TW202028787A - 偏光膜及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明係一種偏光膜，其係具有液晶硬化層者，
上述液晶硬化層包含液晶化合物，並且至少具有視感度補正透過率之值互不相同之第1區域及第2區域，且
上述第2區域係視感度補正透過率較第1區域高之區域，俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述第2區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述第2區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述第2區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
Description
本發明係關於一種偏光膜及其製造方法。
使用有機發光二極體(OLED)之有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置相較於液晶顯示裝置等不僅可輕量化或薄型化，而且可實現範圍較廣之視野角、較快之回應速度、較高之對比度等高畫質，故而於智慧型手機或電視、數位相機等各種領域中使用。已知於有機EL顯示裝置中，為了抑制因外界光之反射引起之視認性之降低，而使用圓偏光板等提高防反射性能。
作為用於此種圓偏光板之偏光膜，於專利文獻1及專利文獻2中，記載有將經圖案化之液晶硬化層積層於基材上所得之圖案偏光膜。近年來，就智慧型手機之設計性等而言，對該圖案偏光膜尋求設置視感度補正透過率較高之區域。然而，於圖案偏光膜中，若視感度補正透過率較高之區域較大，則有可能成為圖案偏光膜之偏光性能較差之原因。因此，尋求視感度補正透過率較高之區域較窄之圖案偏光膜。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2015-206852號公報
[專利文獻2]日本專利特開2015-212823號公報
[發明所欲解決之問題]
但是，視感度補正透過率較高之區域較窄之圖案偏光膜存在如下情況：於圖案形成時於膜中產生皺褶，從而所獲得之膜之外觀變差。
本發明之目的在於提供一種視感度補正透過率較高之區域較窄且外觀優異之偏光膜及其製造方法。
[解決問題之技術手段]
本發明提供以下所示之偏光膜及其製造方法。
[1]一種偏光膜，其係具有液晶硬化層者，
上述液晶硬化層包含液晶化合物，至少具有視感度補正透過率之值互不相同之第1區域及第2區域，且
上述第2區域係視感度補正透過率較第1區域高之區域，俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述第2區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述第2區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述第2區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
[2]如[1]之偏光膜，其中進而具有基材層、及積層於上述基材層之至少單面側之配向層，且
液晶硬化層積層於上述配向層上。
[3]如[2]之偏光膜，其中配向層包含光配向性聚合物。
[4]如[1]至[3]中任一項之偏光膜，其中液晶化合物包含聚合性液晶化合物。
[5]如[1]至[4]中任一項之偏光膜，其中第1區域之視感度補正偏光度之值較第2區域高。
[6]如[1]至[5]中任一項之偏光膜，其中第1區域中之視感度補正偏光度為90%以上。
[7]如[1]至[6]中任一項之偏光膜，其中第2區域中之視感度補正偏光度為10%以下。
[8]如[1]至[7]中任一項之偏光膜，其中液晶硬化層進而含有二色性色素。
[9]如[8]之偏光膜，其中第1區域之二色性色素之含有率較第2區域大。
[10]如[1]至[9]中任一項之偏光膜，其中第1區域中之視感度補正單體透過率為35%以上。
[11]如[1]至[10]中任一項之偏光膜，其中第2區域中之視感度補正單體透過率為80%以上。
[12]如[1]至[11]中任一項之偏光膜，其中第1區域於X射線繞射測定中顯示布勒格峰。
[13]如[2]至[12]中任一項之偏光膜，其中基材層具有1/4波長片功能。
[14]如[1]至[13]中任一項之偏光膜，其中偏光膜之長度為10 m以上。
[15]一種圓偏光板，其係積層如[1]至[12]及[14]中任一項之偏光膜及具有1/4波長片功能之相位差層而成。
[16]一種偏光膜之製造方法，其中該偏光膜係於液晶硬化層中一部分區域之二色性色素之含有率較其他區域低，該偏光膜之製造方法包含如下步驟：對具有包含二色性色素之上述液晶硬化層及基材層之積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射。
[17]如[16]之偏光膜之製造方法，其中積層膜進而具有配向層，且上述配向層積層於液晶硬化層。
[18]如[16]或[17]之偏光膜之製造方法，其中二色性色素之含有率較低之區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
[19]如[16]至[18]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述液晶硬化層包含聚合性液晶化合物之聚合物。
[20]如[16]至[19]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
[21]一種圓偏光板之製造方法，其包含：步驟(1)，其係對包含液晶硬化層及基材層之積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射；及
步驟(2)，其係積層藉由上述步驟(1)獲得之偏光膜及具有1/4波長片功能之相位差層。
[22]如[21]之圓偏光板之製造方法，其中步驟(1)係於步驟(2)之後進行。
[發明之效果]
本發明之偏光膜係視感度補正透過率較高之區域較窄且外觀優異。進而，根據本案發明之製造方法，可高效率地獲得本發明之偏光膜。
本發明之偏光膜具有液晶硬化層，上述液晶硬化層包含液晶化合物，至少具有視感度補正透過率之值互不相同之第1區域及第2區域，且上述第2區域係視感度補正透過率較第1區域高之區域，俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述第2區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述第2區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述第2區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
以下，參照圖式，對本發明之偏光膜及其製造方法之較佳之實施形態進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處所說明之實施形態，可於不損及本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
＜偏光膜＞
圖1(a)係表示本發明之偏光膜之一例之概略俯視圖，圖1(b)係圖1(a)之X-X剖視圖。
本實施形態之偏光膜1係具有光吸收各向異性之功能之膜，具有包含液晶化合物之液晶硬化層11。液晶硬化層11具有根據視感度補正透過率(Ty)之值區分之至少2個區域，該至少2個區域通常二色性色素之含有率互不相同。
偏光膜1係具有液晶硬化層11者，亦可進而具有基材層13、配向層12、其他層等。
於圖1(b)所示之偏光膜1中，示出於基材層13之單面側具有配向層12及液晶硬化層11之例，亦可於基材層13之雙面具有配向層及液晶硬化層。設置於基材層13之雙面之液晶硬化層之結構可彼此相同，亦可互不相同。
偏光膜1可為長度為10 m以上之長條狀之偏光膜，於此情形時，偏光膜1可製成捲繞為滾筒狀之捲繞體。可進行自該捲繞體連續地放出偏光膜並與下述相位差層積層、切斷為單片等步驟。製成捲繞體之長條狀之偏光膜之長度只要為10 m以上則無特別限定，例如可設為10000 m以下。
(液晶硬化層)
液晶硬化層11包含液晶化合物，且具有含有液晶化合物及二色性色素之區域。於偏光膜1具有偏光膜1平面之偏光特性之情形時，較佳為具有二色性色素及液晶化合物處於相對於偏光膜1平面水平配向之狀態之區域。於偏光膜1具有偏光膜1之膜厚方向之偏光特性之情形時，較佳為具有二色性色素及液晶化合物處於相對於偏光膜1平面水平配向之狀態之區域。
液晶硬化層11包含液晶化合物，通常進而含有二色性色素。
於液晶硬化層11中，二色性色素及液晶化合物為相對於偏光膜1面水平配向之狀態之區域中，對於波長λ nm之光之液晶配向水平方向之吸光度A1(λ)與液晶配向面內垂直方向之吸光度A2(λ)之比即二色比(＝A1(λ)/A2(λ))只要為7以上則較佳，只要為20以上則更佳，進而較佳為30以上。該值越高，越表示具有吸收選擇性優異之偏光特性。雖亦取決於二色性色素之種類，但於液晶硬化層11為向列型液晶相之情形時，上述比為5～10左右。於液晶硬化層11為向列型液晶相及下述層列型液晶相之情形時，液晶化合物與二色性色素並不相分離，上述情況例如可藉由利用各種顯微鏡進行之表面觀察或利用霧度計進行之散射度測定而確認。
如圖1(a)及圖(b)所示，液晶硬化層11具有根據視感度補正透過率區分之第1區域11a及第2區域11b。
於圖1(a)所示之偏光膜1中，表示視感度補正透過率不同之2個區域分別各具有1個之例，但第1區域及第2區域亦可分別為2個以上。
圖1(a)所示之偏光膜1之第1區域11a含有液晶化合物及二色性色素。第2區域11b含有液晶化合物，可含有二色性色素亦可不含有二色性色素。於第1區域11a含有二色性色素之情形時，其含有率較佳為高於第2區域11b所含有之二色性色素之含有率。
液晶硬化層11中之二色性色素之含有率例如可藉由測定二色性色素所具有之吸收極大波長(λMAX
)下之吸光度而決定。
第1區域11a較佳為視感度補正偏光度之值較第2區域11b高。
第1區域11a較佳為具有較高之偏光特性之區域，例如視感度補正偏光度(Py)可設為90%以上，較佳為92%以上，更佳為95%以上，且通常為100%以下。
第1區域11a之視感度補正透過率(Ty)例如可設為35%以上，較佳為40%以上，更佳為42%以上，且通常未達50%。
第2區域11b較佳為具有較第1區域11a之視感度補正偏光度(Py)低之視感度補正偏光度(Py)之低偏光區域。
第2區域11b中之視感度補正偏光度(Py)例如可設為10%以下，較佳為5%以下，更佳為1%以下，亦可為0%。
第2區域11b具有較第1區域11a之視感度補正透過率高之視感度補正透過率。第2區域11b之視感度補正透過率(Ty)例如可設為80%以上，較佳為85%以上，更佳為88%以上，且通常為98%以下。
本說明書中之視感度補正透過率(Ty)及視感度補正偏光度(Py)可基於使用分光光度計測得之偏光度及單體透過率而算出。例如，可使用在分光光度計設置有附偏光元件之夾套之裝置藉由雙光束法於作為可見光之波長380 nm～780 nm之範圍內測定透過軸方向(配向垂直方向)之透過率(T1
)及吸收軸方向(配向同一方向)之透過率(T2
)。關於可見光範圍內之偏光度及單體透過率，可藉由使用下述式(式1)及(式2)算出各波長下之偏光度及單體透過率進而利用JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度補正，而以視感度補正偏光度(Py)及視感度補正透過率(Ty)算出。
