TW201344359A - 黑色樹脂膜、靜電電容型輸入裝置及它們的製造方法、以及具備其的影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種黑色樹脂膜,其包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑,且進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度為100 N/1.6 mm□以上,該黑色樹脂膜即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高。

Description

黑色樹脂膜、靜電電容型輸入裝置及它們的製造方法、以及具備其的影像顯示裝置
本發明是有關於一種即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度(bulk strength)亦高的黑色樹脂膜(裝飾材料(decorative material))及其製造方法;包含該黑色樹脂膜且能夠檢測出手指的接觸位置來作為靜電電容的變化的靜電電容型輸入裝置的製造方法,及利用該製造方法而獲得的靜電電容型輸入裝置,以及具備該靜電電容型輸入裝置作為構成要素的影像顯示裝置。
行動電話、汽車導航(car navigation)、個人電腦(personal computer)、售票機、銀行的終端等電子機器中,近年來有如下機器,該機器於液晶裝置等的表面配置有板型的輸入裝置,能夠藉由一邊參照液晶裝置的影像顯示區域所顯示的指示影像,一邊使手指或者觸控筆等接觸顯示該指示影像的部位,來輸入與指示影像對應的資訊。
此種輸入裝置(觸控面板)中有電阻膜型、靜電電容型等。但是,電阻膜型的輸入裝置由於是膜與玻璃的2片結構,且是按壓膜而使其短路的結構,故而具有運作溫度範圍狹窄、或隨時間變化減弱的缺點。
與此相對,靜電電容型的輸入裝置具有只要僅於一片基板上形成透光性導電膜即可的優點。該靜電電容型的輸入裝置中有如下類型的裝置:例如在相互交叉的方向上使電極圖案延伸,當手指接觸時,查出電極間的靜電電容變化來檢測出輸入位置(例如參照下述日本專利特開2007-122326號公報)。
另外,靜電電容型的輸入裝置亦有如下類型的裝置:當對透光性導電膜的兩端施加同相、同電位的交流,查出手指接觸或者接近而形成電容器時流通的微弱電流,從而檢測出輸入位置。此種靜電電容型輸入裝置揭示有如下靜電電容型輸入裝置,其包括:多個第一透明電極圖案,其是將多個墊部分經由連接部分而於第一方向延伸來形成;以及多個第二透明電極圖案,其經由層間絕緣層而與上述第一透明電極圖案電性絕緣,且包括在與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個墊部分(例如參照下述日本專利第4506785號公報)。
進而,揭示有於前面板的非接觸側表面一體地形成有遮罩層(較佳為黑色層或者黑色抗蝕劑)、包含金屬走線(metal trace)的感測電路、層間絕緣層的靜電電容型觸控面板(例如參照下述日本專利特開2009-193587號公報)。該文獻中,黑色層是為了遮 蔽用於傳送信號的金屬走線來配置,金屬走線是自基板或者透鏡上觀察時並不露出,作為用於對基板或者透鏡的外觀進行美化的裝飾材料來使用。該日本專利特開2009-193587號公報中,雖有由於前面板與靜電電容型輸入裝置一體化,故而靜電電容型觸控面板可薄層/輕量化的記載,但關於遮罩層的組成,特別是作為黑色層的裝飾材料的組成等詳細的製造方法並無記載。
此處,通常包含金屬走線的感測電路等可撓性印刷配線板(flexible print circuit,FPS)的配線中,遮罩層是作為使用感光性樹脂組成物的抗蝕劑來設置。此種FPS用的抗蝕劑例如使用如日本專利特開2002-23359號公報中記載的抗蝕劑用材料,可進行曝光以及顯影來獲得目標形狀的抗蝕劑。日本專利特開2002-23359號公報中記載有藉由使用包含鹼可溶性丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系單體及特定的光聚合起始劑的感光性樹脂組成物,而即便為低曝光量,亦以高感度獲得密接性、遮蓋膜(tent film)強度優異的感光性元件,但關於包含黑色顏料的感光性樹脂組成物並無記載。
另一方面,日本專利特開平10-282650號公報中記載有可藉由使用包含鹼可溶性丙烯酸系樹脂系材料、特定的交聯劑、光酸產生劑、黑色顏料的黑色感光性樹脂組成物,來製作具有黑色矩陣的彩色濾光片作為彩色濾光片用遮蔽膜,該彩色濾光片具有對於阻隔光而言充分的密度,表面粗糙少,膜強度高,且無圖案的缺損。專利文獻5中,交聯劑僅可列舉羥甲基化脲、脲樹脂、 羥甲基化三聚氰胺、丁醯基化三聚氰胺、羥甲基化胍胺(guanamine)或者它們的烷基醚,實施例中亦使用不具有丙烯醯基而僅具有N-羥甲基的Nikalac MW-30M(三和化學(股)製造),但關於包含乙烯性不飽和鍵的化合物並無記載。另外,使用光酸產生劑,關於光聚合起始劑亦無記載。
然而,本發明者等人於日本專利特開2002-23359號公報中記載的感光性樹脂組成物中添加黑色顏料而製作黑色抗蝕劑,形成裝飾材料,結果獲知,若添加黑色顏料,則存在難以進行充分的曝光,且於曝光以及顯影後進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度(bulk strength)惡化的問題。
另外,本發明者等人使用日本專利特開平10-282650號公報中記載的黑色感光性樹脂組成物來形成裝飾材料,結果獲知,日本專利特開平10-282650號公報中記載的黑色感光性樹脂組成物亦具有於曝光以及顯影後進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度惡化的問題。
若如上所述成為黑色樹脂膜的體強度低的狀態,則存在如下問題:當施加過量的力時,為了將觸控面板外的電路與觸控面板連結而安裝於裝飾黑色膜上的配線脫落,造成可靠性下降的問題。
本發明所欲解決的課題在於提高一種即便在使用黑色 顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高的黑色樹脂膜以及其製造方法。
本發明者等人發現,藉由對包含特定組成的黑色顏料的光硬化性樹脂組成物施加曝光、顯影來進行後曝光,而獲得即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高的黑色樹脂膜。
用於解決上述課題的具體方法即本發明如下所述。
[1]一種黑色樹脂膜,其特徵在於:包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑,且於進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度為100 N/1.6 mm以上。
[2]如[1]所述的黑色樹脂膜較佳為:膜厚為1.5 μm~5.0 μm。
[3]如[1]或[2]所述的黑色樹脂膜較佳為:進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的熱重量減少率為39.2%以下。
[4]如[1]至[3]中任一項所述的黑色樹脂膜較佳為:光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物。
[5]如[1]至[4]中任一項所述的黑色樹脂膜較佳為:側面的錐角滿足下述式(1)以及下述式(2):式(1) θ1≦40°
1表示通過交點C1以及交點C2的直線l12與黑色樹脂膜的底面的延長線lA所成的角中90°以下的角,上述交點C1是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起1/4高度的直線的交點,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點)
式(2)θ2≦40°
2表示通過交點C2以及交點C3的直線l23、與黑色樹脂膜的黑色樹脂膜的頂面中和黑色樹脂膜的底面大致平行的部分的延長線的延長線lB所成的角中90°以下的角,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點,上述交點C3是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起3/4高度的直線的交點)。
[6]如[1]至[5]中任一項所述的黑色樹脂膜較佳為:更包含溶劑。
[7]如[6]所述的黑色樹脂膜較佳為:包含蒸發速度為乙酸丁酯的200%以上的第1溶劑、及蒸發速度為乙酸丁酯的50%以下的第2溶劑作為上述溶劑。
[8]如[6]或[7]所述的黑色樹脂膜較佳為:包含為多元醇衍生物的溶劑、及為酮的溶劑來作為上述溶劑。
[9]一種黑色樹脂膜的製造方法,其特徵在於,包括:將包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑的感光性樹脂組成物應用於基材上的步驟;將上述基材上的感光性樹脂組成物進行曝光的步驟;將經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影的步驟;以及於上述顯影步驟後進行後曝光的步驟;並且滿足下述條件(A)或者條件(B):條件(A):上述光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物。
條件(B):自上述感光性樹脂組成物的與上述基材接觸之側的表面方向以及不與上述透明基材接觸之側的表面方向的兩面,進行上述顯影步驟後的後曝光。
[10]如[9]所述的黑色樹脂膜的製造方法較佳為:上述顯影步驟後的後曝光的曝光量以i射線計為1300 mJ/cm2以上。
[11]如[10]所述的黑色樹脂膜的製造方法較佳為:上述基材為透明基材。
[12]如[11]所述的黑色樹脂膜的製造方法較佳為:上述透明基材為透明絕緣性基材。
[13]如[9]至[12]中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法較佳為:同時滿足上述條件(A)以及條件(B)。
[14]如[9]至[13]中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法較佳為:自於暫時支持體上積層有上述感光性樹脂組成物的感光性轉印膜上,將上述感光性樹脂組成物轉印於上述基材上。
[15]一種黑色樹脂膜,其特徵在於:利用如[9]至[14]中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法來製造。
[16]一種靜電電容型輸入裝置用裝飾材料,其包含如[1]至[8]及[15]中任一項所述的黑色樹脂膜。
[17]一種靜電電容型輸入裝置,其特徵在於:包含如[16]所述的靜電電容型輸入裝置用裝飾材料。
[18]一種靜電電容型輸入裝置的製造方法,其是包括前面板、以及於上述前面板的非接觸側的至少下述(1)~(4)的要素的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其特徵在於:利用如[9]至[14]中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法來製造上述(1)的要素:(1)裝飾材料;(2)多個第一透明電極圖案,其是多個墊部分經由連接部分而於第一方向延伸來形成;(3)多個第二電極圖案,其與上述第一透明電極圖案電性絕緣,且包含在與上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個墊部分; (4)絕緣層,其使上述第一透明電極圖案與上述第二電極圖案電性絕緣。
[19]如[18]所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其中上述靜電電容型輸入裝置更包括(5)電性連接於上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一者,且與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案不同的其他導電性要素。
[20]如[18]或[19]所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其中上述第二電極圖案為透明電極圖案。
[21]一種靜電電容型輸入裝置,其中利用如[18]至[20]中任一項所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法來製造。
[22]一種影像顯示裝置,其特徵在於:具備如[17]或[21]所述的靜電電容型輸入裝置作為構成要素。
依據本發明,可提供即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高的黑色樹脂膜以及其製造方法。
1‧‧‧前面板
2‧‧‧裝飾材料
3‧‧‧第一透明電極圖案
3a‧‧‧墊部分
3b‧‧‧連接部分
4‧‧‧第二透明電極圖案
5‧‧‧絕緣層
6‧‧‧導電性要素
7‧‧‧透明保護層
8‧‧‧開口部
10‧‧‧靜電電容型輸入裝置
11‧‧‧強化處理玻璃
12‧‧‧其他導電性要素
20‧‧‧基材(亦可為前面板或者強化處理玻璃)
21‧‧‧黑色樹脂膜
21A‧‧‧黑色樹脂膜的基材側表面
21B‧‧‧黑色樹脂膜的與基材的相反側的上表面中,與基材表面大致平行的部分
21C‧‧‧黑色樹脂膜的側面
31‧‧‧鋁製銷
32‧‧‧黑色樹脂膜
33‧‧‧黑色樹脂膜與鋁製銷的黏接部分
40‧‧‧鋁製銷的剝離方向
C‧‧‧第1方向
C1‧‧‧黑色樹脂膜的側面與l1的交點
C2‧‧‧黑色樹脂膜的側面與l2的交點
C3‧‧‧黑色樹脂膜的側面與l3的交點
D‧‧‧第2方向
D31‧‧‧黑色樹脂膜與鋁製銷的黏接部分中的鋁製銷的直徑
h‧‧‧黑色樹脂膜的高度
l1‧‧‧當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起1/4高度的直線
l2‧‧‧當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線
l3‧‧‧當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起3/4高度的直線
l12‧‧‧通過C1與C2的直線
l23‧‧‧通過C2與C3的直線
lA‧‧‧黑色樹脂膜的底面(基材側表面)的延長線
lB‧‧‧黑色樹脂膜的頂面(與基材的相反側的面)中與黑色樹 脂膜的底面(或者基材表面)大致平行的部分的延長線
θ1‧‧‧l12與lA所成的角中90°以下的角
θ2‧‧‧l23與lB所成的角中90°以下的角
圖1是表示本發明的靜電電容型輸入裝置的構成的剖面圖。
圖2是表示本發明的前面板的一例的說明圖。
圖3是表示本發明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。
圖4是表示形成有開口部的強化處理玻璃的一例的俯視圖。
