TW202243861A - 聚酯薄膜及使用其之影像顯示裝置 - Google Patents

聚酯薄膜及使用其之影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

提供一種聚酯薄膜，其具有高的面內遲滯，並且厚度均勻性優異，生產性、作業性及平面性良好。 揭示一種聚酯薄膜，其面內遲滯為3000nm以上30000nm以下、面配向度為0.128以上0.155以下，製膜流動方向之厚度不均為8%以下(此外，厚度不均為以(最大厚度-最小厚度)/平均厚度×100(%)所求出的值)。

Description

聚酯薄膜及使用其之影像顯示裝置
本發明係關於聚酯薄膜(例如光學用的聚酯薄膜)。本發明係關於代表性地適用於偏光鏡保護膜、觸控面板等之基材薄膜(例如透明電極基材薄膜)、飛散防止薄膜、畫面表面保護膜等影像顯示裝置之各構件的聚酯薄膜。
聚酯薄膜係透明性、機械強度、對藥品等的安定性優異，可作為光學用的薄膜使用。此等光學用的聚酯薄膜通常為二軸延伸薄膜，由於具有雙折射性，已知使用於偏光通過的部位時，產生虹狀的色斑(虹斑)。 另一方面，已知藉由在液晶顯示裝置之表面上設置高遲滯的聚酯薄膜而消除戴上偏光太陽眼鏡觀察影像時的畫面變黑(blackout)或虹斑之技術(例如專利文獻1)、藉由作為偏光鏡保護膜使用而消除虹斑之技術(例如專利文獻2)、作為觸控面板基材或飛散防止薄膜而組合使用之技術(例如專利文獻3)。 為了得到高遲滯的薄膜而僅朝一方向進行延伸時，由於與延伸方向正交的方向之強伸度變低，而在成膜中或所得之薄膜的加工中容易發生斷裂，有生產性、作業性降低之情況。又，亦可最初朝與主延伸方向正交的方向以低倍率進行延伸後，朝主延伸方向進行延伸，藉此提高與主延伸方向正交的方向之強伸度、邊提高生產速度邊確保必要的遲滯，但亦朝與主延伸方向正交的方向進行延伸時，有發生厚度不均而平面性變差之情況。 已知朝長度方向(MD)以2.0倍以下進行延伸，較佳為以1.3倍以下進行延伸後，朝寬度方向(TD)延伸4.15倍以上，藉此使長度方向的拉伸強度相對於寬度方向的拉伸強度之比成為0.25～0.6，而提升MD方向的拉伸強度、彈性模數之技術(例如專利文獻4)。然而，該技術仍然有厚度的均勻性及平面性差之問題點。 再者，有提案將朝長度方向(MD)以1.0～3.4倍進行延伸後，朝寬度方向(TD)延伸2.5～5.0倍的薄膜，以MD方向成為折疊方向而作為折疊型影像顯示裝置之薄膜使用(例如專利文獻5及6)。然而，即使於該些技術中，厚度的均勻性及平面性也尚有改良之餘地。 MD方向的厚度不均大時，不僅是成膜時的斷裂，而且在切割時亦容易斷裂，尤其在切刀已磨耗時及高速時容易發生斷裂，有生產性及作業性變差之傾向。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：國際公開第2011/058774號 專利文獻2：國際公開第2011/162198號 專利文獻3：國際公開第2014/123209號 專利文獻4：國際公開第2017/091031號 專利文獻5：國際公開第2018/159285號 專利文獻6：國際公開第2020/162119號
[發明欲解決之課題]
本發明之一目的在於提供一種聚酯薄膜，其具有高的面內遲滯(in-plane retardation)，並且厚度均勻性優異，生產性、作業性及平面性良好。又，本發明之再一目的在於提供一種聚酯薄膜，其在使用作為影像顯示裝置的各用途之薄膜時，不論影像顯示裝置之種類或光源之種類，而皆具有虹斑不易顯眼之良好的視覺辨認性。 [用以解決課題之手段]
本發明者為了達成該些目的而進行專心致力的檢討，結果終於完成本發明。 本發明包含以下之態樣。 項1： 一種聚酯薄膜，其面內遲滯為3000nm以上30000nm以下， 面配向度為0.128以上0.155以下， 製膜流動方向之厚度不均為8%以下(此外，厚度不均為以(最大厚度-最小厚度)/平均厚度×100(%)所求出的值)。
項2： 如項1記載之聚酯薄膜，其中將製膜流動方向之厚度測定數據進行傅立葉轉換，將頻率置換成薄膜的長度之周期時，下述A與下述B之比率A/B為5以下； A：周期為10cm以上，振幅值的上位5點之振幅的平均值； B：周期為10cm以下，振幅值的上位5點之振幅的平均值。
項3： 如項1或2記載之聚酯薄膜，其中將製膜流動方向之厚度測定數據進行傅立葉轉換，將頻率置換成薄膜的長度之周期時，下述Amax與B之比率Amax/B為7以下； Amax：周期為10cm以上，振幅的最大值。
項4： 如項1至3中任一項記載之聚酯薄膜，其NZ係數為1.65以上3以下。
項5： 如項1至4中任一項記載之聚酯薄膜，其厚度為25μm以上150μm以下。
項6： 如項1至5中任一項記載之聚酯薄膜，其製膜流動方向之斷裂伸度為4%以上。
項7： 如項1至6中任一項記載之聚酯薄膜，其製膜流動方向之斷裂強度為50MPa以上。
項8： 一種偏光鏡保護膜，其包含如項1至7中任一項記載之聚酯薄膜。
項9： 一種偏光板，其積層有如項8記載之偏光鏡保護膜與偏光鏡。
項10： 一種影像顯示裝置，其在影像顯示單元的視覺辨認側設置有如項9記載之偏光板。
項11： 一種透明電極基材薄膜，其包含如項1至7中任一項記載之聚酯薄膜。
項12： 一種飛散防止薄膜，其包含如項1至7中任一項記載之聚酯薄膜。
項13： 一種畫面表面保護膜，其包含如項1至7中任一項記載之聚酯薄膜。
項14： 一種影像顯示裝置，其包含如項11記載之透明電極基材薄膜、如項12記載之飛散防止薄膜及如項13記載之畫面表面保護膜的任一者。
項15： 如項14記載之影像顯示裝置，其為可撓性影像顯示裝置。 [發明之效果]
藉由本發明，可得到一種聚酯薄膜，其具有高的面內遲滯，並且厚度均勻性、生產性、作業性及平面性優異。再者，本發明之聚酯薄膜由於可抑制虹斑，而可適用於偏光鏡保護膜、觸控面板等之透明電極基材薄膜、飛散防止薄膜、影像顯示裝置的畫面表面保護膜等，用於可撓性影像顯示裝置時，具有優異的彎折耐久性。
[用以實施發明的形態]
作為本發明之聚酯薄膜的合適例，在能增大面內遲滯之點、透濕性及吸濕性低之點上，可舉出聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丙二酯(PTT)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等，其中較佳為PET或PEN。此等聚酯亦可共聚合主構成成分以外的羧酸成分及/或二醇成分，但將羧酸成分及二醇成分之合計量當作100莫耳%時，主構成成分以外的羧酸成分及/或二醇成分之合計量較佳為10莫耳%以下，進一步較佳為5莫耳%以下，特佳為2莫耳%以下。
構成本發明之聚酯薄膜的聚酯樹脂之固有黏度(IV)較佳為0.45dL/g以上1.5dL/g以下。 於PET之情況，IV較佳為0.5dL/g以上1.5dL/g以下。IV之下限更佳為0.53dL/g，進一步較佳為0.55dL/g。IV之上限更佳為1.2dL/g，進一步較佳為1dL/g，特佳為0.8dL/g。 於PEN之情況，IV之下限較佳為0.45dL/g，更佳為0.48dL/g，進一步較佳為0.5dL/g，特佳為0.53dL/g。IV之上限更佳為1dL/g，更佳為0.8dL/g，進一步較佳為0.75dL/g，特佳為0.7dl/g。 藉由設為上述範圍，而成為耐衝擊性等機械強度更優異的薄膜，容易更穩定地進行製膜，且不對機器施加大的負荷，可高效率地製造厚度不均少的薄膜。
本發明中，聚酯薄膜的面內遲滯(Re)之下限較佳為3000nm，更佳為4000nm，進一步較佳為4300nm，特佳為4500nm，最佳為5000nm。藉由成為上述下限以上，可抑制虹斑。 Re之上限較佳為30000nm，更佳為15000nm，進一步較佳為12000nm，特佳為10000nm，最佳為9500nm。藉由成為上述上限以下，不會使薄膜超出需要地厚，變得容易對應於影像顯示裝置等之薄型化。 又，為了擴大從斜向觀看時虹斑被抑制的角度，Re較佳為5500nm以上，更佳為6000nm以上，進一步較佳為6000nm以上，特佳為6500nm以上。在飛散防止薄膜、觸控面板等之基材薄膜(例如透明電極基材薄膜)、畫面表面保護膜、可折疊用薄膜(例如PET薄膜)等中，即使視角略窄也以薄的薄膜為較佳時，Re更佳為7000nm以下，進一步較佳為6500nm以下，特佳為6000nm以下。
