CN106814420A - 层叠膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种偏振度优良的层叠膜的制造方法。本发明的层叠膜的制造方法的一个方式,其特征在于,包含下述工序:测定偏振片的吸收轴的角度的第1测定工序、测定相位差膜的快轴相对于规定方向的角度的第2测定工序、从偏振膜和相位差膜中选择进行相互贴合的贴合面使得吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度的选择工序、和将相位差膜的贴合面贴合于偏振膜的贴合面的相位差膜贴合工序,在所述相位差膜贴合工序中,将所述偏振膜的长度方向和所述相位差膜的长度方向对齐,将所述相位差膜贴合于所述偏振膜。

Description

层叠膜的制造方法
技术领域
本发明涉及层叠膜的制造方法。
背景技术
已知在由聚乙烯醇(PVA:Poly Vinyl Alcohol)系树脂形成的偏振片上贴合有相位差板的构成(例如,专利文献1)。这样的层叠膜被用于个人计算机、TV、监视器、手机以及PDA(Personal Digital Assistant,个人数字助理)等液晶显示装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-186481号公报
发明内容
发明要解决的课题
上述这种层叠膜存在偏振片的吸收轴和相位差板(相位差膜)的快轴发生偏移、偏振度降低的问题。由此,在将层叠膜用于液晶显示装置等中时,存在液晶显示装置的对比度降低的问题。
鉴于上述问题,本发明的一个方式的目的之一在于,提供偏振度优良的层叠膜的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明的层叠膜的制造方法的一个方式为具备含有在聚乙烯醇系树脂中取向有二色性色素的偏振片的偏振膜、和贴合于上述偏振膜的相位差膜的层叠膜的制造方法,其特征在于,包含下述工序:准备上述偏振膜的偏振膜准备工序;准备上述相位差膜的相位差膜准备工序;测定上述偏振片的吸收轴相对于规定方向的角度的第1测定工序,所述规定方向为与层叠有上述偏振膜和上述相位差膜的层叠方向正交的方向;测定上述相位差膜的快轴相对于上述规定方向的角度的第2测定工序;从上述偏振膜和上述相位差膜中选择进行相互贴合的贴合面,使得在上述偏振膜和上述相位差膜的相互对向、贴合的部分中,上述吸收轴和上述快轴的相对角度小于规定角度的选择工序;和将上述相位差膜的上述贴合面贴合于上述偏振膜的上述贴合面的相位差膜贴合工序,上述相位差膜贴合工序中,一边从将带状的上述偏振膜卷绕而成的坯料卷中卷出上述偏振膜、并从将带状的上述相位差膜卷绕而成的坯料卷中卷出上述相位差膜,一边将上述偏振膜的长度方向和上述相位差膜的长度方向对齐,将上述相位差膜贴合于上述偏振膜。
本发明的层叠膜的制造方法的一个方式为具备含有在聚乙烯醇系树脂中取向有二色性色素的偏振片的偏振膜、和贴合于上述偏振膜的相位差膜的层叠膜的制造方法,其特征在于,包含下述工序:准备上述偏振膜的偏振膜准备工序;准备上述相位差膜的相位差膜准备工序;测定上述偏振片的吸收轴相对于规定方向的角度的第1测定工序,所述规定方向为与层叠有上述偏振膜和上述相位差膜的层叠方向正交的方向;测定上述相位差膜的慢轴相对于上述规定方向的角度的第2测定工序;从上述偏振膜和上述相位差膜中选择进行相互贴合的贴合面,使得在上述偏振膜和上述相位差膜的相互对向、贴合的部分中,上述吸收轴和上述慢轴的相对角度小于规定角度的选择工序;和将上述相位差膜的上述贴合面贴合于上述偏振膜的上述贴合面的相位差膜贴合工序,上述相位差膜贴合工序中,从将带状的上述偏振膜卷绕而成的坯料卷中卷出上述偏振膜、并从将带状的上述相位差膜卷绕而成的坯料卷中卷出上述相位差膜,同时将上述偏振膜的长度方向和上述相位差膜的长度方向对齐,将上述相位差膜贴合于上述偏振膜。
也可以为如下制造方法,其中,上述规定角度为0.24°。
也可以为如下制造方法,其中,在上述选择工序中,对上述贴合面的贴合朝向进行选择,使得上述相对角度小于上述规定角度,在上述相位差膜贴合工序中,基于所选择的上述的贴合朝向,将上述相位差膜的上述贴合面贴合于上述偏振膜的上述贴合面。
也可以为如下制造方法,其中,上述偏振膜准备工序为形成上述偏振膜的偏振膜形成工序,上述偏振膜形成工序包含形成上述偏振片的偏振片形成工序、和将保护膜贴合于上述偏振片的保护膜贴合工序,上述第1测定工序设置在上述偏振片形成工序之后、上述保护膜贴合工序之前。
也可以为如下制造方法,其中,上述第1测定工序设置在上述偏振膜准备工序之后、上述选择工序之前。
也可以为如下制造方法,其中,在上述相位差膜准备工序中,准备多个上述相位差膜,在上述选择工序中,上述相位差膜的上述贴合面从多个上述相位差膜的两面中进行选择。
也可以为如下制造方法,其中,上述偏振膜准备工序中,准备多个上述偏振膜,在上述选择工序中,上述偏振膜的上述贴合面从多个上述偏振膜的两面中进行选择。
也可以为如下制造方法,其中,在上述第1测定工序中,沿着上述偏振膜的宽度方向在多个部位进行测定,在上述第2测定工序中,沿着上述相位差膜的宽度方向在多个部位进行测定,在上述选择工序中,对上述贴合面进行选择,使得在上述偏振膜和上述相位差膜的相互对向、贴合的部分中的多个部位中,上述相对角度小于上述规定角度。
发明效果
根据本发明的一个方式,提供一种偏振度优良的层叠膜的制造方法。
附图说明
图1是示出本实施方式的层叠膜的截面图。
图2是示出第1实施方式的层叠膜的制造方法的步骤的流程图。
图3是示出第1实施方式中的偏振膜准备工序的步骤的示意图。
图4是示出第1实施方式中的相位差膜贴合工序的步骤的立体图。
图5是示出图4中的层叠膜的俯视图。
图6是示出第1实施方式中的相位差膜贴合工序的另一步骤的立体图。
图7是示出图6中的层叠膜的俯视图。
图8A是用于说明坯料卷的重新卷绕(日文:卷き直し)的说明图。
图8B是用于说明坯料卷的重新卷绕的说明图。
图8C是用于说明坯料卷的重新卷绕的说明图。
图9是示出第2实施方式的层叠膜的制造方法的步骤的流程图。
具体实施方式
以下边参照附图边说明本发明的实施方式的层叠膜的制造方法。需要说明的是,本发明的范围不受以下实施方式限定,可以在本发明的技术思想的范围内任意变更。此外,以下的附图中,为了使各构成容易理解,各构造中的比例尺和数值等有时与实际构造中的比例尺和数值等不同。
首先说明本实施方式中制造的层叠膜100。图1为示出本实施方式的层叠膜100的截面图。如图1所示,层叠膜100具备偏振膜1、相位差膜13和粘接层14。按照偏振膜1、粘接层14和相位差膜13的顺序而层叠。图示中虽然省略,但本实施方式的层叠膜100为长条带状。层叠膜100例如卷绕在芯材上而以坯料卷的形式保管等。
需要说明的是,在以下的说明中,有时将层叠膜100中层叠有各层的方向简称为“层叠方向”,有时将层叠膜100中与层叠方向正交的长度方向简称为“长度方向(第1方向)”,有时将层叠膜100中与层叠方向和长度方向二者正交的宽度方向简称为“宽度方向(第2方向)”。
此外,图中适当示出了3维正交座标系(XYZ座标系)。在3维正交座标系中,Z轴方向设为与层叠方向平行的方向,Y轴方向设为与宽度方向平行的方向,X轴方向设为与长度方向平行的方向。此外,在以下的说明中,在层叠方向上,有时将Z轴方向的正值侧称为“上侧”,有时将Z轴方向的负值侧称为“下侧”。此外,在宽度方向上,有时将Y轴方向的正值侧称为“右侧”,有时将Y轴方向的负值侧称为“左侧”。上侧、下侧、右侧及左侧仅仅是为了说明各部分的相对位置关系而使用的名称,对层叠膜制造时的各部分的姿态、层叠膜的实际姿态、以及层叠膜的使用方式等不构成限定。
偏振膜1具备偏振片10、保护膜11和粘接层12。按照偏振片10、粘接层12和保护膜11的顺序而层叠。
偏振片10是在聚乙烯醇系树脂中取向有二色性色素的层。在本实施方式中,偏振片10的吸收轴例如沿着长度方向进行配置,偏振片10的透过轴例如沿着宽度方向进行配置。
需要说明的是,在本说明书中,某条轴沿着某个方向进行配置的表述除了包含某条轴的轴方向与某个方向严格平行的情况以外,也包括某条轴的轴方向与某个方向大致平行的情况。即,例如偏振片10的吸收轴沿着长度方向进行配置的表述包括偏振片10的吸收轴的轴方向与长度方向大致平行的情况。某条轴的轴方向与某个方向大致平行的表述包括某条轴的轴方向与某个方向所成的角度为例如±15°以内的程度。
关于作为偏振片10的形成材料的聚乙烯醇系树脂,可以列举例如聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇树脂衍生物、及聚乙烯醇树脂衍生物的改性体等。作为聚乙烯醇树脂衍生物,可以列举例如:聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丁醛等。作为聚乙烯醇树脂衍生物的改性体,可以列举例如将上述聚乙烯醇树脂衍生物用下述物质改性的物质:乙烯、丙烯等烯烃;丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸;不饱和羧酸的烷基酯;或丙烯酰胺等。
聚乙烯醇系树脂的平均聚合度优选为100以上、10000以下,更优选为1000以上、10000以下,进一步优选为1500以上、8000 以下,更进一步优选为2000以上、5000以下。原因在于,聚乙烯醇系树脂的平均聚合度小于100时,难以得到合适的光学特性;大于10000时,在水中的溶解性变低,难以制作后述的树脂层用涂敷液33。在本说明书中,聚乙烯醇系树脂的平均聚合度例如通过JIS K 6727(1994)中规定的方法来求出。
作为偏振片10的形成材料的聚乙烯醇系树脂优选进行了皂化。聚乙烯醇系树脂的皂化度优选为80.0摩尔%以上、100.0摩尔%以下,更优选为90.0摩尔%以上、99.5摩尔%以下,进一步优选为93.0摩尔%以上、99.5摩尔%以下。原因在于,聚乙烯醇系树脂的皂化度小于80摩尔%时,难以得到合适的光学特性。
需要说明的是,聚乙烯醇系树脂的皂化度是以摩尔%来表示作为聚乙烯醇系树脂的原料的聚乙酸乙烯酯系树脂中所含的乙酸基通过皂化工序而转变为羟基的比例,由下述的(式1)来定义。
(式1)皂化度(摩尔%)=(羟基的数量)÷(羟基的数量+乙酸基的数量)×100
