TW201738067A - 壓印設備、壓印方法及製造物品的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了一種壓印設備，其藉由使用模具在基板上形成壓印材料的圖案，該壓印設備包括：控制單元，其被構造來控制使模具變形為凸出形狀並使模具與壓印材料彼此接觸的處理，其中，控制單元基於表示模具與基板之間的相對傾角以及在模具與壓印材料之間的接觸時使相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊，確定目標相對傾角，使得在模具與壓印材料之間的接觸時所產生的力矩落在允許範圍內，並在將相對傾角設定為目標相對傾角之後，開始模具與壓印材料之間的接觸。

Description

壓印設備、壓印方法及製造物品的方法
本發明係關於壓印設備、壓印方法以及製造物品的方法。
作為一種用來大量生產半導體裝置等的光刻設備，藉由使用包括形成有圖案的圖案區域的模具將凹凸圖案轉印到基板上的壓印材料的壓印設備已受到關注。藉由在模具和壓印材料彼此接觸的狀態下執行固化基板上的壓印材料的壓印處理，壓印設備能夠在基板上的壓印材料中形成圖案。在這種壓印設備中，如果在使模具和壓印材料彼此接觸時有氣泡殘留在模具的圖案中，則缺陷可能發生在壓印材料中所形成的圖案中。日本專利公開第2009-536591號已提出了一種藉由使模具的圖案區域變形為朝向基板突出的凸出形狀以使模具和壓印材料彼此接觸，來減少殘留在模具圖案中的氣泡的方法。
一般而言，當使模具和基板上的壓印材料彼此接觸時，可執行模具與基板之間的相對傾角(relative tilt)的伺服控制(servo control)。然而，如果在圖案區域變形為凸出形狀的狀態下使模具和基板上的壓印材料彼此接觸，則可能會在模具與壓印材料之間的接觸時發生使模具與基板之間的相對傾角波動的力矩。如果發生這種力矩，則模具和基板可能相對地擺動，造成像是未能以壓印材料充分地填充模具的凹凸圖案(凹部)、或者壓印材料之填充時間的延長等的故障。
例如，本發明提供了一種有利於減小在模具與基板上的壓印材料之間的接觸時所產生的力矩的技術。
根據本發明的一個態樣，提供了一種壓印設備，其藉由使用模具在基板上形成壓印材料的圖案，該壓印設備包括：變形單元，其被構造為使模具變形為朝向基板突出的凸出形狀；以及控制單元，其被構造來控制藉由變形單元使模具變形並使模具與壓印材料彼此接觸的處理，其中，控制單元基於表示模具與基板之間的相對傾角以及在模具與壓印材料之間的接觸時使相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊，確定模具與基板之間的目標相對傾角，使得在模具與壓印材料之間的接觸時所產生的力矩落在允許範圍內，且控制單元在將模具與基板之間的相對傾角設定為目標相對傾角之後，開始模具與壓印材料之間的接觸。
從例示性實施例參照所附圖式的以下描述， 本發明的進一步特徵將變得清楚明瞭。
1‧‧‧模具
1a‧‧‧圖案區域
1b‧‧‧空腔
2‧‧‧基板
3‧‧‧基板載台
3a‧‧‧基板保持單元
3b‧‧‧基板驅動單元
4‧‧‧壓印頭
4a‧‧‧模具保持單元
4b‧‧‧模具驅動單元
5‧‧‧變形單元
5a‧‧‧管
6‧‧‧照射單元
7‧‧‧供給單元
8‧‧‧攝像單元
9‧‧‧第一測量單元
10‧‧‧第二測量單元
11‧‧‧控制單元
12‧‧‧分束器
13‧‧‧中繼光學系統
51‧‧‧全部投射區域
52‧‧‧部分投射區域
100‧‧‧壓印設備
S10~S16‧‧‧步驟
S20~S30‧‧‧步驟
S40~S47‧‧‧步驟
Z1‧‧‧致動器
Z2‧‧‧致動器
Z3‧‧‧致動器
圖1是顯示根據第一實施例的壓印設備的示意圖；圖2是顯示當從Z方向觀看時的壓印頭的圖；圖3是顯示壓印處理的順序的流程圖；圖4是顯示確定模具與基板之間的目標相對傾角的方法的流程圖；圖5是顯示關於時間之力矩資訊的圖；圖6是顯示關於相對傾角之力矩資訊的圖；圖7是顯示確定第二投射區域(shot region)的目標相對傾角的方法的流程圖；圖8是用於說明確定第二投射區域的目標相對傾角的方法的圖；以及圖9是顯示複數個投射區域的佈局的圖。
下面將參照所附圖式描述本發明的例示性實施例。注意，在所有圖式中相同的標號表示相同的構件，且將不再給出重複的描述。在下面的描述中，令Z方向為與照射基板的光的光軸平行的方向，且令X方向和Y方向為在平面中與Z方向垂直的兩個方向。
<第一實施例>
將描述根據本發明的第一實施例的壓印設備100。壓印設備是一種設備，其使模具和被供給到基板上的壓印材料彼此接觸，並對壓印材料施加固化能量，從而形成已經轉印了模具的凹凸圖案的固化產品的圖案。壓印設備100被用於製造半導體裝置等，且藉由使用包括形成有圖案的圖案區域1a的模具1而執行在基板2的投射區域上形成壓印材料的圖案的壓印處理。例如，壓印設備100在已形成有圖案的模具1與壓印材料接觸的狀態下固化基板上的壓印材料。接著，藉由擴大模具1與基板2之間的間距，並將模具1從已固化的壓印材料分離(釋放)，壓印設備100可在基板上形成壓印材料的圖案。