本發明之聚酯薄膜係面配向度(ΔP)之下限較佳為0.128，更佳為0.129，進一步較佳為0.13，特佳為超過0.13。面配向度之上限較佳為0.155，更佳為0.152，進一步較佳為0.15。藉由設為上述範圍，可抑制虹斑，並且不易發生斷裂等，進一步提高製膜穩定性。 於作為偏光鏡保護膜使用時，欲更有效果地控制自斜向的虹斑之情況等中，面配向度之上限更佳為0.145，進一步較佳為0.14，特佳為0.138，最佳為0.136。 於用於可撓性影像顯示裝置等，欲賦予優異的耐彎曲性之情況等中，面配向度(ΔP)之下限更佳為0.135，進一步較佳為0.138，特佳為0.14。 面配向度係將慢軸方向的折射率當作ny，將快軸(與慢軸方向正交的方向之折射率)當作nx，將厚度方向的折射率當作nz時，以(nx+ny)/2-nz所求出的值。
本發明之聚酯薄膜的NZ係數之下限較佳為1.65，更佳為1.68，進一步較佳為1.7，特佳為超過1.7。 NZ係數之上限較佳為3，更佳為2.7，進一步較佳為2.5，特佳為2.3。 藉由設為上述範圍，可抑制虹斑，並且不易發生斷裂等，進一步提高製膜穩定性 作為偏光鏡保護膜使用時，欲更有效果地控制自斜向的虹斑之情況等中，NZ係數之上限更佳為1.9，進一步較佳為1.85，特佳為1.8。 於用於可撓性影像顯示裝置等，欲賦予優異的耐彎曲性之情況等中，NZ係數之下限更佳為1.8，進一步較佳為1.85，特佳為1.9。 NZ係數為以NZ=|ny-nz|/|ny-nx|所求出的值。
藉由將面配向度及NZ係數設為上述範圍，亦可確保與硬塗層、抗反射層、防眩層等之功能性層的密合性或與偏光鏡等貼合時的接著性。
本發明之聚酯薄膜的厚度之下限較佳為25μm，進一步依序較佳為30μm、40μm、45μm、50μm、55μm。 厚度之上限較佳為150μm，進一步依序較佳為130μm、100μm、90μm、85μm。此外，本說明書中，所謂依序較佳，係以範圍變得更窄的數值者為較佳。 若厚度為上述上限以下，則在加熱未延伸薄膜時，由於未延伸薄膜之厚度亦變薄，而變得容易以短時間在薄膜之厚度方向上均勻地提高溫度，變得容易抑制厚度不均。又，變得容易對應於影像顯示裝置的薄型化。 此外，若為偏光鏡保護膜，則厚度較佳為40～85μm，若為飛散防止薄膜、觸控面板等之基材薄膜(例如透明電極基材薄膜)或可撓性影像顯示裝置之畫面表面保護膜，則厚度較佳為25～70μm，若為非可撓性的影像顯示裝置之畫面表面保護膜，則厚度較佳為60～150μm。 厚度例如可使用接觸式連續厚度計，以指定的速度(例如，在MD方向上1.5m/分鐘的速度)、指定的間隔(例如，0.1秒鐘間隔)，連續地測定指定尺寸(例如，寬度約50mm、長度約6m)的薄膜之厚度，從所得之數據中任意選擇指定數目(例如，連續地2048點)的數據，藉由彼等之平均而算出。
本發明之聚酯薄膜的製膜流動方向(以下，有時亦稱為長度方向、MD方向，延伸的情況有時亦稱為與主延伸方向正交的方向)之厚度不均之上限較佳為8%，更佳為7%，進一步較佳為6%，特佳為5%，最佳為4%。 MD方向之厚度不均係以低者為較佳，但從現實面來看，下限較佳為0.1%，進一步較佳為0.5%。 此外，厚度不均係於以下之厚度測定中，以(厚度的最大值-最小值)/厚度的平均值×100(%)所求出的值。
本發明中，將在MD方向上測定薄膜之厚度的數據進行傅立葉轉換(例如高速傅立葉轉換)，以薄膜之MD方向的長度周期來解析所得之結果(具體而言，將頻率置換成長度之周期)，將A當作在周期10cm以上且振幅之大小的上位5點之平均，將B當作在周期小於10cm且振幅之大小的上位5點之平均時，A/B之下限較佳為0.5，更佳為1，進一步較佳為1.3，特佳為1.5，最佳為1.8。 A/B之上限較佳為5，更佳為4.5，進一步較佳為4，特佳為3.5。
上述中，將在周期10cm以上且振幅的最大值當作Amax時，Amax/B係下限較佳為0.7，更佳為1.4，進一步較佳為1.8，特佳為2，最佳為2.2。Amax/B之上限為7，更佳為6，進一步較佳為5，特佳為4.5，最佳為4。 藉由將A/B及/或Amax/B設為上述範圍，可保持更高的生產性，並且穩定生產，即使在製膜時及後加工也不易發生斷裂，即使為使用具有陡峭波峰的光源之液晶顯示裝置，也可成為色斑不易顯眼的薄膜。
此外，A、Amax及B較佳為藉由以下之具體方法算出。 ・對於薄膜，以1.5m/分鐘之速度連續地以0.1秒鐘間隔讀取中央部之厚度。 ・連續地使用2048點(長度5.12m部分)所得之數據，進行利用高速傅立葉轉換之頻率分析。 ・將所得之解析數據的頻率換算成長度周期，且求出振幅。 ・於長度周期為10cm以上者之中，從振幅的最大者依序選擇5點，將此等之平均值當作A，將此5點之中振幅最大的值當作Amax。 ・於長度周期小於10cm者之中，從振幅的最大者依序選擇5點，將此等之平均值當作B。此外，被稱為鬼影(ghost)的頻率解析數據之後半部的數據係忽視，僅使用前半部的解析數據。
根據本發明者們之檢討，不進行MD方向之延伸的情況，MD方向之厚度不均，大多係因使熔融樹脂靜電密合於冷卻輥時所用的電極之晃動或裝置之振動而發生，或者因澆鑄時的冷卻輥之真圓度或擺動之影響而發生，或者因模的唇間隔之自動調整而發生。例如起因於電極之晃動或裝置之振動的厚度不均，大多係周期為數cm以下。然而，朝MD方向輕微延伸之情況中，即使調整此等也無法充分地抑制厚度不均，周期為數10cm至數m之厚度不均變得顯著，發生起因於厚度不均的問題。
根據本發明者們之進一步的檢討，發現朝MD方向輕微延伸之情況，必須將延伸時的預熱溫度及延伸溫度管理在恰當的範圍，脫離恰當的溫度時，引起發生延伸不均、延伸的位置不固定而延伸不穩定、發生薄膜的鬆弛、薄膜無法順利從輥剝離等之現象，數10cm至數m之厚度不均變得顯著，且平面性亦變差。
以下說明用於得到本發明之聚酯薄膜的較佳製膜條件。
首先，將聚酯樹脂(代表性地為PET)乾燥後，投入擠壓機，在260～300℃下熔融，從模在冷卻輥上擠出成薄片狀，得到未延伸薄膜。此時，較佳為以樹脂迅速地密合於冷卻輥的方式而對樹脂賦予電荷、噴吹空氣、或在腔室中進行減壓。此時，較佳為進行：調整線狀電極或帶狀電極的張力、固定方法而以減少電極的振動且空氣的氣流或減壓穩定的方式進行控制；使此澆鑄設備不易受到馬達等之機械的振動之影響等。
接著，將未延伸薄膜預熱並升溫，最後在MD方向上施加張力而進行延伸。此時，將未延伸薄膜以多階段進行加熱，將在進入施加張力而進行延伸的延伸步驟之前的加熱步驟中之薄膜表面的最高到達溫度稱為預熱溫度，將延伸中之薄膜表面的最高到達溫度稱為延伸溫度，分開說明。 若以具體例來說明，則在MD延伸中，薄膜係藉由複數的低速輥而升溫，並以與其後的高速輥之周速差來進行延伸。此時，作為使薄膜表面最終成為延伸溫度之方法，有以低速輥的最終輥(以下，有僅稱為「最終輥」的情況)進行加熱之情況、以紅外線加熱器(IR加熱器)進行加熱之情況等。
以最終輥進行加熱時，薄膜從最終輥離開的時間點之溫度係成為延伸溫度，薄膜從最終輥之前1個低速輥(加熱輥)離開的時間點之溫度係成為預熱溫度。以IR加熱器進行加熱時，被IR加熱器所加熱的區域中最高的溫度係成為延伸溫度，從最終輥(加熱輥)離開的時間點之溫度係成為預熱溫度。
MD延伸的預熱溫度較佳為60℃以上，更佳為65℃以上，進一步較佳為70℃以上。藉由將預熱溫度設為上述範圍，即使製膜速度快也能減小薄膜之厚度方向的溫度差，穩定的延伸成為可能。 MD延伸的預熱溫度較佳為95℃以下，更佳為90℃以下，進一步較佳為85℃以下，特佳為82℃以下，最佳為80℃以下。藉由將預熱溫度設為上述範圍，而抑制薄膜與輥之貼附，穩定的薄膜行進成為可能。又，由於可抑制預熱輥間的薄膜之鬆弛，且減小預熱輥間的張力，而可減少預熱步驟中之不必要的薄膜伸長，可抑制厚度不均及平面性的降低。又，薄膜之鬆弛等係在聚酯的分子量低之情況(IV低之情況)中容易發生，例如IV為0.7dl/g以下之情況較佳為90℃以下，IV為0.65dl/g以下之情況較佳為85℃以下。
