TW201809645A - 觀察裝置及觀察方法 - Google Patents

Abstract

本發明謀求一種在觀察自患者切取之組織、或組織之術中診斷中，迅速地判斷例如是否癌化之工具。

本實施形態中之觀察裝置具備：光源，其對觀察對象照射光；及處理部，其基於自觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。

Description

觀察裝置及觀察方法

本發明係關於一種觀察裝置及觀察方法。

習知，於病理學家進行癌症診斷等之病理診斷中，製作組織切片並進行染色之後，利用亮視野顯微鏡進行觀察診斷，但關於該方法，試樣製作耗費時間之情況被視為問題，從而謀求一種在不製作切片而觀察自患者切取之組織、或例如開腹手術中或內視鏡手術中之組織之術中診斷中，迅速地判斷例如是否癌化之工具。為了該目的，需要將顯微鏡設為反射型而非透過型，且使用具有可於相對於光軸方向垂直之面獲得任意之Z位置之剖面像之能力亦即剖切(sectioning)能力之非染色成像技術。作為非染色成像技術，已知有利用同調相互作用之顯微鏡(例如，參照專利文獻1)。然而，關於利用同調相互作用之顯微鏡，若設為反射型，則有可能無法取得充分之信號強度，又，例如，無法觀測到細胞之側壁。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2005-62155號公報

於本發明之第1態樣中，觀察裝置具備：光源，其對觀察對象照射光；及處理部，其基於自觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。

於本發明之第2態樣中，觀察裝置具備：光源，其對觀察對象照射光；及檢測部，其限制自觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光，並檢測來自χ⁽³⁾之光。

於本發明之第3態樣中，觀察方法包含如下階段：基於自被光源照射光之觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。

於本發明之第4態樣中，觀察方法包含如下階段：限制自被光源照射光之觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光，並檢測來自χ⁽³⁾之光。

於本發明之第5態樣中，觀察裝置具備：光源，其對觀察對象照射激發光；至少1個光分支部，其配置於自觀察對象獲得之光之光程上，並將光分支；至少2個反射鏡，其可對由光分支部分支之光之光程長度差進行調整；及檢測器，其檢測經至少2個反射鏡反射之光；由光分支部分支之光在經至少2個反射鏡反射之後被合波，檢測器檢測經合波後之光。

10‧‧‧觀察對象

100‧‧‧觀察裝置

101‧‧‧共焦點光學系統

102‧‧‧檢測部

103‧‧‧限制部

104‧‧‧控制部

110‧‧‧雷射光源

121、123、125、127‧‧‧透鏡

131、133、135‧‧‧針孔

140‧‧‧半反射鏡

145‧‧‧帶通濾波器

150‧‧‧XY掃描反射鏡對

151、153‧‧‧XY掃描反射鏡

156‧‧‧掃描驅動部

160‧‧‧物鏡

170‧‧‧分光鏡

180‧‧‧一對反射鏡

181‧‧‧可動反射鏡

183‧‧‧固定反射鏡

186‧‧‧振動驅動部

190‧‧‧偵測器

191‧‧‧輸出部

193‧‧‧鎖定檢測部

圖1係觀察裝置100之示意圖。

圖2係比較波長光譜之說明圖。

圖3係表示ω¹之頻率之光入射，其後，發射ω²之光之過程之圖。

圖4係表示理論上之光之信號強度之光程差長度依存性之曲線圖。

圖5係表示實測之光之信號強度之光程差長度依存性之曲線圖。

圖6係觀察裝置200之示意圖。

以下，藉由發明之實施形態而對本發明進行說明，但以下之實施形態並不限定申請專利範圍之發明。又，實施形態之中所說明之特徵之組合並非全部為發明之解決手段所必需。

圖1係觀察裝置100之示意圖。觀察裝置100具備共焦點光學系統101、檢測部102、及控制部104。

共焦點光學系統101具備：雷射光源110、透鏡121、123、125、127、針孔131、133、半反射鏡140、帶通濾波器145、XY掃描反射鏡對150、掃描驅動部156、及物鏡160。共焦點光學系統101係落射照明光學系統，對觀察對象10進行觀察時，使共焦點光學系統101之物鏡160與觀察對象10鄰接。

