KR101808984B1 - 타원 편광판 - Google Patents

Abstract

(과제) 가시광 전역의 파장에 있어서 반사색의 착색을 억제하여, 표시 장치에 사용한 경우에 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 타원 편광판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
(해결 수단) 편광판 및 위상차판을 포함하고, 하기 식 (1) ∼ (4) 를 모두 만족시키는 타원 편광판.
0.8 ≤ P (450)/P (650) ≤ 1.2 (1)
P (550) ≥ 0.7 (2)
Re (450) < Re (550) < Re (650) (3)
0.05 < 1 - P (450) < 0.3 (4)
[상기 식 (1) ∼ (4) 에 있어서, P (λ) = tan{sin^-1 ((I1 (λ) × sinΠ (λ) × sin2θ - I2 (λ) × sinΠ (λ) × cos2θ)/I2 (λ))/2} 이고,
I1 (λ) = (10^{-A1 (λ)} - 10^{-A2 (λ)})/2 이고, I2 (λ) = (10^{-A1 (λ)} + 10^{-A2 (λ)})/2 이고, Π (λ) = Re (λ)/λ × 2π 이고, A1 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 투과축 방향 흡광도를 나타내고, A2 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 흡수축 방향 흡광도를 나타내고, Re (λ) 는 파장 λ 에서의 정면 리타데이션을 나타내고, θ 는 편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도를 나타낸다.]

Description

타원 편광판{ELLIPTICAL POLARIZING PLATE}

본 발명은 타원 편광판 및 상기 타원 편광판을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.

유기 EL 표시 장치 등의 플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에는, 외광으로부터의 반사 방지를 목적으로 하여, 원 편광판이 널리 사용되고 있다. 원 편광판은, 직선 편광판과 위상차판 (λ／4 판) 을 적층한 구성이지만, 일반적인 정파장 분산성 재료를 위상차판으로서 적용한 경우에는, 가시광 전역에서 λ／4 의 위상차를 발현시킬 수 없기 때문에, 반사색의 착색이 발생하는 문제가 있었다. 이 문제를 해결하기 위해서, 특허문헌 1 에서는 단파장에서의 복굴절성이 작아지도록 설계한 역파장 분산성의 액정 재료를, 특허문헌 2 에서는 역파장 분산성의 고분자 필름 재료를, 각각 위상차판으로서 사용한 원 편광판이 개시되어 있다.

일본 특허 3325560호 일본 공개특허공보 2014-123134호

이론상, 가시광 전역의 파장에 있어서 1/4 의 리타데이션이 되도록 위상차판을 설계함 (역파장 분산성으로 한다) 으로써, 반사색이 없는 원 편광판으로 할 수 있다.

요컨대 이론값으로서, 대략 청색광 450 ㎚ 에 있어서의 리타데이션 Re (450) 을 450 ÷ 4 = 112.5 ㎚, 대략 녹색광 550 ㎚ 에 있어서의 리타데이션 Re (550) 을 550 ÷ 4 = 137.5 ㎚, 대략 적색광 650 ㎚ 에 있어서의 리타데이션 Re (650) 을 650 ÷ 4 = 162.5 ㎚ 로 함으로써 반사색이 없는 원 편광판을 얻을 수 있다.

그런데, 상기 특허문헌 1 및 특허문헌 2 에 개시되어 있는 바와 같은 위상차판은, 단파장광에 관해서는 이론값에 근접할 수 있지만, 장파장광에 관해서는 이론값으로 하는 것은 불가능하다. 이것은 실질적인 위상차판으로서의 역파장 분산성 복굴절이, 정 (正) 의 배향 복굴절 구조와 부 (負) 의 배향 복굴절 구조의 각 파장에서의 복굴절률의 뺄셈으로 얻어지는 것으로, 재료 고유의 파장 분산성이 직선적인 변화일 수 없기 때문이다. 단적으로는, 단파장만큼 큰 분산/장파장만큼 작은 분산이라는 근본 원리에서 기인하는 것이다. 이로써, 인간의 시감도가 극대가 되는 녹색광이 이론값이 되도록 위상차판을 설계한 경우에는, 적색광의 반사 방지가 불충분해져, 반사색이 붉어진다는 문제가 생길 수 있다.

그래서 본 발명은, 가시광 전역의 파장에 있어서 반사색의 착색을 억제하여, 표시 장치에 사용한 경우에 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 타원 편광판을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 이하의 바람직한 양태 [1] ∼ [10] 을 제공하는 것이다.

[1] 편광판 및 위상차판을 포함하고, 하기 식 (1) ∼ (4) 를 모두 만족시키는 타원 편광판.

0.8 ≤ P (450)/P (650) ≤ 1.2 (1)

P (550) ≥ 0.7 (2)

Re (450) < Re (550) < Re (650) (3)

0.05 < 1 - P (450) < 0.3 (4)

[상기 식 (1) ∼ (4) 에 있어서,

P (λ) = tan{sin^-1((I1 (λ) × sinΠ (λ) × sin2θ - I2 (λ) × sinΠ (λ) × cos2θ)/I2 (λ))/2} 이고,

I1 (λ) = (10^{-A1 (λ)} - 10^{-A2 (λ)})/2 이고, I2 (λ) = (10^{-A1 (λ)} + 10^{-A2 (λ)})/2 이고, Π (λ) = Re (λ)/λ × 2π 이고, A1 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 투과축 방향 흡광도를 나타내고, A2 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 흡수축 방향 흡광도를 나타내고, Re (λ) 는 파장 λ 에서의 정면 리타데이션을 나타내고, θ 는 편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도를 나타낸다.]

[2] 위상차판의 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션이 하기 식 (5) 를 만족시키는, 상기 [1] 에 기재된 타원 편광판.

130 ㎚ ≤ Re (550) ≤ 150 ㎚ (5)

[식 중, Re (550) 은 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션을 나타낸다.]

[3] 편광판의 파장 λ 에서의 흡수축 방향 흡광도 (A2) 가 하기 식 (6) ∼ (8) 을 모두 만족시키는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 타원 편광판.

1 ≤ A2 (450) ≤ 6 (6)

1 ≤ A2 (550) ≤ 6 (7)

2 ≤ A2 (650) ≤ 6 (8)

[4] 편광판의 파장 λ 에서의 투과축 방향 흡광도 (A1) 이 하기 식 (9) ∼ (11) 을 모두 만족시키는, 상기 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판.

0.001 ≤ A1 (450) ≤ 0.1 (9)

0.001 ≤ A1 (550) ≤ 0.1 (10)

0.002 ≤ A1 (650) ≤ 0.2 (11)

[5] 편광판의 파장 λ 에서의 흡수축 방향 흡광도 (A2) 가, 하기 식 (12) 및 (13) 을 만족시키는, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판.

A2 (650) > A2 (450) (12)

A2 (650) > A2 (550) (13)

[6] 편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도가 실질적으로 45°인, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판.

[7] 위상차판이 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층인, 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판.

[8] 편광판이 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 함유하는 혼합물의 배향 상태에 있어서의 그 중합성 액정 화합물의 중합체를 함유하는, 상기 [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판.

[9] 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판을 포함하는 액정 표시 장치.

[10] 상기 [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 타원 편광판을 포함하는 유기 EL 표시 장치.

본 발명에 의하면, 가시광 전역의 파장에 있어서 반사색의 착색을 억제하여, 표시 장치에 사용한 경우에 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 타원 편광판을 제공할 수 있다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.

본 발명의 타원 편광판은, 편광판과 위상차판을 포함한다. 본 발명의 타원 편광판은, 하기 식 (1) ∼ (4) :

0.8 ≤ P (450)/P (650) ≤ 1.2 (1)

P (550) ≥ 0.7 (2)

Re (450) < Re (550) < Re (650) (3)

0.05 < 1 - P (450) < 0.3 (4)

를 만족시킨다.

여기서, 상기 식 (1) ∼ (4) 에 있어서,

이고,

I1 (λ) = (10^{-A1 (λ)} - 10^{-A2 (λ)})/2 이고,

I2 (λ) = (10^{-A1 (λ)} + 10^{-A2 (λ)})/2 이고,

Π (λ) = Re (λ)/λ × 2π (단위 : 라디안) 이고,

A1 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 투과축 방향 흡광도를 나타내고, A2 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 흡수축 방향 흡광도를 나타내고, Re (λ) 는 파장 λ 에서의 정면 리타데이션을 나타내고, θ 는 편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도를 나타낸다.

상기 식 (1) ∼ (4) 를 만족시킴으로써, 이러한 타원 편광판은, 종래의 역파장 분산성 위상차의 과제인 적색의 광누설을 억제할 수 있어, 표시 장치에 사용한 경우에 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 타원 편광판이 된다.

상기 식 (1) 및 (2) 에 있어서, P (λ) 는 파장 λ ㎚ 에 있어서의 타원 편광 상태를 나타내고, P (450) 은 파장 450 ㎚ 의 광에 대한 타원 편광 상태, P (550) 은 파장 550 ㎚ 의 광에 대한 타원 편광 상태, P (650) 은 파장 650 ㎚ 의 광에 대한 타원 편광 상태를 나타낸다. 여기서, A1 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 투과축 방향 흡광도이고, A2 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 흡수축 방향 흡광도이고, Π (λ) 는 파장 λ 에서의 위상차판의 위상차 (무차원값) 로서, Re (λ) 로 나타내는 파장 λ 에서의 정면 리타데이션으로부터 계산된다. P (λ) 의 값이 1 에 가까울수록, 진원에 가까운 원 편광 상태가 된다.

식 (1) 로 나타내는 P (450)/P (650) 의 값은, 각각 파장 450 ㎚, 650 ㎚ 에서의 원 편광 상태를 나타내고 있고, 1 에 가까울수록, 반사색을 억제한 타원 편광판으로 할 수 있고, 표시 장치에 사용한 경우에 색미 (色味) 가 양호한 표시가 달성된다. 식 (1) 의 값이 0.8 미만인 경우, 반사색이 청록색을 나타내는 경향이 있다. 식 (1) 의 값이 1.2 를 초과하는 경우, 반사색이 적색을 나타내는 경향이 있다. 본 발명의 타원 편광판에 있어서, P (450)/P (650) 의 값은, 표시 장치에 따라 다르기도 하지만, 예를 들어 바람직하게는 0.85 이상, 보다 바람직하게는 0.9 이상이고, 바람직하게는 1.15 이하, 보다 바람직하게는 1.1 이하이다.

