TW201736882A - 積層膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供一種偏光度優異之積層膜之製造方法。本發明之積層膜的製造方法之一態樣，係包含：第1測定步驟，其係測定偏光片之吸收軸的角度；第2測定步驟，其係相對於預定方向，測定相位差膜之進相軸的角度；選擇步驟，其係以使吸收軸與進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從偏光膜與相位差膜中選擇要互相貼合之貼合面；相位差膜貼合步驟，其係在偏光膜之貼合面貼合相位差膜之貼合面；其中，在前述相位差膜貼合步驟中，使前述偏光膜之長度方向與前述相位差膜之長度方向一致，而將前述相位差膜貼合在前述偏光膜。

Description

積層膜之製造方法
本發明係關於積層膜之製造方法。
已知一種在由聚乙烯醇(PVA：PolyVinyl Alcohol)系樹脂所形成之偏光片貼合相位差板之構成(例如專利文獻1)。此種積層膜係使用於個人電腦、TV、監視器、行動電話及PDA(Personal Digital Assistant)等之液晶顯示裝置。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本特開2011-186481號公報
在如上述之積層膜中，偏光片之吸收軸與相位差板(相位差膜)之進相軸產生偏移，有偏光度降低之問題。因此，將積層膜使用於液晶顯示裝置等之時，有液晶顯示裝置之對比降低之問題。
有鑑於上述問題點，本發明之一態樣之目的 係提供偏光度優異之積層膜之製造方法。
本發明之積層膜的製造方法之一態樣，係具備包含在聚乙烯醇系樹脂中配向有二色性色素之偏光片的偏光膜、及貼合於前述偏光膜之相位差膜的積層膜之製造方法，該製造方法包含：偏光膜準備步驟，其係準備前述偏光膜；相位差膜準備步驟，其係準備前述相位差膜；第1測定步驟，其係相對於與積層前述偏光膜及前述相位差膜之積層方向正交之預定方向，測定前述偏光片之吸收軸的角度；第2測定步驟，其係相對於前述預定方向，測定前述相位差膜之進相軸的角度；選擇步驟，其係在前述偏光膜與前述相位差膜中之互相對向地貼合之部分，以使前述吸收軸與前述進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從前述偏光膜與前述相位差膜中選擇要互相貼合之貼合面；以及相位差膜貼合步驟，其係在前述偏光膜之前述貼合面貼合前述相位差膜之前述貼合面；其中，在前述相位差膜貼合步驟中，從捲繞有帶狀之前述偏光膜的原料捲筒捲出前述偏光膜，並從捲繞有帶狀之前述相位差膜之原料捲筒捲出前述相位差膜，同時使前述偏光膜之長度方向與前述相位差膜之長度方向一致，而將前述相位差膜貼合在前述偏光膜。
本發明之積層膜的製造方法之一態樣，係具備包含在聚乙烯醇系樹脂中配向有二色性色素之偏光片的偏光膜、及貼合於前述偏光膜之相位差膜的積層膜之製造 方法，該製造方法包含：偏光膜準備步驟，其係準備前述偏光膜；相位差膜準備步驟，其係準備前述相位差膜；第1測定步驟，其係相對於與積層前述偏光膜及前述相位差膜之積層方向正交之預定方向，測定前述偏光片之吸收軸的角度；第2測定步驟，其係相對於前述預定方向，測定前述相位差膜之慢軸的角度；選擇步驟，其係在前述偏光膜及前述相位差膜中要互相對向地貼合之部分，以使前述吸收軸與前述慢軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從前述偏光膜與前述相位差膜中選擇要互相貼合之貼合面；以及相位差膜貼合步驟，其係在前述偏光膜之前述貼合面貼合前述相位差膜之前述貼合面；其中，在前述相位差膜貼合步驟中，從捲繞有帶狀之前述偏光膜的原料捲筒捲出前述偏光膜，並從捲繞有帶狀之前述相位差膜之原料捲筒捲出前述相位差膜，同時使前述偏光膜之長度方向與前述相位差膜之長度方向一致，而將前述相位差膜貼合在前述偏光膜。
該製造方法亦可如下：前述預定角度為0.24°。
該製造方法亦可如下：在前述選擇步驟中，以使前述相對角度成為未達前述預定角度之方式，選擇前述貼合面之貼合的方向，在前述相位差膜貼合步驟中，依據所選擇之前述貼合的方向，將前述相位差膜之前述貼合面貼合於前述偏光膜之前述貼合面。
該製造方法亦可如下：前述偏光膜準備步驟係形成前述偏光膜之偏光膜形成步驟，前述偏光膜形成步 驟包含：偏光片形成步驟，其係形成前述偏光片；以及保護膜貼合步驟，其係在前述偏光片貼合保護膜；前述第1測定步驟係設置在前述偏光片形成步驟之後，且較前述保護膜貼合步驟之前。
該製造方法亦可如下：前述第1測定步驟係設置在前述偏光膜準備步驟之後，且較前述選擇步驟之前。
該製造方法亦可如下：在前述相位差膜準備步驟中，準備複數之前述相位差膜，在前述選擇步驟中，前述相位差膜之前述貼合面係從複數之前述相位差膜的兩面之中選擇者。
該製造方法亦可如下：在前述偏光膜準備步驟中，準備複數之前述偏光膜，在前述選擇步驟中，前述偏光膜之前述貼合面係從複數之前述偏光膜的兩面之中選擇者。
該製造方法亦可如下：在前述第1測定步驟中，沿著前述偏光膜之寬度方向在複數處進行測定，在前述第2測定步驟中，沿著前述相位差膜之寬度方向在複數處進行測定，在前述選擇步驟中，在前述偏光膜與前述相位差膜中要互相對向地貼合之部分中之複數處，以使前述相對角度成為未達前述預定角度之方式選擇前述貼合面。
若依據本發明之一態樣，可提供偏光度優異之積層膜之製造方法。
1‧‧‧偏光膜
1a‧‧‧偏光膜內側面
1b‧‧‧偏光膜外側面
1c‧‧‧長度方向之一端
10‧‧‧偏光片
10a‧‧‧下表面
10b‧‧‧上表面
11‧‧‧保護膜
13‧‧‧相位差膜
13a‧‧‧相位差膜內側面
13b‧‧‧相位差膜外側面
12、14‧‧‧接著層
20‧‧‧基材膜
33‧‧‧樹脂層用塗佈液
34‧‧‧樹脂層
42‧‧‧塗佈裝置
52‧‧‧乾燥爐
60‧‧‧延伸裝置
70‧‧‧積層
71‧‧‧偏光性積層體
90‧‧‧測定器
100‧‧‧積層膜
101、113、201‧‧‧原料捲筒
A1、A2、A3‧‧‧吸收軸
AD1、FD1‧‧‧第1部分
AD2、FD2‧‧‧第2部分
AD3、FD3‧‧‧第3部分
CD‧‧‧中央部分
F1、F2、F3‧‧‧進相軸
LD‧‧‧左側部分
RD‧‧‧右側部分
S11、S21‧‧‧偏光膜準備步驟
S11a‧‧‧樹脂層形成步驟
S11b‧‧‧延伸步驟
S11c‧‧‧染色步驟
S11d、S22‧‧‧吸收軸測定步驟(第1測定步驟)
S11e‧‧‧保護膜貼合步驟
S11f‧‧‧偏光片形成步驟
S12‧‧‧相位差膜準備步驟
S13‧‧‧進相軸測定步驟(第2測定步驟)
S14‧‧‧選擇步驟
S15‧‧‧相位差膜貼合步驟
第1圖係表示本實施形態之積層膜的剖面圖。
第2圖係表示第1實施形態之積層膜的製造方法的順序之流程圖。
第3圖係表示第1實施形態中之偏光膜準備步驟的順序之示意圖。
第4圖係表示有關第1實施形態中之相位差膜貼合步驟之順序的立體圖。
第5圖係表示圖4中之積層膜的平面圖。
第6圖係表示有關第1實施形態中之相位差膜貼合步驟之另一順序的立體圖。
第7圖係表示圖6中之積層膜的平面圖。
第8A圖係用以說明有關原料捲筒之重新捲繞之說明圖。
第8B圖係用以說明有關原料捲筒之重新捲繞之說明圖。
第8C圖係用以說明有關原料捲筒之重新捲繞的說明圖。
第9圖係表示第2實施形態之積層膜的製造方法之順序的流程圖。
以下，一邊參照圖式，一邊說明有關本發明之實施形態的積層膜之製造方法。又，本發明之範圍不限定於以下之實施形態，可在本發明之技術思想範圍內任意 變更。此外，在以下之圖式中，為了容易了解各構成，有時會使各構造中之比例尺及數量等與實際構造中之比例尺及數量等相異。
首先，說明有關在本實施形態中製造之積層膜100。第1圖表示本實施形態之積層膜100的剖面圖。如第1圖，積層膜100具備偏光膜1、相位差膜13、及接著層14。偏光膜1、接著層14、及相位差膜13係被依序積層。雖圖示省略，但本實施形態之積層膜100為長條帶狀。積層膜100可舉例如被捲取於芯材而作為原料捲筒保管等者。
又，在以下之說明中，有時將積層膜100中將各層積層之方向簡稱為「積層方向」，有時將積層膜100中與積層方向正交之長度方向簡稱為「長度方向(第1方向)」，有時將積層膜100中與積層方向及長度方向之兩者正交之寬度方向簡稱為「寬度方向(第2方向)」。
此外，在圖式中，表示適宜3維正交座標系(XYZ座標系)。在3維正交座標系中，Z軸方向為與積層方向平行之方向，Y軸方向為與寬度方向平行之方向，X軸方向為與長度方向平行之方向。此外，以下之說明中，在積層方向中，有時將Z軸方向為正之側稱為「上側」，有時將Z軸方向為負之側稱為「下側」。此外，在寬度方向中，有時將Y軸方向為正之側稱為「右側」，有時將Y軸方向為負之側稱為「左側」。所謂上側、下側、右側及左側係僅用以說明各部之相對位置關係所使用之名稱，不限 定積層膜之製造時之各部的位置、積層膜之實際位置、及積層膜之使用態樣等。
偏光膜1具備偏光片10、保護膜11、及接著層12。偏光片10、接著層12、及保護膜11係被依序積層。
偏光片10係在聚乙烯醇系樹脂中配向有二色性色素之層。本實施形態中偏光片10之吸收軸係例如沿著長度方向配置，而偏光片10之穿透軸係例如沿著寬度方向配置。
又，在本說明書中，所謂某軸沿著某方向而配置，係除了某軸之軸方向與某方向為嚴謹地平行之情形，亦包含某軸之軸方向與某方向為略平行之情形。亦即，例如所謂偏光片10之吸收軸沿著長度方向而配置，係包含偏光片10之吸收軸的軸方向與長度方向略平行。所謂某軸之軸方向與某方向為略平行，係某軸之軸方向與某方向所夾之角度包含例如±15°以內左右。
偏光片10之作為形成材料的聚乙烯醇系樹脂可舉例如聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇樹脂衍生物、及聚乙烯醇樹脂衍生物之改質物等。聚乙烯醇樹脂衍生物可舉例如聚乙烯基甲醛、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基縮丁醛等。聚乙烯醇樹脂衍生物之改質物可舉例如上述之聚乙烯醇樹脂衍生物經下述改質者：乙烯、丙烯等烯烴；丙烯酸酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸；不飽和羧酸之烷基酯；或丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係以100以 上、10000以下為較佳，以1000以上、10000以下為更佳，以1500以上、8000以下為再更佳，以2000以上、5000以下為最佳。因為聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度未達100時，會難以獲得適當的光學特性，而大於10000時，對水之溶解性變低，會難以製作後述之樹脂層用塗佈液33之故。在本說明書中，聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係藉由根據例如JIS K 6727(1994)所規定之方法而求取。