MD延伸的延伸溫度較佳為86℃以上，更佳為88℃以上，進一步較佳為89℃以上，特佳為90℃以上，最佳為91℃以上。於延伸溫度低之情況中，在未延伸薄膜的S-S(應力-應變)特性上，相對於應變而言應力不和緩地上升，有延伸不穩定之情況。
MD延伸的延伸溫度較佳為110℃以下，進一步依序較佳為105℃以下、102℃以下、100℃以下、98℃以下、96℃以下。藉由將延伸溫度設為上述範圍，而薄膜不過度變軟，可抑制延伸中之鬆弛。特別地，於施加有張力之情況中，薄膜係從80℃後半起變得容易伸長，但若延伸溫度為上述範圍，則可抑制設想的位置以外之延伸，使延伸穩定。又，如上述，由於分子量愈低愈容易鬆弛，而例如IV為0.7dl/g以下時，較佳為100℃以下，IV為0.65dl/g以下時，較佳為98℃以下。
MD延伸中的延伸溫度與預熱溫度之差較佳為11℃以上，更佳為12℃以上，進一步較佳為13℃以上。又，延伸溫度與預熱溫度之差較佳為24℃以下，更佳為23℃以下，進一步較佳為22℃以下。 藉由成為上述範圍，可抑制預熱時的假延伸及薄膜對輥之貼附，並且即使製膜速度快在延伸時也可減小薄膜之厚度方向的溫度差，穩定的延伸成為可能。
於MD延伸中，如上述，必須從預熱溫度起快速地將薄膜的溫度提高到延伸溫度，但急劇過度加熱亦有薄膜之厚度方向的溫度差變大，穩定的延伸變得困難之情況。因此，於以最終輥進行加熱之情況中，較佳為加大薄膜對於最終輥的圍包角而增長最終加熱輥與薄膜的接觸時間。圍包角較佳為30度以上，更佳為45度以上，進一步較佳為60度以上，特佳為70度以上。 又，若為使用IR加熱器之情況，則較佳為在MD方向上複數設置、或在MD方向上使用寬度廣的加熱器。
預熱步驟所用的輥及延伸步驟的輥可為在表面施有鍍鉻、鍍鎳、鍍鈷合金等之鍍敷的輥，如於輥表面變成高溫而看到聚酯樹脂之貼附的情況中，較佳為使用經氟樹脂加工的輥。
提高預熱步驟所用的輥及延伸步驟的輥之真圓度及擺動的精度亦為重要。真圓度較佳為30μm以下，更佳為20μm以下，進一步較佳為10μm以下，通常為0.1μm以上。擺動較佳為40μm以下，更佳為30μm以下，進一步較佳為20μm以下，通常為0.1μm以上。 輥的直徑雖然亦取決於延伸機的大小，但若為生產未延伸薄膜的寬度為700～2500mm左右的薄膜之情況，則較佳為100～500mm，更佳為150～400mm，進一步較佳為170～350mm。
MD延伸的倍率之下限較佳為1.05倍，更佳為1.08倍，進一步較佳為1.1倍。MD延伸倍率之上限較佳為2倍，更佳為1.8倍，進一步較佳為1.7倍。藉由成為上述範圍，可成為作業性更優異，抑制虹斑的薄膜。又，作為偏光鏡保護膜使用時，於欲更有效果地抑制自斜向的虹斑之情況等中，MD延伸倍率之上限更佳為1.25倍，進一步較佳為1.2倍，特佳為1.18倍。於用於可撓性影像顯示裝置等，欲賦予優異的耐彎曲性之情況等中，MD延伸倍率之下限更佳為1.2倍，進一步較佳為1.25倍，特佳為1.3倍。
本發明中，與薄膜的製膜流動方向正交的方向(TD方向)之厚度不均之上限較佳為5%，更佳為4%，進一步較佳為3.5%，特佳為3%。TD方向之厚度不均係以低者為較佳，但從現實面來看，下限較佳為0.1%，進一步較佳為0.5%。 TD方向之厚度不均例如可藉由控制澆鑄時的唇間隔、減小TD延伸時的TD方向之薄膜溫度的不均、使面配向度或NZ係數成為恰當範圍而達成。
於TD延伸中，預熱MD延伸後的薄膜，較佳為以80～130℃，更佳為以90～120℃進行延伸。TD延伸的延伸倍率較佳為3～6.5倍，更佳為3.2～6.2倍，進一步較佳為3.5～6.0倍，特佳為3.7倍～5.8倍。
於延伸之後較佳為接著進行熱定型。熱定型溫度較佳為150～250℃，更佳為170～230℃。熱定型時間較佳為3～60秒鐘，更佳為5～30秒鐘。 於熱定型中，亦較佳為在主延伸方向及/或與其正交的方向中進行鬆弛處理。鬆弛處理較佳為0.5～10%，更佳為1～5%。
本發明之聚酯薄膜的MD方向之斷裂伸度之下限較佳為4%，進一步依序較佳為5%、6%、7%、8%、9%、10%。MD方向之斷裂伸度之上限較佳為50%，更佳為40%，進一步較佳為30%，特佳為25%，最佳為20%。
本發明之聚酯薄膜的TD方向之斷裂伸度之下限較佳為50%，更佳為60%。TD方向之斷裂伸度之上限較佳為200%，更佳為150%，進一步較佳為120%，特佳為100%。
本發明之聚酯薄膜的MD方向之斷裂強度之下限較佳為50MPa，更佳為55MPa，進一步較佳為60MPa，特佳為65MPa。MD方向之斷裂強度之上限較佳為150MPa，更佳為130MPa，進一步較佳為120MPa，特佳為110MPa，最佳為100MPa。
本發明之聚酯薄膜的TD方向之斷裂強度之下限較佳為300MPa，更佳為330MPa，進一步較佳為350MPa。 TD方向之斷裂強度之上限較佳為500MPa，更佳為450MPa，進一步較佳為420MPa，特佳為400MPa。 藉由將斷裂伸度及斷裂強度設為上述範圍內，變成作業性更優異的薄膜。斷裂伸度及斷裂強度係依據JIS K 7113所測定之值。
本發明之聚酯薄膜的150℃下之熱收縮率係MD方向及TD方向皆下限較佳為-0.5%，更佳為-0.1%。150℃下之熱收縮率係MD方向及TD方向皆上限較佳為3%，更佳為2.7%，進一步較佳為2.5%，特佳為2%。
本發明之聚酯薄膜理想係波長380nm的光線穿透率為20%以下。波長380nm的光線穿透率更佳為15%以下，進一步較佳為10%以下，特佳為5%以下。若前述光線穿透率為20%以下，則可抑制偏光層中的碘或二色性色素之因紫外線所造成的變質。此外，前述光線穿透率係在對於薄膜的平面呈垂直的方向上測定者，可使用分光光度計(例如日立U-3500型)進行測定。尤其作為偏光鏡保護膜使用時，紫外線的穿透率係以低者為理想。
使本發明之聚酯薄膜的波長380nm之光線穿透率成為20%以下，例如可藉由下述等而達成：在薄膜中添加紫外線吸收劑；將含有紫外線吸收劑的塗布液塗布於薄膜表面；適宜調節紫外線吸收劑之種類、濃度及薄膜之厚度。紫外線吸收劑為眾所周知的物質。作為紫外線吸收劑，可舉出有機系紫外線吸收劑與無機系紫外線吸收劑，從透明性之觀點來看，較佳為有機系紫外線吸收劑。
作為有機系紫外線吸收劑，可舉出苯并三唑系、二苯甲酮系、環狀亞胺基酯系及其組合等，只要是所欲的吸光度之範圍，則沒有特別的限定。
又，於本發明之聚酯薄膜中為了提高滑動性，亦較佳為添加平均粒徑0.05～2μm的粒子。作為粒子，可舉出：氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣、硫酸鈣、矽石、氧化鋁、滑石、高嶺土、黏土、磷酸鈣、雲母、水輝石、氧化鋯、氧化鎢、氟化鋰、氟化鈣等之無機粒子；苯乙烯系、丙烯酸系、三聚氰胺系、苯并胍胺系、聚矽氧系等之有機聚合物系粒子等。 此等粒子可添加至薄膜整體，但亦可成為皮-芯的共擠出多層構造並僅添加至皮層。又，亦較佳為於薄膜本身不含粒子而於後述的易接著層中添加粒子。
於本發明之聚酯薄膜，亦可進行電暈處理、火焰處理、電漿處理等之使接著性提升之處理。
(易接著層) 本發明之聚酯薄膜為了提高與接著劑、塗層等之密合性，可設置易接著層。 易接著層所用的樹脂係使用聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂等，較佳為聚酯樹脂、聚酯聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯聚胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂。易接著層較佳為被交聯。作為交聯劑，可舉出異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、環氧樹脂、