固化壓印材料的方法包括使用熱的熱循環方法以及使用光的光固化方法。在本實施例中，將說明採用光固化方法的例子。光固化方法是藉由將未固化的紫外線固化樹脂作為壓印材料供給到基板上，並且在模具1和壓印材料彼此接觸的狀態下用光(紫外光)照射壓印材料來固化壓印材料的方法。
藉由接收固化能量而被固化的固化性組合物(也可稱為未固化樹脂)被用作壓印材料。電磁波、熱等被使用來作為固化能量。例如，可使用其波長係選自10nm(含)到1mm(含)的範圍的紅外線、可見光、紫外線等光作為電磁波。
固化性組合物是藉由光照射或熱施加而固化 的組合物。除此之外，藉由光而固化的光固化性組合物至少包含聚合性化合物以及光聚合引發劑(photopolymerization initiator)，且當需要時可能進一步包含非聚合性化合物或溶劑。非聚合性化合物至少是從敏化劑、氫予體(hydrogen donor)、內部脫模劑、表面活性劑、抗氧化劑以及聚合物成分的群組中所選出的一種材料。
壓印材料藉由旋轉塗布機或狹縫塗布機而以薄膜形式被施加到基板上。或者，液體注入頭可在基板上施加具有液滴狀、或者由彼此連接的複數個液滴所形成的島狀或膜狀的壓印材料。壓印材料的黏度(在25℃的黏度)被設定為例如1mPa．s(含)到100mPa．s(含)。
[設備佈置]
現在將參照圖1描述根據第一實施例的壓印設備100的佈置。圖1是顯示根據第一實施例的壓印設備100的示意圖。壓印設備100可包括基板載台3、壓印頭4、變形單元5、照射單元6、供給單元7、攝像單元8、第一測量單元9、第二測量單元10以及控制單元11。控制單元11由包括，例如，CPU和記憶體的計算機所構成，且控制壓印處理(控制壓印設備100的各個單元)。壓印處理可包括，例如，藉由變形單元5使模具1的圖案區域1a變形、開始模具1與基板上的壓印材料之間的接觸、以及逐漸地擴大模具1和壓印材料(基板2)之間的接觸面積的處理(接觸處理)。
基板載台3包括，例如，基板保持單元3a以及基板驅動單元3b，且被構造為可在保持基板2的同時進行移動。基板保持單元3a藉由，例如，真空吸力或靜電力，來保持基板2。基板驅動單元3b機械地保持基板保持單元3a，並在X和Y方向上驅動基板保持單元3a(基板2)。基板驅動單元3b還可被構造來改變基板2在Z方向上的位置、基板2相對於X-Y平面的傾角、或基板2在X-Y平面上的旋轉。注意，基板2使用玻璃、陶瓷、金屬、半導體、樹脂等，且根據需要可在基板的表面上形成由與基板的材料不同的材料所製成的構件。更具體地，使用矽晶圓、化合物半導體晶圓、石英玻璃等作為基板。在施加壓印材料之前，可以根據需要提供用於改善壓印材料和基板之間的黏附力的黏合層。
壓印頭4可包括模具保持單元4a以及模具驅動單元4b，該模具保持單元4a藉由，例如，真空吸力或靜電力，來保持模具1，且該模具驅動單元4b被構造來改變模具保持單元4a(模具1)在Z方向上的位置和傾角。模具驅動單元4b還可被構造為在X和Y方向上調整模具1的位置。
現在將參照圖2描述模具驅動單元4b的佈置。圖2是顯示當從Z方向觀看時的壓印頭4(模具驅動單元4b)的圖。例如，模具驅動單元4b包括如圖2所示地佈置的複數個致動器Z1至Z3，且可藉由控制複數個致動器Z1至Z3中的每一個致動器來改變模具1與基板2之 間的相對位置(Z方向)和相對傾角。每一個致動器Z1至Z3可包括位移感測器4b1和力感測器4b2。位移感測器4b1檢測每一個致動器Z1至Z3的兩端之間的位移量(藉由以每一個致動器Z1至Z3使模具1位移所獲得的量)。力感測器4b2檢測在每一個致動器Z1至Z3中所產生的力。
在本實施例中，壓印頭4作用為驅動單元，其驅動模具1與基板中的至少一個，以使模具1與基板2彼此接觸。然而，本發明不限於此。例如，基板載台3可作用為驅動單元，或者壓印頭4和基板載台3兩者都可作用為驅動單元。
由壓印頭4所保持的模具1通常由像是能夠透射紫外光的石英之類的材料所製成，且包括圖案區域1a，其中，應該被轉印到基板2上作為裝置圖案的凹凸圖案被形成在基板側的表面(圖案表面)上。圖案區域1a具有藉由，例如，約幾十μm的台階，所形成的台面(mesa)形狀。儘管取決於應該形成在基板上的裝置圖案而變化，但是圖案區域1a的尺寸通常為33mm×26mm。為了促進圖案區域的變形，在與模具1的圖案表面相反的一側的表面上形成有空腔1b(凹部)，以使圖案區域1a的厚度及其周邊變得更小。藉由使壓印頭4(模具保持單元4a)保持模具1，空腔1b變成幾乎氣密的空間。空腔1b經由管5a被連接到變形單元5。
變形單元5藉由改變由壓印頭4所保持的模 具1的空腔1b內部的壓力而使模具1的圖案區域1a變形為朝向基板2突出的凸出形狀。例如，當藉由使模具1與基板2彼此靠近而使模具1與基板上的壓印材料彼此接觸時，變形單元5藉由，例如，經由管5a向空腔1b的內部供給加壓空氣，而使空腔1b內部的壓力高於其外部壓力。這允許變形單元5將模具1的圖案區域1a變形為朝向基板2突出的凸出形狀，並且在接觸處理中逐漸地加寬模具1和壓印材料之間的接觸面積。結果，可以減少與壓印材料接觸的模具1的凹凸圖案(凹部)中殘留的氣泡以及減少藉由壓印處理在壓印材料中所形成的圖案中的缺陷的發生。
照射單元6以光(紫外光)經由模具1照射基板2，光在固化壓印材料的處理中使基板上的壓印材料固化。在本實施例中，從照射單元6所發射的光被分束器12(帶式濾波器(band filter))所反射，並經由中繼光學系統13及模具1照射基板2。供給單元7將壓印材料供給(分配)到基板上。如上所述，在本實施例的壓印設備100中，具有藉由紫外光照射而固化的特性的紫外線固化樹脂可被用作壓印材料。