圖5是表示形成有本發明黑色樹脂膜(裝飾材料)的前面板的一例的俯視圖。
圖6是表示形成有第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。
圖7是表示形成有第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。
圖8是表示形成與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板的一例的俯視圖。
圖9是表示黑色樹脂膜(裝飾材料)的體強度的評價的說明圖。
圖10是表示黑色樹脂膜(裝飾材料)的錐角的說明圖。
圖11是表示為了對實施例1的黑色樹脂膜(裝飾材料)的SEM(掃描型電子顯微鏡)照片來求出錐角而進行作圖的結果的說明圖。
以下,對本發明的黑色樹脂膜(本發明的靜電電容型輸入裝置用裝飾材料)及其製造方法、靜電電容型輸入裝置的製造方法、靜電電容型輸入裝置以及影像顯示裝置進行說明。
[黑色樹脂膜]
本發明的黑色樹脂膜的特徵在於:包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑,並且進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分 鐘的加熱後的體強度為100 N/1.6 mm以上。
藉由設為上述構成,可製成即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高的黑色樹脂膜。
以下,對本發明的黑色樹脂膜的組成、特性、形狀以及本發明的黑色樹脂膜的製造方法進行說明。
〈組成〉
本發明的黑色樹脂膜包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑。
(黑色顏料)
本發明的黑色樹脂膜中使用的黑色顏料只要不違反本發明的主旨,則並無特別限制。此外,本發明的黑色樹脂膜的光學密度較佳為2.0以上,更佳為2.5以上,特佳為2.8以上。於光學密度(optical density,OD)低於2.0的情況下,存在發生來自顯示器的光洩漏的可能性。
本發明中使用的黑色顏料可適宜使用公知的黑色顏料(有機顏料、無機顏料、染料等)。此外,本發明中,除黑色顏料以外,可使用紅色、藍色、綠色等顏料的混合物等。
光學密度的測定是利用阪田英克思工程(Sakata Inx Engineering)(股)製造的BMT-1透射密度計來進行測定。
就光學密度的觀點而言,黑色顏料例如可列舉碳黑、鈦碳、氧化鐵、氧化鈦、黑鉛等,其中,較佳為碳黑。
上述黑色顏料(較佳為碳黑)較理想為作為分散液來使 用。該分散液可藉由將使上述黑色顏料與顏料分散劑預先混合而獲得的組成物添加於後述有機溶劑(或者媒液(vehicle))中,使其分散來製備。上述所謂媒液是指當塗料處於液體狀態時使顏料分散的媒質的部分,包括液狀且與上述黑色顏料結合而形成塗膜的成分(黏合劑(binder))、以及將其溶解稀釋的成分(有機溶劑)。
使上述黑色顏料分散時使用的分散機並無特別限制,例如可列舉:朝倉書店2000年發行的朝倉邦造著「顏料詞典」第一版第438項中記載的捏合機(kneader)、輥磨機(roll mill)、磨碎機(attritor)、超級磨機(super mill)、溶解器(dissolver)、均質機(homomixer)、砂磨機(sand mill)等公知的分散機。進而亦可藉由該文獻第310頁記載的機械性摩碎,利用摩擦力來進行微粉碎。
就分散穩定性的觀點而言,本發明中使用的黑色顏料較佳為數量平均粒徑為0.001 μm~0.1 μm的顏料,尤佳為0.01 μm~0.08 μm的顏料。此外,此處所謂的「粒徑」是指當將粒子的電子顯微鏡拍攝影像作為同面積的圓時的直徑,另外,所謂「數量平均粒徑」是對多數粒子求出上述粒徑,是指其100個平均值。
(鹼可溶性高分子化合物)
上述鹼可溶性高分子化合物可使用日本專利特開2011-95716號公報的段落[0025]、日本專利特開2010-237589號公報的段落[0033]~段落[0052]中記載的聚合物。本發明中,較佳為可使用甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸的無規共聚物。
(含乙烯性不飽和鍵的化合物)
上述含乙烯性不飽和鍵的化合物可使用日本專利第4098550號的段落[0023]~段落[0024]中記載的聚合性化合物。本發明中,較佳為可使用二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate,DPHA)。
(光聚合起始劑)
上述光聚合起始劑可使用日本專利特開2011-95716號公報中記載的[0031]~[0042]中記載的聚合性化合物。
其中,較佳為可列舉:α-胺基烷基苯酮系化合物、α-羥基烷基苯酮系化合物、三氯甲基三嗪系化合物、肟酯系化合物。
就提高加熱後的體強度的觀點而言,本發明的黑色樹脂膜較佳為光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物。
本發明的黑色樹脂膜中的上述光聚合起始劑相對於上述含乙烯性不飽和鍵的化合物的質量比較佳為0.05~0.125,就錐角以及抑制析出的觀點而言,尤佳為0.070~0.100。
(添加劑)
進而,本發明的黑色樹脂膜中亦可使用添加劑。上述添加劑例如可列舉:日本專利第4502784號公報的段落[0017]、日本專利特開2009-237362號公報的段落[0060]~段落[0071]中記載的界面活性劑,或日本專利第4502784號公報的段落[0018]中記載的熱聚合防止劑,進而,日本專利特開2000-310706號公報的段落[0058]~段落[0071]中記載的其他添加劑。
(溶劑)
本發明的黑色樹脂膜較佳為更包含溶劑。
在藉由塗佈來製造本發明的黑色樹脂膜的情況下可包含的溶劑可列舉以下溶劑。
上述溶劑可無特別限制地使用通常所使用的溶劑。具體而言,例如可列舉酯類、醚類、酮類、芳香族烴類等。
另外,與US2005/282073A1號說明書的段落編號[0054]、段落編號[0055]中記載的溶劑(Solvent)相同的甲基乙基酮、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、環己酮、環己醇、甲基異丁基酮、乳酸乙酯、以及乳酸甲酯等亦可適宜用於本發明中。
該些溶劑中,較佳為使用3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基賽珞蘇乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、二乙二醇單乙醚乙酸酯(乙基卡必醇乙酸酯)、二乙二醇單丁醚乙酸酯(丁基卡必醇乙酸酯)、丙二醇甲醚乙酸酯、以及甲基乙基酮等作為本發明的溶劑。該些溶劑可單獨使用1種,或者亦可將2種以上組合使用。
另外,本發明中,可視需要使用沸點為180℃~250℃的有機溶劑。該些高沸點溶劑可列舉:二乙二醇單丁醚、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚、3,5,5-三甲基-2-環己烯-1-酮、二丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇-正丙醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、乙酸2-乙基己酯、乙酸3-甲氧基-3-甲基丁酯、γ-丁內酯、三丙二醇甲基乙基乙酸酯、二丙二醇-正丁基乙酸酯、 丙二醇苯基醚乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯等。
本發明的黑色樹脂膜較佳為包含蒸發速度為乙酸丁酯的200%以上的第1溶劑、及蒸發速度為乙酸丁酯的50%以下的第2溶劑作為上述溶劑。
本發明的黑色樹脂膜較佳為包含為多元醇衍生物的溶劑、及為酮的溶劑來作為上述溶劑。
〈特性〉
(加熱後的體強度)
本發明的黑色樹脂膜的進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度為100 N/1.6 mm以上。本說明書中的體強度是使用藉由塞巴斯蒂安法(Sebastian method)進行測定而得的值。如圖9所述,所謂塞巴斯蒂安法是指測定將黏接於樹脂膜上的金屬性的銷在與基板垂直的方向上拉伸、剝離時的力的實驗法,可對膜的體強度或黏接力進行評價。例如市場上銷售有QUAD公司製造的Romulus等裝置,但並不限定於此。
本說明書中,如圖9所記載,於黑色樹脂膜(裝飾材料)32的表面,利用環氧系黏接劑來貼附底面的直徑為1.6 mm的鋁製銷31,環氧系黏接劑硬化後,在與黑色樹脂膜32垂直的方向(鋁製銷的剝離方向40)上拉伸鋁製銷31,測定鋁製銷剝離時的最大負重來求出。此處,使用帶有環氧系黏接劑的鋁製銷(鋁製的帶有黏接劑的柱螺栓銷(stud pin)2.7 mm,型號901106,QUAD公 司製造)。
本發明的黑色樹脂膜的進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度較佳為130 N/1.6 mm以上,更佳為140 N/1.6 mm以上,特佳為150 N/1.6 mm以上,進而特佳為170 N/1.6 mm以上。
(加熱後的熱重量減少率)
本發明的黑色樹脂膜的進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的熱重量減少率較佳為39.2%以下,更佳為36.0%以下。本發明的黑色樹脂膜當製成上述較佳組成時,藉由將熱重量減少率控制在上述範圍內,容易將加熱後的體強度控制在較佳範圍內。
本發明的黑色樹脂膜的熱重量減少率是使用利用熱重量分析儀(thermogravimetric analyzer,TGA),進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後測定而得的值。
〈形狀〉
(膜厚)
就不僅獲得適當的黑色密度,而且提高加熱後的體強度的觀點而言,本發明的黑色樹脂膜的膜厚較佳為1.5 μm~5.0 μm,更佳為1.5 μm~1.8 μm。
(錐角)
本發明的黑色樹脂膜較佳為側面的錐角滿足下述式(1)以及下述式(2)。此外,本發明的黑色樹脂膜藉由後述本發明的 黑色樹脂膜的製造方法中的顯影步驟等,其側面的一部分形成凸狀或者凹狀的曲面,較佳為形成凸狀的曲面。
式(1)θ1≦40°
1表示通過交點C1以及交點C2的直線l12與黑色樹脂膜的底面的延長線lA所成的角中90°以下的角,上述交點C1是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起1/4高度的直線的交點,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點。)
式(2)θ2≦40°
2表示通過交點C2以及交點C3的直線l23、與黑色樹脂膜的黑色樹脂膜的頂面中和黑色樹脂膜的底面大致平行的部分的延長線的延長線lB所成的角中90°以下的角,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點,上述交點C3是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起3/4高度的直線的交點)。
黑色樹脂膜的側面的錐角中,θ1及θ2較佳為40°以下。θ1更佳為35°以下,θ2更佳為35°。進而,θ1及θ2特佳為35°以下。
本發明的黑色樹脂膜的側面的錐角是使用掃描式電子 顯微鏡(scanning electron microscope,SEM),自傾斜角0度的正側面拍攝黑色樹脂膜(裝飾材料)的剖面,根據所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)的剖面照片,依據圖10來求出。詳細記載於後述實施例中的黑色樹脂膜(裝飾材料)的膜厚及錐角的評價欄中。
[黑色樹脂膜的製造方法]
本發明的黑色樹脂膜的製造方法(以下亦稱為本發明的製造方法)的特徵在於:包括以下步驟:將包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑的感光性樹脂組成物應用於基材上的步驟;將上述基材上的感光性樹脂組成物進行曝光的步驟;將經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影的步驟;以及於上述顯影步驟後進行後曝光的步驟;並且該製造方法滿足下述條件(A)或者條件(B)。
條件(A):上述光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物。
條件(B):自上述感光性樹脂組成物的與上述基材接觸之側的表面方向以及不與上述透明基材接觸之側的表面方向的兩面,進行上述顯影步驟後的後曝光。
尤其藉由滿足上述條件(A)或者條件(B),可將加熱後的體強度控制在本發明的範圍內。
就進一步提高加熱後的體強度的觀點而言,本發明的黑色樹脂膜的製造方法較佳為同時滿足上述條件(A)以及條件(B)。
《將感光性樹脂組成物應用於基材上的步驟》
首先,對將上述感光性樹脂組成物應用於基材上的步驟進行說明。
〈基材〉
就可自黑色樹脂膜的兩面進行後曝光的觀點而言,本發明的黑色樹脂膜的製造方法較佳為上述基材為透明基材(透光性基板)。
就將本發明的黑色樹脂膜作為靜電電容型輸入裝置的前面板來使用的觀點而言,本發明的黑色樹脂膜的製造方法更佳為上述透明基材為透明絕緣性基材。
上述基材更佳為包含玻璃基板等透光性基板,例如可使用康寧(Corning)公司的大猩猩玻璃(Gorilla Glass)所代表的強化玻璃等。
〈感光性膜〉
將上述感光性樹脂組成物應用於基材上的方法並無特別限制,可使用公知的方法,例如可列舉塗佈、轉印等。
其中,本發明的黑色樹脂膜的製造方法較佳為自於暫時支持體上積層有上述感光性樹脂組成物的感光性轉印膜上,將上述感光性樹脂組成物轉印於上述基材上。
使用在暫時支持體上僅形成有光硬化性樹脂層的乾式膜抗蝕劑來形成裝飾材料或透明電極圖案的方法中存在以下問題:即便設置於前面板背側的黑色樹脂膜(裝飾材料)需要遮光性,亦由於乾式膜積層時的氣泡而產生光洩漏,或者在橫跨於就 遮光性的觀點而言需要一定厚度(黑色層的情況下為數微米)的黑色樹脂膜(裝飾材料)及前面板背面而積層乾式膜的情況下,上述黑色樹脂膜(裝飾材料)的厚度階差的部分殘留氣泡。本發明的黑色樹脂膜(裝飾材料)的製造方法的更佳實施方式中,可減小黑色樹脂膜(裝飾材料)的錐角,在使用感光性轉印膜的情況下亦可抑制氣泡的產生。
對本發明的製造方法中使用的上述感光性膜進行說明。
(光硬化性樹脂層)
上述感光性膜根據其用途而於光硬化性樹脂層中加入添加物。即,於形成裝飾材料時使用上述感光性膜的情況下,於光硬化性樹脂層中使用本發明的黑色樹脂膜的製造方法中所使用的包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑的感光性樹脂組成物。
上述感光性膜的光硬化性樹脂層進而使用著色劑、添加劑等,但並不限定於此。