偏光度[%]＝{(T1
－T2
)/(T1
＋T2
)}×100 (式1)
透過率[%]＝(T1
＋T2
)/2 (式2)
第1區域11a之佔據面積及第2區域11b之佔據面積只要根據偏光膜1所要求之特性適當選擇即可。第1區域11a及第2區域11b之佔據面積之合計面積相對於偏光膜1之表面積之比率較佳為90%以上，更佳為95%以上，進而較佳為99%以上。
相對於第1區域11a之佔據面積與第2區域11b之佔據面積之合計面積，第1區域11a之佔據面積較佳為50%以上，更佳為70%以上，進而較佳為80%以上。例如亦可如圖1(a)所示，第2區域11b之佔據面積小於第1區域11a之佔據面積，且以包圍第2區域11b之方式設置第1區域11a。於圖1(a)所示之偏光膜1中，以包圍1個圓形之第2區域11b之方式設置第1區域11a，但第2區域11b亦可分別獨立地設置有複數個。
第1區域11a之形狀並無特別限定。第1區域11a之俯視形狀可為圓形、橢圓形、扁圓形、多邊形、線狀、帶狀、波形狀等。
第2區域11b之俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形、或多邊形。於第2區域11b為圓形之情形時，其直徑為2 cm以下，較佳為1 cm以下，更佳為0.5 cm以下。於第2區域11b為圓形之情形時，其直徑可為0.05 cm以上，亦可為0.1 cm以上。
於第2區域11b為橢圓形或扁圓形之情形時，其長軸為2 cm以下，較佳為1 cm以下，更佳為0.5 cm以下。於第2區域11b為橢圓形或扁圓形之情形時，其直徑可為0.05 cm以上，亦可為0.1 cm以上。
於第2區域11b為多邊形之情形時，以內切該多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下，較佳為1 cm以下，更佳為0.5 cm以下。於第2區域11b為多邊形之情形時，上述假想圓之直徑可為0.05 cm以上，亦可為0.1 cm以上。
上述形狀之第2區域11b可較佳地用作與設置於智慧型手機或平板等之相機之透鏡位置對應之區域。此時，藉由將第2區域11b設為視感度補正單體透過率(Ty)為80%以上且視感度補正偏光度(Py)為10%以下之區域，可減少第2區域11b之著色，獲得優異之透明性，故而可提高相機之性能。
第1區域11a與第2區域11b亦可分別交替地設置有複數個。
於偏光膜為長條狀之偏光膜之情形時，長條狀之偏光膜通常根據偏光膜之用途等被裁斷為特定尺寸，故而較佳為以第1區域11a或第2區域11b形成於裁斷後之偏光膜之特定位置之方式，設定長條狀之偏光膜中之第1區域11a或第2區域11b之配置。例如，於裁斷後之偏光膜為圖1(a)所示之偏光膜1之情形時，較佳為於長條狀之偏光膜之長度方向及/或寬度方向上以特定間隔設置複數個第2區域11b。
液晶硬化層11中之第1區域11a之厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，又，較佳為5 μm以下，更佳為3 μm以下。液晶硬化層11中之第2區域11b之厚度較佳為與第1區域11a相同之厚度，較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，又，較佳為5 μm以下，更佳為3 μm以下。液晶硬化層11之厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡、或觸針式膜厚計等進行測定。
第2區域11b之厚度亦可小於第1區域11a之厚度，但第1區域11a之厚度與第2區域11b之厚度之差較佳為2 μm以下，更佳為1 μm以下，進而較佳為0.5 μm以下。藉由將液晶硬化層11之第1區域11a及第2區域11b之厚度設為相同程度，減小第1區域11a與第2區域11b之階差，可於液晶硬化層11積層有下述相位差層或其他層(表面保護層等)之情形時，抑制氣泡之進入或褶皺之產生等不良情況。又，於將具有液晶硬化層11之偏光膜1捲取為滾筒狀之情形時，亦可抑制形成捲繞痕跡等不良情況。
(液晶化合物)
作為液晶硬化層11所包含之液晶化合物，可使用公知之液晶化合物。液晶化合物之種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及該等之混合物。液晶化合物可為高分子液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物，還可為該等之混合物。
作為液晶化合物，可使用聚合性液晶化合物。藉由使用聚合性液晶化合物，可任意地控制偏光膜之色相，並且可將偏光膜大幅薄型化。又，可不進行延伸處理而製造偏光膜，故而可製成不會因熱而延伸緩和之非伸縮性之偏光膜。
所謂聚合性液晶化合物係指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。聚合性基係指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基係指可藉由自下述光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等參與聚合反應之基。作為聚合性基，可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基或氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。液晶性可為熱致型液晶亦可為溶致型液晶，於如本實施形態之液晶硬化層般與二色性色素混合之情形時，較佳為使用熱致型液晶。
於聚合性液晶化合物為熱致型液晶之情形時，可為顯示向列型液晶相之熱致性液晶化合物，亦可為顯示層列型液晶相之熱致性液晶化合物。於液晶硬化層11作為藉由聚合反應獲得之聚合物膜表現偏光功能時，聚合性液晶化合物所顯示之液晶狀態較佳為層列相，就高性能化之觀點而言，更佳為高次層列相。其中，更佳為形成層列型B相、層列型D相、層列型E相、層列型F相、層列型G相、層列型H相、層列型I相、層列型J相、層列型K相或層列型L相之高次層列型液晶化合物，進而較佳為形成層列型B相、層列型F相或層列型I相之高次層列型液晶化合物。若聚合性液晶化合物形成之液晶硬化層11為該等高次層列相，則可於液晶硬化層11形成偏光性能更高之區域。又，如此般偏光性能較高之區域係於X射線繞射測定中獲得源自六角相或結晶相等高次結構之布勒格峰者。於本發明之偏光膜中，第1區域較佳為於X射線繞射測定中顯示布勒格峰。該布勒格峰係源自分子配向之週期結構之峰，可獲得其週期間隔為3～6 Å之膜。於本實施形態之偏光膜1中，液晶硬化層11包含聚合性液晶化合物於層列相之狀態下聚合而成之聚合物，藉此例如可對第1區域11a賦予更高之偏光特性故而較佳。又，聚合性液晶化合物可為單體，亦可為聚合性基聚合而成之低聚物或聚合物。
例如能以如下方式確認聚合性液晶化合物顯示向列型液晶相亦或層列型液晶相。將偏光膜形成用組合物塗佈於基材形成塗佈膜之後，於聚合性液晶化合物不聚合之條件下進行加熱處理，藉此去除塗佈膜所含有之溶劑。繼而，藉由利用偏光顯微鏡進行之質構觀察、X射線繞射測定或示差掃描熱測定，對藉由將形成於基材上之塗佈膜加熱至各向同性相溫度然後緩緩地冷卻而表現之液晶相進行檢查。
作為聚合性液晶化合物，只要為具有至少1個(甲基)丙烯醯基之液晶化合物則無特別限定，可使用公知之聚合性液晶化合物，較佳為顯示層列型液晶性之化合物。作為此種聚合性液晶化合物，例如可列舉以下述式(A1)表示之化合物(以下，有時稱為「聚合性液晶化合物(A1)」)。
U1
-V1
-W1
-(X1
-Y1
-)n
-X2
-W2
-V2
-U2
(A1)
[式(A1)中，
X1
及X2
相互獨立地表示2價芳香族基或2價脂環式烴基，此處，該2價芳香族基或2價脂環式烴基所包含之氫原子可被取代為鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之氟烷基、碳數1～4之烷氧基、氰基或硝基，構成該2價芳香族基或2價脂環式烴基之碳原子可被取代為氧原子或硫原子或氮原子。其中，X1
及X2
中之至少1者為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基。
Y1
為單鍵或二價連結基。
n為1～3，於n為2以上之情形時，複數個X1
可彼此相同，亦可不同。X2
可與複數個X1
中之任一者或全部相同，亦可不同。於n為2以上之情形時，複數個Y1
可彼此相同，亦可不同。就液晶性之觀點而言，n較佳為2以上。
U1
表示氫原子或(甲基)丙烯醯氧基。
U2
表示(甲基)丙烯醯氧基。
W1
及W2
相互獨立地為單鍵或二價連結基。
V1
及V2
相互獨立地表示可具有取代基之碳數1～20之烷二基，構成該烷二基之-CH2
-亦可取代為-O-、-CO-、-S或NH-。]
於聚合性液晶化合物(A1)中，X1
及X2
較佳為相互獨立地為可具有取代基之1,4-伸苯基、或可具有取代基之環己烷-1,4-二基，X1
及X2
中之至少1者為可具有取代基之1,4-伸苯基、或可具有取代基之環己烷-1,4-二基，較佳為反式-環己烷-1,4-二基。作為可具有取代基之1,4-伸苯基、或可具有取代基之環己烷-1,4-二基所任意具有之取代基，可列舉甲基、乙基及丁基等碳數1～4之烷基、氰基及氯原子、氟原子等鹵素原子。較佳為未經取代。
又，聚合性液晶化合物(A1)於容易表現層列型液晶性之方面，較佳為於式(A1)中式(A1-1)：
-(X1
-Y1
-)n
-X2
- (A1-1)
[式中，X1
、Y1
、X2
及n分別表示與上述相同之含義。]
所表示之部分[以下稱為部分結構(A1-1)。]為非對稱結構之情況。
作為部分結構(A1-1)為非對稱結構之聚合性液晶化合物(A1)，例如可列舉n為1且1個X1
與X2
為互不相同之結構之聚合性液晶化合物(A1)。亦可列舉如下兩種聚合性液晶化合物(A1)，一種聚合性液晶化合物(A1)係n為2且2個Y1
為彼此相同之結構之化合物，其中2個X1
為彼此相同之結構且1個X2
為與該等2個X1
不同之結構，另一種聚合性液晶化合物(A1)係n為2、2個X1
中之鍵結於W1
之X1
為與另一X1
及X2
不同之結構且另一X1
與X2
為彼此相同之結構。可列舉如下聚合性液晶化合物(A1)，該聚合性液晶化合物(A1)係n為3且3個Y1
為彼此相同之結構之化合物，其中3個X1
及1個X2
中之任一個為與其他3個均不相同之結構。
Y1
較佳為-CH2
CH2
-、-CH2
O-、-CH2
CH2
O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N＝N-、-CRa
＝CRb
-、-C≡C-、-CRa
＝N-或-CO-NRa
-。Ra
及Rb
相互獨立地表示氫原子或碳數1～4之烷基。Y1
更佳為-CH2
CH2
-、-COO-或單鍵，於存在複數個Y1
之情形時，與X2
鍵結之Y1
更佳為-CH2
CH2
-或-CH2
O-。於X1
及X2
全部為同一結構之情形時，較佳為存在互不相同之鍵結方式之2個以上之Y1
。於存在互不相同之鍵結方式之複數個Y1
之情形時，成為非對稱結構，故而處於容易表現層列型液晶性之傾向。
U2
為(甲基)丙烯醯氧基。U1
為氫原子或(甲基)丙烯醯氧基，較佳為(甲基)丙烯醯氧基。就提高偏光膜之層間之密接性及耐熱性之觀點而言，較佳為U1
及U2
均為(甲基)丙烯醯氧基。(甲基)丙烯醯氧基可為聚合之狀態，亦可為未聚合之狀態，較佳為未聚合之狀態。
作為V1
及V2
所表示之烷二基，可列舉亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1
