JP2015187635A

JP2015187635A - 色変化部材、光装置、表示装置および電子機器

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Publication number: JP2015187635A
Application number: JP2014064595A
Authority: JP
Inventors: 雄介守屋; Yusuke Moriya; 兼作前田; Kensaku Maeda
Original assignee: Joled Inc
Current assignee: Joled Inc
Priority date: 2014-03-26
Filing date: 2014-03-26
Publication date: 2015-10-29
Also published as: US20150276175A1; US10539849B2

Abstract

【課題】残留溶剤や脱ガス成分に起因する信頼性低下を抑えることが可能な色変化部材、この色変化部材を備えた発光装置および表示装置、並びにこの表示装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】光入射面Ｐ１、光出射面Ｐ２および側面Ｐ３を有する色変化層と、前記色変化層の前記光入射面Ｐ１に設けられた第１保護層３１と、前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層３２と、前記色変化層の前記光出射面Ｐ２に設けられた第３保護層３３とを備えた色変化部材。【選択図】図３

Description

本開示は、入射光の色を変化させる色変化部材、この色変化部材を備えた発光装置および表示装置、並びにこの表示装置を備えた電子機器に関する。

液晶表示装置では、液晶素子を通過した光を、カラーフィルタを用いて色変化させることによりカラー表示を行っている。有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electroluminescence）素子などの自発光素子を用いた照明装置（発光装置）や表示装置においても、カラーフィルタを用いて色変化させることにより所望の色の光を得る場合がある。

カラーフィルタは、液晶素子や有機ＥＬ素子などが設けられた基板とは異なる基板（対向基板）に設けられる構成もあるし、液晶素子や有機ＥＬ素子などと同じ基板に設けられる、いわゆるオンチップカラーフィルタの構成もある。オンチップカラーフィルタの例として、例えば特許文献１には、発光層の上にアクリル樹脂よりなる平坦化層を設け、平坦化層の上にカラーフィルタを設けることが記載されている。

特開２０１３−４２１９号公報

カラーフィルタは一般に有機材料により構成されているので、カラーフィルタの形成工程には熱硬化を伴う。しかしながら、他の構成要素の耐熱性が低い場合には、カラーフィルタを高温で熱硬化させることが困難となっていた。そのため、カラーフィルタが未硬化またはカラーフィルタの硬化が不足し、カラーフィルタ中の残留溶剤や脱ガス成分の拡散により信頼性に悪影響を及ぼすおそれがあった。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、残留溶剤や脱ガス成分に起因する信頼性低下を抑えることが可能な色変化部材、この色変化部材を備えた発光装置および表示装置、並びにこの表示装置を備えた電子機器を提供することにある。

本開示に係る色変化部材は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）光入射面、光出射面および側面を有する色変化層
（Ｂ）色変化層の光入射面に設けられた第１保護層
（Ｃ）色変化層の側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層

本開示の色変化部材では、色変化層の光入射面に第１保護層が設けられ、色変化層の側面の少なくとも一部に第２保護層が設けられている。よって、色変化層中の残留溶剤や脱ガス成分の拡散による、隣接する色変化層とのミキシングなどが抑えられる。よって、色変化層中の残留溶剤や脱ガス成分に起因する信頼性低下が抑えられる。

本開示に係る発光装置は、光を放出する発光素子と、発光素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、色変化部材は、上記本開示の色変化部材により構成されているものである。

本開示の発光装置では、発光素子から放出された光の色が、色変化部材により変化させられる。

本開示に係る表示装置は、光を放出する発光素子または光の透過または反射を制御する光制御素子と、発光素子または光制御素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、色変化部材は、上記本開示の色変化部材により構成されているものである。

本開示の表示装置では、発光素子から放出された光の色、または光制御素子により透過または反射された光の色が、色変化部材により変化させられる。

本開示に係る電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。

本開示の電子機器では、表示装置により画像表示が行われる。

本開示の色変化部材、本開示の発光装置、本開示の表示装置、または本開示の電子機器によれば、色変化部材の色変化層の光入射面に第１保護層を設け、色変化層の側面の少なくとも一部に第２保護層を設けるようにしている。よって、色変化層中の残留溶剤や脱ガス成分に起因する信頼性低下を抑えることが可能となる。

なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。

本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の全体構成を表すブロック図である。図１に示した表示装置の画素回路の一例を表す図である。図１に示した表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図３に示した発光素子の一例を表す断面図である。図３に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図５に続く工程を表す断面図である。図６に続く工程を表す断面図である。図７に続く工程を表す断面図である。図８に続く工程を表す断面図である。図９に続く工程を表す断面図である。本開示の第２の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第３の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第４の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例４−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例４−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第５の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図１６に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図１７に続く工程を表す断面図である。図１８に続く工程を表す断面図である。図１９に続く工程を表す断面図である。変形例５−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例５−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例５−３に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第６の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図２４に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図２５に続く工程を表す断面図である。図２６に続く工程を表す断面図である。図２７に続く工程を表す断面図である。図２８に続く工程を表す断面図である。変形例６−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例６−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例６−３に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第７の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図３３に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図３４に続く工程を表す断面図である。図３５に続く工程を表す断面図である。図３６に続く工程を表す断面図である。図３７に続く工程を表す断面図である。図３８に続く工程を表す断面図である。変形例７−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例７−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例７−３に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第８の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図４３に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図４４に続く工程を表す断面図である。図４５に続く工程を表す断面図である。図４６に続く工程を表す断面図である。図４７に続く工程を表す断面図である。変形例８−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例８−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例８−３に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第９の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図５２に示した湾曲部の第１の形成方法を工程順に表す断面図である。図５３に続く工程を表す断面図である。図５４に続く工程を表す断面図である。図５２に示した湾曲部の第２の形成方法を工程順に表す断面図である。図５６に続く工程を表す断面図である。図５７に続く工程を表す断面図である。図５８に続く工程を表す断面図である。図５９に続く工程を表す断面図である。変形例９−１に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例９−２に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。変形例９−３に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。本開示の第１０の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図６４に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。図６５に続く工程を表す断面図である。図６６に続く工程を表す断面図である。図６７に続く工程を表す断面図である。図６８に続く工程を表す断面図である。図６９に続く工程を表す断面図である。図７０に続く工程を表す断面図である。本開示の第１１の実施の形態に係る表示装置において、隣接する三つの画素の概略構成を表す断面図である。図３に示した発光素子の他の例を表す断面図である。図３に示した発光素子の更に他の例を表す断面図である。上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。適用例１の外観を表す斜視図である。適用例２の外観を表す斜視図である。適用例３の外観を表す斜視図である。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（色変化層の光入射面に透明な第１保護層、側面に透明な第２保護層、光出射面に透明な第３保護層をそれぞれ設ける例）
２．第２の実施の形態（第３保護層と封止樹脂層との間に反射防止膜を設ける例）
３．第３の実施の形態（色変化層の光出射面と第３保護層との間に反射防止膜を設ける例）
４．第４の実施の形態（色変化層の光入射面に反射防止膜を設ける例）
５．変形例４−１，４−２（第４の実施の形態と第２または第３の実施の形態との組み合わせ）
６．第５の実施の形態（色変化層の側面に金属膜よりなる第２保護層を設ける例）
７．変形例５−１〜５−３（第５の実施の形態と第２ないし第４の実施の形態との組み合わせ）
８．第６の実施の形態（第１保護層の上に黒色フィルタよりなる側壁を設け、側壁の表面および第１保護層の上に透明な第２保護層を設ける例）
９．変形例６−１〜６−３（第６の実施の形態と第２ないし第４の実施の形態との組み合わせ）
１０．第７の実施の形態（第１保護層の上に有彩色フィルタよりなる側壁を設け、側壁の表面に金属膜よりなる第２保護層を設ける例）
１１．変形例７−１〜７−３（第７の実施の形態と第２ないし第４の実施の形態との組み合わせ）
１２．第８の実施の形態（第１保護層の上に黒色フィルタまたは有彩色フィルタよりなる側壁を設け、この側壁の表面および第１保護層の上に有機ＥＬ素子および透明な第２保護層を設ける例）
１３．変形例８−１〜８−３（第８の実施の形態と第２ないし第４の実施の形態との組み合わせ）
１４．第９の実施の形態（第３保護層の上面に湾曲部を設ける例）
１５．変形例９−１〜９−３（第９の実施の形態と第２ないし第４の実施の形態との組み合わせ）
１６．第１０の実施の形態（色変化層の側面の高さ方向一部に金属膜よりなる第２保護層を設け、色変化層の側面の高さ方向残部に透明な第２保護層を設ける例）
１７．第１１の実施の形態（第３保護層の上の封止樹脂層および封止基板を省略する例）
１８．適用例（電子機器）

