JP7204677B2 - 発光モジュール、表示装置、および、それらの製造方法 - Google Patents
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Description
1.第1の実施の形態(湾曲形状を有する光学層を設けた例)
2.第2の実施の形態(白色画素の光学層の曲率を変化させた例)
3.第3の実施の形態(表面に反射防止膜を付した例)
4.第4の実施の形態(RGB画素を一括して光学層により覆う例)
5.第5の実施の形態(カラーフィルタの表面を凹形状にした例)
6.第6の実施の形態(カラーフィルタに高低差を設けた例)
7.第7の実施の形態(カラーフィルタの間に隙間を設けて湾曲形状を形成した例)
8.適用例
[表示装置の構成]
図1は、本技術の実施の形態における表示装置100の全体構成の一例を示す図である。
図3は、本技術の第1の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図5は、本技術の第1の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。
この第2の実施の形態は、白色画素の位置における光学層150の凹形状の曲率を変化させたものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図6は、本技術の第2の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図7は、本技術の第2の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至cは、上述の第1の実施の形態と同様である。
この第3の実施の形態は、光学層150の表面に反射防止膜を形成したものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図8は、本技術の第3の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図9は、本技術の第3の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至eは、上述の第1の実施の形態と同様である。
この第4の実施の形態は、複数画素の上に光学層150の凸形状を一括して形成したものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図10は、本技術の第4の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図11は、本技術の第4の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至cは、上述の第1の実施の形態と同様である。
この第5の実施の形態は、カラーフィルタの表面形状を凹形状にしたものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図12は、本技術の第5の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図13は、本技術の第5の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至cは、上述の第1の実施の形態と同様である。
この第6の実施の形態は、一部の色のカラーフィルタの厚みに高低差を設けたものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図14は、本技術の第6の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図15は、本技術の第6の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至cは、上述の第1の実施の形態と同様である。
この第7の実施の形態は、カラーフィルタ142乃至144を隙間を空けて配置したものである。なお、表示装置100としての全体構成は上述の第1の実施の形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図16は、本技術の第7の実施の形態における発光モジュールの概略断面構造の一例を示す図である。
図17は、本技術の第7の実施の形態における発光モジュールの製造工程の一例を示す図である。同図におけるa乃至cは、上述の第1の実施の形態と同様である。
以下では、上述の実施の形態の表示装置が適用され得る電子機器の例について説明する。
(1)基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備する発光モジュール。
(2)前記色変化部材は、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては表面に凹形状を有する
前記(1)に記載の発光モジュール。
(3)前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置され、
前記光学層は、白色以外の画素の位置においては表面に凸形状を有する
前記(1)または(2)に記載の発光モジュール。
(4)前記光学層は、白色以外の画素の位置において複数画素について一括して表面に凸形状を有する
前記(3)に記載の発光モジュール。
(5)前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては凹形状を有して、白色以外の画素の位置においては凸形状を有し、前記凹形状と前記凸形状の曲率が互いに異なる
前記(1)に記載の発光モジュール。
(6)前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、一部の画素の位置においては他の画素のものよりも厚みが薄く、
前記光学層は、前記一部の画素の位置においては表面に凹形状を有する
前記(1)に記載の発光モジュール。
(7)前記光学層は、透明材料からなる
前記(1)から(6)のいずれかに記載の発光モジュール。
(8)前記光学層は、少なくとも無機材料を含む材料からなる
前記(1)から(6)のいずれかに記載の発光モジュール。
(9)前記光学層の表面を覆う膜であって所定の波長に対する反射率を低減させる膜をさらに具備する前記(1)から(8)のいずれかに記載の発光モジュール。
(10)前記色変化部材の各画素間に設けられて光を反射または吸収する隔壁をさらに具備する前記(1)から(9)のいずれかに記載の発光モジュール。
(11)前記色変化部材は、表面に凹形状を有する
前記(10)に記載の発光モジュール。
(12)基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備する表示装置。
(12)基板の上に電極を形成する手順と、
前記電極の上に発光素子を形成する手順と、
前記発光素子を覆う保護層を形成する手順と、
前記保護層の上において少なくとも一部の前記発光素子に対応して色変化部材を形成する手順と、
スピン塗布によって前記色変化部材および前記保護層を覆う湾曲形状の光学層を形成する手順と
を備える発光モジュールの製造方法。
12 駆動トランジスタ
13 保持容量
14 発光素子
15 接地配線
100 表示装置
101 画素回路
102 画素アレイ部
103 水平セレクタ
104 ライトスキャナ
105 電源スキャナ
110 電極
120 発光素子
130 保護層
131 隔壁
142~144 カラーフィルタ
150 光学層
160 反射防止膜
190 基板
Claims (11)
- 基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては表面に凹形状を有する
発光モジュール。 - 基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置され、
前記光学層は、白色以外の画素の位置において複数画素について一括して表面に凸形状を有する
発光モジュール。 - 基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては凹形状を有して、白色以外の画素の位置においては凸形状を有し、前記凹形状と前記凸形状の曲率が互いに異なる
発光モジュール。 - 基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、一部の画素の位置においては他の画素のものよりも厚みが薄く、
前記光学層は、前記一部の画素の位置においては表面に凹形状を有する
発光モジュール。 - 基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と、
前記色変化部材の各画素間に設けられて光を反射または吸収する隔壁と
を具備し、
前記色変化部材は、表面に凹形状を有する
発光モジュール。 - 基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては表面に凹形状を有する
表示装置。 - 基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置され、
前記光学層は、白色以外の画素の位置において複数画素について一括して表面に凸形状を有する
表示装置。 - 基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては凹形状を有して、白色以外の画素の位置においては凸形状を有し、前記凹形状と前記凸形状の曲率が互いに異なる
表示装置。 - 基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と
を具備し、
前記色変化部材は、白色以外の画素の位置に配置されて、一部の画素の位置においては他の画素のものよりも厚みが薄く、
前記光学層は、前記一部の画素の位置においては表面に凹形状を有する
表示装置。 - 基板と、
前記基板の上に配置された発光素子と、
前記発光素子を覆う保護層と、
前記保護層を介して少なくとも一部の前記発光素子に対応して配置される色変化部材と、
前記色変化部材および前記保護層を覆って光を湾曲形状により集光または散乱させる光学層と、
前記色変化部材の各画素間に設けられて光を反射または吸収する隔壁と
を具備し、
前記色変化部材は、表面に凹形状を有する
表示装置。 - 基板の上に電極を形成する手順と、
前記電極の上に発光素子を形成する手順と、
前記発光素子を覆う保護層を形成する手順と、
前記保護層の上において少なくとも一部の前記発光素子に対応して色変化部材を形成する手順と、
スピン塗布によって前記色変化部材および前記保護層を覆う湾曲形状の光学層を形成する手順と
を備え、
前記色変化部材は、白色画素の位置には配置されず、
前記光学層は、白色画素の位置においては表面に凹形状を有する
発光モジュールの製造方法。
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