TW201332762A - 透明複合基板及顯示元件基板 - Google Patents

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Hideo Umeda
Manabu Naito
Hiroyuki Otsuka
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Abstract

本發明之透明複合基板具有複合層，該複合層包含以玻璃纖維之集合體構成之玻璃布帛及含浸於玻璃布帛之阿貝數為45以上之樹脂材料，且玻璃纖維之集合體本身存在折射率之差異，其折射率之最大值與最小值之差為0.01以下。藉此，可提供光學特性優異之透明複合基板及具備該透明複合基板之高可靠性之顯示元件基板。又，前述樹脂材料宜以脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂作為主成分較佳。

Description

透明複合基板及顯示元件基板
本發明係關於透明複合基板及顯示元件基板。
在液晶顯示元件或有機EL顯示元件等顯示元件使用之彩色濾光片基板、主動矩陣基板之類的顯示元件基板、或太陽能電池用基板等，係廣泛使用玻璃板。但是因為玻璃板易破、無法彎曲、不利於輕型化等理由，近年有人探討由作為其代替材料之塑膠素材構成之基板(塑膠基板)。
在此，塑膠基板至今為止已有人提出印刷基板用之玻璃纖維複合樹脂片(例如參照專利文獻1)。玻璃纖維複合樹脂片係將透明樹脂材料含浸於含玻璃纖維之玻璃布帛者。藉由含玻璃纖維，玻璃纖維複合樹脂片特別能提高機械特性(彎曲強度、低線膨脹率等)。
近年有人嘗試將該玻璃纖維複合樹脂片透明化而作為玻璃板之代替材。
但是習知的玻璃纖維複合樹脂片，係特化並最適化於印刷基板用途，所以會有不具備適於如上述用途之光學特性的問題。
【先前技術文獻】 【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開平5-147979號公報
本發明之目的在於提供光學特性優異之透明複合基板及具有前述透明複合基板之高可靠性之顯示元件基板。
如此的目的可利用下列(1)~(14)之本發明達成。
(1)一種透明複合基板，其係具有複合層，該複合層包含由玻璃纖維之集合體構成之玻璃布帛、以及含浸於該玻璃布帛之阿貝數為45以上之樹脂材料，該玻璃纖維之集合體本身存在折射率的差異，該折射率之最大值與最小值之差為0.01以下。
(2)如(1)之透明複合基板，其中，該樹脂材料係以脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂作為主成分。
(3)如(1)之透明複合基板，其中，該透明複合基板依據JIS K 7129 B規定之方法測得之水蒸氣穿透度為0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下。
(4)如(3)之透明複合基板，其中，該透明複合基板於30~150℃之平均線膨脹係數為40ppm/℃以下。
(5)如(1)之透明複合基板，其係更具備設置於該複合層之至少一面側且至少具備透明性及氣體阻隔性之表面層。
(6)如(5)之透明複合基板，其中，該表面層係以無機材料構成。
(7)如(6)之透明複合基板，其中，當令該無機材料之熔點為Tm[℃]、該樹脂材料之主成分之5%重量減少溫度為Td[℃]時，係滿足1200<(Tm-Td)<1400之關係。
(8)如(6)之透明複合基板，其中，該無機材料係包含矽化合物。
(9)如(8)之透明複合基板，其中，該矽化合物係以SiOxNy表示，且x與y滿足1≦x≦2且y滿足0≦y≦1之關係。
(10)如(8)之透明複合基板，其中，該矽化合物係包含氧原子及氮原子。
(11)如(10)之透明複合基板，其中，該矽化合物係以SiOxNy表示，且x與y滿足y>0且0.3<x/(x+y)≦1之關係。
(12)如(5)之透明複合基板，其中，該表面層之平均厚度為10~500nm。
(13)如(5)之透明複合基板，其係具有設置在該複合層與該表面層之間且以樹脂材料構成的中間層。
(14)一種顯示元件基板，其特徵為：具備如(1)之透明複合基板。
依照本發明，藉由使用既定阿貝數之樹脂材料且同時將玻璃布帛之折射率予以最適化，能獲得均勻且有優異之光學特性之透明複合基板。
又，依照本發明，藉由具備如上述透明複合基板，可獲得高可靠性的顯示元件基板。
1‧‧‧透明複合基板
2‧‧‧玻璃布
2a‧‧‧縱方向玻璃紗(經線)
2b‧‧‧橫方向玻璃紗
3‧‧‧樹脂材料
4‧‧‧複合層
5‧‧‧氣體阻隔層
圖1顯示本發明之透明複合基板之實施形態之玻璃布之平面圖。
圖2顯示本發明之透明複合基板之實施形態之剖面圖。
以下針對本發明之透明複合基板及顯示元件基板，依據附帶圖式所示之理想實施形態詳細說明。
本發明之透明複合基板，具有一複合層，該複合層係包含：以玻璃纖維之集合體構成之玻璃布帛、以及含浸於該玻璃布帛之阿貝數為45以上之脂 材料。並且，本發明之透明複合基板之特徵為：玻璃纖維之集合體本身存在折射率之差異，且其折射率之最大值與最小值之差為0.01以下。
本發明中，透明係指有透光性的狀態，也可呈現有彩色，但較佳為無色。
本發明之透明複合基板，係藉由使用有既定阿貝數之樹脂材料且使玻璃布帛之折射率予以最適化，能維持均勻且優異之光學特性。
<透明複合基板>
首先針對本發明之透明複合基板之實施形態說明。
圖1顯示本發明之透明複合基板之實施形態相關之玻璃布之平面圖、圖2顯示本發明之透明複合基板之實施形態之剖面圖。
圖2所示之透明複合基板1，具有：包含玻璃布(玻璃布帛)2及樹脂材料(基質樹脂)3之複合層4；及以被覆複合層4之表面的方式設置在複合層4上之氣體阻隔層(表面層)5。以下針對各構成要素說明。
(玻璃布)
玻璃布(玻璃布帛)2係含有玻璃纖維之織布(玻璃纖維之集合體)。又，其他玻璃布帛，可列舉簡單梱紮玻璃纖維而得者，或含有玻璃纖維之不織布(玻璃纖維之集合體)，圖1舉玻璃布2為織布的情形為例圖示。圖1所示之玻璃布2，係以縱方向玻璃紗(經線)2a及橫方向玻璃紗(緯線)2b構成，縱方向玻璃紗2a與橫方向玻璃紗2b大致垂直相交。玻璃布2之織法組織，除了圖1所示之平織以外，可列舉：籃織、緞織、斜紋織等。
構成玻璃纖維之無機系玻璃材料，例如：E玻璃、C玻璃、A玻璃、S玻璃、T玻璃、D玻璃、NE玻璃、石英、低介電率玻璃、高介電率玻璃等。該等之中，作為無機系玻璃材料，從鹼金屬等離子性雜質少、取得容易的觀點，較佳為使用E玻璃、S玻璃、T玻璃、NE玻璃，尤其使用在30℃至250℃之平均線膨脹係數為5ppm/℃以下之S玻璃或T玻璃更佳。
又，無機系玻璃材料之折射率係因應使用之樹脂材料3之折射率適當設定者，例如約1.4~1.6較佳，約1.5~1.55更佳。藉此能獲得於廣波長區域顯示優異之光學特性之透明複合基板1。
玻璃布2含有之玻璃纖維之平均直徑為約2~15μm較佳，約3~12μm更佳，約3~10μm又更佳。藉此，可獲得機械特性或光學特性及表面平滑性能高度兼顧的透明複合基板1。又，玻璃纖維之平均直徑，係以各種顯微鏡等觀察透明複合基板1之橫剖面，並求得從觀察像測定之100條分量之玻璃纖維之直徑之平均值。
另一方面，玻璃布2之平均厚度為約10~300μm較佳，約10~200μm更佳。藉由使玻璃布2之平均厚度在前述範圍內，可達成透明複合基板1之薄型化，且能在確保足夠可撓性及透光性的狀態，抑制機械特性下降。
又，係將由多數玻璃纖維構成之纖維束(玻璃紗)織成織布的情形，玻璃紗宜含有約30~300條玻璃纖維的單線較佳，含約50~250條更佳。藉此可獲得機械特性、光學特性及表面平滑性以高度兼顧之透明複合基板1。