及V2
較佳為碳數2～12之烷二基，更佳為碳數6～12之烷二基。
作為該烷二基所任意具有之取代基，可列舉氰基及鹵素原子等，但該烷二基較佳為未經取代，更佳為未經取代之直鏈狀烷二基。
W1
及W2
較佳為相互獨立地為單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-，更佳為單鍵或-O-。
作為聚合性液晶化合物，只要為具有至少1個(甲基)丙烯醯基之聚合性液晶化合物則無特別限定，可使用公知之聚合性液晶化合物，較佳為顯示層列型液晶性，作為容易顯示層列型液晶性之結構，較佳為於分子結構中具有非對稱性之分子結構，具體而言，更佳為具有式(A-a)～(A-i)所表示之結構且顯示層列型液晶性之聚合性液晶化合物。就容易顯示高次層列型液晶性之觀點而言，更佳為具有式(A-a)、式(A-b)或式(A-c)所表示之結構。再者，於式(A-a)～式(A-i)中，＊表示鍵結鍵(單鍵)。
[化1]
作為聚合性液晶化合物，具體可列舉式(A-1)～式(A-25)所表示之化合物。於聚合性液晶化合物具有環己烷-1,4-二基之情形時，該環己烷-1,4-二基較佳為反式體。
[化2]
[化3]
[化4]
[化5]
[化6]
其中，較佳為選自由式(A-2)、式(A-3)、式(A-4)、式(A-5)、式(A-6)、式(A-7)、式(A-8)、式(A-13)、式(A-14)、式(A-15)、式(A-16)及式(A-17)所表示之化合物所組成之群中之至少1種。作為聚合性液晶化合物，可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
聚合性液晶化合物可單獨或組合地用於液晶硬化層11。又，於組合2種以上之聚合性液晶化合物之情形時，較佳為至少1種為聚合性液晶化合物，更佳為2種以上為聚合性液晶化合物。藉由組合2種以上之聚合性液晶化合物，存在即便為液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度亦可暫時保持液晶性之情形。作為組合2種聚合性液晶化合物之情形時之混合比，通常為1：99～50：50，較佳為5：95～50：50，進而較佳為10：90～50：50。
聚合性液晶化合物例如可藉由Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays - Bas, 115, 321 - 328(1996)、或日本專利第4719156號等所記載之公知方法而製造。
液晶硬化層11中之聚合性液晶化合物之含有率相對於液晶硬化層11之固形物成分100質量份通常為50～99.5質量份，較佳為60～99質量份，更佳為70～98質量份，進而較佳為80～97質量份。若聚合性液晶化合物之含有率為上述範圍內，則有配向性變高之傾向。此處，所謂固形物成分係指自下述液晶硬化層形成用組合物去除溶劑所得之成分之合計量。
(二色性色素)
所謂二色性色素係指具有分子之長軸方向上之吸光度與短軸方向上之吸光度不同之性質之色素。二色性色素係與液晶化合物一起配向並顯示二色性之色素，二色性色素自身可具有聚合性，亦可具有液晶性。作為二色性色素，較佳為具有吸收可見光之特性之特性，更佳為於380～680 nm之範圍內具有吸收極大波長(λMAX
)者。作為此種二色性色素，例如可列舉吖啶色素、㗁𠯤色素、花青色素、萘色素、偶氮色素或蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素或茋偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素或三偶氮色素。二色性色素可單獨使用，亦可組合2種以上使用，但為了於可見光全域獲得吸收，較佳為組合3種以上之二色性色素，更佳為組合3種以上之偶氮色素。
作為偶氮色素，例如可列舉式(I)
T1
-A1
(-N＝N-A2
)p
-N＝N-A3
-T2
(I)
[式(I)中，A1
、A2
及A3
相互獨立地表示可具有取代基之1,4-伸苯基、萘-1,4-二基、或可具有取代基之2價雜環基，T1
及T2
相互獨立地為吸電子基或推電子基，存在於相對於偶氮鍵結面內實質上為180°之位置。p表示0～4之整數。於p為2以上之情形時，各A2
可彼此相同亦可不同。於可見光範圍內顯示吸收之範圍內，-N＝N-鍵亦可取代為-C＝C-、-COO-、-NHCO-或-N＝CH-鍵。]
所表示之化合物(以下，有時亦稱為「化合物(I)」)。
作為A1
、A2
及A3
中之1,4-伸苯基、萘-1,4-二基及2價雜環基所任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基或丁基等碳數1～4之烷基；甲氧基、乙氧基或丁氧基等碳數1～4之烷氧基；三氟甲基等碳數1～4之氟化烷基；氰基；硝基；氯原子、氟原子等鹵素原子；胺基、二乙胺基及吡咯烷基等經取代或未經取代之胺基(所謂經取代胺基係指具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基。未經取代胺基為-NH2
)。再者，作為碳數1～6之烷基，可列舉甲基、乙基或己基等。作為碳數2～8之烷二基，可列舉伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、或辛烷-1,8-二基等。為了將化合物(I)包絡於如層列型液晶之高秩序液晶結構中，A1
、A2
及A3
較佳為相互獨立地為未經取代、氫由甲基或甲氧基取代之1,4-伸苯基、或2價雜環基，p較佳為0或1。其中，於具有分子合成之簡便性及較高之性能之兩者之方面，更佳為p為1且A1
、A2
及A3
之3者之結構中之至少2者為1,4-伸苯基。
作為2價雜環基，可列舉自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、㗁唑及苯并㗁唑去除2個氫原子所得之基。於A2
為2價雜環基之情形時，較佳為分子鍵結角度實質上成為180°之結構，具體而言，更佳為兩個5員環縮合之苯并噻唑、苯并咪唑、苯并㗁唑結構。
T1
及T2
相互獨立地為吸電子基或推電子基，較佳為結構互不相同，進而較佳為T1
為吸電子基且T2
為推電子基，或者，T1
為推電子基且T2
為吸電子基。具體而言，T1
及T2
較佳為相互獨立地為碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、氰基、硝基、具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基、或三氟甲基，其中，為了包絡於如層列型液晶之高秩序液晶結構中，必須為分子之排除體積更小之結構體，故而較佳為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、氰基、具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基。
作為上述偶氮色素，可列舉以下化合物等。
[化7]
[化8]
[式(2-1)～(2-6)中，B1
～B20
相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代之胺基(經取代胺基及未經取代胺基之定義如上所述)、氯原子或三氟甲基。又，就獲得較高之偏光性能之觀點而言，B2
、B6
、B9
、B14
、B18
、B19
較佳為氫原子或甲基，進而較佳為氫原子。
n1～n4分別獨立地表示0～3之整數。
於n1為2以上之情形時，複數個B2
可分別相同，亦可不同，
於n2為2以上之情形時，複數個B6
可分別相同，亦可不同，
於n3為2以上之情形時，複數個B9
可分別相同，亦可不同，
於n4為2以上之情形時，複數個B14
可分別相同，亦可不同。
作為上述蒽醌色素，較佳為式(2-7)所表示之化合物。
[化9]
[式(2-7)中，R1
～R8
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。
Rx
表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基。]
作為上述㗁𠯤色素，較佳為式(2-8)所表示之化合物。
[化10]
[式(2-8)中，R9
～R15
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。]
Rx
表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基。]
作為上述吖啶色素，較佳為式(2-9)所表示之化合物。
[化11]
[式(2-9)中，R16
～R23
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。
Rx
表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基。]
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中之Rx
所表示之碳數1～4之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基等，作為碳數6～12之芳基，可列舉苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基或萘基等。
作為上述花青色素，較佳為式(2-10)所表示之化合物及式(2-11)所表示之化合物。
[化12]
[式(2-10)中，D1
及D2
相互獨立地表示式(2-10a)～式(2-10d)中任一者所表示之基。n5表示1～3之整數。]
[化13]
[化14]
[式(2-11)中，D3
及D4
相互獨立地表示式(2-11a)～式(2-11h)中任一者所表示之基。n6表示1～3之整數。]
[化15]
就獲得良好之光吸收特性之觀點而言，於如液晶硬化層11之第1區域11a般具有偏光特性之區域中，二色性色素之含有率(包含複數種之情形時為其合計量之比率)相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常較佳為0.1～30質量份，更佳為1～20質量份，進而較佳為3～15質量份。存在如下情形：若二色性色素之含有率少於該範圍則光吸收變得不充分，而無法獲得充分之偏光性能，若多於該範圍則會阻礙液晶分子之配向。液晶硬化層11之第2區域11b相較於液晶硬化層11之第1區域11a，二色性色素之含有率通常較低。
(基材層)
偏光膜1亦可具有基材層13。基材層13例如可如下所述於製造偏光膜1時用以支持配向層12或下述液晶硬化層21，又，可用以支持偏光膜1之液晶硬化層11。
基材層13可為玻璃基材亦可為樹脂基材，較佳為樹脂基材。就可連續製造偏光膜1之方面而言，基材層13更佳為將捲繞為滾筒狀之長條之樹脂基材捲出者。樹脂基材較佳為具有可透過可見光之透光性之基材。此處，所謂透光性係指相對於波長380～780 nm之波長區域之光視感度補正單體透過率為80%以上。
基材層13之厚度越薄越佳，但若過薄則有強度降低而加工性較差之傾向。基材層13之厚度通常為5 μm～300 μm，較佳為20 μm～200 μm。又，基材層13可設置為能剝離，例如亦可為將偏光膜1之液晶硬化層11貼合於形成顯示裝置之構件或下述相位差層等之後可自偏光膜1剝離者。
作為構成樹脂基材之樹脂，可列舉：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；降𦯉烯系聚合物等環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及醋酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等。
