TW201702704A - 在對於面板構件之連續貼合中所使用的光學薄膜層積體 - Google Patents
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Abstract
在RTP貼合方法以及裝置中,提供一種被賦予有使起因於剝離動作而帶電的光學薄膜薄片以及載體薄膜迅速地衰減之防帶電功能的連續帶之光學薄膜層積體。
藉由設為下述一般之使用在RTP貼合方法以及裝置中之連續帶之光學薄膜層積體,而能夠解決上述課題:亦即是,對於構成連續帶之光學薄膜層積體的光學薄膜薄片以及載體薄膜所被作剝離的對向面側之各者賦予防帶電功能,藉由此,來以使起因於剝離動作而帶電了的被回收之載體薄膜、以及被貼合於面板構件處之起因於剝離動作而帶電了的光學薄膜薄片,均成為會迅速地衰減的方式,而各別具備有表面電阻值成為至少1012Ω/□以下的防帶電功能。
Description
本發明,係有關於用以使用在對於面板構件貼合光學薄膜薄片以連續性製造光學性顯示裝置之方法以及裝置(以下,稱作「RTP貼合方法及裝置」)中的連續帶之光學薄膜層積體。
更詳細而言,在對於被搬送至既定貼附位置處之面板構件而藉由黏著層來貼合光學薄膜薄片以連續性製造光學性顯示裝置之RTP貼合方法以及裝置中,係將被層積在構成連續帶之光學薄膜層積體的黏著層上之載體薄膜從該黏著層而剝離,起因於此,被剝離了的載體薄膜係會發生剝離帶電,並在被搬送至既定貼附位置處的面板構件處產生感應帶電。另一方面,被從載體薄膜所剝離的黏著層表面也會發生剝離帶電,起因於包含有帶電之黏著層的光學薄膜薄片,當將其貼合在被搬送至既定貼附位置處的面板構件上時,在該面板構件處會產生感應帶電。
本發明,係有關於對於此種在RTP貼合方法以及裝置中所產生的新的技術性課題作對應之被賦予有使帶電的載體薄膜以及包含黏著層之光學薄膜薄片的帶電迅
速地衰減之防帶電功能的連續帶之光學薄膜層積體。
帶電於光學顯示裝置中之靜電,係會有導致內藏之電子零件劣化並被破壞的危險性,此事係為周知。例如,在內藏於液晶面板中之電子零件中,係包含有TFT元件等之場效型電晶體。為了防止此些之電子零件的靜電破壞,在液晶顯示裝置之製造中,通常係經過下述一般之工程而結束製造。
一般而言,液晶面板,係具備有在彩色濾光片(CF基板)層和透明電極(TFT基板)層之間封入有液晶層之構造。至少經過將以使透射軸與液晶面板之兩面作交叉的方式而成形為矩形狀的偏光薄膜薄片作貼合之工程,而完成液晶顯示裝置。此時,在與先前技術之薄片貼合(單枚型貼合)方法以及裝置相異的RTP貼合方法以及裝置中,偏光薄膜薄片,在被從載體薄膜而剝離時,係會發生在載體薄膜中而有所帶電的狀態,另一方面,與此同時地,係成為一面將包含有起因於剝離而有所帶電的黏著層之偏光薄膜薄片作剝離一面貼合於液晶面板上。
在先前技術之貼合方法以及裝置中,通常,係包含有:預先準備多數之光學薄膜薄片並集中於片匣中,並在一次一枚地將光學薄膜薄片作了供給之後,從具備有附離模薄膜薄片之黏著層的偏光薄膜薄片來將該離模薄膜薄片剝離,再將另外所搬送而來之液晶面板對位並貼
合在藉由此所露出了的偏光薄膜薄片之黏著層上的工程,由於係將液晶面板在既定貼合位置處而貼合在預先被作了剝離的偏光薄膜薄片上,被剝離了的離模薄膜薄片係並不會接近於該既定貼合位置地而被作處理,因此,就算是產生有剝離帶電,也不會有對於被貼合在偏光薄膜薄片上之液晶面板造成影響的情形。
故而,所剩下的課題,係在於要如何使包含有起因於剝離而帶電了的黏著層之偏光薄膜薄片的帶電衰減並貼合在液晶面板上一事,針對此,至今為止,係進行有各種的對策。
但是,RTP貼合方法以及裝置,係包含有將包含黏著層之偏光薄膜薄片從載體薄膜而剝離並同時地貼合於液晶面板上之工程。更具體而言,在RTP貼合方法以及裝置中,液晶面板係接近於被剝離了的載體薄膜而被搬送至既定貼合位置處,並於該處而一面將包含有黏著層之偏光薄膜薄片從載體薄膜而剝離一面貼合在液晶面板上,因此,液晶面板,係變得無法對起因於剝離並帶電了的載體薄膜以及偏光薄膜薄片所導致的影響作避免。對於此種起因於剝離帶電而在液晶面板處所產生的感應帶電之對策,在先前技術之貼合方法以及裝置中,係完全未作任何的考慮,明顯的,此係為由於採用RTP貼合方法以及裝置所導致的全新的技術性課題。
亦即是,在RTP貼合方法以及裝置中,為了防止液晶面板之帶電,係至少要針對2個課題而採取對
策。第1個課題,係在於使接近於起因於剝離而帶電了的載體薄膜所被搬送而來之液晶面板成為不會從該載體薄膜而產生感應帶電。第2個課題,係在於要對於在將包含有起因於被從載體薄膜而剝離一事所帶電的黏著層之偏光薄膜薄片貼合於液晶面板上時所產生的對於液晶面板之感應帶電採用何種對策來作對應。若是此對應方法並不完備,則如同上述一般地而產生感應帶電的液晶面板,係會起因於該靜電而導致內藏之電子零件的破壞,或者是,就算未到達破壞的程度,在對於完成後的液晶顯示裝置之檢查工程中,也會如同在圖2之照片中所展現一般地,於液晶顯示裝置中產生有起因於液晶之配向紊亂所導致的漏光部。其結果,對作為製品之液晶顯示裝置所進行的透射檢查係變得困難,並成為對於液晶顯示裝置之連續製造造成阻礙。
