JP2003139080A - 真空排気装置の運転方法 - Google Patents
真空排気装置の運転方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スロー排気のための機器装置を設けることな
くスロー排気を行い得る真空排気装置の運転方法を提供
すること。 【解決手段】 真空チャンバー１０と主ポンプ１１とを
繋ぐ排気管１２に口径の大きいメインバルブ１３と圧力
計１９を取り付け、主ポンプ１１の排気ライン１５には
逆止弁３１を取り付け、逆止弁３１と並列に補助ポンプ
１４を配置する。補助ポンプ１４には主ポンプ１１の１
０％の排気速度を有するものを使用し、逆止弁３１には
弁胴内で浮動し得る球形弁体を備え、大気圧より高い圧
力で浮上して弁を開とし、それより低い圧力では自重に
よって下方の弁座に着座して弁を閉とするものを使用す
る。そして、真空チャンバー１０の大気圧からの排気に
は、補助ポンプ１４のみを起動してスロー排気し、所定
の真空度に達した後に主ポンプ１１を起動する。
くスロー排気を行い得る真空排気装置の運転方法を提供
すること。 【解決手段】 真空チャンバー１０と主ポンプ１１とを
繋ぐ排気管１２に口径の大きいメインバルブ１３と圧力
計１９を取り付け、主ポンプ１１の排気ライン１５には
逆止弁３１を取り付け、逆止弁３１と並列に補助ポンプ
１４を配置する。補助ポンプ１４には主ポンプ１１の１
０％の排気速度を有するものを使用し、逆止弁３１には
弁胴内で浮動し得る球形弁体を備え、大気圧より高い圧
力で浮上して弁を開とし、それより低い圧力では自重に
よって下方の弁座に着座して弁を閉とするものを使用す
る。そして、真空チャンバー１０の大気圧からの排気に
は、補助ポンプ１４のみを起動してスロー排気し、所定
の真空度に達した後に主ポンプ１１を起動する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空排気装置の運転
方法に関するものであり、更に詳しくは、主ポンプと排
気ラインの逆止弁、および逆止弁に並列に取り付けられ
た補助ポンプからなる真空排気装置の運転方法に関する
ものである。
方法に関するものであり、更に詳しくは、主ポンプと排
気ラインの逆止弁、および逆止弁に並列に取り付けられ
た補助ポンプからなる真空排気装置の運転方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程において、真空チ
ャンバーの排気に油回転真空ポンプを使用すると、 使用されているガスの中には油と反応性の大きいガ
スがあり、反応生成物がポンプの回転不良を生じたり、
油を劣化させたりする。 油の蒸気が拡散、逆流して真空チャンバー内を汚染
する。 使用済みの油に砒素化合物、燐化合物等の毒性物質
の含まれることが多く、産業廃棄物としての管理、処理
に多くの工数と費用を要する。 などの問題があることから、油を使用しないドライ真空
ポンプが広く採用されるようになっている。
ャンバーの排気に油回転真空ポンプを使用すると、 使用されているガスの中には油と反応性の大きいガ
スがあり、反応生成物がポンプの回転不良を生じたり、
油を劣化させたりする。 油の蒸気が拡散、逆流して真空チャンバー内を汚染
する。 使用済みの油に砒素化合物、燐化合物等の毒性物質
の含まれることが多く、産業廃棄物としての管理、処理
に多くの工数と費用を要する。 などの問題があることから、油を使用しないドライ真空
ポンプが広く採用されるようになっている。
【０００３】図２は、従来、半導体装置を製造する真空
チャンバーに接続される真空排気装置２を示す代表的な
配管図である。図２を参照して、真空チャンバー２０と
排気速度１０００Ｌ／ｍｉｎのドライ真空ポンプ２１と
を繋ぐ排気管２２に口径の大きいメインバルブ２３を配
し、メインバルブ２３と並列に口径の小さいバイパスバ
ルブ２４を取り付け、真空チャンバー２０の真空度を計
測するための圧力計２９を排気管２２に取り付けたもの
である。そして、ドライ真空ポンプ２１の吐出側の排気
ライン２５には呼称４０Ａ（口径４０ｍｍ≒１．５イン
チ）のパイプが使用されている。この配管は、真空チャ
ンバー２０をドライ真空ポンプ２１が有する大きい排気
速度で一気に排気する場合に要する口径である。
チャンバーに接続される真空排気装置２を示す代表的な
配管図である。図２を参照して、真空チャンバー２０と
排気速度１０００Ｌ／ｍｉｎのドライ真空ポンプ２１と
を繋ぐ排気管２２に口径の大きいメインバルブ２３を配
し、メインバルブ２３と並列に口径の小さいバイパスバ
ルブ２４を取り付け、真空チャンバー２０の真空度を計
測するための圧力計２９を排気管２２に取り付けたもの
である。そして、ドライ真空ポンプ２１の吐出側の排気
ライン２５には呼称４０Ａ（口径４０ｍｍ≒１．５イン
チ）のパイプが使用されている。この配管は、真空チャ
ンバー２０をドライ真空ポンプ２１が有する大きい排気
速度で一気に排気する場合に要する口径である。
【０００４】一般に半導体製造装置では真空チャンバー
２０内に存在する微粒子が舞い上がって真空チャンバー
２０内に装填されている半導体ウェーハ等に付着し不良
品が生ずることがあるので、真空チャンバー２０を大気
圧から真空排気する場合には、メインバルブ２３、バイ
パスバルブ２４を閉じた状態でドライ真空ポンプ２１を
起動し、バイパスバルブ２４を開くことによってスロー
