TW201807035A - 遮光層形成用樹脂組合物及其製造方法、遮光層、以及遮光性構件 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種樹脂組合物、以及使用其的遮光性、黑色調、及塗膜強度優異的遮光層及遮光性構件，所述樹脂組合物可形成遮光層形成用樹脂組合物中的碳黑的分散穩定性優異，且充分地保持遮光層的遮光性、黑色調、塗膜強度，並減少遮光層的翹曲（捲曲），可實現薄型化、輕量化，且加工性優異的遮光層。本發明的遮光層形成用樹脂組合物包括：包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑。

Description

遮光層形成用樹脂組合物及其製造方法、遮光層、以及遮光性構件

本發明關於一種含有纖維素系樹脂而成的遮光層形成用樹脂組合物及其製造方法。另外，本發明關於一種使用所述遮光層形成用樹脂組合物而成的遮光層及遮光性構件。

遮光性構件是具有如下的遮光層的構件，所述遮光層例如除透鏡單元等光學構件以外，在光學元件構件、顯示元件構件、機械零件、電氣・電子零件等各種用途中，用以藉由使所期望的波長的光散射或/及吸收等來對該波長的光進行遮光。 例如在高性能單鏡頭反光相機、袖珍相機、攝像機、數位相機、手機用相機的相機模組等光學用途中，因對於小型化、薄型化、輕量化的要求，而正將由金屬材料所形成的光學機器的遮光性構件更換成塑料材料。

作為此種遮光性構件，已知有如下的遮光性構件：基材膜使用將熱塑性樹脂作為主成分的黑色著色膜，並在其兩面上設置有含有碳黑、潤滑劑、消光劑的遮光層（日本專利特開平9-274218號公報）。 另外，揭示有一種將溶劑可溶性聚醯亞胺樹脂與比表面積為100 m² /g以上的碳黑作為必需成分的遮光層形成用樹脂組合物、及由所述遮光層形成用樹脂組合物形成的遮光性膜（日本專利特開2012-017419號公報）。另外，揭示有一種具有黑色材料、及含有硬化性樹脂硬化物或玻璃轉移溫度為150℃以上的熱塑性樹脂的有機樹脂的遮光性膜（日本專利特表2010-534342號公報）。

[發明所要解決的問題] 但是，市場上需要性能更高的遮光層。具體而言，需要一種使遮光層的遮光性及黑色調與樹脂組合物的分散穩定性並存的遮光層。進而，需要一種可減少形成遮光層時所產生的遮光層的翹曲（捲曲），且滿足近年來所要求的對於光學構件的小型化、薄型化及輕量化的要求的遮光層。

本發明是鑒於所述背景而成者，其目的在於提供一種樹脂組合物中的碳黑的分散穩定性優異，充分地保持遮光層的遮光性、黑色調、塗膜強度，並減少遮光層的翹曲（捲曲），可實現薄型化、輕量化，且加工性優異的遮光層，及可形成該遮光層的遮光層形成用樹脂組合物與其製造方法，以及具備所述遮光層的遮光性構件。 [解決問題的技術手段]

本發明者等人為了解決所述課題而努力研究的結果，發現在以下的形態中可解決本發明的課題，從而完成了本發明。即，本發明的一實施形態關於一種遮光層形成用樹脂組合物，其包括：包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑。

另外，本發明的其他實施形態關於一種更包括可塑性成分的遮光層形成用樹脂組合物。 進而，本發明的其他實施形態關於一種所述纖維素系樹脂為選自纖維素及纖維素衍生物中的至少一種的遮光層形成用樹脂組合物。 另外，本發明的其他實施形態關於一種相對於所述纖維素系樹脂100質量份，含有1質量份以上、100質量份以下的所述碳黑的遮光層形成用樹脂組合物。

另外，本發明的其他實施形態關於一種遮光層形成用樹脂組合物的製造方法，其包括：將包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂與一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑混合的步驟。 另外，本發明的其他實施形態關於一種在所述混合步驟中，也進一步添加可塑性成分的遮光層形成用樹脂組合物的製造方法。

另外，本發明的其他實施形態關於一種遮光層，其由所述遮光層形成用樹脂組合物形成。 另外，本發明的其他實施形態關於一種遮光性構件，其包括所述遮光層。 [發明的效果]

根據本發明，取得如下的優異的效果：可提供一種樹脂組合物中的碳黑的分散穩定性優異，充分地保持遮光層的遮光性、黑色調、塗膜強度，並減少遮光層的翹曲（捲曲），可實現薄型化、輕量化，且加工性優異的遮光層，及可形成該遮光層的遮光層形成用樹脂組合物與其製造方法，以及具備所述遮光層的遮光性構件。

以下，對應用本發明的實施形態的一例進行說明。再者，只要符合本發明的主旨，則其他實施形態當然也包含在本發明的範疇中。在本說明書中特別規定的數值是藉由實施形態或實施例中揭示的方法所求出的值。另外，在本說明書中特別規定的數值“A～B”是指包含數值A與數值B，且大於數值A、小於數值B的範圍。另外，本說明書中的“膜”不僅包含JIS中所定義的“膜”，也包含“片”等。另外，只要無特別注釋，則本說明書中所出現的各種成分可分別獨立地單獨使用一種，也可以並用兩種以上。

