CN101133347A - 光学薄膜的制造方法、和使用由这样的制造方法制得的光学薄膜的图像显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种具有优异耐久性、有助于薄型化、可以防止热不均匀、且可以良好防止黑色显示下的漏光的光学薄膜的制造方法。该制造方法包括：将含有液晶材料的涂布液涂布于取向基材上的工序；使液晶材料取向而在基材表面形成第一光学补偿层的工序；将第一光学补偿层转印至透明保护薄膜的表面的工序；在透明保护薄膜的表面层合偏振镜的工序；以及在第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序。该偏振镜与该第一光学补偿层互相配置于透明保护薄膜的相反侧。第一光学补偿层与第二光学补偿层是以各自的慢轴与偏振镜的吸收轴所成角度在特定范围内的方式形成。

Description

光学薄膜的制造方法、和使用由这样的制造方法制得的光学薄膜的图像显示装置

技术领域

本发明是涉及光学薄膜的制造方法以及使用了光学薄膜的图像显示装置。更为详细地说，本发明是涉及具有优良耐久性、有助于薄型化、可防止热不均匀、且可以良好地防止黑色显示时的漏光的光学薄膜的简便低价的制造方法以及及使用由此种制造方法得到的光学薄膜的图像显示装置。

背景技术

作为VA模式液晶显示装置，除了透过型液晶显示装置及反射型液晶显示装置的外，已提出有半透过反射型液晶显示装置(例如参照专利文献1及2)。半透过反射型液晶显示装置在明亮处是与反射型液晶显示装置同样地利用外来光线，在暗处则利用背光灯等内部光源而使显示变得可以辨视。换言之，半透过反射型液晶显示装置采用兼具反射型及透过型的显示方式，对应周围的明亮度切换成反射模式、透过模式的任意显示模式。其结果，半透过反射型液晶显示装置可以降低电力消耗，同时即使在周围较暗的场所也可以进行清楚的显示，故适合用于移动设备的显示部。

作为此种半透过反射型液晶显示装置的具体例，例如可以举出在下基板的内侧具备在铝等金属膜上形成光透过用窗部的反射膜，以此反射膜作为半透过反射板发挥功能的液晶显示装置。在此种液晶显示装置中，在是反射模式的情况下，从上基板侧入射的外来光线通过液晶层后被下基板内侧的反射膜反射，再次透过液晶层从上基板侧射出而用于进行显示。另一方面，在是透过模式的情况下，从下基板侧入射的来自背光灯的光在通过反射膜的窗部并通过液晶层后，从上基板侧射出而用于进行显示。从而，在反射膜形成区域中，形成有窗部的区域成为透过显示区域，其它区域则成为反射显示区域。

然而，在以往的反射型或半透过反射型的VA模式的液晶显示装置中，长久以来仍有黑色显示时发生漏光、对比度降低的问题未被解决。

专利文献1：特开平11-242226号

专利文献2：特开2001-209065号

发明内容

本发明是为了解决上述以往课题而完成的发明，其目的在于，提供具有优良耐久性、有助于薄型化、可防止热不均匀、且可良好地防止黑色显示时的漏光的光学薄膜的简便低价的制造方法，及使用由此种制造方法所得的光学薄膜的图像显示装置。

本发明的光学薄膜的制造方法含有下述工序：将含有液晶材料的涂布液涂布于经取向处理的基材上的工序；以该液晶材料显示液晶相的温度对该被涂布的液晶材料进行处理而取向，在该基材表面形成第一光学补偿层的工序；将在该基材表面形成的该第一光学补偿层转印至透明保护薄膜(T)的表面的工序；在透明保护薄膜(T)的表面层合偏振镜的工序；以及在该第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序；该偏振镜与该第一光学补偿层是互相隔着透明保护薄膜(T)配置为相反侧，该第一光学补偿层是以该第一光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+17°～+27°或-17°～-27°的方式形成，该第二光学补偿层是以该第二光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+85°～+95°的方式形成。

在优选的实施方式中，上述液晶材料含有聚合性单体及/或交联性单体，上述液晶材料的取向工序还包含进行聚合处理及/或交联处理。更优选的实施方式中，上述聚合处理及/或交联处理是利用加热或光照射而进行的。

在优选的实施方式中，上述第二光学补偿层是形成为其Nz系数为1.2≤Nz≤2。

在优选的实施方式中，上述在第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序包含下述的工序，即，将含有从聚酰亚胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺及聚酯酰亚胺所组成的组中选出的至少一种聚合物的涂布液涂布于基材片表面的工序；使该涂布液干燥而在该基材片表面形成聚合物层的工序；对每一该基材片将该聚合物层加热及拉伸，在该基材片上形成该第二光学补偿层的工序；将在该基材片上形成的第二光学补偿层贴附至该第一光学补偿层的表面的工序；以及将该基材片从该第二光学补偿层剥离的工序。在更优选的实施方式中，于在上述基材片上形成上述第二光学补偿层的工序中，对每一该基材片以1.2倍～3倍的拉伸倍率对上述聚合物层进行拉伸。在进一步优选的实施方式中，于在上述基材片上形成上述第二光学补偿层的工序中，针对每一该基材片沿宽度方向拉伸上述聚合物层。

在优选的实施方式中，上述第二光学补偿层的厚度为1μm～10μm。

在优选的实施方式中，上述第一光学补偿层为λ/2板。在优选的实施方式中，上述第二光学补偿层为λ/4板。

根据本发明的其它形态，可以提供一种光学薄膜。此光学薄膜利用上述制造方法而得。

根据本发明的另一其它形态，可以提供一种图像显示装置。此图像显示装置含有上述光学薄膜。

如上所述，根据本发明，在层合光学薄膜中，组合具有nx＞ny＝nz的折射率特性的第一光学补偿层(λ/2板)与具有nx＞ny＞nz的折射率特性的第二光学补偿层(λ/4板)而使用，将偏振镜的吸收轴与第一光学补偿层及第二光学补偿层的慢轴分别所成的角度设为规定范围，且优选将第二光学补偿层的Nz系数设定于规定范围(1.2≤Nz≤2)，由此，尤其在反射型及半透过型的VA模式液晶显示装置中，可以显著改善黑色显示的漏光。另外，根据本发明，尤其在反射型及半透过型的VA模式液晶显示装置中，可以在宽波长区域中显著改善视场角。再者，在本发明中，优选通过采用以特定方法得到的特定的第一光学补偿层及第二光学补偿层，可以非常薄地形成第一光学补偿层及第二光学补偿层，故对于图像显示装置的薄型化有极大贡献，且可以显著地防止热不均匀。除此之外，根据本发明，通过将第一光学补偿层由基材转印至透明保护薄膜而形成，与直接涂布的情况相比，第一光学补偿层的密合性可以大幅提升。其结果，可以得到具有非常优异的耐久性的光学薄膜。

附图说明

图1为本发明优选的实施方式的光学薄膜的概略剖面图。

图2为本发明优选的实施方式的光学薄膜的分解立体图。

图3为表示本发明光学薄膜的制造方法的一例中一道工序的概略的立体图。

图4为表示本发明光学薄膜的制造方法的一例中另一道工序的概略的立体图。

图5为表示本发明光学薄膜的制造方法的一例中另一道工序的概略的模式图。

图6为表示本发明光学薄膜的制造方法的一例中另一道工序的概略的模式图。

图7为表示本发明光学薄膜的制造方法的一例中另一道工序的概略的模式图。

图8为用于本发明优选的实施方式的液晶显示装置的液晶面板的概略剖面图。

符号说明：

10    光学薄膜

11    偏振镜

12    保护层

13    第一光学补偿层

14    第二光学补偿层

15    第二保护层

20    液晶单元

100   液晶面板

具体实施方式

(用语及符号的定义)

本说明书中的用语及符号的定义是如下述：

(1)“nx”为面内折射率最大的方向(亦即，慢轴方向)的折射率，“ny”为面内垂直于慢轴的方向(亦即，快轴方向)的折射率，“nz”为厚度方向的折射率。另外，例如“nx＝ny”不仅限于nx与ny严格相等的情况，还包括nx与ny基本上相等的情况。在本说明书中，“基本上相等”是指也包括在不对光学薄膜整体的光学特性造成实用上的影响的范围内，nx与ny相异的情况。

(2)“面内相位差Re”指23℃下以波长590nm的光所测定的薄膜(层)面内的相位差值。Re是将波长590nm的薄膜(层)的慢轴方向、快轴方向的折射率分别设为nx、ny，将d(nm)设为薄膜(层)厚度时，由式：Re＝(nx-ny)×d而求得。

(3)厚度方向的相位差Rth是指23℃下以波长590nm的光所测定的厚度方向的相位差值。Rth是将波长590nm的薄膜(层)的慢轴方向、厚度方向的折射率分别设为nx、nz，将d(nm)设为薄膜(层)厚度时，由式：Rth＝(nx-nz)×d而求得。

(4)Nz系数为面内相位差Re与厚度方向相位差Rth的比，由式：Nz＝(nx-nz)/(nx-ny)而求得。

(5)在本说明书中所记载的用语或符号的附加文字“1”表示第一光学补偿层，附加文字“2”表示第二光学补偿层。

(6)“λ/2板”是指具备将具有某特定振动方向的直线偏振光变换成具有与该直线偏振光的振动方向正交的振动方向的直线偏振光，或将右旋圆偏振光变换为左旋圆偏振光(或将左旋圆偏振光变换为右旋圆偏振光)的功能的板。λ/2板是相对于光波长(一般为可见光区域)，薄膜(层)面内的相位差值为约1/2。

(7)“λ/4板”是指具备将某特定波长的直线偏振光变换成圆偏振光(或将圆偏振光变换成直线偏振光)的功能的板。λ/4板是相对于光波长(一般为可见光区域)，薄膜(层)面内的相位差值为约1/4。

A.光学薄膜

A-1.光学补偿薄膜的整体构成

图1为本发明优选的实施方式的光学薄膜的概略剖面图。图2为说明构成图1的光学薄膜的各层的光轴的分解立体图。如图1所示，此光学薄膜10依序具有偏振镜11、第一光学补偿层13与第二光学补偿层14。光学薄膜的各层是借助任意合适的粘合剂层或胶粘剂层(未图示)而层合。在实用上，在偏振镜11的未形成光学补偿层的一侧，层合有任意合适的保护层(透明保护薄膜)15。进一步，亦可根据需要在偏振镜11与第一光学补偿层13之间设置任意合适的保护层(透明保护薄膜)12。

