TW201008953A - Process for production of alkyl tin alkoxide compound, and process for production of carbonate ester using the compound - Google Patents
Process for production of alkyl tin alkoxide compound, and process for production of carbonate ester using the compound Download PDFInfo
- Publication number
- TW201008953A TW201008953A TW098111521A TW98111521A TW201008953A TW 201008953 A TW201008953 A TW 201008953A TW 098111521 A TW098111521 A TW 098111521A TW 98111521 A TW98111521 A TW 98111521A TW 201008953 A TW201008953 A TW 201008953A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- isomer
- group
- tin
- compound
- acid
- Prior art date
Links
- -1 alkyl tin alkoxide compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 706
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 423
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 168
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 92
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 362
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 206
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 202
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 169
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 121
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 97
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 51
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 51
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 40
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 36
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 370
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 176
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 167
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 121
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 104
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 87
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 87
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 87
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 85
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 85
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 55
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 44
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims description 44
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 40
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical group CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 29
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 27
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 claims description 27
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 25
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 23
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 17
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 16
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 13
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 11
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 claims description 9
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 claims description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 8
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 8
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 7
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical group [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 102100021090 Homeobox protein Hox-A9 Human genes 0.000 claims description 4
- 101001083156 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A1 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001083164 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A10 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001083158 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A11 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001083162 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A13 Proteins 0.000 claims description 4
- 101000962622 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A3 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001077578 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A4 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001077568 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A5 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001045083 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A6 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001045116 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A7 Proteins 0.000 claims description 4
- 101001041174 Homo sapiens Homeobox protein Hox-A9 Proteins 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 claims description 4
- POCRBODWWRSSTH-UHFFFAOYSA-N [Ca].[Ca].[Sn] Chemical compound [Ca].[Ca].[Sn] POCRBODWWRSSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 4
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 102100025056 Homeobox protein Hox-B6 Human genes 0.000 claims description 3
- 101001019745 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B1 Proteins 0.000 claims description 3
- 101001019752 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B2 Proteins 0.000 claims description 3
- 101000839775 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B3 Proteins 0.000 claims description 3
- 101000839788 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B4 Proteins 0.000 claims description 3
- 101000840553 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B5 Proteins 0.000 claims description 3
- 101001077542 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B6 Proteins 0.000 claims description 3
- 101001077539 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B7 Proteins 0.000 claims description 3
- 101000988994 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B8 Proteins 0.000 claims description 3
- 101000989000 Homo sapiens Homeobox protein Hox-B9 Proteins 0.000 claims description 3
- 229910009053 Sn—O—Sn Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N diane Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1.C1=C(Cl)C2=CC(=O)[C@@H]3CC3[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@](C(C)=O)(OC(=O)C)[C@@]1(C)CC2 RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 3
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- GSJBKPNSLRKRNR-UHFFFAOYSA-N $l^{2}-stannanylidenetin Chemical compound [Sn].[Sn] GSJBKPNSLRKRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 102100020758 Homeobox protein Hox-C12 Human genes 0.000 claims description 2
- 102100021086 Homeobox protein Hox-D4 Human genes 0.000 claims description 2
- 101001002991 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C12 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001002988 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C13 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001002994 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C4 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001002966 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C5 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001045154 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C6 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001045158 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C8 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001045140 Homo sapiens Homeobox protein Hox-C9 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001037162 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D1 Proteins 0.000 claims description 2
- 101000962573 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D10 Proteins 0.000 claims description 2
- 101000962591 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D11 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001037158 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D3 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001041136 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D4 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001019776 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D8 Proteins 0.000 claims description 2
- 101001019766 Homo sapiens Homeobox protein Hox-D9 Proteins 0.000 claims description 2
- RDFXCMMSWDVURH-UHFFFAOYSA-N O1CCOCC1.[Sn] Chemical compound O1CCOCC1.[Sn] RDFXCMMSWDVURH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims 1
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 64
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 54
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 48
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 48
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 39
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 38
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 37
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 36
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 34
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 32
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 31
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 31
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 30
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 30
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 30
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 30
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 27
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 27
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 26
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 26
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 26
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 25
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 24
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 23
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 22
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 21
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 20
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical group CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 20
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 19
- TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-butanol Chemical compound CCC(CC)CO TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 18
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 16
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 15
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 15
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 14
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 14
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 13
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 13
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 13
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 13
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 13
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 12
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 11
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 11
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 11
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006900 dealkylation reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 10