《遮光層形成用樹脂組合物》 本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物包括：包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑。藉由使用該遮光層形成用樹脂組合物，可使碳黑容易地分散在黏合劑樹脂中，且可容易地將碳黑與黏合劑樹脂混合。由此，可提供遮光性優異、且分散穩定性優異的遮光層形成用樹脂組合物。就更有效地防止遮光層的由樹脂所引起的翹曲（捲曲）的觀點而言，優選在遮光層形成用樹脂組合物中進一步含有可塑性成分。

＜黏合劑樹脂＞ 本實施形態的黏合劑樹脂含有纖維素系樹脂。 纖維素系樹脂是以作為天然高分子的纖維素（cellulose）為基礎的熱塑性樹脂。纖維素系樹脂是連續地具有六員環結構的樹脂，因此塗膜強度優異。另外，由於變成除六員環結構以外，富有官能基的結構，因此容易使碳黑保持、吸附在纖維素系樹脂上，而有效地提高樹脂組合物中的碳黑的分散穩定性，混合變得容易。

作為纖維素系樹脂，可列舉：纖維素、纖維素衍生物等。作為纖維素衍生物，例如可列舉：纖維素酯、纖維素氨基甲酸酯、纖維素醚等。

作為纖維素酯，例如可列舉：二乙酸纖維素、三乙酸纖維素等乙酸纖維素；丙酸纖維素、丁酸纖維素等纖維素C3-5醯化物；乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素等乙酸纖維素C3-5醯化物等纖維素醯化物。 另外，作為纖維素氨基甲酸酯，例如可列舉：纖維素苯基氨基甲酸酯。 另外，作為纖維素醚，例如可例示：烷基纖維素、羥基烷基纖維素、羥基烷基烷基纖維素、羧基烷基纖維素、烷基-羧基烷基纖維素、這些的衍生物[例如羧基甲基纖維素鈉等羧基甲基纖維素（Carboxymethyl Cellulose，CMC）鹽（鹼金屬鹽等）]。 纖維素系樹脂可單獨使用一種、或將兩種以上混合使用。

再者，若考慮加工時或使用時的耐熱性，則優選玻璃轉移溫度為100℃以上的纖維素系樹脂。 另外，就加工時的材料處理性、使用時的耐久性的觀點而言，優選溶劑可溶型的纖維素系樹脂。作為溶劑可溶型的纖維素系樹脂，適宜的是纖維素酯等。

纖維素系樹脂的數量平均分子量以聚苯乙烯換算計，優選10,000以上，更優選20,000以上。當數量平均分子量未滿10,000時，存在無法獲得充分的被膜強度的情況。

另外，在無損本發明的功能的範圍內，可在遮光層形成用樹脂組合物中含有纖維素系樹脂以外的黏合劑樹脂。 作為該黏合劑樹脂，可列舉：聚(甲基)丙烯酸系樹脂，聚酯樹脂，聚乙酸乙烯酯樹脂，聚氯乙烯，聚乙烯丁醛樹脂，聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂，聚氨基甲酸酯樹脂，醇酸樹脂，丙烯酸樹脂，不飽和聚酯樹脂，環氧酯樹脂，環氧樹脂，環氧丙烯酸酯系樹脂，丙烯酸氨基甲酸酯系樹脂，聚酯丙烯酸酯系樹脂，聚醚丙烯酸酯系樹脂，酚系樹脂，三聚氰胺系樹脂，脲系樹脂，鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂，聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、環氧多元醇等多元醇系樹脂等熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂（包含視需要而添加的異氰酸酯等交聯劑）。當使用纖維素系樹脂以外的黏合劑樹脂時，可單獨使用一種、或作為兩種以上的混合物來使用。

＜碳黑＞ 碳黑含有一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑作為必需成分。藉由處於該範圍內，不僅分散穩定性變得良好、且充分滿足遮光性與黑色調，而且藉由與纖維素系樹脂並用，可製成充分地保持塗膜強度，且耐久性、處理性也優異的遮光層形成用樹脂組合物。一次粒徑的更優選的範圍為10 nm以上、40 nm以下。再者，在遮光層形成用樹脂組合物中，碳黑是以一次粒子聚集而成的凝聚體或/及一次粒子的狀態存在。在凝聚體的情況下，優選將平均粒徑設為20 μm以下，更優選10 μm以下。

將一次粒子的大小稱為一次粒徑，所述碳黑的一次粒徑可藉由穿透式電子顯微鏡像來評價。只要包含一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑即可，但更優選一次粒徑的個數平均值（平均一次粒徑）為所述範圍。除使用該平均一次粒徑的製品的方法以外，如其後將詳述般，有使用穿透式電子顯微鏡測定一次粒子的大小，並求出例如20個以上的測定值的平均的方法。在凝聚體的情況下，在穿透式電子顯微鏡的視場中，從凝聚體中選定可劃定一次粒子的粒子，並測定該一次粒子的粒徑，由此可依據ASTM D-3849來測定遮光層形成用樹脂組合物或遮光層中的一次粒徑。將一次粒徑設為測定20個時的平均值。

