TW201814336A - 光學膜及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種減低隆起的產生之光學膜。
本發明之解決手段為一種光學膜，係具有偏光板與貼合於偏光板的表面之防護膜；其中，偏光板包含偏光片與積層於偏光片之保護膜；防護膜包含黏著劑層與隔著黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層；於光學膜的寬度方向，保護膜的側端係位於較偏光片的側端更外側處，防護層的側端係位於較偏光片的側端更內側處。

Description

光學膜及其製造方法
本發明係有關光學膜及其製造方法。
以往，作為光學膜係有日本特開2014-102353號公報(專利文獻1)所記載者。該光學膜包含偏光板與貼合於偏光板的表面之防護膜(protect film)。偏光板包含偏光片與積層於偏光片之保護膜(guard film)。防護膜包含黏著劑層(adhesive layer)與隔著黏著劑層而積層於偏光板之防護層。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2014-102353號公報
不過，當實際製造前述以往的光學膜而使用時，發現有下述的問題。亦即，在光學膜的保管或加工時，於光學膜之寬度方向的端部，有時會在防護膜的黏著 劑層與偏光板的保護膜之間產生隆起。若該隆起產生，則會於防護膜與偏光板之間受到異物侵入等，造成顯示不良等。
因此，本案發明人對於隆起的產生不斷深入探討，結果發現，隆起的產生係與光學膜的寬度方向之各構件(偏光片、保護膜、黏著劑層、防護層)的側端之位置關係密切相關。
於是，本發明之課題係提供一種減低隆起的產生之光學膜及其製造方法。
為了解決前述課題，本發明之光學膜係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，前述保護膜的側端係位於較前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於與前述偏光片的側端相同的位置，或較前述偏光片的側端更內側處。
根據本發明之光學膜，於光學膜的寬度方向，防護層的側端係位於與偏光片的側端相同的位置，或較偏光片的側端更內側處。藉此，位於較偏光片的側端更 外側處之保護膜即使因吸濕等而大幅度地變形成波浪形狀，位於較偏光片的側端更外側處之保護膜也不易干擾至防護層，可減低防護膜的黏著劑層與偏光板的保護膜之間的隆起產生。
又，本發明之光學膜，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，前述保護膜的側端係位於較前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於與前述黏著劑層的側端相同的位置，或較前述黏著劑層的側端更外側處，前述保護膜的側端係位於較前述黏著劑層的側端更外側處，前述防護層的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及前述保護膜的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2為0以上0.27以下。
根據本發明之光學膜，於光學膜的寬度方向，防護層的側端係位於較偏光片的側端更外側處，防護層的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及保護膜 的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2為0以上0.27以下。藉此，位於較偏光片的側端更外側處之保護膜因吸濕等而大幅度地變形成波浪形狀，位於較偏光片的側端更外側處之保護膜亦不易干擾至防護層，可減低防護膜的黏著劑層與偏光板的保護膜之間的隆起產生。
又，在光學膜之一實施形態中，前述光學膜係形成葉片狀。
根據前述實施形態，光學膜係形成葉片狀。此時亦可減低防護膜的黏著劑層與偏光板的保護膜之間的隆起產生。
又，在光學膜之一實施形態中，前述光學膜係捲繞成卷狀。
根據前述實施形態，光學膜係捲繞成卷狀。此時亦可減低防護膜的黏著劑層與偏光板的保護膜之間的隆起產生。
又，在光學膜的製造方法之一實施形態中，一種光學膜的製造方法，該光學膜係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜之製造方法，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，使前述保護膜的側端位於較前述偏光片的側端更外側處， 使前述防護層的側端位於與前述偏光片的側端相同的位置，或較前述偏光片的側端更內側處。
又，在光學膜的製造方法之一實施形態中，一種光學膜的製造方法，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜之製造方法，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，使前述保護膜的側端位於較前述偏光片的側端更外側處，使前述防護層的側端位於較前述偏光片的側端更外側處，使前述防護層的側端位於與前述黏著劑層的側端相同的位置，或較前述黏著劑層的側端更外側處，使前述保護膜的側端位於較前述黏著劑層的側端更外側處，將前述防護層的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及前述保護膜的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2設為0以上0.27以下。
