TW201825373A - 脫臭裝置及塗布裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能於不降低臭氣量之情況下，抑制因供臭氣流通之臭氣配管部摩擦所致的發塵且能提高耐久性之脫臭裝置、及具有該脫臭裝置之塗布裝置。 本發明之脫臭裝置係設於在被搬送至平台面之基板形成塗布膜之塗布裝置者，該脫臭裝置構成為，具有：脫臭器本體，其可相對於塗布器移動地設置，對廢液托盤之臭氣進行脫臭；支持框架部，其具有排氣抽吸源；及接頭管部，其將脫臭器本體與支持框架部連結，而將上述脫臭器本體之臭氣導入至排氣抽吸源；接頭管部具有將脫臭器本體與支持框架連結之連通管部、及支持連通管部且使該連通管部可繞與平台面垂直之軸旋轉之回轉支持部，於支持框架部，設有容許回轉支持部於與脫臭器本體之移動方向正交之方向位移的差分吸收導引部。

Description

脫臭裝置及塗布裝置

本發明係關於一種設於在基板上形成塗布膜之塗布裝置之廢液托盤上的脫臭裝置，關於一種能抑制因供臭氣流通之配管摩擦所致的發塵且能提高耐久性之脫臭裝置、及具有該脫臭裝置之塗布裝置。

液晶顯示器或電漿顯示器等平板顯示器中使用將抗蝕液等塗布液塗布於玻璃等基板上而成者(稱為塗布基板)。該塗布基板係藉由塗布塗布液之塗布裝置而形成。如圖7所示，塗布裝置具有載置基板W之平台110、及自於一方向延伸之狹縫向所載置之基板W吐出塗布液之塗布器100，藉由一面自塗布器100吐出塗布液一面使基板W相對移動，而於基板W上形成塗布膜(例如參照專利文獻1)。 又，一般而言，塗布裝置中設有維護裝置101，以使塗布器100之吐出狀態能保持固定。該維護裝置101中設有清掃裝置102、及接收廢液之廢液托盤103(參照圖8)，當於基板W形成塗布膜之塗布動作結束後，維護裝置101便移動至塗布器100且定位為塗布器100位於廢液托盤103上。並且，清掃裝置102沿塗布器100之狹縫移動，藉此擦去附著於狹縫之塗布液，被擦去之多餘的塗布液落至廢液托盤103而被回收。 該廢液托盤103內，除了多餘的塗布液之外，還長期貯存有用於洗淨清掃裝置102之洗淨液等溶劑，因而充滿臭氣。故而，於廢液托盤103設置有脫臭裝置104，以將廢液托盤103內充滿之臭氣排出。具體而言，如圖8所示，脫臭裝置104鄰接於廢液托盤103而設，且具有脫臭器本體105、與維護裝置101(廢液托盤103)共通之移行裝置106、及供臭氣自脫臭器本體105流通之臭氣配管部107，臭氣配管部107連接於排氣抽吸源(未圖示)。於脫臭器本體105形成有於廢液托盤103側開口之臭氣抽吸口108，形成為來自排氣抽吸源之抽吸力經過臭氣配管部107而於臭氣抽吸口108產生。藉此，廢液托盤103內充滿之臭氣被自臭氣抽吸口108抽吸，經過臭氣配管部107而排至排氣抽吸源。此處，臭氣配管部107設有呈U字狀彎曲之額外長度部分，形成為即便維護裝置101移動至塗布器100之位置，脫臭器本體105亦能追隨，能與移行裝置106之移行一同地始終抽吸臭氣。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2011-213435號公報

