TW201313874A - 光清潔導電性黏著劑及來自其之物件 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種導電性光清潔黏著劑，其包括一光清潔黏著劑層及一定位於該光清潔黏著劑層之上之互連導電性網路層。該導電性光清潔黏著劑具有在約0.5ohm/sq與約1000ohm/sq之間的電導率、小於約10%的霧度及至少約80%的透射率。

Description

光清潔導電性黏著劑及來自其之物件
本發明大體而言係關於光清潔黏著劑。詳言之，本發明係關於可用作透明電導體之導電性光清潔黏著劑。
光清潔黏著劑被廣泛地用於電子顯示器中以將電子顯示器之各種組件及層黏著在一起。電子顯示器之主要組件包括(例如)：玻璃罩、觸控螢幕、抗反射層、氣隙及液晶顯示器(LCD)。在包括LCD之電子顯示器中，LCD可為有電雜訊的且干擾其他組件，諸如易受由LCD產生之電場影響的觸控螢幕。一種解決方案係藉由引入氣隙或光清潔黏著劑(OCA)之厚層而將觸控感測器定位成遠離LCD。另一解決方案係將一透明、電磁干擾(EMI)層定位於LCD與觸控螢幕之間以防止對觸控螢幕之不當電磁干擾。然而，此等兩個解決方案增加了電子顯示器之總厚度及光損失。由於消費者日益需要更薄之電子顯示器，所以需要提供一具有用以在不添加另一層的情況下防止不當電磁干擾之構件的電子顯示器。
在一實施例中，本發明係一種導電性光清潔黏著劑。該導電性光清潔黏著劑包括一光清潔黏著劑層及一定位於該光清潔黏著劑層之上之互連導電性網路層。該導電性光清潔黏著劑具有在約0.5 Ohm/平方與約1000 Ohm/平方之間的電導率、小於約10%的霧度及至少約80%的透射率。
在另一實施例中，本發明係一種導電性光清潔黏著劑，其包括一光清潔黏著劑層、一定位於該光清潔黏著劑層之上之導電性奈米線網路層，及一定位於該導電性奈米線網路層之上之光清潔黏著劑層面塗層。該導電性奈米線網路層幫助控制電磁干擾。
圖1展示本發明之導電性光清潔黏著劑(COCA)10的橫截面圖，且包括一塗佈有互連導電性網路層14之光清潔黏著劑(OCA)層12。光清潔黏著劑面塗層16可視情況作為面塗層而塗佈或層壓於互連導電性網路層14之上以形成OCA-互連導電性網路塗層-OCA的多層結構。第一釋放基板18經定位成鄰近於光清潔黏著劑層12，且第二釋放基板20經定位成鄰近於光清潔黏著劑面塗層16。此多層結構可接著用於電子顯示裝置中以既提供電子顯示器之兩個組件的黏著又提供電磁屏蔽，該電磁屏蔽防止電子顯示器之兩個組件彼此干擾。
如本說明書中所使用，術語「光清潔」指代在可見光譜(約400奈米至約700奈米)之至少一部分中具有高光透射率且展現低霧度的黏著劑或物件。可使用(例如)ASTM-D 1003-95之方法來判定發光透射與霧度兩者。
COCA 10具有足以允許使用者辨明任何影像或字跡之充分低的霧度水準。在一實施例中，COCA 10具有約10%或更小的霧度，特定言之約5%或更小的霧度，且更特定言之約2%或更小的霧度。
COCA 10具有足夠高以允許使用者可見的透射率水準。在一實施例中，COCA 10具有大於約80%的透射率，特定言之大於約85%的透射率，且更特定言之大於約88%的透射率。
在一實施例中，COCA 10係無雙折射的。
在一實施例中，COCA 10之厚度係至少約1微米、至少約5微米、至少約10微米、至少約15微米或至少約20微米。該厚度常常不大於約500微米、不大於約300微米、不大於約150微米或不大於約125微米。舉例而言，該厚度可為約1至約200微米、約5至約100微米、約10至約50微米、約20至約50微米或約1至約15微米。
光清潔黏著劑
可將OCA層12或在聚合後即形成黏著劑之反應性混合物塗佈至表面上以形成黏著劑層。如本文中所使用之術語「黏著劑」指代能用以將兩個黏著物黏著在一起的聚合組合物。廣泛多種黏著劑適合於形成本發明之黏著劑層或黏著劑面塗層。合適之黏著劑包括(例如)熱活化黏著劑及壓敏性黏著劑。尤為合適之黏著劑係壓敏性黏著劑。選擇所使用之黏著劑以具有適合於所要應用之性質。在一些實施例中，OCA層12、16可為伸展釋放黏著劑。
熱活化黏著劑在室溫下為非黏性，但在高溫下變得黏性且能夠結合至基板。此等黏著劑通常具有高於室溫之Tg或熔點(Tm)。當溫度升高超過Tg或Tm時，儲存模數通常降低且黏著劑變得黏性。
對於一般熟習此項技術者而言，已熟知壓敏性黏著劑組合物在室溫下擁有包括以下各者之性質：(1)強烈且永久的黏性，(2)僅僅指壓便可黏著，(3)束縛住黏著物之足夠能力，及(4)足以自黏著物乾淨地移除之內聚強度。已被發現較好地起PSA作用之材料為經設計及調配以展現必需黏彈性質從而使得黏性、剝離黏著力及剪切保持力得到所要平衡之聚合物。獲得性質之恰當平衡並非一簡單過程。
如上文所提及，可將一任選OCA面塗層16塗佈至互連導電性網路層14上。可將OCA面塗層16塗佈至互連導電性網路層14上以便改良互連導電性網路層14之黏性。然而，若互連導電性網路層14為黏著劑，則無需OCA面塗層16。若OCA面塗層16被併入黏著劑中，則其可為厚或薄的、絕緣的或非絕緣的、均一的或不連續的，及均一相的或分離相的。
OCA層12及OCA面塗層16可為相同OCA抑或不同OCA。OCA層12及OCA面塗層16可為不同的以便確保與鄰近基板之相容性。在一實施例中，OCA層12及OCA面塗層16具有在約1奈米(nm)至約500微米之間的厚度。
適合用於本發明中之光清潔黏著劑包括(例如)基於以下各者之光清潔黏著劑：天然橡膠、合成橡膠、苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸系嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烴及聚(甲基)丙烯酸酯。術語(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸包括丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯兩者。
一種特別合適之類別的光清潔黏著劑為基於(甲基)丙烯 酸酯之黏著劑且可包含酸性共聚物抑或鹼性共聚物。在一些實施例中，基於(甲基)丙烯酸酯之黏著劑為酸性共聚物。該酸性共聚物可含有一或多種酸性單體類型。大體而言，當用於製備酸性共聚物之酸性單體的比例增加時，所得黏著劑之內聚強度增大。通常視存在於本發明之黏著劑摻合物中之酸性共聚物的比例而定來調整酸性單體之比例。
在一些實施例中，黏著劑為光清潔壓敏性黏著劑。為達成壓敏性黏著劑特性，可裁適相應之共聚物以具有小於約0℃之所得玻璃態化溫度(Tg)。特別合適之壓敏性黏著劑共聚物為(甲基)丙烯酸酯共聚物。此等共聚物通常衍生自單體，該等單體包含約40重量百分比至約98重量百分比、常常為至少70重量百分比或至少85重量百分比或甚至約90重量百分比的至少一(甲基)丙烯酸烷基酯單體，該至少一(甲基)丙烯酸烷基酯單體作為均聚物具有小於約0℃之Tg。