作為市售之纖維素酯之樹脂基材，可列舉:“Fujitac Film”(富士軟片股份有限公司製)；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(以上為KONICA MINOLTA股份有限公司製)等。
作為市售之環狀烯烴系樹脂，可列舉：“Topas”(註冊商標)(Ticona公司(獨)製)；“ARTON”(註冊商標)(JSR股份有限公司製)；“ZEONOR”(註冊商標)、“ZEONEX”(註冊商標)(以上為日本瑞翁股份有限公司製)；及“APEL”(註冊商標)(三井化學股份有限公司製)。可對此種環狀烯烴系樹脂藉由溶劑流延法、熔融擠出法等公知之方法進行製膜而製成樹脂基材。亦可使用市售之環狀烯烴系樹脂之樹脂基材。作為市售之環狀烯烴系樹脂之樹脂基材，可列舉：“S-SINA”(註冊商標)、“SCA40”(註冊商標)(以上為積水化學工業股份有限公司製)；“ZEONOR FILM”(註冊商標)(Optronics股份有限公司製)；及“ARTON FILM”(註冊商標)(JSR股份有限公司製)。
基材層13可為單層構造亦可為2層以上之多層構造。於基材層13為多層構造之情形時，各層可由相同材料形成，亦可由互不相同之材料形成。
基材層13亦可具有1/4波長片功能。藉由基材層13具有1/4波長片功能，可藉由基材層13與液晶硬化層11之組合獲得具有圓偏光板之功能之偏光膜。藉此，即便不與基材層13分開地將具有1/4波長片功能之相位差層貼合於偏光膜1，亦可獲得圓偏光板。於基材層13為多層構造之情形時，可藉由使用積層具有1/2波長片功能之層及具有1/4波長片功能之層所得之構件，並將液晶硬化層11積層於具有1/2波長片功能之層側，而獲得圓偏光板。或者，於基材層13為多層構造之情形時，藉由使用積層逆波長分散性之具有1/4波長片功能之層及具有正C板功能之層所得之構件亦可獲得圓偏光板。
(配向層)
偏光膜1亦可於基材層13上具有配向層12，配向層12配置於基材層13與液晶硬化層11之間。配向層12可具有使積層於其上之液晶硬化層11中之液晶化合物液晶配向於所需方向上之配向限制力。
配向層12使液晶化合物之液晶配向變得容易。水平配向、垂直配向、混合配向、傾斜配向等液晶配向之狀態根據配向層12及液晶化合物之性質而變化，可任意選擇其組合。例如，若配向層12為表現水平配向作為配向限制力之材料，則液晶化合物可形成水平配向或混合配向。若配向層12為表現垂直配向之材料，則液晶化合物可形成垂直配向或傾斜配向。水平、垂直等之表現表示以偏光膜1平面為基準之情形時之所配向之液晶化合物之長軸之方向。例如，所謂垂直配向係具有配向於相對於偏光膜1平面垂直之方向上之聚合性液晶之長軸。此處所謂垂直係指相對於偏光膜1平面為90°±20°。偏光膜1較佳為具有偏光膜1平面之偏光特性，故而配向層12較佳為使用表現水平配向之材料而形成。
配向層12之配向限制力於配向層12由配向性聚合物形成之情形時，可根據表面狀態或摩擦條件任意地進行調整，於由光配向性聚合物形成之情形時，可根據偏光照射條件等任意地進行調整。又，亦可藉由選擇聚合性液晶化合物之表面張力或液晶性等物性，控制液晶配向。
配向層12之厚度通常為10 nm～5000 nm，較佳為10 nm～1000 nm，更佳為30 nm～300 nm。又，形成於基材層13與液晶硬化層11之間之配向層12較佳為如下者：不溶於液晶硬化層11形成於配向層12上時所使用之溶劑，又，具有用以溶劑之去除或液晶之配向之加熱處理中之耐熱性。
作為配向層12，可列舉包含配向性聚合物之配向膜、光配向膜、或溝槽(groove)配向膜等。於基材層13係自滾筒狀之長條之樹脂基材捲出者之情形時，就可容易地控制其配向方向之方面而言，配向層12較佳為光配向膜。
作為配向性聚合物，可列舉於分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠、於分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺、作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚㗁唑、聚伸乙基亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸、或聚丙烯酸酯等。其中，較佳為聚乙烯醇。該等配向性聚合物可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
作為配向層形成步驟中之配向層形成用組合物，可列舉下述配向性聚合物組合物、光配向膜形成用組合物等。作為配向層形成步驟，可列舉以下步驟。
包含配向性聚合物之配向層例如可藉由將使配向性聚合物溶解於溶劑所得之組合物(以下，有時稱為「配向性聚合物組合物」)塗佈於基材層後去除溶劑、或將配向性聚合物組合物塗佈於基材層後去除溶劑並進行摩擦(摩擦法)而獲得。
作為用於配向性聚合物組合物之溶劑，可列舉：水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑或丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮或甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷或庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯或二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿或氯苯等氯取代烴溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
配向性聚合物組合物中之配向性聚合物之含量只要為配向性聚合物可完全溶解於溶劑之範圍即可，相對於溶液以固形物成分換算較佳為0.1～20質量%，更佳為0.1～10質量%。
作為配向性聚合物組合物，亦可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可列舉Sunever(註冊商標)(日產化學工業股份有限公司製)或Optomer(註冊商標)(JSR股份有限公司製)等。
作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材層之方法，可列舉旋轉塗佈法、擠壓法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法或敷貼法等塗佈方法、或者軟版法等印刷法等公知之方法。於藉由輥對輥(Roll-to-Roll)形式之連續製造方法製造偏光膜1之情形時，對該塗佈方法通常採用凹版塗佈法、模嘴塗佈法或軟版法等印刷法。
藉由去除配向性聚合物組合物所包含之溶劑，形成配向性聚合物之乾燥覆膜。作為溶劑之去除方法，可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。其後，使上述乾燥覆膜與纏繞有摩擦布之旋轉之摩擦輥接觸，可形成配向層12。
光配向膜通常可藉由向配向層用塗佈層照射偏光(較佳為偏光UV(Ultraviolet，紫外線))而獲得，該配向層用塗佈層係將包含具有光反應性基之聚合物或單體、及溶劑之組合物(以下，有時稱為「光配向膜形成用組合物」)塗佈於基材層而形成。光配向膜於可藉由選擇照射之偏光之偏光方向任意地控制配向限制力之方向的方面更佳。
所謂光反應性基係指藉由照射光產生液晶配向能之基。具體而言為藉由照射光產生如所產生之分子之配向誘發或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應、或光分解反應的成為液晶配向能之起源之光反應者。該光反應性基中，引起二聚化反應或光交聯反應者於配向性優異之方面較佳。作為可產生如上反應之光反應性基，較佳為具有不飽和鍵、尤其是雙鍵者，更佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C＝C鍵)、碳-氮雙鍵(C＝N鍵)、氮-氮雙鍵(N＝N鍵)、及碳-氧雙鍵(C＝O鍵)所組成之群中之至少一者之基。
作為具有C＝C鍵之光反應性基，例如可列舉乙烯基、多烯基、茋基、茋唑(stilbazole)基、茋唑鎓(stilbazolium)基、查耳酮基或桂皮醯基等。就容易控制反應性之方面或光配向時表現配向限制力之觀點而言，較佳為查耳酮基或桂皮醯基。作為具有C＝N鍵之光反應性基，可列舉具有芳香族希夫鹼或芳香族腙等結構之基。作為具有N＝N鍵之光反應性基，可列舉偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基或甲臢基等、或者將氧化偶氮苯作為基本結構者。作為具有C＝O鍵之光反應性基，可列舉二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基或順丁烯二醯亞胺基等。該等基亦可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧羰基、羥基、磺酸基或鹵化烷基等取代基。
作為光配向膜形成用組合物之溶劑，較佳為溶解具有光反應性基之聚合物及單體者，作為該溶劑，可列舉作為上述配向性聚合物組合物之溶劑所列舉之溶劑等。
光配向膜形成用組合物中之具有光反應性基之聚合物或單體之含量可根據該具有光反應性基之聚合物或單體之種類或所欲製造之光配向膜之厚度適當調節，較佳為0.2質量%以上，尤佳為0.3～10質量%之範圍。亦可於不明顯損及光配向膜之特性之範圍內，包含聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
作為將光配向膜形成用組合物塗佈於基材層之方法，可列舉與上述將配向性聚合物組合物塗佈於基材層13之方法同樣之方法。作為自所塗佈之光配向膜形成用組合物去除溶劑之方法，例如可列舉與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同之方法。
偏光照射可自乾燥覆膜上直接進行，亦能以將透過基材層之偏光照射至乾燥覆膜之方式自基材層側進行。用於偏光照射之偏光尤佳為實質上為平行光。照射之偏光之波長可為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基能吸收光能之波長區域。具體而言，尤佳為波長250～400 nm之範圍之UV(紫外光)。作為用於偏光照射之光源，可列舉氙氣燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、KrF、ArF等紫外光雷射等，更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈或金屬鹵素燈。該等燈較波長313 nm之紫外光之發光強度大故而較佳。藉由通過適當之偏光元件照射來自光源之光，可照射偏光。作為該偏光元件，可使用偏光鏡或格蘭-湯普遜、格蘭-泰勒等之偏光稜鏡或線柵型之偏光元件。
進行摩擦或偏光照射時，若進行遮蔽，則亦可形成液晶配向之方向不同之複數個區域(圖案)。
溝槽(groove)配向膜係於膜表面具有凹凸圖案或複數個溝槽(槽)之膜。於將液晶分子置於具有等間隔地排列之複數個直線狀個溝槽之膜之情形時，液晶分子配向於沿著該槽之方向上。