[發明所欲解決之問題] 然而，上述脫臭裝置104中，存在臭氣配管部107之耐久性問題，又，存在移行中會產生微粒之問題。即，由於臭氣配管部107係呈U字狀彎曲而設，所以彎曲狀態會根據脫臭器本體105伴隨維護裝置101所進行之移動而變化。故而，不僅會因長期運轉而導致臭氣配管提前因彎曲而劣化，而且還存在擔心因臭氣配管部107與其他構件(例如移行裝置106)接觸並摩擦而產生微粒的問題。 又，為了防止與其他構件之接觸，亦考慮到將臭氣配管部107收容於線纜拖鏈(Cable Bear，註冊商標)內，但若收容於線纜拖鏈(註冊商標)內則需縮小臭氣配管部107之直徑，從而存在無法增大自臭氣抽吸口108抽吸之臭氣量的問題。 因此，本發明之目的在於提供一種能於不降低臭氣量之情況下，抑制因供臭氣流通之臭氣配管部摩擦所致的發塵且能提高耐久性之脫臭裝置、及具有該脫臭裝置之塗布裝置。 [解決問題之技術手段] 為了解決上述問題，本發明之脫臭裝置、及具有該脫臭裝置之塗布裝置之特徵在於，該脫臭裝置係設於塗布裝置者，該塗布裝置係自塗布器對被搬送至平台面之基板吐出塗布液而於基板上形成塗布膜；該脫臭裝置具有：脫臭器本體，其以可於基板之搬送方向相對於上述塗布器移動之方式設置，對貯存上述塗布器之廢液的廢液托盤之臭氣進行脫臭；支持框架部，其相對於上述脫臭器本體固定地設置，且具有排氣抽吸源；及接頭管部，其將上述脫臭器本體與上述支持框架部連結，而將上述脫臭器本體之臭氣導入至排氣抽吸源；上述接頭管部具有：連通管部，其使上述脫臭器本體與上述支持框架連通；及回轉支持部，其支持上述連通管部且使該上述連通管部可繞與上述平台面垂直之軸旋轉；於上述支持框架部，設有容許上述回轉支持部於與上述脫臭器本體之移動方向正交之方向位移的差分吸收導引部。 根據本發明，脫臭器本體與支持框架部由接頭管部連結，於支持框架部設有回轉支持部，藉此，當脫臭器本體與維護裝置一同移動時，藉由回轉支持部之回轉，接頭管部追隨脫臭器本體。又，因於回轉支持部設有差分吸收導引部，故當脫臭器本體自最遠離支持框架部之狀態起移動而接近支持框架部時，脫臭器本體與支持框架部(回轉支持部)之距離變短，但因差分吸收導引部容許回轉支持部於與脫臭器本體之移動方向正交之方向位移，故能使脫臭器本體與支持框架部之回轉支持部之距離保持固定。即，接頭管部能於使長度固定之狀態下維持連結狀態。藉此，不論脫臭器本體位於什麼位置，皆能使接頭管部之長度固定，故而，無需如先前般使接頭管部(相當於先前之臭氣配管)呈U字狀彎曲以具有額外長度。因此，能提高接頭管部之耐久性，且能抑制因接頭管部摩擦所致之發塵。又，無需使用線纜拖鏈(註冊商標)，接頭管部之設置空間亦不受限定，故而，能避免因接頭管部之小徑化所致的臭氣量之下降。 又，亦可構成為，上述接頭管部之連通管部係由姿勢不會變化之直線狀之管構件形成。 根據此構成，可使用姿勢不會變化(剛性較高)之金屬製(例如不鏽鋼、鋁等)之管構件，故而，與由樹脂製等形成之管構件相比，能避免因姿勢變化而與其他構件接觸所致之摩擦、因彎曲所致之劣化等問題。 又，亦可構成為，於上述接頭管部收容有供液體或氣體流通之配管。 根據此構成，可收容包含廢液托盤之維護裝置中所需之液體配管、氣體配管等，無需另外的線纜拖鏈(註冊商標)等配管導引機構。 [發明之效果] 根據本發明，能於不降低臭氣量之情況下，抑制因供臭氣流通之臭氣配管部摩擦所致的發塵且能提高耐久性。