此等(甲基)丙烯酸烷基酯單體之實例為其中烷基包含自約4個碳原子至約12個碳原子之(甲基)丙烯酸烷基酯單體且包括(但不限於)以下各者：丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸異癸酯及其混合物。視情況，只要所得(甲基)丙烯酸酯共聚物的Tg小於約0℃，其他乙烯基單體及(甲基)丙烯酸烷基酯單體(作為均聚物，其具有大於0℃之Tg，諸如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸異冰片酯、乙酸乙烯酯、苯乙烯及其 類似者)可與具有低Tg之(甲基)丙烯酸烷基酯單體及可共聚之鹼性或酸性單體中的一或多者結合來利用。
在一些實施例中，需要使用無烷氧基之(甲基)丙烯酸酯單體。熟習此項技術者可理解烷氧基。
當使用時，能用作壓敏性黏著劑基質之鹼性(甲基)丙烯酸酯共聚物通常衍生自鹼性單體，該等鹼性單體包含約2重量百分比至約50重量百分比或約5重量百分比至約30重量百分比的可共聚之鹼性單體。例示性鹼性單體包括N,N-二甲基胺基丙基甲基丙烯醯胺(DMAPMAm)；N,N-二乙基胺基丙基甲基丙烯醯胺(DEAPMAm)；丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基酯(DMAEA)；丙烯酸N,N-二乙基胺基乙基酯(DEAEA)；丙烯酸N,N-二甲基胺基丙基酯(DMAPA)；丙烯酸N,N-二乙基胺基丙基酯(DEAPA)；甲基丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基酯(DMAEMA)；甲基丙烯酸N,N-二乙基胺基乙基酯(DEAEMA)；N,N-二甲基胺基乙基丙烯醯胺(DMAEAm)；N,N-二甲基胺基乙基甲基丙烯醯胺(DMAEMAm)；N,N-二乙基胺基乙基丙烯醯胺(DEAEAm)；N,N-二乙基胺基乙基甲基丙烯醯胺(DEAEMAm)；N,N-二甲基胺基乙基乙烯基醚(DMAEVE)；N,N-二乙基胺基乙基乙烯基醚(DEAEVE)；及其混合物。其他有用之鹼性單體包括乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、第三胺基官能基化苯乙烯(例如，4-(N,N-二甲基胺基)-苯乙烯(DMAS)、4-(N,N-二乙基胺基)-苯乙烯(DEAS))、N-乙烯基吡咯酮、N-乙烯基己內醯胺、丙烯 腈、N-乙烯基甲醯胺、(甲基)丙烯醯胺及其混合物。
當用以形成壓敏性黏著劑基質時，酸性(甲基)丙烯酸酯共聚物通常衍生自酸性單體，該等酸性單體包含約2重量百分比至約30重量百分比或約2重量百分比至約15重量百分比的可共聚之酸性單體。有用之酸性單體包括(但不限於)選自以下各者之酸性單體：烯系不飽和羧酸、烯系不飽和磺酸、烯系不飽和膦酸及其混合物。此等化合物之實例包括選自以下各者之化合物：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、反丁烯二酸、丁烯酸、甲基順丁烯二酸、順丁烯二酸、油酸、丙烯酸β-羧乙酯、甲基丙烯酸2-磺乙酯、苯乙烯磺酸、2-丙烯醯胺基-2-甲基丙烷磺酸、乙烯基膦酸及其類似者，及其混合物。歸因於其可用性，通常使用烯系不飽和羧酸。
在某些實施例中，聚(甲基)丙烯酸酯壓敏性黏著劑基質係衍生自在約1重量百分比與約20重量百分比之間的丙烯酸及在約99重量百分比與約80重量百分比之間的丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯或丙烯酸正丁酯中之至少一者。在一些實施例中，壓敏性黏著劑基質係衍生自在約2重量百分比與約10重量百分比之間的丙烯酸及在約90重量百分比與約98重量百分比之間的丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯或丙烯酸正丁酯中之至少一者。
另一有用類別之基於(甲基)丙烯酸酯之光清潔黏著劑係為(甲基)丙烯酸系嵌段共聚物的光清潔黏著劑。此等共聚物可僅含有(甲基)丙烯酸酯單體或可含有其他輔單體(諸如 苯乙烯)。此等黏著劑之實例描述於(例如)美國專利第7,255,920號(Everaerts等人)中。
黏著劑可為固有地黏性的。若需要，則可將增黏劑添加至基底材料以形成壓敏性黏著劑。有用之增黏劑包括(例如)松香酯類樹脂、芳香烴類樹脂、脂族烴類樹脂及萜類樹脂。只要所添加之材料不顯著降低壓敏性黏著劑的光清晰性，便可出於特殊目的而添加其他材料，該等其他材料包括(例如)油、增塑劑、抗氧化劑、紫外線(「UV」)穩定劑、氫化丁基橡膠、顏料、固化劑、聚合物添加劑、增稠劑、鏈轉移劑及其他添加劑。
在一些實施例中，需要黏著劑組合物含有交聯劑。交聯劑的選擇取決於希望交聯之聚合物或共聚物的性質。以有效量來使用交聯劑，有效量意謂足以引起壓敏性黏著劑之交聯以提供適當內聚強度來產生對所關注基板之所要最終黏著性質的量。大體而言，當使用時，以黏著劑組合物之單體及/或聚合物的總量計約0.1重量份至約10重量份的量來使用交聯劑。
一種類別之有用交聯劑包括多官能(甲基)丙烯酸酯物質。多官能(甲基)丙烯酸酯包括三(甲基)丙烯酸酯及二(甲基)丙烯酸酯(亦即，包含三個或兩個(甲基)丙烯酸酯基團的化合物)。通常，使用二(甲基)丙烯酸酯交聯劑(亦即，包含兩個(甲基)丙烯酸酯基團的化合物)。有用之二(甲基)丙烯酸酯包括(例如)：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙 二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、烷氧基化1,6-己二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、烷氧基化環己烷二甲醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯及胺基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。有用之三(甲基)丙烯酸酯包括(例如)：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、參(2-羥乙基)異氰尿酸酯三丙烯酸酯及異戊四醇三丙烯酸酯。
另一有用類別之交聯劑含有與丙烯酸系共聚物上之羧酸基團反應的官能基。此等交聯劑之實例包括多官能氮丙啶、異氰酸酯、環氧樹脂及碳化二亞胺化合物。氮丙啶型交聯劑之實例包括(例如)：1,4-雙(伸乙基亞胺基羰胺基)苯、4,4'-雙(伸乙基亞胺基羰胺基)二苯基甲烷、1,8-雙(伸乙基亞胺基羰胺基)辛烷及1,1'-(1,3-伸苯基二羰基)-雙-(2-甲基氮丙啶)。在本文中被稱作「雙醯胺」之氮丙啶交聯劑1,1'-(1,3-伸苯基二羰基)-雙-(2-甲基氮丙啶)(CAS第7652-64-4號)係特別有用的。普通之多官能異氰酸酯交聯劑包括(例如)：三羥甲基丙烷二異氰酸甲苯酯、二異氰酸亞苄酯(tolylene diisocyanate)及二異氰酸六亞甲酯。