另外，一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑在遮光層形成用樹脂組合物中的含量就遮光性、及外觀的深度的觀點而言，相對於纖維素系樹脂100質量份，優選1質量份以上、100質量份以下，更優選5質量份以上、75質量份以下，特優選10質量份以上、50質量份以下的範圍。藉由處於該範圍內，可實現薄膜化，一面抑制碳黑的含量一面使遮光性變得良好，因此優選。

再者，若考慮抗靜電性，則優選碳黑的布厄特（Brunauer-Emmett-Teller，BET）比表面積為50 m² /g以上。若BET比表面積未滿50 m² /g，則存在難以形成碳黑中的導電路徑，且難以藉由少量的添加而顯現高導電性的情況。另外，更優選碳黑的BET比表面積為50 m² /g以上、1500 m² /g以下。若超過1500 m² /g，則難以使碳黑的分散濃度或添加量增加，因此存在僅能夠添加極少量，而不顯現遮光性的擔憂。進而更優選75 m² /g以上、500 m² /g以下。

另外，碳黑優選鄰苯二甲酸二丁酯（Dibutyl phthalate，DBP）吸油量為100 m² /g以上。藉由將DBP（鄰苯二甲酸二丁酯）吸油量設為100 m² /g以上，可增大凝聚體的發達程度（結構），並提高導電性。另外，可提升與樹脂的親和性，並更有效地提高被膜強度。更優選100 m² /g以上、500 m² /g以下。

另外，在遮光層形成用樹脂組合物中，只要是無損本發明的功能的情況，則可含有一次粒徑大於50 nm的碳黑、一次粒徑未滿10 nm的碳黑、有機顏料、無機顏料、金屬顏料等粒子。這些可單獨使用一種、或將兩種以上混合使用。

＜可塑性成分＞ 作為本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物的優選的另一例，有進一步含有可塑性成分的形態。此處，所謂可塑性成分，是指可對作為黏合劑樹脂的纖維素系樹脂賦予可塑性的成分，通常不僅包含被稱為塑化劑者，而且包含聚酯、聚醚、聚碳酸酯、聚丁二烯、或這些的衍生物。另外，也可以使用多元醇。可塑性成分可單獨使用一種、或將兩種以上組合使用。

藉由含有可塑性成分，而緩和纖維素系樹脂特性的內部應力，在形成遮光層時可有效地抑制被認為是樹脂特性的內部應力的影響的遮光性構件的翹曲（捲曲）。另外，可塑性成分可用作碳黑、有機顏料、無機顏料、金屬顏料等粒子的前處理劑，也可以在製備遮光層形成用樹脂組合物時添加。 在用作前處理劑的情況下，可確保碳黑、有機顏料、無機顏料、金屬顏料等粒子的分散穩定性，當形成遮光層時，可抑制由粒子所產生的沉澱、不均等。

作為可塑性成分的適宜例，可例示：在直鏈的末端或經分支的末端具有可與羧基進行反應的官能基、可與羥基進行反應的官能基、及可與異氰酸酯基進行反應的官能基的至少任一種的聚酯、聚醚、聚碳酸酯、聚丁二烯、或這些的衍生物。 這些中，就可塑性、強韌性的平衡的觀點而言，優選聚酯、或聚醚，特優選聚酯。 另外，也優選使用多元醇，更優選聚酯多元醇。

作為可與羧基進行反應的官能基，可列舉羥基、環氧基、氨基、異氰酸酯基等，但就反應性的觀點而言，適宜的是羥基。 作為可與羥基進行反應的官能基，可列舉羥基、環氧基、氨基、異氰酸酯基等，但就反應性的觀點而言，適宜的是異氰酸酯基。 另外，作為可與異氰酸酯基進行反應的官能基，可列舉羥基、氨基、羧基、環氧基、N-羥甲基、N-烷氧基甲基等，但就反應性的觀點而言，適宜的是羥基。可與羧基進行反應的官能基、可與羥基進行反應的官能基、及可與異氰酸酯基進行反應的官能基可為相同的官能基，也可以是不同的官能基。

作為所述聚酯的例子，可列舉：將二羧酸的至少一種與多元醇、多元酚、或這些的烷氧基改性物等多元醇的至少一種加以酯化所獲得的含有末端羥基的酯化合物，以及將末端的羥基改性成氨基、羧基、環氧基、N-羥甲基、或N-烷氧基甲基而成的酯化合物等。

作為所述二羧酸的例子，可列舉：對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、1,5-萘二甲酸、對氧基苯甲酸、對(羥基)苯甲酸、1,4-環己烷二羧酸、丁二酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、十二烷二羧酸等二羧酸等。

作為所述多元醇的例子，可列舉：1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、2-甲基-1,4-丁二醇、1,2-二甲基-1,4-丁二醇、2-乙基-1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、2-甲基-1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-乙基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2-甲基-1,6-己二醇、3-甲基-1,6-己二醇、1,7-庚二醇、2-甲基-1,7-庚二醇、3-甲基-1,7-庚二醇、4-甲基-1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、2-甲基-1,8-辛二醇、2-乙基-1,8-辛二醇、3-甲基-1,8-辛二醇、4-甲基-1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、乙二醇、丙二醇、新戊二醇、二乙二醇、二丙二醇、環己烷二甲醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇、三羥甲基丙烷、1,1,1-三羥甲基丙烷乙二醇、甘油、赤藻糖醇、木糖醇、山梨糖醇、甘露醇等。