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唑啉化合物等。又，於易接著層中添加聚乙烯醇等之水溶性樹脂，亦為用於提升與偏光鏡的密合性之有用的手段。
易接著層可作為添加有此等樹脂與視需要的交聯劑、粒子等之水系塗料，在薄膜上塗布・乾燥而設置。作為粒子，可例示在上述基材所用者。 易接著層可離線設置於薄膜(例如已延伸的薄膜)，但較佳為於製膜步驟中線內設置。於線內設置時，可為縱延伸(MD延伸)前、橫延伸(TD延伸)前之任一者，但較佳為在即將進行橫延伸之前進行塗覆，在利用拉幅機的預熱、加熱、熱處理步驟中使其乾燥、交聯。此外，在即將進行利用輥的縱延伸之前進行線內塗布之情況中，較佳為在塗布後，以垂直型乾燥機使其乾燥後，導引至延伸輥。 易接著層之塗覆量(乾燥後之塗覆量)較佳為0.01～1.0g/m 2，進一步較佳為0.03～0.5g/m 2。
(功能性層) 於本發明之聚酯薄膜設置硬塗層、抗反射層、低反射層、防眩層、抗靜電層等之功能性層亦為較佳的形態。將抗反射層、低反射層及防眩層總稱為反射減低層。反射減低層不僅防止因外部光映入顯示畫面而變得難以看見，而且亦具有抑制界面的反射而減少虹斑，使其難以顯眼之作用。又，於作為觸控面板等之基材薄膜(例如透明電極基材薄膜)使用之情況中，為了使透明電極層難以顯眼，亦較佳為設置折射率調整層。此外，於設有功能性層的聚酯薄膜中，將設置功能性層之前的狀態之薄膜稱為基材薄膜。此外，基材薄膜亦有包含上述易接著層之情況。
從反射減低層側所測定的聚酯薄膜之反射率之上限較佳為5%，更佳為4%，進一步較佳為3%，特佳為2%，最佳為1.5%。若為上述上限以下，則可減少外部光的反射，可提升畫面的視覺辨認性。反射率之下限較佳係沒有特別的規定，但從現實方面來看，較佳為0.01%，進一步較佳為0.1%。 作為反射減低層，有低反射層、抗反射層、防眩層等各式各樣的種類。
(低反射層) 低反射層係藉由在基材薄膜之表面設置低折射率之層(低折射率層)而減少與空氣的折射率差，具有減低反射率之功能的層。
(抗反射層) 抗反射層係控制低折射率層之厚度，使界面的反射光干渉而控制反射的層。低折射率層之厚度較佳係成為可見光的波長(400～700nm)/(低折射率層的折射率×4)左右。 於抗反射層與基材薄膜之間設置高折射率層亦為較佳的形態，亦可設置2層以上的低折射率層及/或高折射率層，藉由多重干渉而進一步提高抗反射效果。有時將高折射率層與低折射率層合併而稱為抗反射層。
於抗反射層之情況，反射率之上限較佳為2%，更佳為1.5%，進一步較佳為1.2%，特佳為1%。
(低折射率層) 低折射率層之折射率較佳為1.45以下，更佳為1.42以下。又，低折射率層之折射率較佳為1.2以上，更佳為1.25以上。 此外，低折射率層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
低折射率層之厚度係沒有限定，但通常只要在30nm～1μm左右之範圍內適宜設定即可。又，作為抗反射層使用時，低折射率層之厚度較佳為70～120nm，更佳為75～110nm。
作為低折射率層，較佳可舉出：(1)由含有黏結劑樹脂及低折射率粒子的樹脂組成物所構成之層；(2)由低折射率樹脂的氟系樹脂所構成之層；(3)由含有矽石或氟化鎂的氟系樹脂組成物所構成之層；(4)矽石、氟化鎂等之低折射率物質的薄膜等。
作為(1)之樹脂組成物中含有的黏結劑樹脂，可無特別限制地使用聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚碳酸酯、丙烯酸等。其中，較佳為丙烯酸，較佳為藉由光照射使光聚合性化合物聚合(交聯)而得者。
作為光聚合性化合物，可舉出光聚合性單體、光聚合性寡聚物、光聚合性聚合物，可適宜調整此等而使用。作為光聚合性化合物，較佳為光聚合性單體與光聚合性寡聚物或光聚合性聚合物之組合。此等光聚合性單體、光聚合性寡聚物、光聚合性聚合物較佳為多官能者。
作為多官能單體，可舉出新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、新戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二新戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。此外，為了調整塗覆黏度或硬度，亦可併用單官能單體。
作為多官能寡聚物，可舉出聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
作為多官能聚合物，可舉出胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
於(1)之樹脂組成物中，除了上述成分之外，還可包含聚合起始劑、交聯劑的觸媒、聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、調平劑、界面活性劑等。
作為(1)之樹脂組成物中所含有的低折射率粒子，可舉出矽石粒子(例如中空矽石粒子)、氟化鎂粒子等，其中較佳為中空矽石粒子。如此的中空矽石粒子例如可藉由日本特開2005-099778號公報之實施例中記載之製造方法來製作。
低折射率粒子的一次粒子之平均粒徑較佳為5～200nm，更佳為5～100nm，進一步較佳為10～80nm。 低折射率粒子更佳為經矽烷偶合劑所表面處理者，其中較佳為經具有(甲基)丙烯醯基的矽烷偶合劑所表面處理者。
低折射率層中的低折射率粒子之含量，相對於黏結劑樹脂100質量份，較佳為10～400質量份，更佳為10～250質量份，進一步較佳為50～200質量份，特佳為80～180質量份，最佳為100～180質量份。
作為(2)之氟系樹脂，可使用至少在分子中包含氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物，並沒有特別的限定，但例如較佳為具有光聚合性官能基、熱硬化極性基等之硬化反應性基者。又，亦可為同時兼具此等複數的硬化反應性基之化合物。相對於此聚合性化合物，聚合物為不具有上述硬化反應性基等者。
作為具有光聚合性官能基的化合物，例如可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵的含氟單體。
於低折射率層中，以提升耐指紋性為目的，亦較佳為適宜添加眾所周知的聚矽氧烷系或氟系之防污劑。
低折射率層之表面可為了展現防眩性而為凹凸面，但亦較佳為平滑面。 低折射率層之表面為平滑面時，低折射率層之表面的算術平均粗糙度SRa (JIS B0601：1994)較佳為20nm以下，更佳為15nm以下，進一步較佳為10nm以下，特佳為1～8nm。又，低折射率層之表面的十點平均粗糙度Rz (JIS B0601：1994)較佳為160nm以下，更佳為50～155nm。
(高折射率層) 高折射率層之折射率較佳係設為1.55～1.85，更佳係設為1.56～1.7。 此外，高折射率層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
高折射率層之厚度較佳為30～200nm，更佳為50～180nm。高折射率層可為複數之層，但較佳為2層以下，更佳為單層。複數之層時，複數之層的厚度合計較佳為上述範圍內。
將高折射率層設為2層時，較佳為更提高低折射率層側的高折射率層之折射率，具體而言，低折射率層側的高折射率層之折射率較佳為1.6～1.85，另一方的高折射率層之折射率較佳為1.55～1.7。
高折射率層較佳為由包含高折射率粒子及樹脂的樹脂組成物所構成。 作為高折射率粒子，較佳為五氧化二銻粒子、氧化鋅粒子、氧化鈦粒子、氧化鈰粒子、錫摻雜氧化銦粒子、銻摻雜氧化錫粒子、氧化釔粒子及氧化鋯粒子等。於此等之中，適合為氧化鈦粒子及氧化鋯粒子。
高折射率粒子亦可併用2種以上。特別地，添加第1高折射率粒子、與表面電荷量比第1高折射率粒子更少的第2高折射率粒子，亦由於防止凝聚而較佳。
作為用於高折射率層的樹脂，可舉出排除氟系樹脂而與在低折射率層所列舉的樹脂相同者。
