TW202011495A - 基板處理裝置 - Google Patents

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Abstract

一種基板處理裝置，包含一儲液槽、一輸送單元，以及多個處理單元。該儲液槽適用於儲存並供應一處理液。該輸送單元用以輸送該處理液，該輸送單元包括至少一連通於該儲液槽的分液管路。該等處理單元分別連通於該分液管路，每一處理單元包括一處理室、一連通於該分液管路與該處理室之間的輸出管路，以及一設置於該輸出管路以驅動該處理液流至該處理室的輸出泵。每一輸出泵的設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一高度差，且該高度差使流入該輸出泵的該處理液具有一小於該輸出泵的最大輸入壓力的液壓。

Description

基板處理裝置
本發明是有關於一種基板處理裝置，特別是指一種用以提供處理液並對基板進行濕式處理製程的基板處理裝置。
現有基板處理裝置具有一容器、一主管路、多條支管路，以及多個處理室。該主管路一端連通於用以供應處理液的該容器。該主管路末端與該等支管路的一端相連通，且該等支管路另一端分別與該等處理室相連通。此種基板處理裝置是透過一設置於主管路上的泵運轉，使得容器所儲存的處理液能經由主管路及支管路流動到處理室內，以對處理室內的基板進行濕式處理製程。
其中，每條支管路上皆設置有一用以控制支管路流通或阻斷的開關。當基板處理裝置在運作過程中有任一個開關進行開啟或關閉的操作來控制支管路的流通或阻斷時，皆會影響主管路內的處理液流到其他支管路內的流量及壓力，使其他支管路內的流量及壓力產生變化，進而造成處理液輸出至處理室時的流量及壓力不穩定。另外，當處理室與支管路的數量增加時，泵所供應的輸出效能可能無法滿足所增加的處理室的需求。
因此，本發明之其中另一目的，即在提供一種改善先前技術中至少一缺點的基板處理裝置。
於是，本發明基板處理裝置在一些實施態樣中，是包含一儲液槽、一輸送單元，以及多個處理單元。該儲液槽適用於儲存並供應一處理液。該輸送單元用以輸送該處理液，該輸送單元包括至少一連通於該儲液槽的分液管路。該等處理單元分別連通於該分液管路，每一處理單元包括一處理室、一連通於該分液管路與該處理室之間的輸出管路，以及一設置於該輸出管路以驅動該處理液流至該處理室的輸出泵，其中，每一輸出泵的設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一高度差，且該高度差使流入該輸出泵的該處理液具有一小於該輸出泵的最大輸入壓力的液壓。
在一些實施態樣中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路且與該輸出泵電性連接的流量控制模組，該流量控制模組用以感測介於該輸出泵與該處理室之間的該處理液的一流量，並根據該流量控制該輸出泵的轉速以使流至該處理室的該流量維持一預設流量值。
在一些實施態樣中，該等處理單元的流量控制模組的預設流量值能夠獨立地被設定。
在一些實施態樣中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路且介於該輸出泵與該處理室之間的流道切換閥，以及一連通於該流道切換閥與該輸送單元之間的回收管路，該流道切換閥能在一使該處理液經由該輸出管路流至該處理室的輸出狀態，以及一使該處理液經由該回收管路回收利用的回收狀態之間轉換。
在一些實施態樣中，還包含一連通於該分液管路且用以接收該分液管路中未流至該等處理單元的處理液的回收槽。
在一些實施態樣中，該輸送單元還包括一連通於該等回收管路與該回收槽之間並用以使該等回收管路內的處理液流至該回收槽的集液管路。
在一些實施態樣中，該輸送單元還包括一連通於該回收槽與該儲液槽之間的儲液管路，以及一設於該儲液管路且用以使該回收槽的處理液流至該儲液槽的儲液泵。
在一些實施態樣中，該分液管路的管徑大於該儲液管路的管徑。
在一些實施態樣中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路偏靠該處理室的一端的輸出控制模組，該輸出控制模組能控制該處理液經由該輸出管路輸出的狀態。