P (λ) 의 값이 작으면, 원 편광 변환이 불충분해져, 표시 장치 상에서의 반사 방지 특성이 저하된다. 특히, 시감도가 가장 높은 파장 550 ㎚ 에서의 P (550) 의 값이 작은 경우에는 반사에 의한 광누설을 충분히 억제하기 어려워지기 때문에, 본 발명의 타원 편광판은, 상기 식 (2) 로 나타내는 광학 특성을 만족시킬 필요가 있다. P (550) 의 값이 0.7 미만인 경우, 시인자가 광누설을 인식하기 쉬워진다. 따라서, 본 발명에 있어서, P (550) 의 값은 바람직하게는 0.75 이상이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상이다. 또한, P (550) 의 값의 상한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 정의식으로부터, 통상적으로 1 이다.

또한 표시 장치에 사용한 경우에 높은 반사 방지 특성을 나타내도록, 본 발명의 타원 편광판의 P (λ) 의 값은 가시광 전역에 있어서 0.7 이상인 것이 바람직하다. 즉, 가시광의 단파장측의 파장에 있어서의 P (450), 및 가시광의 장파장측의 파장에 있어서의 P (650) 의 값이 모두 0.7 이상인 것이 바람직하다.

본 발명의 타원 편광판은, 역파장 분산성을 나타내는 상기 식 (3) 을 만족시킨다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 면내 위상차값쪽이 장파장에서의 면내 위상차값보다 커지는 광학 특성이다. 본 발명의 타원 편광판에서는, Re (450)/Re (550) ≤ 1 을 만족시키는 것이 바람직하고, 0.82 ≤ Re (450)/Re (550) ≤ 0.93 인 것이 보다 바람직하다.

또, 본 발명의 타원 편광판은, 역파장 분산 특성의 광학적인 설계의 관점에서, 상기 식 (4) 로 나타내는 광학 특성을 만족시킬 필요가 있다. 상기 식 (4) 는, 파장 450 ㎚ 의 광에 대해 타원 편광 상태인 것을 의미하고 있고, P (450) 의 값을, 원 편광 상태를 나타내는 이론값인 1 로부터 소정의 범위에서 괴리시킴으로써, 청색광의 반사 방지 성능을 저하시킬 수 있다. 특히, 식 (4) 의 광학 특성을 만족시킨 후에, 상기 식 (1) 에 있어서의 P (450)/P (650) 의 값을 0.8 ∼ 1.2 로 함으로써, 색미가 양호한 표시가 달성된다. 본 발명의 타원 편광판에 있어서, 1 - P (450) 의 값은, 표시 장치에 따라 다르기도 하지만, 예를 들어 바람직하게는 0.08 이상, 보다 바람직하게는 0.1 이상이고, 바람직하게는 0.26 이하, 보다 바람직하게는 0.24 이하이다.

P (λ) 는, 편광판의 흡수 선택 특성이나 위상차판의 파장 분산성 및 막두께를 제어함으로써, 임의로 조정할 수 있다. 구체적으로는, 편광판의 흡수 선택 특성은, 예를 들어, 요오드 PVA 편광판의 경우, 염색시의 온도나 I₂ 농도/KI 농도, 건조 조건 등에 따라 제어하는 것이 가능하고, KI 농도를 높게 하면, 청색광과 비교하여 적색광의 흡수 특성이 향상된다. 또, 건조 온도를 높게 하면, 적색광과 비교하여 청색광의 흡수 특성이 향상된다. 또, 액정 호스트 게스트형 편광판의 경우, 게스트 분자인 이색성 색소의 첨가량이나 비율을 제어함으로써 흡수 선택 특성을 제어하는 것이 가능하다. 예를 들어, 복수의 색소를 혼합할 때, 청색의 색소를 다른 색소보다 많이 배합함으로써, 적색광의 흡수 특성만을 선택적으로 향상시킬 수 있다. 위상차판의 파장 분산성은, 예를 들어, 역파장 분산성을 나타내는 액정 화합물과 정분산성을 나타내는 액정 화합물을 임의의 비율로 혼합시킴으로써 제어할 수 있다. 또, 위상차값은, 위상차판의 막두께가 얇아질수록 저하된다. 막두께가 제어 가능한 범위이면, 막두께를 제어하는 것이 보다 간편하게 위상차값을 제어할 수 있지만, 예를 들어, 원하는 파장 분산성이 되도록 정파장 분산성을 나타내는 액정 화합물과 역파장 분산성을 나타내는 액정 화합물을 혼합한 후에, 위상차판의 막두께를 조정함으로써, 용이하게 P (λ) 의 값을 원하는 값으로 제어할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 식 (1) ∼ (4) 를 만족시키는 타원 편광판의 반사 방지 특성은, 예를 들어, (i) 위상차판의 정면 리타데이션값을 이론값보다 크게 하고, (ii) 위상차판의 파장 분산성을 이론값으로부터 괴리시키고, (iii) 편광판의 파장 650 ㎚ 부근 (적색광) 의 흡수성을, 파장 450 ㎚ 부근 (청색광) 이나 파장 550 ㎚ 부근 (녹색광) 등의 다른 파장역에 있어서의 흡수성보다 크게 하는 것 등에 의해 제어할 수 있다. (i) 에 대해서는, 예를 들어, 정면 리타데이션값은, Δn (λ) × d (Δn : 굴절률차, d : 위상차판의 두께) 로 결정되는 값이기 때문에, 위상차판을 구성하는 액정 화합물 등의 조성이 동일한 경우에는, 막두께를 두껍게 함으로써 크게 할 수 있다.

본 발명의 타원 편광판을 구성할 수 있는 위상차판은, 박형화 및 파장 분산성을 임의로 제어하기 쉬운 점에서, 중합성 액정 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층 (이하, 「광학 이방성층」 이라고도 한다) 인 것이 바람직하다. 여기서, 중합성 액정 화합물이란, 중합성 관능기, 특히 광 중합성 관능기를 갖는 액정 화합물이다. 광 중합성 관능기란, 광 중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광 중합성 관능기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고, 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상 (相) 질서 구조로는 네마틱 액정이어도 되고, 스멕틱 액정이어도 된다.

본 발명에 있어서, 중합성 액정 화합물로는, 전술한 역파장 분산성을 발현하는 점에서 하기 식 (I) 의 구조가 특히 바람직하다.

[화학식 1]

식 (I) 중, Ar 은 2 가의 방향족기를 나타내고, 그 2 가의 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 1 개 이상이 함유된다.

G¹ 및 G² 는 각각 독립적으로 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 함유되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.

L¹, L², B¹ 및 B² 는 각각 독립적으로 단결합 또는 2 가의 연결기이다.

k, l 은 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k + l 의 관계를 만족시킨다. 여기서, 2 ≤ k + l 인 경우, B¹ 및 B², G¹ 및 G² 는 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.

E¹ 및 E² 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 여기서, 알칸디일기에 함유되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 함유되는 -CH₂- 는 -O-, -Si- 로 치환되어 있어도 된다.

P¹ 및 P² 는 서로 독립적으로 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1 개는 중합성기이다.

G¹ 및 G² 는 각각 독립적으로 바람직하게는, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥실기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐기, 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이고, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이다.

또, 복수 존재하는 G¹ 및 G² 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또, L¹ 또는 L² 에 결합하는 G¹ 및 G² 중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.

L¹ 및 L² 는 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH₂CH₂-, -CH₂O-, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CR^a=CR^b- 또는 -C≡C- 이다. 여기서 R^a 및 R^b 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L¹ 및 L² 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH₂CH₂-, -COO- 또는 -OCO- 이다.

B¹ 및 B² 는 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -S-, -CH₂O-, -COO- 또는 -OCO- 이고, 보다 바람직하게는, 단결합, -O-,　-COO- 또는 -OCO- 이다.

k 및 l 은 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k + l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, k + l = 4 인 것이 바람직하고, k = 2 또한 l = 2 인 것이 보다 바람직하다. k = 2 또한 l = 2 이면 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.

E¹ 및 E² 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 12 의 알칸디일기가 보다 바람직하다.

P¹ 또는 P² 로 나타내는 중합성기로는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다.

그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.

Ar 은 방향족 복소 고리를 갖는 것이 바람직하다. 당해 방향족 복소 고리로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 티에노티아졸 고리, 옥사졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 및 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 또는 벤조푸란 고리를 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또, Ar 에 질소 원자가 함유되는 경우, 당해 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.

식 (I) 중, Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기에 함유되는 π 전자의 합계수 N_π 는 10 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 14 이상이고, 더욱 바람직하게는 18 이상이다. 또, 바람직하게는 30 이하이고, 보다 바람직하게는 26 이하이고, 더욱 바람직하게는 24 이하이다.

Ar 로 나타내는 방향족기로는, 예를 들어 이하의 기를 들 수 있다.

[화학식 2]

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-20) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z⁰, Z¹ 및 Z² 는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 12 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.

Q¹, Q² 및 Q³ 은 각각 독립적으로 -CR^2'R^3'-,　-S-,　-NH-,　-NR^2'-,　-CO- 또는 -O- 를 나타내고, R^2' 및 R^3' 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

Y¹, Y² 및 Y³ 은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.

W¹ 및 W² 는 각각 독립적으로 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m 은 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.

Y¹, Y² 및 Y³ 에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 함유하는 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있고, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.

Y¹, Y² 및 Y³ 은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기이어도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다.

Z⁰, Z¹ 및 Z² 는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z⁰ 은 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하고, Z¹ 및 Z² 는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다.

Q¹, Q² 및 Q³ 은 -NH-,　-S-,　-NR^2'-,　-O- 가 바람직하고, R^2' 는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-,　-O-,　-NH- 가 특히 바람직하다.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-20) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.

식 (Ar-14) ∼ (Ar-20) 에 있어서, Y¹ 은 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z⁰ 과 함께, 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 가지고 있어도 된다. 또, Y¹ 은 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z⁰ 과 함께, 전술한 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기이어도 된다.

