WO2016013261A1

WO2016013261A1 - 光学フィルム、偏光板および画像表示装置

Info

Publication number: WO2016013261A1
Application number: PCT/JP2015/061612
Authority: WO
Inventors: 絢子稲垣; 佐々木　謙一; 知世安達
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2014-07-24
Filing date: 2015-04-15
Publication date: 2016-01-28

Abstract

　光学フィルム（１５）は、透明基材（フィルム基材（１２））の少なくとも一方の面に硬化層（１３）を有する。透明基材は、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満のセルロース系フィルムである。硬化層（１３）は、非芳香族性の環構造を有する少なくとも１種の活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）と、環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である少なくとも１種の化合物（Ｂ）とを含有している。

Description

光学フィルム、偏光板および画像表示装置

　本発明は、透明基材の少なくとも一方の面に硬化層を有する光学フィルムと、その光学フィルムを有する偏光板と、その偏光板を有する画像表示装置とに関するものである。

　画像表示装置の１種である液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型、軽量で、かつ消費電力が小さいことから、広く使用されている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を含んでおり、液晶層を２枚の基板（例えばガラス基板）で挟んだ液晶セルを、２枚の偏光板で挟んで構成される。偏光板は、通常、セルロース系フィルムと、偏光膜（偏光子）とを積層して構成されており、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色して延伸し、その両面にセルロース系フィルムを積層することで構成される。

　セルロース系フィルムは、フィルム自体のコシが強く、偏光板の製造過程において取扱性が高いことや、偏光板化してパネル（液晶セル）に貼合した後のリワーク性が高いことから、保護フィルムとしての要望は強い。しかし、セルロース系フィルムは吸湿性が高く、偏光子は水分によって劣化しやすいことから、セルロース系フィルム単独では、偏光子の保護機能が足りない。

　そこで、例えば特許文献１および２では、セルロースアシレートフィルム上に、環構造を持つ化合物を有する樹脂組成物を用いて硬化層を形成することにより、フィルム全体を低透湿化し、これによって偏光子の保護機能を向上させるようにした保護フィルムが提案されている。なお、上記セルロースアシレートフィルムとしては、特許文献１では膜厚が８０μｍのものが用いられており、特許文献２では膜厚が６０μｍのものが用いられている。

特開２００６－８３２２５号公報（請求項１～３、段落〔０００５〕、〔０００７〕、〔００１３〕、〔００５７〕等参照）特開２０１４－９５８９０号公報（請求項１、１０、段落〔０００６〕、〔０００７〕、〔００３１〕、〔０２３６〕等参照）

　ところで、最近の中小型液晶ディスプレイ市場では、表示性能の向上やディスプレイの薄型化のため、偏光板の薄型化が要求されており、偏光子および保護フィルムの薄膜化が要求されている。しかし、偏光子の薄膜化が進むと、偏光子の耐久性が劣化する。加えて、保護フィルム（特にフィルム基材）を薄膜化した場合、例えば常温高湿から高温高湿に使用環境が変化すると、保護フィルムの透湿度が大幅に上がって、偏光子の保護機能が低下するため、偏光子の耐久性がさらに劣化する。このため、保護フィルムにおいては、フィルム基材が薄膜であっても、使用環境の変化による透湿度の変化を抑えて、偏光子の保護機能の低下を抑えることが求められている。

　この点、特許文献１および２の保護フィルムは、膜厚が８０μｍまたは６０μｍの厚膜のフィルム基材を用いて構成されており、フィルム基材が薄膜（例えば膜厚３５μｍ未満）の構成で、透湿度の変化を抑えて偏光子の保護機能の低下を抑えるものではない。

　また、中小型の液晶ディスプレイの使用状況も近年多様化しており、屋外での使用も想定した耐久性試験を行うことも必要となってきている。そこで、フィルム基材としての薄膜のセルロースエステルフィルム上に、偏光子保護機能を有する硬化層を積層して保護フィルムを作製し、耐久性試験（例えば水浸漬後の耐光試験）を行ったところ、耐久性試験後に、フィルム基材からの硬化層の剥離が発生することが分かった。したがって、薄膜のセルロース系フィルム上に硬化層を形成した保護フィルムでは、耐久性試験後の硬化層の剥離を抑えるべく、セルロース系フィルムと硬化層との密着性を向上させる工夫も必要となる。

　本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、薄膜のセルロース系フィルム上に硬化層を形成した構成において、セルロース系フィルムと硬化層との密着性を向上させて、耐久性試験後の硬化層の剥離を抑えるとともに、偏光板の保護フィルムに適用した場合でも、透湿度の変化による偏光子の保護機能の低下を抑えることができる光学フィルムと、その光学フィルムを有する偏光板と、その偏光板を有する画像表示装置とを提供することにある。

　本願発明者らは、薄膜のセルロース系フィルム基材の少なくとも一方の面に、下記構成の硬化層を形成することで、前記課題を解決できることを見出し、本発明に至った次第である。すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。

　本発明の一側面に係る光学フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に硬化層を有する光学フィルムであって、
　前記透明基材は、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満のセルロース系フィルムであり、
　前記硬化層が、
　非芳香族性の環構造を有する少なくとも１種の活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）と、
　環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である少なくとも１種の化合物（Ｂ）とを含有している。

　上記光学フィルムの構成によれば、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満の薄膜のセルロース系フィルム上に形成される硬化層が、特定の樹脂と特定の化合物とを含有していることにより、セルロース系フィルムと硬化層との密着性を向上させて、耐久性試験後の硬化層の剥離を抑えることができる。また、上記光学フィルムを偏光板の保護フィルムに適用した場合でも、透湿度の変化を抑えて偏光子の保護機能の低下を抑えることができ、偏光子の耐久性低下を抑えることができる。

本発明の実施の形態に係る画像表示装置の概略の構成を示す断面図である。上記画像表示装置の偏光板に適用される光学フィルムの構成を示す断面図である。

　本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ～Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。

　本願発明者らは、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満の薄膜のセルロース系フィルム上に硬化層を形成した光学フィルムにおいて、上記硬化層に、非芳香族性の環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）（以下、単に「硬化性樹脂（Ａ）」とも記載する）と、環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が特定範囲の化合物（Ｂ）とを含有させることにより、上記課題を解決できることを見出した。上記課題を解決できる理由は、以下のように推定している。

　硬化性樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する硬化層は、硬化性樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）と溶媒とを含有する硬化層組成物（塗工液）を作製して、セルロース系フィルム上に塗布し、活性エネルギー線の照射によって塗布層を硬化させることによって形成される。化合物（Ｂ）の第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下であることにより、上記の硬化層組成物中には、化合物（Ｂ）の極性基が含まれる。これにより、硬化層組成物中の溶媒に対する化合物（Ｂ）の親和性が向上し、硬化層組成物の塗布時に、セルロース系フィルムへの浸透性が向上する。その結果、塗布層を硬化させて硬化層を形成したときに、硬化層のセルロース系フィルムへの密着性を向上させることができ、耐久性試験（例えば水浸漬後の耐光試験）後の硬化層の剥離を抑えることができる。

　また、化合物（Ｂ）が環構造を有することにより、硬化性樹脂（Ａ）の環構造部分との相溶性が向上し、硬化層の疎水性が向上する。これにより、硬化性樹脂（Ａ）だけでは得られない、優れた低透湿性が得られる。特に、化合物（Ｂ）が低分子量（分子量１３０～５００）である場合、硬化層中の硬化性樹脂の自由体積が低減し、硬化性樹脂の膜密度が高まって環構造が疎水化され、低透湿の効果がさらに向上する。化合物（Ｂ）の分子量の好ましい範囲は、１５０～４００であり、さらに好ましい範囲は、２００～３５０である。

　また、上記相溶性の向上により、硬化層中で化合物（Ｂ）が安定化するため、常温高湿から高温高湿に使用環境が変化した場合でも、光学フィルムの透湿度が上昇するのを抑えることができる。これにより、透湿度の変化による偏光子の保護機能の低下を抑えることができ、偏光子の耐久性低下を抑えることができる。

　なお、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０を下回ると、化合物（Ｂ）の極性が高すぎて、硬化層が水分を吸収しやすくなるため、高温高湿環境下での透湿度の上昇を抑えることが困難となる。一方、第１酸解離定数ｐＫａ₁が７．０を上回ると、化合物（Ｂ）の極性が低すぎて、溶媒に対する化合物（Ｂ）の親和性を向上させることが困難となり、セルロース系フィルムに対する硬化層組成物の塗布時の浸透性を向上させて、硬化層の密着性を向上させることが困難となる。第１酸解離定数ｐＫａ₁の好ましい範囲は、２．０以上６．０以下であり、さらに好ましい範囲は、２．５以上５．５以下である。

　また、セルロース系フィルムがセルロースエステルフィルムの場合、偏光子の劣化抑制に優れる点から、セルロースエステルフィルムに、特定の有機酸、フェノール化合物、または主鎖にベンゼン環を含む化合物を添加することが、本発明の好ましい態様である。

　以下、本実施形態の光学フィルムが適用される画像表示装置の具体的な構成について説明する。

　〔画像表示装置の構成〕
　図１は、本実施形態の画像表示装置１の概略の構成を示す断面図である。画像表示装置１は、例えば液晶表示装置であり、液晶表示パネル２の後述する偏光板５（特に後述する光学フィルム１５上）に、充填層３１を介して保護部３を貼り合わせて構成されている。充填層３１は、アクリルなどの光硬化性樹脂からなる接着層（空隙充填剤）であり、液晶表示パネル２の偏光板５の表面全体に形成されている。保護部３は、液晶表示パネル２の表面を保護するものであり、例えばアクリル樹脂やガラスからなる前面板で構成される。なお、前面板の代わりにタッチパネル（静電容量方式や抵抗膜方式など）を上記の保護部３として用いてもよい。

　液晶表示パネル２は、液晶層を一対の基板で挟持した液晶セル４（表示セル）の両側に、偏光板５・６をそれぞれ配置して構成されている。偏光板５は、粘着層７を介して液晶セル４の一方の面側（例えば視認側）に貼り付けられている。偏光板６は、粘着層８を介して液晶セル４の他方の面側（例えばバックライト９側）に貼り付けられている。液晶表示パネル２の駆動方式は特に限定されず、ＩＰＳ（In　Plane Switching）型式、ＴＮ（Twisted Nematic）方式など、様々な駆動方式を採用することができる。

　偏光板５は、所定の直線偏光を透過する偏光子１１と、偏光子１１の保護部３側に順に積層されるフィルム基材１２および硬化層１３と、偏光子１１の液晶セル４側に積層される光学フィルム１４とで構成されている。フィルム基材１２と硬化層１３とで、偏光子１１の視認側の面に形成される保護フィルムとしての光学フィルム１５が構成されている。フィルム基材１２は、セルロース系フィルムからなる透明基材である。セルロース系フィルムとしては、後述するセルロースエーテルフィルムやセルロースエステルフィルムが挙げられる。フィルム基材１２上に硬化層１３を設けることにより、偏光板５の表面を保護することができる。

　フィルム基材１２の膜厚は、５μｍ以上３５μｍ未満である。フィルム基材１２を薄膜化することで、光学フィルム１５および偏光板５を薄膜化することができ、画像表示装置１全体の薄型化に寄与できる。

　硬化層１３は、図１のように単層で構成されていてもよいが、フィルム基材１２上に２層以上積層されていてもよい。例えば、図２に示すように、硬化層１３は、フィルム基材１２側から、第１の硬化層１３ａと、第２の硬化層１３ｂとを積層して構成されていてもよい。このように、硬化層１３を複数層積層することにより、耐擦傷性を向上させることができ、光学フィルム１５による偏光板５の表面保護を確実に図ることができる。

　光学フィルム１４は、偏光板５の裏面を保護するために設けられている。光学フィルム１４は、フィルム基材１２と同様の材料（例えばセルロース系フィルム）で構成されてもよいし、他の材料で構成されてもよい。