上述第一光学补偿层13具有nx＞ny＝nz的折射率特性。上述第二光学补偿层14具有nx＞ny＞nz的折射率特性，且Nz系数为1.2≤Nz≤2。关于第一光学补偿层及第二光学补偿层，将分别于后述的A-2项及A-3项中详细说明。

在本发明中，如图2所示，上述第一光学补偿层13是按照将其慢轴B相对于偏振镜11的吸收轴A规定为规定角度α的方式而层合的。角度α是相对于偏振镜11的吸收轴A为+17°～+27°或-17°～-27°，优选为+19°～+25°或-19°～-25°，更优选为+21°～+24°或-21°～-24°，最优选为+22°～+23°或-22°～-23°。上述第二光学补偿层14是按照将其慢轴C相对于偏振镜11的吸收轴A规定为规定角度β的方式而层合的。角度β是相对于偏振镜11的吸收轴A为+85°～+95°，优选为+87°～+93°，更优选为+88°～+92°，最优选为+89°～+91°。利用以此种特定位置关系层合特定的2个光学补偿层，则可以显著防止VA模式(尤其是反射型或半透过型的VA模式)的液晶显示装置的黑色显示时的漏光。

本发明的光学薄膜的整体厚度优选为40～150μm，更优选为40～130μm，最优选为40～100μm。根据本发明，仅以二个光学补偿层就可以良好地防止图像显示装置中的漏光。再者，根据本发明，通过用液晶材料(后述)形成第一光学补偿层，可以将用于使第一光学补偿层发挥作为λ/2板功能的厚度与以往技术相比格外地薄，且通过以特定的聚合物材料及特定的制造方法(后述)形成第二光学补偿层，则可以将用于使第二光学补偿层发挥作为λ/4板功能的厚度与以往技术相比格外地薄。其结果，与以往同等的光学薄膜相比，本发明的光学薄膜可以使整体厚度大幅度变薄，对于图像显示装置的薄型化有极大贡献。

A-2.第一光学补偿层

如上所述，第一光学补偿层13具有nx＞ny＝nz的折射率特性。优选为第一光学补偿层13可以作为λ/2板发挥功能。通过使第一光学补偿层作为λ/2板发挥功能，关于发挥λ/4板功能的第二光学补偿层的波长分散特性(特别是相位差脱离λ/4的波长范围)，相位差可以被适当调节。此种第一光学补偿层的面内相位差Re₁优选为200～300nm，更优选为220～280nm，最优选为230～270nm。

上述第一光学补偿层的厚度可以被设定成能够最合适地发挥作为λ/2板的功能。换言之，厚度可以被设定为能得到所需的面内相位差。具体而言，厚度优选为0.5～5μm，更优选为1～4μm，最优选为1.5～3μm。

作为形成上述第一光学补偿层的材料，只要可以得到如上所述的特性，就可以采用任意合适的材料。优选为液晶材料，更优选为液晶相为向列相的液晶材料(向列型液晶)。通过使用液晶材料，可以较非液晶材料更大幅度地增大所得的光学补偿层的nx与ny的差。其结果，可以使用于获得所需的面内相位差的光学补偿层厚度大幅度变小。作为此种液晶材料，可以使用例如液晶聚合物或液晶单体。也可以组合使用液晶聚合物和液晶单体。液晶材料的液晶性的表现机构可以为向液性(lyotropic)或向热性(thermotropic)。另外，液晶的取向状态最好为均匀取向(homogeneousalignment)。

在上述液晶材料为液晶单体时，例如优选为聚合性单体或交联性单体。此是因为如后所述，通过将聚合性单体或交联性单体聚合或交联，可以固定液晶材料的取向状态。在使液晶单体取向后，例如使液晶单体(聚合性单体或交联性单体)彼此聚合或交联，由此可以固定上述取向状态。在这里，虽然通过聚合形成聚合物，通过交联形成3维网目构造，但它们是非液晶性。因此，所形成的第一光学补偿层将不会发生例如因液晶性化合物特有的温度变化所造成的朝液晶相、玻璃相、结晶相的转移。其结果，第一光学补偿层成为不受温度变化的影响、稳定性极优良的光学补偿层。聚合性单体及交联性单体亦可以组合使用。

作为上述液晶单体，可以采用任意合适的液晶单体。例如可以使用特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所记载的聚合性直线状原子团(mesogen)化合物等。作为此种聚合性直线状原子团化合物的具体例子，例如可以举出BASF公司的商品名LC242、Merck公司的商品名E7、Wacker-Chem公司的商品名LC-Sillicon-CC3767。

作为上述液晶单体，例如以优选向列性液晶单体，具体而言，可以举出下述式(L1)所示的单体。这些液晶单体可以单独使用，或组合2个以上使用。

[化1]

在上述式(L1)中，A¹及A²分别表示聚合性基团，可以为相同或相异。另外，A¹及A²的任一者可以为氢。X分别独立，表示单键、-O-、-S-、-C＝N-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR-、-NR-CO-、-NR-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-、-CH₂-O-或-NR-CO-NR，R表示H或C₁～C₄烷基，M表示直线状原子团基。

在上述式(L1)中，X可以相同或相异，但以相同为优选。

在上述式(L1)的单体中，A²优选分别相对于A¹配置于邻位。

再者，上述A¹及A²优选分别独立，用下述式：

Z-X-(Sp)_n…(L2)

表示，A¹及A²优选为相同的基团。

在上述式(L2)中，Z表示交联性基团，X是如上述式(L1)所定义，Sp表示具有1～30个碳原子的直链或分支链的取代或未取代的烷基所构成的间隔结构(spacer)，n表示0或1。上述Sp的碳链也可以例如由醚官能基中的氧、硫醚官能基中的硫、非邻接亚氨基或C₁～C₄烷基亚氨基等填隙。

在上述式(L2)中，Z优选为用下述式所示的原子团的任一者。在下述式中，R例如可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、第三丁基等基团。

[化2]

H₂C＝CH-，

HC≡C-，

-N＝C＝O，     -N＝C＝S，      c-O-C≡N，

另外，在上述式(L2)中，Sp优选为用下述式所示的原子团的任一者，在下述式中，m优选为1～3，p优选为1～12。

[化3]

-(CH₂)_p-，-(CH₂CH₂O)_mCH₂CH₂-，-CH₂CH₂SCH₂CH₂-，

-CH₂CH₂NHCH₂CH₂-，

在上述式(L1)中，M优选用下述式(L3)表示。在下述式(L3)中，X与上述式(L1)的定义相同。Q表示例如取代或未取代的直链或分支链亚烷基或芳香族烃原子团。Q例如可以是取代或未取代的直链或分支链C₁～C₁₂亚烷基等。

[化4]

在上述Q为芳香族烃原子团的情况下，优选为例如下述式所示的原子团或它们的取代类似物。

[化5]

作为上述式所示的芳香族烃原子团的取代类似物，例如每一个芳香族环可以具有1～4个取代基，或每一个芳香族环或基团可以具有1或2个取代基。上述取代基可以分别相同或相异。作为上述取代基，例如可以举出C₁～C₄烷基；硝基；F、Cl、Br、I等卤素；苯基；C₁～C₄烷氧基等。

作为上述液晶单体的具体例子，例如可以举出用下述式(L4)～(L19)所示的单体。

[化6]

上述液晶单体显示液晶性的温度范围是依其种类而异。具体而言，该温度范围优选为40～120℃，更优选为50～100℃，最优选为60～90℃。

A-3.第二光学补偿层

第二光学补偿层14具有nx＞ny＞nz的折射率特性。亦即，第二光学补偿层14为双轴性的光学补偿层。优选第二光学补偿层14可以作为λ/4板发挥功能。为了在全部的波长中达成充分的视觉补偿，第二光学补偿层的波长分散优选显示与液晶单元中的液晶的波长分散为同样的波长分散。根据本发明，利用上述作为λ/2板发挥功能的第一光学补偿层的光学特性，对作为λ/4板发挥功能的第二光学补偿层的波长分散特性进行补正，可以在宽广的波长范围内发挥圆偏振光功能。此种第二光学补偿层的面内相位差Re₂优选为90～160nm，更优选为100～150nm，最优选为110～140nm。另外，第二光学补偿层的厚度方向的相位差Rth₂优选为80～150nm，更优选为90～140nm，最优选为100～130nm。

上述第二光学补偿层的Nz系数为1.2≤Nz≤2，优选为1.3≤Nz≤1.8，更优选为1.4≤Nz≤1.7。通过将上述第二光学补偿层的Nz系数调整为此种范围，可以使上述第二光学补偿层作为λ/4板发挥功能，同时亦可发挥对VA模式的液晶单元的光学补偿与轴补偿功能，可以提高液晶显示装置的对比度。

上述第二光学补偿层的厚度可以设定为能够最适合地发挥作为λ/4板的功能。换言之，厚度可以设定为能够得到所需的面内相位差。具体而言，厚度优选为1～10μm，更优选为1.2～6μm，最优选为1.4～3μm。此厚度与以往的双轴性的λ/4板可实现的厚度相比格外地薄。此是可以通过本发明的制造方法，通过将特定聚合物供至特定的加热及拉伸处理而予以实现(制造方法的详细内容将于后述的B项进行说明)。

作为构成第二光学补偿层的材料，只要可以获得上述光学特性，就可以采用任意合适的材料。例如，作为此种材料，可以举出非液晶性材料。特优选为非液晶性聚合物。此种非液晶性材料与液晶性材料不同，与基材的取向性无关系，依其本身性质可以形成显示nx＞nz、ny＞nz的光学单轴性的膜。其结果，不仅可以使用取向基板，亦可以使用未取向基板。再者，即使是使用未取向基板的情况，亦可以省略向其表面涂布取向膜的工序或层合取向膜的工序等。

作为上述非液晶性聚合物，例如从优异的耐热性、耐药品性、透明性与富含刚性的观点而言，优选为聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺等聚合物。这些聚合物可以单独使用任一种，亦可以例如像聚芳基醚酮与聚酰胺的混合物那样作为具有相异官能团的二种以上的混合物而使用。在此种聚合物中，从高透明性、高取向性、高拉伸性而言，特别优选聚酰亚胺。由于聚酰亚胺的耐热性高、热膨胀小，故由聚酰亚胺所形成的第二光学补偿层发生热不均匀的情况较小。