作為獲得溝槽配向膜之方法，可列舉：對感光性聚醯亞胺膜表面經由具有圖案形狀之狹縫之曝光用光罩進行曝光後進行顯影及沖洗處理而形成凹凸圖案之方法；於表面具有槽之板狀之母盤形成硬化前之UV硬化性樹脂之層並將樹脂層轉移至基材後進行硬化之方法；將具有複數個槽之滾筒狀之母盤壓抵於形成於基材上之硬化前之UV硬化性樹脂之膜形成凹凸其後進行硬化之方法等。具體而言，可列舉日本專利特開平6-34976號公報及日本專利特開2011-242743號公報記載之方法等。
為了獲得配向紊亂較小之配向，溝槽配向膜之凸部之寬度較佳為0.05 μm～5 μm，凹部之寬度較佳為0.1 μm～5 μm，凹凸之階差之深度較佳為2 μm以下，較佳為0.01 μm～1 μm以下。
(其他層)
偏光膜1亦可具有除基材層13及配向層12以外之層。例如，亦可於液晶硬化層11之與基材層13相反之側之面設置保護液晶硬化層11之表面等目的之保護膜。亦可於將基材層13剝離而使用之情形時，於液晶硬化層11之已剝離基材層13之側之面設置保護膜。保護膜可為單層構造，亦可為多層構造。於保護膜為多層構造之情形時，各層可由相同材料形成，亦可由互不相同之材料形成。
本發明之偏光膜之製造方法可藉由準備液晶硬化層進而設置第2區域而製造。準備液晶硬化層之方法或設置第2區域之方法並無特別限定，較佳為藉由下述製造方法所記載之方法製造。
＜圓偏光板＞
圖2(a)～(c)係分別表示本發明之圓偏光板之一例之概略剖視圖。圖1(b)所示之偏光膜1藉由積層具有1/4波長片功能之相位差層15可製成圖2(a)及(b)所示之圓偏光板5a、5b。相位差層15可積層於偏光膜1之液晶硬化層11側(圖2(a))，亦可積層於基材層13側(圖2(b))。亦可將自圖2(a)所示之圓偏光板5a剝離基材層13所得者用作圓偏光板5c(圖2(c))，於此情形時，亦可將配向層12與基材層13一起剝離。
圓偏光板亦可為積層偏光膜1及多層構造之相位差層所得者。於此情形時，可使用積層具有1/2波長片功能之層及具有1/4波長片功能之層所得之相位差層作為多層構造之相位差層，藉由將多層構造之相位差層之具有1/2波長片功能之層側及偏光膜1積層，可製成圓偏光板。或者，藉由使用積層逆波長分散性之具有1/4波長片功能之層及具有正C板功能之層所得之相位差層作為多層構造之相位差層，亦可獲得圓偏光板。
亦可使用具有作為相位差層之功能之材料作為偏光膜1之基材層13，進而積層相位差層而製成圓偏光板。於此情形時，只要根據圓偏光板中之基材層13及相位差層之積層位置，選擇基材層13及相位差層所具有之作為相位差層之功能即可。
偏光膜與相位差層可經由使用公知之黏著劑或接著劑之接著層而積層。
＜偏光膜之製造方法＞
本發明之偏光膜之製造方法係製造在液晶硬化層中一部分區域之二色性色素之含有率較其他區域低的偏光膜之方法，且包含對具有上述液晶硬化層及基材層之積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射的步驟。
具有液晶硬化層及基材之積層膜只要為於基材層之至少單面側具有液晶硬化層者則無特別限定。
作為基材，可列舉下述保護膜。於上述積層膜中，保護膜亦可不僅作為基材積層且亦積層於液晶硬化層之與基材相反之側。
於積層膜進而具有配向層之情形時，較佳為於基材層上依序積層配向層及液晶硬化層所得者。進而具有配向層之積層膜可經由如下步驟製造：將配向層形成用組合物塗佈於基材層之一面而形成配向層；及進而將液晶硬化層形成用組合物塗佈於形成有配向層之側之面而形成液晶硬化層。
於配向層形成步驟中，亦可於塗佈配向層形成用組合物之前，對基材層13實施表面處理。作為表面處理之方法，例如可列舉電暈處理、電漿處理、雷射處理、臭氧處理、皂化處理、火焰處理、偶合劑之塗佈處理、底塗處理等。作為配向層形成用組合物，可使用包含用以形成上述配向性聚合物組合物、光配向膜形成用組合物、溝槽配向膜之樹脂材料之組合物等。對於使用各組合物形成配向層之方法，亦如上所述。例如，於配向層形成用組合物包含光配向性聚合物之情形時，配向層形成步驟可藉由對塗佈配向層形成用組合物形成之配向層用塗佈層進行偏光照射而形成在特定方向上具有配向限制力之配向層。
液晶硬化層形成用組合物係包含液晶化合物及二色性色素之組合物，較佳為包含溶劑及聚合起始劑，亦可包含增感劑、聚合抑制劑、調平劑、反應性添加劑等。作為液晶化合物及二色性色素，可使用上述者。作為溶劑、聚合起始劑、增感劑、聚合抑制劑、調平劑、反應性添加劑，可使用下述者。
作為塗佈液晶硬化層形成用組合物之方法，可列舉擠出塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、CAP(capillary，毛細管式)塗佈法、狹縫塗佈法、微凹版法、模嘴塗佈法、噴墨法等。又，亦可列舉使用浸漬塗佈機、棒式塗佈機、旋轉塗佈機等塗佈機進行塗佈之方法等。其中，於以輥對輥形式連續塗佈之情形時，較佳為藉由微凹版法、噴墨法、狹縫塗佈法、模嘴塗佈法之塗佈方法，於塗佈於玻璃等單片基材之情形時，較佳為均勻性較高之旋轉塗佈法。於以輥對輥形式進行塗佈之情形時，亦可將配向膜形成用組合物等塗佈於基材層形成配向層，進而將液晶硬化層形成用組合物連續塗佈於所獲得之配向層上。
於塗佈液晶硬化層形成用組合物形成液晶硬化層時，自所塗佈之液晶硬化層形成組合物去除溶劑而形成液晶硬化層用塗佈層。作為去除溶劑之方法，可使用與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同之方法，例如可列舉自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥及將該等組合之方法。其中，較佳為自然乾燥或加熱乾燥。乾燥溫度較佳為0～200℃之範圍，更佳為20～150℃之範圍，進而較佳為50～130℃之範圍。乾燥時間較佳為10秒～10分鐘，更佳為30秒～5分鐘。
於液晶硬化層形成用組合物所包含之液晶化合物為聚合性液晶化合物之情形時，較佳為對由液晶硬化層形成步驟形成之液晶硬化層用塗佈層進行活性能量線照射，使聚合性液晶化合物進行光聚合，而形成作為聚合性液晶化合物之聚合物層之液晶硬化層。作為所照射之活性能量，根據液晶硬化層用塗佈層所包含之聚合性液晶化合物之種類(尤其是聚合性液晶化合物所具有之光聚合性官能基之種類)、包含光聚合起始劑之情形時之光聚合起始劑之種類、及其等之量而適當選擇。具體可列舉選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α射線、β射線、及γ射線所組成之群中之一種以上之光。其中，於容易控制聚合反應之進行之方面、及可使用該領域中廣泛用作光聚合裝置者之方面，較佳為紫外光，較佳為以可藉由紫外光進行光聚合之方式選擇聚合性液晶化合物之種類。
作為活性能量線之光源，可列舉低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380～440 nm之光之LED(light emitting diode，發光二極體)光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
活性能量線之照射強度通常為10 mW/cm2
～3000 mW/cm2
。活性能量線之照射強度較佳為對陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑之活化有效之波長區域中之強度。照射活性能量線之時間通常為0.1秒～10分鐘，較佳為0.1秒～5分鐘，更佳為0.1秒～3分鐘，進而較佳為0.1秒～1分鐘。若以此種活性能量線之照射強度照射1次或複數次，則其累計光量可設為10 mJ/cm2
～3000 mJ/cm2
，較佳為50 mJ/cm2
～2,000 mJ/cm2
，更佳為100 mJ/cm2
～1000 mJ/cm2
。於累計光量為該範圍以下之情形時，聚合性液晶化合物之硬化變得不充分，存在無法獲得良好之轉印性之情形。反之，於累計光量為該範圍以上之情形時，存在液晶硬化層著色之情形。
(溶劑)
液晶硬化層形成用組合物亦可含有溶劑。一般而言，聚合性液晶化合物之黏度較高，故而於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時，藉由使用包含溶劑之液晶硬化層形成用組合物而容易塗佈，結果容易形成液晶硬化層。作為溶劑，較佳為可完全溶解聚合性液晶化合物及二色性色素者。較佳為對聚合性液晶化合物之聚合反應呈惰性之溶劑。
作為溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚或丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮或甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷或庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯或二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿或氯苯等含氯溶劑；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮等醯胺系溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
液晶硬化層形成用組合物所包含之溶劑之含量相對於液晶硬化層形成用組合物之總量較佳為50～98質量%。換言之，液晶硬化層形成用組合物中之固形物成分之含量較佳為2～50質量%。若固形物成分之含量為50質量%以下，則液晶硬化層形成用組合物之黏度變低，故而有液晶硬化層21之厚度變得大致均勻而不易於液晶硬化層21產生不均之傾向。該固形物成分之含量可考慮所欲製造之液晶硬化層21之厚度而決定。
(聚合起始劑)
液晶硬化層形成用組合物亦可含有聚合起始劑。聚合起始劑係可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時使用而可使聚合性液晶化合物等之聚合反應開始之化合物。作為聚合起始劑，就不依存於熱致型液晶之相狀態之觀點而言，較佳為藉由光之作用產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，可列舉安息香化合物、二苯甲酮化合物、苯烷酮化合物、醯基氧化膦化合物、三𠯤化合物、錪鹽或鋶鹽等。
作為安息香化合物，可列舉安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚或安息香異丁醚等。
作為二苯甲酮化合物，可列舉二苯甲酮、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作為苯烷酮化合物，可列舉二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基噻吩基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮或2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之低聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三𠯤化合物，可列舉2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三𠯤、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三𠯤、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三𠯤、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三𠯤、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三𠯤、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三𠯤或2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三𠯤等。