偏光片10之作為形成材料的聚乙烯醇系樹脂係以經皂化者為較佳。聚乙烯醇系樹脂之皂化度係以80.0莫耳%以上、100.0莫耳%以下為較佳，以90.0莫耳%以上、99.5%莫耳以下為更佳，以93.0莫耳%以上、99.5莫耳%以下為再更佳。因為聚乙烯醇系樹脂之皂化度未達80莫耳%時，會難以獲得適當的光學特性之故。
又，所謂聚乙烯醇系樹脂之皂化度係指聚乙烯醇系樹脂之作為原料的聚乙酸乙烯酯系樹脂中所含之乙酸基因皂化步驟而改變成羥基之比率以莫耳%表示者，以下述之(式1)定義。
(式1)皂化度(莫耳%)=(羥基之數)÷(羥基之數+乙酸基之數)×100
在本說明書中，聚乙烯醇系樹脂之皂化度可藉由根據例如JIS K 6727(1994)所規定之方法而求取。
在偏光片10中，亦可含有塑化劑、界面活性劑等之添加劑。塑化劑可舉例如多元醇及多元醇之縮合物。多元醇及多元醇之縮合物可舉例如甘油、二甘油、三 甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。偏光片10中之塑化劑的含量無特別制限，但可舉例如以20質量%以下為較佳。
偏光片10之厚度無特別限定，可舉例如3μm以上、50μm以下，較佳為5μm以上、15μm以下。又，在本說明書中，所謂某膜(層)之厚度為某膜(層)之積層方向的尺寸，亦包含某膜(層)之平均厚度。亦即，所謂偏光片之厚度亦包含偏光片之平均厚度。
在聚乙烯醇系樹脂中所配向之二色性色素可舉例如碘、有機染料等。
保護膜11係隔著接著層12而貼合於偏光片10之下表面10a。
保護膜11可為不具有光學機能之一般的保護膜，亦可為一併具有如增亮膜之光學機能的保護膜。
保護膜11之形成材料無特別限定，而可舉例如環狀聚烯烴系樹脂膜；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素等由樹脂所構成之乙酸纖維素系樹脂膜；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等由樹脂所構成之聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；丙烯酸系樹脂膜；及聚丙烯系樹脂膜等。
環狀聚烯烴系樹脂膜可為經單軸延伸者，亦可為經二軸延伸者。藉由延伸，可對環狀聚烯烴系樹脂膜賦予任意之相位差。
環狀聚烯烴系樹脂膜一般表面活性差。因此，保護膜11為環狀聚烯烴系樹脂膜時，在保護膜11中之與 偏光片10接著之下表面，較佳係進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理等之表面處理。特別以可比較容易實施之電漿處理、電暈處理為適宜。
保護膜11為乙酸纖維素系樹脂膜之時，為了改善視角特性，在保護膜11之表面可形成液晶層等。此外，為了賦予相位差，保護膜11可為乙酸纖維素系樹脂膜經延伸者。保護膜11為乙酸纖維素系樹脂膜時，為了提高與偏光膜1之接著性，在保護膜11之下表面通常係施予皂化處理。皂化處理可採用浸漬於如氫氧化鈉及氫氧化鉀之鹼性水溶液中之方法。
在保護膜11之表面亦可形成硬塗層、防眩層、抗反射層等之光學層。在保護膜11之表面形成此等光學層之方法無特別限定，可使用公知之方法。
從薄型化之要求來看，保護膜11之厚度盡可能以薄者為較佳，以90μm以下為較佳，以50μm以下為更佳。若保護膜11之厚度太薄，則保護膜11之強度會降低而加工性差，故保護膜11之厚度以5μm以上為較佳。
接著層12係積層於偏光片10之下表面10a。接著層12係使偏光片10與保護膜11互相接著之層。接著層12之形成材料較佳可舉例如水系接著劑、紫外硬化型接著劑及電子束硬化型接著劑等，以水系接著劑為更佳。水系接著劑可舉例如聚乙烯醇系樹脂之水溶液、於聚乙烯醇系樹脂之水溶液中調配一般的交聯劑而成之水溶液、及胺 基甲酸酯系乳化液接著劑等。此外，接著層12之形成材料中可含有金屬化合物填充劑。
圖示雖省略，但在偏光片10之上表面10b亦可設置有底漆層。底漆層係在後述之偏光膜準備步驟S11中為提升基材膜20與樹脂層34之密著力所設置之層。底漆層係由包含可提升上述密著力之成分的樹脂所形成者。形成底漆層之樹脂較佳係透明性、熱安定性、延伸性等優異之熱塑性樹脂。形成底漆層之樹脂可舉例如(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。特別是，形成底漆層之樹脂係以聚乙烯醇系樹脂為較佳。因為可良好地得到後述之基材膜20與樹脂層34之密著力之故。
作為形成底漆層之樹脂所使用之聚乙烯醇系樹脂，可選擇與上述之偏光片10的聚乙烯醇系樹脂同樣者。形成底漆層之樹脂可與偏光片10之聚乙烯醇系樹脂相同，亦可為相異。
底漆層之厚度可舉例如以0.05μm以上、1μm以下為較佳，以0.1μm以上、0.4μm以下為更佳。因為底漆層之厚度小於0.05μm時，後述之基材膜20與樹脂層34之密著力會變小，大於1μm時，所製造之積層膜100之厚度容易變大之故。
相位差膜13係隔著接著層14而貼合在偏光膜1者。更詳細而言，相位差膜13係隔著接著層14而貼合在偏光片10之上表面10b。相位差膜13係具有對通過之光賦予相位差之機能。相位差膜13之進相軸係例如沿著 長度方向而配置，而相位差膜13之慢軸係例如沿著寬度方向而配置。亦即，本實施形態中相位差膜13之進相軸與偏光片10之吸收軸係沿著相同方向(長度方向)而配置。本實施形態中，偏光片10之吸收軸與相位差膜13之進相軸之相對角度例如為未達0.24°。
又，本說明書中，偏光片之吸收軸與相位差膜之進相軸之相對角度係包含：相對於預定方向之偏光片之吸收軸的角度、與相對於預定方向之相位差膜之進相軸的角度之間的差的絶對值。
相位差膜13較佳係由透明性優異且可藉由延伸而顯現適當的相位差值之樹脂所形成。形成相位差膜13之樹脂係可舉例如三乙醯基纖維素(TAC)系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；(甲基)丙烯酸酯系樹脂；環狀聚烯烴系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；及聚醯胺系樹脂等。
藉由將由上述之樹脂所構成之膜以單軸或二軸等之適當方式進行延伸，可獲得賦予適當相位差之相位差膜13。
相位差膜13可為1/4波長板及1/2波長板等波長板，亦可為視角補償膜。相位差膜13之厚度為20μm以上、200μm以下左右，以20μm以上、120μm以下為較佳。
接著層14可隔著未圖示之底漆層而積層在偏 光片10之上表面10b。接著層14係使偏光片10與相位差膜13互相接著之層。接著層14之形成材料例如可使用與接著層12同樣之形成材料。接著層12之形成材料與接著層14之形成材料可為相同，亦可為相異。
接著層14之形成材料係以例如會因照射活性化能量而硬化者為較佳，以會因照射紫外線光作為活性化能量而硬化之紫外線硬化性樹脂為更佳。紫外線硬化性樹脂係以使用含有環氧化合物及陽離子聚合起始劑，且被照射活性化能量(紫外線光)時藉會因陽離子聚合而硬化者為較佳。
其次，說明有關本實施形態之積層膜100之製造方法。
<第1實施形態>
第2圖係表示本實施形態之積層膜100的製造方法之順序的流程圖。本實施形態之積層膜100之製造方法係如第2圖所示，包含：偏光膜準備步驟S11、相位差膜準備步驟S12、進相軸測定步驟(第2測定步驟)S13、選擇步驟S14、及相位差膜貼合步驟S15。
偏光膜準備步驟S11係準備偏光膜1之步驟。本實施形態中，偏光膜準備步驟S11係形成偏光膜1之偏光膜形成步驟。偏光膜準備步驟S11係包含：樹脂層形成步驟S11a、延伸步驟S11b、染色步驟S11c、吸收軸測定步驟(第1測定步驟)S11d、及保護膜貼合步驟S11e。樹 脂層形成步驟S11a、延伸步驟S11b及染色步驟S11c係構成形成偏光片10之偏光片形成步驟S11f。
第3圖係表示偏光膜準備步驟S11之順序的示意圖。如第3圖所示，本實施形態中，係將原料捲筒狀之基材膜20藉由夾持輥及搬送輥朝長度方向搬送，同時製造偏光膜1。又，第3圖中各步驟係連續地進行，但亦可在每當各步驟終止時便將膜捲繞成捲筒狀，再搬送至下個步驟。
有關基材膜20之材質，只要是可在延伸步驟S11b中與後述之樹脂層34一起延伸者，便無特別限定。基材膜20之材質例如熱塑性樹脂。作為基材膜20之材質所使用的熱塑性樹脂較佳係透明性、機械強度、熱安定性、及延伸性等優異者。
具體而言，作為基材膜20之材質所使用的熱塑性樹脂係可舉例如：鎖狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降茨烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；及此等樹脂之混合物、共聚物等。
基材膜20係由上述之熱塑性樹脂之中1種或2種以上之熱塑性樹脂所構成。基材膜20可為單層構造，亦可為多層構造。
基材膜20之厚度係無特別限定，但從強度及操作性等之觀點，以1μm以上、500μm以下為較佳，以1μm以上、300μm以下為更佳，以5μm以上、200μm以下為再更佳，以5μm以上、150μm以下為最佳。基材膜20之寬度方向之尺寸例如為500mm以上。
基材膜20之長度方向之拉伸彈性模數係以例如在80℃時為140MPa以上為較佳。基材膜20之長度方向之拉伸彈性模數係以在80℃時為150MPa以上為更佳，以155MPa以上為再更佳。此係為了在後述乾燥步驟中抑制基材膜20之熱收縮。本說明書中，基材膜20之長度方向之拉伸彈性模數係藉由例如Autograph(註冊商標)(島津製作所股份有限公司製、型號：AG-IS)而測定。具體上係依據JIS K 7163而測定。
樹脂層形成步驟S11a係在基材膜20上形成以聚乙烯醇系樹脂作為形成材料之樹脂層34的步驟。亦可先在基材膜20上形成未圖示之底漆層。底漆層係藉由使已塗佈於基材膜20上之底漆層用塗佈液乾燥來形成。