　上記のフィルム基材１２は、λ／４フィルムで構成されていてもよい。λ／４フィルムは、透過光に対して波長の１／４程度の面内位相差を付与する層であり、本実施形態では、斜め延伸が施されたフィルムで構成されている。λ／４フィルムの遅相軸と偏光子１１の吸収軸とのなす角度（交差角）は、３０°～６０°であり、これによって、偏光子１１からの直線偏光は、λ／４フィルム（フィルム基材１２）によって円偏光または楕円偏光に変換される。

　したがって、観察者が偏光サングラスを装着して表示画像を観察する場合において、偏光子１１の透過軸（吸収軸に垂直）と、偏光サングラスの透過軸とがどのようにズレていても、偏光板５から出射される光（円偏光または楕円偏光）に含まれる、偏光サングラスの透過軸に平行な光の成分を観察者の眼に導くことができる。これにより、観察する角度によって表示画像が見え難くなるのを抑えることができる。また、観察者が偏光サングラスを装着しない場合でも、偏光板５から出射されて観察者の眼に入射するのは円偏光または楕円偏光であるので、直線偏光が観察者の眼に直接入射する構成に比べて、観察者の眼の負担を軽減することができる。

　上記のフィルム基材１２は、ヒンダードアミン系化合物を含有してもよい。フィルム基材１２上に硬化層１３を形成した光学フィルム１５は、例えば紫外線照射によって偏光子１１に接着（ＵＶ接着）されるが、このときのＵＶ照射によって、フィルム基材１２と硬化層１３との密着性（耐光密着性）が悪くなることがある。しかし、フィルム基材１２にヒンダードアミン系化合物を含有させることにより、上記の耐光密着性を改善することができる。

　また、フィルム基材１２は、高温高湿下や高温低湿下での偏光子１１の劣化を抑えるために、特定の有機酸、特定のフェノール化合物、または主鎖にベンゼン環を含む特定の重合体を含有してもよい。

　なお、上記のヒンダードアミン系化合物や特定の有機酸等の詳細については、後述する。

　偏光板６は、所定の直線偏光を透過する偏光子２１と、偏光子２１の液晶セル４側に配置される光学フィルム２２と、偏光子２１の液晶セル４とは反対側に配置される光学フィルム２３とを積層して構成されている。偏光子２１は、透過軸が偏光子１１と垂直となるように配置されている（クロスニコル状態）。光学フィルム２２・２３は、偏光板６の表面および裏面を保護するために設けられているが、これらは偏光板５のフィルム基材１２と同様の材料（例えばセルロース系フィルム）で構成されてもよいし、他の材料で構成されてもよい。

　なお、上記した光学フィルム１５は、偏光板以外の用途に用いることも可能である。この場合、硬化層１３はフィルム基材１２の両面に設けられてもよい。したがって、光学フィルム１５においては、硬化層１３はフィルム基材１２の少なくとも一方の面に形成されていてもよいと言える。

　〔光学フィルム〕
　以下、上述した光学フィルム１５の詳細について説明する。

　（硬化層）
　〈非芳香族性の環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）〉
　本実施形態の硬化層は、非芳香族性の環構造を有する少なくとも１種の活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）を含有している。

　活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線（活性線ともいう）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化性樹脂層（硬化層）が形成される。エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ₂が好ましい。

　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が生産性、機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも、紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

　本実施形態において、非芳香族性の環構造としては、脂環構造と複素環構造とが挙げられる。脂環構造としては、例えば、イソボルニル、１－アダマンチル、グリシジル、メチルグリシジル、エチルグリシジル、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニルオキシエチル、トリシクロデカニル、ジメチロール－トリシクロデカンジ、ペンタシクロペンタデカンジメタノールルジ、シクロヘキサンジメタノールジ、ノルボルナンジメタノールジ、ｐ－メンタンー１，８－ジオールジ、ｐ－メンタン－２，８－ジオールジ、ｐ－メンタン－３，８－ジオールジ、ビシシクロペンチル環、シクロヘキシル環、シクロヘプチル環、シクロオクチル環、シクロノニル環、シクロデカニル環、デカリル環（パーヒドロナフタレン環）、ノルボルニル環、ボルニル環、イソボルニル環、アダマンチル環、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン環、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカン環などの単環あるいは多環構造が挙げられる。その他にも、脂環構造としては、ノルボルニル、テトラシクロドデカニル、ペンタシクロペンタデカニル、ジアマンタニル等が挙げられる。

　脂環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂は、脂環構造の炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とが連結基を介して結合することで構成されているものが好ましい。連結基としては、単結合、アルキレン基、アミド基、カルバモイル基、エステル基、オキシカルボニル基、エーテル基等またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。具体的には、脂環構造を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有するカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体化合物等との一段あるいは二段階の反応により、容易に合成できる。

　以下、脂環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂の具体的化合物を、下記一般式（Ｉ）～（VII）で示すが、本発明はこれらには限定されるものではない。

（式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１～３のアルキル基、Ｒ２は炭素数１～５のアルキレン基またはアルキレンオキサイド基、Ｒ３は水素原子または炭素数１～３のアルキル基、ｎは１または２の整数。）

（式中、Ｒ１、Ｒ３およびｎは、上記一般式（Ｉ）と同じ意味である。）

　一般式（Ｉ）及び一般式（II）において、Ｒ１は、水素原子または炭素数１～３のアルキル基を表し、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基を表す。Ｒ２は炭素数１～５のアルキレン基またはアルキレンオキサイド基を表し、好ましくは、メチレン基、エチレン基、メチレンオキサイド基、エチレンオキサイド基を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１～３のアルキル基を表し、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基を表す。

　以下、一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　以下、一般式（II）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　上記一般式（Ｉ）、（II）で表される化合物の市販品としては、例えばＮＫエステルＡ－ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業社製）などを挙げることができるが、これらには限定されない。

　一般式（III）中、Ｌ及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、同時に二価とはならない。ｎは１～３の整数を表す。

　一般式（IV）中、Ｌ及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、同時に二価とはならない。ｎは１～２の整数を表す。

　一般式（Ｖ）中、Ｌ及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、同時に二価とはならない。ｎは１～２の整数を表す。

　一般式（VI）中、Ｌ、Ｌ’及びＬ’’は各々独立に二価以上の連結基を表す。

　一般式（VII）中、Ｌ及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、同時に二価とはならない。

　前記一般式（III）～（VII）で表される化合物の具体例を以下に示すが、これらには限定されない。

　一方、複素環構造としては、例えば、ジオキサン環、イソソルバイド、フラン環、ヒドロフラン環、ピラン環、ヒドロピラン環、γ－ブチロラクチル環、４－オキサ－トリシクロ［４．２．１．０3,7］ノナン－５－オン、４，８－ジオキサ－トリシクロ［４．２．１．０3,7］ノナン－５－オン、４－オキサ－トリシクロ［４．３．１．１3,8］ウンデカン－５－オン、などの単環あるいは多環式ラクトンなどが挙げられる。

　複素環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂の具体例としては、ジオキサングリコールジアクリレート（Ａ－ＤＯＧ、新中村化学工業（株）社製）、トリシクロデカン含有テトラアクリレートなどがあるが、その他にも、以下のものが挙げられる。

　低透湿性の観点から、環構造中にヘテロ元素を有さない脂環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることが好ましい。

　〈環構造を有し、ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である化合物（Ｂ）〉
　硬化層は、環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である少なくとも１種の化合物（Ｂ）を含有している。

　酸解離定数は、酸の強さを定量的に表すための指標の一つであり、ｐＫａの値が小さいほど強い酸であることを示す。第１酸解離定数ｐＫａ₁は、多価の酸の第一解離（一段目の解離）での酸解離定数を表す。

　環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が上記範囲の化合物（Ｂ）としては、例えばカルボン酸含有添加剤、バルビツール酸系化合物、ロジン系化合物が挙げられる。

　《カルボン酸含有添加剤》
　カルボン酸含有添加剤としては、下記一般式で表される化合物が好ましい。

　Ａは、水素、メチル基、エチル基、ヒドロキシル基、アミノ基、メトキシ基、エトキシ基、カルボン酸基のいずれかである。ただし、上記添加剤は、１つ以上のカルボン酸基を含む。また、Ｌは、何もなしか、下記の構造物のいずれかを指す。

　カルボン酸含有添加剤の具体例としては、例えば、安息香酸、サリチル酸２－カルボキシフェニル、４－ビフェニル酢酸、ビフェニル－４－カルボン酸、ビフェニル－４－カルボン酸、ｏ－ベンゾイル安息香酸、２，２’－ビフェニルジカルボン酸、４，４’－ビフェニルジカルボン酸、フタル酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、ジフェニル酢酸、シクロヘキシルカルボン酸、１，３－アダマンタンジカルボン酸、トリフェニル酢酸、Ｎ－（２，６－ジエチルフェニルカルバモイルメチル）イミノジ酢酸、Ｎ－ベンジルイミノジ酢酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、２，５－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン、１，３－シクロペンタンジカルボン酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等が挙げられる。

　《バルビツール酸系化合物》
　バルビツール酸系化合物としては、下記一般式（Ｇ）で表される化合物が好ましい。

　一般式（Ｇ）において、Ｒ²⁶はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、Ｒ²⁷及びＲ²⁸はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²⁹は水素原子を表す。Ｒ²⁶、Ｒ²⁷及びＲ²⁸はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。

　前記Ｒ²⁶は炭素数１～２０のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～２０のアルケニル基又は炭素数６～２０のアリール基であることが好ましく、炭素数１～１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～２０のアルケニル基又は炭素数６～２０のアリール基であることがより好ましく、炭素数が１～１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～１０のアルケニル基又は炭素数６～１８のアリール基であることが更に好ましく、炭素数が１～８のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数６～１２のアリール基であることが特に好ましく、炭素数が１～６であるアルキル基（シクロアルキル基も含む）、又は炭素数６～１２のアリール基であることが最も好ましい。

　中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はナフチル基であることが更に好ましく、メチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることが最も好ましい。

　前記Ｒ²⁷及びＲ²⁸はそれぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～２０のアルケニル基または炭素数６～２０のアリール基又は炭素数６～２０のヘテロアリール基であることが好ましく、炭素数１～１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～２０のアルケニル基または炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数が１～１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～１０のアルケニル基又は炭素数６～１８のアリール基であることが更に好ましく、炭素数が１～８のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数６～１２のアリール基であることが特に好ましく、炭素数が１～６であるアルキル基（シクロアルキル基も含む）、又は炭素数６～１２のアリール基であることが最も好ましい。

　中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基またはフェニル基、ナフチル基であることが最も好ましく、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることが特に好ましい。

　前記Ｒ²⁶が有していてもよい置換基としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であることが好ましく、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、又は炭素数６～１２のアリール基であることがより好ましく、塩素原子、メチル基、又はフェニル基であることが特に好ましい。

　前記Ｒ²⁷及びＲ²⁸が有していてもよい置換基としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、炭素数６～１２のアリール基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。

　上記一般式（Ｇ）で表される化合物として、下記一般式（Ｇ－ａ）で表される化合物を用いることができる。一般式（Ｇ－ａ）で表される化合物は、製膜時の揮散抑制の観点で好ましい。

　上記一般式（Ｇ－ａ）中、Ｌ¹～Ｌ³は、各々独立に、単結合又はアルキレン基を表し、Ａｒ¹～Ａｒ³は、各々独立に、炭素数６～２０のアリール基を表す。

　Ｌ¹～Ｌ³は、各々独立に、単結合又は炭素数１以上の２価の連結基を表す。上記Ｌ¹～Ｌ³は、単結合又は炭素数１～６のアルキレン基であることがより好ましく、単結合、メチレン基又はエチレン基であることが更に好ましく、単結合又はメチレン基であることが特に好ましい。前記２価の連結基は置換基を有していてもよく、当該置換基は、後述するＡｒ¹、Ａｒ²、及びＡｒ³が有しうる置換基と同義である。