이와 같은 중합성 액정 화합물을 배향시켜, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 형성함으로써 역파장 분산성을 갖는 위상차판을 제조할 수 있다. 이 때, 상기 중합성 액정 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 분자 구조가 상이한 2 종류 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 본 발명에 있어서는, 타원 편광판을 구성하는 편광판이나 그 타원 편광판을 장착하는 표시 장치에 맞춰 파장 분산성을 제어하기 쉽게 할 수 있기 때문에, 파장 분산성이 상이한 2 종류 이상의 중합성 액정 화합물을 혼합하는 것이 바람직하다. 이 경우, 혼합하는 중합성 액정 화합물로서 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 본 발명의 타원 편광판을 구성하는 위상차판은, 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물에 더하여, 그 중합성 액정 화합물과는 상이한 파장 분산성을 갖는 다른 중합성 액정 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물과는 상이한 다른 중합성 액정 화합물로는, 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물과는 상이한 분자 구조를 갖는 역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물이어도 되고, 또, 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물이어도 된다. 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서는, 본 발명의 타원 편광판을 구성하는 위상차판은, 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물에 더하여, 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 함유한다. 이로써, 위상차판의 파장 분산성을 보다 용이하게 제어하는 것이 가능해진다.

본 발명에 있어서, 위상차판을 구성하는 액정 화합물로서 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 함유하는 경우, 그 구조는 특별히 한정되는 것은 아니며, 당해 분야에서 일반적으로 사용되고 있는 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있다. 이와 같은 중합성 액정 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (II) 로 나타내는 구조가 바람직하다.

[화학식 3]

식 (II) 중, G¹, G², L¹, L², B¹, B², k, l, E¹, E², P¹ 및 P² 는 상기 구조식 (I) 과 동일하게 정의되는 것이고, G³ 은 독립적으로 G¹, G² 와 동일하게 정의된다.

식 (II) 에 있어서, k 및 l 은, 1 ≤ k + l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, 1 ≤ k + l ≤ 4 의 범위가 보다 바람직하고, k + l = 2 의 구조가 더욱 바람직하다.

정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물의 구체예로는, 액정 편람 (액정 편람 편집 위원회편, 마루젠 (주) 2000년 10월 30일 발행) 의 「3.8.6 네트워크 (완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」 에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 또, 이들 중합성 액정 화합물로서, 시판되는 제품을 사용해도 된다.

상기 서술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 위상차판의 리타데이션값을 이론값보다 크게 하는 것, 및 위상차판의 파장 분산성을 이론값으로부터 괴리시킴으로써 타원 편광판에 상기 식 (1) ∼ (4) 를 만족시키는 광학 특성을 부여할 수 있다. 여기서, 본 발명에 있어서, 「위상차판의 파장 분산성을 이론값으로터 괴리시킨다」 란, R (λ1)/R (λ2) ≒ λ1/λ2 (λ1 < λ2) 인 것을 의미한다. 위상차판의 파장 분산성은, 역파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물과 정파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물의 혼합 비율에 의해 조정할 수 있고, 정파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물의 비율이 높아질수록, R (λ1)/R (λ2) > λ1/λ2 (λ1 < λ2) 가 된다. 여기서 R (λ1) 은, 파장 λ1 에 있어서의 정면 위상차값을 나타내고, R (λ2) 는, 파장 λ2 에 있어서의 정면 위상차값을 나타낸다. 또, 정파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물의 비율이 높아질수록, 위상차판의 리타데이션값이 커진다. 따라서, 본 발명에 있어서, 예를 들어, 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물을 함유하는, 2 종 이상의 중합성 액정 화합물을 혼합하여 위상차판을 구성하는 경우, 그 혼합 비율은, 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물의 분자 구조나 조합하는 중합성 액정 화합물의 종류에 따라 적절히 결정하면 되지만, 위상차판을 구성하는 전체 중합성 액정 화합물의 총량에 대한 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물의 비율이 50 질량％ 이상인 것이 바람직하고, 60 질량％ 이상인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 타원 편광판의 특히 바람직한 일 실시양태에 있어서, 그 타원 편광판을 구성하는 위상차판은, 상기 식 (I) 로 나타내는 중합성 액정 화합물과, 상기 식 (II) 로 나타내는 중합성 액정 화합물을, 바람직하게는 100 : 0 ∼ 50 : 50 의 혼합 비율, 보다 바람직하게는 100 : 0 ∼ 75 : 25 의 혼합 비율로 함유한다.

또한 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 위상차판의 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션이, 하기 식 (5) :

130 ㎚ ≤ Re (550) ≤ 150 ㎚ (5)

를 만족시키는 것이 바람직하다. 위상차판의 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션이 상기 식 (5) 를 만족시키는 경우, 이른바 1/4 파장판으로서 기능한다. 특히, 흡수 선택 특성이 양호한 편광판과 상기 식 (5) 를 만족시키는 위상차판을 조합하는 것이 바람직하다. 이러한 조합으로 함으로써, 양호한 반사 방지 특성을 갖는 원 편광판으로 할 수 있다. 편광판과 위상차판을 조합할 때에는, 각각의 광축이 실질적으로 45°가 되는 것이 바람직하다.

중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 제조하는 경우, 기재, 또는 기재 상에 형성된 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을, 경우에 따라서는 용제로 희석시켜 함유하는 조성물 (이하, 「광학 이방성층 형성용 조성물」 이라고도 한다) 을 도포하고, 경우에 따라서는 용제를 건조 후에 중합시킴으로써 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체가 얻어진다.

중합성 액정 화합물이 배향 상태를 유지한 채로 중합함으로써, 배향 상태를 유지한 액정 경화막이 얻어지고, 이러한 액정 경화막이 위상차판을 구성한다.

광학 이방성층 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량 (복수종 함유하는 경우에는 그 합계량) 은, 중합성 액정 화합물의 배향성을 높게 한다는 관점에서, 광학 이방성층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 통상적으로 70 ∼ 99.9 질량부이고, 바람직하게는 80 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 85 ∼ 97 질량부이고, 더욱 바람직하게는 85 ∼ 95 질량부이다. 또한, 여기서 말하는 고형분이란, 광학 이방성층 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.

광학 이방성층 형성용 조성물은 중합성 액정 화합물 외에 용제, 중합 개시제, 중합 금지제, 광 증감제, 레벨링제 등의 공지된 성분을 함유하고 있어도 된다.

용제로는, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해시킬 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해시킬 수 있는 용제로서, 또한 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알코올 용제 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제 ; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제 ; 톨루엔, 자일렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제 ; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제 ; 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제 ; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2 종 이상의 유기 용제를 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도, 알코올 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다.

용제의 함유량은, 광학 이방성층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 10 ∼ 10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 ∼ 5000 질량부이고, 더욱 바람직하게는 100 ∼ 2000 이다. 광학 이방성층 형성용 조성물 중의 고형분 농도는, 바람직하게는 2 ∼ 50 질량％ 이고, 보다 바람직하게는 5 ∼ 50 질량％ 이고, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 질량％ 이다.

중합 개시제는, 중합성 액정 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 중합 개시제로는, 광 조사에 의해 라디칼을 발생하는 광 중합 개시제가 바람직하다. 광 중합 개시제로는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, α-아세토페논 화합물, 트리아진 화합물, 요오드늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 구체적으로는, 이르가큐어 (Irgacure) (등록상표) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369 (이상, 모두 치바·재팬 주식회사 제조), 세이크올 (등록상표) BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE (이상, 모두 세이코 화학 주식회사 제조), 카야큐어 (kayacure) (등록상표) BP100 (닛폰 화약 주식회사 제조), 카야큐어 UVI-6992 (다우사 제조), 아데카 옵토머 (등록상표) SP-152, 아데카 옵토머 SP-170 (이상, 모두 주식회사 ADEKA 제조), TAZ-A, TAZ-PP (이상, 닛폰 시이벨헤그나사 제조) 및 TAZ-104 (산와 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, α-아세토페논 화합물이 바람직하고, α-아세토페논 화합물로는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온을 들 수 있다. α-아세토페논 화합물의 시판품으로는, 이르가큐어 369, 379EG, 907 (이상, BASF 재팬 (주) 제조) 및 세이크올 BEE (세이코 화학사 제조) 등을 들 수 있다.

광 중합 개시제는, 광원으로부터 발해지는 에너지를 충분히 활용할 수 있고, 생산성이 우수하기 때문에, 극대 흡수 파장이 300 ㎚ ∼ 380 ㎚ 이면 바람직하고, 300 ㎚ ∼ 360 ㎚ 이면 보다 바람직하다.

중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러트리지 않고 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다.

중합 금지제를 배합함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 컨트롤할 수 있다. 중합 금지제로는, 하이드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 하이드로퀴논류 ; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류 ; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 포착제 ; 티오페놀류 ; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다.

중합 금지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러트리지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다.

광 증감제로는, 예를 들어, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류 ; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류 ; 페노티아진 ; 루브렌을 들 수 있다.

광 증감제를 사용함으로써, 광 중합 개시제를 고감도화할 수 있다. 광 증감제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다.

레벨링제로는, 예를 들어, 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (이상, 모두 도레이·다우코닝 (주) 제조), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001 (이상, 모두 신에츠 화학 공업 (주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (이상, 모두 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 재팬 합동 회사 제조), 플루오리너트 (fluorinert) (등록상표) FC-72, 동 FC-40, 동 FC-43, 동 FC-3283 (이상, 모두 스미토모 3M (주) 제조), 메가팍 (등록상표) R-08, 동 R-30, 동 R-90, 동 F-410, 동 F-411, 동 F-443, 동 F-445, 동 F-470, 동 F-477, 동 F-479, 동 F-482, 동 F-483 (이상, 모두 DIC (주) 제조), 에프톱 (상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352 (이상, 모두 미쓰비시 머티리얼 전자 화성 (주) 제조), 서프론 (등록상표) S-381, 동 S-382, 동 S-383, 동 S-393, 동 SC-101, 동 SC-105, KH-40, SA-100 (이상, 모두 AGC 세이미 케미컬 (주) 제조), 상품명 E1830, 동 E5844 ((주) 다이킨 파인케미컬 연구소 제조), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 및 BYK-361N (모두 상품명 : BM Chemie 사 제조) 등을 들 수 있다. 2 종 이상의 레벨링제를 조합해도 된다.

레벨링제를 사용함으로써, 보다 평활한 광학 이방성층을 형성할 수 있다. 또, 위상차판의 제조 과정에서, 광학 이방성층 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나, 위상차판의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 레벨링제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부이다.

<광학 이방성층 형성용 조성물의 도포>

중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 제조하는 경우, 기재, 또는 기재 상에 형성된 배향막 상에 광학 이방성층 형성용 조성물이 도포되지만, 그 기재는, 수지 기재인 것이 바람직하다. 수지 기재는, 통상적으로 투명 수지 기재이다. 투명 수지 기재란, 광, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투광성을 갖는 기재를 의미하고, 투광성이란, 파장 380 ㎚ ∼ 780 ㎚ 에 걸친 광선에 대한 투과율이 80 ％ 이상이 되는 특성을 말한다. 수지 기재에는, 통상적으로 필름상의 것이 사용되고, 바람직하게는 장척 (長尺) 필름 롤이 사용된다.