在一些實施態樣中，當該輸出控制模組於防止該處理液輸出的狀態時，該流道切換閥在回收狀態，以使該處理液朝該回收管路流動。
在一些實施態樣中，該分液管路的管徑大於該等處理單元的輸出管路的管徑。
在一些實施態樣中，該輸送單元具有多個連通於該儲液槽的分液管路，該等處理單元連通於相對應的分液管路。
在一些實施態樣中，該等輸出泵的設置高度相同。
在一些實施態樣中，其中至少一該處理單元的該輸出泵設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一第一高度差，至少另一該處理單元的該輸出泵設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一第二高度差。
在一些實施態樣中，還包含一設於該分液管路且用以排出該分液管路內的氣體的排氣單元。
在一些實施態樣中，該排氣單元包含一位於該分液管路上方的排泡管，該排泡管的一端連通該分液管路的一上側、另一端連通該儲液槽且高於該儲液槽內的處理液液面高度，該處理液經由該分液管路流過該排泡管和該分液管路連通處時，該處理液內的一氣泡透過該排泡管排出至該儲液槽。
在一些實施態樣中，該排氣單元包含一排氣閥以及一與該排氣閥並聯的製程閥，該排氣閥和該製程閥設於該分液管路且位於該等處理單元的下游處，該製程閥的最大閥開度小於該排氣閥的最大閥開度與該分液管路的管徑。
本發明至少具有以下功效：藉由分別設於該等輸出管路的多個輸出泵，降低各處理單元的輸出管路之間處理液流動狀況的相互干擾，並藉由每一輸出泵的設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一高度差，以使該處理液能夠穩定的流至各輸出泵，且該高度差使流入該輸出泵的該處理液具有一小於該輸出泵的最大輸入壓力的液壓，以避免該等輸出泵過載而使該等輸出泵的輸出超出預設值，進而造成流入該等處理室的處理液流量與需求不符。此外，藉由該儲液槽的設置提供足夠的處理液至各處理單元，防止當該等處理單元所需流量增加時產生處理液供應量不足的問題。
在本發明被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。
參閱圖1，本發明基板處理裝置100之一第一實施例，包含一儲液槽1、一輸送單元2、多個處理單元3、一回收槽4，以及一排氣單元5。
該儲液槽1適用於儲存並供應一處理液，本實施例的處理液適用於對一基板(圖未示)進行濕式處理製程。基板可以是例如為半導體晶圓、液晶顯示裝置用的基板、電漿顯示器用的基板、光罩用的基板、陶瓷基板，及太陽能電池用的基板等。本實施例的基板是以半導體晶圓為例。
該輸送單元2用以輸送該處理液，該輸送單元2包括一分液管路21、一儲液管路22，以及一儲液泵23。該分液管路21連通於該儲液槽1與該等處理單元3之間，以將該儲液槽1的處理液輸送至該等處理單元3，且該分液管路21還連通於該回收槽4，以使該分液管路21中未流至該等處理單元3的處理液能流至該回收槽4回收。該儲液管路22連通於該回收槽4與該儲液槽1之間，且該儲液泵23設於該儲液管路22，以將該回收槽4內的處理液輸送至該儲液槽1儲存。在本第一實施例中，該輸送單元2還包括一設於該儲液管路22且介於該儲液泵23與該儲液槽1之間的過濾器24，該過濾器24用以過濾該處理液內的微粒或異物。需要說明的是，在一變化實施例中，該基板處理裝置100也可以不包含用以回收該處理液的該回收槽4，對應地，該輸送單元2也可以不包括該儲液管路22、該儲液泵23與該過濾器24，不以本第一實施例為限制。
每一處理單元3包括一適用於對基板進行處理製程的一處理室31、一連通於該分液管路21與該處理室31之間的一輸出管路32，以及一設置於該輸出管路32以驅動該處理液流至該處理室31的輸出泵33。其中，每一輸出泵33的設置高度低於該儲液槽1的設置高度且相差一高度差H，且該高度差H使自該儲液槽1經由該分液管路21與該輸出管路32流入該輸出泵33的該處理液具有一小於該輸出泵33的最大輸入壓力的液壓，且在本第一實施例中，該等輸出泵33的設置高度大致相同，因此流入各輸出泵33的該處理液的液壓也大致相同，但在一變化實施態樣中，該等輸出泵33的設置高度也可以不相同，各輸出泵33的設置高度僅需使流入各輸出泵33的該處理液的液壓小於該輸出泵33的最大輸入壓力即可，不以本第一實施例為限。