至今為止,針對先前技術型之技術性課題,係進行有各種的提案。例如,在專利文獻1中,係記載有一種對起因於剝離帶電所導致的靜電障礙作抑制之光學薄膜層積體。更具體而言,係為在構成光學薄膜層積體之光學薄膜的黏著層之形成面上設置有導電層者等等。又,專利文獻2,係記載有一種在光學薄膜層積體上形成有導電性黏著層者。又,進而,專利文獻3,係記載有下述之內容:亦即是,對於在將光學薄膜層積體貼合於所構成的液晶面板上之後,在光學顯示裝置之製造工程中,使用有對於偏光薄膜薄片作保護的例如表面保護薄膜薄片之連續帶
之光學薄膜,而賦予有導電性。或者是,在專利文獻4中,係記載有下述之內容:亦即是,對於在從離模薄膜而剝離時所產生的光學薄膜層積體之剝離帶電,而在該光學薄膜層積體內部,中介存在有以表面電阻值為102Ω/□以上106Ω/□以下的方式所產生的導電層,而進行控制。
另外,在專利文獻5中,係記載有一種對起因於剝離帶電而在被貼合於面板構件上之光學薄膜薄片處所產生的靜電作抑制,並藉由此來連續性製造光學性顯示裝置之貼合方法以及裝置。該發明,係為使用有由相當於載體薄膜之基材薄膜以及相當於光學薄膜之功能型薄膜所構成的連續帶之光學薄膜層積體者,並為有關於一種由功能性薄膜來形成功能性薄膜薄片,並從連續帶之光學薄膜層積體的基材薄膜(亦即是載體薄膜)來藉由剝離手段而將該功能性薄膜薄片剝離,再將其貼合在面板構件上,而連續性製造光學性顯示裝置之貼合方法以及裝置。
在專利文獻5中,係更進而記載有一種貼合方法以及裝置,其係構成為:對於在被從連續帶之光學薄膜層積體而剝離時於功能性薄膜薄片處所產生的靜電,而在將功能性薄膜薄片貼合於面板構件上並製造光學性顯示裝置時,以不會使內藏於面板構件中之電子零件被電性破壞的方式,而在當起因於剝離而連續帶之載體薄膜帶電為負(或者是正)的情況時,對於剝離手段而藉由在從帶電列來作觀察時會位置在較該載體薄膜而更靠負側(或者是正側)的材質來構成之。此一構成,係為藉由因應於載體
薄膜之剝離帶電的狀態、亦即是因應於負帶電(或者是正帶電),來對於剝離手段之材質作選擇,而對於在載體薄膜處所發生的靜電量作抑制,並藉由此來對於功能性薄膜薄片之帶電量作抑制者,總結而言,在專利文獻5中,係記載有對於被直接貼合於面板構件上之功能性薄膜薄片的帶電量作抑制之構成。
[專利文獻1]日本特開2001-318230號公報
[專利文獻2]日本特開2014-032360號公報
[專利文獻3]日本專利第4701750號公報
[專利文獻4]日本特開2009-157363號公報
[專利文獻5]日本特開2012-224041號公報
[專利文獻6]日本特開2004-338379號公報
[專利文獻7]日本特開2014-113741號公報
本發明之目的,係在於提供一種:在對於面板構件貼合光學薄膜薄片以連續性製造光學性顯示裝置之RTP貼合方法及裝置中,使光學薄膜層積體與離模薄膜之雙方的剝離帶電迅速地衰減之連續帶之光學薄膜層積體。
更具體而言,連續帶之光學薄膜層積體,係
以不會使面板構件被產生了剝離帶電之載體薄膜所影響的方式,而對於載體薄膜賦予防帶電功能,並且對於被貼合於面板構件上之光學薄膜薄片賦予防帶電功能,藉由此,在將產生剝離帶電之光學薄膜薄片貼合於面板構件上之前,係能夠使起因於剝離帶電所導致的電荷迅速地衰減。又,此係為作為表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的具備有防帶電功能之連續帶之光學薄膜層積體,而能夠使用在RTP貼合方法以及裝置中者。
藉由對於使用在RTP貼合方法以及裝置中之至少包含有在單面上形成有貼合於面板構件處之黏著層的連續帶之光學薄膜以及在與該黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜的連續帶之光學薄膜層積體,而針對光學薄膜來在黏著層側賦予防帶電功能,並針對前述離模薄膜而在離模處理層側賦予防帶電功能,來在被貼合於面板構件上時對於相互被剝離之側的各者而賦予防帶電功能,而實現該課題之解決。
本發明之第1形態,係為一種連續帶之光學薄膜層積體,其係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述光學薄膜,係在自身與前
述黏著層之間,中介存在有連續帶之第1導電層,前述離模薄膜,係在自身與前述離模處理層之間,中介存在有連續帶之第2導電層。
在本發明之第1形態中,係可構成為:第1導電層以及第2導電層,係使用賦予防帶電性之材料,在自身與前述黏著層之間中介存在有前述第1導電層之前述光學薄膜、以及在自身與前述離模處理層之間中介存在有前述第2導電層之前述離模薄膜,係均為以使表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
本發明之第2形態,係為一種連續帶之光學薄膜層積體,其係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述光學薄膜,係在自身與前述黏著層之間,中介存在有連續帶之導電層,前述離模薄膜,係為附加有導電功能者。