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 10
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 10
- 238000000902 119Sn nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 125000003858 2-ethylbutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])O*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 9
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 9
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N dibutyl carbonate Chemical compound CCCCOC(=O)OCCCC QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 9
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 244000061458 Solanum melongena Species 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 8
- QLCGFUKTPZHCND-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCC)(OCC)CCCCCCCC QLCGFUKTPZHCND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 8
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 8
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 8
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FJEKUEUBQQWPBY-UHFFFAOYSA-N 1$l^{2}-stanninane Chemical compound C1CC[Sn]CC1 FJEKUEUBQQWPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=NC=CN1 XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 3-Methylbutanoic acid Natural products CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- CQMUOFGWJSNFPX-UHFFFAOYSA-N [O].[Sn].[Sn] Chemical compound [O].[Sn].[Sn] CQMUOFGWJSNFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 7
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N beta-methyl-butyric acid Natural products CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JTMPOYHOKNOLNQ-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylbutyl) carbonate Chemical compound CCC(CC)COC(=O)OCC(CC)CC JTMPOYHOKNOLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 7
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 7
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 7
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical compound [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 7
- WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyric acid Chemical compound CCC(C)C(O)=O WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001331 3-methylbutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 6
- 206010067484 Adverse reaction Diseases 0.000 description 6
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 6
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 6
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006838 adverse reaction Effects 0.000 description 6
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 6
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 6
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 6
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 6
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 6
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PHRRYVOQWOVNLF-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutan-1-ol Chemical compound CC(S)CCO PHRRYVOQWOVNLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical class C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- DWWPOAYNAWHBKI-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylbutyl) carbonate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)OCCC(C)C DWWPOAYNAWHBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RGCPMRIOBZXXBR-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;dibutyltin(2+) Chemical compound CCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCC RGCPMRIOBZXXBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- NTGYRXLCWXLQSS-UHFFFAOYSA-L dimethyl(diphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1 NTGYRXLCWXLQSS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229910000080 stannane Inorganic materials 0.000 description 5
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VQPMXSMUUILNFZ-UHFFFAOYSA-N 3,7-dihydropurine-2,6-dithione Chemical compound S=C1NC(=S)NC2=C1NC=N2 VQPMXSMUUILNFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 3-Methylbutanol Natural products CC[C@H](C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Natural products CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCZKMKZQWUNXHN-UHFFFAOYSA-N CC(CCOC(=O)OCCC(C)S)S Chemical compound CC(CCOC(=O)OCCC(C)S)S YCZKMKZQWUNXHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N Hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1 LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000147568 Laurus nobilis Species 0.000 description 4
- 235000017858 Laurus nobilis Nutrition 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NKANXQFJJICGDU-QPLCGJKRSA-N Tamoxifen Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(/CC)=C(C=1C=CC(OCCN(C)C)=CC=1)/C1=CC=CC=C1 NKANXQFJJICGDU-QPLCGJKRSA-N 0.000 description 4
- 235000005212 Terminalia tomentosa Nutrition 0.000 description 4
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- HXHVOGZYEQOIAP-UHFFFAOYSA-L bis(2-methylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC=C(C)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1C HXHVOGZYEQOIAP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UROKUKHYYXBCQE-UHFFFAOYSA-L dibutyl(diphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1 UROKUKHYYXBCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMCCWVXLWJILNP-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-methylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(C)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1C UMCCWVXLWJILNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- DWGCJJZWHKUSLC-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dimethyl)stannane Chemical compound CCO[Sn](C)(C)OCC DWGCJJZWHKUSLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FELBWMLVXBHHGR-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(2-methylphenoxy)stannane Chemical compound CC1=CC=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1C FELBWMLVXBHHGR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N dioctyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCC LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- APJFQUWHXVUAMD-UHFFFAOYSA-L dioctyltin(2+);diphenoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 APJFQUWHXVUAMD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- MMXKVMNBHPAILY-UHFFFAOYSA-N ethyl laurate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCC MMXKVMNBHPAILY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 4
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 4
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N tricarballylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(O)=O KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UYVWNPAMKCDKRB-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetraoxane Chemical compound C1OOCOO1 UYVWNPAMKCDKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical class C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTIAYNBMYSOJME-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-ethylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1CC QTIAYNBMYSOJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CGMMPMYKMDITEA-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(O)=O CGMMPMYKMDITEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GADSJKKDLMALGL-UHFFFAOYSA-N 2-propylbenzoic acid Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1C(O)=O GADSJKKDLMALGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XXJIFCJOGDHOGM-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCC(C)C XXJIFCJOGDHOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSMKSLRDKDLBED-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC[Sn](C)(C)CCCCCCC Chemical compound CCCCCCC[Sn](C)(C)CCCCCCC QSMKSLRDKDLBED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- STBCXIQUSXIZJR-UHFFFAOYSA-L CCCCCC[Sn+2]CCCCCC.[SH-].[SH-] Chemical compound CCCCCC[Sn+2]CCCCCC.[SH-].[SH-] STBCXIQUSXIZJR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 3
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 3
- 102000001708 Protein Isoforms Human genes 0.000 description 3
- 108010029485 Protein Isoforms Proteins 0.000 description 3
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 3
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 3
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-N angelic acid Chemical compound C\C=C(\C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 3
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- DOKDOSPPUPOMEX-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-stannanylidene)tin Chemical compound [Sn]=[Sn]=[Sn] DOKDOSPPUPOMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SYEQIPRNGBPIJL-UHFFFAOYSA-L bis(2-butyl-3-methylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCCC SYEQIPRNGBPIJL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- CAOQDUJHOBMUIL-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethylphenoxy)-stannyloxystannane Chemical compound C(C)C1=C(O[SnH](O[SnH3])OC2=C(C=CC=C2)CC)C=CC=C1 CAOQDUJHOBMUIL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- QEQNLLNBVBARNV-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylbutoxy)-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCC(C)C)(OCCC(C)C)CCCCCCCC QEQNLLNBVBARNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DOBSQSLSWMMIEM-UHFFFAOYSA-N butoxytin Chemical compound CCCCO[Sn] DOBSQSLSWMMIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N butyltin Chemical compound CCCC[Sn] LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FFGPTBGBLSHEPO-UHFFFAOYSA-N carbamazepine Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2N(C(=O)N)C2=CC=CC=C21 FFGPTBGBLSHEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- LCZNSRFHIIHQMB-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dimethyl)stannane Chemical compound CCCCO[Sn](C)(C)OCCCC LCZNSRFHIIHQMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNZBASDDVBURLC-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](OCC)(OCC)CCCC ZNZBASDDVBURLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDDMVERZNNGCJE-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2,3-diethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CC GDDMVERZNNGCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- UQWHMCUYALZIOH-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2,3-dipropylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(CCC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(CCC)=C1CCC UQWHMCUYALZIOH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- RVYPTTUWTFKLJT-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-ethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CC RVYPTTUWTFKLJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- JNMMUOPDFIBLEV-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-hexylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCC JNMMUOPDFIBLEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZMQLERKGBIAJJZ-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(3-ethyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CCC ZMQLERKGBIAJJZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHPUGCYGQWGLJL-UHFFFAOYSA-N dimethyl pentanoic acid Natural products CC(C)CCCC(O)=O MHPUGCYGQWGLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHRJTFORZWLDJA-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(2-propylphenoxy)stannane Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1CCC KHRJTFORZWLDJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HFVQXGCTVXINBY-UHFFFAOYSA-N dioctyl(dipropoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCC)(OCCC)CCCCCCCC HFVQXGCTVXINBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MACVNMKPAKPZQG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC)(OC)CCCCCCCC MACVNMKPAKPZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- TVXDIKMOWPFTSD-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCC TVXDIKMOWPFTSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000011552 falling film Substances 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- LSACYLWPPQLVSM-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid anhydride Chemical compound CC(C)C(=O)OC(=O)C(C)C LSACYLWPPQLVSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-N isocaproic acid Chemical compound CC(C)CCC(O)=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- DUCKXCGALKOSJF-UHFFFAOYSA-N pentanoyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OC(=O)CCCC DUCKXCGALKOSJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N phosphamidon Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(\Cl)=C(/C)OP(=O)(OC)OC RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 3