就與其他層的厚度差的觀點而言,包含黑色顏料的光硬化性樹脂層的層厚較佳為0.5 μm~10 μm,尤佳為0.8 μm~5 μm,特佳為1 μm~3 μm。上述著色感光性樹脂組成物的固體成分中的著色劑的含有率並無特別限制,就充分縮短顯影時間的觀點而言,較佳為15質量%~70質量%,更佳為20質量%~60質量%,尤佳為25質量%~50質量%。
本說明書中所謂的總固體成分是指自著色感光性樹脂 組成物中去除溶劑等的不揮發成分的總質量。
(暫時支持體)
暫時支持體可使用具有可撓性,於加壓下或者加壓及加熱下不產生顯著變形、收縮或者伸長的材料。此種支持體的例子可列舉:聚對苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等,其中特佳為雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。
對暫時支持體的厚度並無特別限制,通常為5 μm~200 μm的範圍,就操作容易度、泛用性等方面而言,特佳為10 μm~150 μm的範圍。
另外,暫時支持體可為透明,亦可含有染料化矽、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。
另外,對於本發明的暫時支持體,可利用日本專利特開2005-221726記載的方法等來賦予導電性。
(熱塑性樹脂層)
上述感光性膜較佳為於暫時支持體與光硬化性樹脂層之間具有熱塑性樹脂層。相對於使用不具有上述熱塑性樹脂層的感光性膜來形成黑色樹脂膜(裝飾材料)等的情況,藉由使用具有上述熱塑性樹脂層的感光性膜,則於轉印光硬化性樹脂層而形成的黑色樹脂膜(裝飾材料)上難以產生氣泡,影像顯示裝置的影像不均等得到抑制,可獲得優異的顯示特性。
上述感光性膜較佳為於暫時支持體與著色感光性樹脂層之間設置熱塑性樹脂層。上述熱塑性樹脂層較佳為鹼可溶性。 熱塑性樹脂層是以可吸收基底表面的凹凸(亦包括由已形成的影像等引起的凹凸等)的方式擔負作為緩衝材料的作用,較佳為具有可根據對象面的凹凸來變形的性質。
熱塑性樹脂層較佳為包含日本專利特開平5-72724號公報中記載的有機高分子物質作為成分的態樣,特佳為包含選自藉由維氏(Vicat)法[具體而言,利用美國材料試驗法ASTMD1235的聚合物軟化點測定法]而得的軟化點約為80℃以下的有機高分子物質中的至少1種物質的態樣。
具體而言可列舉:聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴,乙烯與乙酸乙烯酯或者其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯與丙烯酸酯或者其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯與乙酸乙烯酯或者其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯與(甲基)丙烯酸酯或者其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯與(甲基)丙烯酸酯或者其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龍、共聚合尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基胺基化尼龍等聚醯胺樹脂等有機高分子。
熱塑性樹脂層的層厚較佳為3 μm~30 μm。在熱塑性樹脂層的層厚小於3 μm的情況下,存在積層時的追隨性不充分,無法完全吸收基底表面的凹凸的情況。另外,在層厚超過30 μm的情況下,存在對在暫時支持體上形成熱塑性樹脂層時的乾燥(溶 劑去除)施加負荷,或熱塑性樹脂層的顯影需要時間,或使製程適應性惡化的情況。上述熱塑性樹脂層的層厚尤佳為4 μm~25 μm,特佳為5 μm~20 μm。
熱塑性樹脂層可將包含熱塑性有機高分子的製備液塗佈等來形成,塗佈等時使用的製備液可使用溶劑來製備。溶劑中,只要是可溶解構成該層的高分子成分的溶劑,則無特別限制,例如可列舉:甲基乙基酮、環己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。
(熱塑性樹脂層以及光硬化性樹脂層的黏度)
較佳為:上述熱塑性樹脂層的於100℃下測定的黏度處於1000 Pa.sec~10000 Pa.sec的區域,光硬化性樹脂層的於100℃下測定的黏度處於2000 Pa.sec~50000 Pa.sec的區域,進而滿足下式(A)。
式(A):熱塑性樹脂層的黏度<光硬化性樹脂層的黏度此處,各層的黏度可以如下方式進行測定。藉由大氣壓以及減壓乾燥,自熱塑性樹脂層或者光硬化性樹脂層用塗佈液中去除溶劑而作為測定樣品,例如使用Vibron(DD-III型:東洋鮑德溫(Toyo Baldwin)(股)製造)作為測定器,於測定起始溫度50℃、測定結束溫度150℃、升溫速度5℃/分鐘以及頻率1 Hz/deg的條件下進行測定,可使用100℃的測定值。
(其他層)
上述感光性膜中,可於光硬化性樹脂層與熱塑性樹脂層 之間設置中間層,或者於光硬化性樹脂層的表面進而設置保護膜等來適當構成。
上述感光性膜中,出於防止塗佈多層時以及塗佈後的保存時的成分混合的目的,較佳為設置中間層。中間層較佳為日本專利特開平5-72724號公報中作為「分離層」而記載的具有氧阻隔功能的氧阻隔膜,曝光時的感度提高,可減少曝光機的時間負荷,生產性提高。
上述中間層以及保護膜可適當使用日本專利特開2006-259138號公報的段落[0083]~段落[0087]以及段落[0093]中記載者。
(感光性膜的製作方法)
上述感光性膜可依據日本專利特開2006-259138號公報的段落[0094]~段落[0098]中記載的感光性轉印材料的製作方法來製作。
具體而言在形成具有中間層的上述感光性膜的情況下,可藉由如下操作來適當製作:於暫時支持體上塗佈將添加劑與熱塑性有機高分子一起溶解而成的溶解液(熱塑性樹脂層用塗佈液),使其乾燥而設置熱塑性樹脂層後,於該熱塑性樹脂層上,塗佈在不溶解熱塑性樹脂層的溶劑中添加樹脂或添加劑而製備的製備液(中間層用塗佈液),使其乾燥而積層中間層,於該中間層上進而塗佈使用不溶解中間層的溶劑來製備的著色感光性樹脂層用塗佈液,使其乾燥而積層著色感光性樹脂層。
〈使用感光性膜而將裝飾材料應用於基板上的方法〉
關於使用上述感光性膜而將本發明的黑色樹脂膜(裝飾材料)應用於基板上的情況,對使用上述感光性膜的圖案化方法進行說明。
將上述裝飾材料應用於基板上的方法可列舉包括以下步驟的方法:覆蓋膜去除步驟,自上述感光性膜上去除上述覆蓋膜;以及轉印步驟,將上述覆蓋膜被去除的上述感光性轉印材料的上述感光性樹脂層轉印於基材上。
(轉印步驟)
上述轉印步驟是將上述覆蓋膜被去除的上述感光性膜的上述光硬化性樹脂層轉印於基材上的步驟。
此時,較佳為藉由將上述感光性膜的光硬化性樹脂層於基材上積層後,去除暫時支持體來進行的方法。
光硬化性樹脂層於基材表面的轉印(貼合)是藉由將光硬化性樹脂層重疊於基材表面,進行加壓、加熱來進行。貼合時,可使用積層機、真空積層機、以及能夠進一步提高生產性的自動切割積層機(auto cut laminator)等公知的積層機。
〈將基材上的感光性樹脂組成物進行曝光的步驟〉
本發明的黑色樹脂膜的製造方法包括將上述基材上的感光性樹脂組成物進行曝光的步驟。
於使用上述感光性膜而將本發明的黑色樹脂膜(裝飾材料)應用於基板上的情況下,上述曝光步驟較佳為將轉印於基材 上的上述光硬化性樹脂層進行曝光的步驟。
具體而言可列舉如下方法:於形成於上述基材上的光硬化性樹脂層的上方配置規定的遮罩,然後隔著該遮罩、熱塑性樹脂層、以及中間層而自遮罩上方進行曝光。
此處,上述曝光的光源只要是能夠照射可將光硬化性樹脂層進行硬化的波長區域的光(例如365 nm、405 nm等)的光源,則可適當選定來使用。具體而言,可列舉超高壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈等。曝光量通常為5 mJ/cm2~200 mJ/cm2左右,較佳為10 mJ/cm2~100 mJ/cm2左右。
〈顯影步驟〉
本發明的黑色樹脂膜的製造方法包括將經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影的步驟。
上述顯影可使用顯影液來進行。上述顯影液並無特別制約,可使用日本專利特開平5-72724號公報中記載的顯影液等公知的顯影液。此外,顯影液較佳為光硬化性樹脂層進行溶解型的顯影行為者,例如較佳以0.05 mol/L~5 mol/L的濃度包含pKa=7~13的化合物者,進而亦可添加少量與水具有混合性的有機溶劑。與水具有混合性的有機溶劑可列舉:甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單-正丁醚、苄基醇、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、ε-己內酯、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。該有機溶劑的濃 度較佳為0.1質量%~30質量%。
另外,上述顯影液中,可進一步添加公知的界面活性劑。界面活性劑的濃度較佳為0.01質量%~10質量%。
上述顯影的方式可為浸置顯影(puddle developing)、噴淋顯影、噴淋及旋轉顯影、浸漬顯影等的任一種。此處,若對上述噴淋顯影進行說明,則可藉由噴淋,對曝光後的光硬化性樹脂層吹附顯影液,藉此去除未硬化部分。此外,於設置有熱塑性樹脂層或中間層的情況下,較佳為於顯影之前,藉由噴淋等來吹附光硬化性樹脂層的溶解性低的鹼性液,去除熱塑性樹脂層、中間層等。另外,較佳為於顯影之後,一邊藉由噴淋來吹附清洗劑等,利用刷子等進行擦拭,一邊去除顯影殘渣。顯影液的液溫度較佳為20℃~40℃,另外,顯影液的pH值較佳為8~13。
〈後曝光步驟〉
本發明的黑色樹脂膜的製造方法包括於上述顯影步驟後進行後曝光的步驟。
本發明的黑色樹脂膜的製造方法的特徵在於滿足上述條件(A)或者上述條件(B),在滿足上述條件(A)「上述光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物」的情況下,上述後曝光步驟可僅自上述感光性樹脂組成物的與上述基材接觸之側的表面方向進行,亦可僅自不與上述透明基材接觸之側的表面方向進行,亦可自兩面方向進行。
另一方面,於不滿足上述條件(A)「上述光聚合起始劑 為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物」的情況下,上述後曝光步驟必須滿足條件(B)「自上述感光性樹脂組成物的與上述基材接觸之側的表面方向以及不與上述透明基材接觸之側的表面方向的兩面進行上述顯影步驟後的後曝光」。
本發明的黑色樹脂膜的製造方法中藉由以滿足上述條件的方式進行後曝光步驟,可提高所得黑色樹脂膜的加熱後的體強度。
本發明的黑色樹脂膜的製造方法中,上述顯影步驟後的後曝光的曝光量較佳為以i射線計為1300 mJ/cm2以上,更佳為2000 J/cm2以上。
〈其他步驟〉
本發明的黑色樹脂膜的製造方法亦可包括後烘烤步驟等其他步驟。
此外,作為上述曝光步驟、顯影步驟、以及其他步驟的例子,亦可將日本專利特開2006-23696號公報的段落編號[0035]~段落編號[0051]中記載的方法適宜用於本發明中。
此外,圖案化曝光可在剝離暫時支持體之後進行,亦可在剝離暫時支持體之前進行曝光,然後剝離暫時支持體。可為隔著遮罩的曝光,亦可為使用雷射等的數位曝光。
[靜電電容型輸入裝置及其製造方法]
本發明的靜電電容型輸入裝置的製造方法(以下,亦有僅稱為「本發明的製造方法」的情況)的特徵在於:包括前面板、 以及上述前面板的非接觸側的至少下述(1)~(4)的要素,並且利用本發明的黑色樹脂膜的製造方法來製造上述(1)的要素。
(1)裝飾材料;(2)多個第一透明電極圖案,其是多個墊部分經由連接部分而於第一方向延伸來形成;(3)多個第二電極圖案,其與上述第一透明電極圖案電性絕緣,且包含在與上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個墊部分;以及(4)絕緣層,其使上述第一透明電極圖案與上述第二電極圖案電性絕緣。
進而,本發明的靜電電容型輸入裝置亦可進而包括下述(5)。
(5)電性連接於上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一者,且與上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案不同的其他導電性要素。
另外,本發明的靜電電容型輸入裝置的第二電極圖案可為透明電極圖案。此外,本說明書中有時代替第二電極圖案而對第二透明電極圖案進行說明,但第二電極圖案的較佳態樣亦與第二透明電極圖案的較佳態樣相同。
〈靜電電容型輸入裝置的構成〉
首先,對利用本發明的製造方法而形成的本發明的靜電電容型輸入裝置的構成進行說明。圖1是表示本發明的靜電電容 型輸入裝置的構成的剖面圖。圖1中,靜電電容型輸入裝置10包括:前面板1、裝飾材料2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導電性要素6、及透明保護層7。
前面板1可使用本發明的黑色樹脂膜的製造方法中的上述基材。另外,圖1中,將前面層1的設置有各要素之側稱為非接觸面。本發明的靜電電容型輸入裝置10中,使手指等與前面板1的接觸面(非接觸面的相反的面)接觸等來進行輸入。以下,有時將前面板稱為「基材」。
另外,前面板1的非接觸面上設置有裝飾材料2。裝飾材料2是形成於觸控面板前面板的非接觸側的顯示區域周圍的框狀圖案,是為了看不到引伸配線等而形成。
本發明的靜電電容型輸入裝置10上,如圖2所示,以覆蓋前面板1的一部分區域(圖2中為輸入面以外的區域)的方式設置有裝飾材料2。進而,前面板1上,可如圖2所示,於一部分設置開口部8。於開口部8,可設置藉由按壓的機械性開關。
前面板1的接觸面上形成有:多個第一透明電極圖案3,其是多個墊部分經由連接部分而於第一方向延伸來形成;多個第二透明電極圖案4,其與第一透明電極圖案3電性絕緣,且包含在與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個墊部分;以及絕緣層5,其使第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電性絕緣。上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、及後述導電性要素6例如可利用氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)或氧化銦鋅 (Indium Zinc Oxide,IZO)等透光性的導電性金屬氧化膜來製作。此種金屬膜可列舉:ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金屬膜;SiO2等金屬氧化膜等。此時,各要素的膜厚可設為10 nm~200 nm。另外,由於藉由煅燒,將非晶的ITO膜製成多晶的ITO膜,故而亦可降低電阻。另外,上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、及後述導電性要素6亦可使用具有光硬化性樹脂層的感光性膜來製造,該光硬化性樹脂層使用後述導電性纖維。除此以外,在由ITO等來形成第一透明電極圖案等的情況下,可以日本專利第4506785號公報的段落[0014]~段落[0016]等為參考。
