TWI823832B - 偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法 - Google Patents

偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI823832B
TWI823832B TW106108313A TW106108313A TWI823832B TW I823832 B TWI823832 B TW I823832B TW 106108313 A TW106108313 A TW 106108313A TW 106108313 A TW106108313 A TW 106108313A TW I823832 B TWI823832 B TW I823832B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
polarizer
resin layer
coating liquid
resin
less
Prior art date
Application number
TW106108313A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201802168A (zh
Inventor
出光
Original Assignee
日商住友化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商住友化學股份有限公司 filed Critical 日商住友化學股份有限公司
Publication of TW201802168A publication Critical patent/TW201802168A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI823832B publication Critical patent/TWI823832B/zh

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D129/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Coating compositions based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D129/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09D129/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

本發明提供薄型且厚度分佈的不均勻小的偏光片以及具備此種偏光片之偏光膜。本發明的偏光片之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,偏光片的厚度為10μm以下,於偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下。

Description

偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法
本發明係關於偏光片、偏光膜以及偏光片的製造方法。
已知使二色性物質吸附於以聚乙烯醇(PVA;PolyVinyl Alcohol)系樹脂作為形成材料之親水性高分子層所得之偏光片(例如專利文獻1)。使用此種偏光片的偏光膜,係被使用於個人電腦、電視(TV)、監視器、手機及個人數位助理(PDA;Personal Digital Assistant)等液晶顯示裝置。近年來,伴隨液晶顯示裝置的高性能化、薄型化,對使用於液晶顯示裝置的偏光膜的偏光片,也要求薄型化。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-098653號公報
為了製造比較薄型的偏光片,例如專利文 獻1之記載,於基材層塗佈含有親水性高分子的水溶液後,將含有親水性高分子的水溶液乾燥,形成親水性高分子層已積層於基材層上之積層體。然後,對該積層體,進行延伸處理及染色處理,製造偏光片。但是,使用如此的方法製造偏光片時,有在穿透軸方向(寬度方向)之偏光片之厚度分佈的不均勻變大的問題。而且,近年來,隨著以辨識性的提高為目的之背光源的高亮度化進展,變成比以往更容易辨識偏光片的厚度分佈不均勻的狀況。
本發明之一態樣,係有鑑於上述問題點,而以提供薄型且厚度分佈的不均勻小的偏光片、以及具備此種偏光片之偏光膜為目的之一。而且,本發明之一態樣,係以提供可薄型化且可使厚度分佈的不均勻變小的偏光片的製造方法為目的之一。
本發明的偏光片之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,前述偏光片的厚度為10μm以下,於前述偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下。
亦可設為:於前述偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的週期強度為0.13μm以下的構成。
本發明的偏光片之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,前述偏光片的厚度為10μm以下,於前述偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的週期強度為0.13μm以下。
亦可設為:於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅為10nm以下的構成。
本發明的偏光片之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,前述偏光片的厚度為10μm以下,於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅為10nm以下。
亦可設為:於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度為2nm以下的構成。
本發明的偏光片之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,前述偏光片的厚度為10μm以下,於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度為2nm以下。
本發明的偏光膜之一態樣,係具備上述偏光片、及設置於前述偏光片的至少一側的面之保護膜。
本發明的偏光片的製造方法之一態樣,係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片的製造方法,前述偏光片的厚度為10μm以下,且該製造方法包括:於基材上形成以聚乙烯醇系樹脂作為形成材料的樹脂層之樹脂層形成步驟;將前述樹脂層與前述基材一起延伸的延伸步驟;以及使前述二色性色素吸附於前述樹脂層的染色步驟;其中,前述樹脂層形成步驟包括:於前述基材上塗佈包含聚乙烯醇系樹脂的樹脂層用塗佈液的步驟、以及使 塗佈的前述樹脂層用塗佈液乾燥的步驟,其中,使前述樹脂層用塗佈液乾燥的步驟的長度為180秒以下。
在前述樹脂層形成步驟前,更包括在前述基材上形成底塗(primer)層的底塗層形成步驟,其中,前述底塗層形成步驟可為包括在前述基材上塗佈底塗層用塗佈液的步驟、以及使塗佈的前述底塗層用塗佈液乾燥的步驟之製造方法。
根據本發明的一態樣,可提供薄型且穿透軸方向的厚度分佈的不均勻小的偏光片以及具備此種偏光片之偏光膜。而且,根據本發明的一態樣,可提供可薄型化且可使不均勻變小的偏光片的製造方法。
1‧‧‧偏光膜
10‧‧‧偏光片
10a‧‧‧上面
10b‧‧‧下面
11‧‧‧保護膜
12‧‧‧接著層
2‧‧‧驗證用積層體
20‧‧‧基材膜(基材)
20a‧‧‧上面
20b‧‧‧下面
31‧‧‧底塗層用塗佈液
32‧‧‧底塗層
33‧‧‧樹脂層用塗佈液
33a‧‧‧上面
34、134a、134b‧‧‧樹脂層
34a‧‧‧上面
34b‧‧‧下面
34c‧‧‧最頂點
34d‧‧‧最低點
34e‧‧‧最頂點
34f‧‧‧最低點
35‧‧‧平坦面
41‧‧‧第一塗佈裝置
42‧‧‧第二塗佈裝置
51‧‧‧第一乾燥爐
52‧‧‧第二乾燥爐
60‧‧‧延伸裝置
70‧‧‧積層膜
71‧‧‧偏光性積層膜
80‧‧‧染色溶液
S1‧‧‧底塗層形成步驟
S1a‧‧‧第一塗佈步驟
S1b‧‧‧第一乾燥步驟
S2‧‧‧樹脂層形成步驟
S2a‧‧‧第二塗佈步驟
S2b‧‧‧第二乾燥步驟
S3‧‧‧延伸步驟
S4‧‧‧染色步驟
第1圖係表示本實施型態的偏光膜的剖面圖。
第2圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的流程圖。
第3圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的一部分之示意圖。
第4圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的一部分之剖面圖。
第5圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的一部分之剖面圖。
第6圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序 的一部分之剖面圖。
