λＲ）の上限は好ましくは６８０ｎｍであり、より好ましくは６６０ｎｍであり、さらに好ましくは６５０ｎｍである。

各色のピークのトップ波長が上記範囲のものに本発明の円偏光板を用いることで、優れた色再現性を確保することができる。

青色ピークの標準偏差（αＢ）の下限は好ましくは１１ｎｍであり、より好ましくは１２ｎｍであり、さらに好ましくは１３ｎｍであり、特に好ましくは１４ｎｍである。青色ピークの標準偏差（αＢ）の上限は好ましくは３０ｎｍであり、より好ましくは２５ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍである。

緑色ピークの標準偏差（αＧ）の下限は好ましくは１５ｎｍであり、より好ましくは１８ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍである。緑色ピークの標準偏差（αＧ）の上限は好ましくは４５ｎｍであり、より好ましくは３５ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍである。

赤色ピークの標準偏差（αＲ）の下限は好ましくは２０ｎｍであり、より好ましくは２５ｎｍであり、さらに好ましくは３０ｎｍである。赤色ピークの標準偏差（αＲ）の上限は好ましくは６０ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍであり、さらに好ましくは４７ｎｍである。

各色のピークの標準偏差を上記以上にすることで、色斑を抑えることができ、上記以下にすることで高い色再現性を確保することができる。

αＢ／λＢの下限は好ましくは０．０２４であり、より好ましくは０．０２６であり、さらに好ましくは０．０２８であり、特に好ましくは０．０３０である。αＢ／λＢの上限は好ましくは０．０６５であり、より好ましくは０．０５５であり、さらに好ましくは０．０４５である。

αＧ／λＧの下限は好ましくは０．０２７であり、より好ましくは０．０３３であり、さらに好ましくは０．０３６である。αＧ／λＧの上限は好ましくは０．０８３であり、より好ましくは０．０６４であり、さらに好ましくは０．０５５である。

αＲ／λＲの下限は好ましくは０．０３３であり、より好ましくは０．０４２であり、さらに好ましくは０．０５である。αＲ／λＲの上限は好ましくは０．１であり、より好ましくは０．０８３であり、さらに好ましくは０．０７８である。

また、光源と基材フィルムの面内リタデーションも特定範囲にすることが色斑の低減や色再現性のために好ましい。
αＢ／λＢ×Ｒｅの下限は好ましくは５０ｎｍであり、より好ましくは７０ｎｍであり、さらに好ましくは９０ｎｍであり、特に好ましくは１００ｎｍである。αＢ／λＢ×Ｒｅの上限は好ましくは１０００ｎｍであり、より好ましくは５００ｎｍであり、さらに好ましくは３５０ｎｍであり、特に好ましくは３００ｎｍである。

αＧ／λＧ×Ｒｅの下限は好ましくは７０ｎｍであり、より好ましくは８０ｎｍであり、さらに好ましくは１００ｎｍであり、特に好ましくは１２０ｎｍであり、最も好ましくは１５０ｎｍである。αＧ／λＧ×Ｒｅの上限は好ましくは１２００ｎｍであり、より好ましくは６００ｎｍであり、さらに好ましくは４００ｎｍであり、特に好ましくは３５０ｎｍである。

αＲ／λＲ×Ｒｅの下限は好ましくは１００ｎｍであり、より好ましくは１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２００ｎｍであり、特に好ましくは２５０ｎｍである。αＲ／λＲ×Ｒｅの上限は好ましくは２０００ｎｍであり、より好ましくは１０００ｎｍであり、さらに好ましくは７００ｎｍであり、特に好ましくは６００ｎｍである。

αＢ／λＢ、αＧ／λＧ、αＲ／λＲ、αＢ／λＢ×Ｒｅ、αＧ／λＧ×Ｒｅ、αＲ／λＲ×Ｒｅを上記以上にすることで色斑を抑えることができ、上記以下にすることで高い色再現性を確保することができる。

緑色ピークのトップ波長における強度値と青色ピークのトップ波長における強度値との比（Ｇ／Ｂピーク強度比）の下限は好ましくは０．２であり、より好ましくは０．２５であり、さらに好ましくは０．３である。Ｇ／Ｂピーク強度比の上限は好ましくは０．７であり、より好ましくは０．６であり、さらに好ましくは０．５である。