在本發明之第2形態中,較理想,離模薄膜,係在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂中,混入有賦予防帶電性之材料,並以使表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。進而,較理想,該賦予防帶電性之材料,
係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
更進而,係可構成為:被形成於光學薄膜之單面上的導電層,係使用賦予防帶電性之材料,以使在自身與前述黏著層之間中介存在有前述導電層之前述光學薄膜的表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
本發明之第3形態,係為一種連續帶之光學薄膜層積體,其係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之導電性黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述導電性黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述離模薄膜,係在自身與前述離模處理層之間,中介存在有導電層。
在本發明之第3形態中,較理想,被形成於光學薄膜之單面上的導電性黏著層,係在丙烯酸系黏著層中,混入有賦予防帶電性之材料,並以使包含前述導電性黏著層之前述光學薄膜之表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形,較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中
一者。
又,較理想,構成離模薄膜之導電層,係使用賦予防帶電性之材料,來以使在自身與前述離模處理層之間中介存在有前述導電層的前述離模薄膜之表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形,較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
本發明之第4形態,係為一種連續帶之光學薄膜層積體,其係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之導電性黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述導電性黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述離模薄膜,係為附加有導電功能者。
在本發明之第4形態中,較理想,被形成於光學薄膜之單面上的導電性黏著層,係在丙烯酸系黏著層中,混入有賦予防帶電性之材料,並以使包含前述導電性黏著層之前述光學薄膜之表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形,較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
又,在本發明之第4形態中,構成連續帶之
光學薄膜層積體之離模薄膜,係能夠在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂中,混入有賦予防帶電性之材料,並以使表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形,較理想,該賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑或導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
在本發明之第1~第4形態中,係能夠將連續帶之光學薄膜層積體,捲繞成形為卷。又,係亦可將被作了捲繞成形之卷,裁切為與在RTP貼合裝置中所使用之面板構件的長邊或短邊之長度相對應的寬幅,並將其捲繞成形為卷,藉由此來成形為在RTP貼合裝置中所使用的送出卷。
1‧‧‧光學薄膜層積體
2‧‧‧載體薄膜
3‧‧‧光學薄膜或光學薄膜薄片
4‧‧‧黏著層
5‧‧‧面板構件
6‧‧‧光學性顯示裝置
10‧‧‧RTP裝置
50‧‧‧貼合裝置
60‧‧‧剝離體
100‧‧‧既定貼附位置
110‧‧‧載體薄膜之搬送路徑
310‧‧‧面板構件之搬送路徑
400‧‧‧自我放電型除電裝置
410‧‧‧電離器
501‧‧‧CF基板
502‧‧‧TFT基板
503‧‧‧液晶層
[圖1]係為對於RTP貼合裝置之全體作展示的示意圖。
[圖2]係為對於光學性顯示裝置(液晶面板)之漏光現象作展示的照片。
[圖3]係為光學性顯示裝置(液晶面板)之起因於感應帶電所導致的液晶配向紊亂現象之產生機制的示意圖。
[圖4]係為對於剝離體和載體薄膜之間之接觸作用作說明之示意圖。
