TW201633028A - 處理條件管理系統及生產系統 - Google Patents

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TW201633028A
TW201633028A TW104137755A TW104137755A TW201633028A TW 201633028 A TW201633028 A TW 201633028A TW 104137755 A TW104137755 A TW 104137755A TW 104137755 A TW104137755 A TW 104137755A TW 201633028 A TW201633028 A TW 201633028A
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TW
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processing
recipe
unit
management system
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TW104137755A
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Teruo Asakawa
Naoko Murata
Supika Mashiro
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Tokyo Electron Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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Abstract

本發明係一種於包含FICS(11)及複數個處理裝置(40)之生產系統(1)中使用之處理條件管理系統(20)，其具備記憶部(30)、通信部(21)、及處理配方提供部(29)。記憶部(30)針對同種之複數個處理裝置(40)之各者，記憶處理裝置(40)係對被處理基板進行處理時所用之處理配方。通信部(21)係於與FICS(11)之間發送及接收與處理配方相關之資訊。處理配方提供部(29)係於被各個處理裝置(40)請求處理配方之情形時，將所請求之處理配方自記憶部(30)讀出並提供給請求源之處理裝置(40)。

Description

處理條件管理系統及生產系統
本發明之各種態樣及實施形態係關於一種處理條件管理系統及生產系統。
於處理晶圓等之情形時，處理裝置係按照作為指定處理方法或處理參數(溫度及壓力等)等之資料之集合的處理配方對晶圓等進行處理。處理配方係藉由處理裝置之處理配方製作功能而製作，並被儲存於處理裝置內之記憶部。並且，於處理晶圓等之情形時，處理裝置自記憶部讀出處理配方，按照讀出之處理配方執行處理。又，存在處理配方係於與處理裝置不同之電腦上製作之情況。此情形時，處理裝置於處理晶圓等之情形時，將儲存於電腦內之處理配方經由通信網路下載後按照下載之處理配方執行處理。
又，於工廠等之生產系統中，生產執行系統(MES)對處理裝置指示生產對象晶圓等之處理配方。於處理配方儲存於處理裝置之記憶部內之情形時，處理裝置將由生產執行系統(MES)所指示之處理配方自記憶部讀出並執行處理。又，於處理配方由其他電腦製作之情形時，MES(Manufacturing Execution System，生產執行系統)自其他電腦取得處理配方並提供給處理裝置。處理裝置按照由MES提供之處理配方執行處理。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2006-24742號公報
然而，於預先將處理配方儲存於處理裝置內之記憶部之情形時，存在於處理裝置之操作者對處理裝置進行操作之過程中，誤將變更後之處理配方覆寫保存，而對處理配方施加未意圖之變更的情形。於使用此種處理配方之情形時，將會執行未意圖之處理。又，處理配方係與處理步驟之數目相應地存在，對每個處理裝置不同之情況亦較多。又，隨著設定項目之增加，處理配方之資料大小亦變大。因此，若MES將處理所需之全部處理配方提供給處理裝置，則MES之處理負載較大。
揭示之處理條件管理系統係用於包含工廠資訊控制系統及複數個處理裝置中之生產系統之系統，其具備：處理條件記憶部，其針對同種之上述複數個處理裝置之各者記憶上述處理裝置對被處理基板進行處理時所用之處理條件；通信部，其於與上述工廠資訊控制系統之間發送及接收與上述處理條件相關之資訊；及處理條件提供部，其於被各個上述處理裝置請求處理條件之情形時，將所請求之處理條件自上述處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
根據揭示之處理條件管理系統之1個態樣，能夠減小MES之負擔，並對處理配方等處理條件集中管理。
1‧‧‧生產系統
10‧‧‧生產規劃系統
11‧‧‧FICS
12‧‧‧生產執行系統
13‧‧‧工廠RMS
14‧‧‧APC
15‧‧‧AEC
20‧‧‧處理條件管理系統
21‧‧‧通信部
22‧‧‧規範處理配方產生部
23‧‧‧機差調整部
24‧‧‧變更部
25‧‧‧判定部
26‧‧‧編輯功能部
27‧‧‧配方ID發行部
28‧‧‧處理配方登錄部
29‧‧‧處理配方提供部
30‧‧‧記憶部
31‧‧‧配方檢索DB
32‧‧‧規範處理配方記憶區域
33-1‧‧‧處理配方記憶區域
33-2‧‧‧處理配方記憶區域
34-1‧‧‧非生產模式用處理配方記憶區域
34-2‧‧‧非生產模式用處理配方記憶區域
35-1‧‧‧生產模式用處理配方記憶區域
35-2‧‧‧生產模式用處理配方記憶區域
40‧‧‧處理裝置
40-1、40-2、40-n‧‧‧處理裝置
42‧‧‧處理執行部
43‧‧‧快取控制部
44‧‧‧配方編輯部
45‧‧‧操作部
46‧‧‧顯示部
50‧‧‧記憶部
51‧‧‧配方執行區域
52‧‧‧非生產模式用處理配方記憶區域
53‧‧‧生產模式用處理配方記憶區域
54‧‧‧快取區域
70‧‧‧電腦
71‧‧‧CPU
72‧‧‧RAM
73‧‧‧ROM
74‧‧‧輔助記憶裝置
75‧‧‧通信介面
76‧‧‧輸入輸出介面
77‧‧‧媒體介面
78‧‧‧記錄媒體
200‧‧‧顯示裝置
201‧‧‧輸入裝置
310‧‧‧製品ID
311‧‧‧步驟ID
312‧‧‧裝置型式
313‧‧‧裝置ID
314‧‧‧配方ID
315‧‧‧狀態
321‧‧‧配方ID
322‧‧‧規範處理配方
341‧‧‧配方ID
342‧‧‧狀態
343‧‧‧處理配方
344‧‧‧裝置參數
351‧‧‧配方ID
352‧‧‧狀態
353‧‧‧處理配方
354‧‧‧裝置參數
355‧‧‧AEC_VP
521‧‧‧測試ID
522‧‧‧製品ID
523‧‧‧步驟ID
524‧‧‧裝置型式
525‧‧‧裝置ID
526‧‧‧處理配方
527‧‧‧裝置參數
531‧‧‧配方ID
532‧‧‧處理配方
533‧‧‧裝置參數
534‧‧‧AEC_VP
541‧‧‧配方ID
542‧‧‧處理配方
543‧‧‧裝置參數
544‧‧‧AEC_VP
S100~S103‧‧‧步驟
S200~S209‧‧‧步驟
S300~S303‧‧‧步驟
