TW201307906A - 彩色濾光片形成基板及其製作方法，暨顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種彩色濾光片形成基板，其係於在多功能終端中所使用之彩色濾光片形成基板之彩色濾光片用之各著色層之周邊配置有邊框，且遍及顯示區域與框架之邊界部整體而由該邊框部形成有非顯示區域之情形時，在斷開顯示時，顯示區域與顯示區域周邊之屬於非顯示區域的邊框部之區域的差較小。上述彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而設置有由遮光性著色層所構成之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且於上述基材與邊框部之間，具備對上述非顯示用區域之遮光性著色層之外部光反射進行控制的反射控制層。

Description

彩色濾光片形成基板及其製作方法，暨顯示裝置
本發明係關於一種顯示裝置用之彩色濾光片形成基板及其製作方法，暨顯示裝置，尤其關於一種彩色濾光片形成基板，其係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而作為非顯示用區域設置遮光性著色層為邊框部的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且在用於顯示裝置之情形時，可消除在斷開顯示裝置之顯示時，顯示區域周邊之非顯示區域之邊框部之區域看起來較顯示區域明亮之不良情況。
近年來，顯示裝置之普及異常顯著，作為平面顯示器面板，係廣泛使用液晶顯示裝置。
通常，液晶顯示裝置係呈下述構造：使於透明基板之一面配設有由遮光性著色層所構成之黑矩陣層及各色之著色層的彩色濾光片形成基板、與對向電極基板(亦稱為TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體)基板)隔開既定之間隙而相向地配置，並於該間隙內密封液晶之構造，且藉由對液晶之配向進行電性控制而控制各色之著色層之像素的透光率，從而顯示彩色圖像。
於此種液晶顯示裝置中，彩色濾光片形成基板之品質會影 響顯示品質本身。
另一方面，最近，多功能終端(亦稱為高功能終端)之普及逐漸盛行，可預見平板型之多功能終端亦會迅速普及，作為該等終端之顯示部，係使用液晶顯示裝置，但要求較高之顯示品質及設計性。
例如，平板型之多功能終端有使用下述顯示裝置用之彩色濾光片形成基板110之情況，該彩色濾光片形成基板110係如圖6(a)所示，將透明基板作為基材111，於該基材111之一面側，在顯示用區域113S配置有彩色濾光片用之各色之著色層113，且遍及該顯示用區域113S之周邊全周而作為非顯示用區域設置遮光性著色層為邊框部112。
再者，圖6(a)係習知之彩色濾光片形成基板之平面圖，圖6(b)、圖6(c)係分別於圖6(a)之E1-E2、E3-E4處向箭頭之方向觀察之圖，圖6(d)係圖6(a)之E5部之放大圖，圖6(e)係圖6(a)之E6部之放大圖。
圖7係使用有圖6所示之彩色濾光片形成基板110的平板型之多功能終端120之平面圖。
並且，通常彩色濾光片用之各色之著色層、黑矩陣用之著色層、邊框用之著色層的形成係藉由光微影步驟而形成，且邊框部112與黑矩陣(未圖示)係利用同一光微影步驟一起形成。
通常，平板型之多功能終端120使用圖6所示之彩色濾光 片形成基板110，將透明基板所構成之基材111側設為框架121側，將邊框部112之區域之一部分設為非顯示區域123，且使顯示區域122及寬度1 mm左右之非顯示區域123可自框架121之內側之開口處由觀察者側觀察到。
將非顯示區域123如上述般設為寬度1 mm左右之主要理由在於，使顯示區域整體確實地由觀察者觀察到，且讓使用有彩色濾光片形成基板110之顯示面板與框架之位置精度有餘裕。
然而，於圖7所示之平板型之多功能終端120中，在斷開顯示區域122之顯示時，顯示區域122之周邊之屬於非顯示區域123的邊框部的區域看起來較顯示區域122明亮，顯示區域122與非顯示區域123之差異明顯，外觀不良而成為問題。
再者，於上述之說明中，主要舉出液晶顯示裝置為例進行說明，但上述問題並不限定於液晶顯示裝置，亦有可能同樣地產生於使用有在顯示用區域之周邊之非顯示用區域具有邊框部之彩色濾光片形成基板的顯示裝置中。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：WO2010-150668號公報
專利文獻2：日本專利特開2009-053893號公報
如上所述，最近多功能終端之普及逐漸盛行，尤其可預見平板型之多功能終端亦會迅速普及，作為該等終端之顯示部，係使用液晶顯示裝置，但要求較高之顯示品質及設計性。
其中，於多功能終端中使用有下述顯示裝置用之彩色濾光片形成基板，即，如圖6(a)所示將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而作為非顯示用區域設置遮光性著色層為邊框部的顯示裝置用彩色濾光片形成基板之情形時，有在斷開顯示區域之顯示時，顯示區域之周邊之作為非顯示區域之邊框部的區域看起來較顯示區域明亮，顯示區域與非顯示區域之差異明顯，導致外觀不良的不良情況，從而謀求上述情況之對策。
本發明係應對上述情況，欲提供下述者：於顯示裝置中使用下述顯示裝置用彩色濾光片形成基板，即，將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而作為非顯示用區域設置遮光性著色層為邊框部的顯示裝置用彩色濾光片形成基板之情形時，在斷開顯示時，顯示區域與顯示區域周邊之作為非顯示區域之邊框部的差異變小，而外觀良好。
本發明之彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，其特徵在於：上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層、遮光性著色層。
並且，如上述之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層為著色層，且作為上述反射控制層之著色層係由上述彩色濾光片用之各色之著色層中之1種以上所構成。
再者，此處，在用於顯示裝置時，將成為顯示區域之區域設為顯示用區域，又，將不成為顯示區域之區域設為非顯示用區域。
又，如上述任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將相同之1種著色層設為單層而配置。
或者，如上述任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將不同之數種著色層並列且作為單層而配置。
或者，又如上述任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將不同之數種著色層積層而配置。
本發明之彩色濾光片形成基板之製作方法係製作彩色濾光片形成基板者，該彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性 之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層用之著色層、遮光性著色層，該彩色濾光片形成基板之製作方法之特徵在於：分別藉由1次光微影步驟而形成上述彩色濾光片用之各色之著色層、分離該各色之著色層的黑矩陣用之遮光性著色層、成為邊框部之反射控制層之著色層、上述邊框部之遮光性著色層，且於形成上述彩色濾光片用之各色之著色層的各光微影步驟之1個以上之步驟中，形成成為上述邊框部之反射控制層之著色層整體，並於形成黑矩陣用之遮光性著色層的光微影步驟中，在上述形成之成為反射控制層之著色層整體上形成上述邊框部之遮光性著色層。
本發明之顯示裝置係使用有顯示裝置用彩色濾光片形成基板者，該顯示裝置用彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而設置有由遮光性著色層所構成之邊框部作為非顯示用區域，該顯示裝置之特徵在於：使用有上述任一項之彩色濾光片形成基板。
