TW201107639A - Plate rotating device, exhaust path opening degree changing device, exhausted device, transfer device, beam device, and gate valve - Google Patents

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201107639 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於例如藉著轉軸的旋轉利用使板的位置變 化的技術的板驅動裝置、排氣道開閉度變更裝置、被排氣 裝置、搬運裝置、射束裝置及閘閥。 【先前技術】 〇 半導體製造裝置是使用渦輪分子泵等的真空泵進行處 理室等真空容器的排氣處理。 真空泵的吸氣口是經由進行氣體流路開閉的閘閥，連 接在真空容器的排氣口。 閘閥不僅是進行氣體流路的開閉處理，並可藉著氣體 流路開口度的調整，具有控制所排氣氣體的導電率的作用 0 真空裝置所使用的閘閥有如下述專利文獻所提案之閥 Ο 板滑動使氣體流路的開口面積變化的滑閥爲人所熟知。 〔專利文獻1〕 日本專利特開平9- 1 78000號公報 專利文獻1是揭示將前端設有滑板的把手固定在伺服 馬達作用而旋轉驅動的軸上，根據該軸的轉動角調整相對 於開口區域的滑板的位置，即氣體流路的開口度的滑閥。 【發明內容】 〔發明所欲解決的課題〕 記載在上述專利文獻1的滑閥中’驅動滑板用的伺服 -4- 201107639 馬達是被配設在外殻（框體）的外部，即大氣區域。 因此’軸跨真空區域與大氣區域存在，因此邊界部有 設置真空閘門機構的必要。 真空閘門機構有例如使用真空潤滑脂或〇環、波紋管 Ο 但是’使用真空潤滑脂的場合，從該等會有產生蒸氣 壓之虞’使用0環的場合則會有因爲與軸的摩擦而產生塵 Q (粉塵）之虞。並且，利用真空潤滑脂或Ο環的真空閘門 機構在維持高真空精度上，並不具有足夠的可靠度。 波紋管在具有高真空閘門功能的對象物如軸的活動體 (可動體）的場合，則不能期待關於其耐久性的壽命。 有鑑於此’本發明在框體的內部設置轉軸爲第1目的 〇 並且，本發明提供具有在框體的內部可收納活動體機 構的閘閥爲其第2目的。 〇 〔解決課題用的手段〕 爲了達成上述第1目的，申請專利範圍第1項記載的 發明係提供板驅動裝置，其特徵爲，具備··具有磁極的轉 軸；軸支上述轉軸的軸承；內含著上述轉軸及上述軸承的 框體：設置在上述框體外部的電磁鐵；固定在上述轉軸， 藉上述轉軸的旋轉而移動的板；及控制上述電磁鐵的激磁 電流調整上述轉軸的轉動角的控制手段。 申請專利範圍第2項記載的發明係提供如申請專利範 201107639 圍第1項所記載的板驅動裝置中，其特徵爲：具備檢測上 述轉軸的轉動角的位置檢測手段，上述控制手段根據上述 位置檢測手段所檢測的轉動角，控制上述電磁鐵的激磁電 流。 申請專利範圍第3項記載的發明係提供如申請專利範 圍第1項或第2項所記載的板驅動裝置中，其特徵爲：複 數設置上述電磁鐵，上述控制手段從上述複數電磁鐵中選 0 擇至少其中之—的電磁鐵，控制該所選擇電磁鐵的激磁電 流。 申請專利範圍第4項記載的發明係提供如申請專利範 圍第1項或第2項或第3項所記載的板驅動裝置中，其特 徵爲：上述電磁鐵是成對設置經由上述轉軸形成彼此對峙 〇 申請專利範圍第5項記載的發明係提供如申請專利範 圍第1項至第4項中任一項所記載的板驅動裝置中，其特 ❹ 徵爲：上述電磁鐵係可進行配置位置的調整。 申請專利範圍第6項記載的發明提供排氣道開閉度變 更裝置’係設置於被排氣室的排氣口的排氣道開閉度變更 裝置’其特徵爲：具備如申請專利範圍第1項至第5項中 任一項所記載的板驅動裝置，上述板是與上述排氣口對向 配置’上述控制手段藉著上述轉軸的轉動角的配置，控制 上述排氣口的開口面積。 申請專利範圍第7項記載的發明係提供被排氣裝置， 其特徵爲’具備：從被排氣室排出氣體的真空泵；設置在 201107639 上述被排氣室與上述真空泵的吸：氣*π之間的申請專利範圍 第6項記載的排氣道開閉度變更裝置及高速排出上述被排 氣室內水蒸氣的水泵；進行上述真空泵、上述排氣道開閉 度變更裝置及上述水栗的控制單元的一元管理° 申請專利範圍第8項記載的發明係提供被排氣裝置， 其特徵爲，具備：被排氣室；從上述被排氣室排出氣體的 真空泵；設置在上述被排氣室與上述真空泵之間的申請專 0 利範圍第6項記載的排氣道開閉度變更裝置；及檢測上述 被排氣室內的氣體壓力的壓力檢測手段’上述控制手段是 根據上述壓力檢測手段所檢測出的氣體壓力，調整上述排 氣道開閉度變更裝置的排氣口的開口面積。 申請專利範圍第9項記載的發明提供搬運裝置，係搭 載被搬運構件而搬運的搬運裝置，其特徵爲：具備申請專 利範圔第1項至第5項中任一項記載的板驅動裝置，上述 被搬運構件被載放在上述板上，上述控制手段藉著上述轉 Q 軸的轉動角的調整，將上述板移動到搬運處爲止。 申請專利範圍第1 〇項記載的發明提供射束裝置，係 具有將射束朝向標靶照射的照射手段的射束裝置，其特徵 爲：具備申請專利範圍第1項至第5項中任一項記載的板 驅動裝置，上述板是配置在上述射束的照射路徑上，使其 主面與上述射束的照射方向交叉，上述控制手段是藉著上 述轉軸的轉動角的調整，使上述板所屏蔽的上述射束的量 變化，控制照射在上述標靶的上述射束的照射面積。 