[圖5]對於在實驗中所附加的實施例1~5以及比較例
1~5之構造作展示。
[圖6]係為包含有光學薄膜側以及離模薄膜側之導電功能賦予層的表面電阻值之實驗結果。
[圖7]係為對於使用有真空吸附構造之貼合筒的RTP貼合裝置作展示之圖。
圖1(a),係為對於RTP貼合裝置之全體作展示的示意圖。在RTP貼合裝置10中,於送出卷R1處,係被捲繞有連續帶之光學薄膜層積體1。光學薄膜層積體1,係由至少具備有與面板構件5之尺寸(長邊或短邊)相對應的寬幅之載體薄膜2、和被形成於載體薄膜2之其中一面上之黏著層4、以及藉由黏著層4而被連續性地作支持之複數之光學薄膜薄片3,而構成之。光學薄膜薄片3,係被形成為包含有黏著層4之薄膜薄片,並在隔著黏著層4而層積於載體薄膜2上之光學薄膜處,以與面板構件5之尺寸(短邊或長邊)相對應的間隔而以會一直到達載體薄膜2之表面處的方式而切入有寬幅方向之切入線。
RTP貼合裝置10,係如同圖1(a)中所示一般,包含有薄膜進送裝置80,該薄膜進送裝置80,係由將光學薄膜層積體1從送出卷R1而送出的上游側饋送滾輪81和將被從光學薄膜層積體1所剝離的連續帶之載體薄膜2捲取於捲取卷R2處的下游側饋送滾輪82所成。藉
由此種構成,裝置10,係將連續帶之光學薄膜層積體1緊繃地朝向既定貼附位置100作搬送,並藉由被配置在既定貼附位置100之近旁處的具備有頂部61之剝離體60,來從連續帶之光學薄膜層積體1的載體薄膜2來將包含黏著層4之光學薄膜薄片3剝離並送至既定貼附位置100處。此時,連續帶之載體薄膜2,係藉由下游側饋送滾輪82,而經過連續帶之載體薄膜2的搬送路徑110來被回收至捲取卷R2處。
剝離體60,例如,係如同圖1(b)中所示一般,可想定為至少具備有連續帶之光學薄膜層積體1之寬幅的矩形狀並以頂部61作為前端部之剖面楔形構造。通常,係在接近於既定貼附位置100之位置處,配置構成前端部之頂部61,剝離體60,係在面板構件5之搬送路徑310的正下方處而被傾斜地作配置。在頂部61處而被作折返搬送之連續帶之載體薄膜2的搬送路徑110,通常,係被定位在會與面板構件5之搬送路徑310成為雙重構造一般的位置處。
RTP貼合裝置10,係以與被送至既定貼附位置100處之包含黏著層4之光學薄膜薄片3相對應的方式,而使面板構件5例如從既定待機位置300來沿著搬送路徑310而被送至既定貼附位置100處。在既定貼附位置100,包含貼合滾輪51之貼合裝置50,係藉由黏著層4來將光學薄膜薄片3貼合於被搬送而來之面板構件5的其中一面上。
在光學性顯示裝置6之製造中,構成光學性顯示裝置6之面板構件5,通常,係內藏有薄膜電晶體(Thin Film Transistor(TFT))等之電子零件,從避免靜電破壞的觀點來看,係不可對於防帶電一事有所輕忽。在專利文獻5中所揭示一般之針對起因於被貼合在面板構件5上之包含黏著層4之光學薄膜薄片3被從載體薄膜2而剝離一事所產生的靜電、亦即是針對剝離帶電,所進行的防止手段,係僅為其中一例。例如,如同在圖1之示意圖中所示一般,係亦可藉由使用自我放電型除電裝置400及/或電離器410、或者是藉由使用引用文獻4中所揭示之具有導電功能之連續帶之光學薄膜層積體,來對起因於與載體薄膜2間之剝離所導致的在包含黏著層4之光學薄膜薄片3處所產生的靜電之電位作抑制而進行控制。
但是,就算如此,在RTP貼合裝置10中,如同在圖2之照片中可以見到一般,係於光學性顯示裝置6處,產生有起因於液晶之配向紊亂所導致的漏光部。其結果,對作為製品之光學性顯示裝置6所進行的透射檢查係成為不可能,並成為對於光學性顯示裝置6之連續製造造成阻礙。
若是針對其原因作檢討,則在RTP貼合裝置10中,當進行由電離器410所致之除電的情況時,在將光學薄膜薄片3從載體薄膜2剝離之後,由於帶電了的光學薄膜薄片3係成為並未被充分除電地而立即被貼合至面板構件5上,因此作為防帶電而言係並不充分。又,在針
對後者來進行檢討的情況時,則導電層之表面電阻值係有需要成為106Ω/□以下,但是,若是考慮到原料成本,則此事係變得過為高價,作為防帶電而言係並不現實。
本發明之特徵係在於:係使在構成連續帶之光學薄膜層積體的光學薄膜薄片和載體薄膜中所包含之導電層,均被形成於剝離面側處,就算是並不設為106Ω/□以下一般之低電阻值,也能夠確實地使剝離帶電衰減。於此情況,雙方之導電層的形成位置亦為重要。此係因為,此些導電層就算是被形成於與剝離面相反側處,也無法發揮防帶電功能之故。通常,光學薄膜層積體,較理想,係由在由聚乙烯醇(PVA)系樹脂所成之連續帶之偏光元件的至少一面上而將由三醋酸纖維素(TAC)系樹脂或丙烯酸系樹脂或者是環烯系樹脂所成的連續帶之保護薄膜作了層積的多層構造所成,又,離模薄膜,較理想,係由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂所成。
連續帶之載體薄膜2,係起因於與光學薄膜薄片3之間之剝離而帶電。產生了剝離帶電之載體薄膜2,係經過搬送路徑110而被朝向捲取卷R2搬送並被回收。如同在圖1(a)或(b)中所示一般,面板構件5,例如,係在被作搬送並回收之載體薄膜2附近,反方向地沿著搬送路徑310而被朝向既定貼附位置100搬送。