以下，使用圖式對本發明之脫臭裝置之實施形態進行說明。 圖1係概略性地表示與本發明之脫臭裝置相組合之塗布裝置2的立體圖，圖2係圖1中之塗布裝置2之前視圖。 圖1、圖2中，塗布裝置2具有搬送基板W之基板搬送裝置1與塗布單元21，以於由基板搬送裝置1搬送之基板W形成塗布膜。即，一面由基板搬送裝置1搬送基板W一面自塗布單元21吐出塗布液，藉此，於基板W上形成塗布膜。 以下之說明中，將基板W之搬送方向作為X軸方向，X軸方向相當於搬送方向。又，將於水平面上與X軸方向正交之方向作為Y軸方向，特別地將Y軸方向亦稱為河寬方向。並且，將與X軸方向及Y軸方向兩者正交之方向作為Z軸方向而進行說明。 塗布單元21係將塗布液塗布於基板W者，具有框架部22與塗布器23。框架部22具有分別配置於浮起平台部10之Y軸方向兩側之支柱22a，於該等支柱22a設有塗布器23。具體而言，支柱22a係固定地設於Y軸方向(河寬方向)兩側，為了不妨礙後述之基板保持部30之移行，而配置於較基板保持部30之移行路徑更靠外側。並且，塗布器23係架設於該等支柱22a，且塗布器23係以橫切浮起平台部10之狀態安裝。又，於支柱22a設有升降機構，藉由使升降機構工作可令塗布器23於Z方向移動。即，利用升降機構，可使塗布器23相對於浮起平台部10實施相接/分離動作。 塗布器23係吐出塗布液者，於一方向延伸而形成。該塗布器23形成有於一方向延伸之狹縫噴嘴23a(參照圖2)，能自狹縫噴嘴23a吐出塗布器23內所貯存之塗布液。具體而言，狹縫噴嘴23a形成於與浮起平台部10對向之面，塗布器23以狹縫噴嘴23a於河寬方向延伸之狀態設置。並且，在使塗布器23相對於所搬送之基板W升降而使基板W與狹縫噴嘴23a之距離符合特定距離的狀態下，自狹縫噴嘴23a吐出塗布液，藉此，於搬送方向連續地形成在河寬方向上均勻之塗布膜。並且，一面自狹縫噴嘴23a吐出塗布液一面使基板W移動，藉此，於基板W上形成厚度均一之塗布膜。 又，基板搬送裝置1係一面使基板W浮起一面於一方向(本實施形態中為X軸方向，亦稱為基板搬送方向)搬送該基板W。基板搬送裝置1具有使基板W浮起之浮起平台部10、及對由浮起平台部10所浮起之基板W進行保持及搬送之基板搬送單元3。 浮起平台部10係使基板W浮起者，於本實施形態中具有空氣浮起機構。浮起平台部10係於基台11上設有平板部12而形成，複數塊平板部12係沿X軸方向排列而形成。即，平板部12具有平滑之平台面12a(參照圖1)，各個平台面12a以成為均一高度之方式排列。並且，於平台面12a與所搬送之基板W之間形成有空氣層，藉此，能使基板W浮起至特定高度位置。具體而言，於平板部12形成有於平台面12a開口之微小之噴出口(未圖示)與抽吸口(未圖示)，噴出口與壓縮機由配管連接，抽吸口與真空泵由配管連接。並且，使自噴出口噴出之空氣與於抽吸口產生之抽吸力達到平衡，藉此，能使基板W以水平之姿勢浮起至距平台面12a之特定高度。藉此，能於高精度地維持基板W之平面姿勢(稱為平面度)之狀態下對其進行搬送。 又，浮起平台部10之平板部12之Y軸方向尺寸形成為小於所搬送之基板W之Y軸方向尺寸，當將基板W載置於平台面12a上時，成為基板W之Y軸方向端部自平台面12a伸出之狀態。利用後述之基板搬送單元3保持該伸出之部分，藉此能搬送基板W。 又，基板搬送單元3係搬送浮起狀態之基板W者，具有保持基板W之基板保持單元30、及使基板保持單元30移行之搬送驅動部31。 搬送驅動部31係以使基板保持單元30於搬送方向移動之方式構成，包含沿浮起平台部10於搬送方向延伸之搬送軌道部31a、及於該搬送軌道部31a上移行之底座部31b。具體而言，以於搬送方向延伸之方式設置之基台31c(參照圖2)配置於浮起平台部10之河寬方向兩側，於各個基台31c上設有搬送軌道部31a。即，搬送軌道部31a係沿浮起平台部10無間斷地連續設置。又，底座部31b係形成為凹形狀之板狀構件，例如如圖2所示，以覆蓋搬送軌道部31a之上表面之方式設置。底座部31b係以介隔氣墊而覆蓋於搬送軌道部31a之方式設置，藉由驅動線性馬達(未圖示)而使底座部31b於搬送軌道部31a上移行。