　Ａｒ¹～Ａｒ³は、好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基である。Ａｒ¹～Ａｒ³は置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよい。置換基を有する場合、当該置換基は環構造を有さないことが好ましい。

　Ａｒ¹、Ａｒ²、及びＡｒ³が有する置換基としては、特に制限はなく、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、ペンチル、ヘプチル、１－エチルペンチル、ベンジル、２－エトキシエチル、１－カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４－メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェニル、１－ナフチル、４－メトキシフェニル、２－クロロフェニル、３－メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０～２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、該環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２－ピリジル、４－ピリジル、２－イミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、２－チアゾリル、２－オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェノキシ、１－ナフチルオキシ、３－メチルフェノキシ、４－メトキシフェノキシ等）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェニルチオ、１－ナフチルチオ、３－メチルフェニルチオ、４－メトキシフェニルチオ等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクロロイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アリーロイルアルキル基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エトキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０～２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ、Ｎ－エチルアミノ、アニリノ、１－ピロリジニル、ピペリジノ、モルホニル等）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数０～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホンアミド、Ｎ－フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル、Ｎ－フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル、Ｎ－フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基またはハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。

　Ａｒ¹、Ａｒ²、及びＡｒ³が有しうる上記置換基は、さらに上記置換基を有していてもよい。

　ここで、Ａｒ¹、Ａｒ²、及びＡｒ³の各基が有してもよい上記の置換基のうち、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基が好ましい。

　一般式（Ｇ）又は（Ｇ－ａ）で表される化合物の分子量は２５０～１２００であることが好ましく、３００～８００であることがより好ましい。分子量が２５０以上であれば、フィルムからの揮散が抑制され、１２００以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れるため、フィルムの透明性が良好となる。

　以下に、一般式（Ｇ）又は（Ｇ－ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記例示化合物中、Ｍｅはメチル基を表す。

　上記一般式（Ｇ）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。Ｎ上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組み合わせて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ、第６１巻、１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５４巻、２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、第４０巻、８０２９頁（１９９９年）、ＷＯ２００７／１５００１１号公報などに記載の方法を好ましく用いることができる。

　また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ⁵に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（Ｇ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（Ｇ）で表される化合物を合成してもよい。

　なお、一般式（Ｇ）で表される化合物の合成法は、上記の方法に限定されるものではない。

　《ロジン系化合物》
　ロジン系化合物としては、例えば以下の構造式のものが挙げられる。

　上記化合物のうち、ＫＥ－６０４とＫＥ－６１０は、それぞれ荒川化学工業（株）から市販されている。同じく、荒川化学工業（株）から、ロジンとして、ＫＲ－８５、ＫＲ－６１２、ＫＲ－６１４、重合ロジンとしてＫＲ－１４０が市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）からＧ－７及びハートールＲ－Ｘとして市販されている。

　上述した化合物（Ｂ）のうち、代表的な化合物（Ｂ）について、その構造式を以下に示す。

　（光重合開始剤）
　硬化層は、活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００～０．０１：１００となる含有量であることが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α－アミロキシムエステル、チオキサントン等、およびこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。光重合開始剤としては市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。

　（微粒子）
　硬化層は微粒子を含有しても良い。微粒子としては、特に制限されないが、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、五酸化アンチモン等が挙げられ、好ましくはシリカである。シリカ微粒子は、内部に空洞を有する中空粒子でも良い。ポリマーシランカップリング剤で被覆されてなる微粒子が、良好な機械特性を発揮することから特に好ましい。含有量については、微粒子：活性線硬化樹脂＝０．１：１００～４００：１００となる含有量が好ましい。

　（ポリマーシランカップリング剤）
　ポリマーシランカップリング剤とは、重合性モノマーとシランカップリング剤（反応性シラン化合物）との反応物をいう。このようなポリマーシランカップリング剤は、例えば、特開平１１－１１６２４０号公報に開示された重合性モノマーと反応性シラン化合物との反応物の製法に準じて得ることができる。

　重合性モノマーとして、具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸－ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）－ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸－ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸－ｎ－ヘプチル、（メタ）アクリル酸－ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸－２－メトキシエチル、（メタ）アクリル酸－３－メトキシブチル、（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２－アミノエチル、（メタ）アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２－トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロエチルエチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロエチル－２－パーフルオロブチルエチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロメチル、（メタ）アクリル酸ジバーフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロメチル－２－パーフルオロエチルメチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロヘキシルエチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロデシルエチル、（メタ）アクリル酸２－パーフルオロヘキサデシルエチル等の（メタ）アクリル酸系モノマー；スチレン、ビニルトルエン、α－メチルシチレン、クロルスチレン、スチレンスルホン酸及びその塩等のスチレン系モノマー；パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等のフッ素含有ビニルモノマー；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のケイ素含有ビニル系モノマー；無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル；フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のニトリル基含有ビニル系モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基含有ビニル系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル類；エチレン、プロピレン等のアルケン類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、アリルアルコール、アクリル樹脂モノマー類；ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２－エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、ｎ－ラウリルアクリレート、ｎ－ステアリルアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。

　反応性シラン化合物としては、下記式（１）で表される有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
　　　Ｘ－Ｒ－Ｓｉ（ＯＲ）₃　　　（１）
（式中、Ｒは、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数１～１０の有機基を表す。Ｘは（メタ）アクロイル基、エポキシ基（グリシド基）、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる１種または２種以上の官能基。）

　式（１）で表される有機ケイ素化合物として、具体的には、３，３，３－トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル－３,３,３－トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ－グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－（β－グリシドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ－（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。

　重合性モノマーと反応性シラン化合物とを反応させて、ポリマーシランカップリング剤が調製される。具体的には、重合性モノマー１００重量部に対し、反応性シラン化合物を０．５～２０重量部、さらには１～１０重量部の範囲で混合した有機溶媒溶液を調製し、これに重合開始剤を添加し、加熱することによって得ることができる。

　（ポリマーシランカップリング剤被覆微粒子の調製方法）
　ポリマーシランカップリング剤被覆微粒子は、具体的には、微粒子の有機溶媒分散液にポリマーシランカップリング剤を加え、アルカリ存在下にポリマーシランカップリング剤で微粒子を被覆することによって調製できる。得られるポリマーシランカップリング剤被覆微粒子の平均粒子径の範囲は、５～５００ｎｍ、さらには１０～２００ｎｍであることが、光学フィルムに用いた際の光学特性を確保できる点で好ましい。

　硬化層中のポリマーシランカップリング剤被覆微粒子の含有量は、固形分として０．５～８０質量部、さらには１～６０質量部であることが、硬化層の膜強度を確保する観点から好ましい。

　（導電剤）
　硬化層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。

　（添加剤）
　硬化層には、塗布性を良好にする観点から、フッ素－シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、シリコーン系化合物やＨＬＢ値が３～１８の化合物が含まれていても良い。これら添加剤の種類や添加量を調整することで、親水性を制御しやすい。ＨＬＢ値とは、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ－Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ－Ｂａｌａｎｃｅ、つまり、親水性－親油性のバランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、ＨＬＢ値は以下のような計算式によって求めることができる。
　ＨＬＢ＝７＋１１．７Ｌｏｇ（Ｍｗ／Ｍｏ）
　式中、Ｍｗは親水基の分子量、Ｍｏは親油基の分子量を表し、Ｍｗ＋Ｍｏ＝Ｍ（化合物の分子量）である。或いはグリフィン法によれば、ＨＬＢ値＝２０×親水部の式量の総和／分子量（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ　Ｃｈｅｍ．，５（１９５４），２９４）等が挙げられる。

　ＨＬＢ値が３～１８の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、これに限定されるものでない。（　）内はＨＬＢ値を示す。花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ（６．３）、エマルゲン１０３（８．１）、エマルゲン１０４Ｐ（９．６）、エマルゲン１０５（９．７）、エマルゲン１０６（１０．５）、エマルゲン１０８（１２．１）、エマルゲン１０９Ｐ（１３．６）、エマルゲン１２０（１５．３）、エマルゲン１２３Ｐ（１６．９）、エマルゲン１４７（１６．３）、エマルゲン２１０Ｐ（１０．７）、エマルゲン２２０（１４．２）、エマルゲン３０６Ｐ（９．４）、エマルゲン３２０Ｐ（１３．９）、エマルゲン４０４（８．８）、エマルゲン４０８（１０．０）、エマルゲン４０９ＰＶ（１２．０）、エマルゲン４２０（１３．６）、エマルゲン４３０（１６．２）、エマルゲン７０５（１０．５）、エマルゲン７０７（１２．１）、エマルゲン７０９（１３．３）、エマルゲン１１０８（１３．５）、エマルゲン１１１８Ｓ－７０（１６．４）、エマルゲン１１３５Ｓ－７０（１７．９）、エマルゲン２０２０Ｇ－ＨＡ（１３．０）、エマルゲン２０２５Ｇ（１５．７）、エマルゲンＬＳ－１０６（１２．５）、エマルゲンＬＳ－１１０（１３．４）、エマルゲンＬＳ－１１４（１４．０）、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ（４）、サーフィノール１０４Ｈ（４）、サーフィノール１０４Ａ（４）、サーフィノール１０４ＢＣ（４）、サーフィノール１０４ＤＰＭ（４）、サーフィノール１０４ＰＡ（４）、サーフィノール１０４ＰＧ－５０（４）、サーフィノール１０４Ｓ（４）、サーフィノール４２０（４）、サーフィノール４４０（８）、サーフィノール４６５（１３）、サーフィノール４８５（１７）、サーフィノールＳＥ（６）、信越化学工業株式会社製：Ｘ－２２－４２７２（７）、Ｘ－２２－６２６６（８）。

　フッ素－シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素－シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ－０２２Ｈ、ＺＸ－００７Ｃ、ＺＸ－０４９、ＺＸ－０４７－Ｄ等を挙げることができる。

　フッ素系化合物としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファックシリーズ（Ｆ－４７７、Ｆ－４８７、Ｆ－５６９等）、ダイキン工業株式会社社製のオプツールＤＳＸ、オプツールＤＡＣなどを挙げることができる。

　シリコーン系化合物としては、信越化学工業株式会社製：ＫＦ－３５１、ＫＦ－３５２、ＫＦ－３５３、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－６１５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６１８、ＫＦ－６０１１、ＫＦ－６０１５、ＫＦ－６００４、ビックケミージャパン株式会社製：ＢＹＫ－ＵＶ３５７６、ＢＹＫ－ＵＶ３５３５、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０、ＢＹＫ－ＵＶ３５０５、ＢＹＫ－ＵＶ３５００、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０などを挙げることができる。これら成分は硬化層組成物中の固形分成分に対し、０．００５質量部以上、１０質量部以下の範囲で添加することが好ましい。これらの成分は全添加剤量が０．００５質量部以上、１０質量部以下の範囲であれば、２種類以上添加しても良い。

　（紫外線吸収剤）
　硬化層は、後述するセルロースエステルフィルムで説明する紫外線吸収剤を含有しても良い。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成として、硬化層が２層以上で構成される場合には、フィルム基材と接する硬化層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。

　紫外線吸収剤の含有量としては、質量比で、紫外線吸収剤：硬化性樹脂＝０．０１：１００～２０：１００となる含有量であることが好ましい。

　（溶剤）
　硬化層は、上記した硬化層を形成する成分を、フィルム基材を膨潤又は一部溶解をする溶剤で希釈して硬化層組成物として、以下の方法でフィルム基材上に塗布し、乾燥、硬化して設けることが好ましい。