宜對於如此的玻璃布2預先施以開纖處理較佳。利用開纖處理會使玻璃紗寬度擴大，其剖面成形為扁平狀。又，在玻璃布2形成之所謂籃孔(basket hole)會減小。其結果，玻璃布2之平滑性提高、透明複合基板1之表面平滑性也提高。開纖處理，例如：噴水(water jet)之處理、噴氣(air jet)處理、施以針刺之處理等。
又，在玻璃纖維表面視需要也可施用偶聯劑。偶聯劑，例如：矽烷系偶聯劑、鈦系偶聯劑等，但特佳為使用矽烷系偶聯劑。矽烷系偶聯劑宜使用含有環氧基、(甲基)丙烯醯基、乙烯基、異氰酸酯基、醯胺基等作為官能基者較佳。
如此之偶聯劑之含有率，相對於玻璃布100質量份為約0.01~5質量份較佳，約0.02~1質量份更佳，約0.02~0.5質量份又更佳。偶聯劑之含有率若為前述範圍內，可提高透明複合基板1之光學特性。藉此，可獲得作為例如顯示元件基板為理想的透明複合基板1。
玻璃布2其本身存在折射率之差異，但差異小，具體而言，係使用折射率之最大值與最小值之差為0.01以下者。藉由使用有如此之折射率分布之玻璃布2，可抑制伴隨折射率差之光之干涉等，能特別提高透明複合基板1之光學特性。
又，折射率分布可認為係反映玻璃纖維之微小結構(原子序列)。所以，具有如此之折射率分布之玻璃布2，據認為在基於該微小結構之特性，例如耐候性等也具備均勻性。亦即，如上述玻璃布2即使在無法避開經時劣化的環境下，光學特性仍能均勻變化。因此具備該玻璃布2之透明複合基板1，能長期維持均勻且優良的光學特性。
又，玻璃布2之折射率之最大值與最小值之差，較佳為0.008以下，更佳為0.005以下。
又，玻璃布2之折射率之最大值與最小值之差之下限值不特別限定，為0.0001以上較佳、0.0005以上更佳。若為上述範圍內，玻璃布2之生產性提高。
又，本發明使用之玻璃布2為織布的情形，當令該織布中，玻璃纖維在單位寬度之橫方向玻璃紗(第2玻璃纖維束)2b之剖面所佔的第2比例為「1」時，玻璃纖維在單位寬度之縱方向玻璃紗(第1玻璃纖維束)2a之剖面所佔的第1比例之比(相對值)為1.04以上1.40以下較佳，1.21以上1.39以下更佳，1.25以上1.35以下又更佳。藉此，可達成在透明複合基板1縱方向之線膨脹率與橫方向之線膨脹率之均等性，而且能達成透明複合基板1之透光性更提高。
又，縱方向玻璃紗2a與橫方向玻璃紗2b為同一玻璃紗的情形，亦即，第1比例與第2比例實質相等的情形，當令單位寬度之橫方向玻璃紗(第2玻璃纖維束)之條數為「1」時，單位寬度之縱方向玻璃紗(第1玻璃纖維束)之條數之比(相對值)為1.02以上1.18以下較佳，1.10以上1.18以下更佳，1.12以上1.16以下又更佳。藉此，可達成在透明複合基板1縱方向之線膨脹率與橫方向之線膨脹率之均等性，且同時可更提高透明複合基板1之透光性。
又，縱方向玻璃紗(第1玻璃纖維束)2a及橫方向玻璃紗(第2玻璃纖維束)2b之扭絞數，各為0.2~2.0/吋較佳，0.3~1.6/吋更佳。藉由使玻璃纖維束之扭絞數在該範圍，能獲得霧度小的透明複合基板1。
又，玻璃布2為織布的情形，當製造該織布時，係以使縱方向玻璃紗2a朝MD方向(流向)、橫方向玻璃紗2b朝TD方向(垂直方向)的方式設置在製造裝置。在此，當將縱方向玻璃紗2a與橫方向玻璃紗2b交織的情形，並非對於兩者施加相等的力，而是依紗線輸送的方向而改變。因此本發明中，交織時施加之力之差為了考慮對於最終獲得之透明複合基板1之光學特性造成之影響，而將該光學特性最適化，係調整對於縱方向玻璃紗2a及橫方向玻璃紗2b施加之力，以使得玻璃纖維在如上述玻璃紗2a、2b所佔比例(第1比例及第2比例)或玻璃紗之條數帶有各向異性。
另一方面，如上述玻璃布2有各向異性的情形，由於熱、濕度環境之變化等造成的尺寸變化也會產生各向異性，視無機系玻璃材料之種類、樹脂材料3之種類等，有招致玻璃布2變形等之虞。相對於此，在本實施形態中，藉由在複合層4上設置氣體阻隔層5，能抑制透明複合基板1之尺寸變化。藉此能抑制帶來透明複合基板1之尺寸變化的內部應力的集中。
其不論無機系玻璃材料種類、樹脂材料3種類等，都可抑制透明複合基板1之光學特性之下降、發生翹曲或變形等。亦即，藉由在複合層4上設置氣體阻隔層5，能解決玻璃布2為織布的情形時不可避免地會發生的問 題。
又，本說明書中，上述「單位寬度」係指在大致垂直於玻璃纖維束之縱向(長度方向)之方向的1吋寬度。
(樹脂材料)
本發明使用之樹脂材料3，係硬化後之阿貝數為45以上者，較佳為48以上者。
在此，阿貝數(νd)係代表折射率之波長依存性，亦即分散程度，可由νd=(nD-1)/(nF-nC)求得。又，nC、nD、nF，分別為Fraunhofer對於C線(波長656nm)、D線(589nm)、F線(486nm)之折射率。因此阿貝數小的樹脂材料3，折射率會由於波長大幅變化。
一般的玻璃纖維的阿貝數為50以上。所以，當與如此的玻璃纖維複合的樹脂材料的阿貝數小於45之小的情形，即使於波長589nm兩者的折射率一致，在400nm以下的波長，折射率仍會大不相同。其結果，透明複合基板於400nm以下之光線穿透率會下降。
相對於此，本發明藉由使用阿貝數為45以上之樹脂材料3，相對一般的玻璃纖維能在廣波長範圍使折射率一致。所以本發明之透明複合基板1，即使例如對400nm以下之波長之光仍有優異的光線穿透率。亦即，本發明之透明複合基板1，在廣波長範圍具有均勻且優異的光學特性。
此外，樹脂材料3之阿貝數小於45的情形，若樹脂材料3受吸濕或氧化之影響而導致阿貝數變化，則與構成玻璃纖維之玻璃之阿貝數間的乖離會更大。其結果，透明複合基板1之霧度增大。另一方面，當樹脂材料3之阿貝數為45以上之情形，即使阿貝數有變化，與玻璃之阿貝數之差異仍小。所以透明複合基板1之霧度之變化也小。尤其，當將氣體阻隔層5設置於複合層4上之情形，抑制透明複合基板1之霧度變化之效果會變得更顯著。
本發明使用之樹脂材料3，可列舉例如：環氧系樹脂、氧雜環丁烷系樹脂、異氰酸酯系樹脂、丙烯酸酯系樹脂、烯烴系樹脂、環烯烴系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、二烯丙基碳酸酯系樹脂、胺甲酸酯系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、芳香族聚醯胺系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚亞苯基(polyphenylene)系樹脂、聚碸系樹脂、聚苯醚系樹脂、倍半矽氧烷系化合物等。該等之中，樹脂材料3較佳為使用環氧樹脂或丙烯酸樹脂(尤其脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂)。
本發明使用之環氧樹脂，例如：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、或該等之氫化物、有二環戊二烯骨架之環氧樹脂、有三環氧丙基異氰尿酸酯骨架之環氧樹脂、有咔哚(Cardo)骨架之環氧樹脂、有聚矽氧烷結構之環氧樹脂、脂環族多官能環氧樹脂、有氫化聯苯骨架之脂環族環氧樹脂、有氫化雙酚A骨架之脂環族環氧樹脂等，可使用該等環氧樹脂中之1種或2種以上之混合物。
又，上述環氧樹脂，可大致區分為含環氧丙基及醚鍵之環氧丙醚型環氧樹脂、含環氧丙基及酯鍵之環氧丙酯型環氧樹脂、含環氧丙基及胺基之環氧丙胺型環氧樹脂之類的環氧丙基型環氧樹脂、以及有脂環族環氧基之脂環族環氧樹脂。該等之中，環氧樹脂尤佳為使用有脂環族環氧基之脂環族環氧樹脂。具體而言，可使用以脂環族多官能環氧樹脂、有氫化聯苯骨架之脂環族環氧樹脂、有氫化雙酚A骨架之脂環族環氧樹脂等各種脂環族環氧樹脂作為主成分之樹脂材料3。