本说明书中,聚乙烯醇系树脂的皂化度通过例如JIS K 6727(1994)中规定的方法来求出。
偏振片10中可以含有增塑剂、表面活性剂等添加剂。作为增塑剂,可以列举例如多元醇及多元醇的缩合物。作为多元醇及多元醇的缩合物,可以列举例如:甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。对偏振片10中的增塑剂含量没有特别限定,例如优选为20质量%以下。
对偏振片10的厚度没有特别限定,为例如3μm以上、50μm以下,优选为5μm以上、15μm以下。需要说明的是,在本说明书中,某膜(层)的厚度是指某膜(层)在层叠方向的尺寸,也包括某膜(层)的平均厚度。即,偏振片的厚度也包括偏振片的平均厚度。
作为在聚乙烯醇系树脂中进行了取向的二色性色素,可以列举例如:碘、有机染料等。
保护膜11可以经由粘接层12而贴合于偏振片10的下表面10a。
保护膜11可以是不具有光学功能的单纯的保护膜,也可以是亮度提高膜之类的兼有光学功能的保护膜。
对保护膜11的形成材料没有特别限定,可以列举例如:环状聚烯烃系树脂膜;包含三乙酰纤维素、二乙酰纤维素等树脂的乙酸纤维素系树脂膜;包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等树脂的聚酯系树脂膜;聚碳酸酯系树脂膜;丙烯酸系树脂膜;以及聚丙烯系树脂膜等。
环状聚烯烃系树脂膜可以是单轴拉伸后的树脂膜,也可以是双轴拉伸后的树脂膜。通过进行拉伸,可以赋予环状聚烯烃系树脂膜任意的相位差。
环状聚烯烃系树脂膜通常表面活性差。因此,在保护膜11为环状聚烯烃系树脂膜时,优选对保护膜11中的与偏振片10粘接的下表面进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理等表面处理。尤其优选能够比较容易地实施的等离子体处理、电晕处理
在保护膜11为乙酸纤维素系树脂膜时,可以在保护膜11的表面形成用于改良视角特性的液晶层等。此外,保护膜11可以是为了赋予相位差而对乙酸纤维素系树脂膜进行了拉伸的膜。在保护膜11为乙酸纤维素系树脂膜时,为了提高与偏振膜1的粘接性,通常对保护膜11的下表面实施皂化处理。作为皂化处理,可以采用在氢氧化钠及氢氧化钾之类的碱的水溶液中浸渍的方法。
还可以在保护膜11的表面形成硬涂层、防眩层、防反射层等光学层。对在保护膜11的表面形成这些光学层的方法没有特别限定,可以使用公知的方法。
从薄型化的要求出发,保护膜11的厚度优选尽量薄,优选为90μm以下,更优选为50μm以下。保护膜11的厚度过薄时,保护膜11的强度降低、加工性差,因此保护膜11的厚度优选为5μm以上。
粘接层12层叠在偏振片10的下表面10a上。粘接层12是将偏振片10和保护膜11相互粘接的层。作为粘接层12的形成材料,优选例如水系粘接剂、紫外固化型粘接剂及电子束固化型粘接剂等,更优选水系粘接剂。作为水系粘接剂,可以列举例如:聚乙烯醇系树脂的水溶液、在聚乙烯醇系树脂水溶液中配合有常见的交联剂的水溶液、以及氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。此外,粘接层12的形成材料中可以含有金属化合物填料。
虽然省略了图示,但在偏振片10的上表面10b上可以设置有底涂层。底涂层是为了在后述偏振膜准备工序S11中提高基材膜20与树脂层34的密合力而设置的层。底涂层由含有可以提高上述密合力的成分的树脂形成。形成底涂层的树脂优选为透明性、热稳定性、拉伸性等优良的热塑性树脂。作为形成底涂层的树脂,可以列举例如:(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂等。作为形成底涂层的树脂,特别优选聚乙烯醇系树脂。原因在于,可以良好地得到后述基材膜20与树脂层34的密合力。
作为形成底涂层的树脂使用的聚乙烯醇系树脂可以与上述偏振片10的聚乙烯醇系树脂同样地进行选择。形成底涂层的树脂与偏振片10的聚乙烯醇系树脂可以相同也可以不同。
底涂层的厚度例如优选为0.05μm以上、1μm以下,更优选为0.1μm以上、0.4μm以下。原因在于,底涂层的厚度小于0.05μm时,后述基材膜20与树脂层34的密合力变小;大于1μm时,所制造的层叠膜100的厚度容易变大。
相位差膜13经由粘接层14而贴合于偏振膜1上。更详细而言,相位差膜13经由粘接层14而贴合于偏振片10的上表面10b上。相位差膜13具有赋予通过的光相位差的功能。相位差膜13的快轴例如沿着长度方向配置,相位差膜13的慢轴例如沿着宽度方向配置。即,在本实施方式中,相位差膜13的快轴与偏振片10的吸收轴沿着同一方向(长度方向)配置。本实施方式中,偏振片10的吸收轴与相位差膜13的快轴的相对角度小于例如0.24°。
需要说明的是,在本说明书中,偏振片的吸收轴与相位差膜的快轴的相对角度包括:偏振片的吸收轴相对于规定方向的角度与相位差膜的快轴相对于规定方向的角度之差的绝对值。
相位差膜13优选由透明性优良、且可以通过拉伸而表现合适的相位差值的树脂来形成。作为形成相位差膜13的树脂,可以列举例如:三乙酰纤维素(TAC)系树脂;聚碳酸酯系树脂;聚乙烯醇系树脂;聚苯乙烯系树脂;(甲基)丙烯酸酯系树脂;环状聚烯烃系树脂、聚丙烯系树脂等聚烯烃系树脂;聚芳酯系树脂;聚酰亚胺系树脂;以及聚酰胺系树脂等。
通过对由上述树脂形成的膜以单轴或双轴等适当方式进行拉伸,可以得到被赋予了合适的相位差的相位差膜13。
相位差膜13可以是1/4波长板和1/2波长板等波长板,也可以是视角补偿膜。相位差膜13的厚度为20μm以上、200μm以下的程度,优选为20μm以上、120μm以下。
粘接层14可以隔着图中未示出的底涂层层叠在偏振片10的上表面10b上。粘接层14是将偏振片10和相位差膜13相互粘接的层。作为粘接层14的形成材料,可以使用例如与粘接层12同样的形成材料。粘接层12的形成材料和粘接层14的形成材料可以相同也可以不同。
作为粘接层14的形成材料,优选例如通过照射活性能量而固化的材料,更优选通过照射作为活性能量的紫外线光而固化的紫外线固化性树脂。作为紫外线固化性树脂,优选使用含有环氧化合物和阳离子聚合引发剂的、在照射活性能量(紫外线光)时通过阳离子聚合而固化的树脂。
然后对本实施方式的层叠膜100的制造方法进行说明。
<第1实施方式>
图2是示出本实施方式的层叠膜100的制造方法的步骤的流程图。如图2所示,本实施方式的层叠膜100的制造方法包含:偏振膜准备工序S11、相位差膜准备工序S12、快轴测定工序(第2测定工序)S13、选择工序S14和相位差膜贴合工序S15。
偏振膜准备工序S11是准备偏振膜1的工序。在本实施方式中,偏振膜准备工序S11是形成偏振膜1的偏振膜形成工序。偏振膜准备工序S11包含:树脂层形成工序S11a、拉伸工序S11b、染色工序S11c、吸收轴测定工序(第1测定工序)S11d和保护膜贴合工序S11e。树脂层形成工序S11a、拉伸工序S11b和染色工序S11c构成形成偏振片10的偏振片形成工序S11f。
图3是示出偏振膜准备工序S11的步骤的示意图。如图3所示,在本实施方式中,一边将坯料卷状的基材膜20通过夹持辊和输送辊沿着长度方向输送,一边制造偏振膜1。需要说明的是,图3中连续进行各工序,但每次在各工序结束时,可以将膜卷绕成卷状并向下一工序输送。
基材膜20的材质只要可以在拉伸工序S11b中与后述树脂层34一起拉伸则没有特别限定。基材膜20的材质为例如热塑性树脂。作为基材膜20的材质而使用的热塑性树脂优选透明性、机械强度、热稳定性、以及拉伸性等优良。
具体而言,关于作为基材膜20的材质而使用的热塑性树脂,可以列举例如:链状聚烯烃系树脂、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)等聚烯烃系树脂;聚酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂;纤维素三乙酸酯、纤维素二乙酸酯等纤维素酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;聚乙烯醇系树脂;聚乙酸乙烯酯系树脂;聚芳酯系树脂;聚苯乙烯系树脂;聚醚砜系树脂;聚砜系树脂;聚酰胺系树脂;聚酰亚胺系树脂;以及这些树脂的混合物、共聚合物等。
基材膜20包含上述热塑性树脂中的1种或2种以上热塑性树脂。基材膜20可以为单层构造,也可以为多层构造。
对基材膜20的厚度没有特别限定,从强度和处理性等观点出发,优选为1μm以上、500μm以下,更优选为1μm以上、300μm以下,进一步优选为5μm以上、200μm以下,更进一步优选为5μm以上、150μm以下。基材膜20的宽度方向的尺寸为例如500mm以上。
就基材膜20的长度方向的拉伸弹性模量而言,例如,在80℃下优选为140MPa以上。基材膜20的长度方向的拉伸弹性模量在80℃下更优选为150MPa以上,进一步优选为155MPa以上。这是为了抑制后述干燥工序中基材膜20的热收缩。在本说明书中,基材膜20的长度方向的拉伸弹性模量通过例如Autograph(注册商标)(株式会社岛津制作所制、型号:AG-IS)来测定。具体而言,以JIS K7163为基准来测定。
树脂层形成工序S11a是在基材膜20上形成以聚乙烯醇系树脂为形成材料的树脂层34的工序。首先,可以在基材膜20上形成图中未示出的底涂层。底涂层通过使涂布在基材膜20上的底涂层用涂敷液干燥来形成。
底涂层用涂敷液是例如将上述形成底涂层的树脂的粉末溶解于溶剂而得到的树脂溶液。作为底涂层用涂敷液的溶剂,可以列举可溶解上述树脂的有机溶剂和水系溶剂等。作为有机溶剂,可以列举例如:苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类;丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类;乙酸乙酯、乙酸异丁酯等酯类;二氯甲烷、三氯乙烯、氯仿等氯代烃类;以及乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇类。作为底涂层用涂敷液的溶剂,例如优选为水。原因在于,不论基材膜20的材质如何基材膜20均不易溶解,对环境的影响也小。底涂层用涂敷液中的树脂浓度优选为1质量%以上、25质量%以下程度。