排気して、真空チャンバー２０が所定の真空度に達した
ことを確認するか、または所定の排気時間が経過したこ
とを確認した後、メインバルブ２３を開く起動方法が採
用されている。
２０内に存在する微粒子が舞い上がって真空チャンバー
２０内に装填されている半導体ウェーハ等に付着し不良
品が生ずることがあるので、真空チャンバー２０を大気
圧から真空排気する場合には、メインバルブ２３、バイ
パスバルブ２４を閉じた状態でドライ真空ポンプ２１を
起動し、バイパスバルブ２４を開くことによってスロー
排気して、真空チャンバー２０が所定の真空度に達した
ことを確認するか、または所定の排気時間が経過したこ
とを確認した後、メインバルブ２３を開く起動方法が採
用されている。
【０００５】一方、ドライ真空ポンプは油回転真空ポン
プと比較して消費電力が大であり、環境保護の観点から
エネルギー消費を抑える必要があること、また半導体装
置の製造コストの低減が要請されていることから、ドラ
イ真空ポンプの消費電力を抑制することが望まれている
が、これに対処するものとして、特開平６−１２９３８
４号公報には、図３に示すように、真空チャンバー３０
に接続されたドライ真空ポンプ３１の排気ライン３５に
バネの付勢によって閉となる制御弁３２を設けると共
に、制御弁３２と並列に排気量の小さい補助ポンプ３３
を設け、真空チャンバー３０の真空度に応じて、ドライ
真空ポンプ３１と補助ポンプ３３とによって、または補
助ポンプ３３のみによって排気する真空排気装置３が開
示されている。なお図３においては、ドライ真空ポンプ
３１は直動式ポンプとして示されており、そのシリンダ
ー３６内には図において左右に往復動するピストン３７
が設けられ、排気ライン３５は吸着塔３８を介して工場
配管３９に接続されている。
プと比較して消費電力が大であり、環境保護の観点から
エネルギー消費を抑える必要があること、また半導体装
置の製造コストの低減が要請されていることから、ドラ
イ真空ポンプの消費電力を抑制することが望まれている
が、これに対処するものとして、特開平６−１２９３８
４号公報には、図３に示すように、真空チャンバー３０
に接続されたドライ真空ポンプ３１の排気ライン３５に
バネの付勢によって閉となる制御弁３２を設けると共
に、制御弁３２と並列に排気量の小さい補助ポンプ３３
を設け、真空チャンバー３０の真空度に応じて、ドライ
真空ポンプ３１と補助ポンプ３３とによって、または補
助ポンプ３３のみによって排気する真空排気装置３が開
示されている。なお図３においては、ドライ真空ポンプ
３１は直動式ポンプとして示されており、そのシリンダ
ー３６内には図において左右に往復動するピストン３７
が設けられ、排気ライン３５は吸着塔３８を介して工場
配管３９に接続されている。
【０００６】この真空排気装置３の起動は次のようにし
て行われる。図３は排気開始の直後の状態を示し、制御
弁３２は開いている。すなわち、ドライ真空ポンプ３１
と補助ポンプ３３が起動され、ドライ真空ポンプ３１の
吸入圧が大気圧と同じオーダーにあって排気ガス量が大
であり、同時に駆動される補助ポンプ３３によってもド
ライ真空ポンプ３１の吐出部が大気圧以下にならない間
は、排気ガスがバネの付勢に抗して制御弁２２を開き、
密度の十分に高いガスがドライ真空ポンプ３１の排気ラ
イン３５と補助ポンプ３３のラインとによって排気され
る。
て行われる。図３は排気開始の直後の状態を示し、制御
弁３２は開いている。すなわち、ドライ真空ポンプ３１
と補助ポンプ３３が起動され、ドライ真空ポンプ３１の
吸入圧が大気圧と同じオーダーにあって排気ガス量が大
であり、同時に駆動される補助ポンプ３３によってもド
ライ真空ポンプ３１の吐出部が大気圧以下にならない間
は、排気ガスがバネの付勢に抗して制御弁２２を開き、
密度の十分に高いガスがドライ真空ポンプ３１の排気ラ
イン３５と補助ポンプ３３のラインとによって排気され
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のバルブ操作によ
るスロー排気、すなわち、メインバルブ２３に設けたバ
イパスバルブ２４によってスロー排気を行う場合には、
バイパスバルブ２４の設置のほか、真空チャンバー２０
の圧力に応じてメインバルブ２３を開とする制御装置を
必要とする。また、排気ライン２５は大気圧からの排気
を行うために、排気速度１０００Ｌ／ｍｉｎのドライ真
空ポンプ２１については呼称４０Ａ（≒口径１．５イン
チ）のパイプが使用されるが、４０Ａのパイプは配管の
施工に際し曲げ加工ができず、ラインを曲げる箇所では
パイプを溶接する配管工事が行われる。そして、溶接箇
所にはリークテストも必要であるから、全体として配管
の施工費は高くなる。
るスロー排気、すなわち、メインバルブ２３に設けたバ
イパスバルブ２４によってスロー排気を行う場合には、
バイパスバルブ２４の設置のほか、真空チャンバー２０
の圧力に応じてメインバルブ２３を開とする制御装置を
必要とする。また、排気ライン２５は大気圧からの排気
を行うために、排気速度１０００Ｌ／ｍｉｎのドライ真
空ポンプ２１については呼称４０Ａ（≒口径１．５イン
チ）のパイプが使用されるが、４０Ａのパイプは配管の
施工に際し曲げ加工ができず、ラインを曲げる箇所では
パイプを溶接する配管工事が行われる。そして、溶接箇
所にはリークテストも必要であるから、全体として配管
の施工費は高くなる。