該脂環族環氧樹脂之具體例，可列舉：3,4-環氧環己基甲基-3’、4’-環氧環己烯羧酸酯、3,4-環氧-6-甲基環己基甲基-3,4-環氧-6-甲基環己烷羧酸酯、2-(3,4-環氧)環己基-5,5-螺-(3,4-環氧)環己烷-間二氧陸圜、1,2：8,9-二環氧檸檬烯、二環戊二烯二氧化物、二環辛烯二氧化物(cyclooctene dioxide)、縮醛二環氧化物、乙烯基環己烷二氧化物、乙烯基環己烯單環氧化物1,2-環氧-4-乙烯基環己烷、雙(3,4-環氧環己基甲基)己二酸酯、雙(3,4-環氧-6-甲基環己基甲基)己二酸酯、側氧基-側氧基雙(2,3-環氧環戊基)醚、2,2-雙(4-(2,3-環氧 丙基)環己基)丙烷、2,6-雙(2,3-環氧丙氧基環己基-對二氧陸圜)、2,6-雙(2,3-環氧丙氧基)降莰烯、亞麻油酸二聚物之二環氧丙醚、檸檬烯二氧化物、2,2-雙(3,4-環氧環己基)丙烷、鄰-(2,3-環氧)環戊基苯基-2,3-環氧丙醚、1,2-雙[5-(1,2-環氧)-4,7-六氫甲烷茚氧]乙烷、環己烷二醇二環氧丙醚及二環氧丙基六氫鄰苯二甲酸酯、在ε-己內酯寡聚物之兩端各有3,4-環氧環己基甲醇與3,4-環氧環己基羧酸以酯鍵鍵結者、經環氧化之六氫苯甲醇等，該等脂環族環氧樹脂之1種或2種以上之混合物。
又，脂環族環氧樹脂，尤佳為使用分子內具有1個以上之環氧環己烷環之脂環族環氧樹脂。其中，就分子內有2個環氧環己烷環之化合物而言，尤佳為使用下列化學式(1)、(2)或(3)表示之脂環族環氧結構。
[上式(2)中，-X-表示-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CH2-、-CH(CH3)-、或-C(CH3)2-。]
另一方面，分子內有1個環氧環己烷環之脂環族環氧樹脂，尤佳為使用下列化學式(4)、(5)表示之脂環族環氧樹脂。
如此之脂環族環氧樹脂，由於在低溫之硬化性優異，可於低溫進行硬化處理。藉此，硬化時不須將樹脂材料3加熱到高溫，所以能抑制之後樹脂材料3之硬化物回到室溫時之溫度之變化量。其結果，能防止在透明複合基板1內部發生由於伴隨溫度變化之熱應力，透明複合基板1成為光學特性優異者。
又，如上述脂環族環氧樹脂由於硬化後之線膨脹係數低，所以使用含有該脂環族環氧樹脂之樹脂材料3獲得之透明複合基板1中，在玻璃布2與樹脂材料3之界面，界面應力於室溫特別小。所以，可獲得上述界面應力小的透明複合基板1，且該透明複合基板1可成為光學各向異性小者。再者，由於線膨脹係數低，故可防止透明複合基板1發生翹曲或波紋等變形。
又，該等脂環族環氧樹脂由於透明性及耐熱性優異，有助於達成透光性優異且高耐熱性之透明複合基板1。
又，樹脂材料3宜以脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂為主成分較佳。本發明中，主成分係指超過樹脂材料3之50質量%的成分，在樹脂材料3中，脂環族環氧樹脂之含有率為70質量%以上較佳，80質量%以上更佳。
又，在樹脂材料3中，宜同時使用脂環族環氧樹脂與環氧丙基型環氧 樹脂。藉由併用該等，能抑制在透明複合基板1的光學特性下降，且能輕易調整樹脂材料3之折射率。亦即，藉由適當調整脂環族環氧樹脂與環氧丙基型環氧樹脂之混合比，能使樹脂材料3之折射率為所望值。其結果，可獲得高透光性之透明複合基板1。
於該情形，環氧丙基型環氧樹脂之添加量，相對於脂環族環氧樹脂100質量份為約0.1~10質量份較佳，約1~5質量份更佳。
環氧丙基型環氧樹脂，例如：環氧丙醚型環氧樹脂、環氧丙酯型環氧樹脂、環氧丙胺型環氧樹脂等。
又，環氧丙基型環氧樹脂宜使用有咔哚(Cardo)結構之環氧丙基型環氧樹脂。亦即，藉由在脂環族環氧樹脂添加有咔哚(Cardo)結構之環氧丙基型環氧樹脂，會使硬化後之樹脂材料3中含有來自於雙芳基茀骨架之多數芳香環，故能更提高透明複合基板1之光學特性及耐熱性。
如此之有咔哚(Cardo)結構之環氧丙基型環氧樹脂，例如：ONCOAT-EX系列(長瀨產業公司製)、Ogsol(大阪氣體化學公司製)等。
又，樹脂材料3中，也宜同時使用脂環族環氧樹脂及倍半矽氧烷系化合物，尤其使用有環氧丙烷基、(甲基)丙烯醯基之類之光聚合性基之倍半矽氧烷系化合物更佳。藉由併用該等，可抑制在透明複合基板1之光學特性下降，且能輕易調整樹脂材料3之折射率。又，有環氧丙烷基之倍半矽氧烷系化合物與脂環族環氧樹脂富有相溶性，所以該等能均勻混合，其結果，能於確實調整複合層4之折射率之狀態獲得光學特性優異之透明複合基板1。
如此之具有環氧丙烷基之倍半矽氧烷系化合物，例如：OX-SQ、OX-SQ-H、OX-SQ-F(均為東亞合成(股)公司製)等。
於該情形，倍半矽氧烷系化合物之添加量，相對脂環族環氧樹脂100質量份為約1~20質量份較佳，約2~15質量份更佳。
另一方面，脂環族丙烯酸樹脂，例如：二丙烯酸三環癸酯、其氫化物、二丙烯酸二環戊酯、二丙烯酸異莰酯、氫化雙酚A二丙烯酸酯、環己烷-1,4-二甲醇二丙烯酸酯等，具體而言可使用日立化成工業公司製OPTOREZ系列、Daicel‧cytec公司製丙烯酸酯單體等。
又，本發明使用之樹脂材料3，玻璃轉移溫度為150℃以上較佳，170℃以上更佳，180℃以上又更佳。藉此，在透明複合基板1製造後，即使將其加工到顯示元件基板時施以各種加熱處理，能防止透明複合基板1發生翹曲或變形等。
又，樹脂材料3之熱變形溫度為200℃以上較佳、熱膨脹率為100ppm/K以下為較佳。
又，樹脂材料3之折射率宜儘可能接近玻璃布2之平均折射率較佳，實質上為相同之折射率為較佳。具體而言，兩者之折射率差為0.01以下較佳，0.005以下更佳。藉此可獲得高透光性之透明複合基板1。
(其他成分)
透明複合基板1在樹脂材料3中在上述以外也可含有填料等。
填料，例如：以無機系玻璃材料之纖維片或粒子等構成之玻璃填料。藉由將玻璃填料分散於樹脂材料3中，可不妨礙透明複合基板1之透光性而提高其機械的特性。
玻璃填料，具體而言可舉玻璃切股、玻璃珠、玻璃屑、玻璃粉、磨碎的玻璃等。
無機系玻璃材料可使用與前述玻璃布之構成材料為相同者。
填料之含量，相對於玻璃布100質量份為約1~90質量份較佳，約3~70質量份更佳。
又，填料之直徑為100nm以下較佳。如此之填料在界面難發生散射，故即使在樹脂材料3中分散有多量填料的情形，仍能維持透明複合基板1 之透明性為較高。
又，在樹脂材料3中也可添加前述偶聯劑。藉此，可更為緩和前述應力集中，能使透明複合基板1之光學特性更高。樹脂材料3中添加偶聯劑的情形，其添加量相對於樹脂材料100質量份為約0.01~5質量份較佳，約0.05~2質量份更佳。
(氣體阻隔層)
在複合層4上設置具備透明性及氣體阻隔性之氣體阻隔層5。藉由將該氣體阻隔層5設置於複合層4上，可防止或抑制大氣中之氧、水蒸氣等氣體到達玻璃布2。所以，能阻止該等氣體長期作用於玻璃布2而造成不利影響並能防止玻璃布2之折射率不均。所以，可獲得防止光學特性隨時間下降之透明複合基板1，亦即可獲得更長期有優異之光學特性之透明複合基板1。
又，藉由將氣體阻隔層5設置於複合層4上，可抑制由於吸濕所致之玻璃布2之尺寸變化本身。所以即使在嚴苛環境下也能維持玻璃布2之光學特性均勻性，且針對在前述玻璃布之尺寸變化產生各向異性的方面也能更確實防止。
氣體阻隔層5之構成材料不特別限定，可為無機材料及有機材料任一者，但無機材料較佳。該無機材料例如選自於由Si、Al、Ca、Na、B、Ti、Pb、Nb、Mg、P、Ba、Ge、Li、K、Zr等構成之群組中之至少1種之氧化物或2種以上之混合物之氧化物、氟化物、氮化物或氧氮化物等。
上述無機材料含有該等之中之多種氧化物較佳，尤其以含多種氧化物之玻璃材料構成更佳。藉此，由非晶質且緻密的玻璃材料構成的層能提高氣體阻隔層5之氣體阻隔性。