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 3
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 3
- KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N stannane Chemical compound [SnH4] KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical compound C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YUBJNHZNELHRED-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCC)(OCC)OCC YUBJNHZNELHRED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- SNICXCGAKADSCV-JTQLQIEISA-N (-)-Nicotine Chemical compound CN1CCC[C@H]1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-JTQLQIEISA-N 0.000 description 2
- XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N (E)-glutaconic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C(O)=O XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIEXTNJZWQQCNE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetraoctylhydrazine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)N(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZIEXTNJZWQQCNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUBBAXISAHIDNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,3-dimethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(C)=C1C QUBBAXISAHIDNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDIJZFORGDBEKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C)=C1C HDIJZFORGDBEKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutanoic acid Chemical compound CCC(CC)C(O)=O OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAWJJMYZJQJLPZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(S)=C DAWJJMYZJQJLPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSJUCRQFZUWVDM-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl hydrogen carbonate Chemical compound CC(C)CCOC(O)=O YSJUCRQFZUWVDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGVVCSRXXRZYRX-UHFFFAOYSA-M C(C)C=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC=1)CC Chemical compound C(C)C=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC=1)CC DGVVCSRXXRZYRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QCIOIPHPBFPHHK-UHFFFAOYSA-M CC=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC=1)C Chemical compound CC=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC=1)C QCIOIPHPBFPHHK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NOFROLFVZAFIIN-UHFFFAOYSA-L CCCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] Chemical compound CCCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] NOFROLFVZAFIIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LHAHGSCWMOGDIK-UHFFFAOYSA-L CCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCC)O[SnH3] Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCC)O[SnH3] LHAHGSCWMOGDIK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PMSDTDNJRHAEPG-UHFFFAOYSA-L CCCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCCC)O[SnH3] Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCCC)O[SnH3] PMSDTDNJRHAEPG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQFOYKIRFZAWID-UHFFFAOYSA-L CCCCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCCCC)O[SnH3] Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCCCCC)O[SnH3] WQFOYKIRFZAWID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCFODLURNIQYMX-UHFFFAOYSA-L [dioctyl-(2,3,4-trimethylphenoxy)stannyl]oxy-dioctyl-(2,3,4-trimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(C)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1C YCFODLURNIQYMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IPBVNPXQWQGGJP-UHFFFAOYSA-N acetic acid phenyl ester Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1 IPBVNPXQWQGGJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N acetoacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 239000012223 aqueous fraction Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- WLFXFXUHJXIEBI-UHFFFAOYSA-L bis(2,3-dipropylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(CCC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(CCC)=C1CCC WLFXFXUHJXIEBI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IHSKKIJKRYJJPW-UHFFFAOYSA-L bis(2-butyl-3-ethylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CCCC IHSKKIJKRYJJPW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CBRNXCHOKLQBKY-UHFFFAOYSA-L bis(2-butyl-3-methylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCCCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC(C)=C1CCCC CBRNXCHOKLQBKY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BHTICAYXTCLBQP-UHFFFAOYSA-L bis(2-butylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCC BHTICAYXTCLBQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VHEXCXAHBVMBFG-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethyl-3,4-dimethylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCC1=C(C)C(C)=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CC VHEXCXAHBVMBFG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VYZWWVOWQQUOEN-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethyl-3,4-dimethylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CC VYZWWVOWQQUOEN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OBBOYIBYKBNBOB-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCC1=CC=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1CC OBBOYIBYKBNBOB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BMFGWDLDLXBONA-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC=C(CC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CC BMFGWDLDLXBONA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BZEXJLWKXZQINY-UHFFFAOYSA-L bis(2-hexylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCCCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCC BZEXJLWKXZQINY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LDNWYKGQIFHFQX-UHFFFAOYSA-L bis(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound C[Sn](OC1=C(C(=C(C=C1)C)C)CCC)(OC1=C(C(=C(C=C1)C)C)CCC)C LDNWYKGQIFHFQX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- APSZYPOQUVPOSR-UHFFFAOYSA-L bis(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCC APSZYPOQUVPOSR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HTEJPGYBLLZHOM-UHFFFAOYSA-L bis(3-ethyl-2-propylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CCC HTEJPGYBLLZHOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SNGKCVGWOAZFBA-UHFFFAOYSA-L bis(3-methyl-2-propylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCC SNGKCVGWOAZFBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OGKDJUKDXNBVNT-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylbutoxy)-stannyloxystannane Chemical compound CC(C)CCO[SnH](O[SnH3])OCCC(C)C OGKDJUKDXNBVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N bismuth tin Chemical compound [Sn].[Bi] JWVAUCBYEDDGAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 2
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 235000019504 cigarettes Nutrition 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006622 cycloheptylmethyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006623 cyclooctylmethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 2
- RAPXDXJBAYUBHI-UHFFFAOYSA-N decyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCCCC RAPXDXJBAYUBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 2
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- WFLLPKDDXLHZLQ-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCC)(OCCCC)CCCCCCCC WFLLPKDDXLHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLJSTUQQCAUXCA-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dihexoxy)stannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCCC ZLJSTUQQCAUXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVKCFEZKLILFGY-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dihexyl)stannane Chemical compound CCCCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCCCC RVKCFEZKLILFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDYHIPDYGQQEGC-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCCCCCC XDYHIPDYGQQEGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGWZFKKXAYLYAZ-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dipentoxy)stannane Chemical compound CCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCC WGWZFKKXAYLYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYOSUQZSGXEMRM-UHFFFAOYSA-L dibutyl-[dibutyl-(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)stannyl]oxy-(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCC ZYOSUQZSGXEMRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YNEPRBBEPWHQLL-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2,3,4-triethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(CC)C(CC)=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(CC)C(CC)=C1CC YNEPRBBEPWHQLL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NLZKFRLOTRUNOK-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2,3,4-trimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(C)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1C NLZKFRLOTRUNOK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NAZQVJXQGQHRIM-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-butyl-3-ethylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCC1=C(CC)C=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CCCC NAZQVJXQGQHRIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZMMSCADRWMKQET-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-butylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCCC ZMMSCADRWMKQET-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CENIUOBSONZKRS-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-ethyl-3,4-dimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CC CENIUOBSONZKRS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JQXODTOVNKFNDL-UHFFFAOYSA-N dibutyl-bis(2-ethylbutoxy)stannane Chemical compound CCC(CC)CO[Sn](CCCC)(CCCC)OCC(CC)CC JQXODTOVNKFNDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJZGYENBSNXOHM-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-pentylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCC PJZGYENBSNXOHM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NQPAWVJOUMRYBX-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(3-ethyl-4-methyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(CC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(CC)=C1CCC NQPAWVJOUMRYBX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IGMCINKIWSIUGI-UHFFFAOYSA-N dibutyl-bis(prop-1-enyl)stannane Chemical compound C(=CC)[Sn](CCCC)(CCCC)C=CC IGMCINKIWSIUGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPWJIDKUVCRAAF-UHFFFAOYSA-N diethoxy(stannyloxy)stannane Chemical compound C(C)O[SnH](O[SnH3])OCC GPWJIDKUVCRAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQZCHQPIDPVYQL-UHFFFAOYSA-N dihexoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCCCC)(OCCCCCC)CCCCCCCC MQZCHQPIDPVYQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHWNGVQMIQXKCB-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)stannane Chemical compound CO[Sn](C)(C)OC NHWNGVQMIQXKCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSXWJYRCSQWJU-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dipropoxy)stannane Chemical compound CCCO[Sn](C)(C)OCCC RWSXWJYRCSQWJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWOHCAFWJFUFQE-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(3-methyl-2-pentylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC(C)=C1CCCCC YWOHCAFWJFUFQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KDHILWHCUWEXLD-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(3-methyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound CCCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC(C)=C1CCC KDHILWHCUWEXLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NDHROUATKUQULX-UHFFFAOYSA-N dioctoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCCCC NDHROUATKUQULX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APUJBYDJQNFATL-UHFFFAOYSA-N dioctyl(dipentoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCCC)(OCCCCC)CCCCCCCC APUJBYDJQNFATL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVCVZDIUITYZBX-UHFFFAOYSA-L dioctyl-bis(2,3,4-trimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(C)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1C ZVCVZDIUITYZBX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LRNQBMIJWYBAEY-UHFFFAOYSA-L dioctyl-bis(2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCC LRNQBMIJWYBAEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000004141 diterpene derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 2
- XCKWFNSALCEAPW-UHFFFAOYSA-N ethanolate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].CC[O-].CC[O-] XCKWFNSALCEAPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N hexyl acetate Chemical compound CCCCCCOC(C)=O AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical compound OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UISUQHKSYTZXSF-UHFFFAOYSA-N methanolate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].[O-]C.[O-]C UISUQHKSYTZXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQDUPQYQJKYHQI-UHFFFAOYSA-N methyl laurate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC UQDUPQYQJKYHQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002715 nicotine Drugs 0.000 description 2
- SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N nicotine Natural products CN1CCCC1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N octyl acetate Chemical compound CCCCCCCCOC(C)=O YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N pent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940049953 phenylacetate Drugs 0.000 description 2
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- YXTWPSHEGIZWEU-UHFFFAOYSA-N propoxy propyl carbonate Chemical compound CCCOOC(=O)OCCC YXTWPSHEGIZWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-thiol N-oxide Chemical compound [O-][N+]1=CC=CC=C1S FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002026 pyrithione Drugs 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 2
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229960001603 tamoxifen Drugs 0.000 description 2
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N tri-methylbenzoic acid Natural products CC1=CC(C)=C(C(O)=O)C=C1C QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVVWALBUPAOTNG-UHFFFAOYSA-L (2-butyl-3-methylphenoxy)-[(2-butyl-3-methylphenoxy)-dioctylstannyl]oxy-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCCC PVVWALBUPAOTNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OQQOAWVKVDAJOI-UHFFFAOYSA-N (2-dodecanoyloxy-3-hydroxypropyl) dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CO)OC(=O)CCCCCCCCCCC OQQOAWVKVDAJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAICWLQXOMYYRE-UHFFFAOYSA-M (2-ethylphenoxy)-stannyloxystannane Chemical compound C(C)C1=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC=C1 UAICWLQXOMYYRE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ALYVXTZIKRUGCN-UHFFFAOYSA-L (3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)-[(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)-dioctylstannyl]oxy-dioctylstannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCC ALYVXTZIKRUGCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KUSUJVBRYKDGNC-UHFFFAOYSA-L (3-ethyl-2-propylphenoxy)-[(3-ethyl-2-propylphenoxy)-dioctylstannyl]oxy-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CCC KUSUJVBRYKDGNC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SGGWNEQTERZRFV-UHFFFAOYSA-M (3-ethyl-4-methyl-2-propylphenoxy)-stannyloxystannane Chemical compound CC1=C(C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=C1)CCC)CC SGGWNEQTERZRFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UHWZHMJNTNPTGP-VAWYXSNFSA-N (E)-2-decylbut-2-enedioic acid Chemical compound C(CCCCCCCCC)/C(/C(=O)O)=C\C(=O)O UHWZHMJNTNPTGP-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- DHBZRQXIRAEMRO-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetramethylhydrazine Chemical compound CN(C)N(C)C DHBZRQXIRAEMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorobutane Chemical compound CCCC(Cl)Cl SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHQZBBGDUKJMY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrabutyl-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C(CCCC)C(CCCC)=C(CCCC)C(CCCC)=C3CC2=C1 CBHQZBBGDUKJMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMQYNEJFQGWMIX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetramethylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C=C21 ZMQYNEJFQGWMIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRUSTUOJENXLMN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-3-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC(C)=C1C IRUSTUOJENXLMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTBODWYOSACVAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dioctylhydrazine Chemical compound CCCCCCCCNNCCCCCCCC FTBODWYOSACVAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxin Chemical compound O1C=COC=C1 KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZBFMJOASEONC-UHFFFAOYSA-N 1-Methyl-2-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1C YQZBFMJOASEONC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOWMYOWHQMKBTM-UHFFFAOYSA-N 1-butylsulfinylbutane Chemical compound CCCCS(=O)CCCC LOWMYOWHQMKBTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical group CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQVHSBDSEAYZOO-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2-pentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1C NQVHSBDSEAYZOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVBWBYMPXWEQFL-UHFFFAOYSA-N 1-methylperoxypropane Chemical group CCCOOC LVBWBYMPXWEQFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOLVZUDVWRESKY-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpentyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCCC(OC(O)=O)C1=CC=CC=C1 YOLVZUDVWRESKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATPNEAQEWYMEJG-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-9h-fluorene Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C2=C1C(CCC)=CC=C2 ATPNEAQEWYMEJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEKXRUNXBOFRPL-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(sulfanyl)butanoic acid Chemical compound CCC(S)(S)C(O)=O GEKXRUNXBOFRPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutyric acid Chemical compound CCC(C)(C)C(O)=O VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSGACMVFRWIAD-UHFFFAOYSA-L 2,2-dioctyl-1,3,2-dioxastannetan-4-one Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn+2]CCCCCCCC.C([O-])([O-])=O WSSGACMVFRWIAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZTTCNJNRLVMZAR-UHFFFAOYSA-J 2,2-dioctyldecyl carbonate tin(4+) Chemical compound [Sn+4].C(OCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(COC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(COC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(COC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZTTCNJNRLVMZAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJCJFUJXVGIUOD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(C)(C(O)=O)CC(O)=O MJCJFUJXVGIUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentan-3-ol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)C BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutyl acetate Chemical compound CCC(CC)COC(C)=O HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTMAZYGAVHCKKX-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-amino-5-bromopyrrolo[2,3-d]pyrimidin-7-yl)methoxy]propane-1,3-diol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1C(Br)=CN2COC(CO)CO QTMAZYGAVHCKKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIVHLJQMLWRKJZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl ethyl carbonate Chemical compound CCOCCOC(=O)OCC UIVHLJQMLWRKJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQDKFFICLVYWIA-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl hydrogen carbonate Chemical compound CCOCCOC(O)=O BQDKFFICLVYWIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCIQVJPFKMJTAT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbutoxy-(2-ethylbutoxystannyloxy)-octylstannane Chemical compound C(CCCCCCC)[SnH](O[SnH2]OCC(CC)CC)OCC(CC)CC VCIQVJPFKMJTAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPSKBDZHPMUUDW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbutoxy-[2-ethylbutoxy(dioctyl)stannyl]oxy-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OCC(CC)CC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCC(CC)CC KPSKBDZHPMUUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VJODQAKRUSRKOG-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbutyl hydrogen carbonate Chemical compound CCC(CC)COC(O)=O VJODQAKRUSRKOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(O)=O AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLXUEVSCRZXXOG-UHFFFAOYSA-N 2-octyl-1h-indole Chemical compound C1=CC=C2NC(CCCCCCCC)=CC2=C1 GLXUEVSCRZXXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAWIJHQWGZWZOQ-UHFFFAOYSA-L 2-oxo-1,3,2-dioxastannetan-4-one Chemical compound O=C1O[Sn](=O)O1 YAWIJHQWGZWZOQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VQDJODAWOFNASI-UHFFFAOYSA-N 2-propylpropanedioic acid Chemical compound CCCC(C(O)=O)C(O)=O VQDJODAWOFNASI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRKINFKUIIOUTP-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S QRKINFKUIIOUTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXBXVVIUZANZAU-UHFFFAOYSA-N 2E-decenoic acid Natural products CCCCCCCC=CC(O)=O WXBXVVIUZANZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAUJXTSMARDQRL-UHFFFAOYSA-N 3,4-diethyloctan-3-ol Chemical compound CCCCC(CC)C(O)(CC)CC GAUJXTSMARDQRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004080 3-carboxypropanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C(O[H])=O 0.000 description 1