赤色ピークのトップ波長における強度値と青色ピークのトップ波長における強度値との比（Ｒ／Ｂピーク強度比）の下限は好ましくは０．１７であり、より好ましくは０．２である。Ｒ／Ｂピーク強度比の上限は好ましくは０．６であり、より好ましくは０．５であり、さらに好ましくは０．４である。

ピーク強度比を上記範囲にすることで色再現性に優れる画像表示装置にすることができる。なお、各色のピークのトップ波長における強度とは、各色で最も大きな強度の値である。

緑色ピークの面積強度と青色ピークの面積強度との比（Ｇ／Ｂ面積強度比）の下限は好ましくは０．３であり、より好ましくは０．４であり、さらに好ましくは０．４５である。Ｇ／Ｂ面積強度比の上限は好ましくは１．０であり、より好ましくは０．８であり、さらに好ましくは０．７である。

赤色ピークの面積強度と青色ピークの面積強度との比（Ｒ／Ｂ面積強度比）の下限は好ましくは０．３であり、より好ましくは０．４であり、さらに好ましくは０．４５である。Ｒ／Ｂ面積強度比の上限は好ましくは１．０であり、より好ましくは０．８であり、さらに好ましくは０．７である。

面積強度比を上記範囲にすることで色再現性に優れる画像表示装置にすることができる。なお、各色のピークの面積強度とは、各色の３６０～７６０ｎｍの各波長での強度値の総計として求めることができる。

以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。なお、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。

（１）水分透過率
JIS Z 0208に基づき、25℃・90％RHの条件で行った。

（２）基材フィルムの配向軸方向、屈折率
分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いて、基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（ｎｘ，ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（ｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）を用いて測定した。フィルムの幅方向で５点（中央部、両端部、中央部と端部との中間部）測定し、その平均とした。

（３）原反フィルムの厚み（ｄ）
電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて、５点の厚みを測定し、その平均値を求めた。

（４）面内リタデーション（Ｒｅ）
屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積（△Ｎｘｙ×ｄ）より、面内リタデーション（Ｒｅ）を求めた。

（５）Ｎｚ係数
｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で得られる値をＮｚ係数とした。

（６）面配向度（ΔＰ）
（ｎｘ＋ｎｙ）/２－ｎｚで得られる値を面配向度（ΔＰ）とした。

（７）厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△Ｎｘｚ（＝｜ｎｘ－ｎｚ｜）、△Ｎｙｚ（＝｜ｎｙ－ｎｚ｜）にそれぞれフィルム厚さｄを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でｎｘ、ｎｙ、ｎｚとフィルム厚みｄ（ｎｍ）を求め、（△Ｎｘｚ×ｄ）と（△Ｎｙｚ×ｄ）との平均値を算出して厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）を求めた：Ｒｔｈ＝（△Ｎｘｚ×ｄ＋△Ｎｙｚ×ｄ）／２。

（８）防眩性表面の粗さ（ＲＳｍ、Ｒａ、Ｒｚｊｉｓ、θａ、Ｒｋｕ、ＲＳｋ、ＲΔｑ）
防眩性表面の各パラメータは、接触型粗さ計（ミツトヨ社製，ＳＪ-４１０，検出器：１７８－３９６－２，スタイラス：標準スタイラス１２２ＡＣ７３１（２μｍ））を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線：R
フィルタ：GAUSS
λc：0.8mm
λs：2.5μm
測定長さ：5mm
測定速度：0.5mm/s
なお、ＲＳｍ、Ｒａ、Ｒｚｊｉｓ、θａ、Ｒｋｕ、ＲＳｋ、ＲΔｑはＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に準拠して求めた。

（９）波長３８０ｎｍにおける光線透過率
分光光度計（日立製作所製、Ｕ－３５００型）を用い、空気層を標準として各フィルムの波長３００～５００ｎｍ領域の光線透過率を測定し、波長３８０ｎｍにおける光線透過率を求めた。

（１０）反射低減層厚み
反射低減層を設けた基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、この断面の切片を切り出して透過型電子顕微鏡で観察した。

（１１）反射率
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ－３１５０）を用い、波長５５０ｎｍにおける５度反射率を、反射低減層（反射防止層側（又は低反射層側））の表面から測定した。尚、ポリエステルフィルムの反射低減層（反射防止層（又は、低反射層））を設けた側とは反対側の面に、黒マジックを塗った後、黒ビニルテープ（（株）共和ビニルテープ ＨＦ－７３７ 幅５０ｍｍ）を貼って測定した。