【０００８】そのほかのスロー排気を行う方法として、
メインバルブ２３、バイパスバルブ２４に換えて、弁体
の開度の制御が可能なバタフライ弁を設け、排気の初期
には開度を小とし、真空チャンバー２０の真空度の向上
に応じて開度を大とする方法もあるが、この場合もバタ
フライ弁自体および弁体の開度制御装置が高額でありコ
ストを上昇させる。また、特開平６−１２９３８４号公
報の真空排気装置において、排気開始時にドライ真空ポ
ンプ３１と補助ポンプ３３とによって排気する起動方法
も、真空チャンバー３０内に微粒子が存在する場合に
は、微粒子が舞い上がって半導体ウェーハ等の汚染を招
き易い。
メインバルブ２３、バイパスバルブ２４に換えて、弁体
の開度の制御が可能なバタフライ弁を設け、排気の初期
には開度を小とし、真空チャンバー２０の真空度の向上
に応じて開度を大とする方法もあるが、この場合もバタ
フライ弁自体および弁体の開度制御装置が高額でありコ
ストを上昇させる。また、特開平６−１２９３８４号公
報の真空排気装置において、排気開始時にドライ真空ポ
ンプ３１と補助ポンプ３３とによって排気する起動方法
も、真空チャンバー３０内に微粒子が存在する場合に
は、微粒子が舞い上がって半導体ウェーハ等の汚染を招
き易い。
【０００９】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、スロ
ー排気のための機器装置を設けることなくスロー排気を
行い得る真空排気装置の運転方法を提供することを課題
とする。
ー排気のための機器装置を設けることなくスロー排気を
行い得る真空排気装置の運転方法を提供することを課題
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の課題は請求項１の
構成によって解決されるが、その解決手段を説明すれば
次の如くである。
構成によって解決されるが、その解決手段を説明すれば
次の如くである。
【００１１】請求項１の真空排気装置の運転方法は、容
積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとした真空排気装
置であって、前記主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り
付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量
の小さい補助ポンプが取り付けられた真空排気装置によ
って真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際
しての真空排気装置の運転方法において、補助ポンプを
最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に主
ポンプを起動する方法である。このような真空排気装置
の運転方法は、先ず補助ポンプのみを起動し主ポンプは
起動しないのでスロー排気が行われ、例えば真空容器内
に微粒子が存在している場合であっても微粒子は舞い上
がらず、従って真空容器内の基板類に微粒子が付着して
汚染するようなことはない。
積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとした真空排気装
置であって、前記主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り
付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量
の小さい補助ポンプが取り付けられた真空排気装置によ
って真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際
しての真空排気装置の運転方法において、補助ポンプを
最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に主
ポンプを起動する方法である。このような真空排気装置
の運転方法は、先ず補助ポンプのみを起動し主ポンプは
起動しないのでスロー排気が行われ、例えば真空容器内
に微粒子が存在している場合であっても微粒子は舞い上
がらず、従って真空容器内の基板類に微粒子が付着して
汚染するようなことはない。
【００１２】請求項１に従属する請求項２の真空排気装
置の運転方法は、真空容器が所定の真空度に達する前に
主ポンプを排気量の小さい低い回転数で起動し、真空容
器の真空度に応じて回転数を漸次増大させる方法であ
る。このような真空排気装置の運転方法は、補助ポンプ
の負荷にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプ
が定格運転に入るまでの時間を短縮することができる。
置の運転方法は、真空容器が所定の真空度に達する前に
主ポンプを排気量の小さい低い回転数で起動し、真空容
器の真空度に応じて回転数を漸次増大させる方法であ
る。このような真空排気装置の運転方法は、補助ポンプ
の負荷にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプ
が定格運転に入るまでの時間を短縮することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の真空排気装置の運転方法
は、上述したように、主ポンプの排気ラインに逆止弁が