此時,起因於被回收的載體薄膜2,在面板構件5處會產生感應帶電,此帶電會對內藏於面板構件5中之電子零件造成影響,並如同圖2中所示一般,在使光學
薄膜薄片3貼合於面板構件5上之光學性顯示裝置6中產生漏光部。在面板構件5貼合光學薄膜薄片3而連續性地製造之光學性顯示裝置6,係不僅會使光學性顯示裝置6之由透射檢查所進行的缺陷檢測變得困難,也會成為對於貼合光學薄膜薄片3之前的面板構件5所內藏之電子零件造成靜電破壞的其中一個原因。為了避免此種事態,係必須要將起因於與光學薄膜薄片3之間之剝離而發生的連續帶之載體薄膜2之帶電量,控制在一定電位以下。
圖4(a),係為對於當連續帶之光學薄膜層積體1被剝離體60而剝離為光學薄膜薄片3和連續帶之載體薄膜2時的帶電狀態作展示之示意圖。包含黏著層4之光學薄膜薄片3,係如同在此圖中所示一般,一面被從載體薄膜2而剝離,一面在維持於起因於剝離動作所導致之帶電狀態的狀態下,被貼合於被搬送至既定貼附位置處之面板構件5的其中一面上。
在此狀態下所製造出的光學性顯示裝置6,係會在到達既定貼附位置100處之前,在面板構件5處產生起因於剝離動作而帶電之載體薄膜2所導致的感應帶電。進而,在被搬送至既定貼附位置100處之面板構件5的其中一面上,包含黏著層4之光學薄膜薄片3,係一面被從載體薄膜2而剝離一面在維持於帶電狀態的狀態下被貼合於面板構件5上。不論是起因於從載體薄膜2而來之感應帶電,或者是起因於將帶電狀態之包含有黏著層4之光學薄膜薄片3作貼合一事所導致的感應帶電,均同樣的必然
會造成內藏於光學性顯示裝置6中之電子零件劣化並被破壞的危險性,而為在技術上想要避免的問題。
例如,當光學性顯示裝置6乃身為液晶面板的情況時,若是針對圖3中所示之起因於感應帶電而在光學性顯示裝置6處所發生的液晶配向紊亂之機制作檢討,則係可得到下述一般的認識。亦即是,在圖3(a)~(c)中所示之面板構件5,係以在視覺辨認側之彩色濾光基板(CF基板)501與非視覺辨認側之薄型電晶體基板(TFT基板)502之間封入有液晶層503的液晶面板5作為對象。例如,在圖3(b)中所示之帶有起因於剝離帶電所導致的負電荷地而被作搬送之連續帶之載體薄膜2的下側處而朝向既定貼附位置100前進並作了通過的面板構件5,係起因於感應帶電,而在兩面處發生電荷之極化。
具體而言,如同根據此圖而可明顯得知一般,CF基板501之接近於載體薄膜2之面,係會帶有正電荷,TFT基板502之下面,係會帶有負電荷。其結果,在形成液晶層53之上面的CF基板501之下面,係會帶有負電荷,在形成液晶層503之TFT基板502之上面,係會帶有正電荷,起因於其之電位差,液晶層503會啟動。在液晶層503之啟動場所處,由於光係會通過,因此,如同圖2中所示一般,面板構件5之表面會成為如同亮點一般的狀態。
針對起因於將帶電狀態之包含有黏著層4之光學薄膜薄片3作貼合一事所導致之感應帶電的情況,亦
可作為相同的現象來作說明。問題在於,若是面板構件5產生超過上限帶電量之帶電,則關閉狀態之電晶體係會帶有電荷,並在衰減中會耗費時間,液晶層503,係持續成為藉由該電位差而啟動了的狀態,如同圖2中所示一般,會成為持續成為亮點狀態。故而,本發明之技術性課題,係在於對於並未超過上限帶電量之帶電狀態的面板構件5,而找出使其迅速衰減的技術性手段。
在RTP貼合裝置10中,想要成為不會在從連續帶之光學薄膜層積體1所剝離的載體薄膜2處產生剝離帶電一事,係為困難。此係因為,通常,由於產生了剝離帶電的載體薄膜2之被作回收的搬送路徑110,係被與面板構件5之搬送路徑310作近接配置,因此,係難以避免在面板構件5處產生某種程度之感應帶電的情況。又,從載體薄膜2所剝離的包含帶電狀態之黏著層4之光學薄膜薄片3,係被貼合於面板構件5上,起因於此所導致的面板構件5之感應帶電亦係難以避免。
本發明者們,係如同圖4(b)中所示一般,為了針對上述之2個課題作對應,而以使產生了剝離帶電的載體薄膜迅速地衰減的方式來對於載體薄膜2賦予導電功能,並進而以使產生了剝離帶電的包含黏著層4之光學薄膜薄片3迅速地衰減的方式來對於包含黏著層4之光學薄膜薄片3賦予導電功能,並如此這般地來產生連續帶之光學薄膜層積體1,如同圖5中所示一般,針對實施例1~3以及比較例1~2,係藉由以下之實驗,而針對若是成
為何種程度之上限帶電量(亦即是帶電容許量)則面板構件5便不會產生漏光一事作了確認。
實施例1,係由下述之4個階段所成,第1階段,係準備身為作為光學薄膜,而在偏光薄膜之其中一面上形成導電層,並在該導電層上隔著黏著層而層積了離模薄膜的構造之日東電工製之光學薄膜層積體(NPF-CMG1765CU),第2階段,係從所準備的光學薄膜層積體而將離模薄膜剝離,並在露出了的該光學薄膜之黏著層側,將具有導電功能之離模薄膜(三菱樹脂製,型號MRF38CK(CT-EF))/38μmPET薄膜),以使導電層成為該黏著層側的方式來作貼合並作成光學薄膜層積體,第3階段,係從該光學薄膜層積體而將離模薄膜剝離,並將包含黏著層之光學薄膜,貼附在從LG電子製液晶電視(型號49UB8300-CG)所取出的面板構件(液晶胞)之兩面上而製造出液晶顯示裝置,最後,第4階段,係將該液晶顯示裝置放置在背光元件之上,並藉由目視來對於液晶之配向不均一作確認。