（易接着層成分の製造）
（ポリエステル樹脂の重合）
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート１９４．２質量部、ジメチルイソフタレート１８４．５質量部、ジメチル－５－ナトリウムスルホイソフタレート１４．８質量部、ジエチレングリコール２３３．５質量部、エチレングリコール１３６．６質量部、及びテトラ－ｎ－ブチルチタネート０．２質量部を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行った。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ０．７０ｄｌ／ｇであった。ＤＳＣによるガラス転移温度は４０℃であった。

（ポリエステル水分散体の調製）
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂３０質量部、及びエチレングリコールｎ－ブチルエーテル１５質量部を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。

（易接着層で用いるブロックポリイソシアネート系架橋剤の重合）
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）１００質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５５質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル（平均分子量７５０）３０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。

（易接着層用塗工液の調整）
下記の塗剤を混合しＰ１塗布液を作成した。
水 ５０．００質量％
イソプロパノール ３３．００質量％
ポリエステル水分散体 １２．００質量％
ブロックイソシアネート系架橋剤 ０．８０質量％
粒子 １．４０質量％
（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
触媒
（有機スズ系化合物 固形分濃度１４質量％） ０．３０質量％
界面活性剤 ０．５０質量％
（シリコン系、固形分濃度１０質量％）

＜基材フィルム用ポリエステル樹脂の製造＞
（製造例１－ポリエステルＸ）
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。

重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｘ）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。（以後、ＰＥＴ（Ｘ）と略す。）

（製造例２－ポリエステルＹ）
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジノン－４－オン）１０質量部、粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ）（固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇ）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤含有するポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｙ）を得た。（以後、ＰＥＴ（Ｙ）と略す。）

＜基材フィルム１の製造＞
基材フィルム中間層用原料として粒子を含有しないＰＥＴ（Ｘ）樹脂ペレット９０質量部と紫外線吸収剤を含有したＰＥＴ（Ｙ）樹脂ペレット１０質量部を１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（中間層ＩＩ層用）に供給し、また、ＰＥＴ（Ｘ）を常法により乾燥して押出機１（外層Ｉ層及び外層ＩＩＩ用）にそれぞれ供給し、２８５℃で溶解した。この２種のポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押し出し機の吐出量を調整した。

次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に易接着用塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ^２になるように塗布した後、乾燥機に導き８０℃で２０秒間乾燥した。

この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４倍に延伸した。
次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、１０秒間で処理し、さらに３．０％の緩和処理を行った。その後、１３０℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断し、０．５ｋｇ／ｍｍ^２の張力で耳部を切り取った後に巻き取り、フィルム厚み８０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルムを得た。得られたフィルムの中央部を幅１５０ｃｍにスリットし、長さ約３００ｍのフィルムロールとした。得られたフィルムの遅相軸方向はフィルムの長手方向に対して８９．５～９０．５度で平均は９０度であった（長手方向に対して右回りを＋とする）。

＜基材フィルム２＞
ラインスピードを変更して未延伸フィルムの厚みを変えた以外は基材フィルム１と同様にして製膜し、フィルム厚みの異なるフィルムを得た（基材フィルム２）。遅相軸の方向は基材フィルム１と同じであった。

（基材フィルム３）
基材フィルム１と同様の方法により作製された未延伸フィルム（易接着層塗工済み）を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に３．５倍延伸した後、基材フィルム１と同様の方法により温度１３５℃の熱風ゾーンに導き幅方向に３．５倍延伸し、後は基材フィルム１と同様にして基材フィルム３を得た。但し、フィルムの厚みが８０μｍとなるよう押出機の塗出量は調整した。得られたフィルムの遅相軸方向はフィルムの長手方向に対して８７～９３度で平均は９０度であった。

（基材フィルム４）
ラインスピードを変更して未延伸フィルムの厚みを変えた以外は基材フィルム３と同様にして製膜し、フィルム厚みの異なるフィルムを得た（基材フィルム４）。遅相軸の方向は基材フィルム３と同じであった。

（基材フィルム５）
基材フィルム４を得た製膜直後のロールから、幅方向の最端部をスリットして基材フィルム５を得た。得られたフィルムの遅相軸方向はフィルムの幅方向に対して２６～４０度で平均は３２度であった。

