TW201502702A - 低透濕性膜、光學膜、偏光板及液晶顯示裝置、以及低透濕性膜的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可提供透濕度低、且脆性良好的光學膜的低透濕性膜，於所述低透濕性膜上進一步設有硬塗層的透濕度低、且脆性良好的光學膜，使用所述光學膜的偏光板，使用所述偏光板的在高溫高濕環境下隨時間經過後的影像品質優異的液晶顯示裝置，及所述低透濕性膜的製造方法。 一種低透濕性膜，其在基材膜上包含對硬化性組成物進行硬化而形成的層，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)：(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者，(B)聚酯胺基甲酸酯。

Description

低透濕性膜、光學膜、偏光板及液晶顯示裝置、以 及低透濕性膜的製造方法

本發明是有關於一種低透濕性膜、光學膜、偏光板及液晶顯示裝置、以及低透濕性膜的製造方法。

近年來，液晶顯示裝置廣泛用於液晶電視或個人電腦、行動電話、數位相機等的液晶面板等用途中。通常情況下，液晶顯示裝置包含在液晶單元的兩側設有偏光板的液晶面板構件，藉由液晶面板構件控制來自背光構件的光而進行顯示。此處，偏光板包含偏光元件與其兩側的保護膜，一般的偏光元件可藉由碘或二色性色素對進行了延伸的聚乙烯醇(PVA)系膜進行染色而獲得，保護膜使用纖維素酯膜等。

作為最近的液晶顯示裝置，高品質化且用途亦多樣化，對耐久性的要求變嚴格。例如，在室外用途的使用中要求對環境變化的穩定性，關於液晶顯示裝置中所使用的所述偏光板用保護 膜或光學補償膜等光學膜，亦要求抑制對於溫度或濕度變化的尺寸或光學特性的變化。

於專利文獻1中記載了藉由將偏光板的表面膜設為低透濕性膜，可抑制由於液晶顯示裝置的環境變化所引起的顯示影像品質的劣化。

於專利文獻2中記載了一種低透濕性膜，所述低透濕性膜包含硬化層，所述硬化層是將含有具有特定環狀脂肪族烴基，且於分子內具有2個不飽和雙鍵基的化合物的硬化性組成物塗佈於透明基材膜上，使其硬化而所得者。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2008-256747號公報

[專利文獻2]日本專利特開2006-083225號公報

在將藉由專利文獻2的方法而所得的低透濕性膜用作配置於液晶顯示裝置等的表面的光學膜的情況下，存在於所述硬化層上積層硬塗層的必要。

然而，由本發明者等人的研究可知：若於藉由專利文獻2的方法而所得的低透濕性膜的所述硬化層上積層硬塗層，則產生由於硬塗層的破裂所引起的脆性惡化(彎曲時變得容易於硬塗層或防眩層產生龜裂)。

若脆性差，則於加工偏光板或貼附液晶面板時變得容易產生龜裂，產生由於收率降低等而引起生產性的降低。

而且，於近年來急速擴大的平板(tablet)個人電腦(personal computer，PC)或行動電話(mobile)用途等中小型中，薄型化、液晶顯示裝置內節省空間的要求高，因此強烈期望解決在高溫高濕環境下隨時間經過後的漏光問題。認為液晶顯示裝置產生液晶單元翹曲或漏光的原因在於：偏光板及構成其的光學膜、特別是偏光元件吸收及放出水分，由此於液晶顯示裝置的液晶單元的前面及背面的偏光板產生收縮差，平衡破壞而造成液晶單元翹曲、液晶單元的四角或四邊與框體或背面側的構件接觸，從而產生漏光。因此，對於偏光板的保護膜要求濕度依存性或濕熱耐久性的改善，為了徹底地進行改良，需要抑制由於環境變化而吸收及放出水分，特別是對偏光板的最表面的光學膜要求進一步的透濕度的減低。

為了使用專利文獻2的技術而進一步減低透濕度，需要增加所述硬化層的膜厚，但若增加膜厚則脆性進一步惡化。

另一方面，近年液晶顯示裝置的低價格化不斷進展，對光學膜等構件亦要求有助於生產性的提高。因此，要求開發出透濕度降低且脆性良好的生產性良好的膜。

鑒於如上所述的狀況，本發明的目的、亦即本發明所欲解決之課題是提供可提供透濕度低、且脆性良好的光學膜的低透濕性膜。

而且，本發明的其他目的在於提供在所述低透濕性膜上進一步設有硬塗層的透濕度低、且脆性良好的光學膜。

另外，本發明的其他目的在於提供使用所述光學膜的偏光板、使用所述偏光板的在高溫高濕環境下隨時間經過後的影像品質優異的液晶顯示裝置。

本發明者等人進行了銳意研究，結果發現藉由使用在基材膜上包含硬化層(所述硬化層由以特定範圍的比例含有具有特定結構的單體、聚酯胺基甲酸酯的硬化性組成物而獲得)的低透濕性膜，可改善於所述硬化層上設置硬塗層而製成光學膜時的脆性，且可減低透濕度。另外，發現藉由將此種光學膜用作偏光板的保護膜，可提供在高溫高濕環境下隨時間經過後的漏光得到改善的液晶顯示裝置，從而完成本發明。

本發明所欲解決之課題可藉由作為下述手段的本發明而解決。

[1]一種低透濕性膜，其在基材膜上包含對硬化性組成物進行硬化而形成的層，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)：(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者， (B)聚酯胺基甲酸酯。

[2]如[1]所述之低透濕性膜，其中，所述環狀脂肪族烴基是下述通式(I)所表示的基：

通式(I)中，L及L'各自獨立地表示二價以上的連結基，n表示1~3的整數。

[3]如[1]或[2]所述之低透濕性膜，其中，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，含有相對於所有固體成分而言為1質量%~40質量%的下述(C)：(C)松香化合物。

[4]如[3]所述之低透濕性膜，其中，所述松香化合物是選自松香、氫化松香、酸改質松香及酯化松香的1種以上松香化合物。

[5]如[1]~[4]中任一項所述之低透濕性膜，其中，所述基材膜是醯化纖維素膜。

[6] 一種光學膜，其在如[1]~[5]中任一項所述之低透濕性膜的對含有所述(A)及(B)的硬化性組成物進行硬化而形成的層上進一步包含硬塗層。

[7]一種低透濕性膜的製造方法，其包含：在基材膜上對硬化性組成物進行硬化而形成層的步驟，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)：(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者，(B)聚酯胺基甲酸酯。

[8]一種偏光板，其包含偏光元件、與至少1片作為所述偏光元件的保護膜的如[6]所述之光學膜。

[9]一種液晶顯示裝置，其包含液晶單元、與配置於所述液晶單元的至少一個上的如[8]所述之偏光板，所述光學膜配置於最表面。

藉由本發明可提供低透濕性膜，所述低透濕性膜可提供透濕度低、且脆性良好的光學膜。而且，可提供在所述低透濕性膜上進一步設有硬塗層的光學膜、及使用所述光學膜的偏光板、 及使用所述低透濕性膜的液晶顯示裝置，藉此可提供在高溫高濕環境下隨時間經過後的漏光產生得到抑制的液晶顯示裝置。

於以下中，對本發明的低透濕性膜、光學膜或其製造方法、其中所使用的添加劑等加以詳細說明。

以下所記載的構成要件的說明是基於本發明的代表性實施形態而成，但本發明並不限定於此種實施形態。另外，本說明書中，使用「~」而表示的數值範圍是表示包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。

所謂「丙烯酸樹脂」是表示對甲基丙烯酸或丙烯酸的衍生物進行聚合而所得的樹脂、及含有其衍生物的樹脂。而且，在無特別限定的情況下，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的至少一者，「(甲基)丙烯酸基」表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基的至少一者。

另外，所謂膜的「慢軸方向」是表示在膜面內的折射率成為最大的方向，所謂「快軸方向」是表示在膜面內與慢軸正交的方向。

[低透濕性膜及低透濕性膜的製造方法]

本發明的低透濕性膜在基材膜上設有對硬化性組成物進行硬化而形成的層(以下亦簡稱為「低透濕層」)，在將所述硬化性組 成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)。

(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者

(B)聚酯胺基甲酸酯

本發明亦有關於在所述低透濕性膜的低透濕層上包含硬塗層的光學膜。

而且，本發明的低透濕性膜的製造方法包含在基材膜上對硬化性組成物進行硬化而形成低透濕層的步驟，將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的所述(A)及相對於硬化性組成物的所有固體成分而言為1質量%~30質量%的所述(B)。

本發明的低透濕性膜的透濕度較佳的是5.0g/m²/天~105g/m²/天，更佳的是5.0g/m²/天~90g/m²/天，進一步更佳的是5.0g/m²/天~75g/m²/天，特佳的是5.0g/m²/天~65g/m²/天以下。

(光學膜的透濕度)

本發明的光學膜藉由以所述含量而於低透濕層中含有所述(A)與(B)，可由於所述(A)與(B)的相乘效應而顯著地達成透濕度的減低，可使耐久性優異、且減低透濕度。

本發明的光學膜較佳的是透濕度為5.0g/m²/天~105g/m²/天。

本發明的光學膜的透濕度更佳的是5.0g/m²/天~90g/m²/天，進一步更佳的是5.0g/m²/天~75g/m²/天，特佳的是5.0g/m²/天~65g/m²/天，最佳的是5.0g/m²/天~60g/m²/天。透濕度若為105g/m²/天以下，則可抑制液晶顯示裝置在常溫、高濕及高溫高濕環境下隨時間經過後的液晶單元的翹曲所帶來的漏光。

(此處，透濕度是藉由JIS Z-0208的方法，於40℃、相對濕度為90%下經過24小時後的值)

{低透濕層}

本發明的低透濕性膜中的低透濕層含有(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者，且 含有(B)聚酯胺基甲酸酯。可藉由如下方式而形成：將視需要而進一步含有松香化合物、聚合起始劑、透光性粒子、含氟或矽酮系化合物、溶劑的硬化性組成物，直接或者經由其他層而塗佈於基材膜上，進行乾燥、硬化。以下，對各成分加以說明。

[具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物]