（第１の実施の形態）
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の全体構成を表したものである。この表示装置１００は、例えば、画素アレイ部１０２と、これを駆動する駆動部（信号セレクタ１０３，主スキャナ１０４，および電源スキャナ１０５）とを有している。

画素アレイ部１０２は、行列状に配置された複数の画素ＰＸと、複数の画素ＰＸの各行に対応して配された電源線ＤＳＬ１０１〜１０ｍとを有している。各画素ＰＸは、行状の走査線ＷＳＬ１０１〜１０ｍと、列状の信号線ＤＴＬ１０１〜１０ｎとが交差する部分に配され、画素回路１０１を有している。

主スキャナ（ライトスキャナＷＳＣＮ）１０４は、各走査線ＷＳＬ１０１〜１０ｍに順次制御信号を供給して画素ＰＸを行単位で線順次走査するものである。電源スキャナ（ＤＳＣＮ）１０５は、線順次走査に合わせて各電源線ＤＳＬ１０１〜１０ｍに第１電位と第２電位で切り換える電源電圧を供給するものである。信号セレクタ（水平セレクタＨＳＥＬ）１０３は、線順次走査に合わせて列状の信号線ＤＴＬ１０１〜１０ｎに映像信号となる信号電位と基準電位とを供給するものである。

図２は、図１に示した画素回路１０１の具体的な構成及び結線関係の一例を表したものである。画素回路１０１は、例えば、有機ＥＬ素子などで代表される発光素子３Ｄと、サンプリング用トランジスタ３Ａと、駆動用トランジスタ３Ｂと、保持容量３Ｃとを含んでいる。

サンプリング用トランジスタ３Ａは、ゲートが対応する走査線ＷＳＬ１０１に接続され、ソースおよびドレインの一方が対応する信号線ＤＴＬ１０１に接続され、ソースおよびドレインの他方が駆動用トランジスタ３Ｂのゲートｇに接続されている。

駆動用トランジスタ３Ｂは、ソースｓおよびドレインｄの一方が発光素子３Ｄに接続され、ソースｓおよびドレインｄの他方が対応する電源線ＤＳＬ１０１に接続されている。本実施の形態では、駆動用トランジスタ３Ｂのドレインｄが電源線ＤＳＬ１０１に接続されている一方、ソースｓが発光素子３Ｄのアノードに接続されている。発光素子３Ｄのカソードは接地配線３Ｈに接続されている。なお、この接地配線３Ｈは全ての画素ＰＸに対して共通に配線されている。

保持容量３Ｃは、駆動用トランジスタ３Ｂのソースｓとゲートｇの間に接続されている。保持容量３Ｃは、信号線ＤＴＬ１０１から供給される映像信号の信号電位を保持するものである。

図３は、図１に示した表示装置１００において、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。各画素ＰＸは、例えば、発光素子２０と、この発光素子２０の光取り出し側に設けられた色変化部材３０とを有している。色変化部材３０の上には、例えば、封止樹脂層４１および封止基板４２が設けられており、これら色変化部材３０，封止樹脂層４１および封止基板４２により発光素子２０が封止されている（固体封止構造）。

なお、この表示装置１００の画素ＰＸ間のピッチ（中心間距離）は、例えば３０μｍ以下、具体的には例えば２μｍないし３μｍである。すなわち、この表示装置１００は、画素ＰＸの寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものであり、デジタル一眼レフカメラの電子ビューファインダやヘッドマウントディスプレイその他のウェアラブルディスプレイなどに用いられる。なお、この表示装置１００上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、ユーザは、表示装置１００に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、ユーザが見ることができるのは、表示装置１００に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分となる。

発光素子２０は、例えば、有機ＥＬ素子により構成され、図２に示した発光素子３Ｄに対応している。具体的には、各発光素子２０は、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子２０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子２０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子２０Ｂとのうちのいずれか一つである。発光層２０の詳細な構成については、後述する。

色変化部材３０は、例えば、光吸収を用いて光の色を変化させるカラーフィルタにより構成され、カラーフィルタ層ＣＦと、第１保護層３１と、第２保護層３２とを有している。カラーフィルタ層ＣＦは、光入射面Ｐ１と、光出射面Ｐ２と、側面Ｐ３とを有している。第１保護層３１は、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１に設けられている。第２保護層３２は、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に設けられている。これにより、この色変化部材３０およびこれを備えた表示装置１００では、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分に起因する信頼性低下を抑えることが可能となっている。

カラーフィルタ層ＣＦは、フォトレジストなどの有機材料に有機顔料を混合することにより構成されている。カラーフィルタ層ＣＦは、例えば、赤色フィルタＣＦＲ，緑色フィルタＣＦＧおよび青色フィルタＣＦＢを有しており、これらは規則的に配置されている。赤色フィルタＣＦＲ，緑色フィルタＣＦＧおよび青色フィルタＣＦＢは、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。

カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３はテーパ形状を有していることが好ましい。斜めに進む光に対して、混色を抑制すると共に、光を効率よく上方へ取り出し、光取り出し効率を高めることが可能となる。

第１保護層３１は、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１すなわち底面部を構成すると共に、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の下方（発光素子２０に向かう方向）への拡散を抑え、有機層２３、特に発光層２３Ｃの劣化を抑えるバリア層である。第１保護層３１は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されていることが好ましい。なお、第１保護層３１が酸化アルミニウム膜により構成されている場合には、酸化アルミニウム膜は、厚みが１００ｎｍ以下であり、ＡＬＤ（原子層成膜）法により形成されたものであることが好ましい。ＡＬＤ法により形成された酸化アルミニウム膜は、高いパッシベーション性を有しているからである。

第２保護層３１は、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３すなわち側壁部を構成すると共に、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の水平方向（隣接するカラーフィルタ層ＣＦに向かう方向）への拡散を抑え、隣接するカラーフィルタ層ＣＦとのミキシングを抑えるバリア層である。第２保護層３２は、例えば、第１保護層３１と同様に、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されていることが好ましい。なお、図３は、第２保護層３２がカラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の全部に設けられている場合を表しているが、第２保護層３２は、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に設けられていればよい。

更に、色変化部材３０は、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２の少なくとも一部に、第３保護層３３を有していることが好ましい。第３保護層３３は、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２すなわち上面部を規定すると共に、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の上方（封止樹脂層４１へ向かう方向）への拡散を抑え、封止樹脂層４１の劣化を抑えるバリア層である。第３保護層３３は、例えば、第１保護層３１と同様に、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されていることが好ましい。なお、図３は、第３保護層３３がカラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２の全部に設けられている場合を表しているが、第３保護層３３は、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２の少なくとも一部に設けられていればよい。

このように、カラーフィルタＣＦの光入射面Ｐ１，光出射面Ｐ２および側面Ｐ３を第１保護層３１，第２保護層３２および第３保護層３３で覆うことにより、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分を、第１保護層３１，第２保護層３２および第３保護層３３で囲まれた一定空間内に閉じ込めることが可能となる。よって、後述する有機層２３、特に発光層２３Ｃの劣化のおそれがあり、カラーフィルタ層ＣＦの高温での熱硬化が難しく、カラーフィルタＣＦが未硬化またはカラーフィルタ層ＣＦの硬化が不足している場合においても、カラーフィルタＣＦ層中の残存溶剤や脱ガス成分の拡散に起因する、隣接するカラーフィルタ層ＣＦとのミキシング、封止樹脂層４１の劣化、脱ガスの拡散による封止樹脂層４１の剥がれ、有機層２３の劣化などの不良を抑え、信頼性低下を抑えることが可能となる。

封止基板４２は、発光素子２０のカソード電極２４の側に位置しており、封止樹脂層４１と共に発光素子２０を封止するものである。封止基板４２は、発光素子２０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止基板４２には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれも図示せず）が設けられており、発光素子２０で発生した光を取り出すと共に、各発光素子２０間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。