取り付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気
容量の小さい補助ポンプが取付けられた真空排気装置に
よって真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに
際しての真空排気装置の運転方法において、補助ポンプ
を最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に
主ポンプを起動する方法である。なお、上記のような構
成の真空排気装置は、真空容器が十分に排気されて排ガ
ス量が少なくなる定常運転時には逆止弁が閉じて補助ポ
ンプのみによる排気が行われるので消費電力を低下させ
るという特性を有している。
は、上述したように、主ポンプの排気ラインに逆止弁が
取り付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気
容量の小さい補助ポンプが取付けられた真空排気装置に
よって真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに
際しての真空排気装置の運転方法において、補助ポンプ
を最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に
主ポンプを起動する方法である。なお、上記のような構
成の真空排気装置は、真空容器が十分に排気されて排ガ
ス量が少なくなる定常運転時には逆止弁が閉じて補助ポ
ンプのみによる排気が行われるので消費電力を低下させ
るという特性を有している。
【００１４】本発明における真空排気装置の主ポンプと
しては、容積移動型ドライ真空ポンプとして分類される
ルーツ型ポンプ、クロー型ポンプ、スクリュー型ポンプ
の内の何れか１基、または２基以上を直列に配置した組
み合せが使用される。例えば、２基または３基のルーツ
型ポンプを直列に配置したものであってもよい。また、
補助ポンプとしては、消費電力が小さく移送効率のよい
もの、圧縮工程において排気ガスの体積が減少する構造
のものが好適であり、具体的には回転翼型（ゲ−デ型）
ポンプ、ピストン型ポンプ、ダイアフラム型（メンブラ
ン型）ポンプ、スクロール型ポンプがある。そして、補
助ポンプの排気速度（Ｌ／ｍｉｎ）は期待する真空排気
装置の能力に応じて主ポンプの排気速度の数％から２０
％程度までの範囲内で適宜選択される。
しては、容積移動型ドライ真空ポンプとして分類される
ルーツ型ポンプ、クロー型ポンプ、スクリュー型ポンプ
の内の何れか１基、または２基以上を直列に配置した組
み合せが使用される。例えば、２基または３基のルーツ
型ポンプを直列に配置したものであってもよい。また、
補助ポンプとしては、消費電力が小さく移送効率のよい
もの、圧縮工程において排気ガスの体積が減少する構造
のものが好適であり、具体的には回転翼型（ゲ−デ型）
ポンプ、ピストン型ポンプ、ダイアフラム型（メンブラ
ン型）ポンプ、スクロール型ポンプがある。そして、補
助ポンプの排気速度（Ｌ／ｍｉｎ）は期待する真空排気
装置の能力に応じて主ポンプの排気速度の数％から２０
％程度までの範囲内で適宜選択される。
【００１５】また逆止弁には、平板状弁体を例えばその
上端部で軸支して弁胴に取り付け、平板状弁体の一方の
面側の圧力が高くなると平板状弁体が他方の面側へ扉の
様にスイングして開となり、一方の面側の圧力が低くな
ると平板状弁体が例えば自重で元の位置へ戻ることによ
って弁を閉じて逆流を阻止する逆止弁や、バネによって
弁座へ向かう方向に付勢された弁体を有し、弁体の片側
の圧力が高くなるとバネの付勢に抗して弁が開となり、
片側の圧力が低くなるとバネの付勢によって弁体が弁座
に押圧されることにより弁を閉じて逆流を阻止する逆止
弁もあるが、逆止弁を開とするに要する圧力が低いこ
と、圧力の脈動に追随して正確に開閉すること等におい
て優れたものであることが好ましい。従って本発明にお
いては、弁胴内で浮動し得る球形弁体を有し、主ポンプ
の吐出部の一定以上の圧力で浮上して弁を開とし、それ
以下の圧力では自重によって下方の弁座に着座して弁を
閉とする逆止弁が好適に使用される。
上端部で軸支して弁胴に取り付け、平板状弁体の一方の
面側の圧力が高くなると平板状弁体が他方の面側へ扉の
様にスイングして開となり、一方の面側の圧力が低くな
ると平板状弁体が例えば自重で元の位置へ戻ることによ
って弁を閉じて逆流を阻止する逆止弁や、バネによって
弁座へ向かう方向に付勢された弁体を有し、弁体の片側
の圧力が高くなるとバネの付勢に抗して弁が開となり、
片側の圧力が低くなるとバネの付勢によって弁体が弁座
に押圧されることにより弁を閉じて逆流を阻止する逆止
弁もあるが、逆止弁を開とするに要する圧力が低いこ
と、圧力の脈動に追随して正確に開閉すること等におい
て優れたものであることが好ましい。従って本発明にお
いては、弁胴内で浮動し得る球形弁体を有し、主ポンプ
の吐出部の一定以上の圧力で浮上して弁を開とし、それ
以下の圧力では自重によって下方の弁座に着座して弁を
閉とする逆止弁が好適に使用される。
【００１６】そして、真空容器を大気圧またはその近傍
から排気するべく真空排気装置を起動するに際しては、
先ず補助ポンプのみを起動し、真空容器が所定の真空度
に達した後に、主ポンプを起動する。そして主ポンプを
起動する時の真空度は１０4Ｐａ台程度の値に設定され