具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物可作為黏合劑而發揮功能。

藉由使用具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物，可實現低透濕性，基材膜或其他層與低透濕層的密著性優異，進一步可防止偏光板的漏光。詳細情況並不明確，但藉由使用在分子內具有環狀脂肪族烴基的化合物，可於低透濕層導入疏水性 的環狀脂肪族烴基而進行疏水化，藉此可防止自外部進入分子，從而使透濕度降低。而且，藉由在分子內具有乙烯性不飽和雙鍵，可提高交聯點密度，限制低透濕層中的水分子的擴散路徑。提高交聯點密度亦具有使環狀脂肪族烴基的密度相對性上升的效果，使低透濕層內更疏水，防止水分子的吸附，使透濕度降低。

為了使交聯點密度提高，更佳的是分子內所具有的乙烯性不飽和雙鍵數為2以上。

在這種情況下，亦可將具有環狀脂肪族烴基且乙烯性不飽和雙鍵數為2以上的化合物、與具有環狀脂肪族烴基且乙烯性不飽和雙鍵數為1的化合物混合而使用。

作為環狀脂肪族烴基，較佳的是碳數為7以上的由脂環式化合物所衍生的基，更佳的是碳數為10以上的由脂環式化合物所衍生的基，進一步更佳的是碳數為12以上的由脂環式化合物所衍生的基。

環狀脂肪族烴基特佳的是二環式、三環式等的由多環式化合物所衍生的基。

更佳的是可列舉日本專利特開2006-215096號公報的專利申請範圍中所記載的化合物的中心骨架、日本專利特開2001-10999號公報中所記載的化合物的中心骨架、或者金剛烷衍生物的骨架等。

環狀脂肪族烴基具體而言可列舉降莰烷基、三環癸烷基、四環十二烷基、五環十五烷基、金剛烷基、雙金剛烷基等。

環狀脂肪族烴基(包含連結基)較佳的是下述通式(I)~通式(V)的任意者所表示的基，更佳的是下述通式(I)、通式(II)、或通式(IV)所表示的基，進一步更佳的是下述通式(I)或通式(IV)所表示的基。

通式(I)中，L及L'各自獨立地表示單鍵或2價以上的連結基。n表示1~3的整數。

通式(II)中，L及L'各自獨立地表示單鍵或2價以上的連結基。n表示1~2的整數。

通式(III)中，L及L'各自獨立地表示單鍵或2價以上的連結基。n表示1~2的整數。

通式(IV)中，L及L'各自獨立地表示單鍵或2價以上的連結基，L"表示氫原子、單鍵或2價以上的連結基。

通式(V)中，L及L'各自獨立地表示單鍵或2價以上的連結基。

關於L、L'及L"的2價以上的連結基，可列舉碳數為1~6的亦可經取代的伸烷基、N位亦可經取代的醯胺鍵、N位亦可經取代的胺基甲酸酯鍵、酯鍵、氧基羰基、醚鍵等，以及將該些的2個以上組合而所得的基。

乙烯性不飽和雙鍵可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能基，其中較佳的是(甲基)丙烯醯基及-C(O)OCH=CH₂。更佳的是可使用下述的在1分子內含有2個以上(甲基)丙烯醯基的化合物。

具有環狀脂肪族烴基且在分子內具有2個以上乙烯性不飽和雙鍵的化合物可藉由如下方式而構成：經由連結基而將所述的環狀脂肪族烴基與具有乙烯性不飽和雙鍵的基鍵結。

該些化合物例如可藉由具有所述環狀脂肪族烴基的二醇、三醇等多元醇與具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等的化合物的羧酸、羧酸衍生物、環氧衍生物、異氰酸酯衍生物等的一段或二段的反應而容易地合成。

較佳的是可藉由使用(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯醯氯、(甲基)丙烯酸酐、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等化合物，或WO2012/00316A號中所記載的化合物(例如異氰酸-1,1-雙(丙烯醯氧基甲基)乙酯)，使其與具有所述環狀脂肪族烴基的多元醇反應而合成。

以下，列舉具有環狀脂肪族烴基且具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物的較佳的具體例，但本發明並不限定於該些具體例。

[化7]

[具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物]

低透濕層中所可含有的具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物可作為黏合劑而發揮功能。而且，具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物可作為硬化劑而發揮功能，變得可使塗膜的強度或耐擦傷性提高，同時可賦予低透濕性。

為了提高交聯點密度，更佳的是在分子內所具有的乙烯性不飽和雙鍵數為2以上。

具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物較佳的是以下述通式(VI)而表示。

(式(VI)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵及R⁶分別獨立地表示一價的取代基，m、n、p及q分別獨立地表示0~4的整數，R¹及R²的至少一者表示具有乙烯性不飽和雙鍵的一價的有機基)

作為在分子內具有茀骨架與乙烯性不飽和雙鍵的化合物，所述通式(VI)的較佳形態以下述通式(VII)而表示。

通式(VII)

(式中，R₇、R₈表示氫或甲基，r、s表示0~5的整數)

作為(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者的含量，在將所述低透濕層形成用硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%，自 由於所述(A)與(B)的相乘效應而使透濕度減低的顯著性的觀點考慮，較佳的是多於50質量%且為99質量%以下，更佳的是55質量%~95質量%，進一步更佳的是60質量%~90質量%。

[不具環狀脂肪族烴基及茀環而具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物]

在本發明中所使用的低透濕層形成用組成物中，可於不損及本發明的效果的範圍內併用在分子內不具環狀脂肪族烴基及茀環而具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物。

不具環狀脂肪族烴基及茀環而具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物較佳的是不具環狀脂肪族烴基及茀環的(甲基)丙烯酸酯化合物，可列舉烷二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、聚氧烷二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、多元醇的(甲基)丙烯酸酯類、環氧乙烷或環氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酸環氧酯類、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類等。

其中，較佳的是多元醇與(甲基)丙烯酸的酯類。例如可列舉1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸 酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、己內酯改質三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯等。

具有(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯系化合物類亦可使用市售者，可列舉新中村化學工業股份有限公司公司製造的NK Ester A-TMMT、日本化藥股份有限公司製造的KAYARAD DPHA等。關於多官能單體，於日本專利特開2009-98658號公報的段落[0114]~段落[0122]中有所記載，於本發明中可使用同樣者。

作為不具環狀脂肪族烴基而具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物，自與支撐體的密著性、低捲曲的方面考慮，較佳的是具有氫鍵結性取代基的化合物。所謂氫鍵結性取代基是指氮、氧、硫、鹵素等原子與氫鍵藉由共價鍵而連結的取代基，具體而言可列舉-OH、-SH、-NH-、-CHO、-CONH-、-OCONH-等，較佳的是(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類或具有羥基的(甲基)丙烯酸酯類。亦可使用市售的具有(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯，可列舉新中村化學工業股份有限公司公司製造的NK Oligo U4HA、新中村化學工業股份有限公司公司製造的NK Ester A-TMM-3、日本化藥股份有限公司製造的KAYARAD PET-30等。

作為在含有不具環狀脂肪族烴基及茀環而具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物的情況下的含量，在將所述低透濕層形成用硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，較佳的是在將所有固體成分設為100質量%時為1質量%~30質量%，更佳的是2質量% ~20質量%，進一步更佳的是3質量%~15質量%。

[(B)聚酯胺基甲酸酯]

本發明中所謂聚酯胺基甲酸酯是指在1分子中具有酯鍵與胺基甲酸酯鍵(-O-CO-NH-)的聚合物。

在本發明中在聚酯胺基甲酸酯的合成中所使用的單體至少包含(A2)二醇、(B2)二羧酸及(C2)二異氰酸酯。該些3種單體較佳的是包含：在具有並不分支的結構的烴基的兩末端分別鍵結有(a)羥基(-OH)、(b)羧基(-COOH)及(c)異氰酸酯(-NCO)的結構。

具有並不分支的結構的烴基較佳的是伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸芳基或者該些的組合。

伸烷基、伸烯基、伸炔基較佳的是直鏈結構。

在所述烴基為伸烷基、伸烯基、伸炔基的情況下的碳原子數較佳的是1至8，更佳的是2至6，最佳的是2至4。

伸芳基亦可具有碳原子數為1至8的烷基作為取代基。

伸芳基較佳的是伸苯基或伸萘基，更佳的是伸苯基，最佳的是對伸苯基。

所述烴基特佳的是所述伸烷基、所述伸芳基或該些的組合。

(A2)二醇較佳的是乙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,6-己二醇、1,4-環己烷二甲醇及1,5-戊二醇。

(B2)二羧酸較佳的是對苯二甲酸、間苯二甲酸、萘二甲酸、1,4-環己烷二羧酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、草酸及丙二酸。

(C2)二異氰酸酯較佳的是伸乙基二異氰酸酯、三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、間苯二甲基二異氰酸酯、對苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、對,對'-二苯基甲烷二異氰酸酯及1,5-萘二異氰酸酯。

聚酯胺基甲酸酯的數量平均分子量(Mn)較佳的是2000至100000的範圍，更佳的是5000至50000的範圍。本發明中的所謂數量平均分子量(Mn)是藉由GPC而測定的聚苯乙烯換算的數量平均分子量。

作為聚酯胺基甲酸酯的含量，在將低透濕層形成用硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，於相對於所有固體成分而言為1質量%~20質量%的範圍內使用。較佳的是2質量%~15質量%，更佳的是3質量%~10質量%。

聚酯胺基甲酸酯的市售品可列舉Vylon系列(商品名)：東洋紡股份有限公司製造等，可較佳地使用Vylon UR-1510、Vylon UR-2300、Vylon UR-3200、Vylon UR-3210、Vylon UR-3260、Vylon UR-6100、Vylon UR-8300、Vylon UR-8700等。

[(C)松香化合物]

在本發明中，亦較佳的是於低透濕層形成用硬化性組成物中含有松香化合物作為(C)成分。藉由含有松香化合物，可進一步使透濕度降低。

松香化合物(C)較佳的是選自松香、氫化松香(亦稱為氫化松香)、酸改質松香及酯化松香(亦稱為松香酯)的1種以上。

松香可列舉以松脂酸(abietic acid)、左旋海松酸(levopimaric acid)、長葉松酸(palustric acid)、新松脂酸、脫氫松脂酸、或二氫松脂酸等樹脂酸為主成分的妥爾油松香(tall-oil rosin)、松脂膠(gum rosin)、木松香(wood rosin)等未改質松香。