図４は、図３に示した発光素子２０の概略断面構成を表したものである。発光素子２０は、基板１０上に、アノード電極２１（第１電極），隔壁２２，有機層２３およびカソード電極２４（第２電極）がこの順に積層された構成を有している。発光素子２０は、上面発光型（トップエミッション型）の有機ＥＬ素子であり、アノード電極２１から注入された正孔とカソード電極２４から注入された電子が発光層２３Ｃ（後述）内で再結合する際に生じた発光光が、基板１０と反対側（カソード電極２４側）から取り出される。上面発光型の有機ＥＬ素子を用いることにより、表示装置１００の発光部の開口率が向上する。なお、発光素子２０は、上面発光型の有機ＥＬ素子に限定されることはなく、例えば基板１０側から光を取り出す透過型、即ち下面発光型（ボトムエミッション型）の有機ＥＬ素子としてもよい。

基板１０は、ガラス基板、プラスチックフィルムなどにより構成されている。プラスチック材料としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などが挙げられる。また、基板１０は、目的に応じて、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の金属基板であってもよい。

アノード電極２１は、例えば表示装置１００が上面発光型である場合には、高反射性材料、例えば、アルミニウム−ネオジム合金，アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ）等からなる。また、表示装置１００が透過型である場合には、アノード電極２１は、透明材料、例えばＩＴＯ，ＩＺＯ（登録商標），ＩＧＺＯ等が用いられる。アノード電極２１は、コンタクトホール（図示せず）を介して、駆動トランジスタ３Ｂ（図２参照。）のソースｓに接続されている。

隔壁２２は、例えばポリイミドまたはノボラック等の有機材料により構成され、アノード電極２１とカソード電極２４との絶縁性を確保する役割も有している。

有機層２３は、例えば、アノード電極２１側から順に、正孔注入層２３Ａ，正孔輸送層２３Ｂ，発光層２３Ｃ，電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅを積層した構成を有している。有機層２３の上面はカソード電極２４によって被覆されている。発光層２３Ｃは、例えば、赤色発光層２３ＣＲ、青色発光層２３ＣＢ、および緑色発光層２３ＣＧの積層構造をもつ白色発光層である。発光層２３Ｃは、白色光ＬＷを発生する。白色光ＬＷは、後述するカラーフィルタ層ＣＦ（赤色フィルタＣＦＲ，緑色フィルタＣＦＧ，青色フィルタＣＦＢ）により赤色光ＬＲ，緑色光ＬＧおよび青色光ＬＢに色分離される。

有機層２３は、例えば真空蒸着法により、画素アレイ部１０２（図１参照。）の全面に共通層として形成される。

有機層２３を構成する各層の膜厚および構成材料等は特に限定されないが、一例を以下に示す。

正孔注入層２３Ａは、発光層２３Ｃへの正孔注入効率を高めると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層２３Ａの厚みは例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔注入層２３Ａの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、例えばポリアニリン，ポリチオフェン，ポリピロール，ポリフェニレンビニレン，ポリチエニレンビニレン，ポリキノリン，ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子，金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等），カーボンなどが挙げられる。導電性高分子の具体例としてはオリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。

正孔輸送層２３Ｂは、発光層２３Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層２３Ｂの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層２３Ｂを構成する材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール，ポリフルオレン，ポリアニリン，ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体，ポリチオフェンおよびその誘導体，ポリピロールまたはＡｌｑ₃などを用いることができる。

発光層２３Ｃでは、電界がかかると電子と正孔との再結合が起こり発光する。発光層２３Ｃの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍである。発光層２３Ｃは、それぞれ単層あるいは積層構造であってもよい。

発光層２３Ｃを構成する材料は、それぞれの発光色に応じた材料を用いればよく、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体，ポリフェニレン誘導体，ポリビニルカルバゾール誘導体，ポリチオフェン誘導体，ペリレン系色素，クマリン系色素，ローダミン系色素，あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。ドープ材料としては、例えばルブレン，ペリレン，９，１０−ジフェニルアントラセン，テトラフェニルブタジエン，ナイルレッド，クマリン６等を用いることができる。なお、発光層２３Ｃを構成する材料は、上記材料を２種類以上混合して用いてもよい。また、上記高分子量の材料に限らず、低分子量の材料を組み合わせて用いてもよい。低分子材料の例としては、ベンジン，スチリルアミン，トリフェニルアミン，ポルフィリン，トリフェニレン，アザトリフェニレン，テトラシアノキノジメタン，トリアゾール，イミダゾール，オキサジアゾール，ポリアリールアルカン，フェニレンジアミン，アリールアミン，オキザゾール，アントラセン，フルオレノン，ヒドラゾン，スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物，ビニルカルバゾール系化合物，チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーが挙げられる。

発光層２３Ｃを構成する材料としては、上記材料の他に発光性ゲスト材料として、発光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光材料、りん光色素あるいは金属錯体等の有機発光材料を用いることができる。

なお、発光層２３Ｃは、例えば上述した正孔輸送層２３Ｂを兼ねた正孔輸送性の発光層としてもよく、また、後述する電子輸送層２３Ｄを兼ねた電子輸送性の発光層としてもよい。

電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅは、発光層２３Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅの総膜厚は素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１８０ｎｍである。

電子輸送層２３Ｄの材料としては、優れた電子輸送能を有する有機材料を用いることが好ましい。発光層２３Ｃの輸送効率を高めることにより、電界強度による発光色の変化が抑制される。具体的には、例えばアリールピリジン誘導体およびベンゾイミダゾール誘導体などを用いることが好ましい。これにより、低い駆動電圧でも高い電子の供給効率が維持されるからである。電子注入層２３Ｅの材料としては、アルカリ金属，アルカリ土類金属，希土類金属およびその酸化物，複合酸化物，フッ化物，炭酸塩等が挙げられる。

カソード電極２４は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、光透過性が良好で仕事関数が小さい材料により構成されている。また、酸化物を用いて透明導電膜を形成することによっても光取り出しを担保することが可能である。この場合には、ＺｎＯ，ＩＴＯ，ＩＺｎＯ，ＩｎＳｎＺｎＯ等を用いることが可能である。更に、カソード電極２４は単層でもよいが、図４に示した例では、例えば、アノード電極２１側から順に第１層２４Ａ、第２層２４Ｂ、第３層２４Ｃを積層した構造となっている。

第１層２４Ａは、仕事関数が小さく、且つ、光透過性の良好な材料により形成されることが好ましい。具体的には、例えばカルシウム（Ｃａ），バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム（Ｌｉ），セシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ），マグネシウム（Ｍｇ），銀（Ａｇ）が挙げられる。更に、Ｌｉ２Ｏ，Ｃｓ２Ｃｏ３，Ｃｓ２ＳＯ４，ＭｇＦ，ＬｉＦやＣａＦ２等のアルカリ金属酸化物，アルカリ金属フッ化物，アルカリ土類金属酸化物，アルカリ土類フッ化物が挙げられる。

第２層２４Ｂは、薄膜のＭｇ−Ａｇ電極やＣａ電極などの光透過性を有し、且つ、導電性が良好な材料で構成されている。第３層２４Ｃは、電極の劣化を抑制するために透明なランタノイド系酸化物を用いることが好ましい。これにより、上面から光を取り出すことが可能な封止電極として用いることが可能となる。また、ボトムエミッション型の場合には、第３層２４Ｃの材料として金（Ａｕ），白金（Ｐｔ）またはＡｕ−Ｇｅ等が用いられる。

なお、第１層２４Ａ、第２層２４Ｂおよび第３層２４Ｃは、真空蒸着法、スパッタリング法、あるいはプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学気相成長）法などの手法によって形成される。また、表示装置１００の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合、カソード電極２４は、隔壁２２および有機層２３によってアノード電極２１に対して絶縁された状態で、基板１０上にベタ膜状で形成され、発光素子２０の共通電極とされていてもよい。

また、カソード電極２４は、アルミキノリン錯体，スチリルアミン誘導体，フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、更にＭｇ−Ａｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。また、カソード電極２４は上記のような積層構造に限定されることはなく、作製されるデバイスの構造に応じて最適な組み合わせ、積層構造を取ればよいことは言うまでもない。例えば、本実施の形態のカソード電極２４の構成は、電極各層の機能分離、即ち有機層２３への電子注入を促進させる無機層（第１層２４Ａ）と、電極を司る無機層（第２層２４Ｂ）と、電極を保護する無機層（第３層２４Ｃ）とを分離した積層構造である。しかしながら、有機層２３への電子注入を促進させる無機層が、電極を司る無機層を兼ねてもよく、これらの層を単層構造としてもよい。