本發明之彩色濾光片形成基板藉由設為此種構成，可提供下述者：於顯示裝置中所使用之彩色濾光片形成基板之彩色濾光片用之各著色層的周邊配置有邊框，且遍及顯示區域與 框架之邊界部整體而由該邊框部形成有非顯示區域之情形時，在斷開顯示時，顯示區域與顯示區域周邊之屬於非顯示區域的邊框部之區域的差較小。
本發明尤其對如多功能終端般要求高品質、設計性之顯示部較為有效。
具體而言，本發明係藉由下述彩色濾光片形成基板而實現上述內容，該彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層、遮光性著色層。
即，藉由於與顯示用區域正交之方向上之基材與遮光性著色層之間具備反射控制層，而成為可控制非顯示用區域之遮光性著色層中之外部光的反射者。
作為上述反射控制層，可舉出著色層，尤其於作為上述反射控制層之著色層係由上述彩色濾光片用之各色之著色層中之1種以上所構成的情形時，在通常之彩色濾光片形成用基板之製作步驟中，便可不增加步驟數地由著色層形成上述反射控制層。
並且，於由彩色濾光片形成用基板之彩色濾光片用之著色層形成上述反射控制層之情形時，可舉出上述反射控制層係 將相同之1種著色層設為單層而配置之第1形態、上述反射控制層係將不同之數種著色層並列且作為單層而配置之第2形態、上述反射控制層係將不同之數種著色層積層而配置之第3形態，但並不限定於此。
(發明效果)
本發明如上述般可提供下述者：於顯示裝置中所使用之彩色濾光片形成基板之彩色濾光片用之各著色層之周邊配置有邊框部，且遍及顯示區域與框架之邊界部整體而由該邊框部形成有非顯示區域之情形時，在斷開顯示時，顯示區域與顯示區域周邊之屬於非顯示區域的邊框部之區域的差較小。
對本發明之彩色濾光片形成基板進行說明。本發明之彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，其特徵在於：上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層、遮光性著色層。
根據本發明，上述邊框部係自上述基材側起依序積層反射控制層、遮光性著色層而構成，藉此於顯示裝置中所使用之彩色濾光片形成基板之彩色濾光片用之各著色層之周邊配置有邊框部，且遍及顯示區域與框架之邊界部整體而由該邊 框部形成有非顯示區域之情形時，在斷開顯示時，可使顯示區域與顯示區域周邊之屬於非顯示區域的邊框部之區域的差較小。
此處，於將習知之彩色濾光片形成基板用於顯示裝置之情形時，存在下述問題：於斷開顯示裝置之電源(顯示)時，顯示區域與顯示區域周邊之屬於非顯示區域的邊框部之區域的差較大，更具體而言，非顯示區域看起來較顯示區域明亮，因此顯示裝置本身之外觀不良。
針對上述問題產生之理由，本發明者等人進行努力研究，結果發現上述顯示區域及非顯示區域之差係因形成於非顯示區域之由遮光性著色層所構成之邊框部的反射率高於形成於顯示區域之彩色濾光片用之各色之著色層之平均(以下，有時稱為色平均)的反射率而產生。獲得上述見解之發明者等人進一步進行努力研究，發現要於邊框部之基材與遮光性著色層之間形成反射控制層，該反射控制層係用以控制遮光性著色層之反射率-波長之特性(反射分光特性)，而使由外部光之反射所引起之色平均與遮光性著色層的差異變小，從而完成本發明。
如上所述，本發明之彩色濾光片形成基板可藉由邊框部具有反射控制層而發揮上述作用效果。以下，更詳細地說明反射控制層。
本發明中之反射控制層係意指用以控制遮光性著色層之 反射率-波長之特性(反射分光特性)，而使由外部光之反射所引起之色平均與遮光性著色層的差異變小之層。
此處，作為由外部光之反射所引起之色平均與遮光性著色層的差異，具體而言，係尤其容易識別到顯示區域中之色平均之外部光之反射光的亮度(以下，有時稱為色平均之亮度)與非顯示區域中之邊框部之外部光之反射光的亮度(以下，稱為邊框部之亮度)的差異。
因此，作為反射控制層，只要能夠以至少可縮小顯示區域中之色平均之亮度與非顯示區域中之邊框部之亮度的差之方式降低遮光性著色層之反射率，則並無特別限定。更具體而言，作為上述反射控制層，較佳為能夠以可使上述色平均與邊框部之亮度(Y值)之差(△Y)的絕對值為1.5以下、其中較佳為1以下、尤佳為未達1之方式降低遮光性著色層之反射率者。其原因在於，於上述差超過上述範圍之情形時，即便在基材及遮光性著色層之間形成有反射控制層之情形時亦有難以縮小顯示區域與非顯示區域之視差之可能性。
再者，關於色平均之亮度及邊框部之亮度之測定方法，於下文進行敘述。
又，上述之顯示區域與非顯示區域之差除受上述之顯示區域中之色平均與非顯示區域中之邊框部之亮度的差異影響以外，亦受上述色平均之反射光之色調(以下，有時稱為色平均之色調)與邊框部之反射光之色調(以下，有時稱為邊框 部之色調)的差異所影響。因此，作為本發明中之反射控制層，更佳為除可縮小色平均與邊框部之亮度之差以外，進一步可縮小上述色平均與邊框部之色調之差者。
作為具體之反射控制層之色調，只要可縮小上述之顯示區域與非顯示區域之視差，則並無特別限定，更具體而言，對於上述色平均與邊框部之色調之差，即，JIS Z8701之XYZ表色系統中之色座標(x，y)之各成分之差(△x，△y)的絕對值，較佳為可使△x為0.100以下、其中較佳為0.050以下、尤佳為0.020以下，且較佳為可使△y為0.100以下、其中較佳為0.050以下、尤佳為0.020以下。
其原因在於，於上述色座標之各成分之差的絕對值超過上述範圍之情形時，或於上述差未達上述範圍之情形時，即便在基材與遮光性著色層之間形成有反射控制層之情形時亦有難以縮小顯示區域與非顯示區域之視差之可能性。
再者，關於色平均之色座標及邊框部之色座標之測定方法，於下文進行敘述。
作為此種反射控制層，只要為至少可具有上述亮度者，則並無特別限定，較佳為著色層，尤其是作為反射控制層之著色層係由彩色濾光片用之各色之著色層中之1種以上所構成更佳。其原因在於，可使彩色濾光片形成基板之製造步驟變簡便。又，作為上述反射控制層，亦可使用與彩色濾光片形成基板中所使用之各層不同之層另外進行設置。
於由彩色濾光片形成基板之彩色濾光片用之著色層形成反射控制層之情形時，作為反射控制層，可為由1色之著色層所構成者，亦可為將不同之數種著色層並列且作為單層配置而構成者，且亦可為將不同之數種著色層積層配置而構成者。其中，於本發明中，反射控制層較佳為將不同之數種著色層並列且作為單層配置而構成者。藉由將反射控制層設為上述構成，可較佳地調整顯示區域中之色平均與非顯示區域中之邊框部的亮度及色調兩者。
以下，針對本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態，舉出3個形態為例進行說明。具體而言，說明反射控制層係將同一種著色層設為單層而配置之第1形態、反射控制層係將不同之數種著色層並列且作為單層而配置之第2形態、及反射控制層係將不同之數種著色層積層而配置之第3形態。
首先，基於圖1對本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第1例加以說明。
第1例之彩色濾光片形成基板10係將透明基板作為基材11，於該基材11之一面側，在顯示用區域13S配置有彩色濾光片用之各色之著色層(13R、13G、13B)及黑矩陣用之著色層13M，且於該顯示用區域13S之外側設置有遮光性之邊框部12作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板10，且上述邊框部12係自上述基材11側起依序積層有反射控制層12a1、遮光性著色層12b。
並且，以覆蓋顯示用區域13S之著色層13與邊框部12之方式將保護層14(亦稱為上塗層或OC層)配置為平坦狀。
再者，此處，於用於顯示裝置時，將成為顯示區域之區域設為顯示用區域13S，表示圖1(a)之邊框部12之內側之區域。
又，將不成為顯示區域之邊框部12之區域設為非顯示用區域。
又，著色層13係彩色濾光片用之各色之著色層13R、13G、13B與黑矩陣用之著色層13M之總稱。