所謂氫化松香是指對所述松香進行氫化而成者。可列舉以高含量(例如50質量%以上)包含四氫松脂酸等四氫體者等。酸改質松香可列舉藉由狄耳士-阿德爾加成反應(Diels-Alder reaction)而加成有馬來酸、富馬酸或丙烯酸等不飽和酸的不飽和酸改質松香，更具體而言可列舉於松香上加成有馬來酸而成的馬來海松酸、加成有富馬酸而成的富馬海松酸、加成有丙烯酸而成的丙烯海松酸等。酯化松香可列舉松香的烷基酯、使松香與甘油進行酯化反應而所得的甘油酯、使松香與季戊四醇進行酯化而所得的季戊四醇酯等。

所述松香酯可列舉超級酯(Super Ester)E-720、超級酯E-730-55、超級酯E-650、超級酯E-786-60、TAMANOL E-100、乳液(Emulsion)AM-1002、乳液SE-50(以上均為商品名、特殊松香酯乳液、荒川化學工業股份有限公司製造)、超級酯L、超級酯A-18、超級酯A-75、超級酯A-100、超級酯A-115、超級酯A-125、超級酯T-125(以上均為商品名、特殊松香酯、荒川化學工業股份有限公司製造)等。

而且，松香酯可列舉酯膠(Ester Gum)AAG、酯膠AAL、酯膠A、酯膠AAV、酯膠105、酯膠HS、酯膠AT、酯膠H、酯膠 HP、酯膠HD、PENSEL A、PENSEL AD、PENSEL AZ、PENSEL C、PENSEL D-125、PENSEL D-135、PENSEL D-160、PENSEL KK(以上均為商品名、松香酯系樹脂、荒川化學工業股份有限公司製造)。

另外，其他松香可列舉RONDIS R、RONDIS K-25、RONDIS K-80、RONDIS K-18(以上均為商品名、松香衍生物、荒川化學工業股份有限公司製造)、PINECRYSTAL KR-85、PINECRYSTAL KR-120、PINECRYSTAL KR-612、PINECRYSTAL KR-614、PINECRYSTAL KE-100、PINECRYSTAL KE-311、PINECRYSTAL KE-359、PINECRYSTAL KE-604、PINECRYSTAL 30PX、PINECRYSTAL D-6011、PINECRYSTAL D-6154、PINECRYSTAL D-6240、PINECRYSTAL KM-1500、PINECRYSTAL KM-1550(以上均為商品名、超淡色系松香衍生物、荒川化學工業股份有限公司製造)、ARADIME R-140、ARADIME R-95(以上均為商品名、聚合松香、荒川化學工業股份有限公司製造)、HYPALE CH(以上均為商品名、氫化松香、荒川化學工業股份有限公司製造)、BEAMSET 101(以上均為商品名、松香丙烯酸酯、荒川化學工業股份有限公司製造)等。

而且，於本發明中，松香化合物較佳的是使用進行酸改質後進行氫化處理者。藉由實施氫化處理，可防止松香化合物的殘存雙鍵在低透濕層內氧化而造成膜著色。

松香化合物的軟化點較佳的是70℃~170℃。若松香化合物的軟化點為70℃以上，則硬化層並不變柔而阻隔性優異。若軟化點 不足170℃，則可保持對溶劑的溶解性，具有硬化層的霧度難以上升的優點。於本發明中，松香化合物的軟化點可藉由JIS K-2531的環球法而測定。

而且，自兼顧透濕度減低與脆性改良效果的觀點考慮，酸值較佳的是150mgKOH/g~400mgKOH/g，更佳的是200mgKOH/g~400mgKOH/g，進一步更佳的是280mgKOH/g~400mgKOH/g，特佳的是320mgKOH/g~400mgKOH/g。松香化合物的酸值可依據JIS K-5601-2-1中所記載的方法而測定。

作為(C)松香化合物的含量，在將所述低透濕層形成用硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，自透濕度減低的顯著性的觀點考慮，較佳的是1質量%~40質量%，更佳的是5質量%~30質量%，進一步更佳的是10質量%~25質量%。

[無機層狀化合物]

為了進一步減低本發明的低透濕層的透濕度，亦較佳的是於上述低透濕層中所可使用的黏合劑中分散無機層狀化合物。無機層狀化合物具有親水性的表面，因此較佳的是進行有機化處理。

所謂無機層狀化合物是具有單元結晶層積層而成的結構，藉由於層間配位或吸收溶劑而顯示出膨潤或解理(cleavage)的性質的無機化合物。此種無機化合物可例示膨潤性的含水矽酸鹽，例如膨潤石群黏土礦物(蒙脫石、皂石、鋰膨潤石等)、蛭石群黏土礦物、高嶺石群黏土礦物、頁矽酸鹽(雲母等)等。而且，亦可較佳地使用合成無機層狀化合物，合成無機層狀化合物可列 舉合成膨潤石(鋰膨潤石、皂石、滑鎂皂石(stevensite)等)、合成雲母等，較佳的是膨潤石、蒙脫石、雲母，更佳的是蒙脫石、雲母。可作為市售品而使用的無機層狀化合物可使用MEB-3(科奧普化學(Co-op Chemical)股份有限公司製造的合成雲母水分散液)、ME-100(科奧普化學股份有限公司製造的合成雲母)、S1ME(科奧普化學股份有限公司製造的合成雲母)、SWN(科奧普化學股份有限公司製造的合成膨潤石)、SWF(科奧普化學股份有限公司製造的合成膨潤石)、Kunipia F(Kunimine化學工業股份有限公司製造的純化膨潤土)、Bengel(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、Bengel HV(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、Bengel FW(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、BEN-GEL Bright 11(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、BEN-GEL Bright 23(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、BEN-GEL Bright 25(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、Bengel A(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)、Bengel 2M(Hojun股份有限公司製造的純化膨潤土)等。

而且，該無機層狀化合物較佳的是對該些無機層狀化合物實施了有機化處理者。

作為所述進行了有機化處理的無機層狀化合物，可列舉日本專利特開2012-234094號公報的段落0038~段落0044中所記載的進行了有機化處理的無機層狀化合物。

自兼顧低透濕性與基材膜-低透濕層間的密著性的方面 考慮，膨潤性層狀無機化合物較佳的是進行微粒子化處理。進行了微粒子化處理的膨潤性層狀無機化合物通常為板狀或扁平狀，平面形狀並無特別限制，亦可為無定形狀等。進行了微粒子化處理的膨潤性層狀無機化合物的平均粒徑(平面形狀的平均粒徑)例如較佳的是0.1μm~10μm，更佳的是0.1μm~8μm，特佳的是0.1μm~6μm。

[聚合起始劑]

含有在分子內具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及/或在分子內具有茀骨架與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的組成物較佳的是包含聚合起始劑。聚合起始劑較佳的是光聚合起始劑。

光聚合起始劑可列舉苯乙酮類、安息香類、二苯甲酮類、膦氧化物類、縮酮類、蒽醌類、硫雜蒽酮類、偶氮化合物、過氧化物類、2,3-二烷基二酮化合物類、二硫化物(disulfide compound)類、氟胺化合物類、芳香族鋶類、咯吩二聚體類、鎓鹽類、硼酸鹽類、活性酯類、活性鹵素類、無機錯合物、香豆素類等。光聚合起始劑的具體例及較佳的形態、市售品等在日本專利特開2009-098658號公報的段落[0133]~段落[0151]中有所記載，在本發明中亦可同樣地適宜使用。

在「最新UV硬化技術」{技術信息協會股份有限公司}(1991年)、第159頁、及「紫外線硬化系統」加藤清視著(1989年、綜合技術中心發行)、第65頁~第148頁亦記載了各種的例 子，可用於本發明中。

市售的光開裂型光自由基聚合起始劑可列舉巴斯夫(BASF)公司製造(原汽巴精化股份有限公司製造)的「Irgacure 651」、「Irgacure 184」、「Irgacure 819」、「Irgacure 907」、「Irgacure 1870」(CGI-403/Irgacure 184=7/3混合起始劑)、「Irgacure 500」、「Irgacure 369」、「Irgacure 1173」、「Irgacure 2959」、「Irgacure 4265」、「Irgacure 4263」、「Irgacure 127」、「OXE01」等；日本化藥股份有限公司製造的「kayacure DETX-S」、「kayacure BP-100」、「kayacure BDMK」、「kayacure CTX」、「kayacure BMS」、「kayacure 2-EAQ」、「kayacure ABQ」、「kayacure CPTX」、「kayacure EPD」、「kayacure ITX」、「kayacure QTX」、「kayacure BTC」、「kayacure MCA」等；沙多瑪(Sartomer)公司製造的「Esacure(KIP100F，KB1，EB3，BP，X33，KTO46，KT37，KIP150，TZT)」等、及該些的組合作為較佳例。

作為本發明中所使用的含有在分子內具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及/或在分子內具有茀骨架與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的組成物中的光聚合起始劑的含量，自以使所述組成物中所含的可聚合的化合物聚合、且起始點並不過於增加的方式而設定的理由考慮，較佳的是相對於組成物中的所有固體成分而言為0.5質量%~8質量%，更佳的是1質量%~5質量%。

[紫外線吸收劑]

包含低透濕層的本發明的光學膜可於偏光板或液晶顯示裝置構件中使用，但自防止偏光板或液晶單元等的劣化的觀點考慮，亦可藉由於低透濕層中含有紫外線吸收劑而對光學膜賦予紫外線吸收性。

紫外線吸收劑可使用公知者。例如可列舉日本專利特開2001-72782號公報或日本專利特表2002-543265號公報中所記載的紫外線吸收劑。紫外線吸收劑的具體例及較佳例可列舉與{基材膜}<紫外線吸收劑>的項中所後述的紫外線吸收劑的具體例及較佳例相同者。

[溶劑]

低透濕層形成用硬化性組成物可含有溶劑。作為溶劑，可考慮單體的溶解性、塗佈時的乾燥性、透光性粒子的分散性等而使用各種溶劑。該有機溶劑例如可列舉二丁基醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧雜環戊烷、1,3,5-三噁烷、四氫呋喃、苯甲醚、苯乙醚、碳酸二甲酯、碳酸甲基乙基酯、碳酸二乙酯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、γ-丁內酯、2-甲氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-甲氧基乙醇、2-丙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、1,2-二乙醯氧基丙酮、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯等，甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、 環己醇、乙酸異丁酯、甲基異丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、乙二醇乙醚、乙二醇異丙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、乙基卡必醇、丁基卡必醇、己烷、庚烷、辛烷、環己烷、甲基環己烷、乙基環己烷、苯、甲苯、二甲苯等，可單獨使用1種或者將2種以上組合使用。