底漆層用塗佈液係例如使形成上述底漆層之樹脂粉末溶解於溶劑中而得之樹脂溶液。底漆層用塗佈液之溶劑係可舉例可溶解上述樹脂之有機溶劑及水系溶劑等。有機溶劑係可舉例如：苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸異丁酯等酯類；二氯甲烷、三氯乙烷、氯仿等氯化烴類；及乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇類。底漆層用塗佈液 之溶劑係以例如水為較佳。因為其不受基材膜20之材質的影響，不容易溶解基材膜20且可減小對於環境之影響。底漆層用塗佈液中之樹脂之濃度係以1質量%以上、25質量%以下左右為較佳。
底漆層用塗佈液之塗佈方法只要係可於基材膜20上塗佈底漆層用塗佈液者即可，無特別限定。底漆層用塗佈液之塗佈方法係可舉例如線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、模縫塗佈法、缺角輪塗佈法、模唇塗佈法、網版塗佈法、噴灑式塗佈法、浸漬法、噴塗法等。
可依照各塗佈方法，選擇塗佈底漆層用塗佈液之塗佈裝置。
使用未圖示之乾燥爐而使塗佈之底漆層用塗佈液乾燥。在乾燥爐內係藉由例如吹送熱風等，對底漆層用塗佈液加熱，而使底漆層用塗佈液乾燥而硬化。藉此，形成底漆層。
使底漆層用塗佈液乾燥之乾燥爐只要係可使底漆層用塗佈液乾燥者即可，無特別限定。乾燥爐中之乾燥溫度例如為50℃以上、200℃以下，以60℃以上、150℃以下為較佳。乾燥爐中之乾燥溫度可依照底漆層用塗佈液中所含之溶劑之種類而適宜設定。底漆層用塗佈液之溶劑含有水時，乾燥爐之乾燥溫度係以80℃以上為較佳。乾燥時間例如為30秒以上、20分鐘以下左右。
形成底漆層之後，使用塗佈裝置42，隔著底漆層而於基材膜20上塗佈樹脂層用塗佈液33。樹脂層用 塗佈液33係例如使聚乙烯醇系樹脂之粉末溶解於溶劑中而得之聚乙烯醇系樹脂溶液。作為聚乙烯醇系樹脂係如偏光片10之形成材料說明中所述者。
樹脂層用塗佈液33之溶劑例如為水。樹脂層用塗佈液33中之聚乙烯醇系樹脂之濃度係以5質量%以上為較佳，以5質量%以上、15質量%以下為更佳，以5質量%以上、10質量%以下為再更佳。樹脂層用塗佈液33中之聚乙烯醇系樹脂之濃度未達5質量%之時，因樹脂層用塗佈液33中之液體成分之比例變多，故有時使脂層用塗佈液33乾燥之效率會降低。此外，樹脂層用塗佈液33中之聚乙烯醇系樹脂之濃度為15質量%以上之時，有時樹脂層用塗佈液33之黏度變得過大，難以塗佈樹脂層用塗佈液33。
樹脂層用塗佈液33之黏度只要係容易塗佈於基材膜20上，且在基材膜20上所形成之樹脂層用塗佈液33之層之厚度不容易產生不均的範圍內即可，無特別限定。樹脂層用塗佈液33之黏度係以塗佈於基材膜20上之時例如為0.5Pa‧s以上、10Pa‧s以下為較佳，以0.8Pa‧s以上、7Pa‧s以下為更佳，以1Pa‧s以上、5Pa‧s以下為再更佳。
樹脂層用塗佈液33之黏度為未達0.5Pa‧s時，有時所塗佈之樹脂層用塗佈液33會流動而使樹脂層34之厚度精度降低。此外，樹脂層用塗佈液33之黏度大於10Pa‧s時，因可使用在塗佈樹脂層用塗佈液33之塗佈裝置42 中之過濾器會受到制限等，有時所形成之樹脂層34之品質會降低。
又，樹脂層用塗佈液33之黏度係只要在塗佈於基材膜20上時為上述數值範圍內即可。因此，例如在貯存有與塗佈裝置42連接之樹脂層用塗佈液33之槽(未圖示)內，樹脂層用塗佈液33之黏度可為上述數值範圍外。此時，例如藉由將樹脂層用塗佈液33加溫或冷卻，可使樹脂層用塗佈液33之黏度設為上述數值範圍內。
樹脂層用塗佈液33亦可包含塑化劑、界面活性劑等之添加劑。塑化劑之種類係如上述。相對於聚乙烯醇系樹脂之量，樹脂層用塗佈液33中之添加材之配合量係係以20質量%以下為較佳。
使用塗佈裝置42之樹脂層用塗佈液33之塗佈方法只要係可於基材膜20上塗佈樹脂層用塗佈液33者即可，無特別限定。使用塗佈裝置42之樹脂層用塗佈液33之塗佈方法，可舉例與上述底漆層用塗佈液之塗佈方法同樣之方法。使用塗佈裝置42之樹脂層用塗佈液33之塗佈方法可與底漆層用塗佈液之塗佈方法相同，亦可為相異。塗佈裝置42係可依照各塗佈方法之塗佈裝置適當選擇。所塗佈之樹脂層用塗佈液33之層之厚度例如為50μm以上、200μm以下。
其次，使用乾燥爐52而使塗佈於基材膜20上之樹脂層用塗佈液33乾燥。在乾燥爐52內係藉由例如所吹送之熱風等，對樹脂層用塗佈液33之層加熱，而使樹 脂層用塗佈液33乾燥而硬化。藉此，形成樹脂層34。
乾燥爐52只要係可使樹脂層用塗佈液33乾燥者即可，無特別限定。乾燥爐52中之乾燥溫度例如為50℃以上、200℃以下，以60℃以上、150℃以下為較佳。乾燥爐52中之乾燥溫度可依照樹脂層用塗佈液33中所含之溶劑之種類而適當設定。樹脂層用塗佈液33之溶劑含有水時，乾燥爐52之乾燥溫度係以80℃以上為較佳。乾燥時間例如為2分鐘以上、20分鐘以下左右。
依據以上，形成樹脂層34，並形成依序積層有基材膜20、底漆層及樹脂層34之積層體70。所形成之樹脂層34之厚度例如為3μm以上、20μm以下，較佳係5μm以上、20μm以下。
延伸步驟S11b係將樹脂層34與基材膜20一起延伸之步驟。延伸步驟S11b中係使用延伸裝置60將積層體70朝長度方向單軸延伸。
藉此，延伸樹脂層34。樹脂層34之厚度因延伸而變小。
樹脂層34之延伸倍率係可依照所希望之偏光片10之偏光特性而適當選擇。相對於延伸前之樹脂層34之長度方向之尺寸，樹脂層34之延伸倍率係以大於5倍、17倍以下為較佳，以大於5倍、8倍以下為更佳。樹脂層34之延伸倍率為5倍以下時，有時樹脂層34之配向不充分，所製造之偏光片10之偏光度無法充分變大。此外，樹脂層34之延伸倍率大於17倍時，有時積層體70容易破 裂，或積層體70之厚度變太小，在後步驟中之加工性及操作性降低。
延伸裝置60只要係可將樹脂層34延伸至預定之延伸倍率者即可，無特別限定。使用延伸裝置60之積層體70之延伸方法可為賦予搬送輥之周速差而進行延伸之輥間延伸，亦可為拉幅延伸。此外，延伸處理係可分成多階段而進行。此時，可使分成多階段之延伸處理全部在染色步驟S11c之前進行，亦可使第2階段以後之延伸處理之部分或全部在染色步驟S11c中進行。
使用延伸裝置60而使積層體70(樹脂層34)延伸之時之延伸溫度，係設定為會在基材膜20及樹脂層34可延伸之程度顯示流動性時之溫度以上。延伸溫度可舉例如基材膜20之相轉移溫度(融點或玻璃轉移溫度)之-30℃以上、+30℃以下之範圍為較佳，-30℃以上、+5℃以下之範圍為更佳、-25℃以上、±0℃以下之範圍為再更佳。延伸溫度小於基材膜20之相轉移溫度之-30℃時，有時基材膜20之流動性太小，基材膜20及樹脂層34不易延伸。此外，延伸溫度大於基材膜20之相轉移溫度之+30℃時，有時基材膜20之流動性太大，不易使基材膜20及樹脂層34延伸。基材膜20為多層時，基材膜20之相轉移溫度係指複數層之相轉移溫度之中最高之溫度。
染色步驟S11c係使二色性色素吸附於樹脂層34之步驟。染色步驟S11c中係將經延伸之積層體70整體浸漬於含有二色性色素之染色溶液80中。染色溶液80係 使二色性色素溶解於溶劑之溶液。染色溶液80之溶劑可舉例如水。染色溶液80之溶劑中係除了添加水之外，尚可添加具有與水相溶性之有機溶劑。染色溶液80中之二色性色素之濃度係以0.01質量%以上、10質量%以下為較佳，以0.02質量%以上、7質量%以下為更佳，以0.025質量%以上、5質量%以下為再更佳。
以二色性色素為碘之時，在含有碘之染色溶液80中更添加碘化物為較佳。因為可提升染色效率之故。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色溶液80中之碘化物的濃度係以0.01質量%以上、20質量%以下為較佳。
碘化物之中，以添加碘化鉀為較佳。添加碘化鉀時，碘化鉀之質量對碘之質量之比為以5以上、100以下為較佳，以6以上、80以下為更佳，以7以上、70以下為再更佳。
積層體70於染色溶液80之浸漬時間無特別限定，但以15秒以上、15分鐘以下為較佳，以1分鐘以上、3分鐘以下為更佳。染色溶液80之溫度係以10℃以上、60℃以下為較佳，以20℃以上、40℃以下為更佳。
進行上述染色處理，可獲得在樹脂層34中吸附有經配向之二色性色素，並隔著底漆層而積層於基材膜20上之偏光片10。藉此，可獲得依序積層有基材膜20、底漆層及偏光片10之偏光性積層體71。
又，染色步驟S11c可包含上述染色處理後繼續實施之交聯處理步驟。交聯處理步驟係將經染色之積層體70全體浸漬於含有交聯劑之交聯溶液中。交聯劑可舉例如：硼酸、硼砂等硼化合物；乙二醛；及戊二醛等。交聯劑可為1種類，亦可併用2種類以上。
交聯溶液係可使用將交聯劑溶解於溶劑中之溶液。交聯溶液之溶劑可舉例如水。交聯溶液之溶劑中係除了添加水之外，尚可添加具有與水相溶性之有機溶劑。交聯溶液中之交聯劑之濃度係可舉例如1質量%以上、20質量%以下為較佳，以6質量%以上、15質量%以下為更佳。
在交聯溶液中，可添加碘化物。藉由碘化物之添加，可使樹脂層34之表面內中之偏光特性更均勻化。添加於交聯溶液之碘化物可舉例如與添加於上述染色溶液80之碘化物同樣的碘化物。添加於交聯溶液之碘化物與添加於染色溶液80之碘化物可為相同，亦可為相異。交聯溶液中之碘化物的濃度係以0.05質量%以上、15質量%以下為較佳，以0.5質量%以上、8質量%以下為更佳。
積層體70於交聯溶液之浸漬時間係以15秒以上、20分鐘以下為較佳，以30秒以上、15分鐘以下為更佳。交聯溶液之溫度係以10℃以上、80℃以下為較佳。
又，交聯處理可藉由將交聯劑調配於染色溶液80中，而與染色處理同時進行。此外，亦可使用組成相異之2種以上的交聯溶液，進行2次以上之浸漬於交聯溶液之處理。
吸收軸測定步驟S11d係相對於與積層偏光膜1及相位差膜13之積層方向正交之預定方向，測定偏光片10之吸收軸的角度之步驟。本實施形態中之預定方向可舉例如長度方向(搬送方向，在圖3中為左右方向)。吸收軸之角度之測定係使用測定器90來進行。本說明書中，測定器90可舉例如王子計測機股份有限公司製「KOBRA(註冊商標)-WPR」、大塚電子股份有限公司製「RETS(註冊商標)」等。測定器90係藉由例如在偏光性積層體71接收從基材膜20側入射且從偏光片10射出之光，以進行偏光片10之吸收軸的測定。
吸收軸測定步驟S11d中係沿著與積層方向及長度方向之兩者正交之寬度方向(與第3圖之紙面垂直之方向)，在複數處測定偏光片10之吸收軸之角度。作為在吸收軸測定步驟S11d中之測定方法一例，可舉例對於將偏光片10沿著寬度方向而區分成3個部分之時之各部分，分別測定吸收軸之角度之方法。此時，3個測定處例如可為寬度方向之中央部分、及從寬度方向之兩端部分起朝中央部分側移50mm之位置。本實施形態中，吸收軸測定步驟S11d係設於偏光片形成步驟S11f(樹脂層形成步驟S11a至染色步驟S11c)之後，且較保護膜貼合步驟S11e之前。