於第1例中，如圖1(d)所示般，反射控制層12a1係將彩色濾光片用之紅色之著色層13R作為單層而形成，遮光性著色層12b係將黑矩陣形成用之著色層13M作為單層而形成。
反射控制層12a1之紅色之著色層13R係於形成顯示用區域13S內之紅色之著色層13R時之光微影步驟中形成，又，反射控制層12a1之遮光性著色層12b係於形成顯示用區域13S內之黑矩陣用之遮光性著色層13M時之光微影步驟中形成。
又，於顯示用區域中，如圖1(e)所示般，彩色濾光片用之各色之著色層13R、13G、13B係以藉由黑矩陣形成用之著色層13M而被分離之方式形成為既定之排列。
黑矩陣之開口圖案形狀及各色之著色層之排列並不限定 於圖1(e)所示之形態。
亦可舉出黑矩陣之開口圖案形狀為條紋狀之形狀者、及變更著色層之排列者。
於第1例中，於與顯示用區域13S正交之方向上之基材11與遮光性著色層12b之間，具備反射控制層12a1，藉此成為可控制非顯示用區域之遮光性著色層12b中之外部光的反射者。
繼而，對各部之材料進行敘述。
<基材11>
作為第1例中所使用之由透明基板所構成之基材11，可使用自先前以來於彩色濾光片形成基板中所使用者，可舉出石英玻璃、Pyrex(註冊商標)玻璃、合成石英板等無可撓性之透明無機基板，及透明樹脂膜、光學用樹脂板等具有可撓性之透明樹脂基板等，尤佳為使用無機基板，於無機基板中，較佳為使用玻璃基板。
進而，於上述玻璃基板中，較佳為使用無鹼型玻璃基板。
其原因在於，無鹼型玻璃基板之尺寸安定性及高溫加熱處理中之作業性優異，且玻璃中不含鹼性成分，故而可較佳地用於利用主動矩陣方式之彩色液晶顯示裝置用之彩色濾光片形成基板。
上述基材通常係使用透明之透明基板。
<黑矩陣及邊框部之遮光性著色層13M>
作為本發明中之遮光性著色層，只要為於將本發明之彩色濾光片形成基板用於顯示裝置之情形時可遮蔽自顯示裝置向其外部出射之光者，則並無特別限定，具體而言，較佳為其OD值(Optical Density，光密度)為2.5以上、其中較佳為3.0以上、尤佳為4.0以上。又，作為其上限為5.0左右。
再者，上述OD值例如可採用以分光測色計進行測色，並由分光之Y值算出OD值之方法。再者，作為分光測色計，例如可使用Olympus Optical Industry股份有限公司製造之分光測色計等。
作為此種遮光性著色層，通常使用黑色者。
更具體而言，作為遮光性著色層13M，例如可舉出將黑色著色劑分散或溶解於黏合劑樹脂中而成者等。
將黑色著色劑分散或溶解於黏合劑樹脂中而成者可使膜厚相對較厚。
作為遮光性著色層13M之膜厚，於為將黑色著色劑分散或溶解於黏合劑樹脂中而成者之情形時，以0.5 μm~2 μm左右進行設定。
於使用光微影法作為遮光性著色層13M之形成方法之情形時，作為黏合劑樹脂，例如可使用丙烯酸酯系、甲基丙烯酸酯系、聚桂皮酸乙烯酯系、或環化橡膠系等具有反應性乙烯基之感光性樹脂。
於此情形時，可於含有黑色著色劑及感光性樹脂之黑矩陣 (遮光性著色層)形成用感光性樹脂組成物中添加光聚合起始劑，進而，亦可視需要添加增感劑、塗佈性改良劑、顯影改良劑、交聯劑、聚合抑制劑、可塑劑、難燃劑等。
再者，於使用印刷法或噴墨法作為遮光性著色層13M之形成方法之情形時，作為黏合劑樹脂，例如可舉出：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯吡咯啶酮樹脂、羥乙基纖維素樹脂、羧甲基纖維素樹脂、聚氯乙烯樹脂、三聚氰胺樹脂、酚系樹脂、醇酸樹脂、環氧樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、順丁烯二酸樹脂、聚醯胺樹脂等。
<著色層13R、13G、13B>
於本例中，彩色濾光片用之各色之著色層為紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B之3色的著色層。
各色之著色層係將各色之顏料或染料等著色劑分散或溶解於黏合劑樹脂中而成者，且係利用光微影法(亦稱為光微影法)而形成者。
作為上述著色層中所使用之黏合劑樹脂，例如可使用丙烯酸酯系、甲基丙烯酸酯系、聚桂皮酸乙烯酯系、或環化橡膠系等具有反應性乙烯基之感光性樹脂。
於此情形時，可於含有著色劑及感光性樹脂之著色部形成用感光性樹脂組成物中添加光聚合起始劑，進而，亦可視需 要添加增感劑、塗佈性改良劑、顯影改良劑、交聯劑、聚合抑制劑、可塑劑、難燃劑等。
上述各色之著色層之膜厚通常以1 μm~5 μm左右進行設定。
作為著色層之顏色，只要為至少包含紅色、綠色、藍色之3色者，則並無特別限定，例如可設為紅色、綠色、藍色之3色，又，可設為紅色、綠色、藍色、黃色之4色，或紅色、綠色、藍色、黃色、青色之5色等。
再者，作為紅色(亦記載為R)之著色層中所使用之著色劑，例如可舉出：苝系顏料、色澱顏料、偶氮系顏料、喹吖酮系顏料、蒽醌系顏料、蒽系顏料、異吲哚啉系顏料等。
該等顏料可單獨使用，亦可混合2種以上而使用。
作為綠色(亦記載為G)之著色層中所使用之著色劑，例如可舉出：多鹵代酞青系顏料或多鹵代銅酞青系顏料等酞青系顏料、三苯甲烷系鹼性染料、異吲哚啉系顏料、異吲哚啉酮系顏料等。
該等顏料或染料可單獨使用，亦可混合2種以上而使用。
作為藍色(亦記載為B)之著色層中所使用之著色劑，例如可舉出：銅酞青系顏料、蒽醌系顏料、陰丹士林系顏料、靛酚系顏料、靛青系顏料、二系顏料等。
該等顏料可單獨使用，亦可混合2種以上而使用。
<保護層14>
作為保護層用之材料，可舉出熱硬化性樹脂組成物及光硬化性樹脂組成物。
光硬化性樹脂組成物對於對彩色濾光片形成基板進行表面黏著而製作後實施予以單片化之切斷而言係較佳。
作為保護層用之光硬化性樹脂組成物，可使用與上述彩色濾光片用之各色之著色層中所使用之黏合劑樹脂相同者，例如，丙烯酸酯系、甲基丙烯酸酯系、聚桂皮酸乙烯酯系、或環化橡膠系等具有反應性乙烯基之感光性樹脂。
於此情形時，亦可於含有感光性樹脂之保護層形成用感光性樹脂組成物中添加光聚合起始劑，進而，亦可視需要添加增感劑、塗佈性改良劑、顯影改良劑、交聯劑、聚合抑制劑、可塑劑、難燃劑等。
再者，於第1例中，彩色濾光片形成基板係進行表面黏著而形成各著色層13R、13G、13B、13M、及邊框部12之後，藉由旋轉塗佈法塗佈樹脂組成物，為了預先於各彩色濾光片形成基板間設置保護層之裂縫，且於該裂縫處分離使其單片化，而將保護層用之樹脂組成物作為光硬化性樹脂組成物塗佈後進行乾燥，並選擇性地僅對既定區域進行光照射，且進行顯影而形成，但保護層之形成方法並不限定於此。
作為保護層用之熱硬化性樹脂組成物，可舉出使用有環氧化合物者、使用有熱自由基產生劑者。
作為環氧化合物，可舉出可藉由羧酸或胺系化合物等進行 硬化之公知之多價環氧化合物，此種環氧化合物廣泛地揭示於例如新保正樹編「環氧樹脂手冊」日刊工業報社出版(昭和62年，1987年)等，而可使用該等。
作為熱自由基產生劑，係為選自由過硫酸鹽、碘等鹵素、偶氮化合物、及有機過氧化物所組成之群中之至少一種，更佳為偶氮化合物或有機過氧化物。
作為偶氮化合物，可舉出：1,1'-偶氮雙(環己烷-1-腈)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲醯胺、2,2'-偶氮雙-[N-(2-丙烯基)-2-甲基丙醯胺]、2,2'-偶氮雙(N-丁基-2-甲基丙醯胺)、及2,2'-偶氮雙(N-環己基-2-甲基丙醯胺)等，作為有機過氧化物，可舉出：過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化(2-乙基己酸)第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、1,1-二(第三丁基過氧化)環己烷、過氧化苯甲酸第三丁酯、過氧化(2-乙基己基)碳酸第三丁酯、4,4-二-(第三丁基過氧化)丁酸第三丁酯、及過氧化二異丙苯等。
進而，先對反射控制層12a1進行說明。