第7圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的一部分之剖面圖。
第8圖係表示本實施型態的偏光膜的製造方法的順序的一部分之剖面圖。
第9圖係表示驗證例的積層體的剖面圖。
第10圖係表示樹脂層的厚度對寬度方向位置之圖表。
第11圖係表示偏光片的厚度對寬度方向位置之圖表。
第12圖係表示偏光片的厚度分佈的週期強度對偏光片的厚度分佈的不均勻週期之圖表。
第13圖係表示偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差對寬度方向位置之圖表。
第14圖係表示偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度對偏光片的厚度分佈的不均勻週期之圖表。
以下,一邊參考圖式,一邊詳細說明關於本發明的實施型態的偏光膜。
再者,本發明的範圍不限於以下的實施型態,在本發明的技術思想範圍內可進行任意變更。而且,於以下圖式,為了容易了解各構成,有使各構造的縮尺及數目等與實際的構造的縮尺及數目等不同的情況。
第1圖係表示本實施型態的偏光膜1的剖面圖。如第1圖所示,偏光膜1具備偏光片10、保護膜11 及接著層12。偏光片10、接著層12及保護膜11係依此順序積層。雖圖式係省略,但本實施型態的偏光膜1為長條帶狀。偏光膜1,例如捲取於芯材,以捲筒之形式保管等。
再者,於以下的說明中,有將偏光膜1中的各層所積層的方向簡稱為「積層方向」的情況,有將偏光膜1之與積層方向正交的長度方向簡稱為「長度方向」的情況,有將偏光膜1之與積層方向及長度方向兩者正交的寬度方向簡稱為「寬度方向」的情況。
而且,於圖式中,表示適合的3維直角座標系(XYZ座標系)。於3維直角座標系中,Z軸方向設為與積層方向平行的方向,Y軸方向設為與寬度方向平行的方向,X軸方向設為與長度方向平行的方向。而且,於積層方向中,Z軸方向的正的側有稱為「上側」的情況,Z軸方向的負的側有稱為「下側」的情況。所謂上側與下側,只是為了說明各部分的相對位置關係所使用的名稱,不限制偏光膜的製造時之各部分的姿勢、偏光膜的實際姿勢及偏光膜的使用態樣等。
偏光片10係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的層。於本實施型態中,偏光片10的吸收軸,例如與長度方向(X軸方向)平行,偏光片10的穿透軸,例如與寬度方向(Y軸方向)平行。
作為屬於偏光片10的形成材料之聚乙烯醇系樹脂者,可舉例如聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇樹脂衍生物及聚乙烯醇樹脂衍生物的改性物等。作為聚乙烯醇樹脂衍 生物者,可舉例如聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇縮丁醛等。作為聚乙烯醇樹脂衍生物的改性物者,可舉例如將上述聚乙烯醇樹脂衍生物使用乙烯、丙烯等烯烴;丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸;不飽和羧酸的烷酯;或丙烯醯胺等而改性者。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度較理想為100以上10000以下,更理想為1000以上10000以下,更加理想為1500以上8000以下,又更加理想為2000以上5000以下。當聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度未達100的情況,難以得到合適的光學特性,當大於10000的情況,對水的溶解性變低,製作後述的樹脂層用塗佈液33變困難。於本說明書中,聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度,例如可藉由JIS K 6727(1994)規定的方法求得。
屬於偏光片10的形成材料之聚乙烯醇系樹脂係以經皂化者為較理想。聚乙烯醇系樹脂的皂化度較理想為80.0莫耳%以上100.0莫耳%以下,更理想為90.0莫耳%以上99.5莫耳%以下,更加理想為93.0莫耳%以上99.5莫耳%以下。藉由使聚乙烯醇系樹脂的皂化度為80莫耳%以上,容易得到合適的光學特性。
再者,所謂聚乙烯醇系樹脂的皂化度,係指將屬於聚乙烯醇系樹脂的原料之聚乙酸乙烯酯系樹脂所含之乙酸基藉由皂化步驟而轉變成羥基的比例以莫耳%表示者,以下述(式1)來定義。
(式1)皂化度(莫耳%)=(羥基的數目)÷(羥基的數目+乙 酸基的數目)×100於本說明書中,聚乙烯醇系樹脂的皂化度,例如可藉由JIS K 6727(1994)規定的方法求得。
於偏光片10中,亦可包含塑化劑、界面活性劑等添加劑。作為塑化劑者,可舉例如多元醇及多元醇的縮合物。作為多元醇及多元醇的縮合物者,可舉例如丙三醇、二丙三醇、三丙三醇、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。偏光片10中的塑化劑的含量,無特別限制,例如係以20質量%以下為較理想。
偏光片10的厚度T1為10μm以下,較理想為5μm以下。於偏光片10的寬度方向(穿透軸方向、Y軸方向),偏光片10的厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下,較理想為0.2μm以下,更理想為0.1μm以下。考慮到測定裝置的解析能力時,偏光片10的厚度分佈的最大振幅,通常為0.01μm以上。所謂厚度分佈的最大振幅,係指偏光片10的厚度T1中之最大值與最小值的差。於本說明書中,偏光片10的厚度T1,例如使用白色干涉式非接觸式膜厚計(例如Filmetrics公司製,型號:F20)來測定。藉此,可不接觸測定的對象(偏光片10)並進行精密的測定,即使測定的對象為積層體的一部分的層,可不剝離各層而測定對象的膜厚。
於偏光片10的寬度方向(穿透軸方向、Y軸方向),偏光片10的厚度分佈的週期強度,較理想為0.13μm以下,更理想為0.05μm以下,更加理想為0.04μm以下。而且,偏光片10的厚度分佈的週期強度,通常為 0.0025μm以上。於本說明書中,偏光片10的厚度分佈的週期強度,例如藉由以下方式求得。
將寬度方向的偏光片10的厚度分佈,進行快速傅立葉轉換(FFT:Fast Fourier Transform)。快速傅立葉轉換的演算法,例如使用Cooley-Tukey型FFT演算法。使用Cooley-Tukey型FFT演算法的快速傅立葉轉換,例如可藉由實施微軟公司製表計算軟體「Excel(註冊商標)2010」的增益集「ATPVBAEN.XLAM!Fourier」而進行。以測定的偏光片10的厚度T1的原始分數數據為對象,實施該增益集,而可將寬度方向的偏光片10的厚度分佈進行快速傅立葉轉換。
一般而言,快速傅立葉轉換,將時間的波形函數轉換為頻率的分佈函數。於本實施型態的情況,將表示寬度方向位置L(Y軸方向位置)中之偏光片10的厚度分佈之波形函數f(L),藉由快速傳立葉轉換,得到偏光片10的厚度分佈的頻率ω的分佈函數f(ω)。再者,取樣週期為1/ω。
於本說明書中,偏光片10的厚度分佈的週期強度係以|f(ωN)|/(N/2)表示。|f(ωN)|係將對應第N個採樣點的波形函數f(LN)進行快速傅立葉轉換所得之分佈函數的絕對值。LN係第N個採樣點的寬度方向位置L。偏光片10的厚度分佈的週期強度的物理量,係等於偏光片10的厚度分佈的物理量。再者,採樣點的最大數,係所得之膜厚分佈的原始分數A以下且為最接近A的2的指數 值。
以如上述方式所得之偏光片10的厚度分佈的週期強度為縱軸,以採樣點的週期為橫軸,而得到功率譜。採樣點的週期為LN/N。
再者,於本說明書中,所謂週期強度為既定值以下,係指包含週期為10mm以上70mm以下的區域中之週期強度為既定值以下。亦即,所謂偏光片10的厚度分佈的週期強度為0.05μm以下,係指包含週期為10mm以上70mm以下的區域中之偏光片10的厚度分佈的週期強度為0.05μm以下。換言之,所謂偏光片10的厚度分佈的週期強度為0.05μm以下,係指包含:於週期為10mm以上70mm以下的區域中,偏光片10的厚度分佈的週期強度的最大值為0.05μm以下。
而且,於本說明書中,某膜(層)的厚度係指該膜(層)的積層方向(Z軸方向)的尺寸,也包含該膜(層)的平均厚度。亦即,所謂偏光片的厚度,也包含偏光片的平均厚度。
於偏光片10的寬度方向(穿透軸方向、Y軸方向),聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅,較理想為10nm以下,更理想為5.7nm以下,更加理想為5.3nm以下。而且,聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅,通常為0.3nm以上。所謂相位差分佈的最大振幅,係指於週期為10mm以上20mm以下的區域中之聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva的最大值。
聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva,可從無二色性色素的吸收帶的波長區域中之偏光片10的相位差R(λ)求得。再者,於本說明書中,聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva,係指在波長1000nm之相位差。具體而言,對波長850nm以上的複數波長λ逐個測定偏光片10的相位差R(λ),進行測定的波長λ與測得的相位差R(λ)之作圖(plot),於下述Sellmeier式(式2)以最小平方法擬合(fitting)。此處,(式2)中之E及F為擬合參數,且為藉由最小平方法決定的係數。