기재를 구성하는 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 ; 및 폴리페닐렌옥사이드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀으로 이루어지는 기재가 바람직하다.

기재의 두께는, 통상적으로 5 ∼ 300 ㎛ 이고, 바람직하게는 20 ∼ 200 ㎛ 이다. 또, 기재를 박리하여 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체만을 전사함으로써, 추가적인 박막화 효과가 얻어진다.

기재 상의 광학 이방성층 형성용 조성물이 도포되는 면에는, 배향막이 형성되어 있어도 된다. 배향막이란, 상기 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 갖는 것이다.

배향막으로는, 광학 이방성층 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또, 용제의 제거나 후술하는 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로는, 배향성 폴리머를 함유하는 배향막, 광 배향막 및 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막 등을 들 수 있다.

이와 같은 배향막은, 중합성 액정 화합물의 배향을 용이하게 한다. 또, 배향막의 종류나 러빙 조건에 의해, 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향, 및 경사 배향 등의 여러 가지 배향의 제어가 가능하다. 봉상 액정 화합물을 수평 배향시키거나, 혹은 원반상 액정 화합물을 수직 배향시킴으로써, 정면 리타데이션의 값을 제어할 수 있다.

배향막의 두께는, 통상적으로 10 ∼ 10000 ㎚ 의 범위이고, 바람직하게는 10 ∼ 1000 ㎚ 의 범위이고, 더욱 바람직하게는 50 ∼ 200 ㎚ 의 범위이다.

배향성 폴리머를 함유하는 경우, 배향성 폴리머로는, 예를 들어, 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 2 종 이상의 배향성 폴리머를 조합해도 된다.

배향성 폴리머를 함유하는 배향막은, 통상적으로 배향성 폴리머가 용제에 용해된 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나, 또는 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하고, 그 도포막을 러빙함으로써 얻어진다.

배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머가 용제에 완전히 용해되는 범위이면 된다. 배향성 폴리머 조성물에 대한 배향성 폴리머의 함유량은, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량％ 이고, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량％ 이다.

배향성 폴리머 조성물은 시장으로부터 입수할 수 있다. 시판되는 배향성 폴리머 조성물로는, 선에버 (등록상표, 닛산 화학 공업 (주) 제조), 옵토머 (등록상표, JSR (주) 제조) 등을 들 수 있다.

배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 후술하는 광학 이방성층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 배향성 폴리머 조성물에 함유되는 용제를 제거하는 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.

배향성 폴리머 조성물로 형성된 도포막에는, 러빙 처리를 실시해도 된다. 러빙 처리를 실시함으로써, 상기 도포막에 배향 규제력을 부여할 수 있다.

러빙 처리의 방법으로는, 예를 들어, 러빙포가 권부되고, 회전하고 있는 러빙 롤에 상기 도포막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리를 실시할 때, 마스킹을 실시하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역 (패턴) 을 배향막에 형성할 수도 있다.

광 배향막은, 통상적으로 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 함유하는 광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거 후에 편광 (바람직하게는, 편광 UV) 을 조사함으로써 얻어진다. 광 배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있다.

광 반응성기란, 광 조사함으로써 배향능을 발생시키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광 조사에 의해 발생하는 분자의 배향 야기 반응, 이성화 반응, 광 이량화 반응, 광 가교 반응 혹은 광 분해 반응 등의 배향능의 기원이 되는 광 반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 광 반응성기로는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합 (C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합 (C=N 결합), 질소-질소 이중 결합 (N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합 (C=O 결합) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.

C=C 결합을 갖는 광 반응성기로는, 예를 들어, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기를 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 예를 들어, 방향족 시프 염기, 방향족 하이드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 예를 들어, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소 고리 아조기, 비스아조기, 포르마잔기, 및 아족시벤젠 구조를 갖는 기를 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광 반응성기로는, 예를 들어, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기를 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 하이드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 가지고 있어도 된다.

광 이량화 반응 또는 광 가교 반응에 관여하는 기가 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 광 이량화 반응에 관여하는 광 반응성기가 바람직하고, 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적고, 또한 열 안정성이나 시간 경과적 안정성이 우수한 광 배향막을 얻기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광 반응성기를 갖는 폴리머로는, 당해 폴리머 측사슬의 말단부가 계피산 구조가 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.

광 배향막 형성용 조성물 중의 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 폴리머 또는 모노머의 종류나 목적으로 하는 광 배향막의 두께에 따라 조절할 수 있고, 적어도 0.2 질량％ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 질량％ 의 범위가 보다 바람직하다. 광 배향막의 특성이 현저하게 저해되지 않는 범위에서, 광 배향막 형성용 조성물은, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광 증감제를 함유하고 있어도 된다.

광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 후술하는 광학 이방성층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.

편광을 조사하기 위해서는, 기재 상에 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광을 조사하는 형식이어도 되고, 기재측으로부터 편광을 조사하여, 편광을 기재에 투과시켜 조사하는 형식이어도 된다. 또, 당해 편광은, 실질적으로 평행광이면 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광 반응성기가, 광 에너지를 흡수할 수 있는 파장역의 것이 바람직하다. 구체적으로는, 파장 250 ㎚ ∼ 400 ㎚ 의 범위의 UV (자외선) 가 특히 바람직하다. 당해 편광을 조사하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가, 파장 313 ㎚ 의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을 적당한 편광층을 통과시켜 조사함으로써, 편광 UV 를 조사할 수 있다. 편광층으로는, 편광 필터, 글랜 톰슨 및 글랜 테일러 등의 편광 프리즘, 그리고 와이어 그리드 타입의 편광층을 들 수 있다.

<광학 이방성층 형성용 조성물의 도포>

상기 기재 또는 배향막 상에 광학 이방성층 형성용 조성물이 도포된다. 광학 이방성층 형성용 조성물을 기재 상에 도포하는 방법으로는, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또, 딥 코터, 바 코터, 스핀 코터 등의 코터를 사용하여 도포하는 방법 등도 들 수 있다. 그 중에서도, 롤투롤 형식으로 연속적으로 도포할 수 있는 점에서, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법이 바람직하다. 롤투롤 형식으로 도포하는 경우, 기재에 광 배향막 형성용 조성물 등을 도포하여 배향막을 형성하고, 또한 얻어진 배향막 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 연속적으로 도포할 수도 있다.

<광학 이방성층 형성용 조성물의 건조>

광학 이방성층 형성용 조성물에 함유되는 용제를 제거하는 건조 방법으로는, 예를 들어, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하다. 건조 온도는, 0 ∼ 250 ℃ 의 범위가 바람직하고, 50 ∼ 220 ℃ 의 범위가 보다 바람직하고, 60 ∼ 170 ℃ 의 범위가 더욱 바람직하다. 건조 시간은, 10 초간 ∼ 20 분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 초간 ∼ 10 분간이다. 광 배향막 형성용 조성물 및 배향성 폴리머 조성물도 동일하게 건조시킬 수 있다.

<중합성 액정 화합물의 중합>

본 발명에 있어서, 중합성 액정 화합물을 중합시키는 방법으로는, 광 중합이 바람직하다. 광 중합은, 기재 상 또는 배향막 상에 중합성 액정 화합물을 함유하는 광학 이방성층 형성용 조성물이 도포된 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써 실시된다. 조사하는 활성 에너지선으로는, 건조 피막에 함유되는 중합성 액정 화합물의 종류 (특히, 중합성 액정 화합물이 갖는 광 중합성 관능기의 종류), 광 중합 개시제를 함유하는 경우에는 광 중합 개시제의 종류, 및 그들의 양에 따라 적절히 선택된다. 구체적으로는, 가시광, 자외광, 적외광, X 선, α 선, β 선, 및 γ 선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 광을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉬운 점, 및 광 중합 장치로서 당 분야에서 광범위하게 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다는 점에서, 자외광이 바람직하고, 자외광에 의해 광 중합 가능하도록, 중합성 액정 화합물의 종류를 선택하는 것이 바람직하다.

광학 이방성층 형성용 조성물이 광 중합 개시제를 함유하는 경우, 자외광에 의해 광 중합 가능하도록, 광 중합 개시제의 종류를 선택하는 것이 바람직하다.

상기 활성 에너지선의 광원으로는, 예를 들어, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.

광을 조사하는 시간은, 통상적으로 0.1 초 ∼ 10 분이고, 바람직하게는 0.1 초 ∼ 1 분이고, 보다 바람직하게는 0.1 초 ∼ 30 초이고, 더욱 바람직하게는 0.1 초 ∼ 10 초이다. 상기 범위이면, 보다 투명성이 우수한 광학 이방성층을 얻을 수 있다.

본 발명에 있어서, 위상차판의 리타데이션값은 위상차판의 막두께를 조정함으로써 제어할 수 있다. 위상차판을 구성하는 조성이 동일하면, 막두께를 두껍게 함으로써 리타데이션값은 커진다. 또, 타원 편광판이 동일한 조성의 편광판과 동일한 조성의 위상차판의 조합으로 구성되는 경우, 위상차판의 막두께를 두껍게 함으로써, 이 타원 편광판의 상기 식 (1) 에 있어서의 P (450)/P (650) 의 값을 작게 할 수 있다. 본 발명의 위상차판 (광학 이방성층) 의 두께는, 위상차판을 구성하는 중합성 액정 화합물의 종류 등에 따라 원하는 리타데이션값을 얻을 수 있도록 적절히 결정할 수 있지만, 통상적으로 0.1 ∼ 5 ㎛ 인 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 4 ㎛ 인 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다. 막두께는, 예를 들어, 광학 이방성층 형성용 조성물에 함유되는 용제의 양이나, 광학 이방성층 형성용 조성물로 이루어지는 도막의 두께를 조정함으로써 제어할 수 있다. 도막의 두께는, 예를 들어, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 바꾸고, 다이 코터에서의 토출량을 조정하고, 또는 마이크로 그라비아 코터에서의 홈의 깊이 혹은 주속을 변화시킴으로써 조정할 수 있다.

