JP2007107398A - 真空排気装置および真空排気方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】水素ガスの排気速度を大きくするとともに、メンテナンスの作業性を簡略化した真空排気装置を提供すること。
【解決手段】真空排気装置100に水素濃度センサ7と圧力センサ8を設け、ターボ分子ポンプ30の吸気側配管3内の水素分圧をモニターし、水素分圧を変化させる各種パラメータをパラメータ制御部9により制御する。すなわち、パラメータ制御部9から水素分圧に比例する電気信号を、開閉バルブ制御部11、調整バルブ制御部21およびモータ制御部31の各制御部へ出力し、開閉バルブ10、調整バルブ20およびターボ分子ポンプ30のモータをそれぞれ独立に制御する。これにより、ターボ分子ポンプ30の吸気口側の水素分圧を増加させ、水素ガスの排気速度を大きくすることが可能となる。また、水素濃度センサ7、圧力センサ8のメンテナンス作業は簡単である。
【選択図】図1
【解決手段】真空排気装置100に水素濃度センサ7と圧力センサ8を設け、ターボ分子ポンプ30の吸気側配管3内の水素分圧をモニターし、水素分圧を変化させる各種パラメータをパラメータ制御部9により制御する。すなわち、パラメータ制御部9から水素分圧に比例する電気信号を、開閉バルブ制御部11、調整バルブ制御部21およびモータ制御部31の各制御部へ出力し、開閉バルブ10、調整バルブ20およびターボ分子ポンプ30のモータをそれぞれ独立に制御する。これにより、ターボ分子ポンプ30の吸気口側の水素分圧を増加させ、水素ガスの排気速度を大きくすることが可能となる。また、水素濃度センサ7、圧力センサ8のメンテナンス作業は簡単である。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体デバイス製造装置などで用いられる真空容器内のガスを排気する真空排気装置に関する。
真空容器内を真空排気する場合、高真空においては全圧に占める水素分圧が真空度を大きく左右するので、水素に対する排気速度を大きくする必要がある。高真空排気に用いられるターボ分子ポンプは、その構造上、質量の軽いガスに対する圧縮比が小さい。特に水素ガスに対する圧縮比は、アルゴンガスや窒素ガスの場合に比べて小さいので、真空容器内の水素分圧が低い状態では水素ガスに対する排気速度が低下する。従来、ターボ分子ポンプの排気口側の排気管壁の一部にパラジウム材料を用い、水素ガスを選択的に透過させることにより排気口側の水素分圧を下げ、結果的にターボ分子ポンプの吸気口側の水素分圧がより低い圧力になるまで排気できる真空排気装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1の装置では、水素ガスの排気能力は向上するが、パラジウム材料を用いた排気管壁が腐食性ガスを含む各種のガスに曝されるため、メンテナンスや消耗品交換が必要であり、これらの作業は大掛かりで煩雑である。
(1)本発明の請求項1による真空排気装置は、真空容器内を排気する真空ポンプと、真空ポンプの吸気側の水素分圧を測定する水素分圧測定部と、水素分圧測定部で測定される水素分圧を上昇させるように、真空ポンプの排気能力に関わる各種パラメータを制御するパラメータ制御部とを設けたことを特徴とする。
(2)請求項2による真空排気装置は、請求項1に記載の真空排気装置において、真空ポンプは、ターボ分子ポンプであることを特徴とする。
(3)請求項3の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、水素分圧測定部による水素検出位置よりも真空ポンプに対して上流側に、真空容器から真空ポンプへ流入するガス流量を調整する開閉弁が配設され、パラメータ制御部は、開閉弁の開度を絞って流入ガス流量を減少させることを特徴とする。
(4)請求項4の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、真空ポンプの排気側に、真空ポンプから排出するガス流量を調整する調整弁が配設され、パラメータ制御部は、調整弁の開度を絞って排出ガス流量を減少させることを特徴とする。