所述溶劑中，較佳的是使用碳酸二甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、甲基乙基酮、乙醯丙酮、丙酮中的至少1種，更佳的是使用碳酸二甲酯、乙酸甲酯的任意者，特佳的是使用乙酸甲酯。

較佳的是以低透濕層形成用硬化性組成物的固體成分的濃度成為20質量%~80質量%的範圍的方式使用溶劑，更佳的是30質量%~75質量%，進一步更佳的是40質量%~70質量%。

(低透濕層的構成、製造方法)

本發明的低透濕層可為1層，亦可設置多層。所述低透濕層的積層方法並無特別限定，較佳的是與基材膜共流延而製作所述低透濕層，或者塗佈於所述基材膜上而設置所述低透濕層，更佳的是塗佈於所述基材膜上而設置所述低透濕層。

(低透濕層的膜厚)

本發明的低透濕層的膜厚較佳的是0.5μm~25μm，更佳的是1μm~20μm，進一步更佳的是2μm~18μm，特佳的是3μm~17μm。

(低透濕層的透濕度)

根據複合膜的氣體透過式(「包裝材料的障壁性的科學(包裝 學基礎講座5)」第68頁~第72頁、仲川勤著、日本包裝學會)、於將固定狀態的光學膜的透濕度設為J_f、將基材膜的透濕度設為J_s、將使光學膜自基材膜與低透濕層分離時的低透濕層的透濕度設為J_b時，以下的式成立。

1/J_f=1/J_s+1/J_b••••••式(1)

光學膜的透濕度J_f與基材膜的透濕度J_s可直接測定，可基於該些測定值，藉由計算而求出低透濕層的透濕度J_b。

於本發明中，低透濕層的透濕度較佳的是5.0g/m²/天~100g/m²/天。

(低透濕層的每單位膜厚的透濕度)

已知一般情況下透濕度與膜厚成反比。因此，可於所述膜厚的範圍內到達低透濕層的透濕度由作為材料的特性值的每單位膜厚的透濕度而決定，其值越小則越可到達更低透濕度。另一方面，基於所述關係可藉由調整低透濕層的膜厚而調整透濕度，若每單位膜厚的透濕度過低，則變得難以控制光學膜的透濕度。

考慮兩者，低透濕層的每10μm膜厚的透濕度較佳的是5.0g/m²/天~150g/m²/天，更佳的是10g/m²/天~100g/m²/天，進而佳的是20g/m²/天~90g/m²/天，特佳的是30g/m²/天~80g/m²/天。

另外，低透濕層的每10μm膜厚的透濕度可根據基材膜與光學膜的透濕度、低透濕層的膜厚而如下所述地估計。

相對於低透濕層的10μm膜厚的透濕度C_b(10μm)可基於所述算出的J_b而藉由以下的式而表示。

C_b(10μm)=J_b×d_b/10[g/m²/天]•••••式(2)

(此處，d_b[μm]是低透濕層的膜厚，可如上所述地根據低透濕層積層前後的膜厚差而求出。)

本發明的低透濕性膜的低透濕層較佳的是亦兼具抗反射功能、防污功能等。

{基材膜}

[基材膜的材質]

形成基材膜的材料較佳的是光學性能透明性、機械強度、熱穩定性、等向性等優異的聚合物。本發明中所謂的透明是表示可見光的透過率為60%以上，較佳的是80%以上，特佳的是90%以上。

例如可列舉聚碳酸酯系聚合物，聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物，聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系聚合物，聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物等。而且，亦可列舉如下者作為例子：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴，如乙烯-丙烯共聚物這樣的聚烯烴系聚合物，氯乙烯系聚合物，尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物，醯亞胺系聚合物，碸系聚合物，聚醚碸系聚合物，聚醚醚酮系聚合物，聚苯硫醚系聚合物，偏二氯乙烯系聚合物，乙烯醇縮丁醛系聚合物，芳酯系聚合物，聚甲醛(polyoxymethylene)系聚合物，環氧系聚合物，或所述聚合物混合而成的聚合物。而且，本發明的高分子膜亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環 氧系、矽酮系等紫外線硬化型、熱硬化型樹脂的硬化層。

而且，作為形成基材膜的材料，亦可較佳地使用現有的作為偏光板的透明保護膜而使用的以三乙醯纖維素為代表的纖維素系聚合物(特佳的是醯化纖維素)。

<醯化纖維素>

醯化纖維素膜例如可使用日本專利特開2013-228720號公報的段落編號[0072]~段落編號[0075]中所記載者。

<(甲基)丙烯酸系聚合物>

基材膜亦較佳的是由(甲基)丙烯酸系聚合物而形成。

另外，(甲基)丙烯酸系聚合物是包含甲基丙烯酸系聚合物與丙烯酸系聚合物的兩者的概念。而且，(甲基)丙烯酸系聚合物亦包含丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯的衍生物、特別是丙烯酸酯酯/甲基丙烯酸酯酯的(共)聚合物。

關於本發明中所較佳地使用的(甲基)丙烯酸系聚合物，於主鏈具有源自(甲基)丙烯酸酯單體的重複結構單元作為重複結構單元，且於主鏈亦可進一步具有至少1種內酯環結構、戊二酸酐環結構、及戊二醯亞胺環結構中的任意者。

(甲基)丙烯酸系聚合物亦可進一步包含對選自含有羥基的單體、不飽和羧酸及下述通式(201)所表示的單體的至少1種進行聚合而所得的重複結構單元作為重複結構單元。

通式(201)CH₂=C(X)R²⁰¹

式中，R²⁰¹表示氫原子或甲基，X表示氫原子、碳數為1~20的烷基、芳基、-CN基、-CO-R²⁰²基、或-O-CO-R²⁰³基，R²⁰²及R²⁰³各自獨立地表示氫原子或碳數為1~20的有機殘基。

(甲基)丙烯酸酯並無特別限定，例如可列舉丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苄酯等丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸酯等，該些可僅使用1種，亦可併用2種以上。特別是自耐熱性、透明性優異的方面考慮，該些中較佳的是甲基丙烯酸甲酯。

在使用(甲基)丙烯酸酯的情況下，作為供給至聚合步驟中的單體成分中的其含有比例，於充分發揮本發明的效果的方面而言，較佳的是10質量%~100質量%，更佳的是10質量%~100質量%，進一步更佳的是40質量%~100質量%，特佳的是50質量%~100質量%。

含有羥基的單體可列舉α-羥基甲基苯乙烯、α-羥基乙基苯乙烯、2-(羥基乙基)丙烯酸甲酯等2-(羥基烷基)丙烯酸酯；2-(羥基乙基)丙烯酸等2-(羥基烷基)丙烯酸等，該些可僅使用1種，亦可併用2種以上。

作為供給至聚合步驟的單體成分中的含有羥基的單體的含有比例，於充分發揮本發明的效果的方面而言，較佳的是0質量% ~30質量%，更佳的是0質量%~20質量%，進一步更佳的是0質量%~15質量%，特佳的是0質量%~10質量%。

不飽和羧酸例如可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸等，該些可僅使用1種，亦可併用2種以上。特別是自充分發揮本發明的效果的方面而言，該些中較佳的是丙烯酸、甲基丙烯酸。

作為供給至聚合步驟的單體成分中的不飽和羧酸的含有比例，於充分發揮本發明的效果的方面而言，較佳的是0質量%~30質量%，更佳的是0質量%~20質量%，進一步更佳的是0質量%~15質量%，特佳的是0質量%~10質量%。

通式(201)所表示的單體例如可列舉苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、甲基乙烯基酮、乙烯、丙烯、乙酸乙烯酯等，該些可僅使用1種，亦可併用2種以上。特別是自充分發揮本發明的效果的方面而言，該些中較佳的是苯乙烯、α-甲基苯乙烯。

作為供給至聚合步驟的單體成分中的通式(201)所表示的單體的含有比例，於充分發揮本發明的效果的方面而言，較佳的是0質量%~30質量%，更佳的是0質量%~20質量%，進一步更佳的是0質量%~15質量%，特佳的是0質量%~10質量%。

[於主鏈具有環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物]

(甲基)丙烯酸系聚合物中較佳的是於主鏈中具有環結構者。藉由於主鏈中導入環結構，可提高主鏈的剛直性，使耐熱性提高。

於主鏈具有環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物中較佳的是於主鏈含有內酯環結構的聚合物、於主鏈具有戊二酸酐環結構的聚合物、於主鏈具有戊二醯亞胺環結構的聚合物的任意者。其中更佳的是於主鏈形成有內酯環結構的聚合物。

順次對以下的該些於主鏈具有環結構的聚合物加以說明。

(於主鏈具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物)

於主鏈具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物(以後亦稱為含有內酯環的聚合物)是於主鏈具有內酯環的(甲基)丙烯酸系聚合物，可使用日本專利特開2006-096960號公報、日本專利特開2007-063541號公報等中所記載的樹脂。

(於主鏈具有戊二酸酐環結構的聚合物)

所謂於主鏈具有戊二酸酐環結構的聚合物是具有戊二酸酐單元的聚合物，可使用日本專利特開2009-210905號公報、日本專利特開2009-030001號公報等中所記載的樹脂。

(於主鏈具有戊二醯亞胺環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物)

於主鏈具有戊二醯亞胺環結構的(甲基)丙烯酸系聚合物(以後亦稱為戊二醯亞胺系樹脂)藉由於主鏈具有戊二醯亞胺環結構而可於光學特性或耐熱性等方面表現出較佳的特性平衡。

戊二醯亞胺系樹脂於美國專利3284425號公報、美國專利4246374號公報、日本專利特開平2-153904號公報等中有所記載，可藉由如下方式而獲得：使用以甲基丙烯酸甲酯等為主原料 而所得的樹脂作為具有可醯亞胺化的單元的樹脂，使用氨或經取代的胺對所述具有可醯亞胺化的單元的樹脂進行醯亞胺化。

<紫外線吸收劑>

基材膜亦可含有紫外線吸收劑。

對基材膜中所較佳地使用的紫外線吸收劑加以說明。包含基材膜的本發明的偏光板保護膜可於偏光板或液晶顯示用構件等中使用，但自防止偏光板或液晶單元等的劣化的觀點考慮，可較佳地使用紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，自波長370nm以下的紫外線的吸收能力優異、且良好的液晶顯示性的觀點考慮，可較佳地使用波長400nm以上的可見光的吸收少的紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可僅使用1種，亦可併用2種以上。例如可列舉日本專利特開2001-72782號公報或日本專利特表2002-543265號公報中所記載的紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑的具體例，例如可列舉氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。