爲了達成上述第2目的，申請專利範圍第11項記載 201107639 的發明提供閘閥，係設置於真空泵的吸氣口上游，進行流 入上述真空泵的氣體流路開閉的閘閥，其特徵爲，具備： 具有形成氣體流路的開口部的框體：收納於上述框體內的 轉軸；在上述框體內支撐上述轉軸的彈簧；相對於上述轉 軸固定，根據上述轉軸的轉動角決定氣體流路的開口面積 的滑板：及旋轉驅動上述轉軸的致動器。 申請專利範圍第1 2項記載的發明係提供如申請專利 Q 範圍第11項記載的閘閥，其特徵爲：上述彈簧爲錐形螺 旋彈簧。 申請專利範圍第1 3項記載的發明係提供如申請專利 範圍第11項或第12項記載的閘閥，其特徵爲：上述轉軸 爲上述彈簧及磁性彈簧所支撐。 申請專利範圍第1 4項記載的發明係提供如申請專利 範圍第11項或第12項或第13項記載的閘閥，其特徵爲 :上述致動器是以利用電磁鐵所獲得動力的螺線管致動器 〇 所構成。 〔發明效果〕 根據申請專利範圍第1項記載的發明，在轉軸上設置 磁極’以其磁極配置在框體外部的電磁鐵吸附，可藉此控 制轉軸的轉動角，即板的位置，因此可在框體的內部配設 轉軸。 並根據申請專利範圍第11項記載的發明，使用彈簧 ’可藉此在框體內容易支撐閥的開閉處理時驅動的活動體 -8- 201107639 【實施方式】 以下，針對本發明的較佳實施形態，參閱第1圖〜第 1 4圖說明如下。 〔第1實施形態〕 Q 第1 ( a )圖是表示第1實施形態所涉及滑動式的閘閥 1的槪略構成圖。 如第1(a)圖表示，閘閥1是配設在真空容器2的排 氣口與真空流3之間，進行從真空容器2流入真空泵3的 氣體流路開閉的開閉閥。 並且，真空容器2例如以半導體製造裝置所使用的處 理室所構成’真空栗3是以進行真空容器2排氣的例如渦 輪分子泵所構成。 〇 又，閘閥1是藉著氣體流路的開口面積的變化，構成 可以調整氣體的導電率。亦即，閘閥1不僅可作爲開閉閥 ，並具有作爲電導閥的功能。 閘閥1，例如具備鋁等非磁性金屬所形成的框體1 〇。 框體1〇在相對的位置形成有圓形的氣體的流入孔11 與流出孔1 2。流入孔1 1是設置在氣體流路的上游測，真 空容器2的排氣口被固定與該流入孔11連接（連通）。 又’流出孔1 2是設置在氣體流路的下游測，真空泵3的 吸氣口被固定與該流出孔12連接（連通）。 -9- 201107639 閘閥1，具備：滑板（閘門）13,及使得該滑板13的 徑向及軸向位置變化的移動機構（閘門驅動機構）。 滑板13爲氣體的流路，詳細而言爲具有進行流出孔 12的開口部開閉之閥體功能的金屬製圓板，在相對於流入 孔1〗或流出孔1 2的開口面形成平行的方向收納在框體1〇 的內部。 閘閥1作爲滑板13的移動機構，具備：臂部14、軸 Q 15、配重16、磁性軸承17、軸支撐彈簧17、軸向驅動機 構19及電磁鐵20。 臂部14爲長方形板狀構件，一端固定在軸15上，另 一端安裝（固定）在滑板13上。 又，滑板13與臂部14也可以一體的構件形成（一體 形成）。 軸15是藉著磁性軸承17及軸支撐彈簧18可迴轉地 支撐在框體10內。 〇 另外，軸1 5具有作爲支撐軸的功能。 磁性軸承1 7爲設置在軸1 5的複數活動側永久磁鐵 17a與相對於框體10固定，配設在軸15周圍的複數固定 側永久磁鐵17b所構成的推斥型被動磁性軸承裝置。磁性 軸承1 7利用相對的活動側永久磁鐵1 7a與固定側永久磁 鐵17b的推斥力支撐著軸15。 軸支撐彈簧18是將帶狀的板或螺旋捲繞成渦卷（發 條）狀，形成圓錐形的盤簧（錐形螺旋彈簧）。軸支撐彈 簧1 8例如是以彈簧鋼、鋼琴線、磷青銅等的金屬構件所 -10- 201107639 形成。 軸支撐彈簧18將彈簧的中心端固定在軸15，外圍端 固定在框體10上。 但是，第1實施形態中，由於設有進行軸15軸向的 位置設定的軸向定位機構21，因此經由該軸向定位機構將 軸支撐彈簧18安裝在固定側。 軸支撐彈簧18具有作爲控制軸向位置之彈簧的功能 〇 配重16是相對於滑板13的重量取得平衡（均衡）用 的錘，固定在軸15的臂部14的延長線上（滑板13的軸 對象位置）。 配重1 6是以吸附在磁鐵上的構件（例如鐵等）所構 成，進行軸15的轉動角控制（徑向移動量的控制）時， 作爲構成徑向驅動機構之電磁鐵20的標靶部（電磁鐵標 靶）的功能。 〇 軸15的徑向驅動機構是以設置在配重16上下方向（ 真空容器2側與真空泵3側）的電磁鐵20，及具有作爲電 磁鐵標靶功能的配重16所構成。 此外，軸1 5的徑向驅動機構具有作爲利用電磁鐵所 獲得動力的螺線管致動器的功能。 第1實施形態中，配設一對電磁鐵20經配重1 6呈對 向。 控制電磁鐵2 0的配重16的吸附力，可以使軸15朝 著徑向移動（迴轉）。 -11 - 201107639 軸向驅動機構19爲設置在軸15的下端部（真空泵3 側的端部）的板狀電磁鐵標靶19a，及配設在與該電磁鐵 標靶19a對向位置的電磁鐵19b所構成。 控制電磁鐵1 9b的電磁鐵標靶1 9a的吸附力，可以使 軸1 5朝著軸向移動。 閘閥1設有軸向定位機構21、波紋管22。 軸向定位機構21是相對於框體10固定的裝置，進行 軸15的軸向基準位置的初期設定的裝置。因此軸向定位 機構21，基本上在閘閥1的作用中不會動作，形成相對於 框體1固定的狀態。 軸向定位機構21爲了從外部容易進行調整，裝置的 一部分設置在框體10的外部。因此，框體10的內部與外 部，即真空區域與大氣區域的邊界部設有作爲真空密封機 構功能的波紋管22。 再者，如上述，軸向定位機構21基本上是位在固定 的狀態，因此可期待波紋管22的壽命。亦即，波紋管22 的密封對象物爲固定體，因此可長期間維持高的耐久性。 