TW201704896A - 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 - Google Patents

移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201704896A
TW201704896A TW105122550A TW105122550A TW201704896A TW 201704896 A TW201704896 A TW 201704896A TW 105122550 A TW105122550 A TW 105122550A TW 105122550 A TW105122550 A TW 105122550A TW 201704896 A TW201704896 A TW 201704896A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
support portion
support
exposure apparatus
exposure
Prior art date
Application number
TW105122550A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI635370B (zh
Inventor
青木保夫
Original Assignee
尼康股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 尼康股份有限公司 filed Critical 尼康股份有限公司
Publication of TW201704896A publication Critical patent/TW201704896A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI635370B publication Critical patent/TWI635370B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/008—Systems with a plurality of bearings, e.g. four carriages supporting a slide on two parallel rails
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/02—Sliding-contact bearings
    • F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22—Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

基板載台裝置(PST)係於搭載於Y步進定盤(50)上之基板支承構件(60)保持基板(P)。基板支承構件(60)於Y步進定盤(50)上以長行程移動於掃描方向。基板(P)之與曝光區域(IA)對應之部位被定點載台(80)從下方以非接觸方式吸附保持，其他部位被配置於Y步進定盤(50)上之複數個空氣懸浮裝置(70)懸浮支承。基板(P)之與曝光區域(IA)對應之部位，藉由定點載台(80)被控制成基板(P)之面位置位於投影光學系統之焦深內。

Description

移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
本發明係關於一種移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法，更詳言之，係關於使物體沿既定二維平面移動之移動體裝置、對保持於該移動體裝置之物體進行既定處理之物體處理裝置、於保持於前述移動體裝置之物體形成既定圖案之曝光裝置、使用前述曝光裝置之平板顯示器之製造方法、以及使用前述曝光裝置之元件製造方法。
以往，在製造液晶顯示元件、半導體元件(積體電路等)等電子元件(微型元件)的微影製程中，主要使用例如步進重複方式之投影曝光裝置(所謂步進機)、或步進掃描方式之投影曝光裝置(所謂掃描步進機(亦稱掃描機))等。
此種曝光裝置，曝光對象之物體(玻璃板或晶圓(以下總稱為「基板」))載置於基板載台裝置上。之後，形成於光罩(或標線片)之電路圖案，藉由經由投影透鏡等光學系統之曝光用光之照射而轉印至基板(參照例如專利文獻1)。
近年來，曝光裝置之曝光對象物即基板、特別是液晶顯示元件用之矩形玻璃板之尺寸例如為一邊三公尺以上等，有大型化之傾向，伴隨於此，基板載台裝置亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望開發出一種載台裝置，係能將曝光對象物(基板)高速且高精度地導引，且小型、輕量。
[專利文獻]
[專利文獻1]美國發明專利申請公開第2010/0018950號
根據本發明之第1態樣，提供一種移動體裝置，其具備：第1移動體，可保持沿與水平面平行之既定二維平面配置之物體之端部，於至少前述二維平面內之第1方向以既定行程移動；以及第2移動體，包含在前述第1移動體於前述第1方向之可移動範圍內從下方支承前述物體之物體支承構件，能與前述第1移動體一起移動於在前述二維平面內與前述第1方向正交之第2方向。
藉此，藉由第1移動體於第1方向以既定行程移動，保持於該第1移動體之物體，則在被物體支承構件從下方支承之狀態下於第1方向以既定行程移動。又，具有物體支承構件之第2移動體由於與第1移動體一起移動於第2方向，因此能將物體往第1方向、及/或第2方向任意移動。由於物體在其可移動範圍內隨時被物體支承構件從下方支承，因此可抑制因自重導致之彎曲。是以，與將物體載置於具有與該物體相同程度面積之保持構件上並驅動該保持構件之情形相較，能使裝置更輕量化、小型化。
根據本發明之第2態樣，提供一種物體處理裝置，其具備： 本發明之移動體裝置；以及執行裝置，為了進行與前述物體相關之既定處理，從與前述保持裝置相反之側對該物體中保持於前述保持裝置之部分執行既定動作。
根據本發明之第3態樣，提供一種第1曝光裝置，其具備：本發明之移動體裝置；以及藉由能量束使前述物體曝光據以將既定圖案形成於該物體上之圖案形成裝置。
根據本發明之第4態樣，提供一種平板顯示器之製造方法，其包含：使用上述第1曝光裝置使作為前述物體而用於平板顯示器裝置之基板曝光之動作；以及使曝光後之前述基板顯影之動作。
根據本發明之第5態樣，提供一種元件製造方法，其包含：使用上述第1曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
根據本發明之第6態樣，提供一種第2曝光裝置，藉由能量束使物體曝光據以將既定圖案形成於該物體上，其具備：第1移動體，可保持沿與水平面平行之既定二維平面配置之前述物體之端部，於至少前述二維平面內之第1方向以既定行程移動；第2移動體，包含在前述第1移動體於前述第1方向之可移動範圍內從下方支承前述物體之物體支承構件，能與前述第1移動體一起移動於在前述二維平面內與前述第1方向正交之第2方向；以及曝光系統，藉由前述能量束使前述物體曝光。
根據本發明之第7態樣，提供一種平板顯示器之製造方法，其包含：使用上述第2曝光裝置使作為前述物體而用於平板顯示器裝置之基板曝光之動作；以及使曝光後之前述基板顯影之動作。
根據本發明之第8態樣，提供一種元件製造方法，其包含：使用上述第2曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
10‧‧‧液晶曝光裝置
11‧‧‧地
20‧‧‧X托架
24‧‧‧X滑件
27x,27y‧‧‧固定子
28‧‧‧支承構件
29x‧‧‧X音圈馬達
29y‧‧‧Y音圈馬達
30,130‧‧‧裝置本體
31‧‧‧鏡筒定盤
32‧‧‧橫柱架
33‧‧‧基板載台架台
33a‧‧‧本體部
33b‧‧‧支承部
33c‧‧‧連接部
33d‧‧‧貫通孔
34‧‧‧防振裝置
37‧‧‧Y固定子
38‧‧‧Y線性導引構件
40‧‧‧架台
50‧‧‧Y步進定盤
50a‧‧‧開口部
54‧‧‧X線性導件
55‧‧‧X導件
57‧‧‧Y可動子
58‧‧‧Y滑件
60,60b,60c,160‧‧‧基板支承構件
61‧‧‧X支承構件
61b‧‧‧X支承構件
62‧‧‧連結構件
64‧‧‧X滑件
65‧‧‧空氣軸承
66x‧‧‧X干涉儀
66y‧‧‧Y干涉儀
67x,67y‧‧‧可動子
68x‧‧‧X移動鏡
68y‧‧‧Y移動鏡
70‧‧‧空氣懸浮裝置
80‧‧‧定點載台
81‧‧‧重量抵銷裝置
82‧‧‧筐體
83‧‧‧壓縮線圈彈簧
84‧‧‧Z滑件
84a‧‧‧凹部
85‧‧‧平行板彈簧裝置
88‧‧‧空氣夾頭裝置
89‧‧‧底座構件
90‧‧‧真空預負荷空氣軸承
91‧‧‧空氣懸浮裝置
92‧‧‧球面空氣軸承
95‧‧‧Z音圈馬達
95a‧‧‧Z固定子
95b‧‧‧Z可動子
96‧‧‧Z感測器
97‧‧‧標的部
98‧‧‧底座框架
98a‧‧‧腳部
98b‧‧‧本體部
98c‧‧‧開口部
133‧‧‧基板載台架台
133a‧‧‧本體部
133c‧‧‧連接部
150‧‧‧Y步進定盤
161c‧‧‧保持構件
162c‧‧‧平行板彈簧裝置
CG‧‧‧重心位置
IA‧‧‧曝光區域
IL‧‧‧照明光
IOP‧‧‧照明系統
M‧‧‧光罩
MST‧‧‧光罩載台
P‧‧‧基板
PL‧‧‧投影光學系統
PST,PSTa,PSTb‧‧‧基板載台裝置
S1‧‧‧第1照射區域
S2‧‧‧第2照射區域
S3‧‧‧第3照射區域
S4‧‧‧第4照射區域
圖1係概略顯示第1實施形態之液晶曝光裝置之構成的圖。
圖2係圖1之液晶曝光裝置所具有之基板載台裝置之俯視圖。
圖3係圖2之A-A線剖面圖。
圖4係基板載台裝置所具有之定點載台裝置之剖面圖(圖3之一部分放大圖)。
圖5(A)及圖5(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖(其1及其2)。
圖6(A)及圖6(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖(其3及其4)。
圖7(A)及圖7(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖(其5及其6)。
圖8(A)及圖8(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖(其7及其8)。
圖9係第2實施形態之基板載台裝置之俯視圖。
圖10係從+X側觀看圖9之基板載台裝置之圖。
圖11係第3實施形態之基板載台裝置之俯視圖。
圖12(A)係圖11之B-B線剖面圖，圖12(B)係從+X側觀看圖11之基板 載台裝置之側視圖。
圖13(A)係圖11之基板載台裝置所具有之基板支承構件之剖面圖，圖13(B)係顯示第3實施形態之基板支承構件之變形例之圖。
《第1實施形態》
以下，根據圖1~圖8(B)說明第1實施形態。
圖1係概略顯示第1實施形態之液晶曝光裝置10之構成。液晶曝光裝置10係以用於液晶顯示裝置(平板顯示器)之矩形玻璃基板P(以下單稱為基板P)為曝光對象物之步進掃描方式之投影曝光裝置、亦即所謂掃描機。