(式2)R(λ)=E+F/(λ2-6002)
(式2)中之E,相當於聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva。再者,F/(λ2-6002),相當於二色性色素的相位差。於本說明書中,偏光片10的相位差R(λ)的測定,例如使用相位差測定裝置(王子計測機器股份有限公司製,型式:KOBRA-WPR/IR)進行。
於偏光片10的寬度方向(穿透軸方向、Y軸方向),聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度,較理想為2nm以下,更理想為0.9nm以下,更加理想為0.8nm以下。而且,聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度,通常為0.075nm以上。所謂聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度,係指將寬度方向的聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈施以快速傅立葉轉換所得之波數譜中,週期為10mm以上20mm以下的區域中之最大振幅的值。相位差分佈的週期強度的計算方法,係與上述偏光片10的厚度分佈的週期 強度相同。
作為配向於聚乙烯醇系樹脂中的二色性色素者,可舉例如碘、有機染料等。
保護膜11係設置於偏光片10的上面10a。更詳細而言,於本實施型態中,保護膜11係隔著接著層12而接著於偏光片10的上面10a。保護膜11,可為不具有光學功能的單純保護膜,亦可為如相位差膜及增亮膜等兼具光學功能之保護膜。
作為保護膜11的形成材料者,無特別限制,可舉例如:環狀聚烯烴系樹脂膜;三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素等樹脂所構成的乙酸纖維素系樹脂膜;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂所構成的聚酯系樹脂膜;聚碳酸酯系樹脂膜;丙烯酸系樹脂膜;以及聚丙烯系樹脂膜等。
環狀聚烯烴系樹脂膜,可為經一軸延伸者,亦可為經二軸延伸者,藉由延伸,可賦予環狀聚烯烴系樹脂膜任意的相位差。
環狀聚烯烴系樹脂膜,一般而言表面活性差。因此,於保護膜11為環狀聚烯烴系樹脂膜的情況,較理想為對保護膜11之欲與偏光片10接著的下面,進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理等表面處理。特別是適合為可比較容易實施的電漿處理、電暈處理。
於保護膜11為乙酸纖維素系樹脂膜的情 況,於保護膜11的表面,為了改善視角特性,亦可形成液晶層等。而且,保護膜11,為了賦予相位差,亦可為使乙酸纖維素系樹脂膜經延伸者。於保護膜11為乙酸纖維素系樹脂膜的情況,為了提高與偏光膜1的接著性,保護膜11的下面,通常實施皂化處理。作為皂化處理者,可採用浸漬於如氫氧化鈉及氫氧化鉀等鹼之水溶液的方法。
於保護膜11的表面,可形成硬塗層、防眩層、抗反射層等光學層。於保護膜11的表面形成該等光學層的方法,無特別限制,可使用習知的方法。
保護膜11的厚度T2,由於薄型化的要求,以盡可能地薄為較理想,較理想為90μm以下,更理想為50μm以下。保護膜11的厚度T2太薄時,保護膜11的強度降低,加工性差,故保護膜11的厚度T2係以5μm以上為較理想。
於本實施型態中,保護膜11,可只設置於偏光片10的上面10a,但不限於此。保護膜11只要設置於偏光片10的至少一側的面即可,亦可設置於偏光片10的上面10a及下面10b兩者。
接著層12,係積層於偏光片10的上面10a。接著層12,係將偏光片10與保護膜11互相接著的層。作為接著層12的形成材料者,例如以水系接著劑、紫外線硬化型接著劑及電子束硬化型接著劑等為較理想,以水系接著劑為更理想。作為水系接著劑者,可舉例如聚乙烯醇系樹脂的水溶液、於聚乙烯醇系樹脂的水溶液中調配有一般 的交聯劑的水溶液以及胺酯系乳劑接著劑等。而且,接著劑12的形成材料,可含有金屬化合物填充劑。
然後,說明關於本實施型態的偏光膜1的製造方法。第2圖係表示本實施型態的偏光膜1的製造方法的順序的流程圖。第3圖係表示偏光膜1的製造方法的順序的一部分之示意圖。第4圖至第8圖係表示偏光膜1的製造方法的順序的一部分之剖面圖。第4圖係第3圖所示之P1的位置之剖面圖。第5圖係第3圖所示之P2的位置之剖面圖。第6圖係第3圖所示之P3的位置之剖面圖。第7圖係第3圖所示之P4的位置之剖面圖。再者,第5圖至第8圖中,示意性地強調表示由於後述基材膜20的熱收縮所致之凹凸形狀及伴隨基材膜20的熱收縮之各層的凹凸形狀。
本實施型態的偏光膜1的製造方法,係如第2圖所示,包括樹脂層形成步驟S2、延伸步驟S3、染色步驟S4、貼合步驟S5及剝離步驟S6。如第2圖所示,樹脂層形成步驟S2前,亦可包括底塗層形成步驟S1。如第3圖所示,於本實施型態中,將捲筒狀的基材膜(基材)20藉由夾持滾輪及傳送滾輪,在長度方向傳送,同時製造偏光膜1。再者,第3圖雖表示各步驟連續地進行的型態,但亦可在每一步驟結束時,暫時將膜捲取成捲筒。
基材膜20的材質,只要是於延伸步驟S3中可與後述的樹脂層34一起延伸,即無特別限制。基材膜20的材質,例如為熱塑性樹脂。被使用作為基材膜20的 材質之熱塑性樹脂,較理想為透明性、機械強度、熱安定性及延伸性等優異。
具體而言,被使用作為基材膜20的材質之熱塑性樹脂,可舉例如:鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂;纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;聚乙烯醇系樹脂;聚乙酸乙烯酯系樹脂;聚芳酯系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚碸系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚醯亞胺系樹脂;以及該等樹脂的混合物、共聚物等。
基材膜20,可由上述熱塑性樹脂中之1種或2種以上的熱塑性樹脂所構成。基材膜20,可為單層構造,亦可為多層構造。
基材膜20的厚度,無特別限制,從強度及操作性等的觀點而言,較理想為1μm以上500μm以下,更理想為1μm以上300μm以下,更加理想為5μm以上200μm以下,又更加理想為5μm以上150μm以下。基材膜20的寬度方向(Y軸方向)的尺寸,例如為500mm以上。
基材膜20的長度方向之拉伸彈性模量,例如於80℃為140MPa以上。基材膜20的長度方向之拉伸彈性模量,較理想為於80℃為150MPa以上,更理想為155MPa以上。藉由使用此種基材膜,可抑制後述第一乾燥步驟S1b及第二乾燥步驟S2b中之基材膜20的熱收縮。於本說明書 中,基材膜20的長度方向之拉伸彈性模量,例如藉由AUTOGRAPH(註冊商標)(島津製作所股份有限公司製,型號:AG-IS)來測定。具體而言,根據JIS K7163測定。
底塗層形成步驟S1,係於基材膜20上形成底塗層32(參考第5圖)的步驟。底塗層32,係為了提高基材膜20與後述的樹脂層34的黏合力而設置的層。底塗層形成步驟S1,如第2圖所示,包括第一塗佈步驟S1a及第一乾燥步驟S1b。如第3圖所示,於第一塗佈步驟S1a中,藉由第一塗佈裝置41,於基材膜20的上面20a塗佈底塗層用塗佈液31。
底塗層用塗佈液31,例如為使樹脂的粉末溶解於溶劑中所得之樹脂溶液。底塗層用塗佈液31所含的樹脂,係包含可提高上述黏合力的成分的樹脂,較理想為透明性、熱安定性、延伸性等優異的熱塑性樹脂。作為底塗層用塗佈液31所含的樹脂者,可舉例如(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。特別是作為底塗層用塗佈液31所含的樹脂,較理想為聚乙烯醇系樹脂。此係由於可得到良好的基材膜20與後述的樹脂層34的黏合力。
被使用來作為底塗層用塗佈液31所含的樹脂之聚乙烯醇系樹脂,可與上述偏光片10的聚乙烯醇系樹脂同樣地選擇。底塗層用塗佈液31所含的樹脂,可與偏光片10的聚乙烯醇系樹脂相同,亦可不同。
作為底塗層用塗佈液31的溶劑者,可列舉可溶解上述樹脂的有機溶劑及水系溶劑等。作為有機溶劑 者,可舉例如:苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類;乙酸乙酯、乙酸異丁酯等酯類;二氯甲烷、三氯乙烯、三氯甲烷等氯化烴類;以及乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇類。作為底塗層用塗佈液31的溶劑者,例如較理想為水。此係因不論基材膜20的材質,基材膜20不易溶解,且可使對環境的影響小。底塗層用塗佈液31中的樹脂的濃度係以1質量%以上25質量%以下左右為較理想。
使用第一塗佈裝置41之底塗層用塗佈液31的塗佈方法,只要可在基材膜20的上面20a塗佈底塗層用塗佈液31,即無特別限制。使用第一塗佈裝置41之底塗層用塗佈液31的塗佈方法,可舉例如線棒塗佈法、逆向塗佈法、凹版塗佈法等滾輪塗佈法、模具塗佈法、缺角輪塗佈法(comma coating)、唇式塗佈法(lip coating)、網版塗佈法、噴注式塗佈法(fountain coating)、浸塗法、噴塗法等。作為第一塗佈裝置41者,可適當地選擇對應各塗佈方法的塗佈裝置。