S400~S402‧‧‧步驟
S500~S510‧‧‧步驟
S600~S607‧‧‧步驟
圖1係表示生產系統之一例之系統構成圖。
圖2係表示處理裝置之功能構成之一例的方塊圖。
圖3係表示儲存於非生產模式用處理配方記憶區域之資料之一例 的圖。
圖4係表示儲存於生產模式用處理配方記憶區域之資料之一例的圖。
圖5係表示儲存於處理裝置內之快取區域之資料之一例的圖。
圖6係表示處理條件管理系統之功能構成之一例的方塊圖。
圖7係表示儲存於配方檢索DB(database，資料庫)之資料之一例的圖。
圖8係表示儲存於規範處理配方記憶區域之資料之一例的圖。
圖9係表示儲存於非生產模式用處理配方記憶區域之資料之一例的圖。
圖10係表示儲存於生產模式用處理配方記憶區域之資料之一例的圖。
圖11係表示處理配方之資料夾結構之一例的概念圖。
圖12係表示利用處理裝置所進行之處理配方之製作處理的一例之流程圖。
圖13係表示基於處理配方等之晶圓之處理的一例之流程圖。
圖14係表示將於處理裝置中製作之處理配方等登錄於處理條件管理系統之處理的一例之流程圖。
圖15係表示根據來自MES之詢問處理條件管理系統發送配方ID之處理的一例之流程圖。
圖16係表示利用處理條件管理系統所進行之處理配方之編輯處理的一例之流程圖。
圖17係表示利用處理條件管理系統所進行之規範處理配方之產生及每個處理裝置之處理配方之製作的處理之一例的流程圖。
圖18係表示實現處理條件管理系統之功能之電腦的一例之圖。
揭示之處理條件管理系統於1個實施形態中係用於包含工廠資訊控制系統及複數個處理裝置之生產系統中之處理條件管理系統，且具備處理條件記憶部、通信部、及處理條件提供部。處理條件記憶部對同種之複數個處理裝置之各者記憶處理裝置對被處理基板進行處理時所用之處理條件。通信部於與工廠資訊控制系統之間發送及接收與處理條件相關之資訊。處理條件提供部於被各個處理裝置請求處理條件之情形時，將所請求之處理條件自處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，各個處理裝置進行處理時所用之處理條件亦可為處理配方。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，通信部亦可將識別各個處理配方之配方ID作為與處理條件相關之資訊發送至工廠資訊控制系統。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對每個處理裝置相對應地記憶特定製品群之產品ID或批次資訊、處理配方、及識別該處理配方之配方ID，通信部亦可於自工廠資訊控制系統接收到識別處理裝置之裝置ID、及產品ID或批次資訊之情形時，針對與接收到之裝置ID對應之處理裝置，於處理條件記憶部內特定與接收到之產品ID或批次資訊相對應之配方ID，並將特定出之配方ID作為與處理條件相關之資訊發送至工廠資訊控制系統。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對每個處理裝置相對應地記憶特定出製品群之產品ID或批次資訊、處理步驟、處理配方、及識別該處理配方之配方ID，通信部亦可於自工廠資訊控制系統接收到識別處理裝置之裝置ID、產品ID或批次資訊、及處理步驟之情形時，針對與接收到之裝置ID對應之處理裝置，於處理條件記憶部內特定與接收到之產品ID或批次資訊及處理步 驟相對應之配方ID及處理配方，並將特定出之配方ID及處理配方之至少一者作為與處理條件相關之資訊發送至工廠資訊控制系統。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對各個處理裝置以與處理裝置之記憶部內之資料夾結構對應的資料夾結構而記憶處理條件。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對代表複數個處理裝置之規範裝置進而記憶該規範裝置進行處理時所用之處理配方即規範處理配方，處理條件管理系統亦可進而具備機差調整部，該機差調整部參照規範處理配方，基於各個處理裝置與規範裝置之間之機差，製作各個處理裝置之處理配方，並將製作出之處理配方與各個處理裝置相對應地儲存於處理條件記憶部。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件提供部亦可於自複數個處理裝置之各者接收到在處理裝置之記憶部內快取之處理配方中不存在處理對象之處理配方之情形時所發送之、包含與處理對象之處理配方相關的資訊之處理配方請求之情形時，將以所接收到之處理配方請求所含之資訊特定出之處理配方，自處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
又，揭示之處理條件管理系統於1個實施形態中亦可進而具備編輯功能部，該編輯功能部提供處理條件記憶部所記憶之處理條件之編輯功能，編輯功能部亦可具有與同種之複數個處理裝置具有之處理條件之編輯功能及操作性同等之編輯功能及操作性。
又，揭示之處理條件管理系統於1個實施形態中亦可進而具備遠程編輯功能部，該遠程編輯功能部用以提供如下功能：自工廠資訊控制系統受理指定處理條件記憶部識別處理裝置之裝置ID、及產品ID或批次資訊並編輯配方之請求與變更內容，變更與裝置ID、及產品ID或批次資訊建立關聯之處理條件並登錄。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對每個處理裝置相對應地記憶處理配方及識別該處理配方之配方ID，處理條件管理系統亦可進而具備配方ID發行部，該配方ID發行部於新的處理配方被儲存於處理條件記憶部之情形、或者處理條件記憶部內之處理配方有所變更之情形時，對該處理配方重新發行唯一的配方ID。
又，於揭示之處理條件管理系統之1個實施形態中，處理條件記憶部亦可對各個處理裝置之每一者相對應地記憶處理配方及表示該處理配方之完成度的狀態，處理條件管理系統亦可進而具備判定部及變更部，該判定部判定各個處理配方是否已由具有特定屬性之使用者進行確認；該變更部於由判定部判定出各個處理配方已由具有特定屬性之使用者進行確認之情形時，將處理配方之狀態變更為表示與已進行處理配方之確認之使用者之屬性對應之完成度的狀態。
又，揭示之生產系統於1個實施形態中具備工廠資訊控制系統、複數個處理裝置、及處理條件管理系統。處理條件管理系統具有處理條件記憶部、通信部、及處理條件提供部。處理條件記憶部針對同種之複數個處理裝置之各者，記憶處理裝置對被處理基板進行處理時所用之處理條件。通信部於與工廠資訊控制系統之間發送及接收與處理條件相關之資訊。處理條件提供部於被各個處理裝置請求處理條件之情形時，將所請求之處理條件自處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
以下基於圖式對揭示之處理條件管理系統及生產系統之實施形態進行詳細說明。再者，揭示之發明並非由本實施形態限定者。各實施形態可於不使處理內容矛盾之範圍內適當地進行組合。
[生產系統1之整體構成]
圖1係表示生產系統1之一例之系統構成圖。生產系統1具備生產 規劃系統10、工廠資訊控制系統(FICS：Factory Information Control System)11、處理條件管理系統20、及複數個處理裝置40-1~40-n。FICS11、處理條件管理系統20、及各處理裝置40經由例如EI(Equipment Interface，設備介面)等可通信地連接。但是，FICS11、處理條件管理系統20、及各處理裝置40之間之連接方式不限於EI等，亦可為其他連接方式。