另外,第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一者可橫跨設置於前面板1的非接觸面以及裝飾材料2的與前面板1相反側的面的兩者區域。圖1中,表示第二透明電極圖案橫跨設置於前面板1的非接觸面以及裝飾材料2的與前面板1相反側的面的兩者區域的圖。如上所述,在橫跨於需要一定厚度的遮罩層及前面板背面而積層感光性膜的情況下,亦可藉由使用本發明的具有特定層構成的感光性膜,即便不使用真空積層機等高價設備,亦可以簡單的步驟來進行在遮罩部分邊界不產生泡的積層。
使用圖3,對第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4進行說明。圖3是表示本發明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。如圖3所示,第一透明電極圖案3是墊部分3a經由連接部分3b而於第一方向延伸來形成。另外,第二 透明電極圖案4藉由絕緣層5而與第一透明電極圖案3電性絕緣,且包括在與第一方向交叉的方向(圖3中的第二方向)延伸而形成的多個墊部分。此處,在形成第一透明電極圖案3的情況下,可將上述墊部分3a與連接部分3b製作為一體,亦可僅製作連接部分3b,將墊部分3a與第二透明電極圖案4製作(圖案化)為一體。在將墊部分3a與第二透明電極圖案4製作(圖案化)為一體的情況下,如圖3所示,以連接部分3b的一部分與墊部分3a的一部分連結,且第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4藉由絕緣層5而電性絕緣的方式形成各層。
圖1中,於裝飾材料2的與前面板1相反側的面側設置有導電性要素6。導電性要素6是電性連接於第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一者,且與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的其他要素。圖1中,表示導電性要素6連接於第二透明電極圖案4的圖。
另外,圖1中,以覆蓋各構成要素的全部的方式設置有透明保護層7。透明保護層7亦可以僅覆蓋各構成要素的一部分的方式構成。絕緣層5與透明保護層7可為同一材料,亦可為不同材料。構成絕緣層5與透明保護層7的材料較佳為表面硬度、耐熱性高的材料,可使用公知的感光性矽氧烷樹脂材料、丙烯酸樹脂材料等。
本發明的靜電電容型輸入裝置的製造方法中,較佳為使用以如下順序包括暫時支持體、熱塑性樹脂層及光硬化性樹脂層 的感光性膜來形成上述(1)~(5)的要素的至少一者。
本發明的製造方法中較佳為,裝飾材料2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導電性要素6、及視需要的透明保護層7的至少一要素是使用於暫時支持體上積層有上述感光性樹脂組成物的感光性膜來形成,更佳為使用以如下順序包括暫時支持體、熱塑性樹脂層及光硬化性樹脂層的感光性膜來形成。
上述裝飾材料2、絕緣層5以及透明保護層7較佳為藉由使用上述感光性膜,將光硬化性樹脂層轉印於前面板1上來形成。例如,在形成裝飾材料2的情況下,可藉由使用具有黑色光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層的上述感光性膜,於上述前面板1的表面轉印上述黑色光硬化性樹脂層來形成。在形成絕緣層5的情況下,可藉由使用具有絕緣性的光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層的上述感光性膜,於形成有第一透明電極圖案的上述前面板1的表面轉印上述光硬化性樹脂層來形成。於形成透明保護層7的情況下,可藉由使用具有透明的光硬化性樹脂層的上述感光性膜作為上述光硬化性樹脂層,於形成有各要素的上述前面板1的表面轉印上述光硬化性樹脂層來形成。
若使用上述感光性膜來形成上述裝飾材料2等,則於具有開口部的基板(前面板)上亦不存在抗蝕劑成分自開口部分的洩漏,尤其不存在抗蝕劑成分自必須將遮光圖案儘可能形成至前面板的邊界為止的裝飾材料中的玻璃端的滲出,因此不會污染基 板背側,能夠以簡略的步驟來製造具有薄層/輕量化的優點的觸控面板。
進而,需要遮光性的裝飾材料2的形成中,可藉由使用具有於光硬化性樹脂層與暫時支持體之間包括熱塑性樹脂層的特定層構成的本發明感光性膜,來防止感光性膜積層時的氣泡產生,形成無光洩漏的高品質的裝飾材料2等。
上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4以及導電性要素6可使用蝕刻處理或者具有導電性光硬化性樹脂層的感光性膜來形成。
在藉由蝕刻處理來形成上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4以及其他導電要素6的情況下,較佳為首先藉由濺鍍,於形成有裝飾材料2等的前面板1的非接觸面上形成ITO等透明電極層。繼而,較佳為於上述透明電極層上,使用具有蝕刻用光硬化性樹脂層作為上述光硬化性樹脂層的上述感光性膜,藉由曝光、顯影來形成蝕刻圖案。然後,對透明電極層進行蝕刻而使透明電極圖案化,去除蝕刻圖案,藉此可形成第一透明電極圖案3等。
於使用具有導電性光硬化性樹脂層的上述感光性膜來形成上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4以及其他導電要素6的情況下,可藉由在上述前面板1的表面轉印上述導電性光硬化性樹脂層來形成。
若使用上述具有導電性光硬化性樹脂層的感光性膜來 形成上述第一透明電極圖案3等,則在具有開口部的基板(前面板)上亦不存在抗蝕劑成分自開口部分的洩漏,不會污染基板背側,可以簡略的步驟來製造具有薄層/輕量化的優點的觸控面板。
進而,第一透明電極圖案3等的形成中,可藉由使用具有於導電性光硬化性樹脂層與暫時支持體之間包括熱塑性樹脂層的特定層構成的上述感光性膜,來防止感光性膜積層時的氣泡產生,形成導電性優異且電阻少的第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4以及其他導電要素6。
本發明的製造方法的過程中所形成的態樣例可列舉圖4~圖8的態樣。圖4是表示形成有開口部8的強化處理玻璃11的一例的俯視圖。圖5是表示形成有裝飾材料2的前面板的一例的俯視圖。圖6是表示形成有第一透明電極圖案3的前面板的一例的俯視圖。圖7是表示形成有第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成有與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素6的前面板的一例的俯視圖。該些圖表示將上述說明具體化的例子,本發明的範圍並不藉由該些圖式來作限定性解釋。
(導電性光硬化性樹脂層(導電性纖維))
於將上述積層有導電性光硬化性樹脂層的感光性膜用於形成透明電極圖案、或者其他導電性要素的情況下,可將以下的導電性纖維等用於光硬化性樹脂層。
導電性纖維的結構並無特別限制,可根據目的來適當選 擇,但較佳為實心結構以及中空結構的任一種。
此處,有時將實心結構的纖維稱為「線」,有時將中空結構的纖維稱為「管」。另外,有時將平均短軸長度為5 nm~1,000 nm且平均長軸長度為1 μm~100 μm的導電性纖維稱為「奈米線」。
另外,有時將平均短軸長度為1 nm~1,000 nm、平均長軸長度為0.1 μm~1,000 μm且具有中空結構的導電性纖維稱為「奈米管」。
上述導電性纖維的材料只要具有導電性,則並無特別限制,可根據目的來適當選擇,較佳為金屬及碳的至少任一者,該些材料中,上述導電性纖維特佳為金屬奈米線、金屬奈米管、以及碳奈米管的至少任一者。
-金屬奈米線-
--金屬--
上述金屬奈米線的材料並無特別限制,例如較佳為選自由長週期律表(IUPAC1991)的第4週期、第5週期、以及第6週期所組成組群中的至少1種金屬,更佳為選自第2族~第14族中的至少1種金屬,尤佳為選自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、以及第14族中的至少1種金屬,特佳為作為主成分來包含。
上述金屬例如可列舉:銅、銀、金、鉑、鈀、鎳、錫、鈷、銠、銥、鐵、釕、鋨、錳、鉬、鎢、鈮、鉭、鈦、鉍、銻、鉛、該些金屬的合金等。該些金屬中,就導電性優異的方面而言, 較佳為主要含有銀者、或者含有銀與銀以外的金屬的合金者。
上述所謂主要含有銀是指金屬奈米線中含有銀50質量%以上,較佳為90質量%以上。
上述以與銀的合金來使用的金屬可列舉鉑、鋨、鈀以及銥等。該些金屬可單獨使用1種,亦可併用2種以上。
--形狀--
上述金屬奈米線的形狀並無特別限制,可根據目的來適當選擇,例如可採取圓柱狀、長方體狀、剖面成為多角形的柱狀等任意的形狀,但在需要高透明性的用途中,較佳為圓柱狀、剖面的多角形的角圓潤的剖面形狀。
上述金屬奈米線的剖面形狀可藉由在基材上塗佈金屬奈米線水分散液,利用穿透型電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope,TEM)觀察剖面來調查。
就塗佈液的穩定性、塗佈時的乾燥或圖案化時的顯影時間等製程適應性的觀點而言,導電性光硬化性樹脂層的層厚較佳為0.1 μm~20 μm,尤佳為0.5 μm~18 μm,特佳為1 μm~15 μm。就導電性及塗佈液的穩定性的觀點而言,上述導電性纖維相對於上述導電性光硬化性樹脂層的總固體成分的含量較佳為0.01質量%~50質量%,尤佳為0.05質量%~30質量%,特佳為0.1質量%~20質量%。
此外,於使用上述感光性膜來形成絕緣層的情況下,就維持絕緣性的觀點而言,光硬化性樹脂層的層厚較佳為0.1 μm~5 μm,尤佳為0.3 μm~3 μm,特佳為0.5 μm~2 μm。
於使用上述感光性膜來形成透明保護層的情況下,就發揮充分的表面保護能力的觀點而言,光硬化性樹脂層的層厚較佳為0.5 μm~10 μm,尤佳為0.8 μm~5 μm,特佳為1 μm~3 μm。
〈靜電電容型輸入裝置的製造方法〉
如上所述,本發明的靜電電容型輸入裝置的製造方法較佳為:裝飾材料、第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、絕緣層、導電性要素、及視需要透明保護層的至少一要素是使用以如下順序包括暫時支持體、熱塑性樹脂層及光硬化性樹脂層的上述感光性膜來形成。
於使用上述感光性膜來形成上述裝飾材料、絕緣層以及透明保護層,或使用導電性光硬化性樹脂層時的第一透明電極圖案、第二透明電極圖案以及導電性要素等永久材料的情況下,感光性膜可藉由在積層於基材上後,曝光成必需的圖案式樣,於負型材料的情況下對非曝光部分,於正型材料的情況下對曝光部分進行顯影處理來去除,從而獲得圖案。此時,顯影可利用不同的溶液將熱塑性樹脂層、及光硬化性層顯影去除,亦可利用同一溶液來去除。視需要,亦可將刷子或高壓噴射等公知的顯影設備加以組合。顯影後,視需要亦可進行後曝光、後烘烤。
另外,為了提高由後述轉印步驟中的積層帶來的感光性樹脂層的密接性,可預先對基材(前面板)的非接觸面實施表面處理。上述表面處理較佳為實施使用矽烷化合物的表面處理(矽 烷偶合處理)。矽烷偶合劑較佳為具有與感光性樹脂相互作用的官能基者。例如藉由噴淋來吹附矽烷偶合液(N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷0.3質量%水溶液,商品名:KBM603,信越化學(股)製造)20秒,進行純水噴淋清洗。然後,藉由加熱使其反應。可使用加熱槽,亦可藉由積層機的基板預加熱來促進反應。
另外,亦可使用上述感光性膜作為舉離材料來形成第一透明電極圖案、第二透明電極圖案以及其他導電性構件。該情況下,可藉由使用上述感光性膜來圖案化後,於基材整個面形成透明導電層,然後將上述光硬化性樹脂層連同所堆積的透明導電層一起溶解去除,從而獲得所需的透明導電層圖案(舉離法(lift off))。
(使用上述感光性膜作為抗蝕劑的情況)
於使用上述感光性膜作為抗蝕劑(蝕刻圖案)的情況下,亦可以與上述方法相同的方式來獲得抗蝕劑圖案。上述蝕刻可利用日本專利特開2010-152155公報的段落[0048]~段落[0054]等中記載的公知方法,來應用蝕刻、抗蝕劑剝離。
例如,蝕刻的方法可列舉通常進行的浸漬於蝕刻液中的濕式蝕刻法。濕式蝕刻中使用的蝕刻液只要根據蝕刻的對象來適當選擇酸性類型或者鹼性類型的蝕刻液即可。酸性類型的蝕刻液可例示:鹽酸、硫酸、氫氟酸、磷酸等酸性成分單獨的水溶液,酸性成分與氯化鐵、氟化銨、過錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。酸性成分亦可使用將多種酸性成分組合而成者。另外,鹼性類型的 蝕刻液可例示:氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機胺、四甲基氫氧化銨之類的有機胺的鹽等鹼成分單獨的水溶液,鹼成分與過錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。鹼成分亦可使用將多種鹼成分組合而成者。
蝕刻液的溫度並無特別限定,較佳為45℃以下。本發明中作為蝕刻遮罩(蝕刻圖案)來使用的樹脂圖案是藉由使用上述光硬化性樹脂層來形成,對上述溫度區域中的酸性以及鹼性的蝕刻液發揮特別優異的耐性。因此,於蝕刻步驟中防止樹脂圖案剝離,對不存在樹脂圖案的部分進行選擇性蝕刻。
上述蝕刻後,為了防止線污染,亦可視需要進行清洗步驟、乾燥步驟。關於清洗步驟,例如於常溫下利用純水將基材清洗10秒~300秒而進行,關於乾燥步驟,只要使用鼓風機,適當調整鼓風機壓(0.1 kg/cm2~5 kg/cm2左右)來進行即可。
繼而,樹脂圖案的剝離方法並無特別限定,例如可列舉於30℃~80℃,較佳為50℃~80℃下,於攪拌中的剝離液中將基材浸漬5分鐘~30分鐘的方法。本發明中作為蝕刻遮罩來使用的樹脂圖案是如上所述於45℃以下表現出優異的耐藥液性者,若藥液溫度成為50℃以上,則表現出藉由鹼性的剝離液而膨潤的性質。藉由此種性質,若使用50℃~80℃的剝離液來進行剝離步驟,則具有步驟時間縮短,樹脂圖案的剝離殘渣減少的優點。即,藉由在上述蝕刻步驟與剝離步驟之間對藥液溫度設置差,本發明中作為蝕刻遮罩來使用的樹脂圖案於蝕刻步驟中發揮良好的耐藥液 性,另一方面,於剝離步驟中表現出良好的剝離性,可同時滿足耐藥液性與剝離性這兩種相反的特性。
剝離液例如可列舉使氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機鹼成分,或三級胺、四級銨鹽等有機鹼成分溶解於水、二甲基亞碸、N-甲基吡咯啶酮、或者它們的混合溶液中的剝離液。亦可使用上述剝離液,藉由噴射法、噴淋法、浸置法等來剝離。