保護膜貼合步驟S11e係在偏光片10貼合保護膜11之步驟。在偏光片10之與基材膜20相反側之面(在第3圖中為上側之面)隔著接著層12而貼合保護膜11。接著層12之形成方法可舉例如將接著層12之形成材料塗 佈於偏光片10之面之方法；或，將接著層12之形成材料滴入於偏光片10之面，而在貼合時將接著劑展開在表面內之方法。塗佈接著層12之形成材料之方法係可舉例如線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、模縫塗佈法、缺角輪塗佈法、模唇塗佈法、網版塗佈法、噴灑式塗佈法、浸漬法、噴塗法等。
保護膜11之貼合方法係無特別限定。可舉例如可將捲繞成輥狀之保護膜11捲出，以在接著層12上裝載保護膜11之狀態，使其通過夾持保護膜11與偏光性積層體71之2個輥間予以壓著，以貼合保護膜11。
藉由以上之步驟，可獲得具備有偏光片10及保護膜11之偏光膜1被積層在基材膜20上之積層體。藉由從該積層體中剝離除去基材膜20，可獲得偏光膜1。剝離除去基材膜20之方法係無特別限定，可舉例如採用與在附黏著劑(pressure-sensitive adhesive)之偏光板進行之分離膜(剝離膜)之剝離步驟同樣之方法。基材膜20可在保護膜貼合步驟S11e之後直接立即剝離，亦可在保護膜貼合步驟S11e之後，暫時將貼合有保護膜11之偏光性積層體71捲取成輥狀，在後續之步驟一邊捲出一邊剝離。
將如以上之方式所製造之偏光膜1捲取於芯材，暫時作為原料捲筒保管。藉此，可獲得捲繞有帶狀之偏光膜1之原料捲筒101(參照第4圖)。本實施形態之偏光膜準備步驟S11中係如上述方式形成複數之偏光膜1，並準備。藉此，可獲得複數之偏光膜1之原料捲筒101。
相位差膜準備步驟S12係準備相位差膜13之步驟。相位差膜準備步驟S12中係可舉例如準備捲繞有帶狀之相位差膜13之原料捲筒113(參照第3圖)。本實施形態之相位差膜準備步驟S12中係準備複數之相位差膜13之原料捲筒113。
進相軸測定步驟S13係相對於預定方向，測定相位差膜13之進相軸之角度的步驟。預定方向係與吸收軸測定步驟S11d中測定吸收軸之角度時作為基準之預定方向為相同方向，例如長度方向。測定進相軸之角度之測定器係例如可選択與測定偏光片10之吸收軸之測定器90同樣者。測定進相軸之角度之測定器可為與測定吸收軸之測定器90為相同，亦可為相異。
又，吸收軸測定步驟S11d中測定吸收軸之角度時作為基準之預定方向、與進相軸測定步驟S13中測定進相軸之角度時作為基準之預定方向，在實際之計測時允許互相有稍微偏移。亦即，所謂各測定步驟中作為角度之基準之預定方向為相同方向，亦包含各測定步驟中之預定方向為略相同方向之情形。
進相軸測定步驟S13中係沿著寬度方向，在複數處測定相位差膜13之進相軸之角度。作為在進相軸測定步驟S13中測定進相軸之角度之方法之一例，係對於將相位差膜13沿著寬度方向區分成3個部分時之各部分，分別測定進相軸之角度之方法。此時，3個測定處可例如為寬度方向之中央部分、及從寬度方向之兩端部分起朝中央 部分側移50mm之位置。本實施形態之進相軸測定步驟S13中係對於相位差膜準備步驟S12中所準備之複數的相位差膜13各別測定進相軸。
選擇步驟S14係從上述步驟中所準備之偏光膜1與相位差膜13，選擇要互相貼合之貼合面的步驟。選擇步驟S14中，係在偏光膜1與相位差膜13中要互相對向地貼合之部分中，以使吸收軸與進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面。本實施形態中，係偏光膜1與相位差膜13中之互相對向地貼合之部分中之複數處(上述之各測定步驟中所測定之複數處)中，以使吸收軸與進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面為較佳。所設定之預定角度係以例如0.24°為較佳，以0.20°為更佳，以0.15°為再更佳。藉由將預定角度設為0.24°，可使所製造之積層膜100之偏光度更提升。
本實施形態之選擇步驟S14中，偏光膜1之貼合面係從複數之偏光膜1之兩面之中選擇者。本實施形態之選擇步驟S14中，相位差膜13之貼合面係從複數之相位差膜13之兩面之中選擇者。亦即，在選擇步驟S14中，後續之相位差膜貼合步驟S15中要互相貼合之偏光膜1與相位差膜13，係從複數之偏光膜1與複數之相位差膜13之中分別選擇者，且分別選擇出：所選擇之偏光膜1中之要貼合在相位差膜13之貼合面，以及所選擇之相位差膜13中之要貼合在偏光膜1之貼合面。本實施形態中，相位差膜13由於係貼合於偏光膜1之偏光片10中之與貼合有 保護膜11之側為相反側之面，故偏光膜1之貼合面係限定於1面。有關各膜及各貼合面之選擇方法係在後續段落中詳述。
相位差膜貼合步驟S15係在選擇步驟S14中所選擇之偏光膜1之貼合面，將選擇步驟S14中所選擇之相位差膜13之貼合面予以貼合的步驟。第4圖係表示有關相位差膜貼合步驟S15之順序的立體圖。
如第4圖所示，相位差膜貼合步驟S15中係從在偏光膜準備步驟S11所得之偏光膜1之原料捲筒101捲出偏光膜1，且從相位差膜準備步驟S12所得之相位差膜13之原料捲筒113捲出相位差膜13。而且，捲出各膜，同時使偏光膜1之長度方向與相位差膜13之長度方向一致，而在偏光膜1貼合相位差膜13。偏光膜1與相位差膜13係例如與在保護膜貼合步驟S11e中貼合保護膜11之情形時同樣，藉由通過輥間予以互相壓著而貼合。
圖示雖省略，但在相位差膜13之貼合面係形成有接著層14(參照第1圖)，偏光膜1與相位差膜13係隔著接著層14而貼合。
接著層14之形成方法係無特別限定，可舉例如可採用與上述之接著層12同樣之方法，亦可使用黏著劑。
依以上之步驟，可製造具備偏光膜1與相位差膜13之積層膜100。
其次，說明有關選擇步驟S14中之各膜及各貼合面之選擇方法。第5圖係表示第4圖中之積層膜100 之平面圖。第6圖係表示有關與第4圖相異之相位差膜貼合步驟S15之其他順序的立體圖。第7圖係表示第6圖中之積層膜100之平面圖。
例如，首先如第4圖所示，思考有關貼合偏光膜1與相位差膜13之情形。第4圖中，偏光膜1係從原料捲筒101之上側捲出，相位差膜13係從原料捲筒113之上側捲出。以下之說明中，有時將膜從原料捲筒之上側捲出之情形簡稱為「上捲出」。
第4圖中，係使偏光膜1之兩面之中捲繞在原料捲筒101時成為外側之偏光膜外側面1b、及相位差膜13之兩面之中捲繞在原料捲筒113時成為內側之相位差膜內側面13a貼合。亦即，第4圖中，偏光膜外側面1b為偏光膜1之貼合面，相位差膜內側面13a為相位差膜13之貼合面。偏光膜外側面1b係偏光片10中之與保護膜11為相反側之上表面10b(第1圖参照)。
在此，偏光膜1在吸收軸測定步驟S11d中，係測定在寬度方向(Y軸方向)被區分成3個部分，亦即第1部分AD1、第2部分AD2及第3部分AD3中之吸收軸之角度者。第1部分AD1、第2部分AD2及第3部分AD3係沿著寬度方向，依序隣接而設置。第4圖及第5圖所示之偏光膜1之位置中，第1部分AD1係偏光膜1中之寬度方向左側(-Y側)之部分，第3部分AD3係偏光膜1中之寬度方向右側(+Y側)之部分。第2部分AD2係偏光膜1中之寬度方向中央之部分。
第5圖係以虛線之箭號表示偏光膜1之表面內各部分中之吸收軸A1、A2、A3之一例。吸收軸A1係偏光膜1中之第1部分AD1之吸收軸。吸收軸A2係偏光膜1中之第2部分AD2之吸收軸。吸收軸A3係偏光膜1中之第3部分AD3之吸收軸。
各吸收軸之角度係從積層方向之上側(+Z側)往下側(-Z側)觀看(以下為平面視)，以長度方向(X軸方向)作為基準將朝向逆時針旋轉之側(+θ z側)設為正之側，以長度方向作為基準將朝向順時計旋轉之側(-θ z側)設為負之側。
相對於第1部分AD1中之長度方向(X軸方向)，吸收軸A1之角度θ A1為正，相對於第2部分AD2中之長度方向，吸收軸A2之角度θ A2為負，相對於第3部分AD3中之長度方向，吸收軸A3之角度θ A3為正。
此外，相位差膜13在進相軸測定步驟S13中，係測定在寬度方向(Y軸方向)被區分成3個部分，亦即第1部分FD1、第2部分FD2及第3部分FD3中之進相軸之角度。第1部分FD1、第2部分FD2及第3部分FD3係沿著寬度方向，依序隣接而設置。第4圖及第5圖所示之相位差膜13之位置中，第1部分FD1係相位差膜13中之寬度方向左側(-Y側)之部分，第3部分FD3係相位差膜13中之寬度方向右側(+Y側)之部分。第2部分FD2係相位差膜13中之寬度方向中央之部分。
第4圖及第5圖之例中，相位差膜13之第1 部分FD1係與偏光膜1之第1部分AD1朝積層方向(Z軸方向)對向地貼合。相位差膜13之第2部分FD2係與偏光膜1之第2部分AD2朝積層方向對向地貼合。相位差膜13之第3部分FD3係與偏光膜1之第3部分AD3朝積層方向對向地貼合。
第5圖係以實線之箭號表示相位差膜13之表面內各部分中之進相軸F1、F2、F3之一例。進相軸F1係相位差膜13中之第1部分FD1之進相軸。進相軸F2係相位差膜13中之第2部分FD2之進相軸。進相軸F3係相位差膜13中之第3部分FD3之進相軸。
各進相軸之角度係與上述之各吸收軸之角度同樣，在平面視時，以長度方向(X軸方向)作為基準將朝向逆時計旋轉向之側(+θ z側)設為正之側，以長度方向作為基準將朝向時計旋轉之側(-θ z側)設為負之側。
相對於第1部分FD1中之長度方向(X軸方向)，進相軸F1之角度θ F1為負，相對於第2部分FD2中之長度方向，進相軸F2之角度θ F2為正，相對於第3部分FD3中之長度方向，進相軸F3之角度θ F3為負。
積層膜100係具有在寬度方向(Y軸方向)被區分成3個部分，亦即左側部分LD、中央部分CD、及右側部分RD。左側部分LD、中央部分CD及右側部分RD係沿著寬度方向，依序隣接而設置。第4圖及第5圖中，左側部分LD係積層有偏光膜1之第1部分AD1及相位差膜13之第1部分FD1而構成。中央部分CD係積層有偏光 膜1之第2部分AD2及相位差膜13之第2部分FD2而構成。右側部分RD係積層有偏光膜1之第3部分AD3及相位差膜13之第3部分FD3而構成。
如第4圖之方式貼合偏光膜1及相位差膜13之時，對於其吸收軸與進相軸之相對角度進行評價。具體而言，針對積層膜100中之左側部分LD、中央部分CD及右側部分RD之各者，判斷吸收軸及進相軸之相對角度是否未達預定角度(在本實施形態中例如為0.24°)。
如第5圖所示，左側部分LD中之相對角度θ L係吸收軸A1之角度θ A1與進相軸F1之角度θ F1之相對角度，以θ L=｜θ A1-θ F1｜表示。中央部分CD中之相對角度θ C係吸收軸A2之角度θ A2與進相軸F2之角度θ F2之相對角度，以θ C=｜θ A2-θ F2｜表示。右側部分RD中之相對角度θ R係吸收軸A3之角度θ A3與進相軸F3之角度θ F3之相對角度，以θ R=｜θ A3-θ F3｜表示。