攝像單元8經由分束器12和中繼光學系統13捕捉模具1的圖案區域1a的圖像。例如，在使模具1與基板2經由壓印材料彼此接觸的接觸處理中加寬圖案區域1a和基板2之間的接觸面積的複數個時間點中的每一個時間點，攝像單元8捕捉模具1的圖像區域1a的圖像。 在由攝像單元8因此所獲得的每一個圖像中都形成有藉由模具1與基板2之間的接觸而產生的干涉條紋。因此，可以基於每一個圖像來觀察圖案區域1a和壓印材料之間的接觸面積擴大的方式。可提供對準示波器(alignment scope)(檢測系統)，以檢測在模具1與基板2上所形成的對準標記。
第一測量單元9測量圖案區域(模具上)上的複數個點的高度。第一測量單元9可包括，例如，雷射干涉儀，其以光照射模具1，並藉由來自照射區域的反射光去測量被以光照射的模具上的照射區域的高度(第一測量單元9和圖案區域1a之間的距離)。第一測量單元9被安裝在基板載台3上，且可利用基板載台3在X和Y方向上移動來掃描模具上的照射區域，以測量圖案區域上的複數個點的高度。這使得其能夠獲得圖案區域1a的形狀和傾角。注意，第一測量單元9可與基板載台3被分開地設置。
第二測量單元10測量基板上的複數個點的高度。第二測量單元10可包括，例如，雷射干涉儀，其以光照射基板2，並藉由來自照射區域的反射光去測量被以光照射的基板上的照射區域的高度(第二測量單元10和基板2之間的距離)。第二測量單元10可藉由使基板載台3在X和Y方向上移動基板2來掃描基板上的照射區域，以測量基板上的複數個點的高度。這使得其能夠獲得基板2的形狀和傾角。
[壓印處理]
現在將參照圖3描述在第一實施例的壓印設備100中的壓印處理。圖3是顯示壓印處理的順序的流程圖。控制單元11可執行下面所描述的壓印處理中的各個步驟。
在步驟S10中，控制單元11控制基板載台3，以將基板2佈置在供給單元7的下方。接著，控制單元11控制供給單元7，以將壓印材料供給到形成在基板上的複數個投射區域當中的要進行壓印處理的投射區域(目標投射區域)。在將壓印材料供給到目標投射區域之後，控制單元11控制基板載台3，以將目標投射區域佈置在模具1(圖案區域1a)下方。
在步驟S11中，控制單元11控制變形單元5，以將模具1的圖案區域1a變形為朝向基板2突出的凸出形狀。在步驟S12中，控制單元11控制模具1與基板2之間的相對傾角，以獲得稍後描述之所確定的模具1與基板2之間的目標相對傾角。注意，步驟S12可在步驟S11之前被執行。
在步驟S13中，控制單元11控制壓印頭4，以使模具1與基板2在變形單元5使模具1的圖案區域1a變形的狀態下彼此靠近，從而使模具1和基板上的壓印材料彼此接觸(接觸處理)。例如，控制單元11在變形單元5使模具1的圖案區域1a變形的狀態下開始模具1與壓印材料的接觸，並逐漸地擴大模具1與壓印材料之間的接觸面積。此時，在開始模具1和壓印材料之間的接 觸之後，控制單元11控制變形單元5，以使空腔1b內部的壓力隨著模具1和壓印材料之間的接觸面積擴大而逐漸地降低。這使得其能夠在當整個圖案區域1a接觸壓印材料時，使圖案區域1a具有平面形狀。控制單元11還可控制模具1與基板2之間的相對傾角(亦即，可控制壓印頭4)，以使圖案區域1a和基板2的表面隨著模具1和壓印材料之間的接觸面積被擴大而彼此平行。
在步驟S14中，控制單元11在模具1和壓印材料彼此接觸的狀態下控制固化單元6，以便用光照射壓印材料，從而固化壓印材料。在步驟S15中，控制單元11控制壓印頭4，以將模具1與基板2彼此分離，從而將模具1從固化的壓印材料分離(釋放)。這使得其能夠在目標投射區域上的壓印材料中形成符合模具1的圖案的三維形狀圖案。
在步驟S16中，控制單元11判斷是否存在在基板上連續地形成壓印材料的圖案的投射區域(下一個投射區域)。如果存在下一個投射區域，則處理返回到步驟S10。如果沒有下一個投射區域，則處理結束。
[確定模具與基板之間的目標相對傾角的方法]
一般而言，當模具1與基板上的壓印材料彼此接觸時，可在壓印設備100中執行模具1與基板2之間的相對傾角的伺服控制。然而，如果模具1與壓印材料在圖案區域1a被變形為凸出形狀的狀態下彼此接觸，則在模具1和壓印材料之間的接觸時可能會發生使模具1與基板2之 間的相對傾角波動的力矩(也稱為波動力)。如果發生這種力矩，則在模具1和壓印材料之間的接觸面積被擴大的同時，模具1與基板2會相對地擺動。結果，可能造成故障，例如未能以壓印材料充分地填充模具1的凹凸圖案中的凹部、或者壓印材料之填充時間的延長。還可能造成的故障為，例如，在基板2與被形成在壓印材料中的圖案的凹部之間的厚度(所謂的殘留層厚度(RLT))上所發展出來的不均勻性。
為了應付這種情形，本實施例的控制單元11產生表示模具1與基板2之間的相對傾角以及在模具1與壓印材料之間的接觸時使相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊(以下稱為“關於相對傾角的力矩資訊”)。接著，基於所產生的關於相對傾角的力矩資訊，在模具1和壓印材料之間的接觸時所產生的力矩落在允許範圍內時，模具1與基板2之間的相對傾角被確定為目標相對傾角。控制單元11藉由使用因此而確定的目標相對傾角來控制模具1與基板上的壓印材料之間的接觸。例如，控制單元11使模具1與基板2之間的相對傾角成為圖3的步驟S12中的目標相對傾角，並接著在圖3的步驟S13中開始模具1和壓印材料之間的接觸。這使得其能夠減少在模具1和壓印材料之間的接觸時所產生的力矩，並減少上述故障。