即，藉由驅動控制線性馬達，能使底座部31b不接觸搬送軌道部31a而於其上移行，且能使其停止於特定位置。 又，於底座部31b設有基板保持單元30，藉由該基板保持單元30吸附保持基板W。即，藉由在使基板W吸附於基板保持單元30之狀態下驅動控制線性馬達，能使基板W沿浮起平台部10移動，且能使其停止於特定位置。 又，於塗布裝置2設有維護裝置4，能使塗布器23保持恰當狀態。如圖4所示，維護裝置4具有清掃裝置41與廢液托盤42，且設於浮起平台部10上。 廢液托盤42具有於一方向延伸之形狀，以於Y軸方向橫切浮起平台部10之方式配置。廢液托盤42具有可貯存液體之形狀，形成為較塗布器23大一圈之形狀。即，廢液托盤42係以如下方式形成：當塗布器23配置於廢液托盤42上且清掃裝置41進行清掃動作時，接收洗淨液、及多餘的塗布液等廢液。 於廢液托盤42設有清掃裝置41。該清掃裝置41係洗淨附著於塗布器23之塗布液者。具體而言，清掃裝置41包含具有V字槽之洗淨區塊42a，該洗淨區塊42a以能於廢液托盤42之長度方向移行之方式形成。又，於洗淨區塊42a之V字槽內設有與狹縫噴嘴23a接觸之刮取構件，以進而向V字槽內吐出洗淨液。即，在狹縫噴嘴23a配置於洗淨區塊42a之V字槽之狀態下，刮取構件與狹縫噴嘴23a之側面接觸。此狀態下，若一面吐出洗淨液一面使洗淨區塊42a移行，則刮取構件一面與狹縫噴嘴23a之側面接觸一面於狹縫噴嘴23a之長度方向移動，藉此，附著於狹縫噴嘴23a之側面之塗布液被洗淨液軟化後被刮取。藉此，能利用清掃裝置41機械式地清掃塗布器23。並且，被刮取之塗布液及洗淨液落至廢液托盤42，暫時貯存於廢液托盤42，且最終排出至外部。 又，對維護裝置4設有移行裝置5，以使維護裝置4能於基板W之搬送方向移動。本實施形態中，如圖2、圖3所示，移行裝置5包含沿浮起平台部10於搬送方向延伸之移行軌道部51、及於該移行軌道部51上移行之移行底座部52。具體而言，移行軌道部51配置於基台31c上之搬送軌道部31a之外側，該移行軌道部51係沿浮起平台部10連續設置。並且，於移行軌道部51上，介隔氣墊以覆蓋移行軌道部51之上表面之方式設有移行底座部52，形成為移行底座部52利用線性馬達(未圖示)於移行軌道部51上移行。即，藉由驅動控制線性馬達，能使移行底座部52於移行軌道部51上移行，且能使其停止於特定位置。本實施形態中，移行底座部52設定為能停止於維護位置與待機位置。即設定為：於維護位置，維護裝置4移動至維護裝置4之廢液托盤42位於塗布器23正下方的位置；於待機位置，維護裝置4移動至遠離維護位置之特定場所。 又，如圖4所示，維護裝置4中設有脫臭裝置6，該脫臭裝置6係藉由對廢液托盤42內貯存之洗淨液、塗布液等溶劑所產生之臭氣進行抽吸而進行脫臭。脫臭裝置6具有對臭氣進行脫臭之脫臭器本體61、具有排氣抽吸源之支持框架部62、及將脫臭器本體61與支持框架部62連結之接頭管部63，形成為使來自排氣抽吸源之抽吸力經過接頭管部63於脫臭器本體61產生，藉此使廢液托盤42之臭氣由脫臭器本體61脫臭。 脫臭器本體61具有抽吸臭氣之抽吸開口部61a，抽吸開口部61a以朝向廢液托盤42上之方式鄰接於廢液托盤42而設。具體而言，脫臭器本體61具有長方體形狀，且鄰接於廢液托盤42而一體地設置。即，脫臭器本體61係固定於廢液托盤42，當維護裝置4移動時，脫臭器本體61與廢液托盤42一同移動。並且，於與廢液托盤42相接之壁面61b設有抽吸開口部61a，本實施形態中，設有5個抽吸開口部61a。於圖4所示之例中，抽吸開口部61a沿一方向(Y軸方向)並排地設於距廢液托盤42特定高度之位置。 將來自排氣抽吸源之抽吸力經過接頭管部63而供給至脫臭器本體61。於脫臭器本體61之Y軸方向兩端部連結有接頭管部63，經過該接頭管部63而供給來自排氣抽吸源之抽吸力。具體而言，於接頭管部63連接有2根抽吸軟管64(參照圖5)，經過該抽吸軟管64自抽吸開口部61a產生抽吸力。