藉由第一塗佈步驟S1a,如第4圖所示,於基材膜20的上面20a形成底塗層用塗佈液31的層。
第一乾燥步驟S1b,係如第3圖所示,使用第一乾燥爐51,使塗佈於基材膜20上的底塗層用塗佈液31乾燥的步驟。於第一乾燥爐51內,例如藉由吹撫的熱風等,對底塗層用塗佈液31施加熱,乾燥底塗層用塗佈液31而硬化。第一乾燥爐51,只要可乾燥底塗層用塗佈液 31,即無特別限制。第一乾燥爐51的乾燥溫度,例如為50℃以上、200℃以下,較理想為60℃以上、150℃以下。第一乾燥爐51的乾燥溫度,可依據底塗層用塗佈液31所含的溶劑的種類而適當地設定。當底塗層用塗佈液31的溶劑包含水的情況,第一乾燥爐51的乾燥溫度係以80℃以上為較理想。
第一乾燥爐51的乾燥時間,亦即第一乾燥步驟S1b的長度,例如為30秒以上20分鐘以下。第一乾燥步驟S1b的長度,係從塗佈底塗層用塗佈液31至乾燥底塗層用塗佈液31而形成底塗層32為止之間的長度。
藉由第一乾燥步驟S1b,如第5圖所示,於基材膜20上,乾燥底塗層用塗佈液31,形成硬化的底塗層32。
此處,於第一乾燥步驟S1b中,與底塗層用塗佈液31一起對基材膜20施加熱。由於基材膜20的材質為熱塑性樹脂,故基材膜20因施加熱而在寬度方向(Y軸方向)熱收縮。因此,基材膜20變成波浪狀,基材膜20的上面20a及下面20b變成凹凸形狀。基材膜20的上面20a的凹凸形狀以及基材膜20的下面20b的凹凸形狀,沿著寬度方向,以凹部與凸部互異的方式設置。亦即,於寬度方向,在上面20a的形成凹部的位置,形成下面20b的凸部,在上面20a的形成凸部的位置,形成下面20b的凹部。
底塗層32,因形成於基材膜20的上面20a,故沿著上面20a的凹凸形狀,形成為波浪狀。底塗層32的 厚度,例如以0.05μm以上1μm以下為較理想,以0.1μm以上0.4μm以下為更理想。當底塗層32的厚度小於0.05μm的情況,基材膜20與後述的樹脂層34的黏合力變小,當大於1μm的情況,所製造的偏光膜1的厚度容易變大。
樹脂層形成步驟S2,係於基材膜20上形成以聚乙烯醇系樹脂作為形成材料的樹脂層34(參考第7圖)之步驟。如第2圖所示,樹脂層形成步驟S2,包括第二塗佈步驟S2a及第二乾燥步驟S2b。
第二塗佈步驟S2a,係於基材膜20上塗佈包含聚乙烯醇系樹脂的樹脂層用塗佈液33的步驟。如第3圖所示,於第二塗佈步驟S2a中,藉由第二塗佈裝置42,於基材膜20的上面20a,隔著底塗層32,塗佈樹脂層用塗佈液33。
樹脂層用塗佈液33,例如為使聚乙烯醇系樹脂的粉末溶解於溶劑中所得之聚乙烯醇系樹脂溶液。作為聚乙烯醇系樹脂者,如上述之偏光片10的形成材料的說明中所述。溶劑,例如為水。樹脂層用塗佈液33中的聚乙烯醇系樹脂的濃度,較理想為5質量%以上,更理想為5質量%以上15質量%以下,更加理想為5質量%以上10質量%以下。當樹脂層用塗佈液33中的聚乙烯醇系樹脂的濃度未達5質量%的情況,由於樹脂層用塗佈液33中的液體成分的比例變多,故於第二乾燥步驟S2b中,有時乾燥的效率會降低。而且,當樹脂層用塗佈液33中的聚乙烯醇系樹脂的濃度為15質量%以上的情況,樹脂層用塗佈液33 的黏度變得太大,有時塗佈樹脂層用塗佈液33會變困難。
樹脂層用塗佈液33的黏度,只要在容易塗佈於基材膜20上且形成於基材膜20上的樹脂層用塗佈液33的層的厚度不易產生不均勻的範圍,即無特別限制。樹脂層用塗佈液33的黏度,於塗佈於基材膜20上時,例如以0.5Pa‧s以上10Pa‧s以下為較理想,以0.8Pa‧s以上7Pa‧s以下為更理想,以1Pa‧s以上5Pa‧s以下為更加理想。
於樹脂層用塗佈液33的黏度未達0.5Pa‧s的情況,所塗佈的樹脂層用塗佈液33流動,有時樹脂層34的厚度精密度會降低。而且,於樹脂層用塗佈液33的黏度大於10Pa‧s的情況,由於塗佈樹脂層用塗佈液33的第二塗佈裝置42中可使用的過濾器受限等,有時所形成的樹脂層34的品質會降低。
再者,樹脂層用塗佈液33的黏度,只要當塗佈於基材膜20上時為上述數值範圍內即可。因此,例如在連接第二塗佈裝置42的儲存樹脂層用塗佈液33的槽(未圖示)內,樹脂層用塗佈液33的黏度可為上述數值範圍外。於該情況,例如可藉由加溫或冷卻樹脂層用塗佈液33,將樹脂層用塗佈液33的黏度設為上述數值範圍內。
樹脂層用塗佈液33,可包含塑化劑、界面活性劑等添加材料。塑化劑的種類係如上所述。樹脂層用塗佈液33之添加材料的調配量,相對於聚乙烯醇系樹脂的量而言,較理想為20質量%以下。
使用第二塗佈裝置42的樹脂層用塗佈液33的塗佈方法,只要可在基材膜20上塗佈樹脂層用塗佈液33,即無特別限制。使用第二塗佈裝置42的樹脂層用塗佈液33的塗佈方法,可列舉與上述底塗層用塗佈液31的塗佈方法相同的方法。使用第二塗佈裝置42的樹脂層用塗佈液33的塗佈方法,可與使用第一塗佈裝置41之底塗層用塗佈液31的塗佈方法相同,亦可不同。第二塗佈裝置42,可適當地選擇對應各塗佈方法之塗佈裝置。
藉由第二塗佈步驟S2a,如第6圖所示,於基材膜20的上面20a,隔著底塗層32,形成樹脂層用塗佈液33的層。樹脂層用塗佈液33的層,係沿著基材膜20的上面20a,形成為波浪狀。樹脂層用塗佈液33的層的厚度,例如為50μm以上200μm以下,較理想為150μm以下。
第二乾燥步驟S2b,係使塗佈於基材膜20上的樹脂層用塗佈液33乾燥的步驟。於第二乾燥步驟S2b中,如第3圖所示,使用第二乾燥爐52,使塗佈於基材膜20上的樹脂層用塗佈液33乾燥。於第二乾燥爐52內,例如藉由吹撫的熱風等,對樹脂層用塗佈液33的層施加熱,乾燥樹脂層用塗佈液33而硬化。第二乾燥爐52,只要可乾燥樹脂層用塗佈液33,即無特別限制。第二乾燥爐52的乾燥溫度,例如為50℃以上、200℃以下,較理想為60℃以上、150℃以下。第二乾燥爐52的乾燥溫度,可依據樹脂層用塗佈液33所含的溶劑的種類而適當地設定。當樹脂層用塗佈液33的溶劑包含水的情況,第二乾燥爐52的 乾燥溫度係以80℃以上為較理想。
第二乾燥爐52的乾燥時間,亦即第二乾燥步驟S2b的長度,例如為180秒以下,較理想為150秒以下,更理想為140秒以下。詳細如後所敘述,藉由將第二乾燥步驟S2b的長度如此地設定,可減少偏光片10的厚度分佈的不均勻。第二乾燥步驟S2b的長度,係從塗佈樹脂層用塗佈液33至乾燥樹脂層用塗佈液33而形成樹脂層34為止之間的長度。亦即,例如即使是在塗佈樹脂層用塗佈液33後直到樹脂層34從第二乾燥爐52內出來為止的時間大於150秒的情況,只要從塗佈樹脂層用塗佈液33至形成樹脂層34為止的時間為180秒以下即可。
使第二乾燥步驟S2b的長度為180秒以下的方法,只要能在180秒以下乾燥樹脂層用塗佈液33並形成樹脂層34,即無特別限制。例如可使第二乾燥爐52的輸出(例如風量)變大,亦可使樹脂層用塗佈液33的層的厚度變小,亦可將樹脂層用塗佈液33的溶劑設為例如醇等容易揮發的物質。例如樹脂層用塗佈液33的乾燥速度以設為1.6質量%/秒以上為較理想,以2.0質量%/秒以上為較理想。再者,塗佈有樹脂層用塗佈液33的基材膜20的傳送速度,可依據第二乾燥步驟S2b的長度而適當地調整。
再者,所謂本說明書中之乾燥速度,例如樹脂層用塗佈液33的乾燥開始後,比較初期的階段之乾燥速度。具體而言,所謂本說明書中之乾燥速度,例如樹脂層用塗佈液33所含的溶劑從30質量%減少至10質量%為 止之間的乾燥速度。
藉由第二乾燥步驟S2b,如第7圖所示,於基材膜20上,較理想為底塗層32上,形成樹脂層34。藉此,形成積層有基材膜20、底塗層32及樹脂層34的積層膜70。樹脂層34的上面34a為凹凸形狀。樹脂層34的上面34a的凹凸形狀,係比第6圖所示的樹脂層用塗佈液33的層的上面33a的凹凸形狀平坦化。此係因在剛塗佈樹脂層用塗佈液33後,直到乾燥樹脂層用塗佈液33而變成樹脂層34為止之間,樹脂層用塗佈液33流動而上面33a被平坦化。就可縮短乾燥時間的點而言,樹脂層34的厚度T4例如為3μm以上20μm以下,較理想為5μm以上20μm以下。
延伸步驟S3,係將樹脂層34與基材膜20一起延伸的步驟。於延伸步驟S3中,如第3圖所示,使用延伸裝置60,將積層膜70在長度方向進行一軸延伸。藉此,延伸樹脂層34。樹脂層34的厚度T4,因延伸而變小。於延伸步驟S3前,樹脂層34的厚度T4大於10μm的情況,藉由延伸步驟S3,樹脂層34的厚度T4變成10μm以下。
樹脂層34的延伸倍率,可依據所期望的偏光片10的偏光特性而適當地選擇。樹脂層34的延伸倍率,相對於延伸前的樹脂層34的長度方向的尺寸而言,以大於5倍、17倍以下為較理想,以大於5倍、8倍以下為更理想。於樹脂層34的延伸倍率為5倍以下的情況,樹脂層 34的配向不充分,所製造的偏光片10的偏光度無法充分變大。而且,於樹脂層34的延伸倍率大於17倍的情況,有時積層膜70會變得容易破裂,或者積層膜70的厚度變得太小,而後續步驟之加工性及操作性會降低。
延伸裝置60,只要可將樹脂層34延伸至既定的延伸倍率,即無特別限制。使用延伸裝置60之積層膜70的延伸方法,可為賦予傳送滾輪的周速差而進行延伸之滾輪間延伸,亦可為拉幅機延伸。而且,延伸處理可經過多階段進行。於該情況,可使經過多階段的延伸處理全部在染色步驟S4前進行,亦可使第2階段以後的延伸處理的一部分或全部在染色步驟S4中進行。
使用延伸裝置60延伸積層膜70(樹脂層34)時的延伸溫度,設定在可能延伸基材膜20及樹脂層34的程度顯示流動性的溫度以上。延伸溫度,例如以基材膜20的相轉移溫度(熔點或玻璃轉化溫度)-30℃以上+30℃以下的範圍為較理想,以-30℃以上+5℃以下的範圍為更理想,以-25℃以上±0℃以下的範圍為更加理想。於延伸溫度小於基材膜20的相轉移溫度-30℃的情況,基材膜20的流動性太小,有時會難以延伸基材膜20及樹脂層34。而且,於延伸溫度大於基材膜20的相轉移溫度+30℃的情況,基材膜20的流動性太大,有時會難以延伸基材膜20及樹脂層34。於基材膜20為多層的情況,所謂基材膜20的相轉移溫度,係指複數層的相轉移溫度中最高溫度。