生產規劃系統10基於自生產系統1之使用者等受理之每個製品之生產量或交貨期，而製作每個製品之生產規劃，並提供給FICS11。
FICS11具有生產執行系統(MES)12、工廠RMS(Recipe Management System，配方管理系統)13、APC(Advanced Process Control，先進進程控制)14、及AEC(Advanced Equipment Control，先進設備控制)15。
APC14自藉由各處理裝置40處理後之被處理基板(晶圓)之測定值算出每個包含於處理配方之參數之調整值即APC_VP(Variable Parameter，可變參數)並傳送至MES12。
AEC15測定各處理裝置40之狀態，自測定值算出每個包含於處理配方之參數之調整值即AEC_VP(Variable Parameter)並傳送至MES12及處理條件管理系統20。
MES12管理各個處理裝置40之運轉狀況，並基於利用生產規劃系統10所製作之生產規劃、及各個處理裝置40之運轉狀況決定使「哪一處理裝置」執行「哪一製品」之「哪一步驟」。並且，MES12關於各製品將製品之批次資訊、生產步驟之步驟ID、及執行該步驟之處理裝置40之裝置ID發送至處理條件管理系統20。本實施形態中，於批次資訊中包包含識別製品之製品ID。
並且，MES12自處理條件管理系統20接收配方ID，並將接收之配方ID與此時間點為止取得之最新之APC_VP一併傳送至執行處理之 處理裝置40。
處理裝置40具有處理作為被處理基板之晶圓之處理室。處理裝置40於自MES12接收配方ID與APC_VP之情形時，判定對應於接收之配方ID之處理配方及裝置參數是否存在於處理裝置40之記憶體內之快取區域。於對應於接收之配方ID之處理配方及裝置參數存在於處理裝置40之記憶體內之快取區域之情形時，處理裝置40基於處理配方與裝置參數、及接收之APC_VP，使用處理室對晶圓執行處理。再者，上述快取區域及其動作係使用已知之快取技術。
所謂裝置參數係指處理裝置40中每個特有項目之設定值(例如雙列直插式封裝開關之狀態等)之資訊。於本實施形態中，處理配方係描述處理被處理基板之條件之處理條件之一例。再者，處理條件中除了包含處理配方以外亦可包含裝置參數等。
另一方面，於對應於自MES12接收之配方ID之處理配方及裝置參數不存在於快取區域之情形時，處理裝置40將包含接收之配方ID之配方請求發送至處理條件管理系統20。並且，處理裝置40自處理條件管理系統20取得處理配方及裝置參數，並將取得之處理配方等保存於記憶體內之快取區域。然後，處理裝置40基於取得之處理配方與裝置參數、及自MES12接收之APC_VP，使用處理室對晶圓執行處理。
於本實施形態中，各個處理裝置40為同種處理裝置。所謂同種處理裝置係指例如製造商、系列、型號等相同之處理裝置。又，於本實施形態中，各個處理裝置40為1個處理裝置，例如於1個裝置具有複數個處理室之情形時，各個處理室相當於本實施形態中所謂之處理裝置40。
處理條件管理系統20具有配方檢索DB(資料庫)，其與識別各個製品之製品ID、識別各個生產步驟之步驟ID、及識別各個處理裝置40之裝置ID相對應地儲存處理配方之配方ID。處理條件管理系統20於自 MES12接收批次資訊、步驟ID、及裝置ID之情形時，自批次資訊抽出製品ID，參照配方檢索DB，特定出與製品ID、步驟ID、及裝置ID相對應之配方ID。並且，處理條件管理系統20將特定出之配方ID發送至MES12。
又，處理條件管理系統20與配方ID相對應地保持處理配方，於自各個處理裝置40接收包含配方ID之配方請求之情形時，將對應於配方ID之處理配方等自保持之處理配方中讀出並提供給處理裝置40。
[處理裝置40之構成]
圖2係表示處理裝置40之功能構成之一例的方塊圖。處理裝置40具有處理執行部42、快取控制部43、配方編輯部44、操作部45、顯示部46、及記憶部50。於記憶部50設有配方執行區域51及快取區域54。於配方執行區域51設有非生產模式用處理配方記憶區域52及生產模式用處理配方記憶區域53。
於非生產模式用處理配方記憶區域52中，例如如圖3所示，相對應地儲存有測試ID521、製品ID522、步驟ID523、裝置型式524、裝置ID525、處理配方526、及裝置參數527。測試ID521係識別測試階段之各個處理配方526之資訊。裝置型式524係以裝置ID525識別之處理裝置40之型式。於處理配方526儲存有例如關於各處理步驟表示每個應設定之參數(壓力、溫度、持續時間等)之設定值之資訊。於裝置參數527儲存有例如關於各處理步驟表示處理裝置40中每個特有項目之設定值(例雙列直插式封裝開關之狀態等)之資訊。
再者，於將處理配方526登錄於處理條件管理系統20之階段中，需要於製品ID522、步驟ID523、裝置型式524、及裝置ID525之欄中登錄特定資訊，但於進行處理配方526之測試之階段中，該等資訊亦可為未登錄狀態。
於生產模式用處理配方記憶區域53中，例如如圖4所示，相對應 地儲存有配方ID531、處理配方532、裝置參數533、及AEC_VP534。配方ID531係識別生產用所認可之各個處理配方532之資訊。於AEC_VP534中儲存有例如隨著處理裝置40之狀態之變化而調整之每個包含於處理配方的參數之調整值的資訊。
於快取區域54中，例如如圖5所示，相對應地儲存有配方ID541、處理配方542、裝置參數543、及AEC_VP544。
回到圖2繼續進行說明。快取控制部43於由MES12指示處理之開始之情形時，抹除生產模式用處理配方記憶區域53內之資料、及快取區域54內之資料。並且，快取控制部43於自MES12接收配方ID及APC_VP之情形時，將包含接收之配方ID之配方請求發送至處理條件管理系統20。
並且，快取控制部43將由處理條件管理系統20提供之處理配方、裝置參數、及AEC_VP(以下稱為處理配方等)與自MES12接收之配方ID相對應地分別儲存於快取區域54及生產模式用處理配方記憶區域53。並且，快取控制部43將自MES12接收之配方ID及APC_VP傳送至處理執行部42。
又，於自MES12再次接收配方ID及APC_VP之情形時，快取控制部43判定對應於接收之配方ID之處理配方等是否存在於快取區域54內。於對應於接收之配方ID之處理配方等存在於快取區域54內之情形時，快取控制部43將該處理配方等自快取區域54讀出，儲存於生產模式用處理配方記憶區域53。並且，快取控制部43將自MES12接收之配方ID及APC_VP傳送至處理執行部42。
另一方面，於處理配方等不存在於快取區域54內之情形時，快取控制部43將包含配方ID之配方請求發送至處理條件管理系統20，藉此自處理條件管理系統20取得處理配方等。並且，快取控制部43將自處理條件管理系統20取得之處理配方等分別儲存於快取區域54及生產 模式用處理配方記憶區域53。並且，快取控制部43將自MES12接收之配方ID及APC_VP傳送至處理執行部42。