OCA被用於消費型行動器件中以用於增強使用者之檢視、器件之美感性及外觀以及用於觸控感測器結合。OCA 之設計考慮及要求包括優異之黏著及清晰性(藉由消除可發生於各種類型之透明基板的變黃)。OCA亦使得用於電子產業中之大量生產所必需之高速層壓變得可能。其他特徵包括光清晰性、>99%光透射、<1%霧度水準、無雙折射、無膜載體、折射率、經設計及製造成消除包括氣泡、污垢及凝膠之普通黏著劑視覺缺陷、耐久的黏著、用於將大多數透明膜基板可靠地結合至玻璃的高內聚及剝離強度、耐高溫性、耐潮濕性及耐UV光性、長期耐久性而無變黃、分層或降解。商業上合適及可用之OCA之實例包括(但不限於)3MTM光清潔黏著劑及3MTM對比度增強膜(獲自MN,St.Paul之3M公司)。
設計一用於COCA之OCA組件亦可包括用於達成各種效能準則及目的的可能之黏著劑選項範圍。OCA亦可以以下各者為特色：導熱性黏著劑、可移除黏著劑、高或低黏性黏著劑、壓敏性黏著劑、熱或光或濕氣固化黏著劑、基於環氧樹脂或丙烯酸酯或矽或橡膠或胺基甲酸酯之黏著劑、熱固性黏著劑、自潤濕黏著劑、結構化黏著劑、伸展釋放黏著劑、導電性黏著劑、高或低介電常數黏著劑、高或低折射率黏著劑、空氣洩放黏著劑、熱熔性黏著劑等。舉例而言，對於層壓於OLED顯示器上之COCA而言，使黏著劑為導熱的以允許自OLED器件更好地耗散熱可為需要的。特殊化黏著劑可需要為一般熟習此項技術者已知的某些配方及製程。Alphonsus V.Pocius所著之題為Adhesion and Adhesives Technology：An Introduction(2002)的書係對黏 著劑技術之良好介紹。
透明、互連導電性網路層
互連導電性網路層14係透明的且充當電磁干擾(EMI)屏蔽，使得COCA 10具有EMI屏蔽性質。此允許將該透明、互連導電性網路層14應用於廣泛範圍之應用。例示性應用包括(但不限於)：NIR控制窗、低發射率窗、用於太陽能電池之透明電極、顯示面板、電致變色顯示器/窗、清澈觸控感測器、透明電磁屏蔽、透明電路及透明天線。
互連導電性網路層14可包括奈米線、網格狀或按圖案的導電網路或開放/不連續導電性塗層。如本文中所使用之術語「奈米線」(除非個別上下文另有特定暗示)將大體指代雖然在特定幾何形狀方面可潛在地變化但仍具有可以奈米尺度來量測之有效或平均直徑(亦即，小於約100奈米)的線及線的群組。透明、互連導電性網路層14可包括在液體介質中的奈米線、網格狀或按圖案的導電性網路或開放/不連續導電性塗層。液體介質可包含(例如)水、諸如甲醇、乙醇、異丙醇之醇、諸如丙酮或甲基乙基酮之酮、諸如乙酸乙酯之酯，或其組合。亦可包括界面活性劑以對液體介質之潤濕性質進行改質。
可需要光學設計以將光學透明度效能作為目標。此設計可為多層金屬/介電層之堆疊設計，或一圖案、網格組態，或開放式結構組態以在電效能之平衡下使光學透明度最佳化。不透明材料或較不透明材料在呈網格組態、網路或開放式組態時可為高度透明的。透明導體設計可利用圖 案、網格組態或開放式結構組態的概念以在電效能或其他效能準則的平衡下使光學透明度最佳化。一個重要之參數係圖案可見性。對於低圖案可見性之圖案化透明導體的設計及論述可在PCT國際公開案第WO 2010099132號中找到。
可使用廣泛多種材料及方法來製備透明、互連導電性網路層14。例示性材料包括(但不限於)：錫、銦、鋅及鎘之半導電氧化物；銀、金及鈦；導電性聚合物；及導電性奈米結構材料，諸如碳奈米管、石墨烯、金屬奈米線及半導體奈米線。在一實施例中，互連導電性網路層14包括銀奈米線，諸如購自CA,Sunnyvale之Cambrios Technology公司或CA,Scotts Valley之Seashell Technology LLC的銀奈米線。
能夠製造透明、互連導電性網路層之製程可在物理方法(諸如濺鍍及蒸鍍)、化學方法(諸如溶膠凝膠法及電鍍)、溶液方法(諸如奈米線/奈米管溶液塗層)及機械方法(諸如石墨烯褶邊(bluffing))的範圍內。
關於使用物理沈積來沈積透明、互連導電性網路層的更多細節可在PCT國際公開案第WO 2011/017039號、第WO 2009/149032號、第WO 2009/05860號及第WO 00/26973號中找到。用以機械地沈積透明、互連導電性網路層之另一方法說明於美國專利第6,511,701號及PCT國際公開案第WO 2001/085361號中。此方法可用以將碳奈米管、金屬奈米線、石墨烯及其他導電性材料沈積至支撐腹板上。
基於溶液處理之導電性塗層可提供潛在低成本製造方法而無須顯著資本投資。經溶液處理之金屬奈米線網格狀導電性塗層與導電性氧化物相比能夠達成至少等效之電及光學效能，且可更能耐受彎曲及摺疊。可藉由各種塗佈方法來塗佈基於奈米線及奈米結構之分散液，該等塗佈方法包括(但不限於)：印刷、絲網印刷、微接觸印刷、噴塗、浸漬塗佈、旋塗及捲軸式塗佈。捲軸式塗佈方法係較佳的且包括(但不限於)：刮刀塗佈、柔版塗佈、簾式塗佈、凹版印刷式塗佈及狹縫式塗佈。
分散液亦可經調配以將功能性添加至透明、互連導電性網路層。例示性添加劑包括(但不限於)：化學染料、界面活性劑、結合劑、黏著劑、單體、防腐劑、交聯劑、硬化劑等。對此等基於奈米結構之導電性塗層的額外處理可為必要的，以提供穩定性及可靠性且增強效能。退火處理(包括快速熱退火)或壓光處理亦可改良塗層之電導率。包括障壁塗佈、包覆封裝、保護層塗佈、化學鈍化之防腐處理可改良透明、互連導電性網路層之可靠性。
可藉由塗佈於、放置於OCA層12或OCA面塗層16上或直接塗覆至OCA層12或OCA面塗層16來塗覆透明、互連導電性網路層14。可藉由直接塗覆至釋放基板18、20上來塗覆透明、互連導電性網路層14，在釋放基板處該透明、互連導電性網路層14可隨後轉移至OCA層12或OCA面塗層16。
以在約1 nm至約1000 nm之間且尤其在約100 nm與約300 nm之間的厚度來塗覆互連導電性網路層14。當使用奈米線 時，奈米線層具有在約10 nm與約1000 nm之間的厚度。
釋放基板
使OCA層12及面塗層16分別與釋放基板18及20接觸，該等釋放基板18及20可為任何低黏著基板。釋放基板18、20可為任何合適之釋放基板，諸如釋放襯墊或含有釋放表面之基板。當黏著至黏著劑層時，該等釋放基板僅輕微地黏著且容易移除。釋放基板可為單一層(僅具有基底層)或其可為多層建構(除基底層外還具有一或多個塗層或額外層)。釋放基板亦可含有諸如微結構之結構。
含有釋放表面之合適之基板包括板、薄片及膜基板。含有釋放表面之基板之實例包括(例如)含有低表面能表面之基板(諸如TEFLON基板及聚烯烴基板(諸如聚丙烯或聚乙烯))，或含有釋放塗層(諸如聚矽氧、烯烴、長烷基鏈或含氟化合物塗層)之基板。
可將OCA層12及OCA面塗層16塗覆至膜或薄板產品(例如，光學、裝飾性、反射性及圖形的)、標籤、膠帶背襯、釋放襯墊及其類似者。釋放基板18、20可為取決於所要應用之任何合適之類型的材料。在一實施例中，釋放基板18、20為釋放襯墊。例示性釋放襯墊包括自紙張(例如，牛皮紙)或聚合材料(例如，諸如聚乙烯或聚丙烯之聚烯烴、乙烯乙酸乙烯酯、聚胺基甲酸酯、諸如聚對苯二甲酸乙二(醇)酯之聚酯，及其類似者)製備的釋放襯墊。用一釋放劑(諸如含有聚矽氧之材料或含有氟碳化物之材料)層來塗佈至少一些釋放襯墊。例示性釋放襯墊包括(但不限 於)以商標名稱「T-30」及「T-10」購自Eastman Chemicals公司(Kingsport，TN.)的襯墊，其具有位於聚對苯二甲酸乙二(醇)酯膜上之聚矽氧釋放塗層。該釋放襯墊可具有位於其表面上之微結構，該微結構被賦予黏著劑以在黏著劑層之表面上形成微結構。可接著移除該襯墊以曝露具有微結構化表面之黏著劑層。
