TW201104856A - Solid-state imaging device, camera, electronic apparatus, and method for manufacturing solid-state imaging device - Google Patents

Description

201104856 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於固體攝像裝置、攝相機、電子機器、 及固體攝像裝置之製造方法。 【先前技術】 數位視訊攝影機、數位靜態相機等之攝相機，係含有 固體攝像裝置。例如，作爲固體攝像裝置，係有CCD( Charge Coupled Device)型影像感測器。 例如，CCD型影像感測器中，複數像素被在水平方向 和垂直方向上配置成矩陣狀的攝像領域，是被設在基板的 面。該攝像領域中，將被攝體像的光線加以受光而生成訊 號電荷用的光電轉換部，是以對應於複數像素的方式而被 複數形成。例如，光二極體係被形成來作爲該光電轉換部 。在光電轉換部的上方，設有微透鏡，而被構成爲，透過 該微透鏡而入射的光是被光電轉換部所受光。 然後，在攝像領域中在垂直方向上排列的複數光電轉 換部的列之間，設有垂直傳輸暫存器部。垂直傳輸暫存器 部，係對垂直傳輸通道領域隔著閘極絕緣膜而面對地設置 複數傳輸電極，藉由電荷讀出部而被從光電轉換部中所讀 出之訊號電荷，是往垂直方向傳輸。然後，藉由該垂直傳 輸暫存器部而每1水平掃描線（1行像素）地所被傳輸的訊 號電荷，是被水平傳輸暫存器部逐次往水平方向傳輸’由 輸出部加以輸出之構成（例如參照專利文獻1)。 -5- 201104856 又，爲了防止漏光（smear)等不良情形的發生，在攝像 領域中係設置有金屬遮光膜，以將入射至垂直傳輸暫存器 部的光予以遮光。 於上記的固體攝像裝置中，有時會產生一種被稱作曜 光（flare)或鬼影（ghost)的假訊號。例如，藉由金屬遮光膜 等之反射膜，入射光會被亂反射，而入射至光電轉換部時 ，就會產生假訊號。 爲了防止該假訊號的產生，而提出了在金屬遮光膜的 上方，再設置了一種稱作〇CB(On Chip Black)的黑色之彩 色光阻圖案層，當作遮光膜（例如參照專利文獻2、專利文 獻3)。 又，在上記光電轉換部的上方，設有彩色濾光片，而 構成爲，被該彩色濾光片所著色的光，是被光電轉換部所 受光。彩色濾光片係例如含有3原色的著色層，3原色的 著色層係以Bayer排列的方式而被排列。又，在彩色濾光 片的上方，設有微透鏡，而構成爲，被該微透鏡所聚光的 光，是透過彩色濾光片，入射至光電轉換部（例如參照專 利文獻1 )。 除此之外，還有提出在光電轉換部和微透鏡之間，配 置層內透鏡。層內透鏡，係爲了有效將透過On Chip Lenz 所入射的光，照射至光電轉換部，而被設置（例如參照專 利文獻2、專利文獻3)。 又，在上記的固體攝像裝置中，爲了將入射光中的可 見光以外的紅外線加以遮斷，而設有紅外線截斷濾光片。 -6- 201104856 紅外線截斷濾光片，係大致分成彩色玻璃濾鏡等之光 吸收型、和使用無機干涉多層膜的光反射型。 圖2係紅外線截斷濾光片的分光穿透特性之圖示。於 圖2中，虛線係表示光吸收型的情形，實線係表示光反射 型的情形。 如圖2的虛線所示，在光吸收型的情形中，係吸收紅 外線’藉此而截斷紅外線，但對於該紅外線所對應之截斷 波長範圍以外之波長範圍的光，仍會吸收甚多。相對於此 ’如圖2的實線所示，在使用了無機干涉多層膜的光反射 型中，截斷波長範圍以外之波長範圍的光，是幾乎不會穿 透。具體而言，相較於光吸收型，光反射型的紅色成分的 光是較多地透過。 因此，在固體攝像裝置中，爲了提升感度，使用無機 干涉多層膜的光反射型紅外線截斷濾光片，是可被理想適 用（例如參照專利文獻4)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2002-359363號公報 [專利文獻2]曰本特開2007-324481號公報 [專利文獻3]日本特開2004-356503號公報 [專利文獻1]日本特開2001-267543號公報 [專利文獻2]日本特開2004-304148號公報 [專利文獻3 ]日本特開平丨丨_丨〇 3 〇 3 7號公報 [專利文獻4]曰本特開2005-109196號公報 201104856 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 然而，在上記中，會因爲線寬的參差之發生等，導致 OCB膜難以形成所望形狀之情形。因此，有可能會因爲此 種OCB膜，導致入射至光電轉換部的光被散亂，導致攝 像影像的影像品質降低。 圖1係固體攝像裝置1 J的要部剖面圖。 如圖1所示，在固體攝像裝置1J中，OCB膜43 J是 被圖案加工成順錐狀之情形。 這是因爲，將含有黑色色素的負片型光阻膜進行圖案 加工成OCB膜43J的曝光處理的實施之際，有時候曝光 光線會被位於其下層的金屬遮光膜4U所反射。因此，圖 案加工成順錐狀的情況下，在OCB膜43J中有時會發生 線寬的參差，所以如上記的不良情況有時候會明顯化。 如此，因爲難以將OCB膜43J這類光阻圖案層形成 爲所望的圖案，所以有時會發生影像品質的降低。 因此，本發明係提供一種，可將光阻圖案層形成爲所 望的圖案，並且可提升影像品質的固體攝像裝置、攝相機 、及其製造方法。 固體攝像裝置，係被要求了胞格尺寸（像素尺寸）的微 細化。因此，當胞格尺寸微細化時，隨著顏色而輸出（分 光輸出）會有所不同，而會有彩色攝像影像的影像品質降 低之情形。 -8- 201104856 圖3係圖示了，針對入射至固體攝像裝置的平行光， 透過微透鏡、彩色濾光片、層內透鏡而傳達的樣子，實施 波動模擬的結果圖。於圖3中，（a)係爲綠色光的情形， (b)係爲紅色光的情形。圖3中，越明亮表示光的強度越高 〇 如圖3所示，在微細之胞格尺寸的固體攝像裝置中， 長波長的紅色光（圖3(b))，係比波長短於紅色光的綠色光（ 圖3(a))，容易受到繞射或散射的影響。因此，紅色光係 比綠色光更難以確實聚光在光二極體的受光面，而有感度 特性劣化之情形。這對於藍色光而言，因此是比紅色光更 短波長，所以可說是同樣會如此。 爲了改善該不良情形，考慮將上述的層內透鏡之構造 ，作適宜地調整而設置。 圖4係表示，於固體攝像裝置中的分光輸出。於圖4 中係圖示了，紅色成分的輸出Vr、綠色成分之分光輸出 Vg、藍色成分之分光輸出Vb。 此處，各色的像素係分別設置同一形狀的層內透鏡， 可提升紅色的分光輸出Vr。然而，如圖4所示，紅色成 分的輸出Vr，相較於其他顏色的分光輸出Vg、Vb，是顯 著較高。 此情況下，於相機系統中，必須要進行調整以取得白 平衡，但如上述當紅色感度顯著較高時，該調整會有困難 。因此，會有攝像影像的影像品質降低的情形。 又，起因於上述使用無機千涉多層膜之光反射型的紅 -9 - 201104856 外線截斷濾光片，有時候會在彩色攝像影像中發生鬼影， 導致影像品質降低。具體而言，透過各部的入射光會反射 ，而回到光反射型的紅外線截斷濾光片時，有時候該光線 會再度被紅外線截斷濾光片反射，入射至別的像素，因此 會在攝像影像中產生鬼影。 尤其是，3原色的著色光當中，波長較長的紅色光是 與其他著色光不同，會被光反射型的紅外線截斷濾光片所 反射，因此該不良情形的發生會顯在化。 又，至於紅色光以外的綠色光或藍色光，也有時候會 被紅外線截斷濾光片以外的構件所反射，入射至別的像素 ，因此同樣會有在攝像影像中產生鬼影之情形。 如此，在固體攝像元件、及含固體攝像元件的攝相機 等之電子機器中，隨著像素的微細化，有時會有攝像影像 的影像品質降低之情形。 因此，本發明係提供一種，可提升攝像影像之影像品 質的固體攝像裝置、電子機器、固體攝像裝置之製造方法 [用以解決課題之手段] 本發明之固體攝像裝置之製造方法，係具有：固體攝 像裝置製造工程，係製造固體攝像裝置，其係爲，將光線 於受光面進行受光以生成訊號電荷的光電轉換部，是被設 置在基板上；前記固體攝像裝置製造工程係含有：金屬遮 光膜形成工程，係於前記基板之上方，在前記受光面所對 -10- 201104856 應之領域以外的領域’形成金屬遮光膜；和光反射膜形成 工程’係在前記金屬遮光膜的上方，形成用來反射光線的 光反射膜；和光阻圖案層形成工程，係針對被成膜在前記 光反射膜之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施 現像處理’以從前記光阻膜來形成光阻圖案層；於前記光 反射膜形成工程中’係形成前記光反射膜，以使得：前記 光反射膜是含有對應於前記光阻圖案層之圖案形狀的形狀 ’並在前記光阻圖案層形成工程中的前記曝光處理之實施 時，會使曝光光線反射至前記光阻膜。 本發明之攝相機之製造方法，係具有：固體攝像裝置 製造工程，係製造固體攝像裝置，其係爲，將光線於受光 面進行受光以生成訊號電荷的光電轉換部，是被設置在基 板上；前記固體攝像裝置製造工程係含有：金屬遮光膜形 成工程’係於前記基板之上方，在前記受光面所對應之領 域以外的領域，形成金屬遮光膜；和光反射膜形成工程， 係在前記金屬遮光膜的上方，形成用來反射光線的光反射 膜；和光阻圖案層形成工程，係針對被成膜在前記光反射 膜之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處 理’以從前記光阻膜來形成光阻圖案層；於前記光反射膜 形成工程中，係形成前記光反射膜，以使得：前記光反射 膜是含有對應於前記光阻圖案層之圖案形狀的形狀，並在 前記光阻圖案層形成工程中的前記曝光處理之實施時，會 使曝光光線反射至前記光阻膜。 本發明之固體攝像裝置，係含有：光電轉換部，係被 -11 - 201104856 設在基板，以受光面將光線予以受光而生成訊號電荷；和 金屬遮光膜，係被形成在前記基板之上方而在前記受光面 所對應之領域以外的領域；和光反射膜，係被形成在前記 金屬遮光膜的上方；和光阻圖案層，係被形成在前記光反 射膜的上方；前記光阻圖案層，係藉由針對被成膜在前記 光反射膜之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施 現像處理，而被形成；前記光反射膜係含有對應於前記光 阻圖案層之圖案形狀的形狀，並且是被形成爲，在前記曝 光處理的實施時，該當光反射膜會使曝光光線反射至前記 光阻膜。 本發明之攝相機，係含有：光電轉換部，係被設在基 板，以受光面將光線予以受光而生成訊號電荷；和金屬遮 光膜，係被形成在前記基板之上方而在前記受光面所對應 之領域以外的領域；和光反射膜，係被形成在前記金屬遮 光膜的上方；和光阻圖案層，係被形成在前記光反射膜的 上方；前記光阻圖案層，係藉由針對被成膜在前記光反射 膜之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處 理，而被形成；前記光反射膜係含有對應於前記光阻圖案 層之圖案形狀的形狀，並且是被形成爲，在前記曝光處理 的實施時，該當光反射膜會使曝光光線反射至前記光阻膜 0 於本發明中，係形成光反射膜，使其含有對應於所形 成之光阻圖案層之圖案形狀的形狀。在光阻圖案層形成工 程中的曝光處理實施之際，曝光光線係藉由光反射膜而被 -12- 201104856 反射至負片型光阻膜。因此’在顯影處理後，光阻圖案層 就會形成所望之圖案。 本發明之固體攝像裝置，係具有：光電轉換部，係被 設在基板的攝像領域中，以受光面將入射光予以受光而生 成訊號電荷；和彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域中 被設在前記受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予以 著色而透射至前記受光面；前記彩色濾光片，係含有黑色 色素。 本發明之固體攝像裝置，係具有：光電轉換部，係被 設在基板的攝像領域中，以受光面將入射光予以受光而生 成訊號電荷；和彩色濾光片，係被設在前記基板的攝像領 域中，被構成爲，將前記入射光予以著色而透射至前記受 光面；和黑色色素含有層，係被設在前記基板的攝像領域 中，含有黑色色素；前記黑色色素含有層係被設在前記受 光面的上方，且被構成爲，讓前記入射光往前記受光面透 射。 