更に、この発光素子２０が、キャビティ構造となっている場合には、カソード電極２４が半透過半反射材料を用いて構成されることが好ましい。これにより、アノード電極２１側の光反射面と、カソード電極２４側の光反射面との間で多重干渉させた発光光がカソード電極２４側から取り出される。この場合、アノード電極２１側の光反射面とカソード電極２４側の光反射面との間の光学的距離は、取り出したい光の波長によって規定され、この光学的距離を満たすように各層の膜厚が設定されている。このような上面発光型の表示素子においては、このキャビティ構造を積極的に用いることにより、外部への光取り出し効率の改善や発光スペクトルの制御を行うことが可能となる。

この表示装置１００は、例えば、次のようにして製造することができる。

図５ないし図１０は、表示装置１００の製造方法を工程順に表したものである。まず、図５に示したように、基板１０（図４参照。）にアノード電極２１、隔壁２２、有機層２３およびカソード電極２４（いずれも図４参照。）を形成し、発光素子２０を形成する。次いで、同じく図５に示したように、発光素子２０の上に保護層材料膜３１Ａを形成する。

続いて、図６に示したように、保護層材料膜３１Ａの上にフォトレジスト層ＰＲ１を形成する。そののち、図７に示したように、フォトレジスト層ＰＲ１をマスクとしたエッチングにより、保護層材料膜３１Ａをエッチングし、フォトレジスト層ＰＲ１を除去する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域に第１保護層３１を形成すると共に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３となる領域に第２保護層３２を形成する。

第１保護層３１および第２保護層３２を形成したのち、図８に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、ネガ型フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

続いて、図９に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

ここでは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１に第１保護層３１を設け、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に第２保護層３２を設けるようにしている。よって、有機層２３、特に発光層２３Ｃの劣化のおそれがあり、カラーフィルタ層ＣＦの高温での熱硬化が難しく、カラーフィルタＣＦが未硬化またはカラーフィルタ層ＣＦの硬化が不足している場合においても、カラーフィルタＣＦ層中の残存溶剤や脱ガス成分の拡散に起因する、隣接するカラーフィルタ層ＣＦとのミキシング、有機層２３の劣化などの不良を抑え、信頼性低下を抑えることが可能となる。

また、第１保護層３１および第２保護層３２で規定された空間領域にカラーフィルタ層ＣＦを形成することにより、カラーフィルタ層ＣＦの形状のばらつきが抑えられる。よって、カラーフィルタ層ＣＦの境界付近の透過光量のばらつきが抑えられ、表示装置１００としての発光色度点のばらつきを低減させることが可能となる。

そののち、図１０に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、第３保護層３３を形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦ中の残存溶剤や脱ガス成分の拡散に起因する、封止樹脂層４１の劣化や剥がれなどの不良が抑えられ、信頼性低下をより抑えることが可能となる。

最後に、図３に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図３に示した表示装置１００が完成する。

この表示装置１００では、走査線ＷＳＬから供給される制御信号に応じてサンプリング用トランジスタ３Ａが導通し、信号線ＤＴＬから供給された映像信号の信号電位がサンプリングされて保持容量３Ｃに保持される。また、電源線ＤＳＬから駆動用トランジスタ３Ｂに電流が供給され、保持容量３Ｃに保持された信号電位に応じて、駆動電流が発光素子３Ｄ（発光素子２０）に供給される。発光素子３Ｄ（発光素子２０）は、供給された駆動電流により、映像信号の信号電位に応じた輝度で発光し、白色光ＬＷが発生する。この白色光ＬＷは、カラーフィルタ層ＣＦにより色変化されて赤色光ＬＲ，緑色光ＬＧおよび青色光ＬＢとなり、封止基板４２を透過して取り出される。

ここでは、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１に第１保護層３１が設けられ、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に第２保護層３２が設けられているので、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の下方および水平方向への拡散が抑えられる。よって、隣接するカラーフィルタ層ＣＦとのミキシング、有機層２３の劣化などの不良が抑えられ、信頼性の低下が抑えられる。

更に、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２の少なくとも一部に第３保護層３３が設けられているので、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の上方への拡散が抑えられる。よって、封止樹脂層４１の劣化や剥がれなどの不良が抑えられ、信頼性の低下がより抑えられる。

このように本実施の形態では、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１に第１保護層３１を設け、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に第２保護層３２を設けるようにしている。よって、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の下方または水平方向への拡散を抑え、信頼性低下を抑えることが可能となる。

また、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２の少なくとも一部に第３保護層３３を設けるようにしたので、カラーフィルタ層ＣＦ中の残留溶剤や脱ガス成分の上方への拡散を抑え、信頼性の低下をより抑えることが可能となる。

（第２の実施の形態）
図１１は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置１００Ａにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ａは、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けたことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

反射防止膜５１は、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、光取り出し効率を高めるものである。反射防止膜５１は、例えば、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜（屈折率Ｎは１．７程度）よりなる低屈折率膜により構成されている。

この表示装置１００Ａは、色変化部材３０の第３保護層３３を形成したのち、封止樹脂層４１を形成する前に、第３保護層３３の上に反射防止膜５１を形成することを除いては、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

この表示装置１００Ａでは、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けるようにしたので、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、光取り出し効率を高めることが可能となる。

（第３の実施の形態）
図１２は、本開示の第３の実施の形態に係る表示装置１００Ｂにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｂは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２と第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けたことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

反射防止膜５２は、カラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、光取り出し効率を高めるものである。反射防止膜５２は、例えば、上記第２の実施の形態の反射防止膜５１と同様に、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜（屈折率Ｎは１．７程度）よりなる低屈折率膜により構成されている。

この表示装置１００Ｂは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦを形成したのち、第３保護層３３を形成する前に、カラーフィルタ層ＣＦの上に反射防止膜５２を形成することを除いては、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

この表示装置１００Ｂでは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしたので、カラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、光取り出し効率を高めることが可能となる。

（第４の実施の形態）
図１３は、本開示の第４の実施の形態に係る表示装置１００Ｃにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｃは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１と第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けたことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

反射防止膜５３は、カラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、光取り出し効率を高めるものである。反射防止膜５３は、例えば、上記第２の実施の形態の反射防止膜５１と同様に、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜（屈折率Ｎは１．７程度）よりなる低屈折率膜により構成されている。

この表示装置１００Ｃは、例えば、次のようにして製造することができる。

まず、第１の実施の形態と同様にして、図５ないし図７に示した工程により、発光素子２０の上に第１保護層３１および第２保護層３２を形成する。

次いで、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、上述した窒化酸化シリコン（ＳｉＯＮ）膜などの反射防止材料膜（図示せず）を形成する。続いて、反射防止材料膜の上にフォトレジスト層（図示せず）を形成し、フォトリソグラフィにより第２保護層３２上に開口を設ける。

そののち、このフォトレジスト層をマスクとしたエッチングにより、反射防止材料膜のうち第２保護層３２上に形成された部分を除去し、フォトレジスト層を除去する。これにより、第１保護層３１上に反射防止膜５３が形成される。

続いて、第１の実施の形態と同様にして、図８ないし図１０に示した工程により、カラーフィルタ層ＣＦ、第３保護層３３、封止樹脂層４１および封止基板４２を形成する。以上により、図１３に示した表示装置１００Ｃが完成する。

この表示装置１００Ｃでは、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしたので、カラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との屈折率の差に起因する発光光の反射を抑え、発光層２３Ｃで発生した光のカラーフィルタ層ＣＦへの入射光量を増加させることが可能となる。よって、光取り出し効率を高めることが可能となる。

（変形例４−１，４−２）
なお、本実施の形態は、上記第２または第３の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図１４に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｃにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図１５に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｃにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。

また、図示しないが、本実施の形態と、上記第２および第３の実施の形態の両方とを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｃにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。

（第５の実施の形態）
図１６は、本開示の第５の実施の形態に係る表示装置１００Ｄにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｄは、色変化部材３０の第２保護層３２が金属膜３２Ａを含むことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

具体的には、第２保護層３２は、金属膜３２Ａを含む積層構造、例えば金属膜３２Ａと透明膜３２Ｂとの積層構造により構成されている。金属膜３２Ａは、例えば、チタン（Ｔｉ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜、タングステン（Ｗ）膜などの反射性または遮光性の高い金属膜により構成されている。透明膜３２Ｂは、第１の実施の形態の第１保護層３１と同様に、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されている。

本実施の形態では、第２保護層３２が金属膜３２Ａを含んでいることにより、第１の実施の形態の効果に加えて、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３を金属膜３２Ａにより保護すると共に、混色防止を図ることが可能となる。すなわち、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３に達した光は、金属膜３２Ａにより反射され、隣接するカラーフィルタ層ＣＦに入射することが抑えられる。