　溶剤としては、ケトン（メチルエチルケトン、アセトンなど）及び／又は酢酸エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール（エタノール、メタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。硬化層組成物の塗布量は、ウェット膜厚で０．１～８０μｍとなる量が適当であり、好ましくはウェット膜厚で０．５～３０μｍとなる量である。また、ドライ膜厚としては、平均膜厚０．０１～２０μｍの範囲、好ましくは１～１５μｍの範囲である。より好ましくは、２～１２μｍの範囲である。

　硬化層組成物の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。

　（積層）
　硬化層は２層以上で構成されるほうが、表面硬度（耐擦傷性）の観点から好ましい。硬化層が２層以上で構成される場合、最表面層は上記したポリマーシランカップリング剤被覆微粒子を含有することが、表面硬度の点から好ましい。ポリマーシランカップリング剤被覆微粒子の含有量としては、質量比で、ポリマーシランカップリング剤被覆微粒子：硬化性樹脂＝０．１：１００～２００：１００の範囲が好ましい。

　硬化層を２層以上設ける場合、フィルム基材と接する硬化層の膜厚は０．０１～５０μｍの範囲であることが好ましく、２層目の硬化層の膜厚は０．０１～２５μｍの範囲であることが好ましい。

　２層以上の積層は、同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上の硬化層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで塗布して、硬化層を形成することである。

　第１の硬化層の上に乾燥工程を経ずに、第２の硬化層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

　（硬化層形成方法）
　硬化層組成物の塗布後、乾燥し、硬化（活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う））し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理しても良い。ＵＶ硬化後の加熱処理温度は８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた硬化層を得ることができる。

　乾燥は、減率乾燥区間の温度を３０℃以上で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は５０℃以上である。

　一般に、乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られている。乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。

　ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

　照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０～１０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、好ましくは５０～３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲である。また、ＵＶ硬化処理では、酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去（例えば、窒素パージなどの不活性ガスによる置換）を行うこともできる。酸素濃度の除去量を調整することで、表面の硬化状態を制御できる。

　活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０～３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックローラ上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

　光学フィルム上に、硬化層は少なくとも一層有れば良く、複数層からなっていても良い。また、光学フィルムの両面に硬化層があってもよい。

　（バックコート層）
　光学フィルムの硬化層を設けた側と反対側の面に、バックコート層を設けても良い。バックコート層は、塗布やＣＶＤなどによって、硬化層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正する為に設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層は、好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設されることも好ましく、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせる為に微粒子が添加されることが好ましい。

　バックコート層に添加される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、ヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。これらの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマー微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

　これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、ヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きい為、特に好ましく用いられる。本実施形態で用いられる光学フィルムの裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１～０．９であることが好ましい。

　バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１～５０質量％含まれていることが好ましく、０．１～１０質量％含まれていることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、特に０．０～０．１％であることが好ましい。

　バックコート層は、具体的には、透明樹脂フィルム（フィルム基材）を溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって形成されることが好ましい。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量で形成すればよい。

　カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は、好ましくは（溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０～０．３：９．７である。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、シクロヘキサン、ジアセトンアルコール、１，３－ジオキソラン、Ｎ－メチルピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン、シクロペンタノン、３－ペンタノン、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、乳酸エチル、ビス（２－メトキシエチル）エーテル、酢酸２－メトキシエチル、プロピレングリコールジメチルエーテル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロピルアルコール、ｉ－プロピルアルコール、ｎ－ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、或いは炭化水素類（トルエン、キシレン、シクロヘキサノール）などがある。

　これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１～１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５～３０μｍであることが好ましい。バックコート層はバインダーとして樹脂を含有しても良い。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン－塩化ビニル共重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８～２．３、プロピオニル基置換度０．１～１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル－スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル－塩素化ポリエチレン－スチレン共重合体、メチルメタクリレート－ブタジエン－スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン－ブタジエン樹脂、ブタジエン－アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レイヨン（株）製）、ハイパールＭ－４００３、Ｍ－４００５、Ｍ－４００６、Ｍ－４２０２、Ｍ－５０００、Ｍ－５００１、Ｍ－４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ－５０、ＢＲ－５２、ＢＲ－５３、ＢＲ－６０、ＢＲ－６４、ＢＲ－７３、ＢＲ－７５、ＢＲ－７７、ＢＲ－７９、ＢＲ－８０、ＢＲ－８２、ＢＲ－８３、ＢＲ－８５、ＢＲ－８７、ＢＲ－８８、ＢＲ－９０、ＢＲ－９３、ＢＲ－９５、ＢＲ－１００、ＢＲ－１０１、ＢＲ－１０２、ＢＲ－１０５、ＢＲ－１０６、ＢＲ－１０７、ＢＲ－１０８、ＢＲ－１１２、ＢＲ－１１３、ＢＲ－１１５、ＢＲ－１１６、ＢＲ－１１７、ＢＲ－１１８等（三菱レイヨン（株）製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいものを適宜選択することもできる。好ましくは、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。

　バックコート層を塗設する順番は、光学フィルムのバックコート層とは反対側の硬化層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは硬化層の塗設の前後に２回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。

　〔光学フィルム特性〕
　（表面形状）
　硬化層の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１）は、２～１００ｎｍの範囲内が好ましく、特に好ましくは２～２０ｎｍの範囲内である。前記範囲の算術平均粗さＲａとすることで、視認性やクリア性に優れる。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準じて光学干渉式表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製、ＮｅｗＶｉｅｗ）で測定した値である。

　（ヘイズ）
　光学フィルムのヘイズは、画像表示装置に用いた場合の視認性から０．０５％～１０％の範囲内であることが好ましい。ヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ７１０５及びＪＩＳ　Ｋ７１３６に準じて測定できる。

　（硬度）
　光学フィルムの硬度については、硬度の指標である鉛筆硬度がＨＢ以上であることが好ましい。鉛筆硬度がＨＢ以上であれば、偏光板化工程で、傷が付きにくい。鉛筆硬度は、作製した光学フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、加重５００ｇ条件でＪＩＳ　Ｓ　６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、硬化層をＪＩＳ　Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。

　〔フィルム基材〕
　フィルム基材は、セルロース系フィルムで構成される。セルロース系フィルムとしては、製造が容易であること、硬化層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましく、例えばセルロースエーテルフィルムやセルロースエステルフィルムが挙げられる。

　（セルロースエーテルフィルム）
　セルロースエーテルフィルムは、セルロースエーテル樹脂組成物（以下、単にセルロースエーテルともいう）を主成分とするフィルムである。セルロースエーテルは、セルロースの水酸基が炭素数４以下のアルコキシ基で置換されたものであることが好ましい。具体的には、セルロースの水酸基がメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基のいずれかまたは複数のアルコキシ基によって置換されたものが好ましい。特に、セルロースの水酸基が、メトキシ基とエトキシ基の単独あるいは複数のアルコキシ基によって置換されたものが好ましく、中でもエトキシ置換度（ＤＳｅｔ）が１．８以上２．８以下、より好ましくはＤＳｅｔが１．８以上２．５以下を満たすエチルセルロースを好適に用いることができる。

　なお、本明細書において、ＤＳｅｔは、セルロース分子中の２，３，６位に存在する３個の水酸基が平均してどれだけエトキシ化されているかを表し、置換度が３のときはすべての水酸基がエトキシ化されていることを示す。それぞれの位置の置換度は均等でもよく、いずれかの位置に偏っていてもよい。エーテル置換度はＡＳＴＭ　Ｄ４７９４－９４に記載の方法にて定量することができる。

　置換度が１．８を下回ると、単独で溶解する溶剤の種類が限定される上に、フィルムの吸水率が大きくなり、寸法安定性が低下する傾向がある。また、置換度が２．８を超えても、溶解する溶剤の種類が限定されるばかりでなく、樹脂自体が高価になる傾向にある。

　セルロースエーテルは、それ自体既知の方法で製造することがでる。例えば、セルロースを強苛性ソーダ溶液で処理してアルカリセルロースとし、これをメチルクロリドやエチルクロリドと反応させ、エーテル化することにより、製造することができる。

　セルロースエーテルの重量平均分子量は、好ましくは１０万から４０万であり、より好ましくは１３万から３０万であり、さらに好ましくは１５万から２５万である。分子量が４０万よりも大きい場合、溶剤に対する溶解度が低下するだけでなく、得られる溶液の粘度が高くなりすぎて、溶剤キャスト法に適さず、熱成形を困難にし、フィルムの透明性が低下する等の問題を生じる傾向がある。一方、分子量が１０万よりも小さい場合、得られるフィルムの機械的強度が低下する傾向がある。

　セルロースエーテルとしては、単一の原料から製造されるセルロースエーテルを用いてもよいし、原料の異なるセルロースエーテルを２種以上組み合わせて用いてもよい。

　（セルロースエステルフィルム）
　セルロースエステルフィルムは、セルロースエステル樹脂組成物を主成分とするフィルムである。本明細書において、セルロースエステルとは、セルロースを構成するβ－１，４結合しているグルコース単位中の２位、３位および６位の水酸基（－ＯＨ）の水素原子の一部、または全部がアシル基で置換されたセルロースアシレート樹脂をいう。

　セルロースエステルフィルムの市販品としては、例えばコニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＥ及びＫＣ４ＵＺ（以上、コニカミノルタ（株）製）が挙げられる。セルロースエステルフィルムの屈折率は１．４５～１．５５であることが好ましい。屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ７１４２－２００８に準じて測定することができる。

　セルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。セルロースの低級脂肪酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。

　セルロースジアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５１．０％～５６．０％のものが好ましく用いられる。市販品としては、（株）ダイセル製のＬ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカルジャパン（株）製のＣａ３９８－３、Ｃａ３９８－６、Ｃａ３９８－１０、Ｃａ３９８－３０、Ｃａ３９４－６０Ｓが挙げられる。

　セルローストリアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０～６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０～６２．５％のセルローストリアセテートである。

　セルローストリアセテートは、セルローストリアセテートＡと、セルローストリアセテートＢとを含有することが好ましい。セルローストリアセテートＡは、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．９～２．１であるセルローストリアセテートである。セルローストリアセテートＢは、アセチル基置換度が２．７５～２．９０であり、Ｍｎが１５５０００以上１８００００未満であり、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．８～２．０であるセルローストリアセテートである。

　セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数２～４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとしたとき、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすものであることが好ましい。
　式（Ｉ）　２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
　式（II）　０≦Ｘ≦２．５

　中でも、１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。

　上記アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ－Ｄ８１７－９６に準じて測定することができる。セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。測定条件は以下の通りである。
　溶媒：メチレンクロライド
　カラム：Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ
（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：０．１質量％
　検出器：ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
　校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）
製）Ｍｗ＝１００００００～５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

　（熱可塑性アクリル樹脂）
　フィルム基材は、セルロース系樹脂に熱可塑性アクリル樹脂を併用して構成されても良い。併用する場合には、熱可塑性アクリル樹脂とセルロース系樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロース系樹脂＝９５：５～５０：５０であることが好ましい。

　アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０～９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１～５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２～１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が
１～１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β－不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α－メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β－不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ－置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独あるいは２種以上を併用してよい。

　これらの中でも共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｓ－ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ－ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００～５０００００であることが好ましく、更に好ましくは１１００００～５０００００の範囲内である。

　アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の市販品としては、例えばデルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。

　（λ／４フィルム）
　フィルム基材として、λ／４フィルムを用いても良い。λ／４フィルムを用いることで、画像表示装置に本実施形態の光学フィルムを組み入れた場合、視認性に優れるばかりか、クロストークにも優れる点から好ましい。

　λ／４フィルムとは、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルムの面内位相差が約１／４となるフィルムをいう。λ／４フィルムは、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の１／４の位相差を有する広帯域λ／４フィルムであることが好ましい。