液晶曝光裝置10如圖1所示，具備照明系統IOP、保持光罩M之光罩載台MST、投影光學系統PL、支承上述光罩載台MST及投影光學系統PL等之裝置本體30、保持基板P之基板載台裝置PST、以及此等之控制系統等。以下之說明中，將在曝光時光罩M與基板P相對投影光學系統PL分別相對掃描之方向設為X軸方向、將在水平面內與X軸方向正交之方向設為Y軸方向、將與X軸及Y軸正交之方向設為Z軸方向，且將繞X軸、Y軸、及Z軸之旋轉(傾斜)方向分別設為θ x、θ y、及θ z方向。又，將在X軸、Y軸、以及Z軸方向之位置分別作為X位置、Y位置、以及Z位置來說明。
照明系統IOP，與例如美國發明專利第6,552,775號說明書等所揭示之照明系統為相同構成。亦即，照明系統IOP係將從未圖示之光源(例如水銀燈)射出之光分別經由未圖示之反射鏡、分色鏡、快門、波長選 擇過濾器、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)IL照射於光罩M。照明光IL係使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)等之光(或者上述i線、g線、h線之合成光)。又，照明光IL之波長，可藉由波長選擇過濾器，依照例如被要求之解析度適當進行切換。
於光罩載台MST例如籍由真空吸附固定有光罩M，該光罩M係於其圖案面(圖1之下面)形成有電路圖案等。光罩載台MST，以非接觸狀態搭載於固定於裝置本體30一部分即鏡筒定盤31上之一對光罩載台導件35上，能籍由包含例如線性馬達之光罩載台驅動系統(未圖示)以既定行程被驅動於掃描方向(X軸方向)，且分別適當被微幅驅動於Y軸方向及θ z方向。光罩載台MST在XY平面內之位置資訊(包含θ z方向之旋轉資訊)，係藉由包含未圖示之雷射干涉儀之光罩干涉儀系統予以測量。
投影光學系統PL係在光罩載台MST之圖1下方支承於鏡筒定盤31。本實施形態之投影光學系統PL具有與例如美國發明專利第6,552,775號說明書所揭示之投影光學系統相同之構成。亦即，投影光學系統PL包含光罩M之圖案像之投影區域配置成交錯格子狀之複數個投影光學系統(多透鏡投影光學系統)，係發揮與具有以Y軸方向為長邊方向之長方形之單一像場之投影光學系統同等之功能。本實施形態中之複數個投影光學系統均使用例如以兩側遠心之等倍系統形成正立正像者。又，以下將投影光學系統PL之配置成交錯格子狀之複數個投影區域總稱為曝光區域IA(參照圖2)。
因此，在以來自照明系統IOP之照明光IL照明光罩M上之照明區域後，籍由通過光罩M之照明光IL，使該照明區域內之光罩M的電 路圖案之投影像(部分正立像)經由投影光學系統PL形成於照明光IL之照射區域(曝光區域IA)，該區域IA係與表面塗布有光阻(感應劑)之基板P上的照明區域共軛。接著，藉由光罩載台MST與基板載台裝置PST之同步驅動，使光罩M相對照明區域(照明光IL)移動於掃描方向(X軸方向)，且使基板P相對曝光區域IA(照明光IL)移動於掃描方向(X軸方向)，藉此進行基板P上之一個照射區域(區劃區域)之掃描曝光，以將光罩M之圖案(光罩圖案)轉印於該照射區域。亦即，本實施形態中，係藉由照明系統IOP及投影光學系統PL將光罩M之圖案生成於基板P上，藉由照明光IL對基板P上之感應層(光阻層)之曝光將該圖案形成於基板P上。
裝置本體30包含前述之鏡筒定盤31、從下方分別支承鏡筒定盤31之+Y側及-Y側端部附近之一對橫柱架32、以及從下方支承一對橫柱架32之基板載台架台33。基板載台架台33包含以X軸方向為長度方向之俯視矩形之板狀構件(參照圖2)所構成之本體部33a、分別支承一對橫柱架32之一對支承部33b、以及連接一對支承部33b與本體部33a之一對連接部33c。本體部33a、一對支承部33b、以及一對連接部33c形成為一體。一對支承部33b分別從下方被支承於設置於潔淨室之地11上之防振裝置34上。藉此，支承於裝置本體30之上述光罩載台MST及投影光學系統PL與地11於振動上分離。
於本體部33a上面，如圖2所示固定有一對Y固定子37。一對Y固定子37由與Y軸平行延伸之構件構成，於X軸方向以既定間隔彼此平行配置。一對Y固定子37分別具有包含排列於Y軸方向之複數個永久磁石之磁石單元。又，於本體部33a上面且為+X側之Y固定子37之+X 側及-X側，分別彼此平行地固定有與Y軸平行延伸之Y線性導引構件38。又，於本體部33a上面且為-X側之Y固定子37之+X側及-X側，亦分別彼此平行地固定有與Y軸平行延伸之Y線性導引構件38。此外，圖2(及圖5(A)~圖8(B))中，係省略了基板載台架台33中之一對支承部33b及一對連接部33c(分別參照圖1)之圖示。
如圖2所示，基板載台裝置PST具備Y步進定盤50、基板支承構件60、複數個空氣懸浮裝置70、以及定點載台80等。
Y步進定盤50，由以X軸方向為長度方向之俯視矩形且與XY平面平行之板狀構件構成，配置於本體部33a上方。Y步進定盤50之寬度(Y軸方向之尺寸(長度))設定為與基板P寬度(Y軸方向之尺寸(長度))為相同程度(實際上係些微較長)。又，Y步進定盤50之長度方向之尺寸(長度)設定為涵蓋基板P在X軸方向之移動範圍之尺寸(長度)，本實施形態中，設定為例如基板P之X軸方向尺寸之2.5倍程度。由圖2及圖3可知，於Y步進定盤50之中央部形成有於Y軸方向較長之長孔狀開口部50a。
於Y步進定盤50之下面，如圖3所示，一對Y可動子57分別對向於一對Y固定子37而固定。各Y可動子57具有包含未圖示線圈之線圈單元。Y步進定盤50藉由由一對Y固定子37與一對Y可動子57構成之例如兩個(一對)Y線性馬達而在基板載台架台33上於Y軸方向被以既定行程驅動。
又，於Y步進定盤50之下面固定有複數個Y滑件58。Y滑件58由XZ剖面為倒U字狀構件構成，以可低摩擦滑動地卡合於Y線性導引構件38。Y滑件58如圖1所示，相對一支Y線性導引構件38設有例如 兩個。因此，本實施形態中，於Y步進定盤50之下面，與例如四支Y線性導引構件38對應地固定有例如合計為八個之Y滑件58(圖3中，八個Y滑件58中之四個隱藏於其他四個之紙面深側)。
返回圖2，於Y步進定盤50之上面之+Y側端部附近及-Y側端部附近，分別彼此平行地固定有與X軸平行延伸之X線性導件54。
基板支承構件60，如圖2所示由俯視U字形構件構成，從下方支承基板P。基板支承構件60包含一對X支承構件61與連結一對X支承構件61之一個連結構件62。
一對X支承構件61，分別由以X軸方向為長度方向之YZ剖面矩形(參照圖1)之棒狀構件構成，於Y軸方向以既定間隔(較基板P之Y軸方向之尺寸短些許之間隔)彼此平行配置。一對X支承構件61各自之長度方向尺寸，設定為較基板P之X軸方向之尺寸長些許。基板P之+Y側及-Y側之端部附近被一對X支承構件61由下方支承。
於一對X支承構件61各自之上面具有未圖示之吸附墊。一對X支承構件61係從下方藉由例如真空吸附而吸附保持基板P之Y軸方向之兩端部附近。於-Y側之X支承構件61之-Y側側面安裝有具有與Y軸正交之反射面之Y移動鏡68y(棒反射鏡)。
如圖1所示，一對X支承構件61在Y軸方向之間隔，與一對X線性導件54之間隔對應。於一對X支承構件61各自之下面，固定有由YZ剖面逆U字狀構件構成、能以低摩擦可滑動地卡合於對應之X線性導件54之X滑件64。此外，雖圖1中因在紙面深處方向重疊而未圖示，但X滑件64相對一支X線性導件54設有例如兩個。
連接構件62由以Y軸方向為長度方向之XZ剖面矩形(參照圖3)之棒狀構件構成，連結一對X支承構件61之-X側端部相互間。此處之連接構件62，由圖1及圖3可知，搭載於一對X支承構件61各自之上面上，其下面之Z位置與基板P下面之Z位置大致相同。又，如圖2所示，於連接構件62之-X側側面，安裝有具有與X軸正交之反射面之X移動鏡68x(棒反射鏡)。
又，基板支承構件60，雖未圖示，但其藉由例如固定於Y步進定盤50上面之一對固定子(例如包含排列於X軸方向之複數個永久磁石之磁石單元)與固定於一對X支承構件61各自之下面之可動子(例如包含線圈之線圈單元)所構成之兩個X線性馬達，在Y步進定盤50上於X軸方向被以既定行程驅動。基板支承構件60，藉由Y步進定盤50於Y軸方向被以既定行程驅動，而與該Y步進定盤50一體地於Y軸方向被以既定行程驅動，並與此並行地(或獨立地)在Y步進定盤50上於X軸方向被以既定行程驅動，而於X軸方向及Y軸方向被以既定行程驅動。
基板支承構件60在XY平面內之位置資訊，藉由包含一對X干涉儀66x及一對Y干涉儀66y之基板干涉儀系統求出。一對X干涉儀66x及一對Y干涉儀66y透過未圖示之支承構件固定於裝置本體30。X干涉儀66x(或Y干涉儀66y)以未圖示之分束器將來自未圖示之光源之光分割，將其一方之光作為測距光照射於X移動鏡68x(或Y移動鏡68y)，將其另一方之光作為參照光照射於安裝於投影光學系統PL(或者能視為與投影光學系統PL一體之構件)之固定鏡(未圖示)，使上述測距光之來自X移動鏡68x(或Y移動鏡68y)之反射光及參照光之來自固定鏡之反射光再度重疊而 射入未圖示之受光元件，根據該光之干涉求出以固定鏡之反射面之位置為基準之X移動鏡68x(或Y移動鏡68y)之反射面之位置(亦即，基板支承構件60之位移)。
用以驅動基板支承構件60之X線性馬達，係根據一對X干涉儀66x之輸出被控制，用以驅動Y步進定盤50之Y線性馬達，係根據一對Y干涉儀66y(或未圖示之Y線性編碼器)之輸出被控制。又，一對Y干涉儀66y，其間隔(及台數)被設定為不論基板支承構件60之X軸方向之位置為何，來自至少一方之Y干涉儀66y之測距光照射於Y移動鏡68y。相對於此，一對X干涉儀66x，其間隔則被設定為不論基板支承構件60之Y軸方向之位置為何，隨時有來自一對X干涉儀66x之測距光照射於X移動鏡68x。
複數台、本實施形態中例如為10台之空氣懸浮裝置70固定於Y步進定盤50上面。例如10台之空氣懸浮裝置70中，例如5台於Y軸方向以既定間隔配置於開口部50a之+X側且為一對X線性導件54間之區域，其他例如5台則於Y軸方向以既定間隔配置於開口部50a之-X側且為一對X線性導件54間之區域。例如10台之空氣懸浮裝置70除了配置相異以外，其餘均實質相同。
各空氣懸浮裝置70，由延伸於X軸方向(X軸方向尺寸較Y軸及Z軸方向尺寸長)之長方體狀構件構成，其長度方向尺寸設定為與基板之X軸方向尺寸大致相同程度(實際上係短些許)。空氣懸浮裝置70於其上面(對向於基板P下面之面)具有多孔質構件，藉由從該多孔質構件所具有之複數個微細孔將加壓氣體(例如空氣)噴出於基板P下面，而使基板P懸浮。 加壓氣體，亦可從外部被供應至空氣懸浮裝置70，亦可由空氣懸浮裝置70內藏有送風裝置等。又，噴出加壓氣體之孔亦可係藉由機械式加工而形成者。複數個空氣懸浮裝置70對基板P之懸浮量(空氣懸浮裝置70之上面與基板P之下面之距離)，設定為例如數十微米~數千微米程度。
定點載台80，如圖4所示具備搭載於基板載台架台33之本體部33a上之重量抵銷裝置81、從下方被重量抵銷裝置81支承之空氣夾頭裝置88、將空氣夾頭裝置88驅動於θ x、θ y、以及Z軸之三自由度方向之複數個Z音圈馬達95等。