亦可使用市售品作為聚合起始劑。作為市售之聚合起始劑，可列舉：Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250、369、379、127、754、OXE01、OXE02、或OXE03(汽巴精化股份有限公司製)；Seikuol(註冊商標)BZ、Z、或BEE(精工化學股份有限公司製)；kayacure(註冊商標)BP100、或UVI-6992(陶氏化學股份有限公司製)；Adeka Optomer SP-152、N-1717、N-1919、SP-170、Adeka Arkls NCI-831、Adeka Arkls NCI-930(ADEKA股份有限公司製)；TAZ-A、或TAZ-PP(Nihon SiberHegner股份有限公司製)；TAZ-104(三和化學股份有限公司製)等。液晶硬化層形成用組合物中之聚合起始劑可使用1種，亦可與光之光源相對應地混合2種以上之複數種聚合起始劑而使用。
液晶硬化層形成用組合物中之聚合起始劑之含量可根據聚合性液晶化合物之種類或其量適當調節，相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份通常為0.1～30質量份，較佳為0.5～10質量份，更佳為0.5～8質量份。若聚合起始劑之含量為上述範圍內，則可不使聚合性液晶化合物之配向紊亂而進行聚合。
(增感劑)
液晶硬化層形成用組合物亦可含有增感劑。增感劑可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時較佳地使用。於使用具有光聚合性基之聚合性液晶化合物之情形時，增感劑較佳為光敏劑。作為增感劑，例如可列舉：𠮿酮及9-氧硫𠮿
等𠮿酮化合物(例如2,4-二乙基-9-氧硫𠮿、2-異丙基-9-氧硫𠮿等)；蒽及含烷氧基蒽(二丁氧基蒽等)等蒽化合物；啡噻𠯤或紅螢烯等。
於液晶硬化層形成用組合物含有增感劑之情形時，可更加促進液晶硬化層形成用組合物所含有之聚合性液晶化合物之聚合反應。該增感劑之使用量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份較佳為0.1～10質量份，更佳為0.5～5質量份，進而較佳為0.5～3質量份。
(聚合抑制劑)
就使聚合反應穩定地進行之觀點而言，液晶硬化層形成用組合物亦可含有聚合抑制劑。聚合抑制劑可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時較佳地使用，藉由聚合抑制劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應之進行程度。
作為聚合抑制劑，可列舉：對苯二酚、含烷氧基對苯二酚、含烷氧基兒茶酚(丁基兒茶酚等)、五倍子酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等自由基捕捉劑；苯硫酚化合物；β-萘胺化合物或β-萘酚化合物等。
於液晶硬化層形成用組合物含有聚合抑制劑之情形時，聚合抑制劑之含量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份較佳為0.1～10質量份，更佳為0.5～5質量份，進而較佳為0.5～3質量份。若聚合抑制劑之含量為上述範圍內，則可不使聚合性液晶化合物之配向紊亂而進行聚合。
(調平劑)
液晶硬化層形成用組合物亦可含有調平劑。所謂調平劑係具有調整組合物之流動性而使塗佈組合物獲得之膜更平坦之功能之添加劑，例如可列舉有機改性聚矽氧油系、聚丙烯酸酯系或全氟烷基系之調平劑。具體可列舉：DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上均為東麗道康寧(股)製)；KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上均為信越化學工業(股)製)；TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上均為邁圖高新材料日本有限公司製)；fluorinert(註冊商標)FC-72、fluorinert FC-40、fluorinert FC-43、fluorinert FC-3283(以上均為住友3M(股)製)；MEGAFAC(註冊商標)R-08、MEGAFAC R-30、MEGAFAC R-90、MEGAFAC F-410、MEGAFAC F-411、MEGAFAC F-443、MEGAFAC F-445、MEGAFAC F-470、MEGAFAC F-477、MEGAFAC F-479、MEGAFAC F-482、MEGAFAC F-483(以上均為DIC(股)製)；Eftop(商品名)EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上均為三菱綜合材料電子化成(股)製)；Surflon(註冊商標)S-381、Surflon S-382、Surflon S-383、Surflon S-393、Surflon SC-101、Surflon SC-105、KH-40、SA-100(以上均為AGC清美化學(股)製)；商品名E1830、商品名E5844(大金精密化學研究所(股)製)；BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353或BYK-361N(均為商品名；BM Chemie公司製)等。其中，較佳為聚丙烯酸酯系調平劑或全氟烷基系調平劑。
於液晶硬化層形成用組合物含有調平劑之情形時，相對於液晶化合物之含量100質量份較佳為0.01～5質量份，更佳為0.1～5質量份，進而較佳為0.1～3質量份。若調平劑之含量為上述範圍內，則有容易使液晶化合物水平配向且所獲得之液晶硬化層變得更平滑之傾向。若調平劑相對於液晶化合物之含量超過上述範圍，則有容易於所獲得之液晶硬化層產生不均之傾向。液晶硬化層形成用組合物亦可含有2種以上調平劑。
(反應性添加劑)
液晶硬化層形成用組合物亦可包含反應性添加劑。作為反應性添加劑，較佳為於其分子內具有碳-碳不飽和鍵及活性氫反應性基者。再者，此處所謂「活性氫反應性基」係指對羧基(-COOH)、羥基(-OH)、胺基(-NH2
)等具有活性氫之基具有反應性之基，縮水甘油基、㗁唑啉基、碳二醯亞胺基、氮丙啶基、醯亞胺基、異氰酸基、硫異氰酸基、順丁烯二酸酐基等為其代表例。反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵或活性氫反應性基之個數通常分別為1～20個，較佳為分別為1～10個。
於反應性添加劑中，較佳為存在至少2個活性氫反應性基，於此情形時，存在複數個之活性氫反應性基可相同，亦可不同。
所謂反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵可為碳-碳雙鍵、碳-碳三鍵、或其等之組合，較佳為碳-碳雙鍵。其中，作為反應性添加劑，較佳為含有碳-碳不飽和鍵作為乙烯基及/或(甲基)丙烯醯基。進而，較佳為活性氫反應性基為選自由環氧基、縮水甘油基及異氰酸基所組成之群中之至少1種的反應性添加劑，更佳為具有丙烯醯基及異氰酸基之反應性添加劑。
作為反應性添加劑之具體例，可列舉：甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚或丙烯醯氧基縮水甘油醚等具有(甲基)丙烯醯基及環氧基之化合物；氧雜環丁烷丙烯酸酯或氧雜環丁烷甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯醯基及氧雜環丁烷基之化合物；內酯丙烯酸酯或內酯甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯醯基及內酯基之化合物；乙烯基㗁唑啉或異丙烯基㗁唑啉等具有乙烯基及㗁唑啉基之化合物；丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有(甲基)丙烯醯基及異氰酸基之化合物之低聚物等。又，可列舉甲基丙烯酸酐、丙烯酸酐、順丁烯二酸酐或乙烯基順丁烯二酸酐等具有乙烯基或伸乙烯基及酸酐之化合物等。其中，較佳為甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、乙烯基㗁唑啉、丙烯酸2-異氰酸基乙酯、甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述之低聚物，尤佳為丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述之低聚物。
具體而言，較佳為下述式(Y)所表示之化合物。
[化16]
[式(Y)中，n表示1～10之整數，R1 '
表示碳數2～20之2價脂肪族或脂環式烴基、或者碳數5～20之2價芳香族烴基。處於各重複單元之2個R2 '
之一者為-NH-，另一者為＞N-C(＝O)-R3 '
所表示之基。R3 '
表示羥基或具有碳-碳不飽和鍵之基。
式(Y)中之R3 '
中之至少1個R3 '
為具有碳-碳不飽和鍵之基。]
上述式(Y)所表示之反應性添加劑中，尤佳為式(YY)所表示之化合物(以下，有時稱為化合物(YY))(再者，n係與上述相同之含義)。
[化17]
對於化合物(YY)，可將市售品直接使用或視需要進行精製而使用。作為市售品，例如可列舉Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF公司製)。
於液晶硬化層形成用組合物含有反應性添加劑之情形時，反應性添加劑之含量相對於液晶化合物100質量份通常為0.01～10質量份，較佳為0.1～5質量份。
本發明中之積層膜例如亦可於藉由上述方法獲得之液晶硬化層上積層有保護膜。
(保護膜)
上述保護膜可為包含具有透光性之(較佳為光學透明之)熱塑性樹脂之膜，該具有透光性之(較佳為光學透明之)熱塑性樹脂例如為：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降𦯉烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙醯纖維素、二乙醯纖維素之纖維素系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如甲基丙烯酸甲酯系樹脂之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系樹脂；丙烯腈-苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚縮醛系樹脂；改性聚苯醚系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，可列舉如聚乙烯樹脂(作為乙烯之均聚物之聚乙烯樹脂、或以乙烯為主體之共聚物)、聚丙烯樹脂(作為丙烯之均聚物之聚丙烯樹脂、或以丙烯為主體之共聚物)之鏈狀烯烴之均聚物，此外還可列舉包含2種以上之鏈狀烯烴之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單位而進行聚合之樹脂之總稱，例如可列舉日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。若列舉環狀聚烯烴系樹脂之具體例，則為環狀烯烴之開環聚合物(共聚物)、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯之鏈狀烯烴之共聚物(代表性而言為無規共聚物)、及將該等藉由不飽和羧酸或其衍生物改性所得之接枝聚合物、以及其等之氫化物。其中，較佳為使用降𦯉烯系樹脂，該降𦯉烯系樹脂使用如降𦯉烯或多環降𦯉烯系單體之降𦯉烯系單體作為環狀烯烴。