處理執行部42於自快取控制部43接收配方ID及APC_VP之情形時，將與配方ID相對應之處理配方、裝置參數、及AEC_VP自生產模式用處理配方記憶區域53讀出。並且，處理執行部42基於自生產模式用處理配方記憶區域53讀出之處理配方、裝置參數、及AEC_VP、與自快取控制部43接收之APC_VP，使用處理室對晶圓執行處理。於對晶圓之處理結束之情形時，處理執行部42將用於結束之處理之處理配方、裝置參數、及AEC_VP自生產模式用處理配方記憶區域53中抹除。
如此，於基於處理配方等之對晶圓之處理結束後，處理執行部42將處理結束之處理配方等自生產模式用處理配方記憶區域53中抹除。藉此，能夠防止基於處理裝置40內所保留之以前之處理配方等對晶圓執行處理之情況。又，若於處理條件管理系統20內保持有最新之處理配方等，則可使處理裝置40內之處理配方等與處理條件管理系統20內之最新之處理配方等同步。
又，若對應於由MES12所指示之配方ID之處理配方等存在於快取區域54內，則能夠將快取區域54內之處理配方等展開於生產模式用處理配方記憶區域53而開始對晶圓之處理，因此能夠縮短取得處理配方等所花費之等待時間。
配方編輯部44根據經由操作部45之來自處理裝置40之操作者之操作，編輯非生產模式用處理配方記憶區域52內之處理配方及裝置參數等。配方編輯部44於編輯非生產模式用處理配方記憶區域52內之處理配方及裝置參數等之情形時，根據經由操作部45之來自操作者之操作，將與所編輯之處理配方及裝置參數等相對應之測試ID傳送至處理執行部42。
處理執行部42將與自配方編輯部44接收之測試ID相對應之處理配方及裝置參數自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出。並且，處理執行部42基於自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出之處理配方及裝置參數，使用處理室對晶圓執行處理。再者，基於自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出之處理配方及裝置參數進行處理後，處理執行部42不會自動將對應於結束之處理之處理配方等自非生產模式用處理配方記憶區域52中抹除。
又，配方編輯部44雖能夠顯示或編輯非生產模式用處理配方記憶區域52內之資料，但對於生產模式用處理配方記憶區域53內之資料不能進行顯示與編輯。由此，能夠防止作為生產模式用所認可之處理配方等之攜出、或意外之覆寫等。
又，配方編輯部44於由操作者指定登錄於處理條件管理系統20之處理配方等之測試ID之情形時，將與測試ID相對應之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出。並且，配方編輯部44將包含讀出之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數之登錄請求發送至處理條件管理系統20。
[處理條件管理系統20之構成]
圖6係表示處理條件管理系統20之功能構成之一例的方塊圖。處理條件管理系統20具備通信部21、規範處理配方產生部22、機差調整部23、變更部24、判定部25、編輯功能部26、配方ID發行部27、處理配方登錄部28、處理配方提供部29、及記憶部30。於記憶部30設有配方檢索DB31、規範處理配方記憶區域32、及複數個處理配方記憶區域33。
於配方檢索DB31中，例如如圖7所示，相對應地儲存有製品ID310、步驟ID311、裝置型式312、裝置ID313、配方ID314、及狀態 315。狀態315表示對應之處理配方之完成度。本實施形態中，於狀態315中例如儲存有「已驗證」、「已確認」、「已核實」、及「已創建」之4種之任一者。「已創建」例如表示處理配方製作中或製作完畢之狀態。「已核實」例如表示處理配方經文法確認完畢之狀態，且表示可移至功能性試驗之狀態。「已確認」例如表示處理配方經動作確認完畢之狀態，且表示功能性能經確認之狀態。「已驗證」例如表示處於處理配方經使用認可完畢之狀態，且表示經許可於生產中使用之狀態。
於配方檢索DB31中儲存有記憶部30中儲存之全部的處理配方(包含下述之規範處理配方)之配方ID。再者，於製品ID310、步驟ID311、裝置型式312、及裝置ID313各者之組合中，複數個配方ID314亦可相對應。惟於本實施形態中，於與製品ID310、步驟ID311、裝置型式312、及裝置ID313各者之組合相對應之配方ID中，「已驗證」之狀態相對應之配方ID為1個。
於規範處理配方記憶區域32中，例如如圖8所示，與配方ID321相對應地儲存有規範處理配方322。所謂規範處理配方322係指基於在任一處理裝置40中製作之處理配方及裝置參數所產生之成為規範之處理裝置40中之處理配方。所謂成為規範之處理裝置40係指進行例如相對於設定值之輸出值成為規格之中心、對各種處理條件之應答不會經時變化等理想行為之虛擬處理裝置40。
處理配方記憶區域33於每個處理裝置40設置有1個。例如，於處理配方記憶區域33-1中儲存有設定於處理裝置40-1之處理配方等；於處理配方記憶區域33-2中儲存有設定於處理裝置40-2之處理配方等。於各個處理配方記憶區域33中設有非生產模式用處理配方記憶區域34及生產模式用處理配方記憶區域35。
於非生產模式用處理配方記憶區域34中，例如如圖9所示，相對 應地儲存有配方ID341、狀態342、處理配方343、及裝置參數344。配方ID341為處理配方343之識別資訊。狀態342表示處理配方343之完成度。裝置參數344為應用處理配方343時，設定於對應之處理裝置40之於處理裝置40中固有之參數。
於生產模式用處理配方記憶區域35中，例如如圖10所示，相對應地儲存有配方ID351、狀態352、處理配方353、裝置參數354、及AEC_VP355。配方ID351為處理配方353之識別資訊。狀態352表示處理配方353之完成度。裝置參數354為應用處理配方353時，設定於對應之處理裝置40之於處理裝置40中固有之參數。AEC_VP355為調整對應之處理裝置40與其他處理裝置40之間的裝置間之機差之參數。所謂機差係指於處理裝置40間針對處理條件(例如處理配方)所含之參數之各設定值出現的輸出或作用強度之差。
再者，本實施形態中，例如如圖11所示，儲存於處理配方記憶區域33等之處理配方具有以處理配方之一部分叫出其他處理配方之形式鏈接之鏈接配方之結構。圖11係表示處理配方之資料夾結構之一例的概念圖。
1個處理配方之資料例如如圖11所示，儲存於1個資料夾60內。本實施例中，各個處理配方於每個資料夾60中具有上位之資料夾60參照下位之資料夾60之階層結構。
又，本實施形態中，儲存於處理條件管理系統20之記憶部30之處理配方具有與儲存於處理裝置40之記憶部50之處理配方相同之階層結構及相同之資料夾結構。藉此，能夠使每個資料夾之管理規則(例如使用者之存取權限管理等)與處理裝置40之記憶部50內之處理配方相同地進行。藉此，於處理條件管理系統20中亦可實現與處理裝置40內管理處理配方之情況相同之操作性。
再者，於所儲存於處理條件管理系統20之記憶部30之階段中， 存在各處理配方之一部分鏈接其他處理配方之情況，於向處理裝置40傳送之情形時，作為亦包含參照目標之處理配方之資訊在內的形式之1個處理配方之資料傳送至處理裝置40。因此，各處理裝置40能夠於處理之執行時不存取處理條件管理系統20而使用處理裝置40之記憶部50內之資訊進行處理。