即，於脫臭器本體61形成有與所有抽吸開口部61a連通之歧管部61c，於歧管部61c連接有4個抽吸軟管64。藉此，當自抽吸軟管64產生抽吸力時，歧管部61c整體產生抽吸力，且自各個抽吸開口部61a產生抽吸力。此處，自抽吸軟管64供給之抽吸力於抽吸軟管64附近變強。故而，藉由使抽吸軟管64於Y軸方向大致均等地並排且連接於歧管部61c，使得自抽吸軟管64供給之抽吸力遍及Y軸方向變得均一，進而藉由利用歧管部61c使上述抽吸力集合，使得抽吸力於整個歧管部61c變得均一。因此，於各個抽吸開口部61a產生之抽吸力變得均一，能遍及整個廢棄托盤無偏差地抽吸自廢棄托盤產生之臭氣。 又，支持框架部62係支柱構件，於浮起平台部10之兩側各設置有1個。該支持框架部62係相對於脫臭器本體61固定地設置，且固定地設於工廠之地面。並且，於本實施形態之支持框架部62之內部，收容有設於工廠之排氣抽吸源，由脫臭器本體61抽吸之臭氣經過排氣抽吸源而排出。即，排氣抽吸源與接頭管部63連接，由脫臭器本體61抽吸之臭氣經過接頭管部63自排氣抽吸源排出。此處，支持框架部62之上表面部62a形成為平面狀，於該上表面部62a連接有接頭管部63。具體而言，於支持框架部62之上表面部62a設有後述之差分吸收導引部7(參照圖3)，且該上表面部62a連結於差分吸收導引部7之平板區塊部71。 接頭管部63係將脫臭器本體61與支持框架部62連結者，將由脫臭器本體61抽吸之臭氣導入至排氣抽吸源。即，接頭管部63使由脫臭器本體61抽吸之臭氣流通至支持框架部62，並使臭氣自支持框架部62之排氣供給源排出。該接頭管部63具有連通管部63a、及配置於其兩端之回轉支持部63b。 連通管部63a係由在一方向延伸之管構件形成，經由回轉支持部63b而使脫臭器本體61與支持框架部62連通且連接。該連通管部63a係由姿勢變化較少之材料形成，本實施形態中係由不鏽鋼形成。即，形成為，不會如樹脂製之管構件或塑膠製之管體般彎曲變化，能保持將脫臭器本體61與支持框架部62連結之姿勢。藉此，能避免因姿勢變化而與其他構件接觸所致之摩擦、因彎曲所致之劣化等問題。 回轉支持部63b支持連通管部63a且使該連通管部63a可繞與浮起平台部10之平台面12a垂直之軸(本實施形態中為繞Z軸)旋轉。回轉支持部63b設於連通管部63a之兩端部，端部連結於支持框架部62。該回轉支持部63b係使用旋轉接頭，且具有呈於一方向延伸之形狀之固定部63b1、及形成為L字狀之回轉部63b2(參照圖3)。本實施形態中，固定部63b1連結於脫臭器本體61或支持框架部62，回轉部63b2連結於連通管部63a。 回轉支持部63b之固定部63b1係以於Z軸方向延伸之姿勢連結於脫臭器本體61或支持框架部62，回轉部63b2係以其一端可繞中心軸旋轉之方式連接於固定部63b1。即，回轉部63b2具有如下形狀：自一端側沿固定部63b1之延伸方向於Z軸方向延伸，途中使方向改變90度後再延伸。並且，當使回轉部63b2相對於固定部63b1旋轉時，係以回轉部63b2之另一端於與固定部63b1之中心軸相距一定距離之位置朝向外徑側的姿勢旋轉。即，回轉支持部63b支持連通管部63a且使該連通管部63a可繞與浮起平台部10之平台面12a垂直之軸(繞固定部63b1之中心軸)旋轉。藉此，即便脫臭器本體61於基板W之搬送方向移動，接頭管部63亦能追隨脫臭器本體61。即，如圖6所示，當維護裝置4自維護位置移動至待機位置時，脫臭器本體61亦隨之移動，藉此，脫臭器本體61相對於支持框架部62而向基板搬送方向上游側及基板搬送方向下游側移動。此時，支持框架部62側之回轉支持部63b之回轉部63b2相對於固定部63b1旋轉，藉此，回轉部63b2之一端部(與連通管部63a連結之側)能始終與脫臭器本體61對向。同樣，脫臭器本體61側之回轉支持部63b之回轉部63b2相對於固定部63b1旋轉，藉此，回轉部63b2之一端部(與連通管部63a連結之側)能始終與支持框架部62對向。如此，回轉支持部63b之回轉部63b2隨著維護裝置4(脫臭器本體61)於基板W之搬送方向之移動而旋轉，藉此，接頭管部63可追隨脫臭器本體61而無需改變尺寸。 