作為所述多元酚的例子，可列舉：兒茶酚、間苯二酚、對苯二酚、己基間苯二酚、三羥基苯、二羥甲基苯酚等。 作為市售品的聚酯，例如可列舉：可樂麗（Kuraray）公司製造的可樂麗多元醇（Kuraray polyol）P-510、P-1010、P-1510、P-2010、P-3010、P-4010、P-5010、P-6010、P-2011、P-2013、P-520、P-1020、P-2020、P-1012、P-2012、P-530、P-1030、P-2030、PMHC-2050、PMHC-2050R、PMHC-2070、PMHC-2090、PMSA-1000、PMSA-2000、PMSA-3000、PMSA-4000、F-2010、F-3010、N-2010、PNOA-1010、PNOA-2014、O-2010，住友拜耳氨基甲酸酯（Sumitomo Bayer Urethane）公司製造的德士模範（Desmophen）650MPA、651MPA/X、670、670BA、680X、680MPA、800、800MPA、850、1100、1140、1145、1150、1155、1200、1300X、1652、1700、1800、RD181、RD181X、C200，東洋紡（Toyobo）公司製造的拜龍（Vylon）200、560、600、GK130、GK860、GK870、290、GK590、GK780、GK790等。

另外，作為所述聚醚的例子，可列舉：聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇等聚伸烷基二醇，及將末端的羥基改性成氨基、羧基、環氧基、N-羥甲基、異氰酸酯基、或N-烷氧基甲基而成的醚化合物。

作為市售的聚醚，例如可列舉：住友拜耳氨基甲酸酯公司製造的德士模範（Desmophen）250U、550U、1600U、1900U、1915U、1920D，三井化學公司製造的塔克奈特（Takenate）M631、M605等。 其中，適宜的是三井化學公司製造的塔克奈特（Takenate）M631、M605。由於在可塑性成分的末端具有異氰酸酯基，因此其本身進行硬化、增膜，因此塗膜的強韌性、耐溶劑性的提升受到期待。

另外，作為聚碳酸酯的例子，可列舉：由下述通式所表示的聚碳酸酯二醇，及將末端的羥基改性成氨基、羧基、環氧基、N-羥甲基或N-烷氧基甲基而成的碳酸酯化合物。 H-(O-R-OCO-)_n R-OH 其中，R：伸烷基鏈、二乙二醇等。

作為市售的聚碳酸酯，例如可列舉：可樂麗公司製造的可樂麗多元醇PNOC-1000、PNOC-2000、PMHC-2050、PMHC-2050R、PMHC-2070、PMHC-2070R、PMHC-2090R、C-2090等。

另外，作為聚丁二烯的例子，可列舉：α,ω-聚丁二烯二醇，α,β-聚丁二烯二醇，及將末端的羥基改性成氨基、羧基、環氧基、N-羥甲基或N-烷氧基甲基而成的丁二烯化合物。

作為市售的聚丁二烯，例如可列舉：日本曹達公司製造的NISSO-PB G-1000、G-2000、G-3000、GI-1000、GI-2000、GI-3000、GQ-1000、GQ-2000等。作為市售的具有2個以上的環氧基的聚丁二烯，例如可列舉：日本曹達公司製造的NISSO-PB BF-1000、EPB-13、EPB-1054等。

可塑性成分的聚苯乙烯換算的重量平均分子量優選500以上、50,000以下，更優選1,000以上、25,000以下。當重量平均分子量超過50,000時，存在對於溶劑的溶解性、與纖維素系樹脂的相容性下降的情況。另外，當重量平均分子量未滿500時，存在無法賦予充分的可塑性的情況。再者，當使可塑性成分硬化時為硬化前的重量平均分子量。

另外，可塑性成分優選在形成遮光性構件時、或形成遮光性構件後硬化。可塑性成分的硬化適宜的是與纖維素系樹脂進行交聯的方法。由此，表觀的分子量增大，可期待抑制或防止可塑性成分的轉移（滲出）、提升被膜強度。除與纖維素系樹脂進行交聯的方法以外，可塑性成分的硬化可藉由其他成分、硬化劑或可塑性成分彼此的交聯來進行，也可以將這些方法和與纖維素系樹脂的交聯並用。

就抑制遮光性構件的翹曲（捲曲）的觀點而言，相對於纖維素系樹脂100質量份，可塑性成分的含量優選1質量份以上、50質量份以下，更優選3質量份以上、50質量份以下，進而更優選5質量份以上、40質量份以下，特優選10質量份以上、30質量份以下的範圍。藉由設為1質量份以上、50質量份以下，即便使用纖維素系樹脂，也容易製成塗膜強度優異、遮光層的翹曲（捲曲）得到有效抑制的遮光性構件。