对上述聚合物的分子量并无特别限制，例如优选重均分子量(Mw)为1,000～1,000,000的范围，更优选为2,000～500,000的范围。

作为上述聚酰亚胺，例如优选面内取向性高、可溶于有机溶剂的聚酰亚胺。具体而言，可以使用如特表2000-511296号公报所公开的含有9，9-双(氨基芳基)芴与芳香族四羧酸二酐的缩聚产物并含有一个以上的下述式(1)所示的重复单元的聚合物。

[化7]

在上述式(1)中，R³～R⁶分别独立，为从氢、卤素、苯基、被1～4个卤原子或C_1～10烷基取代的苯基、及C_1～10烷基所组成的组中选择的至少一种的取代基。优选R³～R⁶分别独立，为卤素、苯基、被1～4个卤原子或C_1～10烷基取代的苯基、及C_1～10烷基所组成的组中选择的至少一种的取代基。

上述式(1)中，Z例如为C_6～20的4价芳香族基，优选为苯均四酸(pyromellitic)基、多环式芳香族基、多环式芳香族基的衍生物、或下述式(2)所示的基团。

[化8]

在上述式(2)中，Z’例如为共价键、C(R⁷)₂基、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(C₂H₅)₂基、或NR⁸基，在是多个的情况下，可以分别相同或相异。另外，w表示1至10的整数。R⁷分别独立，为氢或C(R⁹)₃。R⁸为氢、碳原子数1～约20的烷基、或C_6～20芳基，在是多个的情况下，可以分别相同或相异。R⁹分别独立为氢、氟或氯。

作为上述多环式芳香族基团，例如可以举出由萘、芴、苯并芴或蒽所衍生的四价基团。另外，作为上述多环式芳香族基团的取代衍生物，例如可以举出被从C_1～10烷基、其氟化衍生物、及F或Cl等卤素所组成的组中选择的至少一个基团取代的上述多环式芳香族基团。

除此之外，例如可以举出特表平8-511812号公报所记载的重复单元为下述通式(3)或(4)所示的均聚物、或重复单元为下述式(5)所示的聚酰亚胺等。尚且，下述式(5)的聚酰亚胺为下述式(3)的均聚物的优选形态。

[化9]

[化10]

[化11]

在上述式(3)～(5)中，G及G’分别独立，例如为从共价键、CH₂基、C(CH₃)₂基、C(CF₃)₂基、C(CX₃)₂基(在这里，X为卤素)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(CH₂CH₃)₂基、及N(CH₃)基所组成的组中选择的基团，可以分别相同或相异。

在上述式(3)及(5)中，L为取代基，d及e表示其取代数。L例如为卤素、C_1～3烷基、C_1～3卤化烷基、苯基或取代苯基，在为多个的情况下，可以分别相同或相异。作为上述取代苯基，例如可以举出具有从卤素、C_1～3烷基、及C_1～3卤化烷基所组成的组中选择的至少一种取代基的取代苯基。另外，作为上述卤素，例如可以举出氟、氯、溴、或碘。d为0至2的整数，e为0至3的整数。

在上述式(3)～(5)中，Q为取代基，f表示其取代数。作为Q，例如从氢、卤素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯基、及取代烷基酯基所组成的组中选择的原子或基团，在Q为多个的情况下，可以分别相同或相异。作为上述卤素，例如可以举出氟、氯、溴及碘。作为上述取代烷基，例如可以举出卤化烷基。另外，作为上述取代芳基，例如可以举出卤化芳基。f为0至4的整数，g为0至3的整数，h为1至3的整数。另外，g及h优选大于1。

在上述式(4)中，R¹⁰及R¹¹分别独立，为从氢、卤素、苯基、取代苯基、烷基、及取代烷基所组成的组中选择的基团。其中，R¹⁰及R¹¹分别独立，优选为卤化烷基。

在上述式(5)中，M¹及M²分别独立，例如为卤素、C_1～3烷基、C_{1～ 3}卤化烷基、苯基、或取代苯基。作为上述卤素，例如可以举出氟、氯、溴、及碘。另外，作为上述取代苯基，例如可以举出具有从卤素、C_1～3烷基、及C_1～3卤化烷基所组成的组中选择的至少一种取代基的取代苯基。

作为上述式(3)所示的聚酰亚胺的具体例子，例如可以举出下述式(6)所示的化合物等。

[化12]

再者，作为上述聚酰亚胺，例如可以举出使如上所述的骨架(重复单元)以外的酸二酐或二胺适当地共聚合而成的共聚合物。

作为上述酸二酐，例如可以举出芳香族四羧酸二酐。作为上述芳香族四羧酸二酐，例如可以举出苯均四酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、杂环式芳香族四羧酸二酐、2，2’-取代联苯基四羧酸二酐等。

作为上述苯均四酸二酐，例如可以举出苯均四酸二酐、3，6-二苯基苯均四酸二酐、3，6-双(三氟甲基)苯均四酸二酐、3，6-二溴苯均四酸二酐、3，6-二氯苯均四酸二酐等。作为上述二苯甲酮四羧酸二酐，例如可以举出3，3’，4，4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2，3，3’，4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2，2’，3，3’-二苯甲酮四羧酸二酐等。作为上述萘四羧酸二酐，例如可以举出2，3，6，7-萘-四羧酸二酐、1，2，5，6-萘-四羧酸二酐、2，6-二氯-萘-1，4，5，8-四羧酸二酐等。作为上述杂环式芳香族四羧酸二酐，例如可以举出噻吩-2，3，4，5-四羧酸二酐、吡嗪-2，3，5，6-四羧酸二酐、吡啶-2，3，5，6-四羧酸二酐等。作为上述2，2’-取代联苯基四羧酸二酐，例如可以举出2，2’-二溴-4，4’，5，5’-联苯基四羧酸二酐、2，2’-二氯-4，4’，5，5’-联苯基四羧酸二酐、2，2’-双(三氟甲基)-4，4’，5，5’-联苯基四羧酸二酐等。

另外，作为上述芳香族四羧酸二酐的其它例子，可以举出3，3’，4，4’-联苯基四羧酸二酐、双(2，3-二羧苯基)甲烷二酐、双(2，5，6-三氟-3，4-二羧基苯基)甲烷二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷二酐、4，4’-双(3，4-二羧基苯基)-2，2-二苯基丙烷二酐、双(3，4-二羧基苯基)醚二酐、4，4’-氧基二酞酸二酐、双(3，4-二羧基苯基)磺酸二酐、3，3’，4，4’-二苯基磺四羧酸二酐、4，4’-[4，4’-异亚丙基-二(对亚苯基氧基)]双(酞酸酐)、N，N-(3，4-二羧基苯基)-N-甲基胺二酐、双(3，4-二羧基苯基)二乙基硅烷二酐等。

其中，作为上述芳香族四羧酸二酐，优选2，2’-取代联苯基四羧酸二酐，更优选2，2’-双(三卤甲基)-4，4’，5，5’-联苯基四羧酸二酐，进一步优选2，2’-双(三氟甲基)-4，4’，5，5’-联苯基四羧酸二酐。

作为上述二胺，例如可以举出芳香族二胺，作为具体例子，可以举出苯二胺、二胺基二苯甲酮、萘二胺、杂环式芳香族二胺、以及其它芳香族二胺。

作为上述苯二胺，例如可以举出从邻-及间-及对-苯二胺、2，4-二氨基甲苯、1，4-二氨基-2-甲氧基苯、1，4-二氨基-2-苯基苯和1，3-二氨基-4-氯苯那样的苯二胺所组成的组中选择的二胺等。作为上述二氨基二苯甲酮的例子，可以举出2，2’-二氨基二苯甲酮、和3，3’-二氨基二苯甲酮等。作为上述萘二胺，例如可以举出1，8-二氨基萘、和1，5-二氨基萘等。作为上述杂环式芳香族二胺的例子，可以举出2，6-二氨基吡啶、2，4-二氨基吡啶、以及2，4-二氨基-S-三嗪等。

另外，作为芳香族二胺，除了上述之外，还可以举出4，4’-二氨基联苯、4，4’-二氨基二苯基甲烷、4，4’-(9-亚芴基)-二苯胺、2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯、3，3’-二氯-4，4’-二氨基二苯基甲烷、2，2’-二氯-4，4’-二氨基联苯、2，2’，5，5’-四氯联苯胺、2，2-双(4-氨基苯氧基苯基)丙烷、2，2-双(4-氨基苯基)丙烷、2，2-双(4-氨基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷、4，4’-二氨基二苯醚、3，4’-二氨基二苯醚、1，3-双(3-氨基苯氧基)苯、1，3-双(4-氨基苯氧基)苯、1，4-双(4-氨基苯氧基)苯、4，4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、4，4’-双(3-氨基苯氧基)联苯、2，2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2，2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷、4，4’-二氨基二苯基硫醚、4，4’-二氨基二苯基砜等。

作为上述聚醚酮，例如可以举出特开2001-49110号公报所记载的以下述通式(7)所示的聚芳基醚酮。

[化13]

在上述式(7)中，X表示取代基，q表示其取代数。X例如为卤原子、低级烷基、卤化烷基、低级烷氧基、或卤化烷氧基，在X为多个的情况下，可以分别相同或相异。

作为上述卤原子，例如可以举出氟原子、溴原子、氯原子及碘原子，其中优选氟原子。作为上述低级烷基，例如优选为具有C_1～6的直链或分支链的烷基，更优选为C_1～4的直链或分支链的烷基。具体而言，优选为甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、及叔丁基，特别优选为甲基和乙基。作为上述卤化烷基，例如可以举出三氟甲基等上述低级烷基的卤化物。作为上述低级烷氧基，例如优选为C_1～6的直链或分支链的烷氧基，更优选为C_1～4的直链或分支链的烷氧基。具体而言，进一步优选为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、及叔丁氧基，特别优选为甲氧基及乙氧基。作为上述卤化烷氧基，例如可以举出三氟甲氧基等上述低级烷氧基的卤化物。

在上述式(7)中，q为0至4的整数。在上述式(7)中，优选q＝0，且在苯环两端连接的羰基与醚的氧原子彼此以对位存在。

另外，在上述式(7)中，R¹为下述式(8)所示的基团，m为0或1的整数。

[化14]

在上述式(8)中，X’表示取代基，例如与上述式(7)中的X相同。在上述式(8)中，在X’为多个的情况下，可以分别相同或相异。q’表示上述X’的取代数，为0至4的整数，优选q’＝0。另外，p为0或1的整数。