就底涂层用涂敷液的涂布方法而言,只要可以将底涂层用涂敷液涂布在基材膜20上则没有特别限定。作为底涂层用涂敷液的涂布方法,可以列举例如:线棒涂布法、逆转辊涂布、凹版辊式涂布等辊涂法、模涂法、逗点涂布法、唇式涂布(日文:リツプユ一ト)法、丝网印刷法、喷涂法、浸涂法、喷雾法等。
可以根据各涂布方法,来选择涂布底涂层用涂敷液的涂布装置。
用图中未示出的干燥炉使所涂布的底涂层用涂敷液干燥。干燥炉内通过例如吹送热风等而对底涂层用涂敷液进行加热,使底涂层用涂敷液干燥、固化。由此,形成底涂层。
使底涂层用涂敷液干燥的干燥炉只要可以干燥底涂层用涂敷液则没有特别限定。干燥炉中的干燥温度为例如50℃以上、200℃以下,优选为60℃以上、150℃以下。干燥炉中的干燥温度可以根据底涂层用涂敷液中所含的溶剂的种类适当设定。在底涂层用涂敷液的溶剂含有水时,干燥炉的干燥温度优选为80℃以上。干燥时间为例如30秒以上、20分钟以下程度。
形成底涂层后,使用涂布装置42隔着底涂层在基材膜20上涂布树脂层用涂敷液33。树脂层用涂敷液33是例如将聚乙烯醇系树脂的粉末溶解于溶剂而得到的聚乙烯醇系树脂溶液。作为聚乙烯醇系树脂,如上述的偏振片10的形成材料的说明中所述。
树脂层用涂敷液33的溶剂为例如水。树脂层用涂敷液33中的聚乙烯醇系树脂的浓度优选为5质量%以上,更优选为5质量%以上、15质量%以下,进一步优选为5质量%以上、10质量%以下。树脂层用涂敷液33中的聚乙烯醇系树脂的浓度小于5质量%时,树脂层用涂敷液33中的液体成分的比例变大,因此有时树脂层用涂敷液33的干燥效率降低。此外,树脂层用涂敷液33中的聚乙烯醇系树脂的浓度为15质量%以上时,树脂层用涂敷液33的粘度变得过大,有时难以涂布树脂层用涂敷液33。
树脂层用涂敷液33的粘度只要是容易涂布在基材膜20上、且基材膜20上形成的树脂层用涂敷液33的层厚度不易产生不均的范围则没有特别限定。就树脂层用涂敷液33的粘度而言,涂布在基材膜20上时,例如优选为0.5Pa·s以上、10Pa·s以下,更优选为0.8Pa·s以上、7Pa·s以下,进一步优选为1Pa·s以上、5Pa·s以下。
树脂层用涂敷液33的粘度小于0.5Pa·s时,涂布的树脂层用涂敷液33发生流动,树脂层34的厚度精度有时会降低。此外,树脂层用涂敷液33的粘度大于10Pa·s时,涂布树脂层用涂敷液33的涂布装置42中可以使用的过滤器受到限制等,导致所形成的树脂层34的品质有时会降低。
需要说明的是,树脂层用涂敷液33的粘度只要涂布在基材膜20上时在上述数值范围内即可。因此,例如在连接至涂布装置42的贮存树脂层用涂敷液33的槽(图中未示出)内,树脂层用涂敷液33的粘度可以在上述数值范围外。这种情况下,例如,可以通过对树脂层用涂敷液33进行加温或冷却而使树脂层用涂敷液33的粘度在上述数值范围内。
树脂层用涂敷液33还可以含有增塑剂、表面活性剂等添加剂。增塑剂的种类如上所述。树脂层用涂敷液33中的添加剂的配合量相对于聚乙烯醇系树脂的量优选设为20质量%以下。
使用涂布装置42的树脂层用涂敷液33的涂布方法只要可以将树脂层用涂敷液33涂布在基材膜20上则没有特别限定。作为使用涂布装置42的树脂层用涂敷液33的涂布方法,可以列举与上述底涂层用涂敷液的涂布方法同样的方法。使用涂布装置42的树脂层用涂敷液33的涂布方法与底涂层用涂敷液的涂布方法可以相同,也可以不同。作为涂布装置42,可以适当选择与各涂布方法相应的涂布装置。所涂布的树脂层用涂敷液33的层的厚度为例如50μm以上、200μm以下。
然后,将涂布在基材膜20上的树脂层用涂敷液33用干燥炉52干燥。在干燥炉52内,通过例如所吹送的热风等对树脂层用涂敷液33的层进行加热,使树脂层用涂敷液33干燥、固化。由此,形成树脂层34。
干燥炉52只要可以干燥树脂层用涂敷液33则没有特别限定。干燥炉52中的干燥温度为例如50℃以上、200℃以下,优选为60℃以上、150℃以下。干燥炉52中的干燥温度可以根据树脂层用涂敷液33中所含的溶剂的种类适当设定。树脂层用涂敷液33的溶剂含有水时,干燥炉52的干燥温度优选为80℃以上。干燥时间为例如2分钟以上、20分钟以下程度。
通过以上操作形成树脂层34,形成按照基材膜20、底涂层和树脂层34的顺序层叠的层叠体70。所形成的树脂层34的厚度为例如3μm以上、20μm以下,优选为5μm以上、20μm以下。
拉伸工序S11b是将基材膜20和树脂层34一起进行拉伸的工序。拉伸工序S11b中,使用拉伸装置60将层叠体70沿着长度方向进行单轴拉伸。
由此,对树脂层34进行拉伸。树脂层34的厚度由于被拉伸而减小。
树脂层34的拉伸倍率可以根据所期望的偏振片10的偏振特性适当选择。树脂层34的拉伸倍率相对于拉伸之前的树脂层34的长度方向的尺寸优选为大于5倍、17倍以下,更优选为大于5倍、8倍以下。树脂层34的拉伸倍率为5倍以下时,树脂层34的取向变得不充分,所制造的偏振片10的偏振度有时未充分增大。此外,树脂层34的拉伸倍率大于17倍时,有时层叠体70容易断裂或层叠体70的厚度变得过小,从而后续工序中的加工性和处理性降低。
拉伸装置60只要可以将树脂层34拉伸至规定的拉伸倍率则没有特别限定。使用拉伸装置60的层叠体70的拉伸方法可以是设置输送辊的圆周速度差而进行拉伸的辊间拉伸,也可以是拉幅拉伸机拉伸。此外,拉伸处理也可以跨越多个阶段来进行。这种情况下,可以使跨越多个阶段的拉伸处理全部在染色工序S11c之前进行,也可以使第2阶段后的拉伸处理中的一部分或全部在染色工序S11c中进行。
使用拉伸装置60对层叠体70(树脂层34)进行拉伸时的拉伸温度设为基材膜20和树脂层34显示出能够拉伸的程度的流动性的温度以上。拉伸温度优选为例如基材膜20的相转变温度(熔点或玻璃化转变温度)的-30℃以上、+30℃以下的范围,更优选为-30℃以上、+5℃以下的范围,进一步优选为-25℃以上、±0℃以下的范围。拉伸温度低于基材膜20的相转变温度-30℃时,基材膜20的流动性过小,有时难以将基材膜20和树脂层34拉伸。此外,拉伸温度高于基材膜20的相转变温度+30℃时,基材膜20的流动性过大,有时难以将基材膜20和树脂层34拉伸。基材膜20为多层时,基材膜20的相转变温度是指多个层的相转变温度中的最高温度。
染色工序S11c是使二色性色素吸附至树脂层34的工序。染色工序S11c中,将拉伸后的层叠体70整体浸渍在含有二色性色素的染色溶液80中。染色溶液80是在溶剂中溶解有二色性色素的溶液。染色溶液80的溶剂例如为水。染色溶液80的溶剂中,除了水以外,还可以添加与水具有相容性的有机溶剂。染色溶液80中的二色性色素的浓度优选为0.01质量%以上、10质量%以下,更优选为0.02质量%以上、7质量%以下,进一步优选为0.025质量%以上、5质量%以下。
在二色性色素为碘时,优选在含有碘的染色溶液80中进一步添加碘化物。原因在于,可以提高染色效率。作为碘化物,可以列举例如:碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。染色溶液80中的碘化物的浓度优选为0.01质量%以上、20质量%以下。
碘化物中,优选添加的是碘化钾。添加碘化钾时,碘化钾的质量相对于碘的质量的比值优选为5以上、100以下,更优选为6以上、80以下,进一步优选为7以上、70以下。
对层叠体70在染色溶液80中的浸渍时间没有特别限定,优选为15秒以上、15分钟以下,更优选为1分钟以上、3分钟以下。染色溶液80的温度优选为10℃以上、60℃以下,更优选为20℃以上、40℃以下。
通过进行上述染色处理,树脂层34吸附有进行了取向的二色性色素,得到隔着底涂层层叠在基材膜20上的偏振片10。由此,得到按照基材膜20、底涂层和偏振片10的顺序层叠的偏振性层叠体71。
需要说明的是,染色工序S11c还可以包含接着上述染色处理而实施的交联处理工序。交联处理工序中,将染色后的层叠体70整体浸渍在含有交联剂的交联溶液中。作为交联剂,可以列举例如:硼酸、硼砂等硼化合物;乙二醛和戊二醛等。交联剂可以为1种,也可以将2种以上组合使用。
作为交联溶液,可以使用在溶剂中溶解有交联剂的溶液。交联溶液的溶剂例如为水。交联溶液的溶剂中,除了水以外,还可以添加与水具有相容性的有机溶剂。交联溶液中的交联剂的浓度优选为例如1质量%以上、20质量%以下,更优选为6质量%以上、15质量%以下。
交联溶液中可以添加碘化物。通过添加碘化物,可以使树脂层34的面内偏振特性更加均匀化。作为添加于交联溶液的碘化物,可以列举例如与添加于上述染色溶液80中的碘化物同样的碘化物。添加于交联溶液的碘化物与添加于染色溶液80中的碘化物可以相同也可以不同。交联溶液中的碘化物的浓度优选为0.05质量%以上、15质量%以下,更优选为0.5质量%以上、8质量%以下。
层叠体70在交联溶液中的浸渍时间优选为15秒以上、20分钟以下,更优选为30秒以上、15分钟以下。交联溶液的温度优选为10℃以上、80℃以下。
需要说明的是,交联处理也可以通过将交联剂配合于染色溶液80中而与染色处理同时进行。此外,还可以使用组成不同的2种以上交联溶液进行2次以上的在交联溶液中浸渍的处理。
吸收轴测定工序S11d是测定偏振片10的吸收轴相对于规定方向的角度的工序,所述规定方向为与层叠有偏振膜1和相位差膜13的层叠方向正交的方向。在本实施方式中的规定方向为例如长度方向(输送方向、图3中的左右方向)。吸收轴的角度的测定使用测定器90来进行。本说明书中,测定器90为例如王子计测机株式会社制“KOBRA(注册商标)-WPR”、大塚电子株式会社制“RETS(注册商标)”等。测定器90例如通过接收从基材膜20侧入射至偏振性层叠体71而从偏振片10射出的光,来进行偏振片10的吸收轴的测定。
吸收轴测定工序S11d中,沿着与层叠方向和长度方向二者正交的宽度方向(图3中与纸面垂直的方向)在多个部位测定偏振片10的吸收轴的角度。作为吸收轴测定工序S11d中的测定方法的一例,可以列举下述方法:将偏振片10沿着宽度方向划分成3个部分,对此时的各部分分别测定吸收轴的角度。这种情况下,3个测定部位可以设为例如宽度方向的中央部分、和从宽度方向的两端部分起的向中央部分侧的50mm的位置。在本实施方式中,吸收轴测定工序S11d设置在偏振片形成工序S11f(树脂层形成工序S11a~染色工序S11c)之后、保护膜贴合工序S11e之前。