只要是無損本發明的功能的情況，則本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物可使用慣用的添加劑，例如穩定劑（抗氧化劑、紫外線吸收劑、耐光穩定劑、熱穩定劑等）、阻燃劑、阻燃助劑、耐衝擊改良劑、填充劑（或增強劑）、分散劑、抗靜電劑、發泡劑、抗菌劑、潤滑劑等。這些添加劑可僅為一種、或將兩種以上加以組合。

再者，本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物即便實質上不使用二氧化矽或氧化鋁等無機填料，或如樹脂珠般的先前用於製成抑制入射光的反射、且遮光性優異者的消光劑，遮光性也非常優異。但是，即便對應於使用用途，結合所要求的光學濃度、構成而並用消光劑，也不存在問題。

＜遮光層形成用樹脂組合物的製造方法＞ 其次，對本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物的製造方法的一例進行說明。但是，本發明的遮光層形成用樹脂組合物的製造方法並不限定於以下的方法。首先，將一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑與纖維素系樹脂及溶劑混合，視需要添加可塑性成分或其他成分，並使用捏合機、雙輥磨機、三輥磨機、球磨機、橫型砂磨機、縱型砂磨機、環型珠磨機、或磨碎機等各種分散裝置進行分散，由此可製造遮光層形成用樹脂組合物。分散的程度可對應於用途而適宜調整。例如，可分散至解開的程度。可根據所期望的膜表面的凹凸程度來調整分散的程度。此時，可使其他碳黑或有機顏料等同時分散，也可以將各自分散者混合。 再者，當碳黑或有機顏料等的溶解性高時，只要是對於具體使用的樹脂或溶劑的溶解性高，藉由攪拌而溶解，且確認不到異物的狀態，則可省略如上所述的分散步驟。 本實施形態的遮光層形成用樹脂組合物藉由使用特定的碳黑與纖維素系樹脂，分散性、流動性非常優異，因此可不進行微細的分散處理，而製作遮光性優異，經時的變化也得到抑制的穩定的樹脂組合物。

另外，如上所述，當使用可塑性成分時，也優選藉由可塑性成分來將碳黑用作前處理劑，並將所述可塑性成分處理碳黑與纖維素系樹脂、及視需要的溶劑等一同混合或分散而製成遮光層形成用樹脂組合物。在此情況下，分散穩定性良好，當形成遮光層時，可更有效地抑制由粒子所產生的沉澱、不均等。

《遮光層》 本實施形態的遮光層由含有作為纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑的遮光層形成用樹脂組合物形成。遮光層優選藉由利用一般的方法塗布遮光層形成用樹脂組合物來獲得。藉由使用作為黏合劑樹脂的纖維素系樹脂與特定的碳黑，可使碳黑容易地分散在樹脂組合物中，不僅為薄膜，且遮光性、黑色調、塗膜強度優異，而且可有效地抑制由樹脂所引起的翹曲（捲曲）。

遮光層可藉由濕式塗布法來將含有構成各層的材料的遮光層形成用樹脂組合物形成為層，例如可藉由利用浸塗、輥塗、棒塗、模塗、刮塗、氣刀塗布等先前公知的塗布方法塗布在基材上，並進行乾燥而獲得。

本實施形態的遮光層也可以對應於作為目標的遮光性構件的結構（構成）等，藉由轉印法來形成。

轉印法可使用輥轉印法、模具轉印法等公知的技術。例如，在可剝離的基材上形成遮光層，並將基材剝離，由此可獲得遮光層單層。也可以將藉由此種方法所獲得的從具有可剝離的基材與遮光層的遮光性膜中剝下可剝離的基材而成的遮光層單層用作遮光性構件。

可剝離的基材可列舉：聚酯膜、聚醯亞胺膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等合成樹脂膜，合成紙，紙，金屬板等基材。 另外，可將可剝離的基材加以粗面化。在表面經粗面化的可剝離的基材的粗面化面上形成遮光層，並將可剝離的基材剝離，由此可容易地獲得具有表面的凹凸形狀的遮光層。 將基材表面加以粗面化的方法並無特別限定。例如，將含有黏合劑樹脂與毛面劑的毛面層塗布液塗布在支撐體表面上，並進行乾燥，由此可進行粗面化。此外，可藉由如下方式等來將基材表面加以粗面化：向對象物表面高速地吹附細砂的噴砂加工、藉由使對象物在金屬雕刻輥與彈性輥之間穿過而進行的壓花加工、利用化學藥品處理對象物表面的化學蝕刻。 基材與遮光層是可剝離地構成。為了可剝離地構成基材與遮光層，優選使基材、毛面層、或遮光層中含有脫模效果優異的材料，或在基材或毛面層上實施脫模處理。作為脫模效果優異的材料，可列舉：醇酸系樹脂化合物、氟系化合物、矽酮系化合物。

基材的粗面化的程度根據所要求的光澤而不同，但算術平均粗糙度Ra（算術平均粗糙度）（JIS B0601：2001）優選設為0.3 μm～6.0 μm，更優選設為0.5 μm～5.0 μm，進而更優選設為1.0 μm～4.0 μm。藉由將Ra設為0.3 μm以上，可容易地將光澤抑制得低，藉由設為6.0 μm以下，可容易地自遮光層上剝離可剝離的基材。 可剝離的基材的厚度並無特別限定，但考慮到剝離時的作業性，優選設為25 μm～250 μm左右。