在此無機材料所含之氧化物中，宜使用氧化矽、氧化鋁、氧化鎂及氧 化硼，但其中為矽化合物的氧化矽特佳。無機材料藉由含氧化矽，可達成氣體阻隔層5之氣體阻隔性之顯著提高。又，氧化矽從高透明性的觀點亦為較佳。又，氧化矽在以後述SiOxNy表示之矽化合物中，x為1≦x≦2、且y為0。
又，就矽化合物而言，同時含有氧化矽及氮化矽(以下將含有兩者的稱為「氧氮化矽」)尤佳。藉由含有含氧原子及氮原子的矽化合物即氧氮化矽，會使氣體阻隔層5之氣體阻隔性及表面硬度成為優異。亦即，該氣體阻隔層5可兼顧對複合層4之氣體阻隔性及保護性。又，氧氮化矽，從高透明性之觀點亦為較佳。
氧氮化矽係以SiOxNy表示之矽化合物，x及y滿足1≦x≦2及y滿足0<y≦1之關係較佳，滿足1.2≦x≦1.8及0.2≦y≦0.8之關係更佳。以如此之氧氮化矽構成之氣體阻隔層5，能高度兼顧氣體阻隔性及保護性，且藉由使其折射率對複合層4最適化，也有助於提高透明複合基板1之透光性。
又，x若低於前述下限值，氣體阻隔層5之透光性及可撓性下降，尤其x為「0」的情形(亦即，矽化合物為氮化矽的情形)，取決於氣體阻隔層5之平均厚度等，有時氣體阻隔層5之氣體阻隔性有下降之虞。另一方面，若x高於前述上限值，取決於y之值等，氣體阻隔層5之表面保護性有下降之虞。又，y若高於前述上限值，氣體阻隔層5之表面保護性有下降之虞。
該以SiOxNy表示之矽化合物中，x及y滿足y>0且0.3<x/(x+y)≦1之關係較佳，滿足y>0且0.35<x/(x+y)≦0.95之關係更佳，滿足y>0且0.4<x/(x+y)≦0.9之關係又更佳。
以如此的矽化合物構成之氣體阻隔層5，能兼顧氣體阻隔性與表面保護性。所以能抑制複合層4的吸濕或氧化，並長期維持透明複合基板1之光學特性為均勻，且同時能確實保護透明複合基板1的表面免於受傷等。其結果，可獲得達成耐磨損性提高，可耐受於嚴苛環境下使用之透明複合基 板1。
又，藉由設置以如此之矽化合物構成之氣體阻隔層5，能使氣體阻隔層5對複合層4之線膨脹係數最適化。所以能對於氣體阻隔層5賦予氣體阻隔性，且同時抑制透明複合基板1之翹曲或變形等。其結果，能使透明複合基板1之光學特性更均勻。再者，氣體阻隔層5之折射率接近複合層4的折射率，故可達成透明複合基板1之透光性提高。
此外，由上述矽化合物構成之氣體阻隔層5，也具有抑制如前述複合層4之吸濕或氧化並抑制樹脂材料3之阿貝數變化之機能。所以即使透明複合基板1在嚴酷的環境下使用仍能維持樹脂材料3為高阿貝數。是以，能獲得即使在嚴酷環境下使用，仍能在廣波長範圍顯示均勻且優異之光學特性之透明複合基板1。
又，若x/(x+y)之值低於前述下限值，氧原子相對於氮原子之存在比顯著下降，所以有隨著氣體阻隔層5之透光性下降，可撓性也下降之虞。再者，氣體阻隔層5與樹脂材料3之間的阿貝數差變得過大，有顯示均勻且優異之光學特性之波長範圍變窄之虞。
在此，當令如此之無機材料之熔點為Tm[℃]、樹脂材料3含有之主成分之5%重量減少溫度為Td[℃]時，Tm及Td滿足1200<(Tm-Td)<1400之關係較佳，滿足1250<(Tm-Td)<1400之關係更佳，滿足1300<(Tm-Td)<1400之關係又更佳。
如此之透明複合基板1，藉由矽化合物與樹脂材料3之間之特性最適化，會成為富有氣體阻隔性者，且有表面保護性。所以透明複合基板1之吸濕或氧化、翹曲或變形等受抑制，能將透明複合基板1之光學特性長期維持為均勻，且能確實防止對表面造成損傷等。
又，藉由使Tm及Td滿足前述關係而發揮如上述效果之理由雖未明 瞭，但據推測熔點或5%重量減少溫度等物性係總括地反映各物質之複雜微小結構之指標，透明複合基板1可能產生的各種問題與該微小結構係密切相關之點為其中一個理由。
又，5%重量減少溫度Td[℃]，例如可利用熱重量分析(TGA)，測定伴隨在大氣中加熱發生5%重量減少時之溫度。另一方面，當矽化合物不存在熔點而熱分解掉的情形，其熱分解之開始溫度可定為上述Tm[℃]。
氣體阻隔層5之平均厚度不特別限定，為約10~500nm較佳。若在該範圍內，可獲得具有足夠氣體阻隔性及保護性且可撓性亦為優異之氣體阻隔層5。
又，氣體阻隔層5，依JIS K 7129 B規定之方法測得之水蒸氣穿透度為0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下較佳。若水蒸氣穿透度為前述範圍內，會抑制由於吸濕造成玻璃布2或樹脂材料3之變質、劣化，且能抑制伴隨於此之折射率變化，能獲得長期具有優異之光學特性之透明複合基板1。
又，氣體阻隔層5依JIS K 7126 B規定之方法測得之透氧度為0.1[cm3/m2/day/1atm/23℃]以下較佳。若透氧度為前述範圍內，會抑制由於氧化造成樹脂材料3之變質、劣化，且抑制伴隨此之折射率變化，能獲得長期有優異之光學特性之透明複合基板1。
又，複合層4與氣體阻隔層5之間，視需要也可插入中間層。中間層可列舉後述機能層等，尤佳為使用以環氧樹脂、丙烯酸樹脂等樹脂材料構成之層。藉由插入如此之中間層，能提高透明複合基板1之表面之平坦性及平滑性，可提高其光學特性。與此同時，可提高複合層4與氣體阻隔層5之密合性，確實防止氣體阻隔層5從複合層4剝離。其結果，透明複合基板1之耐久性提高，可獲得能長期維持均勻及優異光學特性之透明複合基板1。
構成中間層之樹脂材料，可使用與複合層4含有之樹脂材料3為同樣者，較佳為使用與樹脂材料3為相同組成者。藉此，中間層難剝離，能更提高複合層4與氣體阻隔層5之密合性。
又，氣體阻隔層(表面層)5，只要至少有透明性及氣體阻隔性即可，也可有其他機能。
(透明複合基板之特性)
如以上之透明複合基板1在波長400nm之全光線穿透率為70%以上較佳，更佳為75%以上，又更佳為78%以上。若於波長400nm之全光線穿透率低於下限值，使用透明複合基板1之顯示元件之顯示性能有不足之虞。
又，透明複合基板1之平均厚度不特別限定，為約40~200μm較佳，約50~100μm更佳。
又，透明複合基板1在30℃~150℃之平均線膨脹係數較佳為40ppm/℃以下，更佳為20ppm/℃以下，又更佳為15ppm/℃以下，尤佳為10ppm/℃以下。如此之平均線膨脹係數之透明複合基板1，伴隨溫度變化之尺寸變化充分小，故可抑制伴隨尺寸變化之光學特性下降。在此，伴隨尺寸變化之光學特性下降，例如玻璃布2與樹脂材料3之剝離等導致霧度上升。
因此透明複合基板1成為能在廣溫度範圍長時間維持均勻且優異之光學特性者。再者，如此之平均線膨脹係數之透明複合基板1當使用在例如主動矩陣顯示元件用基板時，不易發生翹曲或配線斷線此類的各種問題。
又，透明複合基板1之依JIS K 7129 B規定的水蒸氣穿透度為0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下較佳。水蒸氣穿透度若為前述範圍內，可壓抑穿透透明複合基板1之內部的水蒸氣量，並抑制玻璃布2或樹脂材料3吸濕。藉此，能抑制樹脂材料3之變質、劣化，尤能抑制樹脂材料3之阿貝數之變化。其結果，樹脂材料3能維持高阿貝數，能獲得即使於苛酷的環境下使用也能在廣波長範圍顯示均勻且優異之光學特性的透明複合基板1。
又，如前述，玻璃布2之折射率之最大值與最小值間的差異為0.01以下之小，微小結構均勻。所以由於吸濕導致之玻璃布2(複合層4)之折射率變動亦為均勻，透明複合基板1能長期維持均勻且優異的光學特性。
又，水蒸氣穿透度若為前述範圍內，伴隨吸濕之透明複合基板1之線膨脹係數變動也會受抑制。所以能確實抑制伴隨尺寸變化之透明複合基板1之光學特性下降。再者，若水蒸氣穿透度為前述範圍內，當透明複合基板1作為顯示元件基板使用的情形，可抑制由於吸濕所致之顯示元件劣化，且能長期維持顯示元件之高可靠性。