可將透明、互連導電性網路層14塗佈至釋放基板18、20上且隨後將其轉移至光清潔黏著劑。若使用此方法進行塗覆，則釋放基板18、20必須能夠經受得住用於沈積透明、互連導電性網路層14之製程條件。在一些實施例中，可將基於含氟化合物之釋放基板用作藉由物理沈積方法而沈積之金屬塗層或導電性氧化物塗層的釋放基板。在一些實施例中，非矽襯墊可為需要的。某些基於溶液之導電層可為塗佈至釋放基板上之溶液。在某些應用中，可用一中間層(諸如用作導電層製造之緩衝層的薄塗層)來塗佈或處理釋放基板。舉例而言，若特定釋放基板不能經受得住直接藉由濺鍍方法之金屬沈積，則可在金屬沈積之前將薄丙烯酸酯層塗佈至釋放基板上。此緩衝層亦可為加強層或黏著劑層。
為達成特定電光學設計目的，可藉由(例如)蝕刻、移除或圖案化來進一步處理位於釋放基板上之透明、互連導電性網路層。在一實施例中，為達成特定設計或目的，可以一預定義圖案將透明、互連導電性網路層印刷至釋放基板上。釋放基板亦可經結構化、微結構化或圖案化使得僅一 所選或隨機圖案可轉移至光清潔黏著劑。類似地，光清潔黏著劑可經結構化、改質或圖案化使得透明、互連導電性網路層可僅轉移至光清潔黏著劑之所選或隨機區域。
導電墨水周邊
可視情況使用傳統印刷方法而將一不透明導電墨水周邊22塗覆為影像。圖2展示具有一不透明導電墨水周邊22之COCA 10。在一實施例中，藉由用導電墨水絲網印刷邊界來處理不透明之導電墨水周邊22。該導電墨水可由結合樹脂、溶劑及諸如銀或碳黑之導電粒子組成。雖然特定地提及了銀及碳黑，但可使用任何導電粒子。在一些實施例中，導電墨水係不透明的。市售墨水之實例包括(但不限於)AG-500導電填充銀墨水(獲自NH,Londonderry之Conductive Compounds Inc.)。
在一實施例中，用60硬度計橡膠橡皮輥將導電墨水塗覆於128網格PET篩網上，其中在該篩網上具有被遮蔽之聚合物影像以形成未印刷區域。使墨水在空氣中或在約100℃下乾燥直至墨水無黏性。可直接將導電墨水塗覆至透明、互連導電性網路層14。若需要，則可藉由一片PET膜(其大小經設定成類似於導電墨水周邊22之導電片區域24)或藉由一釋放聚合物(諸如聚乙烯醇或含有塗覆至導電片區域24之釋放表面的其他聚合物塗層)而在導電片區域24中隔離OCA黏著劑之下一層，從而允許使導電墨水周邊22容易與OCA分離以達成電接地的目的。聚合物塗層之實例包括(例如)含有低表面能表面之基板(諸如TEFLON基板及聚烯 烴基板(諸如聚丙烯或聚乙烯))，或含有一釋放塗層(諸如聚矽氧、烯烴、長烷基鏈或含氟化合物塗層)之基板。此產生更有效之EMI屏蔽。雖然圖2將導電墨水周邊22描繪為與透明、互連導電性網路層14對齊，但導電墨水周邊22亦可重疊透明、互連導電性網路層14或印刷於透明、互連導電性網路層14之下，只要存在密切接觸即可。基於墨水配方及墨水厚度，導電墨水周邊22具有在約0.1 ohm/sq與約5 ohm/sq之間的表面電阻率。
在一實施例中，導電墨水周邊具有在約3微米與約25微米、特定言之在約4微米與約10微米之間且更特定言之約6微米的厚度。
圖3展示導電墨水之導電墨水周邊22及連接片24的X/Y平面視圖。
加強層
圖4展示本發明之導電性光清潔黏著劑100之第二實施例的橫截面圖。導電性OCA 100之第二實施例類似於導電性OCA 10之第一實施例且包括一位於OCA層102與OCA面塗層106之間的互連導電性網路層104。與第一實施例一樣，OCA面塗層106係任選的。第一釋放基板108及第二釋放基板110分別定位成鄰近於OCA層102及OCA面塗層106。
第一實施例與第二實施例之間的唯一差別係導電性OCA 100之第二實施例包括一定位於OCA層102與互連導電性網路層104之間的加強層112(諸如丙烯酸酯層)。加強層112的添加提高了導電性OCA 100的穩定性。在一實施例中，加 強層112具有在約10 nm與約250微米之間的厚度。
加強層112意在增強取決於特定所要設計的某些性質。加強層112可藉由(例如)增加透明、互連導電性網路層之撓曲耐久性來增加機械性質。在另一實施例中，針對某些製程，加強層112可有助於透明、互連導電性網路層之製造過程，在該等製程中該透明、互連導電性網路層可直接擱置於釋放基板或光清潔黏著劑上。在另一實施例中，針對一特定製程，加強層112有助於增強透明、互連導電性網路層之光學或電性質(諸如在硬塗層上之ITO沈積可在光學及電性上好於在釋放基板上之ITO沈積)。或者，在某些製程中，在沈積透明、互連導電性網路層之前需要在支撐基板上之表面處理(諸如電暈處理)。
加強層112可為產品或設計之部分(機械、光學、電、化學)。在一實施例中，加強層112為伸展加強層，諸如用於伸展釋放黏著劑之伸展釋放層。在另一實施例中，加強層112為極化層、彩色層、吸收層或化學吸收層。加強層112可由聚合物或無機層構成。加強層112可為連續的、非連續的、網路狀的、有孔的、無孔的、剛性的、可撓性的、結構化的、圖案化的或非圖案化的。
加強層亦可為化學障壁層。舉例而言，COCA可經設計成在任一表面上具有兩種黏著劑，該等黏著劑中之一者可不與另一黏著劑或導電性材料化學相容。加強層可在該兩種黏著劑之間或在黏著劑與導電層之間充當化學障壁。加強層可用以提供與導電層之強健及耐久之電連接。舉例而 言，印刷於由聚酯膜製成之加強層上的銀可用以接觸COCA中之導電層以在需要之處提供可靠性增加的電連接。
圖5展示具有一不透明導電墨水周邊114之COCA 100。該不透明導電墨水周邊114類似於COCA 10之不透明導電墨水周邊22來起作用。然而，如圖5中所示，可將不透明導電墨水周邊114塗覆至加強層112。
雖然圖1、圖2、圖4及圖5將COCA 10、100描繪為包括：OCA層12、102；互連導電性網路層14、104；及OCA面塗層16、106，但預期各種其他組態而不背離本發明之預期範疇。舉例而言，在一實施例中，COCA 10、100可僅包括OCA層12、102及互連導電性網路層14、104。在此實施例中，COCA 10、100包括能夠電接地之一個表面。
在另一實施例中，可將一PET膜定位於OCA層與互連導電性網路層之間。此組態產生具有加強之導電膜的雙面黏著劑。
大體而言，需要導電性光清潔黏著劑10、100之更高電導率或更低表面電阻率或電阻。在一實施例中，導電性光清潔黏著劑10、100具有在約0.5 ohm/平方與約1000 ohm/平方(ohm/sq)之間、特定言之在約1 ohm/sq與約500 ohm/sq之間、更特定言之在約20 ohm/sq與約200 ohm/sq之間且更特定言之在約30 ohm/sq與約150 ohm/sq之間的表面電阻率。即使在曝露至增加的濕度及溫度之後，導電性光清潔黏著劑10、100之表面電阻率仍應保持為相對穩定的。