雷射光源110射出窄頻帶之CW雷射光作為激發光。使用通常用於拉曼顯微鏡之光源作為雷射光源110，雷射光之波長較短為佳，例如，為可見光範圍之488nm左右。

透鏡121配置於觀察裝置100之光程上接收自雷射光源110射出之激發光之位置，且使激發光聚光於鄰接配置之針孔131之圓形開口。透鏡123配置於觀察裝置100之光程上與針孔131鄰接之位置，使通過針孔 131之圓形開口之來自雷射光源110之激發光得以準直(collimate)。

半反射鏡140以預先規定之角度配置於觀察裝置100之光程上，且使來自透鏡123之準直之激發光之至少一部分透過。又，半反射鏡140以變更來自XY掃描反射鏡對150之準直之回光之至少一部分之光程之方式反射。

XY掃描反射鏡對150配置於觀察裝置100之光程上，且以變更來自半反射鏡140之準直之激發光之光程之方式反射。又，XY掃描反射鏡對150以使通過物鏡160之來自觀察對象10之準直之回光沿著來自半反射鏡140之激發光之光程逆行之方式反射。XY掃描反射鏡對150例如為共振型檢流計鏡，其具有在朝向互不相同之2軸之周圍搖動之XY掃描反射鏡151、153。掃描驅動部156驅動一對XY掃描反射鏡151、153，使入射至XY掃描反射鏡對150之光之光程於與光軸交叉之方向上二維位移。

物鏡160配置於觀察裝置100之光程上接收來自XY掃描反射鏡對150之準直之激發光之位置，且使激發光聚光於鄰接配置之觀察對象10之某一點。又，物鏡160使來自觀察對象10之回光得以準直。

帶通濾波器145配置於觀察裝置100之光程上，使經半反射鏡140反射之來自觀察對象10之回光之中預先規定之波段之光透過，並限制除此以外之光。具體而言，雖於下文進行詳細敍述，其係使來自觀察對象10之光之中來自χ⁽¹⁾之光透過，且使來自χ⁽³⁾之光之中之瑞利散射光透過，並限制瑞利散射光以外之光。藉此，防止來自觀察對象10之光中之拉曼散射光或自體螢光入射至檢測部102。

透鏡125配置於觀察裝置100之光程上，且使透過帶通濾波 器145之來自觀察對象10之光聚光於鄰接配置之針孔133之圓形開口。透鏡127配置於觀察裝置100之光程上與針孔133鄰接之位置，且使通過針孔133之圓形開口之來自觀察對象10之光聚光於鄰接配置之檢測部102內。

如上所述，於共焦點光學系統101中，針孔131之圓形開口之位置與物鏡160之焦點位置亦即觀察對象10之某一點存在共軛關係。同樣地，物鏡160之焦點位置亦即觀察對象10之某一點與針孔133之圓形開口之位置亦存在共軛關係。

檢測部102具備限制部103、針孔135、偵測器190、及輸出部191。檢測部102以接收通過共焦點光學系統101之透鏡127之來自觀察對象10之準直光之方式與共焦點光學系統101鄰接。

限制部103例如為與邁克生干涉儀同樣之構成，其具有分光鏡170、一對反射鏡180、及振動驅動部186。限制部103限制來自觀察對象10之光中所包含之多個光成分中的一部分之光成分。再者，限制部103亦可為一部分與圖示之構成不同之例如與馬赫-陳德干涉儀同樣之構成，即具有2個分光鏡170之構成。