染色步驟S4,係使二色性色素吸附於樹脂 層34的步驟。於染色步驟S4中,如第3圖所示,將延伸的積層膜70全體浸漬於包含二色性色素的染色溶液80中。染色溶液80,係使二色性色素溶解於溶劑中而成的溶液。染色溶液80的溶劑,例如為水。於染色溶液80的溶劑中,除了水之外,亦可添加與水具有相溶性的有機溶劑。染色溶液80中之二色性色素的濃度係以0.01質量%以上10質量%以下為較理想,以0.02質量%以上7質量%以下為更理想,以0.025質量%以上5質量%以下為更加理想。
於將二色性色素設為碘的情況,以於包含碘的染色溶液80中,再添加碘化物為較理想。此係因可提高染色效率。作為碘化物者,可舉例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色溶液80中之碘化物的濃度係以0.01質量%以上20質量%以下為較理想。
碘化物中,係以添加碘化鉀為較理想。於添加碘化鉀的情況,碘化鉀的質量對碘的質量之比係以5以上100以下為較理想,以6以上80以下為更理想,以7以上70以下為更加理想。
積層膜70對染色溶液80的浸漬時間,無特別限制,以15秒以上15分鐘以下為較理想,以1分鐘以上3分鐘以下為更理想。染色溶液80的溫度係以10℃以上60℃以下為較理想,以20℃以上40℃以下為更理想。
藉由進行上述的染色處理,配向的二色性色素吸附於樹脂層34,如第8圖所示,得到在基材膜20 上隔著底塗層32而積層的偏光片10。藉此,得到積層有基材膜20、底塗層32及偏光片10的偏光性積層膜71。
再者,染色步驟S4,亦可包含接續上述染色處理而實施的交聯處理步驟。交聯處理步驟,係將經染色的積層膜70全體浸漬於包含交聯劑的交聯溶液中。作為交聯劑者,可舉例如硼酸、硼砂等硼化合物;乙二醛;以及戊二醛等。交聯劑可為1種,亦可併用2種以上。
作為交聯溶液,可使用將交聯劑溶解於溶劑中而成的溶液。交聯溶液的溶劑,例如為水。於交聯溶液的溶劑中,除了水之外,亦可添加與水具有相溶性的有機溶劑。交聯溶液中之交聯劑的濃度,例如以1質量%以上20質量%以下為較理想,以6質量%以上15質量%以下為更理想。
於交聯溶液中,亦可添加碘化物。藉由碘化物的添加,可使樹脂層34的面內之偏光特性更均勻化。添加於交聯溶液的碘化物,可舉例如與上述添加於染色溶液80的碘化物相同的碘化物。添加於交聯溶液的碘化物與添加於染色溶液80的碘化物,可為相同,亦可為不同。交聯溶液中的碘化物的濃度係以0.05質量%以上15質量%以下為較理想,以0.5質量%以上8質量%以下為更理想。
積層膜70對交聯溶液的浸漬時間係以15秒以上20分鐘以下為較理想,以30秒以上15分鐘以下為更理想。交聯溶液的溫度係以10℃以上80℃以下為較理想。
再者,交聯處理,藉由調配交聯劑於染色溶液80中,可與染色處理同時進行。而且,亦可使用組成不同的2種以上的交聯溶液,進行2次以上的浸漬於交聯溶液的處理。
貼合步驟S5,係於偏光片10上貼合保護膜11的步驟。於偏光片10的上面10a形成接著層12,隔著接著層12而貼合保護膜11於偏光片10的上面10a。接著層12的形成方法,無特別限制,可採用例如與於底塗層形成步驟S1及樹脂層形成步驟S2等中形成各層的方法相同的方法。
保護膜11的貼合方法,無特別限制。例如可藉由將被捲成捲筒狀的保護膜11捲出,在已使保護膜11置於接著層12上的狀態下,通過夾住保護膜11與偏光性積層膜71的2根滾輪間,而貼合保護膜11。
剝離步驟S6,係從貼合有保護膜11的偏光性積層膜71,剝離除去基材膜20的步驟。剝離除去基材膜20的方法,無特別限制,可採用例如與附黏著劑(pressure-sensitive adhesive)的偏光板所進行的分隔片(separator)(剝離膜)的剝離步驟相同的方法。基材膜20,可在貼合步驟S5後,直接立即剝離,亦可在貼合步驟S5後暫時將貼合有保護膜11的偏光性積層膜71捲取為捲筒狀,在其後的步驟捲出的同時剝離。
藉由剝離步驟S6,剝離除去基材膜20,而製造第1圖所示的本實施型態的偏光膜1。將偏光膜1切 為既定的大小,得到偏光板。
根據本實施型態,可得到薄型且穿透軸方向的厚度分佈的不均勻小的偏光片10。以下,詳細說明。
於製造厚度10μm以下的薄型偏光片的情況,如上所述,於基材膜上塗佈包含聚乙烯醇系樹脂的樹脂層用塗佈液,使樹脂層用塗佈液乾燥,形成樹脂層。然後,採用將樹脂層與基材膜一起延伸的製造方法(以下稱為薄型偏光片的製造方法)。於使用該方法的情況,有所製造的偏光片的不均勻大的問題。其理由,被認為是如以下的理由。
於採用薄型偏光片的製造方法的情況,由於基材膜必須為可與樹脂層一起延伸的材質,故會因施加熱而容易熱收縮。所以,例如在上述底塗層形成步驟S1的第一乾燥步驟S1b等,對基材膜施加熱時,基材膜熱收縮,如第5圖所示的基材膜20,於上下面產生凹凸形狀。在該狀態,於基材膜上形成樹脂層用塗佈液的層時,樹脂層用塗佈液的層的上面,也沿著基材膜的上面的形狀,而變成凹凸形狀。
因樹脂層用塗佈液具有流動性,故在從乾燥樹脂層用塗佈液直到形成樹脂層為止之間,樹脂層用塗佈液的上面慢慢地平坦化。此處,例如於第二乾燥步驟S2b的長度充分大的情況,在第二塗佈步驟S2a所塗佈的樹脂層用塗佈液33乾燥而變成樹脂層34為止之間,樹脂層用塗佈液33的上面33a完全平坦化。因此,樹脂層34的上 面,變成如第7圖的二點虛線所示的平坦面35。
於該情況,樹脂層的下面中之在上側變成凹的部分的最頂點34c與平坦面35之間的積層方向的距離之厚度T3a、與樹脂層的下面中之在下側變成凸的部分的最低點34d與平坦面35之間的積層方向的距離之厚度T3b的差變大。厚度T3b比厚度T3a大。所以,認為以往於使用薄型偏光片的製造方法的情況,樹脂層的厚度分佈的不均勻變大,結果產生偏光片的厚度分佈的不均勻變大的問題。
再者,例如於製造厚度比較大的偏光片的情況,由於不需要採用上述薄型的製造方法,不使用基材膜,故熱收縮的基材膜的形狀不轉印至樹脂層,不產生上述問題。
再者,其他認為由於在第二乾燥爐52內對樹脂層用塗佈液吹撫的熱風的風量在寬度方向容易變得不均勻、於第二乾燥步驟S2b中基材膜傳送時容易振動等,故樹脂層用塗佈液流動,樹脂層的厚度分佈的不均勻變大,結果產生偏光片的厚度分佈的不均勻變大的問題。
再者,例如於製造厚度比較大的偏光片的情況,由於不需要採用上述薄型的製造方法,故不需要在傳送的基材膜上形成樹脂層,不產生上述問題。
以上說明的關於薄型偏光片的製造方法產生不均勻的原因之知識,係本發明人等所新得知的知識。
相對於此,根據本實施型態,第二乾燥步 驟S2b的長度,較理想為150秒以下。所以,第二乾燥步驟S2b的長度較小,在樹脂層用塗佈液33的上面33a平坦化而變成平坦面35之前,樹脂層用塗佈液33的層乾燥而變成樹脂層34。藉此,樹脂層34的上面34a雖然比樹脂層用塗佈液33的上面33a更平坦化,但仍具有凹凸形狀。所以,樹脂層34的下面34b中之最頂點34c與上面34a間的距離之厚度T4a、與樹脂層34的下面34b中之最低點34d與上面34a間的距離之厚度T4b之差變小。亦即,於寬度方向,樹脂層34的厚度T4變得接近均勻,樹脂層34的厚度分佈的不均勻變小。所以,可使偏光片10的厚度分佈的不均勻變小。
再者,厚度T4a為下面34b的最頂點34c與上面34a中之在上側變成凸的部分的最頂點34e間的距離。厚度T4b為下面34b的最低點34d與上面34a中之在下側變成凹的部分的最低點34f間的距離。
而且,藉由第二乾燥步驟S2b的長度較小,於第二乾燥爐52中對樹脂層用塗佈液33吹撫熱風的時間變短,且從塗佈樹脂層用塗佈液33後直到乾燥變成樹脂層34為止的基材膜20被傳送的時間變短。所以,於第二乾燥爐52中吹撫的熱風及基材膜20的振動所致之樹脂層用塗佈液33的流動受到抑制,樹脂層34的厚度分佈的不均勻變小。所以,可使偏光片10的厚度分佈的不均勻變小。
藉此,根據本實施型態,即使在為了得到厚度10μm以下的薄型偏光片,而採用薄型偏光片的製造 方法的情況,仍可得到厚度分佈的不均勻小的偏光片10。具體而言,可得到厚度T1為10μm以下且厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下的偏光片10。可得到厚度T1為10μm以下且厚度分佈的週期強度為0.13μm以下的偏光片10。可得到厚度T1為10μm以下且聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅為10nm以下的偏光片10。可得到厚度T1為10μm以下且聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度為2nm以下的偏光片10。
具有該等特徵的偏光片10,係基於關於在薄型偏光片的製造方法中偏光片的厚度分佈的不均勻變大的原因之新的知識,而藉由採用上述本實施型態的製造方法所得之新的偏光片。換言之,於製造厚度10μm以下的薄型偏光片的情況,雖然必須採用薄型偏光片的製造方法,但以往沒有上述關於厚度分佈的不均勻變大的原因之知識,也沒有採用本實施型態的偏光片的製造方法。所以,以往無法實現本實施型態的偏光片10。