另外，僅以軸支撐彈簧18可維持著軸15的軸向位置 精度的場合，也可以不使用軸向定位機構21，而是直接將 軸支撐彈簧18固定在框體10內。此時，未存在有跨真空 區域與大氣區域所配設的構件，因此可藉著簡單的密封構 造保持著真空精度。 第1實施形態是將配設在真空區域內的場合具有可產 生蒸氣壓的電磁鐵（電磁鐵1 9b、20等）所有皆配置在大 -12- 201107639 氣區域，即框體10的外部所構成。 又，標靶1設有〇環23。 〇環23是在框體1 0內側面的流出孔12的外側區域 ，安裝在沿著其周圍方向連續所形成的嵌入鈎槽用的環狀 密封構件。 〇環23在關閉氣體的流路時，爲滑板13所壓潰，具 有將流出口 12密封（seal )的功能。 〇 亦即，藉著將滑扳13朝著軸15的軸向移動，可實現 簡易密封機構。 此外，本實施形態中，〇環23雖是設置在閘閥1的 框體上，但是0環23的配設位置不僅限於此。例如，將 〇環23設置在滑板13的下面（真空泵3側面），也可獲 得同樣的密封效果。 第1 ( b )圖是表示關閉氣體流路的狀態的閘閥1的樣 態圖。 〇 藉閘閥1關閉氣體流路（完全密閉）的場合，滑板13 移動到完全覆蓋流出孔12的位置之後，使軸向驅動機構 19動作。詳細而言，以電磁鐵19b吸附電磁鐵標靶19a， 使得軸1 5朝向軸線下方移動。 如此，如第1(b)圖表示，滑板13朝著真空泵3方 向（流出孔12方向）移動，與0環23密接。 如上述，藉滑板1 3關閉氣體的流路（流出孔1 3 )。 再者，氣體流路的開閉不限於上述的方法。例如，也 可以將滑板1 3移動到真空容器2側，構成可以使流入孔 -13- 201107639 1 1開閉。此時’將與軸向驅動機構1 9同樣的滑板1 3的驅 動機構設置在真空容器2側。密封用〇環23也可以設置 在框體10的真空容器2側，或者滑板13的上面（真空容 器2側面）。 又’利用滑板1 3開閉的開口部也可以任意選擇流入 孔11及流出孔12的其中之一所構成。此時，預先設置流 入孔1 1及流出孔1 2雙方的開閉機構、密封機構。 〇 接著’針對滑板1 3與流出孔1 3的關係位置說明如下 〇 第2 ( a )圖是表示氣體的流路全開狀態的圖。 如第2 ( a )圖表示，氣體流路爲全開狀態的場合，將 滑板13移動到不與流出孔12重疊的位置爲止。 第2 ( b )圖是表示氣體流路的半開狀態的圖。 如第2(b)圖表示，在滑板13與流出孔12重疊的位 置上’調整流出孔12的開口面積（開度），可控制器體 〇 的導電率。 另外’滑板1 3的流出孔1 2的全閉位置與全開位置之 中間位置的控制是在預定的控制裝置中，藉反饋進行真空 容器2內配合所需壓力的開口位置。亦即，該真空系統具 備 APC ( Automatic · Pressure · Control)功能。 第2(c)圖是表示氣體流路的全閉狀態圖。 如第2(c)圖表示，氣體流路爲全閉狀態的場合，將 滑板13移動到與流出孔12完全重疊的位置爲止。 再者，如第2 ( c )圖表示，氣體流路爲全閉狀態的場 -14- 201107639 合，在移動滑板13之後’如第1 (b)圖表示，更使得滑 板13朝著真空泵3(流出孔12)方向移動，藉〇環23將 氣體的流路密封（s e a 1 )。 如第2圖表示，閘閥1是藉著滑板13的徑向位置的 控制調整氣體流路的開度所構成。 滑板1 3的位置控制是藉著控制軸1 5的轉動角來進行 。針對軸1 5轉動角的控制方法是如後述。 Q 接著，針對以磁性軸承1 7及軸支撐彈簧1 8所支撐的 軸1 5的軸向位置說明如下。 此外，在此如第1 (b)圖表示，不僅針對驅動軸向驅 動機構19將滑板13朝著流出孔12推壓的狀態，並針對 氣體的流路全開時或半開時、滑板1 3的開閉動作時（移 動時）的軸15的軸向位置說明如下。 第3(a)圖是表示作用在軸15的力的樣態圖。 如第3(a)圖表示，在磁性軸承17及軸支撐彈簧18 〇 所支撐的軸15上，有磁性軸承17的活動側永久磁鐵17a 的S極與固定側永久磁鐵丨7b的s極的推斥力Fku朝著軸 支撐彈簧1 8的配設方向作用。 又’軸15上有軸支撐彈簧18的恢復力Fks朝著軸15 的配設方向作用。 第3(b)圖是表示作用在軸15的力與軸15的軸向位 移關係的圖表。 如第3(b)圖表示，軸15是設定在磁性軸承17的推 斥力Fku與軸支撐彈簧18的恢復力Fks形成相等（平衡） -15- 201107639 狀態的位移，即軸1 5的軸向的穩定化位置。 第1實施形態中，滑板1 3配設在流入孔1 1與流出孔 12的中間附近的位置上’設定磁性軸承17的磁力或軸支 撐彈簧18的彈簧常數，將軸15設定在軸向的穩定化位置 〇 亦即，穩定化位置是對於電磁鐵19b形成不通電（不 使軸向驅動機構19動作）。 Q 穩定化位置不均一導致在容許範圍內形成困難的場合 ，也可以利用軸向定位機構來設定軸15的軸向位置。 接著，針對設定滑板13的位置用的軸15的轉動角的 控制方法，即軸1 5的徑向位置的設定方法說明如下。 第1實施形態中，相對於軸1 5朝徑向沒有力的作用 (徑向驅動機構無作用）狀態下，即捲繞在軸支撐彈簧18 的方向的負載力（荷重）未作用的自然長度狀態的基準角 (轉動角=0°)中，設定將滑板13配設在第2(c)圖表示 Q 的氣體流路的全關閉狀態的位置。 亦即，第1實施形態是驅動徑向驅動機構，藉此設定 氣體流路的開度所構成。 第4(a)圖爲說明軸15的徑向位置的設定方法用的 圖。 此外，第4(a)圖是表示第1(a)圖所示軸15的滑 板1的上方，即從真空容器2側顯示的上視圖。 