又，本發明之透明複合基板依JIS K 7126 B規定之方法測得之透氧度為0.1[cm3/m2/day/1atm/23℃]以下較佳。透氧度若為前述範圍內，當使用透明複合基板1作為顯示元件基板的情形，可抑制氧化造成之顯示元件劣化，且能長期維持顯示元件之高可靠性。
由以上，依照本發明可獲得即使在苛酷的環境下使用仍能於廣波長範圍顯示均勻且優異之光學特性之透明複合基板1。
<顯示元件基板>
透明複合基板1可應用於例如：液晶顯示元件用基板、有機EL元件用基板、彩色濾光片用基板、TFT用基板、電子紙用基板、觸控面板用基板之類的各種顯示元件基板(本發明之顯示元件基板)，此外也可應用在太陽能電池用基板等。
本發明之顯示元件基板具備透明複合基板1，且視需要具有在透明複合基板1之表面成膜之機能層。
該機能層，例如：以氧化銦、氧化錫、錫-銦合金之氧化物等構成之透明導電層、以金、銀、鈀或該等之合金等構成之金屬導電層、以環氧樹脂、丙烯酸樹脂等構成之平滑層、以橡膠狀或凝膠狀矽酮硬化物、聚胺甲酸酯、環氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、氯乙烯樹脂、聚醯 胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚縮醛樹脂、聚醚碸、聚碸等構成之衝擊緩衝層等。
其中，平滑層宜具有耐熱性、透明性、耐藥品性較佳，其構成材料宜使用例如與複合層4中含有之樹脂材料3為相同組成者較佳。平滑層之平均厚度為約0.1~30μm較佳，約0.5~30μm更佳。
又，層構成可列舉：在透明複合基板1之至少一側設置平滑層，再於其上設置衝擊緩衝層之構成、或在透明複合基板1之至少單側設置衝擊緩衝層，再於其上設置平滑層之構成等。
又，本發明之顯示元件基板比起原本的玻璃基板，由落球試驗測得之耐衝擊性較優異，但藉由設置如上述衝擊緩衝層，耐衝擊性更為提高。
以上，依照本發明可獲得能達成高品質且高可靠性之顯示元件的顯示元件基板。
<透明複合基板之製造方法>
透明複合基板1，係如前述，使未硬化之樹脂材料3含浸於玻璃布2，以此狀態成形為板狀(整形)後，使樹脂材料3硬化而成。
具體而言，透明複合基板1係經過以下步驟製造：使樹脂清漆含浸於玻璃布後，逐漸成形(整形)並使樹脂清漆硬化，獲得複合層4；及以被覆複合層4之表面之方式在複合層4上將氣體阻隔層5成膜。以下針對製造步驟詳述。
[1]首先對於玻璃布2施用偶聯劑而進行表面處理。偶聯劑之施用，係藉由例如將玻璃布2浸漬在含偶聯劑之液體中之方法、將前述液體塗佈於玻璃布2之方法、將前述液體噴霧到玻璃布2之方法等進行。又，該步驟視需要進行即可，也可省略。
[2]其次，製備樹脂清漆。樹脂清漆含有上述未硬化之樹脂材料3、填料等其他成分、有機溶劑等，此外，視需要含有硬化劑、抗氧化劑、難燃 劑、紫外線吸收劑等。
(硬化劑)
該硬化劑可列舉酸酐、脂肪族胺等交聯劑、陽離子系硬化劑、陰離子系硬化劑等，可使用該等硬化劑之1種或2種以上之混合物。
該等之中，硬化劑尤佳為使用陽離子系硬化劑。利用陽離子系硬化劑，能於較低溫使樹脂材料硬化。所以硬化時無須將樹脂清漆加熱至高溫，可抑制當樹脂材料3之硬化物回到常溫(室溫)時，伴隨溫度變化產生熱應力。其結果，可獲得光學各向異性低之透明複合基板1。
又，藉由使用陽離子系硬化劑，可獲得高耐熱性(例如玻璃轉移溫度)之透明複合基板1。此據認為係藉由使用陽離子系硬化劑，使樹脂材料3(例如環氧樹脂)之硬化物之交聯密度提高的原故。
作為前述陽離子系硬化劑，可列舉由於加熱而釋出使陽離子聚合開始之物質者，例如鎓鹽系陽離子硬化劑、或鋁螯合物系陽離子硬化劑，或由於活性能量射線而釋出使陽離子聚合開始之物質者，例如鎓鹽系陽離子系硬化劑等。該等之中，陽離子系硬化劑為光陽離子系硬化劑較佳。藉此，能僅選擇光之照射區域，而輕易選擇是否使樹脂材料3硬化。
光陽離子系硬化劑只要是能使多官能陽離子聚合性化合物及單官能陽離子聚合性化合物利用光陽離子聚合反應者即可，例如：路易士酸之重氮鹽、路易士酸之錪鹽、路易士酸之鋶鹽等鎓鹽。光陽離子系硬化劑之具體例，可列舉四氟化硼之苯基重氮鹽、六氟化磷之二苯基錪鹽、六氟化銻之二苯基錪鹽、六氟化砷之三-4-甲基苯基鋶鹽、四氟化銻之三-4-甲基苯基鋶鹽等。
又，取決於樹脂材料3(樹脂單體)之種類，也可使用如Irgacure系列(Ciba Japan(股)公司製)之光自由基硬化劑。
另一方面，熱陽離子系硬化劑，例如芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、銨鹽、鋁螯合劑、三氟化硼胺錯合物等。
如此之陽離子系硬化劑之含量不特別限定，相對於樹脂材料3(例如脂環族環氧樹脂)100質量份為約0.1~5質量份較佳，尤佳為0.5~3重量份。含量若低於前述下限值，樹脂材料3之硬化性有時會下降，若超過前述上限值，有時透明複合基板1會變脆。
使光硬化的情形，為了促進樹脂材料3之硬化反應，視需要可併用增感劑、酸增殖劑等。
(抗氧化劑)
抗氧化劑，例如：苯酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑等，尤佳為使用受阻酚系抗氧化劑。
受阻酚系抗氧化劑，例如：BHT、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)等。
樹脂清漆中之抗氧化劑之含量為0.01質量%以上5質量%以下較佳，約0.1質量%以上3質量%以下更佳。藉由使抗氧化劑之含量為前述範圍內，可獲得光學各向異性低之透明複合基板1，且可獲得在可靠性試驗之光學各向異性之惡化程度小的透明複合基板1。
又，抗氧化劑之重量平均分子量為200~2000較佳，500~1500更佳，1000~1400又更佳。若抗氧化劑之重量平均分子量為上述範圍內，抗氧化劑之揮發受抑制，而且可確保對樹脂材料3(例如脂環族環氧樹脂)之相溶性。如此之抗氧化劑，即使經過如濕熱處理之可靠性試驗，也會保留在透明複合基板1中，能達成可抑制光學各向異性惡化之透明複合基板1。
又，受阻酚系抗氧化劑以外之苯酚系抗氧化劑，例如：將位於夾持羥基的位置的取代基其中之一取代為甲基等之半受阻型酚系抗氧化劑、或將夾持羥基的2個取代基兩者取代為甲基等之較少受阻型酚系抗氧化劑。該等 能以比受阻酚系抗氧化劑更少的添加量添加在樹脂清漆中。
磷系抗氧化劑，例如：亞磷酸十三酯、亞磷酸二苯基癸酯等。
又，藉由併用受阻酚系抗氧化劑與磷系抗氧化劑，可發揮該等的相乘效果。藉此，樹脂材料3(例如脂環族環氧樹脂)之抗氧化、及透明複合基板1之光學各向異性之惡化之抑制更顯著。此據認為係由於受阻酚系抗氧化劑與磷系抗氧化劑在樹脂材料3之抗氧化機制不同，兩者獨立作用而進一步發生相乘效果的原故。
如此之受阻酚系抗氧化劑以外之抗氧化劑(尤其磷系抗氧化劑)之添加量，相對於受阻酚系抗氧化劑100質量份較佳為約30~300質量份，更佳為約50~200質量份。藉此，受阻酚系抗氧化劑與其他抗氧化劑能不會埋沒(抵消)彼此的效果，可帶來相乘效果。
又，樹脂清漆在不損及其特性之範圍，視需要也可含有熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂之寡聚物或單體等。又，使用該等寡聚物或單體的情形。係適當設定樹脂清漆之各成分之組成比，使得硬化後之樹脂組成物3之折射率大致等於玻璃布2之折射率。
樹脂清漆可將如以上成分混合而得。
[3]之後，使獲得之樹脂清漆含浸於玻璃布2。將樹脂清漆含浸於玻璃布2時，例如可使用在樹脂清漆中浸漬玻璃布2之方法、在玻璃布2塗佈樹脂清漆之方法等。又，也可使樹脂清漆含浸於玻璃布2後，使樹脂清漆為未硬化狀態或使樹脂清漆硬化後，於其上再塗佈樹脂清漆。
之後視需要對於樹脂清漆施行脫泡處理。再視需要使樹脂清漆乾燥。
[4]其次，將使樹脂清漆含浸而得的玻璃布2成形為板狀的狀態加熱。藉此使樹脂材料3硬化，獲得複合層4。