進而,在光學薄膜和黏著層之間中介存在有導電層之光學薄膜的表面電阻值、以及在第3階段中所被剝離的於自身和離模處理層之間中介存在有導電層之離模薄膜的表面電阻值,係均被設定為1012Ω/□,此時,將不存在有配向不均一或者是雖然存在但是會在1分鐘以內消失者評價為○,並將直到配向不均一消失為止係需要花費1分鐘以上者,評價為×。其結果,如同圖6中所示一
般,係為○。
作為實施例1之對比的比較例1,係經過作為光學薄膜而準備使用依據日本特開2004-338379號公報(專利文獻6)中所記載的比較例1之方法所作成之在偏光薄膜與黏著層之間並不具備導電層(亦即是防帶電層)之於黏著層處形成有離模薄膜的光學薄膜層積體之第1階段、和將該離模薄膜剝離並在該偏光薄膜之黏著層側貼合並不具備導電功能之三菱樹脂製離模薄膜(型號MRF38CK(CT-NS2))而作成光學薄膜層積體之第2階段,並進而經過後續之與實施例1相同的階段,而進行了同樣的評價。比較例1,不論是在被剝離的包含黏著層之光學薄膜側,或者是在離模薄膜側,均並未設置有導電層,其結果,如同圖6中所示一般,評價係為×。
若是對比較例2作檢討,則其係從在與實施例1相同之具有導電層之光學薄膜、亦即是於光學薄膜與黏著層之間中介存在有導電層之表面電阻值為1012Ω/□之光學薄膜上,隔著黏著層而層積有離模薄膜之構造的日東電工製光學薄膜層積體,而將離模薄膜剝離,並在光學薄膜之黏著層側,貼合與比較例1相同之並不具備導電功能之離模薄膜,而作成光學薄膜層積體,之後,經過後續之與實施例1相同的階段,而進行了同樣的評價。比較例2,在被貼合於液晶胞之兩面處的光學薄膜處,係具備有導電層,另一方面,被剝離之離模薄膜,則並未被賦予導電功能。其結果,如同圖6中所示一般,係與比較例1同
樣的而為×。
實施例2,係僅在作為光學薄膜而使用藉由專利文獻6中所記載之實施例2的方法所作成的於偏光薄膜與黏著層之間中介存在有導電層之表面電阻值被設定為108Ω/□的具有導電層之光學薄膜一事上,為與實施例1相異。另外,在第3階段中而被剝離的離模薄膜之表面電阻值,係被設定為1012Ω/□,之後,經過與實施例1相同之後續階段,而進行了同樣的評價。其結果,如同圖6中所示一般,係與實施例1同樣的而為○。
實施例3,係為由相較於實施例2之情況而各者之表面電阻值分別成為相反之值的方式所作成之光學薄膜而進行者。具體而言,係將硬化型矽樹脂(KS847H:信越化學工業製)和含有聚噻吩之導電性高分子樹脂(AS-D09E:信越聚合物製)適宜作混合,並將藉由在日本特開2014-113741號公報(專利文獻7)中所記載之實施例1中所揭示的方法來以使表面電阻值會成為108Ω/□的方式所作成之離模薄膜,貼合於與實施例1同樣之在將表面電阻值設定為1012Ω/□之偏光薄膜與黏著層之間中介存在有導電層之光學薄膜的黏著層側,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1相同之評價。其結果,如同圖6中所示一般,係為○。
進而,如同圖5中所示一般,針對實施例4或5、以及比較例3~5,係藉由以下之實驗,而針對若是成為何種程度之上限帶電量(亦即是帶電容許量)則面板
構件5便不會產生漏光一事作了確認。針對由形成了被賦予有導電功能之黏著層的光學薄膜所成之實施例4或5、和被與該些作對比之比較例3~5,而進行了與上述各例相同之評價。
實施例4,係作為光學薄膜,而使用在藉由日本特開2014-32340號公報(專利文獻2)中所記載之實施例14的方法所作成的在單面上形成有對於三乙基鋶雙(三氟甲磺醯)醯亞胺(Triethylsulfonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide)(東京化成工業製)之份量進行適宜調整所作成的具有導電功能之黏著層之表面電阻值為108Ω/□的偏光薄膜上,將在實施例3中所作成的離模薄膜、亦即是將硬化型矽樹脂(KS847H:信越化學工業製)和含有聚噻吩之導電性高分子樹脂(AS-D09E:信越聚合物製)適宜作混合並藉由在專利文獻7中所記載之實施例1中所揭示的方法來以使表面電阻值會成為108Ω/□的方式所作成之離模薄膜作貼合,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1相同的評價。其結果,如同圖6中所示一般,係為○。
被與實施例4作對比之比較例3,係在與實施例4相同之光學薄膜、亦即是將具備有導電功能之黏著層形成於其中一方之保護薄膜之單面上的表面電阻值為108Ω/□之偏光薄膜上,將與比較例1相同之離模薄膜、亦即是並不具備導電功能之三菱樹脂製離模薄膜(型號MRF38CK(CT-NS2))作貼合,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1同樣的評價。其結果,如同圖6