본 발명의 타원 편광판은, 적어도 1 개의 편광판을 포함한다. 편광판이란, 입사하는 자연광으로부터 직선 편광을 취출하는 기능을 갖는 것이다. 편광판의 구체예로는, 1 축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름 (PVA) 에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 색소가 흡착 배향한 PVA 편광자를 고분자 필름 (보호 필름) 으로 편면 혹은 양면을 보호한 편광판을 들 수 있다. 이 때, 보호 필름으로는, 예를 들어, 투명한 수지 필름이 사용되고, 그 투명 수지로는, 트리아세틸셀룰로오스나 디아세틸셀룰로오스로 대표되는 아세틸셀룰로오스계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트로 대표되는 메타크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리술폰 수지 등을 들 수 있다. 또, 액정 호스트 게스트형 편광판을 사용할 수도 있다. 액정 호스트 게스트형 편광판으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2012-58381, 일본 공개특허공보 2013-37115, 국제 공개 제2012/147633, 국제 공개 제2014/091921 에 예시되는 바와 같은 것을 사용할 수 있다. 편광자의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 0.5 ∼ 35 ㎛ 인 것이 사용된다.

편광판은, 연신시킨 PVA 나 배향시킨 액정 중에 요오드나 이색성 색소를 배향시킴으로써, 편광 흡수 선택성이 부여된 필름이다. 요오드-PVA 착물이나 이색성 색소의 배향 장축 방향이 흡수축, 요오드-PVA 착물이나 이색성 색소의 단축 방향이 투과축이라고 불린다. 흡수축/투과축과 평행하게 프리즘 등으로 만들어 낸 완전 직선 편광을 통과시키고, 그 통과 전후의 광 강도로부터 각각의 흡광도를 측정할 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 편광판의 흡수 특성을 제어함으로써, 타원 편광판의 광학 특성을 제어할 수도 있다. 예를 들어, 동일한 조성의 위상차판을 사용하여 구성되는 타원 편광판에 있어서는, 파장 450 ㎚ 부근 (청색광) 이나 파장 550 ㎚ 부근 (녹색광) 등에 대한 흡수성보다 파장 650 ㎚ 부근 (적색광) 에 대한 흡수성이 큰 편광판 (보다 푸른 빛을 띤 색상의 편광판) 을 사용함으로써, 이 타원 편광판의 상기 식 (1) 에 있어서의 P (450)/P (650) 의 값을 작게 할 수 있다. 특히, 본 발명의 타원 편광판이, 상기 식 (1), (2) 및 (4) 의 광학 특성을 만족시키기 위해서, 편광판의 흡광도를 제어할 수 있다.

구체적으로는, 편광판의 흡수축 방향의 흡광도 (A2) 가 하기 식 (6) ∼ (8) 을 모두 만족시키는 것이 바람직하다.

1 ≤ A2 (450) ≤ 6 (6)

1 ≤ A2 (550) ≤ 6 (7)

2 ≤ A2 (650) ≤ 6 (8)

편광판이 상기 식 (6) ∼ (8) 을 만족시키는 광학 특성을 가지고 있음으로써, 가시광 전역에 있어서의 양호한 광 흡수 특성이 얻어진다.

또, 편광판의 투과축 방향의 흡광도 (A1) 이 하기 식 (9) ∼ (11) 을 모두 만족시키는 것이 바람직하다.

0.001 ≤ A1 (450) ≤ 0.1 (9)

0.001 ≤ A1 (550) ≤ 0.1 (10)

0.002 ≤ A1 (650) ≤ 0.2 (11)

편광판이 상기 식 (9) ∼ (10) 을 만족시키는 광학 특성을 가지고 있음으로써, 가시광 전역에 있어서의 양호한 광 투과 특성이 얻어진다.

또한 파장 650 ㎚ 부근의 적색광의 흡수를 보다 크게 하기 위해, 편광판의 흡수축 방향의 흡광도 (A2) 가 하기 식 (12) 및 (13) 을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.

A2 (650) > A2 (450) (12)

A2 (650) > A2 (550) (13)

편광판이 상기 식 (12) 및 (13) 을 만족시키는 광학 특성을 가지고 있음으로써, 적색광의 반사를 효과적으로 억제할 수 있고, 적색광을 포함한 가시광 전역의 파장에 있어서 반사색의 착색을 억제하여, 표시 장치에 사용한 경우에 양호한 표시 특성을 부여할 수 있는 타원 편광판이 된다.

이와 같은 광 흡수 특성은, 예를 들어, 요오드 PVA 편광판의 경우에는, 단파장에 흡수를 나타내는 I3-PVA 착물, 및 장파장에 흡수를 나타내는 I5-PVA 착물의 형성을 제어함으로써 달성된다. I3-PVA 착물과 I5-PVA 착물은 열적 평형 상태에 있기 때문에, 염색시의 온도나 I₂ 농도/KI 농도 그리고 건조 조건에 따라 제어하는 것이 가능하고, 예를 들어, KI 농도를 높게 하면, 청색광과 비교하여 적색광의 흡수 특성이 향상된다. 또, 건조 온도를 높게 하면, 적색광과 비교하여 청색광의 흡수 특성이 향상된다. 또, 액정 호스트 게스트형 편광판의 경우에는, 게스트 분자인 이색성 색소의 첨가량이나 비율을 제어함으로써 용이하게 광 흡수 특성을 제어하는 것이 가능하다. 예를 들어, 복수의 색소를 혼합할 때, 청색의 색소를 다른 색소보다 많이 배합함으로써, 적색광의 흡수 특성만을 선택적으로 향상시킬 수 있다. 본 발명의 타원 편광판에서는, 재현성이나 프로세스의 안정성, 그리고 박형화라는 관점에서, 액정 호스트 게스트형 편광판을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 색소의 배합을 제어할 수 있는 점에서 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 수평 방향으로 배향시킨 상태에서 그 중합성 액정 화합물을 중합시켜 얻어지는 중합체를 함유하는 편광판이 보다 바람직하다.

요오드 PVA 편광판은, 예를 들어, 가열한 상태에서 필름 형태의 PVA 를 연신한 후에, 요오드 염색과 붕산에 의한 가교 처리를 실시하는 축차 연신법, 혹은 수중에서 요오드 염색과 붕산에 의한 가교 처리를 하면서 필름 형태의 PVA 를 연신하는 동시 연신법에 의해 제조할 수 있다. 이 때의 연신 배율은 4 ∼ 8 배가 바람직하고, 요오드 수용액 그리고 붕산 수용액 중에 연속적으로 침지시켜 PVA 필름 중에 각각의 분자를 함침시킴으로써 제조된다. 염색한 후에 PVA 필름을 건조시킴으로써, 수분을 제거하고, 붕산 가교를 진행시킴으로써 PVA 편광자를 얻을 수 있다. 이 때의 건조 방법으로는, 통풍 건조법이나 적외 건조법에 의해 실시하는 것이 바람직하고, 온도로는 40 ℃ ∼ 150 ℃ 의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 60 ℃ ∼ 130 ℃ 이다. 이와 같이 하여 얻어진 PVA 편광자를 앞에서 서술한 투명 기재를 사용하여 편면 혹은 양면에 접착 보호함으로써 요오드 PVA 편광판을 제조할 수 있다.

액정 호스트 게스트형 편광판을 사용하는 경우, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층 중에 미리 이색성 색소를 혼합해 둠으로써, 위상차판과 동일한 수법으로 제조할 수 있지만, 상기 식 (6) ∼ (11) 을 동시에 만족시키기 위해서는, 고질서인 액정 구조체일 필요가 있다. 즉, 중합성 액정 화합물로는, 네마틱 액정 화합물보다 스멕틱 액정 화합물이 바람직하고, 고차 스멕틱 액정 화합물이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 스멕틱 B 상, 스멕틱 D 상, 스멕틱 E 상, 스멕틱 F 상, 스멕틱 G 상, 스멕틱 H 상, 스멕틱 I 상, 스멕틱 J 상, 스멕틱 K 상 또는 스멕틱 L 상을 형성하는 고차 스멕틱 액정 화합물이 보다 바람직하고, 스멕틱 B 상, 스멕틱 F 상 또는 스멕틱 I 상을 형성하는 고차 스멕틱 액정 화합물이 더욱 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 형성하는 액정상이 이들의 고차 스멕틱상이면, 배향 질서도가 보다 높은 액정 경화막을 제조할 수 있고, 높은 편광 성능이 얻어진다. 또, 이와 같이 배향 질서도가 높은 액정 경화막은 X 선 회절 측정에 있어서 헥사틱상이나 크리스탈상과 같은 고차 구조 유래의 브래그 피크가 얻어진다. 당해 브래그 피크는 분자 배향의 주기 구조에서 유래하는 피크이고, 그 주기 간격이 3.0 ∼ 6.0 Å 인 막을 얻을 수 있다.

이와 같은 화합물로는, 구체적으로는, 하기 식 (III) 으로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (III)」 이라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있고, 본 발명의 타원 편광판을 구성하는 편광판은, 화합물 (III) 을 함유하는 중합성 액정 화합물로 구성되는 것이 바람직하다. 이들 중합성 액정 화합물은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합해도 된다.

U¹-V¹-W¹-X¹-Y¹-X²-Y²-X³-W²-V²-U² (III)

식 (III) 중,

X¹, X² 및 X³ 은 각각 독립적으로 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 함유되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가 산소 원자 또는 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. 단, X¹, X² 및 X³ 중 적어도 하나는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이다.

Y¹, Y², W¹ 및 W² 는 서로 독립적으로 단결합 또는 2 가의 연결기이다.

V¹ 및 V² 는 서로 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기를 구성하는 -CH₂- 는, -O-,　-S- 또는 NH- 로 치환되어 있어도 된다.

U¹ 및 U² 는 서로 독립적으로 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1 개는 중합성기이다.

화합물 (III) 에 있어서, X¹, X² 및 X³ 중 적어도 하나는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이다. 특히, X¹ 및 X³ 은 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기인 것이 바람직하고, 그 시클로헥산-1,4-디일기는, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 더욱 바람직하다. 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기의 구조를 함유하는 경우, 스멕틱 액정성이 발현되기 쉬운 경향이 있다. 또, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 메틸기, 에틸기 및 부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 시아노기 및 염소 원자, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 들 수 있다. 바람직하게는 무치환이다.

Y¹ 및 Y² 는 서로 독립적으로 단결합, -CH₂CH₂-,　-CH₂O-,　-COO-,　-OCO-,　-N=N-,　-CR^a = CR^b-,　-C≡C- 또는 CR^a=N- 가 바람직하고, R^a 및 R^b 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. Y¹ 및 Y² 는, -CH₂CH₂-,　-COO-,　-OCO- 또는 단결합이면 보다 바람직하고, Y¹ 및 Y² 가 서로 상이한 결합 방식인 것이 보다 바람직하다. Y¹ 및 Y² 가 서로 상이한 결합 방식인 경우에는, 스멕틱 액정성이 발현되기 쉬운 경향이 있다.