加熱條件較佳為加熱溫度為約50~300℃，加熱時間約0.5~10小時，更佳為加熱溫度為約170~270℃，加熱時間為約1~5小時。
又，加熱溫度也可在中途改變。例如：開始(起初)將樹脂清漆於約50~100℃加熱0.5~3小時，之後於約200~300℃加熱約0.5~3小時亦可。
又，樹脂清漆之成形可使用例如聚酯膜、聚醯亞胺膜等。並且，藉由以夾持含浸有樹脂清漆之玻璃布2的方式，從兩側將膜抵接，能使樹脂清漆之表面平滑化、平坦化。
又，樹脂清漆有光硬化性的情形，藉由照射波長約200~400nm之紫外線等使樹脂材料3(樹脂清漆)硬化。
施加的光能量(累積光量)為5mJ/cm2以上3000mJ/cm2以下較佳，10mJ/cm2以上200mJ/cm2以下更佳。若累積光量為前述範圍內，能無斑點地均勻且確實地使用樹脂材料3硬化。
[5]之後在複合層4之兩面將氣體阻隔層5成膜。
氣體阻隔層5之成膜，可使用例如：溶膠‧凝膠法之類的各種液相成膜法、真空蒸鍍法、離子佈植法、濺鍍法、CVD法之類的各種氣相成膜法等。其中，使用氣相成膜法較佳，濺鍍法或CVD法更佳。
又，例如將含氧氮化矽之氣體阻隔層5成膜時，可採用以矽之氧化物與矽之氮化物作為原材料之RF濺鍍法、或使用含矽之靶材，在製程中導入氧氣或氮氣等反應性氣體之DC濺鍍法等。
以上述方式可獲得透明複合基板1。
以上針對本發明說明，但本發明不限於該等，例如對於透明複合基板及顯示元件基板也可附加任意之構成物。
又，前述實施形態中，玻璃布2係以將多條縱方向玻璃紗2a與多條橫方向玻璃紗2b交織而成之織布構成，但是也可為1條縱方向玻璃紗2a與多條橫方向玻璃紗2b交織而成之織布、多條縱方向玻璃紗2a與1條橫方向玻璃紗2b交織而成之織布、1條縱方向玻璃紗2a與1條橫方向玻璃紗 2b交織而成之織布。
又，如前述，作為玻璃布帛列舉了將玻璃纖維單純捆紮成束者，此外，列舉含有玻璃纖維之織布或不織布等布帛，但本發明中，如前述實施形態之玻璃布2特別適合。其原因在於：玻璃布2的折射率之均勻性高，且樹脂材料3容易均勻地含浸於玻璃布2中，而且使樹脂材料3硬化之後，其硬化物容易侵入玻璃纖維之織孔內所致的固定效果，使得能獲得樹脂材料3與玻璃布2之牢固的接合狀態。
又，前述實施形態中，氣體阻隔層(表面層)5係設置於複合層4的兩面，但本發明中，也可僅在複合層4的其中任一面設置氣體阻隔層(表面層)5，也可省略。
再者，表面層不限於單層構成(單獨為氣體阻隔層5)，也可由包括氣體阻隔層5在內的多數層的疊層體構成。該構成之表面層，可列舉疊層體，該疊層體具備：氣體阻隔層5、及設置於與該氣體阻隔層5之複合層4為相反側之面之有機材料或無機材料構成之最外層等。於該情形，最外層具有例如：抗光反射機能、防污垢附著機能等較佳。
【實施例】
以下針對本發明之具體實施例說明。
1.透明複合基板之製造
(實施例1A)
(1)玻璃布之準備
首先準備100mm四方之NE玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)作為玻璃布。將其浸漬於苯甲醇(折射率1.54)後，在該苯甲醇中逐次添加少量乙醯氧基乙氧基乙烷(折射率1.406)。並每次在改變苯甲醇之折射率時，將玻璃布罩蓋於螢光燈，並確認玻璃布是否成為實質透明。又，測定玻璃布出現實質透明的部分時之混合液之折射率。
並且將開始出現實質透明之部分時之混合液之折射率與最後出現成為實質透明之部分時之混合液之折射率的差，當作玻璃布之折射率差。又，將成為透明部分之面積最大時之混合液之折射率作為平均折射率。結果如表1所示。
又，該玻璃布在每1吋寬的MD方向(縱方向)玻璃紗之條數為58條，每1吋寬的TD方向(橫方向)玻璃紗之條數為50條。亦即，當令每1吋寬之TD方向玻璃紗之條數為「1」時，每1吋寬之MD方向玻璃紗之條數之比(相對值)為1.16。
又，該玻璃布當令玻璃纖維在每1吋寬之TD方向玻璃紗之剖面所佔之比例為「1」時，玻璃纖維在每1吋寬之MD方向玻璃紗之剖面所佔比例之比(相對值)為1.35。
又，玻璃布之玻璃纖維束之扭絞數，在MD方向每1吋長度為1.0、TD方向每1吋長度為1.0。
(2)樹脂清漆之製備
其次，將作為樹脂單體之具有上列化學式(2)之結構且式中之「-X-」為「「-C(CH3)2-」之脂環族環氧樹脂(Daicel化學工業(股)公司製、E-DOA、Tg：>250℃)及倍半矽氧烷系氧雜環丁烷(東亞合成(股)公司製、OX-SQ-H)、以及作為硬化劑之光陽離子聚合起始劑((股)公司ADEKA製、SP-170)、及作為溶劑之甲基異丁基酮以表1所示比例混合，製備成樹脂清漆。又，E-DOA交聯後之折射率為1.513，OX-SQ-H交聯後之折射率為1.47。
又，針對基質樹脂之阿貝數如以下方式測定。
首先在經脫模處理之玻璃板塗佈樹脂清漆而形成液膜後，將同樣經脫模處理之玻璃板承載於該液膜上，將液膜以2片玻璃板夾入。又，此時，在玻璃板之間在四邊配置厚度200μm之間隔件。然後，對該液膜以高壓水銀燈照射1100mJ/cm2之紫外線後，於250℃加熱2小時，獲得厚度200μm之樹脂膜(基質樹脂)。之後使用阿貝折射計(Atago公司(股)製DR-A1)，測定 該樹脂膜於之阿貝數。其結果如表1所示。
(3)樹脂清漆之含浸‧硬化
其次使獲得之樹脂清漆含浸於玻璃布，之後施以脫泡處理再將樹脂清漆乾燥。
然後，將如上述使樹脂清漆含浸而得之玻璃布夾入已施行脫模處理之2片玻璃板，以高壓水銀燈照射1100mJ/cm2之紫外線。再於250℃加熱2小時，獲得平均厚度97μm(玻璃布含量57質量%)之複合層。
(4)平滑層(中間層)之成膜
將具有上述化學式(2)之結構且式中之「-X-」為「-C(CH3)2-」之脂環族環氧樹脂(Daicel化學工業(股)公司製、E-DOA、Tg：>250℃)100質量份、與光陽離子聚合起始劑(ADEKA(股)公司製、SP-170)1質量份混合，製成被覆材料。其次，以桿塗機塗佈在複合層之兩面後，以高壓水銀燈照射1100mJ/cm2之紫外線。再者，於250℃加熱2小時，形成平均厚度5μm之平滑層。
(5)氣體阻隔層(表面層)之成膜
其次，將已形成平滑層的複合層載置於RF濺鍍裝置之腔室內。然後，將腔室內減壓後，將Ar氣體以分壓0.5Pa、O2氣體以分壓0.005Pa導入。然後，對於載置於腔室內之Si3N4靶材與複合層之間施加0.3kW之RF電力使放電。
然後，於放電穩定的時點，打開設於靶材與複合層之間的遮板，開始進行以SiOxNy構成之氣體阻隔層之成膜。之後於氣體阻隔層之平均厚度成為100nm之時點關閉遮板，使成膜結束。之後將腔室開放於大氣，獲得所製造之透明複合基板。
(實施例2A~12A及比較例1A~4A))
改變製造條件如表1及2所示，除此以外各與實施例1A同樣進行，獲 得透明複合基板。
又，實施例2A、3A、4A、8A、12A及比較例2A、4A中，作為樹脂單體使用之氫化聯苯型脂環族環氧樹脂(Daicel化學工業(股)公司製、E-BP、Tg：>250℃)，具有上列化學式(1)之結構。又，E-BP交聯後之折射率為1.522。
又，實施例3A、8A及比較例2A中，玻璃布使用T玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，實施例5A中，玻璃布使用S玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，比較例3A、4A中，玻璃布使用E玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)。
又，針對使用之玻璃布之平均折射率、折射率差、令玻璃纖維在每1吋寬的TD方向玻璃紗的剖面所佔比例為「1」時玻璃纖維在每1吋寬的MD方向玻璃紗的剖面所佔比例之比(相對值)，如表1及2所示。
