CN107406727B - 具有透明粘合剂层的带透明导电层的盖构件 - Google Patents

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Abstract

在以两面贴合有PET剥离片的构成提供具有折射率调整分区的粘合剂片时，难以区分粘合剂片自身的表面和背面。本发明为了解决这样的问题，通过提供预先贴合有粘合剂片的带透明导电层的盖构件，在供给目标顾客进行叠层工序时，以可以不区分粘合剂片自身的表面和背面的方式构成，将该带透明导电层的盖构件用于光学构件的接合时，能够抑制由这些光学构件形成的叠层体的内部反射，所述粘合剂片在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的一定范围形成了具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区。

Description

具有透明粘合剂层的带透明导电层的盖构件
技术领域
本发明涉及具有透明粘合剂层的带透明导电层的盖构件。特别是，本发明涉及能够用于将透明的光学构件与其它光学构件接合的具有透明粘合剂层的带透明导电层的盖构件。
背景技术
对于例如液晶显示装置或有机EL显示装置这样的显示装置而言，为了将偏振膜、相位差膜、盖玻璃等透明覆盖构件、其它各种透明光学构件接合到其它光学构件上，会使用粘合剂。即，粘合剂层被设置于待接合的2个光学构件之间，通过将所述2个光学构件相互按压而接合，从而形成光学构件叠层体。在显示装置中，这种构成的光学构件叠层体以透明光学构件侧为可视侧的方式进行配置。对于该构成而言，存在当外部光从可视侧的透明光学构件入射时，入射光在粘合剂层与非可视侧的光学构件的界面反射而返回至可视侧的问题。该问题在外部光的入射角小时变得尤其明显。
另外，对于近年来有增加倾向的具备触摸面板的显示装置而言，在待接合透明光学构件的被接合侧光学构件的表面形成经过了图案化的ITO(铟/锡氧化物)这样的透明的导电层。对于这样的显示装置而言，指出了存在所谓的“图案可见”的问题，所谓“图案可见”是指，在粘合剂层与透明导电层之间的界面处入射光的内部反射的影响下，从可视侧能看到透明导电层的图案。
在任何情况下，内部反射都是由粘合剂与被接合侧光学构件及透明导电层的折射率差所引起的。日本专利第4640740号公报(专利文献1)对于应对该问题的方法给出了启示。即，该专利文献1公开了一种粘合剂组合物，其能够降低在透明光学构件与粘合剂层之间的界面、以及在粘合剂层与被接合侧光学构件之间的界面的光的全反射。对于专利文献1中所公开的组合物，记载了其在干燥后和/或固化后的折射率高，接近于透明光学构件及被接合侧光学构件的折射率。该专利文献1的启示在于，使接合2个光学构件的粘合剂层整体具有的折射率接近于该2个光学构件的折射率。
由该专利文献1所教导的方法虽然可能在抑制界面反射方面有效果，但由于使用特定的单体成分，因此存在组合物自身的价格高的问题。日本专利第5564748号公报(专利文献2)公开了一种折射率经过调整的粘合剂，该粘合剂具有下述构成：使分散平均粒径为1nm以上且20nm以下的氧化锆或氧化钛粒子分散于由丙烯酸类树脂构成的透明粘合剂的整个厚度上。对于该粘合剂而言，可认为由于将作为高折射率材料的氧化锆或氧化钛粒子混合于透明粘合剂中，因此粘合剂层整体的折射率增高，从而能够抑制上述的界面反射。但是，专利文献2的方法需要大量使用高折射率材料，存在作为粘合剂的特性降低的隐患，并且价格高。另外，使用的高折射率材料为无机物质的粒子，因此难以分散，存在因散射而产生白浊的问题。因此，也考虑使用有机材料的粒子，但在该情况下，难以解决着色的问题。
为了对专利文献2中记载的方法进行改良，日本专利第5520752号公报(专利文献3)提出了将分散于粘合剂中的金属氧化物粒子用高分子包覆的方案。专利文献3的启示在于，由于专利文献2的粘合剂层中金属氧化物露出到粘合剂层的表面，存在粘合性降低的问题，因此用高分子包覆该金属氧化物粒子可以解决该问题。由该专利文献3提出的方法或许能够在某种程度上改善粘合剂层的粘合性，但专利文献2中涉及且被指出的大部分问题未被解决。特别是，专利文献3所记载的构成是由特定的高分子包覆金属氧化物粒子，因此与专利文献2的结构相比，其价格更高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第4640740号公报
专利文献2：日本专利第5564748号公报
专利文献3：日本专利第5520752号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的主要目的在于，提供一种贴合有包含粘合剂层的粘合剂片的带透明导电层的盖构件，其能够容易且廉价地制造，在用于光学构件叠层体的接合时，能够有效地抑制内部反射。
以在两面贴合有PET隔膜的构成提供具有折射率调整分区的粘合剂片时，难以区别粘合剂片自身的表面和背面。作为区别的方法，可列举通过剥离PET隔膜时的剥离力差来区别表面和背面的方法。例如，在具有折射率调整分区的粘合剂片中，通过具有下述构成：使贴合于具有折射率调整分区的一面的PET隔膜能够以较轻的力剥离(轻剥离)，并使贴合于相反侧的粘合剂的一面的PET隔膜能够以较重的力剥离(重剥离)，由此能够区别表面和背面。然而，需要设定1.5至3倍左右的剥离力之差，对于供给具有折射率调整分区的粘合剂片的目标顾客而言，会产生在叠层工序中难以调整与载体材料的剥离力的平衡的问题。
解决问题的方法
简而言之，本发明为了解决上述问题，达到目的，通过提供一种预先贴合有粘合剂片的带透明导电层的盖构件，在供给目标顾客进行叠层工序时，以可以不区分粘合剂片自身的表面和背面的方式构成，将该带透明导电层的盖构件用于光学构件的接合时，能够抑制由这些光学构件形成的叠层体的内部反射，所述粘合剂片在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的一定范围形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区。
本发明的一个实施方式的具有透明粘合剂层的带透明导电层的盖构件的所述透明导电层在所述盖构件的内侧经过了图案化，
所述粘合剂层具有从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、和从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，所述折射率调整用分区与所述透明导电层相接、且具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。
优选折射率调整用分区的厚度为20nm～600nm。本发明的一个方式中，折射率调整用分区可以通过在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子而构成，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。该高折射率材料的粒子的折射率优选为1.60～2.74。通过TEM观察得到的高折射率材料的粒子的平均初级粒径优选为3nm～100nm。而且，高折射率材料可以为选自TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5及SnO2中的1种或多种化合物。
本发明的一个方式中，在折射率调整用分区的该另一主面可以形成高折射材料的粒子在该另一主面露出的区域、和该折射率调整用分区的粘合性材料在该另一主面露出的基质区域。在该情况下，高折射材料的粒子在该主面露出的该区域优选以面积比30～99％的范围来形成。另外，该高折射率材料的粒子与该粘合剂基础材料的折射率之差优选为0.15～1.34。
粘合剂层的总光线透射率优选为80％以上。高折射率材料的粒子可以包含以多个粒子凝聚而成凝聚体的形态存在的部分。