在上述式(8)中，R²表示2价的芳香族基团。作为该2价的芳香族基团，例如可以举出邻-、间-或对-亚苯基，或萘、联苯、蒽、邻-或间-或对-三苯、菲、二苯并呋喃、联苯醚、或联苯基砜所衍生的2价基团等。在这些2价芳香族基团中，直接连接在芳香族上的氢也可以被卤原子、低级烷基或低级烷氧基所取代。其中，作为上述R²，优选为从下述式(9)～(15)所组成的组中选择的芳香族基团。

[化15]

在上述式(7)中，R¹优选用下述式(16)表示的基团，在下述式(16)中，R²及p是与上述式(8)相同意义。

[化16]

再者，在上述式(7)中，n表示聚合度，例如为2～5000的范围，优选为5～500的范围。另外，其聚合可由相同结构的重复单元构成，亦可由不同构造的重复单元构成。在是后者的情况下，重复单元的聚合形态可以为嵌段聚合，亦可以为无规聚合。

再者，上述式(7)所示的聚芳基醚酮的末端，优选对四氟亚苯甲酰基侧为氟，氧基亚烷基侧为氢原子，此种聚芳基醚酮例如可以用下述式(17)表示。另外，在下述式中，n表示与上述式(7)相同的聚合度。

[化17]

作为上述式(7)所示的聚芳基醚酮的具体例，可以举出如下述式(18)～(21)所示的化合物等，在以下各式中，n表示与上述式(7)相同的聚合度。

[化18]

[化19]

[化20]

[化21]

另外，除了这些之外，作为上述聚酰胺或聚酯，例如可以举出特表平10-508048号公报中所记载的聚酰胺或聚酯，它们的重复单元例如可以用下述式(22)表示。

[化22]

在上述式(22)中，Y为O或NH。另外，E例如为从共价键、C₂亚烷基、卤化C₂亚烷基、CH₂基、C(CX₃)₂基(在这里，X为卤素或氢)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(R)₂基、及N(R)基所组成的组中选择的至少一种基团，可以分别相同或相异。在上述E中，R为C_1～3烷基及C_1～3卤化烷基的至少一种，相对于羰基官能基或Y基位于间位或对位。

另外，在上述式(22)中，A及A’为取代基，t及z表示各别的取代数。另外，p为由0至3的整数，q为1至3的整数，r为0至3的整数。

上述A例如从以下所组成的组中进行选择，即氢、卤素、C_1～3烷基、C_1～3卤化烷基、OR(在这里，R为如上述式所定义。)所表示的烷氧基、芳基、被卤化等的取代芳基、C_1～9烷氧基羰基、C_1～9烷基羰氧基、C_1～12芳氧基羰基、C_1～12芳基羰氧基及其取代衍生物、C_1～12芳基氨基甲酰基、以及C_1～12芳基羰基胺基及其取代衍生物所组成的组；在为多个的情况下，可以分别相同或相异。上述A’例如从卤素、C_1～3烷基、C_1～3卤化烷基、苯基及取代苯基所组成的组中选择，在为多个的情况下，可以分别相同或相异。作为上述取代苯基的苯环上的取代基，例如可以举出卤素、C_1～3烷基、C_1～3卤化烷基、以及它们的组合。上述t为0至4的整数，上述z为0至3的整数。

在上述式(22)所示的聚酰胺或聚酯的重复单元中，优选用下述式(23)所示的单元。

[化23]

在上述式(23)中，A、A’及Y为如上述式(22)所定义，v为0至3的整数，优选为0至2的整数。x及y分别为0或1，但不同时为0。

A-4.偏振镜

作为上述偏振镜11，可以根据目的采用任意适合的偏振镜。例如可以举出在聚乙烯醇系薄膜、部份甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜上，使碘或二色性染料等二色性物质吸附并进行单轴拉伸者；或聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。其中，在聚乙烯醇系薄膜吸附碘等二色性物质并进行单轴拉伸的偏振镜，因偏振光二色比高而特别优选。对这些偏振镜的厚度并无特别限制，一般为1～80μm左右。

使碘吸附于聚乙烯醇系薄膜并进行单轴拉伸的偏振镜，例如可以通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液而进行染色，并拉伸至原长度的3～7倍而制作。根据需要还可以含有硼酸或硫酸锌、氯化锌等，亦可以浸渍于碘化钾等的水溶液中。进而根据需要亦可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍于水中进行水洗。

通过对聚乙烯醇系薄膜进行水洗，不仅可以洗净聚乙烯醇系薄膜表面的脏污或防粘连剂，还具有防止因聚乙烯醇系薄膜溶胀所造成的染色不均等不均匀的效果。拉伸可以在用碘染色后进行，亦可以一边染色一边拉伸，或于拉伸后再用碘染色。亦可以在硼酸或碘化钾等的水溶液中或水浴中进行拉伸。

A-5.保护层

作为上述保护层12及15，可以采用能用作偏振片的保护层的任意合适的薄膜。优选透明保护薄膜。作为成为此种薄膜的主成分的材料的具体例子，例如可以举出三乙酰纤维素(TAC)等纤维素系树脂，或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烃系、丙烯酸系、乙酸酯系等的透明树脂等。另外，例如还可以举出丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固化型树脂或紫外线固化型树脂等。除此之外，例如还可以举出硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外，亦可以使用特开2001-343529号公报(WO01/37007)中所记载的聚合物薄膜。作为此薄膜的材料，例如可以使用含有在侧链具有取代或未取代的亚氨基的热塑性树脂、和在侧链具有取代或未取代的苯基及腈基的热塑性树脂的树脂组合物，例如可以举出具有异丁烯及N-甲基马来酰亚胺所构成的交替共聚物、与丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。上述聚合物薄膜例如可以为上述树脂组合物的挤出成形物。优选为TAC、聚酰亚胺系树脂、聚乙烯醇系树脂、玻璃质系聚合物，进一步优选为TAC。

上述保护层最好为透明且无色。具体而言，厚度方向的相位差值Rth优选为-90nm～+90nm，更优选为-80nm～+80nm，最优选为-70nm～+70nm。

作为上述保护层的厚度，只要可以得到上述优选的厚度方向的相位差即可，可以采用任意合适的厚度。具体而言，保护层的厚度优选为5mm下，更优选为1mm以下，特优选为1～500μm，最优选为5～150μm。

保护层12及15可为相同或相异。可以根据需要对保护层15实施硬涂(hard coating)处理、防反射处理、防粘连处理、防眩处理等。

A-6.偏振片的其它构成要素

本发明的光学薄膜还可以具备其它的光学层。作为此种其它的光学层，可以根据目的或图像显示装置的种类而采用任意适合的光学层。作为具体例，可以举出液晶薄膜、光散射薄膜、衍射薄膜、或其它的光学补偿层(相位差薄膜)等。

本发明的光学薄膜还可以在至少一方再具有粘合剂层或胶粘剂层作为最外层而得到。通过如此具有粘合剂层或胶粘剂层作为最外层，例如可使与其它构件(例如液晶单元)的层合变得容易，可以防止本发明的光学薄膜从其它构件剥离。作为形成上述粘合剂层及胶粘剂层的材料，可以采用任意合适的材料。优选使用吸湿性或耐热性优异的材料。这是因为，可以防止因吸湿造成的发泡或剥离、因热膨胀差等造成的光学特性降低、液晶单元的翘曲等。

在实用上，在直至实际使用本发明的光学薄膜为止的期间，上述粘合剂层或胶粘剂层的表面可以利用任意合适的分隔件(separator)予以覆盖，可以防止污染。分隔件可以利用在任意合适的薄膜上根据需要设置以聚硅酮系、长链烷基系、氟系、硫化钼等剥离剂制成的剥离膜的方法而形成。

本发明的光学薄膜中的各层，例如也可以通过以水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物系化合物等的紫外线吸收剂进行的处理等而赋予紫外线吸收能力。

B.光学薄膜的制造方法

本发明的光学薄膜的制造方法包括：在经取向处理的基材上涂布含有液晶材料的涂布液的工序；在该液晶材料显示液晶相的温度下对该被涂布的液晶材料进行处理而使其取向，在该基材的表面形成第一光学补偿层的工序；将在该基材表面形成的该第一光学补偿层转印至透明保护薄膜(T)的表面的工序；在透明保护薄膜(T)的表面层合偏振镜的工序；以及在该第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序。在本发明的制造方法中，该偏振镜与该第一光学补偿层是互相经由透明保护薄膜(T)配置于相反侧。在本发明的制造方法中，第一光学补偿层13形成为该第一光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度为+17°～+27°或-17°～-27°，第二光学补偿层14形成为该第二光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度为+85°～+95°。根据此种制造方法，可以得到例如图1及图2所示的光学薄膜。上述各工序的顺序及/或被实施取向处理的薄膜，可以根据目的而适当变更。例如，偏振镜的层合工序可在任一光学补偿层的形成工序或层合工序之后进行。以下，详细说明各工序。

B-1.基材的取向处理

作为基材，只要可以得到本发明中合适的第一光学补偿层，则可以使用任意合适的基材。作为基材的具体例子，可以举出玻璃基板、金属箔、塑料片材或塑料薄膜。在基材上可以根据需要设置取向膜。作为上述塑料薄膜，可以采用任意合适的薄膜。作为具体例子，可以举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚碳酸酯系聚合物、聚甲基丙烯酸酯等丙烯酸聚合物等透明聚合物所形成的薄膜。另外，还可以举出由聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物、聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯构造的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物等透明聚合物所形成的薄膜。再者，还可以举出由酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、聚偏氯乙烯系聚合物、聚乙烯醇缩丁醛系聚合物、聚芳酯系聚合物、聚缩甲醛系聚合物、环氧系聚合物以及它们的混合物等透明聚合物所形成的薄膜等。优选聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。

基材的厚度优选为20～100μm，更优选为30～90μm，最优选为30～80μm。通过具有此种范围的厚度，在层合非常薄的第一光学补偿层的工序中，可以赋予良好支持的强度，且可以适当地维持滑动性或滚动性等操作性。

作为对上述基材的取向处理，可以采用任意合适的取向处理。具体而言，可以举出机械性的取向处理、物理性的取向处理、化学性的取向处理。作为机械性的取向处理的具体例子，可以举出摩擦处理、拉伸处理。作为物理性的取向处理的具体例子，可以举出磁场取向处理、电场取向处理。作为化学性的取向处理的具体例子，可以举出斜向蒸镀法、光取向处理。优选摩擦处理。尚且，各种取向处理的处理条件可以根据目的采用任意适合的条件。另外，取向处理可以直接实施于基材表面，亦可以形成任意合适的取向层(具有代表性的是聚酰亚胺层或聚乙烯醇层)，再对该取向层实施。