本實施形態之選擇步驟S14中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者均未達預定角度(0.24°)之時，則判斷積層膜100中吸收軸與進相軸之間的偏移非常小。
在此，在如第4圖及第5圖般貼合偏光膜1及相位差膜13而形成之積層膜100中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者均未達預定角度(0.24°)。此時，選擇步驟S14中，以使貼合面成為第4圖及第5圖所示之組合之方式選擇偏光膜1之貼合面與相位差膜13之貼合面。亦 即，偏光膜1之貼合面係選擇偏光膜外側面1b，相位差膜13之貼合面係選擇相位差膜內側面13a。
另一方面，本實施形態之選擇步驟S14中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者以上為預定角度(0.24°)以上之時，則判斷積層膜100中吸收軸與進相軸之間的偏移較大。
在此，在例如第4圖及第5圖般貼合偏光膜1與相位差膜13而形成之積層膜100中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者以上均為預定角度(0.24°)以上。此時，對於與第4圖及第5圖所示之組合為相異之貼合面之組合再次進行研究。
再度進行研究時，如其次第6圖所示，思考有關貼合偏光膜1與相位差膜13之情形。在第6圖中，偏光膜1係與第4圖同樣地進行上捲出。相對於第4圖中之原料捲筒113之位置，原料捲筒113係設置在朝寬度方向(Y軸方向)後之位置，將相位差膜13從原料捲筒113之下側捲出。藉此，第6圖及第7圖中，相位差膜13係相對於第4圖及第5圖所示之相位差膜13之位置，以朝寬度方向(Y軸方向)及積層方向(Z軸方向)反轉後之位置貼合於偏光膜1。
以下之說明中，有時將膜從原料捲筒之下側捲出之情形簡稱為「下捲出」。
第6圖中，係使偏光膜外側面1b、及相位差膜13之兩面之中捲繞在原料捲筒113時成為外側之相位差 膜外側面13b貼合。亦即，第6圖中，相位差膜13之貼合面係與第4圖中之貼合面相異，成為相位差膜外側面13b。偏光膜1之貼合面係與第4圖時同樣為偏光膜外側面1b。
如上述，第6圖及第7圖中，相位差膜13係相對於第4圖及第5圖所示之相位差膜13之位置，成為朝寬度方向(Y軸方向)反轉後之位置。因此，第6圖及第7圖中，第1部分FD1係相位差膜13中之寬度方向右側(+Y側)之部分，第3部分FD3係相位差膜13中之寬度方向左側(-Y側)之部分。第2部分FD2係與第4圖及第5圖時同樣為相位差膜13中之寬度方向中央之部分。
第6圖及第7圖之例中，相位差膜13之第1部分FD1係與偏光膜1之第3部分AD3朝積層方向(Z軸方向)對向地貼合。相位差膜13之第2部分FD2係與偏光膜1之第2部分AD2朝積層方向對向地貼合。相位差膜13之第3部分FD3係與偏光膜1之第1部分AD1朝積層方向對向地貼合。亦即，第6圖及第7圖之例之情形，與相位差膜13之第1部分FD1及第3部分FD3貼合之偏光膜1之部分係與第4圖及第5圖之例之情形時相異。
藉此，第6圖及第7圖中，積層膜100之左側部分LD係將偏光膜1之第1部分AD1與相位差膜13之第3部分FD3積層而構成。右側部分RD係將偏光膜1之第3部分AD3與相位差膜13之第1部分FD1積層而構成。中央部分CD係與第4圖及第5圖同樣地，將偏光膜1之第2部分AD2與相位差膜13之第2部分FD2積層而構成。
如上述，第6圖及第7圖中，相對於第4圖及第5圖所示之相位差膜13之位置，相位差膜13係成為朝積層方向(Z軸方向)反轉後之位置。因此，如第7圖所示，各進相軸F1至F3之斜率係與第5圖所示之情形時朝寬度方向(Y軸方向)反轉。亦即，相對於第1部分FD1中之長度方向(X軸方向)，進相軸F1之角度θ F1為正，相對於第2部分FD2中之長度方向，進相軸F2之角度θ F2為負，相對於第3部分FD3中之長度方向，進相軸F3之角度θ F3為正。
如第6圖之方式，欲貼合偏光膜1與相位差膜13之情形時，對於吸收軸與進相軸之相對角度進行評價。具體而言，針對在積層膜100中之左側部分LD、中央部分CD與右側部分RD之各者，判斷吸收軸與進相軸之相對角度是否成為未達預定角度(在本實施形態中例如為0.24°)。
此時，如第7圖所示，左側部分LD中之相對角度θ L係吸收軸A1之角度θ A1與進相軸F3之角度θ F3之相對角度，以θ L=｜θ A1-θ F3｜表示。中央部分CD中之相對角度θ C係吸收軸A2之角度θ A2與進相軸F2之角度θ F2之相對角度，以θ C=｜θ A2-θ F2｜表示。右側部分RD中之相對角度θ R係吸收軸A3之角度θ A3與進相軸F1之角度θ F1之相對角度，以θ R=｜θ A3-θ F1｜表示。
在此，第5圖之例中，係表示在積層膜100 之左側部分LD、中央部分CD及右側部分RD之任一者中，各吸收軸之角度與各進相軸之角度互相為正負相反之例，故各部中之吸收軸與進相軸之相對角度容易變成較大。
相對於此，第7圖之例中，由於相位差膜13朝寬度方向(Y軸方向)及積層方向(Z軸方向)反轉，相位差膜13之各進相軸之角度為正負反轉，左側部分LD及右側部分RD中，與偏光膜1重疊之相位差膜13之部分亦改變。其結果，在第7圖之例中，積層膜100之左側部分LD、中央部分CD及右側部分RD之任一者中，各吸收軸之角度之正負與各進相軸之角度之正負均一致。因此，第7圖之例中積層膜100之各部中之吸收軸與進相軸之相對角度係比第5圖之例更小。
又，第7圖中係吸收軸A3之角度θ A3與進相軸F1之角度θ F1為相同，吸收軸A3與進相軸F1係重疊顯示。亦即，第7圖之例中，右側部分RD中之相對角度θ R為0°。
可舉例如第6圖及第7圖，在貼合偏光膜1與相位差膜13而形成之積層膜100中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者均設為未達預定角度(0.24°)。此時，選擇步驟S14中係以使貼合面成為第6圖及第7圖所示之組合之方式，選擇偏光膜1之貼合面與相位差膜13之貼合面。亦即，偏光膜1之貼合面係選擇偏光膜外側面1b，相位差膜13之貼合面係選擇相位差膜外側面13b。
另一方面，可舉例如第6圖及第7圖，在將 偏光膜1與相位差膜13貼合而形成之積層膜100中，各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者以上均設為預定角度(0.24°)以上。此時，對於與第6圖及第7圖所示之組合相異之貼合面之組合，進一步進行研究。進一步進行研究時，例如將偏光膜1與相位差膜13中之至少一者變更為相異之膜，如與上述同樣方式進行貼合面之研究。
如此方式，所形成之積層膜100中，以各相對角度θ L、θ C、θ R之任一者均未達預定角度(0.24°)之方式選擇偏光膜1及相位差膜13，且選擇各膜中之貼合面。
又，在使用了上述第4圖至第7圖之選擇步驟S14之說明中，為了說明方便，將偏光膜1與相位差膜13貼合，進行積層膜100中之各相對角度之評價而說明。但在實際之選擇步驟S14中，係不使偏光膜1與相位差膜13貼合，而是從吸收軸測定步驟S11d與進相軸測定步驟S13所得之各部分中之吸收軸之角度數據及進相軸之角度數據中，進行各膜之選擇及各貼合面之選擇。
若依據本實施形態，即設置選擇步驟S14，其係依據從吸收軸測定步驟S11d與進相軸測定步驟S13所得之吸收軸之角度數據及進相軸之角度數據，選擇吸收軸與進相軸之相對角度成為未達預定角度之貼合面。因此，相位差膜貼合步驟S15中，將在選擇步驟S14所選擇之貼合面彼此間貼合，藉此可以使吸收軸與進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式將偏光膜1與相位差膜13 貼合。藉此，所得之積層膜100中，可減少偏光膜1之吸收軸與相位差膜13之進相軸之相對角度，可抑制吸收軸與進相軸的偏移。因此，可獲得偏光度優之積層膜100。藉此，若依據本實施形態，將積層膜100使用於液晶顯示裝置時，可抑制液晶顯示裝置之對比降低。
此外，就例如抑制吸收軸與進相軸之偏移之其他方法而言，有想到使偏光膜1與相位差膜13於與積層方向平行之軸周圍旋轉，調整吸收軸之角度與進相軸之角度，同時貼合膜彼此之方法。但是，此方法係為了使偏光膜1與相位差膜13之貼合角度偏移，並無法使用如本實施形態之使從原料捲筒捲出之各膜彼此間貼合之方法，而有難以獲得長條之積層膜之問題。
此外，就例如抑制吸收軸與進相軸之偏移之其他方法而言，亦有想到在使偏光膜1與相位差膜13在長度方向一致而貼合時進行裁切，以抑制吸收軸與進相軸之偏移，對所貼合之各膜之形狀進行修正的方法。但該方法中，有裁切膜乃費工，積層膜之製造成本變大之問題。此外，與上述之其他方法同樣地，難以獲得長條之積層膜。此外，即使可獲得長條之積層膜，因裁切膜而有寬度方向之尺寸變小之問題。
對於此等之方法，若依據本實施形態，可不會使被製造成長條之偏光膜1及相位差膜13之貼合角度偏移，且亦不會裁切膜而修正形狀，便可使長度方向一致而貼合膜彼此，獲得長條之偏光膜1。因此，可抑制積層膜 100之製造成本變大，且容易獲得長條之積層膜100。此外，亦可抑制積層膜100之寬度方向之尺寸變小。從如此之觀點而言，本實施形態之製造方法在製造長度方向之長度為100m以上之積層膜時，為更有效果，製造寬度方向之長度為30cm以上之積層膜時，為更有效果。
此外，例如製造偏光膜之原料捲筒時，若與吸收軸之角度與要貼合之相位差膜之進相軸大幅偏移，則所製造之積層膜無法獲得所希望之特性。因此，會有例如將所製造之偏光膜廢棄，重新製造偏光膜之原料捲筒之情形。因此，所製造之偏光膜變得無法使用，積層膜之良率有降低之問題。
相對於此，若依據本實施形態，因設置有選擇步驟S14，藉由選擇出具有與所製造之偏光膜1之吸收軸的偏移較少之進相軸的相位差膜之貼合面，可抑制偏光膜1變得無法使用之情形。藉此，可抑制積層膜100之良率降低。
此外，若依據本實施形態，選擇步驟S14中，以使吸收軸之角度與進相軸之角度之相對角度成為未達0.24°之方式選擇各貼合面。因此，所製造之積層膜100中，可適當抑制吸收軸與進相軸之間的偏移，可適當提升積層膜100之偏光度。
此外，在吸收軸測定步驟S11d中所測定之偏光片10之吸收軸之角度大幅偏離所希望之角度時，所製造之偏光膜1亦難以獲得所希望之性能。此時，可利用偏光 膜1之製品之寬度有變窄之問題。