重量抵銷裝置81，如圖3所示插入於形成在Y步進定盤50之開口部50a內。此處，規定上述開口部50a之開口端部間之尺寸(及/或重量抵銷裝置81之外形尺寸)被設定為在Y步進定盤50以既定行程移動於Y軸方向時，規定上述開口部50a之開口端部與重量抵銷裝置81不接觸。此外，只要能迴避在Y步進定盤50以既定行程移動於Y軸方向時重量抵銷裝置81與Y步進定盤50之接觸，開口部50a之形狀則不特別限定，例如亦可係圓形。
返回圖4，重量抵銷裝置81具備固定於基板載台架台33(參照圖1)之本體部33a之筐體82、收容於筐體82內之可伸縮於Z軸方向之壓縮線圈彈簧83、以及搭載於壓縮線圈彈簧83上之Z滑件84等。筐體82由+Z側開口之有底筒狀之構件構成。Z滑件84由延伸於Z軸之筒狀構件構成，透過平行板彈簧裝置85(包含在Z軸方向分離配置之與XY平面平行之一對板彈簧)連接於筐體82之內壁面。平行板彈簧裝置85配置於Z滑件84之+X側、-X側、+Y側、以及-Y側(+Y側及-Y側之平行板彈簧裝置85未圖 示)。Z滑件84藉由平行板彈簧裝置85所具有之板彈簧之剛性(拉伸剛性)而被限制相對筐體82之往與XY平面平行之方向之相對移動，相對於此，於Z軸方向則可藉由板彈簧之可撓性相對筐體82以微幅行程相對移動。Z滑件84之上端部(+Z側之端部)從筐體82之+Z側端部往上方突出，而從下方支承空氣夾頭裝置88。又，於Z滑件84之上端面形成有半球狀之凹部84a。
重量抵銷裝置81藉由壓縮線圈彈簧83之彈性力(重力方向往上(+Z方向)之力)，抵銷基板P、Z滑件84、空氣夾頭裝置88等之重量(重力加速度所導致之向下(-Z方向)之力)，而減低對複數個Z音圈馬達95之負荷。此外，亦可取代壓縮線圈彈簧83，而如例如美國發明專利申請公開第2010/0018950號說明書所揭示之重量抵銷裝置，使用空氣彈簧等能控制載重之構件來抵銷空氣夾頭裝置88等之重量。
空氣夾頭裝置88配置於重量抵銷裝置81上方(+Z側)。空氣夾頭裝置88具有底座構件89、固定於底座構件89上之真空預負荷空氣軸承90、分別配置於真空預負荷空氣軸承90之+X側及-X側之一對空氣懸浮裝置91。
底座構件89由與XY平面平行配置之板狀構件構成，其下面之Z位置如圖3所示配置為較Y步進定盤50上面之Z位置高些許。返回圖4，於底座構件89下面中央固定有具有半球面狀軸承面之球面空氣軸承92。球面空氣軸承92插入於形成在Z滑件84之凹部84a。藉此，空氣夾頭裝置88相對XY平面擺動自如(旋轉自如於θ x及θ y方向)地支承於Z滑件84。此外，作為將空氣夾頭裝置88支承成相對XY平面擺動自如之裝置， 可係例如美國發明專利申請公開第2010/0018950號說明書所揭示之使用複數個空氣軸承之擬似球面軸承裝置，亦可使用彈性鉸鏈裝置。
真空預負荷空氣軸承90，如圖2所示由俯視下為以Y軸方向為長度方向之長方形板狀構件構成，其面積設定為較曝光區域IA之面積廣些許。真空預負荷空氣軸承90於其上面具有氣體噴出孔及氣體吸引孔，從氣體噴出孔將加壓氣體(例如空氣)往基板P之下面噴出，且從氣體吸引孔吸引與基板P之間之氣體。真空預負荷空氣軸承90藉由往基板P下面噴出之氣體之壓力和與基板P之間之負壓之平衡，於其上面與基板P下面之間形成高剛性之氣體膜，而將基板P隔著大致一定之空隙(間隙/隙縫)以非接觸方式吸附保持。以真空預負荷空氣軸承90之上面(基板保持面)與基板P下面之間之距離成為例如數微米~數十微米程度之方式，設定所噴出之氣體之流量或壓力、及吸引之氣體之流量或壓力。
此處，如圖2所示，真空預負荷空氣軸承90配置於緊鄰投影光學系統PL之下方(-Z側)，吸附保持位於緊鄰投影光學系統PL下方之基板P之與曝光區域IA對應之部位(被曝光部位)。由於真空預負荷空氣軸承90對基板P施加所謂預負荷，因此能提高於與基板P之間形成之氣體膜之剛性，假使基板P產生扭曲或翹曲，亦能將基板P中位於緊鄰投影光學系統PL下方之被曝光位置之形狀確實地沿真空預負荷空氣軸承90上面矯正。又，真空預負荷空氣軸承90由於不拘束基板P在XY平面內之位置，因此即使係基板P被真空預負荷空氣軸承90吸附保持被曝光部位之狀態，亦能相對照明光IL(參照圖3)沿XY平面移動。此種非接觸式空氣夾頭裝置(真空預負荷空氣軸承)，例如揭示於美國發明專利第7,607,647號說明書 等。此外，從真空預負荷空氣軸承90噴出之加壓氣體亦可由外部供應，亦可由真空預負荷空氣軸承90內藏有送風裝置等。又，吸引真空預負荷空氣軸承90上面與基板P下面之間之氣體之吸引裝置(真空裝置)亦同樣地，亦可設於真空預負荷空氣軸承90外部，亦可由真空預負荷空氣軸承90內藏。又，氣體噴出孔及氣體吸引孔，亦可係機械式加工而形成者，亦可使用多孔質材料。又，作為真空預負荷之方法，亦可不進行氣體吸引，而僅使用正壓氣體(例如貝努里夾頭裝置)使負壓產生。
一對空氣懸浮裝置91均與上述空氣懸浮裝置70同樣地，藉由從其上面對基板P(參照圖2)之下面噴出加壓氣體(例如空氣)來使基板P懸浮。一對空氣懸浮裝置91上面之Z位置被設定為與真空預負荷空氣軸承90上面之Z位置大致相同。又，如圖3所示，真空預負荷空氣軸承90及一對空氣懸浮裝置91上面之Z位置，設定為較複數個空氣懸浮裝置70上面之Z位置高些許之位置。因此，上述複數個空氣懸浮裝置70，係使用能使基板P較一對空氣懸浮裝置91更高地懸浮之高懸浮類型之裝置。此外，一對空氣懸浮裝置91亦可不僅對基板P噴出加壓氣體，而與真空預負荷空氣軸承90同樣地吸引其上面與基板P間之空氣。此情形下，最好係將吸引壓設定為較真空預負荷空氣軸承90之預負荷弱之負荷。
複數個Z音圈馬達95之各個，如圖4所示包含固定於地11上所設置之底座框架98之Z固定子95a與固定於底座構件89之Z可動子95b。Z音圈馬達95例如配置於重量抵銷裝置81之+X側、-X側、+Y側、以及-Y側(+Y側及-Y側之Z音圈馬達95係未圖示)，能將空氣夾頭裝置88以微幅行程驅動於θ x、θ y、以及Z軸之三自由度方向。此外，複數個Z 音圈馬達95只要配置於至少不位於同一直線上之三處即可。
底座框架98包含分別插通形成於本體部33a之複數個貫通孔33d之複數支(例如與Z音圈馬達95對應而有四支)腳部98a、以及被該複數支腳部98a從下方支承之本體部98b。本體部98b，由俯視為圓環狀之板狀構件構成，於形成於其中央部之開口部98c內插入有上述重量抵銷裝置81。複數支腳部98a均與本體部33a為非接觸狀態，而於振動上分離。因此，使用複數個Z音圈馬達95驅動空氣夾頭裝置88時之反作用力不會傳遞至重量抵銷裝置81。
被複數個Z音圈馬達95驅動之空氣夾頭裝置88在三自由度方向之位置資訊，係使用固定於本體部33a之複數個、本實施形態中為例如四個Z感測器96求出。Z感測器96分別於重量抵銷裝置81之+X側、-X側、+Y側、-Y側各設有一個(+Y側及-Y側之Z感測器未圖示)。Z感測器96係使用固定於空氣夾頭裝置88之底座構件89下面之標的部97求出底座框架98之本體部98b(本體部33a)與底座構件89之Z軸方向之距離之變化。未圖示之主控制裝置，係根據四個Z感測器96之輸出隨時求出空氣夾頭裝置88在Z軸、θ x及θ y方向之位置資訊，根據其測量值藉由適當控制四個Z音圈馬達95來控制空氣夾頭裝置88之位置。由於複數個Z感測器96及標的部97配置於複數個Z音圈馬達95附近，因此能進行高速且高回應之控制。此外，Z感測器96與標的部97之配置亦可相反。
此處，空氣夾頭裝置88之最終位置，被控制為通過真空預負荷空氣軸承90上方之基板P之上面隨時位於投影光學系統PL之焦深內。未圖示之主控制裝置係一邊藉由未圖示之面位置測量系統(自動聚焦感測器) 監測基板P上面之位置(面位置)，一邊將空氣夾頭裝置88驅動控制(自動聚焦控制)成該基板P上面隨時位於投影光學系統PL之焦深內(投影光學系統PL隨時對焦於基板P上面)。此外，由於Z感測器96只要能求出空氣夾頭裝置88在Z軸、θ x及θ y方向之位置資訊即可，因此只要設於例如不位於同一直線上之三處，三個亦可。
以上述方式構成之液晶曝光裝置10(參照圖1)，係在未圖示之主控制裝置之管理下，藉由未圖示之光罩裝載器將光罩M裝載於光罩載台MST，以及藉由未圖示之基板裝載器將基板P裝載於基板支承構件60上。其後，藉由主控制裝置使用未圖示之對準檢測系統執行對準測量，在對準測量結束後，即進行步進掃描方式之曝光動作。
此處，根據圖5(A)~圖8(B)說明上述曝光動作時之基板載台裝置PST之動作一例。此外，以下雖說明於一片基板上設定有四個照射區域之情形(所謂取四面之情形)，但設定於一片基板P上之照射區域之數目及配置可適當變更。
曝光處理，例如圖5(A)所示，係依照設定於基板P之-Y側且-X側之第1照射區域S1、設定於基板P之+Y側且-X側之第2照射區域S2、設定於基板P之+Y側且+X側之第3照射區域S3、設定於基板P之-Y側且+X側之第4照射區域S4之順序進行。基板載台裝置PST中，如圖5(A)所示，根據一對X干涉儀66x及+Y側Y干涉儀66y之輸出將基板支承構件60在XY平面內之位置控制成第1照射區域S1位於曝光區域IA之+X側。
此後，如圖9(B)所示，相對照明光IL(參照圖1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於-X方向以既定之一定速度驅動(參 照圖5(B)之箭頭)，藉此，於基板P上之第1照射區域S1轉印光罩圖案。在對第1照射區域S1之曝光處理結束後，基板載台裝置PST，如圖6(A)所示，根據一對Y干涉儀66y之輸出將基板支承構件60之位置控制成第2照射區域S2之+X側端部位於較曝光區域IA(圖6(A)中未圖示。參照圖2)略靠-X側處。
其次，如圖6(B)所示，相對照明光IL(參照圖1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於+X方向以既定之一定速度驅動(參照圖6(B)之箭頭)，藉此，於基板P上之第2照射區域S2轉印光罩圖案。此後，如圖7(A)所示，根據一對X干涉儀66x之輸出將基板支承構件60在XY平面內之位置控制成第3照射區域S3之-X側端部位於較曝光區域IA(圖7(A)中未圖示。參照圖2)略靠+X側處(參照圖7(A)之箭頭)，並如圖7(B)所示，藉由相對照明光IL(參照圖1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於-X方向以既定之一定速度驅動(參照圖7(B)之箭頭)，於基板P上之第3照射區域S3轉印光罩圖案。
其次，如圖8(A)所示，根據-X側之Y干涉儀66y之輸出將基板支承構件60在XY平面內之位置控制成第4照射區域S4之+X側端部位於較曝光區域IA(圖8(A)中未圖示。參照圖2)略靠-X側處(參照圖8(A)之箭頭)，並如圖8(B)所示，藉由相對照明光IL(參照圖1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於+X方向以既定之一定速度驅動(參照圖8(B)之箭頭)，於基板P上之第4照射區域S4轉印光罩圖案。