　λ／４フィルムは、波長５５０ｎｍで測定した面内リタデーション値Ｒｏ（５５０）が、６０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であることがより好ましく、９０ｎｍ以上１９０ｎｍ以下の範囲であることがさらに好ましい。なお、面内リタデーション値Ｒｏは、以下の式で表される。
　Ｒｏ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
　ただし、式中、ｎｘ、ｎｙは、２３℃５５％ＲＨ、波長５５０ｎｍにおける屈折率のうち、フィルムの面内で最大の屈折率（遅相軸方向の屈折率ともいう）、およびフィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。Ｒｏは、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、各波長での複屈折率測定により算出することができる。

　さらに、λ／４フィルムとして有効に機能するためには、同時に、Ｒｏ（５９０）－Ｒｏ（４５０）≧２ｎｍの関係を満足することが好ましく、Ｒｏ（５９０）－Ｒｏ（４５０）≧５ｎｍであることがより好ましく、Ｒｏ（５９０）－Ｒｏ（４５０）≧１０ｎｍであることがさらに好ましい。なお、Ｒｏ（Ａ）は、波長Ａｎｍで測定した面内リタデーション値を指す。

　λ／４フィルムの遅相軸と後述する偏光子の透過軸との角度が実質的に４５°になるように積層すると円偏光板が得られる。実質的に４５°とは、３０°～６０°の範囲、より望ましくは４０°～５０°の範囲であることを意味する。λ／４フィルムの面内の遅相軸と偏光子の透過軸との角度は、４１～４９°であることが好ましく、４２～４８°であることがより好ましく、４３～４７°であることがより一層好ましく、４４～４６°であることがさらに好ましい。

　λ／４フィルムとしては、光学的に透明な樹脂であれば特に限定はなく、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、前述したセルロース系樹脂などを用いることができる。中でも、耐薬品性の観点から、λ／４フィルムは、セルロース系樹脂またはポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、耐熱性の観点から、λ／４フィルムは、セルロース系樹脂であることが好ましい。

　（リタデーション調整剤）
　λ／４のリタデーション調整は、前述したフィルム基材にリタデーション調整剤を添加することで行うことができる。リタデーション調整剤としては、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することができる。

　また、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環が含まれる。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５－トリアジン環が特に好ましい。

　（微粒子）
　フィルム基材には、取扱性を向上させるため、例えばアクリル粒子、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。また、アクリル粒子は、特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。これらの中でも二酸化ケイ素がフィルム基材のヘイズを小さくできる点で好ましい。微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５～１６ｎｍの範囲内であり、特に好ましくは、５～１２ｎｍの範囲内である。

　（エステル化合物）
　フィルム基材は、環境変化での寸法安定性の観点から、下記一般式（Ｘ）で表されるエステル化合物又は糖エステルを含有することが好ましい。先ずは、一般式（Ｘ）で表されるエステル化合物について説明する。

　一般式（Ｘ）Ｂ－（Ｇ－Ａ）ｎ－Ｇ－Ｂ
（式中、Ｂはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Ｇは炭素数２～１２のアルキレングリコール残基又は炭素数６～１２のアリールグリコール残基又は炭素数が４～１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４～１２のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数６～１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１以上の整数を表す。）

　一般式（Ｘ）において、炭素数２～１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－プロパンジオール、２－メチル１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール（３，３－ジメチロールペンタン）、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３プロパンジオール（３，３－ジメチロールヘプタン）、３－メチル－１，５－ペンタンジオール１，６－ヘキサンジオール、２，２，４－トリメチル１，３－ペンタンジオール、２－エチル１，３－ヘキサンジオール、２－メチル１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，１２－オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２～１２のアルキレングリコールがセルロースアセテートとの相溶性に優れているため、特に好ましい。炭素数６～１２のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは１種又は２種以上の混合物として使用できる。

　また、炭素数４～１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用できる。炭素数４～１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種又は２種以上の混合物として使用される。炭素数６～１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。以下に、一般式（Ｘ）で表される化合物の具体例（化合物Ｘ－１～化合物Ｘ－１７）を示すが、これに限定されない。

　（糖エステル化合物）
　次に糖エステル化合物について説明する。糖エステル化合物としては、セルロースエステル以外のエステルであって、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物である。糖としては例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ－フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース及びケストースを挙げることができる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。これらの化合物の中で、特にフラノース構造及び／又はピラノース構造を有する化合物が好ましい。これらの中でも、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ－フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、さらに好ましくは、スクロースである。また、オリゴ糖として、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖も好ましく使用することができる。

　糖をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸は、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。使用するカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２－エチルーヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、べヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができ、より具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ－イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α－イソジュリル酸、クミン酸、α－トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ－、ｍ、ｐ－アニス酸、クレオソート酸、ｏ－、ｍ、ｐ－ホモサリチル酸、ｏ－ピロカテク酸、β－レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ－ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ－ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ－クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。エステル化したエステル化合物の中では、エステル化によりアセチル基が導入されたアセチル化合物が好ましい。以下に本実施形態に用いられ得る糖エステル化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。

　糖エステル化合物は、一般式（Ｙ）で示される化合物が好ましい。以下に、一般式（Ｙ）で示される化合物について説明する。

　（式中、Ｒ₁～Ｒ₈は、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数２～２２のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換の炭素数２～２２のアリールカルボニル基を表し、Ｒ₁～Ｒ₈は、同じであっても、異なっていてもよい。）

　以下に一般式（Ｙ）で示される化合物をより具体的（化合物Ｙ－１～化合物Ｙ－２３）に示すが、これらに限定はされない。なお、下表において平均置換度が８．０未満の場合、Ｒ₁～Ｒ₈のうちのいずれかは水素原子を表す。

　置換度分布は、エステル化反応時間の調節、又は置換度違いの化合物を混合することにより目的の置換度に調整できる。

　一般式（Ｘ）で表わされるエステル化合物又は糖エステル化合物は、セルロースアセテートフィルムに、１～３０質量％含有させることが好ましく、５～２５質量％含有させることがより好ましく、５～２０質量％含有させることが特に好ましい。

　（可塑剤)
　フィルム基材は、必要に応じて可塑剤を含有しても良い。可塑剤としては、特に限定されないが、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等が挙げられる。これらの中では、後述するリタデーション値にフィルム基材を制御しやすい点から、アクリル系可塑剤が好ましい。

　多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２～２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。以下に、多価アルコールエステル系可塑剤の具体的例を示すがこれらに限定されるものではない。

　グリコレート系可塑剤としては、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類を好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。

　フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ－２－エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。

　リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。

　多価カルボン酸エステル系可塑剤は２価以上、好ましくは２価～２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる化合物である。具体例としては、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられるが、これらに限定されない。

　アクリル系可塑剤としてはアクリル系ポリマーが好ましく、アクリル系ポリマーはアクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ－、ｎ－）、アクリル酸ブチル（ｎ－、ｉ－、ｓ－、ｔ－）、アクリル酸ペンチル（ｎ－、ｉ－、ｓ－）、アクリル酸ヘキシル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ヘプチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸オクチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ノニル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ミリスチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸（２－エチルヘキシル）、アクリル酸（ε－カプロラクトン）、アクリル酸（２－ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２－ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３－ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４－ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２－ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２－メトキシエチル）、アクリル酸（２－エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位を３０質量％以上有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位を４０質量％以上有していることが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。

　なお、本実施形態のフィルム基材に、上述した可塑剤を含有させる場合、セルロースアセテートに対し、１～５０質量％含有させることが好ましく、５～３５質量％含有させることがより好ましく、５～２５質量％含有させることが特に好ましい。

　（紫外線吸収剤）
　本実施形態のフィルム基材は、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、耐久性を向上させるができる。紫外線吸収剤は、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下となるものであることが好ましく、より好ましくは上記透過率が５％以下、更に好ましくは２％以下である。紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

　より具体的には、例えば、５－クロロ－２－（３，５－ジ－ｓｅｃ－ブチル－２－ヒドロキシルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、（２－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール、２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４－ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類を好ましく使用できる。

　好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などである。この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ　１０９（オクチル－３－[３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－(５－クロロ―２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル)フェニル]プロピオネートと２－エチルヘキシル－３－[３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ―２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル]プロピオネートの混合物）、ＴＩＮＵＶＩＮ　９２８（２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール）などを用いることができる。トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ　４００（２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物）、ＴＩＮＵＶＩＮ　４６０（２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３－５－トリアジン）、ＴＩＮＵＶＩＮ　４０５（２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物）などを用いることができる。

　紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、フィルム基材となる樹脂溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

　紫外線吸収剤の使用量は、セルロースアセテートフィルムに対して０．５～１０質量％が好ましく、０．６～４質量％が更に好ましい。

　（酸化防止剤）
　本実施形態のフィルム基材は、さらに酸化防止剤（劣化防止剤）を含有していてもよい。酸化防止剤は、セルロースアセテートフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりセルロースアセテートフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有する。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール－ビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６－ヘキサンジオール－ビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレート等を挙げることができる。これら化合物の添加量は、セルロースアセテートフィルムに対して、質量割合で１ｐｐｍ～１００００ｐｐｍが好ましく、１０～１０００ｐｐｍが更に好ましい。

　（ヒンダードアミン系化合物）
　フィルム基材がセルロースエステルフィルムである場合、フィルム基材は、ヒンダードアミン系化合物を含有していてもよい。ヒンダードアミン系化合物は、酸化防止剤として機能し、Ｎ原子近傍にかさ高い有機基（例えば、かさ高い分岐アルキル基）を有する構造である。これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５～１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３～５欄に記載されているように、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン化合物、又はそれらの酸付加塩若しくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。このような化合物には、以下の一般式（Ｈ）のものが含まれる。

　上式中、Ｒ１及びＲ２は、水素原子又は置換基である。

　Ｒ１が表す置換基には特に限定はないが、窒素原子または酸素原子でピペリジン環と結合する置換基が好ましく、置換基を有していてもよいアミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基であることがより好ましく、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を置換基として有するアミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基であることがさらに好ましい。

　Ｒ２が表す置換基には特に限定はないが、アルキル基（好ましくは炭素原子数１～２０、より好ましくは１～１２、特に好ましくは１～８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２～２０、より好ましくは２～１２、特に好ましくは２～８であり、例えばビニル基、アリル基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２～２０、より好ましくは２～１２、特に好ましくは２～８であり、例えばプロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６～３０、より好ましくは６～２０、特に好ましくは６～１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０～２０、より好ましくは０～１０、特に好ましくは０～６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１～２０、より好ましくは１～１２、特に好ましくは１～８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられる。）であることが好ましい。

　ヒンダードアミンの具体例には、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、１－アリル－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、１－ベンジル－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、１－（４－ｔ－ブチル－２－ブテニル）－４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ステアロイルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、１－エチル－４－サリチロイルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－メタクリロイルオキシ－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル－β（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオネート、１－ベンジル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジニルマレイネート（ｍａｌｅｉｎａｔｅ）、（ジ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－アジペート、（ジ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－セバケート、（ジ－１，２，３，６－テトラメチル－２，６－ジエチル－ピペリジン－４－イル）－セバケート、（ジ－１－アリル－２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン－４－イル）－フタレート、１－アセチル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル－アセテート、トリメリト酸－トリ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）エステル、１－アクリロイル－４－ベンジルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、ジブチル－マロン酸－ジ－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－ピペリジン－４－イル）－エステル、ジベンジル－マロン酸－ジ－（１，２，３，６－テトラメチル－２，６－ジエチル－ピペリジン－４－イル）－エステル、ジメチル－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オキシ）－シラン，トリス－（１－プロピル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ホスフィット、トリス－（１－プロピル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ホスフェート，Ｎ，Ｎ′－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ヘキサメチレン－１，６－ジアミン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、Ｎ，Ｎ′－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ヘキサメチレン－１，６－ジアセトアミド、１－アセチル－４－（Ｎ－シクロヘキシルアセトアミド）－２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン、４－ベンジルアミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－Ｎ，Ｎ′－ジブチル－アジパミド、Ｎ，Ｎ′－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－Ｎ，Ｎ′－ジシクロヘキシル－（２－ヒドロキシプロピレン）、Ｎ，Ｎ′－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ｐ－キシリレン－ジアミン、４－（ビス－２－ヒドロキシエチル）－アミノ－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン、４－メタクリルアミド－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン、α－シアノ－β－メチル－β－［Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）］－アミノ－アクリル酸メチルエステルが挙げられる。