优选将折射率调整用分区的厚度设为20nm～600nm。折射率调整用分区如下构成：将具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子分散于与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中，通过该高折射率材料粒子可以提高该折射率调整用分区的平均折射率。在该情况下，优选将粘合剂基础材料的折射率设为1.40～1.55，将高折射率材料的粒子的折射率设为1.60～2.74。在折射率调整用分区与光学构件接合的接合面形成高折射材料的粒子与该光学构件接触的区域、和该折射率调整用分区的粘合性材料与该光学构件接触的基质区域。在该情况下，优选高折射材料的粒子与光学构件接触的区域以面积比30～99％的范围形成。另外，优选高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.15～1.34。
折射率调整用分区可以通过在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中包含具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料而构成，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。另外，将该构成的粘合剂层应用于在光学构件上形成有透明导电层的构成时，优选将透明导电层的折射率设为1.75～2.14，将粘合剂基础材料的折射率设为1.40～1.55，将有机材料的折射率设为1.59～2.04。作为这里使用的具有高折射率的有机材料，没有特殊限定，可列举苯乙烯类这样的具有芳香环的树脂、以及含有硫、氮等杂原子的树脂(例如含有巯基、三嗪环的聚合物)。另外，作为粒子，包含纳米尺寸的有机纳米粒子、球状高分子，粒径优选采用TEM观察的平均初级粒径为3nm～100nm。
优选粘合剂层的总光线透射率为80％以上。高折射率材料的粒子可以包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。折射率调整用分区中含有的高折射材料的粒子通常在粘合剂层的厚度方向上以不规则的深度存在。
为了将透明的第1光学构件接合于构成例如触摸传感器的具有透明导电层的第2光学构件而使用本发明的粘合剂片时，将粘合剂层从支撑体剥离，在透明的粘合性折射率调整用分区面向透明导电层及第2光学构件、并且粘合剂层的相反侧的面面向第1光学构件的状态下，在该透明导电层及该第2光学构件上接合该透明的粘合性折射率调整用分区，并将粘合剂层的该相反侧的面接合于第1光学构件，使折射率调整用分区处于与该透明导电层和该第2光学构件这两者相接的状态，从而填埋该透明导电层与所述第2光学构件之间的高低差，透过第1光学构件入射的外部光在粘合剂基材层和折射率调整用分区的界面处的反射光与其在折射率调整用分区和透明导电层的界面处的反射光通过光学干涉而至少部分相互抵消。
使用本发明的粘合剂片来抑制内部反射时，透过第1光学构件入射的外部光在粘合剂层中实质上由粘合剂基础材料形成的分区和折射率调整用分区的界面处的反射光、与其在折射率调整用分区和第2光学构件的界面处的反射光通过光学干涉而至少部分相互抵消。
发明的效果
根据本发明，由于从粘合剂层的一个面起沿厚度方向形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区，因此，能够形成高折射率的区域而不提高雾度值。因此，将使用了本发明的粘合剂片的盖构件与第2光学构件接合时，作为高折射率区域的折射率调整用分区能够调整与第2光学构件之间的折射率差，由此，能够抑制粘合剂层与第2光学构件之间的界面处的反射。
另外，对于在第2光学构件侧形成了图案化的透明导电层的构成而言，能够通过调整粘合剂层的折射率调整分区的折射率相对于该透明导电层与第2光学构件的折射率来抑制界面反射。此外，通过该透明导电层的反射光与第2光学构件表面的反射光之间的相位差、以及在粘合剂层内部产生的反射光之间的反射光彼此的相位差而产生的抵消效果，能够大幅地降低返回到第1光学构件侧的反射光。
附图说明
图1(a)是示出本发明的粘合剂片的一个实施方式的剖面图。
图1(b)是示出使用本发明的粘合剂片的最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体的剖面图。
图2是示出在本发明的粘合剂片中使用的粘合剂层的一个实施方式的剖面图。
图3是示出在形成有图案化透明导电层的构成中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图。
图4是示出与第2光学构件接触的粘合剂层的主面的状态的平面图。
图5(a)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出分散液的涂布工序的示意图。
图5(b)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出高折射率材料粒子的浸渗工序的示意图。
图5(c)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出干燥工序的示意图。
图6是示出使用了本发明的一个实施方式的叠层有具有折射率调整分区的粘合剂的带透明导电层的盖构件的叠层体的构成的示意图。
图7(a)是示出在本发明的实施例及比较例中使用的带透明导电层的盖构件的构成的示意图。
图7(b)是示出在本发明的实施例及比较例中使用的带透明导电层的盖构件的构成的示意图。
图8(a)示出在本发明的实施例及比较例中使用的带折射率调整分区的粘合剂(A1)(B1)的构成。
图8(b)示出在本发明的实施例及比较例中使用的带折射率调整分区的粘合剂(B1)的构成。
图8(c)示出在本发明的实施例及比较例中使用的带折射率调整分区的粘合剂(C1)的构成。
图8(d)示出在本发明的实施例及比较例中使用的带折射率调整分区的粘合剂(D1)的构成。
图9(a)示出本发明的实施例的光学构件叠层体的构成。
图9(b)示出本发明的实施例的光学构件叠层体的构成。
图9(c)示出本发明的实施例的光学构件叠层体的构成。
图9(d)示出本发明的实施例的光学构件叠层体的构成。
图10(a)示出本发明的比较例的光学构件叠层体的构成。
图10(b)示出本发明的比较例的光学构件叠层体的构成。
图10(c)示出本发明的比较例的光学构件叠层体的构成。
图10(d)示出本发明的比较例的光学构件叠层体的构成。
图11是示出通过本发明的实施例制作的粘合剂层的折射率调整用分区的表面状态的0000倍SEM照片。
图12(a)是示出通过本发明的不同实施例而得到的粘合剂层中折射率调整用分区的高折射率材料粒子分布的30000倍TEM截面照片。
图12(b)是示出通过本发明的不同实施例而得到的粘合剂层中折射率调整用分区的高折射率材料粒子分布的30000倍TEM截面照片。
符号说明
S…粘合剂片
S1、S2…支撑体
1…光学构件叠层体
2…第1光学构件
3、13…透明粘合剂层
3a、13a…基础粘合剂分区
3b、13b…折射率调整用分区
4…第2光学构件
7…透明导电层
17…高折射率材料粒子
19…分散液
20…粘合剂基础材料
21…叠层体
22…盖传感器(玻璃/树脂)
23…具有折射率调整分区的粘合剂(带IM层的粘合剂)
24…图像显示装置(LCD、OLED)
25、28…盖构件
26…玻璃基板
27、31…ITO层
29…COP基板
30…折射率调整层
32…评价用黑PET
33…AR-膜(AR-Film)
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。图1(a)是示出本发明的粘合剂片的一个实施方式的剖面图，(b)是示出使用本发明的粘合剂片的最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体1的剖面图。参照图1(a)，本发明的一个实施方式的粘合剂片S由第1支撑体S1和第2支撑体S2构成，所述第1支撑体S1由光学透明粘合剂层3和贴合于该粘合剂层3的一个主面的剥离纸构成，所述第2支撑体S2由贴合于该粘合剂层3的另一主面的剥离纸构成。参照图1(b)，光学构件叠层体1由光学透明的第1光学构件2和通过光学透明粘合剂层3与该第1光学构件2接合的第2光学构件4构成。将支撑体S1、S2从图1(a)所示的粘合剂片S剥离，并将粘合剂层3贴合于第1及第2光学构件。该透明的第1光学构件2可以由偏振膜、相位差膜、其它光学显示装置中使用的光学膜、或光学显示装置的可视侧盖玻璃这样的透明保护构件构成。分别地，第1光学构件2与粘合剂层3的第1主面5接合，第2光学构件4与粘合剂层3的第2主面6接合。