下面將描述確定模具1與基板2之間的目標相對傾角的方法。圖4是顯示確定模具1與基板2之間的目標相對傾角的方法的流程圖。可藉由使用，例如，與基 板2不同的第二基板(虛擬基板)來進行下述的各個步驟。在本實施例中，將假設壓印材料已經被供給(分配)到第二基板上來進行描述。然而，本發明不限於此，且壓印材料可以不被供給到第二基板上。在這種情況下，為了避免由於與第二基板的接觸而造成對模具1的損壞，較佳地係將緩衝材料(例如，黏附到壓印材料的黏附層)分配在第二基板上。在本實施例中，關於相對傾角的力矩資訊是藉由使用第二基板所產生的。然而，本發明不限於此。例如，關於相對傾角的力矩資訊可藉由使用基板2上的複數個投射區域當中的預定投射區域來產生。此外，每一個模具的傾向可以不同，且因此較佳的是，針對每一個模具產生關於相對傾角的力矩資訊。
在步驟S20中，控制單元11使得第一測量單元9在沿著X和Y方向移動基板載台3的同時去測量模具1的圖案區域上的複數個點的高度。變形單元5在此並未使圖案區域1a變形。在步驟S21中，控制單元11使得第二測量單元10在沿著X和Y方向移動基板載台3的同時去測量第二基板上的複數個點的高度。步驟S20和S21可在基板載台3的一次移動中同時被執行。
在步驟S22中，基於第一測量單元9和第二測量單元10的測量結果，控制單元11控制模具1和第二基板之間的相對傾角，以使第二基板與沒有被變形單元5所變形的模具1彼此平行。步驟S22藉由，例如，由壓印頭4改變模具1的傾角來執行。在本實施例中，在步驟 S22中，控制模具1和第二基板之間的相對傾角，以使它們彼此平行。然而，本發明不限於此。例如，控制單元11可基於第一測量單元9和第二測量單元10的測量結果來計算模具1和第二基板之間的相對傾角，並將計算出的相對傾角作為偏移值與要在後續的步驟中所確定的模具1與基板2之間的目標相對傾角相加。
針對模具1與第二基板之間的相對傾角互為不同的複數個狀態中的每一個狀態，步驟S23至S28是獲得在模具1與壓印材料之間的接觸時使模具1與第二基板(基板2)之間的相對傾角波動的力矩的步驟。注意，就再現性而言，較佳的是在步驟S24中，針對相對傾角的複數個狀態，使模具1和壓印材料在第二基板上的相同位置處彼此接觸。因此，較佳的是，藉由使用其上已被供給壓印材料的複數個第二基板，針對每一個相對傾角狀態執行步驟S23至S28。
在步驟S23中，控制單元11控制變形單元5，以將模具1的圖案區域1a變形為朝向第二基板突出的凸出形狀。在步驟S24中，控制單元11控制壓印頭4，以使模具1與第二基板在變形單元5使模具1的圖案區域1a變形的狀態下彼此更加靠近，從而執行使模具1和第二基板上的壓印材料彼此接觸的接觸處理。此時，控制單元11使模具1和壓印材料彼此接觸，同時基於設置在每一個致動器Z1至Z3中的位移感測器4b1中的檢測結果執行模具1的方位的伺服控制，以維持模具1和第二基板之 間的相對傾角。此外，控制單元11在接觸處理中的複數個時間點中的每一個時間點獲得設置在每一個致動器Z1至Z3中的力感測器4b2中的檢測結果。
在步驟S25中，基於力感測器4b2的檢測結果，控制單元11獲得在複數個時間點中的每一個時間點使模具1和第二基板之間的相對傾角波動的力矩。例如，藉由使用每一個致動器Z1至Z3的座標(X方向和Y方向的位置)，能夠藉由以下方程式獲得使模具1與第二基板之間圍繞X軸的相對傾角波動的力矩△Mx以及使模具1與第二基板之間圍繞Y軸的相對傾角波動的力矩△My：△Mx(t)=-aF1(t)-aF2(t)+bF3(t)…(1)
△My(t)=cF1(t)-cF2(t)…(2)其中，a、b和c表示各個致動器Z1至Z3的座標(見圖2)，F1、F2和F3表示設置在各個致動器Z1至Z3中的力感測器4b2中的檢測結果，且t表示時間。
藉由因此而獲得在每一個時間點(每次)的力矩，其能夠獲得如圖5所示之表示時間和力矩之間關係的資訊(以下稱為“關於時間的力矩資訊”)。如圖5所示，隨著模具1和第二基板上的壓印材料之間的接觸面積在模具1和壓印材料之間的接觸面積擴大的期間(模壓期間)而被擴大，力矩趨於收斂。此外，在不改變模具1和壓印材料之間的接觸面積的情況下用壓印材料填充模具1的凹凸圖案的凹部的期間(填充期間)，力矩變為幾乎恆 定的。
在步驟S26中，控制單元11基於關於時間的力矩資訊而獲得力矩的代表值。例如，在接觸處理的期間(模壓期間和填充期間)的預定時間的力矩的平均值、或接觸處理的期間的力矩可被使用來作為力矩的代表值。注意，如圖5所示，力矩在填充期間為相較於模壓期間更穩定的。因此，較佳的是，例如，使用在填充期間的預定時間的力矩的平均值、或填充期間的力矩來作為力矩的代表值。