例如，閘閥1中，滑板13從全關閉位置移動到半開 位置或全開位置的場合，驅動徑向驅動機構使得軸1 5旋 -16- 201107639 轉。 更詳細而言，對於電磁鐵20供給電流，使得吸附具 有電磁鐵20的標靶部（電磁鐵標靶）功能的配重的力， 即電磁鐵20的拉張力Fke在朝著電磁鐵20的方向作用， 使得軸15在電磁鐵20方向旋轉。 如此一來，軸15上’利用支撐軸15的軸支撐彈簧18 ，使得藉著軸1 5的旋轉所捲繞的線圈恢復到原來位置的 Q 恢復力Fksr朝著與電磁鐵20的拉張力Fke的相反方向作用 〇 如上述，驅動徑向驅動機構時，對於軸15分別朝相 反方向有著拉張力Fkc與恢復力Fksr的作用。 並且，軸15的轉動角（臂部14的轉動角），即滑板 13的徑向移動位置是根據拉張力Fke與恢復力Fksr的平衡 來決定（設定）。 再者，第1實施形態中，配重16的中心與電磁鐵20 G 的中心重疊（在軸向方向排列）的位置上，設定電磁鐵20 的配設位置使滑板13形成第2(a)圖表示的氣體流路的 全開位置。 亦即，可忽略軸支撐彈簧1 8的恢復力Fksr程度的電 磁鐵20的拉張力Fk。作用時，構成使滑板13配設在全開 位置。 又，第1實施形態中，徑向驅動機構的驅動處理，即 對於電磁鐵20的電流供給停止時，藉著恢復力Fksr的作 用，可以使滑板1 3從半開位置或全開位置自動恢復到全 -17- 201107639 關閉位置。 並且，實際上考慮徑向的驅動機構的穩定性（不穩定 性），進行設計（軸支撐彈簧18的彈簧常數的設定等） 〇 如上述，根據第1實施形態，利用軸支撐彈簧18的 恢復力Fksr，可以容易使滑板1 3恢復到基準位置（全關 閉位置）。 Q 上述軸15的徑向位置的設定方法是如第4(a)圖表 示，針對使用一對電磁鐵20的場合的設定方法已作說明 。但是，軸1 5的徑向位置的設定方法不僅限於此。 第4(b)圖是表示軸15的徑向位置之設定方法的變 形例的圖。 例如，如第4(b)圖表示，也可以另外設置一對的電 磁鐵120，使用電磁鐵20及電磁鐵120進行軸15徑向的 位置設定。詳細而言，在配重16的中心與電磁鐵120的 〇 中心重疊（軸線方向排列）位置，配設電磁鐵1 20使滑板 1 3形成位在第2 ( C )圖表示的氣體流路的全關閉位置。 再者，電磁鐵120是與電磁鐵20同樣地，經配重16 配設形成相對。 並且，閘閥1位於全開狀態的場合，對於電磁鐵20 供應可忽略軸支撐彈簧18之恢復力Fksr程度的電磁鐵20 的拉張力Fkea作用的電流。 另一方面，閘閥1位於全關閉位置的場合，停止對電 磁鐵20的電流供應，開始對於電磁鐵12〇的電流供應。 -18- 201107639 如此一來配重16被吸附於電磁鐵120，即藉著電磁鐵120 的拉張力Fkcb的作用，使得軸15(臂部14)迅速恢復至 基準角（轉動角=0°)爲止。 如上述，設置電磁鐵120，即使因長時間劣化或製造 精度等導致軸支撐彈簧18產生誤差（偏位誤差、變形誤 差等）的場合，可以使軸15再更短的時間內恢復到適當 的基準角（基準位置）爲止。 Q 又，使滑板13移動到如第2(b)圖表示的氣體流路 的半開狀態位置，調整（控制）氣體導電率的場合，對於 電磁鐵20及電磁鐵120雙方供應調整用電流。 如上述，滑板1 3移動至對應調整用電流値的的位置 ，即根據電磁鐵20的拉張力Fkea、電磁鐵120的拉張力 Fkcb及軸支撐彈簧1 8的恢復力Fksr的平衡（合力）來決 定（設定）的位置。 再者’在忽略軸支撐彈簧18的恢復力Fksr的程度， Ο 使得電磁鐵20及電磁鐵120的輸出爲足夠大的値，僅考 慮調整用電流的平衡即可容易進行軸丨5轉動角的設定。 如上述，藉著電磁鐵i 2〇的設置，可進行精度高的導 電率控制（滑板1 3的位置控制）。 第5圖是表示軸15的徑向位置之設定方法的其他變 形例圖。 又’聞閥1中僅進行單純的氣體流路之開閉動作的場 〇’如第5圖表示，例如在配重16的外側端設置永久磁 鐵161 (或者以永久磁鐵構成配重16)，並在配重16的 -19- 201107639 外部配設永久磁鐵162、163。 永久磁鐵162是配設在閘閥1關閉狀態之配重16的 轉動角的延長線上，永久磁鐵163是配設在開啓狀態之配 重16的轉動角的延長線上。 永久磁鐵161是沿著徑向（放射方向）配設在連接（ 鄰接）磁極（S極/N極）的方向。 永久磁鐵162、163同樣是沿著徑向（放射方向）配 Q 設在連接（鄰接）磁極（S極/N極）的方向。永久磁鐵 162、163的其磁極方向爲180°可反轉的活動體，其方向 是根據進行氣體流路的開閉動作時變化所構成。 並且，閘閥1爲開啓狀態的場合，如第5(a)圖表示 ，永久磁鐵163被設定在吸附配重16的永久磁鐵161的 方向，另一方面，永久磁鐵162是被設定在與配重16的 永久磁鐵161相斥的方向。 藉此，配重16的永久磁鐵161吸附於永久磁鐵163 〇 時，可以使滑板13迅速移動到全閉位置。 又’閘閥1爲關閉狀態的場合，如第5(b)圖表示， 永久磁鐵162被設定在吸附配重16的永久磁鐵161的方 向’另一方面’永久磁鐵163是被設定在與配重16的永 久磁鐵161相斥的方向。 藉此’配重16的永久磁鐵161吸附於永久磁鐵162 時’可以使滑板1 3迅速移動到全開位置。 並且’也可以電磁鐵使電流反轉來代替永久磁鐵1 62 、163的反轉’可獲得同樣的動作。 -20- 201107639 第6圖是表示軸15的徑向位置之設定方法的其他變 形例的圖。 