W¹ 및 W² 는 서로 독립적으로 단결합, -O-,　-S-,　-COO- 또는 OCO- 가 바람직하고, 서로 독립적으로 단결합 또는 -O- 인 것이 보다 바람직하다.

V¹ 및 V² 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 데칸-1,10-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기 및 이코산-1,20-디일기 등을 들 수 있다. V¹ 및 V² 는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 직사슬형의 탄소수 6 ∼ 12 의 알칸디일기이다. 직사슬형의 탄소수 6 ∼ 12 의 알칸디일기로 함으로써 결정성이 향상되고, 스멕틱 액정성을 발현하기 쉬운 경향이 있다.

치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 시아노기 및 염소 원자, 불소 원자 등의 할로겐 원자 등을 들 수 있고, 그 알칸디일기는, 무치환인 것이 바람직하고, 무치환 또한 직사슬형의 알칸디일기인 것이 보다 바람직하다.

U¹ 및 U² 는 모두 중합성기이면 바람직하고, 모두 광 중합성기이면 보다 바람직하다. 광 중합성기를 갖는 중합성 액정 화합물은, 보다 저온 조건하에서 중합할 수 있는 점에서 유리하다.

U¹ 및 U² 로 나타내는 중합성기는 서로 상이해도 되지만, 동일하면 바람직하다. 중합성기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.

이와 같은 중합성 액정 화합물로는, 예를 들어, 이하와 같은 것을 들 수 있다.

[화학식 4]

[화학식 5]

[화학식 6]

[화학식 7]

예시한 상기 화합물 중에서도, 식 (1-2), 식 (1-3), 식 (1-4), 식 (1-6), 식 (1-7), 식 (1-8), 식 (1-13), 식 (1-14) 및 식 (1-15) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.

이색성 색소란, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와, 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 말한다.

이색성 색소로는, 300 ∼ 700 ㎚ 의 범위에 흡수 극대 파장 (λMAX) 을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 이색성 색소로는, 예를 들어, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소 및 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소 및 스틸벤아조 색소 등을 들 수 있고, 바람직하게는 비스아조 색소 및 트리스아조 색소이다. 이색성 색소는 단독이어도 되고, 조합해도 되지만, 3 종류 이상의 이색성 색소를 조합하는 것이 바람직하고, 3 종류 이상의 아조 색소를 조합하는 것이 보다 바람직하다. 3 종류 이상의 이색성 색소, 특히 3 종류 이상의 아조 색소를 조합함으로써, 가시광 전역에 걸쳐서 편광 특성을 제어하기 쉬워진다. 또, 3 종류 이상의 이색성 색소를 조합할 때, 가장 장파장에 흡수를 나타내는 이색성 색소를 다른 2 종류의 이색성 색소보다 많이 사용하는 것이 본 발명의 과제를 해결하는 한 수단으로서 바람직하다.

아조 색소로는, 예를 들어, 식 (IV) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (IV)」 라고 하는 경우도 있다) 을 들 수 있다.

A¹(-N=N-A²)_p-N=N-A³ (IV)

[식 (IV) 중,

A¹ 및 A³ 은 서로 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 복소 고리기를 나타낸다. A² 는 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌-1,4-디일기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 복소 고리기를 나타낸다. p 는 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. p 가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 A² 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]

1 가의 복소 고리기로는, 퀴놀린, 티아졸, 벤조티아졸, 티에노티아졸, 이미다졸, 벤조이미다졸, 옥사졸 및 벤조옥사졸 등의 복소 고리 화합물로부터 1 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다. 2 가의 복소 고리기로는, 상기 복소 고리 화합물로부터 2 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다.

A¹ 및 A³ 에 있어서의 페닐기, 나프틸기 및 1 가의 복소 고리기, 그리고 A² 에 있어서의 1,4-페닐렌기, 나프탈렌-1,4-디일기 및 2 가의 복소 고리기가 임의로 갖는 치환기로는, 메틸기, 에틸기 및 부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 및 부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기 ; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 불화알킬기 ; 시아노기 ; 니트로기 ; 염소 원자, 불소 원자 등의 할로겐 원자 ; 아미노기, 디에틸아미노기 및 피롤리디노기 등의 치환 또는 무치환 아미노기 (치환 아미노기란, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 1 개 또는 2 개 갖는 아미노기, 혹은 2 개의 치환 알킬기가 서로 결합하여 탄소수 2 ∼ 8 의 알칸디일기를 형성하고 있는 아미노기를 의미한다. 무치환 아미노기는 -NH₂ 이다.) 를 들 수 있다. 또한, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기 및 헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 2 ∼ 8 의 알칸디일기로는, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기 등을 들 수 있다.

이와 같은 아조 색소로는, 예를 들어, 이하와 같은 것을 들 수 있다.

[화학식 8]

[화학식 9]

식 (2-1) ∼ (2-6) 중,

B¹ ∼ B²⁰ 은 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 치환 또는 무치환의 아미노기 (치환 아미노기 및 무치환 아미노기의 정의는 상기한 바와 같다), 염소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.

n1 ∼ n4 는 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

n1 이 2 이상인 경우, 복수의 B² 는 각각 동일해도 되고, 상이해도 되고,

n2 가 2 이상인 경우, 복수의 B⁶ 은 각각 동일해도 되고, 상이해도 되고,

n3 이 2 이상인 경우, 복수의 B⁹ 는 각각 동일해도 되고, 상이해도 되고,

n4 가 2 이상인 경우, 복수의 B¹⁴ 는 각각 동일해도 되고, 상이해도 된다.

액정 호스트 게스트형 편광판은, 예를 들어, 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들어, 기재, 또는 기재 상에 형성된 배향막 상에, 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소를, 경우에 따라서는 용제로 희석시켜 함유하는 조성물 (이하, 「편광막 형성용 조성물」 이라고도 한다) 을 도포하고, 필요에 따라 용제를 건조 후에 중합시킴으로써, 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 함유하는 혼합물의 배향 상태에 있어서의 그 중합성 액정 화합물의 중합체가 얻어진다. 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 수평 방향으로 배향시킨 상태를 유지한 채로 중합성 액정 화합물을 중합함으로써, 배향 상태를 유지한 액정 경화막이 얻어지고, 이러한 액정 경화막이 호스트 게스트형 편광판을 구성한다. 이 때, 높은 편광 성능을 얻기 위해서, 스멕틱 액정상으로 배향 상태를 유지한 채로 중합성 액정 화합물을 중합하는 것이 바람직하고, 고차 스멕틱 액정상으로 배향 상태를 유지한 채로 중합성 액정 화합물을 중합하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 편광막 형성용 조성물은, 용제, 중합 개시제, 중합 금지제, 광 증감제, 레벨링제 등의 공지된 성분을 함유하고 있어도 되고, 이들 성분으로는, 위상차판에 관해 앞에서 설명한 광학 이방성층 형성용 조성물에 있어서 사용되는 것과 동일한 것을 들 수 있다. 또, 편광막 형성용 조성물의 조제나 그 도포 방법에 대해서도, 원칙적으로 위상차판에 관해 앞에서 설명한 광학 이방성층 형성용 조성물에 있어서 사용된 방법과 동일한 방법을 적용할 수 있고, 여기서 사용되는 배향막 (광 배향막 형성용 조성물) 등에 대해서도 동일한 것이 예시된다.

편광막 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량 (복수종 함유하는 경우에는 그 합계량) 은, 액정성 발현의 관점에서, 편광막 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 통상적으로 60 ∼ 99 질량부이고, 바람직하게는 70 ∼ 95 질량부이고, 보다 바람직하게는 75 ∼ 90 질량부이다. 또, 이색성 색소의 함유량 (복수종 함유하는 경우에는 그 합계량) 은, 양호한 광 흡수 특성을 얻는 관점에서, 편광막 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 통상적으로 1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 2 ∼ 20 질량부이고, 보다 바람직하게는 3 ∼ 15 질량부이다. 또한, 여기서 말하는 고형분이란, 편광막 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.

본 발명의 타원 편광판은, 편광판과 위상차판을 포함하여 구성되는 것이고, 예를 들어, 편광판과 위상차판을 접착제층 등을 개재하여 적층시킴으로써 본 발명의 타원 편광판을 얻을 수 있다.

본 발명의 일 실시양태에 있어서는, 편광판과 위상차판이 적층되는 경우, 위상차판의 지상축 (광축) 과 편광판의 흡수축을 실질적으로 45°가 되도록 적층하는 것이 바람직하다. 본 발명의 위상차판의 지상축 (광축) 과 편광판의 흡수축을 실질적으로 45°가 되도록 적층함으로써, 타원 편광판으로서의 기능을 얻을 수 있다. 또한, 실질적으로 45°란 통상적으로 45 ± 5°의 범위이다.

본 발명의 타원 편광판은, 종래의 일반적인 타원 편광판, 또는 편광판 및 위상차판이 구비하는 구성을 가지고 있어도 된다. 그러한 구성으로는, 예를 들어, 타원 편광판을 유기 EL 등의 표시 소자에 첩합하기 위한 점착제층 (시트), 편광판이나 위상차판의 표면을 흠집이나 오염으로부터 보호할 목적에서 사용되는 프로텍트 필름 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 타원 편광판은, 필요에 따라 재단하여, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 사용할 수 있다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서, 상기 타원 편광판을 포함하는 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치를 제공할 수 있다. 이들 표시 장치는, 가시광 전역의 파장에 있어서 반사색의 착색을 억제할 수 있는 본 발명의 타원 편광판을 구비함으로써, 양호한 색채 표현을 발현할 수 있다.

실시예

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 실시예 및 비교예 중의 「％」 및 「부」 는, 특별히 기재하지 않는 한, 「질량％」 및 「질량부」 이다.

타원 편광판의 제조

위상차판의 제조에는, 이하에 나타내는 「광 배향막 형성용 조성물」, 「중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물」 을 사용하였다.

(1) 비교예 1

[광 배향막 형성용 조성물의 조제]

하기 광 배향성 재료 5 부와 시클로펜타논 (용제) 95 부를 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다. 하기 광 배향성 재료는, 일본 공개특허공보 2013-33248호에 기재된 방법으로 합성하였다.