[靜電電容型輸入裝置、以及具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的影像顯示裝置]
利用本發明的製造方法而獲得的靜電電容型輸入裝置、以及具備該靜電電容型輸入裝置作為構成要素的影像顯示裝置可應用:《最新觸控面板技術》(2009年7月6日發行,Techno Times(股))、三谷雄二主編且由CMC出版(2004年12月)的「觸控面板的技術與開發」、2009平板顯示器國際論壇(FPD(Flat Panel Display)International 2009 Forum)T-11講演文本、賽普拉斯半導體公司(Cypress Semiconductor Corporation)的應用註解(application note)AN2292等中揭示的構成。
實施例
以下,利用實施例對本發明進一步進行具體說明。
以下實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理程序等只要不脫離本發明的主旨,則可適當變更。因此,本發明的範圍並不藉由以下所示的具體例來作限定性解釋。此外,只要無特別說明,則「%」以及「份」為質量基準。
[實施例1]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成》
〈裝飾材料形成用感光性膜1的製備〉
於厚度75 μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜暫時支持體上,使用狹縫狀噴嘴,塗佈包含下述配方H1的熱塑性樹脂層用塗佈液,使其乾燥。繼而,塗佈包含下述配方P1的中間層用塗佈液,使其乾燥。進而,塗佈包含下述配方K1的裝飾材料用黑色抗蝕劑,使其乾燥。以上述方式於暫時支持體上,設置乾燥膜厚為15.1 μm的熱塑性樹脂層、乾燥膜厚為1.6 μm的中間層,且以光學密度成為3.35的方式設置乾燥膜厚為2.0 μm的裝飾材料用黑色抗蝕劑,最後壓接保護膜(厚度為12 μm的聚丙烯膜)。如此來製作暫時支持體、熱塑性樹脂層、中間層(氧阻隔膜)及裝飾材料用黑色抗蝕劑成為一體的轉印材料,將樣品名作為裝飾材料形成用感光性膜1。
(熱塑性樹脂層用塗佈液:配方H1)
.甲醇:11.1質量份
.丙二醇單甲醚乙酸酯:6.36質量份
.甲基乙基酮:52.4質量份
.甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合組成比(莫耳比)=55/11.7/4.5/28.8,分子量=10萬,Tg70℃):5.83質量份
.苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合組成比(莫耳比)=63/37,重 量平均分子量=1萬,Tg100℃):13.6質量份
.單體1(商品名:BPE-500,新中村化學工業(股)製造):9.1質量份
.氟系聚合物:0.54質量份
上述氟系聚合物為40份的C6F13CH2CH2OCOCH=CH2、55份的H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH2及5份的H(OCHCH2)7OCOCH=CH2的共聚物,重量平均分子量3萬,甲基乙基酮30質量%溶液(商品名:Megafac F780F,大日本油墨化學工業(股)製造)。
此外,熱塑性樹脂層用塗佈液H1的溶劑去除後的120℃的黏度為1500 Pa.sec。
(中間層用塗佈液:配方P1)
.聚乙烯基醇(商品名:PVA205,可樂麗(Kuraray)(股)製造,皂化度=88%,聚合度550):32.2質量份
.聚乙烯基吡咯啶酮(商品名:K-30,ISP日本(股)製造):14.9質量份
.蒸餾水:524質量份
.甲醇:429質量份
(裝飾材料用黑色抗蝕劑的組成:配方K1)
此外,裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的溶劑去除後的100℃的黏度為10000 Pa.sec。
光聚合起始劑1(PM834,和光純藥工業(股)公司製造,三氯甲基三嗪系)
(K顏料分散物1的組成)
.碳黑(商品名:Nipex35,德固賽(Degussa)公司製造):13.1質量%
.下述分散劑1:0.65質量%
.黏合劑1(甲基丙烯酸苄醋/甲基丙烯酸=72/28莫耳比的無規共聚物,重量平均分子量3.7萬):6.72質量%
.丙二醇單甲醚乙酸酯:79.53質量%
-R顏料分散物1的組成-
.顏料(C.I.顏料紅177):18質量%
.黏合劑1(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28莫耳比的無規共聚物,重量平均分子量3.7萬):12質量%
.丙二醇單甲醚乙酸酯:70質量%
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
繼而,於形成有開口部(15 mm)的強化處理玻璃(300 mm×400 mm×0.7 mm)上,一邊藉由噴淋來吹附經調整為25℃的玻璃清洗劑液20秒,一邊利用具有尼龍毛的旋轉刷進行清洗,進行純水噴淋清洗後,藉由噴淋來吹附矽烷偶合液(N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷0.3質量%水溶液,商品名:KBM603,信越化學工業(股)製造)20秒,進行純水噴淋清洗。利用基材預加熱裝置將該基材於140℃下加熱2分鐘。於所得的矽 烷偶合處理玻璃基材上,自由上述獲得的裝飾材料形成用感光性膜1上去除覆蓋膜,以去除後所露出的裝飾材料用黑色抗蝕劑的表面與上述矽烷偶合處理玻璃基材的表面接觸的方式進行重疊,使用積層機(日立工業(股)製造(Lamic II型)),於上述在140℃下經加熱的基材上,以橡膠輥溫度130℃、線壓100 N/cm、搬送速度2.2 m/分鐘進行積層。接著,在與熱塑性樹脂層的界面剝離聚對苯二甲酸乙二酯的暫時支持體,去除暫時支持體。剝離暫時支持體後,利用具有超高壓水銀燈的近接型曝光機(日立高新電子工程(Hitachi High-Tech Electronics Engineering)(股)製造),於將基材與曝光遮罩(具有框圖案的石英曝光遮罩)垂直立起的狀態下,將曝光遮罩面與該裝飾材料用黑色抗蝕劑之間的距離設定為200 μm,以曝光量70 mJ/cm2(i射線)進行圖案曝光。
繼而,將三乙醇胺系顯影液(含有三乙醇胺30質量%,將商品名:T-PD2(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),於33℃下以扁平噴嘴壓力0.1 MPa進行噴淋顯影60秒,去除熱塑性樹脂層及中間層。繼而,對該玻璃基材的上表面吹拂空氣,控去液體後,藉由噴淋來吹附純水10秒,進行純水噴淋清洗,吹拂空氣,減少基材上的液體積存。
然後,使用碳酸鈉/碳酸氫鈉系顯影液(將商品名:T-CD1(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至5倍而成的溶液),於32℃下將噴淋壓設定為0.1 MPa,顯影45秒,利用純水進行清洗。
繼而,使用含界面活性劑的清洗液(將商品名:T-SD3 (富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),藉由噴淋,於33℃下以錐型噴嘴壓力0.1 MPa吹拂20秒,進而利用具有柔軟尼龍毛的旋轉刷,擦去所形成的圖案像來進行殘渣去除。進而,利用超高壓清洗噴嘴,以9.8 MPa的壓力噴射超純水來進行殘渣去除。
繼而,於大氣下以曝光量1300 mJ/cm2,自裝飾材料用黑色抗蝕劑的表面側、及相當於裝飾材料用黑色抗蝕劑的背面側的基板側的兩面進行後曝光,進而進行240℃、80分鐘的後烘烤處理,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)設為實施例1的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的熱重量減少率的評價〉
利用剃刀等,自矽烷偶合處理玻璃基材上,自矽烷偶合處理玻璃基板上削取實施例1的黑色樹脂膜,製成粉末上的樣品。所得的粉狀樣品約6 mg,利用TGA(TG-DTA 6200,精工儀器(Seiko Instruments)公司製造)來測定300℃、30分鐘加熱後的重量減少率。
(黑色樹脂膜(裝飾材料)的加熱後的體強度的測定)
所製作的黑色樹脂膜(裝飾材料)的膜強度是利用塞巴斯蒂安法進行測定。
具體而言,於形成有所製作的黑色樹脂膜(裝飾材料)的前面板的黑色樹脂膜的表面,利用環氧系黏接劑來貼附底面直 徑為1.6 mm的鋁製銷。此處,使用帶有環氧系黏接劑的鋁製銷(鋁製的帶有黏接劑的柱螺栓銷2.7 mm,型號901106,QUAD公司製造)。
此外,圖9中的黑色樹脂膜與鋁製銷的黏接部分33與鋁製銷31的底面的直徑相同,直徑為1.6mm。
環氧系黏接劑硬化後,在與黑色樹脂膜垂直的方向拉伸鋁製銷,測定鋁製銷剝離時的最大負重。
將所得的結果記載於下述表1中。
(黑色樹脂膜(裝飾材料)的膜厚的測定、錐角的評價)
使用SEM,自傾斜角0°的正側面拍攝所得黑色樹脂膜(裝飾材料)的剖面。為了根據所得黑色樹脂膜(裝飾材料)的剖面照片來求出黑色樹脂膜(裝飾材料)的錐角,而依據以下的程序以及圖10進行作圖。
(程序1)於所得黑色樹脂膜(裝飾材料)的剖面照片上描畫黑色樹脂膜的側面的輪廓21C。
(程序2)黑色樹脂膜所形成的輪廓中,確定黑色樹脂膜的頂面中與黑色樹脂膜的底面大致平行的部分21B,引其延長線lB
(程序3)自黑色樹脂膜的頂面中與黑色樹脂膜的底面大致平行的部分21B的任意點B,於黑色樹脂膜的底面(基材表面)朝直線lA引直線lB的垂線,將其與直線lA的交點作為A。測定該垂線中的線段AB的長度,求出直線lA與直線lB之間的距離h。 將其作為黑色樹脂膜的膜厚h,記載於下述表1中。
(程序4)將膜厚h進行4等分,自黑色樹脂膜的底面依次引與直線lA平行的直線l1、直線l2以及直線l3
(程序5)將色樹脂膜的側面的輪廓21C與直線l1、直線l2以及直線l3的各自的交點作為C1、C2以及C3,描畫將C1及C2連結的直線l12、將C2及C3連結的直線l23
為了依據以上程序,對實施例1的黑色樹脂膜求出錐角而作圖,將作圖的結果示於圖11中。根據圖11,依據下述式(1)以及式(2),求出直線l12與黑色樹脂膜的底面的延長線lA所成的角中90°以下的角θ1、直線l23與黑色樹脂膜的黑色樹脂膜的頂面中與黑色樹脂膜的底面大致平行的部分的延長線的延長線lB所成的角中90°以下的角θ2
式(1)θ1≦40°
1表示通過交點C1以及交點C2的直線l12與黑色樹脂膜的底面的延長線lA所成的角中90°以下的角,上述交點C1是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起1/4高度的直線的交點,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點。)
式(2)θ2≦40°
2表示通過交點C2以及交點C3的直線l23、與黑色樹脂膜的黑色樹脂膜的頂面中和黑色樹脂膜的底面大致平行的部分的延長線的延長線lB所成的角中90°以下的角,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點,上述交點C3是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起3/4高度的直線的交點)。
根據所得的θ1以及θ2,依據以下基準來評價錐角。
○:θ1以及θ2中大的角為35°以下。
△:θ1以及θ2中大的角為超過35°且40°以下。
×:θ1以及θ2中大的角超過40°。
將所得的評價結果記載於下述表1中。
《第一透明電極圖案的形成》
〈透明電極層的形成〉
將形成有裝飾材料的前面板導入至真空腔室內,使用SnO2含有率為10質量%的ITO靶(銦:錫=95:5(莫耳比)),藉由直流(direct-current,DC)磁控濺鍍(條件:基材的溫度250℃,氬壓0.13 Pa,氧壓0.01 Pa),形成厚度40 nm的ITO薄膜,獲得於裝飾材料上獲得形成有透明電極層的前面板。ITO薄膜的表面電阻為80 Ω/□。
〈蝕刻用感光性膜E1的製備〉
於上述裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了將裝 飾材料用黑色抗蝕劑K1替代為包含下述配方E1的蝕刻用光硬化性樹脂層用塗佈液以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得蝕刻用感光性膜E1(蝕刻用光硬化性樹脂層的膜厚為2.0 μm)。
(蝕刻用光硬化性樹脂層用塗佈液:配方E1)
甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物(共聚物組成(質量%):31/40/29,質量平均分子量60000,酸值163 mgKOH/g):16質量份
.單體1(商品名:BPE-500,新中村化學工業(股)製造):5.6質量份
.六亞甲基二異氰酸酯的四環氧乙烷單甲基丙烯酸酯0.5莫耳加成物:7質量份
.作為分子中具有1個聚合性基的化合物的環己烷二甲醇單丙烯酸酯:2.8質量份
.2-氯-正丁基吖啶酮:0.42質量份
.2,2-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑:2.17質量份
.孔雀綠乙二酸鹽:0.02質量份
.隱色結晶紫:0.26質量份
.吩噻嗪:0.013質量份
.界面活性劑(商品名:Megafac F-780F,大日本油墨(股)製造):0.03質量份
.甲基乙基酮:40質量份
.1-甲氧基-2-丙醇:20質量份
此外,蝕刻用光硬化性樹脂層用塗佈液E1的溶劑去除後的100℃的黏度為2500 Pa.sec。
〈第一透明電極圖案的形成〉
以與裝飾材料的形成相同的方式,將形成有透明電極層的前面板進行清洗,積層將覆蓋膜去除的蝕刻用感光性膜E1(基材溫度:130℃,橡膠輥溫度120℃,線壓100 N/cm,搬送速度2.2 m/分鐘)。剝離暫時支持體後,將曝光遮罩(具有透明電極圖案的石英曝光遮罩)面與該蝕刻用光硬化性樹脂層之間的距離設定為200 μm,以曝光量50 mJ/cm2(i射線)進行圖案曝光。
繼而,使用三乙醇胺系顯影液(含有三乙醇胺30質量%,將商品名:T-PD2(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),於25℃下處理100秒,然後使用含界面活性劑的清洗液(將商品名:T-SD3(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),於33℃下處理20秒,利用旋轉刷、超高壓清洗噴嘴進行殘渣去除,進而進行130℃、30分鐘的後烘烤處理,獲得形成有透明電極層及蝕刻用光硬化性樹脂層圖案的前面板。