圖6為定位於電子顯示器200內之導電性光清潔黏著劑10之第一實施例的橫截面圖。導電性光清潔黏著劑10可用於需要具有電導率之光清潔黏著劑的任何物件中。舉例而言，導電性光清潔黏著劑可用於觸控感測器組合件中或層壓至抗反射膜。當用於觸控感測器組合件中時，導電性光清潔黏著劑藉由(例如)導電性墊圈而被電接地。
如可在圖6中所見，液晶顯示器(LCD)202經定位成鄰近於OCA層12，且觸控感測器204經定位成鄰近於OCA面塗層16。透鏡藉由光清潔黏著劑208而層壓至觸控感測器204。
由於網路塗層14係導電的，所以其亦充當電磁干擾(EMI)屏蔽，使得COCA 10具有EMI屏蔽性質。隨後，在併有COCA 10之任何電子顯示器中皆無需EMI屏蔽層或氣隙。併有COCA 10之任何所得電子顯示器200將因此比必須包括EMI屏蔽層或氣隙以防止LCD干擾觸控螢幕之電子顯示器薄。
製造方法
可藉由連續製程抑或分批製程來形成該等黏著劑層中之每一者。分批製程之實例係將黏著劑之一部分置放於將黏著有膜或塗層之基板與能夠釋放黏著劑膜或塗層的表面之間以形成一複合結構。可接著在充分之溫度及壓力下壓縮該複合結構以在冷卻之後形成所要厚度之黏著劑層。替代地，黏著劑可被壓縮於兩個釋放表面之間且經冷卻以形成能用於層壓應用中之黏著劑轉移帶。
連續形成方法包括將黏著劑從薄膜模具中拉出來且隨後使被拉伸之黏著劑與移動的塑膠腹板或其他合適之基板接觸。一種相關之連續方法涉及擠壓黏著劑及來自薄膜模具之共擠背襯材料且使該分層產物冷卻以形成黏著劑帶。其他連續形成方法涉及使黏著劑與快速移動的塑膠腹板或其他合適之預成型基板直接接觸。在使用此方法的情況下，使用具有可撓性模唇之模具(諸如旋轉桿模具)將黏著劑塗覆至移動之預成型腹板。在藉由此等連續方法中之任一者形成之後，可藉由使用直接方法(例如，冷卻滾筒或水浴)與間接方法(例如，空氣或氣體噴擊)兩者進行驟冷來使黏著劑膜或層凝固。
亦可使用基於溶劑之方法來塗佈黏著劑。舉例而言，可藉由諸如刮刀塗法、滾塗法、凹版印刷式塗佈、棒塗、簾式塗佈、模塗法及氣刀塗法之方法來塗佈黏著劑。亦可藉由諸如絲網印刷或噴墨印刷之已知方法來印刷黏著劑混合物。接著使所塗佈之基於溶劑之黏著劑乾燥以移除溶劑。通常，所塗佈之基於溶劑之黏著劑經受高溫(諸如由烘箱供應之高溫)，以加速黏著劑之乾燥及/或固化。
在一實施例中，首先將OCA層塗佈至第一釋放基板上。在一實施例中，使用模塗法或狹縫饋入刮刀塗法來塗佈OCA層。接著在三個連續烘箱中乾燥及/或固化OCA層。在一實施例中，該等烘箱分別被設定於約122℉、176℉及230℉。在一實施例中，在捲起之前，可將第二釋放襯墊層壓於黏著劑塗層之上。
接著將互連導電性網路層塗佈於OCA層之上。必須以足以使COCA之足夠網路連接能夠獲得及維持某一電導率或表面電阻的流動速率而將互連導電性網路層塗佈至OCA層上。在一實施例中，表面電阻率係在約0.5 ohm/sq至約1000 ohm/sq之間、特定言之在約1 ohm/sq與約500 ohm/sq之間、更特定言之在約20 ohm/sq與約200 ohm/sq之間且甚至更特定言之在約30 ohm/sq與約150 ohm/sq之間。在一實施例中，在65℃及90%相對濕度的環境中維持該表面電導率歷時至少約72小時。取決於材料濃度，流動速率可變化。在一實施例中，以至少約20 cc/min、特定言之至少約32 cc/min且更特定言之至少約35 cc/min的流動速率來塗佈互連導電性網路層。在一實施例中，使用模塗法來塗佈互連導電性網路層。在一實施例中，以在約15 cc/min與約45 cc/min之間、特定言之在約18 cc/min與約42 cc/min之間、更特定言之在約20 cc/min與約40 cc/min之間且甚至更特定言之在約30 cc/min與約40 cc/min之間的流動速率來塗佈互連導電性網路層。若存在第二釋放襯墊，則恰好在將互連導電性網路層塗佈至OCA層上之前自物料卷(stockroll)移除位於OCA層之上之第二釋放襯墊。接著經由三個連續烘箱來連線地乾燥塗層。在一實施例中，該等烘箱分別被設定於約122℉、176℉及230℉。在捲起之前，可將一釋放基板層壓於導電性網路層之上。
在移除釋放基板(若存在)之後，隨後將一OCA面塗層塗佈於位於OCA層上的互連導電性網路層之上。在一實施例 中，使用模塗法自壓力鍋溶液遞送系統來塗佈OCA面塗層溶液。在塗佈之前，過濾塗層溶液。在塗佈之後，接著經由三個連續長烘箱來連線地乾燥面塗層。在一實施例中，該等烘箱分別被設定於約122℉、176℉及230℉。在捲起之前，可將一釋放基板層壓於黏著劑塗層之上。
當將加強層112(例如，丙烯酸酯塗層)併入導電性光清潔黏著劑中時，可在用互連導電性網路層塗佈加強層之前將加強層塗佈至OCA層上。在一實施例中，加強層可經電暈處理。接著將互連導電性網路層塗佈於丙烯酸酯層上且層壓OCA面塗層。
在另一實施例中，將先前塗佈於加強層上之互連導電性網路層的薄片層壓至OCA面塗層，使得OCA被層壓至曝露之互連導電性網路層。接著用第二OCA層來層壓加強層之曝露表面，從而提供經雙面塗佈之導電性光清潔黏著劑。在一實施例中，加強層可經電暈處理。
在一些實施例中，COCA係電連接的。取決於特定COCA之設計，COCA可以導電性黏著劑表面及電連接為特色。舉例而言，COCA可如將COCA之導電性表面層壓至金屬接地平面般簡單。若不含污染物地製備金屬表面，則接地或接觸電阻可得到改良。歸因於天然氧化物，不鏽鋼可能並非優良之表面條件，然而，氧化物之移除可有幫助。可考慮高度導電表面(諸如鍍金或塗佈有金的表面，或塗佈有銀或印刷有銀墨水之表面)。對於其他COCA設計組態而言，例如，當利用與導電層接觸的一加強層(在該 加強層上，印刷有銀導體)時，可向加強層產生至COCA之電連接。在一些應用中，不需要接地或電連接。
實例
本發明更特定地描述於意欲僅為說明之以下實例中，因為在本發明之範疇內的眾多修改及變化將為熟習此項技術者所顯而易見。除非另有註釋，否則以下實例中所報導之所有份數、百分比及比率係以重量計。
測試方法 用於光學、薄片電阻率及表面電阻量測之樣本製備
將具有雙重襯墊之一片導電性OCA切割至約4吋×4吋。在移除適當之釋放襯墊之後，將導電性OCA用手層壓至2吋(51mm)×3吋(76 mm)玻璃載片(以商標名稱Erie Scientific 2957F自Pennsylvania,Radnor之VWR International,LLC獲得)，將導電性OCA修整至玻璃之大小，且層壓至一片PET膜(以商標名稱「TEIJIN TETORON HB3 PET」自Delaware,Wilmington之EI DuPont de Nemours & Co.獲得)。
光學量測
用自Maryland,Columbia之BYK-Gardner USA獲得的Haze-Gard Plus測霧計來量測總透射率及透射霧度(遵照ASTM標準ASTM D 1003、D 1044)。藉由零透射標準4733、100%空氣透射、88.6%透射標準HB4753及76.2%清晰度標準4732進行校準。