（基材フィルム６）
シンジオタクチックポリスチレン（重量平均分子量３００，０００）に対して滑剤として平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン微粒子を２．０重量％添加したポリマーチップと滑剤を添加していないポリマーチップを重量比で１対９の割合で混合した後、乾燥したものを押し出し機１に、シンジオタクチックポリスチレンのみを乾燥したものを押し出し機２に供給し、それぞれを２９５℃で溶融し、基材フィルム１と同様にして未延伸シートを得た。

未延伸シートの両面に易接着用塗布液を塗布・乾燥後、フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２０℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．５倍に延伸した。
次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２６５℃、１０秒間で処理し、さらに２３０℃で３．０％の緩和処理を行った。

（基材フィルム７）
ＰＭＭＡ樹脂（旭化成ケミカルズ（株）製デルペット８０Ｎ）を９０℃の真空乾燥機で乾燥後、１軸混練押出し機に投入し、２３５℃で混練し押出した。溶融樹脂をステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、口金よりシート状にして押し出した。押し出された樹脂は、表面温度１０３℃のキャスティングドラムに巻きつけ、背面からは９９℃のタッチロールを接触させた後、キャスディングドラムから引きはがし、冷却ドラムで冷却して厚さ５０μｍのアクリルフィルムを作った。

（基材フィルム８）
厚さ６０μｍのＴＡＣフィルムを用いた。

各基材フィルムの特性を表１に示す。

（偏光子の作成）
熱可塑性樹脂基材としてポリエステルＸを用いて厚さ１００μｍの未延伸フィルムを作成し、この未延伸フィルムの片面に、重合度２４００、ケン化度９９．９モル％のポリビニルアルコールの水溶液を塗布および乾燥して、ＰＶＡ層を形成した。
得られた積層体を、１２０℃で周速の異なるロール間で長手方向に２倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を４％のホウ酸水溶液で３０秒間の処理を行った後、ヨウ素（０．２％）とヨウ化カリウム（１％）の混合水溶液で６０秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム（３％）とホウ酸（３％）の混合水溶液で３０秒間処理した。
さらに、この積層体を７２℃のホウ酸（４％）とヨウ化カリウム（５％）混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、４％ヨウ化カリウム水溶液で洗浄、エアナイフで水溶液を除去した後に８０℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅８０ｃｍ、長さ１０００ｍのポリエステル基材に積層された偏光子を得た。合計の延伸倍率は６．５倍で、偏光子の厚みは５μｍであった。なお、厚みはポリエステル基材に積層された偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。

（λ／４位相差層転写フィルムの作成）
幅１５０ｃｍ、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルム（東洋紡（株）製、コスモシャイン（Ｒ）Ａ４１００）の非易接着コート面に下記組成のラビング処理配向制御層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃のオーブンに導いて乾燥させ、厚み２００ｎｍの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理し、ラビング処理配向制御層を積層した転写用配向フィルムを得た。ラビングはフィルムの流れ方向に平行になるように行った。
＜ラビング処理配向制御層用塗料＞
完全ケン化型ポリビニルアルコール（重量平均分子量８００） ２質量部
イオン交換水 １００質量部
界面活性剤 ０．５質量部

引き続き、ラビング処理を施した面に、下記組成の位相差層（液晶化合物配向層）形成用溶液をバーコーターを用いて塗布し、１１０℃のオーブンに導いて乾燥後、紫外線を照射して硬化させ、λ／４位相差層転写フィルムを作成した。
＜位相差層形成用溶液＞
棒状液晶化合物（ＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２） ７５質量部
下記化合物 ２０質量部

トリメチロールプロパントリアクリレート ５質量部
イルガキュア３７９ ３質量部
界面活性剤 ０．１質量部
メチルエチルケトン ２５０質量部

λ／４位相差層転写フィルムの位相差層を市販の光学用粘着剤シートを用いてガラス版に転写し、このλ／４位相差層を積層したガラス板を２枚重ねてパラレルニコルの偏光板の間に置いて背面から光を照射して観察したところ、ほぼ消光状態であり、λ／４位相差層であることを確認した。

低屈折率層用組成物及び高屈折率層用組成物、低屈折率性防眩層用組成物として、以下を準備した。
（低屈折率層用組成物）
ペルトロン（商標） Ａ－２５０８ＬＲ（ペルノックス株式会社製、中空シリカ含有タイプ、屈折率１．３３（アッベ））