分光鏡170配置於觀察裝置100之光程上，將來自共焦點光學系統101之準直光分支為2個部分而將信號強度進行等分。又，分光鏡170將經一對反射鏡180反射之2個準直光合波。再者，分光鏡170為光分支部之一例。

一對反射鏡180係配置於觀察裝置100之光程上，且可對由分光鏡170分支之2個光之光程長度差進行調整之反射鏡對。一對反射鏡180具有可動反射鏡181及固定反射鏡183。振動驅動部186例如係將施加 於壓電體之電壓轉換為力之壓電元件，其使可動反射鏡181沿著光程位移。又，振動驅動部186使可動反射鏡181沿著光程在預先規定之中心周圍振動。

針孔135配置於觀察裝置100之光程上，並以未被限制部103限制之準直光聚光於針孔135之圓形開口之方式定位。偵測器190例如為光電子倍增管，其於觀察裝置100之光程上與針孔135鄰接而配置，且檢測未被限制部103限制而聚光於針孔135之圓形開口之準直光。再者，偵測器190為檢測器之一例。

輸出部191例如為具有顯示器之處理裝置，其電性連接於偵測器190，且向觀察者顯示由利用偵測器190檢測到之光所生成之觀察對象10之觀察圖像。再者，輸出部191為處理部之一例。

如上所述，共焦點光學系統101中之針孔133之圓形開口之位置與檢測部102中之針孔135之圓形開口之位置存在共軛關係。因此，於觀察裝置100整體，物鏡160之焦點位置亦即觀察對象10之某一點與配置於偵測器190之近前之針孔135之圓形開口之位置存在共軛關係。藉由該構成，能夠利用複數個針孔將來自周邊之多餘之散射光排除，而以高對比度且高解像度檢測觀察對象10中僅對到焦點之位置之光。

控制部104電性連接於共焦點光學系統101及檢測部102，並控制共焦點光學系統101中之掃描驅動部156之驅動、及檢測部102中之振動驅動部186之驅動。

如上所述，對觀察裝置100之整體構成進行了說明。此處，使用圖2對自觀察對象10獲得之光之詳細內容進行說明。

圖2係比較波長光譜之說明圖，圖2(A)示意性地表示自 雷射光源110射出之激發光之波長光譜，圖2(B)示意性地表示自被照射激發光之觀察對象10獲得之光中所包含之來自χ⁽¹⁾之同調光之波長光譜，及圖2(C)示意性地表示自被照射激發光之觀察對象10獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之非同調光之波長光譜。

自被照射激發光之觀察對象10獲得之光包含來自χ⁽³⁾之光、及來自χ⁽¹⁾之光。χ⁽¹⁾意指線性極化率。來自χ⁽¹⁾之光係指在將由激發光電場誘發之極化進行冪展開時由與χ⁽¹⁾成正比之項產生之光。另一方面，χ⁽³⁾意指3次之非線性極化率。來自χ⁽³⁾之光係指在將由激發光電場誘發之極化進行冪展開時由與χ⁽³⁾成正比之項產生之光。

來自χ⁽¹⁾之光於散射光間有可干涉性，中心波長、相位及線寬之任一者與激發光無異。如對比圖2(A)與圖2(B)而理解般，來自χ⁽¹⁾之光之光譜寬度與來自雷射光源110之激發光之線寬相同。來自χ⁽¹⁾之光為同調光。所產生之來自χ⁽¹⁾之光具有明確之相位，若具有明確之相位之光彼此相互干涉，則僅於確定之方向進行波互相加強之增加性干涉，於其他方向進行波互相抵消之減少性干涉。因此，具有僅於確定之方向傳播之特徵。作為具代表性者，可列舉界面上之反射。平行於入射光之例如細胞之側壁上之反射光僅於前方進行增加性干涉，而於其他方向，例如於後方進行減少性干涉，故而若利用反射型顯微鏡對細胞進行觀察，則側壁會自圖像消失。來自χ⁽¹⁾之光之信號強度高於來自χ⁽³⁾之光之信號強度。將χ⁽¹⁾分佈可視化之代表性之顯微鏡係亮視野顯微鏡，作為光學解析度之指標之截止頻率為2 NA/λ。由於共焦點螢光顯微鏡之截止頻率為4 NA/λ，故而於設為利用共焦點顯微鏡對來自χ⁽¹⁾之光進行觀察之構成之 情形時，其光學解析度低於共焦點螢光顯微鏡。