通信部21於自MES12接收批次資訊、步驟ID、及裝置ID之情形時，自包含製品ID之批次資訊抽出製品ID。並且，通信部21參照記憶部30內之配方檢索DB31，於與製品ID、步驟ID、及裝置ID相對應之配方ID抽出「已驗證」之狀態相對應之配方ID。並且，通信部21將抽出之配方ID發送至MES12。再者，通信部21亦可將對應於抽出之配方ID之處理配方等替換為抽出之配方ID或與抽出之配方ID一併發送至MES12。
配方ID發行部27於由機差調整部23、編輯功能部26、或處理配方登錄部28請求配方ID之重新發行之情形時，重新發行唯一之配方ID。並且，配方ID發行部27將發行之配方ID傳送至請求源之機差調整部23、編輯功能部26、或處理配方登錄部28。配方ID發行部27管理發行完畢之配方ID，於請求配方ID之重新發行之情形時，重新發行不與發行完畢之任一配方ID重複之配方ID。藉此，能夠防止對用於生產系統1之處理配方等分配重複之配方ID之情況。
處理配方登錄部28於自處理裝置40接收包含製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數之登錄請求之情形時，向配方ID發行部27請求配方ID之重新發行。並且，處理配方登錄部28將由配方ID發行部27發行之配方ID與「已創建」之狀態一併與登錄請求所含之製品ID、步驟ID、裝置型式、及裝置ID相對應地登錄於配方檢索DB31。
又，處理配方登錄部28與由配方ID發行部27發行之配方ID相對 應地將登錄請求所含之處理配方及裝置參數與「已創建」之狀態一併登錄於與登錄請求之發送源之處理裝置40對應的處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34(參照圖9)。
處理配方提供部29於自處理裝置40接收包含配方ID之配方請求之情形時，自與該處理裝置40相對應之處理配方記憶區域33內之生產模式用處理配方記憶區域35抽出與配方請求所含之配方ID相對應之處理配方、裝置參數、及AEC_VP。並且，處理配方提供部29將抽出之處理配方、裝置參數、及AEC_VP提供給配方請求之發送源之處理裝置40。
編輯功能部26根據經由輸入裝置201之來自使用者之操作，自處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34或生產模式用處理配方記憶區域35讀出處理配方及裝置參數且顯示於顯示裝置200。並且，編輯功能部26根據由使用者進行之操作，編輯自處理配方記憶區域33讀出之處理配方及裝置參數。編輯功能部26提供與各處理裝置40具有之處理配方等編輯功能同等之編輯功能。又，編輯功能部26提供與各處理裝置40具有之處理配方等編輯中之操作性同等之操作性。
所謂同等之編輯功能及操作性係指例如參數之名稱、種類、排列、參數設置之時間序列中之表述方法(步驟描述)等至少共通。又，較佳為例如各參數之設定範圍或混合禁忌等之設定規則之應用及對違反規則設定等之警告或連鎖等之功能亦共通。又，畫面之顯示雖可不完全相同，但較佳為儘可能地類似。藉此，使用者能夠以與進入潔淨室(clean room)操作處理裝置40之操作面板相同之操作感覺經由輸入裝置201編輯處理配方等。
又，編輯功能部26於根據經由輸入裝置201之來自使用者之操作使處理配方等變更之情形時，對配方ID發行部27進行請求，對變更後 之處理配方等請求配方ID之重新發行。並且，編輯功能部26與由配方ID發行部27重新發行之配方ID相對應地將變更後之處理配方等儲存於處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34或生產模式用處理配方記憶區域35。
並且，編輯功能部26將與對應於變更前之處理配方等之配方ID相對應之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、及狀態自配方檢索DB31抽出，並與抽出之該等資訊相對應地將重新發行之配方ID登錄於配方檢索DB31。
如此，於根據由使用者進行之操作使處理配方變更之情形時，將變更後之處理配方與重新發行之配方ID相對應地儲存於處理配方記憶區域33。並且，根據來自各個處理裝置40之配方請求，將所請求之處理配方等自動地提供給各處理裝置40。藉此，處理條件管理系統20中對處理配方等所進行之作業自動地展開應用於所有處理裝置40。因此，能夠將變更後之處理配方等可靠地提供給處理裝置40，且防止作業者將應提供之處理配方等弄錯等之錯誤。
又，於經由USB(Universal Serial Bus，通用串列匯流排)記憶體等之記憶媒體將處理配方等自進行處理配方之編輯之電腦儲存於處理裝置40之情形時，有因處理配方之傳送引起之安全性降低及業務效率降低之虞。對此，於本實施形態中，由於處理條件管理系統20中所管理之處理配方等係以線上提供給各處理裝置40，故而能夠抑制安全性降低及業務效率降低。
判定部25於處理配方等有所變更之情形時，判定進行變更之使用者之屬性，並判定是否對已變更之處理配方等之狀態進行變更。判定部25例如對每個使用者之屬性預先保持有對該屬性之使用者顯示或變更之處理配方等所分配之狀態。並且，判定部25例如於對變更前之處理配方等所分配之狀態與對應於進行變更之使用者之屬性之狀態不 同之情形時，判定為將對變更後之處理配方等所分配之狀態變更為對應於進行變更之使用者之屬性之狀態。
此處，於對變更前之處理配方等所分配之狀態為「已驗證」，對變更後之處理配方等所分配之狀態變為「已驗證」之情形，根據變更重新分配配方ID，藉此對於製品ID、步驟ID、裝置型式、及裝置ID相同之組合，「已驗證」之狀態相對應之配方ID存在複數個。因此，於與重新發行之配方ID相對應之狀態為「已驗證」之情形時，對於製品ID、步驟ID、裝置型式、及裝置ID相同之組合，將與「已驗證」之狀態相對應之其他配方ID之狀態變更為「已驗證」以外之狀態(例如1個下位之狀態「已檢查」)。
又，判定部25即便於編輯功能部26未對所顯示之處理配方等進行變更之情形時，亦判定顯示處理配方等之使用者之屬性，並判定是否變更處理配方等之狀態。判定部25例如於對所顯示之處理配方等所分配之狀態相較於與顯示該處理配方等之使用者之屬性相對應之狀態為下位之狀態的情形時，判定為將對所顯示之處理配方等所分配之狀態變更為與顯示該處理配方等之使用者之屬性相對應之狀態。
例如，於對所顯示之處理配方等所分配之狀態為「已創建」，且與顯示該處理配方等之使用者之屬性相對應之狀態為「已核實」之情形時，判定部25判定為將對所顯示之處理配方等所分配之狀態自「已創建」變更為「已核實」。例如，於工程師製作並登錄於處理條件管理系統20之「已創建」之狀態之處理配方等向上司等具有特定權限之使用者顯示並經文法確認等之情形時，判定部25判定為將該處理配方等之狀態自「已創建」變更為「已核實」。
另一方面，於對所顯示之處理配方等所分配之狀態例如為「已檢查」，對應於顯示該處理配方等之使用者之屬性之狀態相較於例如「已檢查」為下位之狀態之「已核實」之情形時，判定部25判定為無 須變更對所顯示之處理配方等所分配之狀態。
變更部24於藉由判定部25判定為變更處理配方等之狀態之情形時，對與處理配方記憶區域33內之處理配方等相對應之狀態進行變更。又，變更部24於對處理配方記憶區域33內之處理配方等之狀態進行變更之情形時，亦對配方檢索DB31內之狀態一併進行變更。