而且,於薄型偏光片的製造方法中,產生偏光片的厚度分佈的不均勻的原因,被認為最主要是因熱收縮的基材膜的形狀轉印於樹脂層用塗佈液,樹脂層用塗佈液平坦化。所以,如本實施型態,藉由在樹脂層形成步驟S2前,設置包含第一乾燥步驟S1b的底塗層形成步驟S1,而基材膜熱收縮,偏光片的厚度分佈的不均勻特別容易變大。所以,可使上述偏光片10的厚度分佈的不均勻變小的效果,於設置底塗層形成步驟S1的情況,效果特別 高。而且,於底塗層形成步驟S1以外,在樹脂層形成步驟S2前,包含對基材膜20施加熱的步驟的情況也相同。
再者,於本實施型態中,亦可採用以下的方法。
於上述的說明中,雖藉由調整第二乾燥步驟S2b的長度之方法,使偏光片10的厚度分佈的不均勻變小,但不限於此。若基於上述關於厚度分佈的不均勻變大的原因之新知識之一,則只要可在塗佈於基材膜20上的樹脂層用塗佈液33的上面33a完全平坦化前,乾燥樹脂層用塗佈液33而形成樹脂層34的話,即可得到厚度分佈的不均勻小的偏光片10。所以,例如亦可使樹脂層用塗佈液33的黏度比較大而使樹脂層用塗佈液33的上面33a的平坦化速度慢,或調整樹脂層用塗佈液33的塗佈量而使所得之樹脂層34的厚度變小。於該情況,樹脂層用塗佈液33的上面33a完全平坦化前,乾燥樹脂層用塗佈液33,容易形成樹脂層34。所以,可製造厚度分佈的不均勻小的偏光片10。而且,組合上述說明的方法,也就容易製造厚度分佈的不均勻小的偏光片10的點而言為較理想。
而且,在底塗層形成步驟S1前,亦可設置對欲塗佈底塗層用塗佈液31的基材膜20的上面20a實施電暈處理的步驟。
而且,於在樹脂層形成步驟S2中之樹脂層34的形成中使用塑化劑的情況,亦可在染色步驟S4前,進行除去塑化劑的處理。塑化劑的除去,例如將積層膜70 浸漬於室溫以上50℃以下左右的水中,使積層膜70水膨潤,藉此從積層膜70溶析出塑化劑而進行。
而且,於在染色步驟S4中設置交聯處理的情況,交聯處理後,可進行將偏光性積層膜71浸漬於純水、離子交換水、蒸餾水、自來水等水中,水洗淨,而沖洗掉硼酸等的處理。洗淨液亦可包含碘化物。於是,在這之後,亦可進行使偏光性積層膜71乾燥的處理。乾燥處理,可採用自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥等習知的方法。
而且,染色步驟S4可在延伸步驟S3前進行,亦可染色步驟S4與延伸步驟S3同時進行。而且,亦可不設置底塗層形成步驟S1。
再者,上述各方法及各構成,於不矛盾的範圍內,可互相組合。
[實施例]
於薄型偏光片的製造方法中,偏光片的厚度分佈的不均勻變大的原因之中,針對對於基材膜的熱收縮形狀之樹脂層用塗佈液的平坦化進行驗證。第9圖係表示作為驗證例所製造的驗證用積層體2的剖面圖。再者,於第9圖中,針對與上述實施型態相同的構成,賦予相同的符號。
驗證用積層體2,具備基材膜20、底塗層32、樹脂層134a、134b。樹脂層134a係隔著底塗層32而形成於基材膜20的上面20a。樹脂層134b係隔著底塗層 32而形成於基材膜20的下面20b。樹脂層134a的上面及樹脂層134b的下面為平坦面。
於本驗證例中,基材膜20的材質設為聚丙烯。於本驗證例中,底塗層32的平均厚度設為0.2μm。而且,於第一乾燥步驟S1b中,乾燥溫度設為90℃,基材膜20的傳送速度設為20m/分鐘。於本驗證例中,樹脂層用塗佈液的溶劑設為水。樹脂層用塗佈液中之聚乙烯醇系樹脂的濃度設為8質量%。於第二塗佈步驟S2a中,塗佈時之樹脂層用塗佈液的層的平均厚度設為140μm。
將第二乾燥步驟S2b的長度作為第二塗佈步驟S2a中所塗佈的樹脂層用塗佈液的層的上面完全平坦化的長度,形成樹脂層134a、134b,將樹脂層134a的厚度T5a與樹脂層134b的厚度T5b在寬度方向(Y軸方向)逐個進行測定。
結果表示於第10圖。
第10圖係表示樹脂層134a、134b的厚度T5對寬度方向(Y軸方向)的位置之圖表。於第10圖中,縱軸表示樹脂層134a、134b的厚度T5,橫軸表示樹脂層134a、134b的寬度方向位置。於第10圖中,分別表示樹脂層134a的厚度T5a與樹脂層134b的厚度T5b。
從第10圖可確認樹脂層134a的厚度T5a與樹脂層134b的厚度T5b係互相不同地反覆增減。亦即,可確認於樹脂層134a的厚度T5a變大的寬度方向位置,樹脂層134b的厚度T5b變小,於樹脂層134a的厚度T5a變小 的寬度方向位置,樹脂層134b的厚度T5b變大。
第10圖所示的結果,係支持由於樹脂層用塗佈液的平坦化,而產生偏光片的厚度分佈的不均勻之結果。如第9圖所示,當基材膜20熱收縮而於表面形成凹凸形狀的情況,基材膜20的上面20a的凹凸形狀、與基材膜20的下面20b的凹凸形狀,沿著寬度方向(Y軸方向),凹部與凸部變得互相不同。因此,於基材膜20的兩面形成樹脂層時,樹脂層134a的下面的凹凸形狀與樹脂層134b的上面的凹凸形狀,沿著寬度方向,凹部與凸部變得互相不同。因此,在樹脂層134a的厚度T5a變成最大的寬度方向位置,樹脂層134b的厚度T5b變成最小,在樹脂層134a的厚度T5a變成最小的寬度方向位置,樹脂層134b的厚度T5b變成最大。結果,認為樹脂層134a的厚度T5a與樹脂層134b的厚度T5b,係對應寬度方向位置而呈現第10圖所示的變化。
藉此,可確認偏光片的厚度分佈的不均勻變大的原因中之至少一個原因為形成於熱收縮的基材膜20上之樹脂層用塗佈液平坦化。
然後,使用上述實施型態的偏光膜1的製造方法,製造實施例1至3的偏光膜,進行與比較例的偏光膜的比較。
於實施例1中,基材膜係如以下方式製作。首先,在屬於丙烯的同元聚合物之同元聚丙烯(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN(註冊商標)FLX80E4」,熔點 163℃)中,調配由高密度聚乙烯所構成的成核劑1質量%,製作含成核劑的聚丙烯。從該聚丙烯、與包含約5質量%的乙烯單元的丙烯/乙烯的無規共聚物「住友NOBLEN(註冊商標)W151」,藉由使用多層擠出成形機的共擠出成形而製作長條的聚丙烯系積層膜,將其作為基材膜。聚丙烯系積層膜,係於由「住友NOBLEN(註冊商標)W151」所構成的樹脂層的兩側,配置由上述含成核劑的聚丙烯所構成的樹脂層的3層構造。實施例1的基材膜的平均厚度設為100μm。基材膜中的各層的厚度比,設為含成核劑的聚丙烯:住友NOBLEN(註冊商標)W151:含成核劑的聚丙烯=3:4:3。基材膜的長度方向的拉伸彈性模量為210MPa。
於實施例1中,底塗層用塗佈液係如以下方式製作。將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業股份有限公司製「Z-200」,平均分子量1100,平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃的熱水中,調製濃度3質量%的聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中,相對於2質量份的聚乙烯醇而言,混合1質量份的交聯劑(住友化學製「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650」),製作底塗層用塗佈液。
於實施例1中,樹脂層用塗佈液係如以下方式製作。將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製「PVA124」,平均聚合度2400,平均皂化度98.0莫耳%以上99.0莫耳%以下)溶解於95℃的熱水中,調製濃度8質量%的聚乙烯醇水溶液,將其作為樹脂層用塗佈液。
連續地傳送如上述方式所得之基材膜,同 時於其單面實施電暈處理,於經電暈處理的面,使用微凹版塗佈機(第一塗佈裝置),連續地塗佈上述底塗層用塗佈液。藉由使塗佈的底塗層用塗佈液,於第一乾燥裝置中,於60℃乾燥3分鐘,而形成平均厚度0.2μm的底塗層。
連續地傳送形成有底塗層的基材膜,同時於底塗層上,使用唇式塗佈機(第二塗佈裝置),連續地塗佈上述的樹脂層用塗佈液。藉由使塗佈的樹脂層用塗佈液,使用第二乾燥裝置,於90℃乾燥130秒,而於底塗層上形成樹脂層,此時,樹脂層用塗佈液的乾燥速度為2.1質量%/秒。於形成的樹脂層,沒有確認到乾燥不均勻等,未辨識到缺陷。偏光片的平均厚度為3.6μm。
連續地傳送已於基材膜上形成有底塗層及樹脂層的積層膜,同時使用滾輪間空中延伸裝置,在長度方向(膜傳送方向)進行自由端一軸延伸。延伸溫度設為150℃。延伸倍率設為5.3倍。
將上述延伸的積層膜以使滯留時間成為150秒左右的方式浸漬於包含碘及碘化鉀的30℃的染色溶液,進行由聚乙烯醇系樹脂所構成的樹脂層的染色處理。然後,藉由10℃的純水,沖洗掉多餘的染色溶液。繼而,以使滯留時間成為600秒的方式浸漬於包含硼酸及碘化鉀的76℃的交聯溶液,進行交聯處理。然後,用10℃的純水洗淨4秒,於80℃乾燥300秒,藉此得到積層有基材膜、底塗層及偏光片的偏光性積層膜。
連續地傳送上述所得之偏光性積層膜,同 時塗佈接著劑溶液於偏光片上,形成接著層。將已對貼合面實施皂化處理的三乙醯基纖維素(TAC)膜(柯尼卡美能達光學股份有限公司製「KC4UY」,厚度40μm)隔著接著層而貼合於偏光片。
接著劑溶液係如以下方式製作。將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製「KL-318」,平均聚合度1800)溶解於95℃的熱水中,調製濃度3質量%的聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中,相對於2質量份的聚乙烯醇而言,以1質量份的比例混合交聯劑(住友化學(股)公司製「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650」),作為接著劑溶液。