遮光層的厚度根據所要求的光學濃度、遮光性構件的構成而不同，但優選0.5 μm以上、100 μm以下，更優選設為1 μm以上、50 μm以下。特優選2 μm以上、30 μm以下。藉由設為0.5 μm以上，可使遮光層中難以產生針孔等，且容易獲得充分的遮光性。另外，藉由設為100 μm以下，可確保生產性，且可實現薄膜化。 但是，當藉由轉印法來形成時，遮光層的厚度必須大於轉印材料的粗面化的算術平均粗糙度Ra（算術平均粗糙度）（JIS B0601：2001）。

本實施形態的遮光層由於塗膜強度優異，因此即便在2 μm以上、30 μm以下等薄膜中，不僅遮光性、黑色調充分，而且處理性也優異。

遮光層的表面電阻值適宜的是1×10¹⁰ Ω/□以下。藉由將表面電阻值設為所述範圍，可使遮光性構件具有充分的導電性。更優選1×10⁸ Ω/□以下。

《遮光性構件》 本實施形態的遮光構件具有由遮光層形成用樹脂組合物形成的遮光層，所述遮光層形成用樹脂組合物包括包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑。本實施形態的遮光性構件由於遮光層的塗膜強度高，因此也可以藉由不具有基材的遮光層單層來構成。此時，遮光性構件的厚度也可以設為例如3 μm以上、30 μm以下等薄膜，不僅是薄膜，而且遮光性與處理性、穩定性及加工性優異。當然，也可以對應於用途而設為基材與遮光層等的層疊體。

遮光性構件的厚度根據所要求的光學濃度、構成而不同，但優選0.5 μm以上、200 μm以下，更優選設為1 μm以上、50 μm以下，特優選2 μm以上、30 μm以下。藉由設為0.5 μm以上，容易獲得充分的遮光性。另外，藉由設為100 μm以下，可確保生產性，也可以實現薄型化、輕量化。

另外，遮光性構件可在遮光層上具有用以使遮光層黏接在光學構件或光學元件構件、顯示元件構件、機械零件、電氣・電子零件等上的黏接層。黏接層可由丙烯酸系黏接劑、氨基甲酸酯黏接劑、聚酯黏接劑、矽酮黏接劑等感壓黏接劑、感熱黏接劑等各種黏接劑形成。另外，遮光性構件視需要可在遮光層上設置隔片。

黏接層可藉由利用浸塗、輥塗、棒塗、模塗、刮塗、氣刀塗布等先前公知的塗布方法將含有構成各層的材料的遮光層用塗布液塗布在基材上，並進行乾燥而獲得。

本實施形態的遮光性構件優選不論其形態，至少一個表面的光澤度為20以下。藉由將遮光性構件的光澤度設為20以下，可有效地提高遮光性。例如，當用作透鏡單元時，可有效地防止雜訊成為誤動作的原因的危險。更優選10以下，進而更優選5以下。進而，優選兩面的光澤度均為所述範圍。將光澤度設為使用日本電色工業公司製造的光澤計VG-2000，以測定角度（θ）60度進行測定所得的值。

為了將遮光性構件的表面的光澤度設為所述範圍，有使構件表面變成凹凸形狀（凹凸結構）的方法。藉由表面上具有凹凸形狀，可抑制遮光性構件的光澤，防止光的反射，並有效地提高遮光性。另外，藉由使用表面上具有凹凸形狀的遮光性構件，可使本發明的遮光性效果更有效地發揮。如此，為了將遮光性構件的光澤度控制在後述的光澤度的範圍內，有效的是在所述遮光性構件的表面的至少一面上具有凹凸形狀的方法。更優選在兩面上具有凹凸形狀的方法，遮光性的效果得以更充分地發揮。

此處，當遮光性構件具有遮光層以外的層時，優選在遮光層未與其他層接合的遮光層表面上形成凹凸形狀。即，遮光性構件優選在至少一面的遮光層上具有凹凸形狀者。藉由在遮光層上形成凹凸形狀，而抑制光的反射，遮光性變得足夠優異。更優選在遮光性構件的遮光層的兩表面的遮光層上設置凹凸形狀。當遮光層不位於遮光性構件的表面時（遮光層位於積層結構的中間層時），優選在遮光層與遮光性構件的表面的兩者上形成凹凸形狀。

所述凹凸形狀只要是例如入射光不進行鏡面反射且進行散射的程度即可，且只要表面不平滑即可。另外，表面的凹凸優選對於使欲進行遮光的光散射而言適當的大小（形狀）。例如，當將遮光性構件用於透鏡單元時為使可見光區域、紫外線區域及紅外區域等的光有效地散射者。 在此情況下，算術平均粗糙度Ra（算術平均粗糙度）（JIS B0601：2001）優選0.3 μm以上。更優選0.5 μm以上，進而更優選1.0 μm以上，特優選2.0 μm以上。