規範處理配方產生部22對與任一之處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34內之處理配方及裝置參數相對應之狀態進行監視。並且，規範處理配方產生部22將狀態變更為「已驗證」之處理配方及裝置參數自非生產模式用處理配方記憶區域34讀出。並且，規範處理配方產生部22基於讀出之處理配方及裝置參數，產生藉由規範裝置實現相同之處理之情形時之處理配方即規範處理配方。再者，自非生產模式用處理配方記憶區域34讀出之裝置參數作為規範處理配方所含之參數之值，編入規範處理配方內。
並且，規範處理配方產生部22向配方ID發行部27請求針對產生之規範處理配方之配方ID之重新發行。並且，規範處理配方產生部22與由配方ID發行部27重新發行之配方ID相對應地將產生之規範處理配方儲存於規範處理配方記憶區域32。
機差調整部23對各個處理裝置40算出調整與規範裝置之機差之調整值。並且，機差調整部23將對每個處理裝置40算出之調整值應用於規範處理配方，藉此算出處理配方及裝置參數。並且，機差調整部23關於對每個處理裝置40算出之處理配方及裝置參數向配方ID發行部27請求配方ID之重新發行。
又，機差調整部23對每個處理裝置40，自AEC15取得於該時間點之最新之AEC_VP。並且，機差調整部23對每個處理裝置40，將「已驗證」之狀態、處理配方、裝置參數、及AEC_VP與重新發行之配方ID相對應地儲存於處理配方記憶區域33內之生產模式用處理配方記憶 區域35。
又，機差調整部23於每個特定時點自AEC15取得對各個處理裝置40表示處理裝置40之狀態之變化的AEC_VP。並且，機差調整部23對每個處理裝置40將生產模式用處理配方記憶區域35內之AEC_VP之值以取得之AEC_VP之值進行更新。並且，機差調整部23向配方ID發行部27發出請求，對與更新之AEC_VP相對應之各個配方ID，請求重新之配方ID之發行。
並且，機差調整部23於生產模式用處理配方記憶區域35內將與更新之AEC_VP相對應之各個配方ID替換為由配方ID發行部27重新發行之配方ID。又，機差調整部23亦於配方檢索DB31內同樣地進行配方ID之替換。藉此，即便處理配方及裝置參數相同，每次AEC_VP之值改變時亦會分配不同之配方ID，故而可防止繼續使用與舊的AEC_VP之值相對應之處理配方。
[利用處理裝置40所進行之處理配方之製作處理]
圖12係表示利用處理裝置40所進行之處理配方之製作處理的一例之流程圖。
首先，配方編輯部44將處理配方及裝置參數等自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出。並且，配方編輯部44將讀出之處理配方及裝置參數等顯示於顯示部46，根據經由操作部45之來自處理裝置40之操作者之操作，對讀出之處理配方及裝置參數等進行編輯(S100)。
其次，配方編輯部44根據經由操作部45之來自操作者之操作，將與所編輯之處理配方及裝置參數等相對應之測試ID傳送至處理執行部42。處理執行部42將與自配方編輯部44接收之測試ID相對應之處理配方及裝置參數自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出。並且，處理執行部42基於自非生產模式用處理配方記憶區域52讀出之處理配方及裝置參數，對晶圓執行處理(S101)。
其次，配方編輯部44判定是否經由操作部45已受理與測試ID一併將處理配方等登錄於處理條件管理系統20之指示(S102)。於未受理將處理配方等登錄於處理條件管理系統20之指示之情形時(S102：否)，配方編輯部44再次執行步驟S100所示之處理。
另一方面，於已受理將處理配方等登錄於處理條件管理系統20之指示之情形時(S102：是)，配方編輯部44將與測試ID相對應之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數自非生產模式用處理配方記憶區域52之讀出。並且，配方編輯部44將包含讀出之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數之登錄請求發送至處理條件管理系統20(S103)。並且，處理裝置40結束本流程圖所示之處理。
[基於處理配方等之晶圓之處理]
圖13係表示基於處理配方等之晶圓之處理的一例之流程圖。例如於由MES12指示處理之開始之情形時，處理裝置40開始本流程圖所示之處理。
首先，快取控制部43將生產模式用處理配方記憶區域53內之資料、及快取區域54內之資料抹除(S200)。並且，快取控制部43判定是否已自MES12接收配方ID及APC_VP(S201)。於未接收配方ID及APC_VP之情形時(S201：否)，快取控制部43判定是否已自MES12接收結束指示(S209)。於未接收結束指示之情形時(S209：否)，快取控制部43再次執行步驟S201所示之處理。另一方面，於已接收結束指示之情形時(S209：是)，處理裝置40結束本流程圖所示之處理。
於已接收配方ID及APC_VP之情形時(S201：是)，快取控制部43判定對應於自MES12接收之配方ID之處理配方等是否存在於快取區域54內(S202)。於對應於自MES12接收之配方ID之處理配方等存在於快取區域54內之情形時(S202：是)，快取控制部43執行步驟S206所示之 處理。
另一方面，於對應於自MES12接收之配方ID之處理配方等不存在於快取區域54內之情形時(S202：否)，快取控制部43將包含自MES12接收之配方ID之配方請求發送至處理條件管理系統20(S203)。並且，快取控制部43自處理條件管理系統20接收處理配方等(S204)。並且，快取控制部43將接收之處理配方等與自MES12接收之配方ID相對應地儲存於快取區域54(S205)。
其次，快取控制部43將對應於自MES12接收之配方ID之處理配方等自快取區域54讀出並儲存於生產模式用處理配方記憶區域53(S206)。並且，快取控制部43將自MES12接收之配方ID及APC_VP傳送至處理執行部42。
處理執行部42將對應於自快取控制部43接收之配方ID之處理配方等自生產模式用處理配方記憶區域53讀出。並且，處理執行部42基於讀出之處理配方等、及自快取控制部43接收之APC_VP，對晶圓執行處理(S207)。並且，於對晶圓之處理結束之情形時，處理執行部42將用於處理之處理配方等之生產模式用處理配方記憶區域53中抹除(S208)。並且，快取控制部43再次執行步驟S201所示之處理。
[處理配方等之登錄處理]
圖14係表示將藉由處理裝置40製作之處理配方等登錄於處理條件管理系統20之處理的一例之流程圖。例如，於處理配方登錄部28自處理裝置40接收包含製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、處理配方、及裝置參數之登錄請求之情形時，處理條件管理系統20開始本流程圖所示之處理。
首先，處理配方登錄部28向配方ID發行部27針對登錄請求所含之處理配方等請求配方ID之重新發行(S300)。並且，處理配方登錄部28與由配方ID發行部27重新發行之配方ID相對應地將處理配方等登錄 於對應於登錄請求之發送源之處理裝置40的處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34(S301)。