上述取向处理的取向方向是在层合基材与偏振镜的情况下与偏振镜的吸收轴成为规定角度的方向。此取向方向如后所述，与所形成的第一光学补偿层13的慢轴B的方向基本上相同。从而，上述规定的角度为+17°～+27°或-17°～-27°，优选为+19°～+25°或-19°～-25°，更优选为+21°～+24°或-21°～-24°，最优选为+22°～+23°或-22°～-23°。

B-2.形成第一光学补偿层的液晶材料的涂布工序

其次，在经上述取向处理的基材表面上涂布含有上述A-2项所说明的液晶材料的涂布液，接着使该液晶材料取向而形成第一光学补偿层。具体而言，调制在适当的溶剂中将液晶材料溶解或分散的涂布液，将此涂布液涂布在经上述取向处理的基材表面上即可。液晶材料的取向工序将于后述的B-3项说明。

作为上述溶剂，可以采用能将上述液晶材料溶解或分散的任意合适的溶剂。所使用的溶剂的种类可以根据液晶材料的种类而适当选择。作为溶剂的具体例子，有氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、四氯乙烷、氯化甲烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯化苯、邻二氯苯等卤化烃类；酚、对氯酚、邻氯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等酚类；苯、甲苯、二甲苯、均三甲基苯、甲氧基苯、1，2-二甲氧基苯等芳香族烃类；丙酮、甲基乙基甲酮(MEK)、甲基异丁酮、环己酮、环丙酮、2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等酮系溶剂；醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸丙酯等酯系溶剂；叔丁醇、甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2，4-戊二醇等醇系溶剂；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺系溶剂；乙腈、丁腈等腈系溶剂；二乙醚、二丁醚、四氢呋喃、二噁烷等醚系溶剂；或二硫化碳、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙基溶纤剂醋酸酯等。优选甲苯、二甲苯、均三甲基苯、MEK、甲基异丁酮、环己酮、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸丙酯、乙基溶纤剂醋酸酯。这些溶剂可以单独使用或组合二种以上使用。

上述涂布液中的液晶材料的含有量，可以根据液晶材料的种类或目标的层的厚度等而适当设定。具体而言，液晶材料的含有量优选为5～50重量％，更优选为10～40重量％，最优选为15～30重量％。

上述涂布液根据需要还可以含有任意合适的添加剂。作为添加剂的具体例子，可以举出聚合引发剂或交联剂。它们特别适合用于将液晶单体(聚合性单体或交联性单体)用作液晶材料的情况。作为上述聚合剂的具体例子，可以举出过氧化苯甲酰(BPO)、偶氮二异丁腈(AIBN)等。作为上述交联剂的具体例子，可以举出异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、金属螯合物交联剂等。它们可以单独使用或组合2种以上使用。作为其它添加剂的具体例子，例如可以举出抗老化剂、改性剂、表面活性剂、染料、颜料、防变色剂、紫外线吸收剂等。它们可以单独使用或组合2种以上使用。作为上述抗老化剂，例如可以举出酚系化合物、胺系化合物、有机硫系化合物、膦系化合物。作为上述改性剂，例如可以举出二醇类、硅酮类或醇类。上述表面活性剂例如用于使光学薄膜表面平滑，作为具体例子，可以举出硅酮系、丙烯酸系、氟系等表面活性剂。

上述涂布液的涂布量可以根据涂布液的浓度或目标的层的厚度等而适当设定。例如，在涂布液的液晶材料浓度为20重量％的情况下，涂布量优选为每透明保护薄膜的面积(100cm²)为0.03～0.17ml，更优选为0.05～0.15ml，最优选为0.08～0.12ml。

作为涂布方法，可以采用任意合适的方法。作为具体例子，可以举出辊涂法、旋涂法、线棒涂敷法、浸涂法、挤出法、帘涂布法、喷涂法等。

B-3.形成第一光学补偿层的液晶材料的取向工序

其次，根据上述基材表面的取向方向，使形成第一光学补偿层的液晶材料进行取向。该液晶材料的取向是通过根据所使用的液晶材料的种类，以显示液晶相的温度进行处理而进行。通过进行此种温度处理，液晶材料成为液晶状态，并根据上述基材表面的取向方向，该液晶材料进行取向。由此，在由涂布所形成的层产生双折射，在基材表面形成第一光学补偿层。

如上述的处理温度，可以根据液晶材料的种类而适当决定。具体而言，处理温度优选为40～120℃，更优选为50～100℃，最优选为60～90℃。另外，处理时间优选为30秒以上，更优选为1分钟以上，特别优选为2分钟以上，最优选为4分钟以上。在处理时间未满30秒的情况下，液晶材料会有未充分成为液晶状态的情形。另一方面，处理时间优选为10分钟以下，更优选为8分钟以下，最优选为7分钟以下。处理时间若超过10分钟，添加剂有可能会升华。

另外，在使用上述A-2项所记载的液晶单体(聚合性单体及/或交联性单体)作为液晶材料的情况下，优选对由上述涂布所形成的层再实施聚合处理或交联处理。通过进行聚合处理，上述液晶单体聚合，液晶单体作为聚合物分子的重复单元而被固定。另外，通过进行交联处理，上述液晶单体形成三维的网目构造，液晶单体作为交联构造的一部分而被固定。其结果，液晶材料的取向状态被固定。另外，液晶单体进行聚合或交联所形成的聚合物或三维网目构造为“非液晶性”。因此，所形成的第一光学补偿层不会发生例如因液晶分子特有的温度变化所造成的向液晶相、玻璃相、结晶相的转移。其结果，可以得到不受温度影响、具有非常优良的稳定性的第一光学补偿层。

上述聚合处理或交联处理的具体方法，可以通过所使用的聚合引发剂或交联剂的种类而适当选择。例如，在使用光聚合引发剂或光交联剂的情况下进行光照射即可，在使用紫外线聚合引发剂或紫外线交联剂的情况下进行紫外线照射即可，在使用基于热的聚合引发剂或交联剂的情况下进行加热即可。光或紫外线的照射时间、照射强度、总计的照射量等可视液晶材料的种类、透明保护薄膜的种类及取向处理的种类、第一光学补偿层所需的特性等而适当设定。同样地，加热温度、加热时间等亦可以适当设定。

通过进行如上所述的取向处理，由于根据上述基材的取向方向使液晶材料取向，故所形成的第一光学补偿层的慢轴B基本上与上述基材的取向方向相同。从而，第一光学补偿层的慢轴B的方向相对于基材的长度方向为+17°～+27°或-17°～-27°，优选为+19°～+25°或-19°～-25°，更优选为+21°～+24°或-21°～-24°，最优选为+22°～+23°或-22°～-23°。

B-4.第一光学补偿层的转印工序

其次，将在上述基材上所形成的上述第一光学补偿层，转印至上述透明保謢薄膜(T)的表面。对转印方法并无特别限定，例如通过将基材所支持的第一光学补偿层经由胶粘剂而与透明保护薄膜(T)贴合而进行。通过将第一光学补偿层以转印方式而形成于透明保护薄膜(T)的表面，则相较于将液晶材料直接涂布于透明保护薄膜(T)的情况，可以得到各层彼此间的密接性非常优异(其结果，具有非常优良的耐久性)的光学薄膜。

作为上述胶粘剂，具有代表性的可以举出固化型胶粘剂。作为固化型胶粘剂的代表例子，可以举出紫外线固化型等的光固化型胶粘剂、湿气固化型胶粘剂、热固化型胶粘剂。作为热固化型胶粘剂的具体例子，例如可以举出环氧树脂、异氰酸酯树脂及聚酰亚胺树脂等热固化性树脂胶粘剂。作为湿气固化型胶粘剂的具体例子，例如可以举出异氰酸酯树脂系的湿气固化型胶粘剂。优选湿气固化型胶粘剂(尤其是异氰酸酯树脂系的湿气固化型胶粘剂)。由于湿气固化型胶粘剂与空气中的水分或被粘物表面的吸附水、羟基或羧基等活性氢基等进行反应而固化，故将胶粘剂涂布后，可通过放置而使其自然固化，操作性优良。再者，由于不需为了固化而进行加热，故贴合(粘接)第一光学补偿层和透明保护薄膜(T)时不加热。其结果，无需担心加热收缩，即使在本发明的第一光学补偿层及透明保护薄膜(T)为极薄的情况下，仍可以显著地防止层合时的裂损等。另外，上述异氰酸酯树脂系胶粘剂是聚异氰酸酯系胶粘剂、聚氨基甲酸酯树脂胶粘剂的总称。

上述固化型胶粘剂，例如可以使用市售的胶粘剂，亦可以将上述各种固化型树脂溶解或分散于溶剂中，调制成固化型树脂胶粘剂溶液(或分散液)。在调制溶液(或分散液)的情况下，就该溶液中固化型树脂的含有比例而言，固形成分重量优选为10～80重量％，更优选为20～65重量％，特别优选为25～65重量％，最优选为30～50重量％。作为所使用的溶剂，可以视固化型树脂的种类采用任意合适的溶剂。作为具体例子，可列举如醋酸乙酯、甲基乙基甲酮、甲基异丁酮、甲苯、二甲苯等。它们可以单独使用或组合2种以上使用。

上述胶粘剂的涂布量可以视目的而适当设定。例如，涂布量是每单位第一光学补偿层或透明保护薄膜(T)的面积(cm²)优选为0.3～3ml，更优选为0.5～2ml，最优选为1～2ml。涂布后，根据需要，胶粘剂所含的溶剂可以通过自然干燥或加热干燥而使其挥发。如此所得的胶粘剂层的厚度优选为0.1μm～20μm、更优选为0.5μm～15μm、最优选为1μm～10μm。另外，胶粘剂层的压痕硬度(Microhardness)优选为0.1～0.5GPa，更优选为0.2～0.5GPa，最优选为0.3～0.4GPa。另外，由于压痕硬度与维氏硬度(Vickers hardness)的相关性已为周知，故亦可以换算为维氏硬度。压痕硬度例如可以使用日本电气股份有限公司(NEC)制的薄膜硬度计(例如商品名MH4000、商品名MHA-400)，由压痕深度与压痕负重而算出。