保护膜贴合工序S11e是将保护膜11贴合于偏振片10上的工序。在偏振片10的与基材膜20相反侧的面(图3中为上侧的面)上,经由粘接层12而贴合保护膜11。作为粘接层12的形成方法,可以列举例如:将粘接层12的形成材料涂布在偏振片10的面上的方法、或将粘接层12的形成材料滴加到偏振片10的面上且在贴合时使粘接剂展开至面内的方法。作为涂布粘接层12的形成材料的方法,可以列举例如:线棒涂布法、逆转辊涂布、凹版辊式涂布等辊涂法、模涂法、逗点涂布法、唇式涂布法、丝网印刷法、喷涂法、浸涂法、喷雾法等。
对保护膜11的贴合方法没有特别限定。例如,可以将卷绕成卷状的保护膜11卷出,以在粘接层12上承载有保护膜11的状态,使之通过夹着保护膜11和偏振性层叠体71的2个辊间而进行压接,从而可以将保护膜11贴合。
通过以上的工序,得到在基材膜20上层叠有具备偏振片10和保护膜11的偏振膜1的层叠体。通过从该层叠体剥离除去基材膜20,得到偏振膜1。对剥离除去基材膜20的方法没有特别限定,例如,可以采用与在带有粘合剂的偏振板中进行的间隔件(剥离膜)的剥离工序同样的方法。基材膜20可以在保护膜贴合工序S11e之后直接立即剥离,也可以在保护膜贴合工序S11e之后,暂时将贴合有保护膜11的偏振性层叠体71卷绕为卷状,在此后的工序中一边卷出一边剥离。
将如上操作而制造的偏振膜1卷绕到芯材上,以坯料卷的形式暂时保管。由此,得到带状的偏振膜1卷绕而成的坯料卷101(参照图4)。在本实施方式的偏振膜准备工序S11中,如上操作而形成、准备多个偏振膜1。由此,得到多个偏振膜1的坯料卷101。
相位差膜准备工序S12是准备相位差膜13的工序。在相位差膜准备工序S12中,例如,准备带状的相位差膜13卷绕而形成的坯料卷113(参照图4)。在本实施方式的相位差膜准备工序S12中,准备多个相位差膜13的坯料卷113。
快轴测定工序S13为测定相位差膜13的快轴相对于规定方向的角度的工序。规定方向是与吸收轴测定工序S11d中测定吸收轴的角度时作为基准的规定方向相同的方向,例如为长度方向。作为测定快轴的角度的测定器,例如,可以同样地选择测定偏振片10的吸收轴的测定器90。测定快轴的角度的测定器与测定吸收轴的测定器90可以相同,也可以不同。
需要说明的是,吸收轴测定工序S11d中测定吸收轴的角度时作为基准的规定方向、与快轴测定工序S13中测定快轴的角度时作为基准的规定方向,在实际测定时允许相互稍稍错开。即,在各测定工序中作为角度基准的规定方向为相同方向的表述,也包括各测定工序中的规定方向为大致相同的方向。
快轴测定工序S13中,沿着宽度方向在多个部位测定相位差膜13的快轴的角度。作为快轴测定工序S13中测定快轴的角度的方法的一例,可以列举下述方法:将相位差膜13沿着宽度方向划分成3个部分,对此时的各部分分别测定快轴的角度。这种情况下,3个测定部位可以设为例如宽度方向的中央部分、和从宽度方向的两端部分起的向中央部分侧的50mm的位置。在本实施方式的快轴测定工序S13中中,对相位差膜准备工序S12中准备的多个相位差膜13分别测定快轴。
选择工序S14是从上述工序中准备的偏振膜1和相位差膜13中选择进行相互贴合的贴合面的工序。在选择工序S14中,选择各贴合面,使得在偏振膜1和相位差膜13的相互对向、贴合的部分中,吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度。本实施方式中,优选选择各贴合面,使得在偏振膜1和相位差膜13的相互对向、贴合的部分中的多个部位(上述各测定工序中进行测定的多个部位)中,吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度。所设定的规定角度优选为例如0.24°,更优选为0.20°,进一步优选为0.15°。通过将规定角度设为0.24°,可以进一步提高所制造的层叠膜100的偏振度。
在本实施方式的选择工序S14中,偏振膜1的贴合面从多个偏振膜1的两面中来进行选择。在本实施方式的选择工序S14中,相位差膜13的贴合面从多个相位差膜13的两面中来进行选择。即,在选择工序S14中,在后续的相位差膜贴合工序S15中进行相互贴合的偏振膜1和相位差膜13从多个偏振膜1和多个相位差膜13中分别进行选择,并且分别选择所选择的偏振膜1中的贴合于相位差膜13的贴合面、以及所选择的相位差膜13中的贴合于偏振膜1的贴合面。在本实施方式中,相位差膜13贴合于偏振膜1的偏振片10中的贴合有保护膜11的一侧的相反侧的面上,因此偏振膜1的贴合面被限定于1个面。各膜和各贴合面的选择方法将在后文中详细说明。
相位差膜贴合工序S15是在选择工序S14中所选择的偏振膜1的贴合面上贴合选择工序S14中所选择的相位差膜13的贴合面的工序。图4为示出相位差膜贴合工序S15的步骤的立体图。
如图4所示,在相位差膜贴合工序S15中,从偏振膜准备工序S11所得到的偏振膜1的坯料卷101中卷出偏振膜1,并且从相位差膜准备工序S12所得到的相位差膜13的坯料卷113中卷出相位差膜13。并且,一边将各膜卷出一边将偏振膜1的长度方向与相位差膜13的长度方向对齐,从而在偏振膜1上贴合相位差膜13。例如与保护膜贴合工序S11e中贴合保护膜11时同样地,使偏振膜1和相位差膜13通过辊间而相互压接,从而进行贴合。
虽然省略了图示,但在相位差膜13的贴合面上形成有粘接层14(参照图1),偏振膜1和相位差膜13经由粘接层14而贴合。
对粘接层14的形成方法没有特别限定,例如,可以采用与上述粘接层12同样的方法,也可以使用粘合剂。
通过以上的工序制造具备偏振膜1和相位差膜13的层叠膜100。
下面对选择工序S14中的各膜和各贴合面的选择方法进行说明。图5为示出图4中的层叠膜100的俯视图。图6为示出与图4不同的相位差膜贴合工序S15的另一步骤的立体图。图7为示出图6中的层叠膜100的俯视图。
例如,首先考虑将偏振膜1和相位差膜13按照图4所示方式贴合的情况。图4中,偏振膜1从坯料卷101的上侧卷出,相位差膜13从坯料卷113的上侧卷出。在以下的说明中,有时将膜从坯料卷的上侧卷出的情况简称为“上出”。
在图4中,偏振膜1的两面中的、在坯料卷101中卷绕时成为外侧的偏振膜外侧面1b与相位差膜13的两面中的、在坯料卷113中卷绕时成为内侧的相位差膜内侧面13a进行贴合。即,图4中,偏振膜外侧面1b为偏振膜1的贴合面,相位差膜内侧面13a为相位差膜13的贴合面。偏振膜外侧面1b为偏振片10中的与保护膜11相反侧的上表面10b(参照图1)。
这里,偏振膜1为在吸收轴测定工序S11d中测定沿着宽度方向(Y轴方向)划分的3个部分、即第1部分AD1、第2部分AD2和第3部分AD3的吸收轴的角度的膜。第1部分AD1、第2部分AD2和第3部分AD3沿着宽度方向依次邻接而设置。在图4和图5所示的偏振膜1的姿态中,第1部分AD1为偏振膜1中的宽度方向左侧(-Y侧)的部分,第3部分AD3为偏振膜1中的宽度方向右侧(+Y侧)的部分。第2部分AD2为偏振膜1中的宽度方向中央的部分。
图5中以虚线箭头示出偏振膜1的面内各部分的吸收轴A1、A2、A3的一例。吸收轴A1为偏振膜1中的第1部分AD1的吸收轴。吸收轴A2为偏振膜1中的第2部分AD2的吸收轴。吸收轴A3为偏振膜1中的第3部分AD3的吸收轴。
就各吸收轴的角度而言,从层叠方向的上侧(+Z侧)向下侧(-Z侧)观察(以下、俯视),将以长度方向(X轴方向)为基准朝向逆时针的一侧(+θz侧)设为正向侧,将以长度方向为基准朝向顺时针的一侧(-θz侧)设为负向侧。
第1部分AD1中的吸收轴A1相对于长度方向(X轴方向)的角度θA1为正,第2部分AD2中的吸收轴A2相对于长度方向的角度θA2为负,第3部分AD3中的吸收轴A3相对于长度方向的角度θA3为正。
此外,相位差膜13为在快轴测定工序S13中测定沿着宽度方向(Y轴方向)划分的3个部分、即第1部分FD1、第2部分FD2 和第3部分FD3的快轴的角度的膜。第1部分FD1、第2部分FD2和第3部分FD3沿着宽度方向依次邻接而设置。在图4和图5所示的相位差膜13的姿态中,第1部分FD1为相位差膜13中的宽度方向左侧(-Y侧)的部分,第3部分FD3为相位差膜13中的宽度方向右侧(+Y侧)的部分。第2部分FD2为相位差膜13中的宽度方向中央的部分。
在图4和图5的例子中,相位差膜13的第1部分FD1与偏振膜1的第1部分AD1沿着层叠方向(Z轴方向)对向贴合。相位差膜13的第2部分FD2与偏振膜1的第2部分AD2沿着层叠方向对向贴合。相位差膜13的第3部分FD3与偏振膜1的第3部分AD3沿着层叠方向对向贴合。
图5中,以实线箭头示出相位差膜13的面内各部分的快轴F1、F2、F3的一例。快轴F1为相位差膜13中的第1部分FD1的快轴。快轴F2为相位差膜13中的第2部分FD2的快轴。快轴F3为相位差膜13中的第3部分FD3的快轴。
就各快轴的角度而言,与上述各吸收轴的角度同样地在俯视时将以长度方向(X轴方向)为基准朝向逆时针的一侧(+θz侧)设为正向侧,将以长度方向为基准朝向顺时针的一侧(-θz侧)设为负向侧。
第1部分FD1中的快轴F1相对于长度方向(X轴方向)的角度θF1为负,第2部分FD2中的快轴F2相对于长度方向的角度θF2为正,第3部分FD3中的快轴F3相对于长度方向的角度θF3为负。
层叠膜100具有沿着宽度方向(Y轴方向)划分的3个部分,即左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD。左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD沿着宽度方向依次邻接而设置。在图4和图5中,左侧部分LD是偏振膜1的第1部分AD1和相位差膜13的第1部分FD1层叠构成的。中央部分CD是偏振膜1的第2部分AD2和相位差膜13的第2部分FD2层叠构成的。右侧部分RD是偏振膜1的第3部分AD3和相位差膜13的第3部分FD3层叠构成的。
对偏振膜1和相位差膜13按照图4方式贴合时的、吸收轴与快轴的相对角度进行评价。具体而言,在层叠膜100中的左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD的各部分中,判断吸收轴与快轴的相对角度是否小于规定角度(本实施方式中为例如0.24°)。