其次，處理配方登錄部28使「已創建」之狀態與登錄於非生產模式用處理配方記憶區域34之處理配方等相對應(S302)。並且，處理配方登錄部28使由配方ID發行部27重新發行之配方ID與「已創建」之狀態一併與登錄請求所含之製品ID、步驟ID、裝置型式、及裝置ID相對應地登錄於配方檢索DB31(S303)。並且，處理條件管理系統20結束本流程圖所示之處理。
[配方ID之發送處理]
圖15係表示根據來自MES12之詢問，處理條件管理系統20發送配方ID之處理的一例之流程圖。
首先，通信部21於自MES12接收到批次資訊、步驟ID、及裝置ID之情形時，自批次資訊抽出製品ID(S400)。並且，通信部21參照配方檢索DB31，特定出與製品ID、步驟ID、及裝置ID相對應之配方ID(S401)。並且，通信部21將特定出之配方ID發送至MES12(S402)。並且，處理條件管理系統20結束本流程圖所示之處理。
[處理配方之編輯處理]
圖16係表示利用處理條件管理系統20所進行之處理配方之編輯處理的一例之流程圖。
首先，編輯功能部26根據經由輸入裝置201之來自使用者之操作，執行登錄處理(S500)，驗證使用者。並且，編輯功能部26判定是否已自使用者經由通信部21受理配方ID(S501)。於已自使用者受理配方ID之情形時(S501：是)，編輯功能部26將與已受理之配方ID相對應之處理配方等自處理配方記憶區域33讀出並顯示於顯示裝置200(S502)。
其次，編輯功能部26根據經由輸入裝置201之來自使用者之操 作，對讀出之處理配方等進行編輯(S503)。並且，編輯功能部26判定是否已自使用者受理結束指示(S504)。於未受理結束指示之情形時(S504：否)，編輯功能部26再次執行步驟S503所示之處理。
另一方面，於已受理結束指示之情形時(S504：是)，編輯功能部26判定處理配方等是否已變更(S505)。再者，於僅瀏覽處理配方等之情形時，使用者於瀏覽所顯示之處理配方等後，不進行編輯而輸入結束指示。於處理配方等未變更之情形時(S505：否)，判定部25執行步驟S509所示之處理。
另一方面，於處理配方等已變更之情形時(S505：是)，編輯功能部26向配方ID發行部27請求對變更後之處理配方等重新發行配方ID。配方ID發行部27根據來自編輯功能部26之請求，重新發行唯一之配方ID(S506)。並且，編輯功能部26使變更後之處理配方等與由配方ID發行部27重新發行之配方ID相對應地儲存於儲存有變更前之處理配方等之處理配方記憶區域33內(S507)。
其次，編輯功能部26將與步驟S502中已受理之配方ID相對應之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、及狀態之資訊自配方檢索DB31抽出。並且，編輯功能部26使重新發行之配方ID與抽出之製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、及狀態相對應地登錄於配方檢索DB31(S508)。
其次，判定部25基於顯示處理配方等之使用者之屬性判定是否變更處理配方等之狀態(S509)。於判定部25判斷為不變更狀態之情形時(S509：否)，處理條件管理系統20結束本流程圖所示之處理。
於判定部25判定為變更狀態之情形時(S509：是)，變更部24對與步驟S507中儲存之處理配方等相對應之狀態進行變更(S510)。此時，亦對配方檢索DB31內之狀態一併進行變更。並且，處理條件管理系統20結束本流程圖所示之處理。
圖17係表示利用處理條件管理系統20所進行之規範處理配方之產生及每個處理裝置40之處理配方之製作的處理之一例之流程圖。
首先，規範處理配方產生部22判定是否儲存於任一處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34內之處理配方等之狀態已變更為「已驗證」(S600)。於儲存於任一處理配方記憶區域33內之非生產模式用處理配方記憶區域34內之處理配方等之狀態已變更為「已驗證」之情形時(S600：是)，規範處理配方產生部22自非生產模式用處理配方記憶區域34讀出處理配方等(S601)，並將讀出之處理配方等自非生產模式用處理配方記憶區域34中抹除(S602)。
其次，規範處理配方產生部22基於讀出之處理配方等，產生藉由規範裝置實現相同之處理之情形時之處理配方即規範處理配方，並將產生之規範處理配方儲存於規範處理配方記憶區域32(S603)。
其次，機差調整部23對各個處理裝置40算出調整與規範裝置之機差之調整值，並將算出之調整值應用於規範處理配方，藉此製作處理配方等(S604)。並且，機差調整部23向配方ID發行部27針對製作之每個處理裝置40之處理配方等請求配方ID之重新發行。配方ID發行部27根據來自機差調整部23之請求，重新發行唯一之配方ID(S605)。
其次，機差調整部23使對每個處理裝置40產生之處理配方等與該時間點之最新之AEC_VP一併與重新發行之配方ID相對應地儲存於處理配方記憶區域33內之生產模式用處理配方記憶區域35(S606)。並且，機差調整部23將製品ID、步驟ID、裝置型式、裝置ID、配方ID、及狀態登錄於配方檢索DB31(S607)。並且，規範處理配方產生部22再次執行步驟S600所示之處理。
[硬體]
於處理條件管理系統20係藉由1台電腦實現之情形時，該電腦亦可為如圖18所示之構成。圖18係表示實現處理條件管理系統20之功能 之電腦70的一例之圖。電腦70具備CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)71、RAM(Random Access Memory，隨機存取記憶體)72、ROM(Read Only Memory，唯讀記憶體)73、輔助記憶裝置74、通信介面(I/F)75、輸入輸出介面(I/F)76、及媒體介面(I/F)77。
CPU71基於儲存於ROM73或輔助記憶裝置74之程式進行動作，對各部分進行控制。ROM73於電腦70之啟動時對藉由CPU71執行之啟動程式、或依存於電腦70之硬體之程式等進行儲存。
輔助記憶裝置74例如為HDD(Hard Disk Drive，硬碟驅動機)或SSD(Solid State Drive，固態驅動機)等，對藉由輔助記憶裝置74執行之程式及該程式使用之資料等進行儲存。CPU71將該程式自例如輔助記憶裝置74讀出後載入RAM72上，並執行已載入之程式。通信I/F75經由EI等通信NW(網路)自其他裝置接收資料並傳送至CPU71，CPU71將產生之資料經由通信NW發送至其他裝置。
CPU71經由輸入輸出I/F76控制顯示裝置200及輸入裝置201。CPU71經由輸入輸出I/F76自輸入裝置201取得資料。又，CPU71將產生之資料經由輸入輸出I/F76輸出至顯示裝置200。
媒體I/F77將儲存於記錄媒體78中之程式或資料讀出，並儲存於輔助記憶裝置74。記錄媒體78例如為DVD(Digital Versatile Disc，數位多功能光碟)、PD(Phase change rewritable Disk，相變可再寫磁碟)等光學記錄媒體、MO(Magneto-Optical disk，磁光碟)等磁光記錄媒體、磁帶媒體、磁性記錄媒體、或半導體記憶體等。