當具有基材時，作為基材，可列舉：聚酯膜、聚醯亞胺膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等合成樹脂膜。其中，可適宜地使用聚酯膜，就機械強度、尺寸穩定性優異的觀點而言，特優選經延伸加工、特別是雙軸延伸加工的聚酯膜。另外，當用於耐熱用途時，可適宜地使用聚醯亞胺膜。就與遮光層協同來提高遮光性的觀點而言，視需要可使基材中含有碳黑等著色劑。

基材的膜厚根據遮光性構件的用途、及構成而不同，但優選1 μm以上、100 μm以下，更優選設為2 μm以上、50 μm以下，特優選4 μm以上、30 μm以下。藉由設為1 μm以上，可確保遮光性構件的生產性。另外，藉由設為100 μm以下，可達成薄型化、輕量化。 [實施例]

以下，藉由實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不受這些實施例任何限定。再者，“份”是指“質量份”，“%”是指“質量%”。

以下表示實施例中所使用的材料。 ＜碳黑＞ 以下彙總實施例及比較例中所使用的碳黑的物性值。當由穿透式電子顯微鏡測定碳黑的平均一次粒徑時，依據ASTM D-3849進行測定。從穿透式電子顯微鏡像中選擇20個，並將其平均值設為平均一次粒徑的值。 [表1]

[實施例1] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理（Fast ＆ Fluid Management）公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物1。 ＜遮光層形成用樹脂組合物1＞ ・黏合劑樹脂：10.8份 纖維素系樹脂 CAP482-20（纖維素酯）：伊士曼柯達（Eastman Kodak）公司製造 ・碳黑（CB-1）：2.2份 ・稀釋溶劑（甲基乙基酮）：43.5份 ・稀釋溶劑（甲苯）：43.5份

[實施例2] 除將遮光層形成用樹脂組合物1的碳黑（CB-1）變更成碳黑（CB-2）以外，以與實施例1相同的方式獲得遮光層形成用樹脂組合物2。

[實施例3] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物3。 ＜遮光層形成用樹脂組合物3＞ ・黏合劑樹脂：10.6份 纖維素系樹脂 CAP482-20（纖維素酯）：伊士曼柯達公司製造 ・碳黑（CB-1）：2.2份 ・可塑性成分：1.6份 聚酯多元醇（可樂麗多元醇F-3010：可樂麗公司製造） ・稀釋溶劑（甲基乙基酮）：42.8份 ・稀釋溶劑（甲苯）：42.8份

[實施例4] 除將遮光層形成用樹脂組合物3的可塑性成分變更成聚醚（德士模範（Desmophen）250U：住友拜耳氨基甲酸酯公司製造）以外，以與實施例3相同的方式獲得遮光層形成用樹脂組合物4。

[實施例5] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物5。 ＜遮光層形成用樹脂組合物5＞ ・黏合劑樹脂：10.8份 纖維素系樹脂 CAP482-20（纖維素酯）：伊士曼柯達公司製造 ・碳黑（CB-1）：2.2份 ・可塑性成分：0.2份 聚酯多元醇（可樂麗多元醇F-3010：可樂麗公司製造） ・稀釋溶劑（甲基乙基酮）：43.4份 ・稀釋溶劑（甲苯）：43.4份

[實施例6] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物6。 ＜遮光層形成用樹脂組合物6＞ ・黏合劑樹脂：10.4份 纖維素系樹脂 CAP482-20（纖維素酯）：伊士曼柯達公司製造 ・碳黑（CB-1）：2.2份 ・可塑性成分：5.0份 聚酯多元醇（可樂麗多元醇F-3010：可樂麗公司製造） ・稀釋溶劑（甲基乙基酮）：41.2份 ・稀釋溶劑（甲苯）：41.2份

[比較例1] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物7。 ＜遮光層形成用樹脂組合物7＞ ・黏合劑樹脂：21.0份 丙烯酸多元醇 （阿庫利迪科（Acrydic）A807：迪愛生（DIC）公司製造） ・異氰酸酯：3.5份 （波諾克（Burnock）DN950：迪愛生公司製造） ・碳黑（CB-1）：2.1份 ・稀釋溶劑（甲基乙基酮）：36.7份 ・稀釋溶劑（甲苯）：36.7份 [比較例2] 除將遮光層形成用樹脂組合物1的碳黑（CB-1）變更成碳黑（CB-3）以外，以與實施例1相同的方式獲得遮光層形成用樹脂組合物8。

[比較例3] 利用振盪器（斯坎德克斯（Skandex）SK450：速流管理公司製造）將下述組成的混合物均勻地攪拌混合，而獲得遮光層形成用樹脂組合物9。 ＜遮光層形成用樹脂組合物9＞ ・黏合劑樹脂：36.6份 聚醯亞胺樹脂 （PIAD200A：荒川化學工業公司製造） ・碳黑（CB-1）：2.4份 ・稀釋溶劑（環己酮）：30.5份 ・稀釋溶劑（甲基環己烷）：30.5份