藉由分別設於該等輸出管路32的多個輸出泵33，降低各處理單元3的輸出管路32之間處理液流動狀況的相互干擾，並藉由每一輸出泵33的設置高度低於該儲液槽1的設置高度且相差一高度差H，以使該處理液能夠穩定的流至各輸出泵33，且該高度差H使流入該輸出泵33的該處理液具有一小於該輸出泵33的最大輸入壓力的液壓，以避免該等輸出泵33過載而使該等輸出泵33的輸出超出預設值，進而造成流入該等處理室31的處理液流量與需求不符。此外，藉由該儲液槽1的設置提供足夠的處理液至各處理單元3，防止當該等處理單元3所需流量增加時產生處理液供應量不足的問題。並且，在本第一實施例中，該分液管路21的管徑大於該等處理單元3的輸出管路32的管徑，且該分液管路21的管徑大於該儲液管路22的管徑，藉此避免該分液管路21內處理液的流量不足以供應至各處理單元3的情況發生。例如，當所有處理單元3同時運作時，最下游處的該輸出管路32仍可自該分液管路21取得足量的該處理液。
每一處理單元3還包括一流量控制模組34、一流道切換閥35，以及一回收管路36。該流量控制模組34設於該輸出管路32且與該輸出泵33電性連接，該流量控制模組34用以感測介於該輸出泵33與該處理室31之間的該處理液的一流量，並根據該流量控制該輸出泵33的轉速以使流至該處理室31的該流量維持一預設流量值。更詳細地說，在本第一實施例中，該流量控制模組34具有一流量感測器341，以及一控制器342，該流量感測器341設於該輸出管路32且介於該輸出泵33與該處理室31之間，以感測自該輸出泵33輸出至該處理室31的處理液的一實際流量值，該控制器342通過一第一訊號線343與該流量感測器341電性連接，並通過一第二訊號線344與該輸出泵33電性連接。當該流量感測器341感測該實際流量值時會產生對應的感測訊號，該控制器342經由該第一訊號線343接收該感測訊號後根據該感測訊號判斷該實際流量值與該預設流量值之間的差距，並根據該差距產生一控制訊號並經由該第二訊號線344將其傳輸至該輸出泵33以調控該輸出泵33的轉速，使自該輸出泵33輸出至該處理室31的處理液的該實際流量值與該預設流量值一致。其中，各處理單元3之該流量控制模組34的預設流量值可依據製程需求分別獨立地被設定，以分別控制自各輸出泵33輸出至各處理室31的處理液的各實際流量值，進而使輸出至各處理室31的各實際流量值符合製程上之不同需求。
該流道切換閥35設於該輸出管路32且介於該輸出泵33與該處理室31之間，該回收管路36連通於該流道切換閥35與該輸送單元2之間，該流道切換閥35能在一使該處理液經由該輸出管路32流至該處理室31的輸出狀態，以及一使該處理液經由該回收管路36回收利用的回收狀態之間轉換。在本第一實施例中，該流道切換閥35為三通閥且具有一輸入端351、一第一輸出端352，以及一第二輸出端353，該輸入端351與該第一輸出端352連通於該輸出管路32，且該第二輸出端353連通於該回收管路36。當該流道切換閥35在輸出狀態時，該第一輸出端352開啟且該第二輸出端353關閉，以使該處理液沿著該輸出管路32朝該處理室31流動，當該流道切換閥35在回收狀態時，該第一輸出端352關閉且該第二輸出端353開啟，以使該處理液朝該回收管路36流動。另外，在本第一實施例中，該輸送單元2還包括一連通於該等處理單元3的回收管路36與該回收槽4之間的集液管路25，該集液管路25用以將該等回收管路36內的處理液回收至該回收槽4。
該排氣單元5設於該分液管路21，用以排出該分液管路21內的氣體，該排氣單元5包括一排泡管51、一排氣閥52，以及一製程閥53。該排泡管51位於該分液管路21上方，且該排泡管51的一端連通該分液管路21位於該等處理單元3上游處的一上側，而另一端連通該儲液槽1且高於該儲液槽1內的處理液的液面高度。當該處理液經由該分液管路21流過該排泡管51和該分液管路21連通處時，至少部分該處理液會流至該排泡管51內且液面高度大致與該儲液槽內液面高度相同，而該處理液內的氣泡因本身的特性會往上移動並脫離該處理液，並透過一設置於該儲液槽1的排氣設備(圖未示)以將該排泡管51內已脫離該處理液液面的氣體排出。需說明的是，在其他實施態樣中，該排泡管51的一端也能連通該分液管路21的其他位置，例如該分液管路21位於該等處理單元3下游處，或是該等處理單元3之間處，不以此為限制。