此外’爲了更提高滑板1 3的位置控制精度，也可以 如第6圖表示配設複數的捲線（線圈101〜；1〇5)，並且藉 著電流流動捲線的變化控制軸1 5的轉動角。 例如，在第6(a)圖表示的位置設定軸15的轉動角 的場合，對於線圈101供給電流吸附配重16，在第6(b 0 )圖表示的位置設定軸15的轉動角的場合，對於線圈105 供給電流吸附配重1 6。 又，例如在線圈101與線圈102的中間移動配重16 的場合，對於線圏101與線圈102的雙方供給電流，控制 使吸附力在線圈1 0 1與線圈1 02的中間位置平衡》 再者，第6圖表示的變形例中，雖針對使用5個捲線 (線圈101〜105)的場合已作說明，但是配置的捲線數可 對應所要求滑板13的位置精度加以變更。 〇 上述的實施形態中，軸15雖是藉著磁性軸承17及軸 支撐彈簧18支撐可在框體10內自由迴轉的構成，但是軸 1 5的支撐方法不僅限於此。 第7圖是表示軸15的支撐方法的變形例的圖。 例如，也可以如第7(a)圖表示，藉著設置在軸15 兩端的軸支撐彈簧18及軸支撐彈簧118支撐著軸15可在 框體10內自由迴轉的構成。 軸支撐彈簧118是與軸支撐彈簧18同樣的形成，彈 簧的中心端被固定在軸15上，外圍端被固定在框體10上 201107639 如上述支撐軸1 5的場合，徑向荷重必須同樣爲軸支 撐彈簧18、118所支撐。因此，軸支撐彈簧18、118構成 爲具有可支撐徑向荷重程度的剛性。 第7(a) 、（b)圖的變形例表示的閘閥1中，在軸 15的兩軸端設置軸支撐彈簧18、118,構成積極地利用軸 支撐彈簧1 8、1 1 8徑向的向心功能與上下報告的向心功能 0 雙方的功能。 如上述，以軸支撐彈簧18、118將軸15支撐在框體 1〇內，可藉此獲得軸15支撐機構的簡化（簡單化）。 再者，僅以軸支撐彈簧18、118可充分維持著軸15 的軸向的位置精度的場合，也可以不使用軸向位置定位機 構21，直接將軸支撐彈18固定在框體10內。 又，第7(a)圖表示的變形例中，雖是固定軸向定位 機構21與軸支撐彈簧18的外圍端，但是軸向定位機構21 Q 的配設位置不僅限於此。 也可以將軸向定位機構21例如第7(b)圖表示，配 設在軸支撐彈簧1 1 8側。 第8圖是表示軸15支撐方法的其他變形例的圖。 例如，對於軸15的軸向支撐是使用樞軸承，或者使 用扁平的盤簧130作爲軸15旋轉方向的恢復用。 更詳細而言，如第8圖表示，在軸15的端部設置樞 軸41，並在軸支撐彈簧119的端部設置承接部42。 樞軸承是前端具球型的樞軸41與具有球型凹陷的承 -22- 201107639 接部42所構成的軸承。 在此’如第8圖表示，將軸支撐彈簧ι19配置在軸方 向定位機構21與樞軸承的承接部42之間。亦即，軸支撐 彈簧119是經由樞軸承支撐著軸15所構成。 再者’盤簧130是被配置在軸15上，軸15旋轉時產 生恢復力FkSr的構成。 第8圖表示的變形例中，並非使用錐形螺旋彈簧，而 〇 是使用僅軸15軸向的恢復力Fks作用的單純螺旋彈簧所構 成的軸支撐彈簧119，支撐著軸15〇 另外’如該變形例表示，另外設置使旋轉方向的恢復 力Fksr作用的盤簧130的構成是不論軸向的恢復力Fks爲 何’設定旋轉方向的恢復力Fksr的場合即爲有效。 在此，如第8圖表示，配置磁性軸承17使磁性軸承 17的斥力Fku朝著軸支撐彈簧119的配設方向作用。 又，軸支撐彈簧119是設置使軸支撐彈簧119軸向的 〇 恢復力Fks朝著軸1 5的方向作用。亦即’在此是利用軸支 撐彈簧119的壓縮力支撐著承接部42(樞軸承）所構成。 如上述’使用可點接觸的樞軸承，可以容易自由旋轉 地支撐著軸1 5。 又，第1實施形態中，朝著與軸15的軸線直行的方 向，即以軸15的軸線爲給直方向場合的水平方向，使滑 板1 3相對於流出孔1 2滑動藉以進行氣體流路的開口面積 的調整所構成。但是’氣體流路的開口面積之調整方法的 變形例不僅限於此。 -23- 201107639 第9圖是表示氣體流路的開口面積之調整方法的變形 例的圖。 例如，如第9圖表示，也可以使滑板13沿著軸15的 軸向平行移動，調整氣體流路的開口面積（開口度）。 更詳細而言，如第9 ( a )圖表示，使滑板13朝著流 出孔12方向移動，推壓於〇環23使氣體的流路密閉。 又，如第9 ( b )圖表示，使滑板13朝著與流出孔12 0 的相反方向移動，藉此開放氣體的流路。 又，第1實施形態中，將框體10’的流出孔12的外圍 壁部，如第9圖表示朝著流出孔1 2減少厚度地使其剖面 形成楔形，構成可進行氣體流路的開口部的微調整。 使滑板1 3朝著軸1 5的軸線方向移動開閉氣體流路的 場合，使用軸向驅動機構19進行，不設置徑向驅動機構 〇 再者，使用上述開閉構造的場合，擴大軸15的軸向 〇 活動範圍，可以提高氣體流路的開口度控制的精度。 根據第1實施形態，構成滑板1 3的驅動力傳達不使 用〇環或波紋管的構成，可以排除如習知導入驅動構件用 的真空密封機構。藉此，可適當抑制機械磨耗、起因於接 觸零件（構件）的耐久性劣化或製品壽命的縮短化。 又，第1實施形態中，由於不使用必須塗抹潤滑油的 構造’因此可消除起因於潤滑油產生蒸氣壓的問題。 根據第1實施形態，可以單純的機構（例如，簡易致 動器或簡易密封機構）構成閘閥1，可獲得製造成本的降 -24- Ο