る。なお、補助ポンプを起動して得られる真空容器の真
空度の計測は、起動されていない主ポンプの吸入側また
は吐出側の真空度の計測によって代替させることができ
る。
から排気するべく真空排気装置を起動するに際しては、
先ず補助ポンプのみを起動し、真空容器が所定の真空度
に達した後に、主ポンプを起動する。そして主ポンプを
起動する時の真空度は１０4Ｐａ台程度の値に設定され
る。なお、補助ポンプを起動して得られる真空容器の真
空度の計測は、起動されていない主ポンプの吸入側また
は吐出側の真空度の計測によって代替させることができ
る。
【００１７】
【実施例】次に、本発明の真空排気装置の運転方法につ
いて図面を参照し具体的に説明する。
いて図面を参照し具体的に説明する。
【００１８】（実施例）図１は真空チャンバー１０に接
続した真空排気装置１を概念的に示す配管図である。す
なわち、真空排気装置１は、基板への成膜用の真空チャ
ンバー１０と主ポンプである排気速度１０００Ｌ／ｍｉ
ｎの多段型ルーツ真空ポンプ１１を繋ぐ排気管１２に口
径の大きいメインバルブ１３と真空度計測用の圧力計１
９を取り付け、多段型ルーツ真空ポンプ１１の排気ライ
ン１５には逆止弁３１を取り付けて、逆止弁３１と並列
に補助ポンプ１４を配置したものである。補助ポンプ１
４には、排気速度が多段型ルーツ真空ポンプ１１の１０
％である１００Ｌ／ｍｉｎの回転翼型ドライポンプが使
用されており、逆止弁３１には、弁胴内で浮動し得る球
形弁体を備え大気圧より約７００Ｐａ高い圧力で浮上し
て弁を開とし、それより低い圧力では自重によって下方
の弁座に着座して弁を閉とするものが取り付けられてい
る。そして、排気ライン１５には、図２に示した従来の
排気ライン２５と同様、呼称４０Ａ（口径４０ｍｍ≒
１．５インチ）のパイプが使用されている。
続した真空排気装置１を概念的に示す配管図である。す
なわち、真空排気装置１は、基板への成膜用の真空チャ
ンバー１０と主ポンプである排気速度１０００Ｌ／ｍｉ
ｎの多段型ルーツ真空ポンプ１１を繋ぐ排気管１２に口
径の大きいメインバルブ１３と真空度計測用の圧力計１
９を取り付け、多段型ルーツ真空ポンプ１１の排気ライ
ン１５には逆止弁３１を取り付けて、逆止弁３１と並列
に補助ポンプ１４を配置したものである。補助ポンプ１
４には、排気速度が多段型ルーツ真空ポンプ１１の１０
％である１００Ｌ／ｍｉｎの回転翼型ドライポンプが使
用されており、逆止弁３１には、弁胴内で浮動し得る球
形弁体を備え大気圧より約７００Ｐａ高い圧力で浮上し
て弁を開とし、それより低い圧力では自重によって下方
の弁座に着座して弁を閉とするものが取り付けられてい
る。そして、排気ライン１５には、図２に示した従来の
排気ライン２５と同様、呼称４０Ａ（口径４０ｍｍ≒
１．５インチ）のパイプが使用されている。
【００１９】上記の真空排気装置１によって真空チャン
バー１０を大気圧から真空排気するに際しは、先ず補助
ポンプ１４を起動しメインバルブ１３を開とすることに
よって排気を開始した。そして圧力計１９によって真空
チャンバー１０の真空度が１０4 Ｐａに達したことが確
認された時点で主ポンプ１１を起動しローター軸の回転
数を３６００ｒｐｍとして真空チャンバー１０の真空度
が１Ｐａに達するまで排気した。このような起動方法を
採用することにより、真空チャンバー１０内における微
粒子の舞い上がりを防ぐことができた。すなわち、大気
圧からの排気に際し補助ポンプ１３のみを起動すること
により、従来のようにメインバルブ２３と並列に口径の
小さいバイパスバルブ２４を設けなくともスロー排気が
可能であった。また、真空度が１Ｐａに達した後、続い
て定常運転に入ったが、この時点では排気量が少なく逆
止弁３１が閉じて補助ポンプ１３のみによる排気が行わ
れることから、真空排気装置１の消費電力は低減され、
騒音も抑制された。なお、図１の排気ライン１５には呼
称４０Ａのパイプを使用したが、補助ポンプ１３による
排気、それに続く主ポンプ１１の排気においては排気量
が少ないので、例えば呼称１０Ａ（口径１０ｍｍ≒３／
8 インチ）のパイプに置き換えることが可能であり、こ
の口径のパイプは曲げ加工が可能であるから配管の施工
費を低減させることができる。
バー１０を大気圧から真空排気するに際しは、先ず補助
ポンプ１４を起動しメインバルブ１３を開とすることに
よって排気を開始した。そして圧力計１９によって真空
チャンバー１０の真空度が１０4 Ｐａに達したことが確
認された時点で主ポンプ１１を起動しローター軸の回転
数を３６００ｒｐｍとして真空チャンバー１０の真空度
が１Ｐａに達するまで排気した。このような起動方法を
採用することにより、真空チャンバー１０内における微
粒子の舞い上がりを防ぐことができた。すなわち、大気
圧からの排気に際し補助ポンプ１３のみを起動すること
により、従来のようにメインバルブ２３と並列に口径の
小さいバイパスバルブ２４を設けなくともスロー排気が
可能であった。また、真空度が１Ｐａに達した後、続い
て定常運転に入ったが、この時点では排気量が少なく逆
止弁３１が閉じて補助ポンプ１３のみによる排気が行わ
れることから、真空排気装置１の消費電力は低減され、
騒音も抑制された。なお、図１の排気ライン１５には呼
称４０Ａのパイプを使用したが、補助ポンプ１３による
排気、それに続く主ポンプ１１の排気においては排気量
が少ないので、例えば呼称１０Ａ（口径１０ｍｍ≒３／