電腦70之CPU71藉由執行RAM72上所載入之程式而實現通信部21、規範處理配方產生部22、機差調整部23、變更部24、判定部25、編輯功能部26、配方ID發行部27、處理配方登錄部28、處理配方提供部29、及記憶部30之各功能。又，於ROM73或輔助記憶裝置74中儲存有記憶部30內之資料。
電腦70之CPU71將程式自記錄媒體78讀取並儲存於輔助記憶裝置74，但作為其他例，亦可自其他裝置經由通信NW取得該等程式並儲存於輔助記憶裝置74。
以上對一實施形態進行了說明。根據本實施形態之生產系統1，能夠減小MES之負擔，並對處理配方等之處理條件集中管理。
再者，本發明並非限定於上述實施形態者，可於其主旨範圍內進行各種變化。
例如，亦可於處理條件管理系統20之記憶部30內之配方檢索DB31中，與裝置ID相對應地儲存有產品ID或批次資訊及配方ID。於此情形，通信部21於自MES12接收裝置ID及產品ID或批次資訊之情形時，於配方檢索DB31內特定與接收之裝置ID及產品ID或批次資訊相對應之配方ID，並將特定出之配方ID發送至MES12。
又，生產規劃系統10、FICS11、及處理條件管理系統20可藉由1台電腦而實現，亦可將各個裝置內之功能分散配置於複數個電腦，該等電腦經由通信NW相互協調動作，複數個電腦作為整體而實現各個裝置之功能。尤其是亦可將處理條件管理系統20具有之記憶部30內之資料設置於處理條件管理系統20之外部之裝置內。於此情形，處理條件管理系統20經由通信NW對該外部進行存取，藉此自該外部之裝置取得記憶部30內之資料。
以上利用實施形態對本發明進行了說明，但本發明之技術性之範圍並未限定於上述實施形態中記載之範圍。業者應明瞭可對上述實施形態施加多種變更或改良。又，自申請專利範圍之記載而明確施加有此種變更或改良之形態亦可包含於本發明之技術性之範圍內。
1‧‧‧生產系統
10‧‧‧生產規劃系統
11‧‧‧FICS
12‧‧‧生產執行系統
13‧‧‧工廠RMS
14‧‧‧APC
15‧‧‧AEC
20‧‧‧處理條件管理系統
40-1、40-2、40-n‧‧‧處理裝置

Claims (12)

  1. 一種處理條件管理系統，其特徵在於：其係用於包含工廠資訊控制系統及複數個處理裝置之生產系統中之處理條件管理系統，且具備：處理條件記憶部，其針對同種之上述複數個處理裝置之各者，記憶上述處理裝置對被處理基板進行處理時所用之處理條件；通信部，其於與上述工廠資訊控制系統之間發送及接收與上述處理條件相關之資訊；及處理條件提供部，其於被各個上述處理裝置請求處理條件之情形時，將所請求之處理條件自上述處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
  2. 如請求項1之處理條件管理系統，其中各個上述處理裝置進行處理時所用之處理條件為處理配方。
  3. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述通信部將識別各個上述處理配方之配方ID作為與上述處理條件相關之資訊而發送至上述工廠資訊控制系統。
  4. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部係對每個上述處理裝置相對應地記憶特定製品群之產品ID或批次資訊、處理配方、及識別該處理配方之配方ID，上述通信部係於自上述工廠資訊控制系統接收到識別處理裝置之裝置ID、及產品ID或批次資訊作為與上述處理條件相關之資訊的情形時，針對與接收到之裝置ID對應之處理裝置，於上述處理條件記憶部內特定與接收到之產品ID或批次資訊相對應 之配方ID，並將特定出之配方ID發送至上述工廠資訊控制系統。
  5. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部係對每個上述處理裝置相對應地記憶特定出製品群之產品ID或批次資訊、處理步驟、處理配方、及識別該處理配方之配方ID，上述通信部係於自上述工廠資訊控制系統接收到識別處理裝置之裝置ID、產品ID或批次資訊、及處理步驟作為與上述處理條件相關之資訊的情形時，針對與接收到之裝置ID對應之處理裝置，於上述處理條件記憶部內特定與接收到之產品ID或批次資訊及處理步驟相對應之配方ID及處理配方，並將特定出之配方ID及處理配方之至少任一者發送至上述工廠資訊控制系統。
  6. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部針對各個上述處理裝置，以與上述處理裝置之記憶部內之資料夾結構對應之資料夾結構而記憶上述處理條件。
  7. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部係針對代表上述複數個處理裝置之規範裝置，進而記憶該規範裝置進行處理時所用之處理配方即規範處理配方，上述處理條件管理系統進而具備機差調整部，其參照上述規範處理配方，基於各個處理裝置與上述規範裝置之間之機差，而製作各個處理裝置之處理配方，並將製作出之處理配方與各個處理裝置相對應地儲存於上述處理條件記憶部。
  8. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件提供部係於自複數個處理裝置之各者接收到在處理裝置之記憶部內快取之處理配方中不存在處理對象之處理 配方之情形時所發送之、包含與處理對象之處理配方相關的資訊之處理配方請求之情形時，將以所接收到之處理配方請求所含之資訊特定出之處理配方，自上述處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
  9. 如請求項2之處理條件管理系統，其進而具備編輯功能部，該編輯功能部提供上述處理條件記憶部所記憶之處理條件之編輯功能，且上述編輯功能部具有與同種之上述複數個處理裝置所具有之處理條件之編輯功能及操作性同等的編輯功能及操作性。
  10. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部係對每個上述處理裝置相對應地記憶處理配方及識別該處理配方之配方ID，上述處理條件管理系統進而具備配方ID發行部，其於新的處理配方被儲存於上述處理條件記憶部之情形、或者於上述處理條件記憶部內之處理配方有所變更之情形時，對該處理配方重新發行唯一之配方ID。
  11. 如請求項2之處理條件管理系統，其中上述處理條件記憶部係對各個上述處理裝置之每一者相對應地記憶處理配方及表示該處理配方之完成度之狀態，上述處理條件管理系統進而具備：判定部，其判定各個上述處理配方是否已由具有特定屬性之使用者確認；及變更部，其於由上述判定部判定出各個上述處理配方已由具有特定屬性之使用者確認之情形時，將上述處理配方之狀態變更為表示與已進行上述處理配方之確認之使用者之屬性對應之完成度的狀態。
  12. 一種生產系統，其特徵在於具備：工廠資訊控制系統；複數個處理裝置；及處理條件管理系統；且上述處理條件管理系統具有：處理條件記憶部，其針對同種之上述複數個處理裝置之各者，記憶上述處理裝置對被處理基板進行處理時所用之處理條件；通信部，其於與上述工廠資訊控制系統之間發送及接收與上述處理條件相關之資訊；以及條件處理提供部，其於被各個上述處理裝置請求處理條件之情形時，將所請求之處理條件自上述處理條件記憶部讀出並提供給請求源之處理裝置。
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