- RCXBDRUTHVNWHC-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxydecane Chemical compound CCCCCCCC(CC)OCC RCXBDRUTHVNWHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFHRQOZJWCFOI-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-[(3-methylpiperidin-1-yl)methyl]piperidine Chemical compound C1C(C)CCCN1CN1CC(C)CCC1 KLFHRQOZJWCFOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFWRJELHGKIWCH-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutoxy-(3-methylbutoxystannyloxy)-octylstannane Chemical compound C(CCCCCCC)[SnH](O[SnH2]OCCC(C)C)OCCC(C)C BFWRJELHGKIWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUSDGVJFDZRIBR-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropane-1-thiol Chemical compound SCCCC1=CC=CC=C1 IUSDGVJFDZRIBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFBBHCSDGDBAIM-UHFFFAOYSA-N 4,4-dibutyloctyl hydrogen carbonate Chemical group CCCCC(CCCC)(CCCC)CCCOC(=O)O QFBBHCSDGDBAIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKLUGHRHSPFNEP-UHFFFAOYSA-J 4,4-dioctyldodecyl carbonate tin(4+) Chemical compound [Sn+4].C(OCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC KKLUGHRHSPFNEP-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VGKZBAMIYUHSMU-UHFFFAOYSA-N 4-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(NC(=O)N(CCCl)N=O)CC1 VGKZBAMIYUHSMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFRZROSWLUXBOU-UHFFFAOYSA-N 4-butoxyoctan-4-ol Chemical compound CCCCOC(O)(CCC)CCCC WFRZROSWLUXBOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJILKDPNOANEEJ-UHFFFAOYSA-N 4-decoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)CCC(O)=O SJILKDPNOANEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXSIKQJQLQRQQY-UHFFFAOYSA-N 4-methyloctan-4-ol Chemical compound CCCCC(C)(O)CCC RXSIKQJQLQRQQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAFMGUGIGOZLL-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutane-1,1-dithiol Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CCCC(S)S DWAFMGUGIGOZLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUUQYDSTVIDCGP-UHFFFAOYSA-N 5,5-dibutylnonyl hydrogen carbonate Chemical group C(CCC)C(CCCCOC(O)=O)(CCCC)CCCC KUUQYDSTVIDCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIAEUCWCVEET-UHFFFAOYSA-N 5-pentoxypentyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCCCOCCCCCOC(=O)O XXMIAEUCWCVEET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYDHYKHEJYPUAJ-UHFFFAOYSA-N 6-hexoxyhexyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCCCCOCCCCCCOC(=O)O LYDHYKHEJYPUAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZZISOUXJHYOY-UHFFFAOYSA-N 8-amino-4-hydroxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(N)=CC=CC2=C1O GGZZISOUXJHYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZWRXLBLDJBBOJ-UHFFFAOYSA-N 9,9-dibutylheptadecane Chemical compound C(CCCCCCC)C(CCCC)(CCCC)CCCCCCCC IZWRXLBLDJBBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYYOVBKRMPNLV-UHFFFAOYSA-J 9-(2-octylphenyl)heptadecan-9-yl carbonate tin(4+) Chemical compound [Sn+4].C(OC(C1=C(C=CC=C1)CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C1=C(C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O)C=CC=C1.C(CCCCCCC)C1=C(C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O)C=CC=C1.C(CCCCCCC)C1=C(C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O)C=CC=C1 VIYYOVBKRMPNLV-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZDZVKPXKLLLOOA-UHFFFAOYSA-N Allylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C(O)=O)CC=C ZDZVKPXKLLLOOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N Butyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MEMWJNCJRHCRTD-UHFFFAOYSA-M C(C)C1=C(O[Sn])C=CC=C1 Chemical compound C(C)C1=C(O[Sn])C=CC=C1 MEMWJNCJRHCRTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGVBBURPRPYFJD-UHFFFAOYSA-N C(CC)O[SnH2]O[SnH3] Chemical compound C(CC)O[SnH2]O[SnH3] VGVBBURPRPYFJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZVVHLIDVNPEPA-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C(CCC)(OCCCC)CCCC Chemical group C(CCC)C(CCC)(OCCCC)CCCC NZVVHLIDVNPEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPQFMWFXQWPFHB-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C1(CC(C=C2C3=CC=CC=C3C=C12)(CCCC)CCCC)CCCC Chemical compound C(CCC)C1(CC(C=C2C3=CC=CC=C3C=C12)(CCCC)CCCC)CCCC GPQFMWFXQWPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJYHXPCQMCTGTE-UHFFFAOYSA-N C(CCC)CC([CH2-])=O Chemical compound C(CCC)CC([CH2-])=O AJYHXPCQMCTGTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNZXYJRWLZRREO-UHFFFAOYSA-N C(CCC)O.C(C)NN Chemical compound C(CCC)O.C(C)NN YNZXYJRWLZRREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLJAQRFWXRRKQA-UHFFFAOYSA-L C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCCCCCOCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCC)OCCCCCCCOC([O-])=O Chemical compound C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCCCCCOCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCC)OCCCCCCCOC([O-])=O JLJAQRFWXRRKQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RFACDYQQPQRFHQ-UHFFFAOYSA-L C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCCCCOCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCC)OCCCCCCOC([O-])=O Chemical compound C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCCCCOCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCC)OCCCCCCOC([O-])=O RFACDYQQPQRFHQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WYCQRRXSFHYHRY-UHFFFAOYSA-L C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCOCCC)([O-])=O.C(CC)OCCCOC([O-])=O Chemical compound C(CCC)[Sn+2]CCCC.C(OCCCOCCC)([O-])=O.C(CC)OCCCOC([O-])=O WYCQRRXSFHYHRY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OWXXDNURVZJEDW-UHFFFAOYSA-N C(CCC)[Sn](CCC(C)C)CCC(C)C Chemical compound C(CCC)[Sn](CCC(C)C)CCC(C)C OWXXDNURVZJEDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEENHWCFYVTZDW-UHFFFAOYSA-L C(CCC)[Sn](O[Sn](OOCCCC)(CCCC)CCCC)(OOCCCC)CCCC Chemical compound C(CCC)[Sn](O[Sn](OOCCCC)(CCCC)CCCC)(OOCCCC)CCCC GEENHWCFYVTZDW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BWMOJRQWCWSVQS-UHFFFAOYSA-N C(CCCC)O[SnH2]O[SnH2]OCCCCC Chemical compound C(CCCC)O[SnH2]O[SnH2]OCCCCC BWMOJRQWCWSVQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQFXAVCCDUEMHC-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCC)C(CCCCCCC)(OCCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical group C(CCCCCCC)C(CCCCCCC)(OCCCCCCCC)CCCCCCCC VQFXAVCCDUEMHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGDZASGSAXWITL-UHFFFAOYSA-L C(CCCCCCC)[Sn+2]CCCCCCCC.C(OCCCCCCCOCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCC)OCCCCCCCOC([O-])=O Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn+2]CCCCCCCC.C(OCCCCCCCOCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCC)OCCCCCCCOC([O-])=O BGDZASGSAXWITL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JJTAXQWIAWCJMN-UHFFFAOYSA-L C(CCCCCCC)[Sn](OC1=C(C=CC=C1)CC)OC1=C(C=CC=C1)CC Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn](OC1=C(C=CC=C1)CC)OC1=C(C=CC=C1)CC JJTAXQWIAWCJMN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YPLSWWHPWWZMAW-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCC)[Sn](OCC(CC)CC)OCC(CC)CC Chemical group C(CCCCCCC)[Sn](OCC(CC)CC)OCC(CC)CC YPLSWWHPWWZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPUGPVJVUMJPH-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCCCC)(=O)O.C=CC Chemical compound C(CCCCCCCCCCCC)(=O)O.C=CC PWPUGPVJVUMJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRTLDQCZDBYOAQ-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)CCO[SnH](OCCC2=CC=CC=C2)O[SnH3] Chemical compound C1=CC=C(C=C1)CCO[SnH](OCCC2=CC=CC=C2)O[SnH3] KRTLDQCZDBYOAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCUKRAKUFLCCX-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCC)(OCCCCCCCC)C Chemical group CC(CCCCCCC)(OCCCCCCCC)C HWCUKRAKUFLCCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOJMRHUQHTCJG-UHFFFAOYSA-N CC([CH2-])=O Chemical compound CC([CH2-])=O QWOJMRHUQHTCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLDUMPUPYDRCJS-UHFFFAOYSA-L CC1=C(C(=C(C=C1)O[SnH](OC2=C(C(=C(C=C2)C)C)C)O[SnH3])C)C Chemical compound CC1=C(C(=C(C=C1)O[SnH](OC2=C(C(=C(C=C2)C)C)C)O[SnH3])C)C YLDUMPUPYDRCJS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KMLFHQUFMCEFJT-UHFFFAOYSA-M CC1=C(C(=C(C=C1)O[Sn])C)C Chemical compound CC1=C(C(=C(C=C1)O[Sn])C)C KMLFHQUFMCEFJT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SZLIJNVUEHFBEE-UHFFFAOYSA-M CC1=C(O[Sn])C=CC=C1 Chemical compound CC1=C(O[Sn])C=CC=C1 SZLIJNVUEHFBEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IKQBOHPEHYWIFJ-UHFFFAOYSA-L CC1=CC=CC(O[SnH](OC2=C(C)C(C)=CC=C2)O[SnH3])=C1C Chemical compound CC1=CC=CC(O[SnH](OC2=C(C)C(C)=CC=C2)O[SnH3])=C1C IKQBOHPEHYWIFJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NNSUOEGBNWIBAH-UHFFFAOYSA-M CC=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC1)CCCC Chemical compound CC=1C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=CC1)CCCC NNSUOEGBNWIBAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XOQVXABUZKMCGP-UHFFFAOYSA-M CC=1C(=C(O[Sn])C=CC=1)C Chemical compound CC=1C(=C(O[Sn])C=CC=1)C XOQVXABUZKMCGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XIKLZAQVWQCWTQ-UHFFFAOYSA-L CCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] Chemical compound CCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] XIKLZAQVWQCWTQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TZGAGOXYSVTZOE-UHFFFAOYSA-M CCC1=C(C(=C(C=C1)O[SnH2]O[SnH3])C)C Chemical compound CCC1=C(C(=C(C=C1)O[SnH2]O[SnH3])C)C TZGAGOXYSVTZOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SCNFJQOFHXQYKF-UHFFFAOYSA-L CCC1=C(C(=C(C=C1)O[Sn]OC2=C(C(=C(C=C2)CC)CC)CC)CC)CC Chemical compound CCC1=C(C(=C(C=C1)O[Sn]OC2=C(C(=C(C=C2)CC)CC)CC)CC)CC SCNFJQOFHXQYKF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JCOWGLHFUXEDTQ-UHFFFAOYSA-M CCC1=C(C=CC(=C1C)C)O[Sn] Chemical compound CCC1=C(C=CC(=C1C)C)O[Sn] JCOWGLHFUXEDTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GBSHBFLNNQTHHI-UHFFFAOYSA-L CCCC(C(CC)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCC)C(CC)=CC=C1)O[SnH3] Chemical compound CCCC(C(CC)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCC)C(CC)=CC=C1)O[SnH3] GBSHBFLNNQTHHI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FUBFPIHHLHNSJB-UHFFFAOYSA-M CCCC1=C(C=CC=C1O[Sn])C Chemical compound CCCC1=C(C=CC=C1O[Sn])C FUBFPIHHLHNSJB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ROYNWPIZZLNQCM-UHFFFAOYSA-L CCCC1=CC=CC(O[SnH2]O[SnH2]OC2=C(CCC)C(CCC)=CC=C2)=C1CCC Chemical compound CCCC1=CC=CC(O[SnH2]O[SnH2]OC2=C(CCC)C(CCC)=CC=C2)=C1CCC ROYNWPIZZLNQCM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PZSQMSXALVVITL-UHFFFAOYSA-L CCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCC)O[SnH3] Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O[SnH](OC2=CC=CC=C2CCC)O[SnH3] PZSQMSXALVVITL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OBVRJHLXLTUPPZ-UHFFFAOYSA-L CCCCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCCC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] Chemical compound CCCCC(C(C)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCCC)C(C)=CC=C1)O[SnH3] OBVRJHLXLTUPPZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMOYYMFWCDGDNR-UHFFFAOYSA-L CCCCC(C(CC)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCCC)C(CC)=CC=C1)O[SnH3] Chemical compound CCCCC(C(CC)=CC=C1)=C1O[SnH](OC1=C(CCCC)C(CC)=CC=C1)O[SnH3] ZMOYYMFWCDGDNR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XUMXEVOIKYFTRW-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCC(CC)C(CCCC)(CCCCCCCC)O Chemical compound CCCCCCCCC(CC)C(CCCC)(CCCCCCCC)O XUMXEVOIKYFTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJWKCIYCHOUIJ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCC1=C(C2=C(C=C1)NC(=C2CCCCCCCC)CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCC1=C(C2=C(C=C1)NC(=C2CCCCCCCC)CCCCCCCC)CCCCCCCC SXJWKCIYCHOUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADVBOYPDUNSQGZ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCC(=O)[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)C(=O)CCCCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)C(=O)CCCCCCCCCCC ADVBOYPDUNSQGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMWXGUBMNZGKIN-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCC[Sn]OCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[Sn]OCCCC VMWXGUBMNZGKIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWONUBZUTKQDQE-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)CCCCCCCC JWONUBZUTKQDQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIHXZYRGIVTRLP-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCCC HIHXZYRGIVTRLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKCDAJEQXEEBE-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCO[SnH2]O[SnH3] Chemical compound CCCCCCCCO[SnH2]O[SnH3] VSKCDAJEQXEEBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUWDQZVNGZPEBY-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCO[Sn](CCC)CCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCC)CCCCCCCC IUWDQZVNGZPEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKVLRPPQIFBJRC-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCCCC FKVLRPPQIFBJRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALHHEJWKDGYXFY-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](CCCCC)(CCCCC)CCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCC)(CCCCC)CCCCCCCC ALHHEJWKDGYXFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLWCSIQYDJJMRA-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(C=CC)C=CC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(C=CC)C=CC RLWCSIQYDJJMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUFIJNPVGYSHSA-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OCCC(C)C1=CC=CC2=C1CC3=CC=CC=C32)OCCC(C)C4=CC=CC5=C4CC6=CC=CC=C65 Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OCCC(C)C1=CC=CC2=C1CC3=CC=CC=C32)OCCC(C)C4=CC=CC5=C4CC6=CC=CC=C65 VUFIJNPVGYSHSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYQOKQNEFXZFFI-UHFFFAOYSA-L CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OOCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OOCCCC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OOCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OOCCCC SYQOKQNEFXZFFI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DVGBOYNTQXAVNE-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)OCCCCC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)OCCCCC DVGBOYNTQXAVNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCLUHGFQGBVQCU-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)OCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)OCCCCCCC KCLUHGFQGBVQCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVAUTPAOYVNMIB-UHFFFAOYSA-L CCCCCCCC[Sn](OC1=CC=CC(=C1CCCC)CC)OC2=CC=CC(=C2CCCC)CC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC1=CC=CC(=C1CCCC)CC)OC2=CC=CC(=C2CCCC)CC CVAUTPAOYVNMIB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WPEDBXQNQZYJQI-UHFFFAOYSA-L CCCCCCCC[Sn](OC1=CC=CC=C1C)OC2=CC=CC=C2C Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC1=CC=CC=C1C)OC2=CC=CC=C2C WPEDBXQNQZYJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CLRAWAHKOPVADO-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Sn](OCCCC)OCCCC Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCC)OCCCC CLRAWAHKOPVADO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPQXYNMETJBLRC-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC[Sn] Chemical compound CCCCCCC[Sn] GPQXYNMETJBLRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFWSVCHBNAXINC-UHFFFAOYSA-N CCCCCCO[Sn](CCC)CCCC Chemical compound CCCCCCO[Sn](CCC)CCCC GFWSVCHBNAXINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MANJBJWYZZDKCZ-UHFFFAOYSA-N CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[Sn++] Chemical compound CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[Sn++] MANJBJWYZZDKCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEYVZSUGERXXJC-UHFFFAOYSA-L CCCC[Sn](CCCC)(OC1=C(C(=CC=C1)S)S)OC2=C(C(=CC=C2)S)S Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(OC1=C(C(=CC=C1)S)S)OC2=C(C(=CC=C2)S)S FEYVZSUGERXXJC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DDTXLSNLMYEHNX-UHFFFAOYSA-N CCCC[Sn](CCCC)(OCCC(C)S)OCCC(C)S Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(OCCC(C)S)OCCC(C)S DDTXLSNLMYEHNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSKMPJQRROOOQV-UHFFFAOYSA-L CCCC[Sn](OC1=CC=CC=C1CCC)OC2=CC=CC=C2CCC Chemical compound CCCC[Sn](OC1=CC=CC=C1CCC)OC2=CC=CC=C2CCC YSKMPJQRROOOQV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GSFXZMLEBZTPHI-UHFFFAOYSA-N CCCC[Sn](OCCC1=CC=CC=C1)OCCC2=CC=CC=C2 Chemical compound CCCC[Sn](OCCC1=CC=CC=C1)OCCC2=CC=CC=C2 GSFXZMLEBZTPHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPXSOCXNCSRWOJ-UHFFFAOYSA-N CCO[Sn](CC)(CC)O[SnH3] Chemical compound CCO[Sn](CC)(CC)O[SnH3] RPXSOCXNCSRWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSKOOBKCSDDPC-UHFFFAOYSA-L CO[Sn+2]OC.[SH-].[SH-] Chemical compound CO[Sn+2]OC.[SH-].[SH-] FDSKOOBKCSDDPC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VBYSLLDHYFZCNW-UHFFFAOYSA-N C[Sn](OCCCCCCC)C Chemical compound C[Sn](OCCCCCCC)C VBYSLLDHYFZCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEJYQYICIJPIHN-UHFFFAOYSA-N C[Sn](OCCCCCCCC)C Chemical compound C[Sn](OCCCCCCCC)C DEJYQYICIJPIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100298222 Caenorhabditis elegans pot-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 241001070941 Castanea Species 0.000 description 1
- 235000014036 Castanea Nutrition 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001481828 Glyptocephalus cynoglossus Species 0.000 description 1
- CMBYOWLFQAFZCP-UHFFFAOYSA-N Hexyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCC CMBYOWLFQAFZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RLAHWVDQYNDAGG-UHFFFAOYSA-N Methanetriol Chemical compound OC(O)O RLAHWVDQYNDAGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVIKMRKQBKFQLX-UHFFFAOYSA-N O1CCOCC1.CCCCCCCCCCCCCC Chemical compound O1CCOCC1.CCCCCCCCCCCCCC JVIKMRKQBKFQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 description 1
- 244000131316 Panax pseudoginseng Species 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002675 Polyoxyl Polymers 0.000 description 1
- QUGNZNCOLVCQKW-UHFFFAOYSA-M S[Sn] Chemical compound S[Sn] QUGNZNCOLVCQKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WREAVJFRCQZEDA-UHFFFAOYSA-L S[Sn]S Chemical compound S[Sn]S WREAVJFRCQZEDA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182558 Sterol Natural products 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZOMEOADMXATCF-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCC)OC([O-])=O NZOMEOADMXATCF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAGDXUDFASNEDF-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCC)OC([O-])=O FAGDXUDFASNEDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NPQPIQUYXQMOEM-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCC)OC([O-])=O NPQPIQUYXQMOEM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KKNPONBUGFNTQP-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCC)OC([O-])=O KKNPONBUGFNTQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DVETUKDEMZEYNH-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCCCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCCCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCCC)OC([O-])=O DVETUKDEMZEYNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SFLKPWSMGALPEI-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OC(CCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OC(CCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCCC)OC([O-])=O SFLKPWSMGALPEI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KSDOWODJLLIBIY-UHFFFAOYSA-L [Sn+2]=O.C(OCCCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)COC([O-])=O Chemical compound [Sn+2]=O.C(OCCCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)COC([O-])=O KSDOWODJLLIBIY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CORCBSSFHPCTTA-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].C(OCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound [Sn+4].C(OCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CORCBSSFHPCTTA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NDDIJOYATLPFPL-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].C(OCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound [Sn+4].C(OCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC NDDIJOYATLPFPL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XBFBCACRHZSRSS-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].C(OCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound [Sn+4].C(OCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)([O-])=O.