8 インチ）のパイプに置き換えることが可能であり、こ
の口径のパイプは曲げ加工が可能であるから配管の施工
費を低減させることができる。
【００２０】以上、本発明の真空排気装置の運転方法を
実施例によって説明したが、勿論、本発明はこれに限ら
れることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変
形が可能である。
実施例によって説明したが、勿論、本発明はこれに限ら
れることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変
形が可能である。
【００２１】例えば本実施例においては、補助ポンプの
排気によって真空チャンバーが所定の真空度に達した後
の主ポンプの起動に際し、ローター軸を３６００ｒｐｍ
で回転させたが、真空容器が所定の真空度に達する前に
主ポンプをインバーター制御して回転数を排気量の小さ
い低回転数から真空容器の真空度に応じて漸次増大させ
るようにしてもよく、そのことによって主ポンプの起動
時における急激な圧力変化を避け、補助ポンプの負荷に
ならないように主ポンプを起動することができる。
排気によって真空チャンバーが所定の真空度に達した後
の主ポンプの起動に際し、ローター軸を３６００ｒｐｍ
で回転させたが、真空容器が所定の真空度に達する前に
主ポンプをインバーター制御して回転数を排気量の小さ
い低回転数から真空容器の真空度に応じて漸次増大させ
るようにしてもよく、そのことによって主ポンプの起動
時における急激な圧力変化を避け、補助ポンプの負荷に
ならないように主ポンプを起動することができる。
【００２２】また本実施例においては、半導体基板への
成膜用の真空チャンバーの排気に本発明の真空排気装置
の運転方法を適用する場合を例示したが、半導体基板を
大気圧と真空系との間で搬入、搬出するためのロードロ
ック室の排気にも同様に適用され得る。また本実施例に
おいては、半導体基板が装填された真空チャンバーを排
気する場合を例示したが、勿論、液晶表示パネルやプラ
ズマ表示パネル用のガラス基板が装填される真空チャン
バーを排気する場合にも適用される。
成膜用の真空チャンバーの排気に本発明の真空排気装置
の運転方法を適用する場合を例示したが、半導体基板を
大気圧と真空系との間で搬入、搬出するためのロードロ
ック室の排気にも同様に適用され得る。また本実施例に
おいては、半導体基板が装填された真空チャンバーを排
気する場合を例示したが、勿論、液晶表示パネルやプラ
ズマ表示パネル用のガラス基板が装填される真空チャン
バーを排気する場合にも適用される。
【００２３】
【発明の効果】本発明の真空排気装置の運転方法は以上
に説明したような形態で実施され、次に述べるような効
果を奏する。
に説明したような形態で実施され、次に述べるような効
果を奏する。
【００２４】請求項１の真空排気装置の運転方法によれ
ば、主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り付けられてお
り、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量の小さい補助
ポンプが取付けられた真空排気装置によって真空容器を
大気圧またはその近傍から排気するに際しての真空排気
装置の運転方法において、補助ポンプを最初に起動し、
真空容器が所定の真空度に達した後に主ポンプを起動す
るので、スロー排気のための機器装置を設けなくとも真
空容器のスロー排気が可能であり、真空容器内に微粒子
が存在するような場合にも微粒子は舞い上がらず真空容
器内を汚染するようなことは発生しない。また、補助ポ
ンプによるスロー排気の間、それに続く主ポンプの排気
による定常運転の間は、排気量が少ないので主ポンプの
排気ラインを曲げ加工の可能な口径の小さいパイプに変
更することができ、排気ラインの施工費を低減すること
ができる。
ば、主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り付けられてお
り、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量の小さい補助
ポンプが取付けられた真空排気装置によって真空容器を
大気圧またはその近傍から排気するに際しての真空排気
装置の運転方法において、補助ポンプを最初に起動し、
真空容器が所定の真空度に達した後に主ポンプを起動す
るので、スロー排気のための機器装置を設けなくとも真
空容器のスロー排気が可能であり、真空容器内に微粒子
が存在するような場合にも微粒子は舞い上がらず真空容
器内を汚染するようなことは発生しない。また、補助ポ
ンプによるスロー排気の間、それに続く主ポンプの排気
による定常運転の間は、排気量が少ないので主ポンプの
排気ラインを曲げ加工の可能な口径の小さいパイプに変
更することができ、排気ラインの施工費を低減すること
ができる。
【００２５】請求項２の真空排気装置の運転方法によれ
ば、真空容器が所定の真空度に達する前に主ポンプを排
気量の小さい低い回転数で起動し、真空容器の真空度に
応じて回転数を漸次増大させるので、補助ポンプの負荷
にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプが定格
運転に入るまでの時間を短くし稼動率を向上させること