與此相對，來自χ⁽³⁾之光於散射光間無可干涉性，相位及線寬與激發光不同。來自χ⁽³⁾之光具有由相位緩和時間T₂決定之光譜寬度，如對比圖2(A)與圖2(C)而理解般，該光譜寬度寬於來自雷射光源110之激發光之線寬。來自χ⁽³⁾之由自發過程產生之光無可干涉性，故而為相互不干涉之非同調光。作為具代表性者，可列舉瑞利散射光、螢光。將瑞利散射光、螢光之任一者之光學過程用於顯微鏡，均表現出同樣之成像特性。瑞利散射光與螢光同樣地，不論激發光之入射方向如何，均向所有方向發射。即便為平行於入射光之例如細胞之側壁，由其產生之瑞利散射光亦為非同調，故而向所有方向發射。光亦會返回後方，故而即便為反射型顯微鏡，亦可對細胞之側壁進行觀察。於設為利用共焦點顯微鏡對來自χ⁽³⁾之光進行觀察之構成之情形時，具有剖切能力。又，作為光學解析度之指標之截止頻率之理論界限值為4 NA/λ，故而光學解析度與共焦點螢光顯微鏡同等。

來自χ⁽³⁾之光包含瑞利散射光。除了瑞利散射光以外，由自發過程產生之光，例如，瑞利翼狀散射光、布里元散射光、拉曼散射光、螢光等亦包含於來自χ⁽³⁾之光中，但與拉曼散射光或布里元散射光相比瑞利散射光更強。關於中心波長，來自χ⁽³⁾之光中所包含之瑞利散射光與激發光無異，但來自χ⁽³⁾之光中所包含之其他由自發過程產生之光與激發光不同。關於瑞利散射光係來自χ⁽³⁾之光之情況，例如，如以下般示於作為公知文獻之物性研究(1997)，67(4)內之松田康平所著之「J聚集體中之海特勒實驗」中之第2章中。即，一般與光相互作用之物質之3次之非線 性極化率χ⁽³⁾由多個項之和形成，但與瑞利散射對應之項僅為與圖3所示之圖所對應之1個項，該項之虛部為瑞利散射光譜。

又，於由Robert W.Boyd所著之Nonlinear Optics(3rd edition)(ACADEMIC PRESS)中之第9章表示了，根據導致瑞利散射之物質之密度分佈之干擾(與音波之零點振動對應)之緩和時間，而決定瑞利散射之光譜寬度。

由以上可知，瑞利散射光係來自χ⁽³⁾之光，且即便激發雷射線寬無限地窄，亦具有有限之光譜寬度。

回到圖1，對檢測部102中之限制部103具體地進行說明。限制部103限制來自觀察對象10之光中所包含之來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光。關於該限制，利用藉由分光鏡170將由一對反射鏡180反射之2個光合波時之干涉。此處，使用圖4及圖5對限制方法之詳細內容進行說明。

圖4係表示一面使用一對反射鏡180改變光程長度差一面取得之關於來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光之各者之理論上之信號強度之光程差長度依存性的曲線圖。圖5係表示同樣地實測之光之信號強度之光程差長度依存性之曲線圖。

圖4及圖5之任一曲線圖均為，橫軸是經時間換算後之光程差長度，縱軸是光信號強度。又，於圖4及圖5中，來自χ⁽³⁾之瑞利散射光用χ⁽³⁾表示，來自χ⁽¹⁾之光用χ⁽¹⁾表示。