(其他添加劑)

所述基材膜中可加入消光劑、延遲表現劑、塑化劑、紫外線吸收劑、劣化抑制劑、剝離劑、紅外線吸收劑、波長色散(wavelength dispersion)調整劑等添加劑，該些可為固體亦可為油狀物。亦即，於其熔點或沸點中並無特別限定。例如為20℃以下與20℃以上的紫外線吸收材料的混合、20℃以下與20℃以上的塑化劑的混合 等，例如在日本專利特開2001-151901號公報等中有所記載。另外，而且作為紅外吸收染料而於例如日本專利特開2001-194522號公報中有所記載。而且，至於其添加的時期，於摻雜製作步驟中可任意地添加，亦可於摻雜製備步驟的最後的製備步驟中加入添加添加劑而進行製備的步驟而進行。另外，而且至於各原材料的添加量，只要可表現出功能則並無特別限定。而且，在光學膜由多層而形成的情況下，各層的添加物的種類或添加量亦可不同。例如於日本專利特開2001-151902號公報等中有所記載，該些是現有已知的技術。至於該些技術的詳細情況，可較佳地使用在發明協會公開技術報告(公開技術編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)中的第16頁~第22頁中詳細記載的原材料。

而且，在所述基材膜中亦可含有橡膠狀粒子。例如可列舉軟質丙烯酸系樹脂、丙烯酸系橡膠、及橡膠-丙烯酸系接枝型芯-殼聚合物等丙烯酸系粒子、或苯乙烯-彈性體共聚物。另外，亦可較佳地使用日本專利特公昭60-17406號公報、日本專利特公平3-39095號公報等中所記載的耐衝擊性、耐應力白化性(stress-whitening resistance)得到改善的添加劑。

在所述基材膜中添加該些添加劑的情況下，添加劑的總量相對於基材膜而言較佳的是50質量%以下，更佳的是30質量%以下。

藉由該些添加劑，可改良膜的脆性，大幅改善膜的耐折試驗 (180度彎曲時的破裂評價等)。

而且，為了達成低霧度，較佳的是所述添加物的折射率具有與基材膜大致相同的折射率，折射率差較佳的是0.5以下，更佳的是0.3以下。

<基材膜的特性>

(基材膜的厚度)

所述基材膜的膜厚較佳的是5μm~100μm，更佳的是10μm~80μm，特佳的是15μm~70μm，進一步特佳的是20μm~60μm。

(基材膜的透濕度)

所述基材膜的透濕度可基於JIS Z-0208，於40℃、相對濕度為90%的條件下測定。

所述基材膜的透濕度較佳的是300g/m²/天以下，更佳的是250g/m²/天以下，進一步更佳的是200g/m²/天以下，特佳的是150g/m²/天以下。藉由將基材膜的透濕度控制為所述範圍，可抑制搭載了積層有低透濕層的光學膜(本發明的光學膜)的液晶顯示裝置在常溫、高濕及高溫高濕環境下隨時間經過後的液晶單元的翹曲或漏光。

所述基材膜的透濕度的下限並無特別設置，較佳的是1g/m²/天以上。

(基材膜的每單位膜厚的透濕度)

如低透濕層的(每單位膜厚的透濕度)中所說明那樣，基材 膜10μm的透濕度可藉由以下的式而提供。

C_s(10μm)=J_s×d_s/10 [g/m²/天]

(此處，d_s[μm]是基材膜的膜厚，Js是基材膜的透濕度)

基材膜的膜厚為10μm的透濕度較佳的是50g/m²/天~2000g/m²/天，更佳的是80g/m²/天~1500g/m²/天，更佳的是100g/m²/天~1000g/m²/天，特佳的是150g/m²/天~800g/m²/天。

而且，基材膜與低透濕層的膜厚為10μm的透濕度C_b(10μm)/C_s(10μm)較佳的是1.5~30，更佳的是2~20，特佳的是3~10。

若為下限值以上則可獲得充分的低透濕效果，若為上限值以下則可抑制捲曲。

(基材膜的氧透過係數)

為了減低透濕度，較佳的是抑制膜中水的擴散，亦即較佳的是降低膜的自由體積。一般情況下，膜的自由體積與膜的氧透過係數(oxygen permeability)相關。

所述基材膜的氧透過係數較佳的是100cc．mm/(m²．天．atm)以下，更佳的是30cc．mm/(m²．天．atm)以下。

(表面處理)

基材膜可根據情況而藉由進行表面處理，達成基材膜與低透濕層或其以外的層(例如偏光元件、下塗層(primer layer)及背層)的接著的提高。例如可使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼處理。此處所謂的輝光放電處理亦可為在10^-3Torr~20Torr的低壓氣體下產生的低溫電漿，進一步 而言，而且在大氣壓下的電漿處理亦較佳。電漿激發性氣體是指在如上所述的條件下經電漿激發的氣體，可列舉氬、氦、氖、氪、氙、氮、二氧化碳、如四氟甲烷這樣的氟利昂類及該些的混合物等。關於該些氣體，其詳細情況在發明協會公開技術報告(公開技術編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)的第30頁~第32頁中有所詳細記載，可在本發明中較佳地使用。

[光學膜]

本發明的光學膜較佳的是在所述本發明的低透濕性膜的對含有所述(A)及(B)的硬化性組成物進行硬化而形成的層(低透濕層)上進一步包含硬塗層。

{光學膜的特性}

(光學膜的膜厚)

本發明的光學膜的膜厚(在基材膜上積層低透濕層後的總膜厚)較佳的是5μm~100μm，更佳的是10μm~80μm，特佳的是15μm~75μm。

[光學膜的層構成]

本發明的光學膜在基材膜的其中一個面上包含低透濕層，較佳的是偏光板保護膜且是液晶顯示裝置的表面膜。本發明的光學膜為了作為表面膜而適宜地使用，較佳的是積層有硬塗層。本發明的光學膜的較佳的層構成如下所示。

基材膜/低透濕層/硬塗層

基材膜/密接層/低透濕層/硬塗層

基材膜/低透濕層/硬塗層/抗反射層

基材膜/低透濕層/硬塗層/抗反射層/防污層

[硬塗層]

較佳的是於本發明的光學膜中包含硬塗層。

於本發明中，所謂硬塗層是指藉由於膜上形成所述層而使膜的鉛筆硬度上升(賦予硬塗性)的層。在本發明中，硬塗層若為所述賦予硬塗性的層則並無特別限制，亦可為具有硬塗性以外的功能的層，例如亦包含防眩性硬塗層(亦成為防眩層)、抗靜電性硬塗層(亦稱為抗靜電性層)等。實用的是硬塗層積層後的鉛筆硬度(JIS K-5400-5-1)較佳的是H以上，更佳的是2H以上，最佳的是3H以上。

硬塗層的厚度較佳的是0.4μm~35μm，更佳的是1μm~30μm，最佳的是1.5μm~20μm。

於本發明中，硬塗層可為1層亦可為多層。在硬塗層為多層的情況下，所有的硬塗層的膜厚的合計較佳的是上位範圍。

本發明的光學膜的硬塗層的表面可為平坦亦可為凹凸。而且，亦可視需要於表面凹凸中含有透光性粒子，或者為了賦予內部散射而於硬塗層中含有透光性粒子。

[硬塗層形成材料物]

於本發明中，硬塗層可藉由如下方式而形成：將含有具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物、聚合起始劑、視需要的透光性粒子、含氟或矽酮系化合物、溶劑的組成物，直接或經由其他層塗佈於 支撐體上，進行乾燥、硬化。以下，對各成分加以說明。

[具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物]

於本發明中，於硬塗層形成用組成物中可含有具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物。具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物較佳的是具有2個以上聚合性不飽和基的多官能單體。藉由使用所述具有2個以上聚合性不飽和基的多官能單體，可使塗膜的強度或耐擦傷性提高。聚合性不飽和基更佳的是3個以上。該些單體亦可將1官能或2官能的單體與3官能以上的單體併用而使用。

具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物可列舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能基的化合物，其中較佳的是(甲基)丙烯醯基及-C(O)OCH=CH₂。特佳的是使用下述在1分子內含有3個以上(甲基)丙烯醯基的化合物。

具有聚合性不飽和鍵的化合物的具體例可列舉烷二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、聚氧烷二醇的(甲基)丙烯酸二酯類、多元醇的(甲基)丙烯酸酯類、環氧乙烷或環氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酸環氧酯類、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類等。

其中，較佳的是多元醇與(甲基)丙烯酸的酯類。例如可列舉1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質三羥甲基丙 烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改質磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環己烷四甲基丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、己內酯改質三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯等。

具有(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯系化合物類亦可使用市售者，可列舉新中村化學工業股份有限公司製造的NK Ester A-TMMT、日本化藥股份有限公司製造的KAYARAD DPHA等。關於多官能單體，於日本專利特開2009-98658號公報的段落[0114]~段落[0122]中有所記載，於本發明中亦同樣。

作為具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物，自與支撐體的密著性、低捲曲、後述的含氟或矽酮系化合物的固定性的方面考慮，較佳的是具有氫鍵結性取代基的化合物。所謂氫鍵結性取代基是指氮、氧、硫、鹵素等電負度大的原子與氫鍵藉由共價鍵而連結的取代基，具體而言可列舉OH-、SH-、-NH-、CHO-、CHN-等，較佳的是(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類或具有羥基的(甲基)丙烯酸酯類。亦可使用市售的具有(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯，可列舉新中村化學工業股份有限公司公司製造的NK Oligo U4HA、新中村化學工業股份有限公司公司製造的NK Ester A-TMM-3、日本化藥股份有限公司製造的KAYARAD PET-30等。

作為本發明的硬塗層形成用組成物中的具有乙烯性不 飽和雙鍵的化合物的含量，為了提供充分的聚合率而賦予硬度等，較佳的是相對於硬塗層形成用組成物中的除去無機成分的所有固體成分而言為50質量%以上，更佳的是60質量%~99質量%，進一步更佳的是70質量%~99質量%，特佳的是80質量%~99質量%。

於本發明中，亦較佳的是於硬塗層形成用組成物中使用在分子內具有環狀脂肪族烴與乙烯性不飽和雙鍵的化合物。藉由使用此種化合物，可賦予硬塗層低透濕性。為了提高硬塗性，更佳的是使用在分子內具有環狀脂肪族烴與2個以上乙烯性不飽和雙鍵的化合物。