(5)請求項5の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、パラメータ制御部は、真空ポンプのモータ回転数を下げて排気能力を減少させることを特徴とする。
(6)請求項6による真空排気方法は、真空排気する気体中の水素分圧を測定し、検出される水素分圧を増大させるように真空排気条件を変更することを特徴とする。
(2)請求項2による真空排気装置は、請求項1に記載の真空排気装置において、真空ポンプは、ターボ分子ポンプであることを特徴とする。
(3)請求項3の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、水素分圧測定部による水素検出位置よりも真空ポンプに対して上流側に、真空容器から真空ポンプへ流入するガス流量を調整する開閉弁が配設され、パラメータ制御部は、開閉弁の開度を絞って流入ガス流量を減少させることを特徴とする。
(4)請求項4の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、真空ポンプの排気側に、真空ポンプから排出するガス流量を調整する調整弁が配設され、パラメータ制御部は、調整弁の開度を絞って排出ガス流量を減少させることを特徴とする。
(5)請求項5の発明は、請求項1または2に記載の真空排気装置において、パラメータ制御部は、真空ポンプのモータ回転数を下げて排気能力を減少させることを特徴とする。
(6)請求項6による真空排気方法は、真空排気する気体中の水素分圧を測定し、検出される水素分圧を増大させるように真空排気条件を変更することを特徴とする。
本発明によれば、真空ポンプの吸気側の水素分圧を測定し、その水素分圧を上げるように各種パラメータを制御するようにしたので、水素ガスの排気速度を大きくするとともに、装置のメンテナンスの作業性を簡略化することができる。
以下、本発明の実施の形態による真空排気装置について、図1〜6を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施の形態による真空排気装置の概略構成を示すブロック図である。真空排気装置100は、真空容器1内を大気圧から低真空まで排気し、その後、真空容器1内を所定の高真空まで排気する排気システムである。真空排気装置100は、真空容器1側(上流)から順に、真空容器1と排気システムとの連通、遮断を切り換えるゲートバルブ2と、真空容器1から排気システムへのガス流入量を調節するための開度が可変の開閉バルブ10と、ターボ分子ポンプ30と、ターボ分子ポンプ30からのガス排出量を調節するための開度が可変の調整バルブ20と、補助ポンプ5とを備える。吸気側配管3は、ターボ分子ポンプ30の吸気口33Aに配管接続され、排気側配管4は、ターボ分子ポンプ30の排気口34Aに配管接続されている。
図1は、本発明の実施の形態による真空排気装置の概略構成を示すブロック図である。真空排気装置100は、真空容器1内を大気圧から低真空まで排気し、その後、真空容器1内を所定の高真空まで排気する排気システムである。真空排気装置100は、真空容器1側(上流)から順に、真空容器1と排気システムとの連通、遮断を切り換えるゲートバルブ2と、真空容器1から排気システムへのガス流入量を調節するための開度が可変の開閉バルブ10と、ターボ分子ポンプ30と、ターボ分子ポンプ30からのガス排出量を調節するための開度が可変の調整バルブ20と、補助ポンプ5とを備える。吸気側配管3は、ターボ分子ポンプ30の吸気口33Aに配管接続され、排気側配管4は、ターボ分子ポンプ30の排気口34Aに配管接続されている。
さらに、真空排気装置100は、水素濃度センサ7と、圧力センサ8と、パラメータ制御部9と、開閉バルブ制御部11と、調整バルブ制御部21と、モータ制御部31とを備える。水素濃度センサ7は、吸気側配管3内の水素の濃度を測定し、圧力センサ8は、吸気側配管3内の全ガス圧を測定する。水素濃度センサ7としては、公知のFT−IR法を利用した機器、質量分析法を原理とする機器などを用いることができる。また、圧力センサ8としては、例えば広く利用されている電離真空計を用いることができる。水素濃度センサ7で測定される水素濃度(例えば、単位ppm)と圧力センサ8で測定される全ガス圧(単位Pa)から水素分圧(単位Pa)を測定することができる。開閉バルブ10は、これらの各センサ7,8による検出位置よりも上流側にある。