中所示一般,係與比較例1或2同樣的而為×。
比較例4,係在被形成於與比較例1相同之光學薄膜(亦即是,在偏光薄膜和黏著層之間並不具有導電層(亦即是防帶電層)之偏光薄膜)處的黏著層上,貼合與實施例3相同之離模薄膜(亦即是將硬化型矽樹脂(KS847H:信越化學工業製)和含有聚噻吩之導電性高分子樹脂(AS-D09E:信越聚合物製)適宜作混合並藉由專利文獻7中所記載之實施例1中所揭示的方法來以使表面電阻值會成為108Ω/□的方式所作成之離模薄膜)作貼合,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1相同之評價。其結果,如同圖6中所示一般,係與比較例1、2或3同樣的而為×。
實施例5,係在藉由與實施例4相同之方法、亦即是作為光學薄膜而使用在藉由專利文獻2中所記載之實施例14的方法所作成的在單面上形成有對於三乙基鋶雙(三氟甲磺醯)醯亞胺(Triethylsulfonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide)(東京化成工業製)之份量進行適宜調整所作成的具有導電功能之黏著層之表面電阻值為1012Ω/□的偏光薄膜上,將與實施例1相同之以使表面電阻值會成為1012Ω/□的方式所作成之離模薄膜作貼合,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1相同的評價。其結果,如同圖6中所示一般,係與實施例1~4同樣的而為○。
被與實施例1~5作對比之比較例5,係作為
光學薄膜,而從與實施例1相同之具備有導電層之光學薄膜(亦即是,在偏光薄膜之其中一面上將導電層以使表面電阻值會成為1012Ω/□的方式來形成並在該導電層之上隔著黏著層而層積有離模薄膜的構造之日東電工製偏光薄膜),來將離模薄膜剝離,並在光學薄膜之黏著層側,貼合藉由在專利文獻7之第〔0130〕段落中所揭示的方法而得到的「將硬化型矽樹脂(KS847H:信越化學工業製)適宜塗布在離模薄膜之與黏著層相接之面上,並將含有聚噻吩之導電性高分子樹脂(AS-D09E:信越聚合物製)適宜塗布在離模薄膜之與黏著層相接之面的相反面上,並且以使表面電阻值會成為108Ω/□的方式所作成之離模薄膜」作貼合,而作成光學薄膜層積體,並進行了與實施例1相同之評價。其結果,如同圖6中所示一般,係與比較例1~4同樣的而為×。
另外,雖係如同圖1中所示一般,使用在既定貼附位置100之近旁處配置有想定為剖面楔形構造之剝離體60的RTP貼合裝置10,來對於本發明作了揭示,但是,明顯可知,作為RTP貼合裝置10,係並不被限定於此。
例如,係可考慮使用有圖7中所示之真空吸附構造之貼合筒的RTP裝置。在此種RTP裝置中,被從剝離構件所剝下的光學薄膜薄片3,係在貼合筒200處,使光學薄膜薄片3之與被形成有黏著劑層之面相反側之面藉由真空吸引力而被作吸附。如此這般,光學薄膜薄片
3,係相對於貼合筒200而被作捲取,並在該狀態下而以與面板構件5相重疊的方式而被送至既定貼附位置處。於此,光學薄膜薄片3係以使被形成有黏著劑層之面推壓附著於面板構件5上的方式而被作貼合。
本發明,雖係關連於理想之實施形態而被作了記載,但是,只要是當業者,應可容易理解到,在不脫離本發明之範圍的前提下,係能夠進行各種之變更,並可藉由均等物來代替與其相關之要素。故而,本發明,係並不被限定於作為為了實施本發明所考慮的最佳之實施形態而揭示的特定之實施形態,而係包含有隸屬於申請專利範圍之所有的實施形態。
2‧‧‧載體薄膜
3‧‧‧光學薄膜或光學薄膜薄片
5‧‧‧面板構件
50‧‧‧貼合裝置
51‧‧‧支承滾輪
52‧‧‧貼合滾輪
Claims (20)
- 一種連續帶之光學薄膜層積體,係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述光學薄膜,係在自身與前述黏著層之間,中介存在有連續帶之第1導電層,前述離模薄膜,係在自身與前述離模處理層之間,中介存在有連續帶之第2導電層。
- 如申請專利範圍第1項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述第1導電層以及前述第2導電層,係使用賦予防帶電性之材料,在自身與前述黏著層之間中介存在有前述第1導電層之前述光學薄膜、以及在自身與前述離模處理層之間中介存在有前述第2導電層之前述離模薄膜,係均為以使表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。
- 如申請專利範圍第2項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 一種連續帶之光學薄膜層積體,係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在 與前述黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述光學薄膜,係在自身與前述黏著層之間,中介存在有連續帶之導電層,前述離模薄膜,係為附加有導電功能者。