主控制裝置在進行圖5(A)~圖8(B)之步進掃描方式之曝光動作中，係測量基板P表面之被曝光部位之面位置資訊。接著，主控制裝 置根據其測量值控制空氣夾頭裝置88所具有之真空預負荷空氣軸承90之Z軸、θ x及θ y方向各自之位置(面位置)，以定位成基板P表面中位於緊鄰投影光學系統PL下方之被曝光部位之面位置位於投影光學系統PL之焦深內。藉此，即使例如假設於基板P表面產生起伏或基板P產生厚度之誤差，亦可確實地使基板P之被曝光部位之面位置位於投影光學系統PL之焦深內，而能使曝光精度提升。又，基板P中與曝光區域IA對應之部分以外之區域之大部分係被複數空氣懸浮裝置70懸浮支承。是以，抑制因基板P之自重導致之彎曲。
如上述，第1實施形態之液晶曝光裝置10所具有之基板載台裝置PST，由於係集中控制基板表面中與曝光區域對應之位置之面位置，因此例如與如美國發明專利申請公開第2010/0018950號說明書所揭示之載台裝置，將具有與基板P相同程度之面積之基板保持具(亦即基板P整體)往Z軸方向及傾斜方向分別驅動之情形相較，可大幅減低其重量。
又，基板支承構件60由於係僅保持基板P端部之構成，因此假使基板P大型化，用以驅動基板支承構件60之X線性馬達只要係輸出小者即可，而能減低運轉成本。又，電源設備等基礎設備之整備亦容易。又，由於X線性馬達之輸出小即可，因此亦能減低期初成本。又，由於X線性馬達之輸出(推力)較小，因此驅動反作用力給予裝置整體之影響(因振動而對曝光精度之影響)亦較少。又，與習知之上述基板載台裝置相較，組裝、調整、維護等均容易。又，由於構件之數目較少且各構件為輕量，因此輸送亦容易。此外，包含複數個空氣懸浮裝置70在內，Y步進定盤50雖較基板支承構件60大型，但基板P之Z軸方向之定位係由定點載台80 進行，空氣懸浮裝置70本身僅使基板P懸浮，因此不要求剛性，而能使用較輕量者。
又，由於藉複數個空氣懸浮裝置70之基板P之懸浮量設定為例如設定為數十微米~數千微米程度(亦即懸浮量較定點載台80大)，因此假使基板P產生撓曲或空氣懸浮裝置70之設置位置偏移，亦防止基板P與空氣懸浮裝置70之接觸。又，由於從複數個空氣懸浮裝置70噴出之加壓氣體之剛性較低，因此使用定點載台80進行基板P之面位置控制時之Z音圈馬達95之負荷較小。
又，由於支承基板P之基板支承構件60為簡單之構成，因此能使重量較輕。因此，驅動基板支承構件60時之反作用力雖會透過Y步進定盤50傳至裝置本體30，但由於其驅動反作用力本身較小，因此即使產生因驅動反作用力導致之裝置振動(裝置本體30之搖動或振動激發之共振現象等)，對曝光精度造成影響之可能性亦小。
又，由於Y步進定盤50重量較基板支承構件60重，因此其驅動反作用力亦較驅動基板支承構件60時大，但由於驅動Y步進定盤50係在使基板PY以長行程移動於Y軸方向時(亦即非曝光時)，因此因該驅動反作用力導致之上述裝置振動對曝光精度造成影響之可能性亦小。
《第2實施形態》
其次根據圖9及圖10說明第2實施形態之基板載台裝置。第2實施形態之基板載台裝置PSTa之差異點在於，能將支承基板P之基板支承構件160相對Y步進定盤50微幅驅動於X軸、Y軸、以及θ z方向。此外，針對本第2實施形態之基板載台裝置PSTa中具有與上述第1實施形態之基板載台 裝置PST(參照圖2)相同構成及功能之構件，使用與上述第1實施形態相同之符號，省略其說明。
基板載台裝置PSTa具有一對X托架20。一對X托架20分別配置於在Y步進定盤150上方且為基板支承構件160之+X側、-Y側。各X托架20由與XY平面平行配置之以X軸方向為長度方向之俯視為長方形之板狀構件構成，如圖10所示，於其下面之四角部附近固定有YZ剖面逆U字形之X滑件24(四個滑件24中之兩個隱藏於其他兩個之紙面深側)。
相對於此，於Y步進定盤150上面之+Y側及-Y側端部附近，分別固定有在Y軸方向分離配置之一對X線性導件54。+X側之X托架20於+Y側之一對X線性導件54上透過X滑件24滑動自如地搭載，-Y側之X托架20於-Y側之一對X線性導件54上透過X滑件24滑動自如地搭載。X托架20藉由X線性馬達(包含固定於X托架20之未圖示之X可動子及對應X可動子固定於Y步進定盤150之X固定子)在Y步進定盤150上於X軸方向以既定行程被驅動。X托架20之位置資訊藉由Y線性編碼器系統(包含固定於X托架20之未圖示之線性編碼器讀頭(檢測器)與固定於Y步進定盤150之未圖示之Y線性標尺)求出。一對X托架20係根據上述Y線性編碼器系統之測量值被同步驅動。
又，在Y步進定盤150上面之+Y側端部附近及-Y側端部附近且為一對X線性導件54之內側，分別固定有X導件55。X導件55由延伸於X軸方向之YZ剖面矩形之構件構成(參照圖10)，其上面之平面度被設定為非常高。兩支X導件55之間隔與基板支承構件160所具有之一對X支承構件61之間隔大致一致。
於基板支承構件160之一對X支承構件61各自之下面，如圖10所示安裝有其軸承面對向於X導件55上面之空氣軸承65。基板支承構件160藉由空氣軸承65之作用被懸浮支承於一對X導件55上。此外，在上述第1實施形態中，雖於X支承構件61之下面固定有X滑件64(參照圖1)，但本第2實施形態之基板支承構件160不具有X滑件64。
回到圖9，基板支承構件160藉由兩個X音圈馬達29x及兩個Y音圈馬達29y相對一對X托架20被微幅驅動於X軸、Y軸、以及θ z方向。兩個X音圈馬達29x之一方及兩個Y音圈馬達29y之一方配置於基板支承構件160之-Y側，兩個X音圈馬達29x之另一方及兩個Y音圈馬達29y之另一方配置於基板支承構件160之+Y側。一方及另一方之X音圈馬達29x配置於彼此相對併合有基板支承構件160與基板P之系統之重心位置CG成為點對稱之位置，一方及另一方之Y音圈馬達29y配置於彼此相對上述重心位置CG成為點對稱之位置。
如圖10所示，一方(-Y側)之Y音圈馬達29y包含透過支承構件28固定於-Y側之X托架20上面之固定子27y(例如具有包含線圈之線圈單元)與固定於-Y側之X支承構件61側面之可動子67y(例如具有包含磁石之磁石單元)。此外，圖10中雖隱藏於X音圈馬達29x之紙面深側，但另一方(+Y側)之Y音圈馬達29y(參照圖9)之構成與一方之Y音圈馬達29y相同。又，另一方(+Y側)之X音圈馬達29x包含透過支承構件28固定於+Y側之X托架20上面之固定子27x與固定於+Y側之X支承構件61側面之可動子67x。此外，圖10中雖隱藏於Y音圈馬達29y之紙面深側，但一方(-Y側)之X音圈馬達29x之構成與另一方之X音圈馬達29x相同。
回到圖9，基板支承構件160，在一對X托架20分別在Y步進定盤150上被以既定行程驅動於X軸方向時，係藉由兩個X音圈馬達29x相對一對X托架20被同步驅動(以與一對X托架20相同方向、相同速度驅動)。藉此，一對X托架20與基板支承構件160一體移動於X軸方向。又，基板支承構件160在Y步進定盤150及一對X托架20被以既定行程驅動於Y軸方向時，係藉由兩個Y音圈馬達29y相對一對X托架20被同步驅動(以與一對X托架20相同方向、相同速度驅動)。藉此，Y步進定盤150與基板支承構件160一體移動於Y軸方向。又，基板支承構件160係藉由兩個X音圈馬達29x(或兩個Y音圈馬達29y)之推力差，繞與通過重心位置CG之Z軸平行之軸線之方向(θ z方向)被適當微幅驅動。基板支承構件160、亦即基板P在XY平面內(包含θ z方向)之位置資訊，藉由一對X干涉儀66x求出。此外，本第2實施形態中之基板載台裝置PSTa之步進掃描時之動作等由於與上述第1實施形態相同，因此省略其說明。
根據本第2實施形態之基板載台裝置PSTa，除了上述第1實施形態可得到之效果以外，保持基板P之基板支承構件160對Y步進定盤150為非接觸，且在與XY平面平行之方向為於振動上分離，因此可抑制驅動基板支承構件160時之X線性馬達(或Y線性馬達)之反作用力及振動之傳達。又，在將基板P驅動於掃描方向時，由於能微幅驅動於交叉掃描方向及θ z方向，因此能進行更高精度之曝光。又，基板支承構件160由於係僅保持基板P端部之構成，因此假使基板P大型化，用以驅動基板支承構件160之音圈馬達只要係輸出小者即可，而能減低運轉成本。
《第3實施形態》
其次根據圖11~圖13(A)說明第3實施形態。第3實施形態相較於上述第1實施形態(參照圖1等)，在裝置本體30及基板載台裝置PST之構成上具有差異。此外，針對本第3實施形態之裝置本體130及基板載台裝置PSTb中具有與上述第1實施形態相同構成及功能之構件，使用與上述第1實施形態相同之符號，省略其說明。
如圖12(B)所示，第3實施形態之基板載台裝置PSTb，係Y步進定盤50搭載於設置於地11上之架台40上。架台40，如圖11所示，係實質上為相同者於X軸方向分離設有一對，Y步進定盤50架設搭載於該兩個架台40上。於一對架台40各自之上面，由圖11及圖12(A)可知，固定有用以將Y步進定盤50直進導引於Y軸方向之複數個Y線性導引構件38、以及構成用以將Y步進定盤50驅動於Y軸方向之Y線性導件之Y固定件37。
又，裝置本體130，如圖11所示，基板載台架台133之本體部133a及連接部133c在X軸方向之尺寸設定為較上述第1實施形態之本體部33a及連接部33c(分別參照圖1)短。本體部133a架設於一對支承部33b之長度方向之中央部間。於本體部133a上，如圖12(A)所示，搭載有定點載台80之重量抵銷裝置81。又，於本體部133a形成有被底座框架98之腳部98a插通之貫通孔。
此處，上述一對架台40如圖11所示，一方配置於本體部133a之+X側，另一方配置於本體部133a之-X側，而與本體部133a分離，且與基板載台架台133(亦即裝置本體130(參照圖12(C)))於振動上分離。因此，能抑制將Y步進定盤50驅動於Y軸方向時之反作用力及振動等傳達至 裝置本體130。
又，第3實施形態之基板載台裝置PSTb，由於定點載台80搭載於裝置本體130之一部分即本體部133a，Y步進定盤50搭載於一對架台40上，因此基板支承構件60b之Z位置(基板支承構件60b平行地沿XY平面移動時之移動平面之Z位置)與定點載台80之Z位置有可能會因例如防振裝置34之作用而變化。因此，本第3實施形態中，基板支承構件60b，如圖13(A)所示，使用可相對X支承構件61b微幅移動於Z軸方向之保持構件161b吸附保持基板P(以在Z軸方向不拘束基板P之方式)(保持構件161b在圖11~圖12(B)中未圖示)。保持構件161b由延伸於X軸方向之棒狀構件構成，於其上面具有未圖示之吸附墊(真空吸引用之配管等係未圖示)。在保持構件161b下面之長度方向兩端部附近，分別安裝有往下方(-Z側)突出之銷162b。銷162b插入於形成在X支承構件61b上面之凹部內，被收容於該凹部內之壓縮線圈彈簧從下方支承。藉此，保持構件161b(亦即基板P)能相對X支承構件61b移動於Z軸方向(上下方向)。因此，如上所述，假使基板支承構件60b之Z位置與定點載台80之Z位置偏移，基板P亦會依據空氣懸浮裝置70之Z位置而相對X支承構件61b移動(上下動)於Z軸方向，因此可抑制對基板P之Z軸方向之負荷。此外，亦可如圖13(B)之基板支承構件60c所示，使用複數個平行板彈簧裝置162c使具有未圖示吸附墊之保持構件161c相對X支承構件61b微幅移動於Z軸方向。又，本第3實施形態中，可將基板支承構件60b(或60c)與上述第2實施形態同樣地構成為能相對Y步進定盤50微幅驅動於Y軸方向及θ z方向。