この表示装置１００Ｄは、例えば、次のようにして製造することができる。

図１７ないし図２０は、表示装置１００Ｄの製造方法を工程順に表したものである。なお、第１の実施の形態と同一の工程については、図５ないし図１０を参照して説明する。まず、第１の実施の形態と同様にして、図５に示した工程により、基板１０（図４参照。）に発光素子２０および保護層材料膜３１Ａを形成する。

続いて、第１の実施の形態と同様にして、図６および図７に示した工程により、保護層材料膜３１Ａの上にフォトレジスト層ＰＲ１を形成し、このフォトレジスト層ＰＲ１をマスクとしたエッチングにより、保護層材料膜３１Ａをエッチングし、フォトレジスト層ＰＲ１を除去する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域に、第１保護層３１を形成すると共に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３となる領域に、第２保護層３２の透明膜３２Ｂを形成する。

第１保護層３１および第２保護層３２の透明膜３２Ｂを形成したのち、図１７に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の透明膜３２Ｂの上に、金属材料膜３２Ａ１を形成する。続いて、図１８に示したように、金属材料膜３２Ａ１のエッチバックにより、第１保護層３１上の金属材料膜３２Ａ１を除去し、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３となる領域に、第２保護膜３２の金属膜３２Ａを形成する。このようにして、金属膜３２Ａと透明膜３２Ｂとの積層構造を有する第２保護層３２が形成される。

そののち、図１９に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、ネガ型フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

続いて、図２０に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

そののち、第１の実施の形態と同様にして、図１０に示した工程により、図１６に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、第３保護層３３を形成する。

最後に、同じく図１６に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図１６に示した表示装置１００Ｄが完成する。

（変形例５−１〜５−３）
なお、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図２１に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図２２に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。また、例えば図２３に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３３との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。

更に、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｄにおいて、反射防止膜５１〜５３の全部を設けることも可能である。

（第６の実施の形態）
図２４は、本開示の第６の実施の形態に係る表示装置１００Ｅにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｅは、色変化部材３０の第２保護層３２が黒色樹脂膜３２Ｃを含んでいることを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

具体的には、色変化部材３０の第２保護層３２は、内側の黒色樹脂膜３２Ｃと外側の透明膜３２Ｄとの積層構造により構成されている。黒色樹脂膜３２Ｃは、例えば、黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜（黒色フィルタ）により構成されている。透明膜３２Ｄは、第１の実施の形態の第２保護層３２と同様に、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されている。

本実施の形態では、上述したように、第２保護層３２が黒色樹脂膜３２Ｃを含んでいる。これにより、本実施の形態では、第１の実施の形態の効果に加えて、第２保護層３２に遮光壁としての機能を持たせ、混色防止を図ることが可能となる。すなわち、黒色樹脂膜３２Ｃを設けることにより、カラーフィルタ層ＣＦに入射し側面Ｐ３を通過した光は、黒色樹脂膜３２Ｃに吸収され、隣接するカラーフィルタ層ＣＦに入射することが抑えられる。

なお、黒色樹脂膜３２Ｃは、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に設けられていればよい。混色防止のためには、黒色樹脂膜３２Ｃをカラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の発光素子２０近傍の一部に設ければ足りる。

この表示装置１００Ｅは、例えば、次のようにして製造することができる。

図２５ないし図２９は、表示装置１００Ｅの製造方法を工程順に表したものである。なお、第１の実施の形態と同一の工程については、図５ないし図１０を参照して説明する。まず、第１の実施の形態と同様にして、図５に示した工程により、基板１０（図４参照。）に発光素子２０を形成する。

次いで、図２５に示したように、発光素子２０の上に、保護層材料膜３１Ａを形成する。このとき、保護層材料膜３１Ａは平坦な上面をもつ層として形成される。

続いて、図２６に示したように、保護層材料膜３１Ａの上に、ネガ型フォトレジストを用いて黒色樹脂膜３２Ｃを形成する。

そののち、図２７に示したように、保護層材料膜３１Ａおよび黒色樹脂膜３２Ｃの上に、例えばＣＶＤ法により、上述したＳｉＮなどの透明無機材料膜よりなる透明膜３２Ｄを形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１には、保護層材料膜３１Ａと透明膜３２Ｄとにより第１保護層３１が形成される。これと共に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３には、黒色樹脂膜３２Ｃと透明膜３２Ｄとにより第２保護層３２が形成される。

続いて、図２８に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、ネガ型フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

そののち、図２９に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

続いて、第１の実施の形態と同様にして、図１０に示した工程により、図２４に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、第３保護層３３を形成する。

最後に、同じく図２４に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図２４に示した表示装置１００Ｅが完成する。

（変形例６−１〜６−３）
なお、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図３０に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図３１に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。また、例えば図３２に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３３との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。

更に、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｅにおいて、反射防止膜５１〜５３の全部を設けることも可能である。

（第７の実施の形態）
図３３は、本開示の第７の実施の形態に係る表示装置１００Ｆにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｆは、色変化部材３０の第２保護層３２が金属膜３２Ｆを含むことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

具体的には、色変化部材３０の第２保護層３２は、内側の樹脂膜３２Ｅと外側の金属膜３２Ｆとの積層構造により構成されている。樹脂膜３２Ｅは、カラーフィルタ層ＣＦと同様に、赤色、緑色または青色などの有彩色の樹脂膜により構成されている。なお、樹脂膜３２Ｅは、黒色または透明などの無彩色の樹脂膜でもよいことは言うまでもない。金属膜３２Ｆは、第５の実施の形態の金属膜３２Ａと同様に、例えば、チタン（Ｔｉ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜、タングステン（Ｗ）膜などの反射性または遮光性の高い金属膜により構成されている。

本実施の形態では、上述したように、第２保護層３２が金属膜３２Ｆを含んでいる。これにより、本実施の形態では、第１の実施の形態の効果に加えて、第５の実施の形態と同様に、カラーフィルタ層ＣＦの側壁を金属膜３２Ｆにより保護すると共に、混色防止を図ることが可能となる。すなわち、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３に達した光は、金属膜３２Ｆにより反射され、隣接するカラーフィルタ層ＣＦに入射することが抑えられる。

この表示装置１００Ｆは、例えば、次のようにして製造することができる。

図３４ないし図３９は、表示装置１００Ｆの製造方法を工程順に表したものである。なお、第１の実施の形態と同一の工程については、図５ないし図１０を参照して説明する。まず、第１の実施の形態と同様にして、図５に示した工程により、基板１０（図４参照。）に発光素子２０を形成する。

次いで、図３４に示したように、発光素子２０の上に、第１保護層３１を形成する。このとき、第１保護層３１は平坦な上面をもつ層として形成される。

続いて、図３５に示したように、第１保護層３１の上に、ネガ型フォトレジストを用いて例えば緑色フィルタＣＦＧと同じ材料よりなる樹脂膜３２Ｅを形成する。

あるいは、樹脂膜３２Ｅは、次のようにして形成することも可能である。第１保護層３１の全面に樹脂を塗布し、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域のみ加工するようにリソグラフィを実施する。そののち、エッチングにより、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３となる領域に樹脂膜３２Ｅを形成する。

そののち、図３６に示したように、第１保護層３１および樹脂膜３２Ｅの上に、金属材料膜３２Ｆ１を形成する。

続いて、図３７に示したように、金属材料膜３２Ｆ１のエッチバックにより、第１保護層３１上の金属材料膜３２Ｆ１を除去し、樹脂膜３２Ｅの表面に金属膜３２Ｆを形成する。

あるいは、金属膜３２Ｆは、例えば、次のようにして形成することも可能である。金属材料膜３２Ｆ１を形成したのち、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域に開口を設けるようなリソグラフィを実施する。そののち、エッチングにより、金属材料膜３２Ｆ１のうち第１保護層３１上に形成された部分を除去し、フォトレジスト層を除去する。これにより、樹脂膜３２Ｅの表面に金属膜３２Ｆが形成される。

このようにして、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１には、第１保護層３１が形成される。これと共に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３には、樹脂膜３２Ｅと金属膜３２Ｆとにより第２保護層３２が形成される。

そののち、図３８に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、ネガ型フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

続いて、図３９に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

そののち、第１の実施の形態と同様にして、図１０に示した工程により、図３３に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、第３保護層３３を形成する。

最後に、同じく図３３に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図３３に示した表示装置１００Ｆが完成する。