根據本發明之光學膜及其製造方法，於光學膜的寬度方向，由於防護層的側端係位於與偏光片的側端相同的位置，或較偏光片的側端更內側處，因此可減低 隆起的產生。
根據本發明之光學膜及其製造方法，於光學膜的寬度方向，由於防護層的側端係位於較偏光片的側端更外側處，而防護層的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及保護膜的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2為0以上0.27以下，因此可減低隆起的產生。
1、1A至1E‧‧‧光學膜
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧偏光片
11a‧‧‧側端
12‧‧‧保護膜
12a‧‧‧側端
13‧‧‧相位差膜
13a‧‧‧側端
20‧‧‧防護膜
21‧‧‧黏著劑層
21a‧‧‧側端
22‧‧‧防護層
22a‧‧‧側端
L1‧‧‧防護層的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸
L2‧‧‧保護膜的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸
W‧‧‧偏光片的側端與黏著劑層的側端之間的寬度尺寸
第1圖係顯示本發明之光學膜的第1實施形態之示意剖面圖。
第2圖係光學膜的寬度方向之端部的放大剖面圖。
第3圖係顯示本發明之光學膜的第2實施形態之放大剖面圖。
第4圖係顯示本發明之光學膜的第3實施形態之放大剖面圖。
第5圖係顯示本發明之光學膜的第4實施形態之放大剖面圖。
第6圖係顯示本發明之光學膜的第5實施形態之放大剖面圖。
第7圖係顯示本發明之光學膜的第6實施形態之放大剖面圖。
以下根據圖示之實施形態來詳細說明本發 明。
(第1實施形態)
第1圖係顯示本發明之光學膜的第1實施形態之剖面圖。如第1圖所示，光學膜1係具有偏光板10與貼合於偏光板10的表面之防護膜(protect film)20。
偏光板10包含偏光片11、積層於偏光片11的一面之保護膜(guard film)12、與積層於偏光片11的另一面之相位差膜13。此外，相位差膜13可以省略。防護膜20包含黏著劑層21、及隔著黏著劑層21而積層於偏光板10之防護層22。
偏光片11係例如由聚乙烯醇系樹脂所構成。聚乙烯醇系樹脂通常係藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上，較佳為90莫耳%以上，更佳為99至100莫耳%。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，尚可列舉乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之共聚合物，例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚合物等。可共聚合的其他單體係除了上述乙烯以外，尚可列舉例如不飽和羧酸類、乙烯以外的烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000至10000、較佳為1500至5000左右。偏光片11的厚度通常為1至60μm左右，較佳為5至40μm左右。
保護膜12係例如由三乙酸纖維素(TAC)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)所構成。此外，保護膜12可例 如相位差膜一樣具有光學特性。保護膜12的厚度通常為30至100μm左右。
相位差膜13係例如由環烯烴聚合物所構成。此外，相位差膜13可以省略，亦可使用保護膜取代相位差膜13。相位差膜13的厚度通常為30至100μm左右。
黏著劑層21係例如由丙烯酸系黏著劑所構成。接著力例如為0.01至0.20N/25mm。黏著劑層21的厚度通常為10至20μm左右。
防護層22係例如由三乙酸纖維素(TAC)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)所構成。此外，防護層22可例如相位差膜一樣具有光學特性。防護層22的厚度通常為30至50μm左右。
第2圖係光學膜1的寬度方向之端部的剖面圖。如第2圖所示，於光學膜1的寬度方向，保護膜12的側端12a係位於較偏光片11的側端11a更外側處。相位差膜13的側端13a係位於較偏光片11的側端11a更外側處。防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更內側處。保護膜12的側端12a與相位差膜13的側端13a係位於大致相同的位置。防護層22的側端22a係位於較保護膜12的側端12a更內側處。
防護層22的側端22a係位於較黏著劑層21的側端21a更外側處。保護膜12的側端12a係位於較黏著劑層21的側端21a更外側處。將防護層22的側端22a與黏著劑層21的側端21a之間的寬度尺寸設為L1。將保護 膜12的側端12a與黏著劑層21的側端21a之間的寬度尺寸設為L2。將偏光片11的側端11a與黏著劑層21的側端21a之間的寬度尺寸設為W。