如图5所示,左侧部分LD中的相对角度θL为吸收轴A1的角度θA1与快轴F1的角度θF1的相对角度,用θL=|θA1-θF1|表示。中央部分CD中的相对角度θC为吸收轴A2的角度θA2与快轴F2的角度θF2的相对角度,用θC=|θA2-θF2|表示。右侧部分RD中的相对角度θR为吸收轴A3的角度θA3与快轴F3的角度θF3的相对角度,用θR=|θA3-θF3|表示。
在本实施方式的选择工序S14中,在各相对角度θL、θC、θR中的任一个均小于规定角度(0.24°)时,判断为层叠膜100中吸收轴和快轴的偏移充分小。
在此,例如在偏振膜1和相位差膜13按照图4和图5的方式贴合而形成的层叠膜100中,各相对角度θL、θC、θR中的任一个均小于规定角度(0.24°)。这种情况下,在选择工序S14中,选择偏振膜1的贴合面和相位差膜13的贴合面,以使贴合面为图4和图5所示的组合。即,选择偏振膜外侧面1b作为偏振膜1的贴合面,选择相位差膜内侧面13a作为相位差膜13的贴合面。
另一方面,在本实施方式的选择工序S14中,在各相对角度θL、θC、θR中的任意1个以上为规定角度(0.24°)以上时,判断为层叠膜100中吸收轴和快轴的偏移比较大。
在此,例如在偏振膜1和相位差膜13按照图4和图5的方式贴合而形成的层叠膜100中,各相对角度θL、θC、θR中的任意1个以上为规定角度(0.24°)以上。这种情况下,再次对与图4和图5所示的组合不同的贴合面组合进行研究。
再次进行研究时,例如,考虑了将偏振膜1和相位差膜13按照图6所示方式贴合的情况。图6中,偏振膜1与图4同样地上出。坯料卷113被设置为相对于图4中的坯料卷113的姿态在宽度方向(Y轴方向)上翻转的姿态,相位差膜13从坯料卷113的下侧卷出。由此,在图6和图7中,相位差膜13以相对于图4和图5所示的相位差膜13的姿态在宽度方向(Y轴方向)和层叠方向(Z轴方向)上翻转的姿态贴合于偏振膜1。
在以下的说明中,有时将膜从坯料卷的下侧卷出的情况简称为“下出”。
在图6中,偏振膜外侧面1b与相位差膜13的两面中的、在坯料卷113中卷绕时成为外侧的相位差膜外侧面13b进行贴合。即,图6中,相位差膜13的贴合面与图4中的贴合面不同,为相位差膜外侧面13b。偏振膜1的贴合面与图4中同样为偏振膜外侧面1b。
如上所述,在图6和图7中,相位差膜13为相对于图4和图5所示的相位差膜13的姿态在宽度方向(Y轴方向)上翻转的姿态。因此,在图6和图7中,第1部分FD1为相位差膜13中的宽度方向右侧(+Y侧)的部分,第3部分FD3为相位差膜13中的宽度方向左侧(-Y侧)的部分。第2部分FD2与图4和图5中同样地为相位差膜13中的宽度方向中央的部分。
在图6和图7的例子中,相位差膜13的第1部分FD1与偏振膜1的第3部分AD3沿着层叠方向(Z轴方向)对向贴合。相位差膜13的第2部分FD2与偏振膜1的第2部分AD2沿着层叠方向对向贴合。相位差膜13的第3部分FD3与偏振膜1的第1部分AD1沿着层叠方向对向贴合。即,在图6和图7的例子的情况下,相位差膜13的第1部分FD1和第3部分FD3所贴合的偏振膜1的部分不同于图4和图5的例子的情况。
由此,在图6和图7中,层叠膜100的左侧部分LD是偏振膜1的第1部分AD1和相位差膜13的第3部分FD3层叠构成的。右侧部分RD是偏振膜1的第3部分AD3和相位差膜13的第1部分FD1层叠构成的。中央部分CD与图4和图5同样地是偏振膜1的第2部分AD2和相位差膜13的第2部分FD2层叠构成的。
如上所述,在图6和图7中,相位差膜13为相对于图4和图5所示的相位差膜13的姿态在层叠方向(Z轴方向)上翻转的姿态。因此,如图7所示,各快轴F1~F3的倾斜度是图5所示的情况在宽度方向(Y轴方向)上发生翻转。即,第1部分FD1中的快轴F1相对于长度方向(X轴方向)的角度θF1为正,第2部分FD2中的快轴F2相对于长度方向的角度θF2为负,第3部分FD3中的快轴F3相对于长度方向的角度θF3为正。
对偏振膜1和相位差膜13按照图6的方式贴合时的、吸收轴与快轴的相对角度进行评价。具体而言,在层叠膜100中的左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD的各部分中,判断吸收轴与快轴的相对角度是否小于规定角度(本实施方式中为例如0.24°)。
此时,如图7所示,左侧部分LD中的相对角度θL为吸收轴A1的角度θA1与快轴F3的角度θF3的相对角度,用θL=|θA1-θF3|表示。中央部分CD中的相对角度θC为吸收轴A2的角度θA2与快轴F2的角度θF2的相对角度,用θC=|θA2-θF2|表示。右侧部分RD中的相对角度θR为吸收轴A3的角度θA3与快轴F1的角度θF1的相对角度,用θR=|θA3-θF1|表示。
其中,图5的例子中,示出层叠膜100的左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD中的任一部分中、各吸收轴的角度和各快轴的角度的正负彼此相反的例子,因此各部分的吸收轴与快轴的相对角度容易变得比较大。
与此相对地,图7的例子中,相位差膜13在宽度方向(Y轴方向)和层叠方向(Z轴方向)上翻转,从而相位差膜13的各快轴的角度发生正负翻转,并且在左侧部分LD和右侧部分RD中,相位差膜13与偏振膜1重叠的部分也发生改变。其结果是,图7的例子中,层叠膜100的左侧部分LD、中央部分CD和右侧部分RD中的任一部分中,各吸收轴的角度的正负和各快轴的角度的正负均一致。因此,在图7的例子中,层叠膜100的各部分的吸收轴与快轴的相对角度与图5的例子相比也变小。
需要说明的是,图7中,吸收轴A3的角度θA3和快轴F1的角度θF1相同、以吸收轴A3和快轴F1重叠的形态示出。即,图7的例子中,右侧部分RD中的相对角度θR为0°。
例如在偏振膜1和相位差膜13按照图6和图7的方式贴合而形成的层叠膜100中,各相对角度θL、θC、θR中的任一个均小于规定角度(0.24°)。这种情况下,在选择工序S14中,选择偏振膜1的贴合面和相位差膜13的贴合面,使得贴合面为图6和图7所示的组合。即,选择偏振膜外侧面1b作为偏振膜1的贴合面,选择相位差膜外侧面13b作为相位差膜13的贴合面。
另一方面,例如在偏振膜1和相位差膜13按照图6和图7的方式贴合而形成的层叠膜100中,各相对角度θL、θC、θR中的任意1个以上为规定角度(0.24°)以上。这种情况下,进一步对与图6和图7所示的组合不同的贴合面组合进行研究。进一步进行研究时,例如,将偏振膜1和相位差膜13中的至少一者变更为不同的膜,与上述同样地进行贴合面的研究。
如此进行操作来选择偏振膜1和相位差膜13、并选择各膜中的贴合面,使得所形成的层叠膜100中各相对角度θL、θC、θR中的任一个均小于规定角度(0.24°)。
需要说明的是,在使用上述图4至图7来说明选择工序S14时,为了说明上的方便,说明了将偏振膜1和相位差膜13贴合、对层叠膜100中的各相对角度进行评价的方式。但是,实际的选择工序S14中不使偏振膜1和相位差膜13贴合,而基于由吸收轴测定工序S11d和快轴测定工序S13得到的各部分的吸收轴的角度数据和快轴的角度数据,来进行各膜的选择和各贴合面的选择。
根据本实施方式,设置有如下选择工序S14:基于由吸收轴测定工序S11d和快轴测定工序S13得到的吸收轴的角度数据和快轴的角度数据,选择使吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度的贴合面。因此,在相位差膜贴合工序S15中,通过将选择工序S14所选择的贴合面彼此贴合,可以将偏振膜1和相位差膜13贴合以使吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度。由此,可以在所得到的层叠膜100中减小偏振膜1的吸收轴和相位差膜13的快轴的相对角度,并且可以抑制吸收轴和快轴偏移。因此,可得到偏振度优良的层叠膜100。由此,根据本实施方式,在将层叠膜100用于液晶显示装置时,可以抑制液晶显示装置的对比度降低。
此外,作为抑制吸收轴和快轴的偏移的其它方法,考虑了如下方法:例如,一边使偏振膜1和相位差膜13绕着与层叠方向平行的轴旋转来调整吸收轴的角度和快轴的角度,一边将膜彼此贴合。但是,该方法中,由于使偏振膜1和相位差膜13的贴合角度错开,因此不能使用如本实施方式那样的、将从坯料卷卷出的各膜彼此贴合的方法,存在难以得到长条的层叠膜的问题。
此外,作为抑制吸收轴和快轴的偏移的其它方法,还考虑了如下方法:例如,对偏振膜1和相位差膜13的形状进行剪切从而修正贴合的各膜的形状,使得将长度方向对齐而贴合时吸收轴和快轴的偏移得到抑制。但是,该方法存在需要费功夫对膜进行剪切、层叠膜的制造成本上涨的问题。此外,与上述其它方法同样地难以得到长条的层叠膜。此外,即使得到了长条的层叠膜的情况下,也会由于对膜进行了剪切而存在宽度方向的尺寸变小的问题。
相对于这些方法,根据本实施方式,可以在制成长条的偏振膜1和相位差膜13的贴合角度不会错开并且也不对膜进行剪切从而修正形状的条件下,使长度方向对齐而将膜彼此贴合,得到长条的偏振膜1。因此,可以抑制层叠膜100的制造成本上涨,并且容易得到长条的层叠膜100。此外,还可以抑制层叠膜100的宽度方向的尺寸减小。从这样的观点出发,本实施方式的制造方法在制造长度方向的长度为100m以上的层叠膜时更为有效,在制造宽度方向的长度为30cm以上的层叠膜时更为有效。
此外,例如在制造偏振膜的坯料卷时吸收轴的角度与所贴合的相位差膜的快轴大幅偏移时,所制造的层叠膜得不到期望的特性。因此,例如,有时将制造出的偏振膜废弃,重新制造偏振膜的坯料卷。由此,所制造的偏振膜被浪费,存在层叠膜的成品率降低的问题。
与此相对地,本实施方式设置有选择工序S14,因此通过选择具有与所制造的偏振膜1的吸收轴的偏移少的快轴的相位差膜的贴合面,可以抑制偏振膜1的浪费。由此,可以抑制层叠膜100的成品率降低。
此外,根据本实施方式,在选择工序S14中选择各贴合面,使得吸收轴的角度与快轴的角度的相对角度小于0.24°。因此,可以在所制造的层叠膜100中适当地抑制吸收轴与快轴的偏移,可以适当提高层叠膜100的偏振度。
此外,吸收轴测定工序S11d中所测定的偏振片10的吸收轴的角度大幅偏离所期望的角度时,所制造的偏振膜1也难以得到所期望的性能。这种情况下,存在可以利用偏振膜1的制品的范围变小的问题。