本發明之電子機器，係具有：光電轉換部，係被設在 基板的攝像領域中，以受光面將入射光予以受光而生成訊 號電荷；和彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域中被設 在前記受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予以著色 而透射至前記受光面；前記彩色濾光片，係含有黑色色素 〇 本發明之電子機器，係具有：光電轉換部，係被設在 基板的攝像領域中，以受光面將入射光予以受光而生成訊 -13- 201104856 號電荷；和彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域 在前記受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予 而透射至前記受光面；前記彩色濾光片，係與前記 之間，設置有含有黑色色素的黑色色素含有層。 本發明之固體攝像裝置之製造方法，係具有： 換部形成工程，係將以受光面將入射光予以受光而 號電荷用的光電轉換部，設置在基板的攝像領域中 色濾光片形成工程，係將用以把前記入射光予以著 前記受光面透射用的彩色濾光片，設在在前記基板 領域中的前記受光面的上方；於前記彩色濾光片形 中，係以含有黑色色素的方式，來形成前記彩色濾 本發明之固體攝像裝置之製造方法，係具有： 換部形成工程，係將以受光面將入射光予以受光而 號電荷用的光電轉換部，設置在基板的攝像領域中 色濾光片形成工程，係將用以把前記入射光予以著 前記受光面透射用的彩色濾光片，設在在前記基板 領域中的前記受光面的上方；和黑色色素含有層形 ’係在前記受光面的上方，形成含有黑色色素的黑 含有層。 於本發明中，是在受光面的上方設置含黑色色 ，以調整入射至受光面的光量。 [發明效果] 若依據本發明，則可提供一種，可將光阻圖案 中被設 以著色 受光面 光電轉 生成訊 :和彩 色而往 的攝像 成工程 电片。 光電轉 生成訊 :和彩 色而往 的攝像 成工程 色色素 素的層 層形成 -14- 201104856 爲所望的圖案’並且可提升影像品質的固體攝像裝置、攝 相機、及其製造方法。 若依據本發明’則可提供一種，可提升攝像影像之影 像品質的固體攝像裝置、電子機器、固體攝像裝置之製造 方法。 【實施方式】 以下，參照圖面來說明本發明的實施形態。 此外，說明是按照以下順序來進行。 1.實施形態1 2 ·實施形態2(有設置曝光光線吸收膜之情形） 3. 實施形態3(在光反射膜上直接設置OCB膜之情形） 4. 其他 < 1 .實施形態1〉 〔裝置構成〕 (1)全體構成 圖5係本發明所述之實施形態1中’固體攝像裝置1 的全體構造之槪略的平面圖。 1, lb, lc係固體攝像裝置、21係光二極體、22係電 荷讀出通道領域、23係電荷傳輸通道領域、24係通道截 止領域、31係第1傳輸電極、32係第2傳輸電極、41係 金屬遮光膜、42係光反射膜、43係〇CB膜、45係層內透 鏡、51係曝光光線吸收層、151係彩色濾光片、151B， -15- 201104856 151Bc係藍色濾光片層、151G，151Gc係綠色濾光片層、 1 5 1 K係黑色色素含有層、1 5 1 R, 1 5 1 Rb係紅色濾光片層、 61係微透鏡、101係基板、200係相機、201係光學系、 202係紅外線截斷濾光片' 203係驅動電路、2〇4係訊號處 理電路、FT係平坦化膜、Gx係閘極絕緣膜、Η係曝光光 線、ΗΤ係水平傳輸暫存器部、JA係受光領域、JS係受光 面、ΚΚ係開口、OUT係輸出部、Ρ係光電轉換部、ΡΑ係 攝像領域、PM係光罩、PR係光阻膜、RO係電荷讀出部 、SB係遮光部、SS係元件分離部、VT係垂直傳輸暫存器 部、HT1係平坦化膜、HT2係平坦化膜、JS係受光面、 PA係攝像領域、Sz係絕緣膜。 如圖5所示’固體攝像裝置1係例如爲交錯線方式的 C C D型影像感測器，係於攝像領域p a中進行攝像。 該攝像領域PA中，係如圖5所示，形成有光電轉換 部P、電荷讀出部RO、垂直傳輸暫存器部VT。 光電轉換部P ’係如圖5所示，是在攝像領域PA中 複數設置’分別於水平方向X和垂直方向y上，排列成矩 陣狀而配置。然後’在該複數光電轉換部ρ的周圍，爲了 使各光電轉換部P之間作分離’而設置有元件分離部SS 。然後，光電轉換部P係被構成爲，於受光領域JA中， 將被攝體像的光予以受光而進行光電轉換，以生成訊號電 荷。 電荷δ賣出部RO是被構成爲’如圖5所示，於攝像領 域ΡΑ中’對應於複數光電轉換部ρ而複數設置，並將該 -16- 201104856 光電轉換部p所生成的訊號電荷，讀出至垂直傳輸暫存器 部ντ。 垂直傳輸暫存器部VT，係如圖5所示，於攝像領域 PA中，對應於垂直方向y上排列之複數光電轉換部p，而 在垂直方向y上延展。又，垂直傳輸暫存器部VT係被配 置在，在垂直方向y上複數排列之光電轉換部P的列之間 。垂直傳輸暫存器部VT，係在攝像領域PA中被複數設置 ，複數垂直傳輸暫存器部VT，係對應於在水平方向X上 排列之複數光電轉換部P的每一者，而排列在水平方向X 上。該垂直傳輸暫存器部VT，係爲所謂的垂直傳輸CCD ，係透過電荷讀出部RO，從光電轉換部P讀出訊號電荷 ，並將該訊號電荷往垂直方向y依序傳輸。關於細節將於 後述，但垂直傳輸暫存器部VT，係有複數傳輸電極（未圖 示）在垂直方向y上排列設置，對該垂直方向上排列的傳 輸電極，依序供給例如4相的驅動脈衝訊號，藉此而實施 該訊號電荷的傳輸。 遮光部SB，係如圖5所示’於攝像領域PA中’以覆 蓋住攝像領域PA全體的方式而被設置，但光電轉換部P 的受光領域JA所對應之部分’係設有開口 KK。此外’關 於遮光部SB，係爲了圖示上的方便，在圖5中係用虛線 表示。 然後，在攝像領域P A的下端部中’如圖5所示’配 置有水平傳輸暫存器部HT。該水平傳輸暫存器部HT’係 朝水平方向X延展，複數垂直傳輸暫存器部ντ之每一者 -17- 201104856 ，係將已經往垂直方向y傳輸的訊號電荷，逐次朝水平方 向X加以傳輸。亦即，水平傳輸暫存器部HT，係爲所謂 的水平傳輸CCD，是藉由例如2相的驅動脈衝訊號而被驅 動，會實施每1水平掃描線（1行像素）被傳輸來的訊號電 荷之傳輸。 然後，如圖5所示，在水平傳輸暫存器部HT的左端 部，係形成有輸出部OUT，該輸出部OUT，係藉由水平傳 輸暫存器部HT，將水平傳輸過來的訊號電荷轉換成電壓 ，成爲類比影像訊號而輸出。 (2)詳細構成 說明上記固體攝像裝置1的詳細構成。 圖6、圖7係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1之要部的圖示。此處，圖6和圖7係分別表示主要 部之剖面。圖6係圖5的X1-X2部分的放大圖示，圖7係 圖5的Y1-Y2部分的放大圖示。 固體攝像裝置1，係如圖6及圖7所示，含有基板 101。基板101係例如是η型的矽半導體基板，在基板101 的內部，係設置有光二極體21、電荷讀出通道領域22、 電荷傳輸通道領域23、通道截止領域24。 然後，在基板1〇1的表面中，如圖6及圖7所示，設 置有第1傳輸電極31、第2傳輸電極32、金屬遮光膜41 、光反射膜42、OCB膜43。 依序說明構成固體攝像裝置1的各部。 -18- 201104856 光二極體21，係如圖6、圖7所示，是以對應於光電 轉換部P的方式，被設置在基板101。該光二極體21係 被構成爲，如圖6、圖7所示，將光以受光面JS進行受光 ，進行光電轉換以生成訊號電荷。 具體而言，光二極體21，係於基板101之內部，被設 在位於表面側的部分。雖然圖示省略，但光二極體21，係 例如在形成在基板101內的P型半導體阱領域（P)(未圖示） 上，依序形成η型半導體領域（η)(未圖示）和p型半導體領 域（ρ + )(未圖示），而被構成。 此處，η型半導體領域（η)，係作爲訊號電荷累積領域 而發揮機能。然後，Ρ型半導體領域（Ρ + )，係作爲電洞累 積領域而發揮機能，是被構成爲，用來在屬於訊號電荷累 積領域的η型半導體領域（η)中抑制暗電流的產生。 此外，在光二極體21上，係還隔著層間絕緣膜Sz2, Sz3而設置有平坦化膜FT，雖然圖示省略，但在該平坦化 膜FT上，係配置有彩色濾光片（未圖示）和微透鏡（未圖示） 。因此，光二極體21係將依序透過微透鏡（未圖示）和彩色 濾光片（未圖示）而入射的光，於受光面JS上進行受光。 電荷讀出通道領域22，係如圖6所示，是對應於電荷 讀出部RO而被設置，是被構成爲，將光二極體21中所生 成的訊號電荷予以讀出。 具體而言，電荷讀出通道領域22，係如圖6所示，在 位於基板1 〇 1之內部表面側的部分，相鄰於光二極體21 而被設置。 19· 201104856 此處’電荷讀出通道領域22，係於水平方向5{上，被 配置在光二極體2 1的左側。例如，電荷讀出通道領域22 ，係以P型半導體領域而被構成。 電荷傳輸通道領域23，係如圖6所示，是對應於垂直 傳輸暫存器部VT而設置，是被構成爲，將已被電荷讀出 部RO從光二極體21所讀出之訊號電荷，以電荷傳輸通道 領域23加以傳輸。 具體而言，電荷傳輸通道領域23，係如圖6所示，在 位於基板1 〇 1之內部表面側的部分，相鄰於電荷讀出通道 領域22而設置。 此處，電荷傳輸通道領域23，係於水平方向X上，被 配置在電荷讀出通道領域2 2的左側。例如，電荷傳輸通 道領域2 3，係藉由在基板1 01內部的p型半導體阱領域 (P)(未圖示）上，設置η型半導體領域（η)(未圖示）而被構成 〇 通道截止領域24，係如圖6及圖7所示，是以對應於 光電轉換部SS的方式而被設置。 具體而言，通道截止領域24，係如圖6及圖7所示， 被設置在位於基板101之內部表面側的部分。 此處，通道截止領域24，係於水平方向X上，如圖6 所示，位在電荷讀出通道領域22的左側，且介隔在電荷 讀出通道領域22、和配置在相鄰列的光二極體2 1之間而 設置。然後，於垂直方向y上，如圖7所示，通道截止領 域24係被設置在，在垂直方向y上排列的2個光二極體 -20- 201104856 2 1之間》 該通道截止領域24’係例如，在基板ι〇1內部的p型 半導體阱領域（p)(未圖示）上，設置p型半導體領域（p + )(未 圖示）而被構成’係形成電位障壁以防止訊號電位的進出 〇 第1傳輸電極3 1、第2傳輸電極3 2係分別如圖6及 圖7所示’在基板101的表面，隔著閘極絕緣膜Gx而面 對設置。第1傳輸電極31、第2傳輸電極32係均由導電 性材料所形成。例如，第1傳輸電極3 1、第2傳輸電極 3 2係分別使用多晶砂等之導電材料所構成，例如被設置在 ’由矽氧化膜所形成的閘極絕緣膜Gx上。 雖然圖示省略，但第1傳輸電極31、第2傳輸電極 32係分別在基板1〇1的上面，含有朝X方向延展的部分， 且於垂直方向y上複數交互排列配置。 此處，如圖6所示，於X方向上排列的像素之間，例 如，僅設置第1傳輸電極31。然後，如圖7所示，於y方 向上排列的像素之間，例如，在第2傳輸電極3 2上，第1 傳輸電極31是隔著絕緣膜Szl而層積般地設置。 金屬遮光膜41，係如圖6所示，在基板101的表面上 ’被形成在電荷讀出通道領域22及電荷傳輸通道領域23 之上方，係將入射至電荷讀出通道領域22及電荷傳輸通 道領域23的光，予以遮光。又，金屬遮光膜41，係如圖 6及圖7所示，以覆蓋第1傳輸電極31和第2傳輸電極 32之至少一方的方式而被設置。 -21 - 201104856 此處，金屬遮光膜41係被形成在，於基板101之上 方，受光面】S對應領域以外的領域。金屬遮光膜41，係 均由會將光線予以遮光的遮光材料所形成。例如，金屬遮 光膜4 1係使用鎢、鋁等金屬材料所形成。 此外，藉由金屬遮光膜41，構成了圖5所示的遮光部 SB ° 光反射膜42，係如圖6及圖7所示，是在基板1 01的 表面上，被形成在金屬遮光膜41之上方。該光反射膜42 ，係對應於OCB膜43的圖案形狀而被形成。 