[화학식 10]

[중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 의 조제]

하기 중합성 액정 화합물 A (12.0 부) 와, 레벨링제 (0.12 부, BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) 와, 하기 중합 개시제 (0.72 부) 와, 시클로펜타논 (100 부, 용제) 을 혼합하여, 중합성 액정 화합물 A 를 함유하는 조성물 A 를 얻었다. 또한, 중합성 액정 화합물 A 는, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법으로 합성하였다. 자외 가시 분광 광도계 (UV3150 주식회사 시마즈 제작소 제조) 를 사용하여 측정한 결과, 중합성 액정 화합물 A 의 극대 흡수 파장 λmax (LC) 는 350 ㎚ 이었다.

중합성 액정 화합물 A :

[화학식 11]

중합 개시제 : 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369 ; 치바 스페셜티 케미컬즈사 제조)

레벨링제 : 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조)

[위상차판의 제조 방법]

시클로올레핀 폴리머 필름 (COP ; ZF-14 ; 닛폰 제온 주식회사 제조) 을, 코로나 처리 장치 (AGF-B10 ; 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리하였다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 상기 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 편광 UV 조사 장치 (편광자 유닛이 부착된 SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 100 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하여, 배향막을 형성하였다. 얻어진 배향막의 두께를 엘립소미터 M-220 (닛폰 분광 주식회사 제조) 으로 측정한 결과, 100 ㎚ 이었다.

계속해서, 상기 배향막 상에, 앞에서 조제한 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 를, 바 코터의 와이어를 #30 으로 설정하여 50 ㎜/sec 의 속도로 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프 (유니큐어 VB-15201BY-A ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 조성물 A 를 도포한 면측으로부터 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장 313 ㎚ 에 있어서의 적산 광량 : 500 mJ/㎠) 함으로써, 광학 이방성층 1 (위상차 필름) 을 포함하는 위상차판 A 를 형성하였다. 얻어진 위상차판 A 에 포함되는 광학 이방성층 1 의 두께를 레이저 현미경 (LEXT ; 올림푸스 주식회사 제조) 으로 측정한 결과, 2.28 ㎛ 이었다.

[면내 위상차값 Re (λ) 의 광학 특성 측정]

위상차판 A (광학 이방성층 1) 의 면내 위상차값 Re (λ) 를 측정하기 위해서, 별도로 동일하게 제조한 위상차판 A 의 광학 이방성층 1 측에 시트상의 감압식 점착제 (린텍 주식회사 제조, 아크릴계 감압식 점착제, 무색 투명, 무배향) 를 첩합하고, 상기 점착제측에서 유리판 (면내 위상차는 450 ㎚, 550 ㎚ 및 650 ㎚ 에서 0 (제로)) 에 첩합한 후, 상기 시클로올레핀 폴리머 필름을 박리함으로써, 상기 광학 이방성층 1 을 상기 유리판에 전사함으로써 측정용 샘플을 제조하였다. 이 샘플을 사용하여, 파장 450 ㎚, 파장 550 ㎚ 및 파장 650 ㎚ 의 면내 위상차값 Re (λ) 를 복굴절 측정 장치 (KOBRA-WR ; 오지 계측 기기 주식회사 제조) 에 의해 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

비교예 1 에 있어서의 위상차판 A 의 역파장 분산성의 지침인 Re (450)/Re (550) 의 값은 약 0.82 이고, 이론값인 450/550 = 0.818 에 매우 가까운 값이었다. 또, Re (550) = 137 ㎚ 이고, 이론값인 550/4 = 137.5 ㎚ 에 매우 가까운 값이었다.

[편광판 I : 요오드 PVA 형 편광판의 제조]

두께 30 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름 (평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰％ 이상) 을, 건식 연신에 의해 약 5 배로 1 축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로, 40 ℃ 의 순수에 40 초간 침지시켰다. 그 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 질량비가 0.044/5.7/100 인 염색 수용액에 28 ℃ 에서 30 초간 침지시켜 염색 처리를 실시하였다.

다음으로, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 11.0/6.2/100 인 붕산 수용액에 70 ℃ 에서 120 초간 침지시켰다. 계속하여, 8 ℃ 의 순수에서 15 초간 세정한 후, 300 N 의 장력으로 유지한 상태에서, 60 ℃ 에서 50 초간, 이어서 75 ℃ 에서 20 초간 건조시켜, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향하고 있는 두께 12 ㎛ 의 편광자를 얻었다.

얻어진 편광자와, 트리아세틸셀룰로오스 필름 (TAC, 코니카 미놀타 주식회사 제조 KC4UY) 사이에 수계 접착제를 주입하고, 닙 롤로 첩합하였다. 얻어진 첩합물의 장력을 430 N/m 로 유지하면서, 60 ℃ 에서 2 분간 건조시켜, 편면에 보호 필름으로서 시클로올레핀 필름을 갖는 편광판 I 을 얻었다. 또한, 상기 수계 접착제는, 물 100 부에, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올 (쿠라레포발 KL318 ; 주식회사 쿠라레 제조) 3 부와, 수용성 폴리아미드에폭시 수지 (스미레즈 레진 650 ; 스미카 켐텍스 주식회사 제조, 고형분 농도 30 ％ 의 수용액) 1.5 부를 첨가하여 조제하였다.

이하와 같이 하여, 얻어진 편광판 I 의 흡광 특성을 측정하였다.

분광 광도계 (V-7100 ; 주식회사 닛폰 분광 제조) 에 편광자가 부착된 폴더를 세트한 장치를 사용하여, 얻어진 편광판 I 의 투과 방향 그리고 흡수 방향의 흡광도를 더블 빔법에 의해 2 ㎚ 스텝 380 ∼ 680 ㎚ 의 파장 범위에서 측정하였다. 450 ㎚, 550 ㎚, 650 ㎚ 에서의 각 흡광도를 표 1 에 나타낸다. 반사 색상에 영향을 미치는 각 파장에서의 흡광도는, 각각 A2 (450) = 4.7, A2 (550) = 4.9, A2 (650) = 5.0 이고, 매우 뉴트럴한 색상이었다.

상기와 같이 제조한 편광판 I 과 위상차판 A 를, 편광판 I 의 흡수축과 위상차판 A 의 지상축이 이루는 각도 (θ) 가 45°가 되도록 감압식 점착제 (린텍 주식회사 제조, 아크릴계 감압식 점착제, 무색 투명, 무배향) 를 사용하여 첩합하여, 타원 편광판 1 을 제조하였다. 이 타원 편광판의 위상차판측에 추가로 감압식 점착제를 개재하여 알루미늄의 반사 기재 (제조 메이커 : 광, 품번 : HA0323) 에 첩합하였다. 이 첩합물에 대해, 편광판측으로부터, C 광원의 광을 6°방향에서 조사하여, 반사 스펙트럼을 측정하였다. 얻어진 반사 스펙트럼과 C 광원의 등색 함수로부터, L*a*b* (CIE) 표색계에 있어서의 반사 색도 a* 를 산출하였다. 그 결과를 표 2 에 나타낸다. 반사 색도 a* 의 값이 클수록 붉은 빛이 강한 것을 나타낸다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 표 2 에 나타낸다.

(2) 실시예 1

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 의 조제시의 용제의 양을 95 질량부로 한 것 이외에는 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 2.42 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 A) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 2 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(3) 실시예 2

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 의 조제시의 용제의 양을 91 질량부로 한 것 이외에는 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 2.50 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 A) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 3 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(4) 비교예 2

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 의 조제시의 용제의 양을 107 질량부로 한 것 이외에는 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 2.17 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 A) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 4 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(5) 실시예 3

비교예 1 의 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 에 있어서의, 중합성 액정 화합물 A 를 10.5 질량부와 하기 중합성 액정 화합물 B 를 1.5 질량부, 용제의 양을 120 질량부로 하여 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 B 를 조제하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #30 으로 한 것 이외에는, 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 1.93 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 B 를 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 5 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

중합성 액정 화합물 B

[화학식 12]

또한, 중합성 액정 화합물 B 는 팔리오칼라 LC242 (BASF 사 제조) 를 사용하였다.

(6) 실시예 4

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 B 의 조제시의 용제의 양을 115 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #30 으로 한 것 이외에는 상기 실시예 3 과 동일한 방법에 의해, 두께가 2.01 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 B) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 6 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(7) 실시예 5

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 B 의 조제시의 용제의 양을 108 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #30 으로 한 것 이외에는 상기 실시예 3 과 동일한 방법에 의해, 두께가 2.14 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 B) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 7 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(8) 비교예 3

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 B 의 조제시의 용제의 양을 127 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #30 으로 한 것 이외에는 상기 실시예 3 과 동일한 방법에 의해, 두께가 1.86 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 B) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 8 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(9) 실시예 6

비교예 1 의 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 에 있어서의, 중합성 액정 화합물 A 를 9.5 질량부와 중합성 액정 화합물 B 를 2.5 질량부, 용제의 양을 105 질량부로 하여 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 C 를 조제하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #20 으로 한 것 이외에는, 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 1.72 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 C 를 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 9 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(10) 실시예 7

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 C 의 조제시의 용제의 양을 100 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #20 으로 한 것 이외에는 상기 실시예 6 과 동일한 방법에 의해, 두께가 1.76 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 C) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 10 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(11) 비교예 4

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 C 의 조제시의 용제의 양을 110 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #20 으로 한 것 이외에는 상기 실시예 6 과 동일한 방법에 의해, 두께가 1.61 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 (종류 C) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 11 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(12) 실시예 8

편광판으로서 이하의 방법에 의해 제조한 편광판 II : 호스트 게스트형 편광판을 사용하였다.

[편광막 형성용 조성물 A 의 조제]

하기에 나타내는 중합성 액정 화합물 C 및 D, 이색성 색소 A ∼ C, 중합성 개시제, 레벨링제 및 용제를 혼합하고, 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 편광막 형성용 조성물 A 를 얻었다. 또한, 편광막 형성용 조성물 A 를 스핀 코트 도포 후에 용제를 건조시킨 막을 핫 플레이트 상에서 가열하면서 편광 현미경으로 텍스처 관찰한 결과, 온도 변화에 의해, 결정상과 액체상 사이에 결정상 (62 ℃) ⇔ 스멕틱 B 상 (76 ℃) ⇔ 스멕틱 A 상 (105 ℃) ⇔ 네마틱상 (114 ℃) ⇔ 액체상의 3 개의 액정상 상태를 나타내는 스멕틱 액정인 것을 확인하였다.