來自χ⁽¹⁾之光為同調光，故而如圖4所示，隨著光程差長度變長，因干涉效應而信號強度會週期性地變化。由於來自χ⁽¹⁾之光之光 譜寬度與來自雷射光源110之雷射線寬相等，故而只要將窄頻帶之CW雷射用作激發光，則即便反映其較長之同調長度，而改變光程長度差，亦始終進行干涉，而週期地變化。

與此相對，來自χ⁽³⁾之瑞利散射光為非同調光，如圖4所示，隨著光程差長度變長，因略微之干涉效應而信號強度會週期性地變化，但因物質固有之相位緩和時間T₂而週期性變化之振幅會變小，最終會顯示固定值。T₂與光譜寬度之倒數成正比，預計以大約時間換算為~10ns左右。其以距離表示為~3m，作為干涉儀，該程度之光程差長度為實際的。

使用圖5所示之表示實測之光之信號強度之光程差長度依存性之曲線圖，對限制來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光之方法進行說明。首先，將光程長度差設定為於經時間換算之情形時至少長於相位緩和時間T₂之2倍亦即2T₂。於該光程長度差之範圍內，如上所述，來自χ⁽¹⁾之光之信號強度會週期性地變化，但來自χ⁽³⁾之瑞利散射光之信號強度成為固定。因此，藉由在該光程長度差之範圍內，以實測之光之信號強度成為最小之方式設定光程長度差，具體而言，藉由將一對反射鏡180之中之可動反射鏡181停在實測之光之信號強度成為最小之位置而對光之信號強度進行實測，可將來自χ⁽¹⁾之光之信號強度限制為可檢測出來自χ⁽³⁾之瑞利散射光之程度。藉由該方法，可在非染色之情況下獲得與共焦點螢光顯微鏡同等之光學解析度。

如此，限制部103藉由使用一對反射鏡180對光程長度差進行調整，而利用干涉削弱來自χ⁽¹⁾之光，限制來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光。再者，此處所言之「削弱光」包含如 下情況：將具有可干涉性之來自χ⁽¹⁾之光分支為如將光之波長設為λ之情形時相位相互錯開[n+(1/2)]λ(n為整數)般之光程長度差，並在使分支後之2個光合波時使其相互抵消。

如上所述，根據本實施形態中之具有落射型之共焦點光學系統101之觀察裝置100，限制自被照射激發光之觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光，檢測來自χ⁽³⁾之瑞利散射光，並輸出基於來自χ⁽³⁾之瑞利散射光之觀察圖像。藉此，在不將觀察對象10染色之情況下，雖為非同調相互作用，但信號足夠強，且具有剖切能力，可獲得與共焦點螢光顯微鏡同等之光學解析度。觀察裝置100可藉由對將CW雷射用於雷射光源110之通常之共焦點顯微鏡之信號檢測部進行些許變更而實現，可進行高速繪圖而適合迅速病理診斷。再者，亦可將觀察裝置100中之構成作為共焦點螢光顯微鏡之選項。

圖6係觀察裝置200之示意圖。關於觀察裝置200，除了限制部103具有鎖定檢測部193，且檢測部102之輸出部191透過鎖定檢測部193電性連接於偵測器190之方面以外，具有與觀察裝置100同樣之構成，故而省略重複之說明。

限制部103中之鎖定檢測部193係鎖定檢測特定之光信號之電路，電性連接於偵測器190。限制部103藉由使用鎖定檢測部193鎖定檢測由偵測器190檢測出之來自觀察對象10之光，檢測光之dc成分及ac成分並進行運算，而限制來自χ⁽³⁾之瑞利散射光及來自χ⁽¹⁾之光中的來自χ⁽¹⁾之光，並檢測來自χ⁽³⁾之瑞利散射光。具體而言，首先，藉由利用振動驅動部186使可動反射鏡181以預先規定之點為中心高速微小振動，並與 來自χ⁽¹⁾之光之振動之頻率同步進行檢波，而從自觀察對象10獲得之光抽出來自χ⁽¹⁾之光。然後，藉由從由觀察對象10獲得之光之平均信號強度減去所抽出之來自χ⁽¹⁾之光之信號強度之一半，而檢測來自χ⁽³⁾之瑞利散射光。即，利用鎖定檢測將來自χ⁽¹⁾之光限制為可檢測出來自χ⁽³⁾之瑞利散射光之程度。藉由該方法，亦可在非染色之情況下獲得與共焦點螢光顯微鏡同等之光學解析度。