透明粘合剂层3具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区3a和具有比该基础粘合剂分区3a更高折射率的折射率调整用分区3b。优选形成基础粘合剂分区3a的粘合剂基础材料具有与第1光学构件2的折射率相近的折射率。
粘合剂基础材料只要是能够用于光学用途的具有粘合性的透明材料即可，没有特别限制。例如，可以从丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂、聚酯类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、环氧类粘合剂及聚醚类粘合剂中适当选择使用。从透明性、加工性及耐久性等观点考虑，优选使用丙烯酸类粘合剂。粘合剂基础材料可以单独使用上述粘合剂中的任一种，或者组合使用2种以上。作为丙烯酸类粘合剂的基础聚合物使用的丙烯酸类聚合物没有特别限定，优选以(甲基)丙烯酸烷基酯为主成分的单体的均聚物或共聚物。这里，“(甲基)丙烯酸”这样的用语表示的是“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”中的任一者或两者，其它情况也同样。在本发明中，丙烯酸类聚合物这样的用语除了是指上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外，还包含能够与其共聚的其它单体的意思。粘合剂基础材料的折射率通常为1.40～1.55。
对于粘合剂层3的厚度没有特殊限定，通常为5μm～500μm，优选为5μm～400μm，进一步优选为5μm～500μm。其中，折射率调整用分区3b的厚度优选为20nm～600nm，更优选为20nm～300nm，进一步优选为20nm～200nm。折射率调整分区3b与基础粘合剂分区3a的边界为不规则的凹凸形状，在本发明中，折射率调整分区3b的厚度可以通过将凹凸形状深度的测定值进行平均来确定。基础粘合剂分区的厚度是由粘合剂层3的厚度减去折射率调整分区3b的厚度而得到的值。粘合剂层3整体的总光线透射率以按照JISK7361测定的值计为80％以上，优选为90％以上。粘合剂层3的总光线透射率越高越优选。此外，雾度值优选为1.5％以下，更优选为1％以下。
折射率调整用分区3b可以通过以下方式形成：例如，在由粘合剂基础材料形成的粘合剂层的一面涂布给定量的具有比粘合剂基础材料更高折射率的树脂材料的溶液，并使其干燥。作为能够用于该目的的树脂材料，包括例如专利文献1中记载的粘合剂组合物。或者可以使用以下方法：将具有比粘合剂基础材料更高折射率的有机物、例如苯乙烯低聚物以固态物质的形式分散的分散液涂布于粘合剂基础材料层的表面，并使其干燥。但是，在本发明中，优选如以下图2所说明的那样，从由粘合剂基础材料形成的粘合剂层的一面起浸渗高折射率材料的粒子，使该高折射率材料的粒子分散于与粘合剂层的该面相邻的区域。
以下，参照图2对本发明的一个实施方式的粘合剂层13的构成进行详细说明。
图2所示的本发明实施方式的粘合剂层13与图1所示的实施方式的粘合剂层3同样地具有下述构成：具有第1主面15及第2主面16，且具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区13a、和具有比该基础粘合剂分区13a更高折射率的折射率调整用分区13b，在本实施方式中，折射率调整用分区13b从第2主面16起沿厚度方向的深度浸渗于粘合剂基础材料内，且包含分散于粘合剂基础材料内的高折射率材料的粒子17，由此，构成为具有比基础粘合剂分区13a更高的折射率。
优选折射率调整用分区13b中高折射率材料粒子17的折射率为1.6～2.7的范围。优选高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.2～1.3。折射率调整用分区通过含浸于具有比粘合剂基础材料更高折射率的有机物而形成的情况下，同样地，优选将该有机物与粘合剂基础材料的折射率之差设为0.1～0.6。作为能够在折射率调整用分区中使用高折射率材料粒子的本发明的该实施方式中使用的高折射率材料，有TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO2、Nb2O5及SnO2，可以使用选自其中的1种或多种化合物形成高折射率材料粒子17。高折射率材料粒子17的平均初级粒径为3nm～100nm即可，粒子以各自分散的状态、或部分凝聚的状态分布于折射率调整用分区13b内。折射率调整用分区13b与基础粘合剂分区13a的边界如图1中所说明的那样，为不规则的凹凸形状，在折射率调整用分区13b的厚度测定时，将各测定位置存在90％高折射率材料粒子17的深度的范围作为该测定位置的分区13b的厚度测定值，将多个测定位置的测定值进行平均而作为折射率调整用分区13b的厚度。
图3是示出在第2光学构件4的粘合剂层侧表面形成了例如图案化了的ITO膜这样的透明导电层7的构成中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图，以构成触摸面板传感器。作为该情况下的第2光学构件4的例子，可以列举例如液晶显示装置或有机EL显示装置中的显示面板的玻璃基板。
如图3所示，粘合剂层13的折射率调整用分区13b的主面16与第2光学构件4的粘合剂层侧表面和透明导电层7这两者接合，从而填埋第2光学构件4与透明导电层7之间的高低差。图4是示出与第2光学构件4接触的粘合剂层13的主面16的状态的平面图。如图4所示，高折射率材料粒子17在粘合剂基础材料的基质18中分散成岛状，形成了海岛结构，在粘合剂层13与第2光学构件4接触的面上，存在粘合剂基础材料与第2光学构件4接触的部分、和高折射率材料粒子17与第2光学构件4接触的部分。该位置中的高折射率材料粒子17相对于高折射率材料粒子17与粘合剂基础材料的总面积的面积比优选设为30～99％的范围。
在边长为10μm～200μm的方形区域内，设为高折射率材料粒子17在该方形区域总面积中所占的面积比例，对多个方形区域进行测定，并将其测定值进行平均，由此求出面积比。
图5(a)、图5(b)、图5(c)是示意性地示出制造图2所示的粘合剂层13的工序的图。首先，准备将上述高折射率材料粒子17分散于溶剂中的分散液19和粘合剂基础材料的层20。接着，如图5(a)所示，将该分散液19涂布于粘合剂基础材料层20的表面。通过分散液19的溶剂使粘合剂基础材料层20的表面溶胀，在该过程中，分散液19内的高折射率材料粒子17沿厚度方向浸渗于粘合剂基础材料层20内，将该状态示于图5(b)。然后，通过干燥工序使粘合剂基础材料层20干燥，由此，可以使分散液19的溶剂蒸发而得到图2所示的粘合剂层13，图5(c)示出了该状态。
高折射率材料粒子17相对于粘合剂基础材料层20的浸渗深度由粘合剂基础材料与分散液19的溶剂关系来确定。可以适当选择溶剂使得浸渗深度达到上述值。
实施例
以下，使用实施例对本发明进行详细说明，但只要不超过本发明的主旨，就不限定于以下的实施例。而且，各实例中，份、％均为重量基准，以下，没有特别规定的室温放置条件全部为23℃、65％R.H.。
图6是示出使用了本发明的一个实施方式的带透明导电层的盖构件的叠层体21的构成的示意图，所述带透明导电层的盖构件叠层有具有折射率调整分区的粘合剂。本发明的一个实施方式具有将具有折射率调整分区的粘合剂(带IM层的粘合剂23)的折射率调整分区侧的一面贴合在作为带透明导电层的盖构件的盖传感器(玻璃/树脂)22的具有透明导电层(ITO)的面上的构成。将带IM层的粘合剂23的与折射率调整分区侧相反侧的面贴合在图像显示装置(LCD、OLED)24上。带IM层的粘合剂23上可以叠层LCD面板、OLED等图像显示装置。