201107639 低。 〔第2實施形態〕 上述第1實施形態及各變形例中，係針對以配 及配設在配重16的磁鐵作爲具吸附動作的標靶部攻 徑向驅動機構已作說明。但是閥的徑向驅動機構的榣 的配置方法，則不僅限於此。 因此，第2實施形態中，針對設置在軸部15 β 方向中間的滑動式閘閥1’說明徑向驅動機構的吸附圍 標靶部。 第10圖是表示第2實施形態所涉及滑動式閘閥 槪略構成圖。 此外，第2實施形態中，對於和第1實施形態;g 例重複的部分（例如，滑板1 3、臂部1 4、磁性軸承 軸向驅動機構19、軸向定位機構21、真空閘門機掮 使用相同的符號，並省略詳細的說明。 但是，第2實施形態的閘閥Γ中，由於未使用 16，因此構成使磁性軸承17具有可充分維持軸15’zp 度的強度。

如第1 〇圖表示，閘閥Γ的軸1 5 ’的徑向驅動機榻 有電磁鐵標靶功能的永久磁鐵50;設置在永久磁鐵 S極側的電磁鐵60 ;及設置在N極側的電磁鐵61戶J 永久磁鐵50在軸15’的軸線方向中段，在軸15 重16 J能的 !靶部 7軸線 Η乍的 1，的 :變形 17、 f等） 丨配重 =衡程 I爲具 50的 ί構成 ’的周 -25- 201107639 圍以每180°配置固定著N極與S極。 電磁鐵60、61在框體10’的外部，即大氣區域中，設 置經由軸承1 5 ’形成彼此對峙。 根據電磁鐵60、6 1控制永久磁鐵50的吸附力，可以 使軸15’在徑向移動（迴轉）。 如上述，第2實施形態中，同樣在真空區域內配設閘 閥1’的場合，將有產生蒸氣壓可能的電磁鐵（電磁鐵19b 0 、60、61)所有都配設在大氣區域內所構成。 第1 1 ( a )圖是表示第2實施形態所涉及閘閥1 ’的軸 15’的徑向驅動機構的槪略構成圖。 第2實施形態所涉及的閘閥1 ’是針對進行全閉•半開 •全開的3位置設定的方法說明軸15’的徑向位置之設定 方法的一例。 如第11(b)圖表示，閘閥1’上，具備：構成設定軸 承15’的徑向旋轉位置的電磁鐵60的電磁鐵60a、60b、 ❹ 60c，及構成電磁鐵61的電磁鐵61a、61b、61c。 並且，電磁鐵60a、60b、60c是設置在永久磁鐵50 的S極側，電磁鐵61a、61b、61c是設置在永久磁鐵50 的N極側。 電磁鐵60a與電磁鐵61a、電磁鐵60b與電磁鐵61b 、電磁鐵60c與電磁鐵61c分別經由軸15,的中心軸設置 呈彼此對峙。 第2實施形態渉及的閘閥1’在電流供給電磁鐵6〇a與 電磁鐵61a的場合形成全閉狀態；電流供給電磁鐵60b與 -26- 201107639 電磁鐵61b的場合形成半開狀態；電流供給電磁鐵60c與 電磁鐵6 1 c的場合則形成全開狀態的位置上，分別配設有 電磁鐵。 另外，閘閥1’的半開狀態的開口面積被預先設定在使 用該閘閥1’的真空系統的各過程，電磁鐵60b及電磁鐵 61b的位置（配置角）是根據所設定的開口面積來決定。 閘閥1’的半開狀態的開口面積是根據過程的不同變化 Q ，因此設置變更電磁鐵6 0b及電磁鐵61b的位置用的調整 機構。 在此，針對變更電磁鐵60b及電磁鐵61b的位置用的 調整機構說明如下。 第11(b)圖是表示變更電磁鐵60b及電磁鐵61b的 位置用之調整機構的槪略構成圖。 如第11 (b)圖表示，構成可調整電磁鐵60b及電磁 鐵61b的位置的場合，軸向偏位配置電磁鐵60a、60c及 Q 電磁鐵61a、61c構成的固定側電磁鐵與電磁鐵60b及電 磁鐵6 1 b構成的活動側電磁鐵。亦即，在軸向2段排列配 置著固定側電磁鐵與活動側電磁鐵。 又，永久磁鐵50爲固定側永久磁鐵50a與活動側永 久磁鐵50b所構成。並且，配置使固定側永久磁鐵50a與 固定側電磁鐵、活動側永久磁鐵5 Ob與活動側電磁鐵彼此 作用。 本實施形態中，上段配置固定側電磁鐵，下段配置活 動側電磁鐵。活動側電磁鐵是經軸15’配置使電磁鐵60b -27- 201107639 及電磁鐵61b在圓環狀的旋轉板140上形成對峙。並且， 藉著旋轉板140的旋轉，可調整電磁鐵60b及電磁鐵61b 的位置。 如第11 (a)圖表示，設置徑向的驅動機構，不僅可 以選擇電流流動（驅動）的電磁鐵，並可開放路徑控制全 閉•半開•全開的3位置的切換，容易進行。 但是，此時雖然未圖示，但是在軸15’旋轉時，也可 0 以使用軸支撐彈簧1 8。此時，使得軸支撐彈簧1 8的恢復 力Fksr作用。因此，閘閥1 ’爲半開或全開狀態的場合，對 於電磁鐵60、61供給可忽略軸支撐彈簧18的恢復力Fksr 程度的拉張力作用的電流。 上述軸15’的徑向位置的設定方法是如第11 (a)圖 表示，針對使用3對電磁鐵（電磁鐵60a〜c、61 a〜c)的場 合的設定方法已作說明。但是，軸15’的徑向位置的設定 方法不僅限於此。 〇 第12(a)圖是表示軸15’的徑向位置之設定方法的 變形例圖。 例如，如第12 ( a )圖表示，調整供給電磁鐵60a、 61a及電磁鐵60c、61c雙方電流，也可以使閘閥1 ’形成半 開狀態（中間位置）。 此時，如第12(a)圖表示，設置軸15’的轉角，即 檢測永久磁鐵50的磁極位置的位置感測器70。 在此，針對檢測永久磁鐵5 0的磁極位置的位置感測 器7 0說明如下。 -28- 201107639 第12 (b)圖是表示具備檢測永久磁鐵50的磁極位置 之位置感測器70的閘閥1 ’的槪略構成圖。 如第12 ( b )圖表示，位置感測器7〇被設置在閘閥 1 ’的框體1 〇的外側，即大氣側的區域。 又，軸1 5 ’設有構成位置感測器70的標靶部的感測器 標靶71。感測器標靶71是構成與永久磁鐵50的旋轉連動 。位置感測器70是構成根據檢測的感測器標靶7 1的轉角 Q 輸出永久磁鐵50的磁極位置。 