於以上之多個實施形態中，觀察裝置並非透過型而為反射型，故而亦可切取組織而進行觀察，又，亦可不切取組織而進行觀察。

於以上之多個實施形態中，設為不使觀察對象之位置位移而使用XY掃描反射鏡進行掃描之構成，但亦可取而代之，設為使載置了觀察對象之載置台於XY方向位移而進行掃描之構成。又，除此以外，亦可藉由進行Z掃描，而將剖切後之高解像圖像朝深度方向連在一起，而對觀察對象進行三維測量。

於以上之多個實施形態中，將觀察裝置中之帶通濾波器之配置設為共焦點光學系統內之光程上而非檢測部內。亦可取而代之，將帶通濾波器之配置設為檢測部內之光程上而非共焦點光學系統內，例如，亦可配置於偵測器之近前。藉由該構成，亦可防止拉曼散射光或自體螢光入射至偵測器。

於以上之多個實施形態中，觀察裝置係設為檢測自被照射激發光之觀察對象獲得之光之中之來自χ⁽³⁾之瑞利散射光，並輸出基於來自χ⁽³⁾之瑞利散射光之觀察圖像之構成，並進行了說明。除此以外，或者取而代之，觀察裝置亦可檢測自觀察對象獲得之來自χ⁽³⁾之其他由自發過程 產生之光，例如瑞利翼狀散射光、布里元散射光、拉曼散射光、螢光之中至少1種來自χ⁽³⁾之光，並輸出基於該來自χ⁽³⁾之光之觀察圖像。於此情形時，亦可不將上述帶通濾波器設置於光程上，或者亦可將僅使所需之光透過並限制除此以外之光之其他帶通濾波器設置於光程上。

又，於以上之多個實施形態中，亦可設為追加性地利用覆蓋玻璃將觀察對象夾住並保持之設置型顯微鏡之構成。於此情形時，較佳為設為將覆蓋玻璃壓抵於觀察對象而使之平坦之構成。藉此，可抑制觀察對象相對於周圍空氣產生之折射率變化。

又，於以上之多個實施形態中，亦可追加性地移動限制部中之一對反射鏡之中之可動反射鏡，並以位元率取得與來自χ⁽³⁾之光相比具有壓倒性地強信號強度之來自χ⁽¹⁾之光所生成之圖像。

以上，使用實施形態對本發明進行了說明，但本發明之技術範圍並不限定於上述實施形態中所記載之範圍。對本發明所屬技術領域中具有通常知識者而言明確的是，可對上述實施形態施加多樣之變更或改良。由申請專利範圍之記載可明確知道，施加了此種變更或改良之形態亦可包含於本發明之技術範圍內。

應該留意的是，申請專利範圍、說明書及圖式中所示之裝置、系統、程式、及方法中之動作、順序、步驟、及階段等各處理之實行順序並未特別明示「較……前」、「預先」等，又，只要不將之前之處理之輸出用於之後之處理，則可按任意之順序實現。關於申請專利範圍、說明書及圖式中之動作流程，即便為了方便起見而使用了「首先，」、「其次，」等進行說明，亦非意味著必須按照該順序實施。