なお、真空容器1には、材料ガス用マスフローコントローラ(材料ガスMFC)51を介して材料ガスを導入するための材料ガス導入ライン52と、水素ガス用マスフローコントローラ(水素ガスMFC)61を介して水素ガスを導入するための水素ガス導入ライン62とが接続されている。材料ガスとしては、例えば半導体製造工程で用いられるプラズマCVD装置による成膜では、SiH4ガス、NH3ガス等が用いられる。
パラメータ制御部9は、水素濃度センサ7、圧力センサ8、開閉バルブ制御部11、調整バルブ制御部21、モータ制御部31、材料ガスMFC51および水素ガスMFC61にそれぞれ接続されている。
開閉バルブ制御部11は、開閉バルブ10に接続され、その開度を制御する。調整バルブ制御部21は、調整バルブ20に接続され、その開度を制御する。モータ制御部31は、ターボ分子ポンプ30に接続され、そのモータの回転数を制御する。つまり、パラメータ制御部9は、開閉バルブ制御部11、調整バルブ制御部21、モータ制御部31を介して上記の各種パラメータを制御する。各種パラメータとは、(1)開閉バルブ10の開度、(2)調整バルブ20の開度、(3)ターボ分子ポンプ30のモータの回転数である。また、材料ガスMFC51は、真空容器1内への材料ガス導入量を制御し、水素ガスMFC61は、真空容器1内への水素ガス導入量を制御する。つまり、パラメータ制御部9は、材料ガスMFC51を介して材料ガス導入量を制御し、水素ガスMFC61を介して水素ガス導入量を制御する。
図2は、実施の形態による真空排気装置に設けられるターボ分子ポンプの構成を模式的に示す縦断面図である。ターボ分子ポンプ30は、ターボ分子ポンプ部31とねじ溝ポンプ部32とを備え、真空容器1(図1参照)からのガスを吸気側ベース33の吸気口33Aから取り入れ、排気側ベース34の排気口34Aから外部、すなわち、図1の補助ポンプ5側へ排気するように構成されている。
ロータ35は、複数段に形成された動翼(ロータ翼)37を有し、高周波モータ36で回転駆動される回転軸35aに固設され、ラジアルセンサ35bおよびラジアル電磁石35cを有するラジアル磁気軸受と、スラストセンサ35dおよびスラスト電磁石35eを有するスラスト磁気軸受とによって非接触で支持されている。ターボ分子ポンプ部31は、ケーシング31aに設けられた複数段の静翼(ステータ翼)38と、ロータ35に形成された複数段の動翼37とで構成される。静翼38は、スペーサ31bにより、動翼37と交互に所定の隙間を保って配置されている。ねじ溝ポンプ部32には、ロータ35の下部に形成された円筒状部に近接して一対のねじステータ39が配置されている。ロータ35の下部、ねじステータ39のいずれか一方にはらせん溝が形成されている。
ターボ分子ポンプ30は、ロータ35を20000〜40000rpmで高速回転させることにより排気を行うが、排気能力は、ロータ35の回転数を増やすほど大きくなる。ロータ35の回転数は、上述したモータ制御部31によりモータ36をコントロールすることで制御される。このように、ターボ分子ポンプ30は、機械式真空ポンプの一種であり、真空排気装置100の主ポンプとして用いられる。なお、ラジアル磁気軸受やスラスト磁気軸受などが腐食性ガスに曝されて腐食されるのを防止するために、パージガスがターボ分子ポンプ部31の排気側へ供給される。
再び図1を参照して、上述のように構成された真空排気装置100による排気プロセスを説明する。真空容器1を大気圧から排気する初期段階では、真空容器1から不図示のバイパスを通して補助ポンプ5のみで排気する。その後、ターボ分子ポンプ30と補助ポンプ5を直列とする排気経路で高真空に排気するが、真空容器1内を高真空とするためには、水素ガスに対するターボ分子ポンプ30の排気性能が良好であることが必要である。排気性能を評価する指標の1つとして各ガスに対する圧縮比がある。