聚酯系樹脂係除下述纖維素酯系樹脂以外之具有酯鍵之樹脂，一般為包含多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮物者。作為多元羧酸或其衍生物，可使用2元之二羧酸或其衍生物，例如可列舉對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯。作為多元醇，可使用2元之二醇，例如可列舉乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇。作為聚酯系樹脂之代表例，可列舉作為對苯二甲酸與乙二醇之聚縮物之聚對苯二甲酸乙二酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基之化合物為主要構成單體之樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例例如包含：如聚甲基丙烯酸甲酯之聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物之共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降𦯉酯共聚物等)。較佳為使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯之聚(甲基)丙烯酸C1-6
烷基酯為主成分之聚合物，更佳為使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50～100重量%，較佳為70～100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例包含三乙酸纖維素酯、二乙酸纖維素酯、三丙酸纖維素酯、二丙酸纖維素酯。又，亦可列舉該等之共聚合物、或羥基之一部分由其他取代基修飾所得者。其中，尤佳為三乙酸纖維素酯(三乙醯纖維素)。
聚碳酸酯系樹脂係包含經由碳酸酯基鍵結有單體單位之聚合物之工程塑膠。
保護膜之厚度通常為1～100 μm，就強度或操作性等之觀點而言，較佳為5～60 μm，更佳為5～50 μm。若為該範圍內之厚度，則機械地保護液晶硬化層，即便暴露於濕熱環境下，液晶硬化層亦不會收縮從而可保持穩定之光學特性。
保護膜例如可經由接著劑層而貼合於液晶硬化層。作為形成接著劑層之接著劑，可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。
作為水系接著劑，可列舉包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。其中，較佳為使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之水系接著劑。作為聚乙烯醇系樹脂，除了可使用對作為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理所得之乙烯醇均聚物以外，還可使用對乙酸乙烯酯與可與之共聚合之其他單體之共聚物進行皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物、或將其等之羥基部分地改性所得之改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑可包含醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
於使用水系接著劑之情形時，較佳為將液晶硬化層與保護膜貼合之後，實施用以去除水系接著劑中所包含之水之乾燥步驟。亦可於乾燥步驟後例如設置在20～45℃之溫度下固化之固化步驟。
所謂上述活性能量線硬化性接著劑係含有藉由如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線之照射而硬化之硬化性化合物之接著劑，較佳為紫外線硬化性接著劑。
上述硬化性化合物可為陽離子聚合性之硬化性化合物或自由基聚合性之硬化性化合物。作為陽離子聚合性之硬化性化合物，例如可列舉環氧系化合物(於分子內具有1個或2個以上之環氧基之化合物)、或氧雜環丁烷系化合物(於分子內具有1個或2個以上之氧雜環丁烷環之化合物)、或該等之組合。作為自由基聚合性之硬化性化合物，例如可列舉(甲基)丙烯酸系化合物(於分子內具有1個或2個以上之(甲基)丙烯醯氧基之化合物)、或具有自由基聚合性之雙鍵之其他乙烯系化合物、或該等之組合。亦可併用陽離子聚合性之硬化性化合物與自由基聚合性之硬化性化合物。活性能量線硬化性接著劑通常進而包含用以使上述硬化性化合物之硬化反應開始之陽離子聚合起始劑及/或自由基聚合起始劑。
於將液晶硬化層與保護膜貼合時，為了提高接著性，亦可對該等之至少任一者之貼合面實施表面活化處理。作為表面活化處理，可列舉：如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、游離活性射線處理(紫外線處理、電子束處理等)之乾式處理；如使用水或丙酮等溶媒之超音波處理、皂化處理、增黏塗層處理之濕式處理。該等表面活化處理可單獨進行，亦可組合2種以上。
於將保護膜貼合於液晶硬化層之雙面之情形時用以貼合該等保護膜之接著劑可為同種接著劑亦可為不同種類之接著劑。
(雷射照射步驟)
於本發明中，對積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射之步驟例如能以如下實施態樣進行。
作為上述雷射，並無特別限定，可使用YAG(yttrium aluminum garnet，釔鋁石榴石)雷射、YLF(yttrium lithium fluoride，氟化釔鋰)雷射、YVO4雷射、鈦藍寶石雷射等固體雷射等。
於上述步驟中，雷射之波長可根據照射之液晶硬化層或基材之組成或厚度等適當選擇，較佳為350 nm以上，更佳為400 nm以上。雷射之波長之較佳之上限較佳為750 nm，更佳為700 nm。
於對積層膜照射雷射之情形時，較佳為對液晶硬化層照射雷射。再者，於對保護膜照射雷射之情形時，該保護膜之照射雷射之側之雷射波長之透過率較佳為20%以上，更佳為50%以上。
於上述步驟中，雷射光之照射條件可根據照射之液晶硬化層或基材等之組成或厚度、雷射裝置等適當選擇，例如於使用固體雷射之情形時，雷射功率較佳為0.3 W以上，更佳為0.5 W以上，較佳為10 W以下，更佳為5 W以下。開關頻率較佳為1000 Hz以上，更佳為15000 Hz以上，且較佳為1000000 Hz以下，更佳為300000 Hz以下。掃描速度較佳為100 mm/秒以上，更佳為200 mm/秒以上，且較佳為10000 mm/秒以下，更佳為5000 mm/秒以下。藉由以此種條件進行照射，可抑制基材之熱損傷並且高效率地形成二色性色素較低之區域。
偏光膜之製造方法較佳為可藉由輥對輥形式連續地製造。例如，只要連續進行將具有基材及液晶硬化層之積層體預先捲繞為滾筒狀一面將該積層體捲出一面進行搬送並積層保護膜之步驟、及雷射照射步驟即可。於積層保護膜之步驟中，只要藉由一面將捲繞為滾筒狀之保護膜捲出一面進行搬送並於上述積層體積層且貼合保護膜，而獲得積層膜即可。於雷射照射步驟中，可一面連續搬送積層膜一面照射雷射。於雷射照射步驟後，可進而將所獲得之偏光膜捲繞為滾筒狀而製成捲繞體。於連續製造偏光膜之情形時，例如可製成10 m以上之長度之偏光膜。
於本發明之偏光膜之製造方法中，可進而包含配向層形成步驟或液晶硬化層形成步驟而連續製造偏光膜。進而，於包含配向層形成步驟之情形時，只要一面將捲繞為滾筒狀之基材層捲出一面進行搬送，並藉由塗佈裝置將配向層形成用組合物連續塗佈於該基材層而形成配向層即可。於連續進行液晶硬化層形成步驟之情形時，只要一面連續搬送附配向層之基材層一面將液晶硬化層形成組合物塗佈於附配向層之基材層之形成有配向層之側之面形成液晶硬化層即可。
＜圓偏光板之製造方法＞
本發明之圓偏光板可藉由積層本發明之偏光膜及相位差層而製造。如上所述，於偏光膜為連續製造而成之長度10 m以上之長條偏光膜之情形時，較佳為藉由使用長度10 m以上之長條相位差層作為上述相位差層，並一面連續搬送兩者一面積層長條偏光膜及長條相位差層，而形成長條積層體。此時，較佳為將黏著劑或接著劑塗佈於長條偏光膜及長條相位差層之至少一者而積層兩者。
本發明之圓偏光板之製造方法亦可具有為了將偏光膜安裝於特定尺寸之顯示裝置等而將積層長條偏光膜及長條相位差層而獲得之長條積層體裁斷為特定尺寸之單片的步驟。於裁斷步驟中，較佳為於長條積層體之長度方向及寬度方向之至少一方向上裁斷長條積層體。於此情形時，較佳為以於裁斷所得之單片中液晶硬化層之第2區域配置於特定位置之方式，決定長條積層體中之裁斷位置。
[實施例]
基於實施例，進一步對本發明進行具體說明。但是，本發明並非由該等實施例限定者。
(視感度補正透過率(Ty)、視感度補正偏光度(Py))
對於各樣品，以如下順序算出視感度補正偏光度(Ty)、視感度補正偏光度(Py)。
順序：使用在分光光度計(島津製作所股份有限公司製造之UV-3150)設置有附偏光元件之夾套之裝置藉由雙光束法於波長380 nm～780 nm之範圍內測定透過軸方向之透過率(T1
)及吸收軸方向之透過率(T2
)。關於該夾套，參考側係設置有濾除光量50%之網目。使用下述(式1)及(式2)，算出各波長下之透過率、偏光度，進而藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度補正，而算出視感度補正透過率(Ty)、視感度補正偏光度(Py)。
透過率[%]＝(T1
＋T2
)/2 (式1)
偏光度[%]＝{(T1
－T2
)/(T1
＋T2
)}×100 (式2)
[實施例1]
(配向層形成用組合物之製造)
將下述化學式所表示之數平均分子量28000之聚合物(1)2份與鄰二甲苯98份混合，並於80℃下攪拌所獲得之混合物1小時，藉此獲得配向層形成用組合物。
聚合物(1)
(式中，Me表示甲基)
(液晶硬化層形成用組合物之製造)
藉由將下述成分混合並於80℃下攪拌1小時，而獲得液晶硬化層形成用組合物。對二色性色素使用日本專利特開2013-101328號公報之實施例所記載之偶氮系色素。
・式(1-6)所表示之聚合性液晶化合物 75份
・式(1-7)所表示之聚合性液晶化合物 25份
・下述所示之二色性色素(1) 2.8份
・下述所示之二色性色素(2) 2.8份
・下述所示之二色性色素(3) 2.8份
・聚合起始劑：2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；汽巴精化公司製) 6份
・調平劑：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製) 1.2份
・溶劑：環戊酮 250份
(積層膜1之製造)
將作為基材層之三乙醯纖維素膜(柯尼卡美能達公司製造之KC4UY-TAC；厚度40 μm)切取為50×50 mm，並對其表面實施電暈處理(AGF-B10；春日電機股份有限公司製)。