与此相对地,根据本实施方式,在偏振片形成工序S11f之后、保护膜贴合工序S11e之前设置有吸收轴测定工序S11d。因此,当吸收轴测定工序S11d中测定的偏振片10的吸收轴的角度大幅偏离所期望的角度时,可以停止偏振片10的输送、终止保护膜11的贴合。由此,可以得到未贴合保护膜11的状态的偏振片10。因此,可以改变贴合于偏振片10的膜的种类等,可以抑制能够利用所制造的偏振膜或其它多层膜的制品的范围变小。
此外,根据本实施方式,在相位差膜准备工序S12中准备多个相位差膜13,在选择工序S14中,相位差膜13的贴合面从多个相位差膜13的两面中进行选择。因此,可以增加偏振膜1的贴合面与进行贴合的相位差膜13的贴合面的组合。由此,容易使得到的层叠膜100中偏振膜1的吸收轴和相位差膜13的快轴的相对角度进一步减小。因此,可以进一步提高层叠膜100的偏振度。从这样的观点出发,相位差膜准备工序S12中准备的相位差膜的个数优选为2以上,更优选为3以上。
此外,根据本实施方式,在偏振膜准备工序S11中准备多个偏振膜1,在选择工序S14中,偏振膜1的贴合面从多个偏振膜1的两面中进行选择。因此,可以增加相位差膜13的贴合面与进行贴合的偏振膜1的贴合面的组合。由此,容易使得到的层叠膜100中偏振膜1的吸收轴和相位差膜13的快轴的相对角度进一步减小。因此,可以进一步提高层叠膜100的偏振度。从这样的观点出发,偏振膜准备工序S11中准备的偏振膜的个数优选为2以上,更优选为3以上。
此外,通过如此地选择多个偏振膜1和多个相位差膜13的组合,可以抑制吸收轴和快轴的偏移变大而得不到期望的特性的情况。因此,可以进一步抑制偏振膜1或相位差膜13的浪费。因此,可以进一步抑制层叠膜100的成品率降低。
需要说明的是,在某一次的各准备工序所准备的偏振膜1和相位差膜13中的一部分无法实现吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度时,可以保管该膜的坯料卷并作为下一次的各准备工序中准备的膜来使用。由此,可以进一步抑制偏振膜1或相位差膜13的浪费。
如上所述,本实施方式中在偏振膜1的单面上贴合保护膜11,因此对于1个偏振膜1而言,可以选择作为贴合面的面仅为与保护膜11相反侧的偏振膜外侧面1b。但是,可以通过改变相位差膜13的贴合面来改变吸收轴与快轴的相对角度,实质上选择贴合面的组合并未减少。
需要说明的是,能够在偏振膜1的两面贴合相位差膜13的情况下,可以从偏振膜外侧面1b以及偏振膜1的两面中的、坯料卷101中在卷绕时成为内侧的偏振膜内侧面1a中,来选择偏振膜1的贴合面。这种情况下,可以使选择偏振膜1和相位差膜13的贴合方法的自由度变大。
此外,根据本实施方式,在吸收轴测定工序S11d中,测定偏振片10的宽度方向的多个部位中的吸收轴的角度,在快轴测定工序S13中,测定相位差膜13的宽度方向的多个部位中的快轴的角度。并且,在选择工序S14中,在偏振膜1上贴合相位差膜13,使得在多个部位中吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度。因此,可以在层叠膜100中的宽度方向的多个部位减小偏振膜1的吸收轴和相位差膜13的快轴的相对角度,可以提高层叠膜100的偏振度。
需要说明的是,本实施方式中还可以采用以下的方法。
在选择工序S14中,可以对各膜的贴合面的贴合朝向进行选择,使得吸收轴与快轴的相对角度小于规定角度。这种情况下,在相位差膜贴合工序S15中,基于选择工序S14中选择的贴合朝向,在偏振膜1的贴合面上贴合相位差膜13的贴合面。各膜的贴合面的贴合朝向包括例如贴合面的长度方向的朝向。以下进行详细说明。
例如,如图4和图6所示,在将偏振膜1的坯料卷101和相位差膜13的坯料卷113以原本的状态使用、将膜彼此贴合时,在上出时和下出时的任一情况下,各膜的姿态均未在长度方向上发生翻转。但是,如果将坯料卷重新卷绕,则可以使膜的姿态在长度方向上发生翻转。这种情况下,宽度方向的吸收轴或快轴的分布可以视为相对于长度方向均匀,因此可以仅使膜的姿态在长度方向上翻转。
图8A至图8C为用于说明坯料卷的重新卷绕的说明图。图8A至图8C示出将偏振膜1的坯料卷101重新卷绕的情况。
如图8A所示,使偏振膜1的长度方向的一端1c从坯料卷101卷出,如图8B所示那样逐渐卷绕到另一芯材上。由此,得到重新卷绕的坯料卷201。如图8C所示,重新卷绕的坯料卷201中,偏振膜1的长度方向的另一端1d成为卷出侧的端部。
将如此得到的偏振膜1的坯料卷201如图4和图6那样上出时,相对于图4和图6中的姿态,成为偏振膜1的前后在长度方向上翻转的姿态,可以使偏振膜1的作为贴合面的偏振膜外侧面1b的贴合朝向翻转。这种情况下,偏振膜1的姿态在宽度方向上也发生翻转,因此相位差膜13的第1部分FD1和第3部分FD3所贴合的偏振膜1的部分与图4和图6的例子的情况不同。具体而言,与相位差膜13的第1部分FD1和第3部分FD3贴合的部分在偏振膜1的第1部分AD1和第3部分AD3之间反转。
另一方面,此时,偏振膜1的贴合面与图4和图6相同,为偏振膜外侧面1b,偏振膜1的姿态在层叠方向上不翻转。因此,偏振膜1的吸收轴的角度的正负与图4和图6所示的情况相同。由此,通过改变偏振膜1的贴合面的朝向,可以在不改变吸收轴的角度的正负的条件下改变偏振膜1和相位差膜13的贴合部分,从而改变吸收轴与快轴的相对角度。
如上所述,根据该方法,通过在选择工序S14中选择各膜的贴合面的贴合朝向,可以使用同一偏振膜1和相位差膜13来拓宽吸收轴与快轴的相对角度的变化幅度。具体而言,可以使用同一偏振膜1和相位差膜13,在不重新卷绕坯料卷但改变贴合面的2个组合、重新卷绕坯料卷且改变贴合面的2个组合的合计4个组合中改变吸收轴与快轴的相对角度。因此,在选择工序S14中,可以更恰当地选择在相位差膜贴合工序S15中将各膜贴合的贴合条件。其结果是,可以进一步抑制层叠膜100的偏振度降低。此外,可以将制造的多个偏振膜1和多个相位差膜13更有效地组合利用,可以提高层叠膜100的制造效率。
需要说明的是,上述例子中,对将偏振膜1的坯料卷101重新卷绕的情况进行了说明,但并非仅限于这种方式。也可以将相位差膜13的坯料卷113重新卷绕从而改变相位差膜13的贴合面的贴合朝向。
此外,在偏振膜准备工序S11中,对偏振膜1的形成方法没有特别限定。例如,也可以利用在通过挤出成型制造聚乙烯醇系树脂膜后进行拉伸处理和染色处理的方法等,来形成偏振膜1。
此外,在偏振膜准备工序S11中,可以不形成偏振膜1,而是准备预先形成的多个偏振膜1。此外,在偏振膜准备工序S11中,可以仅准备1个偏振膜1。此外,在相位差膜准备工序S12中,可以仅准备1个相位差膜13。此外,也可以在偏振膜准备工序S11中,仅准备1个偏振膜1,在相位差膜准备工序S12中,仅准备1个相位差膜13。这种情况下,虽然相位差膜贴合工序S15中进行贴合的各膜必然是确定的,但可以通过选择各贴合面和各贴合面的贴合朝向,来抑制所制造的层叠膜100的偏振度降低。
此外,也可以不设置保护膜贴合工序S11e。此外,还可以设置贴合其它膜等的工序来代替保护膜贴合工序S11e,或者在保护膜贴合工序S11e的基础上设置贴合其它膜等的工序。
此外,在吸收轴测定工序S11d中,可以在2个部位或4个部位以上测定吸收轴。此外,在快轴测定工序S13中,可以在2个部位或4个部位以上测定快轴。例如,在2个部位测定各轴的情况下,在选择工序S14中,可以选择各贴合面,使得在所测定的2个部位中各轴彼此的相对角度小于规定角度。此外,例如,在4个部位以上测定各轴的情况下,在选择工序S14中,可以选择各贴合面,使得在所测定的4个部位以上的所有部位中各轴彼此的相对角度小于规定角度。
此外,在吸收轴测定工序S11d中,可以仅在1个部位测定吸收轴。此外,在快轴测定工序S13中,可以仅在1个部位测定快轴。这种情况下,在选择工序S14中,选择各贴合面,使得在所测定的1个部位中各轴彼此的相对角度小于规定角度。
如上所述,在本说明书中,在选择工序S14中选择各贴合面以使各轴彼此的相对角度小于规定角度的表述中,包括在各测定工序中所测定的全部部位选择各贴合面以使各轴彼此的相对角度小于规定角度的意思。
此外,成为测定吸收轴的角度和快轴的角度的基准的规定方向可以是长度方向以外的方向。
此外,偏振片10的吸收轴与偏振片10的透过轴正交。因此,测定偏振片10的吸收轴,与测定偏振片10的透过轴是等价的。此外,相位差膜13的快轴与相位差膜13的慢轴正交。因此,测定相位差膜13的快轴,与测定相位差膜13的慢轴是等价的。即,分别测定吸收轴和快轴来评价吸收轴与快轴的相对角度,与分别测定透过轴和慢轴来评价透过轴与慢轴的相对角度是等价的。因此,可以设置测定偏振片10的透过轴的工序来代替吸收轴测定工序S11d,可以设置测定相位差膜13的慢轴的工序来代替快轴测定工序S13。
此外,树脂层形成工序S11a中,可以设置在形成底涂层之前对涂布有底涂层用涂敷液的基材膜20的面实施电晕处理的工序。此外,树脂层形成工序S11a中,也可以不形成底涂层。
此外,树脂层形成工序S11a中,在形成树脂层34时使用增塑剂的情况下,在染色工序S11c之前,可以进行除去增塑剂的处理。增塑剂的除去可以如下进行:例如,将层叠体70浸渍在室温以上、70℃以下程度的水中而使层叠体70被水溶胀,从而使增塑剂从层叠体70中溶出。
此外,染色工序S11c中设置有交联处理的情况下,交联处理后,可以将偏振性层叠体71浸渍在纯水、离子交换水、蒸馏水、自来水等水中而进行水洗,从而进行冲洗硼酸等的处理。水洗涤液还可以含有碘化物。并且,此后可以进行使偏振性层叠体71干燥的处理。干燥处理可以采用自然干燥、加热干燥、送风干燥、减压干燥等公知的方法。
此外,染色工序S11c可以在拉伸工序S11b之前进行,也可以与染色工序S11c和拉伸工序S11b同时进行。
<第2实施方式>
相对于第1实施方式,第2实施方式中,吸收轴测定工序的设置位置不同。
需要说明的是,对于与上述实施方式同样的构成,有时通过适当赋予相同符号等而省略说明。
图9是示出本实施方式的层叠膜100的制造方法的步骤的流程图。本实施方式的层叠膜100的制造方法如图9所示包含:偏振膜准备工序S21、吸收轴测定工序(第1测定工序)S22、相位差膜准备工序S12、快轴测定工序S13、选择工序S14和相位差膜贴合工序S15。
偏振膜准备工序S21除了未设置吸收轴测定工序S11d以外,与第1实施方式的偏振膜准备工序S11相同。