（変形例７−１〜７−３）
なお、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図４０に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図４１に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。また、例えば図４２に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３３との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。

更に、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｆにおいて、反射防止膜５１〜５３の全部を設けることも可能である。

（第８の実施の形態）
図４３は、本開示の第８の実施の形態に係る表示装置１００Ｇにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｇでは、発光素子２０が、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１および側面Ｐ３に沿って設けられていることを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

具体的には、発光素子２０は、基板１０の上面と、基板１０上に設けられた側壁３４の表面とに設けられている。側壁３４は、例えば第１保護層３１および第２保護層３２と同じ材料、または黒色樹脂膜により構成されている。発光素子２０の表面には、透明膜よりなる第１保護層３１および第２保護層３２が設けられている。

本実施の形態では、上述したように、発光素子２０が、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１および側面Ｐ３に沿って設けられているので、発光素子２０からの光は、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１だけでなく側面Ｐ３からも入射する。よって、発光素子２０の光利用効率が高くなり、特性が向上する。

この表示装置１００Ｇは、例えば、次のようにして製造することができる。

図４４ないし図４８は、表示装置１００Ｇの製造方法を工程順に表したものである。なお、第１の実施の形態と同一の工程については、図５ないし図１０を参照して説明する。まず、図４４に示したように、基板１０の上に側壁材料膜（図示せず）を形成し、この側壁材料膜上においてリソグラフィを行い、テーパエッチングで側壁３４を形成する。

そののち、図４５に示したように、基板１０および側壁３４の上に、発光素子２０を形成する。これにより、発光素子２０が、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１および側面Ｐ３となる領域に形成される。

続いて、図４６に示したように、発光素子２０の上に、透明膜よりなる第１保護層３１および第２保護層３２を形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域には第１保護層３１が形成され、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３となる領域には第２保護層３２が形成される。

そののち、図４７に示したように、第１保護層３１および第２保護層３２の上に、ネガ型フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

続いて、図４８に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

そののち、第１の実施の形態と同様にして、図１０に示した工程により、図４３に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、第３保護層３３を形成する。

最後に、同じく図４３に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図４３に示した表示装置１００Ｇが完成する。

（変形例８−１〜８−３）
なお、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図４９に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図５０に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。また、例えば図５１に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３３との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。

更に、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｇにおいて、反射防止膜５１〜５３の全部を設けることも可能である。

（第９の実施の形態）
図５２は、本開示の第９の実施の形態に係る表示装置１００Ｈにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｈは、色変化部材３０の第３保護層３３が、上面（光出射面Ｐ２）とは反対側の面に湾曲部３５を有していることを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

本実施の形態では、上述したように、第３保護層３３の上面に湾曲部３５が設けられている。湾曲部３５は、下方に（カラーフィルタ層ＣＦに向かって）凸の三次元湾曲形状を有している。これにより、本実施の形態では、第１の実施の形態の効果に加えて、湾曲部３５を利用して封止樹脂層４１にオンチップレンズの機能を持たせることが可能となり、視野角特性を向上させることが可能となる。すなわち、湾曲部３５を通過して封止樹脂層４１に入射した光を、より外側へ広がるように拡散させることが可能となる。よって、画像の色や輝度の視野角依存性が低減され、視野角の変化による画像の色や輝度の変化が小さく抑えられる。

この表示装置１００Ｈは、第３保護層３３の上面に湾曲部３５を形成することを除いては、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

図５３ないし図５５は、湾曲部３５の第１の形成方法を工程順に表したものである。まず、図５３に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、ＳｉＮよりなる第３保護層３３を形成する。

次いで、図５４に示したように、レジストパターン形成およびエッチングにより、第３保護層３３の上面に楔形のホール３５Ａを形成する。

続いて、図５５に示したように、ウェットエッチングなどの等方エッチングにより、第３保護層３３の上面にレンズ形状の湾曲部３５を形成する。

図５６ないし図６０は、湾曲部３５の第２の形成方法を工程順に表したものである。まず、図５６に示したように、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および第２保護層３２の上に、ＳｉＮよりなる下部第３保護層３３Ａを形成する。

次いで、レジストパターン形成およびパターンのリフローにより、図５７に示したように、下部第３保護層３３Ａの上に、上方に凸の湾曲形状をもつレジスト膜３５Ｂを形成する。

続いて、図５８に示したように、上方に凸の湾曲形状をもつレジスト膜３５Ｂの上に、更にＳｉＮよりなる上部第３保護層３３Ｂを形成する。

そののち、レジスト膜３５Ｂのエッチレートが大きく、ＳｉＮよりなる上部第３保護層３３Ｂのエッチレートが小さくなる条件で全面エッチバックを行う。これにより、図５９に示したように、レジスト膜３５Ｂの上方に凸の湾曲形状を、上部第３保護層３３Ｂおよび下部第３保護層３３Ａに逆転写していく。図５９は、逆転写の途中の状態を表している。図５９に示した状態から更にエッチバックを継続していくことにより、図６０に示したように、上面に湾曲部３５を有する第３保護層３３が形成される。

（変形例９−１〜９−３）
なお、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、例えば図６１に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けることも可能である。あるいは、例えば図６２に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。また、例えば図６３に示したように、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３３との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。

更に、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第３の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第３保護層３３との間に反射防止膜５２を設けるようにしてもよい。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、上記第２の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第３保護層３３と封止樹脂層４１との間に反射防止膜５１を設けると共に、上記第４の実施の形態と同様に、色変化部材３０のカラーフィルタ層ＣＦと第１保護層３１との間に反射防止膜５３を設けるようにしてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、反射防止膜５１〜５３の全部を設けることも可能である。

加えて、図示しないが、本実施の形態は、上記第５ないし第８の実施の形態との組み合わせも可能である。すなわち、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、第５の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第２保護層３２が金属膜３２Ａを含むようにすることも可能である。あるいは、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、第６の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第２保護層３２が内側の黒色樹脂膜３２Ｃと外側の透明膜３２Ｄとの積層構造により構成されていてもよい。また、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、第７の実施の形態と同様に、色変化部材３０の第２保護層３２が内側の樹脂膜３２Ｅと外側の金属膜３２Ｆとの積層構造により構成されていてもよい。更に、本実施の形態の表示装置１００Ｈにおいて、第８の実施の形態と同様に、発光素子２０を、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１および側面Ｐ３に沿って設けることも可能である。

更にまた、図示しないが、本実施の形態は、上記第５ないし第８の実施の形態の変形例との組み合わせも可能である。

（第１０の実施の形態）
図６４は、本開示の第１０の実施の形態に係る表示装置１００Ｉにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｉは、色変化部材３０の第２保護層３２が、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の一部に金属膜３２Ｆを有していることを除いては、上記第１および第７の実施の形態に係る表示装置１００，１００Ｆと同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

具体的には、第２保護層３２は、下部第２保護層３２Ｇと、上部第２保護層３２Ｈとを有している。下部第２保護層３２Ｇは、第７の実施の形態と同様に、内側の樹脂膜３２Ｅと外側の金属膜３２Ｆとの積層構造により構成されている。樹脂膜３２Ｅは、カラーフィルタ層ＣＦと同様に、赤色、緑色または青色などの有彩色の樹脂膜により構成されている。なお、樹脂膜３２Ｅは、黒色または透明などの無彩色の樹脂膜でもよいことは言うまでもない。金属膜３２Ｆは、第５の実施の形態の金属膜３２Ａと同様に、チタン（Ｔｉ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜、タングステン（Ｗ）膜などの反射性または遮光性の高い金属膜により構成されている。

上部第２保護層３２Ｈは、第１の実施の形態の第２保護層３２と同様に、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）膜、酸化アルミニウム膜（Ａｌ₂Ｏ₃）などの透過率が高く、パッシベーション性の高い透明無機材料膜により構成されている。

本実施の形態では、上述したように、色変化部材３０の第２保護層３２が、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の一部に金属膜３２Ｆを有している。これにより、本実施の形態では、第１の実施の形態の効果に加えて、第７の実施の形態と同様に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の一部を金属膜３２Ｆにより保護すると共に、混色防止を図ることが可能となる。すなわち、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３に達した光は、金属膜３２Ｆにより反射され、隣接するカラーフィルタ層ＣＦに入射することが抑えられる。また、混色防止のためには、金属膜３２Ｆをカラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の少なくとも一部に設ければ足りる。更に、内側の樹脂膜３２Ｅのアスペクト比を低くすることが可能となるので、内側の樹脂膜３２Ｅの形成工程が容易になり、製造工程の簡素化が可能となる。