相對於此，若依據本實施形態，吸收軸測定步驟S11d係設於偏光片形成步驟S11f之後，保護膜貼合步驟S11e之前。因此，吸收軸測定步驟S11d中所測定之偏光片10之吸收軸之角度大幅偏離所希望之角度時，可停止偏光片10之搬送而中止保護膜11之貼合。藉此，可獲得未貼合保護膜11之狀態之偏光片10。因此，可變更貼合在偏光片10之膜之種類等，可抑制利用所製造之偏光膜或其他多層膜的製品之寬度變窄之情形。
此外，若依據本實施形態，相位差膜準備步驟S12中，準備複數之相位差膜13，選擇步驟S14中，相位差膜13之貼合面係從複數之相位差膜13之兩面之中選擇者。因此，可增多與偏光膜1之貼合面貼合之相位差膜13的貼合面之組合。藉此，在所得之積層膜100中容易使偏光膜1之吸收軸與相位差膜13之進相軸之相對角度更縮小。因此，可更提升積層膜100之偏光度。從如此之觀點，在相位差膜準備步驟S12準備之相位差膜之數量係以2以上較佳，以3以上更佳。
此外，若依據本實施形態，偏光膜準備步驟S11中，準備複數之偏光膜1，選擇步驟S14中，偏光膜1之貼合面係從複數之偏光膜1之兩面之中選擇者。因此，可增多與相位差膜13之貼合面貼合之偏光膜1的貼合面之組合。藉此，在所得之積層膜100中容易使偏光膜1之吸收軸與相位差膜13之進相軸之相對角度更縮小。因此，可 更提升積層膜100之偏光度。從如此之觀點，在偏光膜準備步驟S11準備之偏光膜之數係以2以上較佳，以3以上更佳。
此外，如此地，藉由選擇複數之偏光膜1與複數之相位差膜13之組合，可抑制吸收軸與進相軸之間的偏移變大而無法獲得所望之特性之情形。因此，更可抑制偏光膜1或相位差膜13變得無法使用之情形。因此，更可抑制積層膜100之良率降低。
又，在一次之各準備步驟中所準備之偏光膜1及相位差膜13中之一部分中，吸收軸與進相軸之相對角度未達預定角度時，可將其膜之原料捲筒預先保管，並可作為下次之各準備步驟中準備之膜使用。藉此，可更抑制偏光膜1或相位差膜13變得無法使用之情形。
如上述，本實施形態之情形，因在偏光膜1之單面貼合有保護膜11，故1片偏光膜1之可選擇作為貼合面之面，只有與保護膜11相反側之偏光膜外側面1b而已。但，可以藉由改變相位差膜13之貼合面，使吸收軸與進相軸之相對角度變化，實質上並非選擇貼合面之組合變少。
又，可在偏光膜1之兩面貼合相位差膜13之時，係可從偏光膜外側面1b、及偏光膜1之兩面中捲繞於原料捲筒101時成為內側之偏光膜內側面1a之中選擇出偏光膜1之貼合面。此時，可增大選擇偏光膜1及相位差膜13之貼合方法的自由度。
此外，若依據本實施形態，吸收軸測定步驟S11d中，在偏光片10之寬度方向之複數處測定吸收軸之角度，在進相軸測定步驟S13中，在相位差膜13之寬度方向之複數處測定進相軸之角度。繼而，選擇步驟S14中，以使在複數處吸收軸及進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式，於偏光膜1貼合相位差膜13。因此，在積層膜100中之寬度方向之複數處中，可縮小偏光膜1之吸收軸與相位差膜13之進相軸之相對角度，可提升積層膜100之偏光度。
又，本實施形態中亦可採用以下之方法。
選擇步驟S14中，可以使吸收軸及進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式，選擇貼合各膜之貼合面之方向。此時，相位差膜貼合步驟S15中，係依據選擇步驟S14中所選擇之貼合的方向，在偏光膜1之貼合面貼合相位差膜13之貼合面。貼合各膜之貼合面之方向，例如包含貼合面之長度方向之方向。以下，詳細說明。
例如如第4圖及第6圖所示，直接使用偏光膜1之原料捲筒101與相位差膜13之原料捲筒113而將膜彼此間貼合之時，不論在進行上捲出之時及下捲出之時之任一者中，均不會有無各膜之位置朝長度方向反轉之情形。但，若重新捲繞原料捲筒，可使膜之位置朝長度方向反轉。此時，寬度方向中之吸收軸或進相軸之分佈，可視為於長度方向為均勻者，故僅可只使膜之位置朝長度方向反轉。
第8A圖至第8C圖係用以說明有關原料捲筒之重新捲繞之說明圖。第8A圖至第8C圖中係表示重新捲繞偏光膜1之原料捲筒101之情形。
如第8A圖所示，從原料捲筒101捲出偏光膜1之長度方向之一端1c，如第8B圖所示，捲取於其他之芯材。藉此，可獲得重新捲繞之原料捲筒201。如第8C圖所示，重新捲繞之原料捲筒201係以偏光膜1之長度方向之另一端1d作為捲出之側的端部。
若將如此方式所得之偏光膜1之原料捲筒201如第4圖及第6圖之方式進行上捲出，相對於第4圖及第6圖中之位置，變成偏光膜1之前後成為朝長度方向反轉之位置，可使作為偏光膜1之貼合面的偏光膜外側面1b之貼合的方向反轉。此時，偏光膜1之位置亦朝寬度方向反轉，故與相位差膜13之第1部分FD1及第3部分FD3被貼合之偏光膜1之部分係與第4圖及第6圖之例之情形相異。具體而言，貼合於相位差膜13之第1部分FD1及第3部分FD3之部分，在偏光膜1之第1部分AD1與第3部分AD3之間變成相反。
另一方面，此時，偏光膜1之貼合面係與第4圖及第6圖同樣為偏光膜外側面1b，偏光膜1之位置係不朝積層方向反轉。因此，偏光膜1之吸收軸之角度之正負係與第4圖及第6圖所示之情形相同。如此地，藉由改變偏光膜1之貼合面之方向，不會改變吸收軸之角度之正負，只會改變偏光膜1與相位差膜13之貼合的部分，可改 變吸收軸與進相軸之相對角度。
如以上，若依據此方法，藉由選擇步驟S14中選擇各膜之貼合面被貼合之方向，可使用相同偏光膜1及相位差膜13，而將使吸收軸與進相軸之相對角度改變之寬度擴大。具體而言，在使用相同偏光膜1及相位差膜13，不重新捲繞原料捲筒而改變貼合面之2個組合、及重新捲繞原料捲筒而改變貼合面之2個組合之合計4個組合中，可改變吸收軸與進相軸之相對角度。因此，選擇步驟S14中，可更適當地選擇在相位差膜貼合步驟S15貼合各膜之貼合條件。其結果，更可抑制積層膜100之偏光度降低。此外，可有效率地組合複數製造之偏光膜1及相位差膜13而利用，可提升積層膜100之製造效率。
又，在上述例中，係說明有關重新捲繞偏光膜1之原料捲筒101之情形，但不限定於此。亦可重新捲繞相位差膜13之原料捲筒113，改變相位差膜13之貼合面之貼合的方向。
此外，偏光膜準備步驟S11中，偏光膜1之形成方法係無特別限定。可舉例如將聚乙烯醇系樹脂之膜藉由擠出成形而製造之後，進行延伸處理及染色處理之方法等，藉此，可形成偏光膜1。
此外，偏光膜準備步驟S11中，係可不形成偏光膜1，亦可準備預先形成之複數偏光膜1。此外，偏光膜準備步驟S11中，亦可僅準備1層偏光膜1。此外，相位差膜準備步驟S12中，可僅準備1層相位差膜13。又， 偏光膜準備步驟S11中，僅準備1層偏光膜1，相位差膜準備步驟S12中，亦可僅準備1層相位差膜13。此時，相位差膜貼合步驟S15中所貼合之各膜係必然決定，但藉由選擇各貼合面及各貼合面之貼合之方向，可抑制所製造之積層膜100之偏光度的降低。
此外，亦可不設置保護膜貼合步驟S11e。又，除了保護膜貼合步驟S11e之外，亦可設置貼合其他之膜等的步驟，或以之取代保護膜貼合步驟S11e。
此外，吸收軸測定步驟S11d中，可在2處或4處以上測定吸收軸。此外，進相軸測定步驟S13中，可在2處或4處以上測定進相軸。可舉例如在2處中測定各軸時，選擇步驟S14中，可在所測定之2處以各軸彼此間之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面。此外，例如在4處以上測定各軸時，選擇步驟S14中，可在所測定之4處以上之所有處以各軸彼此間之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面。
此外，吸收軸測定步驟S11d中，可僅在1處測定吸收軸。又，進相軸測定步驟S13中，可僅在1處測定進相軸。此時，選擇步驟S14中，可在所測定之1處以各軸彼此間之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面。
如以上，本說明書中，選擇步驟S14中以各軸同士之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面，係包含了在各測定步驟中所測定之所有處中，以各軸 同士之相對角度成為未達預定角度之方式選擇各貼合面。
此外，作為測定吸收軸之角度與進相軸之角度的基準之預定方向可為長度方向以外之方向。
此外，偏光片10之吸收軸係與偏光片10之穿透軸正交。因此，測定偏光片10之吸收軸係與測定偏光片10之穿透軸為等值。此外，相位差膜13之進相軸係與相位差膜13之慢軸正交。因此，測定相位差膜13之進相軸係與測定相位差膜13之慢軸為等值。亦即，分別測定吸收軸與進相軸，對於吸收軸與進相軸之相對角度進行評價一事，係與分別測定穿透軸與慢軸，對於穿透軸與慢軸之相對角度進行評價為等值。因此，可設置測定偏光片10之穿透軸的步驟以取代吸收軸測定步驟S11d，亦可設置測定相位差膜13之慢軸之步驟以取代進相軸測定步驟S13。
此外，樹脂層形成步驟S11a中，在形成底漆層之前，可設置在塗佈有底漆層用塗佈液之基材膜20之面施予電暈處理之步驟。又，樹脂層形成步驟S11a中可不形成底漆層。
此外，在樹脂層形成步驟S11a中之樹脂層34之形成使用塑化劑時，在較染色步驟S11c之前，可進行除去塑化劑之處理。塑化劑之除去可舉例如將積層體70浸漬於室溫以上、70℃以下左右之水中，使水與積層體70膨潤，藉此從積層體70中使塑化劑溶出來進行。
此外，染色步驟S11c中設置交聯處理之時，在交聯處理之後可進行將偏光性積層體71浸漬於純水、離 子交換水、蒸留水、自來水等水中進行水洗淨而沖洗硼酸等之處理。水洗淨液中係可含有碘化物。繼而，其後，可進行使偏光性積層體71乾燥之處理。乾燥處理係可採用自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥等公知之方法。
此外，染色步驟S11c可在延伸步驟S11b之前進行，亦可使染色步驟S11c與延伸步驟S11b同時進行。
<第2實施形態>
第2實施形態相對於第1實施形態，其設置吸收軸測定步驟之位置相異。
又，有關與上述實施形態同樣之構成，有時會藉由賦予適當相同之符號等而省略說明。
第9圖係表示本實施形態之積層膜100之製造方法之順序的流程圖。本實施形態之積層膜100之製造方法係如第9圖所示，包含：偏光膜準備步驟S21、吸收軸測定步驟(第1測定步驟)S22、相位差膜準備步驟S12、進相軸測定步驟S13、選擇步驟S14、及相位差膜貼合步驟S15。
偏光膜準備步驟S21係除了不設置吸收軸測定步驟S11d以外，其餘係與第1實施形態之偏光膜準備步驟S11同樣。