在步驟S27中，控制單元11判斷是否針對模具1與第二基板之間的相對傾角互為不同的複數個狀態的每一個獲得了力矩的代表值。如果未針對相對傾角的複數個狀態的每一個獲得力矩的代表值，則控制單元11在步驟S28中改變模具1與第二基板之間的相對傾角，且接著處理返回到步驟S23。另一方面，如果針對相對傾角的複數個狀態的每一個獲得了力矩的代表值，則處理前進到步驟S29。注意，可以任意地設定相對傾角的複數個狀態的數量(亦即，步驟S23至S26的重複次數)。
在步驟S29中，基於針對相對傾角的複數個狀態的每一個所獲得的力矩的代表值，控制單元11產生關於相對傾角的力矩資訊。圖6是顯示關於相對傾角的力矩資訊的圖。可針對使模具1與第二基板之間圍繞X軸的相對傾角波動的力矩以及使模具1與第二模具2之間圍繞Y軸的相對傾角波動的力矩中的每一個來產生關於相對傾 角的力矩資訊。因此而產生的關於相對傾角的力矩資訊可被儲存在記憶體中。關於相對傾角的力矩資訊可藉由，例如，數學表達式(例如，藉由最小平方法(least square method)的第一級近似式)，而被儲存在記憶體中。
在步驟S30中，基於在步驟S28中所產生的關於相對傾角的力矩資訊，控制單元11獲得當每一個力矩落在允許範圍內時的相對傾角。例如，基於關於相對傾角的力矩資訊，控制單元11獲得當每一個力矩變成為允許值(Mx_opt)時的相對傾角(Tx_opt)。接著，所獲得的相對傾角被確定為當模具1和壓印材料彼此接觸時之模具1與基板2之間的目標相對傾角。每一個力矩的允許範圍可被設定為，例如，當在複數個致動器Z1至Z3中所產生的力之間的差落在目標範圍內時之力矩的範圍。每一個力矩的允許範圍較佳地可被設定為具有當在複數個致動器Z1至Z3中所產生的力之間的差變成為零時之力矩的值的範圍。或者，每一個力矩的允許範圍可被設定為具有當該力矩的最大值和最小值之間的差(力矩的變化)變成為最小的時之力矩的值的範圍。此外，每一個力矩的允許範圍可被設定為當被轉印到基板2上的圖案的變形落在目標範圍內時之力矩的範圍。藉由，例如，實驗、或模擬等，可獲得當變形落在目標範圍內時的力矩。
在本實施例中，已經描述了基於關於相對傾角的力矩資訊從每一個力矩的允許範圍來確定目標相對傾角的例子。然而，可能存在這樣的情況，例如，當獲得每 一個力矩的允許範圍時，藉由實驗等針對基板上的預定投射區域，在被轉印到基板2上的圖案的變形落在目標範圍內時之模具1與基板2之間的相對傾角被獲得。在此情況下，可針對預定投射區域將相對傾角設定為目標相對傾角，且基於如上所述地所產生的關於相對傾角的力矩資訊，可從所設定的目標相對傾角確定每一個力矩的允許值(允許範圍)。接著，如將在第二實施例中所描述的，當確定與複數個投射區域的每一個投射區域當中的預定投射區域不同的投射區域的目標相對傾角時，可使用因此而確定的力矩的允許值。
如上所述，本實施例的壓印設備100產生關於相對傾角的力矩資訊，並且基於此資訊，確定當每一個力矩落在允許範圍內時之模具1與基板2之間的相對傾角作為目標相對傾角。接著，藉由將模具1與基板2之間的相對傾角設定為目標相對傾角，壓印設備100開始模具1和壓印材料之間的接觸。這使得其能夠在接觸處理中減少故障(例如，未能以壓印材料充分地填充模具1的凹凸圖案之凹部、或者壓印材料之填充時間的延長)。
<第二實施例>
在壓印設備100中，在基板上的複數個投射區域中，在模具1與壓印材料之間的接觸時所產生的力矩可能會根據投射區域的位置而有所不同。尤其是，在模具1的整個圖案區域1a被轉印的投射區域(所謂的全部投射區域)以及僅模具的圖案區域1a的一部分被轉印的投射區域 (所謂的部分投射區域)之間，力矩可能大大地不同。因此，較佳的是，針對複數個投射區域中的每一個投射區域確定模具1與基板2之間的目標相對傾角。然而，針對複數個投射區域中的每一個投射區域產生關於相對傾角的力矩資訊是麻煩的。因此，在第二實施例中，將描述基於針對複數個投射區域當中的一個投射區域所產生的關於相對傾角的力矩資訊去獲得其他投射區域中的目標相對傾角的方法。
在下面的描述中，在複數個投射區域當中的第一投射區域中，已經藉由執行上述圖4所示的流程圖的各步驟產生關於相對傾角的力矩資訊。因此，將描述基於針對第一投射區域所產生的關於相對傾角的力矩資訊來確定與複數個投射區域當中的第一投射區域不同的第二投射區域的目標相對傾角的方法。
圖7是顯示基於針對第一投射區域的關於相對傾角的力矩資訊來確定第二投射區域的目標相對傾角的方法的流程圖。可以藉由使用，例如，不同於基板2的第二基板(虛擬基板)代替基板2來執行以下所述的各個步驟。注意，複數個投射區域以相同的佈局形成在基板2和第二基板之間。亦即，第一投射區域和第二投射區域中的基板上的位置在基板2和第二基板之間為分別相同的。
在步驟S40中，控制單元11控制基板載台3將第二投射區域佈置在模具1的圖案區域1a下方的第二基板上。在步驟S41中，控制單元11控制變形單元5， 以使模具1的圖案區域1a變形為朝向第二基板突出的凸出形狀。在步驟S42中，控制單元11控制壓印頭4，使得模具1與第二基板之間的相對傾角變成為針對第一投射區域所確定的目標相對傾角(Tx_opt)。
在步驟S43中，控制單元11控制壓印頭4，以使模具1和第二基板(第二投射區域)彼此更加靠近，並執行使模具1與第二投射區域上的壓印材料彼此接觸的接觸處理。此時，控制單元11使模具1和壓印材料彼此接觸，同時基於設置在每一個致動器Z1至Z3中的位移感測器4b1中的檢測結果執行模具1的方位的伺服控制，以維持模具1與第二基板之間的相對傾角。此外，控制單元11在接觸處理中的複數個時間點中的每一個時間點獲得設置在每一個致動器Z1至Z3中的力感測器4b2中的檢測結果。