　さらに、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ′″－テトラキス－［４，６－ビス－〔ブチル－（Ｎ－メチル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）アミノ〕－トリアジン－２－イル］－４，７－ジアザデカン－１，１０－ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジン・Ｎ，Ｎ′－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，６－ヘキサメチレンジアミンとＮ－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物（ＢＡＳＦ社製　ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　２０２０ＦＤＬ）、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジンとＮ，Ｎ′－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝〕（ＢＡＳＦ社製　ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　９４４ＦＤＬ）、１，６－ヘキサンジアミン－Ｎ，Ｎ′－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）とモルフォリン－２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６－モルフォリノ－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル）〔（２，２，６，６，－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ〕－ヘキサメチレン〔（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ〕］などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ（hindered　amine light　stabilizer）；コハク酸ジメチルと４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノールと３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量ＨＡＬＳなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジンとＮ，Ｎ′－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールとの重合物などで、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００～５，０００のものが好ましい。

　好ましいヒンダードアミン系化合物の例には、以下の具体例１（Ｓｕｎｌｉｚｅｒ　ＨＡ－６２２、株式会社ソート製）、及び具体例２が挙げられる。

　上記具体例の中でも、ＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　２０２０ＦＤＬ（ＣＡＳ－Ｎｏ．１９２２６８－６４－７）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　９４４ＦＤＬ（ＣＡＳ－Ｎｏ．７１８７８－１９－８）、及びＴＩＮＵＶＩＮ　７７０ＤＦ（ＣＡＳ－Ｎｏ．５２８２９－０７－９）、サンケミカル株式会社製サイアソーブＵＶ－３３４６（ＣＡＳ－Ｎｏ．８２５４１－４８－７）、同サイアソーブＵＶ－３５２９（ＣＡＳ－Ｎｏ．１９３０９８－４０－７）は市販されており、入手性に優れるので好適である。

　なお、上記のヒンダードアミン系化合物は、上述のように商業的に入手してもよいが、合成により製造したものを用いてもよい。ヒンダードアミン系化合物の合成方法としては特に制限はなく、通常の有機合成における手法により合成可能である。また、生成方法としては、蒸留、再結晶、再沈、ろ過剤・吸着剤を用いる方法を適宜使用することができる。さらに、通常市販される安価に入手可能なものはヒンダードアミン系化合物単独ではなく、混合物であることもあるが、本実施形態では、商業的に入手したものを、製造方法、組成、融点、酸価等によらず利用することができる。

　フィルム基材に用いられるヒンダードアミン系化合物は、低分子量のものであっても、繰り返し単位を有するポリマーであってもよいが、活性エネルギー線硬化層とフィルム基材との界面近傍にヒンダードアミン系化合物を偏在させるためには高分子量の方が好ましい。一方、分子量が高すぎるとフィルム基材（例えばセルロースアシレート）との相溶性が不足し、フィルムのヘイズが高くなってしまう。

　ヒンダードアミン系化合物は、分子量が３００～１０００００であることが好ましく、７００～５００００であることがより好ましく、２０００～３００００であることが特に好ましい。

　フィルム基材に対するヒンダードアミン系化合物の含有量は、０．００１質量％以上５質量％以下であることが望ましく、０．００１質量％以上２質量％以下であることがより望ましく、０．０１質量％以上１．５質量％以下であることがさらに望ましく、０．０５質量％以上１．０質量％以下であることが特に好ましい。

　ヒンダードアミン系化合物の含有量がフィルム基材に対して０．００１質量％未満の場合には、硬化層とフィルム基材との間の密着が十分確保できない。ヒンダードアミン系化合物の含有量が５質量％以下の場合には、ヒンダードアミン系化合物のブリードアウトが生じにくくなり、偏光板の偏光性能の改善の観点から好ましい。

　（一般式（Ｐ）で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含む重合体）
　フィルム基材がセルロースエステルフィルムである場合、フィルム基材は、下記一般式（Ｐ）で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含む重合体を含有することが、本実施形態の効果から好ましい。

　一般式（Ｐ）中、Ｒ¹は水素原子または炭素数１～４の脂肪族基を表す。Ｒ¹は、特に限定されないが、水素原子、メチル基、又はエチル基であることが好ましい。

　Ｒ²は置換基を表し、置換基としては、脂肪族基又は芳香族基が好ましい。Ｒ²は、特に限定されないが、脂肪族基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基が好ましく、炭素数１～６のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が更に好ましく、メチル基、ｔ－ブチル基が特に好ましい。芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が好ましく、フェニル基が特に好ましい。

　ｎは０～４の整数を表し、０～２が好ましく、０～１がより好ましい。なお、ｎが０のとき置換基Ｒ²が存在しないことになるが、化学式中、ここには水素原子があればよいことを意味する。

　（Ａ）は５または６員環を形成するのに必要な原子群を表し、５または６員の芳香環であることが好ましい。本明細書の芳香環とは、ヘテロ原子を含まない芳香族環とヘテロ原子を有する飽和・不飽和の複素環を含む概念である。

　フィルムの透湿度および含水率を抑制する効果から、一般式（Ｐ）で表わされる重合体の質量平均分子量は２００～１０，０００であることが好ましく、３００～８，０００であることがより好ましく、４００～４，０００であることが特に好ましい。フィルムの透湿度および含水率を抑制する効果から、上限値以下であると、セルロースアシレートとの相溶性向上が期待できる。

　分子量及び分散度は、特に断らない限り、ＧＰＣ（ゲルろ過クロマトグラフィー）法を用いて測定した値とし、分子量はポリスチレン換算の質量平均分子量で測定できる。

　一般式（Ｐ）で表わされる重合体の添加量は特に限定されないが、フィルム基材を形成する樹脂１００質量部に対して、０．１～１００質量部であることが好ましく、０．５～５０質量部であることがより好ましく、１．０～３０質量部であることが特に好ましい。

　以下、一般式（Ｐ）で表されるモノマー由来の繰り返し単位を有する重合体の具体例を示すが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。なお、下記の構造式は主要成分の繰り返し単位の化学構造とその構成比を示しており、その他の成分が含まれていてもよいことは上記の通りである。

　なお、本明細書の重合体とは、モノマーが多数重合した一般的な高分子化合物であるポリマーに加えて、モノマーが例えば数個重合した分子量数百程度の化合物であるオリゴマーも含まれることを意味する。また特に断らない限り、ポリマー、コポリマーまたは共重合体も含む。

　（有機酸）
　フィルム基材がセルロースエステルフィルムである場合、フィルム基材は、有機酸を含有することが、本実施形態の効果から好ましい。有機酸の分子量は２００～１０００であることが好ましく、２５０～８００であることがより好ましく、２８０～５００であることが特に好ましい。有機酸としては、芳香環構造を含むことが好ましく、炭素数６～１２のアリール基を含むことが好ましく、フェニル基を含むことが特に好ましい。有機酸の芳香環構造は、その他の環と縮合環を形成していてもよい。有機酸の芳香環構造は、置換基を有していてもよいが、ハロゲン原子またはアルキル基であることが好ましく、ハロゲン原子または炭素数１～６のアルキル基であることがより好ましく、塩素原子またはメチル基であることが特に好ましい。有機酸は、下記一般式（Ｑ）で表されることが、本実施形態の効果から好ましい。

　一般式（Ｑ）において、Ｒ²⁶はアリール基を表し、Ｒ²⁷およびＲ²⁸はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ²⁶およびＲ²⁷はそれぞれ置換基を有していてもよい。Ｒ²⁶は炭素数６～１８のアリール基であることが好ましく、炭素数６～１２のアリール基であることがより好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。Ｒ²⁷およびＲ²⁸はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１～１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）または炭素数６～１２のアリール基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～６のアルキル基（シクロアルキル基も含む）またはフェニル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、シクロヘキサン基またはフェニル基であることが特に好ましい。以下に一般式（Ｑ）で表される有機酸の具体例を例示するが、本発明は以下に限定されるものではない。

　有機酸の含有量としては、セルロースエステルに対して１～２０質量％であることが好ましい。

　（一般式（Ｓ）で表される化合物）
　フィルム基材がセルロースエステルフィルムである場合、フィルム基材は、以下の一般式（Ｓ）で表される化合物を含有することが、本実施形態の効果から好ましい。

　一般式（Ｓ）において、Ｒ¹は水素原子又は置換基を表し、Ｒ²は下記一般式（ａ）で表される置換基を表す。ｎ１は０～４の整数を表す。ｎ１が２以上のとき、複数のＲ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎ２は１～５の整数を表す。ｎ２が２以上のとき、複数のＲ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（ａ）において、Ａは置換又は無置換の芳香族環を表す。Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は下記の一般式（ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ⁵は、単結合又は炭素原子数１～５のアルキレン基を表す。Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表す。ｎ３は０～１０の整数を表す。ｎ３が２以上のとき、複数のＲ⁵及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（ｂ）において、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表す。Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、及びＲ⁹は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１～５のアルキル基を表す。ｎ５は１～１１の整数を表す。ｎ５が２以上のとき、複数のＲ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。

　以下、一般式（Ｓ）で表される化合物の具体例を示すが、化合物はこれらに限定されるわけではない。

　一般式（Ｓ）で表される化合物の重量平均分子量は２００～１２００であることが溶解から好ましく、２５０～１０００であることがより好ましく、３００～８００であることが特に好ましい。

　一般式（Ｓ）で表される化合物の添加量は特に限定されないが、フィルム基材１００質量部に対して、０．１～１００質量部であることが安定性から好ましく、０．２～８０質量部であることがより好ましく、０．３～６０質量部であることが特に好ましい。

　（欠点）
　フィルム基材は、直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。

　欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ローラ傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。

　欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。

　また、目視で確認できない場合でも、硬化層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。また、フィルム基材は、ＪＩＳ－Ｋ７１２７－１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。

　（光学特性）
　フィルム基材は、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９２％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。ヘイズ値は２％以下が好ましく、より好ましくは１．５％以下である。全光線透過率、ヘイズ値はＪＩＳ　Ｋ７３６１及びＪＩＳ　Ｋ７１３６に準じて測定することができる。

　また、フィルム基材の面内リタデーション値Ｒｏは０～５ｎｍ、厚さ方向のリタデーション値Ｒｔｈが－１０～１０ｎｍの範囲が好ましい。更にＲｔｈは－５～５ｎｍの範囲が好ましくい。或いはレターデーションＲｏが３０～２００ｎｍの範囲であることが好ましく、３０～９０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。厚み方向のレターデーションＲｔｈは７０～３００ｎｍの範囲であることが好ましい。

　面内リタデーションＲｏ値は下記式（Ｉ）に定義され、厚さ方向のリタデーション値Ｒｔｈは下記式（II）により定義される。
　式（Ｉ）　Ｒｏ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
　式（II）　Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム基材の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム基材面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム基材の厚さ方向の屈折率、ｄはフィルム基材の厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）

　上記リタデーションは、例えばＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。

　〔フィルムの製膜〕
　次に、フィルム基材の製膜方法として、セルロースエステルフィルムを例に挙げて説明するが、製膜方法はこれに限定されるものではない。セルロースエステルフィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。

　（有機溶媒）
　セルロースエステルフィルムを後述する溶液流延製膜法で製造する場合の樹脂溶液（ドープ組成物）を形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３－ヘキサフルオロ－１－プロパノール、１，３－ジフルオロ－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－メチル－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。前記溶媒はセルロースエステル樹脂、その他添加剤を計１５～４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