又，實施例5A中作為樹脂單體使用之脂環族丙烯酸樹脂(Daicel‧cytec(股)公司製、IRR-214K)，具有下列化學式(6)之結構。又，IRR-214K交聯後之折射率為1.529。
實施例5A中，使樹脂清漆硬化時，係對於使樹脂清漆含浸而得之玻璃布照射波長365nm之紫外線。又，聚合起始劑使用光自由基聚合起始劑(Ciba Japan(股)公司製、Irgacure184)。
又，比較例3A、4A中，樹脂單體係使用脂環族環氧樹脂與雙酚A型環氧樹脂(三菱化學(股)公司製、EPIKOTE 828)之混合物。
又，實施例3A、7A及比較例1A、2A、3A、4A中，硬化劑係使用熱陽離子聚合起始劑(三新化學製、SI-100L)。且將使樹脂清漆含浸之玻璃布夾入已施以脫模處理之2片玻璃板之間，於80℃加熱2小時後，於250℃再加熱2小時以獲得複合層。
(實施例1B~12B、比較例1B~5B)
將實施例1B中之複合層之玻璃布之含量定為60質量%，除此以外與實施例1A同樣進行，獲得透明複合基板。又，將實施例2B~12B及比較例1B~5B中之製造條件改變為如表3及4所示，除此以外各與實施例1B同樣進行，獲得透明複合基板。
又，令樹脂材料含有之主成分即脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂之5%重量減少溫度為Td[℃]、構成氣體阻隔層之無機材料之熔點為Tm[℃]時，計算Tm-Td，如表3及4所示。
又，實施例3B、8B及比較例2B中，玻璃布使用T玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，實施例5B中，玻璃布使用S玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，比較例4B、5B中，玻璃布使用E玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)。
又，針對使用之玻璃布之平均折射率、折射率差、令玻璃纖維在每1吋寬的TD方向玻璃紗的剖面所佔之比例為「1」時玻璃纖維在每1吋寬的MD方向玻璃紗的剖面所佔之比例之比(相對值)，如表3及4所示。
又，實施例5B、比較例4B、5B中，使樹脂清漆硬化時，係對使樹脂清漆含浸而得之玻璃布照射波長365nm之紫外線。
又，實施例2B之氣體阻隔層之平均厚度為50nm、實施例8B之氣體阻隔層之平均厚度為250nm。
(實施例1C~11C、比較例1C~3C、5C、6C)
實施例1C中，複合層之玻璃布之含量定為65質量%，除此以外與實施例1A同樣進行，獲得透明複合基板。又，實施例2C~11C及比較例1C~3C、5C、6C中，將製造條件改變為如表5及6所示，除此以外各與實施例1C同樣進行，獲得透明複合基板。
又，令樹脂材料含有之主成分即脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂之5%重量減少溫度為Td[℃]、構成氣體阻隔層之無機材料之熔點為Tm[℃]時，計算Tm-Td，如表5及6所示。
又，實施例3C及比較例2C中，玻璃布使用T玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，實施例5C中，玻璃布使用S玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)，比較例5C、6C中，使用E玻璃系玻璃布(平均厚度95μm、平均線徑9μm)。
又，針對使用之玻璃布之平均折射率、折射率差、令玻璃纖維在每1吋寬的TD方向玻璃紗的剖面所佔之比例為「1」時玻璃纖維在每1吋寬的MD方向玻璃紗的剖面所佔之比例之比(相對值)，如表5及6所示。
又，實施例5C、比較例5C、6C中，使樹脂清漆硬化時，係對使樹脂清漆含浸而得之玻璃布照射波長365nm之紫外線。
又，實施例2C之氣體阻隔層之平均厚度為50nm、實施例5C之氣體阻隔層之平均厚度為250nm。
(比較例4C)
比較例4C中，不使用玻璃布，除此以外與實施例1C使用同樣的材料，製作樹脂膜。又，製造方法，係將製備的樹脂清漆塗佈在經脫模處理之玻璃板，形成該樹脂組成物之液膜後，將同樣經脫模處理之玻璃板乘載於該液膜上，以玻璃板夾入液膜。又，此時，於玻璃板之間在四邊配置厚度100μm之間隔件。然後對於該液膜以高壓水銀燈照射1100mJ/cm2之紫外線後，於 250℃加熱2小時，獲得平均厚度105μm之樹脂膜。
2.透明複合基板之評價
2.1由於濕度所致尺寸變化之評價
從各實施例及各比較例獲得之透明複合基板切出100mm×100mm之樣本，以非接觸圖像測定機(MITUTOYO(股)公司製、S-QVH606)於25℃/50%RH之環境下測定樣本四邊的尺寸。其次，以25℃/90%RH/24小時之條件處理樣本後，同樣測定四邊的尺寸，並測定樣本伴隨吸濕處理之尺寸變化。又，尺寸變化之測定，係仿效玻璃布的織法組織，各針對MD方向與TD方向實施。以上之測定結果如表1~6所示。
2.2霧度之評價
針對各實施例及各比較例獲得之透明複合基板，切出100mm×100mm的樣本，選擇樣本中均勻分散的9點，針對各點各以濁度計(日本電色工業製、NDH2000)於25℃/50%RH之環境下、依JIS K 7136之條件測定霧度。測定之霧度之平均值如表1~表6所示。
2.3霧度變化量之評價
其次，以25℃/90%RH/24小時之條件處理樣本後，以2.2記載之方法測定與2.2記載之測定點為相同部分之霧度，求取與2.2測得之霧度之差。
2.4氣體阻隔性之評價
針對各實施例及各比較例獲得之透明複合基板，測定依JIS K 7129 B規定之水蒸氣穿透度及依JIS K 7126 B規定之透氧度。又，測定條件如表1~6所示。
2.5耐磨損性之評價
針對各實施例及各比較例獲得之透明複合基板，依據JIS K 5600-5-4規定的塗膜的機械性質的試驗方法(劃痕硬度(鉛筆法))評價耐磨損性。又，耐磨損性之評價，係將所測得之強度依以下評價基準評價。
<耐磨損性之評價基準>
A：劃痕硬度比2H硬
B：劃痕硬度為F或H
C：劃痕硬度比B軟
以上之評價結果如表1~6所示。
2.6線膨脹係數(CTE)之測定
從各實施例1C~11C及各比較例1C~3C、5C、6C獲得之透明複合基板、及比較例4C獲得之樹脂膜，各切出樣本，將該樣本安置於熱應力應變測定裝置(精工電子(股)公司製、TMA/SS120C型)。其次於氮氣氛圍下以無負荷狀態以5℃/分之升溫速度將氣體氛圍溫度從30℃升溫到150℃後，先冷卻至0℃。然後，對於樣本施加5g負荷，邊拉伸樣本邊使氣體氛圍溫度以5℃/分之升溫速度從30℃升高到150℃，測定平均線膨脹係數。又，在此測定樣本之MD方向之線膨脹係數。
測定結果如表5及6所示。
從表1及2可知，各實施例獲得之透明複合基板的霧度小，且即使實施吸濕處理，霧度變化量仍小。因此可知：各實施例獲得之透明複合基板，光學特性優異且即使在嚴酷環境下仍能長期維持優異的光学特性。又，實施例獲得的透明複合基板的多數，水蒸氣穿透度及線膨脹係數小。可認為藉由將構成氣體阻隔層之矽化合物中之氧原子及氮原子之存在比最適化，能提高透明複合基板之耐磨損性。
另一方，各比較例獲得之透明複合基板包括霧度大者。且可知：各比較例獲得之透明複合基板，即使於剛製造時的霧度較小，藉由實施如吸濕處理之加速試驗，會急速惡化。各比較例獲得之透明複合基板中，包括玻璃布的折射率差、水蒸氣穿透度或線膨脹係數大者，據推測該等與霧度的惡化相關。