使用直接自具有外部DRA-CA-3300漫反射附件的Cary 100 UV-Vis分光光度計(自California,Santa Clara之Agilent Technologies獲得)收集資料的色彩應用程式來計算所透射的色彩(光源=CIE Yxy D65，2度觀測者)，藉由100%空氣透射之基線校正而進行校準。
薄片電阻率
使用717B型台式傳導率監視器(自Wisconsin,Prescott之Delcom Instruments、Inc.獲得)藉由渦電流方法來量測薄 片電阻率(常常稱為表面電阻率)(該等術語在本發明中可互換地使用)。
將樣本置放於處於85℃及85%相對濕度(RH)下的潮濕烘箱中歷時三天。記錄在將樣本曝露至此環境條件之前及之後的薄片電阻率。
表面接觸電阻
使用來自IPC多用途測試板IPC-B-25A(具有裸銅表面處理選項之P-IPC-B-25A)(自Indiana,Indianapolis之Diversified Systems,Inc.獲得)之梳狀圖案F來量測每一導電性黏著劑之表面接觸電阻，其中圖案F具有0.406 mm線及0.508 mm間隔。將導電性OCA切割成0.5吋(1.3 cm)寬的條狀物，使用手壓輥將其應用至圖案F。量測梳狀圖案F之兩個接觸焊墊之間的電阻。
剝離力
使用一吋橡膠輥及約0.35 kg/cm2之手壓力將導電性OCA膜樣本用手層壓至45微米厚的聚對苯二甲酸乙二(醇)酯(PET)膜。自黏著劑膜/PET層壓物切割1吋(25.4 cm)寬的條狀物。使用2千克重之橡膠輥將測試條狀物之此黏著劑膜側面層壓至不鏽鋼板，該不鏽鋼板已藉由用丙酮擦拭一次及用庚烷擦拭三次而予以清潔。允許所層壓之測試樣本保持於周圍條件下歷時一個小時。以180度之角度並以30.5 cm/min的速率自不鏽鋼表面移除導電性OCA/PET層壓物。用Imass Model SP-2000剝離測試器(自Massachusetts,Accord之Imass Inc.獲得)量測用以剝離該樣本的力。
實例1 光清潔黏著劑層1(OCA-L1)之製備
藉由將11 g交聯溶液1混合至3000 g黏著劑溶液1中來製備OCA-L1。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置而將所得溶液塗佈至13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊1)上。線速度為5 ft/min(1.5 m/min)。溶液之塗佈寬度為11吋(27.9 cm)，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)之未塗佈邊緣。使用一齒輪泵溶液遞送系統來以185 cm3/min之溶液流動速率將溶液遞送至模具。藉由使具有塗佈溶液之襯墊穿過一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥所塗佈之溶液，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃)及230℉(110℃)之設定溫度。估計塗佈厚度為約2微米。在將黏著劑/襯墊1捲起成卷之前，將第二13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊1)層壓至曝露之黏著劑表面，從而形成具有雙重釋放襯墊之OCA-L1。
銀奈米線分散液1(SNW-D1)之製備
如下製備SNW-D1：將700.0公克去離子水、0.609 g羥丙基甲基纖維素(自Missouri,St.Louis之Sigma-Aldrich獲得)及0.038公克Zonyl FSO-100氟界面活性劑(自Sigma-Aldrich獲得)置放於1000 mL錐形瓶中。在磁性攪拌下將該溶液加熱至沸騰，且接著在攪拌時使其冷卻隔夜。形成清澈溶液。經由5微米針筒過濾器來過濾該清澈溶液。將46.31公克ST475置放於第二1000 mL錐形瓶中。緊接著，將來自第一錐形瓶之527.4公克清澈溶液加至第二錐形瓶中之 ST475。磁性攪拌所得灰色分散液歷時3個小時，且接著使用旋轉蒸發器使其脫氣從而產生SNW-D1。
具有銀奈米線塗層1(SNW-C1)之OCA-L1的製備
使用連續製程將SNW-D1塗佈於OCA-L1之上。恰好在塗佈之前，自OCA-L1之表面移除先前製備之OCA-L1(具有雙重釋放襯墊)之釋放襯墊中的一者。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置將SNW-D1模塗於OCA-L1上。線速度為20 ft/min(6.1 m/min)。塗佈寬度為11吋(27.9 cm)且對應於先前OCA-L1塗佈寬度，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)未塗佈邊緣。使用注射泵來以32 cm3/min之流動速率將SNW-D1遞送至塗佈模具。藉由使具有OCA-L1及SNW-D1塗佈溶液之襯墊穿過一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥SNW-D1塗層，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃)及230℉(110℃)之設定溫度。在捲起該建構之前，將第二13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊1)層壓至銀奈米線塗層之曝露表面，從而形成具有雙重襯墊的具有SNW-C1之OCA-L1。
具有銀奈米線塗層1(SNW-C1)之OCA-L1及光清潔黏著劑層2(OCA-L2)的製備
隨後將OCA-L2塗佈於上文所描述之具有雙重襯墊的具有SNW-C1之OCA-L1的銀奈米線塗層之上。藉由用2,500 g乙酸乙酯稀釋488 g黏著劑溶液1來製備4重量百分比之OCA溶液。緊接著，將1.8公克交聯溶液1加至OCA溶液。恰好在塗佈之前，移除鄰近於SNW-C1之釋放襯墊。使用 如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置將OCA面塗層溶液塗佈於SNW-C1上。線速度為10 ft/min(3.05 m/min)。使用壓力鍋溶液遞送系統來以30 g/min之流動速率將OCA溶液遞送至模具。在塗佈之前，使用沿線型、1微米過濾器來過濾OCA面塗層溶液。塗佈寬度為11吋(27.9 cm)且對應於先前SNW-C1寬度，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)未塗佈邊緣。藉由使具有OCA-L1、SNW-C1及OCA面塗層溶液之襯墊穿過一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥OCA面塗層溶液，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃)及230℉(110℃)之設定溫度。估計塗佈厚度為約1微米或更小。在捲起該建構之前，將第二13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊1)層壓至OCA-L2之曝露之黏著劑表面，從而形成具有OCA-L1(具有SNW-C1)及OCA-L2之導電性OCA(實例1)，其具有雙重釋放襯墊。