為了使設置在高折射率層之上的低折射率層成為平坦，較佳為高折射率層之表面亦平坦。作為使高折射率層之表面成為平坦之方法，可使用使上述低折射率層成為平坦之方法。
高折射率粒子及高折射率粒子的一次粒子之平均粒徑較佳為5～200nm，更佳為5～100nm，進一步較佳為10～80nm。 此等粒子更佳為經表面處理者，更佳為經矽烷偶合劑所表面處理者，其中較佳為經具有(甲基)丙烯醯基的矽烷偶合劑所表面處理者。
高折射率層中的高折射率粒子之含量，相對於黏結劑樹脂100質量份，較佳為10～400質量份，更佳為10～250質量份，進一步較佳為50～200質量份，特佳為80～180質量份，最佳為100～180質量份。
高折射率層及低折射率層例如可藉由將包含光聚合性化合物的樹脂組成物塗布於基材薄膜，使其乾燥後，將紫外線等之光照射至塗膜狀的樹脂組成物，使光聚合性化合物聚合(交聯)而形成。
於高折射率層及低折射率層的樹脂組成物中，視需要可添加熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、溶劑、聚合起始劑、此等之組合等。再者，亦可添加分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、著色防止劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、阻難劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、助滑劑、此等之組合等。
(防眩層) 防眩層係在表面設置凹凸而進行亂反射，藉此防止外部光在表面上反射時的光源形狀之映入，減低眩光之層。
防眩層之表面的凹凸之算術平均粗糙度(SRa)較佳為0.02～0.25μm，更佳為0.02～0.15μm，進一步較佳為0.02～0.12μm。
防眩層之表面的凹凸之十點平均粗糙度(Rzjis)較佳為0.15～2μm，更佳為0.2～1.2μm，進一步較佳為0.3～0.8μm。
SRa及Rzjis係依據JIS B0601-1994或JIS B0601-2001，由使用接觸型粗糙度計所測定的粗糙度曲線來算出。
作為在基材薄膜上設置防眩層之方法，例如可舉出以下之方法。 ・塗覆包含粒子(填料)等的防眩層用塗料 ・使防眩層用樹脂在接觸具有凹凸構造的模具之狀態下硬化 ・將防眩層用樹脂塗布於具有凹凸構造的模具，轉印至基材薄膜 ・塗覆在乾燥、製膜時發生旋節分解(spinodal decomposition)的塗料
防眩層之厚度之下限較佳為0.1μm，更佳為0.5μm。防眩層之厚度之上限較佳為100μm，更佳為50μm，進一步較佳為20μm。
防眩層之折射率較佳為1.2～1.8，更佳為1.4～1.7。 此外，防眩層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。 可在低折射率層設置凹凸而成為防眩性低反射層，也可使硬塗層或高折射率層之表面成為凹凸，在其上設置低折射率層而使其具有抗反射功能，成為防眩性抗反射層。
(硬塗層) 作為上述反射減低層的下層，設置硬塗層亦為較佳的形態。 硬塗層係鉛筆硬度較佳為H以上，更佳為2H以上。硬塗層可例如塗布包含熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂的組成物(溶液)，使其硬化而設置。
作為熱硬化性樹脂，可舉出丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、酚樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂、此等之組合等。於熱硬化性樹脂組成物中，視需要在此等硬化性樹脂中添加硬化劑。
放射線硬化性樹脂較佳為具有放射線硬化性官能基的化合物(放射線硬化性化合物)，作為放射線硬化性官能基，可舉出(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等之乙烯性不飽和鍵基、環氧基、氧雜環丁基等。其中，作為電離放射線硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵基的化合物，更佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵基的化合物，其中進一步較佳為具有2個以上乙烯性不飽和鍵基的多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，可為單體，也可為寡聚物，也可為聚合物。
作為此等之具體例，可使用作為上述黏結劑樹脂所列舉者。 為了達成作為硬塗層的硬度，於具有放射線硬化性官能基的化合物中，2官能以上的單體較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上。再者，於具有放射線硬化性官能基的化合物中，3官能以上的單體較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上。 上述具有放射線硬化性官能基的化合物可單獨1種或組合2種以上而使用。
硬塗層之厚度較佳為0.1～100μm之範圍，更佳為0.8～20μm之範圍。
硬塗層之折射率更佳為1.45～1.7，進一步較佳為1.5～1.6。 此外，硬塗層之折射率係在波長589nm之條件下所測定的值。
為了調整硬塗層之折射率，可舉出調整樹脂之折射率之方法，添加粒子時可舉出調整粒子之折射率之方法等。 作為粒子，可舉出作為防眩層之粒子所例示者。 此外，於本發明中，有亦包含硬塗層而稱為反射減低層之情況。
設置功能性層時，可在功能性層與基材薄膜之間設置易接著層。易接著層可合適地使用在上述易接著層所列舉的樹脂、交聯劑等。又，易接著層亦可設置在基材薄膜之兩面，於該情況，兩面的易接著層可為相同的組成，也可為不同的組成。
(偏光板) 本發明之聚酯薄膜可適用作為偏光鏡保護膜。本發明之聚酯薄膜可與偏光鏡積層，而成為偏光板。 (偏光鏡) 作為偏光鏡，例如可無特別限制地使用使經一軸延伸的聚乙烯醇(PVA)吸附碘或有機系二色性色素者、使液晶化合物與有機系二色性色素配向者或由液晶性的二色性色素所構成之液晶性偏光鏡、線柵方式者等。
可將經一軸延伸的聚乙烯醇(PVA)吸附碘或有機系二色性色素而成之薄膜狀偏光鏡與經捲取成卷狀的偏光鏡保護膜，使用PVA系、紫外線硬化型等之接著劑或黏著劑進行貼合，捲取成卷狀。作為此類型的偏光鏡之厚度，較佳為5～30μm，進一步較佳為8～25m，特佳為10～20m。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，進一步較佳為2～5μm。
又，亦可較佳使用：在PET、聚丙烯等之未延伸基材上塗覆PVA，與基材一起進行一軸延伸，使其吸附碘或有機系二色性色素而成之偏光鏡。使用此偏光鏡時，以接著劑或黏著劑貼合在基材上所積層的偏光鏡之偏光鏡面(未積層基材之面)與偏光鏡保護膜，然後剝離在製作偏光鏡時所用的基材，藉此可使偏光鏡保護膜與偏光鏡貼合。此情況亦較佳為以卷狀進行貼合、捲取。作為此類型的偏光鏡之厚度，較佳為1～10μm，進一步較佳為2～8μm，特佳為3～6μm。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，進一步較佳為2～5μm。
液晶性的偏光鏡之情況，可在偏光鏡保護膜上積層使由液晶化合物與有機系二色性色素所構成的偏光鏡配向者，或者在偏光鏡保護膜上塗覆含有液晶性的二色性色素之塗液後，使其乾燥，進行光或熱硬化而積層偏光鏡，藉此成為偏光板。作為使液晶性的偏光鏡配向之方法，可舉出：將塗覆對象物之表面進行摩擦處理之方法；一邊照射偏光的紫外線而使液晶性的偏光鏡配向，一邊使其硬化之方法等。可直接摩擦處理偏光鏡保護膜之表面，塗覆塗液，也可在偏光鏡保護膜上直接塗覆塗液，對其照射偏光紫外線。又，於設置液晶性的偏光鏡之前，在偏光鏡保護膜上設置配向層(即，在偏光鏡保護膜上隔著配向層積層液晶性的偏光鏡)亦為較佳的方法。作為設置配向層之方法，可舉出： ・塗覆聚乙烯醇及其衍生物、聚醯亞胺及其衍生物、丙烯酸樹脂、聚矽氧烷衍生物等，摩擦處理其表面而成為配向層(摩擦配向層)之方法； ・藉由將包含具有桂皮醯基及查耳酮基等光反應性基的聚合物或單體與溶劑之塗覆液進行塗覆，照射偏光紫外線，而使其配向硬化，成為配向層(光配向層)之方法等。