並且，根據位置感測器70的輸出，進行供給電磁鐵 6 0a、61a及電磁鐵60c、61c電流的調整，即反饋控制。 藉此，可精度良好地進行半開狀態的閘閥1’的開口面 積的調整。 僅變更反饋控制的目標値的設定，即可容易進行半開 狀態的閘閥1’的開口面積（軸1 5 ’的轉角）的設定。 第11圖、第12圖表示的軸15’的徑向驅動機構是使 〇 用電磁鐵60、61從兩側吸附永久磁鐵50使軸15’的主軸 位置不靠近一方側的構成。 但是，只要可充分保持磁性軸承17對於軸15’的支撐 強度，也可僅以電磁鐵6 0吸附永久磁鐵5 0來轉軸1 5 ’。 再者，在此永久磁鐵5 0的磁極位置的檢測方法的一 例是針對使用旋轉位置感測器的場合已作說明。但是，永 久磁鐵5 0的磁極位置的檢測方法不僅限於此，也可以使 用其他編碼器或位置感測器等。 另外，上述第2實施形態及各變形例表示的閘閥1’中 -29- 201107639 ，同樣針對軸15’的軸支是不僅限於使用錐形的軸支撐彈 簧18的方法，也可以使用第8圖表示的樞軸承。 此時同樣也可以另外設置使旋轉方向的恢復力Fksr作 用的盤簧130。 接著，針對使用第1實施形態、第2實施形態及各變 形例表示的閘閥的例如，半導體製造裝置等的真空系統說 明如下。 0 第1 3圖是表示真空系統的一例圖。 並且，與上述實施形態及變形例重複的部分是使用相 同的符號，並省略詳細的說明。 如第13圖表示，真空系統具備閘閥1、真空容器2、 真空泵3、壓力感測器4及控制裝置5。 壓力感測器4是檢測真空容器2內的壓力的感測器。 控制裝置 5是在真空系統中進行實現 APC ( Automatic· Pressure· Control)功能用控制的裝置，連接 〇 在閘閥1，經壓力感測器4連接於真空容器2。 第13圖表示的真空系統是在控制裝置5中，根據壓 力感測器4所檢測的値，進行閘閥1的半開位置（中間位 置）的反饋控制使真空容器2的內部壓力形成預定的設定 値。 亦即，爲了使真空容器2的內部壓力形成預定的設定 値，例如控制供給上述電磁鐵20或線圈1〇1~1〇5、電磁鐵 60、6 1的電流進行閘閥1開口面積的調整。 另外，該真空系統的APC功能爲控制閘閥1的滑板 -30- 201107639 13的角度，即氣體流路的開口度的功能。並且，該APC 功能是構成進行真空容器2的內壓控制（壓力系的總控制 )的 CPC( Chamber· Pressure· Control)功能的一部分 ο 接著，針對上述第1實施形態、第2實施形態及各變 形例表示的閘閥1組合在真空泵3的排氣系統的一例說明 如下。 0 第14圖是表示排氣系統的一例圖。 例如，將閘閥1及水泵6組裝在真空泵3構成真空容 器2的排氣系統。 水泵6爲高速排出真空容器2內的水蒸氣，例如以低 溫泵等所構成。 真空容器2的真空排氣的性能是依據水蒸氣排氣的大 小。因此，在排氣系統組入水泵6，可以大幅縮短真空容 器2的真空排氣時間。 Q 並且，構成排氣系統的閘閥1、水泵6、真空栗3是 藉著控制單元7進行一元管理。 排氣系統在真空泵3的吸氣口上游側設有水泵6與閘 閥1。 排氣系統的閘閥1是如第14(a)圖表示，也可以設 置在水泵6上游側，也可以如第14 ( b )圖表示，設置在 水泵6下游側。 以排氣性能優先的場合，如第1 4 ( a )圖表示，以將 閘閥1設置在水泵6的上游側爲佳。又，排氣精度爲優先 -31 - 201107639 的場合’則是如第1 4 ( b )圖表示，以將閘閥1設置在水 泵6的下游側爲佳。 第14(a)圖表示的排氣系統中，也可以一體形成閘 閥1與水栗6。具體而言，也可以爲閘閥1與水泵6的框 體一部分兼用的構成。 又，第14(b)圖表示的排氣系統中，也可以一體形 成閘閥1與真空泵3。具體而言，也可以爲閘閥1與真空 Q 泵3的框體一部分兼用的構成。並且可以兼用閘閥1、水 泵6、真空泵3的各框體的構成。 如上述’藉著框體的兼用，可以形成使真空容器2所 排氣的氣體流路長度更爲縮短的構成。可藉此更爲提升氣 體的排氣性能。 再者’上述的第1實施形態、第2實施形態及各變形 例說明的滑板1 3的驅動機構不僅限於使用在調節氣體流 路的開閉度（開口面積）用的閘閥1。 〇 也可以將上述滑板1 3的驅動機構，例如使用在半導 體裝置的半導體晶圓的移載裝置上。具體而言，在滑板13 的上面載放半導體晶圓，運用在次行程的搬運裝置。此時 ，因應搬運滑板1 3大小的晶圓尺寸加以設定，滑板1 3的 驅動範圍（移動範圍）同樣可因應搬運路徑予以擴寬。並 且必要時，設置直線移動滑板1 3用的致動器。 並可以將滑板1 3的驅動機構，例如使用作爲射束裝 置的屏蔽功能。具體而言，將雷射光束、量子射束、電子 射束等照射在預定標靶的射束裝置中，在射束的照射路徑 -32- 201107639 上配置使滑板13的主面與該射束的照射方向交叉。並且 ，藉著該滑板13在徑向的移動，使滑板13所屏蔽的射束 量變化，控制照射再標靶的照射面積，進行射束照射的 ΟΝ/OFF °但是，此時是以不穿透射束的構件構成滑板13 〇 如上述，使用滑板13的驅動機構，可不需使用具複 雜構成的致動器，即可以簡單的構成來構成搬運裝置與射 0 束裝置的屏蔽等。 【圖式簡單說明】 第1圖（a)是表示第1實施形態所涉及滑動式閘閥 的槪略構成圖，（b)是表示關閉氣體流路的狀態的閘閥 樣態的圖。 第2圖（a)是表示氣體流路的全開狀態的圖，（b) 是表示氣體流路的半開狀態的圖，（c)是表示氣體流路 Q 的全關閉狀態的圖。 第3圖（a)是表示作用在軸上的力的樣態圖，（b) 是表示作用在軸上的力與軸的軸向位移的關係的圖表。 