ができる。
ば、真空容器が所定の真空度に達する前に主ポンプを排
気量の小さい低い回転数で起動し、真空容器の真空度に
応じて回転数を漸次増大させるので、補助ポンプの負荷
にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプが定格
運転に入るまでの時間を短くし稼動率を向上させること
ができる。
【図１】真空チャンバーをスロー排気することが可能な
実施例の真空排気装置の配管図である。
実施例の真空排気装置の配管図である。
【図２】真空チャンバーをスロー排気するための従来の
真空排気装置の配管図である。
真空排気装置の配管図である。
【図３】消費電力を低減し得る従来の真空排気装置を示
す図である。
す図である。
１ 真空排気装置
１０ 真空チャンバー
１１ 主ポンプ
１２ 排気管
１３ メインバルブ
１４ 補助ポンプ
１５ 排気ライン
１９ 圧力計
３１ 逆止弁
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ０４Ｃ 29/10 ３２１ Ｆ０４Ｂ 49/02 ３３１Ｂ
(72)発明者 田島 孝彦
神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 株式会社
アルバック内
(72)発明者 矢作 充
神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 株式会社
アルバック内
(72)発明者 相川 純一
神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 株式会社
アルバック内
(72)発明者 菅家 幸雄
神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 株式会社
アルバック内
Ｆターム(参考） 3H029 AA01 AB02 AB06 BB35 BB41
BB47 BB51 BB57 CC07 CC51
CC62 CC80
3H045 AA02 AA16 AA26 AA38 BA02
BA04 BA32 BA38 CA02 DA07
DA19 DA37 DA39 DA42 DA47
EA13 EA34 EA43
3H076 AA21 AA39 BB01 BB34 BB36
BB41 CC07 CC82 CC92 CC93
Claims (2)
- 【請求項１】 容積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプ
とした真空排気装置であって、前記主ポンプの排気ライ
ンに逆止弁が取り付けられており、前記逆止弁と並列に
前記主ポンプより排気容量の小さい補助ポンプが取り付
けられた真空排気装置によって真空容器を大気圧または
その近傍から排気するに際しての前記真空排気装置の運
転方法において、 前記補助ポンプを最初に起動し、前記真空容器が所定の
真空度に達した後に前記主ポンプを起動することを特徴
とする真空排気装置の運転方法。 - 【請求項２】 前記真空容器が前記所定の真空度に達す
る前に前記主ポンプを排気量の小さい低速回転で起動
し、前記真空容器の真空度に応じて回転数を漸次増大さ
せることを特徴とする請求項２に記載の真空排気装置の
運転方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001333772A JP3982673B2 (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | 真空排気装置の運転方法 |
| US10/486,189 US20040173312A1 (en) | 2001-09-06 | 2002-09-05 | Vacuum exhaust apparatus and drive method of vacuum apparatus |
| CNB028157117A CN100348865C (zh) | 2001-09-06 | 2002-09-05 | 真空排气装置以及真空排气装置的运转方法 |
| KR1020047002269A KR100876318B1 (ko) | 2001-09-06 | 2002-09-05 | 진공배기장치 및 진공배기장치의 운전방법 |
| PCT/JP2002/009048 WO2003023229A1 (fr) | 2001-09-06 | 2002-09-05 | Systeme de pompe a vide et procede de fonctionnement d'un systeme de pompe a vide |
| TW091120409A TWI267581B (en) | 2001-09-06 | 2002-09-09 | Vacuum exhaust device and method for operating such vacuum exhaust device |
| US12/070,265 US20080145238A1 (en) | 2001-09-06 | 2008-02-15 | Vacuum exhaust apparatus and drive method of vacuum exhaust apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001333772A JP3982673B2 (ja) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | 真空排気装置の運転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003139080A true JP2003139080A (ja) | 2003-05-14 |