在具有脫模性的薄膜上，依據上述方法設置液晶性的偏光鏡，以接著劑或黏著劑貼合液晶性的偏光鏡面與偏光鏡薄膜，然後剝離具有脫模性的薄膜，藉此亦可使偏光鏡薄膜與偏光鏡貼合。
作為液晶性的偏光鏡之厚度，較佳為0.1～7μm，進一步較佳為0.3～5μm，特佳為0.5～3μm。接著劑或黏著劑之厚度較佳為1～10μm，進一步較佳為2～5μm。
(偏光鏡與偏光鏡保護膜之積層) 本發明之聚酯薄膜較佳係積層於偏光鏡之與影像顯示單元側為相反面。使偏光鏡與薄膜積層而成為偏光板時，偏光鏡的吸收軸與薄膜的慢軸所成的角度較佳為約90度或約0度。本說明書中，所謂「約」意指7度以下的誤差。誤差較佳為5度以下，進一步較佳為3度以下，特佳為2度以下，最佳為1.5度以下。較佳為於偏光板之全範圍中成為上述之角度。 此外，若偏光鏡為液晶性偏光鏡或線柵方式之情況，則亦容易相對於聚酯薄膜之慢軸而使偏光鏡的吸收軸傾斜，慢軸與吸收軸所成的角度可為30～60度，較佳為約45度。
(偏光鏡的影像顯示單元側之面) 偏光板為液晶顯示裝置用時，偏光鏡的液晶胞側之面可為完全未被積層的狀態，也可為黏著劑，亦可在偏光鏡上設置硬化層，亦可設置與上述偏光鏡保護膜不同的偏光鏡保護膜。作為較佳的硬化層，可舉出前述硬塗層。於黏著劑之情況，可進一步積層脫模薄膜。又，於未被積層的狀態、硬化層之情況、偏光鏡保護膜之情況等中，可另外積層能剝離的保護膜。
偏光鏡的液晶胞側之面的偏光鏡保護膜可舉出纖維素系(TAC)薄膜、丙烯酸薄膜、聚環狀烯烴(COP)薄膜等。液晶胞側之面的偏光鏡保護膜可為遲滯幾乎零者，亦可為用於控制從斜向觀看顯示畫面時的色調變化之被稱為光學補償薄膜的相位差薄膜。
為了在光學補償薄膜展現必要的相位差，可舉出將薄膜進行延伸、或者在薄膜上塗覆液晶化合物等之相位差層、另外在脫模性薄膜上設置液晶化合物等之相位差層並將其轉印等之方法。用於形成相位差層的液晶化合物可配合所要求的相位差特性而使用棒狀液晶化合物、盤狀液晶化合物等。液晶化合物係為了使配向狀態固定，較佳為具有雙鍵等之光硬化性反應基。為了使液晶化合物配向而具有相位差，例如可設置配向層作為相位差層之下層並摩擦處理配向層，或者藉由照射偏光紫外線，以塗覆於其上的液晶化合物朝特定方向配向之方式賦予配向控制性。
光學補償薄膜的相位差能以所使用的液晶胞之類型、確保怎樣程度的視角等來適宜設定。
相位差層可塗覆相位差層用組成物塗料而設置。相位差層用組成物塗料可包含溶劑、聚合起始劑、增感劑、聚合抑制劑、調平劑、聚合性非液晶化合物、交聯劑、此等之組合等。此等可使用在配向控制層及液晶性的偏光鏡之部分所說明之物。
藉由將相位差層用組成物塗料塗覆於脫模性薄膜的脫模面或配向控制層上後，進行乾燥、加熱、硬化，可設置相位差層。
此等之條件亦可使用在配向控制層及液晶性的偏光鏡之部分所說明的條件作為較佳的條件。
使偏光鏡與偏光鏡保護膜或相位差薄膜貼合時，使用接著劑或黏著劑。接著劑可較佳使用聚乙烯醇系等之水系接著劑或光硬化性接著劑。作為光硬化性接著劑，可舉出丙烯酸系、環氧系接著劑等。黏著劑可較佳使用丙烯酸系黏著劑。
(液晶胞) 液晶胞係在形成有電路的玻璃等薄基板之間封入液晶化合物者。基板為玻璃時，厚度較佳為1mm以下，從薄型化之觀點來看，厚度更佳為0.7mm以下，進一步較佳為0.5mm以下，特佳為0.4mm以下。
液晶胞之方式係沒有特別的限定，但VA方式及IPS方式為從斜向觀看時的色偏移少的方式，於此等方式中偏光板的吸收軸與液晶胞的長邊方向呈平行或正交，因此為適應本發明的較佳方式。
作為組入液晶胞的彩色濾光片，藍色畫素的420nm～460nm之波長範圍的最大穿透率與最小穿透率皆較佳為80%以上，進一步較佳為85%以上。420nm～460nm之波長的最大穿透率與最小穿透率之差較佳為4%以下，進一步較佳為3%以下。
(液晶面板) 較佳為在液晶胞的視覺辨認側及光源側分別貼合偏光板而成為液晶顯示面板。貼合較佳為以黏著劑進行貼合。黏著劑可較佳使用丙烯酸系黏著劑。
於液晶面板中，使用上述聚酯薄膜的偏光板可為光源側的偏光板及視覺辨認側的偏光板之任一偏光板，再者也可為兩方的偏光板。
影像顯示裝置為有機或無機的電致發光單元、微型發光二極體(micro-LED)等時，偏光板較佳為圓偏光板。圓偏光板典型上在偏光鏡的視覺辨認側積層1/4波長層。1/4波長層不僅為僅1層1/4波長層者，而且亦包含1/4波長層與1/2波長層組合者、進一步在此等加有C板等之相位差層者。1/4波長層、1/2波長層、C板等之相位差層可為薄膜，也可為塗層。此等相位差層只要相位差或其配向方向適當，則可為在偏光板之相位差層所說明者。
(透明電極基材薄膜) 本發明之聚酯薄膜係適用作為觸控面板等之透明電極基材薄膜。透明導電層係設於聚酯薄膜之至少一面，也可設於兩側。
作為透明導電層，可舉出導電性糊的網目印刷物、含碳奈米管的塗層、自組織奈米銀塗層、含針狀導電填料的塗層、氧化金屬薄膜等。其中，較佳為氧化金屬薄膜，可舉出氧化銦、氧化鋅、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、錫銻氧化物、鋅鋁氧化物、銦鋅氧化物等之薄膜作為較佳例。
透明導電層較佳為藉由蝕刻而形成如線狀或格子狀的圖案形狀。
透明導電層之厚度較佳為5～500nm，更佳為15～250nm，進一步較佳為20～100nm。藉由上述厚度，可確保導電性，並且抑制起因於導電層的色調。
可藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法、溶膠-凝膠法等眾所周知之方法，形成透明導電層。
透明導電層可於製膜後，藉由光微影法形成指定圖案的光阻遮罩後，施予蝕刻處理而形成圖案等。
透明導電層可為非晶質，但較佳為將非晶質的透明導電層在130～180℃加熱處理0.5～2小時而使結晶成長，成為結晶質的透明導電層，提高導電性。
作為透明導電層的下層，設置硬塗層、折射率調整層亦為較佳的形態。折射率調整層可為接近透明導電層的折射率之層(高折射率層)，也可依序設置高折射率層與低折射率層。特別地，較佳為依順設置高折射率層與低折射率層。
本發明之聚酯薄膜可較佳使用作為飛散防止薄膜。飛散防止薄膜係在觸控面板等之基材、畫面表面罩蓋等使用玻璃板時，貼合於玻璃板而使用，可防止玻璃板破裂時碎片損傷內部構造或飛散至外部而露出。飛散防止薄膜可積層於玻璃板的視覺辨認側及反視覺辨認側之任一側。積層於玻璃板時，較佳為使用被稱為OCA的光學用之無基材的黏著劑進行貼合。
本發明之聚酯薄膜可較佳使用作為畫面表面保護膜。畫面表面保護膜係積層於影像顯示裝置的畫面之視覺辨認側，可保護內部的影像顯示單元防止外部的衝擊，防止表面損傷。畫面表面保護膜較佳為使用黏著劑貼合於影像顯示部。畫面表面保護膜係位於影像顯示部最表面，亦較佳為於損傷時可剝離而交換的類型者。此情況，黏著劑較佳為能以手剝離的程度之黏著力。
本發明之聚酯薄膜亦較佳為用於可撓性影像顯示裝置，在可撓性影像顯示裝置的偏光鏡保護膜、背面覆蓋膜、透明電極基材薄膜、畫面表面保護膜等使用。其中，較佳係作為背面覆蓋膜、畫面表面保護膜使用。 作為可撓性影像顯示裝置，可為以V型、左右對開型、W型等折疊影像顯示部者，也可為捲取成卷狀者。 用於可撓性影像顯示裝置時，較佳為以使聚酯薄膜的慢軸與折疊方向成為正交的方式配置，換言之，以折痕成為慢軸之方式配置。
在影像顯示裝置的偏光板之視覺辨認側，作為透明電極基材薄膜、飛散防止薄膜、畫面表面保護膜使用的情況等中，亦較佳的形態為以相對於偏光板的吸收軸而言使聚酯薄膜的慢軸成為30～60度、較佳成為約45度的方式配置，使得以太陽眼鏡觀察時不引起畫面變黑，亦不產生虹斑。 [實施例]
以下，參照實施例來更具體地說明本發明，惟本發明不受下述實施例所限制，在能適合本發明的宗旨之範圍內亦可加以適宜變更而實施，彼等皆包含於本發明技術範圍內。此外，以下實施例中的物性等之評價方法係如以下。