　（溶液流延製膜法）
　溶液流延製膜法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったセルロースエステルフィルムを巻き取る工程により行われる。

　金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。

　キャスト（流延）の幅は１～４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は－５０℃～溶剤が沸騰して発泡しない温度に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。

　好ましい支持体温度としては０～１００℃で適宜決定され、５～３０℃が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。

　温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。

　特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

　セルロースエステルフィルムが良好な平面性を得るためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量が１０～１５０質量％であることが好ましく、更に好ましくは２０～４０質量％又は６０～１３０質量％であり、特に好ましくは、２０～３０質量％又は７０～１２０質量％である。残留溶媒量は下記式で定義される。
　　残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ－Ｎ）／Ｎ｝×１００
　なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、Ｎは質量Ｍのものを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

　セルロースエステルフィルムの乾燥工程では、ウェブを金属支持体より剥離し、乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０～０．０１質量％以下である。

　フィルム乾燥工程では、一般にローラ乾燥方式（上下に配置した多数のローラにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

　延伸工程では、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０～２．０倍、ＴＤ方向に１．０５～２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０～１．５倍、ＴＤ方向に１．０５～２．０倍の範囲で行うことがさらに好ましい。例えば、複数のローラに周速差をつけ、その間でローラ周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ方向及びＴＤ方向を同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。

　製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。

　テンター等の製膜工程でのフィルム搬送張力は、温度にもよるが、１２０～２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０～２００Ｎ／ｍが更に好ましく、１４０～１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。

　延伸する際の温度は、セルロースエステルフィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ－３０）～（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ－２０）～（Ｔｇ＋８０）℃、更に好ましく（Ｔｇ－５）～（Ｔｇ＋２０）℃である。

　セルロースエステルフィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。セルロースエステルフィルムの乾燥時のＴｇは、１１０℃以上が好ましく、更に１２０℃以上が好ましい。特に好ましくは１５０℃以上である。ガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。セルロースエステルフィルムのＴｇはＪＩＳ　Ｋ７１２１に記載の方法等によって求めることができる。延伸する際の温度は、１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗れるため、好ましい。セルロースエステルフィルム表面を粗らすことにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。

　（溶融流延製膜法）
　フィルム基材は、溶融流延製膜法によって製膜しても良い。溶融流延製膜法は、セルロースエステル樹脂、可塑剤等のその他の添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。

　溶融流延製膜法では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。

　ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給して１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。

　添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。

　粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

　押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

　以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

　上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００～３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ローラと弾性タッチローラでフィルムをニップし、冷却ローラ上で固化させることにより、セルロースエステルフィルムを製膜する。

　供給ホッパーから押出し機へ導入する際は、真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

　押出し流量は、ギヤポンプを導入する等して安定に調整することが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターには、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。

　可塑剤や粒子等の添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。

　冷却ローラと弾性タッチローラでセルロースエステルフィルムをニップする際のタッチローラ側のセルロースエステルフィルム温度は、フィルムのＴｇ以上（Ｔｇ＋１１０℃）以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するローラは、公知のローラを使用できる。

　弾性タッチローラは挟圧回転体ともいう。弾性タッチローラとしては、市販されているものを用いることもできる。

　冷却ローラからセルロースエステルフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

　また、上記のようにして得られたセルロースエステルフィルムは、冷却ローラに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。

　延伸する方法は、公知のローラ延伸機やテンター等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ～（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲で行われることが好ましい。

　巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや、すり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて加熱や加圧をすることにより加工することができる。フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、セルロースエステルフィルムが変形しており、製品として使用できないので切除され、再利用される。

　（斜め延伸フィルムの製造方法）
　λ／４フィルムは、斜め延伸フィルムの製造方法により製造することができる。斜め延伸フィルムの製造方法とは、フィルムの延長方向に対して０°を超え９０°未満の角度に遅相軸を有する延伸フィルムを製造する方法である。斜め延伸前の未延伸フィルムとしては、前述したセルロースエステルフィルムを用いることができる。

　ここで、フィルムの延長方向に対する角度とは、フィルム面内における角度である。遅相軸は、通常延伸方向又は延伸方向に直角な方向に発現するので、フィルムの延長方向に対して０°を超え９０°未満の角度で延伸を行うことにより、かかる遅相軸を有する延伸フィルムを製造できる。

　フィルムの延長方向と遅相軸とがなす角度（配向角θ）は、０°を超え９０°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができるが、より好ましくは１０°～８０°、更に好ましくは４０°～５０°である。

　（斜め延伸）
　斜め延伸フィルムは、斜め延伸装置（斜め延伸テンター）を用いて作製することができる。斜め延伸テンターとしては、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、さらに、フィルムの配向軸をフィルム幅手方向に渡って左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚みやリタデーションを制御できる装置を好ましく用いることができる。

　（フィルム基材の物性）
　フィルム基材の膜厚は、５～２００μｍが好ましく、より好ましくは５～８０μｍであり、特に好ましくは５～３４μｍである。薄膜のフィルム基材に本実施形態の硬化層を形成することにより、本実施形態の効果がより発揮されやすい。また、フィルム基材の長さは、５００～１００００ｍが好ましく、より好ましくは１０００～８０００ｍである。前記長さの範囲とすることで、硬化層等の塗布における加工適正やフィルム基材自体のハンドリング性に優れる。

　また、フィルム基材の算術平均粗さＲａは、好ましくは２～１０ｎｍ、より好ましくは２～５ｎｍである。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定できる。

　〔その他の層〕
　本実施形態の光学フィルムには、反射防止層や導電性層等、その他の層を設けることができる。

　（反射防止層）
　本実施形態の光学フィルムは、硬化層上に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。

　反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。

　〈低屈折率層〉
　低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０～１．４５の範囲であることが好ましい。

　低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ～０．５μｍの範囲内であることが好ましく、１０ｎｍ～０．３μｍの範囲内であることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．２μｍの範囲内であることが最も好ましい。

　低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

　なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ－１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
　一般式（ＯＳｉ－１）：Ｓｉ（ＯＲ）₄
　式中、Ｒは炭素数１～４のアルキル基を表す。一般式で表される有機珪素化合物としては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

　また、フッ素原子を３５～８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる、熱硬化性及び／又は光硬化性を有する化合物を、低屈折率層形成用組成物に含有させても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を低屈折率層形成用組成物に添加してもよい。

　〈高屈折率層〉
　高屈折率層においては、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４～２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ～１μｍが好ましく、１０ｎｍ～０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率の調整は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０～２．６０であるものが好ましく、１．８５～２．５０であるものが更に好ましい。

　金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。

　〈導電性層〉
　光学フィルムには、硬化層上に導電性層を形成しても良い。設けられる導電性層としては、一般的に広く知られた導電性材料を用いることができる。例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウム等の金属酸化物を用いることができる。これらは、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、光学フィルム上に薄膜として形成することができる。また、前記したπ共役系導電性ポリマーである有機導電性材料を用いて、導電性層を形成することも可能である。

　特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした導電性材料を好適に使用することができる。導電性層の厚さは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚さであって、経済性をも考慮すると、１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては導電性層の厚さムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。

　〔偏光板〕
　次に、本実施形態の光学フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。例えば、光学フィルムをアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜（偏光子）の一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。

　偏光子のもう一方の面には、該光学フィルムを貼り合わせてもよいし、前記したフィルム基材などを貼り合わせてもよい。もう一方の面に貼り合わせるフィルム基材の膜厚は、平滑性やカールバランスを整え、巻きズレ防止効果をより高める観点から、５～１００μｍの範囲が好ましく、５～３４μｍの範囲がより好ましい。

　偏光板の主たる構成要素である偏光膜は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。上記偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものとがあるが、これらに限定されるものではない。

　偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられる。偏光膜の膜厚は５～３０μｍ、好ましくは８～１５μｍである。

　偏光膜の面上に、本実施形態の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

　（円偏光板）
　光学フィルムを用いて円偏光板を構成することもできる。つまり、偏光板保護フィルム、偏光子、λ／４フィルムをこの順で積層して円偏光板を構成することができる。この場合、λ／４フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸（または透過軸）とのなす角度は４５°である。長尺状偏光板保護フィルム、長尺状偏光子、長尺状λ／４フィルム（長尺斜め延伸フィルム）がこの順で積層して形成されることが好ましい。

　円偏光板は、偏光子として、ヨウ素または二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、λ／４フィルム／偏光子の構成で貼合して製造することができる。偏光子の膜厚は、５～４０μｍ、好ましくは５～３０μｍであり、特に好ましくは５～２０μｍである。

　円偏光板は、一般的な方法で作製することができる。つまり、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて、アルカリ鹸化処理したλ／４フィルムを貼り合わせることが好ましい。

　〔粘着層〕
　液晶セルの基板と偏光板とを貼り合わせるために、偏光板のフィルム片面に用いられる粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。

　具体的な粘着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化させることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。

　〔画像表示装置〕
　本実施形態の光学フィルムは、画像表示装置に使用することで、視認性に優れた性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。これら画像表示装置の中でも液晶表示装置が、高い視認性に優れる点で好ましい。

　視認側偏光板の光学フィルムの硬化層のさらに視認側に、保護部が配置されていてもよい。この保護部は、前面板やタッチパネルで構成することができる。上記保護部は、硬化層との間の空隙を埋めるための充填剤（光硬化型樹脂）を介して、上記硬化層に貼り合わされる。保護部の前面板は特に制限されず、アクリル板やガラス板等の従来公知のものを使用できる。また、前面板の材質、厚み等は、画像表示装置の用途に応じて、適宜選択できる。

　充填剤としては、無溶剤充填剤が好ましく、市販品としては例えばＳＶＲ１１２０、ＳＶＲ１１５０、ＳＶＲ１３２０（以上，デクセリアルズ株式会社製）、或いはＨＲＪ－６０、ＨＲＪ－３０２、ＨＲＪ－５３（以上、協立化学産業株式会社製）等を挙げることができる。充填剤を用いる場合、一種類を単独で使用してもよいし、複数種類を併用してもよい。

　光学フィルムと前面板との貼り合わせは、例えば以下のようにして行うことができる。まず、充填剤を準備する。そして、光学フィルムの硬化層の表面に充填剤を塗工し、充填剤の塗膜上に前面板を重ね合わせる。この状態で、充填剤を光照射などにより硬化させ、光学フィルムと前面板とを貼り合わせる。硬化層の表面に充填剤を塗工する際に、硬化層の表面自由エネルギーを３０ｍＮ／ｍ以上とすることで、充填剤が硬化層の端部ではじかれることなく、均一に広がった状態を維持し、視認性に優れた画像表示装置を得ることができる。

　〔実施例〕
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

　＜実施例１＞
　［セルロースエステルフィルム１の作製］
　〈二酸化珪素分散液の調製〉
　アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均径７ｎｍ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９０質量部
　以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ－ＰＰＳ－１Ｎ）で濾過した。

　〈ドープ組成物１の調製〉
　（セルロースエステル樹脂）
　セルローストリアセテートＡ（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９０質量部
　（添加剤）
　一般式（Ｘ）で表されるエステル（例示化合物Ｘ－１）　　　　５質量部
　一般式（Ｘ）で表されるエステル（例示化合物Ｘ－１２）　　　４質量部
　（紫外線吸収剤）
　ＴＩＮＵＶＩＮ　９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）　　　　３質量部
　（微粒子）
　二酸化珪素分散希釈液　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
　（溶媒）
　メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　４３２質量部
　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３８質量部
　以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ（ドープ組成物１）を調製した。

　次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が１００質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．１５倍に延伸しながら、１４０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．３ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、セルロースエステルフィルム１を得た。セルロースエステルフィルム１の膜厚は１５μｍ、巻長は３９００ｍであった。

　なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。

　［光学フィルム１の作製］
　上記作製したセルロースエステルフィルム１のＡ面（流延ベルトに接していない面）上に、下記の硬化層組成物１を、押し出しコーターを用いて塗布し、恒率乾燥区間温度５０℃、減率乾燥区間温度５０℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ²で、照射量を０．２５Ｊ／ｃｍ²として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５μｍの硬化層１を形成して、ロール状に巻き取り、光学フィルム１を作製した。

　《硬化層組成物１》
　〈硬化層組成物１の組成〉
　（樹脂（Ａ））
　Ｍ－１（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート：Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９０質量部
　（光重合開始剤）
　イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）　　　　　　５質量部
　（添加剤）
　シリコーン系化合物（ビックケミージャパン株式会社製：ＢＹＫ－ＵＶ３５１０）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
　（化合物（Ｂ））
　Ｆ－３（２，２’－ビフェニルジカルボン酸：東京化成工業（株）社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５質量部
　（溶剤）
　プロピレングリコールモノメチルエーテル　　　　　　　　　１０質量部
　酢酸メチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部

　［光学フィルム２～１２の作製］
　光学フィルム１の硬化層組成物１の樹脂（Ａ）および化合物（Ｂ）を、表１～表２に記載した樹脂（Ａ）および化合物（Ｂ）にそれぞれ変更した以外は、光学フィルム１の作製と同様にして光学フィルム２～１２を作製した。なお、表１において、樹脂Ｍ－１およびＭ－２は脂環構造を有する樹脂であり、樹脂Ｍ－３は複素環構造を有する樹脂であり、樹脂Ｍ－４およびＭ－５は脂環構造を持たない樹脂（Ｍ－４は鎖状、Ｍ－５は芳香環を有する樹脂）である。なお、樹脂Ｍ－５は、以下のようにして製造した。

　（樹脂Ｍ－５の製造）
　攪拌装置、温度計、コンデンサー、窒素導入管を備えた反応容器に、トリシクロデカンジメタノール（東京化成社製、分子量１９６）９.８ｇ（０.０５モル）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０ｇおよび、グリシジルメタクリレート（東京化成社製、分子量　１４２）１４.２ｇ（０.１モル）を投入し、ｐ－メトキシフェノール、及びジ－ブチル－ヒドロキシトルエンを各０.１ｇ投入した。攪拌しながら、６０℃まで加熱した後、加熱を停止して、トリエチルアミン１０ｇを添加した。窒素気流下で、再度加熱を始め、８０℃で攪拌を続け、アクリル酸クロリド（東京化成社製、分子量９０）９.０ｇ（０.１モル）をゆっくりと加えて反応を６時間続けた。反応混合物から、酢酸エチルで抽出後、乾燥して、樹脂Ｍ－５を得た（分子量５８８）。

　≪評価≫
　（１．透湿度変化率の測定）
　ＪＩＳ　Ｚ－０２０８に準拠して、４０℃９０％ＲＨの環境下で、光学フィルム１～１２の透湿度Ｗ０（ｇ／ｍ²／２４ｈ）を測定した。続いて、光学フィルム１～１２を８０℃９０％ＲＨの環境下で１２０時間保持したのち、同様に透湿度Ｗ１（ｇ／ｍ²／２４ｈ）を測定した。そして、下記式に基づいて透湿度変化率ΔＷ（％）を算出し、以下の基準で評価した。
　　　ΔＷ（％）＝[（Ｗ０－Ｗ１）／Ｗ０］×１００
　　〈評価基準〉
　　　○：　ΔＷ≦５％
　　　△：　５％＜ΔＷ≦１０％
　　　×：　１０％＜ΔＷ

　（２．耐久密着性）
　光学フィルム１～１２のうち、透湿度変化率の評価が良好（○または△）であった光学フィルム（光学フィルム１～６、９、１０）を、各１０ｃｍ×１０ｃｍサイズで切り出し、２３℃の水に２４時間つけたのち、水をふき取り、耐光試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、３００時間光照射し、耐久性試験を行った。そして、耐久性試験後の各光学フィルムを２３℃５５％ＲＨの雰囲気下で１２時間調湿後、ＪＩＳ　Ｋ５４００に準拠する方法で、各光学フィルムの硬化層に１ｍｍの間隔で縦横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角、１００個の碁盤目を作製し、セロハンテープを貼り付けて９０度の角度ですばやくはがした。セロハンテープは、１回剥離する毎に交換しながら、該テープの剥離作業を９回実施後、剥離されずに残っている碁盤目の面積、または剥離された碁盤目の面積から、光学フィルムの耐久密着性（硬化層の密着性）を以下の基準で評価した。なお、光学フィルム７、８、１１、１２については、透湿度変化率の評価が不良（×）であり、耐久密着性の評価を行うまでもないため、耐久性試験を行わなかった。
　　〈評価基準〉
　　　○：全く剥離されなかった。
　　　△：剥離された碁盤目の面積の割合が１０％未満であった。
　　　×：剥離された碁盤目の面積の割合が１０％以上であった。

　光学フィルム１～１２についての評価結果を表１に示す。また、用いた化合物（Ｂ）の第１酸解離定数ｐＫａ₁等の物性を表２に示す。なお、酸解離定数の測定方法としては、丸善（株）刊　実験化学講座第２版の２１５ページ～２１７ページに記載のアルカリ適定法を採用した。

　表１より、非芳香族性の環構造を有する活性エネルギー線硬化性樹脂と、環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である化合物とを含有する光学フィルム１～５および１０は、耐久密着性が良好（○または△）であることから、耐久性試験後の硬化層の剥離を抑えることができ、また、常温高湿から高温高湿に変化した場合でも透湿度の変化が１０％以下と少ないことから、透湿度の変化による偏光子の保護機能の低下を抑えて、偏光子の耐久性低下を抑えることができると言える。

　特に、透湿度変化率ΔＷをより抑えて、偏光子の保護機能をより高める観点では、硬化層に添加される環構造を有する化合物は、分子量が１３０以上５００以下の化合物（Ｅ－１、Ｆ－３参照）であることが望ましく、活性エネルギー線硬化性樹脂が有する環構造は、複素環構造（Ｍ－３参照）よりも脂環構造（Ｍ－１、Ｍ－２参照）であることが望ましいと言える。

　なお、上記した実施例では、フィルム基材が薄膜であることが前提であるため、フィルム基材として、膜厚１５μｍのセルロースエステルフィルムを用いており、これによって上述の効果が得られている。フィルム基材の膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満の範囲であれば、１５μｍ以外の膜厚であっても、薄膜であることに変わりはないため、上記した実施例と同様の効果が得られることが推測される。

　以上で説明した本実施形態の光学フィルム、偏光板および画像表示装置は、以下のように表現することができる。

　１．透明基材の少なくとも一方の面に硬化層を有する光学フィルムであって、
　前記透明基材は、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満のセルロース系フィルムであり、
　前記硬化層が、
　非芳香族性の環構造を有する少なくとも１種の活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）と、
　環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である少なくとも１種の化合物（Ｂ）とを含有していることを特徴とする光学フィルム。

　２．前記非芳香族性の環構造は、脂環構造であることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。

　３．前記化合物（Ｂ）の分子量が、１３０以上５００以下であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルム。

　４．前記セルロース系フィルムが、セルロースエステルフィルムであり、かつ、下記一般式（Ｐ）で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含む重合体、下記一般式（Ｑ）で表される有機酸、下記一般式（Ｓ）で表わされる化合物の少なくともいずれかを含有していることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の光学フィルム。

　（一般式（Ｐ）において、Ｒ¹は水素原子または炭素数１～４の脂肪族基を表す。Ｒ²は置換基を表す。（Ａ）は５または６員環を形成するのに必要な原子群を表す。ｎは０～４の整数を表す。）

　（一般式（Ｑ）において、Ｒ²⁶はアリール基を表し、Ｒ²⁷およびＲ²⁸はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基を表す。）

　（一般式（Ｓ）において、Ｒ¹は水素原子又は置換基を表し、Ｒ²は下記一般式（ａ）で表される置換基を表す。ｎ１は０～４の整数を表し、ｎ１が２以上のとき、複数のＲ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎ２は１～５の整数を表し、ｎ２が２以上のとき、複数のＲ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。）

　（一般式（ａ）において、Ａは置換又は無置換の芳香族環を表し、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ⁵は、単結合又は炭素原子数１～５のアルキレン基を表し、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表す。ｎ３は０～１０の整数を表し、ｎ３が２以上のとき、複数のＲ⁵及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。）

　（一般式（ｂ）において、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、及びＲ⁹は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１～５のアルキル基を表す。ｎ５は１～１１の整数を表し、ｎ５が２以上のとき、複数のＲ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。）

　５．前記硬化層が、２層以上設けられていることを特徴とする前記１から４のいずれかに記載の光学フィルム。

　６．前記１から５のいずれかに記載の光学フィルムが、偏光子の一方の面に貼り合わされていることを特徴とする偏光板。

　７．前記６に記載の偏光板が、表示セルの少なくとも一方の面側に設けられていることを特徴とする画像表示装置。

　本発明の光学フィルムは、偏光板や、液晶表示装置などの画像表示装置に利用可能である。

　　　１　　　画像表示装置
　　　４　　　液晶セル（表示セル）
　　　５　　　偏光板
　　１１　　　偏光子
　　１２　　　フィルム基材（透明基材、セルロース系フィルム）
　　１３　　　硬化層
　　１５　　　光学フィルム

Claims

　透明基材の少なくとも一方の面に硬化層を有する光学フィルムであって、
　前記透明基材は、膜厚が５μｍ以上３５μｍ未満のセルロース系フィルムであり、
　前記硬化層が、
　非芳香族性の環構造を有する少なくとも１種の活性エネルギー線硬化性樹脂（Ａ）と、
　環構造を有し、かつ、第１酸解離定数ｐＫａ₁が１．０以上７．０以下である少なくとも１種の化合物（Ｂ）とを含有していることを特徴とする光学フィルム。
　前記非芳香族性の環構造は、脂環構造であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
　前記化合物（Ｂ）の分子量が、１３０以上５００以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
　前記セルロース系フィルムが、セルロースエステルフィルムであり、かつ、下記一般式（Ｐ）で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含む重合体、下記一般式（Ｑ）で表される有機酸、下記一般式（Ｓ）で表わされる化合物の少なくともいずれかを含有していることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。

　（一般式（Ｐ）において、Ｒ¹は水素原子または炭素数１～４の脂肪族基を表す。Ｒ²は置換基を表す。（Ａ）は５または６員環を形成するのに必要な原子群を表す。ｎは０～４の整数を表す。）

　（一般式（Ｑ）において、Ｒ²⁶はアリール基を表し、Ｒ²⁷およびＲ²⁸はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基を表す。）

　（一般式（Ｓ）において、Ｒ¹は水素原子又は置換基を表し、Ｒ²は下記一般式（ａ）で表される置換基を表す。ｎ１は０～４の整数を表し、ｎ１が２以上のとき、複数のＲ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎ２は１～５の整数を表し、ｎ２が２以上のとき、複数のＲ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。）

　（一般式（ａ）において、Ａは置換又は無置換の芳香族環を表し、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ⁵は、単結合又は炭素原子数１～５のアルキレン基を表し、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表す。ｎ３は０～１０の整数を表し、ｎ３が２以上のとき、複数のＲ⁵及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。）

　（一般式（ｂ）において、Ｘは、置換又は無置換の芳香族環を表し、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、及びＲ⁹は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１～５のアルキル基を表す。ｎ５は１～１１の整数を表し、ｎ５が２以上のとき、複数のＲ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
　前記硬化層が、２層以上設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルム。
　請求項１から５のいずれかに記載の光学フィルムが、偏光子の一方の面に貼り合わされていることを特徴とする偏光板。
　請求項６に記載の偏光板が、表示セルの少なくとも一方の面側に設けられていることを特徴とする画像表示装置。