於硬塗層形成用組成物含有在分子內具有環狀脂肪族烴[與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的情況下，在分子內具有環狀脂肪族烴與乙烯性不飽和雙鍵的化合物較佳的是在硬塗層形成用組成物中的具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物中為1質量%~90質量%，更佳的是2質量%~80質量%，特佳的是5質量%~70質量%。

於硬塗層形成用組成物含有在分子內具有環狀脂肪族烴與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的情況下，較佳的是進一步含有5官能以上的(甲基)丙烯酸酯。

在硬塗層形成用組成物進一步含有5官能以上的(甲基)丙烯酸酯的情況下，5官能以上的(甲基)丙烯酸酯在硬塗層形成用組成物中的具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物中較佳的是1質量%~70質量%，更佳的是2質量%~60質量%，特佳的是5質量%~50質 量%。

[透光性粒子]

在本發明中，亦可於低透濕層中含有透光性粒子。

藉由使低透濕層含有透光性粒子，亦可對低透濕層表面賦予凹凸形狀，或賦予內部霧度。

作為可於低透濕層中使用的透光性粒子，可列舉聚甲基丙烯酸甲酯粒子(折射率為1.49)等交聯聚((甲基)丙烯酸酯)粒子、交聯聚(丙烯酸系-苯乙烯)共聚物粒子(折射率為1.54)、三聚氰胺樹脂粒子(折射率為1.57)、聚碳酸酯粒子(折射率為1.57)、聚苯乙烯粒子(折射率為1.60)、交聯聚苯乙烯粒子(折射率為1.61)、聚氯乙烯粒子(折射率為1.60)、苯并胍胺-三聚氰胺甲醛(formaldehyde)粒子(折射率為1.68)、二氧化矽粒子(折射率為1.46)、氧化鋁粒子(折射率為1.63)、氧化鋯粒子、二氧化鈦粒子、或中空或具有細孔的粒子等。

其中可較佳地使用交聯聚((甲基)丙烯酸酯)粒子、交聯聚(丙烯酸系-苯乙烯)粒子，可藉由根據自該些粒子中所選擇的各透光性粒子的折射率而調整黏合劑的折射率，於低透濕層達成適宜的表面凹凸、表面霧度、內部霧度、總霧度。

透光性粒子可使用日本專利特開2008-262187號公報、日本專利特開2010-079098號公報、日本專利特開2007-148398號公報等中所記載者。

[無機層狀化合物]

為了進一步減低本發明的低透濕層的透濕度，亦較佳的是於低透濕層中分散無機層狀化合物。

無機層狀化合物可使用日本專利特開平9-127313號公報、日本專利特開2009-298977號公報、日本專利特開2012-234094號公報等中所記載者。

[光聚合起始劑]

較佳的是於硬塗層形成用組成物中含有光聚合起始劑。低透濕層中所說明的光聚合起始劑亦可於硬塗層形成用組成物中較佳地使用。

作為硬塗層形成用組成物中的光聚合起始劑的含量，自設定為對於使硬塗層形成用組成物中所含的可聚合的化合物聚合而言足夠多、且起始點並不過於增加的足夠少的量的理由考慮，較佳的是相對於硬塗層形成用組成物中的所有固體成分而言為0.5質量%~8質量%，更佳的是1質量%~5質量%。

[紫外線吸收劑]

本發明的光學膜可於偏光板或液晶顯示裝置構件中使用，但自防止偏光板或液晶單元等劣化的觀點考慮，亦可藉由於並不妨礙UV硬化的範圍內於硬塗層中含有紫外線吸收劑，而對光學膜賦予紫外線吸收性。

[溶劑]

本發明的硬塗層形成用組成物可含有溶劑。作為溶劑，可考慮單體的溶解性、透光性粒子的分散性、塗佈時的乾燥性等而使 用各種溶劑。該有機溶劑例如可列舉二丁基醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧雜環戊烷、1,3,5-三噁烷、四氫呋喃、苯甲醚、苯乙醚、碳酸二甲酯、碳酸甲基乙基酯、碳酸二乙酯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、γ-丁內酯、2-甲氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-甲氧基乙醇、2-丙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、1,2-二乙醯氧基丙酮、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯等，甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、環己醇、乙酸異丁酯、甲基異丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、乙二醇乙醚、乙二醇異丙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、乙基卡必醇、丁基卡必醇、己烷、庚烷、辛烷、環己烷、甲基環己烷、乙基環己烷、苯、甲苯、二甲苯等，可單獨使用1種或者將2種以上組合使用。

較佳的是以本發明的硬塗層形成用組成物的固體成分的濃度成為20質量%~80質量%的範圍的方式使用溶劑，更佳的是30質量%~75質量%，進一步更佳的是40質量%~70質量%。

{功能層}

本發明的光學膜亦可進一步包含功能層。該功能層的種類並無特別限定，可列舉抗反射層(低折射率層、中折射率層、高折射率層等調整了折射率的層)、防眩層、抗靜電層、紫外線吸收層、 密著層(使基材膜與低透濕層的密著性提高的層)等。

所述功能層可為1層，亦可設置多層。所述功能層的積層方法並無特別限定。

功能層亦可積層於並未積層低透濕層的面。

[抗反射層]

如上所述地於硬塗層上積層抗反射層亦是本發明的較佳的形態之一。於本發明中可較佳地使用公知的抗反射層，其中較佳的是UV硬化型抗反射層。

抗反射層可為1層構成的膜厚λ/4的低反射率層亦可為多層構成，特佳的是1層構成的膜厚λ/4的低反射率層。於本發明中可較佳地使用的低折射材料，於以下進行說明，但本發明並不限定於以下。

[低折射率層的材料]

以下，對低折射率層的材料加以說明。

[無機微粒子]

自低折射率化、耐擦傷性改良的觀點考慮，較佳的是於低折射率層使用無機微粒子。所述無機微粒子若平均粒徑為5nm~120nm則並無特別限制，自低折射率化的觀點考慮，較佳的是無機的低折射率粒子。

作為無機微粒子，自低折射率考慮，可列舉氟化鎂或二氧化矽的微粒子。特別是於折射率、分散穩定性、成本的方面而言，較佳的是二氧化矽微粒子。該些無機粒子的尺寸(1次粒徑) 較佳的是5nm~120nm，更佳的是10nm~100nm、進一步更佳的是20nm~100nm，最佳的是30nm~90nm。

若無機微粒子的粒徑過小，則耐擦傷性的改良效果變少，若過大，則於低折射率層表面產生微細的凹凸，純黑度(black tightness)等的外觀、積分反射率惡化。而且，在使用後述的中空二氧化矽微粒子的情況下，若粒徑過小，則未發現空腔部的比例減少而使折射率充分降低。無機微粒子可為結晶質亦可為非晶質的任意者，而且可為單分散粒子，若滿足規定粒徑則亦可為凝聚粒子。形狀最佳的是球徑，亦可為不定形。

無機微粒子的塗設量較佳的是1mg/m²~100mg/m²，更佳的是5mg/m²~80mg/m²，進一步更佳的是10mg/m²~60mg/m²。若過少，則未發現充分的低折射率化，耐擦傷性的改良效果減低，若過多，則於低折射率層表面產生微細的凹凸，純黑度等外觀或積分反射率惡化。

(多孔質或中空的微粒子)

為了實現低折射率化，較佳的是使用多孔質或中空結構的微粒子。特佳的是使用中空結構的二氧化矽粒子。該些粒子的空隙比較佳的是10%~80%，更佳的是20%~60%，最佳的是30%~60%。於低折射率化與粒子的耐久性維持的觀點考慮，較佳的是將中空微粒子的空隙比設為上述範圍。

在多孔質或中空粒子為二氧化矽的情況下，微粒子的折射率較佳的是1.10~1.40，更佳的是1.15~1.35，最佳的是1.15 ~1.30。此處的折射率表示粒子整體的折射率，並不表示形成二氧化矽粒子的僅外殼的二氧化矽的折射率。

而且，中空二氧化矽可併用2種以上粒子平均粒徑不同者而使用。此處，中空二氧化矽的平均粒徑可根據電子顯微鏡相片而求出。

於本發明中，中空二氧化矽的比表面積較佳的是20m²/g~300m²/g，更佳的是30m²/g~120m²/g，最佳的是40m²/g~90m²/g。表面積可使用氮而藉由布厄特(Brunauer-Emmett-Tellern，BET)法求出。

於本發明中，亦可與中空二氧化矽併用而使用無空腔的二氧化矽粒子。無空腔的二氧化矽的較佳的粒徑是30nm以上、150nm以下，更佳的是35nm以上、100nm以下，最佳的是40nm以上、80nm以下。

[無機微粒子的表面處理方法]

而且，於本發明中，無機微粒子可利用常法藉由矽烷偶合劑等進行表面處理而使用。

特別是為了改良於低折射率層形成用黏合劑中的分散性，無機微粒子的表面較佳的是藉由有機矽烷化合物的水解物及/或其部分縮合物而進行處理，於處理時，更佳的是使用酸觸媒及金屬螯合化合物的任意者或兩者。關於無機微粒子的表面的處理方法，於日本專利特開2008-242314號公報的段落編號[0046]~段落編號[0076]中有所記載，所述文獻中所記載的有機矽烷化合物、矽氧烷 化合物、表面處理的溶劑、表面處理的觸媒、金屬螯合化合物等亦可於本發明中適宜地使用。

於低折射率層中可使用(b2)具有聚合性不飽和基的含 氟單體或非含氟單體。關於非含氟單體，較佳的是亦使用作為可於硬塗層中使用者而說明的具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物。含氟單體較佳的是使用以下述通式(1)而表示，含有35質量%以上的氟，所有交聯間分子量的計算值小於500的含氟多官能單體(d)。

通式(1)：Rf₂{-(L)_m-Y}_n

(通式(1)中，Rf₂表示至少包含碳原子及氟原子的n價基，n表示3以上的整數。L表示單鍵或二價連結基，m表示0或1。Y表示聚合性不飽和基)

Rf₂亦可包含氧原子及氫原子的至少任意者。而且，Rf₂為鏈狀(直鏈或分支)或環狀。

Y較佳的是包含形成不飽和鍵的2個碳原子的基，更佳的是自由基聚合性基，特佳的是選自(甲基)丙烯醯基、烯丙基、α-氟丙烯醯基、及-C(O)OCH=CH₂者。自聚合性的觀點考慮，該些中更佳的是具有自由基聚合性的(甲基)丙烯醯基、烯丙基、α-氟丙烯醯基、及C(O)OCH=CH₂。