此外，上述第1~第3實施形態之液晶曝光裝置之構成亦可 適當變更。例如，上述第1及第2實施形態之基板支承構件60、160，雖係從下方吸附保持基板P之構成，但並不限於此，亦可藉由例如將基板P之端部往Y軸方向(從一方之X支承構件61側往另一方之X支承構件61側)按壓之按壓裝置保持基板。此情形下，能對基板P之大致全面進行曝光處理。
又，直進導引Y步進定盤50、150或基板支承構件60、160、60b、60c之一軸導引裝置，亦可係包含由例如石材、陶瓷等形成之導引構件與複數個氣體靜壓軸承(空氣軸承)之非接觸一軸導引裝置。
又，作為驅動Y步進定盤50、150或基板支承構件60、160、60b、60c之驅動裝置，亦可係組合有滾珠螺桿與旋轉馬達之進給裝置、組合有皮帶(或繩)與旋轉馬達之皮帶驅動裝置等。
又，基板支承構件60、160、60b、60c之位置資訊亦可使用線性編碼器系統求出。又，亦可使用線性編碼器系統獨立求出基板支承構件60、160、60b、60c所具有之一對X支承構件61(上述第3實施形態中為61b)各自之位置資訊，此情形下，亦可不將一對X支承構件61彼此機械式地連結(不需要連結構件62)。
又，定點載台80(參照圖4)中，驅動空氣夾頭裝置88之Z音圈馬達95之固定子95a，在其驅動反作用力小至可忽視對裝置本體30造成之影響之程度時，亦可固定於基板載台架台33(上述第3實施形態則為本體部133a)。
又，定點載台80中，亦可將空氣夾頭裝置88構成為可移動於X軸方向，在開始掃描曝光動作前，預先使真空預負荷空氣軸承90位於 基板P之移動方向上游側(例如在圖5(A)所示之第1照射區域S1之曝光前為曝光區域IA之+X側)，並在該位置預先進行基板P上面之面位置調整，伴隨著基板P往掃描方向移動，使空氣夾頭裝置88與基板P(基板支承構件60)同步移動(曝光中，使之在緊鄰曝光區域IA之下方停止)。
又，上述第1實施形態中，在掃描曝光時雖不進行基板P往Y軸方向及θ z方向之微幅定位，但此情形下，亦可將光罩載台MST構成為能微幅驅動於Y軸方向及θ z方向，藉由使光罩M追隨基板P來進行位置對齊。
又，亦可設置質量塊，在使用線性馬達驅動Y步進定盤50、基板支承構件60等可動構件時減低其驅動反作用力。
又，照明光，不限於ArF準分子雷射光(波長193nm)，亦能使用KrF準分子雷射光(波長248nm)等紫外光、F2雷射光(波長157nm)等真空紫外光。另外，作為照明光，可使用例如諧波，其係以摻有鉺(或鉺及鐿兩者)之光纖放大器，將從DFB半導體雷射或纖維雷射振盪出之紅外線區或可見區的單一波長雷射光放大，並以非線形光學結晶將其轉換波長成紫外光。又，亦可使用固態雷射(波長：355nm、266nm)等。
又，上述各實施形態中，雖已說明投影光學系統PL係具備複數支投影光學系統之多透鏡方式之投影光學系統，但投影光學系統之支數不限於此，只要有一支已上即可。又，不限於多透鏡方式之投影光學系統，亦可係使用了Offner型之大型反射鏡的投影光學系統等。
又，上述實施形態中，雖係說明使用投影倍率為等倍系統者來作為投影光學系統PL，但並不限於此，投影光學系統亦可係放大系統及 縮小系統之任一者。
又，上述實施形態中，雖使用於具光透射性之基板上形成既定遮光圖案(或相位圖案，減光圖案)的光透射性光罩(標線片)，但亦可使用例如美國發明專利第6,778,257號說明書所揭示之電子光罩來代替此標線片，該電子光罩(可變成形光罩)係根據欲曝光圖案之電子資料來形成透射圖案、反射圖案、或發光圖案，其係使用例如非發光型影像顯示元件(亦稱為空間光調變器)之一種之DMD(Digital Micro-mirror Device)之可變成形光罩。
此外，曝光裝置，在適用為將尺寸(包含外徑、對角線、一邊之至少一個)為500mm以上之基板、例如液晶顯示元件等平板顯示器(FPD)用之大型基板曝光之曝光裝置時，特別有效。
又，曝光裝置亦可適用於步進重複方式之曝光處理、步進接合方式之曝光裝置。
又，曝光裝置用途並不限定於將液晶顯示元件圖案轉印至角型玻璃板之液晶用曝光裝置，亦可廣泛適用於用來製造例如半導體製造用之曝光裝置、薄膜磁頭、微型機器及DNA晶片等的曝光裝置。又，除了製造半導體元件等微型元件以外，為了製造用於光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及電子射線曝光裝置等的光罩或標線片，亦能將上述各實施形態適用於用以將電路圖案轉印至玻璃基板或矽晶圓等之曝光裝置。此外，作為曝光對象之物體並不限玻璃板，亦可係例如晶圓、陶瓷基板、膜構件、或者空白光罩等其他物體。又，曝光對象物為平板顯示器用之基板時，該基板之厚度不特別限定，亦包含例如膜狀(具有可撓性之片狀構件)者。
又，作為使物體沿既定二維平面移動之移動體裝置(載台裝置)，並不限於曝光裝置，亦可使用例如用於物體之檢查之物體檢查裝置等進行物體相關之既定處理之物體處理裝置等。
此外，援用與至此為止之說明中所引用之曝光裝置等相關之所有美國發明專利申請公開說明書及美國發明專利說明書之揭示作為本說明書記載之一部分。
《元件製造方法》
其次，說明在微影步驟使用上述各實施形態之曝光裝置之微型元件之製造方法。上述各實施形態之曝光裝置10，可藉由在板體(玻璃基板)上形成既定圖案(電路圖案、電極圖案等)而製得作為微型元件之液晶顯示元件。
<圖案形成步驟>
首先，係執行使用上述各實施形態之曝光裝置將圖案像形成於感光性基板(塗布有光阻之玻璃基板等)之所謂光微影步驟。藉由此光微影步驟，於感光性基板上形成包含多數個電極等之既定圖案。其後，經曝光之基板，藉由經過顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟而於基板上形成既定圖案。
<彩色濾光片形成步驟>
其次，形成與R(Red)、G(Green)、B(Blue)對應之三個點之組多數個排列成矩陣狀、或將R、G、B之三條條紋之濾光器組複數個排列於水平掃描線方向之彩色濾光片。
<單元組裝步驟>
接著，使用在圖案形成步驟製得之具有既定圖案的基板、以及在彩色 濾光片形成步驟製得之彩色濾光片等組裝液晶面板(液晶單元)。例如於在圖案形成步驟製得之具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟製得之彩色濾光片之間注入液晶，而製造液晶面板(液晶單元)。
<模組組裝步驟>
其後，安裝用以進行已組裝完成之液晶面板(液晶單元)之顯示動作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯示元件。
此時，在圖案形成步驟中，由於係使用上述各實施形態之曝光裝置而能以高產能且高精度進行板體的曝光，其結果能提升液晶顯示元件的生產性。
如以上所說明，本發明之物體移動裝置適於沿既定二維平面驅動物體。又，本發明之物體處理裝置適於對物體進行既定處理。又，本發明之曝光裝置適於於物體形成既定圖案。又，本發明之平板顯示器之製造方法適於製造平板顯示器。又，本發明之元件製造方法適於生產微型元件。
33‧‧‧基板載台架台
33a‧‧‧本體部
37‧‧‧Y固定子
38‧‧‧Y線性導引構件
50‧‧‧Y步進定盤
50a‧‧‧開口部
54‧‧‧X線性導件
60‧‧‧基板支承構件
61‧‧‧X支承構件
62‧‧‧連結構件
66x‧‧‧X干涉儀
66y‧‧‧Y干涉儀
68x‧‧‧X移動鏡
68y‧‧‧Y移動鏡
70‧‧‧空氣懸浮裝置
88‧‧‧空氣夾頭裝置
90‧‧‧真空預負荷空氣軸承
91‧‧‧空氣懸浮裝置
P‧‧‧基板
PST‧‧‧基板載台裝置

Claims (43)

  1. 一種移動體裝置，其具備：第1支承部，其懸浮支承物體；保持部，其保持藉由前述第1支承部懸浮支承之前述物體；第1驅動部，其將前述保持部相對前述第1支承部相對驅動於第1方向；以及第2驅動部，其在支承有前述保持部之狀態下將前述第1支承部驅動於與前述第1方向交叉之第2方向。
  2. 如申請專利範圍第1項之移動體裝置，其更具備：第2支承部，其在前述第1方向與前述第1支承部並列配置，用於支承前述物體；前述第1驅動部以使被支承於前述第1及第2支承部之一方之支承部之前述物體被支承於另一方之支承部之方式，往前述第1驅動部驅動前述保持部。
  3. 如申請專利範圍第2項之移動體裝置，其中，前述第1及第2支承部在前述第1方向自下方支承前述物體之不同部分。
  4. 如申請專利範圍第2或3項之移動體裝置，其中，前述第2支承部在前述第1方向分別配置於前述第1支承部之兩側。
  5. 如申請專利範圍第2至4項中任一項之移動體裝置，其中，前述第1支承部使氣體介於支承前述物體之第1支承面與前述物體之間而懸浮支承前述物體；前述第2支承部使氣體介於支承前述物體之第2支承面與前述物體之 間而懸浮支承前述物體。
  6. 如申請專利範圍第5項之移動體裝置，其中，前述第2支承面與前述物體之間之距離，較前述第1支承面與前述物體之間之距離短。
  7. 如申請專利範圍第5或6項之移動體裝置，其中，前述第2支承面在前述第1方向之長度，較前述第1支承面在前述第1方向之長度短。
  8. 如申請專利範圍第2至7項中任一項之移動體裝置，其中，前述第2支承部調整被支承於前述第2支承部之前述物體在與前述第1方向和前述第2方向交叉之第3方向的位置。
  9. 如申請專利範圍第5至8項中任一項之移動體裝置，其中，前述第2支承部具有：供應口，用於供應氣體至前述物體與前述第2支承面之間；以及吸引口，用於吸引介於前述物體與前述第2支承面之間之氣體。
  10. 如申請專利範圍第9項之移動體裝置，其中，前述第2支承部使前述第2支承面與前述物體之間之氣體的氣壓或流量之至少一方變化，以控制前述第2支承面與前述物體之距離。
  11. 如申請專利範圍第10項之移動體裝置，其中，前述第2支承部以使前述第2支承面與前述物體之距離處於既定範圍內之方式懸浮支承前述物體。
  12. 如申請專利範圍第2至11項中任一項之移動體裝置，其更具備：重量抵銷裝置，用於抵銷前述第2支承部之重量。
  13. 如申請專利範圍第2至12項中任一項之移動體裝置，其更具備：第1底座構件，其配置有前述第1支承部；以及第2底座構件，其與前述第1底座構件不同，且配置有前述第2支承 部。
  14. 如申請專利範圍第13項之移動體裝置，其中，前述第1支承部在前述第1底座構件上往前述第2方向移動。
  15. 如申請專利範圍第1至14項中任一項之移動體裝置，其中，前述移動體藉由線性馬達在前述第1支承部上被驅動於前述第1方向，前述線性馬達包含設於前述第1支承部之固定子與設於前述移動體之可動子。
  16. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之移動體裝置，其更具備：干涉儀系統，其對前述移動體所具有之反射面照射測距光束並接收其反射光，根據其反射光求出前述移動體之位置資訊；前述移動體之前述第1方向及前述第2方向之至少一方之位置係根據前述干涉儀系統之輸出而被控制。