吸收轴测定工序S22设置在偏振膜准备工序S21之后、选择工序S14之前。在吸收轴测定工序S22中,测定偏振膜准备工序S21所得到的偏振膜1中的偏振片10的吸收轴。吸收轴的测定使用例如王子计测机株式会社制“KOBRA(注册商标)-WPR”、大塚电子株式会社制“RETS(注册商标)”等测定器来进行。测定器例如接收从保护膜11侧入射至偏振膜1而从偏振片10射出的光,从而进行偏振片10的吸收轴的测定。
根据本实施方式,吸收轴测定工序S22设置在偏振膜准备工序S21之后。因此,例如,即使在保护膜贴合工序S11e等中吸收轴的角度发生偏移的情况下,也可以在吸收轴测定工序S22中测定偏移后的吸收轴的角度。因此,可以测定即将贴合相位差膜13前的吸收轴的角度,并在选择工序S14中更恰当地选择贴合面。其结果是,可以进一步提高层叠膜100的偏振度。
需要说明的是,在上述实施方式中,使偏振片10的吸收轴的方向和相位差膜13的快轴的方向一致,但并非仅限于这种方式。例如,也可以使偏振片10的吸收轴的方向和相位差膜13的慢轴的方向一致。这种情况下,设置测定相位差膜13的慢轴相对于规定方向的角度的慢轴测定工序(第1测定工序)来代替快轴测定工序S13。此外,在选择工序S14中,从偏振膜1和相位差膜13中选择进行相互贴合的贴合面,使得偏振膜1和相位差膜13的相互对向、贴合的部分中吸收轴和慢轴的相对角度小于规定角度。在使吸收轴和慢轴对齐的情况下,也可以通过将各轴彼此的相对角度设为小于规定角度(例如0.24°),从而提高层叠膜100的偏振度。
此外,在第1实施方式和第2实施方式中的上述各方法可以在不发生矛盾的范围内相互组合。
[实施例]
使用上述各实施方式的层叠膜100的制造方法来制造实施例,确认本发明的有用性。
实施例中,基材膜设为厚度90μm的未拉伸的聚丙烯膜。基材膜的熔点为163℃。基材膜的长度方向的拉伸弹性模量在80℃下为205MPa。
实施例中,通过以下方式制作底涂层用涂敷液。将聚乙烯醇粉末(日本合成化学工业株式会社制“Z-200”、平均分子量1100、平均皂化度99.5摩尔%)溶解于95℃的热水,制成浓度3质量%的聚乙烯醇水溶液。在得到的水溶液中,相对于2质量份的聚乙烯醇混合1质量份的交联剂(住友化学株式会社制“Sumirez Resin(注册商标)650”),由此制作底涂层用涂敷液。
实施例中,通过以下方式制作树脂层用涂敷液。将聚乙烯醇粉末(株式会社KURARAY制“PVA124”、平均聚合度2400、平均皂化度98.0摩尔%以上、99.0摩尔%以下)溶解于95℃的热水,制成浓度8质量%的聚乙烯醇水溶液,将其作为树脂层用涂敷液。
一边将通过上述方式得到的基材膜连续输送,一边对其单面实施电晕处理,并使用微型凹版涂布机(涂布装置)在电晕处理面上连续涂布上述底涂层用涂敷液。将所涂布的底涂层用涂敷液在第1干燥装置中、于60℃下干燥3分钟,从而形成平均厚度0.2μm的底涂层。
一边将形成有底涂层的基材膜连续输送,一边使用唇式涂布机(涂布装置)在底涂层上连续涂布上述树脂层用涂敷液。将所涂布的树脂层用涂敷液用干燥装置在80℃下干燥8分钟,从而在底涂层上形成树脂层。
一边将在基材膜上形成有底涂层和树脂层的层叠体连续输送,一边利用夹持辊间的拉伸方法沿着长度方向(膜输送方向)进行拉伸。拉伸分2阶段进行。开始时在拉伸温度140℃下拉伸至拉伸倍率为2.5倍,然后在拉伸温度160℃下拉伸至拉伸倍率为5.8倍。需要说明的是,拉伸倍率为相对于未拉伸状态的层叠体的长度方向的尺寸的倍率。即,在本实施例的拉伸工序中,最终将层叠体拉伸至拉伸倍率为5.8倍。
一边将拉伸后的层叠体连续输送,一边在含有碘和碘化钾的30℃的染色溶液中浸渍并使滞留时间为150秒左右,由此进行树脂层的染色处理。用10℃的纯水冲洗掉多余的染色溶液后,将层叠体浸渍在含有硼酸和碘化钾的76℃的交联溶液中并使滞留时间为600秒,由此进行交联处理。然后,将层叠体在10℃的纯水中洗涤4秒,在80℃下干燥300秒。由此,得到树脂层吸附有取向后的二色性色素的偏振片。
对与形成有上述偏振片的基材膜的面相反侧的面也实施与上述同样的处理,从而形成偏振片。由此,得到在基材膜的两面形成有经由底涂层而层叠的偏振片的偏振性层叠体。制造了3个这样的偏振性层叠体。将这3个偏振性层叠体分别设为第1偏振性层叠体、第2偏振性层叠体、第3偏振性层叠体。
对于第1偏振性层叠体和第2偏振性层叠体,测定了偏振片的吸收轴的角度。在测定吸收轴的角度时,将在基材膜的一侧的面上形成的偏振片剥离除去,对基材膜上剩余一侧的偏振片进行吸收轴的角度测定。使光(波长:590nm)从基材膜侧入射到偏振性层叠体,接收透过偏振片的光并测定吸收轴的角度。在吸收轴的角度的测定中,使用王子计测机株式会社制“KOBRA(注册商标)-WPR”。对偏振性层叠体的宽度方向的中央部分、即第2部分以及偏振性层叠体的宽度方向的两侧部分、即第1部分和第3部分进行吸收轴的角度的测定。
第1部分中的测定部位设为:以偏振性层叠体中的从宽度方向一侧的端部起向宽度方向另一侧50mm的位置为中心的、宽度方向和长度方向为40mm×40mm的部分。第2部分中的测定部位设为:以偏振性层叠体的宽度方向的中心位置为中心的、宽度方向和长度方向为40mm×40mm的部分。第3部分中的测定部位设为:从偏振性层叠体中的宽度方向另一侧的端部起向宽度方向一侧50mm的位置为中心的、宽度方向和长度方向为40mm×40mm的部分。对各部分的测定部位进行1次测定,将其平均值作为各部分的吸收轴的角度。
对于测定了上述吸收轴的第1偏振性层叠体和第2偏振性层叠体,分别一边连续输送偏振性层叠体一边在偏振片上涂布粘接剂溶液,从而形成粘接层。将贴合面实施了皂化处理的三乙酰纤维素(TAC)膜(Konica Minolta Opt Corporation制“KC4UY”、厚度40μm)经由粘接层贴合于偏振片上。作为贴合方法,设为如下方法:在TAC膜(保护膜)经由粘接层粘接在偏振片上的状态下,使偏振性层叠体通过一对辊间,从而进行压接。
粘接剂溶液通过以下方式来制作。将聚乙烯醇粉末(株式会社KURARAY制“KL-318”、平均聚合度1800)溶解于95℃的热水,制成浓度3质量%的聚乙烯醇水溶液。在得到的水溶液中,以相对于2质量份的聚乙烯醇为1质量份的比例混合交联剂(住友化学株式会社制“Sumirez Resin(注册商标)650”),制成粘接剂溶液。
从贴合有TAC膜的第1偏振性层叠体和第2偏振性层叠体剥离除去基材膜,得到第1偏振膜和第2偏振膜。将所得到的第1偏振膜和第2偏振膜分别卷绕到芯材上,制成坯料卷。
对于第3偏振性层叠体,与上述第1偏振性层叠体和第2偏振性层叠体同样地贴合TAC膜。在第3偏振性层叠体中,在偏振性层叠体的两面贴合TAC膜。然后,于基材膜和一侧的偏振片之间将第3偏振性层叠体分离,从带有基材膜的偏振性层叠体中剥离除去基材膜,得到第3偏振膜。将所得到的第3偏振膜卷绕到芯材上,制成坯料卷。
对于第3偏振膜,测定偏振片的吸收轴的角度。在测定吸收轴的角度时,使光(波长:590nm)入射到第3偏振膜,接收透过偏振片的光并测定吸收轴的角度。在吸收轴的角度的测定中使用王子计测机株式会社制“KOBRA(注册商标)-WPR”。对第3偏振膜的宽度方向的中央部分和第3偏振膜的宽度方向的两侧部分、即第1部分至第3部分进行吸收轴的角度的测定。第3偏振膜的第1部分至第3部分的测定部位与上述第1偏振性层叠体和第2偏振性层叠体中的第1部分至第3部分相同。
第1偏振膜、第2偏振膜和第3偏振膜的偏振片的厚度分别为5.3μm。
将上述测定的各偏振膜的吸收轴的角度[°]示于表1。表1所示的吸收轴的角度为图4所示的上出时的偏振膜姿态的吸收轴的角度。
[表1]
表1中,还同时示出了各偏振膜的可见度校正偏振度(日文:視感度補正偏光度)[%]。可见度校正偏振度按照以下方式来计算。首先,使规定波长的光入射格兰-汤普森棱镜,测定偏振膜对由格兰-汤普森棱镜射出的偏振光的透过率。在透过率的测定中,使用带积分球的分光光度计(日本分光株式会社制、V7100)。透过率为透过测定对象的光的光量(测定器接收到的光量)与由光源射出的总光量(此时为由格兰-汤普森棱镜射出的偏振光的总光量)之比。
作为透过率,分别测定MD透过率和TD透过率。MD透过率是指:由格兰-汤普森棱镜射出的偏振光的偏振方向与偏振膜的透过轴的方向平行时的透过率。TD透过率是指:由格兰-汤普森棱镜射出的偏振光的偏振方向与偏振膜的透过轴的方向正交时的透过率。将所测定的MD透过率和TD透过率代入以下的(式2)来算出偏振度。
[数1]
需要说明的是,代入(式2)的MD透过率及TD透过率的值是使380nm以上、780nm以下的各波长的光入射格兰-汤普森棱镜时分别测定的各透过率的平均值。
对于由上述(式2)计算的偏振度,通过JIS Z 8701的2度视野(C光源)进行可见度校正,求出可见度校正偏振度。需要说明的是,在本说明书中,有时将可见度校正偏振度简称为偏振度。
然后,准备2个环烯烃系横向拉伸相位差膜(日本ZEON株式会社制、ZEONOR膜(注册商标))的坯料卷作为相位差膜。将2个相位差膜设为第1相位差膜和第2相位差膜。对第1相位差膜和第2相位差膜分别测定快轴。快轴的角度的测定使用王子计测机株式会社制“KOBRA(注册商标)-WPR”,与上述偏振膜同样进行。将测定结果示于表2。表2所示的快轴的角度[°]为图4所示的上出时的相位差膜姿态的快轴的角度。
[表2]
由按照上述方式得到的3个偏振膜的吸收轴的测定数据和2个相位差膜的快轴的测定数据,来确认相对角度小于0.24°的组合。将结果示于表3至表8。
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
[表8]
表3示出将第1偏振膜和第1相位差膜贴合的情况。表4示出将第1偏振膜和第2相位差膜贴合的情况。表5示出将第2偏振膜和第1相位差膜贴合的情况。表6示出将第2偏振膜和第2相位差膜贴合的情况。表7示出将第3偏振膜和第1相位差膜贴合的情况。表8示出将第3偏振膜和第2相位差膜贴合的情况。
表3至表8分别示出两种情况,即坯料卷中的偏振膜的卷绕状态为上述保持制造后的状态的卷绕状态的情况、和如图8A至图8C所示那样重新卷绕而在长度方向上翻转的卷绕状态的情况。此外,对这两种情况示出将相位差膜如图4那样上出的情况、和将相位差膜如图6那样下出的情况。偏振膜的卷出方式在任意情况下均设为上出。