[遮光性構件的評價] 對實施例、比較例中所獲得的遮光性構件評價顏料凝聚性、光學濃度、塗膜強度、明亮度指數等。將結果示於表2中。

（遮光層的形成方法） 將所獲得的遮光層形成用樹脂組合物塗布在基材（拜那膜（Filmbyna）DG2：藤森工業公司製造，厚度為50 μm）的脫模處理面上，並進行乾燥，而形成厚度為20 μm的遮光層。 在本實施例中，將所獲得的遮光層單層作為遮光性構件來進行評價。即，利用將基材剝離的遮光層單層進行測定。 再者，在評價結果中，將“○”設為優良，將“△”設為可實用，將“×”設為NG水準。

[評價項目] 1.顏料凝聚性 藉由顏料的凝聚性評價來判斷遮光層形成用樹脂組合物的分散穩定性。 將所形成的遮光層切割成10 cm×10 cm的大小，並以目視觀察該遮光層的表面，由此清點顏料凝聚物。 將顏料凝聚物為5個以內者設為“〇”，將顏料凝聚物為10個以內者設為“△”，將顏料凝聚物超過10個者設為“×”。 2.光學濃度 針對所獲得的遮光層，根據JIS K7651：1988，使用光學濃度計（TD-904：格林達-麥克貝斯（GretagMacbeth）公司製造）測定光學濃度。測定使用紫外線（Ultraviolet，UV）濾光片。 將光學濃度超過4.0、且無法測定的區域的濃度者設為“○”，將光學濃度為4.0以下者設為“×”。

3.塗膜強度 依據JIS K 7161來測定拉伸強度（斷裂強度）。 利用拉伸試驗機（檢測機產業（Tester Sangyo）公司製造），以速度200 mm/min對寬度10 mm、長度50 mm的遮光層進行拉伸，並測定遮光層切斷時的負荷。 將在250 g以上的負荷下斷裂者設為“〇”，將在未滿250 g的負荷下斷裂者設為“×”。

4.明亮度指數 使用分光色差計（SE-6000：日本電色公司製造），測定遮光層在反射光中的明亮度指數L﹡。明亮度指數L﹡是100表示白度，0表示黑色調的數值。 將L﹡為40以下者設為“〇”，將L﹡超過40者設為“×”。

5.捲曲 將所形成的遮光層切割成10 cm×10 cm的大小，將該遮光層放置在平滑的玻璃板上，並測定遮光層的端部4邊的捲曲。 再者，若捲曲的程度變得嚴重，則不同的端部彼此重疊，遮光性構件變成筒狀。在此情況下，捲曲的測定變得困難，因此測定變成筒狀的圓的直徑。當捲曲變得嚴重時，端部彼此的重疊進一步增加，直徑變小。 將端部4邊的捲曲的平均值為±20 mm以內者設為“〇”，將端部4邊的捲曲的平均值大於±20mm、或變成直徑50 mm以上的筒狀者設為“△”，將變成直徑未滿50mm的筒狀者設為“×”。

6.抗靜電性 使用電阻率計（羅萊斯塔（Loresta）GP：三菱化學分析技術（Mitsubishi Chemical Analytech）公司製造或海萊斯塔（Hiresta）UX：三菱化學分析技術公司製造），測定遮光層的表面電阻率，將1×10⁸ Ω/□以下者設為“〇”，將大於1×10⁸ Ω/□、且為1×10¹⁰ Ω/□以下者設為“△”，將超過1×10¹⁰ Ω/□者設為“×”。

[表2]

如表2所示，可確認本實施例的遮光層形成用樹脂組合物藉由含有作為纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上50 nm以下的碳黑，而抑制顏料凝聚，且樹脂組合物中的碳黑的分散穩定性優異。另外，可確認如下的良好的結果：使用本實施例的遮光層形成用樹脂組合物所形成的遮光層充分地保持遮光性、黑色調、塗膜強度，且也可以抑制遮光層的翹曲（捲曲）。

本實施例的具有遮光層的遮光性構件即便是僅為遮光層的單層，光學濃度、塗膜強度、遮光性也優異，因此可實現小型化、薄型化及輕量化。

另外，當遮光性構件具有基材時，與遮光層單層的情況同樣地，也可以獲得光學濃度、塗膜強度、遮光性均優異的結果。

因此，本發明的遮光性構件可適宜地用於光學用途或光學元件用途、顯示元件用途、機械零件、電氣・電子零件等各種用途。

無

無

無

Claims (8)

1. 一種遮光層形成用樹脂組合物，其包括：包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂、及一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑。
2. 如申請專利範圍第1項所述的遮光層形成用樹脂組合物，其中更包括可塑性成分。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的遮光層形成用樹脂組合物，其中所述纖維素系樹脂為選自纖維素及纖維素衍生物中的至少一種。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的遮光層形成用樹脂組合物，其中相對於所述纖維素系樹脂100質量份，含有1質量份以上、100質量份以下的所述碳黑。
5. 一種遮光層形成用樹脂組合物的製造方法，其包括：將包含纖維素系樹脂的黏合劑樹脂與一次粒徑為10 nm以上、50 nm以下的碳黑混合的步驟。
6. 如申請專利範圍第5項所述的遮光層形成用樹脂組合物的製造方法，其中在所述混合步驟中，也進一步添加可塑性成分。
7. 一種遮光層，其由如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的遮光層形成用樹脂組合物形成。
8. 一種遮光性構件，其包括如申請專利範圍第7項所述的遮光層。