又，在設於支持框架部62之回轉支持部63b，設有差分吸收導引部7(參照圖3)。該差分吸收導引部7容許回轉支持部63b於與脫臭器本體61之移動正交之方向位移。該差分吸收導引部7設於支持框架部62之上表面部62a，且具有導軌部72與平板區塊部71。即，於支持框架部62之上表面部62a，在與基板W之搬送方向(X軸方向)正交之方向(Y軸方向)設置有於一方向延伸之導軌部72，形成為平板區塊部71可於該導軌部72上移動。本實施形態中，調節為當平板區塊部71於X軸方向受力時，能順利地於導軌部72上移動。並且，於平板區塊部71安裝有回轉支持部63b之固定部63b1，而使回轉支持部63b之位置能於Y軸方向位移。藉此，不論脫臭器本體61位於搬送方向之什麼位置，皆能使脫臭器本體61與支持框架部62之回轉支持部63b之距離保持固定。 即，如圖6所示，脫臭器本體61(維護裝置4)配置於待機位置，接頭管部63之連通管部63a設置為延伸至位於基板W之搬送方向上游側之待機位置的狀態。該情形時，支持框架部62上之回轉支持部63b配置於靠近浮起平台部10之位置(圖6(a))。 並且，在塗布動作結束後，為了進行維護動作，脫臭器本體61(維護裝置4)會移動至塗布器23正下方之維護位置。當脫臭器本體61向基板W之搬送方向下游側移動時，脫臭器本體61靠近支持框架部62，故而，脫臭器本體61之回轉支持部63b之位置與支持框架部62之回轉部63b2之位置彼此接近。並且，因連通管部63a係由不鏽鋼形成，故若回轉支持部63b彼此接近，則會根據接近之程度而給回轉支持部63b帶來負載，但差分吸收導引部7之平板區塊部71會受到回轉支持部63b彼此接近所產生之力，而移動至遠離浮起平台部10之位置。即，支持框架部62上之回轉支持部63b移動至於Y軸方向遠離浮起平台部10之位置，從而，回轉支持部63b彼此之距離保持固定(圖6(b))。並且，若脫臭器本體61進一步向搬送方向下游側移動，則本次回轉支持部63b彼此會分離，故回轉支持部63b受到來自連通管部63a之拉伸力。故而，差分吸收導引部7之平板區塊部71向浮起平台部10側移動，藉此，回轉支持部63b彼此之距離保持固定(圖6(c))。 如此，根據上述實施形態，當脫臭器本體61與維護裝置4一同移動時，藉由回轉支持部63b之回轉，接頭管部63追隨脫臭器本體61。並且，因於回轉支持部63b設有差分吸收導引部7，故當脫臭器本體61自最遠離支持框架部62之狀態起移動而接近支持框架部62時，脫臭器本體61與支持框架部62(回轉支持部63b)之距離變短，但因差分吸收導引部7容許回轉支持部63b於與脫臭器本體61之移動方向正交之方向位移，故能使脫臭器本體61與支持框架部62之回轉支持部63b之距離保持固定。即，接頭管部63能於使長度固定之狀態下維持連結狀態。藉此，不論脫臭器本體61位於什麼位置，皆能使接頭管部63之長度固定，故而，無需如先前般使接頭管部63(相當於先前之臭氣配管)呈U字狀彎曲以具有額外長度。因此，能提高接頭管部63之耐久性，且能抑制因接頭管部63摩擦所致之發塵。又，無需使用線纜拖鏈(註冊商標)，接頭管部63之設置空間亦不受限定，故而，能避免因接頭管部63之小徑化所致的臭氣量之下降。 又，上述實施形態中，對使用不鏽鋼製之管構件作為連通管部63a之例進行了說明，但只要為姿勢不會變化(剛性較高)之管構件即可。例如，可使用鋁等金屬製之管構件，與由樹脂製等形成之管構件相比，能避免由於彎曲變形等姿勢變化而導致之、因與其他構件接觸所致之摩擦、劣化等問題。 又，上述實施形態中，將接頭管部63用作供臭氣流通之臭氣配管，但亦可將其用作供臭氣流通且收容包含廢液托盤42之維護裝置4中所需之液體配管、氣體配管等的配管。該情形時，可省略先前必需之收容並導引液體配管、氣體配管之線纜拖鏈(註冊商標)。 又，上述實施形態中，對使基板W浮起而加以搬送之情形進行了說明，但並不特別限定於搬送形態，只要為塗布器固定，維護裝置相對於該塗布器移動而進行維護動作之形態，則均可運用本發明之脫臭裝置。