上述表1和表2所示的角度数据是下述情况的角度数据:偏振膜的卷绕状态为保持制造后的状态的卷绕状态,如图4那样偏振膜和相位差膜均以上出进行贴合。即,偏振膜的卷绕状态为保持制造后的状态的卷绕状态、偏振膜的卷出方式和相位差膜的卷出方式均为上出的情况下,层叠膜中的左侧部分的相对角度为表1中的第1部分的吸收轴的角度和表2中的第1部分的快轴的角度之差的绝对值。层叠膜中的右侧部分的相对角度为表1中的第3部分的吸收轴的角度和表2中的第3部分的快轴的角度之差的绝对值。
在将相位差膜的卷出方式设为下出的情况下,相位差膜的姿态在宽度方向和层叠方向上翻转。因此,表3至表8中,快轴的角度是左侧部分和右侧部分互换、且正负与表2所示的值相反。
在将偏振膜的卷绕状态设为重新卷绕而翻转的状态时,偏振膜的姿态在宽度方向和长度方向上翻转。因此,表3至表8中,吸收轴的角度是左侧部分和右侧部分互换。这种情况下,偏振膜的姿态不在层叠方向上翻转,因此吸收轴的正负相对于表1所示的值没有变化。
需要说明的是,关于层叠膜的中央部分,由于相对角度在上述任意的组合中均小于0.24°,因此在表3至表8中省略了记载。
表3至表8中,以阴影表示的部位为层叠膜的中央部分、左侧部分和右侧部分中的任何一个相对角度小于0.24°的部位。通过从其中选择各贴合面和将各贴合面的贴合朝向,将各膜贴合,从而吸收轴和快轴的偏移小,可得到偏振度的降低受到抑制的层叠膜。
从表3至表8所示的、任意部位的相对角度均小于0.24°的组合中进行选择,来制造实施例1至实施例6的层叠膜。此外,从表3至表8所示的、左侧部分和右侧部分中的至少一者的相对角度为0.24°以上的组合中进行选择,制造比较例1至比较例4的层叠膜。
实施例1中,偏振膜的卷绕状态设为保持制造后的状态的状态,第3偏振膜和第1相位差膜均以上出进行贴合,从而制造。
实施例2中偏振膜的卷出状态设为保持制造后的状态的状态,第3偏振膜和第2相位差膜均以上出进行贴合,从而制造。
实施例3中偏振膜的卷出状态设为重新卷绕而翻转的状态,第1偏振膜以上出进行贴合、第2相位差膜以下出进行贴合,从而制造。
实施例4中偏振膜的卷出状态设为重新卷绕而翻转的状态,第1偏振膜以上出进行贴合、第1相位差膜以下出进行贴合,从而制造。
实施例5中偏振膜的卷出状态设为重新卷绕而翻转的状态,第2偏振膜以上出进行贴合、第1相位差膜以下出进行贴合,从而制造。
实施例6中偏振膜的卷出状态设为重新卷绕而翻转的状态,第2偏振膜以上出进行贴合、第2相位差膜以下出进行贴合,从而制造。
比较例1中偏振膜的卷出状态设为保持制造后的状态的状态,第1偏振膜和第2相位差膜均以上出进行贴合,从而制造。
比较例2中偏振膜的卷出状态设为保持制造后的状态的状态,第2偏振膜和第2相位差膜均以上出进行贴合,从而制造。
比较例3中偏振膜的卷出状态设为保持制造后的状态的状态,第2偏振膜和第1相位差膜均以上出进行贴合,从而制造。
比较例4中偏振膜的卷出状态设为重新卷绕而翻转的状态,第3偏振膜以上出进行贴合、第2相位差膜以下出进行贴合,从而制造。
各实施例和各比较例中,偏振膜和相位差膜的贴合按照下述方式而进行。首先,用小直径凹版涂布机在相位差膜的贴合面涂敷紫外线固化性粘接剂((株)ADEKA制的“KR-75T”),使得固化后的厚度为1.0μm左右。然后,如图4或图6那样用一对夹持辊将相位差膜经由紫外线固化性粘接剂压接在偏振膜上。对压接后的膜用高压汞灯以200mJ/cm2的累计光量从相位差膜侧照射紫外线,使紫外线固化性粘接剂固化。由此,得到各实施例和各比较例的层叠膜。所制造的各层叠膜为长条的带状,长度方向的尺寸为500m。各层叠膜制成卷绕到芯材上的坯料卷。
对按照上述方式得到的各实施例和各比较例,分别使光从相位差膜侧入射,测定可见度校正偏振度。将结果示于表9和表10。
[表9]
[表10]
由表9和表10可确认:实施例1至实施例6中,中央部分、左侧部分和右侧部分的任意部位中,可见度校正偏振度均为99.992%以上,与此相对,比较例1至比较例4中,左侧部分和右侧部分中的一者或两者,可见度校正偏振度小于99.992%。根据经验已知,可见度校正偏振度为99.992%以上时,将层叠膜用于液晶显示装置时可得到足够高的对比度。
因此,根据本实施例可确认:通过设置选择工序,可以制造偏振度(可见度校正偏振度)优良的层叠膜。此外可确认:通过使用如此制造的层叠膜,可以抑制液晶显示装置的对比度降低。此外可确认:可容易地得到偏振度优良、且长条的层叠膜。
通过以上例子,可以确认本发明的有用性。
[符号说明]
1...偏振膜,10...偏振片,11...保护膜,13...相位差膜,100...层叠膜,101、113、201...坯料卷,A1、A2、A3...吸收轴,F1、F2、F3...快轴,S11、S21...偏振膜准备工序,S11d、S22...吸收轴测定工序(第1测定工序),S11e...保护膜贴合工序,S11f...偏振片形成工序,S12...相位差膜准备工序,S13...快轴测定工序(第2测定工序),S14...选择工序,S15...相位差膜贴合工序。

Claims (11)

1.一种层叠膜的制造方法,其为具备含有在聚乙烯醇系树脂中取向有二色性色素的偏振片的偏振膜、和贴合于所述偏振膜的相位差膜的层叠膜的制造方法,其特征在于,包含下述工序:
准备所述偏振膜的偏振膜准备工序,
准备所述相位差膜的相位差膜准备工序,
测定所述偏振片的吸收轴相对于规定方向的角度的第1测定工序,所述规定方向为与层叠有所述偏振膜和所述相位差膜的层叠方向正交的方向,
测定所述相位差膜的快轴相对于与所述规定方向相同的方向的角度的第2测定工序,所述规定方向是在所述第1测定工序中测定吸收轴的角度时作为基准的方向,
从所述偏振膜和所述相位差膜中选择进行相互贴合的贴合面,使得在所述偏振膜和所述相位差膜的相互对向、贴合的部分中,所述吸收轴和所述快轴的相对角度小于规定角度的选择工序,以及
将所述相位差膜的所述贴合面贴合于所述偏振膜的所述贴合面的相位差膜贴合工序,
所述相位差膜贴合工序中,一边从将带状的所述偏振膜卷绕而成的坯料卷中卷出所述偏振膜、并从将带状的所述相位差膜卷绕而成的坯料卷中卷出所述相位差膜,一边将所述偏振膜的长度方向和所述相位差膜的长度方向对齐,将所述相位差膜贴合于所述偏振膜。
2.一种层叠膜的制造方法,其为具备含有在聚乙烯醇系树脂中取向有二色性色素的偏振片的偏振膜、和贴合于所述偏振膜的相位差膜的层叠膜的制造方法,其特征在于,包含下述工序:
准备所述偏振膜的偏振膜准备工序,
准备所述相位差膜的相位差膜准备工序,
测定所述偏振片的吸收轴相对于规定方向的角度的第1测定工序,所述规定方向为与层叠有所述偏振膜和所述相位差膜的层叠方向正交的方向,
测定所述相位差膜的慢轴相对于与所述规定方向相同的方向的角度的第2测定工序,所述规定方向是在所述第1测定工序中测定吸收轴的角度时作为基准的方向,
从所述偏振膜和所述相位差膜中选择进行相互贴合的贴合面,使得在所述偏振膜和所述相位差膜的相互对向、贴合的部分中,所述吸收轴和所述慢轴的相对角度小于规定角度的选择工序,以及
将所述相位差膜的所述贴合面贴合于所述偏振膜的所述贴合面的相位差膜贴合工序,
所述相位差膜贴合工序中,一边从将带状的所述偏振膜卷绕而成的坯料卷中卷出所述偏振膜、并从将带状的所述相位差膜卷绕而成的坯料卷中卷出所述相位差膜,一边将所述偏振膜的长度方向和所述相位差膜的长度方向对齐,将所述相位差膜贴合于所述偏振膜。
3.根据权利要求1或2中所述的层叠膜的制造方法,其中,所述规定角度为0.24°。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,所述选择工序中,对所述贴合面的贴合朝向进行选择,使得所述相对角度小于所述规定角度,
所述相位差膜贴合工序中,基于所选择的所述的贴合朝向,将所述相位差膜的所述贴合面贴合于所述偏振膜的所述贴合面。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,所述偏振膜准备工序为形成所述偏振膜的偏振膜形成工序,
所述偏振膜形成工序包含:
形成所述偏振片的偏振片形成工序,和
将保护膜贴合于所述偏振片的保护膜贴合工序,
所述第1测定工序设置在所述偏振片形成工序之后、所述保护膜贴合工序之前。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,所述第1测定工序设置在所述偏振膜准备工序之后、所述选择工序之前。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,在所述相位差膜准备工序中,准备多个所述相位差膜,
在所述选择工序中,所述相位差膜的所述贴合面从多个所述相位差膜的两面中进行选择。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,在所述偏振膜准备工序中,准备多个所述偏振膜,
在所述选择工序中,所述偏振膜的所述贴合面从多个所述偏振膜的两面中进行选择。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,在所述第1测定工序中,沿着所述偏振膜的宽度方向在多个部位进行测定,
在所述第2测定工序中,沿着所述相位差膜的宽度方向在多个部位进行测定,
在所述选择工序中,对所述贴合面进行选择,使得在所述偏振膜和所述相位差膜的相互对向、贴合的部分中的多个部位中,所述相对角度小于所述规定角度。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的层叠膜的制造方法,其中,所述偏振膜准备工序包含:
准备所述偏振膜层叠于所述基材膜上的层叠体的工序,和
在所述偏振膜层叠于所述基材膜上的状态下测定所述偏振片的吸收轴的角度的所述第1测定工序,并且
在所述第1测定工序之后、所述相位差膜贴合工序之前,还包含将所述偏振膜从所述基材膜剥离的工序。
11.根据权利要求10所述的层叠膜的制造方法,其中,所述层叠体在所述基材膜的两面上形成有所述偏振片,
在所述第1测定工序之前,还包含将形成于所述基材膜的一侧的面上的所述偏振片剥离的工序,
在所述第1测定工序中,测定所述基材膜剩余一侧的所述偏振片的吸收轴的角度。
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