使用實施例1中舉出之各色之硬化性樹脂組成物，以與實施例相同之方式利用光微影法形成各色之著色層13R、13G、13B、13M，於測定各層及基材之反射率之情形時，獲得如圖4(a)所示之反射率-波長之特性(反射分光特性)。
再者，圖4(a)中之曲線13R、13G、13B、13M、115分別表示紅色之著色層、綠色之著色層、藍色之著色層、黑矩陣 用之遮光性著色層、基材之反射率-波長之特性(反射分光特性)。
反射率之測定係使用顯微分光裝置OSP-SP2000(OLYMPUS公司製造)，以圖4(b)所示之方式進行。
首先，於測定用之基材11上形成測定用之著色層13A，製作經由測定用之黑色之板30及折射率調整用油20配置有測定用之著色層13A的測定用彩色濾光片形成基板。繼而，於測定用彩色濾光片形成基板之基材側照射檢測光45，利用檢測器40對檢測光45之反射光進行檢測，藉此測定反射率。
又，基材之反射率115可使用於測定用之黑色之板上經由折射率調整用油而配置有測定用之基材者進行測定。
繼而，若根據所測定之反射率-波長之資料，以使用C光源而測定之JIS Z8701之XYZ表色系統中之色度座標(x，y)、亮度Y進行表示，則如表1所示。
彩色濾光片用之各著色層13R、13G、13B之反射光之色平均之色度座標(x，y)、亮度Y分別為(0.306，0.321)、1.36。
繼而，若根據所測定之反射率-波長之資料，求出使用C光源而測定之JIS Z8701之XYZ表色系統中之色度座標(x，y)，則如圖5所示。
圖5所示之×記號之圖形係表示將彩色濾光片用之紅、 綠、藍之各色之著色層之反射光予以平均所得的顏色之色度(x，y)。
據此可知，於第1例中，於使用有上述各著色層之情形時，形成有彩色濾光片用之各著色層13R、13G、13B之顯示用區域中之色平均之色度座標(x，y)、亮度Y大致分別為(0.306，0.321)、1.36。
又，邊框部12之遮光性著色層12b之色度座標(x，y)、亮度Y分別為(0.323，0.333)、2.79。
因此，可知於使用有與實施例相同之各著色層之情形時，若使邊框部12之亮度Y降低至接近上述色平均之亮度1.36，則由外部光之反射所引起之上述色平均與遮光性著色層12b之差異變小。
根據此種見解，設置反射控制層12a1係為了控制遮光性著色層12b之反射率-波長之特性，而使由外部光之反射所引起之上述色平均與遮光性著色層12b之差異變小。
此處，反射控制層12a1係指用以控制遮光性著色層12b之反射率-波長之特性(反射分光特性)，而使由外部光之反射所引起之上述色平均與遮光性著色層12b之差異變小的層。
另一方面，根據表1可知，紅色之著色層13R之亮度Y為較小之0.46。
著眼於此，可認為於自基材11側起積層遮光性著色層12b與紅色之著色層13R而形成有邊框部之情形時(參照圖1)，與邊框部係由單層之遮光性著色層12b所構成的習知之情形(參照圖6)相比，可降低邊框部之反射率，而實際上自基材11側起依序積層為紅色之著色層13R、遮光性著色層12b，根據其反射率-波長資料所得之亮度Y為2.0左右，可知紅色之著色層13R作為反射控制層係為有效。
第1例係基於此種見解而於遮光性著色層12b與基材11間設置紅色之著色層13R作為反射控制層者。
再者，於第1例中，利用同一次光微影法形成顯示用區域13S之紅色之著色層13R、於邊框部12之遮光性著色層12b與基材11間的紅色之著色層13R，而能夠以與未設置反射控制層之習知之情形(參照圖6)相同之步驟數進行製作。
又，作為反射控制層中所使用之著色層，只要為顯示用區域之彩色濾光片用之著色層中所使用者，則並無特別限定， 可使用紅色、綠色、藍色之3色之著色層中之任一者，或於使用4色以上之著色層之情形時可自4色以上之著色層中使用任意1色之著色層。於本發明中，就縮小顯示區域中之色平均與非顯示區域中之邊框部之色調的差之觀點而言，作為上述反射控制層，較佳為使用藍色之著色層。
於將習知之彩色濾光片形成基板用於顯示裝置之情形時，存在具有僅由遮光性著色層所構成之邊框部的非顯示區域之色調與顯示區域之色調相比，容易帶有黃色之問題。因此，藉由使用藍色之著色層作為反射控制層，可抑制非顯示區域之色調帶有黃色等不良情況，可縮小顯示區域與非顯示區域之色調之差。
其次，基於圖2對本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第2例加以說明。
第2例之彩色濾光片形成基板10亦與第1例同樣為將透明基板作為基材11，於該基材11之一面側，在顯示用區域13S配置有彩色濾光片用之各色之著色層(13R、13G、13B)與黑矩陣用之著色層13M，且於該顯示用區域13S之外側設置有遮光性之邊框部12作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板10，且上述邊框部12係自上述基材11側起依序積層有反射控制層12a2、遮光性著色層12b。
並且，以覆蓋顯示用區域13S之著色層13(彩色濾光片用之各色之著色層13R、13G、13B與黑矩陣用之著色層13M 之總稱)、與邊框部12之方式將保護層14(亦稱為上塗層或OC層)配置為平坦狀。
於第2例中，如圖2(d)所示般，反射控制層12a2係將不同之3種著色層13R、13G、13B並列且作為單層配置而形成。
再者，於第2例之情形時，反射控制層12a2之各色之著色層13R、13G、13B分別係於形成顯示用區域13S內之各色之著色層13R、13G、13B時之光微影步驟中形成，又，反射控制層12a2之遮光性著色層12b係於形成顯示用區域13S內之黑矩陣用之遮光性著色層13M時之光微影步驟中形成。
再者，有第2例中之控制上述外部光之反射的有效性係較第1例差之情況。
除上述反射控制層12a2以外，其餘係與第1例相同且各部亦相同，故而此處省略說明。
再者，於第2例中，亦於顯示用區域13S之紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B之各光微影步驟中，分別形成反射控制層12a2之紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B，而能夠以與未設置反射控制層之習知之情形(參照圖6)相同之步驟數進行製作。
於第2例之情形時，亦於與顯示用區域13S正交之方向上之基材11與遮光性著色層12b之間具備反射控制層12a2， 藉此成為可控制非顯示用區域之遮光性著色層中之外部光之反射者。
作為第2例中之反射控制層，只要為藉由並列地配置紅色、綠色、及藍色之3色著色層而構成者，則並無特別限定，關於各著色層之線寬、間距(3色著色層之寬度(於著色層間設置間隔之情形時包含間隔之寬度))，可根據彩色濾光片之用途適當地選擇。關於構成反射控制層之著色層之排列，可為與顯示用區域中所形成之彩色濾光片用之著色層之排列相同的排列，亦可為不同之排列。又，各色之著色層可使邊界一部分重疊，亦可於各著色層間設置既定之間隔而並列地排列。
於第2例中，就進一步縮小顯示區域中之色平均與非顯示區域中之邊框部之色調之差的觀點而言，反射控制層之各色之著色層之線寬及間距較佳為與顯示用區域中所形成之彩色濾光片用之著色層之線寬及間距相同。又，於此情形時，更佳為於反射控制層中之各著色層間形成遮光性著色層。可進一步縮小上述色平均與邊框部之色調之差。
另一方面，於第2例中之反射控制層中，為進一步縮小顯示區域中之色平均與非顯示區域中之邊框部之亮度之差，可藉由調整著色層之線寬而進一步縮小亮度之差。
此處，如上述圖4(a)所示，與紅色著色層及綠色著色層相比，藍色著色層存在反射率較高之傾向。因此，例如於試作 本發明之彩色濾光片形成基板時，於上述色平均之亮度較上述邊框部之亮度明亮之情形時，藉由擴大反射控制層中之藍色之著色層之線寬及面積比等，可提高邊框部之亮度(Y值)，而可縮小色平均與邊框部之亮度之差。另一方面，於色平均之亮度較邊框部之亮度暗之情形時，藉由縮小反射控制層中之藍色之著色層之線寬及面積比，可降低邊框部之亮度(Y值)，而可縮小色平均與邊框部之亮度之差。
繼而，基於圖3對本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第3例加以說明。