중합성 액정 화합물 C (30 부) :

[화학식 13]

중합성 액정 화합물 D (10 부) :

[화학식 14]

이색성 색소 A (3.0 부) λMAX = 400 ㎚ :

[화학식 15]

이색성 색소 B (3.0 부) λMAX = 520 ㎚ :

[화학식 16]

이색성 색소 C (4.3 부) λMAX = 640 ㎚ :

[화학식 17]

중합 개시제 : 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369 ; 치바 스페셜티 케미컬즈사 제조) (2.4 부)

레벨링제 : 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) (0.6부)

용제 : 톨루엔 (100 부)

[호스트 게스트형 편광판의 제조 방법]

트리아세틸셀룰로오스 필름 (TAC ; KC4UY ; 코니카 미놀타 주식회사 제조) 을, 코로나 처리 장치 (AGF-B10 ; 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리하였다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 상기 비교예 1 과 동일한 방법으로 조제한 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 편광 UV 조사 장치 (편광자 유닛이 부착된 SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 100 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하여, 배향막을 형성하였다. 얻어진 배향막의 두께를 엘립소미터 M-220 (닛폰 분광 주식회사 제조) 으로 측정한 결과, 100 ㎚ 이었다.

계속해서, 얻어진 배향막 상에, 앞에서 조제한 편광막 형성용 조성물 A 를, 바 코터의 와이어를 #10 으로 설정하여 25 ㎜/sec 의 속도로 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프 (유니큐어 VB-15201BY-A ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 조성물 A 를 도포한 면측으로부터 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장 313 ㎚ 에 있어서의 적산 광량 : 500 mJ/㎠) 함으로써, 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 수평 방향으로 배향시킨 상태에서 그 중합성 액정 화합물을 중합시켜 얻어지는 중합체를 함유하는 편광판 II 를 형성하였다. 얻어진 중합체의 두께를 레이저 현미경 (LEXT ; 올림푸스 주식회사 제조) 으로 측정한 결과, 2.10 ㎛ 이었다.

얻어진 편광판 II 의 흡광 특성을 비교예 1 과 동일하게 하여 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 반사 색상에 영향을 미치는 각 파장에서의 흡광도는, A2 (450) = 1.8, A2 (550) = 2.0, A2 (650) = 3.2 이고, 푸른 빛을 띤 색상이었다.

상기와 같이 제조한 편광판 II 와, 비교예 2 와 동일한 방법으로 조제한 위상차판 (종류 A, 광학 이방성층의 두께 2.17 ㎛) 을, 편광판 II 의 흡수축과, 이 위상차판의 지상축이 이루는 각도 (θ) 가 45°가 되도록 감압식 점착제 (린텍 주식회사 제조, 아크릴계 감압식 점착제) 를 사용하여 첩합하여, 타원 편광판 12 를 제조하였다. 이 타원 편광판의 위상차판측에 추가로 감압식 점착제를 개재하여 알루미늄의 반사 기재 (제조 메이커 : 히카리, 품번 : HA0323) 에 첩합하였다. 이 첩합물에 대해, 편광판측으로부터, C 광원의 광을 6°방향에서 조사하여, 반사 스펙트럼을 측정하였다. 얻어진 반사 스펙트럼과 C 광원의 등색 함수로부터, L*a*b* (CIE) 표색계에 있어서의 반사 색도 a* 를 산출하였다. 그 결과를 표 2 에 나타낸다. 또, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 측정한 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 표 2 에 나타낸다.

(13) 실시예 9

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 A, 광학 이방성층의 두께 2.28 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 13 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(14) 실시예 10

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 실시예 1 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 A, 광학 이방성층의 두께 2.42 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 14 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(15) 실시예 11

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 비교예 3 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 B, 광학 이방성층의 두께 1.86 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 15 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(16) 실시예 12

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 실시예 3 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 B, 광학 이방성층의 두께 1.93 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 16 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(17) 실시예 13

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 실시예 4 와 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 B, 광학 이방성층의 두께 2.01 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 17 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(18) 실시예 14

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 비교예 4 와 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 C, 광학 이방성층의 두께 1.61 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 18 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(19) 실시예 15

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 실시예 6 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 C, 광학 이방성층의 두께 1.72 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 19 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(20) 실시예 16

실시예 8 과 동일한 방법에 의해 제조한 편광판 II 와, 실시예 7 과 동일한 방법으로 제조한 위상차판 (종류 C, 광학 이방성층의 두께 1.76 ㎛) 을 실시예 8 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 20 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 실시예 8 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 또, P (λ) 의 산출값, P (450)/P (650) 및 1 - P (450) 의 값을 산출한 결과를 표 2 에 나타낸다.

(21) 비교예 5

비교예 1 의 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 A 에 있어서의, 중합성 액정 화합물 A 를 배합하지 않고, 중합성 액정 화합물 B 를 12.0 질량부, 용제의 양을 100 질량부로 하여 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 D 를 조제하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #7 로 한 것 이외에는, 상기 비교예 1 과 동일한 방법에 의해, 두께가 0.93 ㎛ 인 광학 이방성층을 포함하는 위상차판 D 를 제조하였다. 이 위상차판은 상기 식 (3) 을 만족시키지 않고, 역파장 분산성을 가지고 있지 않았다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 21 을 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

(22) 비교예 6

중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 D 의 조제시의 용제의 양을 100 질량부로 하고, 도포시의 와이어 바의 와이어의 굵기를 #9 로 한 것 이외에는 상기 비교예 5 와 동일한 방법에 의해, 두께가 0.99 ㎛ 인 위상차판 (종류 D, 광학 이방성층의 두께 0.99 ㎛) 을 제조하였다. 얻어진 위상차판과, 비교예 1 과 동일한 방법으로 제조한 편광판 I 을 비교예 1 과 동일한 순서에 의해 적층하여, 타원 편광판 22 를 제조하였다. 얻어진 타원 편광판의 위상차판의 면내 위상차값 Re (λ), 및 반사 색도 a* 를, 비교예 1 과 동일한 방법에 의해 산출하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.

편광판 I 은 매우 뉴트럴한 색상의 편광판이고, 편광판 II 는 푸른 빛을 띤 색상의 편광판이었다.

하기 식 (1) ∼ (4) 로 나타내는 광학 특성을 모두 만족시키는 실시예 1 ∼ 16 의 타원 편광판에서는, 반사 색도 a* 의 값이 작고 (0 에 가까운 값이다), 반사색이 매우 뉴트럴하고, 붉은 빛이 개선된 타원 편광판인 것이 확인되었다. 한편, 하기 식 (1) 로 나타내는 광학 특성을 갖지 않는 비교예 1 ∼ 4 의 타원 편광판에서는, 반사 색도 a* 의 값이 커, 반사색이 붉은 빛을 띤 타원 편광판이었다. 또, 식 (3) 으로 나타내는 광학 특성을 만족시키지 않고, 역파장 분산성을 갖지 않는 비교예 5 및 6 의 타원 편광판에서는, 반사 색도 a* 의 값이 매우 커, 반사색의 붉은 빛이 매우 강한 타원 편광판이었다.

0.8 ≤ P (450)/P (650) ≤ 1.2 (1)

P (550) ≥ 0.7 (2)

Re (450) < Re (550) < Re (650) (3)

0.05 < 1 - P (450) < 0.3 (4)

Claims (10)

1. 편광판 및 위상차판을 포함하고, 하기 식 (1) ∼ (4) 를 모두 만족시키는, 타원 편광판이고, 상기 위상차판이 중합성 액정 화합물이 배향된 상태에서 중합된 중합체를 함유하는, 타원 편광판.
   0.8 ≤ P (450)/P (650) ≤ 1.2 (1)
   P (550) ≥ 0.7 (2)
   Re (450) < Re (550) < Re (650) (3)
   0.05 < 1 - P (450) < 0.3 (4)
   [상기 식 (1) ∼ (4) 에 있어서,
   P (λ) = tan{sin^-1 ((I1 (λ) × sinΠ (λ) × sin2θ - I2 (λ) × sinΠ (λ) × cos2θ)/I2 (λ))/2} 이고,
   I1 (λ) = (10^{-A1 (λ)} - 10^{-A2 (λ)})/2 이고, I2 (λ) = (10^{-A1 (λ)} + 10^{-A2 (λ)})/2 이고, Π (λ) = Re (λ)/λ × 2π 이고, A1 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 투과축 방향 흡광도를 나타내고, A2 (λ) 는 파장 λ 에서의 편광판의 흡수축 방향 흡광도를 나타내고, Re (λ) 는 파장 λ 에서의 위상차판의 정면 리타데이션을 나타내고, θ 는 편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도를 나타낸다.]
2. 제 1 항에 있어서,
   위상차판의 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션이 하기 식 (5) 를 만족시키는, 타원 편광판.
   130 ㎚ ≤ Re (550) ≤ 150 ㎚ (5)
   [식 중, Re (550) 은 파장 550 ㎚ 에서의 정면 리타데이션을 나타낸다.]
3. 제 1 항에 있어서,
   편광판의 파장 λ 에서의 흡수축 방향 흡광도 (A2) 가 하기 식 (6) ∼ (8) 을 모두 만족시키는, 타원 편광판.
   1 ≤ A2 (450) ≤ 6 (6)
   1 ≤ A2 (550) ≤ 6 (7)
   2 ≤ A2 (650) ≤ 6 (8)
4. 제 1 항에 있어서,
   편광판의 파장 λ 에서의 투과축 방향 흡광도 (A1) 이 하기 식 (9) ∼ (11) 을 모두 만족시키는, 타원 편광판.
   0.001 ≤ A1 (450) ≤ 0.1 (9)
   0.001 ≤ A1 (550) ≤ 0.1 (10)
   0.002 ≤ A1 (650) ≤ 0.2 (11)
5. 제 1 항에 있어서,
   편광판의 파장 λ 에서의 흡수축 방향 흡광도 (A2) 가, 하기 식 (12) 및 (13) 을 만족시키는, 타원 편광판.
   A2 (650) > A2 (450) (12)
   A2 (650) > A2 (550) (13)
6. 제 1 항에 있어서,
   편광판의 흡수축과 위상차판의 지상축이 이루는 각도가 45°± 5°의 범위 내에 있는, 타원 편광판.
7. 삭제
8. 제 1 항에 있어서,
   편광판이 중합성 액정 화합물과 이색성 색소를 함유하는 혼합물이 배향된 상태에서 그 중합성 액정 화합물이 중합된 중합체를 함유하는, 타원 편광판.
9. 제 1 항 내지 제 6 항 및 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 타원 편광판을 포함하는, 액정 표시 장치.
10. 제 1 항 내지 제 6 항 및 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 타원 편광판을 포함하는, 유기 EL 표시 장치.