10‧‧‧觀察對象

100‧‧‧觀察裝置

101‧‧‧共焦點光學系統

102‧‧‧檢測部

103‧‧‧限制部

104‧‧‧控制部

110‧‧‧雷射光源

121、123、125、127‧‧‧透鏡

131、133、135‧‧‧針孔

140‧‧‧半反射鏡

145‧‧‧帶通濾波器

150‧‧‧XY掃描反射鏡對

151、153‧‧‧XY掃描反射鏡

156‧‧‧掃描驅動部

160‧‧‧物鏡

170‧‧‧分光鏡

180‧‧‧一對反射鏡

181‧‧‧可動反射鏡

183‧‧‧固定反射鏡

186‧‧‧振動驅動部

190‧‧‧偵測器

191‧‧‧輸出部

Claims (40)

1. 一種觀察裝置，其具備：光源，其對觀察對象照射光；及處理部，其基於自上述觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。
2. 如申請專利範圍第1項之觀察裝置，其進而具備檢測部，該檢測部限制自上述觀察對象獲得之上述光中所包含之上述來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的上述來自χ⁽¹⁾之光，並檢測上述來自χ⁽³⁾之光，上述處理部基於上述檢測部所檢測到之上述來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。
3. 一種觀察裝置，其具備：光源，其對觀察對象照射光；及檢測部，其限制自上述觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的上述來自χ⁽¹⁾之光，並檢測上述來自χ⁽³⁾之光。
4. 如申請專利範圍第2項之觀察裝置，其中上述檢測部藉由減小上述來自χ⁽¹⁾之光之強度，而限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
5. 如申請專利範圍第2項之觀察裝置，其中上述檢測部具有：至少1個光分支部，其配置於自上述觀察對象獲得之上述光之光程上，且將上述光分支；及 至少2個反射鏡，其可對由上述光分支部分支之光之光程長度差進行調整；利用經上述至少2個反射鏡反射之光合波時之干涉，限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
6. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述光分支部將光分支為2個部分。
7. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述光分支部為分光鏡。
8. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中經上述至少2個反射鏡反射之上述光被上述光分支部合波。
9. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述檢測部藉由使用上述至少2個反射鏡調整上述光程長度差，而利用上述干涉削弱上述來自χ⁽¹⁾之光，從而限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
10. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述檢測部進而具有鎖定檢測部，該鎖定檢測部係藉由檢測自上述觀察對象獲得之上述光之dc成分及ac成分並進行運算，而限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
11. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述至少2個反射鏡之中至少1個可沿著預先規定之方向移動。
12. 如申請專利範圍第5項之觀察裝置，其中上述光程長度差於經時間換算之情形時，長於相位緩和時間T₂之2倍亦即2T₂。
13. 如申請專利範圍第1項之觀察裝置，其中上述來自χ⁽³⁾之光包含瑞利散射光、瑞利翼狀散射光、布里元散射光、拉曼散射光、螢光之中至 少1種。
14. 如申請專利範圍第2項之觀察裝置，其進而具備帶通濾波器，該帶通濾波器配置於自上述觀察對象獲得之上述光之光程上，使上述來自χ⁽¹⁾之光透過，且使上述來自χ⁽³⁾之光之中瑞利散射光透過，限制上述瑞利散射光以外之光。
15. 如申請專利範圍第1項之觀察裝置，其中自上述光源照射之上述光為CW雷射光。
16. 如申請專利範圍第1項之觀察裝置，其具有落射型之共焦點光學系統。
17. 一種觀察方法，其係使用如申請專利範圍第1項之觀察裝置對上述觀察對象進行觀察。
18. 一種觀察方法，其包含如下階段：基於自被光源照射光之觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光而生成圖像。