第3例之彩色濾光片形成基板亦與第1例、第2例同樣為將透明基板作為基材11，於該基材11之一面側，在顯示用區域13S配置有彩色濾光片用之各色之著色層(13R、13G、13B)與黑矩陣用之著色層13M，且於該顯示用區域13S之外側設置有遮光性之邊框部12作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且上述邊框部12係自上述基材11側起依序積層有反射控制層12a3、遮光性著色層12b。
並且，以覆蓋顯示用區域13S之著色層13(彩色濾光片用之各色之著色層(13R、13G、13B)與黑矩陣用之著色層13M之總稱)、與邊框部12之方式將保護層14(亦稱為上塗層或OC層)配置為平坦狀。
於第3例中，反射控制層12a3係將不同之3個著色層13R、13G、13B積層配置而形成。
再者，於第3例之情形時，反射控制層12a3之各色之著色層13R、13G、13B分別係於形成顯示用區域13S內之各色之著色層13R、13G、13B時之光微影步驟中形成，又，反射控制層12a3之遮光性著色層12b係於形成顯示用區域13S內之黑矩陣用之遮光性著色層13M時之光微影步驟中形成。
除上述反射控制層12a3以外，其餘係與第1例相同且各部亦相同，故而此處省略說明。
再者，於第3例中，亦於顯示用區域13S之紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B之各光微影步驟中，分別形成反射控制層12a3之紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B，而能夠以與未設置反射控制層之習知之情形(參照圖6)相同之步驟數進行製作。
於第3例之情形時，亦於與顯示用區域13S正交之方向上之基材11與遮光性著色層12b之間具備反射控制層12a3，藉此成為可控制非顯示用區域之遮光性著色層中之外部光之反射者。
本發明並不限定於上述形態。
例如，可舉出於上述第1例~第3例之各例中在保護層14上之顯示用區域中進而配置有複數個既定高度之間隔件之形態者。
再者，液晶顯示裝置係呈下述構造：使於透明基板之一面 配設有由遮光性著色層所構成之黑矩陣層與各色之著色層之彩色濾光片形成基板、與對向電極基板(亦稱為TFT基板)隔開既定之間隙而相向地配置，並於該間隙部中密封有液晶之構造，且電性控制液晶之配向而控制各色之著色層之像素之透光率，為了將彩色濾光片形成基板、與對向電極基板(亦稱為TFT基板)控制為既定之間隙，而設為於彩色濾光片形成基板之保護層14上配置有複數個既定高度之間隔件之形態。
又，作為反射控制層，於上述第1例~第3例之各例中係使用彩色濾光片用之著色層，但反射控制層用之著色層並不限定於此。
又，作為反射控制層，可舉出著色層，但並不限定於著色層。
只要為具備作為反射控制層之功能，可高品質地應用於顯示裝置者，則並不限定於著色層。
又，作為本發明之顯示裝置，只要為具有上述彩色濾光片形成基板者，則並無特別限定，除上述液晶顯示裝置以外，亦可舉出例如電致發光顯示裝置等。
本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態為例示，具有與本發明之申請專利範圍中所記載之技術思想實質上相同之構成且發揮相同之作用效果者均包含於本發明之技術範圍內。
[實施例]
舉出實施例，進一步說明本發明。
[實施例1]
實施例1係製作圖1所示之第1實施形態例，且如下所述，調製並製作光硬化性之硬化性樹脂組成物A，使用所製作之硬化性樹脂組成物A，製作彩色濾光片形成用之紅色硬化性樹脂組成物、綠色硬化性樹脂組成物、藍色硬化性樹脂組成物、黑矩陣及邊框部形成用之硬化性樹脂組成物，使用該等，針對各硬化性樹脂組成物進行光微影法，而形成彩色濾光片用之各著色層、黑矩陣及邊框部形成用之著色層。
此處，於利用同一次光微影步驟形成顯示用區域13S之彩色濾光片用之紅色之著色層13R、與成為邊框部12之反射控制層12a的紅色之著色層13R之後，分別利用1次光微影步驟形成彩色濾光片用之綠色之著色層13G、藍色之著色層13B，其後，形成黑矩陣及邊框部用之遮光性著色層13M。
(硬化性樹脂組成物A之調製)
於聚合槽中添加甲基丙烯酸甲酯(MMA)63重量份、丙烯酸(AA)12重量份、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(HEMA)6重量份、二乙二醇二甲醚(DMDG)88重量份，進行攪拌使之溶解後，添加2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)7重量份，使之均勻地溶解。
其後，於氮氣流下，於85℃攪拌2小時，進而於100℃反 應1小時。
於所獲得之溶液中，進而添加甲基丙烯酸環氧丙酯(GMA)7重量份、三乙基胺0.4重量份、及對苯二酚0.2重量份，於100℃攪拌5小時，而獲得共聚合樹脂溶液(固形份50%)。
其次，將下述材料於室溫攪拌、混合而製成硬化性樹脂組成物。
<硬化性樹脂組成物之組成>
(紅色之著色層13R之形成)
藉由旋轉塗佈法將下述組成之紅色硬化性樹脂組成物塗佈於玻璃基板(Asahi Glass公司製造，AN材)(基板)上，其後，於70℃之烘箱中乾燥3分鐘。
繼而，於距離紅色硬化性樹脂組成物之塗佈膜100 μm處配置光罩，藉由近接式對準曝光機，使用2.0 kw之超高壓水銀燈，僅對相當於著色層之形成區域之區域照射10秒鐘 紫外線。
繼而，於0.05 wt%氫氧化鉀水溶液(液溫23℃)中浸漬1分鐘進行鹼性顯影，僅將紅色硬化性樹脂組成物之塗佈膜之未硬化部分除去。
其後，將基板於230℃之環境下放置15分鐘，藉此實施加熱處理，使紅色像素於顯示用區域13S與成為非顯示用區域之邊框部形成區域整體形成由紅色之著色層13所構成之圖案。
形成膜厚成為2.0 μm。
<紅色硬化性樹脂組成物之組成>
(綠色之著色層13G之形成)
繼而，使用下述組成之綠色硬化性樹脂組成物，利用與紅色之凸紋圖案形成相同之步驟，以形成膜厚成為2.0 μm之方式使綠色像素於顯示區域形成由綠色之著色層所構成之凸紋圖案。
<綠色硬化性樹脂組成物之組成>
．C.I.顏料綠58：7重量份
(藍色之著色層13B之形成)
進而，使用下述組成之藍色硬化性樹脂組成物，利用與紅色之凸紋圖案形成相同之步驟，以形成膜厚成為2.0 μm之方式於顯示區域形成藍色之凸紋圖案。
<藍色硬化性樹脂組成物之組成>
(黑矩陣及邊框部之遮光性著色層13M之形成)
首先，將下述分量之成分混合，利用砂磨機充分地分散，而調製黑色顏料分散液。
<黑色顏料分散液之組成>
繼而，將下述分量之成分充分混合，而獲得遮光性著色層 用組成物。
<遮光性著色層用組成物之組成>
利用旋轉塗佈機將上述遮光性著色層用組成物塗佈於形成有著色層之基板上，於100℃乾燥3分鐘，而形成遮光性著色層。
利用超高壓水銀燈將該遮光性著色層曝光為遮光圖案之後，利用0.05 wt%氫氧化鉀水溶液進行顯影，其後，將基板於230℃之環境下放置30分鐘，藉此實施加熱處理而使遮光性著色層13M形成於顯示用區域及邊框部12區域。
此處，係形成於邊框部12之區域之紅色圖案之整個區域上。
加熱處理後之形成膜厚成為1.0 μm。
(保護膜14之形成)
藉由旋轉塗佈法將上述硬化性樹脂組成物A塗佈於以上述方式形成有著色層13之基板上並進行乾燥，而形成乾燥塗膜2 μm之塗佈膜。
於距離硬化性樹脂組成物A之塗佈膜100 μm處配置光罩，藉由近接式對準曝光機，使用2.0 kW之超高壓水銀燈，僅對相當於保護層之形成區域之區域照射10秒鐘紫外線。
繼而，於0.05 wt%氫氧化鉀水溶液(液溫23℃)中浸漬1分鐘進行鹼性顯影，僅將硬化性樹脂組成物之塗佈膜之未硬化部分除去。
其後，將基板於230℃之環境中放置15分鐘，藉此實施加熱處理，而形成保護膜。
以此方式製作圖1所示之第1例之彩色濾光片形成基板10。
繼而，以如下方式於所製作之第1例之彩色濾光片形成基板10之保護層14上，配設既定高度之間隔件，而製作液晶顯示裝置。
(間隔件之形成)