この表示装置１００Ｉは、例えば、次のようにして製造することができる。

図６５ないし図７１は、表示装置１００Ｉの製造方法を工程順に表したものである。なお、第１の実施の形態と同一の工程については、図５ないし図１０を参照して説明する。まず、第１の実施の形態と同様にして、図５に示した工程により、基板１０（図４参照。）に発光素子２０を形成する。

次いで、図６５に示したように、発光素子２０の上に、第１保護層３１を形成する。このとき、第１保護層３１は平坦な上面をもつ層として形成される。

続いて、図６６に示したように、第１保護層３１の上に、ネガ形フォトレジストを用いて例えば緑色フィルタＣＦＧと同じ材料よりなるアスペクト比の低い樹脂膜３２Ｅを形成する。このとき、樹脂膜３２Ｅの高さは、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３の一部に設けられる程度とする。

そののち、図６７に示したように、第１保護層３１および樹脂膜３２Ｅの上に、金属材料膜３２Ｆ１を形成する。

続いて、図６８に示したように、金属材料膜３２Ｆ１のエッチバックにより、第１保護層３１上の金属材料膜３２Ｆ１を除去し、樹脂膜３２Ｅの表面に金属膜３２Ｆを形成する。

あるいは、金属膜３２Ｆは、例えば、次のようにして形成することも可能である。金属材料膜３２Ｆ１を形成したのち、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１となる領域に開口を設けるようなリソグラフィを実施する。そののち、エッチングにより、金属材料膜３２Ｆ１のうち第１保護層３１上に形成された部分を除去し、フォトレジスト膜を剥離する。

このようにして、カラーフィルタ層ＣＦの光入射面Ｐ１には、第１保護層３１が形成される。これと共に、カラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３には、樹脂膜３２Ｅと金属膜３２Ｆとにより下部第２保護層３２Ｇが形成される。

そののち、図６９に示したように、第１保護層３１および下部第２保護層３２Ｃの上に、ネガ形フォトレジストを用いて赤色フィルタＣＦＲを形成する。

続いて、図７０に示したように、赤色フィルタＣＦＲと同様にして、ネガ型フォトレジストを用いて青色フィルタＣＦＢおよび緑色フィルタＣＦＧを順次形成する。これにより、カラーフィルタ層ＣＦが形成される。

そののち、図７１に示したように、隣り合うカラーフィルタ層ＣＦの側面Ｐ３で囲まれた隙間の部分に上部第２保護層３２Ｈを埋め込む。続いて、カラーフィルタ層ＣＦの光出射面Ｐ２および上部第２保護層３２Ｈの上に、第３保護層３３を形成する。

最後に、図６４に示したように、第３保護層３３の上に封止樹脂層４１を形成し、封止基板４２を封止樹脂層４１により貼り合わせる。以上により、図６４に示した表示装置１００Ｉが完成する。

なお、図示しないが、本実施の形態は、上記第２ないし第４の実施の形態との組み合わせも可能である。また、図示しないが、本実施の形態と、上記第２ないし第４の実施の形態のうちの二つまたは三つとを組み合わせることも可能である。

（第１１の実施の形態）
図７２は、本開示の第１１の実施の形態に係る表示装置１００Ｊにおいて、隣接する三つの画素ＰＸの概略断面構成を表したものである。この表示装置１００Ｆは、色変化部材３０の上の封止樹脂層４１および封止基板４２を省略したことを除いては、上記第１の実施の形態に係る表示装置１００と同様の構成を有している。これにより、本実施の形態では、色変化部材３０により発光素子２０を保護しながら、そのままパッケージ形態として表示装置１００やその他の電子機器に搭載することが可能となり、小型化・薄型化への貢献が可能となる。

この表示装置１００Ｊは、色変化部材３０の第３保護層３３を形成したのち、封止樹脂層４１および封止基板４２を設けないことを除いては、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

また、図示しないが、本実施の形態は、上記第５ないし第１０の実施の形態またはその変形例との組み合わせも可能である。

（発光素子２０の変形例）
なお、以上の実施の形態では、図４に示したように、発光層２３Ｃが、赤色発光層２３ＣＲ、青色発光層２３ＣＢ、および緑色発光層２３ＣＧの積層構造をもつ白色発光層であり、発光層２３Ｃからの発生した白色光ＬＷが、カラーフィルタＣＦ（赤フィルタＣＦＲ，緑フィルタＣＦＧ，青フィルタＣＦＢ）により赤色光ＬＲ，緑色光ＬＧおよび青色光ＬＢに色分離される場合について説明した。

しかしながら、有機層２３は、例えば図７３に示したように、アノード電極２１側から順に、正孔注入層２３Ａ，正孔輸送層２３Ｂ，発光層２３Ｃ（赤色発光層２３ＣＲ，緑色発光層２３ＣＧ，青色発光層２３ＣＢ），電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅを積層した構成を有していてもよい。この場合には、赤色発光層２３ＣＲは、赤色光ＬＲを発生する。緑色発光層２３ＣＧは、緑色光ＬＧを発生する。青色発光層２３ＣＢは、青色光ＬＢを発生する。このように、色別の発光層２３Ｃ（赤色発光層２３ＣＲ，緑色発光層２３ＣＧ，青色発光層２３ＣＢ）とカラーフィルタ層ＣＦ（赤色フィルタＣＦＲ，緑色フィルタＣＦＧおよび青色フィルタＣＦＢ）とを併用することにより、色純度を高めることが可能となる。

図７３に示した有機層２３のうち、正孔注入層２３Ａ，正孔輸送層２３Ｂ，電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅは、例えば真空蒸着法により、画素アレイ部１０２（図１参照。）の全面に共通層として形成される。一方、赤色発光層２３ＣＲ、緑色発光層２３ＣＧ、および黄色発光層２３ＣＹは、例えば塗布法により色別に形成される。青色発光層２３ＣＢは、例えば真空蒸着法により、画素アレイ部１０２の全面に共通層として形成されていてもよいし、例えば塗布法により色別に形成されていてもよい。

あるいは、有機層２３は、例えば図７４に示したように、アノード電極２１側から順に、正孔注入層２３，正孔輸送層２３Ｂ，発光層２３Ｃ（黄色発光層２３ＣＹ，青色発光層２３ＣＢ），電子輸送層２３Ｄおよび電子注入層２３Ｅを積層した構成を有していてもよい。この場合には、黄色発光層２３ＣＹは、黄色光ＬＹを発生する。黄色光ＬＹは、カラーフィルタＣＦ（赤フィルタＣＦＲ，緑フィルタＣＦＧ）により赤色光ＬＲおよび緑色光ＬＧに色分離される。

なお、有機層２３および発光層２３Ｃの構成は、図４、図７３および図７４に示した例に限られず、他の構成を有していてもよいことは言うまでもない。

（適用例）
続いて、図７５ないし図７８を参照して、上記実施の形態に係る表示装置の適用例について説明する。また、上記実施の形態の表示装置は、上述したマイクロディスプレイとしては、デジタル一眼レフカメラ電子ビューファインダやヘッドマウントディスプレイその他のウェアラブルディスプレイなどに用いられる。また、そのほか、テレビジョン装置、デスクトップ型、ノート型、タブレット型などのコンピュータやゲーム機のモニター装置、デジタルサイネージ、携帯電話、スマートフォン、電子書籍リーダー、携帯音楽プレーヤ等の携帯端末装置など、広い分野の電子機器に適用することが可能である。

（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図７５に示したようなモジュールとして、後述する適用例１，２などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、中央部の画素アレイ部１０２（図１参照。）と、この画素アレイ部１０２の外側の周辺領域１０６とを有している。周辺領域１０６には、図１に示した駆動部（信号セレクタ１０３，主スキャナ１０４，および電源スキャナ１０５）が設けられると共に、画素アレイ部１０２の配線が延長されて外部接続端子（図示せず）が設けられている。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）１０７が接続されていてもよい。

（適用例１）
図７６および図７７は、上記実施の形態の表示装置が適用される撮像装置（レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルカメラ）の外観を表したものである。この撮像装置４１０は、例えば、カメラ本体部（カメラボディ）４１１の正面右側に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）４１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部４１３を有している。カメラ本体部４１１の背面略中央にはモニタ４１４が設けられている。モニタ４１４の上部には、ビューファインダ（接眼窓）４１５が設けられている。撮影者は、ビューファインダ４１５を除くことによって、撮影レンズユニット４１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。このビューファインダ４１５は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例２）
図７８は、上記実施の形態の表示装置が適用されるヘッドマウントディスプレイの外観を表したものである。このヘッドマウントディスプレイ４２０は、例えば、眼鏡形の表示部４２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部４２２を有しており、その表示部４２１は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