在步驟S44中，基於力感測器4b2中的檢測結果，控制單元11藉由使用上述方程式(1)和(2)來獲得在複數個時間點中的每一個時間點使模具1與第二基板之間的相對傾角波動的力矩。這使得其能夠獲得針對第二投射區域的關於時間的力矩資訊。在步驟S45中，控制單元11基於關於時間的力矩資訊獲得力矩的代表值。力矩的代表值較佳地在與獲得針對第一投射區域的力矩的代表值的條件相同的條件下被獲得。將所獲得的力矩的代表值設定為第二投射區域的力矩M2。
在步驟S46中，基於針對第一投射區域所產 生的關於相對位置的力矩資訊，控制單元11將第一投射區域和第二投射區域之間的力矩差(△M)轉換為相對位置差(△T)。例如，與目標相對傾角(Tx_opt)對應的力矩是第一投射區域的目標值(Mx_opt)，且因此控制單元11獲得針對第二投射區域的力矩M2與目標值(Mx_opt)之間的差(△M)，如圖8所示。接著，根據關於相對位置的力矩資訊，控制單元11將差(△M)轉換為相對位置差(△T)，如圖8所示。在步驟S47中，藉由以在步驟S46中所獲得的相對位置差(△T)來校正針對第丁投射區域所確定的目標相對傾角(Tx_opt)，控制單元11確定第二投射區域的目標相對傾角。
如圖9所示，可以對包括全部投射區域51和部分投射區域52的所有投射區域執行根據圖7的流程圖之確定目標相對傾角的步驟。可針對圍繞X軸的相對傾角和圍繞Y軸的相對傾角中的每一個來確定目標相對傾角。這使得其能夠確定形成在基板2上的複數個投射區域中的每一個的目標相對傾角。注意，可以針對模壓期間和填充期間中的每一個來確定目標相對傾角。
<製造物品的方法的實施例>
根據本發明的實施例之製造物品的方法適於製造物品，例如，微裝置(例如，半導體裝置)或具有微結構的元件。使用壓印設備模製出來的固化產品的圖案被永久地用於各種物品的至少若干者、或暫時地在當製造各種物品時被使用。
物品包括電路元件、光學元件、MEMS、印刷元件、感測器、模具等。電路元件包括，例如，揮發性或非揮發性半導體記憶體(例如，DRAM、SRAM、快閃記憶體、或MRAM)、或半導體裝置(例如，LSI、CCD、影像感測器、或FPGA)。模具包括，例如，壓印模具。固化物體的圖案被沒有任何變化地用作為至少上述某些物品的構成構件、或暫時地用作為抗蝕劑遮罩。在基板的處理步驟中執行蝕刻、或離子注入等之後去除抗蝕劑遮罩。
根據本實施例的製造物品的方法包括使用上述壓印設備在被分配到基板上的樹脂上形成圖案的步驟(在基板上執行壓印處理的步驟)，以及處理在前述步驟中已形成有圖案的基板的步驟。此製造方法還包括其他已知的步驟(氧化、沉積、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑移除、切割、結合、封裝等)。根據本實施例的製造物品的方法在物品的性能、品質、生產率和生產成本中的至少一個方面上較傳統方法更為優異。
<其他實施例>
本發明的實施例還可以藉由系統或裝置的計算機來實現，此系統或裝置的計算機讀出並執行記錄在儲存媒體(亦可更完整地稱為“非暫時性計算機可讀儲存媒體”)上的計算機可執行指令(例如，一個或更多個程式)以執行上述實施例中的一個或更多個的功能、及/或包括用於執行上述實施例中的一個或更多個的功能的一個或更多個電路(例如，特定應用積體電路(application specific integrated circuit，ASIC))，並且，本發明的實施例還可以藉由以系統或裝置的計算機所執行的方法來實現，系統或裝置的計算機藉由，例如，讀出並執行來自儲存媒體的計算機可執行指令以執行上述實施例中的一個或更多個個的功能、及/或控制一個或更多個電路以執行上述實施例中的一個或更多個的功能，來執行此方法。計算機可包括一個或更多個處理器(例如，中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU))，且可包括分開的計算機或分開的處理器的網路，以讀出並執行計算機可執行指令。計算機可執行指令可從，例如，網路或儲存媒體，被提供給計算機。儲存媒體可包括，例如，硬碟、隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、分散式計算系統(distributed computing system)的儲存器、光碟(例如，壓縮光碟(CD)、數位化多功能光碟(DVD)或藍光光碟(BD)TM)、快閃記憶體裝置、記憶卡等中的一個或多個。
雖然已經參照例示性實施例描述了本發明，但應理解的是，本發明不限於所揭露的例示性實施例。以下申請專利範圍的範疇應被賦予最寬廣的解釋，以涵蓋所有這類型的修改以及等效的結構和功能。
1‧‧‧模具
1a‧‧‧圖案區域
1b‧‧‧空腔
2‧‧‧基板
3‧‧‧基板載台
3a‧‧‧基板保持單元
3b‧‧‧基板驅動單元
4‧‧‧壓印頭
4a‧‧‧模具保持單元
4b‧‧‧模具驅動單元
5‧‧‧變形單元
5a‧‧‧管
6‧‧‧照射單元
7‧‧‧供給單元
8‧‧‧攝像單元
9‧‧‧第一測量單元
10‧‧‧第二測量單元