(1)聚酯薄膜之折射率 使用分子配向計(王子計測器股份有限公司製，MOA-6004型分子配向計)，求出薄膜的慢軸方向，以慢軸方向與長邊成為平行之方式，切出4cm×2cm的長方形，當作測定用樣品。對於此樣品，藉由阿貝折射率計(ATAGO公司製，NAR-4T，測定波長589nm)，求出正交的二軸之折射率(慢軸方向之折射率：ny，快軸(與慢軸方向正交的方向之折射率)：nx)及厚度方向之折射率(nz)。
(2)面內遲滯(Re) 所謂面內遲滯，係以薄膜上之正交的二軸之折射率的異向性(ΔNxy=|nx-ny|)與薄膜厚度d(nm)之積(ΔNxy×d)所定義的參數，為表示光學的等向性、異向性之尺度。藉由上述(1)之方法，算出前述二軸之折射率差的絕對值(|nx-ny|)作為二軸之折射率的異向性(ΔNxy)。藉由折射率的異向性(ΔNxy)與薄膜的厚度d(nm)之積(ΔNxy×d)，求出面內遲滯(Re)。
(3)厚度方向遲滯(Rth) 所謂厚度方向遲滯，係表示將從薄膜厚度方向剖面觀看時的2個雙折射ΔNxz(=|nx-nz|)及ΔNyz(=|ny-nz|)分別乘以薄膜厚度d而得之遲滯的平均之參數。藉由上述(1)之方法求出nx、ny及nz，算出(ΔNxz×d)與(ΔNyz×d)之平均值而求出厚度方向遲滯(Rth)。
(4)面配向度 將nx、ny及nz代入以|nx+ny|/2-nz表示之式，求出面配向度。
(5)NZ係數 將nx、ny及nz代入以|ny-nz|/|ny-nx|表示之式，求出NZ係數。
(6)偏光鏡的吸收軸 疊合吸收軸已知的偏光濾光片與偏光鏡，放置於面光源之上，使偏光濾光片旋轉，將變成最暗的狀態之與偏光濾光片的吸收軸之方向呈90度的方向當作偏光鏡的吸收軸方向。此外，於將PVA朝長度方向延伸的長條狀偏光鏡之情況，由於長度方向成為吸收軸方向，可將長度方向視為吸收軸方向。
(7)薄膜的慢軸方向 以分子配向計(王子計測器股份有限公司製，MOA-6004型分子配向計)進行測定。
(8)波長380nm下的光線穿透率 使用分光光度計(日立製作所製，U-3500型)，以空氣層作為標準，測定波長300～500nm區域的光線穿透率，求出波長380nm下的光線穿透率。
(9)固有黏度 將0.2g的試料溶解於苯酚/1,1,2,2-四氯乙烷(60/40(重量比))的混合溶媒50ml中，在30℃下使用奧士華黏度計進行測定。
(10)薄膜厚度及傅立葉轉換後之頻率特性 使用基於Mikuron Keisokuki股份有限公司的接觸式連續厚度計(厚度計部分為安立電氣股份有限公司製)，從所得之薄膜的寬度方向之中央部在MD方向上切出寬度約50mm、長度約6m之樣品，在MD方向上以1.5m/分鐘之速度測定厚度，連續地以0.1秒鐘間隔讀取數據。 從所得之數據，任意選出連續地2048點(長度5.12m部分)，將其厚度之平均值當作薄膜厚度，於測定數據之中，將以(最大之厚度-最小之厚度)/平均厚度×100所求出的值當作MD方向厚度不均(%)。 又，從所選出的2048點之數據，使用微軟公司的表計算軟體之EXCEL(註冊商標)，進行利用高速傅立葉轉換之頻率分析。進一步將所得之解析數據的頻率換算成長度周期，同時求出各自的振幅。 於長度周期為10cm以上者之中，從振幅大者起選出5點，將此等的平均值當作A，將此5點之中振幅最大的值當作Amax。再者，於長度周期小於10cm者之中，從振幅大者起選出5點，將此等的平均值當作B。長度周期係忽視被稱為鬼影的頻率解析數據之後半部的數據，僅使用前半部的解析數據。 從所得之A、Amax及B之值，求出A/B及Amax/B。TD方向厚度不均係將製膜後的薄膜之TD方向的中央部分切割成寬度1000mm，於此薄膜之TD方向上切出1000mm×寬度50mm的樣品，同樣地以連續厚度計進行測定，基於所得之數據，作為(最大之厚度-最小之厚度)/平均厚度×100求出。 此外，長度周期為10cm以上係相當於頻率為0.25Hz以下。
(11)斷裂強度及斷裂伸度 依據JIS K 7113，於薄膜的長度方向及寬度方向上，使用剃刀切出寬度10mm、長度100mm之試料，當作試料。在23℃、65% RH之氣體環境下放置12小時後，測定係在23℃、65% RH之氣體環境下，於夾頭間距離100mm、拉伸速度200mm/分鐘之條件下進行，使用5次測定結果的平均值。作為測定裝置，使用島津製作所公司製Autograph AG5000A。
(12)薄膜溫度 使用輻射溫度計(CHINO公司製IR-BZPHGN1)，從製膜機的側面插入檢測部而進行測定。測定數據係施予10秒鐘的平滑化。
(13)生產性 以將所得之薄膜的中央部切割成寬度1000mm時之斷裂次數進行評價。此外，用於切割的切刀係使用於相當於比較例的以往薄膜之切斷，將超過規定使用量取下者再度組裝而進行，行進速度係以切割機的設計最高速度之90%的速度進行。 ○：1日的斷裂次數為0次。 △：1日的斷裂次數為1次。 ×：1日的斷裂次數為2次以上。
(14)平面性 於平面的玻璃板上滴下離子交換水，在其上載置寬度1000mm的薄膜經切斷成長度2000mm者，藉由輥以使水層成為均勻的方式進行貼附。從斜向觀察映射於薄膜的天花板之螢光燈，評價平面性。 ○：映射的螢光燈之彎曲少，平面性良好。 △：雖然映射的螢光燈有彎曲，但為可容許者。 ×：映射的螢光燈之彎曲大，平面性差。
・聚酯A (PET(A)) 固有黏度0.62dl/g的聚對苯二甲酸乙二酯。 ・聚酯B (PET(B)) 10質量份的紫外線吸收劑(2,2’-(1,4-伸苯基)雙(4H-3,1-苯并
Figure 111111033-A0304-1
Figure 111111033-A0304-2
-4-酮)及90質量份的PET(A)之熔融混合物。
(接著性改質塗布液之調製) 藉由常見方法進行酯交換反應及聚縮合反應，調製作為二羧酸成分的(相對於二羧酸成分全體而言)46莫耳%的對苯二甲酸、46莫耳%的間苯二甲酸及8莫耳%的5-磺酸根基間苯二甲酸鈉、作為二醇成分的(相對於二醇成分全體而言)50莫耳%的乙二醇及50莫耳%的新戊二醇之組成的水分散性含有磺酸金屬鹼的共聚合聚酯樹脂。接著，混合51.4質量份的水、38質量份的異丙醇、5質量份的正丁基賽珞蘇及0.06質量份的非離子系界面活性劑後，加熱攪拌，到達77℃後，添加5質量份的上述水分散性含有磺酸金屬鹼的共聚合聚酯樹脂，繼續攪拌直到樹脂塊消失後，將樹脂水分散液冷卻到常溫，得到固體成分濃度5.0質量%的均勻的水分散性共聚合聚酯樹脂液。再者，使3質量份的凝聚體矽石粒子(FUJI SILYSIA(股)公司製，Sylysia 310)分散於50質量份的水中後，於99.46質量份的上述水分散性共聚合聚酯樹脂液中添加0.54質量份的Sylysia 310的水分散液，邊攪拌邊添加20質量份的水，得到接著性改質塗布液。
(偏光鏡) 將在碘水溶液中經連續染色的厚度80μm之卷狀聚乙烯醇薄膜朝搬運方向延伸5倍，在硼酸溶液中處理後進行水洗、乾燥而得到長條的偏光鏡。
(聚酯薄膜A～H) 作為基材薄膜中間層用原料，將90質量份的不含粒子的PET(A)樹脂丸粒與10質量份的含有紫外線吸收劑的PET(B)樹脂丸粒，在135℃下減壓乾燥(1Torr)6小時後，供給至擠壓機2(中間層II層用)，又，藉由常見方法將PET(A)乾燥，分別供給至擠壓機1(外層I層及外層III用)，在285℃下熔解。將此2種聚合物分別以不銹鋼燒結體的濾材(標稱過濾精度10μm粒子95%截留)進行過濾，以2種3層合流塊，進行積層並從模頭擠出成薄片狀後，使用靜電施加澆鑄法，捲繞在表面溫度30℃的澆鑄鼓輪上而進行冷卻固化，製作未延伸薄膜。此時，以I層、II層、III層的厚度之比成為10：80：10之方式，調整各擠壓機的吐出量。
將此未延伸PET薄膜導引至包含低速輥及高速輥之MD延伸機。以複數的低速輥將薄膜加熱到預熱溫度，進一步以在低速輥-高速輥間的紅外線加熱器加熱到延伸溫度，利用與高速輥的周速差進行延伸。 預熱溫度、延伸溫度及延伸倍率係如表1。此外，紅外線加熱器亮燈數係在MD方向上複數列設置的紅外線加熱器之中，為了用於加熱而其使亮燈的列數。 此外，MD延伸機的各輥係使用直徑180～250mm之表面鍍鉻且皆真圓度為10μm以下、擺動為20μm以下者。