關於細節將於後述，但光反射膜42，係在從含有黑色 色素之負片型光阻膜（未圖示）進行圖案加工成OCB膜43 的曝光處理之實施時，被形成爲會使曝光光線反射至光阻 膜。例如，金屬遮光膜41係使用鎢、鋁等金屬材料所形 成。 OCB膜43，係爲黑色的彩色光阻圖案層，如圖6及 圖7所示，是被形成在光反射膜42的上方。 細節雖然於後述，但該ΟCB膜43，係藉由針對被成 膜在光反射膜42之上方的負片型光阻膜（未圖示），實施曝 光處理後，實施顯影處理，而被形成。 (3)相機 圖8係本發明所述之實施形態1中，相機200之構成 的構成圖。 如圖8所示’相機200’係含有上述的固體攝像裝置 -22- 201104856 1以外，還具有光學系201、驅動電路203、訊號處理電路 204 = 光學系2 0 1，係例如含有光學透鏡，係使被攝體像被 成像至固體攝像裝置1的攝像面。 驅動電路203，係將各種驅動訊號，輸出至固體攝像 裝置1和訊號處理電路204，以驅動固體攝像裝置1和訊 號處理電路204。 訊號處理電路204，係針對從固體攝像裝置1所輸出 的原始資料（Raw Data)，實施訊號處理，以生成關於被攝 體像的數位影像。 〔製造方法〕 以下說明，製造上記固體攝像裝置1的製造方法。 圖9〜圖1 4係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 此處，圖9、圖1 1、圖1 3，係和圖6同樣地，是圖5 的X 1 -X2部分的對應部分之放大的剖面圖。然後，圖10 、圖12、圖14，係和圖3同樣地，是圖5的Y1-Y2部分 的對應部分之放大的剖面圖。 (1)光反射膜42之形成 首先，如圖9和圖10所示，形成光反射膜42。 此處，在早於光反射膜42的形成之前，如圖9及圖 1〇所示，將光二極體21、電荷讀出通道領域22、電荷傳 23- 201104856 輸通道領域23、通道截止領域24，設在基板101。例如， 使用離子佈植法，將雜質導入至基板101，以形成各部。 其後’例如’藉由熱氧化法，在基板1 〇 1的全面設置矽氧 化膜，以形成閘極絕緣膜Gx。 然後，如圖9及圖1 0所示，將第1傳輸電極3 1、和 第2傳輸電極32，形成在基板101的表面上。具體而言， 是在基板101的表面，隔著閘極絕緣膜Gx而面對的方式 ，以導電性材料來形成第1傳輸電極31、第2傳輸電極 32。例如，將以CVD法將多晶矽膜（未圖示）成膜後，藉由 光微影技術，將該多晶矽膜進行圖案加工，以形成第1傳 輸電極31和第2傳輸電極32。 然後，如圖9及圖I 0所示，將金屬遮光膜41，設在 基板101的表面上。具體而言，在第1傳輸電極31和第2 傳輸電極32之至少一方的上方，在受光面JS對應領域以 外的領域，形成金屬遮光膜41。例如，藉由濺鍍法，將鎢 膜予以成膜後，將該鎢膜藉由光微影技術而進行圖案加工 ，以形成金屬遮光膜41。其後，以覆蓋住金屬遮光膜41 的方式，用會讓光線穿透的穿透材料，形成層間絕緣膜 Sz2 ° 在如上記形成各部後，如圖9及圖1 〇所示，實施光 反射膜42的形成。 此處，係於基板1 0 1的表面上，以位於金屬遮光膜4 1 之上方的方式，形成光反射膜42。 於本實施形態中，是以對應於在本工程之後所實施的 -24- 201104856 工程中所形成的OCB膜43的圖案形狀，來形成光反射膜 42。然後，在後面的工程中，在從含有黑色色素之負片型 光阻膜（未圖示）進行圖案加工成OCB膜43的曝光處理之 實施時，以使得該曝光光線會反射至光阻膜的方式，形成 光反射膜42。 在該光反射膜42的形成時，是以使得上述曝光處理 實施時所使用的紫外線等之非可見光，能夠以高於可見光 的比率而被反射的方式，來形成光反射膜42，較爲理想》 例如，藉由濺鍍法，將鎢膜予以成膜後，將該鎢膜藉 由光微影技術而進行圖案加工，以形成光反射膜42» 例如，使得膜厚係爲50nm〜200nm，而形成該光反射 膜42。 (2)光阻膜PR之形成 接著，如圖1 1和圖1 2所示，形成光阻膜PR。 此處，係如圖Π及圖1 2所示’是以將覆蓋光反射膜 42而以透光材料所形成之層間絕緣膜Sz3的表面加以覆蓋 的方式，形成光阻膜PR。 於本實施形態中，是將含有黑色色素和負片型光阻樹 脂的塗佈液，塗佈在層間絕緣膜Sz3之表面，以形成光阻 膜PR。 (3)曝光處理的實施 接著，如圖13和圖14所示，實施曝光處理。 25- 201104856 此處’如圖13和圖14所不’是使用了，曝光光線η 所穿透的透光口是對應於上述OCB膜43(參照圖6、圖7) 的圖案形狀的方式而被形成.爲遮罩圖案的光罩ΡΜ，來實 施該曝光處理。亦即，在光阻膜PR中形成OCB膜43的 部分’照射曝光光線。例如’使用紫外線來作爲曝光光線 。此外’在圖13、圖14中，於光罩ΡΜ中將曝光光線予 以遮光的部分，是以黑色表示。 (4)OCB膜43之形成 接著，如圖6和圖7所示，形成OCB膜43。 此處，係如圖6及圖7所示，在光反射膜42的上方 ，形成OCB膜43。 具體而言，藉由針對如上記實施曝光處理過的光阻膜 PR，實施顯影處理，以從光阻膜PR形成OCB膜43。亦 即，藉由顯影處理的實施，將光阻膜P R中未被照射曝光 光線的部分加以去除，以形成OCB膜43。 然後，將平坦化膜FT形成在基板101之表面後，設 置其他的部分，就完成了固體攝像裝置1。 [總結] 如以上，在本實施形態中，係於光阻膜PR，在OCB 膜43形成部分的下方，設置有光反射膜42。在上記的曝 光處理實施時，被位於光阻膜PR下方之金屬遮光膜41所 反射的曝光光線，係被光反射膜4 2的下面所遮光（參照圖 -26- 201104856 13 、圖 14)。 因此，可防止被形成爲如圖1 9所示的順錐狀的OCB 膜43。 又，在本實施形態中，係如上述，光反射膜42是對 應於OCB膜43的圖案形狀而被形成。從光阻膜PR之上 方所入射的曝光光線，係被光反射膜42的上面所反射（參 照圖13、圖14)。 因此，可減少曝光量，因此可抑制金屬遮光膜4 1所 造成的曝光光線之反射所致之不良情形的發生。 因此，本實施形態，係可將OCB膜43以所望線寬的 圖案來加以形成，可防止攝像之際所入射之光線發生散亂 〇 因此，本實施形態，係可將像是OCB膜43的光阻圖 案層，形成爲所望的圖案，因此可提升攝像影像的影像品 質。 < 2 .實施形態2 > 〔裝置構成等〕 圖1 5、圖1 6係本發明所述之實施形態2中，固體攝 像裝置lb之要部的圖示。 此處，圖1 5和圖1 6係分別表示主要部之剖面。圖1 5 係相當於圖5的X1-X2部分的部分放大圖示，圖16係相 當於圖5的Y1-Y2部分的部分放大圖示。 如圖1 5、圖16所示，在本實施形態中，固體攝像裝 -27- 201104856 置1 b係被形成有曝光光線吸收層5 1。除了這點以及其關 連的點以外，本實施形態係和實施形態1同樣。因此，關 於重複部分則是省略p載。 曝光光線吸收層51，係如圖15、圖16所示，是在基 板101的上方，介隔在金屬遮光膜41與光反射膜42之間 而被設置。亦即，雖然省略圖不，但曝光光線吸收層5 1 的形成，係在金屬遮光膜41的形成實施之後，且在光反 射膜42的形成實施之前|會被實施。 該曝光光線吸收層51，係被形成用來吸收，上述 OCB膜43形成時的曝光處理之實施中所使用的曝光光線 。例如，有TiO粒子分散其中的聚醯亞胺膜，是被形成來 作爲曝光光線吸收層5 1。本實施形態中，曝光光線吸收層 51係也是在基板101的上方，以覆蓋著受光面JS對應領 域的方式，而被形成。 然後，以覆蓋該曝光光線吸收層5 1的方式設置層間 絕緣膜Sz，在該層間絕緣膜Sz上，和實施形態1同樣地 ，形成光反射膜42等之各部。 [總結] 如以上，於本實施形態中，曝光光線吸收層5 1是以 介隔在金屬遮光膜41和光反射膜42之間的方式而被設置 。將光阻膜PR予以圖案加工成OCB膜43所需的曝光處 理之實施中，曝光光線，係在光阻膜P R的下方，被曝光 光線吸收層5 1所吸收。 -28- 201104856 因此，因爲可以抑制曝光光線入射至金屬遮光膜41 側，所以可理想防止形成順錐形狀的0 C B膜4 3 ° 因此，本實施形態，係可將像是〇CB膜43的光阻圖 案層，形成爲所望的圖案’因此可提升攝像影像的影像品 質。 < 3.實施形態3 > 〔裝置構成等〕 圖1 7、圖1 8係本發明所述之實施形態3中，固體攝 像裝置lc之要部的圖示。 此處，圖1 7和圖1 8係分別表示主要部之剖面。圖1 7 係相當於圖5的X1-X2部分的部分放大圖示，圖1 8係相 當於圖5的Y1-Y2部分的部分放大圖示。 如圖1 7、圖1 8所示，在本實施形態中，固體攝像裝 置lc係在光反射膜42和OCB膜43之間，未形成有層間 絕緣膜Sz3。除了這點以及其關連的點以外，本實施形態 係和實施形態1同樣。因此，關於重複部分則是省略記載 〇 如圖17、圖18所示，OCB膜43，係以直接接觸於光 .反射膜42之上面的方式而被形成。 亦即，雖然圖示省略，但被圖案加工成OCB膜43的 光阻膜（未圖示）的形成時，是以直接接觸於光反射膜42的 方式，而將負片型光阻膜予以成膜。然後，和實施形態1 的情況同樣地，跟對該光阻膜依序實施曝光處理和顯影處 -29- 201104856 理，以形成OCB膜43。 [總結] 如以上，在本實施形態中’係將〇CB膜43以直接接 觸於光反射膜42之上面的方式而形成。從被圖案加工成 OCB膜43的光阻膜（未圖示）的上方所入射的曝光光線， 係藉由光反射膜42的上面’沒有其他膜介隔存在地，直 接被反射。 因此，本實施形態，係藉由位於其下方的金屬遮光膜 4 1，就可有效抑制因爲曝光光線反射所造成的不良情形。 因此，本實施形態，係可將像是OCB膜43的光阻圖 案層，形成爲所望的圖案，因此可提升攝像影像的影像品 質。 < 4.其他〉 本發明的實施之際，並非限定於上記實施形態，可採 用各種的變形例。 例如’在上記的實施形態中，雖然針對適用於CCD 型影像感測器的情形加以說明，但並非限定於此。例如， 可適用於CMOS型影像感測器等各種影像感測器。 又’在上記的實施形態中，雖然針對屬於光阻圖案層 的〇CB膜的圖案形狀、和光反射膜是完全對應的方式來 設置光反射膜的情形加以說明，但並非限定於此。例如， 亦可僅對應其一部分，來構成各部。 -30- 201104856 具體而言，亦可爲，例如，於CMOS型影像感測 ，係將以會反射光線的金屬材料所形成的「配線」的 分，當作本發明的「光反射膜」來使用。 如此，亦可將影像感測器中使用光反射材料所形 部分，兼用作爲本發明的「光反射膜」。 又，於上記的實施形態中，雖然針對將OCB膜 光阻圖案層而設在金屬反射膜上的情形加以說明，但 限定於此。在形成其他的光阻圖案層時，也能適用本 〇 此外，在上記的實施形態中，固體攝像裝置1, 1丨 ，係相當於本發明的固體攝像裝置。又，在上記的實 態中，電荷讀出通道領域22，係相當於本發明的電荷 通道領域。又，在上記的實施形態中，電荷傳輸通道 23，係相當於本發明的電荷傳輸通道領域。又，在上 實施形態中，金屬遮光膜4 1，係相當於本發明的金屬 膜。又，在上記的實施形態中，光反射膜42，係相當 發明的光反射膜。又，在上記的實施形態中，OCB ® ，係相當於本發明的光阻圖案層。又，在上記的實施 中，曝光光線吸收層5 1，係相當於本發明的曝光光線 層。又，在上記的實施形態中，基板1 〇 1，係相當於 明的基板。又，在上記的實施形態中，相機200，係 於本發明的攝相機。又，在上記的實施形態中，曝光 Η，係相當於本發明的曝光光線。又，在上記的實施 中，受光面JS，係相當於本發明的受光面。又，在上 器中 —部 成的 當作 並非 發明 ),1 c 施形 讀出 領域 記的 遮光 於本 I 43 形態 吸收 本發 相當 光線 形態 記的 -31 - 201104856 實施形態中’光電轉換部p，係相當於本發明的光電轉換 部。又’在上記的實施形態中，光阻膜PR，係相當於本 發明的光阻膜。又，在上記的實施形態中，電荷讀出部 RO，係相當於本發明的電荷讀出部。又，在上記的實施形 態中，垂直傳輸暫存器部VT，係相當於本發明的傳輸暫 存器部。 [實施方式] 以下，參照圖面來說明本發明的實施形態。 此外，說明是按照以下順序來進行。 1 .