  17. 一種物體處理裝置，其具備：申請專利範圍第1至16項中任一項之移動體裝置；以及處理裝置，其對前述第2支承部所支承之前述物體之上面進行既定處理。
  18. 如申請專利範圍第17項之物體處理裝置，其中，前述處理裝置係使用能量束將既定圖案形成於前述物體之裝置。
  19. 一種曝光裝置，其具備：申請專利範圍第1至18項中任一項之移動體裝置；以及藉由能量束使前述物體曝光據以將既定圖案形成於該物體上之圖案形成裝置。
  20. 如申請專利範圍第19項之曝光裝置，其中，前述物體係尺寸為500mm 以上之基板。
  21. 如申請專利範圍第19或20項之曝光裝置，其中，前述物體係用於平板顯示器裝置之基板。
  22. 一種平板顯示器之製造方法，其包含：使用申請專利範圍第21項之曝光裝置使前述基板曝光之動作；以及使曝光後之前述基板顯影之動作。
  23. 一種元件製造方法，其包含：使用申請專利範圍第19至21項中任一項之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
  24. 一種曝光裝置，其藉由能量束使物體曝光據以將既定圖案形成於前述物體上，其具備：第1支承部，其懸浮支承前述物體；保持部，其保持藉由前述第1支承部懸浮支承之前述物體；第1驅動部，其將前述保持部相對前述第1支承部相對驅動於第1方向；第2驅動部，其將前述保持部與前述第1支承部驅動於與前述第1方向交叉之第2方向；以及曝光系統，其藉由前述能量束使前述物體曝光。
  25. 如申請專利範圍第24項之曝光裝置，其更具備：第2支承部，其在前述第1方向與前述第1支承部並列配置，用於支承前述物體； 前述第1驅動部以使被支承於前述第1及第2支承部之一方之支承部之前述物體被支承於另一方之支承部之方式，往前述第1驅動部驅動前述保持部。
  26. 如申請專利範圍第25項之曝光裝置，其中，前述第1及第2支承部在前述第1方向自下方支承前述物體之不同部分。
  27. 如申請專利範圍第25或26項之曝光裝置，其中，前述第2支承部在前述第1方向分別配置於前述第1支承部之兩側。
  28. 如申請專利範圍第25至27項中任一項之曝光裝置，其中，前述第1支承部使氣體介於支承前述物體之第1支承面與前述物體之間而懸浮支承前述物體；前述第2支承部使氣體介於支承前述物體之第2支承面與前述物體之間而懸浮支承前述物體。
  29. 如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其中，前述第2支承面與前述物體之間之距離，較前述第1支承面與前述物體之間之距離短。
  30. 如申請專利範圍第28或29項之曝光裝置，其中，前述第2支承面在前述第1方向之長度，較前述第1支承面在前述第1方向之長度短。
  31. 如申請專利範圍第25至30項中任一項之曝光裝置，其中，前述第2支承部調整被支承於前述第2支承部之前述物體在與前述第1方向和前述第2方向交叉之第3方向的位置。
  32. 如申請專利範圍第28至31項中任一項之曝光裝置，其中，前述第2支承部具有：供應口，用於供應氣體至前述物體與前述第2支承面之間；以及吸引口，用於吸引介於前述物體與前述第2支承面之間之氣體。
  33. 如申請專利範圍第32項之曝光裝置，其中，前述第2支承部使前述第2支承面與前述物體之間之氣體的氣壓或流量之至少一方變化，以控制前述第2支承面與前述物體之距離。
  34. 如申請專利範圍第33項之曝光裝置，其中，前述第2支承部以使前述第2支承面與前述物體之距離處於既定範圍內之方式懸浮支承前述物體。
  35. 如申請專利範圍第25至34項中任一項之曝光裝置，其更具備：重量抵銷裝置，用於抵銷前述第2支承部之重量。
  36. 如申請專利範圍第25至35項中任一項之曝光裝置，其更具備：第1底座構件，其配置有前述第1支承部；以及第2底座構件，其與前述第1底座構件不同，且配置有前述第2支承部。
  37. 如申請專利範圍第36項之曝光裝置，其中，前述第1支承部在前述第1底座構件上往前述第2方向移動。
  38. 如申請專利範圍第24至37項中任一項之曝光裝置，其中，前述移動體藉由線性馬達在前述第1支承部上被驅動於前述第1方向，前述線性馬達包含設於前述第1支承部之固定子與設於前述移動體之可動子。
  39. 如申請專利範圍第24至38項中任一項之曝光裝置，其更具備：干涉儀系統，其對前述移動體所具有之反射面照射測距光束並接收其反射光，根據其反射光求出前述移動體之位置資訊；前述移動體之前述第1方向及前述第2方向之至少一方之位置係根據前述干涉儀系統之輸出而被控制。
  40. 如申請專利範圍第24至39項中任一項之曝光裝置，其中，前述物 體係尺寸為500mm以上之基板。
  41. 如申請專利範圍第24至40項中任一項之曝光裝置，其中，前述物體係用於平板顯示器裝置之基板。
  42. 一種平板顯示器之製造方法，其包含：使用申請專利範圍第41項之曝光裝置使前述基板曝光之動作；以及使曝光後之前述基板顯影之動作。
  43. 一種元件製造方法，其包含：使用申請專利範圍第24至41項中任一項之曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。
TW105122550A 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 TWI635370B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US38045410P 2010-09-07 2010-09-07
US61/380,454 2010-09-07
US13/221,420 2011-08-30
US13/221,420 US8598538B2 (en) 2010-09-07 2011-08-30 Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201704896A true TW201704896A (zh) 2017-02-01
TWI635370B TWI635370B (zh) 2018-09-11

Family

ID=44678002

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW105122550A TWI635370B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
TW107127641A TWI681262B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法、曝光方法
TW100132050A TWI548023B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
TW108142991A TWI722678B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107127641A TWI681262B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法、曝光方法
TW100132050A TWI548023B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
TW108142991A TWI722678B (zh) 2010-09-07 2011-09-06 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8598538B2 (zh)
JP (4) JP5954557B2 (zh)
KR (3) KR102072076B1 (zh)
CN (2) CN105372947B (zh)
HK (2) HK1179697A1 (zh)
TW (4) TWI635370B (zh)
WO (1) WO2012033211A1 (zh)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
CN102483580B (zh) * 2009-08-20 2015-04-01 株式会社尼康 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
US8699001B2 (en) * 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
US8988655B2 (en) 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
TW201921166A (zh) * 2011-08-30 2019-06-01 日商尼康股份有限公司 基板處理裝置、元件製造方法、及平板顯示器之製造方法
DE102012103533A1 (de) * 2012-04-20 2013-10-24 Köra-Packmat Maschinenbau GmbH Vorrichtung zum Fördern eines Substrats und System zum Bedrucken eines Substrats
EP3866184A1 (en) * 2012-11-30 2021-08-18 Nikon Corporation Carrier system, exposure apparatus and carry-in method
EP3611572B1 (en) * 2013-06-28 2023-04-05 Nikon Corporation Mobile body apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5532175B1 (ja) * 2013-07-02 2014-06-25 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
JPWO2015147039A1 (ja) * 2014-03-26 2017-04-13 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
TWI739510B (zh) * 2014-03-28 2021-09-11 日商尼康股份有限公司 曝光裝置、平板顯示器之製造方法及元件製造方法
WO2016151724A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-29 富士機械製造株式会社 移動体
CN107466381B (zh) * 2015-03-30 2021-03-09 株式会社尼康 物体搬运装置及方法、曝光装置及方法、平板显示器的制造方法、元件制造方法
KR102584657B1 (ko) * 2015-03-31 2023-10-04 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 및 노광 방법