最后，若将上述基材从上述第一光学补偿层剥离，则完成上述第一光学补偿层与上述透明保护薄膜(T)的层合。

B-5.偏振镜的层合工序

将偏振镜层合于透明保护薄膜(T)的表面。偏振镜的层合可以在本发明的制造方法中的任意合适的时刻进行。例如，可以将偏振镜预先层合在透明保护薄膜(T)，亦可以在形成第一光学补偿层后再层合，亦可以在形成第二光学补偿层后再层合。偏振镜与第一光学补偿层互相经由透明保护薄膜(T)而配置于相反侧。

作为上述透明保护薄膜(T)与偏振镜的层合方法，可以采用任意适合的层合方法(例如，粘接)。粘接可以使用任意适合的胶粘剂或粘合剂而进行。胶粘剂或粘合剂的种类可以根据被粘物(亦即，透明保护薄膜及偏振镜)的种类而适当选择。作为胶粘剂的具体例子，可以举出丙烯酸系、乙烯醇系、硅酮系、聚酯系、聚氨基甲酸酯系、聚醚系等聚合物制胶粘剂；异氰酸酯系胶粘剂、橡胶系胶粘剂等。作为粘合剂的具体例子，例如可以举出丙烯酸系、乙烯醇系、硅酮系、聚酯系、聚氨基甲酸酯系、聚醚系、异氰酸酯系、橡胶系等粘合剂。

对上述胶粘剂或粘合剂的厚度并无特别限制，优选为10～200nm，更优选为30～180nm，最优选为50～150nm。

根据本发明的制造方法，在形成第一光学补偿层时，由于将第一光学补偿层的慢轴设定为任意合适的方向，故可以使用在长度方向被拉伸(亦即，在长度方向具有吸收轴)的长形的偏振光薄膜(偏振镜)。即，可以将长形的透明保护薄膜与长形的偏振光薄膜(偏振镜)连续地贴合并使各自的长度方向一致(所谓的辊对辊方式)。从而，可以以非常优良的制造效率得到光学薄膜。再者，若根据此方法，则不需将薄膜对于长度方向(拉伸方向)倾斜地切出而层合。结果，所切出的各薄膜中光轴角度不会发生误差，结果得到制品间无质量差异的光学薄膜。再者，由于不会产生切除所造成的废弃物，故可以以低成本得到光学薄膜。除此之外，亦使大型偏振片的制造变得容易。

另外，偏振镜的吸收轴的方向基本平行于长形薄膜的长度方向。在本说明书中“基本上平行”是指长度方向与吸收轴方向的角度包含0°±10°的主旨，优选为0°±5°，更优选为0°±3°。

B-6.第二光学补偿层的形成工序

再者，将第二光学补偿层形成于上述第一光学补偿层的表面上。第二光学补偿层的形成工序的详细工序是如下所述。首先，将含有形成第二光学补偿层的材料(具体而言为上述A-3项所记载的非液晶材料；以下亦称为光学补偿层形成材料)的涂布液涂布于基材片上。作为涂布方法，可以采用任意合适的方法。作为涂布方法的具体例子，可以举出旋涂法、辊涂法、流动涂法、印刷法、浸涂法、流延成膜法、棒涂法、照相凹版印刷法。

就上述光学补偿层形成材料的涂布液中的光学补偿层形成材料浓度而言，若可以得到上述A-3项所记载的光学补偿层、且可进行涂布的话，可以采用任意合适的浓度。例如，该涂布液是相对于溶剂100重量份，优选含有光学补偿层形成材料5～50重量份，更优选为10～40重量份。此种浓度范围的涂布液具有容易涂布的粘度。用于上述光学补偿层形成材料的涂布液的溶剂，可以视上述光学补偿层形成材料的种类而适当选择。作为可以使用的溶剂的具体例子，例如可以举出上述B-2项所记载的溶剂。该涂布液根据需要还可以含有稳定剂、增塑剂、金属类等各种添加剂。涂布液的涂布量是被调节为第二光学补偿层可以适当地发挥作为λ/4板功能的厚度(亦即，上述A-3项中所记载的厚度)。

另外，上述光学补偿层形成材料的涂布液，只要所得的光学补偿层的光学特性适当的话，还可以再含有与光学补偿层形成材料不同的树脂。作为此种树脂，例如可以举出各种通用树脂、工程塑料、热塑性树脂、热固化性树脂等。通过并用这些树脂，根据目的可以形成具有适当机械强度或耐久性的光学补偿层。

作为上述基材片，只要可以得到本发明中合适的第二光学补偿层，则可以使用任意合适的基材片。具体而言，可以使用第一光学补偿层的转印所使用的基材(上述B-4项所记载)。根据需要可以对基材片实施拉伸处理、再结晶处理等。基材片的厚度亦可以采用上述B-4项所记载的厚度。

其次，使在上述基材片上形成的上述光学补偿层形成材料的溶液的涂布膜进行干燥，形成聚合物层(该聚合物层最终成为第二光学补偿层)。作为干燥的方法，可以采用任意合适的方法(例如自然干燥、加热干燥、风干)。干燥温度可以根据光学补偿层形成材料的种类、溶剂种类、目标的光学补偿层的光学特性等而变化。干燥温度优选为20～400℃，更优选为60～300℃，最优选为65～250℃。干燥时间优选为0.5～200分钟，更优选为1～120分钟，最优选为5～100分钟。干燥可以在一定的温度下进行，亦可以连续或阶段性地改变温度而进行。

其次，针对每一基材片(亦即，将聚合物层与基材片作为一体)对所得的聚合物层进行加热并拉伸，在基材片上形成第二光学补偿层。作为拉伸方法，可以采用任意合适的方法(例如固定端拉伸、自由端拉伸)。拉伸倍率相对于拉伸前的聚合物层及基材片的整体长度，优选为1.2～3.0倍，更优选为1.3～2.9倍，最优选为1.3～2.8倍。若为此种范围的拉伸倍率，则于第二光学补偿层可以得到所需的Nz系数。拉伸温度优选为120～200℃，更优选为130～190℃，最优选为135～180℃。通过将拉伸温度设定成此种范围，则即使以非常大的拉伸倍率进行拉伸处理，亦可以稳定控制所得的光学补偿层的光学特性。

拉伸方向可以按照第二光学补偿层所需的慢轴方向进行设定。在本发明中，可以将第一光学补偿层的慢轴设定为相对于偏振镜吸收轴(长形薄膜的长度方向)的任意倾斜方向。在这里，若将第一光学补偿层的慢轴设定为相对于偏振镜吸收轴呈+22°～+23°或-22°～-23°方向，可知使第二光学补偿层的慢轴基本上与偏振镜的吸收轴正交即可。由于该慢轴的方向对应于拉伸方向，故若上述聚合物层及基材片的拉伸在横方向(宽度方向：相对于长度方向呈正交的方向；正交于偏振镜吸收轴的方向)上进行即可。结果，无需为了与第二光学补偿层的慢轴方向一致而打穿，可以进行通过辊对辊方式的贴合，进一步改善制造效率。

其次，将在上述基材片上所形成的上述第二光学补偿层转印至上述第一光学补偿层的表面。对转印方法并无特别限定，例如是通过将基材片所支持的第二光学补偿层经由胶粘剂而与第一光学补偿层贴合而进行。作为胶粘剂，可以使用与上述第一光学补偿层转印所使用者相同的胶粘剂(上述B-4项所记载)。

最后，若将上述基材片从上述第二光学补偿层剥离，则完成上述第一光学补偿层与上述第二光学补偿层的层合。如此，可以得到本发明的光学薄膜。

B-7.具体的制造步骤

参照图3～图7，针对本发明的制造方法具体步骤的一例进行说明。另外，在图3～图7中，组件符号111、111’、112、112’、115、116、117、118、118’、119、119’为卷回形成各层的薄膜及/或层合体的辊。

首先，准备成为偏振镜原料的长形聚合物薄膜，如上述A-4项所记载的那样进行染色、拉伸等。拉伸是对长形聚合物薄膜沿其长度方向连续地进行。由此，如图3的立体图所示，可以得到在长度方向(拉伸方向：箭头A方向)具有吸收轴的长形偏振镜11。

另一方面，如图4(a)的立体图所示，准备长形基材16，在其一方的表面上通过摩擦辊120进行摩擦处理。此时摩擦方向设为与基材16的长度方向相异的方向，例如±22.5°的方向。其次，如图4(b)的立体图所示，在经上述摩擦处理的基材16上，如上述B-2及B-3项所记载的那样形成第一光学补偿层13。由于此第一光学补偿层13沿着摩擦方向使液晶材料取向，其慢轴方向成为基本上与基材16的摩擦方向相同的方向(箭头B方向)。

其次，如图5(a)的模式图所示，将长形的第二透明保护薄膜(成为第二保护层)15、长形的偏振镜11、长形的透明保护薄膜(成为保护层)12、第一光学补偿层13及基材16的层合体121沿箭头方向送出，在使各自的长度方向一致的状态下通过胶粘剂等(未图示)予以贴合，形成层合体123’。再者，如图5(b)所示，从层合体123’将基材16剥离，形成层合体123(第二保护层15、偏振镜11、保护层12及第一光学补偿层13)。另外，在图5(a)中，组件符号122表示用于将薄膜彼此贴合的导辊(于图6、图7中亦相同)。

再者，如图6(a)的模式图所示，准备长形的层合体125(由基材片26支持第二光学补偿层14的层合体)，将其与层合体123(第二保护层15、偏振镜11、保护层12及第一光学补偿层13)沿箭头方向送出，在使各自的长度方向一致的状态下通过胶粘剂等(未图示)予以贴合。如此，根据本发明，可以将非常薄的第一及第二光学补偿层以所谓的辊对辊方式予以贴合，制造效率可以卓越地提高。

最后，如图6(b)所示般剥离基材片26，得到本发明的光学薄膜10。

针对本发明的制造方法具体步骤的另一例进行说明。

同上述，如图3的立体图所示，制造长形的偏振镜11。

另一方面，如图4(a)的立体图所示，准备长形的基材16，在其一方的表面上通过摩擦辊120进行摩擦处理。此时摩擦方向被设为与基材16的长度方向具有特定角度的方向，例如±22.5°的方向。其次，如图4(b)的立体图所示，在经上述摩擦处理的基材16上，如上述B-2及B-3项所记载的那样形成第一光学补偿层13。由于此第一光学补偿层13沿着摩擦方向使液晶材料取向，其慢轴方向成为与基材16的摩擦方向基本相同的方向(箭头B方向)。