本发明的图像显示装置包括本发明的液晶面板。以下，作为一例，对液晶显示装置进行说明，但本发明能够应用于需要液晶面板的任何显示装置。作为能应用本发明的液晶面板的图像显示装置的具体例，可列举液晶显示装置、场致发光(EL)显示器、等离子显示器(PD)、场致发射显示器(FED：Field Emission Display)等。本发明的图像显示装置只要包含本发明的液晶面板即可，其它构成与现有的图像显示装置相同。
对于液晶单元的驱动模式，没有特殊限定，可以使用公知的任何模式，可列举例如：扭曲向列(TN)模式、超扭曲向列(STN)模式、水平取向(ECB)模式、垂直取向(VA)模式、面内开关显示(IPS)模式、边缘场开关(FFS)模式、光学补偿弯曲(OCB)模式、混合排列向列(HAN)模式、强介电性液晶(SSFLC)模式、反强介电性液晶(AFLC)模式的液晶单元，但由于由视角导致的亮度变化/颜色变化较少，优选使用面内开关显示(IPS)模式。另外，对于液晶单元而言，根据需要可以在任意的基板上设置滤色器、黑色矩阵等。
〈使用玻璃基材盖透镜的透明导电层的制作(有图案)〉
通过溅射法在厚度0.65mm的无碱玻璃(折射率1.53)的一面形成20nm的ITO膜，制作了具有结晶化ITO膜(折射率1.85)的透明导电性基材。该结晶性ITO薄膜的Sn比率为3重量％。在所述透明导电层的一部分形成光致抗蚀剂膜后，将其在25℃、5重量％的盐酸(氯化氢水溶液)中浸渍1分钟，进行了透明导电层的蚀刻。由此，制作了相当于电极布线图案的存在透明导电层的部分(图案部)(图7(a)中的ITO27)、和除去了透明导电层的部分(开口部)。将制作的盖构件称为“盖构件(1)”。图7(a)示出的是盖构件(1)(盖构件25)的构成。图中的各层中记载的数值表示折射率。以下，同样地，在其它图(图7至图10)中的各层所记载的数值在没有标记单位的情况下也表示折射率。
〈使用膜基材盖透镜的透明导电层的制作(有图案)〉
使用棒涂机在厚度100μm的环烯烃聚合物膜(日本瑞翁株式会社制造，商品名：“ZEONOR ZF16”，面内双折射率：0.0001)的两面涂布涂敷液，所述涂敷液是在粘合剂树脂(商品名：“UNIDIC RS29-120”，DIC公司制造)100份中添加了直径3μm的多个粒子(商品名：“SSX105”，积水树脂株式会社制造)0.07份而得到的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，分别照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了在两面具有防粘连层的膜(以下称为COP基材)。接着，用棒涂机在COP基材的一面涂布折射率调整剂(商品名：“OpstarKZ6661”，JSR株式会社制造)，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了厚度100nm、折射率1.65的折射率调整层。用卷取式溅射装置在得到的COP基材的折射率调整层的表面叠层了作为透明导电层的厚度23nm的铟锡氧化物层(ITO)。在所述透明导电层的一部分形成了光致抗蚀剂膜后，将其在25℃、5重量％的盐酸(氯化氢水溶液)中浸渍1分钟，进行了透明导电层的蚀刻。由此，制作了相当于电极布线图案的存在透明导电层的部分(图案部)(图7(b)中的ITO31)、和除去了透明导电层的部分(开口部)。制作的盖构件被称作“盖构件(2)”。图7(b)示出的是盖构件(2)(盖构件28)的构成。
对于透明导电层而言，优选具有导电性且具有透明性、可视性、并能够形成图案的层。作为透明导电层的构成材料，没有特殊限制，可使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨所组成的组中的至少一种金属的金属氧化物。根据需要，也可以在该金属氧化物中进一步含有上述组中所示的金属原子。根据用途，透明导电层可以采用梳状、条状、菱形形状等任意的形状。例如，优选使用含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有锑的氧化锡等，特别优选使用ITO。另外，作为所述ITO，可以是结晶性ITO、非结晶性(无定形)ITO中的任一种。结晶性ITO可以通过在溅射时施加高温、对非结晶性ITO进一步加热等而得到。作为ITO，优选含有氧化铟80～99重量％及氧化锡1～20重量％。
透明导电层的厚度没有特殊限制，优选设为7nm以上，更优选设为12～200nm，进一步优选设为12～100nm，特别优选设为18～70nm。透明导电层的厚度小于7nm时，透明导电层在面内不均匀地附着，面板面内的电阻值不稳定，有不能得到给定电阻值的倾向。另一方面，大于200nm时，透明导电层的生产性下降，成本也上升，此外，光学特性也有下降的倾向。
作为透明导电层的形成方法，没有特殊限定，可以采用以往公知的方法。具体而言，可示例出例如真空蒸镀法、溅射法、离子镀法。另外，也可以根据需要的层厚采用适宜的方法。
也可以在导电层与盖构件间、导电层与粘合剂之间具有内衬层、外涂层。所述涂层可以由1层、或2层以上的多层形成。所述涂层也可以具有折射率调整功能。所述涂层的折射率优选为导电层的折射率以下。所述涂层也可以具有阻气功能、防锈功能。
透明导电层可以含有金属纳米线或金属网。金属纳米线是指材质为金属、形状为针状或丝状、直径为纳米尺寸的导电性物质。金属纳米线可以为直线状，也可以为曲线状。如果使用由金属纳米线构成的透明导电层，则通过使金属纳米线成为网眼状，从而即使用少量的金属纳米线也能够形成良好的导电路径，能够得到电阻率小的透明导电膜。此外，通过使金属纳米线成为网眼状，在网眼的间隙形成开口部，能够得到透光率高的透明导电膜。
作为构成金属纳米线的金属，只要是导电性高的金属，就可以使用任意合适的金属。作为构成所述金属纳米线的金属，可列举例如银、金、铜、镍等。另外，也可以使用对这些金属进行了镀敷处理(例如镀金处理)而得到的材料。从导电性的观点出发，优选银、铜或金，更优选银。
对于含有金属网的透明导电层而言，金属细线在所述基材叠层体上形成为格子状的图案。可以使用与构成所述金属纳米线的金属相同的金属。含有金属网的透明导电层可以通过任意合适的方法形成。透明导电层可以通过下述方法形成：例如将含有银盐的感光性组合物(透明导电层形成用组合物)涂布于基材叠层体上，然后，进行曝光处理及显影处理，使金属细线形成给定的图案。
对于盖构件而言，由于经过布线图案、黑色矩阵的形成、结晶化处理等工序，因此需要优异的耐热性、耐药品性。作为盖构件的材质，可列举玻璃、透明树脂基板，可以由单层、几个构件的复合系形成。盖构件的厚度为0.05～2.00mm，优选为0.1～1.3mm，特别优选为0.2～1.1mm。使用厚度为0.2mm以下的玻璃的情况下，得到弯曲性优异的基板，但由于防止裂纹的发展及破裂的风险，优选在该玻璃的单侧或两侧具备树脂层。而且，优选基材的一部分或全部成型为曲线、曲面形状。
盖构件的材质为玻璃时，选择钠玻璃、无碱玻璃、硼硅酸玻璃、铝硅酸盐玻璃等强度及透射率优异的剥离。选择强度优异的玻璃板时，能够实现薄型化，特别是，化学强化玻璃(铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃)的耐压强度优异，优选使用。
作为透明树脂基板的原料，可以使用例如：PET、PEN等聚酯类树脂、COP、COC等环烯烃类树脂、PE、PP、聚苯乙烯、EVA等聚烯烃类树脂、乙烯基类树脂、聚碳酸酯类树脂、氨基甲酸酯类树脂、聚酰胺类、聚酰亚胺类、丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚丙烯酸酯类树脂、聚砜类树脂、倍半硅氧烷类树脂、三乙酸纤维素(TAC)等。为了避免由相位差而导致的着色干扰不均的发生，优选光学各向同性的基材。作为优选的光各向同性的树脂材料，可列举环烯烃类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚丙烯酸酯类树脂。