（高屈折率層用組成物）
ペルトロン（商標） Ａ－２３００（ペルノックス株式会社製、屈折率１．６５（アッベ））

（低屈折率性防眩層用組成物）
架橋アクリル粒子（平均粒径１．５μｍ） ３．５ｇ
（MX-１５０ 綜研化学（株）製）
架橋アクリル粒子（平均粒径３．０μｍ） １．５ｇ
（MX-３００ 綜研化学（株）製）
低屈折率硬化性樹脂（硬化後の屈折率１．３５） ９００ｇ
（ペルトロン(R) Ａ－２５０２ＬＲ ペルノックス（株）製）
なお、これらの組成物に対して、光重合開始剤としてイルガキュア１８４を３質量％（対固形分）添加した。

（実施例１）
基材フィルム１の片面に高屈折率層用組成物を塗布した。その後、オーブン中で８０℃１分間乾燥させて溶剤を蒸発させ、紫外線を照射して高屈折率層（厚み１３０ｎｍ）を形成した。さらに高屈折率層の上に低屈折率層用組成物を塗布し、上記と同様にして低屈折率層（厚み８６ｎｍ）を形成し、反射防止層を積層した基材フィルム１を得た。

引き続き、基材フィルム１の反射防止層を積層した側とは反対側の面に紫外線硬化型の接着剤を塗布し、上記ポリエステル基材に積層された偏光子の偏光子面と重ね合わせた。重ね合わせは、基材フィルム１、ポリエステル基材に積層された偏光子を枚葉に切断し、基材フィルム１の長さ方向と偏光子の長さ方向が４５度になるようにした（基材フィルム１の遅相軸と偏光子の消光軸が４５度）。引き続き、ポリエステル基材側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、偏光子のポリエステル基材を剥離して反射防止層／基材フィルム１／偏光子の積層体（８０ｃｍ×１３０ｃｍ）を得た。

さらにこの積層体の偏光子面に紫外線硬化型の接着剤を塗布し、枚葉に切り出したλ／４位相差層転写フィルムの位相差層面を貼り合わせた後、λ／４位相差層転写フィルムのポリエステルフィルム（Ａ４１００）を剥がし、端部をカットして７０ｃｍ×１２２ｃｍの円偏光板を得た。なおλ／４位相差層転写フィルムは、ラビング方向が長辺に対して４５度になるように、大きさ８０ｃｍ×１３０ｃｍに切り出したものを用いた。なお、偏光子の消光軸とλ／４位相差層の配向方向（ラビング方向）は４５度である。

（実施例２）
実施例１で用いた反射防止層を積層した基材フィルム１の反射防止層を積層した側とは反対側の面に紫外線硬化型の接着剤を塗布しλ／４位相差層転写フィルムの位相差層面を貼り合わせた後、λ／４位相差層転写フィルムのポリエステルフィルム（Ａ４１００）を剥がし、反射防止層／基材フィルム１／λ／４位相差層の積層体を得た。

引き続き、実施例１と同様にして、偏光子、λ／４位相差層を積層して円偏光板を得た。但し、基材フィルム１と偏光子のロールツーロールでの貼り合わせを想定して、基材フィルム１の長さ方向と偏光子の長さ方向は平行（基材フィルム１の遅相軸と偏光子の消光軸が９０度）となるようにした。なお、偏光子の両側に積層されるいずれのλ／４位相差層も、偏光子の消光軸とλ／４位相差層の配向方向（ラビング方向）とのなす角度は４５度であった。

（実施例３）
基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例４）
基材フィルム３を用いた以外は実施例１と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例５）
基材フィルム５を用いたこと、基材フィルム５と偏光子の間にλ／４位相差層を設けなかったこと以外は実施例２と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例６）
基材フィルム６を用いた以外は実施例１と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例７）
基材フィルム４を用いた以外は実施例１と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例８）
基材フィルム７を用いた以外は実施例２と同様に行い、円偏光板を得た。

（実施例９）
基材フィルム１の片面に低屈折率性防眩層用組成物を塗布した。その後、オーブン中で８０℃１分間乾燥させて溶剤を蒸発させ、紫外線を照射して、厚さ４μｍの低反射性防眩層を積層した基材フィルム１を得た。あとは実施例１と同様にして円偏光板を得た。
なお、低反射性防眩層の表面の粗さは、以下のとおりである。
ＲＳｍ ２６０μｍ
Ｒａ ０．１０９μｍ
Ｒｚｊｉｓ ０．０６４μｍ
θａ ０．２５度
Ｒｋｕ ２．９
ＲＳｋ ０．２７
ＲΔｑ ０．００３２