其次，如图7(a)的模式图所示，将长形的第二透明保护薄膜(成为第2保护层)15、偏振镜11、长形的透明保护薄膜(成为保护层)12沿箭头方向送出，在使各自的长度方向一致的状态下通过胶粘剂等(未图示)予以贴合，形成层合体124。其次，如图7(b)的模式图所示，将层合体124与第一光学补偿层13及基材16的层合体121，沿箭头方向送出，在使各自的长度方向一致的状态下通过胶粘剂等(未图示)予以贴合，形成层合体123’。再者，如图5(b)所示，从层合体123’将基材16剥离，形成层合体123(第二保护层15、偏振镜11、保护层12及第一光学补偿层13)。

其次，如图6(a)的模式图所示，准备长形的层合体125(由基材片26支持第二光学补偿层14的层合体)，将其与层合体123(第二保护层15、偏振镜11、保护层12及第一光学补偿层13)沿箭头方向送出，在使各自的长度方向一致的状态下通过胶粘剂等(未图示)予以贴合。最后，如图6(b)所示将基材片26剥离，得到本发明的光学薄膜10。

C.光学薄膜的用途

本发明的光学薄膜可以适当用于各种图像显示装置(例如液晶显示装置、自发光型显示装置)。作为可以应用的图像显示装置的具体例子，例如可以举出液晶显示装置、EL显示器、等离子显示器(PD)、场致发射显示器(FED：Field Emission Display)。在将本发明的光学薄膜使用于液晶显示装置的情况下，例如对于防止黑色显示中的漏光以及补偿视角是有用的。本发明的光学薄膜适合用于VA模式的液晶显示装置，特别适合用于反射型及半透过型的VA模式的液晶显示装置。另外，在将本发明的光学薄膜用于EL显示器的情况下，例如可以用于防止电极反射。

D.图像显示装置

作为本发明图像显示装置的一例，针对液晶显示装置进行说明。在这里，针对用于液晶显示装置的液晶面板进行说明。关于液晶显示装置的其它构成，可以根据目的采用任意合适的构成。在本发明中，优选VA模式的液晶显示装置，特别优选反射型和半透过型的VA模式的液晶显示装置。图8为本发明的优选实施方式的液晶面板的概略剖面图。在这里，说明反射型的液晶显示装置用液晶面板。液晶面板100具备：液晶单元20、配置于液晶单元20上侧的相位差板30、和配置于相位差板30上侧的偏振片10。作为上述偏振片10，可以适当使用上述A项及B项所说明的本发明的光学薄膜。作为相位差板30，可以根据目的和液晶单元的取向模式采用任意适合的相位差板。根据目的及液晶单元的取向模式，可以省略相位差板30。另外，在将本发明的光学薄膜用作偏振片10的情况下，仅用偏振片10就能进行良好的光学补偿，故可以省略相位差板30。液晶单元20具有一对玻璃基板21、21’与配置在该基板之间的作为显示介质的液晶层22。在下基板21’的液晶层22侧设置有反射电极23。在上基板21设置有滤色器(未图示)。基板21、21’的间隔(单元间隔)是通过间隔件24来控制的。

例如，在是反射型VA模式的情况下，此种液晶显示装置100在未施加电压时，其液晶分子的取向垂直于基板21、21’面。此种垂直取向可以通过在形成有垂直取向膜(未图示)的基板间配置具有负的介电常数各向异性的向列型液晶而得到实现。在此种状态下，当通过偏振片10的直线偏振光的光从上基板21的面入射至液晶层22时，则入射光将沿着被垂直取向的液晶分子的长轴方向前进。由于在液晶分子的长轴方向不发生双折射，故入射光不改变偏振光方位而前进，被反射电极23反射并再次通过液晶层22，从上基板21射出。由于射出光的偏振光状态与入射时并无改变，故该射出光透过偏振片10，得到明亮状态的显示。若在电极间施加电压，则液晶分子的长轴取向为与基板面平行。相对于入射至该状态的液晶层22的直线偏振光的光，液晶分子显示双折射性，入射光的偏振光状态对应于液晶分子的倾斜而变化。在施加规定的最大电压时，由于被反射电极23反射并从上基板射出的光成为例如其偏振光方位被旋转90°的直线偏振光，被偏振片10吸收而得到暗状态的显示。若再次成为未施加电压状态，则可以通过取向规制力而回复到明亮状态的显示。另外，通过使施加电压改变而控制液晶分子的倾斜，使来自偏振片10的透过光强度发生变化，则可以进行灰度显示。

以下，通过实施例更具体地说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。实施例中的各特性的测定方法是如下所述。

(1)相位差的测定

用自动双折射测定装置(王子计测机器株式会社制，自动双折射计KOBRA31PR)测量试料薄膜的折射率nx、ny及nz，算出面内相位差Re及厚度方向相位差Rth。测定温度为23℃、测定波长为590nm。

(2)厚度的测定

第一光学补偿层的厚度是使用大塚电子制MCPD2000，通过干涉膜厚测定法进行测定。其它各种薄膜的厚度是使用千分表(dial gauge)进行测定的。

(实施例1)

a.取向基材(A-1)的制作

使用摩擦布以摩擦角度＝22.5°摩擦PET薄膜(厚度40μm)，制作取向基材(A-1)。

b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作

首先，将显示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司制：商品名Paliocolor LC242)10g、与针对该聚合性液晶化合物的光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals公司制：商品名Irgacure 907)0.5g溶解于甲苯40g中，调制液晶组合物(涂布液)。然后，利用棒涂机在如上所述制作的取向基材(A-1)上涂布该涂布液后，以90℃加热干燥2分钟而使液晶取向。使用金属卤素灯向如此形成的液晶层照射20mJ/cm²的光，使该液晶层固化，由此形成具有nx＞ny＝nz的折射率特性的正单轴薄膜的第一光学补偿层(B-1)。第一光学补偿层(B-1)的厚度及相位差通过使涂布液的涂布量发生变化而被调整，厚度为2.2μm，相位差为250nm。

c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作

用含有碘的水溶液对聚乙烯醇薄膜进行染色后，在含有硼酸的水溶液中在速比相异的辊间进行单向拉伸成6倍而得到偏振镜。通过图5(a)所示的制造步骤，使用胶粘剂(在TAC薄膜与第一光学补偿层(B-1)之间为异氰酸酯系胶粘剂(厚度5μm))，对由TAC薄膜(厚度40μm)、偏振镜、TAC薄膜(厚度40μm)、取向基材(A-1)及第一光学补偿层(B-1)所构成的层合体(X1)进行层合(偏振镜的吸收轴方向成为长度方向，偏振镜吸收轴与第一光学补偿层(B-1)的慢轴所成角度成为22.5°及-22.5°)，最后如图5(b)所示将取向基材(A-1)剥离，得到第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)。另外，在这里所说的层合体(Y1)为包括偏振镜的吸收轴与第一光学补偿层(B-1)的慢轴所成的角度为22.5°的层合体、以及偏振镜的吸收轴与第一光学补偿层(B-1)的慢轴所成的角度为-22.5°的层合体这二者的总称。

d.由第二光学补偿层(C-1)/ZEONOR所构成的层合体(Z1)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的15重量％溶液，将该溶液以25μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理后，对所得到的薄膜沿宽度方向进行自由端单轴拉伸，在140℃下拉伸1.4倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-1)/ZEONOR所构成的层合体(Z1)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-1))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为130nm，厚度方向相位差Rth为182nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.4。

e.光学薄膜的制作

借助氨基甲酸酯系胶粘剂(厚度5μm)，按照图6(a)所示的制造步骤对由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)、由第二光学补偿层(C-1)/ZEONOR所构成的层合体(Z1)进行层合(偏振镜的吸收轴方向成为长度方向，偏振镜的吸收轴与第二光学补偿层(C-1)的慢轴所成的角度成为90°)，最后通过如图6(b)所示的制造步骤剥离“ZEONOR”，得到由第二光学补偿层(C-1)/第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(1)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂而形成粘合层，制作光学薄膜(1A)。

(实施例2)

与“a.取向基材(A-1)的制作”同样地，制作取向基材(A-2)。与“b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-2)/取向基材(A-2)所构成的层合体(X2)。与“c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-2)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y2)。

d.由第二光学补偿层(C-2)/ZEONOR所构成的层合体(Z2)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的10重量％溶液，将该溶液以30μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理。利用光干涉法测定该聚酰亚胺薄膜的厚度，结果为2.9μm。将所得的薄膜沿着宽度方向进行固定端单轴拉伸，在150℃下拉伸1.73倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-2)/ZEONOR所构成的层合体(Z2)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-2))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为121nm，厚度方向相位差Rth为197nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.63。

e.光学薄膜的制作

与实施例1同样地，将层合体(Y2)与层合体(Z2)层合，剥离“ZEONOR”，由此得到由第二光学补偿层(C-2)/第一光学补偿层(B-2)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(2)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂以形成粘合层，制作光学薄膜(2A)。

(实施例3)

与“a.取向基材(A-1)的制作”同样地，制作取向基材(A-3)。与“b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-3)/取向基材(A-3)所构成的层合体(X3)。与“c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-3)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y3)。

d.由第二光学补偿层(C-3)/ZEONOR所构成的层合体(Z3)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的15重量％的溶液，将该溶液以31μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理。利用光干涉法测定该聚酰亚胺薄膜的厚度，结果为3.1μm。将所得到的薄膜沿宽度方向进行固定端单轴拉伸，在150℃下拉伸1.55倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-3)/ZEONOR所构成的层合体(Z3)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-3))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为122nm，厚度方向相位差Rth为205nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.68。

e.光学薄膜的制作

与实施例1同样地，将层合体(Y3)与层合体(Z3)层合，剥离“ZEONOR”，由此得到由第二光学补偿层(C-3)/第一光学补偿层(B-3)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(3)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂以形成粘合层，制作光学薄膜(3A)。

(实施例4)

与“a.取向基材(A-1)的制作”同样地，制作取向基材(A-4)。与“b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-4)/取向基材(A-4)所构成的层合体(X4)。与“c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-4)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y4)。

d.由第二光学补偿层(C-4)/ZEONOR所构成的层合体(Z4)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的15重量％溶液，将该溶液以33μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理。利用光干涉法测定该聚酰亚胺薄膜的厚度，结果为3.3μm。将所得到的薄膜沿着宽度方向进行固定端单轴拉伸，在150℃下拉伸1.46倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-4)/ZEONOR所构成的层合体(Z4)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-4))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为119nm，厚度方向相位差Rth为376nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.89。

e.光学薄膜的制作

与实施例1同样地，将层合体(Y4)与层合体(Z4)层合，剥离“ZEONOR”，而得到由第二光学补偿层(C-4)/第一光学补偿层(B-4)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(4)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂以形成粘合层，制作光学薄膜(4A)。