實施形態4(使紅色濾光片中含有黑色色素之情形） 2. 實施形態5(在紅色濾光片之下設置黑色色素含有層 之情形） 3. 實施形態6(使3原色的濾光片各自含有黑色色素之 情形） 4. 其他 < 1.實施形態4> 〔裝置構成〕 (1)相機全體構成 圖8係本發明所述之實施形態4中’相機200之構成 的構成圖。 如圖8所示，相機200，係具有固體攝像裝置1、光 學系201、紅外線截斷濾鏡202、驅動電路203、訊號處理 -32- 201104856 電路204 。 固體攝像裝置1係被構成爲’將透過光學系201及紅 外線截斷濾鏡202而入射的入射光（被攝體像）Η ’以攝像 面PS進行受光，生成訊號電荷。關於固體攝像裝置1的 詳細構成，將於後述。 光學系201，係例如含有複數光學透鏡，係使入射光 Η成像至固體攝像裝置1的攝像面PS。 紅外線截斷濾鏡202，係被配置在光學系20 1和固體 攝像裝置1之間，會將入射光Η中所含之紅外線成分予以 截斷，然後往固體攝像裝置1的攝像面PS出射。 於本實施形態中，紅外線截斷濾鏡202係爲所謂的干 涉濾鏡，是由反射型的無機干涉多層膜所構成。 驅動電路203，係將各種驅動訊號’輸出至固體攝像 裝置1和訊號處理電路204，以驅動固體攝像裝置1和訊 號處理電路204。 訊號處理電路204，係針對從固體攝像裝置1所輸出 的原始資料（Raw Data)，實施訊號處理，以生成關於被攝 體像的數位影像。 (2)固體攝像裝置的全體構造 圖1 9係本發明所述之實施形態4中，固體攝像裝置1 的全體構造之槪略的平面圖。 如圖1 9所示，固體攝像裝置1係例如爲交錯線方式 的CCD型影像感測器，係於攝像領域PA中，針對被攝體 -33- 201104856 像’進行攝像。該攝像領域P A中，係如圖2所示 有光電轉換部P、電荷讀出部RO、垂直傳輸暫存器 〇 光電轉換部P，係如圖1 9所示，是在攝像領域 複數設置’分別於水平方向X和垂直方向y上分別 亦即’將被攝體像予以攝像的複數像素，是被排列 狀而配置。然後，在該複數光電轉換部P的周圍， 各光電轉換部P之間作分離，而設置有元件分離音1； 然後’光電轉換部P係被構成爲，於受光面JS中 攝體像的光予以受光而進行光電轉換，以生成訊號f 電荷讀出部RO是被構成爲，如圖19所示，於 域PA中，對應於複數光電轉換部p而複數設置， 光電轉換部P所生成的訊號電荷，讀出至垂直傳輸 部VT。 垂直傳輸暫存器部VT，係如圖19所示，於攝 PA中，對應於垂直方向y上排列之複數光電轉換部 在垂直方向y上延展。又，垂直傳輸暫存器部ντ 置在，在垂直方向y上複數排列之光電轉換部P的 。垂直傳輸暫存器部ντ，係在攝像領域PA中被複 ，複數垂直傳輸暫存器部ντ，係對應於在水平方[ΐ 排列之複數光電轉換部Ρ的每一者，而排列在水平 上。該垂直傳輸暫存器部VT，係爲所謂的垂直傳奉 ，係將已被電荷讀出部RO從光電轉換部Ρ中所讀 號電荷，往垂直方向y依序傳輸。關於細節將於後 ，形成 部ντ PA中 排列。 成矩陣 爲了使 ；SS » ，將被 3荷。 攝像領 並將該 暫存器 像領域 P，而 係被配 列之間 數設置 0 X上 方向X If CCD 出之訊 述，但 -34- 201104856 垂直傳輸暫存器部VT，係有複數傳輸電極（未圖示）在垂直 方向y上排列設置，對該垂直y方向上排列的傳輸電極’ 供給例如4相的驅動脈衝訊號，藉此而實施該訊號電荷的 傳輸。 然後，在攝像領域p A的下端部中，如圖1 9所示’配 置有水平傳輸暫存器部HT。該水平傳輸暫存器部HT，係 朝水平方向X延展，複數垂直傳輸暫存器部VT之每一者 ，係將已經往垂直方向y傳輸的訊號電荷，逐次朝水平方 向X加以傳輸。亦即，水平傳輸暫存器部HT，係爲所謂 的水平傳輸C C D，是藉由例如2相的驅動脈衝訊號而被驅 動，會實施每1水平掃描線（1行像素）被傳輸來的訊號電 荷之傳輸。 然後，如圖19所示，在水平傳輸暫存器部HT的左端 部，係形成有輸出部OUT，該輸出部OUT，係藉由水平傳 輸暫存器部HT，將水平傳輸過來的訊號電荷轉換成電壓 ，成爲影像訊號而輸出。 此外，上記的攝像領域PA，係相當於圖8所示的攝 像面P S。 (3)固體攝像裝置的詳細構成 說明上記固體攝像裝置1的詳細構成。 圖2 0係本發明所述之實施形態4中，固體攝像裝置1 之要部的圖示。此處，圖20係圖示了主要部的剖面，是 將圖19的XI 1-X21部分予以放大圖示》 -35- 201104856 固體攝像裝置1，係如圖20所示，含有基板ίο〗。基 板101係例如是η型的矽半導體基板，在該基板1〇1的內 部’係設置有光二極體21、電荷讀出通道領域22、電荷 傳輸通道領域23、通道截止領域24。 然後’在基板101的表面中，如圖20所示，設置有 31、金屬遮光膜41、層內透鏡45'彩色濾光片151、微透 鏡61。 依序說明構成固體攝像裝置1的各部。 光二極體21，係如圖20所示，是以對應於光電轉換 部Ρ的方式，被設置在蕋板101。該光二極體21係被構 成爲，以受光面〗S將光線進行受光，並進行光電轉換以 生成訊號電荷。 具體而言，光二極體21，係於基板101之內部，被設 在位於表面側的部分。雖然圖示省略，但光二極體2 1，係 例如在形成在基板1〇1內的Ρ型半導體阱領域（Ρ)(未圖示） 上，依序形成η型半導體領域（n)(未圖示）和ρ型半導體領 域（p + )(未圖不），而被構成。 此處，n型半導體領域（n)，係作爲訊號電荷累積領域 而發揮機能。然後，Ρ型半導體領域（Ρ + )’係作爲電洞累 積領域而發揮機能，是被構成爲’用來在屬於訊號電荷累 積領域的η型半導體領域（η)中抑制暗電流的產生。 於光二極體21中，在受光面JS的上方，係以透光性 材料，設置了層內透鏡45、彩色瀘光片151、微透鏡61 等。因此，光二極體21，係將依序透過這些各部而入射的 -36- 201104856 光Η，於受光面JS上進行受光，並生成訊號電荷。 電荷讀出通道領域22，係如圖20所示，是對應於電 荷讀出部RO而被設置，是被構成爲，將光二極體21中所 生成的訊號電荷予以讀出。 具體而言，電荷讀出通道領域22，係如圖20所示， 在位於基板101之內部表面側的部分，相鄰於光二極體21 而被設置。 此處，電荷讀出通道領域22，係於水平方向X上，被 配置在光二極體2 1的左側。例如，電荷讀出通道領域22 ，係以P型半導體領域而被構成。 電荷傳輸通道領域23，係如圖20所示，是對應於垂 直傳輸暫存器部VT而設置，是被構成爲，將已被電荷讀 出部RO從光二極體21所讀出之訊號電荷，以電荷傳輸通 道領域23加以傳輸。 具體而言，電荷傳輸通道領域23，係如圖20所示， 在位於基板1 〇 1之內部表面側的部分，相鄰於電荷讀出通 道領域22而設置。 此處，電荷傳輸通道領域23，係於水平方向X上，被 配置在電荷讀出通道領域22的左側。例如，電荷傳輸通 道領域23，係藉由在基板1 〇 1內部的p型半導體阱領域 (P)(未圖示）上，設置η型半導體領域（η)(未圖示）而被構成 〇 通道截止領域24，係如圖20所示，是以對應於元件 分離部SS的方式而被設置。 -37- 201104856 具體而言，通道截止領域24，係如圖20所示，被設 置在位於基板1 〇 1之內部表面側的部分。 此處，通道截止領域24，係於水平方向X上，如圖 1 9所示，位在電荷讀出通道領域22的左側，且介隔在電 荷讀出通道領域22、和配置在相鄰列的光二極體2 1之間 而設置。除此之外，還以對應於垂直方向y上排列的2個 光二極體21之間的元件分離部SS的方式，設置了通道截 止領域2 4 (參照圖1 9)。 該通道截止領域24，係例如，在基板1〇1內部的p型 半導體阱領域（P)(未圖示）上，設置P型半導體領域（P + )(未 圖示）而被構成，係形成電位障壁以防止訊號電位的進出 0 傳輸電極31，係如圖20所示，是在基板101的表面 ’隔著閘極絕緣膜Gx而面對設置。傳輸電極31，係由導 電性材料所形成。例如，傳輸電極31係使用多晶矽等之 導電材料所構成’例如被設置在，由矽氧化膜所形成的閘 極絕緣膜Gx上。 金屬遮光膜41，係如圖20所示，在基板1〇1的表面 上’被形成在電荷讀出通道領域22及電荷傳輸通道領域 23之上方’係將入射至電荷讀出通道領域22及電荷傳輸 通道領域23的光’予以遮光◊又，金屬遮光膜41，係如 圖20所示，是隔著絕緣膜Sz，以覆蓋著傳輸電極3 1的方 式而被設置。 此處’金屬遮光膜41係被形成在，於基板ι〇1之上 -38- 201104856 方，受光面】S對應領域以外的領域。金屬遮光膜41，係 均由會將光線予以遮光的遮光材料所形成。例如，金屬遮 光膜41係使用鎢、鋁等金屬材料所形成。 層內透鏡45，係如圖20所示，是在基板1〇1的面的 上方，對應於受光面JS而設置。層內透鏡45，係以對應 於攝像領域P A中所被排列的複數光電轉換部P的方式， 而以複數、同一形狀而被排列。 此處，層內透鏡45係爲，從受光面JS往彩色濾光片 1 5 1側的方向上，中心形成得比邊緣還厚的凸型透鏡，被 構成爲，會使入射光Η往受光面JS的中心聚光。例如， 層內透鏡45係被形成爲，平面形狀是呈矩形。 彩色濾光片151，係如圖20所示，是在基板101的面 的上方，隔著層內透鏡45，面對於受光面JS而設置。彩 色濾光片151係被設在，用來使層內透鏡45之表面平坦 化的平坦化膜ΗΤ1的上面。該彩色濾光片151，係以對應 於攝像領域Ρ Α中所被排列的複數光電轉換部Ρ的方式’ 而被複數排列。 此處，彩色濾光片1 5 1係被構成爲’將入射光Η予以 著色然後往受光面透過。 圖2 1係本發明所述之實施形態4中，彩色濾光片1 5 1 的圖示。此處’圖21係圖不了平面圖。 如圖21所示，彩色濾光片151，係除了含有圖20所 示的綠色濾光片層1 5 1 G和紅色濾光片層1 5 1 R以外’還含 有藍色濾光片層151B’分別是對應於各光電轉換部P而 -39- 201104856 設置。 具體而言，如圖21所示，構成彩色濾光片151的綠 色濾光片層151G和紅色濾光片層151R和藍色濾光片層 1 5 1 B，分別是例如以Bayer排列的方式作排列配置。 於彩色濾光片151中，綠色濾光片層151G’係將入 射光Η著色成綠色。亦即，綠色濾光片層1 5 1 G係被構成 爲，會將光線著色成，比紅色濾光片層151R所著色的紅 色光還要短波長的綠色光。具體而言’綠色濾光片層 151G，係使用綠色的著色色素和光阻樹脂而形成，是被構 成爲，在綠色（例如波長500〜565nm)的波長帶中具有高透 光率。 於彩色濾光片1 5 1中，紅色濾光片層1 5 1 R，係將入 射光Η著色成紅色。亦即，紅色濾光片層1 5 1 R係被構成 爲，會將光線著色成，比綠色濾光片層1 5 1 G所著色的綠 色光還要長波長的紅色光》具體而言，紅色濾光片層 151R，係使用紅色的著色色素和光阻樹脂而形成，是被構 成爲，在紅色（例如波長625〜740iun)的波長帶中具有高透 光率。 於彩色濾光片151中，藍色濾光片層151B，係將入 射光Η著色成藍色。亦即，藍色濾光片層151B係被構成 爲，會將光線著色成，比紅色濾光片層1 5 1 R所著色的紅 色光及綠色濾光片層151G所著色的綠色光還要短波長的 藍色光。具體而言，藍色濾光片層151Β，係使用藍色的 著色色素和光阻樹脂而形成，是被構成爲，在藍色（例如 -40 - 201104856 波長45 0〜48 5 nm)的波長帶中具有高透光率。 各層1 5 1 R，1 5 1 G，1 5 1 B，係例如，使用含有相應於各 色的色素、分散樹脂、光聚合起始劑、多官能基光聚合性 化合物、溶劑、其他添加劑的塗佈液來進行塗佈並乾燥後 ，藉由光微影技術進行圖案加工而形成。 於本實施形態中，紅色濾光片層1 5 1 R係爲，含有比 其他綠色濾光片層151G及藍色濾光片層151B還多的黑色 色素，以調整往受光面JS投下的光量。具體而言，紅色 濾光片層151R係含有黑色色素，其他的綠色濾光片層 151G及藍色濾光片層151B則是不含有黑色色素而被形成 〇 於上記中，作爲黑色色素，係可使用例如下記的黑色 顏料（Carbon Black)。該黑色色素，係於全體固形分中， 含有1〜1 0質量％，較爲理想。