可以在从图像显示装置观看时的盖构件的外侧(可视侧)具有功能层。作为功能层，可列举硬涂(HC)层/防反射层/防污层/防静电层/以扩散或防眩光为目的的处理等，可以将它们任意组合/复合而形成。另外，也可以对盖构件、所述功能层赋予紫外线吸收功能。
可以在盖构件的外侧、内侧的任意侧上叠层用于防止飞散的保护膜。防飞散膜也可以具有上述功能层。为了避免由相位差导致的着色干扰不均的发生，优选使用光学各向同性的基材(未拉伸的环烯烃聚合物膜、通过铸塑法形成的聚碳酸酯膜)。此外，也可以形成在盖构件与图像显示装置间的任意位置配置用于与太阳镜对应的相位差板(λ/4波片)的构成。优选将相位差板(λ/4波片)配置为使慢轴相对于图像显示装置的可视侧偏振板的吸收轴成为45度。
可以在盖构件上设置装饰层。装饰层由树脂粘合剂和含有颜料或染料作为着色剂的着色油墨而形成。通过丝网印刷、胶版印刷、凹版印刷等方法以单层/多层形成，该印刷层的厚度通常设为0.5～50μm左右。另外，为了表现金属光泽色，可以形成由通过蒸镀法、溅射法形成的金属薄膜层构成的层。装饰层可以形成在盖构件的任意面，也可以形成并叠层在所述防飞散膜等膜上。
〈粘合剂的制作〉
(丙烯酸低聚物的制作)
将丙烯酸二环戊二烯酯(DCPMA、甲基丙烯酸二环戊二烯酯)60重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA、甲基丙烯酸甲酯)40重量份、作为链转移剂的α-硫代甘油3.5重量份、以及作为聚合溶剂的甲苯100重量份加入到四颈烧瓶中，并将它们在氮气氛围下于70℃搅拌了1小时。接着，将作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.2重量份加入到四颈烧瓶中，在70℃下反应2小时，接下来在80℃反应了2小时。然后，将反应液投入130℃温度氛围下，干燥并除去甲苯、链转移剂及未反应单体，从而得到了固体形态的丙烯酸类聚合物。将这样得到的丙烯酸类聚合物称为“丙烯酸类聚合物(A-1)”。该丙烯酸类聚合物(A-1)的重均分子量(Mw)为5.1×103。
(粘合剂A的制作)
向由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)68重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)14.5重量份、以及丙烯酸2-羟基乙酯(HEA)17.5重量份构成的单体混合物中配合光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 184”，BASF公司制造)0.035重量份、以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE651”，BASF公司制造)0.035重量份后，使该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分地发生光聚合，得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。
向得到的该丙烯酸类聚合物粘液中添加上述丙烯酸类聚合物(A-1)5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、和硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制造)0.3重量份并均匀地混合，得到丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布在剥离膜(商品名“Diafoil MRF#38”，三菱树脂株式会社制造)的经剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到200μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面包覆剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制造)，以使该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，使单体成分的涂布层与氧气隔绝。然后，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层。
〈粘合剂Ba的制作〉
将丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)28.5重量份、丙烯酸异硬脂酯(ISTA)28.5重量份、丙烯酸降冰片酯22重量份、丙烯酸-4-羟丁酯(4HBA)20重量份、2种光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制造)0.05重量份、及光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制造)0.05重量份配合后，将该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分地发生光聚合，由此得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。
在如上所述地得到的丙烯酸类聚合物粘液的100重量份中添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.3重量份、硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制造)0.3重量份并均匀地混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布于剥离膜(商品名“Diafoil MRF#38”，三菱树脂株式会社制造)的经过了剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到175μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面包覆剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制造)，以使该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，单体成分的涂布层与氧气隔离。然后，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层。
〈粘合剂Bb的制作〉
除了使形成粘合剂层后的厚度达到25μm以外，通过与粘合剂Ba相同的过程形成。
〈粘合剂C的制作〉
将丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)32重量份、丙烯酸异硬脂酯(ISTA)48重量份、丙烯酸2-羟基丙酯(2HPA)20重量份、2种光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制造)0.05重量份、及光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制造)0.05重量份投入到4颈烧瓶中，制备了单体混合物。接下来，将该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分发生光聚合，由此得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。在如上所述地得到的丙烯酸类聚合物粘液的100重量份中添加三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.02重量份、硅烷偶联剂(商品名：KBM-403，信越化学工业株式会社制造)0.3份后，将它们均匀地混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布于剥离膜(商品名“DiafoilMRF#38”，三菱树脂株式会社制造)的经过了剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到200μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面包覆剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制造)，以使该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，单体成分的涂布层与氧气隔离。然后，以照度：5mW/cm2、光量：1500mJ/cm2的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层。