- 如申請專利範圍第4項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述導電層,係使用賦予防帶電性之材料,以使在自身與前述黏著層之間中介存在有前述導電層之前述光學薄膜的表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。
- 如申請專利範圍第5項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 如申請專利範圍第4~6項中之任一項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述離模薄膜,係為表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的包含有賦予防帶電性之材料之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂的薄膜。
- 如申請專利範圍第7項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 一種連續帶之光學薄膜層積體,係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合 於前述面板構件處之導電性黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述導電性黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述離模薄膜,係在自身與前述離模處理層之間,中介存在有導電層。
- 如申請專利範圍第9項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述導電性黏著層,係為在丙烯酸系黏著層中包含有賦予防帶電性之材料者,包含前述導電性黏著層之前述光學薄膜,其表面電阻值係至少為1012Ω/□以下。
- 如申請專利範圍第10項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 如申請專利範圍第9~11項中之任一項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述導電層,係使用賦予防帶電性之材料,以使在自身與前述離模處理層之間中介存在有前述導電層之前述離模薄膜的表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的方式來成形。
- 如申請專利範圍第12項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 一種連續帶之光學薄膜層積體,係為使用在對於面板構件之連續貼合中,並至少包含有在單面上形成有貼合於前述面板構件處之導電性黏著層的連續帶之光學薄膜、以及在與前述導電性黏著層相接之面上形成有離模處理層之連續帶之離模薄膜,該連續帶之光學薄膜層積體,其特徵為:前述離模薄膜,係為附加有導電功能者。
- 如申請專利範圍第14項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述導電性黏著層,係為在丙烯酸系黏著層中包含有賦予防帶電性之材料者,包含前述導電性黏著層之前述光學薄膜,其表面電阻值係至少為1012Ω/□以下。
- 如申請專利範圍第15項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或者是包含氧化錫系或氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 如申請專利範圍第14~16項中之任一項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述離模薄膜,係為表面電阻值至少成為1012Ω/□以下的包含有賦予防帶電性之材料之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂的薄膜。
- 如申請專利範圍第17項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,其中,前述賦予防帶電性之材料,係為包含陰離子系或陽離子系之離子性介面活性劑、導電性聚合物或氧化錫系或者是包含氧化銻系之金屬氧化物的其中一者。
- 一種被作了捲繞成形之卷,其特徵為,係為使用如申請專利範圍第1~18項中之任一項所記載之連續帶之光學薄膜層積體,而被捲繞成形。
- 一種RTP貼合裝置用之送出卷,其特徵為:係將如申請專利範圍第19項所記載之被作了捲繞成形之卷,裁切為與在RTP貼合裝置中所使用之面板構件的長邊或短邊之長度相對應的寬幅,並作了捲繞成形。
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