Cancarb公司製：

Carbon Black Thermax N990、N 9 91、N907、N 9 08 ' N990 、 N991 、 N90b8 等。 ASAHI CARBON CO.，LTD.製：

Carbon Black 旭#80、旭#70、旭#70L、旭 F-200、旭 #66、旭 #66HN、旭 #60H、旭 #60U、旭 #60、旭 #55、旭 #50H、旭 #51、旭 #50U ' 旭 #50、旭 #35、旭 #15、Asahi Thermal。

Degussa公司製：

ColorBlack Fw200 、 ColorBlack Fw2 、 ColorBlack -41 - 201104856

Fw2V、ColorBlack Fwl、ColorBlack Fwl8、ColorB lack S 1 70 ' ColorBlack S160、SpecialBlack6、SpecialBlack5、 SpecialBlack4 ' SpecialBlack4A、PrintexU、PrintexV、 Printexl40U、Printexl40V 等 三菱化學製：

Carbon Black#2700B 、 #2650 、 #2600 、 #2450B 、

#2400、#2350、#2300 ' #2200、#1 000、#990、#980、 #970 ' #960 ' #950 、 #900 、 #850 、 #750B 、 #650B 、 MCF88 、#650、MA600、MA7、ΜA8、MA 1 1、MA 1 00、ΜA220、 IL30B、IL31B、IL7B、ILUB、IL52B、#4000、#4010、 #55 、 #52 、 #50 、 #47 、 #45 、 #44 、 #40 、 #33 、 #32 ' #30 、 #20 、 #10 、 #5 、 CF9 、 #3050 、 #3150 、 #3250 、 #3750 、 #3 95 0 ' DIABLACK A、 DIABLACK N220M、 DIABLACK N234、DIABLACK I、DIABLACK LI 、DIABLACK II、 DIABLACK N3 39 、DIABLACK SH 、 DIABLACK SHA、 DIABLACK LH ' DIABLACK H DIABLACK HA 、 DIABLACK SF、 DIABLACK N550M 、DIABLACK E 、 DIABLACK G 、 DIABLACK R 、 DIABLACK N760M 、 DIABLACK LP 等 又，紅色濾光片層1 5 1 R所使用的色素，例如，可使 用恵醌（anthraquinone)系顏料、苑（perylene)系顏料、 diketopyrrolopyrrole系顏料。具體而言，蒽醌系顏料係可 使用例如C_ I. Pigment red 177。又，茈系顏料係可使用 例如 C. I. Pigment red 155、C. I. Pigment red 224» 又， -42- 201104856 diketopyrrolopynole 系顏料係可使用例如 c. L Pigment red 254。又，亦可使用這些和雙偶氮（disaz〇)系黃色顏料 、異吲哚（isoindoline)系黃色顔料、喹諾酞酮 (quinophthalone)系黃色顏料、或茈系紅色顏料的混合物。 該色素’係於全體固形分中，含有30質量％以上，較爲理 想。 又’作爲分散樹脂係可使用，例如，使含有羧基的樹 脂和含有縮水基的不飽和化合物所反應而成的樹脂。其他 還可使用’含羥基的（甲基）丙烯酸酯系化合物所聚合而成 的樹脂、（甲基）丙烯酸-2-乙基異氰酸酯等之樹脂。該分散 樹脂’係當假設上記色素爲1 〇 〇質量部時，則在分散時使 用20質量部以上，較爲理想。 又’作爲光聚合起始劑係可使用，例如，三嗪（triazine) 系化合物、烷胺（alkyl amino)化合物，肟（oxime)系化合物 、並咪唑（biimidazole)化合物。該光聚合起始劑，係於全 體固形分中，含有5〜2 5質量％，較爲理想。 又’作爲多官能基光聚合性化合物係可使用，例如， 具有酸性官能基、及/或alkyleneoxy鏈的多官能基光聚 合性化合物。該多官能基光聚合性化合物，係於全體固形 分中’含有2〜1 5質量％，較爲理想。 又’作爲溶劑，例如，係可將下記化合物單獨或是混 合使用。該溶劑，係於全體中，含有25〜95質量％，較爲 理想。 3-乙氧基丙酸甲酯、3_乙氧基丙酸乙酯、乙酸甘醇酯 -43- 201104856 '乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、醋酸丁酯、3 -甲氧 甲酯、庚酮、環己酮、乙基卡必醇醋酸酯、丁基 醋酸酯、丙二醇甲醚和丙二醇單醚醋酸酯 又，作爲其他的添加劑，係亦可添加增感·劑， 光聚合起始劑的自由基產生效率。又，亦可添加矽 系的界面活性劑等，以提升塗佈特性。 微透鏡61，係如圖2 0所示，是在基板1 〇 1的 方，隔著平坦化膜HT2，而被設置在彩色濾光片1: 方。微透鏡61，係以對應於攝像領域PA中所被排 數光電轉換部P的方式，而以複數、同一形狀而被 此處，微透鏡61係爲，從受光面JS往彩色 1 5 1側的方向上，中心形成得比邊緣還厚的凸型透 構成爲，會使入射光Η往受光面JS的中心聚光而适 例如，微透鏡61係被形成爲，平面形狀是呈 然後，於本實施形態中，微透鏡61係被構成爲， 過上述由反射型無機干涉多層膜所構成之紅外線截 2〇2(參照圖8)的入射光Η，往受光面JS的中心聚 射。 〔製造方法〕 以下說明，製造上記固體攝像裝置1的製造方: 圖22〜圖26係本發明所述之實施形態4中， 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的 此處，圖22〜圖26，係和圖20同樣地’是圖19Ε 基丙酸 卡必醇 以提升 系或氟 面的上 5 1的上 列的複 配置。 濾光片 鏡，被 !過。 矩形。 將穿透 斷濾鏡 光而透 固體攝 圖示。 勺 XI 1 - -44- 201104856 X2 1部分的對應部分之放大圖示。 (1)層內透鏡4 5之形成 首先，如圖22所示，形成層內透鏡45。 在早於層內透鏡45的形成之前，如圖22所示，將 二極體21、電荷讀出通道領域22、電荷傳輸通道領域 、通道截止領域24，設在基板101。例如，使用離子佈 法，將雜質導入至基板1 〇 1，以形成各部。其後，例如 藉由熱氧化法，在基板101的全面設置矽氧化膜，以形 閘極絕緣膜Gx。 然後，如圖22所示，將傳輸電極3 1等各部，形成 基板101的表面上。例如，將以CVD法將多晶矽膜（未 示）成膜後，藉由光微影技術，將該多晶矽膜進行圖案 工，以形成傳輸電極31。然後，以覆蓋傳輸電極31的 式，例如以PSG膜來形成絕緣膜Sz。然後，例如，藉 濺鍍法，將鎢膜予以成膜後，將該鎢膜藉由光微影技術 進行圖案加工，以形成金屬遮光膜41。 此後，如圖22所示，以覆蓋上述各部的方式，在 板101的表面，設置層內透鏡45。 此處，如圖22所示，是將層內透鏡45形成爲，從 光面JS往彩色濾光片1 5 1側的方向上，中心比邊緣還 的凸型透鏡。 例如，以 CVD(Chemical Vapor Deposition)法，將 漿氮化矽膜（折射率1.9〜2.0)進行成膜後，將該電漿氮 光 23 植 > 成 在 圖 加 方 由 而 基 受 厚 電 化 -45- 201104856 矽膜予以加工，以形成層內透鏡45。 (2) 平坦化膜HT1之形成 接著，如圖23所示，形成平坦化膜HT1 » 此處，爲了使層內透鏡1 25所形成的表面凹凸平坦化 ，而設置平坦化膜HT1。 具體而言，是將熱硬化性樹脂，在層內透鏡45的上 面藉由旋塗法進行成膜後，實施熱硬化處理，以形成平坦 化膜Η T 1。 例如，可以使用折射率低於層內透鏡4 5材料的熱硬 化性丙烯酸系樹脂（折射率1 · 5〜1 . 5 5左右）。其他，在丙 烯酸系樹脂中含有氟的材料、或在矽氧烷系樹脂中含有氟 的材料、在丙烯酸系樹脂中含有氟然後將中空氧化矽微粒 作爲添加物而分散在其中的材料、甚至在矽氧烷系樹脂中 含有氟然後再將中空氧化矽微粒作爲添加物而分散在其中 的材料，都可理想採用。藉由在矽氧烷樹脂中含有氟，或 是在樹脂中分散有中空氧化矽，就可使該材料的折射率降 低（1 .3〜1.45程度），可獲得光焦度較強的層內透鏡構造。 -46- 1 綠色濾光片層151G之形成 接著，如圖24所示，形成用來構成彩色濾光片151 的綠色濾光片層151G。 2 此處，如圖24所示，在平坦化膜ΗΤ1的表面上，設 置綠色濾光片層1 5 1 G。 201104856 具體而言，將含有爲了獲得綠色分光特性的色素和感 光性樹脂的塗佈液，以旋塗法進行塗佈，將光阻膜（未圖 示）予以成膜。 其後，在實施了預烤處理後，對該光阻膜進行圖案加 工，以形成綠色濾光片層1 5 1 G。 例如，使用i線縮小曝光機，對光阻膜轉印圖案像而 實施圖案曝光處理。其後，將有機鹼水溶液（四甲基氫氧 化銨中添加非離子系界面活性劑而成者等）當作顯影液使 用，針對實施過圖案曝光處理的光阻膜，實施顯影處理。 然後，進行後烤處理，形成綠色濾光片層1 5 1 G。 (4)紅色濾光片層15 1R之形成 接著，如圖25所示，形成用來構成彩色濾光片151 的紅色濾光片層151R。 此處，如圖25所示，在平坦化膜HT1的表面上，設 置紅色濾光片層1 5 1 R。 具體而言，將含有紅色色素和感光性樹脂的塗佈液， 以旋塗法進行塗佈，將光阻膜（未圖示）予以成膜。 於本實施形態中，如上述，除了紅色色素以外，還更 在上記塗佈液中，含有黑色色素，來形成該光阻膜（未圖 示）。 其後，在實施了預烤處理後，對該光阻膜進行圖案加 工，以形成紅色濾光片層1 5 1 R。 例如，使用i線縮小曝光機，對光阻膜轉印圖案像而 -47- 201104856 實施圖案曝光處理。其後，將有機鹼水溶液（四甲基氫氧 化銨中添加非離子系界面活性劑而成者等）當作顯影液使 用’針對實施過圖案曝光處理的光阻膜，實施顯影處理。 然後’進行後烤處理，形成紅色濾光片層1 5 1 R。 其後’雖然省略圖示，但將藍色濾光片層1 5 1 B設在 平坦化膜HT1的表面上，完成由3原色所成之彩色濾光片 15 1 = (5 )平坦化膜Η T 2之形成 接著，如圖26所示，在彩色濾光片151上，形成平 坦化膜Η Τ 2。 此處，是以覆蓋於彩色濾光片1 5 1的上面而使其平坦 化的方式，而設置平坦化膜ΗΤ2。 具體而言，是將熱硬化性樹脂，在彩色濾光片151的 上面藉由旋塗法進行成膜後，實施熱硬化處理，以形成平 坦化膜Η Τ 2。 (6)微透鏡61之形成 接著，如圖20所示，在平坦化膜ΗΤ2的上面，形成 微透鏡6 1。 此處，如圖20所示，是將微透鏡61設置成，從受光 面JS往彩色濾光片1 5 1側的方向上，中心被形成得比邊 緣還厚的凸型透鏡。 例如，將正片型的光阻膜（未圖示）成膜在平坦化膜 -48- 201104856 HT2的上面後’進行加工，以形成微透鏡6 1。 具體而言，使用聚苯乙烯作爲基底樹脂，使用鄰疊氮 萘醌（diazonaphthoquinone)作爲感光劑，將正片型的光阻 膜，以旋塗法而成膜之，實施預烤處理。然後，使用i線 縮小曝光機’將圖案像照射至該正片型光阻膜，實施曝光 處理。其後，針對實施過曝光處理的光阻膜，實施顯影處 理。在此顯影處理中，例如，是將有機鹼水溶液（在四甲 基氫氧化銨中添加非離子系界面活性劑而成者等）作爲顯 影液使用。然後，進行脫色以消除可見光中短波長領域之 光吸收’而全面照射紫外線。其後，以熱軟化點以上的溫 度，對光阻膜實施熱處理。藉此，完成了微透鏡61。 [總結] 如以上所述，在本實施形態中，將入射光Η予以著色 而往受光面透射用的彩色濾光片151，是被設置在受光面 JS的上方（參照圖20)。此處，於彩色濾光片151中，紅色 濾光片層1 5 1 R係爲，將入射光Η著色成波長比綠和藍還 長之色彩的紅色用的濾光片，且含有黑色色素。另一方面 ，綠色濾光片層151G及藍色濾光片層151Β係不含有黑色 色素。因此，本實施形態係因爲降低紅色成分的輸出，使 各色的分光輸出同等，所以色彩重現性佳，可提升攝像影 像的影像品質。 關於該作用、效果，以下係具體說明。 圖27係本發明所述之實施形態4中，紅色濾光片層 -49- 201104856 151R之分光穿透特性的圖示。於圖27中，橫軸係爲波長 (nm)，縱軸係爲穿透率（％)。此處係圖示了，像素尺寸係 爲1.55 μπι □的交錯線型CCD的分光特性。又，圖27中， 實線係表示本實施形態的情形，是含有黑色色素的情形。 另一方面，虛線係表示異於本實施形態，是不含黑色色素 的情形。具體而言，以實線所表示的分光特性，係相對於 虛線所示，在爲了獲得分光特性所需之全體固形分，添加 了 5.1重量％的黑色色素（碳黑）時的情形。因此，膜厚， 在實線時係爲〇 . 7 3 5 μπι，在虛線時係爲0.7 μπι。 圖28係本發明所述之實施形態4中，固體攝像裝置1 之分光輸出的圖示。於圖28中係圖示了，紅色成分的輸 出Vr、綠色成分之分光輸出Vg、藍色成分之分光輸出Vb 〇 如圖27所示，因爲紅色濾光片層1 5 1 R係含有黑色色 素（實線），所以相較於不含有黑色色素的情形（虛線），穿 透率是較爲降低》 具體而言，不含有黑色色素的情形（虛線），紅色波長 範圍中的平均穿透率是9 7 · 5 %。相對於此’如本實施形態 ，含有黑色色素的紅色濾光片層1 5 1 R(實線），紅色波長範 圍中的平均穿透率是80.2%。 因此，如圖28所示，可降低紅色成分的輸出Vr。亦 即，本實施形態是在彩色濾光片中含有黑色色素’以使各 色的分光輸出成爲同等。 藉此，於本實施形態中，上述白平衡的調整可變得容 -50- 201104856 易’可提升紅色的色分離性，因此色彩重現性佳。 因此，本實施形態係可提升攝像影像的影像品質。 又，於本實施形態中，是爲了截斷入射光Η的紅外線 成分然後才往微透鏡61透射，而設置了由反射型的無機 干涉多層膜所構成之紅外線截斷濾鏡202 (參照圖8)。 此情況下，如上述，有時會產生鬼影現象，降低攝像 影像的影像品質。 圖29至圖32係用來說明鬼影現象的圖。圖29係於 固體攝像裝置中，和本實施形態不同，對不含有黑色色素 的紅色濾光片層1 5 1 Rc的部分所入射的入射光Η的舉動， 以模式性加以圖示。又，圖3 0、圖3 2係圖示了入射至固 體攝像裝置1的光的分光特性。又，圖31係圖示了紅外 線截斷濾鏡202的反射特性。 如圖29所示，入射光Η係首先入射至紅外線截斷濾 鏡202。然後，藉由紅外線截斷濾鏡202，長波長成分的 光IR係被反射，紅外線係被截斷。 接著，如圖29所示，穿透過紅外線截斷濾鏡202的 穿透光Ha，係透過微透鏡61、紅色濾光片層151 Rc等之 構件，而入射至光二極體21。然後，在光二極體21中， 進行光電轉換。 此時，會有未進行光電轉換而反射的成分存在，該反 射光Hb，係如圖29所示，會返回至紅色濾光片層151RC 、微透鏡6 1等。 接著，該反射光Hb，係如圖29所示，成爲像素之排 -51 - 201104856 列間隙所致之繞射光’而返回至紅外線截斷濾鏡202 °此 處，反射光H b，係具備如圖3 0所示的分光特性’而入射 至紅外線截斷濾鏡202。 接著，反射光Hb，係如圖29所示，被紅外線截斷濾 鏡202所反射。紅外線截斷濾鏡202 ’係具備如圖3 1所示 的反射特性。因此，被紅外線截斷濾鏡202所反射的反射 光He，係具備如圖32所示的分光特性，而會再度入射至 紅色濾光片層1 5 1 Re、微透鏡6 1等構件。 然後，如圖3 2所示，含紅色成分的反射光H c ’會入 射至光二極體21，進行光電轉換。 在圖32中雖然沒有圖示，但綠色成分的光，係幾乎 沒有被紅外線截斷濾鏡2〇2所反射，而是穿透過紅外線截 斷濾鏡202(參照圖31)。又，藍色成分的光，係如圖31所 示，其一部分（400〜420 nm之範圍）的光是被反射，但因爲 成組透鏡等，導致入射的時點上就有許多衰減。 因此，有時會因爲紅色成分的光而導致鬼影現象發生 ，降低攝像影像的影像品質。 可是，在本實施形態中，如上述，紅色濾光片層 151R係含有黑色色素。因此，可抑制鬼影的發生。