図3は、実施の形態による真空排気装置に設けられているターボ分子ポンプの各種ガスに対する圧縮比の一例を示すグラフである。このグラフでは、横軸にターボ分子ポンプ30の排気口圧力、縦軸に窒素ガス、ヘリウムガスおよび水素ガスに関する圧縮比Cが示されている。圧縮比Cはターボ分子ポンプ30の排気口圧力を吸気口圧力で除した値であり、圧縮比Cが大きいガスほど低圧(高真空)まで有効に排気することができる。窒素ガスの圧縮比Cは排気口圧力が102Pa以下の領域で109台、ヘリウムガスの圧縮比Cは排気口圧力が数10Pa以下の領域で105、水素ガスの圧縮比Cは排気口圧力が数10Pa以下の領域で104であり、水素ガスの圧縮比Cが最も小さく、真空容器1内のガス濃度を低下させることが最も困難であることが分かる。これは、水素ガス分子は、軽く、拡散速度が非常に大きいためである。なお、図3から分かるように、各圧縮比曲線が急激に低下する大気圧近くの圧力領域では、各ガス種に対するポンプの排気性能は定格よりも低下する。
真空容器1内を高真空(例えば、10−2〜10−8Pa)にするためには、真空容器1内で水蒸気が分解して発生する水素に対する排気速度を大きくする必要がある。高真空中の水素の排気速度を大きくするためには、ターボ分子ポンプ30の吸気側の水素分圧を上昇させ、水素ガスの圧縮比を考慮してターボ分子ポンプ30の排気性能を維持することが有用である。本実施の形態では、ターボ分子ポンプ30の吸気側配管3の水素分圧をモニターし、水素分圧を上昇させるように各種パラメータを制御する。すなわち、水素濃度センサ7および圧力センサ8で測定された吸気側配管3内の水素分圧の値に基づいて、水素分圧を上昇させるための電気信号を、パラメータ制御部9から開閉バルブ制御部11、調整バルブ制御部21およびモータ制御部31の各制御部へ出力し、開閉バルブ10、調整バルブ20およびターボ分子ポンプ30のモータをそれぞれ独立に制御する。
以下、パラメータ毎に制御動作と結果を説明する。ここでは、水素ガスと対比するガスとして、窒素ガスと同程度の圧縮比をもつアルゴンガス(Arガス)を用い、説明の便宜上、1つのパラメータのみを変動させ、他のパラメータは変動させず所定の値に固定とする。例えば、開閉バルブ10の開度を変動させるときは、ゲートバルブ2、ターボ分子ポンプ30、調整バルブ20などは所定の状態にセットし、また、真空容器1内への材料ガスと水素ガスの導入は行わないものとする。
図4は、水素ガスおよびアルゴンガスについて、吸気口側での各ガスの圧力と開閉バルブ10の開度との関係を示すグラフである。縦軸は各ガス単独の圧力値である。開閉バルブ10を全開としたときの開度を100%とし、開閉バルブ10の開度を10%から5%に絞った場合を考える。すなわち、水素ガスの圧力をP1からP2へ増加させて水素分圧を上昇させるように、開閉バルブ10の開度を絞る指令がパラメータ制御部9から開閉バルブ制御部11へ送出される。開閉バルブ10を絞ると、吸気側配管3の水素ガス圧力、アルゴンガス圧力はともに増加する。しかし、圧力の増加量は同じではなく、水素ガスの圧力増加ΔP1はアルゴンガスの圧力増加ΔQ1よりも大きい。したがって、水素ガスとアルゴンガスの混合ガスを排気する場合は、開度を10%から5%に絞ったことにより、水素分圧が上昇し、水素ガスに対する排気速度が増加する。
図5は、水素ガスおよびアルゴンガスについて、吸気口側での各ガスの圧力と調整バルブ20の開度との関係を示すグラフである。縦軸は各ガス単独の圧力値である。調整バルブ20の開度を10%から5%に絞った場合を考える。すなわち、水素ガスの圧力をP3からP4へ増加させるように、調整バルブ20の開度を絞る指令がパラメータ制御部9から調整バルブ制御部21へ送出される。調整バルブ20を絞ると、排気口圧力が上昇するため、圧縮比の関係から吸気側配管3の水素ガス圧力、アルゴンガス圧力も増加する。しかし、圧力の増加量は同じではなく、水素ガスの圧力増加ΔP2は、アルゴンガスの圧力増加ΔQ2よりも大きい。したがって、水素ガスとアルゴンガスの混合ガスを排気する場合は、開度を10%から5%に絞ったことにより、水素分圧が上昇し、水素ガスに対する排気速度が増加する。