將形成有透明電極層及蝕刻用光硬化性樹脂層圖案的前面板,浸漬於加入有ITO蝕刻劑(鹽酸、氯化鉀水溶液;液溫30℃)的蝕刻槽中,進行100秒處理,將未被蝕刻用光硬化性樹脂層覆蓋的露出區域的透明電極層溶解去除,獲得附著有蝕刻用 光硬化性樹脂層圖案的帶有透明電極層圖案的前面板。
繼而,將附著有蝕刻用光硬化性樹脂層圖案的帶有透明電極層圖案的前面板,浸漬於加入有抗蝕劑剝離液(N-甲基-2-吡咯啶酮、單乙醇胺、界面活性劑(商品名:Surfynol 465,空氣產品公司製造),液溫45℃)的抗蝕劑剝離槽中,進行200秒處理,去除蝕刻用光硬化性樹脂層,獲得形成有裝飾材料及第一透明電極圖案的前面板。
《絕緣層的形成》
〈絕緣層形成用感光性膜W1的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了將裝飾材料用黑色抗蝕劑K1替代為包含下述配方W1的絕緣層用光硬化性樹脂層用塗佈液以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得絕緣層形成用感光性膜W1(絕緣層用光硬化性樹脂層的膜厚為1.4 μm)。
(絕緣層形成用塗佈液:配方W1)
.黏合劑3(甲基丙烯酸環己酯(a)/甲基丙烯酸甲酯(b)/甲基丙烯酸共聚物(c)的甲基丙烯酸縮水甘油酯加成物(d)(組成(質量%):a/b/c/d=46/1/10/43,質量平均分子量:36000,酸值66 mgKOH/g)的1-甲氧基-2-丙醇、甲基乙基酮溶液(固體成分:45%)):12.5質量份
.DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯,日本化藥(股)製造)的丙二醇單甲醚乙酸酯溶液(76質量%):1.4質量份
.胺基甲酸酯系單體(商品名:NK Oligo UA-32P,新中村化學(股)製造:不揮發分75%,丙二醇單甲醚乙酸酯:25%):0.68質量份
.三季戊四醇八丙烯酸酯(商品名:V#802,大阪有機化學工業(股)製造):1.8質量份
.二乙基噻噸酮:0.17質量份
.2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮(商品名:Irgacure 379,巴斯夫製造):0.17質量份
.分散劑(商品名:Solsperse 20000,艾菲西亞(Avecia)製造):0.19質量份
.界面活性劑(商品名:Megafac F-780F,大日本油墨製造):0.05質量份
.甲基乙基酮:23.3質量份
.MMPGAc(大賽璐化學(股)製造):59.8質量份
此外,絕緣層形成用塗佈液W1的溶劑去除後的100℃的黏度為4000 Pa.sec。
以與裝飾材料的形成相同的方式,對上述帶有第一透明電極圖案的前面板進行清洗、矽烷偶合處理,積層將覆蓋膜去除的絕緣層形成用感光性膜W1(基材溫度:100℃,橡膠輥溫度120℃,線壓100 N/cm,搬送速度2.3 m/分鐘)。剝離暫時支持體後,將曝光遮罩(具有絕緣層用圖案的石英曝光遮罩)面與該蝕 刻用光硬化性樹脂層之間的距離設定為100 μm,以曝光量30 mJ/cm2(i射線)進行圖案曝光。
繼而,使用三乙醇胺系顯影液(含有三乙醇胺30質量%,將商品名:T-PD2(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),於33℃下處理60秒,使用碳酸鈉/碳酸氫鈉系顯影液(將商品名:T-CD1(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至5倍而成的溶液),於25℃下處理50秒,然後使用含界面活性劑的清洗液(將商品名:T-SD3(富士膠片(股)製造)以純水稀釋至10倍而成的溶液),於33℃下處理20秒,利用旋轉刷、超高壓清洗噴嘴進行殘渣去除,進而進行230℃、60分鐘的後烘烤處理,獲得形成有裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案的前面板。
《第二透明電極圖案的形成》
〈透明電極層的形成〉
以與上述第一透明電極圖案的形成相同的方式,對形成有第一透明電極圖案、絕緣層圖案的前面板進行DC磁控濺鍍處理(條件:基材的溫度50℃,氬壓0.13 Pa,氧壓0.01 Pa),形成厚度80 nm的ITO薄膜,獲得形成有透明電極層的前面板。ITO薄膜的表面電阻為110 Ω/□。
以與第一透明電極圖案的形成的形成相同的方式,使用蝕刻用感光性膜E1,獲得形成有第一透明電極圖案、絕緣層圖案、透明電極層、蝕刻用光硬化性樹脂層圖案的前面板(後烘烤處理,130℃,30分鐘)。
進而,以與第一透明電極圖案的形成的形成相同的方式,進行蝕刻(30℃、50秒),將蝕刻用光硬化性樹脂層去除(45℃、200秒),藉此獲得形成有裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案的前面板。
《與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的形成》
以與上述第一透明電極圖案、及第二透明電極圖案的形成相同的方式,對形成有第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案的前面板進行DC磁控濺鍍處理,獲得形成有厚度200 nm的鋁(Al)薄膜的前面板。
以與上述第一透明電極圖案、及第二透明電極圖案的形成相同的方式,使用蝕刻用感光性膜E1,獲得形成有第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、蝕刻用光硬化性樹脂層圖案的前面板。(後烘烤處理,130℃,30分鐘)。
進而,以與第一透明電極圖案的形成的形成相同的方式,進行蝕刻(30℃、50秒),將蝕刻用光硬化性樹脂層去除(45℃、200秒),藉此獲得形成有裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板。
《透明保護層的形成》
以與絕緣層的形成相同的方式,於形成至上述與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素為止的前 面板上,積層將覆蓋膜去除的絕緣層形成用感光性膜W1,剝離暫時支持體後,並不隔著曝光遮罩,而是以曝光量50 mJ/cm2(i射線)進行前面曝光,進行顯影、後曝光(1000 mJ/cm2)、後烘烤處理,獲得以覆蓋裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板1。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板1,以公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的影像顯示裝置1。
《前面板1、以及影像顯示裝置1的評價》
於上述各步驟中,形成有裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[比較例1]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
除了使用以與實施例1相同的方式形成的裝飾材料形成用感光性膜1,僅自裝飾材料用黑色抗蝕劑的表面側進行後曝光以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為比較例1的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對所得的比較例1的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的比較例1的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋比較例1的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板C1。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板C1,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的比較例1的影像顯示裝置C1。
《前面板、以及影像顯示裝置C1的評價》
於上述各步驟中,形成有比較例1的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,比較例1的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[比較例2]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
除了使用以與實施例1相同的方式形成的裝飾材料形成用感光性膜1,僅自相當於裝飾材料用黑色抗蝕劑的背面側的基板側進行後曝光以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為比較例2的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對所得的比較例2的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的比較例2的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋比較例2的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板C2。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板C2,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的比較例2的影像顯示裝置C2。
《前面板、以及影像顯示裝置C2的評價》
於上述各步驟中,形成有比較例2的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,比較例2的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[比較例3]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
除了使用以與實施例1相同的方式形成的裝飾材料形成用感光性膜1,不進行後曝光以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為比較例3的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對所得的比較例3的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的比較例3的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋比較例3的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板C3。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板C3,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的比較例3的影像顯示裝置C3。
《前面板、以及影像顯示裝置C3的評價》
於上述各步驟中,形成有比較例3的裝飾材料、第一透 明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,比較例3的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例2]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
〈裝飾材料形成用感光性膜2的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了將裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的配方的光聚合起始劑1變更為下述光聚合起始劑2以外,且替代為相同配方的裝飾材料用黑色抗蝕劑K2以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得裝飾材料形成用感光性膜2。
光聚合起始劑2(Irgacure 379,巴斯夫公司製造,α-羥基烷基苯酮系)
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
除了使用裝飾材料形成用感光性膜2以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例2的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於實施例2的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例2的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例2的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板2。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板2,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例2的影像顯示裝置2。
《前面板、以及影像顯示裝置2的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例2的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例2的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例3]
除了使用以與實施例2相同的方式形成的裝飾材料形成用感光性膜2,僅自裝飾材料用黑色抗蝕劑的表面側進行後曝光以外,以與實施例2相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例3的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例3的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例3的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例3的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板3。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板3,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例3的影像顯示裝置3。