| JP3982673B2 JP3982673B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=19148986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001333772A Expired - Fee Related JP3982673B2 (ja) | 2001-09-06 | 2001-10-31 | 真空排気装置の運転方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3982673B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2407132A (en) * | 2003-10-14 | 2005-04-20 | Boc Group Plc | Multiple vacuum pump system with additional pump for exhaust flow |
| JP2007127048A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Ulvac Japan Ltd | 真空排気装置 |
| WO2010029750A1 (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | 株式会社アルバック | 真空排気装置 |
| KR20150082519A (ko) * | 2012-11-09 | 2015-07-15 | 욀리콘 라이볼트 바쿰 게엠베하 | 챔버를 진공 배기시키기 위한 진공 펌프 시스템, 및 진공 펌프 시스템을 제어하기 위한 방법 |
| WO2016170065A1 (de) * | 2015-04-23 | 2016-10-27 | Mobilplan Industrie- Und Umwelttechnik | Ventileinrichtung und verfahren zum betrieb der ventileinrichtung |
| JP2021067199A (ja) * | 2019-10-18 | 2021-04-30 | 株式会社島津製作所 | 真空排気装置および真空排気装置の起動方法 |
-
2001
- 2001-10-31 JP JP2001333772A patent/JP3982673B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2407132A (en) * | 2003-10-14 | 2005-04-20 | Boc Group Plc | Multiple vacuum pump system with additional pump for exhaust flow |
| JP2007127048A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Ulvac Japan Ltd | 真空排気装置 |
| JP4718302B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2011-07-06 | 株式会社アルバック | 真空排気装置 |
| WO2010029750A1 (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | 株式会社アルバック | 真空排気装置 |
| KR20150082519A (ko) * | 2012-11-09 | 2015-07-15 | 욀리콘 라이볼트 바쿰 게엠베하 | 챔버를 진공 배기시키기 위한 진공 펌프 시스템, 및 진공 펌프 시스템을 제어하기 위한 방법 |
| KR102141077B1 (ko) | 2012-11-09 | 2020-08-04 | 라이볼트 게엠베하 | 챔버를 진공 배기시키기 위한 진공 펌프 시스템, 및 진공 펌프 시스템을 제어하기 위한 방법 |
| WO2016170065A1 (de) * | 2015-04-23 | 2016-10-27 | Mobilplan Industrie- Und Umwelttechnik | Ventileinrichtung und verfahren zum betrieb der ventileinrichtung |
| JP2021067199A (ja) * | 2019-10-18 | 2021-04-30 | 株式会社島津製作所 | 真空排気装置および真空排気装置の起動方法 |
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|---|---|
| JP3982673B2 (ja) | 2007-09-26 |
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