11‧‧‧控制單元
12‧‧‧分束器
13‧‧‧中繼光學系統
100‧‧‧壓印設備

Claims (11)

  1. 一種壓印設備，其藉由使用模具在基板上形成壓印材料的圖案，該壓印設備包括：變形單元，其被構造為使該模具變形為朝向該基板突出的凸出形狀；以及控制單元，其被構造來控制藉由該變形單元使該模具變形以及使該模具與該壓印材料彼此接觸的處理，其中，該控制單元基於表示該模具與該基板之間的相對傾角以及在該模具與該壓印材料之間的接觸時使該相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊，確定該模具與該基板之間的目標相對傾角，使得在該模具與該壓印材料之間的該接觸時所產生的力矩落在允許範圍內，並且在將該模具與該基板之間的該相對傾角設定為該目標相對傾角之後，開始該模具與該壓印材料之間的接觸。
  2. 如申請專利範圍第1項的壓印設備，其中，該基板包括複數個投射區域，並且該控制單元基於該資訊，針對每一個投射區域確定該模具與該基板之間的該目標相對傾角。
  3. 如申請專利範圍第2項的壓印設備，其中，該複數個投射區域包括第一投射區域和第二投射區域，並且該控制單元基於該資訊，將該第一投射區域與該第二投射區域之間的力矩差轉換為相對傾角差，並藉由利用該相對傾角差校正針對該第一投射區域所確定的目標相對傾 角，來確定針對該第二投射區域的目標相對傾角。
  4. 如申請專利範圍第1項的壓印設備，其中，藉由針對在該模具與該基板之間的相對傾角為不同的之複數個狀態中的每一個狀態，獲得在該模具與該壓印材料之間的該接觸時所產生的該力矩，該控制單元產生該資訊。
  5. 如申請專利範圍第4項的壓印設備，還包括：驅動單元，其包括複數個致動器，且被構造來驅動該模具和該基板中的至少一者，以使該模具與該基板彼此接觸；以及感測器，其被構造為檢測在該複數個致動器中的每一個致動器中所產生的力，其中，該控制單元針對該複數個狀態中的每一個狀態，從該感測器中的檢測結果獲得力矩。
  6. 如申請專利範圍第5項的壓印設備，其中，該允許範圍是當在該複數個致動器中所產生的該等力之間的差落在目標範圍內時的該力矩的範圍。
  7. 如申請專利範圍第4項的壓印設備，其中，該控制單元針對每一個模具產生該資訊。
  8. 如申請專利範圍第1項的壓印設備，其中，該允許範圍是當形成在該基板上的該壓印材料的圖案的變形落在目標範圍內時的該力矩的範圍。
  9. 如申請專利範圍第1項的壓印設備，其中，該控制單元控制該模具與該壓印材料之間的接觸，以維持該模具與該基板之間的該相對傾角。
  10. 一種製造物品的方法，該方法包括：使用壓印設備在基板上形成圖案；對已形成有該圖案的該基板進行處理，以製造該物品，其中，該壓印設備藉由使用模具在該基板上形成該壓印材料的該圖案，且包括：變形單元，其被構造為使該模具變形為朝向該基板突出的凸出形狀；以及控制單元，其被構造來控制藉由該變形單元使該模具變形以及使該模具與該壓印材料彼此接觸的處理，其中，該控制單元基於表示該模具與該基板之間的相對傾角以及在該模具與該壓印材料之間的接觸時使該相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊，確定該模具與該基板之間的目標相對傾角，使得在該模具與該壓印材料之間的該接觸時所產生的力矩落在允許範圍內，並且在將該模具與該基板之間的該相對傾角設定為該目標相對傾角之後，開始該模具與該壓印材料之間的接觸。
  11. 一種壓印方法，其藉由使用模具在基板上形成壓印材料的圖案，該壓印方法包括：基於表示該模具與該基板之間的相對傾角以及在該模具與該壓印材料之間的接觸時使該相對傾角波動的力矩之間的關係的資訊，確定該模具與該基板之間的目標相對傾角，使得在該模具與該壓印材料之間的該接觸時所產生的 力矩落在允許範圍內；以及使該模具變形為朝向該基板突出的凸出形狀，並在將該模具與該基板之間的該相對傾角設定為在該確定步驟中所確定的該目標相對傾角之後，開始該模具與該壓印材料之間的接觸。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6942491B2 (ja) * 2016-03-15 2021-09-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
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JP7150535B2 (ja) * 2018-09-13 2022-10-11 キヤノン株式会社 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
JP7341769B2 (ja) * 2019-07-24 2023-09-11 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP7309572B2 (ja) * 2019-11-08 2023-07-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