〈粘合剂D的制作〉
在具备温度计、搅拌器、回流冷凝管及氮气导管的可分离式烧瓶中加入作为单体成分的丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)63重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)15重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)9重量份、丙烯酸羟基乙酯(HEA)：13重量份、及作为聚合溶剂的乙酸乙酯200重量份，一边通入氮气一边搅拌了1小时。如上所述地除去了聚合体系内的氧后，加入作为聚合引发剂的2,2′-偶氮二异丁腈0.2重量份，升温至60℃，反应了10小时。然后，加入甲苯，得到了固体成分浓度为30重量％的丙烯酸类聚合物溶液。得到了重均分子量(Mw)80万的丙烯酸类聚合物。在该丙烯酸类聚合物的溶液(固体成分100份)中加入作为异氰酸酯类交联剂的三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(三井化学株式会社制造的“TAKENATE D110N”)0.1份、硅烷偶联剂(信越化学株式会社制“KBM-403”)0.2份，制备了粘合剂组合物(溶液)。将如此制备的粘合剂溶液涂布在剥离膜(商品名“Diafoil MRF#75”，三菱树脂株式会社制造)的经过了剥离处理的面上，以使形成粘合剂层后的厚度达到100μm，在常压下以60℃加热干燥3分钟，接下来在155℃下加热干燥4分钟，进一步在50℃下进行72小时的熟化，制作了粘合剂层。
粘合剂的光学透明性、粘接性、凝聚性(加工性)优异。对于粘合剂的材料而言，可以从丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂、聚酯类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、环氧类粘合剂、及聚醚类粘合剂中适当选择使用。粘合剂层的厚度没有特殊限定，但通常为5μm～500μm，优选为10μm～350μm，进一步优选为25μm～250μm。
可以在本发明所使用的粘合剂基础材料中添加各种添加剂。为了提高在高温多湿条件下的密合性，优选加入各种硅烷偶联剂。此外，通过添加交联剂，能够赋予与粘合剂的耐久性相关的凝聚力，因此优选。另外，根据需要，也可以适宜使用粘度调整剂、剥离调整剂、增稠剂、增塑剂、软化剂、包含无机粉末等的填充剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、pH调整剂(酸或碱)、抗氧剂、防锈剂、紫外线吸收剂等。
粘合剂片(粘合剂层)的形成方法没有特殊限定，可以在各种基材(脱模膜、透明树脂膜)上涂布所述粘合剂组合物，通过热烘箱等干燥器进行干燥，使溶剂等挥发，从而形成粘合剂层，也可以是在各种基材上对活性能量射线固化性组合物进行紫外线照射等固化处理而形成的方法，以及对热固性树脂组合物加热、使其固化而形成的方法。
此外，还可以是下述方法：在盖构件中形成了给定图案的透明导电层(传感器)上直接涂布活性能量射线固化性组合物，进行紫外线照射等固化处理而形成的方法；以及对热固化性树脂组合物加热、使其固化而形成的方法。
[带折射率调整分区的粘合剂的制作]
〈使用粘合剂A/高折射率材料的纳米粒子分散液的实例〉
(使用粘合剂A/纳米粒子分散液的实例)
粘合剂层的厚度为200μm，将在该粘合剂层的两面被PET剥离片保护的状态下的粘合剂A(粘合剂层的折射率：1.49)的一个轻剥离PET片剥离。用棒涂机RDS No.5在露出的粘合剂层的表面涂布作为含有高折射率粒子的分散液的含有氧化锆粒子(ZrO2，折射率：2.17，平均初级粒径：20nm)的涂布用处理液(分散介质：乙醇，粒子浓度：1.2重量％，分散液的透射率：82％，CIK Nanotech公司制造)，并使得折射率调整分区的厚度为20nm～200nm，用110℃的干燥烘箱干燥了180秒钟。接下来，在分散有氧化锆(ZrO2)粒子的粘合剂层表面贴合作为支撑体的PET剥离片(75μm)，得到了带折射率调整分区的粘合剂(A1)。需要说明的是，氧化锆粒子的平均初级粒径通过TEM观察来测量。图8(a)示出的是带折射率调整分区的粘合剂(A1)的构成。
〈其它实例〉
与上述实例同样地，使用下述粘合剂及高折射率材料的纳米粒子分散液，并同样地制作了带折射率调整分区的粘合剂(B1)、(C1)、(D1)。使用的材料是粘合剂Ba(折射率1.48)、粘合剂C(折射率1.48)、粘合剂D(折射率1.49)、ZrO2纳米粒子分散液(分散介质：乙醇，粒径20nm)。图8(b)、(c)、(d)示出的是带折射率调整分区的粘合剂(B1)、(C1)、(D1)的构成。
需要说明的是，研究中所使用的粘合剂的特性一览示于下表中。
Figure BDA0001392112670000201
粘合折射率调整用分区可以从折射率比粘合剂基础材料的折射率更高的材料中选择合适的材料使用。从与粘合剂基础材料的相容性(在低温下的渗出、在高温下的偏析的风险)的观点、确保高温下的可靠性的观点出发，优选无机类的高折射率材料。可以使用从TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO2、Nb2O5及SnO2中选出的1种或多种化合物。高折射率材料粒子的平均初级粒径优选为3nm～100nm。折射率调整用分区的厚度优选为20nm～600nm，更优选为20nm～300nm，进一步优选为20nm～200nm。
〈基材盖透镜与粘合剂的叠层体的制作(实施例和比较例)〉
(实施例1)
制作了图9(a)所示的光学构件叠层体。将带折射率调整分区的粘合剂(A1)的折射率调整分区侧的PET剥离片剥离并贴合于具有导电层的盖构件(1)(盖构件25)的透明导电层的一侧，并使得折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)与该透明导电层接触，制作了带透明导电层的盖叠层体(A)。另外，为了测定反射率，在与折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)的相反侧粘贴了评价用黑色PET膜32。
(实施例2)
制作了图9(b)所示的光学构件叠层体。将叠层的粘合剂变更为带折射率调整分区的粘合剂(B1)，剥离折射率调整分区侧的PET剥离片，并贴合于具有导电层的盖构件(1)(盖构件25)的透明导电层的一侧，并使得折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)与该透明导电层接触。接下来，在盖构件(1)的与电极面侧相反的玻璃面侧，使用粘合剂(Ba)贴合具有厚度43μm的防反射层的三乙酸纤维素(TAC)膜(AR-膜33)，制作了带透明导电层的盖叠层体(B)。另外，为了测定反射率，在与折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)的相反侧粘贴了评价用黑色PET膜32。