《前面板、以及影像顯示裝置3的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例3的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例3的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例4]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
除了使用以與實施例2相同的方式形成的裝飾材料形成用感光性膜2,僅自相當於裝飾材料用黑色抗蝕劑的背面側的基板側進行後曝光以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例4的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例4的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例4的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例4的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板4。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板4,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例4的影像顯示裝置4。
《前面板、以及影像顯示裝置4的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例4的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例4的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例5]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
〈裝飾材料形成用感光性膜3的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了將裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的配方的光聚合起始劑1變更為下述光聚合起始劑3以外,且替代為相同配方的裝飾材料用黑色抗蝕劑K2以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得裝飾材料形成用感光性膜3。
光聚合起始劑3(Irgacure OXE01,巴斯夫公司製造,肟酯系)
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
除了使用裝飾材料形成用感光性膜3以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例5的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例5的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例5的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例5的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板5。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板5,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例5的影 像顯示裝置5。
《前面板、以及影像顯示裝置5的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例5的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例5的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例6]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
〈裝飾材料形成用感光性膜4的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了將裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的配方的光聚合起始劑1變更為下述光聚合起始劑4以外,且替代為相同配方的裝飾材料用黑色抗蝕劑K2以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得裝飾材料形成用感光性膜4。
光聚合起始劑4(Irgacure 184,巴斯夫公司製造,α-胺 基烷基苯酮系)
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
除了使用裝飾材料形成用感光性膜4以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度3.35、膜厚1.8 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例6的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例6的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例6的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例6的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板6。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板6,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例6的影 像顯示裝置6。
《前面板、以及影像顯示裝置6的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例6的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例6的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例7]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
〈裝飾材料形成用感光性膜5的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了變更為裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的乾燥膜厚成為2.8 μm以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得裝飾材料形成用感光性膜5。
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
除了使用裝飾材料形成用感光性膜5以外,以與實施例 1相同的方式,獲得光學密度4.65、膜厚2.5 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例7的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例7的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例7的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例7的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板7。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板7,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例7的影像顯示裝置7。
《前面板、以及影像顯示裝置7的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例7的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例7的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
[實施例8]
《黑色樹脂膜(裝飾材料)的製作》
〈裝飾材料形成用感光性膜6的製備〉
於裝飾材料形成用感光性膜1的製備中,除了變更為裝飾材料用黑色抗蝕劑K1的乾燥膜厚成為1.45 μm以外,以與裝飾材料形成用感光性膜1的製備相同的方式,獲得裝飾材料形成用感光性膜6。
〈黑色樹脂膜(裝飾材料)的形成〉
除了使用裝飾材料形成用感光性膜6的以外,以與實施例1相同的方式,獲得光學密度2.42、膜厚1.3 μm的黑色樹脂膜(裝飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板。將所得的黑色樹脂膜(裝飾材料)作為實施例8的黑色樹脂膜(裝飾材料)。
對於所得實施例8的黑色樹脂膜(裝飾材料),以與實施例1相同的方式進行評價,將評價的結果記載於下述表1中。
《影像顯示裝置(觸控面板)的製作》
除了使用藉由上述而製造的實施例8的黑色樹脂膜(裝 飾材料)形成於矽烷偶合處理玻璃基材上的前面板以外,以與實施例1相同的方式,獲得以覆蓋實施例8的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的全部的方式積層有絕緣層(透明保護層)的前面板8。
於利用日本專利特開2009-47936公報中記載的方法來製造的液晶顯示元件上,貼合先前製造的前面板8,利用公知的方法來製作具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的實施例8的影像顯示裝置8。
《前面板、以及影像顯示裝置8的評價》
於上述各步驟中,形成有實施例8的裝飾材料、第一透明電極圖案、絕緣層圖案、第二透明電極圖案、以及與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的其他導電性要素的前面板1於開口部、以及背面無污垢,容易清洗,且無其他構件的污染的問題。
另外,實施例8的裝飾材料上無針孔,遮光性優異。
而且,第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、以及與它們不同的其他導電性要素的各自的導電性不存在問題,另一方面,在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性。
進而,透明保護層上亦無氣泡等缺陷,獲得顯示特性優異的影像顯示裝置。
根據上述表1可知,利用滿足本發明所規定的條件(A)或者條件(B)的本發明黑色樹脂膜(裝飾材料)的製造方法而獲得的本發明黑色樹脂膜即便在使用黑色顏料來設為高光學密度的情況下,加熱後的體強度亦高。進而可知,本發明的較佳實施方式的實施例2~實施例8的黑色樹脂膜的錐角亦良好,滿足本發明所規定的條件(A)以及條件(B)的本發明的更佳實施方式的實施例2~實施例4以及實施例6~實施例8的黑色樹脂膜的錐角更良好。
另一方面,根據比較例1以及比較例2可知,利用於使用三氯甲基三嗪系化合物作為光聚合起始劑的情況下僅自單面進行後曝光,且不滿足本發明所規定的條件(A)及條件(B)的任一者的方法來製造的比較例1以及比較例2的黑色樹脂膜,它們的加熱後的體強度均差。
根據比較例3可知,完全未進行後曝光而製造的黑色樹脂膜(裝飾材料)的加熱後的體強度差。
另外,如上所述,依據本發明的靜電電容型輸入裝置的製造方法,能夠以簡單的步驟來高品質地製造具有薄層/輕量化的優點的靜電電容型輸入裝置。因此可知,利用本發明的製造方法來製造的靜電電容型輸入裝置、以及使用其的影像顯示裝置為高品質。
進而可知,若使用錐角亦良好的較佳為實施方式的實施例2~實施例8的黑色樹脂膜,則所得的靜電電容型輸入裝置、以 及使用其的影像顯示裝置由於將錐部分橫切的電路的斷線減少,故而就觸控面板的可靠性的觀點而言更優異。
1‧‧‧前面板
2‧‧‧裝飾材料
3‧‧‧第一透明電極圖案
4‧‧‧第二透明電極圖案
5‧‧‧絕緣層
6‧‧‧導電性要素
7‧‧‧透明保護層
10‧‧‧靜電電容型輸入裝置

Claims (22)

  1. 一種黑色樹脂膜,其特徵在於:包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑,進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的體強度為100 N/1.6 mm以上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的黑色樹脂膜,其中膜厚為1.5 μm~5.0 μm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的黑色樹脂膜,其中進行240℃、80分鐘的加熱後,進而進行300℃、30分鐘的加熱後的熱重量減少率為39.2%以下。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項所述的黑色樹脂膜,其中光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項所述的黑色樹脂膜,其中側面的錐角滿足下述式(1)以及下述式(2):式(1)θ1≦40°(θ1表示通過交點C1以及交點C2的直線l12與黑色樹脂膜的底面的延長線lA所成的角中90°以下的角,上述交點C1是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起1/4高度的直線的交點,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表 面起2/4高度的直線的交點)式(2)θ2≦40°(θ2表示通過交點C2以及交點C3的直線l23、與黑色樹脂膜的黑色樹脂膜的頂面中和黑色樹脂膜的底面大致平行的部分的延長線的延長線lB所成的角中90°以下的角,上述交點C2是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起2/4高度的直線的交點,上述交點C3是黑色樹脂膜的側面與當將黑色樹脂膜的高度4等分時自黑色樹脂膜的基材側表面起3/4高度的直線的交點)。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的黑色樹脂膜,其中更包含溶劑。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的黑色樹脂膜,其中包含蒸發速度為乙酸丁酯的200%以上的第1溶劑、及蒸發速度為乙酸丁酯的50%以下的第2溶劑作為上述溶劑。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的黑色樹脂膜,其中上述溶劑包含多元醇衍生物、及酮。