如此地，於寬度尺寸L1內，防護層22中不存在有黏著劑層21。於寬度尺寸L2內，保護膜12中不存在有黏著劑層21。
於寬度尺寸L1、L2內，以黏著劑層21的側端21a為基準，將防護層22的側端22a及保護膜12的側端12a位於較黏著劑層21的側端21a更外側處的情形設為正數。另一方面，將防護層22的側端22a及保護膜12的側端12a位於較黏著劑層21的側端21a更內側處的情形設為負數。為了抑制因黏著劑層21的端部露出而對周邊設備、光學膜1造成的污垢，通常寬度尺寸L1為0以上。又，為了保護偏光片11的端部，通常保護膜12的側端12a係位於較偏光片11的側端11a更外側處。
於寬度尺寸W內，以偏光片11的側端11a為基準，將黏著劑層21的側端21a位於較偏光片11的側端11a更外側處的情形設為正數。另一方面，將黏著劑層21的側端21a位於較偏光片11的側端11a更內側處的情形設為負數。
在此實施形態中，L1、L2為正數，W為負數。又，若比較L1、L2、W的絶對值，則成立|L2|>|W|>|L1|成立。通常相對於光學膜1的寬度1000mm至2500mm，為0<L1≦15mm、20mm≦L2≦50mm、0<|W|<25mm。
在前述光學膜1的製造方法中，係使保護膜12的側端12a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更內側處，而製造光學膜1。
根據前述光學膜1及其製造方法，防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更內側處。藉此，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12即使因吸濕等而大幅度地變形成波浪形狀，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12也不易干擾至防護層22，可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜12之間的隆起產生。並且，即使光學膜1形成葉片狀或捲繞成卷狀，也可減低隆起的產生。
總而言之，本案發明人對於隆起的產生的機制推測如下。在光學膜1的保管或加工時，保護膜12因吸收濕氣而有變形成波形狀之可能。此時，與偏光片11重疊之保護膜12中，因偏光片11發揮骨材之功能，而使保護膜12的變形不會產生或變小。另一方面，在位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12中，不存在有作為骨材之偏光片11，因此保護膜12的變形大增。因此，變形大增的保護膜12會干擾至防護層22，而使防護層22於離開保護膜12的方向受力。結果使黏著劑層21從保護膜12剝離，在黏著劑層21與保護膜12之間產生隆起。
因此，本案發明人對於該機制進行探討，藉由使防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a 更內側處，以使變形大增的保護膜12不易干擾至防護層22。
(第2實施形態)
第3圖係顯示本發明之光學膜的第2實施形態之剖面圖。第2實施形態與第1實施形態之間，不同在於防護層及偏光片的位置關係。此不同的構成說明如下。此外，於第2實施形態中，與第1實施形態相同的符號係與第1實施形態相同的構成，因此省略其說明。
如第3圖所示，在光學膜1A中，防護層22的側端22a係位於與偏光片11的側端11a相同的位置。其他構件的位置關係與第1實施形態相同。在此實施形態中，L1、L2為正數，W為負數。成立|L2|>|W|=|L1|成立。通常相對於光學膜1的寬度1000mm至2500mm，為0<L1≦15mm、20mm≦L2≦50mm、0<|W|<25mm。
在前述光學膜1A的製造方法中，係使保護膜12的側端12a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於與偏光片11的側端11a相同的位置，而製造光學膜1A。
根據前述光學膜1A及其製造方法，防護層22的側端22a係位於與偏光片11的側端11a相同的位置。藉此，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12即使因吸濕等而大幅度地變形成波浪形狀，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12也不易干擾至防護層22，可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜 12之間的隆起產生。
(第3實施形態)
第4圖係顯示本發明之光學膜的第3實施形態之剖面圖。第3實施形態與第1實施形態之間，不同在於防護層及黏著劑層的位置關係。此不同的構成說明如下。此外，於第3實施形態中，與第1實施形態相同的符號表示與第1實施形態相同的構成，因此省略其說明。
如第4圖所示，在光學膜1B中，防護層22的側端22a係位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置。其他構件的位置關係與第1實施形態相同。在此實施形態中，L1為0，L2為正數，W為負數。|L2|>|W|成立。通常相對於光學膜1的寬度1000mm至2500mm，為20mm≦L2≦50mm、0<|W|<25mm。