(实施例3)
制作了图9(c)所示的光学构件叠层体。将叠层的粘合剂变更为带折射率调整分区的粘合剂(C1)，剥离折射率调整分区侧的PET剥离片，并贴合于具有导电层的盖构件(2)(盖构件28)的透明导电层的一侧，并使得折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)与该透明导电层接触，制作了带透明导电层的盖叠层体(C)。另外，为了测定反射率，在与折射率调整分区(具有高折射率粒子的一侧)的相反侧粘贴了评价用黑色PET膜32。
(实施例4)
制作了图9(d)所示的光学构件叠层体。将叠层的粘合剂变更为带折射率调整分区的粘合剂(D1)，制作了带透明导电层的盖叠层体(D)，除此以外，与实施例3同样地进行了制作。
(比较例1)
制作了图10(a)所示的光学构件叠层体。将叠层的带折射率调整分区的粘合剂(A1)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂A，制作了带透明导电层的盖叠层体(E)，除此以外，与实施例1同样地进行了制作。
(比较例2)
制作了图10(b)所示的光学构件叠层体。将叠层的带折射率调整分区的粘合剂(B1)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂B1，制作了带透明导电层的盖叠层体(F)，除此以外，与实施例2同样地进行了制作。
(比较例3)
制作了图10(c)所示的光学构件叠层体。将叠层的带折射率调整分区的粘合剂(C1)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂C，制作了带透明导电层的盖叠层体(G)，除此以外，与实施例3同样地进行了制作。
(比较例4)
制作了图10(d)所示的光学构件叠层体。将叠层的带折射率调整分区的粘合剂(D1)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂D，制作了带透明导电层的盖叠层体(H)，除此以外，与实施例4同样地进行了制作。
实施例/比较例的一览、及反射率的测定结果示于下表。
表2
Figure BDA0001392112670000231
[评价方法]
〈偏振片的单体透射率、偏振度的测定〉
使用紫外可见分光光度计(日本分光公司制造，制品名“V7100”)测定偏振膜的单体透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc)，根据下式求出了偏振度(P)。
偏振度P(％)＝{(Tp－Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
需要说明的是，上述Ts、Tp及Tc通过JIS Z8701的2度视野(C光源)进行测定，是进行了视感度补正而得到的Y值。
〈丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)的测定〉
制作的丙烯酸类聚合物的重均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱法)测定。
装置：东曹株式会社公司制，HLC-8220GPC
柱：
样品柱：东曹株式会社制，TSK guardcolumn Super HZ-H(1根)+TSK gelSuperHZM-H(2根)
参照柱：东曹株式会社制，TSK gel Super H-RC(1根)
流量：0.6mL/min
注入量：10μL
柱温：40℃
洗脱液：THF
注入试料浓度：0.2重量％
检测器：差示折射计
需要说明的是，重均分子量通过聚苯乙烯换算而算出。
〈粘合剂层的表面状态的观察〉
使用FE-SEM、在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍及20,000倍对各实施例的粘合剂层的具有高折射率材料粒子一侧的表面进行了观察。图11示出了20,000倍的照片。可知高折射率材料粒子均匀地分散。
〈分层结构的观察〉
使用透射电子显微镜(TEM)以倍率30,000倍对实施例的粘合剂层中具有高折射率材料粒子一侧的表面附近的截面进行了观察。将其结果示于图12(a)、(b)。可知，对于图12(a)而言，高折射率材料粒子基本均匀地分布于折射率调整用分区的几乎整个厚度上，而对于图12(b)的实例而言，粘合剂层中的高折射率材料粒子在粘合剂层的表面处分布最多，且具有沿着粘合剂层的厚度方向逐渐减少的分布。
〈平均表面折射率〉
实施例及比较例中得到的粘合层的平均表面折射率是使用分光椭圆偏振仪(EC-400，JA.Woolam公司制造)测定的钠D线(589nm)的折射率。对于实施例及比较例的粘合层而言，以剥离两面剥离片且将黑板贴合于未涂布粒子的面上的状态测定了涂布有粒子的面的平均折射率。比较例的粘合片以剥离两个剥离片且将黑板贴合于一面的状态测定了粘合剂层表面的平均折射率。
〈折射率调整分区层的厚度的测定〉
调整粘合剂层深度方向的截面并进行了TEM观察。根据得到的TEM图像(直接倍率3000～30000倍)进行了折射率调整分区厚度的测定。折射率调整分区的厚度为基础粘合剂层与调整分区的界面的凹凸的平均值，在难以辨别与基础粘合剂层的界面的情况下，用图像处理软件(ImageJ)对表面TEM图像进行二值化图像处理，以存在90％的纳米粒子的区域的深度作为调整分区的厚度。
〈高折射率粒子的面积比率〉
使用FE-SEM、在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍对粘合剂层的粒子涂布侧的表面进行了观察。通过用图像处理软件(ImageJ)对得到的表面SEM图像进行二值化图像处理，求出了高折射率粒子占长边23μm、短边18μm的长方形区域的总面积的面积比率(％)。
〈总光线透射率、雾度值〉
对于实施例及比较例中得到的粘合片，将涂布了高折射率材料的一侧的剥离片剥离，贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1，厚度：0.8～1.0mm，总光线透射率：92％，雾度：0.2％，松浪硝子工业株式会社制造)上。再剥离另一个剥离片，制作了具有基础粘合剂层/粘合性折射率调整用层/载玻片的层结构的试验片。另外，对于比较例的粘合片而言，将一个剥离片剥离并贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1，厚度：0.8～1.0mm，总光线透射率：92％，雾度：0.2％，松浪硝子工业株式会社制造)上，再剥离另一个剥离片，制作了具有基础粘合剂层/载玻片的层结构的试验片。使用雾度仪(装置名：HM-150，株式会社村上色彩研究所制造)测定了上述试验片在可见光区域的总光线透射率、雾度值。
〈180度剥离粘接力(对玻璃板的180度剥离粘接力)〉
由实施例及比较例中得到的粘合片切出长100mm、宽25mm的片。接着，将实施例及比较例的片上未涂布粒子侧的剥离片剥离并粘贴了PET膜(衬底)(商品名：Lumirror S-10，厚度：25μm，东丽株式会社制造)。另外，对于比较例1、2的片而言，剥离一个剥离片并粘贴了PET膜(衬底)(商品名：Lumirror S-10，厚度：25μm，东丽株式会社制造)。接下来，剥离另一个剥离片，用2kg辊在往复1次的压接条件下对作为试验板的玻璃板(商品名：钠钙玻璃#0050，松浪硝子工业株式会社制造)进行压接，制作了由试验板/粘合剂层/PET膜构成的样品。对得到的样品进行高压釜处理(50℃、0.5MPa、15分钟)，然后在23℃、50％R.H.的气体氛围下自然冷却了30分钟。自然冷却后，使用拉伸试验机(装置名：Autograph AG-IS，株式会社岛津制作所制造)并基于JIS Z0237标准在23℃、50％R.H.的气体氛围中于拉伸速度300mm/分钟、剥离角度180°的条件下从试验板上剥离粘合片(粘合剂层/PET膜)，测定了180°剥离粘接力(N/25mm)。另外，制作各实施例、比较例中未涂布高折射率粒子的粘合片，也与上述同样地对这些未涂布高折射率粒子的粘合片测定了180度剥离粘接力。