19. 如申請專利範圍第18項之觀察方法，其包含如下階段：限制自上述觀察對象獲得之上述光中所包含之上述來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的上述來自χ⁽¹⁾之光，並檢測上述來自χ⁽³⁾之光。
20. 一種觀察方法，其包含如下階段：限制自被光源照射光之觀察對象獲得之光中所包含之來自χ⁽³⁾之光及來自χ⁽¹⁾之光中的上述來自χ⁽¹⁾之光，並檢測上述來自χ⁽³⁾之光。
21. 如申請專利範圍第19項之觀察方法，其中上述檢測之階段包含如下階段：使用光分支部將自上述觀察對象獲得之上述光分支；藉由至少2個反射鏡對經分支之光之光程長度差進行調整；及 利用藉由上述光分支部將經上述至少2個反射鏡反射之光合波時之干涉，限制上述來自χ⁽³⁾之光及上述來自χ⁽¹⁾之光中的上述來自χ⁽¹⁾之光。
22. 如申請專利範圍第21項之觀察方法，其中上述檢測之階段包含如下階段：藉由使用上述至少2個反射鏡調整上述光程長度差，而利用上述干涉削弱上述來自χ⁽¹⁾之光，從而限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
23. 如申請專利範圍第21項之觀察方法，其中上述檢測之階段包含如下階段：使上述至少2個反射鏡之中至少1個於預先規定之方向振動；及藉由鎖定檢測自上述觀察對象獲得之上述光，檢測上述光之dc成分及ac成分並進行運算，而限制上述來自χ⁽¹⁾之光。
24. 如申請專利範圍第21項之觀察方法，其中上述檢測之階段進而包含如下階段：將上述光程長度差設定為於經時間換算之情形時長於相位緩和時間T₂之2倍亦即2T₂。
25. 如申請專利範圍第18項之觀察方法，其中上述來自χ⁽³⁾之光包含瑞利散射光、瑞利翼狀散射光、布里元散射光、拉曼散射光、螢光之中至少1種。
26. 如申請專利範圍第19項之觀察方法，其進而包含如下階段：將帶通濾波器配置於自上述觀察對象獲得之上述光之光程上，使上述來自χ⁽¹⁾之光透過，且使上述來自χ⁽³⁾之光之中瑞利散射光透過，限制上述瑞利散射光以外之光。
27. 如申請專利範圍第18項之觀察方法，其進而包含如下階段：對上述觀 察對象照射CW雷射光作為自上述光源照射之光。
28. 如申請專利範圍第18項之觀察方法，其使用落射型之共焦點光學系統。
29. 一種觀察裝置，其具備：光源，其對觀察對象照射激發光；至少1個光分支部，其配置於自上述觀察對象獲得之光之光程上，且將上述光分支；至少2個反射鏡，其可對由上述光分支部分支之光之光程長度差進行調整；及檢測器，其檢測經上述至少2個反射鏡反射之光；由上述光分支部分支之光在經上述至少2個反射鏡反射之後被合波，上述檢測器檢測經合波後之光。
30. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中上述至少2個反射鏡將由上述光分支部分支之上述光向上述光分支部所處之方向反射。
31. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中由上述光分支部分支之上述光在經上述至少2個反射鏡反射之後，被上述光分支部合波。
32. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中上述至少2個反射鏡之中至少1個可沿著預先規定之方向移動。
33. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中上述光分支部為分光鏡。
34. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中上述光分支部將光分支為2 個部分。
35. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其進而具備鎖定檢測部，該鎖定檢測部鎖定檢測自上述觀察對象獲得之上述光，檢測上述光之dc成分及ac成分並進行運算。
36. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其進而具備帶通濾波器，該帶通濾波器於上述光程上，使上述光之中瑞利散射光透過，限制上述瑞利散射光以外之光。
37. 如申請專利範圍第36項之觀察裝置，其中上述帶通濾波器配置於上述觀察對象與上述光分支部之間之光程上。
38. 如申請專利範圍第36項之觀察裝置，其中上述帶通濾波器配置於上述光分支部與上述檢測器之間之光程上。
39. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其中自上述光源照射之光為CW雷射光。
40. 如申請專利範圍第29項之觀察裝置，其具有落射型之共焦點光學系統。