圖3 3係本發明所述之實施形態4中，用來說明鬼影 現象的發生受到抑制的圖。於圖33中，和圖32相同地， 圖示已被紅外線截斷濾鏡202所反射的反射光（在圖29中 係爲He)的分光特性。在圖3 3中，虛線係表示本實施形態 的情形，實線是表示在本實施形態的紅色濾光片層1 5 1 R -52- 201104856 中不含黑色色素的情形。 如圖33所示，在本實施形態中，因爲使紅色濾光片 層1 51R中含有黑色顏料，所以被紅外線截斷濾鏡202所 反射的反射光（圖29的He)，係被紅色濾光片層151R所吸 收，其光量係降低。具體而言，由圖形的積分値可知，可 降低4 0 %左右的光量。 因此，本實施形態係可抑制鬼影的發生，可提升攝像 影像的影像品質。 < 2.實施形態5> 〔裝置構成〕 圖3 4係本發明所述之實施形態5中，固體攝像裝置 lb之要部的圖示。此處，圖34係圖示了主要部的剖面， 是將圖19的XII-X2 1部分予以放大圖示》 如圖34所示，在本實施形態中，固體攝像裝置lb係 爲，紅色濾光片層1 5 1 Rb是和實施形態4不同。又，相對 於實施形態1，而還又設置了黑色色素含有層151K。除了 這點以及其關連的點以外，本實施形態係和實施形態4同 樣。因此，關於重複部分則是省略記載。 紅色濾光片層1 5 1 Rb，係和實施形態4的情況不同， 是不含有黑色顔料。除了這點以外，其餘均和實施形態4 的情況相同地而被形成。 黑色色素含有層151K，係如圖34所示，被設在平坦 化膜HT1的上面。黑色色素含有層151K，係於基板101 -53- 201104856 的攝像領域PA中，介隔在光二極體21的受光面、和紅色 濾光片層151 Rb之間，而被設置。黑色色素含有層151K ，係含有黑色色素。然後，黑色色素含有層151K’係被 設在受光面JS的上方，是被構成爲’讓入射光Η往受光 面J S透射。 圖3 5係本發明所述之實施形態5中，黑色色素含有 層151Κ的放大圖。此處，圖35係表示黑色色素含有層 151Κ的上面》 如圖35(a)所示，黑色色素含有層151Κ，係在沿著基 板101的面（xy面）的方向上，被形成爲平面形狀是呈正方 形，且其邊是沿著水平方向X與垂直方向y而配置。 其他，亦可爲，如圖35(b)〜（d)所不，將黑色色素含 有層1 5 1 K，形成各種平面形狀。 例如，如圖35(b)所示，亦可將黑色色素含有層151K 形成爲，圖35(a)所示正方形的平面形狀之一半的矩形形 狀。又，如圖35(c)所示，亦可將黑色色素含有層151K形 成爲，在正方形的平面形狀中，在其4角配置等腰三角形 ，其內部是開口的形狀。又，如圖35(d)所示’亦可將黑 色色素含有層151K形成爲，平面形狀是正方形，其邊是 沿著對水平方向X和垂直方向y分別傾斜45°角度之方向 而配置。又，黑色色素含有層151K的形狀亦可是圖35所 示以外的形狀，只要讓被微透鏡所聚光之光束的一部分能 夠通過黑色色素含有層151K即可。 -54- 201104856 〔製造方法〕 以下說明，製造上記固體攝像裝置lb的製造方法。 圖3 6〜圖3 9係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示 。此處，圖36〜圖39，係和圖34同樣地，是圖19的 XI 1-X21部分的對應部分的剖面之放大圖示，將各工程中 所設置的要部，依照圖3 6〜圖3 9的順序而圖示。 (1)黑色色素含有層151K之形成 首先，如圖36所示，形成黑色色素含有層151K。 在早於該黑色色素含有層151K的形成之前，如上述 的實施形態4中所示，形成層內透鏡45、平坦化膜HT1( 參照圖2 2、圖2 3)。 其後，如圖36所示，在平坦化膜HT1的上面，設置 黑色色素含有層151K。 此處，於平坦化膜HT1上，以對應於紅色減光片層 151R之形成領域的方式，設置黑色色素含有層151K。 具體而言，將含有黑色色素和感光性樹脂的塗佈液， 以旋塗法進行塗佈，將光阻膜（未圖示）予以成膜。 其後，在實施了預烤處理後，對該光阻膜進行圖案加 工，以形成黑色色素含有層151K。 例如，使用 SK-9000C(FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd.製），將光阻膜予以成膜。例如，使得膜厚爲〇.〇4μιη 而實施該成膜。此處，針對SK-9000C，是將丙二醇甲醚 -55- 201104856 醋酸酯、和丙二醇單甲醚以9:1的比率作稀釋，調整成 能獲得相同膜厚。然後，例如，使用i線縮小曝光機，針 對該光阻膜，實施用來轉印圖案像的圖案曝光處理。其後 ，將有機鹼水溶液（四甲基氫氧化敍中添加非離子系界面 活性劑而成者等）當作顯影液使用，針對實施過圖案曝光 處理的光阻膜，實施顯影處理。然後，進行後烤處理，形 成黑色色素含有層151K。 此外，黑色色素含有層151K的膜厚，理想係爲 0.2 μιη以下，更理想係爲0.1 μηι以下。又，亦可適宜調整 黑色色素的含有量，使膜厚最佳化。 (2) 綠色濾光片層151G之形成 接著，如圖3 7所示，形成用來構成彩色濾光片151 的綠色濾光片層151G。 此處，如圖37所示，在平坦化膜ΗΤ1的表面上，設 置綠色濾光片層151G。 具體而言，和實施形態4同樣地，將含有綠色色素和 感光性樹脂的塗佈液，以旋塗法進行塗佈，將光阻膜（未 圖示）予以成膜。其後，在實施了預烤處理後，對該光阻 膜進行圖案加工，以形成綠色濾光片層1 5 1 G。 (3) 紅色濾光片層151Rb之形成 接著，如圖3 8所示，形成用來構成彩色濾光片151 的紅色濾光片層151Rb -56- 201104856 此處，如圖38所示，在平坦化膜HT1上所被設置之 黑色色素含有層151K的表面上，設置紅色濾光片層 151Rb 。 具體而言，和實施形態4同樣地，將含有紅色色素和 感光性樹脂的塗佈液，以旋塗法進行塗佈，將光阻膜（未 圖示）予以成膜。於本實施形態中，係除了紅色色素以外 ，在上記塗佈液中是不含有黑色色素，來形成該光阻膜（ 未圖不）。 其後，在實施了預烤處理後，對該光阻膜進行圖案加 工，以形成紅色濾光片層151 Rb。 其後，雖然省略圖示，但和實施形態4同樣地’將藍 色濾光片層151B設在平坦化膜HT1的表面上，完成由3 原色所成之彩色濾光片151。 (4)平坦化膜HT2之形成 接著，如圖39所示，在彩色濾光片151上’形成平 坦化膜HT2。 此處，是以覆蓋於彩色濾光片151的上面而使其平坦 化的方式，而設置平坦化膜HT2。 具體而言，是將熱硬化性樹脂’在彩色濾光片1 5 1的 上面藉由旋塗法進行成膜後，實施熱硬化處理’以形成平 坦化膜Η T 2。 (5)微透鏡61之形成 -57- 201104856 接著，如圖34所示，在平坦化膜HT2的上面，形成 微透鏡61。 此處，如圖3 4所示，和實施形態4同樣地’將微透 鏡61設置成凸型透鏡。 [總結] 如以上，在本實施形態中，係設置了含有黑色色素的 黑色色素含有層151K。黑色色素含有層151K，係於受光 面JS的上方，介隔在紅色濾光片層151 Rb和受光面JS之 間，是被構成爲，讓從紅色濾光片層1 5 1 Rb所入射的入射 光Η，往受光面JS透射。 圖40係本發明所述之實施形態5中，黑色色素含有 層151Κ之分光特性的圖示。於圖40中’橫軸係爲波長 (nm)，縱軸係爲穿透率（％)。 如圖40所示，黑色色素含有層151K，係含有可見光 線的波長領域，係被形成爲’在40〇〜7 5 0nm左右的波長 範圍中，透光率係爲75〜88%。又’黑色色素含有層 151K係被形成爲，隨著波長越長，透光率會越大。 因此，於本實施形態中，不含黑色色素的紅色濾光片 層151 Rb，和黑色色素含有層151K兩者重疊時的分光特 性，係和實施形態4中以圖2 7所圖示者爲相同的分光特 性。 藉此，本實施形態係和實施形態4同樣地，上述白平 衡的調整可變得容易，可提升紅色的色分離性’因此色彩 -58- 201104856 重現性佳。 又，本實施形態，係可抑制鬼影的發生° 因此，本實施形態係可提升攝像影像的影像品質。 < 3.實施形態6> 〔裝置構成等〕 圖4 1係本發明所述之實施形態6中，固體攝像裝置 lc之要部的圖示。圖41係爲彩色濾光片151的平面圖。 如圖4 1所示，在本實施形態中’固體攝像裝置1 c係 爲，構成彩色濾光片151的綠色濾光片層151Gc和藍色濾 光片層1 5 1 B c，是和實施形態4不同。除了這點以及其關 連的點以外，本實施形態係和實施形態4同樣。因此’關 於重複部分則是省略記載。 如圖41所示，彩色濾光片1 5 1，係和實施形態4同樣 地，含有紅色濾光片層151R、綠色濾光片層151Gc、藍色 濾光片層151Bc的3原色之著色濾光片。 然後，紅色濾光片層151R、綠色濾光片層151Gc、藍 色濾光片層1 5 1 B c，係分別如圖4 1所示，例如以B ayer排 列的方式作排列配置。 構成彩色濾光片1S1的紅色濾光片層151R，係和實 施形態4同樣地形成，是被形成爲含有黑色色素。 除此以外，構成彩色濾光片151的綠色濾光片層 1 5 1 G c、藍色濾光片層1 5 1 B c ’係分別和實施形態4不同 ，是被形成爲含有黑色色素。 -59- 201104856 在本實施形態中，紅色濾光片層1 5 1 R、綠色濾光片 層151Gc、藍色濾光片層151BC之每一者係被形成爲，黑 色色素是含有相同的量。 於上記中，作爲黑色色素，係可使用實施形態4所列 出的黑色顏料（Carbon Black)。該黑色色素，係於全體固 形分中，含有1〜1 〇質量％，較爲理想。 [總結] 如以上，在本實施形態的彩色濾光片1 5 1中，除了紅 色濾光片層151R以外，綠色濾光片層151GC和藍色濾光 片層151Bc也分別含有黑色色素。因此，除了實施形態4 的效果外，當像素尺寸是比較大時（例如2.0 μιη□以上）， 則如下記所示，可抑制綠色成分及藍色成分的光所造成的 鬼影現象之發生。 圖42係用來說明本發明所述之實施形態6中，起因 於綠色成分光的鬼影現象的發生受到抑制之樣子的圖。 如圖42所示，入射光Η係首先入射至紅外線截斷濾 鏡202。然後，藉由紅外線截斷濾鏡202,長波長成分的 光IR係被反射，紅外線係被截斷。 接著，如圖42所示，穿透過紅外線截斷濾鏡202的 穿透光Ha，係透過微透鏡61'綠色濾光片層151Gc等之 構件，而入射至光二極體21。然後，在光二極體21中， 進行光電轉換。 此時’會有未進行光電轉換而反射的成分存在，該反 -60- 201104856 射光Hb，係如圖42所示，會返回至綠色濾光片層151 、微透鏡6 1等。 接著，該反射光Hb，係如圖42所示，朝各個方向 進，而返回至紅外線截斷濾鏡202。 接著，反射光Hb，係如圖42所示，穿透過紅外線 斷濾鏡202。亦即，因爲紅外線截斷濾鏡202是具備圖 所示的反射特性，所以反射光Hb係不被紅外線截斷濾 2〇2反射，大多穿透，而入射至光學系201。 接著，反射光Hb，係如圖42所示，被光學系201 表面所反射。然後，光學系20 1的表面所反射的反射 He，係再度入射至綠色濾光片層151Gc、微透鏡61等 件。 然後，如圖42所示，含綠色成分的反射光He，會 射至光二極體21，進行光電轉換。 雖然未圖示，但與含綠色成分的反射光He同樣地 有時候，藍色成分的光也是其中一部分會被光學系20 1 反射，該反射光會入射至光二極體21，而被進行光電轉 〇 因此，有時會因爲綠色成分及藍色成分的光而導致 影現象發生，降低攝像影像的影像品質。 可是，在本實施形態中，係如上述，和實施形態4 紅色濾光片層151R同樣地，綠色濾光片層151Gc和藍 濾光片層151Bc也分別含有黑色色素。因此，在本實施 態中，分別藉由綠色濾光片層1 5 1 G c和藍色濾光片