（比較例１）
基材フィルム８を用いた以外は実施例２と同様に行い、円偏光板を得た。

（比較例２）
反射低減層を設けなかった以外は実施例７と同様に行い、円偏光板を得た。

（有機EL表示装置の評価）
有機EL表示装置の円偏光板を取り除き、代わりに実施例、比較例で得られた円偏光板を乗せ、画像の状態を観察した。

有機ＥＬ表示装置は、下記のものを用いた。
Ａ：エルジーエレクトロニクス社製 ＯＬＥＤ ５５Ｂ８ＰＪＡ 青色有機ＥＬ発光体＋蛍光体タイプ
Ｂ：アップル社製 ｉｐｈｏｎｅＸ 赤、緑、青各色の発光素子タイプ

（カーブフィッティングの方法）
有機ＥＬ光源の出射スペクトル（有機ＥＬセルからの出射スペクトル）をＵＰＲｔｅｋ製 ＭＫ３５０で測定し、得られたデータから青、緑、赤の３つのピークのピークトップ波長（ｎｍ）と標準偏差を読み取り、これらの６つの数値（パラメター）から３つの正規分布関数（ガウス関数）のデータ列ｂ、ｇ、ｒを作成する。次に３つのデータ列の和ｂ＋ｇ＋ｒを計算し、この和スペクトル（計算された初期スペクトル）と実測の出射スペクトルの差の２乗和が最小になるように正規分布関数の６つのパラメーターを調節し、カーブフィッティングを行う。この時の数値の収束にはマイクロソフト社の表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ）に測定したスペクトルデータを読み込み、ソルバー機能を利用した。スペクトルデータは３６０～７６０ｎｍの範囲を等間隔の波長で、４０１点のデータを読み込んだ。

有機ＥＬ表示装置Ａの円偏光板を取り除いた状態での発光スペクトルは図１、有機ＥＬ表示装置Ｂの円偏光板を取り除いた状態での発光スペクトルは図２の通りである。

また、有機ＥＬ表示装置Ａの発光スペクトルに対してカーブフィッティングを行った結果のグラフを図３に示す。図３において、点線はカーブフィッティング前の青色、緑色、赤色のピークであり、実線はカーブフィッティング後の青色、緑色、赤色のピークである。

また、有機ＥＬ表示装置Ｂの発光スペクトルに対してカーブフィッティングを行った結果（カーブフィッティング後）のグラフを図４に示す。

さらに、有機ＥＬ表示装置ＡおよびＢの発光スペクトルのカーブフィッティングに関するデータ、パラメータを表２に示す。

得られた表示装置の画像を下記で評価した。結果を表３に示す。

（虹むら）
得られた表示装置を一面白色表示にし、その虹むらの程度を斜め方向から目視で観察した。有機ＥＬ表示装置ＡおよびＢそれぞれで評価を行った。
◎：斜めから見ても虹むらは観察されなかった。
○：角度を変えるとわずかに虹むらによる揺らぎが観察された。
△：弱い虹むらが観察された。
×：虹むらが観察された。

（色再現性）
得られた表示装置に風景写真を表示し、正面から斜め方向に角度を変えて、色調を目視で観察した。評価は円偏光板を取り替える前の状態のもの（有機ＥＬ表示装置ＡおよびＢから円偏光板を取り除いた状態のもの）と比較した。有機ＥＬ表示装置ＡおよびＢそれぞれで評価を行った。
◎：反射光が抑制され鮮やかな画像となり、色調の変化は感じられなかった。
○：反射光が抑制され鮮やかな画像となったが、ごく一部の方向でわずかに色調が変化したように感じられた。
△：反射光が抑制され鮮やかな画像となったが、ごく一部分の方向で色調が変化した。
×：反射光が十分抑制されなかったか、または、一部の部分で色調が変化した。

（ブラックアウト）
得られた表示装置に風景画像を表示し、偏光サングラスをかけて観察した。偏光子と偏光サングラスはクロスニコルになるようにし、首を傾けて明るさの変化、色調の変化を観察した。なお、有機ＥＬ表示装置Ａのみで評価を行った。
◎：首を傾けても、明るさの変化、色調の変化はなかった。
○：首を傾けると明るさの低下があった。
△：首を傾けると色調の変化があった。
×：首をまっすぐにした状態でブラックアウトした。