L表示二價的連結基，詳細而言表示碳數為1~10的伸烷基、碳數為6~10的伸芳基、-O-、-S-、-N(R)-、碳數為1~10的伸烷基與-O-、-S-或N(R)-組合而所得的基、碳數為6~10的伸芳基與-O-、-S-或N(R)-組合而所得的基。R表示氫原子或碳數為 1~5的烷基。在L表示伸烷基或伸芳基的情況下，較佳的是L所表示的伸烷基及伸芳基亦可經鹵素原子取代，且較佳的是經氟原子取代。

通式(1)所表示的化合物的具體例於日本專利特開2010-152311號公報的段落[0121]~段落[0163]中有所記載。

[光學異向性層]

於本發明的光學膜中亦可設置光學異向性層。作為光學異向性層，可為面內均勻地形成有具有一定相位差的膜的光學異向性層，亦可為慢軸的方向或相位差的大小互相不同的形成有相位差區域規則地配置於面內的圖案的光學異向性層。

如上所述，本發明的光學膜較佳的是積層有液晶顯示裝置的硬塗層的表面膜。在本發明的光學膜具有硬塗層與光學異向性層此兩者的情況下，較佳的是光學異向性層經由基材膜而形成於未積層硬塗層之面。

在本發明的光學膜具有此種形態的情況下，低透濕層可對於基材膜而積層於與硬塗層相同之側，亦可設於硬塗層的相反側，亦可積層於基材膜的兩個面上。

在低透濕層對於基材膜而積層於與硬塗層相同之側的情況下的較佳的層構成可使用所述積層硬塗層的情況下較佳的層構成。

另一方面，在低透濕層對於基材膜而積層於與硬塗層及光學異向性層相同之側的情況下，低透濕層亦可積層於基材膜與光學異向性層之間，亦可順次積層基材膜、光學異向性層、低透濕層。

光學異向性層可根據各種用途而選擇材料及製造條件，但於本發明中較佳的是使用了聚合性液晶性化合物的光學異向性層。在這種情況下，於光學異向性層與基材膜之間，與光學異向性層相接而形成配向膜亦為較佳的形態。

作為具有面內均勻地形成的光學異向性層的較佳例，可列舉光學異向性層為λ/4膜的形態，特別是可用作主動方式的3D液晶顯示裝置的構件。λ/4膜的光學異向性層與硬塗層經由基材膜而積層於相反面的形態於日本專利特開2012-098721號公報、日本專利特開2012-127982號公報中有所記載，於本發明的光學膜中，可較佳地使用此種形態。

另一方面，作為形成圖案的光學異向性層的較佳例，可列舉圖案型的λ/4膜，可於本發明的光學膜中較佳地使用日本專利4825934號公報、日本專利4887463號公報中所記載的形態。

而且，將日本專利特表2012-517024號公報(WO2010/090429號公報)中所記載的光配向膜與圖案曝光組合的形態亦可於本發明的光學膜中較佳地使用。

[具有光學異向性層時的光學膜的層構成]

以下表示本發明的光學膜具有光學異向性層的情況下的較佳的層構成。

光學異向性層/基材膜/低透濕層/硬塗層

光學異向性層/基材膜/密接層/低透濕層/硬塗層

光學異向性層/基材膜/低透濕層/硬塗層/抗反射層

光學異向性層/基材膜/密接層/低透濕層/硬塗層/抗反射層

在具有光學異向性層的情況下，較佳的是光學異向性由具有不飽和聚合性基等硬化性基的液晶化合物而形成，且較佳的是於液晶層的下層形成有配向膜。於本發明中，亦較佳的是配向膜由包含自由基聚合性化合物的硬化性組成物而形成。

而且，基材膜亦可兼為光學異向性層。

[偏光板]

本發明的偏光板的特徵在於包含偏光元件、與至少1片作為所述偏光元件的保護膜的本發明的光學膜。

本發明的光學膜可用作偏光板用保護膜。在作為偏光板用保護膜而使用的情況下，偏光板的製作方法並無特別限定，可藉由一般的方法而製作。存在有如下的方法：對所得的光學膜進行鹼處理，使用完全鹼化聚乙烯醇水溶液而貼合於將聚乙烯醇膜浸漬於碘溶液中進行延伸而製作的偏光元件的兩個面。亦可實施日本專利特開平6-94915號公報、日本專利特開平6-118232號公報中所記載的易接著加工而代替鹼處理。而且，亦可進行如上所述的表面處理。光學膜的與偏光元件的貼合面亦可為積層有低透濕層的面，亦可為未積層低透濕層的面。

作為貼合保護膜處理面與偏光元件所使用的接著劑，例如可列舉聚乙烯醇、聚乙烯丁醛等聚乙烯醇系接著劑或丙烯酸丁酯等乙烯基系乳膠等。

偏光板包含偏光元件及對其兩個面進行保護的保護膜，進一 步於所述偏光板的其中一個面貼合保護膜，於相反面貼合分隔膜而構成。保護膜及分隔膜以在偏光板運送時、產品檢查時等，保護偏光板為目的而使用。在這種情況下，以保護偏光板的表面為目的而貼合保護膜，於將偏光板貼合於液晶板上之面的相反面之側使用。而且，分隔膜以覆蓋貼合於液晶板上的接著層為目的而使用，於將偏光板貼合於液晶板上的面之側使用。

[液晶顯示裝置]

本發明的液晶顯示裝置的特徵在於包含液晶單元、與配置於所述液晶單元之至少一個上的本發明的偏光板，以所述偏光板中所含的本發明的光學膜成為最表層的方式進行配置。

(一般的液晶顯示裝置的構成)

液晶顯示裝置具有如下構成：於兩片電極基板之間承載液晶而成的液晶單元、於其兩側所配置的兩片偏光板、及視需要於所述液晶單元與所述偏光板之間配置至少一片光學補償膜。

液晶單元的液晶層通常是在兩片基板之間夾入間隔物而形成的空間封入液晶而形成。透明電極層作為包含導電性物質的透明膜而形成於基板上。於液晶單元上亦可進一步設置阻氣層、硬塗層或(透明電極層的接著中所使用的)底塗層(下塗層)。該些層通常設於基板上。液晶單元的基板一般具有50μm~2mm的厚度。

液晶顯示裝置通常在2片偏光板之間配置有包含液晶單元的基板，但應用本發明的光學膜的偏光板用保護膜可作為2片偏光板的任意的保護膜而使用，較佳的是作為各偏光板的2片保 護膜中的對於偏光元件而配置於液晶單元的外側的保護膜而使用。

2片偏光板中，特佳的是配置本發明的光學膜而作為視認側偏光板的視認側的保護膜。

而且，2片偏光板中，除了配置本發明的光學膜而作為視認側偏光板的視認側的保護膜以外，於背光側偏光板的背光側保護膜亦進一步配置本發明的光學膜，抑制2片偏光板中所含的偏光元件的伸縮，防止面板的翹曲亦是較佳的形態。

(液晶顯示裝置的種類)

本發明的膜可於各種顯示模式的液晶單元中使用。提出了如扭轉向列(Twisted Nematic，TN)、面內切換(In-Plane Switching，IPS)、鐵電液晶(Ferroelectric Liquid Crystal，FLC)、反鐵電液晶(Anti-ferroelectric Liquid Crystal，AFLC)、光學補償彎曲(Optically Compensatory Bend，OCB)、超扭轉向列(Super Twisted Nematic，STN)、垂直配向(Vertically Aligned，VA)、電控雙折射(Electrically Controlled Birefringence，ECB)、及混合配向向列(Hybrid Aligned Nematic，HAN)這樣的各種顯示模式。而且，亦提出了將所述顯示模式配向分割的顯示模式。本發明的光學膜於任意顯示模式的液晶顯示裝置中均有效。而且，於透射型、反射型、半透射型的任意液晶顯示裝置中亦有效。

[實施例]

以下，基於實施例對本發明加以具體說明。以下實施例 中所示的材料、試劑、物質量與其比例、操作等只要不偏離本發明的主旨，則可適宜變更。因此，本發明並不限定於以下實施例而受到限制。

[低透濕層形成用組成物的製備]

如下所示地進行製備。

(低透濕層形成用組成物BL-1的組成)

與低透濕層形成用組成物BL-1同樣地製備低透濕層形成用組成物BL-2~低透濕層形成用組成物BL-12。將各個組成物比例表示於表1中。於表1中表示各成分的固體成分的含有質量比。此處，所謂固體成分是指除溶劑(於BL-1中為甲基乙基酮及乙酸甲酯)以外的組成物。

以下表示所使用的材料。

．A-DCP：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯[新中村化學工業股份有限公司製造]

．DCP：三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸脂[新中村化學工業股份有限公司製造]

．AA-BPEF：9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀[新中村化學工業股份有限公司製造]

．ADDA：1,3-金剛烷二丙烯酸酯(三菱瓦斯化學股份有限公司製造)

．Vylon UR-1510：聚酯胺基甲酸酯樹脂(30%MEK溶液)、數量平均分子量Mn(GPC測定)=24,500、Tg(動態熱機械分析(Dynamic Thermomechanic Analysis，DMA)測定)=65℃~70℃[東洋紡績股份有限公司公司製造]

．Vylon UR-3260：聚酯胺基甲酸酯樹脂(30%MEK溶液)、數量平均分子量Mn(GPC測定)=24,500、Tg(DMA測定)=13℃~27℃[東洋紡績股份有限公司公司製造]

．Vylon UR-6100：聚酯胺基甲酸酯樹脂(45%溶液)、數量平均分子量Mn(GPC測定)=25,000、Tg(DMA測定)=-30℃[東洋紡績股份有限公司公司製造]

．Asaprene T-411：苯乙烯/丁二烯嵌段共聚物[旭化成股份有限公司公司製造]

．PET30：季戊四醇四丙烯酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯的混合物[日本化藥股份有限公司製造]

．Irgacure 907：聚合起始劑[巴斯夫公司製造]

．SP-13(調平劑。下述式中，組成比60：40為莫耳比)：

[硬塗層形成用組成物的製備]

如下所示地進行製備。

(硬塗層形成用組成物HC-1的組成)