實例2
如實例1中所描述來製備實例2，不同在於以34 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D1塗佈至OCA-L1上。
實例3
如實例1中所描述來製備實例3，不同在於以36 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D1塗佈至OCA-L1上。
實例4
如實例1中所描述來製備實例4，不同在於以40 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D1塗佈至OCA-L1上。
實例5
如針對實例1所描述來製備實例5，不同在於將奈米線分散液自SNW-D1改變為在銀奈米線分散液之塗佈及乾燥之後產生銀奈米線塗層2(SNW-C2)之SNW-D2。藉由將105 ml異丙醇加至2,000 ml ClearOhm墨水來製備SNW-D2，從而產生約5體積百分比的銀奈米線分散液。接著在減壓下在旋轉蒸發器上使所得分散液脫氣歷時約50分鐘。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置將SNW-D2模塗於OCA-L1之上。線速度為20 ft/min(6.1 m/min)。使用注射泵來以26 cm3/min之流動速率將SNW-D2遞送至塗佈模具。
實例6 光清潔黏著劑層2(OCA-L3)之製備
藉由添加乙酸乙酯而將黏著劑溶液1稀釋至5.5重量百分比之黏著劑。將2 g交聯溶液1加至1,500 g的此稀釋之黏著劑溶液。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置，將所得溶液塗佈至13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊2)上。線速度為10 ft/min(3.05 m/min)。溶液之塗佈寬度為11吋(27.9 cm)，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)未塗佈邊緣。使用壓力鍋溶液遞送系統來以15 g/min之速率將溶液遞送至模具。藉由使具有塗層溶液之襯墊穿過一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥所塗佈之溶液，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃) 及230℉(110℃)之設定溫度。估計塗佈厚度小於1微米。在將黏著劑/襯墊2捲起成卷之前，將第二13吋(33.0 cm)寬的釋放襯墊(襯墊1)層壓至曝露之黏著劑表面，從而形成具有雙重釋放襯墊之OCA-L3。
銀奈米線分散液2(SNW-D2)之製備
如實例5中所描述來製備SNW-D2。
具有銀奈米線塗層3(SNW-C3)之OCA-L3的製備
使用連續製程將SNW-D2塗佈於OCA-L3之上。恰好在塗佈之前，自OCA-L3之表面移除先前製備之OCA-L3(具有雙重釋放襯墊)之釋放襯墊中的一者(襯墊1)。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置將SNW-D2模塗於OCA-L3上。線速度為20 ft/min(6.1 m/min)。塗佈寬度為11吋(27.9 cm)且對應於先前OCA-L2塗佈寬度，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)未塗佈邊緣。使用注射泵來以20 cm3/min之流動速率將SNW-D2遞送至塗佈模具。藉由使具有OCA-L3及SNW-D2塗層溶液之襯墊穿過一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥SNW-D2塗層，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃)及230℉(110℃)之設定溫度。在捲起該建構之前，將第二13吋(33.0 cm)寬之釋放襯墊(襯墊1)層壓至銀奈米線塗層之曝露表面，從而形成具有雙重襯墊的具有SNW-C3之OCA-L3。
具有銀奈米線塗層3(SNW-C3)之OCA-L3及光清潔黏著劑 層4(OCA-L4)的製備
隨後將OCA-L4層壓於上文所描述之具有雙重釋放襯墊的具有SNW-C3之OCA-L3的銀奈米線塗層之上。在30 psi之層壓壓力下使用捲軸式層壓器以5.8 ft/min(1.77m/min)之線速度將OCA 8172之薄片層壓至SNW-2。在層壓製程期間，移除在銀奈米線層之上之釋放襯墊及OCA 8172之釋放襯墊中的一者。層壓製程產生具有OCA-L3(具有SNW-C3)及OCA-L4之導電性OCA(實例6)，其具有雙重釋放襯墊。
實例7
如實例6中所描述來製備實例7，不同在於以24 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D2塗佈至OCA-L3上。
實例8
如實例6中所描述來製備實例8，不同在於以28 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D2塗佈至OCA-L3上。
實例9
如實例6中所描述來製備實例9，不同在於以32 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D2塗佈至OCA-L3上。
實例10
如實例6中所描述來製備實例10，不同在於以40 cm3/min之溶液流動速率將SNW-D2塗佈至OCA-L3上。
實例11 丙烯酸酯塗層1(AC-L1)之製備
藉由混合84.5重量百分比之Ebecryl 8402、11.5重量百分 比之SR833-S及4.0重量百分比之Darocur 1173來製備AC-L1。使用狹縫饋入刮刀塗法及在模具加熱至50℃之情況下將所得100%固體混合物塗佈至13吋(33.0 cm)寬之釋放襯墊(襯墊2)上。線速度為10 ft/min(3.05 m/min)。混合物之塗佈寬度為11吋(27.9 cm)，在塗層之兩側上留出1吋(2.5 cm)未塗佈邊緣。使用壓力鍋溶液遞送系統。使用Coolwave UV固化系統(自Ohio,Westlake之Nordson Corporation獲得)來沿線地UV固化該塗層，該Coolwave UV固化系統含有100%功率的H燈泡(零件編號775042A-H，自U.K,Berkshire之Primarc UV technology獲得)，具有分色反射鏡及氮氣淨化件。該Coolwave UV固化系統被包含於允許實現在固化製程期間的氮氣淨化的裝置中。在固化製程期間使用被設定於70℉(21℃)之溫度的背托輥，從而產生AC-L1。最終之經固化的塗佈厚度為30微米。在固化之後，應注意，容易自釋放襯墊移除固化之塗層。