(实施例5)

与“a.取向基材(A-1)的制作”同样地，制作取向基材(A-5)。与“b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作”同样地，制作由第-光学补偿层(B-5)/取向基材(A-5)所构成的层合体(X5)。与“c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-5)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y5)。

d.由第二光学补偿层(C-5)/ZEONOR所构成的层合体(Z5)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的15重量％溶液，将该溶液以19μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理。将所得到的薄膜沿宽度方向进行自由端单轴拉伸，在150℃下拉伸1.85倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-5)/ZEONOR所构成的层合体(Z5)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-5))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为122nm，厚度方向相位差Rth为142nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.16。

e.光学薄膜的制作

与实施例1同样地，将层合体(Y5)与层合体(Z5)层合，剥离“ZEONOR”，由此得到由第二光学补偿层(C-5)/第一光学补偿层(B-5)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(5)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂以形成粘合层，制作光学薄膜(5A)。

(实施例6)

与“a.取向基材(A-1)的制作”同样地，制作取向基材(A-6)。与“b.由第一光学补偿层(B-1)/取向基材(A-1)所构成的层合体(X1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-6)/取向基材(A-6)所构成的层合体(X6)。与“c.由第一光学补偿层(B-1)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y1)的制作”同样地，制作由第一光学补偿层(B-6)/TAC/偏振镜/TAC所构成的层合体(Y6)。

d.由第二光学补偿层(C-6)/ZEONOR所构成的层合体(Z6)的制作

使用环己酮作为溶剂，制备由2，2’-双(3，4-二羧基苯基)六氟丙烷和2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基联苯所合成的聚酰亚胺的15重量％溶液，将该溶液以36μm的厚度涂布于日本ZEON制的商品名“ZEONOR”(拉伸前的厚度为100μm)上，以120℃进行5分钟的干燥处理。将所得的到薄膜沿宽度方向进行固定端单轴拉伸，在150℃下拉伸1.38倍。如此，制作由第二光学补偿层(C-6)/ZEONOR所构成的层合体(Z6)。

使用王子计测制的KOBRA21-ADH测定聚酰亚胺层(第二光学补偿层(C-6))单体的相位差，结果满足nx＞ny＞nz的关系，面内相位差Re为124nm，厚度方向相位差Rth为261nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为2.1。

e.光学薄膜的制作

与实施例1同样地，将层合体(Y6)与层合体(Z6)层合，剥离“ZEONOR”，由此得到由第二光学补偿层(C-6)/第一光学补偿层(B-6)/TAC/偏振镜/TAC所构成的光学薄膜(6)。再者，在第二光学补偿层上贴合厚度20μm的粘合剂以形成粘合层，制作光学薄膜(6A)。

(实施例7)

在实施例1中，使用“ZEONOR”的单轴拉伸薄膜作为第一光学补偿层(B-7)来代替第一光学补偿层(B-1)，使用“ZEONOR”的双轴拉伸薄膜作为第二光学补偿层(C-7)来代替第二光学补偿层(C-1)，并且使用厚度12μm的粘合剂贴合第一光学补偿层以及第二光学补偿层与偏振片(TAC/偏振镜/TAC)，除此之外，与实施例1同样地进行，制成光学薄膜(7)以及带有粘合剂层的光学薄膜(7A)。

第一光学补偿层(B-7)的面内相位差Re为232nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.01。

第二光学补偿层(C-7)的面内相位差Re为119nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.6。

(实施例8)

在实施例1中，使用“ZEONOR”的双轴拉伸薄膜作为第二光学补偿层(C-8)来代替第二光学补偿层(C-1)，并且使用厚度12μm的粘合剂来贴合第一光学补偿层以及第二光学补偿层与偏振片(TAC/偏振镜/TAC)，除此之外，与实施例1同样地进行，制成光学薄膜(8)以及带有粘合剂层的光学薄膜(8A)。

第二光学补偿层(C-8)的面内相位差Re为119nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.6。

(实施例9)

在实施例1中，使用聚碳酸酯的双轴拉伸薄膜作为第二光学补偿层(C-9)来代替第二光学补偿层(C-1)，并且使用厚度12μm的粘合剂来贴合第一光学补偿层以及第二光学补偿层与偏振片(TAC/偏振镜/TAC)，除此之外，与实施例1同样地进行，制成光学薄膜(9)以及带有粘合剂层的光学薄膜(9A)。

第二光学补偿层(C-9)的面内相位差Re为122nm，Nz系数(Nz＝(nx-nz)/(nx-ny))为1.6。

(评价试验1)

测定在实施例中得到的光学薄膜的厚度。测定是使用数字测微器，以n＝5的平均作为测定值。结果示于表1。

表1

	光学薄膜	光学薄膜的厚度(μm)
			实施例1	(1)	110
实施例2	(2)	109
			实施例3	(3)	112
实施例4	(4)	107
			实施例5	(5)	108
实施例6	(6)	114
			实施例7	(7)	212
实施例8	(8)	168
			实施例9	(9)	161

由表1可判断，与实施例7～9的光学薄膜相比，实施例1～6的光学薄膜可以更进一步达成薄型化。

(评价试验2)

将由实施例所得到的光学薄膜安装至VA-LCD，测定对比率。

具体而言，在上板使用第一光学补偿层的慢轴与偏振镜的吸收轴所成角度为+22.5°的光学薄膜，借助粘合剂贴合至市售的VA-LCD上。其次，在下板使用第一光学补偿层的慢轴与偏振镜的吸收轴所成角度为-22.5°的光学薄膜，借助粘合剂贴合至市售的VA-LCD上，使上板的光学薄膜中的偏振镜的吸收轴与下板的光学薄膜中的偏振镜的吸收轴所成的角度成为90°。

使用TOPCON公司制的亮度计BM-5A，使液晶驱动而测定所得到的LCD面板的亮度和色度。使LCD面板显示黑与白，从正面方向起测定中央部的亮度，算出正面对比率。另外，亦算出从LCD面板的上下左右60°方向起的对比率。

结果示于表2。

表2

	对比率
						正面	上60°	下60°	右60°	左60°
	实施例1	355	163	152	161						157
实施例2						367	172	174	180	181
	实施例3	347	168	162	169						171
实施例4						358	163	157	162	154
	实施例5	351	99	102	106						102
实施例6						345	121	126	130	125
	实施例7	441	194	181	198						192
实施例8						245	97	95	102	96
	实施例9	375	175	177	182						188

由表2可判断，实施例8的正面对比率较其它实施例差(实施例8以外的正面对比率可以实现300以上)。另外，实施例8在黑色显示下可见到带有蓝色(实施例8以外则于黑色显示下不见带色)。

另外，就相对于正面对比率的斜方向(上下左右60°)对比率的降低情形而言，可以判断实施例1～6较实施例7～9为少。

(评价试验3)

将评价试验2所制成的LCD面板置入至70℃炉中15分钟，在未施加电压的状态＝黑色状态下取出后，立刻放置于灯箱上测定亮度。结果示于表3。

表3

	亮度(cd/m2)
		实施例1	1.7
实施例2	1.9
		实施例3	1.6
实施例4	1.7
		实施例5	2.2
实施例6	1.8
		实施例7	1.2
实施例8	2.2
		实施例9	5.8

由表3可判断，实施例9在黑色显示下的高温透过率约为其它实施例的3倍，高温下的漏光较多。亦即，实施例9的热不均匀状况较严重。

工业上的可利用性

本发明的光学薄膜可以适当用于各种图像显示装置(例如液晶显示装置、自发光型显示装置)。

Claims (12)

1.一种光学薄膜的制造方法，含有：

在经取向处理的基材上涂布含有液晶材料的涂布液的工序；

在该液晶材料显示液晶相的温度下对该被涂布的液晶材料进行处理而使其取向，在该基材表面形成第一光学补偿层的工序；

将在该基板表面形成的该第一光学补偿层转印至透明保护薄膜(T)的表面的工序；

在透明保护薄膜(T)的表面层合偏振镜的工序；和

在该第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序；

该偏振镜与该第一光学补偿层互相隔着透明保护薄膜(T)而配置成相反侧；

该第一光学补偿层是以该第一光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+17°～+27°或-17°～-27°的方式形成；

该第二光学补偿层是以该第二光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+85°～+95°的方式形成。

2.如权利要求1的制造方法，其中，

上述液晶材料含有聚合性单体及/或交联性单体，上述液晶材料的取向工序还包括进行聚合处理及/或交联处理。

3.如权利要求2的制造方法，其中，

上述聚合处理及/或交联处理利用加热或光照射而进行。

4.如权利要求1～3中任意一项所述的制造方法，其中，

上述第二光学补偿层形成为其Nz系数为1.2≤Nz≤2。

5.如权利要求1～4中任意一项所述的制造方法，其中，

上述在第一光学补偿层表面形成第二光学补偿层的工序包括：

在基材片的表面涂布含有从聚酰亚胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺及聚酯酰亚胺所组成的组中选择的至少一者的聚合物的涂布液的工序；

使该涂布液干燥而在该基材片表面形成聚合物层的工序；

针对每一该基材片对该聚合物层进行加热及拉伸，在该基材片上形成该第二光学补偿层的工序；

将在该基材片上形成的第二光学补偿层贴附至该第一光学补偿层的表面的工序；以及

将该基材片从该第二光学补偿层剥离的工序。

6.如权利要求5所述的制造方法，其中，

于在上述基材片上形成上述第二光学补偿层的工序中，针对每一该基材片以1.2倍～3倍的拉伸倍率对上述聚合物层进行拉伸。

7.如权利要求5或者6所述的制造方法，其中，

于在上述基材片上形成上述第二光学补偿层的工序中，针对每一该基材片沿宽度方向对上述聚合物层进行拉伸。

8.如权利要求1～7中任意一项所述的制造方法，其中，

上述第二光学补偿层的厚度为1μm～10μm。

9.如权利要求1～8中任意一项所述的制造方法，其中，

上述第一光学补偿层为λ/2板。

10.如权利要求1～9中任意一项所述的制造方法，其中，

上述第二光学补偿层为λ/4板。

11.一种光学薄膜，是由权利要求1～10中任意一项所述的制造方法而得到的。

12.一种图像显示装置，其含有权利要求11所述的光学薄膜。

Images