從貼合有TAC膜(保護膜)的偏光性積層膜,剝離除去基材膜,得到實施例1的偏光膜。
於實施例2中,將隔著底塗層而塗佈於基材膜上的樹脂層用塗佈液,使用第二乾燥裝置,於90℃乾燥150秒,藉此於底塗層上形成樹脂層。此時,樹脂層用塗佈液的乾燥速度為1.9質量%/秒。
於形成的樹脂層,沒有確認到乾燥不均勻等,未辨識到缺陷。偏光片的平均厚度為4.0μm。關於實施例2的除此之外的點,與實施例1相同。
於實施例3中,將隔著底塗層而塗佈於基材膜上的樹脂層用塗佈液,使用第二乾燥裝置,於90℃乾燥170秒,藉此於底塗層上形成樹脂層。此時,樹脂層用塗佈液的乾燥速度為1.7質量%/秒。
於形成的樹脂層,沒有確認到乾燥不均勻等,未辨識 到缺陷。偏光片的平均厚度為4.5μm。關於實施例3的除此之外的點,與實施例1相同。
於比較例中,將隔著底塗層而塗佈於基材膜上的樹脂層用塗佈液,使用第二乾燥裝置,於90℃乾燥188秒,藉此於底塗層上形成樹脂層。此時,樹脂層用塗佈液的乾燥速度為1.5質量%/秒。於形成的樹脂層,沒有確認到乾燥不均勻等,未辨識到缺陷。偏光片的平均厚度為5.0μm。關於比較例的除此之外的點,與實施例1相同。
將實施例1至3的偏光膜及比較例的偏光膜分別在長度方向(吸收軸方向)切出100mm,作為偏光板。關於各偏光板,在每一寬度方向位置,測定偏光片的厚度及每一波長的相位差。偏光片的厚度的測定,係於偏光片中的寬度方向的中央約200mm寬度部分,在寬度方向(穿透軸方向)以5mm間隔改變測定位置進行測定。測定位置係藉由自動台而移動測定器來改變。
從偏光片的厚度分佈,使用快速傅立葉轉換,計算出厚度分佈的週期強度。從偏光片的每一波長的相位差,計算出每一寬度方向位置的聚乙烯醇系樹脂的相位差。從聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈,使用快速傅立葉轉換,計算出聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度。而且,將各偏光板在105℃的環境下放置30分鐘後,在背光上與其他偏光板成為正交偏光(Cross Nicol),以目視觀察偏光板的不均勻。將結果表示於表1、表2及第11圖至第14圖。
Figure 106108313-A0202-12-0040-1
Figure 106108313-A0202-12-0040-3
於表1中,關於實施例1至3及比較例,表示第二乾燥步驟的長度(秒)、厚度分佈的最大振幅(μm)及厚度分佈的週期強度的最大值。於表2中,關於實施例1至3及比較例,表示第二乾燥步驟的長度(秒)、相位差分 佈的最大振幅(nm)及相位差分佈的週期強度的最大值。而且,於表1及表2中,關於實施例1至3及比較例,表示不均勻的外觀評價。不均勻的外觀評價中,「○」表示幾乎未辨識到不均勻,「×」表示辨識到強烈、容易辨識的條紋狀的不均勻。
第11圖係表示偏光片的厚度對寬度方向位置之圖表。於第11圖中,縱軸表示偏光片的厚度(μm),橫軸表示偏光片的寬度方向位置(mm)。
第12圖係表示偏光片的厚度分佈的週期強度對偏光片的厚度分佈的不均勻週期之圖表。縱軸表示偏光片的厚度分佈的週期強度,橫軸表示偏光片的厚度分佈的不均勻週期(mm)。
第13圖係表示偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva對寬度方向位置之圖表。於第13圖中,縱軸表示聚乙烯醇系樹脂的相位差Rpva(nm),橫軸表示偏光片的寬度方向位置(mm)。
第14圖係表示偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度對偏光片的厚度分佈的不均勻週期之圖表。縱軸表示聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度,橫軸表示偏光片的厚度分佈的不均勻週期(mm)。
於第11圖至第14圖中,各自彙整表示關於實施例1、2及比較例的結果。
從第11圖,可確認:於比較例中,偏光片的厚度隨著寬度方向位置而較大幅地變動,相較於此,於 實施例1、2中,不論寬度方向位置,偏光片的厚度比較均勻。藉此,可確認相較於比較例的厚度分佈的不均勻,實施例1、2的厚度分佈的不均勻小。而且,從表1,可確認相較於比較例的厚度分佈的最大振幅為0.67μm,實施例1至3的厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下。由上述可確認,藉由控制第二乾燥步驟的長度,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變小,且可使偏光片的厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下。
而且,從實施例2的厚度分佈的最大振幅小於實施例3的厚度分佈的最大振幅、且實施例1的厚度分佈的最大振幅小於實施例2的厚度分佈的最大振幅,可確認使第二乾燥步驟的長度越小,可使偏光片的厚度分佈的最大振幅變越小,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變越小。
從第12圖,可確認在比較例中,於不均勻週期為12mm以上17mm以下左右的範圍下厚度分佈的週期強度變大,相較於此,在實施例1、2中,不論不均勻週期,厚度分佈的週期強度幾乎相同。此係顯示:於比較例中,沿著寬度方向,在12mm以上17mm以下左右的週期,厚度較大幅地變動,顯示偏光片的厚度分佈的不均勻大。另一方面,在實施例1、2中,在特定的週期,厚度沒有大幅地變動,顯示偏光片的厚度分佈的不均勻小。而且,從表1,可確認相較於比較例的厚度分佈的週期強度的最大值為0.15μm,實施例1至3的厚度分佈的週期強度的最大值為0.13μm以下。由上述可確認,藉由控制第二乾燥 步驟的長度,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變小,可使偏光片的厚度分佈的週期強度為0.13μm以下。
而且,從實施例2的厚度分佈的週期強度的最大值小於實施例3的厚度分佈的週期強度的最大值、且實施例1的厚度分佈的週期強度的最大值小於實施例2的厚度分佈的週期強度的最大值,可確認使第二乾燥步驟的長度越小,可使偏光片的厚度分佈的週期強度變越小,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變越小。
從第13圖,可確認在比較例中,相位差Rpva隨著寬度方向位置而較大幅地變動,相較於此,在實施例1、2中,不論寬度方向位置,相位差Rpva比較均勻。藉此,可確認相較於比較例的相位差Rpva的不均勻,實施例1、2的相位差Rpva的不均勻小。相位差Rpva的不均勻係起因於偏光片的厚度分佈的不均勻而產生,故可確認相較於比較例的偏光片的厚度分佈的不均勻,實施例1、2的偏光片的厚度分佈的不均勻小。而且,從表2,可確認相較於比較例的相位差分佈的最大振幅為18nm,實施例1至3的相位差分佈的最大振幅為10nm以下。由上述可確認,藉由控制第二乾燥步驟的長度,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變小,可使偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅為10nm以下。
而且,從實施例2的相位差分佈的最大振幅小於實施例3的相位差分佈的最大振幅、且實施例1的相位差分佈的最大振幅小於實施例2的相位差分佈的最大振 幅,可確認使第二乾燥步驟的長度越小,可使偏光片的相位差分佈的最大振幅變越小,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變越小。
從第14圖,可確認在比較例中,不均勻週期為12mm以上17mm以下左右的範圍下相位差分佈的週期強度變大,相較於此,在實施例1、2中,不論不均勻週期,相位差分佈的週期強度幾乎相同。此係顯示:於比較例中,沿著寬度方向,在12mm以上17mm以下左右的週期,相位差Rpva較大幅地變動,顯示偏光片的厚度分佈的不均勻大。另一方面,在實施例1、2中,在特定的週期,相位差Rpva沒有大幅地變動,顯示偏光片的厚度分佈的不均勻小。而且,從表2,可確認相較於比較例的相位差分佈的週期強度的最大值為4.8nm,實施例1至3的相位差分佈的週期強度的最大值為2nm以下。由此可確認藉由控制第二乾燥步驟的長度,可使偏、光片的厚度分佈的不均勻變小,可使偏光片中的聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度為2nm以下。
而且,從實施例2的相位差分佈的週期強度的最大值小於實施例3的相位差分佈的週期強度的最大值、且實施例1的相位差分佈的週期強度的最大值小於實施例2的相位差分佈的週期強度的最大值,可確認使第二乾燥步驟的長度越小,可使偏光片的相位差分佈的週期強度變越小,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變越小。
從表1及表2,可確認在比較例中,可辨識 到強烈、容易辨識的條紋狀的不均勻,相較於此,在實施例1至3中,幾乎未辨識到不均勻。由此可確認,藉由控制第二乾燥步驟的長度,可使偏光片的厚度分佈的不均勻變小。
由以上的各結果,可確認若根據實施例1至3,即可得到薄型且厚度分佈的不均勻小的偏光片。
1‧‧‧偏光膜
10‧‧‧偏光片
10a‧‧‧上面
10b‧‧‧下面
11‧‧‧保護膜
12‧‧‧接著層

Claims (4)