藉由該排泡管51能降低該分液管路21內處理液的氣泡含量，有助於維持該分液管路21中處理液的製程參數。該排氣閥52和該製程閥53設於該分液管路21且位於該等處理單元3的下游處，且該排氣閥52和該製程閥53是以並聯的方式設置，該製程閥53的最大閥開度小於該排氣閥52的最大閥開度與該分液管路21的管徑。其中，於製程初始階段，例如當對該儲液槽1進行清洗或換新的處理液後欲開始重新運作時，由於該分液管路21充滿氣體，若直接控制該等處理單元3開始運作，易使供應至該處理室31的該處理液的壓力不穩定，進而影響製程品質。因此，於該儲液槽1供應該處理液至該分液管路21之初，先控制該排氣閥52導通且該製程閥53關閉，以使該分液管路21充滿該處理液並將氣體排出，接著控制該排氣閥52關閉且該製程閥53導通，以使該等處理單元3開始進行製程。於本實施例中，該排氣閥52導通後的最大閥開度與該分液管路21的管徑大致相同，例如為1英吋，上述該排氣閥52的最大閥開度設置可使該分液管路21內的空氣快速排出。該製程閥53導通後的最大閥開度小於該排氣閥52導通後的管徑，例如為0.375英吋，上述該製程閥53的最大閥開度設置可控制該分液管路21內的該處理液的液壓。其中，在其他變化實施態樣中，也可以省略該排泡管51，或是省略該排氣閥52與該製程閥53，甚至在一變化實施例中，也可以不具有排氣單元5，不以本第一實施例為限制。
配合參閱圖2至圖3，另外，在本第一實施例中，每一處理單元3還包括一設於該輸出管路32偏靠該處理室31的一端的輸出控制模組37，該輸出控制模組37能控制該處理液經由該輸出管路32輸出的狀態。詳細地說，該輸出控制模組37具有一管體371、一移動件372，及一驅動源(圖未示)。該管體371形成有一連通於該輸出管路32的輸出流道371a，該移動件372能被該驅動源驅動地在一未阻斷輸出流道371a以使該處理液能夠輸出的第一位置(如圖2所示)，以及一阻斷輸出流道371a以防止該處理液輸出的第二位置(如圖3所示)之間移動，在本第一實施例中，該移動件372為彈性膜片，該驅動源是提供氣體以驅動該移動件372。其中，當該輸出控制模組37於防止該處理液輸出的狀態時，該流道切換閥35在回收狀態，以使該處理液朝該回收管路36流動。
參閱圖4，本發明基板處理裝置100之一第二實施例大致與該第一實施例相同，惟，本第二實施例中，該輸送單元2具有兩個連通於該儲液槽1的分液管路21，且該等處理單元3連通於相對應的分液管路21，更詳細地說，該等處理單元3數量為六個且三個成一組，兩組處理單元3的輸出管路32分別連通於該兩個分液管路21。在其他變化實施態樣中，該分液管路21的數量可以依照需求做調整，其數量也可以為三個以上，不以該第一實施例與本第二實施例為限制。此外，該輸送單元2具有兩個連通於該回收槽4的集液管路25，兩組處理單元3的回收管路36分別連通於該兩個集液管路25，且在本第二實施例中是包含兩個分別設置於該兩分液管路21的排氣單元5。
在本第二實施例中，每一輸出泵33的設置高度低於該儲液槽1的設置高度且相差一高度差H，以使該處理液能夠穩定的流至各輸出泵33，且該高度差H使流入該輸出泵33的該處理液具有一小於該輸出泵33的最大輸入壓力的液壓，其中位置較高的至少其中一組處理單元3的輸出泵33的設置高度低於該儲液槽1的設置高度且相差一第一高度差H1，位置較低的至少其中一組處理單元3的輸出泵33的設置高度亦低於該儲液槽1的設置高度且相差一第二高度差H2，且該第一高度差H1與該第二高度差H2分別使流入對應的輸出泵33的該處理液具有一第一液壓與一第二液壓，該第一液壓與該第二液壓均小於對應的輸出泵33的最大輸入壓力，以避免該等輸出泵33過載而使該等輸出泵33的輸出超出預設值，進而造成流入該等處理室31的處理液流量與需求不符。於此實施例中，具有至少兩不同高度差之處理單元3，並且連通於相對應的分液管路21；於其他實施例中，亦可以單一分液管路21依序連通至不同高度差之處理單元3。