〈含有高折射率粒子的分散液的透射率〉
用光电比色计(AC-114，OPTIMA公司制造)并使用530nm的滤光片测定了含有高折射率粒子的分散液的透射率。将单独的分散溶剂的透射率设为100％，测定了各实施例、比较例中使用的分散液的透射率(％)。
〈反射抑制率、反射色相(b*)改善率的测定〉
将实施例及比较例的光学构件叠层体的一面作为反射率测定面，在相反侧的面上粘贴单面带有粘合的黑色PET(PET75NBPET38，琳得科株式会社制)，制成了反射率测定用试料。用反射式分光光度计(U4100，HitachiHigh-Tech公司制造)测定了光学构件叠层体的反射率测定面侧的反射率(Y值)及反射率测定面侧的反射色相(L*、a*、b*值：CIE1976)。在对透明导电层进行了蚀刻的部分和未蚀刻的部分两者的位置均进行了测定。即，对透明导电层进行了蚀刻的部分(开口部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整分区与光学构件叠层体的基材的界面的反射率，未蚀刻部分(图案部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整分区与透明导电层界面的反射率。关于反射色相也同样。
分别对于蚀刻部分和未蚀刻部分基于下式计算出反射抑制率。需要说明的是，下式中的“无粒子时的反射率(％)”是指比较例(未使用粒子时)的光学构件叠层体的反射率。即，反射抑制率是表示通过具有折射率调整分区能够在多大程度上降低反射率的指标。
反射抑制率(％)＝反射率(％)－无粒子时的反射率(％)
对于反射色相改善率而言，分别对于蚀刻部分和未蚀刻部分求出色值的差分(ΔL*、Δa*、Δb*)，然后基于下式计算出色差值(ΔE*ab)。
色差值ΔE*ab＝[(ΔL*)＾2+(Δa*)＾2+(Δb*)＾2]＾(1/2)
即，光学构件叠层体的反射色差值(ΔE*ab)是表示蚀刻部分与未蚀刻部分的颜色差异的指标。
由于盖构件(树脂板)的折射率调整分区(IM层)的影响，图案外观通过反射率没有产生大的差别，难以看出，因此，追加了反射的色差值ΔE*ab。ΔE*ab越小，表示颜色越接近。(ΔE*ab＝0是完全相同的颜色)通常ΔE*ab为1以下时，是指基本上判断不出变化。通过抑制导电层(ITO)的短波长侧的反射光，表现出能够通过抑制颜色的差异而改善外观。
〈图案外观的判定〉
作为图案外观的评价，根据导电层部与没有导电层的部分的反射率差(％)和反射色差值进行了判定。反射率差(％)为1.0％以上时判定为×。在反射率差小于1.0％的情况下，色差值小于1.0时判定为◎，小于1.0～3.0时判定为○，为3.0以上时判定为△。
根据表2所示的测定结果，使用带透明导电层的盖叠层体(A)至(D)的实施例1至4的反射抑制率为负0.6％至负0.3％，通过带透明导电层的盖叠层体(A)至(D)中含有的带折射率调整分区的粘合剂而抑制了反射，得到了改善效果。为了对改善效果进行详细的讨论，进行了上述图案外观的判定，色差值为0.9至2.9，可以得到良好结果。另一方面，对于比较例1至4而言，在带透明导电层的盖叠层体(E)至(H)中不含带折射率调整分区的粘合剂，因此，没有特别地抑制反射，也看不到改善效果。另外，色差值为4.5至8.8，未得到良好的结果。由此，本发明的实施方式的带透明导电层的盖叠层体(A)至(D)能够有效地抑制反射。
工业实用性
如上所述，在本发明中，在将第1光学构件与第2光学构件接合的粘合剂层中，从第2光学构件侧的一面起沿厚度方向设置具有比粘合剂基础材料的折射率更高折射率的折射率调整分区，因此，能够抑制外部光的内部反射光透过第1光学构件而返回。本发明能够应用于液晶显示装置及有机EL显示装置这样的光学显示装置。本发明可以特别有利地应用于具有触摸传感器的触摸面板方式的显示装置。

Claims (14)

1.一种带透明导电层的盖构件，其具有透明粘合剂层，其中，
所述透明导电层含有金属纳米线或金属网，并且在所述盖构件的内侧经过了图案化，
所述盖构件的厚度为0.05～2.00mm，
所述粘合剂层是由透明的粘合剂基础材料形成且具有相对的2个主面的单一层，并且该粘合剂层具有以下构成：包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、和从该单一层的粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，所述折射率调整用分区与所述透明导电层相接，并且在所述单一层的粘合剂基础材料中含有具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率的材料。
2.根据权利要求1所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述盖构件为玻璃或透明树脂基材。
3.根据权利要求1所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述折射率调整用分区的厚度为20nm～600nm。
4.根据权利要求1所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述折射率调整用分区如下构成：通过在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。
5.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述高折射率材料的粒子的折射率为1.60～2.74。
6.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，通过TEM观察得到的所述高折射率材料的平均初级粒径为3nm～100nm。
7.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述高折射率材料的粒子与所述粘合剂基础材料的折射率之差为0.15～1.34。
8.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述高折射率材料为选自TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5及SnO2中的1种或多种化合物。
9.根据权利要求1所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述折射率调整用分区如下构成：通过在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中含有具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。
10.根据权利要求9所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55，所述有机材料的折射率为1.59～2.04。
11.根据权利要求1所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述粘合剂层的总光线透射率为80％以上。
12.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述高折射率材料的粒子包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。
13.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，在所述粘合剂层的厚度方向上以不规则的深度存在所述折射率调整用分区。
14.根据权利要求4所述的带透明导电层的盖构件，其中，所述折射率调整用分区中，所述透明导电层的折射率n1、所述折射率调整分区的折射率n2及所述粘合剂基础材料的折射率n3的关系为n1＞n2＞n3。
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