US11759994B2 (en) 2019-07-24 2023-09-19 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
JP7414627B2 (ja) 2020-04-15 2024-01-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US11869813B2 (en) 2020-12-15 2024-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Planarization apparatus, planarization process, and method of manufacturing an article

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080160129A1 (en) * 2006-05-11 2008-07-03 Molecular Imprints, Inc. Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template
US6871558B2 (en) 2002-12-12 2005-03-29 Molecular Imprints, Inc. Method for determining characteristics of substrate employing fluid geometries
US7636999B2 (en) 2005-01-31 2009-12-29 Molecular Imprints, Inc. Method of retaining a substrate to a wafer chuck
CN100503265C (zh) 2005-06-08 2009-06-24 佳能株式会社 模子、图案形成方法以及图案形成设备
JP4736821B2 (ja) 2006-01-24 2011-07-27 株式会社日立製作所 パターン形成方法およびパターン形成装置
TWI388418B (zh) * 2008-10-09 2013-03-11 Hitachi Ind Equipment Sys Precision imprinting device and its embossing load control method
KR20100135353A (ko) 2009-06-17 2010-12-27 주식회사 동진쎄미켐 임프린트 또는 롤-프린트 리소그래피용 스탬프 제조장치 및 제조방법
JP5822597B2 (ja) * 2010-10-01 2015-11-24 キヤノン株式会社 インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法
JP6061524B2 (ja) 2011-08-11 2017-01-18 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP5893303B2 (ja) * 2011-09-07 2016-03-23 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
KR101737680B1 (ko) * 2011-12-20 2017-05-18 가부시키가이샤 니콘 기판 처리 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법
JP6166516B2 (ja) * 2012-07-17 2017-07-19 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP2015050437A (ja) * 2013-09-04 2015-03-16 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6363838B2 (ja) 2014-01-08 2018-07-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP2016021440A (ja) * 2014-07-11 2016-02-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6472189B2 (ja) * 2014-08-14 2019-02-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6553926B2 (ja) 2015-04-09 2019-07-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6748461B2 (ja) 2016-03-22 2020-09-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント装置の動作方法および物品製造方法

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