Gc 刖 截 3 1 鏡 的 光 構 入 所 換 鬼 的 色 形 層 -61 - 201104856 151Bc，被光學系201所反射的反射光（圖42的He)，其光 量就會降低。 因此，本實施形態係可抑制起因於綠色成分及藍色成 分之光的鬼影現象之發生，可提升攝像影像的影像品質》 又，同時，在本實施形態中，因爲綠色濾光片層 1 5 1 Gc和藍色濾光片層1 5 1 Be分別都含有黑色色素，所以 可降低應抑制之波長領域（若是藍色則爲48 5nm以上，若 是綠色則爲400〜500nm、565nm以上）的「分光浮動」。 藉此，可提升色彩分離性等，因此可提升攝像影像的影像 品質。 此外，在本實施形態中雖然例示了，關於紅色濾光片 層151R、綠色濾光片層151Gc、藍色濾光片層151Bc分 別含有相同比例的相同黑色色素，但並非限定於此。紅色 濾光片層151R、綠色濾光片層151 Gc、藍色濾光片層 1 5 1 Be之間，亦可以彼此不同的比例來含有黑色色素。例 如，當紅色成分的輸出是比其他顏色成分之輸出還大時， 或當紅色所致之鬼影的發生較爲顯著時，則使紅色濾光片 層151R的黑色色素含有比率多過綠色濾光片層151 Gc及 藍色濾光片層1 5 1 Be，較爲理想。 又，將實施形態5所示的黑色色素含有層151K，分 別對應於紅色濾光片層、綠色濾光片層、藍色濾光片層的 方式而設置的情況下，仍可獲得和本實施形態同樣的作用 .效果。 -62- 201104856 < 4 .其他> 本發明的實施之際，並非限定於上記實施形態，可採 用各種的變形例。 例如，在上記的實施形態中，雖然針對在平坦化膜 Η T2上形成微透鏡6 1的情形加以說明，但並非限定於此 。例如，除了上記以外，亦可不在彩色濾光片1 5 1上設置 平坦化膜ΗΤ2，而形成微透鏡6 1。此情況下，係可對彩色 濾光片151的表面，直接地平坦地塗佈微透鏡材質膜。然 後，在該微透鏡材質膜上，將光阻膜圖案加工成矩形形狀 而設置之。其後，針對該光阻膜，進行熱軟化點以上的熱 處理，成爲透鏡形狀。然後，使用該透鏡形狀的光阻遮罩 ，針對基底的微透鏡材質膜，實施乾式蝕刻處理，以形成 微透鏡6 1即可。 又，例如，在上記的實施形態中，雖然針對適用於 C CD型影像感測器的情形加以說明，但並非限定於此。例 如，可適用於CMOS型影像感測器等各種影像感測器。 又，關於層內透鏡45的構造，係不限定於上記的實 施形態所示之構造。除了上凸透鏡以外，亦可設計成凹透 鏡等各式各樣的透鏡形狀。 又，於上記實施形態中，雖然例示了，將黑色色素含 有層151K設置在受光面JS、和紅色濾光片層151Rb等彩 色濾光片1 5 1之間的情形，但並非限定於此。亦可在彩色 濾光片1 5 1的上方，設置黑色色素含有層1 5 1 K。此情況 下，亦可構成爲，例如，藉由使微透鏡中含有黑色色素， -63- 201104856 就可使該微透鏡成爲黑色色素含有層而發揮機能。 又，亦可以覆蓋微透鏡之表面的方式，來設置黑色色 素含有層。此情況下，亦可爲，例如，使折射率低於微透 鏡的樹脂材料（例如含氟樹脂）中含有黑色色素，將所如此 構成的黑色色素含有層，以使得微透鏡61之表面變成平 坦的方式而加以設置。 又，除此以外，亦可將含有鈦黑或石墨黑的層，當作 黑色色素含有層而設置。若爲石墨黑，則例如藉由公知的 微影法，就可形成圖案。 又，在上記的實施形態中，雖然對攝相機適用本發明 來說明，但並非限定於此。亦可對於掃描器、複印機等這 類具備固體攝像裝置的其他電子機器，適用本發明。 此外，在上記的實施形態中，固體攝像裝置1，lb, lc ，係相當於本發明的固體攝像裝置。又，在上記的實施形 態中，層內透鏡45，係相當於本發明的層內透鏡。又，在 上記的實施形態中，彩色濾光片1 5 1，係相當於本發明的 彩色濾光片。又，在上記的實施形態中，藍色濾光片層 151B、151BC，係相當於本發明的第3之著色層。又，在 上記的實施形態中，綠色濾光片層1 5 1 G、1 5 1 G c，係相當 於本發明的第2之著色層。又，在上記的實施形態中，紅 色濾光片層151R、151 Rb，係相當於本發明的第1之著色 層。又，在上記的實施形態中，黑色色素含有層151K， 係相當於本發明的黑色色素含有層。又，在上記的實施形 態中，微透鏡61，係相當於本發明的微透鏡。又，在上記 -64- 201104856 的實施形態中，基板1 〇 1，係相當於本發明的基板。又， 在上記的實施形態中，相機200，係相當於本發明的電子 機器。又，在上記的實施形態中，紅外線截斷濾光片202 ，係祖當於本發明的截斷濾光片。又，在上記的實施形態 中，受光面JS，係相當於本發明的受光面。又，在上記的 實施形態中，光電轉換部P，係相當於本發明的光電轉換 部。又，在上記的實施形態中，攝像領域P A，係相當於 本發明的攝像領域。 【圖式簡單說明】 [圖1]圖1係固體攝像裝置1J的要部剖面圖。 [圖2]圖2係紅外線截斷濾光片的分光特性之圖示。 [圖3]圖3係圖示了，針對入射至固體攝像裝置的平行 光，透過微透鏡、彩色濾光片、層內透鏡而傳達的樣子， 實施波動模擬的結果圖。 [圖4]圖4係表示，於固體攝像裝置中的分光輸出。 [圖5]圖5係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1的全體構造之槪略的平面圖。 [圖6]圖6係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1之要部的圖示。 [圖7]圖7係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1之要部的圖示。 [圖8 ]圖8係本發明所述之實施形態1、4中，相機 200之構成的構成圖。 -65- 201104856 [圖9]圖9係本發明所述之實施形態1中，固體攝像 裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖10]圖10係本發明所述之實施形態1中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖11]圖11係本發明所述之實施形態1中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖12]圖12係本發明所述之實施形態1中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖1 3 ]圖1 3係本發明所述之實施形態1中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖14]圖14係本發明所述之實施形態1中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖1 5 ]圖1 5係本發明所述之實施形態2中，固體攝 像裝置lb之要部的圖示。 [圖16]圖16係本發明所述之實施形態2中，固體攝 像裝置lb之要部的圖示。 [圖17]圖17係本發明所述之實施形態3中，固體攝 像裝置lc之要部的圖示。 [圖18]圖18係本發明所述之實施形態3中，固體攝 像裝置lc之要部的圖示。 [圖19]圖19係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1的全體構造之槪略的平面圖。 [圖20]圖20係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之要部的圖示。 -66 - 201104856 [圖21]圖21係本發明所述之實施形態4中，彩色濾 光片51的圖示。 [圖22]圖22係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖23]圖23係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖24]圖24係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖25]圖25係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖26]圖26係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示。 [圖27]圖27係本發明所述之實施形態4中，紅色濾 光片層51R之分光穿透特性的圖示。 [圖2 8 ]圖2 8係本發明所述之實施形態4中，固體攝 像裝置1之分光輸出的圖示。 [圖29]圖29係用來說明鬼影現象的圖。 [圖3 0]圖30係用來說明鬼影現象的圖。 [圖31]圖31係用來說明鬼影現象的圖。 [圖3 2]圖32係用來說明鬼影現象的圖。 [圖3 3 ]圖3 3係本發明所述之實施形態4中，用來說 明鬼影現象的發生受到抑制的圖。 [圖34]圖34係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之要部的圖示。 -67- 201104856 [圖3 5 ]圖3 5係本發明所述之實施形態5中，黑色色 素含有層51K的放大圖。 [圖36]圖36係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示 〇 [圖37]圖37係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示 〇 [圖38]圖38係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖示 〇 [圖39]圖39係本發明所述之實施形態5中，固體攝 像裝置lb之製造方法之各工程中所被設置之要部的圖不 〇 [圖40]圖40係本發明所述之實施形態4中’黑色色 素含有層51K的分光特性的圖示。 [圖4 1 ]圖4 1係本發明所述之實施形態6中’固體攝 像裝置lc之要部的圖示。 [圖42]圖42係本發明所述之實施形態6中’用來說 明鬼影現象的發生受到抑制之樣子的圖。 【主要元件符號說明】 llc，1J :固體攝像裝置 21 :光二極體 -68 - 201104856 22 :電荷讀出通道領域 23 :電荷傳輸通道領域 24 :通道截止領域 3 1 :第1傳輸電極 32 :第2傳輸電極 41,41〗：金屬遮光膜 42 :光反射膜 43, 43J ·· OCB 膜 45 :層內透鏡 5 1 :曝光光線吸收層 6 1 :微透鏡 1 〇 1 :基板 1 5 1 :彩色濾光片 151B，151BC:藍色濾光片層 15 1G, 15 lGc :綠色濾光片層 151K:黑色色素含有層 151R, 151Rb，151RC:紅色濾光片層 200 :相機 201 :光學系 202 :紅外線截斷濾鏡 2 0 3 :驅動電路 204 :訊號處理電路 FT :平坦化膜 Gx :閘極絕緣膜 -69 - 201104856 Η :曝光光線 ΗΤ :水平傳輸暫存器部 ΗΤ1,ΗΤ2:平坦化膜 JA :受光領域 JS :受光面 ΚΚ :開口 OUT :輸出部 P :光電轉換部 PA :攝像領域 PM :光罩 PR :光阻膜 RO :電荷讀出部 SB :遮光部 S S :元件分離部