接著，於經MD延伸的薄膜之兩面，以乾燥後的塗布量成為0.08g/m 2之方式，塗布上述接著性改質塗布液，使其乾燥。將所得之形成有塗布層的薄膜導引至拉幅延伸機，一邊以夾具夾持薄膜的端部，一邊導引至100℃的拉幅機，朝寬度方向進行延伸。接著，保持著經朝寬度方向延伸的寬度，在熱定型區中進行200℃、10秒鐘的處理，進一步在寬度方向上進行2%的鬆弛處理，得到延伸PET薄膜。
(薄膜I及J) 將上述未延伸PET薄膜導引至MD延伸機，一邊以複數的輥進行加熱，一邊以低速輥之最後的第2號輥升溫到預熱溫度，以最終的低速輥加熱到延伸溫度。薄膜係利用與高速輥的周速差進行延伸。此外，最終的低速輥及設於最終的低速輥之軋輥係使用對表面進行氟樹脂加工者。然後與上述同樣地進行TD延伸、熱定型，得到延伸PET薄膜。
表1中顯示此等薄膜之製膜條件、厚度不均等之特性值。此外，波長380nm下的光線穿透率係除了薄膜H為8.5%以外，皆為2.3～2.5%之範圍內。 又，作為厚度不均的頻率解析之結果的圖表之例，圖1中顯示薄膜A之結果，圖2中顯示薄膜D之結果。
[表1]
比較例1 實施例1 實施例2 實施例3 比較例2 實施例4 實施例5 實施例6 比較例3 實施例7
薄膜編號 A B C D E F G H I J
MD延伸倍率 1.15 1.15 1.15 1.15 1.15 1.15 1.35 1.35 1.15 1.2
TD延伸倍率 4.1 4.1 4.1 4.1 4.1 4.1 4.2 4.2 4.1 4
MD延伸時預熱溫度(℃) 75 75 75 75 75 90 77 77 97 77
MD延伸時加熱方式 IR加熱器×1 IR加熱器×1 IR加熱器×3 IR加熱器×3 IR加熱器×3 IR加熱器×1 IR加熱器×3 IR加熱器×3 輥 輥
MD延伸溫度(℃) 85 88 91 95 100 95 90 90 85 92
面內遲滯(nm) 8560 8560 8640 8640 8400 8480 7520 4750 8480 8560
面配向度 0.133 0.134 0.133 0.134 0.135 0.134 0.146 0.143 0.134 0.133
NZ係數 1.74 1.75 1.73 1.74 1.78 1.76 2.05 2.00 1.76 1.74
厚度(μm) 80 80 80 80 80 80 80 50 80 80
MD方向厚度不均(%) 8.2 3 2.5 2.8 8.8 5.5 5.2 5 10.2 3.5
TD方向厚度不均(%) 2.7 2.7 2.4 3 3.8 2.7 3.2 3 3.5 2.8
A/B 5.2 4.1 3.2 3.5 5.3 5.5 4.7 4.3 5.7 3.8
Amax/B 7.8 5.4 3.7 3.8 7.1 7.2 5.7 5.2 8.2 4.2
MD方向斷裂伸度(%) 10 11 9 10 10 12 17 15 11 10
TD方向斷裂伸度(%) 70 68 70 73 70 72 75 72 72 70
MD方向斷裂強度(MPa) 75 72 73 72 73 70 65 70 68 70
TD方向斷裂強度(MPa) 376 380 363 370 375 370 372 385 377 384
薄膜固有黏度(dL/g) 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59 0.59
生產性 × ○ ○ ○ × △ ○ ○ × ○
平面性 × ○ ○ ○ × △ ○ ○ × ○
如由表1可明知，薄膜A由於MD延伸溫度低，而厚度不均大，但藉由如薄膜B及薄膜C般提高MD延伸溫度，而MD方向厚度不均變小，A/B等之值亦變小。此亦可由比較圖1(薄膜A)與圖2(薄膜D)時，薄膜A者係相對於超過頻率0.25Hz(周期小於10cm)的振幅，頻率0.25Hz以下(周期10cm以上)的振幅變得更大來看清。 另一方面，如薄膜E般MD延伸溫度過高之情況中，由於鬆弛或延伸位置變得不規則，而MD方向厚度不均變大。又，薄膜F係預熱溫度高，有在預熱步驟中的鬆弛、薄膜貼附於輥，MD方向厚度不均變大。 如薄膜G及H，即使增大MD延伸倍率，若預熱及延伸的溫度為恰當，則亦抑制MD方向厚度不均。即使於輥加熱下的延伸中，如薄膜I般預熱溫度過高，延伸溫度過低時，也厚度不均大，但藉由將溫度恰當化，可減小厚度不均。 薄膜B～D、E～G及J例如可適用於偏光鏡保護膜。又，薄膜H例如可適用作為透明電極基材薄膜、飛散防止薄膜、可撓性影像顯示裝置之畫面表面保護膜。
(偏光板之製作) 於實施例所製作的聚酯薄膜之中，使用厚度不均特別良好的薄膜C、D及J，如以下地製作偏光板。 以卷對卷(roll-to-roll)，在偏光鏡之單面貼合上述所製作的聚酯薄膜，在相反面貼合三乙醯基纖維素薄膜(厚度40μm)，製作偏光板。貼合係使用紫外線硬化型的接著劑。皆係聚酯薄膜的慢軸與偏光鏡的吸收軸之角度為90度，偏差為0.5度以下。
(影像顯示裝置之評價) 切斷所得之偏光板，與市售的42型液晶電視之視覺辨認側偏光板進行交換。在任一的偏光板皆即使從斜向來觀看，也未觀察到虹斑，具有良好的視覺辨認性。 [產業上利用之可能性]
本發明可提供一種聚酯薄膜，其具有高的面內遲滯，並且厚度均勻性優異，生產性、作業性及平面性良好。該聚酯薄膜係不論影像顯示裝置之種類或光源之種類，而都虹斑不易顯眼，具有良好的視覺辨認性，適用於影像顯示裝置之各式各樣的用途。
無
圖1係顯示關於薄膜A的製膜流動方向之厚度不均的頻率解析之結果的圖表。 圖2係顯示關於薄膜D的製膜流動方向之厚度不均的頻率解析之結果的圖表。
無。

Claims (15)

  1. 一種聚酯薄膜，其面內遲滯(in-plane retardation)為3000nm以上30000nm以下， 面配向度為0.128以上0.155以下， 製膜流動方向之厚度不均為8%以下(此外，厚度不均為以(最大厚度-最小厚度)/平均厚度×100(%)所求出的值)。
  2. 如請求項1之聚酯薄膜，其中將製膜流動方向之厚度測定數據進行傅立葉轉換，將頻率置換成薄膜的長度之周期時，下述A與下述B之比率A/B為5以下； A：周期為10cm以上，振幅值的上位5點之振幅的平均值； B：周期為10cm以下，振幅值的上位5點之振幅的平均值。
  3. 如請求項1或2之聚酯薄膜，其中將製膜流動方向之厚度測定數據進行傅立葉轉換，將頻率置換成薄膜的長度之周期時，下述Amax與B之比率Amax/B為7以下； Amax：周期為10cm以上，振幅的最大值。
  4. 如請求項1至3中任一項之聚酯薄膜，其NZ係數為1.65以上3以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之聚酯薄膜，其厚度為25μm以上150μm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之聚酯薄膜，其製膜流動方向之斷裂伸度為4%以上。
  7. 如請求項1至6中任一項之聚酯薄膜，其製膜流動方向之斷裂強度為50MPa以上。
  8. 一種偏光鏡保護膜，其包含如請求項1至7中任一項之聚酯薄膜。
  9. 一種偏光板，其積層有如請求項8之偏光鏡保護膜與偏光鏡。
  10. 一種影像顯示裝置，其在影像顯示單元的視覺辨認側設置有如請求項9之偏光板。
  11. 一種透明電極基材薄膜，其包含如請求項1至7中任一項之聚酯薄膜。
  12. 一種飛散防止薄膜，其包含如請求項1至7中任一項之聚酯薄膜。
  13. 一種畫面表面保護膜，其包含如請求項1至7中任一項之聚酯薄膜。
  14. 一種影像顯示裝置，其包含如請求項11之透明電極基材薄膜、如請求項12之飛散防止薄膜及如請求項13之畫面表面保護膜的任一者。
  15. 如請求項14之影像顯示裝置，其為可撓性影像顯示裝置。
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