上述基材層之355 nm下之視感度補正透過率(Ty)為2%，532 nm透過率下之視感度補正透過率(Ty)為92%。
使用棒式塗佈機將上述配向層形成用組合物塗佈於實施了電暈處理之膜表面之後，藉由設定為120℃之乾燥烘箱乾燥1分鐘，而獲得配向層用塗佈層。使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；牛尾電機股份有限公司製)將偏光UV以50 mJ/cm2
(313 nm基準)之累計光量照射至配向層用塗佈層上而形成配向層。
使用棒式塗佈機將液晶硬化層形成用組合物塗佈於所獲得之配向層上之後，藉由設定為110℃之乾燥烘箱乾燥1分鐘。
其後使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201BY-A；牛尾電機股份有限公司製)，照射紫外線(氮氣氛圍下；波長：365 nm；波長365 nm下之累計光量：1000 mJ/cm2
)，藉此形成配向有液晶化合物及二色性色素之液晶硬化層1，而獲得依序具有基材層、配向層及液晶硬化層之積層膜1。
該積層膜1中之液晶硬化層1之視感度補正透過率為42%，視感度補正偏光度為98%。
(偏光膜之製成)
藉由對積層膜1自液晶硬化層側藉由基恩士公司製造之雷射刻號機以輸出3.2 W、開關頻率100000 Hz、掃描速度1000 mm/秒照射355 nm之雷射而獲得偏光膜。於所獲得之偏光膜中，藉由雷射照射形成之區域為圓狀(直徑10 mm)，視感度補正透過率為86%。進而，藉由目視觀察該藉由雷射照射形成之區域之外觀及色相。將其結果示於表1。
[實施例2]
將雷射之波長變更為532 nm，除此以外與實施例1同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[實施例3]
將雷射之照射直徑設為1 mm，除此以外與實施例2同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[實施例4]
將雷射之照射直徑設為3 mm，除此以外與實施例2同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[實施例5]
將雷射之照射直徑設為20 mm，除此以外與實施例2同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[實施例6]
自基材層(三乙醯纖維素膜)側照射雷射，除此以外與實施例1同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[實施例7]
自基材層(三乙醯纖維素膜)側照射雷射，除此以外與實施例4同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[比較例1]
使用下述積層膜2，除此以外與實施例2同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
(積層膜2之製造)
藉由乾式延伸將厚度30 μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400；皂化度99.9莫耳%以上)單軸延伸至約5倍，進而保持著拉伸狀態浸漬於40℃之純水中40秒。其後，於28℃下浸漬於碘/碘化鉀/水之質量比為0.044/5.7/100之染色水溶液中30秒而進行染色處理。繼而，於70℃下浸漬於碘化鉀/硼酸/水之質量比為11.0/6.2/100之硼酸水溶液中120秒。繼而，藉由8℃之純水進行15秒洗淨之後，於以300 N之張力保持之狀態下，於60℃下乾燥50秒然後於75℃下乾燥20秒，從而獲得碘吸附配向於聚乙烯醇膜之厚度12 μm之液晶硬化層。將水系接著劑注入至所獲得之液晶硬化層與三乙醯纖維素膜(柯尼卡美能達公司製造之KC4UY-TAC；厚度40 μm)之間，並藉由夾輥貼合。一面將所獲得之貼合物之張力保持於430 N/m，一面於60℃下乾燥2分鐘，從而獲得於單面具有作為保護膜之環烯烴膜之積層膜2。再者，上述水系接著劑係向水100份添加羧基改性聚乙烯醇(KURARAY POVAL KL318；可樂麗股份有限公司製)3份、及水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumirez Resin 650；Sumika Chemtex股份有限公司製；固形物成分濃度30%之水溶液)1.5份並進行調製而成。
[比較例2]
將雷射之波長變更為1064 nm，除此以外與實施例1同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[比較例3]
將雷射之照射直徑變更為30 mm，除此以外與實施例2同樣地製成偏光膜，並進行觀察。將其結果示於表1。
[表1]
| 積層膜 | 基材 | 照射波長 | 照射直徑 | 結果 | ||
| [nm] | [mm] | 色相 | 外觀 | |||
| 實施例1 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 355 | 10 | ○(透明) | ○(無褶皺) |
| 實施例2 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 10 | ○(透明) | ○(無褶皺) |
| 實施例3 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 1 | ○(透明) | ○(無褶皺) |
| 實施例4 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 3 | ○(透明) | ○(無褶皺) |
| 實施例5 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 20 | ○(透明) | △(有若干皺褶) |
| 實施例6 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 355 | 10 | △(有變化 黑色) | △(有若干皺褶) |
| 實施例7 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 10 | ○(透明) | ○(無褶皺) |
| 比較例1 | 積層膜2 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 10 | ○(透明) | ×(有皺褶) |
| 比較例2 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 1064 | 10 | ×(無變化) | ○(無褶皺) |
| 比較例3 | 積層膜1 | 三乙醯纖維素膜 | 532 | 30 | ○(透明) | ×(有皺褶) |
於實施例1～7之各偏光膜中，被雷射照射之區域具有透明之色相。即，實施例1～7之各偏光膜具有較未被雷射照射之區域透明度高之區域(即視感度補正透過率高之區域)。因此，可知於實施例1～7之各偏光膜中，未被雷射照射之區域相當於第1區域，被雷射照射之區域相當於第2區域。
另一方面，於比較例2中，未觀察到具有透明之色相之區域。因此，可知藉由比較例2之製法無法獲得本發明之偏光膜。
1:偏光膜
5a:圓偏光板
5b:圓偏光板
5c:圓偏光板
11:液晶硬化層
11a:第1區域
11b:第2區域
12:配向層
13:基材層
15:相位差層
圖1(a)係表示本發明之偏光膜之一例之概略俯視圖，(b)係(a)之X-X剖視圖。
圖2(a)～(c)係分別表示本發明之圓偏光板之一例之概略剖視圖。
Claims (22)
- 一種偏光膜，其係具有液晶硬化層者， 上述液晶硬化層包含液晶化合物，至少具有視感度補正透過率之值互不相同之第1區域及第2區域，且 上述第2區域係視感度補正透過率較第1區域高之區域，俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述第2區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述第2區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述第2區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
- 如請求項1之偏光膜，其進而具有基材層、及積層於上述基材層之至少單面側之配向層，且 液晶硬化層積層於上述配向層上。
- 如請求項2之偏光膜，其中配向層包含光配向性聚合物。
- 如請求項1至3中任一項之偏光膜，其中液晶化合物包含聚合性液晶化合物。
- 如請求項1至4中任一項之偏光膜，其中第1區域之視感度補正偏光度之值較第2區域高。
- 如請求項1至5中任一項之偏光膜，其中第1區域中之視感度補正偏光度為90%以上。
- 如請求項1至6中任一項之偏光膜，其中第2區域中之視感度補正偏光度為10%以下。
- 如請求項1至7中任一項之偏光膜，其中液晶硬化層進而含有二色性色素。
- 如請求項8之偏光膜，其中第1區域之二色性色素之含有率較第2區域大。
- 如請求項1至9中任一項之偏光膜，其中第1區域中之視感度補正單體透過率為35%以上。
- 如請求項1至10中任一項之偏光膜，其中第2區域中之視感度補正單體透過率為80%以上。
- 如請求項1至11中任一項之偏光膜，其中第1區域於X射線繞射測定中顯示布勒格峰。
- 如請求項2至12中任一項之偏光膜，其中基材層具有1/4波長片功能。
- 如請求項1至13中任一項之偏光膜，其中偏光膜之長度為10 m以上。
- 一種圓偏光板，其係積層如請求項1至12及14中任一項之偏光膜及具有1/4波長片功能之相位差層而成。
- 一種偏光膜之製造方法，其中該偏光膜係於液晶硬化層中一部分區域之二色性色素之含有率較其他區域低，該偏光膜之製造方法包含如下步驟：對具有包含二色性色素之上述液晶硬化層及基材層之積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射。
- 如請求項16之偏光膜之製造方法，其中積層膜進而具有配向層，且 上述配向層積層於液晶硬化層。
- 如請求項16或17之偏光膜之製造方法，其中二色性色素之含有率較低之區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、扁圓形或多邊形，上述區域為圓形之情形時之直徑為2 cm以下，上述區域為橢圓形或扁圓形之情形時之長徑為2 cm以下，於上述區域為多邊形之情形時，以內切上述多邊形之方式描繪之假想圓之直徑為2 cm以下。
- 如請求項16至18中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述液晶硬化層包含聚合性液晶化合物之聚合物。
- 如請求項16至19中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
- 一種圓偏光板之製造方法，其包含：步驟(1)，其係對包含具有二色性色素之液晶硬化層及基材之積層膜照射300 nm～800 nm之波長之雷射；及 步驟(2)，其係積層藉由上述步驟(1)獲得之偏光膜及具有1/4波長片功能之相位差層。
- 如請求項21之圓偏光板之製造方法，其中步驟(1)係於步驟(2)之後進行。
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