1‧‧‧基板搬送裝置

2‧‧‧塗布裝置

3‧‧‧基板搬送單元

4‧‧‧維護裝置

5‧‧‧移行裝置

6‧‧‧脫臭裝置

7‧‧‧差分吸收導引部

10‧‧‧浮上平台部

11‧‧‧基台

12‧‧‧平板部

12a‧‧‧平台面

21‧‧‧塗布單元

22‧‧‧框架部

22a‧‧‧支柱

23‧‧‧塗布器

23a‧‧‧狹縫噴嘴

30‧‧‧基板保持部

31‧‧‧搬送驅動部

31a‧‧‧搬送軌道部

31b‧‧‧底座部

31c‧‧‧基台

41‧‧‧清掃裝置

42‧‧‧廢液托盤

51‧‧‧移行軌道部

52‧‧‧移行底座部

61‧‧‧脫臭器本體

61a‧‧‧抽吸開口部

61b‧‧‧壁面

61c‧‧‧歧管部

62‧‧‧支持框架部

62a‧‧‧上表面部

63‧‧‧接頭管部

63a‧‧‧連通管部

63b‧‧‧回轉支持部

63b1‧‧‧固定部

63b2‧‧‧回轉部

64‧‧‧抽吸軟管

72‧‧‧導軌部

71‧‧‧平板區塊部

100‧‧‧塗布器

101‧‧‧維護裝置

102‧‧‧清掃裝置

103‧‧‧廢液托盤

104‧‧‧脫臭裝置

105‧‧‧脫臭器本體

106‧‧‧移行裝置

107‧‧‧臭氣配管部

108‧‧‧臭氣抽吸口

110‧‧‧平台

W‧‧‧搬送基板

X、Y、Z‧‧‧軸

圖1係概略性地表示與本發明之脫臭裝置相組合之塗布裝置的立體圖。 圖2係沿搬送方向觀察上述實施形態之塗布裝置之圖。 圖3係表示上述實施形態中之接頭管部之圖。 圖4係上述實施形態之維護裝置之立體圖。 圖5係表示上述實施形態之維護裝置中之脫臭裝置內部的圖。 圖6係表示上述實施形態之接頭管部之動作的圖，(a)係表示脫臭裝置(維護裝置)位於待機位置之狀態之圖，(b)係表示脫臭裝置自待機位置向維護位置移動之途中、最接近支持框架部之狀態之圖，(c)係表示脫臭裝置位於維護裝置之狀態之圖。 圖7係表示與先前之脫臭裝置相組合之塗布裝置的圖。 圖8係表示包括先前之脫臭裝置之維護裝置的立體圖。

Claims (4)

1. 一種脫臭裝置，其特徵在於，其係設於塗布裝置者，該塗布裝置係自塗布器對被搬送至平台面之基板吐出塗布液而於基板上形成塗布膜；該脫臭裝置具有： 脫臭器本體，其以可於基板之搬送方向相對於上述塗布器移動之方式設置，對貯存上述塗布器之廢液的廢液托盤之臭氣進行脫臭； 支持框架部，其相對於上述脫臭器本體固定地設置，且具有排氣抽吸源；及 接頭管部，其將上述脫臭器本體與上述支持框架部連結，而將上述脫臭器本體之臭氣導入至排氣抽吸源； 上述接頭管部具有：連通管部，其使上述脫臭器本體與上述支持框架連通；及回轉支持部，其支持上述連通管部且使該上述連通管部可繞與上述平台面垂直之軸旋轉； 於上述支持框架部，設有容許上述回轉支持部於與上述脫臭器本體之移動方向正交之方向位移的差分吸收導引部。
2. 如請求項1之脫臭裝置，其中上述接頭管部之連通管部係由姿勢不會變化之直線狀之管構件形成。
3. 如請求項1或2之脫臭裝置，其中於上述接頭管部收容有供液體或氣體流通之配管。
4. 一種塗布裝置，其特徵在於具有如上述請求項1～3中任一項之脫臭裝置。