藉由旋轉塗佈法將硬化性樹脂組成物A塗佈於以上述方式形成有著色層及保護層之彩色濾光片形成基板10之保護層14上並進行乾燥，而形成塗佈膜。
於距離硬化性樹脂組成物A之塗佈膜100 μm處配置光罩，藉由近接式對準曝光機，使用2.0 kW之超高壓水銀燈，僅對間隔件之形成區域照射10秒鐘紫外線。
繼而，於0.05 wt%氫氧化鉀水溶液(液溫23℃)中浸漬1分鐘進行鹼性顯影，僅將硬化性樹脂組成物A之塗佈膜之未硬化部分除去。
其後，將基板於230℃之環境中放置30分鐘，藉此實施加熱處理，而以成為既定之個數密度之方式形成。
(液晶顯示裝置之製作)
於以上述方式獲得之彩色濾光片形成基板之著色層形成側之表面，形成配向膜(日產化學公司製造，SE-6210)。
繼而，將所需量之IPS(In-Plane-Switching，平面內切換)液晶滴下至形成有TFT之玻璃基板(TFT基板)上，重疊上述彩色濾光片，使用UV硬化性樹脂(ThreeBond公司製造，Three Bond 3025)作為密封材，於常溫一面施加0.3 kgf/cm2之壓力，一面以400 mJ/cm2之照射量進行曝光，藉此進行接合而組合單元，設置偏光板、背光單元、覆蓋層，而獲得液晶顯示裝置。
[實施例2]
於實施例1中，將邊框部12之紅色之著色層13R變更為綠色之著色層13G，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。
[實施例3]
於實施例1中，將邊框部12之紅色之著色層13R變更為藍色之著色層13B，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。
[實施例4]
於實施例1中，將邊框部12之紅色之著色層13R變更為紅色之著色層13R、綠色之著色層13G、藍色之著色層13B之條紋狀之圖案，除此以外，以與實施例1相同之方式製作 液晶顯示裝置(參照圖2所示之第2例)。
[實施例5]
於實施例1中，於邊框部12之紅色之著色層13R上積層綠色之著色層13G、藍色之著色層13B而形成，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置(參照圖3所示之第3例)。
[實施例6]
調換紅色圖案與綠色圖案之形成順序，除此以外，以與實施例5相同之方式製作液晶顯示裝置。
[實施例7]
調換紅色圖案與藍色圖案之形成順序，除此以外，以與實施例5相同之方式製作液晶顯示裝置。
[實施例8]
如下所述變更紅色硬化性樹脂組成物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。
<紅色硬化性樹脂組成物之組成>
[比較例1]
於邊框部12未形成紅色之13R著色層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作液晶顯示裝置。
針對以上述實施例1~實施例8、比較例之方式所製作之各液晶顯示裝置，分別使用顯微分光裝置OSP-SP2000(OLYMPUS公司製造)測定斷開顯示時之觀察者側之反射率-波長之特性之測定(反射分光測定)，根據所獲得之測定資料，分別獲得使用C光源而測定之JIS Z8701之XYZ表色系統中之色度座標(x，y)及亮度Y。
結果如表2所示。
再者，評價係將顯示用區域與非顯示用區域之Y值之差未達1.0設為◎，將1.0以上且1.5以下設為○，將大於1.5者設為×。
10、110‧‧‧彩色濾光片形成基板
11、111‧‧‧基材(透明基板)
12、112‧‧‧邊框部
12a1、12a2、12a3‧‧‧反射控制層
12b‧‧‧遮光性著色層
13、113‧‧‧著色層
13A‧‧‧(測定用之)著色層
13B、113B‧‧‧藍色之著色層
13G、113G‧‧‧綠色之著色層
13M、113M‧‧‧黑矩陣用之著色層(亦稱為遮光性著色層)
13R、113R‧‧‧紅色之著色層
13S、113S‧‧‧顯示用區域
14、114‧‧‧保護層(亦稱為上塗層或OC層)
20‧‧‧折射率調整用油
30‧‧‧黑色之板
40‧‧‧檢測器
45‧‧‧檢測光
115‧‧‧基材之反射率-波長之特性
120‧‧‧顯示裝置(亦稱為平板型之顯示裝置或多功能終端)
121‧‧‧框架
122‧‧‧顯示區域(亦稱為彩色濾光片用之著色層形成區域)
123‧‧‧非顯示區域(亦稱為邊框區域)
圖1(a)係本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第1例的平面圖，圖1(b)、圖1(c)係分別於A1-A2、A3-A4處向 箭頭之方向觀察之圖，圖1(d)係圖1(a)之A5部之放大圖，圖1(e)係圖1(a)之A6部之放大圖。
圖2(a)係本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第2例的平面圖，圖2(b)、圖2(c)係分別於B1-B2、B3-B4處向箭頭之方向觀察之圖，圖2(d)係圖2(a)之B5部之放大圖，圖2(e)係圖2(a)之B6部之放大圖。
圖3(a)係本發明之彩色濾光片形成基板之實施形態之第3例的平面圖，圖3(b)、圖3(c)係分別於C1-C2、C3-C4處向箭頭之方向觀察之圖，圖3(d)係圖3(a)之C5部之放大圖，圖3(e)係圖3(a)之C6部之放大圖。
圖4(a)係表示可見光區域(400 nm~700 nm之波長區域)中之各著色層之反射率的圖，圖4(b)係表示反射率之測定方法之概略圖。
圖5係藉由CIE(International Commission on Illumination，國際照明委員會)色度圖之x、y標示而表示各著色層之C光源下之反射光的圖。
圖6(a)係習知之彩色濾光片形成基板之平面圖，圖6(b)、圖6(c)係分別於圖6(a)之E1-E2、E3-E4處向箭頭之方向觀察之圖，圖6(d)係圖6(a)之E5部之放大圖，圖6(e)係圖6(a)之E6部之放大圖。
圖7係使用有圖6所示之彩色濾光片形成基板的平板型之多功能終端之平面圖。
10‧‧‧彩色濾光片形成基板
11‧‧‧基材(透明基板)
12‧‧‧邊框部
12a1‧‧‧反射控制層
12b‧‧‧遮光性著色層
13‧‧‧著色層
13B‧‧‧藍色之著色層
13G‧‧‧綠色之著色層
13M‧‧‧黑矩陣用之著色層(亦稱為遮光性著色層)
13R‧‧‧紅色之著色層
13S‧‧‧顯示用區域
14‧‧‧保護層(亦稱為上塗層或OC層)

Claims (8)

  1. 一種彩色濾光片形成基板，係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，其特徵在於：上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層、遮光性著色層。
  2. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層為著色層。
  3. 如申請專利範圍第2項之彩色濾光片形成基板，其中，作為上述反射控制層之著色層係由上述彩色濾光片用之各色之著色層中之1種以上所構成。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將相同之1種著色層設為單層而配置。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將不同之數種著色層並列且作為單層而配置。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之彩色濾光片形成基板，其中，上述反射控制層係將不同之數種著色層積層而配置。
  7. 一種彩色濾光片形成基板之製作方法，係製作彩色濾光 片形成基板者，該彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且於該顯示用區域之外側設置有遮光性之邊框部作為非顯示用區域的顯示裝置用彩色濾光片形成基板，且上述邊框部係自上述基材側起依序積層有反射控制層用之著色層、遮光性著色層，該彩色濾光片形成基板之製作方法之特徵在於：分別藉由1次光微影步驟而形成上述彩色濾光片用之各色之著色層、分離該各色之著色層的黑矩陣用之遮光性著色層、成為邊框部之反射控制層之著色層、上述邊框部之遮光性著色層，且於形成上述彩色濾光片用之各色之著色層的各光微影步驟之1個以上之步驟中，形成成為上述邊框部之反射控制層之著色層整體，並於形成黑矩陣用之遮光性著色層的光微影步驟中，在上述形成之成為反射控制層之著色層整體上，形成上述邊框部之遮光性著色層。