以上、実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。

例えば、上記実施の形態では、色変化部材３０を発光素子２０の上に設けるオンチップカラーフィルタの構成を例として説明したが、色変化部材３０は、封止基板４２上に設けられていてもよい。

また、例えば、上記実施の形態では、色変化部材３０が、光吸収を用いて光の色を変化させるカラーフィルタである場合について説明した。しかしながら、色変化部材３０は、蛍光性を利用して光の色を変化させる色変換層または波長変換部材でもよい。色変換層または波長変換部材は、フォトレジストなどの有機材料に有機蛍光材料を混合することにより構成されている。

更に、例えば、上記実施の形態では、発光素子２０が有機ＥＬ素子である場合について説明したが、発光素子２０は、発光ダイオード（ＬＥＤ；Light Emitting Diode）、半導体レーザ、無機ＥＬ素子などの他の自発光素子でもよい。

加えて、例えば、上記実施の形態では、発光素子２０の光取り出し側に色変化部材３０を有する表示装置１００を例として説明したが、表示装置１００は、発光素子２０に代えて、光の透過または反射を制御する光制御素子、例えば液晶素子の光取り出し側に色変化部材３０を有していてもよい。

更にまた、本開示は、発光素子２０の光取り出し側に色変化部材３０を有しているが、画像表示を目的としない照明用途などの発光装置にも適用可能である。

加えてまた、例えば、上記実施の形態では、表示装置１００，１００Ａ〜１００Ｊの構成を具体的に挙げて説明したが、表示装置１００，１００Ａ〜１００Ｊは、図示した構成要素を全て備えるものに限定されるものではない。また、一部の構成要素を他の構成要素に置換することもできる。

更にまた、上記実施の形態では、画素回路１０１の構成および動作について具体例を挙げて説明したが、アクティブマトリクス駆動のための画素回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよく、また結線関係を変更することも可能である。その場合、画素回路の変更に応じて、上述した駆動部（信号セレクタ１０３，主スキャナ１０４，および電源スキャナ１０５）のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。また、画素回路の駆動方法や動作についても、上記実施の形態で説明したものに限られず、適宜の変更が可能であることは言うまでもない。

加えてまた、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。

更にまた、有機層２３は、真空蒸着法または吐出コート法などの塗布法の他に、ディッピング法，ドクターブレード法，スピンコート法，スプレーコート法などの他の塗布法、インクジェット法，オフセット印刷法，凸版印刷法，凹版印刷法，スクリーン印刷法，マイクログラビアコート法などの印刷法などによる形成も可能であり、有機層２３の各層や各部材の性質に応じて、ドライプロセスとウエットプロセスを併用してもよい。

加えてまた、上記実施の形態では、発光素子２０を色変化部材３０、封止樹脂層４１および封止基板４２で覆い、色変化部材３０と封止基板４２との間に空間を残さない固体封止構造について説明した。しかしながら、発光素子２０を色変化部材３０および蓋状部材（図示せず）で覆い、色変化部材３０と蓋状部材との間に空間を残す中空封止構造としてもよい。この場合には、色変化部材３０の第３保護層３３と蓋状部材との間の空間にゲッター剤（図示せず）等を設置することにより、有機層２３への水分の浸入を抑えることが望ましい。

加えてまた、上記実施の形態では、発光素子２０が、基板１０側からアノード電極２１、有機層２３、およびカソード電極２４を順に有する場合について説明したが、アノード電極２１およびカソード電極２４を逆にして、基板１０側からカソード電極２４、有機層２３、およびアノード電極２１を有していてもよい。この場合についても、アノード電極２１側から光を取り出す上面発光、カソード電極２４（基板１０）側から光を取り出す下面発光のいずれも可能である。

なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果があってもよい。

なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた色変化部材。
（２）
前記色変化層の前記光出射面の少なくとも一部に設けられた第３保護層を更に備えた
前記（１）記載の色変化部材。
（３）
前記第１保護層、前記第２保護層および前記第３保護層のうち少なくとも前記第１保護層および前記第３保護層は、透明無機材料膜を含む
前記（２）記載の色変化部材。
（４）
前記第１保護層、前記第２保護層および前記第３保護層のうち少なくとも前記第１保護層および前記第３保護層は、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜および酸化アルミニウム膜のうちの少なくとも一つを含む
前記（３）記載の色変化部材。
（５）
前記第２保護層は、前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に金属膜を含む
前記（１）ないし（４）のいずれかに記載の色変化部材。
（６）
前記第２保護層は、チタン（Ｔｉ）膜，アルミニウム（Ａｌ）膜およびタングステン（Ｗ）膜のうちの少なくとも一つを含む
前記（５）記載の色変化部材。
（７）
前記第２保護層は、前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に黒色樹脂膜を含む
前記（１）ないし（４）のいずれかに記載の色変化部材。
（８）
前記色変化層の前記光入射面側および前記光出射面側のうち少なくとも一方に、反射防止膜を更に備えた
前記（１）ないし（７）のいずれかに記載の色変化部材。
（９）
前記第３保護層は、前記光出射面とは反対側の面に湾曲部を有する
前記（２）ないし（８）のいずれかに記載の色変化部材。
（１０）
光を放出する発光素子と、前記発光素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた発光装置。
（１１）
光を放出する発光素子または光の透過または反射を制御する光制御素子と、前記発光素子または前記光制御素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた表示装置。
（１２）
前記発光素子は、前記色変化層の光入射面および前記側面に沿って設けられている
前記（１１）記載の表示装置。
（１３）
表示装置を有し、
前記表示装置は、光を放出する発光素子または光の透過もしくは反射を制御する光制御素子と、前記発光素子または前記光制御素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた電子機器。

１００，１００Ａ〜１００Ｊ…表示装置、１０…基板、１１…基材、２０…発光素子、２０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、２０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、２０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、２１…アノード電極（第１電極）、２２…隔壁、２３…有機層、２４…カソード電極（第２電極）、３０…色変化部材、３１…第１保護層、３２…第２保護層、３２Ａ…金属膜、３３…第３保護層、３４…側壁、３５…湾曲部、４１…封止樹脂層、４２…封止基板、５１〜５３…反射防止膜、ＣＦ…カラーフィルタ層、ＣＦＲ…赤色フィルタ、ＣＦＧ…緑色フィルタ。

Claims

光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた色変化部材。
前記色変化層の前記光出射面の少なくとも一部に設けられた第３保護層を更に備えた
請求項１記載の色変化部材。
前記第１保護層、前記第２保護層および前記第３保護層のうち少なくとも前記第１保護層および前記第３保護層は、透明無機材料膜を含む
請求項２記載の色変化部材。
前記第１保護層、前記第２保護層および前記第３保護層のうち少なくとも前記第１保護層および前記第３保護層は、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜および酸化アルミニウム膜のうちの少なくとも一つを含む
請求項３記載の色変化部材。
前記第２保護層は、前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に金属膜を含む
請求項１記載の色変化部材。
前記第２保護層は、チタン（Ｔｉ）膜，アルミニウム（Ａｌ）膜およびタングステン（Ｗ）膜のうちの少なくとも一つを含む
請求項５記載の色変化部材。
前記第２保護層は、前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に黒色樹脂膜を含む
請求項１記載の色変化部材。
前記色変化層の前記光入射面側および前記光出射面側のうち少なくとも一方に、反射防止膜を更に備えた
請求項１記載の色変化部材。
前記第３保護層は、前記光出射面とは反対側の面に湾曲部を有する
請求項２記載の色変化部材。
光を放出する発光素子と、前記発光素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた発光装置。
光を放出する発光素子または光の透過または反射を制御する光制御素子と、前記発光素子または前記光制御素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた表示装置。
前記発光素子は、前記色変化層の光入射面および前記側面に沿って設けられている
請求項１１記載の表示装置。
表示装置を有し、
前記表示装置は、光を放出する発光素子または光の透過もしくは反射を制御する光制御素子と、前記発光素子または前記光制御素子の光取り出し側に設けられた色変化部材とを有し、
前記色変化部材は、
光入射面、光出射面および側面を有する色変化層と、
前記色変化層の前記光入射面に設けられた第１保護層と、
前記色変化層の前記側面の少なくとも一部に設けられた第２保護層と
を備えた電子機器。