吸收軸測定步驟S22係設置在偏光膜準備步驟S21之後，且較選擇步驟S14之前。吸收軸測定步驟S22中，係測定在偏光膜準備步驟S21所得之偏光膜1中之偏 光片10之吸收軸。吸收軸之測定係例如使用王子計測機股份有限公司製「KOBRA(註冊商標)-WPR」、大塚電子股份有限公司製「RETS(註冊商標)」等之測定器而進行。測定器係藉由例如在偏光膜1接收從保護膜11側入射且從偏光片10射出之光，而進行偏光片10之吸收軸之測定。
若依據本實施形態，吸收軸測定步驟S22係設置於偏光膜準備步驟S21之後。因此，即使例如在保護膜貼合步驟S11e等之中吸收軸之角度產生偏移之情形時，在吸收軸測定步驟S22中，亦可測定偏移後之吸收軸之角度。因此，可測定要貼合相位差膜13前之吸收軸之角度，在選擇步驟S14中，可更適當地選擇貼合面。其結果，可更提升積層膜100之偏光度。
又，上述實施形態中，係使偏光片10中之吸收軸之方向與相位差膜13中之進相軸之方向一致，但不限於此。例如亦可使偏光片10中之吸收軸之方向與相位差膜13中之慢軸之方向一致。此時，設置測定相位差膜13之慢軸相對於預定方向之角度的慢軸測定步驟(第1測定步驟)，以取代進相軸測定步驟S13。此外，選擇步驟S14中，在偏光膜1與相位差膜13中要互相對向地貼合之部分，以使吸收軸與慢軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從偏光膜1與相位差膜13中選擇要互相貼合之貼合面。即使在使吸收軸與慢軸之情形時，藉由將各軸彼此間之相對角度設為未達預定角度(可舉例如0.24°)，亦可提升積層膜100之偏光度。
此外，第1實施形態及第2實施形態中之上述各方法，可在不矛盾之範圍內相互組合。
〔實施例〕
使用上述各實施形態之積層膜100之製造方法而製造實施例，確認有關本發明之實用性。
實施例中，基材膜係設為厚度90μm之未延伸之聚丙烯膜。基材膜之融點係163℃。基材膜之長度方向之拉伸彈性模數在80℃時為205MPa。
實施例中，底漆層用塗佈液係如以下之方式製作。將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業股份有限公司製「Z-200」、平均分子量1100、平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃之熱水中，作成為濃度3質量%之聚乙烯醇水溶液。在所得之水溶液中混合相對於2質量份之聚乙烯醇為1質量份之交聯劑(住友化學股份有限公司製「Sumirez Resin(註冊商標)650」)，製作底漆層用塗佈液。
實施例中，樹脂層用塗佈液係如以下方式製作。將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製「PVA124」、平均聚合度2400、平均皂化度98.0莫耳%以上、99.0莫耳%以下)溶解於95℃之熱水中，作成濃度8質量%之聚乙烯醇水溶液，將此作為樹脂層用塗佈液。
將如上述方式所得之基材膜連續搬送，同時對其單面施予電暈處理，於經電暈處理之面使用微凹版塗佈機(塗佈裝置)連續塗佈上述之底漆層用塗佈液。將塗 佈之底漆層用塗佈液在第1乾燥裝置中以60℃乾燥3分鐘，藉此形成平均厚度0.2μm之底漆層。
將形成有底漆層之基材膜連續搬送，同時於底漆層上使用模唇塗佈機(塗佈裝置)連續塗佈上述之樹脂層用塗佈液。將塗佈之樹脂層用塗佈液使用乾燥裝置以80℃乾燥8分鐘，藉此在底漆層上形成樹脂層。
將在基材膜上形成有底漆層及樹脂層之積層體連續搬送，同時藉由在夾持輥間之延伸方法朝長度方向(膜搬送方向)延伸。延伸係分成2階段進行。首先，以延伸溫度140℃延伸至延伸倍率成為2.5倍為止，然後，以延伸溫度160℃延伸至延伸倍率成為5.8倍為止。又，延伸倍率係相對於未延伸狀態之積層體的長度方向尺寸之倍率。亦即，在本實施例之延伸步驟中係將積層體延伸至最後延伸倍率成為5.8倍。
將經延伸之積層體連續搬送，同時使其浸漬在含有碘及碘化鉀之30℃之染色溶液中達停留時間為150秒左右，進行樹脂層之染色處理。以10℃之純水沖洗多餘之染色溶液後，將積層體浸漬在含有硼酸及碘化鉀之76℃之交聯溶液中達停留時間為600秒，而進行交聯處理。其後，將積層體以10℃之純水洗淨4秒，以80℃乾燥300秒。藉此，獲得在樹脂層吸附有經配向之二色性色素之偏光片。
對於與形成有上述偏光片之基材膜之面為相反側之面亦施予與上述者同樣之處理，形成偏光片。藉此，獲得形成有隔著底漆層而積層於基材膜之兩面之偏光片之 偏光性積層體。製造3個如此之偏光性積層體。將該3個偏光性積層體分別設為第1偏光性積層體、第2偏光性積層體、第3偏光性積層體。
對於第1偏光性積層體及第2偏光性積層體，測定偏光片之吸收軸之角度。測定吸收軸之角度時，係將形成於基材膜之一面之偏光片剝離除去，對於殘留在基材膜之側之偏光片，進行吸收軸之角度之測定。將從基材膜側對偏光性積層體入射光(波長：590nm)並穿透偏光片之光接收而測定吸收軸之角度。在吸收軸之角度之測定係使用王子計測機股份有限公司製「KOBRA(註冊商標)-WPR」。吸收軸之角度之測定係對於偏光性積層體之寬度方向之中央部分(亦即第2部分)、及偏光性積層體之寬度方向之兩側部分(亦即第1部分及第3部分)進行。
第1部分中之測定處係設為：以從偏光性積層體中之寬度方向一側之端部朝寬度方向另一側50mm之位置為中心，而於朝寬度方向及長度方向成為40mm×40mm之部分。第2部分中之測定處係設為：以偏光性積層體中之寬度方向之中心位置為中心，而於寬度方向及長度方向成為40mm×40mm之部分。第3部分中之測定處係設為：以從偏光性積層體中之寬度方向另一側之端部朝寬度方向一側50mm之位置為中心，而於寬度方向及長度方向成為40mm×40mm之部分。對於各部分之測定處，進行1次測定，將其平均值作為各部分中之吸收軸之角度。
對於已測定上述吸收軸之第1偏光性積層體 及第2偏光性積層體之各者，連續搬送偏光性積層體，同時將接著劑溶液塗佈於偏光片上，形成接著層。將已對貼合面施予皂化處理之三乙醯基纖維素(TAC)膜(Konica Minolta股份有限公司製「KC4UY」、厚度40μm)隔著接著層貼合於偏光片。貼合方法係以隔著接著層將TAC膜(保護膜)接著於偏光片上之狀態，使偏光性積層體通過一對之輥間，進行壓著之方法。
接著劑溶液係如以下般製作。將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製「KL-318」、平均聚合度1800)溶解於95℃之熱水中，作成濃度3質量%之聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中混合混合相對於2質量份之聚乙烯醇為1質量份的比率之交聯劑(住友化學股份有限公司製「Sumirez Rsin(註冊商標)650」)，作成接著劑溶液。
從貼合有TAC膜之第1偏光性積層體及第2偏光性積層體玻璃中除去基材膜，獲得第1偏光膜及第2偏光膜。將所得之第1偏光膜及第2偏光膜分別捲取於芯材，作成原料捲筒。
對於第3偏光性積層體，以與上述之第1偏光性積層體及第2偏光性積層體同樣方式，貼合TAC膜。第3偏光性積層體中係於偏光性積層體之兩面貼合TAC膜。其後，在基材膜與一偏光片之間將第3偏光性積層體分離，從附基材膜之偏光性積層體中剝離除去基材膜而獲得第3偏光膜。使所得之第3偏光膜捲取於芯材，作成原料捲筒。
對於第3偏光膜，測定偏光片之吸收軸之角度。測定吸收軸之角度時，係將使光(波長：590nm)入射於第3偏光膜並穿透偏光片之光接收而測定吸收軸之角度。吸收軸之角度之測定係使用王子計測機股份有限公司製「KOBRA(註冊商標)-WPR」。吸收軸之角度之測定係對於第3偏光膜之寬度方向之中央部分及第3偏光膜之寬度方向之兩側部分，亦即從第1部分至第3部分來進行。從第3偏光膜之第1部分至第3部分之測定處係與上述之第1偏光性積層體及第2偏光性積層體中之第1部分與第3部分時同樣。
對於第1偏光膜、第2偏光膜及第3偏光膜之各別偏光片的厚度為5.3μm。
經上述測定之各偏光膜之吸收軸的角度〔°〕表示於表1中。表1所示之吸收軸之角度係如第4圖所示，為經上捲出時的偏光膜之位置中之吸收軸之角度。
表1中係一同表示有關各偏光膜之發光因數(luminosity factor)校正偏光度〔%〕。發光因數校正偏光度 係如以下方式算出。首先，對格蘭湯姆森稜鏡(Glan-Thompson Prism)入射預定之波長之光，測定偏光膜對從格蘭湯姆森稜鏡射出之偏光的穿透率。穿透率之測定係使用附積分球之分光光度計(日本分光股份有限公司製、V7100)。穿透率係相對於從光源所射出之全光量(此時，為從格蘭湯姆森稜鏡所射出之偏光之全光量)，穿透測定對象之光之光量(在測定器接收光之光量)的比。
穿透率係分別測定MD穿透率及TD穿透率。所謂MD穿透率係使從格蘭湯姆森稜鏡射出之偏光之偏光方向、與偏光膜之穿透軸之方向設為平行時之穿透率。所謂TD穿透率係使從格蘭湯姆森稜鏡射出之偏光之偏光方向、與偏光膜之穿透軸之方向設為正交時之穿透率。將所測定之MD穿透率及TD穿透率代入以下之(式2)，算出偏光度。
又，經代入(式2)之MD穿透率及TD穿透率之值係採用使380nm以上、780nm以下之各波長之光入射於格蘭湯姆森稜鏡時，對其各者測定而得之各穿透率予以平均後之值。
對於依上述(式2)所算出之偏光度，藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行發光因數校正，求出發光因數校正偏光度。又，本說明書中，有時將發光 因數校正偏光度簡稱為偏光度。
其次，準備2個之環烯烴系橫延伸相位差膜(日本Zeon股份有限公司製、Zeonor film(註冊商標))之原料捲筒作為相位差膜。將2個相位差膜作為第1相位差膜及第2相位差膜。對於第1相位差膜及第2相位差膜，各別測定進相軸。進相軸之角度之測定係使用王子計測機股份有限公司製「KOBRA(註冊商標)-WPR」，與上述之偏光膜同樣地進行。測定結果表示於表2中。表2所示之進相軸之角度〔°〕係如第4圖所示之方式，為經上捲出時之相位差膜之位置中之進相軸的角度。
從如上述之方式獲得之3個偏光膜之吸收軸之測定數據、及2個相位差膜之進相軸之測定數據中，確認相對角度為未達0.24°之組合。結果表示於表3至表8。
表3係表示有關使第1偏光膜及第1相位差膜貼合之情形。表4係表示有關使第1偏光膜及第2相位差膜貼合之情形。表5係表示有關使第2偏光膜及第1相位差膜貼合之情形。表6係表示有關使第2偏光膜及第2 相位差膜貼合之情形。表7係表示有關使第3偏光膜及第1相位差膜貼合之情形。表8係表示有關使第3偏光膜及第2相位差膜貼合之情形。