<光學膜201的製作>

將Fujitac TD40(富士軟片股份有限公司製造、寬1,340mm、 厚40μm)自卷形態展開而作為基材膜，使用所述低透濕層形成用組成物BL-1，藉由日本專利特開2006-122889號公報的實施例1中所記載的使用狹縫模的模具塗佈法，以搬送速度為30m/min的條件進行塗佈，於60℃下進行150秒的乾燥。其後，進一步於氮氣沖洗下、氧氣濃度約0.1%下使用輸出功率為160W/cm的空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度為400mW/cm²、照射量為120mJ/cm²的紫外線而使塗佈層硬化，形成低透濕層，進行捲取。以低透濕層的膜厚成為16μm的方式調整塗佈量，獲得附有包含低透濕層形成用組成物BL-1的低透濕層的基材膜(低透濕性膜)。

將所述製作的卷狀的附有低透濕層的基材膜自卷形態展開，使用所述硬塗層形成用組成物HC-1，於積層有低透濕層的面，藉由日本專利特開2006-122889號公報的實施例1中所記載的使用狹縫模的模具塗佈法，以搬送速度為30m/min的條件進行塗佈，於60℃下進行150秒的乾燥。其後，進一步於氮氣沖洗下、氧氣濃度約0.1%下使用輸出功率為160W/cm的空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度為400mW/cm²、照射量為300mJ/cm²的紫外線而使塗佈層硬化，形成硬塗層，進行捲取。以硬塗層的膜厚成為6μm的方式調整塗佈量。

將所得的膜作為實施例的光學膜201。

<光學膜202~光學膜212的製作>

於光學膜201的製作中，將低透濕層形成用組成物BL-1替換 為低透濕層形成用組成物BL-2~低透濕層形成用組成物BL-12，除此以外與光學膜201同樣地進行而製作光學膜202~光學膜212。

[光學膜的評價]

對所製作的各實施例及比較例的光學膜測定膜厚，進行下述的物性測定與評價。將結果示於下述表2中。

(1)透濕度(40℃、90%相對濕度下的透濕度)

將各實施例及比較例的光學膜試樣70mmΦ在40℃、相對濕度90%下分別進行24小時的濕度控制(humidity control)，藉由JIS Z-0208中所記載的方法而進行測定。

低透濕層的透濕度是測定各光學膜的基材膜的透濕度，根據基材膜的透濕度與光學膜的透濕度，使用說明書中所述的式(1)而算出。

(2)抗龜裂性

對各試樣，使用JIS-K-5600-5-1中所記載的塗料一般試驗方法-抗彎性(圓筒形心軸法)的方法而進行評價。

將各試樣於溫度25℃、濕度55%RH的條件下保存16小時後，分別捲繞於直徑(Φ)2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、8mm、10mm、12mm、14mm、16mm的心軸上，觀察龜裂的產生狀況，藉由未產生龜裂的最小的心軸的直徑評價抗龜裂性。心軸的直徑越小，則性能越優異，於直徑大的條件下越產生龜裂，表示龜裂的耐受性越弱。可以說在直徑不足8mm的條件下未產生龜裂者具 有抗龜裂性，且脆性良好。

(鉛筆硬度評價)

作為耐劃傷性的指標，進行JIS K-5400中所記載的鉛筆硬度評價。將光學膜在溫度25℃、濕度60%RH下進行2小時的濕度控制後，使用JIS S-6006中所規定的H~5H的試驗用鉛筆，以4.9N的荷重，藉由如下所述的判定而評價積層有硬塗層的面，將成為OK的最高的硬度作為評價值。本發明的範圍是試驗用鉛筆的硬度為2H以上且OK評價。

OK：於n=5的評價中，未劃傷為3個以上

NG：於n=5的評價中，未劃傷為2個以下

根據表2中所示的結果可知以下者。

1.包含對硬化性組成物(所述硬化性組成物含有特定量的(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者、與特定量的(B)聚酯胺基甲酸酯)進行硬化而成的低透濕層、於所述低透濕層上的硬塗層的光學膜，透濕度低、且抗龜裂性優異。

其次，對藉由於低透濕層中進一步包含(C)松香化合物而進一步低透濕化的膜加以說明。

(氫化松香A的製造)

以日本專利特開2001-181400號公報的實施例1為參考而合成氫化松香A。

氫化松香A的酸值為176mgKOH/g，軟化點為80℃。

<基材膜(A-1)：附有密接層的醯化纖維素膜的製作>

(密接層形成用塗佈液AL-1的組成)

以下表示所使用的材料。

．A-TMMT：季戊四醇四丙烯酸酯[新中村化學工業股份有限公 司製造]

將Fujitac TD40(富士軟片股份有限公司製造、寬1,340mm、厚40μm)自卷形態展開，使用所述密接層形成用組成物AL-1，藉由日本專利特開2006-122889號公報的實施例1中所記載的使用狹縫模的模具塗佈法，以搬送速度為30m/min的條件進行塗佈，於60℃下進行150秒的乾燥。其後，進一步於氮氣沖洗下、氧氣濃度約0.1%下使用輸出功率為160W/cm的空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度為400mW/cm²、照射量為60mJ/cm²的紫外線而使塗佈層硬化，形成密接層，進行捲取。以密接層的膜厚成為0.3μm的方式調整塗佈量。

將所得的膜作為基材膜(A-1)。

[低透濕層形成用組成物的製備]

藉由下述表3所示的組成物比例製備透濕層形成用組成物BL-21~透濕層形成用組成物26。於表3中表示各成分相對於所有固體成分的含有質量比。

以下表示所使用的材料。(省略既出原材料)

．PINECRYSTAL KR614：超淡色松香、酸值為175mgKOH/g、軟化點為88℃[荒川化學工業股份有限公司製造]。

．PINECRYSTAL KE604：酸改質超淡色松香、酸值為235mgKOH/g、軟化點為129℃[荒川化學工業股份有限公司製造]。

[防眩層形成用組成物的製備]

如下所示地進行製備。

(防眩性硬塗層形成用組成物AGL-1的組成)

所述防眩性硬塗層用形成用組成物AGL-1的固體成分濃度為40質量%。另外，以分散狀態添加樹脂粒子及膨潤石。

<光學膜401的製作>

將基材膜(A-1)自卷形態展開，使用所述低透濕層形成用組成物BL-21，藉由日本專利特開2006-122889號公報的實施例1中所記載的使用狹縫模的模具塗佈法，以搬送速度為30m/min的條件塗佈於積層有密接層的面上，於60℃下進行150秒的乾燥。其後，進一步於氮氣沖洗下、氧氣濃度約0.1%下使用輸出功率為160W/cm的空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度為400mW/cm²、照射量為120mJ/cm²的紫外線而使塗佈層硬化，形成低透濕層，進行捲取。以低透濕層的膜厚成為16μm的方式調整塗佈量，獲得附有密接層與包含低透濕層形成用組成物BL-21的低透濕層的基材膜(低透濕性膜)。

(防眩性硬塗層的塗設)

將所述製作的低透濕性膜自卷形態展開，使用所述防眩性硬塗層用組成物(AGL-1)，於積層有低透濕層的面，藉由日本專利特開2006-122889號公報的實施例1中所記載的使用狹縫模的模具塗佈法，以搬送速度為30m/min的條件進行塗佈，於60℃下進行150秒的乾燥。其後，進一步於氮氣沖洗下、氧氣濃度約0.1%下使用輸出功率為160W/cm的空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)，照射照度為400mW/cm²、照射量為180mJ/cm²的紫外線而使塗佈層硬化，形成防眩性硬塗層，進行捲取。以防眩性硬塗層的膜厚成為6μm的方式調整塗佈量。

將所得的光學膜作為光學膜401。

<光學膜402~光學膜406的製作>

於光學膜401的製作中，將低透濕層形成用組成物BL-21替換為低透濕層形成用組成物BL-22~低透濕層形成用組成物BL-26，除此以外與光學膜401同樣地進行而製作光學膜402~光學膜406。

藉由與光學膜201同樣的方法而評價所述製作的光學膜401~光學膜406。將結果示於表4中。

根據表4中所示的結果可知以下者。

1.包含對硬化性組成物(所述硬化性組成物含有特定量的(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者、特定量的(B)聚酯胺基甲酸酯與特定量的(C)松香化合物)進行硬化而成的低透濕層、於所述低透濕層上的防眩性硬塗層的光學膜，相對於不含(C)松香化合物者而言，透濕度更低、抗龜裂性亦優異。

2.特別是在低透濕層含有特定量的(B)聚酯胺基甲酸酯時的抗龜裂性，與不含(B)者相比較而言，效果顯著。

Claims (9)

1. 一種低透濕性膜，其在基材膜上包含對硬化性組成物進行硬化而形成的層，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)：(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者，(B)聚酯胺基甲酸酯。
2. 如申請專利範圍第1項所述之低透濕性膜，其中，所述環狀脂肪族烴基是下述通式(I)所表示的基： 通式(I)中，L及L'各自獨立地表示二價以上的連結基，n表示1~3的整數。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之低透濕性膜，其中，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，含有相對於所有固體成分而言為1質量%~40質量%的下述(C)：(C)松香化合物。
4. 如申請專利範圍第3項所述之低透濕性膜，其中，所述松香化合物是選自松香、氫化松香、酸改質松香及酯化松香的1種以上松香化合物。
5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之低透濕性 膜，其中，所述基材膜是醯化纖維素膜。
6. 一種光學膜，其在如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之低透濕性膜的對含有所述(A)及(B)的硬化性組成物進行硬化而形成的層上進一步包含硬塗層。
7. 一種低透濕性膜的製造方法，其包含：在基材膜上對硬化性組成物進行硬化而形成層的步驟，在將所述硬化性組成物的所有固體成分設為100質量%時，所述硬化性組成物含有相對於所有固體成分而言為50質量%~99質量%的下述(A)及1質量%~30質量%的下述(B)：(A)具有環狀脂肪族烴基與乙烯性不飽和雙鍵的化合物及具有茀環與乙烯性不飽和雙鍵的化合物的至少任意者，(B)聚酯胺基甲酸酯。
8. 一種偏光板，其包含偏光元件、與至少1片作為所述偏光元件的保護膜的如申請專利範圍第6項所述之光學膜。
9. 一種液晶顯示裝置，其包含液晶單元、與配置於所述液晶單元的至少一個上的如申請專利範圍第8項所述之偏光板，所述光學膜配置於最表面。