  1. 一種偏光片,其係有二色性色素配向於聚乙烯醇系樹脂中的偏光片,其中,前述偏光片的厚度為10μm以下;於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的最大振幅為10nm以下;於前述偏光片的穿透軸方向,前述聚乙烯醇系樹脂的相位差分佈的週期強度為2nm以下;於前述偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的最大振幅為0.4μm以下;於前述偏光片的穿透軸方向,厚度分佈的週期強度為0.13μm以下。
  2. 一種偏光膜,其具備:申請專利範圍第1項所述之偏光片;以及設置於前述偏光片的至少一側的面之保護膜。
  3. 一種申請專利範圍第1項所述之偏光片的製造方法,其包括:於基材上形成以聚乙烯醇系樹脂作為形成材料的樹脂層之樹脂層形成步驟;將前述樹脂層與前述基材一起延伸的延伸步驟;以及使前述二色性色素吸附於前述樹脂層的染色步驟;其中,前述樹脂層形成步驟包括:塗佈包含聚乙烯醇系 樹脂的樹脂層用塗佈液於前述基材上的步驟、以及使塗佈的前述樹脂層用塗佈液乾燥的步驟;並且,使前述樹脂層用塗佈液乾燥的步驟的長度為130秒至170秒;前述樹脂層用塗佈液更包含水,使前述樹脂層用塗佈液乾燥的步驟係在80℃以上進行。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之偏光片的製造方法,其係在前述樹脂層形成步驟前,更包括在前述基材上形成底塗層的底塗層形成步驟;其中,前述底塗層形成步驟包括:在前述基材上塗佈底塗層用塗佈液的步驟、以及使塗佈的前述底塗層用塗佈液乾燥的步驟。
TW106108313A 2016-03-22 2017-03-14 偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法 TWI823832B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-056782 2016-03-22
JP2016056782 2016-03-22
JP2016-236868 2016-12-06
JP2016236868A JP2017173793A (ja) 2016-03-22 2016-12-06 偏光子、偏光フィルム、および偏光子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201802168A TW201802168A (zh) 2018-01-16
TWI823832B true TWI823832B (zh) 2023-12-01

Family

ID=59972996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106108313A TWI823832B (zh) 2016-03-22 2017-03-14 偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP2017173793A (zh)
KR (1) KR102548664B1 (zh)
TW (1) TWI823832B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7358739B2 (ja) * 2018-03-02 2023-10-11 住友化学株式会社 偏光板および偏光板の製造方法
JP7041017B2 (ja) * 2018-07-25 2022-03-23 日東電工株式会社 偏光膜および偏光膜の製造方法
US11351710B2 (en) * 2018-11-05 2022-06-07 Case Western Reserve University Multilayered structures and uses thereof in security markings
JP6678274B1 (ja) * 2018-11-22 2020-04-08 住友化学株式会社 積層フィルム巻回体、ハードコートフィルム付き積層体、及び偏光板
JP7469893B2 (ja) 2020-02-04 2024-04-17 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムの製造装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201527480A (zh) * 2013-10-29 2015-07-16 Sumitomo Chemical Co 偏光板
TW201604016A (zh) * 2014-07-16 2016-02-01 Nitto Denko Corp 積層體之製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080113173A1 (en) * 2004-11-02 2008-05-15 The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Polyvinyl Alcohol Film and Process for Producing the Same
JP2009098653A (ja) 2007-09-27 2009-05-07 Nitto Denko Corp 偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
KR20120076888A (ko) * 2010-12-30 2012-07-10 제일모직주식회사 편광판 및 그 제조방법
CN103442871B (zh) * 2011-03-29 2015-10-21 可乐丽股份有限公司 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
JP6076035B2 (ja) * 2012-10-26 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP6066707B2 (ja) * 2012-12-13 2017-01-25 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP5996516B2 (ja) * 2013-11-29 2016-09-21 住友化学株式会社 偏光子及びそれを含む偏光板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201527480A (zh) * 2013-10-29 2015-07-16 Sumitomo Chemical Co 偏光板
TW201604016A (zh) * 2014-07-16 2016-02-01 Nitto Denko Corp 積層體之製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017173793A (ja) 2017-09-28
KR102548664B1 (ko) 2023-06-27
KR20170110023A (ko) 2017-10-10
JP2018041113A (ja) 2018-03-15
TW201802168A (zh) 2018-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI823832B (zh) 偏光片、偏光膜,以及偏光片之製造方法
KR101804604B1 (ko) 박형 편광막의 제조 방법
US8976448B1 (en) Method of producing optical film laminate
TWI795379B (zh) 偏光膜及偏光性積層膜之製造方法
JPWO2018235461A1 (ja) 偏光膜、該偏光膜を含む偏光板、および該偏光板を含む車載用画像表示装置
TWI565976B (zh) 偏光性積層膜的製造方法及偏光板的製造方法
TWI609774B (zh) 偏光板之製造方法及偏光板
TWI645223B (zh) 偏光板及其製造方法
JP2012078780A (ja) 薄型偏光膜の製造方法
TW201625998A (zh) 偏光板之製造方法
TW201618921A (zh) 偏光性積層膜或偏光板的製造方法
KR101796893B1 (ko) 적층 필름의 제조 방법
JP5064893B2 (ja) 偏光板の製造方法
JP6076449B1 (ja) 偏光フィルムの製造方法
JP6109862B2 (ja) 積層体の製造方法
WO2015133269A1 (ja) 偏光板の製造方法
KR102288392B1 (ko) 편광 필름의 제조 방법, 적층 필름
JP5688427B2 (ja) 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP5643865B2 (ja) 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
KR102288391B1 (ko) 편광 필름의 제조 방법
CN107219583B (zh) 偏振片、偏振膜以及偏振片的制造方法
JP2017102467A (ja) 偏光フィルムの製造方法
TW201307069A (zh) 偏光性積層膜的製造方法
JP6050881B2 (ja) 積層体の製造方法
KR102328404B1 (ko) 편광판의 제조 방법