根據前述光學膜1B，與前述第1實施形態時相同，由於防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更內側處，因此可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜12之間的隆起產生。又，由於防護層22的側端22a係位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置，因此可減小防護層22的寬度尺寸，並可減低防護層22的材料成本。
(第4實施形態)
第5圖係顯示本發明之光學膜的第4實施形態之剖面圖。第4實施形態與第1實施形態之間，不同在於防護層、黏著劑層及偏光片的位置關係。此不同的構成說明如下。 此外，於第4實施形態中，與第1實施形態相同的符號表示與第1實施形態相同的構成，因此省略其說明。
如第5圖所示，在光學膜1C中，防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更外側處。黏著劑層21的側端21a係位於較偏光片11的側端11a更外側處。其他構件的位置關係與第1實施形態相同。在此實施形態中，L1、L2、W為正數。|L2|>|W|>|L1|成立。而且，寬度尺寸L1相對於寬度尺寸L2的比率L1/L2為0以上0.27以下。
在前述光學膜1C的製造方法中，係使保護膜12的側端12a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於較黏著劑層21的側端21a更外側處，並使保護膜12的側端12a位於較黏著劑層21的側端21a更外側處，將比率L1/L2設為0以上0.27以下，而製造光學膜1C。
根據前述光學膜1C及其製造方法，防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更外側處，寬度尺寸L1相對於寬度尺寸L2的比率L1/L2為0以上0.27以下，較佳為0.13以下，更佳為0.07以下。藉此，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12即使因吸濕等而大幅度地變形成波浪形狀，位於較偏光片11的側端11a更外側處之保護膜12也不易干擾至防護層22，可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜12之間的隆 起產生。
總而言之，本案發明人對於在第1實施形態所述之隆起產生的機制進行探討，即使在防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更外側處，變形大增的保護膜12容易干擾至防護層22的情況下，藉由將寬度尺寸L1相對於寬度尺寸L2的比率L1/L2設為0以上0.27以下、較佳為0.13以下、更佳為0.07以下，變形大增的保護膜12仍不易干擾至防護層22。
(第5實施形態)
第6圖係顯示本發明之光學膜的第5實施形態之剖面圖。第5實施形態與第4實施形態之間，不同在於防護層及黏著劑層的位置關係。此不同的構成說明如下。此外，於第5實施形態中，與第4實施形態相同的符號表示與第4實施形態相同的構成，因此省略其說明。
如第6圖所示，在光學膜1D中，防護層22的側端22a係位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置。其他構件的位置關係與第4實施形態相同。在此實施形態中，因L1為0而L1/L2為0，L2、W為正數。|L2|>|W|成立。
在前述光學膜1D的製造方法中，係使保護膜12的側端12a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更外側處，使防護層22的側端22a位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置，並使保護膜12的側端12a位於較黏著劑 層21的側端21a更外側處，如此製造光學膜1D。
根據前述光學膜1D及其製造方法，與前述第4實施形態時相同，由於防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更外側處，L1/L2為0，因此可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜12之間的隆起產生。又，由於防護層22的側端22a係位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置，因此可減小防護層22的寬度尺寸，並可減低防護層22的材料戊本。
(第6實施形態)
第7圖係顯示本發明之光學膜的第6實施形態之剖面圖。第6實施形態與第4實施形態之間，不同在於偏光片及黏著劑層的位置關係。此不同的構成說明如下。此外，於第6實施形態中，與第4實施形態相同的符號表示與第4實施形態相同的構成，因此省略其說明。
如第7圖所示，在光學膜1E中，黏著劑層21的側端21a係位於較偏光片11的側端11a更內側處。其他構件的位置關係與第4實施形態相同。在此實施形態中，L1、L2為正數，W為負數。|L2|>|L1|>|W|成立。L1/L2為0以上0.27以下，較佳為0.13以下，更佳為0.07以下。又，第6實施形態為|W|非常大之例，通常為|W|>5，較佳為|W|>10。