  8. 一種顯示裝置，係使用有顯示裝置用彩色濾光片形成基板者，該顯示裝置用彩色濾光片形成基板係將透明基板作為基材，於該基材之一面側，在顯示用區域配置有彩色濾光片用之各色之著色層，且遍及該顯示用區域之周邊全周而設置有由遮光性著色層所構成之邊框部作為非顯示用區域，該顯示裝置之特徵在於：使用有申請專利範圍第1項之彩色濾光片形成基板。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105339835A (zh) * 2013-05-14 2016-02-17 苹果公司 边界区域中具有滤色器材料的显示器

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105026962B (zh) 2013-01-25 2018-05-04 凸版印刷株式会社 滤色器基板、液晶显示装置及滤色器基板的制造方法
JP6186743B2 (ja) * 2013-02-21 2017-08-30 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ形成基板と表示装置、およびカラーフィルタ形成基板の作製方法
CN103333547A (zh) * 2013-06-05 2013-10-02 苏州凹凸彩印厂 保护玻璃用凹版油墨及其制备方法
JP6255877B2 (ja) * 2013-10-10 2018-01-10 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
TWI681559B (zh) 2013-10-10 2020-01-01 日商精工愛普生股份有限公司 發光裝置及包含其之電子機器
WO2015136733A1 (ja) * 2014-03-14 2015-09-17 シャープ株式会社 光学素子及び表示装置
US9429803B2 (en) 2014-04-22 2016-08-30 Apple Inc. Logo patterning methods for liquid crystal displays
CN104483731B (zh) * 2014-12-31 2017-08-29 深圳莱宝高科技股份有限公司 彩色滤光片及其制作方法
JP2017097291A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び表示装置のカラーフィルタ基板
CN105988631B (zh) * 2015-03-05 2019-02-19 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
CN104656306B (zh) * 2015-03-23 2018-04-10 京东方科技集团股份有限公司 设置有黑矩阵的基板及其制造方法、显示装置
JP2017191276A (ja) 2016-04-15 2017-10-19 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
JP2018054733A (ja) 2016-09-27 2018-04-05 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置及びカラーフィルタ基板
KR102599883B1 (ko) * 2016-11-15 2023-11-09 삼성전자주식회사 디스플레이 장치
WO2018131488A1 (ja) * 2017-01-13 2018-07-19 大日精化工業株式会社 黒色イソインドリノン顔料及び着色剤
CN107025848A (zh) * 2017-06-05 2017-08-08 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板、显示面板、显示装置及制作方法
CN107065290B (zh) * 2017-06-06 2019-08-27 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示面板
JP6489197B2 (ja) * 2017-12-06 2019-03-27 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
JP6747536B2 (ja) * 2019-02-27 2020-08-26 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
CN110361887A (zh) * 2019-06-28 2019-10-22 厦门天马微电子有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板
WO2023176138A1 (ja) * 2022-03-18 2023-09-21 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 表示装置

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3597305B2 (ja) * 1996-03-05 2004-12-08 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置およびその作製方法
US6504588B1 (en) 1998-04-28 2003-01-07 Citizen Watch Co., Ltd. Reflection-type color liquid crystal display device having absorbing member containing fluorescent material
TW538279B (en) * 1998-10-23 2003-06-21 Hitachi Ltd A reflective color liquid crystal display apparatus
TW535025B (en) * 1998-12-03 2003-06-01 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JPH11271757A (ja) 1999-01-12 1999-10-08 Asahi Glass Co Ltd カラー液晶表示素子及びその製造方法
JP2001183647A (ja) 1999-12-22 2001-07-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルのカラーフィルタ形成方法
JP3965859B2 (ja) * 2000-03-15 2007-08-29 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、その製造方法、及び電子機器
JP2002072187A (ja) 2000-08-24 2002-03-12 Toshiba Corp 液晶表示装置
JP4698815B2 (ja) * 2000-10-31 2011-06-08 株式会社日立製作所 液晶表示装置及びその製造方法
JP4884586B2 (ja) * 2000-12-18 2012-02-29 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP2003014920A (ja) 2001-04-25 2003-01-15 Toray Ind Inc カラーフィルタおよびそれを用いた液晶表示装置