銀奈米線分散液1(SNW-D1)之製備
如實例1中所描述來製備銀奈米線分散液SNW-D1。
具有銀奈米線塗層1(SNW-C1)之AC-L1的製備
在用SNW-D1塗佈之前，使用標準技術在500 J/cm2下且在氮氣下電暈處理AC-L1。使用實例1中所描述之程序及條件將SNW-D1塗佈至AC-L1上。使用一連續製程將SNW-D1塗佈於AC-L1之丙烯酸酯塗層側之上。使用如美國專利第5,759,274號(Maier等人)中所描述之模塗法及裝置來塗佈 SNW-D1。線速度為20 ft/min(6.1 m/min)。塗佈寬度為11吋(27.9 cm)。使用注射泵來以32 cm3/min之流動速率將SNW-D1遞送至塗佈模具。經由一系列的三個2公尺長的烘箱來沿線地乾燥SNW-D1塗層，該等烘箱分別具有122℉(50℃)、176℉(80℃)及230℉(110℃)之設定溫度。
具有銀奈米線塗層1(SNW-C1)之AC-L1及光清潔黏著劑層4(OCA-L4)以及光清潔黏著劑層5(OCA-L5)的製備
使用手層壓技術而用橡膠輥將具有SNW-C1之AC-L1的約6吋(15.2 cm)×10吋(25.4 cm)之薄片層壓至OCA 8172的薄片。在自OCA 8172移除釋放襯墊中之一者之後，將OCA 8172層壓至SNW-C1。緊接著，自AC-L1/SNW-C1/OCA 8172多層建構之AC-L1移除釋放襯墊。在自OCA 8177之薄片移除釋放襯墊之後，將OCA 8177用手層壓至AC-L1，從而形成具有AC-L1(具有銀奈米線塗層1(SNW-C1))及OCA-L4(OCA 8172)以及OCA-L5(OCA 8177)之導電性OCA(實例11)，其具有雙重釋放襯墊。
實例12
如實例11中所描述來製備實例12，不同在於以36 cm3/min之分散液流動速率將SNW-D1塗佈至AC-L1上。
比較實例A
比較實例A為原樣的OCA 8172。
下表1列出實例1-12及比較實例A的表面電阻率、在曝露至升高之溫度及濕度下的表面電阻率、透射、霧度、表面 接觸電阻、透射之色彩及剝離強度。
雖然已參考較佳實施例來描述本發明，但熟習此項技術者應認識到，可在不背離本發明之精神及範疇的情況下作出形式及細節方面的變化。
10‧‧‧導電性光清潔黏著劑(COCA)
12‧‧‧光清潔黏著劑(OCA)層
14‧‧‧互連導電性網路層
16‧‧‧光清潔黏著劑面塗層
18‧‧‧第一釋放基板
20‧‧‧第二釋放基板
22‧‧‧導電墨水周邊
24‧‧‧導電片區域
100‧‧‧導電性光清潔黏著劑
102‧‧‧OCA層
104‧‧‧互連導電性網路層
106‧‧‧OCA面塗層
108‧‧‧第一釋放基板
110‧‧‧第二釋放基板
112‧‧‧加強層
200‧‧‧電子顯示器
202‧‧‧液晶顯示器(LCD)
204‧‧‧觸控感測器
208‧‧‧光清潔黏著劑
圖1為本發明之導電性光清潔黏著劑之第一實施例的橫截面圖。
圖2為圖1之導電性光清潔黏著劑之第一實施例的橫截面圖，其包括導電墨水之周邊及導電片。
圖3為導電墨水之周邊及連接片的X/Y平面視圖。
圖4為本發明之導電性光清潔黏著劑之第二實施例的橫截面圖。
圖5為圖4之導電性光清潔黏著劑之第二實施例的橫截面圖，其包括導電墨水之周邊及導電片。
圖6為定位於電子顯示器內的本發明之導電性光清潔黏著劑之第一實施例的橫截面圖。
10‧‧‧導電性光清潔黏著劑(COCA)
12‧‧‧光清潔黏著劑(OCA)層
14‧‧‧互連導電性網路層
16‧‧‧光清潔黏著劑面塗層
18‧‧‧第一釋放基板
20‧‧‧第二釋放基板

Claims (20)

  1. 一種導電性光清潔黏著劑，其包含：一光清潔黏著劑層；及一定位於該光清潔黏著劑層之上之互連導電性網路層；其中該導電性光清潔黏著劑具有一在約0.5 ohm/sq與約1000 ohm/sq之間的表面電阻率、小於約10%之霧度及一至少約80%之透射率。
  2. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該互連導電性網路層包含奈米線。
  3. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該互連導電性網路層包含一非連續導電層。
  4. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該互連導電性網路層包含一導電圖案。
  5. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該互連導電性網路層包含導電網格。
  6. 如請求項2之導電性光清潔黏著劑，其中該等奈米線係銀。
  7. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其進一步包含一定位於該互連導電性網路層之上之光清潔黏著劑層面塗層。
  8. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其進一步包含一定位於該光清潔黏著劑層與該互連導電性網路層之間的加強層。
  9. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其具有一在約20 ohm/sq與約200 ohm/sq之間的表面電阻率。
  10. 如請求項9之導電性光清潔黏著劑，其具有一在約30 ohm/sq與約150 ohm/sq之間的表面電阻率。
  11. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其具有一小於約5%之霧度。
  12. 如請求項11之導電性光清潔黏著劑，其具有一小於約2%之霧度。
  13. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其具有一大於約85%之透射率。
  14. 如請求項13之導電性光清潔黏著劑，其具有一大於約88%之透射率。
  15. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該導電性光清潔黏著劑係一透明電導體。
  16. 如請求項1之導電性光清潔黏著劑，其中該互連導電性網路層可電接地至一接地平面。
  17. 一種導電性光清潔黏著劑，其包含：一光清潔黏著劑層；一定位於該光清潔黏著劑層之上之導電性奈米線網路層，其中該導電性奈米線網路層幫助控制電磁干擾；及一定位於該導電性奈米線網路層之上之光清潔黏著劑層面塗層。
  18. 如請求項17之導電性光清潔黏著劑，其具有一小於約20 mil之厚度。
  19. 如請求項17之導電性光清潔黏著劑，其中該黏著劑係無雙折射的。
  20. 如請求項17之導電性光清潔黏著劑，其中該光清潔黏著劑層係一壓敏性黏著劑。
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