（高湿度下での評価）
有機ＥＬ表示装置Ａから有機ＥＬパネルを取り出し、乗せていた円偏光板を光学用透明粘着シートを用いて有機ＥＬパネルと貼り合わせた。

（高湿度保存下でのパネル変形）
得られたパネルを４０℃９５％ＲＨの環境下に２４時間放置し、パネルの変形状態を観察した。
◎：パネルの変形は認められなかった。
○：わずかにパネルの反りが認められた。
△：パネルの反りが認められたが問題のない範囲であった。
×：筐体に収まらないと思われるパネルの反りが認められた。

（高湿度保存下での反射防止性能）
さらに、暗所の４０℃９５％ＲＨの環境下で１ヶ月間放置したパネルを用いて表示装置を組み立て、明るい室内で風景画像を表示して、反射防止機能の低下によるコントラスト低下の状態を観察した。
◎：コントラストの低下は認められなかった。
○：周辺部にわずかなコントラスト低下が認められた。
△：周辺部にコントラスト低下が認められた。
×：全体的にコントラスト低下が認められた。

本発明により、画像表示装置の外光反射を防止するための優れた反射防止用円偏光板を提供し、それによって高湿度下での偏光度低下による反射防止機能の低下の極めて少ない、また、画像表示パネルの変形の小さい優れた有機ＥＬ画像表示装置を提供することができる。

Claims (3)

1. 反射防止用円偏光板を有する有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置であって、
   前記円偏光板は、反射低減層、光透過性基材フィルム、偏光子、及びλ/４位相差層がこの順に積層されたものであり、
   前記光透過性基材フィルムは、水分透過率が２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下及び面内レタデーション（Ｒｅ）が３０００～３００００ｎｍのポリエステルフィルムであり、
   前記有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置は、（ｂ）白色発光の有機ＥＬ発光素子を有し、前記有機ＥＬ発光素子からの光をカラーフィルターで色づけして赤、緑、及び青を発光させるものであり、
   前記有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置から出光される光のスペクトルを青色、緑色、及び赤色の各色領域にピークトップを持つ正規分布ピークに分解した場合に、下記（１）～（９）及び（１２）～（１４）の特徴を満足するスペクトルである、有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置。
   （１）４００ｎｍ≦λＢ≦４９５ｎｍ
   （２）４９５ｎｍ＜λＧ≦５８０ｎｍ
   （３）５８０ｎｍ＜λＲ≦６８０ｎｍ
   （４）１４ｎｍ≦αＢ≦２０ｎｍ
   （５）２０ｎｍ≦αＧ≦３０ｎｍ
   （６）３０ｎｍ≦αＲ≦４７ｎｍ
   （７）０．０３≦αＢ／λＢ≦０．０４５
   （８）０．０３６≦αＧ／λＧ≦０．０５５
   （９）０．０５≦αＲ／λＲ≦０．０７８
   （１２）１８７ｎｍ≦αＢ／λＢ×Ｒｅ≦３００ｎｍ
   （１３）２２１ｎｍ≦αＧ／λＧ×Ｒｅ≦３５０ｎｍ
   （１４）３５３ｎｍ≦αＲ／λＲ×Ｒｅ≦６００ｎｍ
   上記（１）～（９）及び（１２）～（１４）において、
   λＢは青色ピークのピークトップ波長であり、
   λＧは緑色ピークのピークトップ波長であり、
   λＲは赤色ピークのピークトップ波長であり、
   αＢは青色ピークの標準偏差であり、
   αＧは緑色ピークの標準偏差であり、
   αＲは赤色ピークの標準偏差である。
2. 下記（１０）及び（１１）の特徴を満足する、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置。
   （１０）緑色ピークのトップ波長における強度値と青色ピークのトップ波長における強度値との比（Ｇ／Ｂピーク強度比）が０．２以上、０．７以下
   （１１）赤色ピークのトップ波長における強度値と青色ピークのトップ波長における強度値との比（Ｒ／Ｂピーク強度比）が０．１７以上、０．６以下
3. 前記光透過性基材フィルムの面内レタデーションと厚さ方向レタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が０．２００以上、１．２以下である、請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置。

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