KR20180059812A (ko) * 2015-09-30 2018-06-05 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 플랫 패널 디스플레이 제조 방법
US10802407B2 (en) * 2015-09-30 2020-10-13 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, manufacturing method of flat-panel display, and device manufacturing method
CN106814551B (zh) * 2015-11-30 2019-04-12 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种基板交接装置及交接方法
NL2017944A (en) * 2016-01-07 2017-07-10 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN107450284B (zh) * 2017-09-27 2019-06-07 武汉华星光电技术有限公司 曝光设备及透明基板的曝光方法
US10254659B1 (en) 2017-09-27 2019-04-09 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate
CN110032044B (zh) * 2018-01-12 2021-03-19 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种基底交接机构、光刻机及基底交接方法
CN111480189B (zh) * 2018-01-24 2022-05-13 京瓷株式会社 显示设备
CN108362866B (zh) * 2018-02-10 2019-04-16 贵州创客欣业教育投资有限公司 一种新型生命科学用分离分析仪器装置
JP2020068243A (ja) * 2018-10-22 2020-04-30 キヤノン株式会社 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法
JP7285648B2 (ja) 2019-01-31 2023-06-02 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 搬送装置、露光装置および搬送方法
JP7227810B2 (ja) * 2019-03-25 2023-02-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置および物品製造方法
KR102300359B1 (ko) 2019-08-07 2021-09-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 그 구동 방법
DE102019122839A1 (de) * 2019-08-26 2021-03-04 Miva Technologies Gmbh Verfahren und Belichtungseinrichtung zur Belichtung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsträgers
JP2021067925A (ja) * 2019-10-21 2021-04-30 キヤノン株式会社 支持装置、投影光学系、露光装置、支持装置の調整方法および物品製造方法
CN111633583B (zh) * 2020-05-25 2021-09-07 嘉兴跃华节能科技有限公司 一种玻璃加工用的快速装夹定位装置及方法
CN115435015B (zh) * 2022-09-21 2023-10-24 江苏京创先进电子科技有限公司 气浮转台及其工作方法

Family Cites Families (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4528451A (en) * 1982-10-19 1985-07-09 Varian Associates, Inc. Gap control system for localized vacuum processing
JP2902225B2 (ja) * 1992-09-30 1999-06-07 キヤノン株式会社 位置決め装置
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3689949B2 (ja) 1995-12-19 2005-08-31 株式会社ニコン 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法
EP0866375A3 (en) * 1997-03-17 2000-05-24 Nikon Corporation Article positioning apparatus and exposing apparatus having the same
JP4296587B2 (ja) * 1998-02-09 2009-07-15 株式会社ニコン 基板支持装置、基板搬送装置及びその方法、基板保持方法、並びに露光装置及びその製造方法
US6252234B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
TWI233535B (en) * 1999-04-19 2005-06-01 Asml Netherlands Bv Motion feed-through into a vacuum chamber and its application in lithographic projection apparatuses
EP1052550A3 (en) 1999-04-19 2003-01-02 ASML Netherlands B.V. Multi-stage drive arrangements and their application in lithographic projection apparatus
JP2001215718A (ja) 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2001297960A (ja) * 2000-04-11 2001-10-26 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2002199782A (ja) * 2000-12-27 2002-07-12 Nikon Corp リニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露光装置、これを用いて製造されたデバイス、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法。
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
US6888620B2 (en) 2001-11-29 2005-05-03 Nikon Corporation System and method for holding a device with minimal deformation
US20030098965A1 (en) 2001-11-29 2003-05-29 Mike Binnard System and method for supporting a device holder with separate components
TWI222423B (en) 2001-12-27 2004-10-21 Orbotech Ltd System and methods for conveying and transporting levitated articles
TW200305927A (en) * 2002-03-22 2003-11-01 Nippon Kogaku Kk Exposure apparatus, exposure method and manufacturing method of device
JP4873858B2 (ja) * 2002-08-19 2012-02-08 ザ トラスティーズ オブ コロンビア ユニヴァーシティ イン ザ シティ オブ ニューヨーク エッジ領域を最小にするために基板のフィルム領域のレーザ結晶化処理方法及び装置並びにそのようなフィルム領域の構造
JP2004087593A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2004238133A (ja) 2003-02-05 2004-08-26 Sharp Corp 薄板把持装置、薄板搬送装置および薄板検査装置
KR101940892B1 (ko) * 2003-06-13 2019-01-21 가부시키가이샤 니콘 노광 방법, 기판 스테이지, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
US7077019B2 (en) * 2003-08-08 2006-07-18 Photon Dynamics, Inc. High precision gas bearing split-axis stage for transport and constraint of large flat flexible media during processing
JP4710611B2 (ja) * 2004-01-15 2011-06-29 株式会社ニコン 露光装置及びデバイスの製造方法並びに露光方法
JP4497972B2 (ja) * 2004-03-23 2010-07-07 株式会社オーク製作所 描画装置の基板の搬送機構
JP2005285881A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
EP1746637B1 (en) * 2004-04-09 2012-06-20 Nikon Corporation Drive method for mobile body, stage device, and exposure device
KR101195628B1 (ko) * 2004-04-14 2012-10-30 코레플로우 사이언티픽 솔루션스 리미티드 편평한 물체의 대향면상에 광학 장치를 포커싱하는 방법
JP4655039B2 (ja) * 2004-06-07 2011-03-23 株式会社ニコン ステージ装置、露光装置及び露光方法
JP2006013090A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