Sz，Szl，Sz2, Sz3 :層間絕緣膜

Vb:藍色成分之分光輸出

Vg:綠色成分之分光輸出

Vr :紅色成分之分光輸出 VT:垂直傳輸暫存器部 -70-

Claims (1)

1. 201104856 七、申請專利範圍： 種固體攝像裝置之製造方法，其特徵爲， 具有：固體攝像裝置製造工程，係製造固體攝像裝置 ’其係爲’將光線於受光面進行受光以生成訊號電荷的光 電轉換部’是被設置在基板上； 前記固體攝像裝置製造工程係含有： 金屬遮光膜形成工程，係於前記基板之上方，在前記 受光面所對應之領域以外的領域，形成金屬遮光膜；和 光反射膜形成工程，係在前記金屬遮光膜的上方，形 成用來反射光線的光反射膜；和 光阻圖案層形成工程，係針對被成膜在前記光反射膜 之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處理 ，以從前記光阻膜來形成光阻圖案層： 於前記光反射膜形成工程中，係 形成前記光反射膜，以使得：前記光反射膜是含有對 應於前記光阻圖案層之圖案形狀的形狀’並在前記光阻圖 案層形成工程中的前記曝光處理之實施時’會使曝光光線 反射至前記光阻膜。 2.如申請專利範圍第1項所記載之固體攝像裝置之製 造方法，其中’ 前記固體攝像裝置製造工程係含有： 電荷讀出部形成工程’係在前記基板形成電荷讀出部 ，其係以電荷讀出通道領域’將前記光電轉換部所生成之 訊號電荷予以讀出：和 -71 - 201104856 傳輸暫存器部形成工程，係在前記基板形成傳輸暫存 器部，其係以電荷傳輸通道領域，來傳輸已經藉由前記電 荷讀出部而從前記光電轉換部中所讀出之訊號電荷； 於前記金屬遮光膜形成工程中，係在前記電荷讀出通 道領域及前記電荷傳輸通道領域之上方，形成前記金屬遮 光膜，以將入射至前記電荷讀出通道領域及前記電荷傳輸 通道領域的光線予以遮光。 3 ·如申請專利範圍第2項所記載之固體攝像裝置之製 造方法，其中， 於前記光阻圖案層形成工程中，係形成黑色的彩色光 阻圖案層，來作爲前記光阻圖案層。 4.如申請專利範圍第3項所記載之固體攝像裝置之製 造方法，其中， 於前記光阻圖案層形成工程中，係以直接接觸於前記 光反射膜的方式，而將前記負片型光阻膜予以成膜。 5 .如申請專利範圍第3項所記載之固體攝像裝置之製 造方法，其中， 前記固體攝像裝置製造工程係具有： 曝光光線吸收層形成工程，係形成曝光光線吸收層， 其係用以吸收，前記光阻圖案層形成工程中的前記曝光處 理之實施時的曝光光線； 前記曝光光線吸收層形成工程，係在前記金屬遮光膜 形成工程的實施後，且前記光反射膜形成工程的實施前， 以在前記基板之上方而介隔存在於前記金屬遮光膜與前記 -72- 201104856 光反射 6. 具 ，其係 電轉換 前 金 受光面 光 成用來 光 之上方 ，以從 於 形 應於前 案層形 反射至 7. 含 光 光而生 金 光面所 膜之間的方式，形成前記曝光光線吸收層》 一種攝相機之製造方法，其特徵爲， 有：固體攝像裝置製造工程，係製造固體攝像裝置 爲’將光線於受光面進行受光以生成訊號電荷的光 部，是被設置在基板上； 記固體攝像裝置製造工程係含有： 屬遮光膜形成工程，係於前記基板之上方，在前記 所對應之領域以外的領域，形成金屬遮光膜；和 反射膜形成工程，係在前記金屬遮光膜的上方，形 反射光線的光反射膜；和 阻圖案層形成工程，係針對被成膜在前記光反射膜 的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處理 前記光阻膜來形成光阻圖案層； 前記光反射膜形成工程中，係 成前記光反射膜，以使得：前記光反射膜是含有對 記光阻圖案層之圖案形狀的形狀，並在前記光阻圖 成工程中的前記曝光處理之實施時，會使曝光光線 前記光阻膜。 一種固體攝像裝置，其特徵爲， 有： 電轉換部，係被設在基板，以受光面將光線予以受 成訊號電荷；和 屬遮光膜，係被形成在前記基板之上方而在前記受 對應之領域以外的領域；和 -73- 201104856 光反射膜，係被形成在前記金屬遮光膜的上方；和 光阻圖案層，係被形成在前記光反射膜的上方； 前記光阻圖案層，係藉由針對被成膜在前記光反射膜 之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處理 ，而被形成： 前記光反射膜係含有對應於前記光阻圖案層之圖案形 狀的形狀，並且是被形成爲，在前記曝光處理的實施時， 該當光反射膜會使曝光光線反射至前記光阻膜。 8. —種攝相機，其特徵爲， 含有： 光電轉換部，係被設在基板，以受光面將光線予以受 光而生成訊號電荷；和 金屬遮光膜，係被形成在前記基板之上方而在前記受 光面所對應之領域以外的領域；和 光反射膜’係被形成在前記金屬遮光膜的上方；和 光阻圖案層’係被形成在前記光反射膜的上方； 前記光阻圖案層，係藉由針對被成膜在前記光反射膜 之上方的負片型光阻膜，實施曝光處理後，實施現像處理 ，而被形成； 前記光反射膜係含有對應於前記光阻圖案層之圖案形 狀的形狀，並且是被形成爲，在前記曝光處理的實施時， 該當光反射膜會使曝光光線反射至前記光阻膜。 9. 一種固體攝像裝置，其特徵爲， 具有： -74- 201104856 光電轉換部，係被設在基板的攝像領域中，以受光面 將入射光予以受光而生成訊號電荷；和 彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域中被設在前記 受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予以著色而透射 至前記受光面； 前記彩色濾光片，係含有黑色色素。 1 〇.如申請專利範圍第9項所記載之固體攝像裝置， 其中， 前記光電轉換部，係於前記攝像領域中被複數排列； 前記彩色濾光片，係至少含有： 第1著色層，係用以將前記入射光，著色成第1色彩 :和 第2著色層，係用以將前記入射光，著色成與前記第 1色彩不同之色彩、且爲波長短於前記第1色彩的第2色 彩； 前記第1著色層和前記第2著色層之每一者係被排列 成，在前記攝像領域中對應於前記複數光電轉換部： 前記第1著色層係被形成爲，前記黑色色素是比前記 第2著色層含有得更多。 11. 一種固體攝像裝置，其特徵爲， 具有： 光電轉換部，係被設在基板的攝像領域中，以受光面 將入射光予以受光而生成訊號電荷；和 彩色濾光片，係被設在前記基板的攝像領域中，被構 -75- 201104856 成爲，將前記入射光予以著色而透射至前記受光面；和 黑色色素含有層，係被設在前記基板的攝像領域中， 含有黑色色素； 前記黑色色素含有層係被設在前記受光面的上方，且 被構成爲，讓前記入射光透射至前記受光面。 12. —種電子機器，其特徵爲， 具有： 光電轉換部，係被設在基板的攝像領域中，以受光面 將入射光予以受光而生成訊號電荷；和 彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域中被設在前記 受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予以著色而透射 至前記受光面； 前記彩色濾光片，係含有黑色色素。 13. —種電子機器，其特徵爲， 具有： 光電轉換部，係被設在基板的攝像領域中，以受光面 將入射光予以受光而生成訊號電荷；和 彩色濾光片，係於前記基板的攝像領域中被設在前記 受光面的上方，被構成爲，將前記入射光予以著色而透射 至前記受光面； 前記彩色濾光片，係與前記受光面之間，設置有含有 黑色色素的黑色色素含有層。 14. —種固體攝像裝置之製造方法，其特徵爲， 具有： ' -76- 201104856 光電轉換部形成工程’係將以受光面將入射光予以受 光而生成訊號電荷用的光電轉換部，設置在基板的攝像領 域中；和 彩色濾光片形成工程，係將用以把前記入射光予以著 色而往前記受光面透射用的彩色濾光片，設在在前記基板 的攝像領域中的前記受光面的上方； 於前記彩色濾光片形成工程中，係以含有黑色色素的 方式，來形成前記彩色濾光片。 15. —種固體攝像裝置之製造方法，其特徵爲， 含有： 光電轉換部形成工程，係將以受光面將入射光予以受 光而生成訊號電荷用的光電轉換部，設置在基板的攝像領 域中；和 彩色濾光片形成工程，係將用以把前記入射光予以著 色而往前記受光面透射用的彩色濾光片，設在在前記基板 的攝像領域中的前記受光面的上方；和 黑色色素含有層形成工程，係在前記受光面的上方， 形成含有黑色色素的黑色色素含有層。 -77-