JP3767499B2 (ja) 2002-03-05 2006-04-19 セイコーエプソン株式会社 液晶パネル用基板及びその製造方法、液晶表示パネル並びに電子機器
TWI250342B (en) * 2002-09-30 2006-03-01 Seiko Epson Corp Electro-optic device and electronic apparatus
JP2004302297A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示パネル
TWI231382B (en) * 2003-04-09 2005-04-21 Innolux Display Corp Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
US7612373B2 (en) * 2004-06-30 2009-11-03 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device with color filter layer on thin film transistor
JP2006098530A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2007139859A (ja) 2005-11-15 2007-06-07 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
KR101256663B1 (ko) * 2005-12-28 2013-04-19 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치와 그의 제조 및 구동방법
CN102162954A (zh) * 2006-01-24 2011-08-24 夏普株式会社 显示装置、显示装置的制造方法、基板及彩色滤光片基板
JP2007226087A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Seiko Instruments Inc カラーフィルタ基板とその製造方法、及びカラー液晶表示装置
JPWO2007145247A1 (ja) * 2006-06-13 2009-11-05 大日本印刷株式会社 液晶組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置、位相差層形成方法
JP2008010298A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Idemitsu Kosan Co Ltd 色変換基板及びカラー表示装置
TWI350399B (en) * 2006-11-27 2011-10-11 Chimei Innolux Corp System for displaying images including liquid crystal display panel
EP1975684A3 (en) * 2007-03-28 2008-11-26 Epson Imaging Devices Corporation Internal patterned retarder for an area-division type transflective liquid crystal display
JP2008281668A (ja) * 2007-05-09 2008-11-20 Seiko Epson Corp カラーフィルタ付きマイクロレンズ基板、電気光学装置、電子機器、およびカラーフィルタ付きマイクロレンズ基板の製造方法
JP5094255B2 (ja) * 2007-07-19 2012-12-12 株式会社ジャパンディスプレイイースト 液晶表示装置、及びその製造方法
CN101373290B (zh) * 2007-08-22 2010-06-16 比亚迪股份有限公司 一种液晶显示器
JP2009053893A (ja) 2007-08-27 2009-03-12 Epson Imaging Devices Corp 静電容量型入力装置
US7843120B2 (en) * 2007-11-15 2010-11-30 Canon Kabushiki Kaisha Screen structure, display panel and electronic equipment using the same, and method of manufacturing the same
US8013963B2 (en) * 2008-04-11 2011-09-06 Himax Display, Inc. Color filter, method of fabricating the same and liquid crystal display panel including the same
CN101520568B (zh) * 2008-05-08 2013-02-06 天马微电子股份有限公司 半透型液晶显示器、滤光基板及制造方法
KR101386577B1 (ko) * 2008-06-25 2014-04-18 엘지디스플레이 주식회사 면적이 최소화된 액정표시소자
CN101329468B (zh) * 2008-07-29 2010-12-01 友达光电股份有限公司 彩色滤光基板、电子装置及其制作方法
JP2010072529A (ja) * 2008-09-22 2010-04-02 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
KR102102822B1 (ko) * 2009-05-02 2020-04-22 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치
CN102804108B (zh) 2009-06-23 2015-11-25 吉奥马科技有限公司 静电容型输入装置及其制造方法
JP2011065133A (ja) * 2009-08-20 2011-03-31 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置、ブラックマトリクス基板、及びカラーフィルタ基板
JP2011059621A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Fujifilm Corp 光取り出し部材、並びに有機ｅｌ素子及び有機ｅｌ素子の製造方法
KR101338998B1 (ko) * 2009-12-11 2013-12-09 엘지디스플레이 주식회사 반사투과형 액정표시소자
JP5077367B2 (ja) * 2010-01-28 2012-11-21 凸版印刷株式会社 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板、その製造方法、及び半透過型液晶表示装置
JP5620492B2 (ja) * 2010-07-23 2014-11-05 パナソニック株式会社 表示パネル及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105339835A (zh) * 2013-05-14 2016-02-17 苹果公司 边界区域中具有滤色器材料的显示器
US10261357B2 (en) 2013-05-14 2019-04-16 Apple Inc. Displays with color filter material in border regions

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