WO2006009254A1 (ja) 2004-07-23 2006-01-26 Nikon Corporation 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP2006086442A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
CN100444023C (zh) * 2004-10-14 2008-12-17 中国科学院电工研究所 极紫外光刻精密磁悬浮工件台
US7440081B2 (en) * 2004-11-05 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate table
JP2006200929A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nsk Ltd 移動ステージ機構
EP1843204A1 (en) 2005-01-25 2007-10-10 Nikon Corporation Exposure device, exposure method, and micro device manufacturing method
JP2006239604A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Sprout Co Ltd 基板洗浄装置およびその洗浄方法
WO2006104127A1 (ja) 2005-03-29 2006-10-05 Nikon Corporation 露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法
JP4677267B2 (ja) * 2005-04-04 2011-04-27 キヤノン株式会社 平面ステージ装置及び露光装置
KR100949502B1 (ko) 2005-06-20 2010-03-24 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 제조 공정용 기판 반송장치
JP4553376B2 (ja) 2005-07-19 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 浮上式基板搬送処理装置及び浮上式基板搬送処理方法
JP4917780B2 (ja) * 2005-09-08 2012-04-18 住友化学株式会社 露光装置
US7543867B2 (en) 2005-09-30 2009-06-09 Photon Dynamics, Inc. Vacuum gripping system for positioning large thin substrates on a support table
JP5040657B2 (ja) * 2005-10-24 2012-10-03 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法、デバイス組立方法
SG178791A1 (en) 2006-02-21 2012-03-29 Nikon Corp Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method and device manufacturing method
EP2109133A4 (en) * 2006-12-27 2011-12-28 Nikon Corp PLATTER APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE APPARATUS
JP4652351B2 (ja) * 2007-02-02 2011-03-16 大日本印刷株式会社 基板支持装置、基板支持方法
WO2008129762A1 (ja) 2007-03-05 2008-10-30 Nikon Corporation 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法
US7607647B2 (en) 2007-03-20 2009-10-27 Kla-Tencor Technologies Corporation Stabilizing a substrate using a vacuum preload air bearing chuck
JP5056339B2 (ja) * 2007-10-18 2012-10-24 凸版印刷株式会社 基板搬送装置用基板把持機構
JP2009147240A (ja) * 2007-12-18 2009-07-02 Dainippon Printing Co Ltd 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP2009265313A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Nsk Ltd スキャン露光装置並びにスキャン露光方法
JP5125739B2 (ja) 2008-05-08 2013-01-23 凸版印刷株式会社 Ｘｙステップ露光装置
JP5254073B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-07 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
JP5164069B2 (ja) 2008-08-28 2013-03-13 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光方法
TW201100975A (en) * 2009-04-21 2011-01-01 Nikon Corp Moving-object apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20110042874A1 (en) 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8699001B2 (en) 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
CN102483580B (zh) 2009-08-20 2015-04-01 株式会社尼康 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
US8294124B2 (en) * 2010-01-15 2012-10-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Scanning method and system using 2-D ion implanter
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US8988655B2 (en) 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US20120064461A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, flat-panel display manufacturing method, and object exchange method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012033211A1 (en) 2012-03-15
TWI635370B (zh) 2018-09-11
CN105372947B (zh) 2018-06-12
CN105372947A (zh) 2016-03-02
CN103119518A (zh) 2013-05-22
TWI722678B (zh) 2021-03-21
KR20180116485A (ko) 2018-10-24
HK1179697A1 (zh) 2013-10-04
JP5954557B2 (ja) 2016-07-20
KR20130114129A (ko) 2013-10-16
US8598538B2 (en) 2013-12-03
KR20200012033A (ko) 2020-02-04
TWI681262B (zh) 2020-01-01
JP6904384B2 (ja) 2021-07-14
HK1222228A1 (zh) 2017-06-23
JP2016191935A (ja) 2016-11-10
CN103119518B (zh) 2015-11-25
TW201227865A (en) 2012-07-01
US20120056105A1 (en) 2012-03-08
TW201842418A (zh) 2018-12-01
KR101911721B1 (ko) 2018-10-29
JP2012060117A (ja) 2012-03-22
TW202014806A (zh) 2020-04-16
JP2018120237A (ja) 2018-08-02
JP6304509B2 (ja) 2018-04-04
TWI548023B (zh) 2016-09-01
JP6558721B2 (ja) 2019-08-14
KR102072076B1 (ko) 2020-01-31
JP2019204109A (ja) 2019-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI548023B (zh) 移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法
JP6881537B2 (ja) 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
TWI582893B (zh) 物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法
TWI587436B (zh) 物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法
TWI591442B (zh) 控制方法、曝光方法、元件製造方法、及平板顯示器之製造方法
TW201319758A (zh) 基板處理裝置及基板處理方法、曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法、及平板顯示器之製造方法
TW201539542A (zh) 移動體裝置、曝光裝置、平面顯示器之製造方法、以及元件製造方法
JP2014038225A (ja) 露光方法及び露光装置、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法