図6は、水素ガスおよびアルゴンガスについて、吸気口側での各ガスの圧力とターボ分子ポンプ30のモータ回転数との関係を示すグラフである。縦軸は各ガス単独の圧力値である。ターボ分子ポンプ30の定格回転数を100%としたとき、ポンプ回転数を100%から90%に落とした場合を考える。すなわち、水素ガスの圧力をP5からP6へ増加させるように、ポンプ回転数を下げる指令がパラメータ制御部9からモータ制御部31へ送出される。ポンプ回転数を定格の90%に減少させると、吸気側配管3の水素ガス圧力、アルゴンガス圧力も増加する。しかし、圧力の増加量は同じではなく、水素ガスの圧力増加ΔP3は、アルゴンガスの圧力増加ΔQ3よりも大きい。したがって、水素ガスとアルゴンガスの混合ガスを排気する場合は、ポンプ回転数を定格の90%に減少させたことにより、水素分圧が上昇し、水素ガスに対する排気速度が増加する。
図4〜図6で説明した3項目のパラメータ制御のいずれでも、ターボ分子ポンプ30の吸気口側で水素分圧が上昇し、水素ガスの排気速度を大きくすることができる。上記の3項目のパラメータは、独立変数であり、1項目の制御のみでも水素ガスの効率的な排気が可能であるが、3項目のパラメータのうち、任意の2つ以上を組み合わせて制御することにより、一層大きな効果が得られる。また、水素濃度センサ7、圧力センサ8のメンテナンス作業は簡単である。
本発明は、その特徴を損なわない限り、以上説明した実施の形態に何ら限定されない。すなわち、真空排気する気体中の水素分圧を測定し、検出される水素分圧を増大させるように真空排気条件を変更するものであれば、本発明が適用できる。また、上記の実施の形態では、真空排気装置100の主ポンプとして用いられるターボ分子ポンプ30について説明したが、回転翼により排気する真空ポンプであればターボ分子ポンプのみの限らず、本発明が適用できる。
1:真空容器 2:ゲートバルブ
3:吸気側配管 4:排気側配管
5:補助ポンプ 7:水素濃度センサ
8:圧力センサ 9:パラメータ制御部
10:開閉バルブ 11:開閉バルブ制御部
20:調整バルブ 21:調整バルブ制御部
30:ターボ分子ポンプ 31:モータ制御部
100:真空排気装置
3:吸気側配管 4:排気側配管
5:補助ポンプ 7:水素濃度センサ
8:圧力センサ 9:パラメータ制御部
10:開閉バルブ 11:開閉バルブ制御部
20:調整バルブ 21:調整バルブ制御部
30:ターボ分子ポンプ 31:モータ制御部
100:真空排気装置
Claims (6)
- 真空容器内を排気する真空ポンプと、
前記真空ポンプの吸気側の水素分圧を測定する水素分圧測定部と、
前記水素分圧測定部で測定される水素分圧を上昇させるように、前記真空ポンプの排気能力に関わる各種パラメータを制御するパラメータ制御部とを設けたことを特徴とする真空排気装置。 - 請求項1に記載の真空排気装置において、
前記真空ポンプは、ターボ分子ポンプであることを特徴とする真空排気装置。 - 請求項1または2に記載の真空排気装置において、
前記水素分圧測定部による水素検出位置よりも前記真空ポンプに対して上流側に、前記真空容器から前記真空ポンプへ流入するガス流量を調整する開閉弁が配設され、
前記パラメータ制御部は、前記開閉弁の開度を絞って前記流入ガス流量を減少させることを特徴とする真空排気装置。 - 請求項1または2に記載の真空排気装置において、
前記真空ポンプの排気側に、前記真空ポンプから排出するガス流量を調整する調整弁が配設され、
前記パラメータ制御部は、前記調整弁の開度を絞って前記排出ガス流量を減少させることを特徴とする真空排気装置。 - 請求項1または2に記載の真空排気装置において、
前記パラメータ制御部は、前記真空ポンプのモータ回転数を下げて排気能力を減少させることを特徴とする真空排気装置。 - 真空排気する気体中の水素分圧を測定し、検出される水素分圧を増大させるように真空排気条件を変更することを特徴とする真空排気方法。
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