根據前述光學膜1E，與前述第4實施形態時相同，由於防護層22的側端22a係位於較偏光片11的側端11a更外側處，L1/L2為0以上0.27以下，較佳為0.13 以下，更佳為0.07以下，因此可減低防護膜20的黏著劑層21與偏光板10的保護膜12之間的隆起產生。
此外，本發明並不限定於上述的實施形態，在不超出本發明之要旨的範圍內，均可作設計變更。
於前述第1至前述第5實施形態中，較佳係防護層22的側端22a位於與黏著劑層21的側端21a相同的位置，且W為-5mm以上5mm以下。藉此，可減小防護層22的寬度尺寸，並可減低防護層22的材料成本。
(實施例1)
其次，說明第1、第2、第3實施形態的實施例。表1中，在防護層22的側端22a位於與偏光片11的側端11a相同的位置、或位於較偏光片11的側端11a更內側處之狀態下，表示有關「L1」、「L2」、「L1/L2」、「W」、「隆起的產生」的結果。
第1實施例相當於第3實施形態，第2至第4實施例相當於第1實施形態，第5實施例相當於第2實 施形態。
如表1所示，如第1至第5實施例所示的一樣，與L1、L2、W無關，只要防護層22的側端22a位於與偏光片11的側端11a相同的位置，或位於較偏光片11的側端11a更內側處，均不會產生隆起。
在此，說明「隆起的產生」的評估方法。所謂的隆起係指於寬度方向產生1cm以上的剝離之狀態。於偏光板貼合防護膜並捲繞後，沿MD方向截切成約700mm的葉片狀，放置於平坦面。在無塵室內(約22℃ 55%)放置約30分鐘後，對防護膜端部的隆起狀態進行評估。只要稍微產生穿隧(tunneling)，便判定為NG(有隆起的產生)。
(實施例2)
其次，說明第4、第5、第6實施形態的實施例。表2中，在防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更外側處之狀態下，表示有關「L1」、「L2」、「L1/L2」、「W」、「隆起的產生」的結果。
第6實施例相當於第5實施形態，第7至第10實施例相當於第4實施形態，第11實施例相當於第6實施形態。
如表2所示，如第6至第11實施例所示的 一樣，當防護層22的側端22a位於較偏光片11的側端11a更外側處時，若將L1/L2設為0以上0.27以下，則不產生隆起。另一方面，如第1至第12比較例所示的一樣，當將L1/L2設為大於0.27，則會產生隆起。

Claims (6)

  1. 一種光學膜，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，前述保護膜的側端係位於較前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於與前述偏光片的側端相同的位置，或較前述偏光片的側端更內側處。
  2. 一種光學膜，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，前述保護膜的側端係位於較前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於較前述偏光片的側端更外側處，前述防護層的側端係位於與前述黏著劑層的側端 相同的位置，或較前述黏著劑層的側端更外側處，前述保護膜的側端係位於較前述黏著劑層的側端更外側處，前述防護層的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及前述保護膜的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2為0以上0.27以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，前述光學膜係形成葉片狀。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，前述光學膜係捲繞成卷狀。
  5. 一種光學膜的製造方法，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜之製造方法，其中，前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，使前述保護膜的側端位於較前述偏光片的側端更外側處，使前述防護層的側端位於與前述偏光片的側端相同的位置，或較前述偏光片的側端更內側處。
  6. 一種光學膜的製造方法，係具有偏光板與貼合於該偏光板的表面之防護膜的光學膜之製造方法，其中， 前述偏光板包含偏光片與積層於該偏光片之保護膜，前述防護膜包含黏著劑層與隔著該黏著劑層而積層於前述偏光板之防護層，於前述光學膜的寬度方向，使前述保護膜的側端位於較前述偏光片的側端更外側處，使前述防護層的側端位於較前述偏光片的側端更外側處，使前述防護層的側端位於與前述黏著劑層的側端相同的位置，或較前述黏著劑層的側端更外側處，使前述保護膜的側端位於較前述黏著劑層的側端更外側處，將前述防護層的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L1、及前述保護膜的側端與前述黏著劑層的側端之間的寬度尺寸L2之比率L1/L2設為0以上0.27以下。
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