  9. 一種黑色樹脂膜的製造方法,其特徵在於,包括:將包含黑色顏料、鹼可溶性高分子化合物、含乙烯性不飽和鍵的化合物以及光聚合起始劑的感光性樹脂組成物應用於基材上的步驟;將上述基材上的上述感光性樹脂組成物進行曝光的步驟; 將經曝光的上述感光性樹脂組成物進行顯影的步驟;以及於上述顯影步驟後進行後曝光的步驟;並且上述黑色樹脂膜的製造方法滿足下述條件(A)或者條件(B):條件(A):上述光聚合起始劑為α-胺基烷基苯酮系化合物或者α-羥基烷基苯酮系化合物;條件(B):自上述感光性樹脂組成物的與上述基材接觸之側的表面方向以及不與上述透明基材接觸之側的表面方向的兩面,進行上述顯影步驟後的後曝光。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的黑色樹脂膜的製造方法,其中上述顯影步驟後的後曝光的曝光量以i射線計為1300 mJ/cm2以上。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的黑色樹脂膜的製造方法,其中上述基材為透明基材。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的黑色樹脂膜的製造方法,其中上述透明基材為透明絕緣性基材。
  13. 如申請專利範圍第9項所述的黑色樹脂膜的製造方法,其同時滿足上述條件(A)以及條件(B)。
  14. 如申請專利範圍第9項至第13項中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法,其中自於暫時支持體上積層有上述感光性樹脂組成物的感光性轉印膜上,將上述感光性樹脂組成物轉印於上述基材上。
  15. 一種黑色樹脂膜,其特徵在於:利用如申請專利範圍第9項至第13項中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法來製造。
  16. 一種靜電電容型輸入裝置用裝飾材料,其包含如申請專利範圍第1項或第15項所述的黑色樹脂膜。
  17. 一種靜電電容型輸入裝置,其特徵在於:包含如申請專利範圍第16項所述的靜電電容型輸入裝置用裝飾材料。
  18. 一種靜電電容型輸入裝置的製造方法,其是包括前面板、以及於上述前面板的非接觸側的至少下述(1)~(4)的要素的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其特徵在於:利用如申請專利範圍第9項至第13項中任一項所述的黑色樹脂膜的製造方法來製造上述(1)的要素;(1)裝飾材料;(2)多個第一透明電極圖案,其是多個墊部分經由連接部分而於第一方向延伸來形成;(3)多個第二電極圖案,其與上述第一透明電極圖案電性絕緣,且包含在與上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個墊部分;以及(4)絕緣層,其使上述第一透明電極圖案與上述第二電極圖案電性絕緣。
  19. 如申請專利範圍第18項所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其中上述靜電電容型輸入裝置更包括(5)電性連接於上述第一透明電極圖案及上述第二電極圖案的至少一者,且與上述 第一透明電極圖案及上述第二電極圖案不同的其他導電性要素。
  20. 如申請專利範圍第18項所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法,其中上述第二電極圖案為透明電極圖案。
  21. 一種靜電電容型輸入裝置,其特徵在於:利用如申請專利範圍第18項所述的靜電電容型輸入裝置的製造方法來製造。
  22. 一種影像顯示裝置,其特徵在於:具備如申請專利範圍第17項或第21項所述的靜電電容型輸入裝置作為構成要素。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI704052B (zh) * 2015-10-26 2020-09-11 日商富士軟片股份有限公司 膜感測器的製造方法、前面板一體型感測器的製造方法及圖像顯示裝置的製造方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014148878A1 (ko) * 2013-03-22 2014-09-25 주식회사 엘지화학 전도성 패턴 적층체 및 이를 포함하는 전자 장치
US10585213B2 (en) * 2014-03-14 2020-03-10 Sharp Kabushiki Kaisha Optical element and display device
JP6361191B2 (ja) * 2014-03-14 2018-07-25 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法
JP6390143B2 (ja) * 2014-04-08 2018-09-19 東洋インキScホールディングス株式会社 黒色組成物、黒色塗膜、および積層体
TWI549027B (zh) * 2014-04-22 2016-09-11 群創光電股份有限公司 觸控面板及觸控顯示裝置
JP6331790B2 (ja) * 2014-07-10 2018-05-30 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、これを用いた表示装置
JP6577176B2 (ja) * 2014-10-14 2019-09-18 旭化成株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物及び転写材料
WO2016088609A1 (ja) * 2014-12-03 2016-06-09 富士フイルム株式会社 転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置
JP6230559B2 (ja) 2014-12-03 2017-11-15 富士フイルム株式会社 転写フィルム、フィルムセンサーの製造方法、フィルムセンサー、前面板一体型センサーおよび画像表示装置
TWI564761B (zh) * 2015-01-16 2017-01-01 友達光電股份有限公司 觸控電極層
CN108027556B (zh) * 2015-09-28 2022-05-06 昭和电工材料株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及触摸面板的制造方法
JP6646451B2 (ja) * 2016-01-14 2020-02-14 株式会社ジャパンディスプレイ カバー部材及びこれを備えた表示装置
JP6840141B2 (ja) * 2016-05-31 2021-03-10 富士フイルム株式会社 転写フィルム、加飾パターン、タッチパネル、及びパターンの製造方法
CN109073970B (zh) * 2016-05-31 2022-08-23 富士胶片株式会社 转印膜、装饰图案及触摸面板
CN109154773B (zh) * 2016-05-31 2022-04-12 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、转印膜、装饰图案及触摸面板
KR102220063B1 (ko) * 2016-09-30 2021-02-25 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 감활성광선성 또는 감방사선성 조성물
KR101759571B1 (ko) * 2017-04-10 2017-07-19 영창케미칼 주식회사 Euv용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물
KR102453516B1 (ko) * 2018-03-13 2022-10-12 후지필름 가부시키가이샤 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법
KR20200120845A (ko) * 2019-04-12 2020-10-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20220093644A (ko) * 2020-12-28 2022-07-05 동우 화인켐 주식회사 원도우 적층체 및 그 제조 방법

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0915857A (ja) * 1995-06-29 1997-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタの製造法
JP3896631B2 (ja) 1997-04-01 2007-03-22 凸版印刷株式会社 黒色感光性樹脂組成物及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法
JP2002023359A (ja) 2000-07-06 2002-01-23 Nichigo Morton Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性エレメント
JP4291638B2 (ja) * 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
TWI378282B (en) * 2005-02-28 2012-12-01 Fujifilm Corp Liquid crystal display
JP2007015147A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 凸版印刷用感光性積層印刷原版の製造方法、凸版印刷用感光性積層印刷原版、および凸版印刷版の製造方法
JP2007122326A (ja) 2005-10-27 2007-05-17 Alps Electric Co Ltd 入力装置および前記入力装置を使用した電子機器
JP2008134583A (ja) * 2006-10-30 2008-06-12 Fujifilm Corp カラーフィルタ、液晶表示装置およびその製造に用いられる硬化性組成物
CN101657414A (zh) * 2007-01-23 2010-02-24 富士胶片株式会社 肟化合物、感光性组合物、滤色片及其制造方法以及液晶显示元件
KR20090104877A (ko) * 2007-01-23 2009-10-06 후지필름 가부시키가이샤 옥심 화합물, 감광성 조성물, 컬러 필터, 그 제조방법 및 액정표시소자
JP5045747B2 (ja) * 2007-05-29 2012-10-10 旭硝子株式会社 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス
CN101680983A (zh) * 2007-05-30 2010-03-24 旭硝子株式会社 形成有间隔壁和像素的基板的制造方法
JP4506785B2 (ja) 2007-06-14 2010-07-21 エプソンイメージングデバイス株式会社 静電容量型入力装置
CN101681102B (zh) * 2007-12-19 2014-04-02 东洋油墨制造株式会社 着色组合物、滤色器的制造方法和滤色器
TWM348999U (en) 2008-02-18 2009-01-11 Tpk Touch Solutions Inc Capacitive touch panel
JP2010000434A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Jsr Corp タッチパネルの製造方法
JP5577659B2 (ja) * 2008-09-18 2014-08-27 東レ株式会社 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板、カラーフィルター基板および液晶表示装置
JP5376446B2 (ja) * 2009-07-24 2013-12-25 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量型入力装置および入力機能付き表示装置
CN102576190A (zh) * 2009-09-29 2012-07-11 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、滤色器及液晶显示装置
JP2011158741A (ja) * 2010-02-02 2011-08-18 Seiko Epson Corp カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、画像表示装置および電子機器
JP5585147B2 (ja) * 2010-03-23 2014-09-10 凸版印刷株式会社 ベゼル加飾物
US9244346B2 (en) * 2011-06-24 2016-01-26 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Negative-type photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, insulating film, color filter, and display device
CN102929454A (zh) * 2011-08-12 2013-02-13 宸鸿科技(厦门)有限公司 电容式触控面板及降低其金属导体可见度的方法
JP5955787B2 (ja) * 2012-06-20 2016-07-20 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI704052B (zh) * 2015-10-26 2020-09-11 日商富士軟片股份有限公司 膜感測器的製造方法、前面板一體型感測器的製造方法及圖像顯示裝置的製造方法

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