第4圖（a)是說明軸的徑向位置的設定方法的圖， (b)是表示軸的徑向位置之設定方法的變形例的圖。 第5圖是表示軸的徑向位置之設定方法的其他變形例 的圖。 第6圖是表示軸的徑向位置之設定方法的其他變形例 的圖。 -33- 201107639 第7圖是表示軸的支撐方法的變形例的圖。 第8圖是表示軸的支撐方法的其他變形例的圖。 第9圖是表示氣體流路開口面積的調整方法的變形例 圖。 第10圖是表示第2實施形態所涉及滑動式閘閥的槪 略構成圖。 第11圖（a)是表示第2實施形態所涉及閘閥的軸的 0 徑向驅動機構的槪略構成圖，（b)是表示變更電磁鐵位 置用的調整機構的槪略構成圖。 第12圖（a)是表示軸的徑向位置之設定方法的變形 例圖’ （b )是表示具備檢測永久磁鐵的磁極位置之位置 感測器的閘閥的槪略構成圖。 第13圖是表示真空系統的一例圖。 第1 4圖是表示排氣系統的一例圖。 【主要元件符號說明】 Q 1 :閘閥 2 :真空容器 3 :真空泵 4 :壓力感測器 5 :控制裝置 6 :水泵 7 :控制單元 10 :框體 11 :流入孔 -34- 201107639 1 2 :流出孔 1 3 :滑板 14 :臂部 15 :軸 1 6 :配重 1 7 :磁性軸承 17a :活動側永久磁鐵 17b :固定側永久磁鐵 1 8 :軸支撐彈簧 1 9 :軸向驅動機構 19a :電磁鐵標靶 19b :電磁鐵 20、60、61:電磁鐵 2 1 :軸向定位機構 2 2 :波紋管 23 : Ο 環 4 1 .樞軸 42 :承接部 5 0 :永久磁鐵 70 :位置感測器 71 :感測器標靶 1 0 1〜1 0 5 :線圏 120 :電磁鐵 130 :盤簧 -35

Claims (1)

1. 201107639 十、申請專利範圍 1·一種板驅動裝置，其特徵爲，具備： 具有磁極的轉軸； 軸支上述轉軸的軸承； 內含著上述轉軸及上述軸承的框體； 設置在上述框體外部的電磁鐵； 固定在上述轉軸，藉上述轉軸的旋轉而移動的板；及 〇 控制上述電磁鐵的激磁電流調整上述轉軸的轉動角的 控制手段。 2. 如申請專利範圍第1項記載的板驅動裝置，其中， 具備檢測上述轉軸的轉動角的位置檢測手段， 上述控制手段根據上述位置檢測手段所檢測的轉動角 ，控制上述電磁鐵的激磁電流。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項記載的板驅動裝置 ，其中，複數設置上述電磁鐵， 〇 上述控制手段從上述複數電磁鐵中選擇至少其中之一 的電磁鐵，控制該所選擇電磁鐵的激磁電流。 4. 如申請專利範圍第1項或第2項或第3項記載的板 驅動裝置，其中，上述電磁鐵是成對設置經由上述轉軸形 成彼此對峙。 5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項記載的板 驅動裝置，其中，上述電磁鐵係可進行配置位置的調整。 6. —種排氣道開閉度變更裝置，係設置於被排氣室的 排氣口的排氣道開閉度變更裝置，其特徵爲：具備如申請 -36- 201107639 專利範圍第1項至第5項中任一項記載的板驅動裝置， 上述板是與上述排氣口對向配置， 上述控制手段藉著上述轉軸的轉動角的配置，控制上 述排氣口的開口面積。 7. —種被排氣裝置，其特徵爲，具備： 從被排氣室排出氣體的真空泵； 設置在上述被排氣室與上述真空泵的吸氣口之間的申 0 請專利範圍第6項記載的排氣道開閉度變更裝置及高速排 出上述被排氣室內水蒸氣的水泵； 進行上述真空泵、上述排氣道開閉度變更裝置及上述 水泵一元管理的控制單元。 8. —種被排氣裝置，其特徵爲，具備： 被排氣室； 從上述被排氣室排出氣體的真空泵； 設置在上述被排氣室與上述真空泵之間的申請專利範 〇 圍第6項記載的排氣道開閉度變更裝置；及 檢測上述被排氣室內的氣體壓力的壓力檢測手段， 上述控制手段是根據上述壓力檢測手段所檢測出的氣 體壓力，調整上述排氣道開閉度變更裝置的排氣口的開口 面積。 9. 一種搬運裝置，係搭載被搬運構件而搬運的搬運裝 置，其特徵爲： 具備申請專利範圍第1項至第5項中任一項記載的板 驅動裝置， -37- 201107639 上述被搬運構件被載放在上述板上， 上述控制手段藉著上述轉軸的轉動角的調整，將上述 板移動到搬運處爲止。 1 〇· —種射束裝置，係具有將射束朝向標靶照射的照 射手段的射束裝置，其特徵爲： 具備申請專利範圍第1項至第5項中任一項記載的板 驅動裝置， 0 上述板是配置在上述射束的照射路徑上，使其主面與 上述射束的照射方向交叉， 上述控制手段是藉著上述轉軸的轉動角的調整，使上 述板所屏蔽的上述射束的量變化，控制照射在上述標靶的 上述射束的照射面積。 11. 一種閘閥，係設置於真空泵的吸氣口上游，進行 流入上述真空栗的氣體流路開閉的閘閥，其特徵爲，具備 〇 具有形成氣體流路的開口部的框體； 收納於上述框體內的轉軸； 在上述框體內支撐上述轉軸的彈簧； 相對於上述轉軸固定，根據上述轉軸的轉動角決定氣 體流路的開口面積的滑板；.及 旋轉驅動上述轉軸的致動器。 12. 如申請專利範圍第1 1項記載的閘閥，其中，上述 彈簧爲錐形螺旋彈簧。 1 3 ·如申請專利範圍第1 1項或第1 2項記載的閘閥， -38- 201107639

   其中，上述轉軸爲上述彈簧及磁性彈簧所支撐。 1 4 .如申請專利範圍第1 1項或第1 2項或第1 3項記載 的閘閥，其中，上述致動器是以利用電磁鐵所獲得動力的 螺線管致動器所構成。 -39-