參閱圖5至圖6，本發明基板處理裝置100之一第三實施例大致與該第一實施例相同，惟，在本第三實施例中，該輸出控制模組37的移動件372為活塞形式。該移動件372能被該驅動源驅動地在未阻斷輸出流道371a以使該處理液能夠輸出的該第一位置(如圖5所示)，以及阻斷輸出流道371a以防止該處理液輸出的該第二位置(如圖6所示)之間移動。且該輸出控制模組37還包括一連接於該移動件372與該管體371之間的彈性件374，藉由該彈性件374的彈性回復力能夠驅使該移動件372在未受該驅動源驅動時回復至該第一位置。
參閱圖7至圖8，本發明基板處理裝置100之一第四實施例大致與該第三實施例相同，惟，本第四實施例中，該輸出控制模組37的該管體371還形成有一連通於該輸出流道371a的回吸空間371b，該移動件372能被該驅動源驅動地在一鄰近該輸出流道371a且堵塞住該回吸空間371b的第一位置(如圖7所示)，以及一遠離該輸出流道371a並移離回吸空間371b的第二位置(如圖8所示)之間移動。當移動件372由該第一位置移動至該第二位置時，該輸出流道371a內的處理液至少一部分被吸入該回吸空間371b內。更進一步地說，在本第四實施例中，該輸出控制模組37的移動件372具有一本體372a，以及一可撓性膜372b，該本體372a用以帶動該可撓性膜372b在該第一位置與該第二位置間移動。
綜上所述，本發明基板處理裝置100，藉由分別設於該等輸出管路32的多個輸出泵33，降低各處理單元3的輸出管路32之間處理液流動狀況的相互干擾，並藉由每一輸出泵33的設置高度低於該儲液槽1的設置高度且相差一高度差H，以使該處理液能夠穩定的流至各輸出泵33，且該高度差H使流入該輸出泵33的該處理液具有一小於該輸出泵33的最大輸入壓力的液壓，以避免該等輸出泵33過載而使該等輸出泵33的輸出超出預設值，進而造成流入該等處理室31的處理液流量與需求不符。此外，藉由該儲液槽1的設置提供足夠的處理液至各處理單元3，防止當該等處理單元3所需流量增加時產生處理液供應量不足的問題。
本發明所提及之基板可為載板形式、晶圓形式、晶片形式等，並且可為圓型、方型，並不以此為限。並且藉由本發明之基板處理裝置可應用於基板濕製程(蝕刻、清洗、乾燥等)，例：單基板濕製程、多基板濕製程、單一方晶片錫球下金屬蝕刻、薄化晶圓支撐/剝離、貼合/剝離製程、碳化矽再生晶圓、再生矽晶圓等，並不以此為限。
惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
1:儲液槽2:輸送單元21:分液管路22:儲液管路23:儲液泵24:過濾器25:集液管路3:處理單元31:處理室32:輸出管路33:輸出泵34:流量控制模組341:流量感測器342:控制器343:第一訊號線344:第二訊號線35:流道切換閥36:回收管路37:輸出控制模組371:管體371a:輸出流道371b:回吸空間372:移動件372a:本體372b:可撓性膜374:彈性件4:回收槽5:排氣單元51:排泡管52:排氣閥53:製程閥100:基板處理裝置H:高度差H1:第一高度差H2:第二高度差
本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是本發明基板處理裝置的一第一實施例的一示意圖；圖2是該第一實施例的一不完整剖視圖，說明一輸出控制模組的一移動件位在一第一位置；圖3是類似於圖2的一不完整剖視圖，說明該移動件位在一第二位置； 圖4是本發明基板處理裝置的第二實施例的一示意圖； 圖5是本發明基板處理裝置的第三實施例的一不完整剖視圖，說明該輸出控制模組的該移動件位在該第一位置； 圖6是類似於圖5的一不完整剖視圖，說明該移動件位在該第二位置； 圖7是本發明基板處理裝置的第四實施例的一不完整剖視圖，說明該輸出控制模組的該移動件的一可撓性膜位在一第一位置；以及 圖8是類似於圖7的一不完整剖視圖，說明該移動件的一可撓性膜位在一第二位置。
1:儲液槽
2:輸送單元
21:分液管路
22:儲液管路
23:儲液泵
24:過濾器
25:集液管路
3:處理單元
31:處理室
32:輸出管路
33:輸出泵
34:流量控制模組
341:流量感測器
342:控制器
343:第一訊號線
344:第二訊號線
35:流道切換閥
36:回收管路
4:回收槽
5:排氣單元
51:排泡管
52:排氣閥
53:製程閥
100:基板處理裝置
H:高度差

Claims (17)