在表3至表8之各別中，係表示有關原料捲筒中之偏光膜之捲繞狀態為：上述製造後保持原樣之捲繞狀態之情形、及如第8A圖至第8C圖所示般重新捲繞而朝長度方向反轉之捲繞狀態之情形之兩者。此外，對於該兩者，表示將相位差膜如第4圖般進行上捲出之情形、及將相位差膜如第6圖般進行下捲出之情形。偏光膜之捲出方式係任一之情形均為上捲出。
上述之表1及表2所示之角度數據，係當偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之捲繞狀態時，如第4圖之方式，將偏光膜及相位差膜一同以上捲出方式貼合時之角度數據。亦即，以偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之捲繞狀態，使偏光膜之捲出方式與相位差膜之捲出方式一同為上捲出時，積層膜中之左側部分之相對角度，係表1中第1部分之吸收軸之角度與表2中第1部分之進相軸之角度之間的差之絶對值。積層膜中之右側部分之相對角度係表1中第3部分之吸收軸之角度與表2中第3部分之進相軸之角度之間的差之絶對值。
相位差膜之捲出方式為下捲出之情形時，相位差膜之位置係朝寬度方向及積層方向反轉。因此，表3至表8中，進相軸之角度係在左側部分與右側部分交換，且相對於表2所示之值，正負為顛倒。
偏光膜之捲繞狀態重新捲繞而使其反轉之狀態時，係偏光膜之位置係朝寬度方向及長度方向反轉。因此，表3至表8中，吸收軸之角度係在左側部分與右側部分交換。此時，由於偏光膜之位置未朝積層方向反轉，故相對於表1所示之值，吸收軸之正負未改變。
又，積層膜之中央部分在上述之任一之組合中，相對角度皆未達0.24°，故在表3至表8中省略記載。
表3至表8中，以網底表示之處係在積層膜之中央部分、左側部分及右側部分之任一者中相對角度均未達0.24°之處。其中，藉由選擇各貼合面及貼合各貼合面之方向而貼合各膜，可使吸收軸與進相軸之間的偏移較小，獲得偏光度之低下經抑制之積層膜。
從表3至表8所示之在任一者之部位中相對角度均為未達0.24°之組合中進行選擇，製造實施例1至實施例6之積層膜。此外，從表3至表8所示之在左側部分及右側部分之至少一者中相對角度均為0.24°以上之組合中進行選擇，製造比較例1至比較例4之積層膜。
實施例1係將第3偏光膜與第1相位差膜一同以上捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之狀態者。
實施例2係將第3偏光膜與第2相位差膜一同以上捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之狀態者。
實施例3係將第1偏光膜以上捲出方式、第 2相位差膜以下捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為重新捲繞而使其反轉之狀態。
實施例4係將第1偏光膜以上捲出方式、第1相位差膜以下捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為重新捲繞而使其反轉之狀態者。
實施例5係將第2偏光膜以上捲出方式、第1相位差膜以下捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為重新捲繞而使其反轉之狀態者。
實施例6係將第2偏光膜以上捲出方式、第2相位差膜以下捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為重新捲繞而使其反轉之狀態者。
比較例1係將第1偏光膜與第2相位差膜一同以上捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之狀態者。
比較例2係將第2偏光膜與第2相位差膜一同以上捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之狀態者。
比較例3係將第2偏光膜與第1相位差膜一同以上捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為製造後保持原樣之狀態者。
比較例4係將第3偏光膜以上捲出方式、第2相位差膜以下捲出方式貼合而製造，作為偏光膜之捲繞狀態為重新捲繞而使其反轉之狀態者。
各實施例及各比較例中，偏光膜與相位差膜 之貼合係如以下之方式進行。首先，對相位差膜之貼合面以硬化後之厚度成為1.0μm左右之方式使用小徑凹版塗佈機塗佈紫外線硬化性接著劑((股)ADEKA製之「KR-75T」)。然後，如第4圖或第6圖，使用一對之夾持輥，使相位差膜隔著紫外線硬化性接著劑而壓接於偏光膜。對經壓接之膜使用高壓水銀燈，從相位差膜側以200mJ/cm2之積算光量照射紫外線而使紫外線硬化性接著劑硬化。藉此，獲得各實施例及各比較例之積層膜。經製造之各積層膜為長條之帶狀，長度方向之尺寸為500m。各積層膜為捲取於芯材之原料捲筒。
對於如上述方式所獲得之各實施例及各比較例各者，從相位差膜側入射光而測定發光因數校正偏光度。將結果表示於表9及表10中。
從表9及表10，可確認出在實施例1至實施例6時，中央部分、左側部分及右側部分之任一者中，發光因數校正偏光度均為99.992%以上，相對於此，在比較例1至比較例4時，左側部分及右側部分中之一者或兩者中，發光因數校正偏光度均未達99.992%。經驗上可知，發光因數校正偏光度若為99.992%以上，將積層膜使用於液晶顯示裝置時，可獲得充分高之對比。
因此，若依據本實施例，可確認出藉由設置選擇步驟，可製造偏光度(發光因數校正偏光度)優異之積層膜。此外，可確認出使用如此所製造之積層膜，可抑制液晶顯示裝置之對比降低。又可確認出容易獲得偏光度優異且長條之積層膜。
依以上，可確認出本發明之實用性。
S11‧‧‧偏光膜準備步驟
S11a‧‧‧樹脂層形成步驟
S11b‧‧‧延伸步驟
S11c‧‧‧染色步驟
S11d‧‧‧吸收軸測定步驟(第1測定步驟)
S11e‧‧‧保護膜貼合步驟
S11f‧‧‧偏光片形成步驟
S12‧‧‧相位差膜準備步驟
S13‧‧‧進相軸測定步驟(第2測定步驟)
S14‧‧‧選擇步驟
S15‧‧‧相位差膜貼合步驟

Claims (9)

  1. 一種積層膜之製造方法，該積層膜係具備：含有在聚乙烯醇系樹脂中配向有二色性色素之偏光片的偏光膜、及貼合於前述偏光膜之相位差膜，且該製造方法包含：偏光膜準備步驟，其係準備前述偏光膜；相位差膜準備步驟，其係準備前述相位差膜；第1測定步驟，其係相對於與積層前述偏光膜及前述相位差膜之積層方向正交之預定方向，測定前述偏光片之吸收軸的角度；第2測定步驟，其係相對於前述預定方向，測定前述相位差膜之進相軸的角度；選擇步驟，其係在前述偏光膜及前述相位差膜中要互相對向地貼合之部分，以使前述吸收軸與前述進相軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從前述偏光膜及前述相位差膜中選擇要互相貼合之貼合面；以及相位差膜貼合步驟，其係在前述偏光膜之前述貼合面貼合前述相位差膜之前述貼合面；其中，在前述相位差膜貼合步驟中，從捲繞有帶狀之前述偏光膜的原料捲筒捲出前述偏光膜，並從捲繞有帶狀之前述相位差膜之原料捲筒捲出前述相位差膜，同時使前述偏光膜之長度方向與前述相位差膜之長度方向一致，而將前述相位差膜貼合在前述偏光膜。
  2. 一種積層膜之製造方法，該積層膜係具備：含有在聚乙烯醇系樹脂中配向有二色性色素之偏光片的偏光膜、及 貼合於前述偏光膜之相位差膜，且該製造方法包含：偏光膜準備步驟，其係準備前述偏光膜；相位差膜準備步驟，其係準備前述相位差膜；第1測定步驟，其係相對於與積層前述偏光膜及前述相位差膜之積層方向正交之預定方向，測定前述偏光片之吸收軸的角度；第2測定步驟，其係相對於前述預定方向，測定前述相位差膜之慢軸的角度；選擇步驟，其係在前述偏光膜及前述相位差膜中要互相對向地貼合之部分，以使前述吸收軸與前述慢軸之相對角度成為未達預定角度之方式，從前述偏光膜與前述相位差膜中選擇要互相貼合之貼合面；以及相位差膜貼合步驟，其係在前述偏光膜之前述貼合面貼合前述相位差膜之前述貼合面；其中，在前述相位差膜貼合步驟中，從捲繞有帶狀之前述偏光膜的原料捲筒捲出前述偏光膜，並從捲繞有帶狀之前述相位差膜之原料捲筒捲出前述相位差膜，同時使前述偏光膜之長度方向與前述相位差膜之長度方向一致，而將前述相位差膜貼合在前述偏光膜。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之積層膜之製造方法，其中，前述預定角度為0.24°。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之積層膜之製造方法，其中，在前述選擇步驟中，以使前述相對角度成為未達前述預定角度之方式，選擇前述貼合面之貼合 的方向，在前述相位差膜貼合步驟中，依據所選擇之前述貼合的方向，將前述相位差膜之前述貼合面貼合於前述偏光膜之前述貼合面。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之積層膜之製造方法，其中，前述偏光膜準備步驟係形成前述偏光膜之偏光膜形成步驟，前述偏光膜形成步驟包含：偏光片形成步驟，其係形成前述偏光片；以及保護膜貼合步驟，其係在前述偏光片貼合保護膜；前述第1測定步驟係設置在前述偏光片形成步驟之後，且較前述保護膜貼合步驟之前。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之積層膜之製造方法，其中，前述第1測定步驟係設置在前述偏光膜準備步驟之後，且較前述選擇步驟之前。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之積層膜之製造方法，其中，在前述相位差膜準備步驟中，準備複數之前述相位差膜，在前述選擇步驟中，前述相位差膜之前述貼合面係從複數之前述相位差膜的兩面之中選擇者。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之積層膜之製 造方法，其中，在前述偏光膜準備步驟中，準備複數之前述偏光膜，在前述選擇步驟中，前述偏光膜之前述貼合面係從複數之前述偏光膜的兩面之中選擇者。
  9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之積層膜之製造方法，其中，在前述第1測定步驟中，沿著前述偏光膜之寬度方向在複數處進行測定，在前述第2測定步驟中，沿著前述相位差膜之寬度方向在複數處進行測定，在前述選擇步驟中，在前述偏光膜與前述相位差膜中要互相對向地貼合之部分中之複數處，以使前述相對角度成為未達前述預定角度之方式選擇前述貼合面。
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