從表3及4可知，各實施例獲得之透明複合基板的霧度小，且即使實施吸濕處理，霧度變化量仍小。因此可知：各實施例獲得之透明複合基板，由於編織方向造成之尺寸變化之差(各向異性)小。又，可認為：藉由使Tm-Td之值為既定範圍，同時使構成氣體阻隔層之矽化合物中之氧原子及氮原子 之存在比最適化，能提高透明複合基板之耐磨損性。因此可知：各實施例獲得之透明複合基板的光學特性優異，且即使在嚴酷環境下仍長期能維持優良的光學特性。
另一方面，各比較例獲得之透明複合基板包括霧度大者。又，可知：伴隨吸濕處理之霧度會大幅變化。再者，可知各比較例獲得之透明複合基板，即使剛製造時的霧度較小，藉由實施如吸濕處理之加速試驗，會急速惡化。各比較例獲得之透明複合基板中，包括Tm-Td之值落於既定範圍外者、或玻璃布之折射率差、水蒸氣穿透度或線膨脹係數為大者，據推測該等與霧度之惡化相關。又，據認為當氣體阻隔層係使用矽化合物以外者時，耐磨損性下降。
從表5及6可知，各實施例獲得之透明複合基板的霧度小，且即使實施吸濕處理，霧度變化量仍小。因此可知：各實施例獲得之透明複合基板，由於編織方向造成之CHE差(尺寸變化之各向異性)小。又，各實施例獲得之透明複合基板，水蒸氣穿透度及線膨脹係數也小。因此可認為各實施例獲得之透明複合基板，耐候性優異、環境變化對於光學特性造成的影響能壓抑在最小限度。如此，可知：本發明之透明複合基板的光學特性優異，且即使在嚴酷的環境下仍能長期維持優異的光學特性。又，可認為：藉由將構成氣體阻隔層之矽化合物中之氧原子及氮原子之存在比最適化，即使磨損試驗後仍能抑制光學特性顯著下降。
另一方面，各比較例獲得之透明複合基板包括霧度大者。又，可知：伴隨吸濕處理之霧度會大幅變化。再者，可知各比較例獲得之透明複合基板，即使剛製造時的霧度較小，藉由實施如吸濕處理之加速試驗，會急速惡化。各比較例獲得之透明複合基板中，包括玻璃布之折射率差、水蒸氣穿透度或線膨脹係數為大者，據推測該等與霧度、霧度差之惡化相關。又，據認為當氣體阻隔層係使用矽化合物以外者時，伴隨磨損試驗的光學特性稍惡化。
由以上可知：依照本發明可獲得即使在嚴酷環境下。仍能長期維持均勻且優良之光學特性之透明複合基板。
【產業利用性】
依照本發明，藉由具有包含以玻璃纖維之集合體構成之玻璃布帛及含浸於玻璃布帛之阿貝數為45以上之樹脂材料的複合層，且玻璃纖維之集合體本身存在折射率之差異且其折射率之最大值與最小值之差為0.01以下，能獲得有均勻且優良之光學特性之透明複合基板。因此本發明具有產業利用性。
2‧‧‧玻璃布
2a‧‧‧縱方向玻璃紗(經線)
2b‧‧‧橫方向玻璃紗

Claims (14)

  1. 一種透明複合基板，其係具有複合層，該複合層包含由玻璃纖維之集合體構成之玻璃布帛、以及含浸於該玻璃布帛之阿貝數為45以上之樹脂材料，該玻璃纖維之集合體本身存在折射率的差異且其折射率之最大值與最小值之差為0.01以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之透明複合基板，其中，該樹脂材料係以脂環族環氧樹脂或脂環族丙烯酸樹脂作為主成分。
  3. 如申請專利範圍第1項之透明複合基板，其中，該透明複合基板依據JIS K 7129 B規定之方法測得之水蒸氣穿透度為0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下。
  4. 如申請專利範圍第3項之透明複合基板，其中，該透明複合基板於30~150℃之平均線膨脹係數為40ppm/℃以下。
  5. 如申請專利範圍第1項之透明複合基板，其係更具備設置於該複合層之至少一面側且至少具備透明性及氣體阻隔性之表面層。
  6. 如申請專利範圍第5項之透明複合基板，其中，該表面層係以無機材料構成。
  7. 如申請專利範圍第6項之透明複合基板，其中，當令該無機材料之熔點為Tm[℃]、該樹脂材料之主成分之5%重量減少溫度為Td[℃]時，係滿足1200<(Tm-Td)<1400之關係。
  8. 如申請專利範圍第6項之透明複合基板，其中，該無機材料係包含矽化合物。
  9. 如申請專利範圍第8項之透明複合基板，其中，該矽化合物係以SiOxNy表示，且x與y滿足1≦x≦2且y滿足0≦y≦1之關係。
  10. 如申請專利範圍第8項之透明複合基板，其中，該矽化合物係包含氧原子及氮原子。
  11. 如申請專利範圍第10項之透明複合基板，其中，該矽化合物係以SiOxNy表示，且x與y滿足y>0及0.3<x/(x+y)≦1之關係。
  12. 如申請專利範圍第5項之透明複合基板，其中，該表面層之平均厚度為10~500nm。
  13. 如申請專利範圍第5項之透明複合基板，其係具有設置在該複合層與該 表面層之間且以樹脂材料構成的中間層。
  14. 一種顯示元件基板，其特徵為：具備如申請專利範圍第1項之透明複合基板。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103975376A (zh) * 2011-12-01 2014-08-06 住友电木株式会社 图像显示装置
JP7221579B2 (ja) * 2016-03-22 2023-02-14 富士電機株式会社 樹脂組成物
KR102340610B1 (ko) * 2020-07-03 2021-12-21 한국생산기술연구원 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지를 포함하는 조성물 및 이의 복합체
CN112759891A (zh) * 2020-12-28 2021-05-07 广东盈骅新材料科技有限公司 环氧树脂组合物及含有其的透明复合材料、层压板

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3859518B2 (ja) * 2002-01-15 2006-12-20 住友ベークライト株式会社 透明水蒸気バリアフィルム
JP2004001442A (ja) * 2002-03-29 2004-01-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd ガス・水蒸気バリア性フィルム
JP4650003B2 (ja) * 2004-01-28 2011-03-16 住友ベークライト株式会社 透明複合シート及びそれを用いた表示素子基板
JP4279816B2 (ja) * 2005-09-02 2009-06-17 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学 透明ガスバリア基板
JP4717669B2 (ja) * 2006-03-13 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムおよびこれを用いた有機デバイス
JP2008221592A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd 透明樹脂シート
JP5202052B2 (ja) * 2008-03-14 2013-06-05 旭化成株式会社 複合材料
JP5423013B2 (ja) * 2009-01-29 2014-02-19 住友ベークライト株式会社 プラスチックシート
KR101712978B1 (ko) * 2009-09-25 2017-03-07 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 투명 복합 시트
JP2011190402A (ja) * 2010-03-16 2011-09-29 Sekisui Chem Co Ltd 紫外線硬化性樹脂組成物及び透明複合シート

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