  1. 一種基板處理裝置，包含： 一儲液槽，適用於儲存並供應一處理液； 一輸送單元，用以輸送該處理液，該輸送單元包括至少一連通於該儲液槽的分液管路；以及 多個處理單元，分別連通於該分液管路，每一處理單元包括一處理室、一連通於該分液管路與該處理室之間的輸出管路，以及一設置於該輸出管路以驅動該處理液流至該處理室的輸出泵，其中，每一輸出泵的設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一高度差，且該高度差使流入該輸出泵的該處理液具有一小於該輸出泵的最大輸入壓力的液壓。
  2. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路且與該輸出泵電性連接的流量控制模組，該流量控制模組用以感測介於該輸出泵與該處理室之間的該處理液的一流量，並根據該流量控制該輸出泵的轉速以使流至該處理室的該流量維持一預設流量值。
  3. 如請求項2所述的基板處理裝置，其中，該等處理單元的流量控制模組的預設流量值能夠獨立地被設定。
  4. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路且介於該輸出泵與該處理室之間的流道切換閥，以及一連通於該流道切換閥與該輸送單元之間的回收管路，該流道切換閥能在一使該處理液經由該輸出管路流至該處理室的輸出狀態，以及一使該處理液經由該回收管路回收利用的回收狀態之間轉換。
  5. 如請求項4所述的基板處理裝置，還包含一連通於該分液管路且用以接收該分液管路中未流至該等處理單元的處理液的回收槽。
  6. 如請求項5所述的基板處理裝置，其中，該輸送單元還包括一連通於該等回收管路與該回收槽之間並用以使該等回收管路內的處理液流至該回收槽的集液管路。
  7. 如請求項5所述的基板處理裝置，其中，該輸送單元還包括一連通於該回收槽與該儲液槽之間的儲液管路，以及一設於該儲液管路且用以使該回收槽的處理液流至該儲液槽的儲液泵。
  8. 如請求項7所述的基板處理裝置，其中，該分液管路的管徑大於該儲液管路的管徑。
  9. 如請求項4所述的基板處理裝置，其中，每一處理單元還包括一設於該輸出管路偏靠該處理室的一端的輸出控制模組，該輸出控制模組能控制該處理液經由該輸出管路輸出的狀態。
  10. 如請求項9所述的基板處理裝置，其中，當該輸出控制模組於防止該處理液輸出的狀態時，該流道切換閥在回收狀態，以使該處理液朝該回收管路流動。
  11. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，該分液管路的管徑大於該等處理單元的輸出管路的管徑。
  12. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，該輸送單元具有多個連通於該儲液槽的分液管路，該等處理單元連通於相對應的分液管路。
  13. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，該等輸出泵的設置高度相同。
  14. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，至少一該處理單元的該輸出泵設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一第一高度差，至少另一該處理單元的該輸出泵設置高度低於該儲液槽的設置高度且相差一第二高度差。
  15. 如請求項1所述的基板處理裝置，其中，還包含一設於該分液管路且用以排出該分液管路內的氣體的排氣單元。
  16. 如請求項15所述的基板處理裝置，其中，該排氣單元包含一位於該分液管路上方的排泡管，該排泡管的一端連通該分液管路的一上側、另一端連通該儲液槽且高於該儲液槽內的處理液液面高度，該處理液經由該分液管路流過該排泡管和該分液管路連通處時，該處理液內的氣泡透過該排泡管排出至該儲液槽。
  17. 如請求項15所述的基板處理裝置，其中，該排氣單元包含一排氣閥以及一與該排氣閥並聯的製程閥，該排氣閥和該製程閥設於該分液管路且位於該等處理單元的下游處，該製程閥的最大閥開度小於該排氣閥的最大閥開度與該分液管路的管徑。
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