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC.C(CCCCCCC)C(CCCCCOC([O-])=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XBFBCACRHZSRSS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NDWJXUODWWHKSG-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].C(OCCCCCCC(CCCC)(CCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC Chemical compound [Sn+4].C(OCCCCCCC(CCCC)(CCCC)CCCC)([O-])=O.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCCCCCOC([O-])=O)(CCCC)CCCC NDWJXUODWWHKSG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- SFNHKFYDWIIEMY-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+4].CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O.CCCCC(CCCC)(CCCC)OC([O-])=O SFNHKFYDWIIEMY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- CXDTXVMUNLZBCA-UHFFFAOYSA-J [Sn+4].CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O Chemical compound [Sn+4].CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O.CCCCCCCCC(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC([O-])=O CXDTXVMUNLZBCA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZINLZIJFBPDXBN-UHFFFAOYSA-L [SnH3]O[SnH](Oc1ccccc1)Oc1ccccc1 Chemical compound [SnH3]O[SnH](Oc1ccccc1)Oc1ccccc1 ZINLZIJFBPDXBN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BNFXEWBZCMTXIF-UHFFFAOYSA-N [Sn](=O)=O.[Ca].[Ca] Chemical compound [Sn](=O)=O.[Ca].[Ca] BNFXEWBZCMTXIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLBICSTIBRPAD-UHFFFAOYSA-N [Sn].C(CCC)[Sn](CC)(CC)CCCC Chemical compound [Sn].C(CCC)[Sn](CC)(CC)CCCC CMLBICSTIBRPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKQZIJOTZPRKH-UHFFFAOYSA-N [Sn].[Bi].[Bi] Chemical compound [Sn].[Bi].[Bi] YCKQZIJOTZPRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMTINRVJBGOLMJ-UHFFFAOYSA-L [dibutyl-[dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl]oxystannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC DMTINRVJBGOLMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SMAGMPYXZOEVDR-UHFFFAOYSA-L [dimethyl(phenoxy)stannyl]oxy-dimethyl-phenoxystannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](C)(C)O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1 SMAGMPYXZOEVDR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MQNYARVODLPSPZ-UHFFFAOYSA-L [dimethyl-(2,3,4-triethylphenoxy)stannyl]oxy-dimethyl-(2,3,4-triethylphenoxy)stannane Chemical compound CCC1=C(CC)C(CC)=CC=C1O[Sn](C)(C)O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(CC)C(CC)=C1CC MQNYARVODLPSPZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEJUFSCNSJBYOG-UHFFFAOYSA-N [dioctyl(2-phenylethoxy)stannyl]oxy-dioctyl-(2-phenylethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCC1=CC=CC=C1 VEJUFSCNSJBYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDGQCLUYAQIGID-UHFFFAOYSA-L [dioctyl(phenoxy)stannyl]oxy-dioctyl-phenoxystannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1 IDGQCLUYAQIGID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IOKRSUWQQSDDTD-UHFFFAOYSA-L [dioctyl-(2,3,4-triethylphenoxy)stannyl]oxy-dioctyl-(2,3,4-triethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(CC)C(CC)=C(CC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=C(CC)C(CC)=C1CC IOKRSUWQQSDDTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical class C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- FKZAZQFXMYCYHE-UHFFFAOYSA-M acetyloxytin Chemical compound [Sn+].CC([O-])=O FKZAZQFXMYCYHE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000000998 batch distillation Methods 0.000 description 1
- CIVVCJLDSOOZRG-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1 CIVVCJLDSOOZRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000001851 biosynthetic effect Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GMHREHBODHARQH-UHFFFAOYSA-L bis(2,3-diethylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCC1=CC=CC(O[Sn](C)(C)OC=2C(=C(CC)C=CC=2)CC)=C1CC GMHREHBODHARQH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CREAHPXZHLYGHS-UHFFFAOYSA-L bis(2,3-diethylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(CC)=C(CC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(CC)=C1CC CREAHPXZHLYGHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OAEXCQHKDQJLJU-UHFFFAOYSA-L bis(2,3-dipropylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCCC1=CC=CC(O[Sn](C)(C)OC=2C(=C(CCC)C=CC=2)CCC)=C1CCC OAEXCQHKDQJLJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GUEXCKQHSRZLGW-UHFFFAOYSA-L bis(2-butyl-3,4-dimethylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCCCC1=C(C)C(C)=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCCC GUEXCKQHSRZLGW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LFJWJDSWBPAGMT-UHFFFAOYSA-L bis(2-butylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1CCCC LFJWJDSWBPAGMT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XIKLRECTLNJLHP-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethyl-3,4-dimethylphenoxy)tin Chemical compound CC1=C(C(=C(O[Sn]OC2=C(C(=C(C=C2)C)C)CC)C=C1)CC)C XIKLRECTLNJLHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBMAQQRWLIFDOQ-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethyl-3-methylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC(C)=C1CC RBMAQQRWLIFDOQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LJAKOTBPESKSMF-UHFFFAOYSA-L bis(2-ethyl-3-methylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CC LJAKOTBPESKSMF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IQZWQULLWGDVEX-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylbutoxy)-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCC(CC)CC)(OCC(CC)CC)CCCCCCCC IQZWQULLWGDVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOMNEZKHPGSTRG-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylbutoxy)-stannyloxystannane Chemical compound CCC(CC)CO[SnH](O[SnH3])OCC(CC)CC LOMNEZKHPGSTRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEVIVOQXIBDGQ-UHFFFAOYSA-L bis(2-hexylphenoxy)tin Chemical compound C(CCCCC)C1=C(O[Sn]OC2=C(C=CC=C2)CCCCCC)C=CC=C1 CFEVIVOQXIBDGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AYNBHOFVJOWRRG-UHFFFAOYSA-L bis(2-nonylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCCCc1ccccc1[O-].CCCCCCCCCc1ccccc1[O-].CCCCCCCC[Sn++]CCCCCCCC AYNBHOFVJOWRRG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZJGJNSMAHVFFJB-UHFFFAOYSA-L bis(3-ethyl-2-propylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CCCC1=C(CC)C=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC(CC)=C1CCC ZJGJNSMAHVFFJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PGAHJBLCBNOWHC-UHFFFAOYSA-L bis(3-ethyl-2-propylphenoxy)tin Chemical compound C(C)C=1C(=C(O[Sn]OC2=C(C(=CC=C2)CC)CCC)C=CC=1)CCC PGAHJBLCBNOWHC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXEQEAACXPEDHW-UHFFFAOYSA-L bis(3-ethyl-4-methyl-2-propylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound C1=CC(C)=C(CC)C(CCC)=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(C)C(CC)=C1CCC AXEQEAACXPEDHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JAWUOWPLKVOEQN-UHFFFAOYSA-L bis(3-methyl-2-pentylphenoxy)-dioctylstannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CCCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCCCC JAWUOWPLKVOEQN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZBSBHKBEMGYPSC-UHFFFAOYSA-L bis(4-ethyl-2,3-dimethylphenoxy)-dimethylstannane Chemical compound CC1=C(C)C(CC)=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(CC)C(C)=C1C ZBSBHKBEMGYPSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RFQDUYVXJVUTPW-UHFFFAOYSA-N bis(phenylmethoxy)-stannyloxystannane Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)O[SnH](O[SnH3])OCC1=CC=CC=C1 RFQDUYVXJVUTPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000000481 breast Anatomy 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- PASOAYSIZAJOCT-UHFFFAOYSA-N butanoic acid Chemical compound CCCC(O)=O.CCCC(O)=O PASOAYSIZAJOCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGPQCBSBQOPLZ-UHFFFAOYSA-N butanoic acid;propanoic acid Chemical compound CCC(O)=O.CCCC(O)=O PXGPQCBSBQOPLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKUQQANKQDFQQ-UHFFFAOYSA-N butoxy butyl carbonate Chemical compound CCCCOOC(=O)OCCCC MMKUQQANKQDFQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMKUQHYVCZQWDF-UHFFFAOYSA-N butoxy(methyl)tin Chemical compound C[Sn]OCCCC XMKUQHYVCZQWDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCBPQYVQKWFMFB-UHFFFAOYSA-N butoxy(stannyloxy)stannane Chemical compound C(CCC)O[SnH2]O[SnH3] UCBPQYVQKWFMFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSUYQKVLLREGIQ-UHFFFAOYSA-N butoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCC JSUYQKVLLREGIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTSFLVXSGPQEMJ-UHFFFAOYSA-N butoxy-butyl-dimethylstannane Chemical compound CCCCO[Sn](C)(C)CCCC RTSFLVXSGPQEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYIIRKBVCBPWIU-UHFFFAOYSA-N butoxy-butyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCO[Sn](CCC)(CCC)CCCC FYIIRKBVCBPWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZPQYUFCHQEZEA-UHFFFAOYSA-N butoxy-dibutyl-ethylstannane Chemical compound CCCCO[Sn](CC)(CCCC)CCCC MZPQYUFCHQEZEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWSYVJUWCMLKH-UHFFFAOYSA-N butoxy-octyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCC)OCCCC NSWSYVJUWCMLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQSEAFUGUDPDX-UHFFFAOYSA-N butoxy-octyl-oxotin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)OCCCC KEQSEAFUGUDPDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DISYGAAFCMVRKW-UHFFFAOYSA-N butyl ethyl carbonate Chemical group CCCCOC(=O)OCC DISYGAAFCMVRKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWBMVXOCTXTBAD-UHFFFAOYSA-N butyl methyl carbonate Chemical group CCCCOC(=O)OC FWBMVXOCTXTBAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXSUBGSZWFBBFT-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](OCC)(OCC)OCC LXSUBGSZWFBBFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXTZYLKDVRFWDV-UHFFFAOYSA-N butyl(trihexyl)stannane Chemical compound C(CCCCC)[Sn](CCCC)(CCCCCC)CCCCCC KXTZYLKDVRFWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPVGOZZJBKYCIN-UHFFFAOYSA-N butyl(trioctoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCC)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC GPVGOZZJBKYCIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALZMOKLLSTUMQE-UHFFFAOYSA-N butyl(tripentyl)stannane Chemical compound CCCCC[Sn](CCCC)(CCCCC)CCCCC ALZMOKLLSTUMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCUVCESACKXEGF-UHFFFAOYSA-N butyl(tripropoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](OCCC)(OCCC)OCCC CCUVCESACKXEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCBANNJXAFAVRY-UHFFFAOYSA-N butyl-diethyl-hexoxystannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](CC)(CC)CCCC BCBANNJXAFAVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOGNGCUOVXTGEU-UHFFFAOYSA-N butyl-diethyl-methoxystannane Chemical compound CCCC[Sn](CC)(CC)OC QOGNGCUOVXTGEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYQBBOJKARMAOJ-UHFFFAOYSA-N butyl-diethyl-octoxystannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CC)(CC)CCCC RYQBBOJKARMAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNRHJRHOEGHWHH-UHFFFAOYSA-N butyl-dimethyl-octoxystannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](C)(C)CCCC FNRHJRHOEGHWHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCEYPGTVDJGTQL-UHFFFAOYSA-N butyl-dimethyl-propoxystannane Chemical compound CCCC[Sn](C)(C)OCCC GCEYPGTVDJGTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBFSWOPOBHGDFN-UHFFFAOYSA-N butyl-dioctyl-propoxystannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCCCCCC)OCCC YBFSWOPOBHGDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAPIGYJUMZVRGJ-UHFFFAOYSA-N butyl-ethoxy-diethylstannane Chemical compound CCCC[Sn](CC)(CC)OCC MAPIGYJUMZVRGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNEMLBRQVKCZGD-UHFFFAOYSA-N butyl-ethoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCC[Sn](CCC)(CCC)OCC MNEMLBRQVKCZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJYOAQDUOKQWCW-UHFFFAOYSA-N butyl-ethoxy-oxotin Chemical compound CCCC[Sn](=O)OCC XJYOAQDUOKQWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOUKPEUPTINJNX-UHFFFAOYSA-N butyl-heptoxy-dimethylstannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](C)(C)CCCC AOUKPEUPTINJNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJVCTFRJLIHBAG-UHFFFAOYSA-N butyl-heptoxy-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCCC QJVCTFRJLIHBAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTUQQIDFVMZMGC-UHFFFAOYSA-N butyl-heptoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](CCC)(CCC)CCCC VTUQQIDFVMZMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPYRPUYVDVXFBA-UHFFFAOYSA-N butyl-hexoxy-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(OCCCCCC)CCCCCCCC JPYRPUYVDVXFBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKWNYZJDNZECJ-UHFFFAOYSA-N butyl-hexoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](CCC)(CCC)CCCC UWKWNYZJDNZECJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSTQOVJQHJMDQK-UHFFFAOYSA-N butyl-methoxy-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCCCCCC)OC RSTQOVJQHJMDQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOLBBNRNWJLDKQ-UHFFFAOYSA-N butyl-methoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCC[Sn](CCC)(CCC)OC SOLBBNRNWJLDKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSAAKSFWUPHRLK-UHFFFAOYSA-N butyl-octoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCC)(CCC)CCCC LSAAKSFWUPHRLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUXFXLMFXJOXJI-UHFFFAOYSA-N butyl-oxo-pentoxytin Chemical compound CCCCCO[Sn](=O)CCCC WUXFXLMFXJOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKLVLDXNZDIDKQ-UHFFFAOYSA-N butylhydrazine Chemical compound CCCCNN XKLVLDXNZDIDKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAOSYNUKPVJLNZ-UHFFFAOYSA-N butylstannane Chemical compound CCCC[SnH3] FAOSYNUKPVJLNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKKZGJKRWPWRNX-UHFFFAOYSA-N butyltin Chemical compound CCCC[Sn].CCCC[Sn] RKKZGJKRWPWRNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N caproleic acid Natural products OC(=O)CCCCCCCC=C KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005586 carbonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- PTYMQUSHTAONGW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;hydrazine Chemical compound NN.OC(O)=O PTYMQUSHTAONGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001944 continuous distillation Methods 0.000 description 1
- 230000020335 dealkylation Effects 0.000 description 1
- HPGNPSWBMUEYOY-UHFFFAOYSA-N decoxy(trimethyl)stannane Chemical compound CCCCCCCCCCO[Sn](C)(C)C HPGNPSWBMUEYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWDLSNOROUMMSR-UHFFFAOYSA-N decoxy-dimethyl-octylstannane Chemical compound CCCCCCCCCCO[Sn](C)(C)CCCCCCCC ZWDLSNOROUMMSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNZRSUZKAWJWFT-UHFFFAOYSA-N decoxystannane Chemical compound O(CCCCCCCCCC)[SnH3] LNZRSUZKAWJWFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRGQZOKQCSGAD-UHFFFAOYSA-N decyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(O)=O VTRGQZOKQCSGAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- WMROZXLLNVZYSR-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(stannyloxy)stannane Chemical compound CCCCO[SnH](O[SnH3])OCCCC WMROZXLLNVZYSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMEDOLJKVASKTP-UHFFFAOYSA-N dibutyl sulfate Chemical compound CCCCOS(=O)(=O)OCCCC LMEDOLJKVASKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLZKNGAFPKLTRN-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethyl)stannane Chemical compound CCCC[Sn](CC)(CC)CCCC OLZKNGAFPKLTRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDJMOUTSAWTKP-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diheptoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCCCC YYDJMOUTSAWTKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSTLNNOJHFUVLF-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethyl)stannane Chemical compound CCCC[Sn](C)(C)CCCC LSTLNNOJHFUVLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDXJOSPXJCRUGX-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dioctoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCCCCC UDXJOSPXJCRUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTYWIPLKZHQUMW-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diphenyl)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](CCCC)(CCCC)C1=CC=CC=C1 DTYWIPLKZHQUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHPZGYUGTLLMFS-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dipropoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(OCCC)OCCC UHPZGYUGTLLMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLXMDTDPTCRLKU-UHFFFAOYSA-N dibutyl-(dibutyl-$l^{3}-stannanyl)oxytin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)O[Sn](CCCC)CCCC ZLXMDTDPTCRLKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHIMMIMMBRHBCF-UHFFFAOYSA-N dibutyl-[dibutyl(hexoxy)stannyl]oxy-hexoxystannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCCC PHIMMIMMBRHBCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIWMNFHCXJGPPX-UHFFFAOYSA-N dibutyl-[dibutyl(phenylmethoxy)stannyl]oxy-phenylmethoxystannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OCC1=CC=CC=C1 BIWMNFHCXJGPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQHINDBSGFUNTL-UHFFFAOYSA-N dibutyl-[dibutyl(propoxy)stannyl]oxy-propoxystannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(OCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OCCC DQHINDBSGFUNTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCGAEUWAYFXNW-UHFFFAOYSA-L dibutyl-[dibutyl-(2,3-dipropylphenoxy)stannyl]oxy-(2,3-dipropylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(CCC)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(CCC)=C1CCC GYCGAEUWAYFXNW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WXFYSEDKTHJVCC-UHFFFAOYSA-L dibutyl-[dibutyl-(2-ethylphenoxy)stannyl]oxy-(2-ethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CC WXFYSEDKTHJVCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JEQSKRXCPJCWPE-UHFFFAOYSA-L dibutyl-[dibutyl-(2-hexylphenoxy)stannyl]oxy-(2-hexylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCC JEQSKRXCPJCWPE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XJWVKTHLLVWKLE-UHFFFAOYSA-L dibutyl-[dibutyl-(2-propylphenoxy)stannyl]oxy-(2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCC XJWVKTHLLVWKLE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FGDOJDMNZIPTNC-UHFFFAOYSA-N dibutyl-bis(1-phenylethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(C)C1=CC=CC=C1 FGDOJDMNZIPTNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHUDLQKEFHZZHV-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2,3-dimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(C)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(C)=C1C DHUDLQKEFHZZHV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BEBSWFRQGLQSOF-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-butyl-3,4-dimethylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCC1=C(C)C(C)=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCCC BEBSWFRQGLQSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JCZQCSWFIHYNDB-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-butyl-3-methylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCCC JCZQCSWFIHYNDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KIHGSJYPIIIASL-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-ethyl-3-methylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CC KIHGSJYPIIIASL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UNCKAELVXOLABB-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1CCC UNCKAELVXOLABB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FIWSMGSZFOLHNF-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(3,4-dimethyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(C)C(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(C)C(C)=C1CCC FIWSMGSZFOLHNF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FQXXZOHIVFNLQD-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(3-methyl-2-pentylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCC1=C(C)C=CC=C1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCCCC FQXXZOHIVFNLQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LBJIZPKCOARIHP-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(3-methyl-2-propylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC(C)=C(CCC)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC(C)=C1CCC LBJIZPKCOARIHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LDMRTXQOZLMIPR-UHFFFAOYSA-N dibutyl-bis(3-methylbutoxy)stannane Chemical compound CC(C)CCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCC(C)C LDMRTXQOZLMIPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTIAICQGAQUKDE-UHFFFAOYSA-L dibutyl-bis(4-ethyl-2,3-dimethylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=C(CC)C(C)=C(C)C=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=C(CC)C(C)=C1C ZTIAICQGAQUKDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UZQZYHNKHIRPNV-UHFFFAOYSA-N dibutyl-bis(phenylmethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Sn](CCCC)(CCCC)OCC1=CC=CC=C1 UZQZYHNKHIRPNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFROPLKRXAXSR-UHFFFAOYSA-N dibutyl-ethoxy-propylstannane Chemical compound CCCC[Sn](CCC)(OCC)CCCC BEFROPLKRXAXSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFSFUPAKOGOGKT-UHFFFAOYSA-N dibutyl-ethyl-heptoxystannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](CC)(CCCC)CCCC VFSFUPAKOGOGKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTNKTYFOBPAPON-UHFFFAOYSA-N dibutyl-ethyl-methoxystannane Chemical compound CCCC[Sn](CC)(OC)CCCC RTNKTYFOBPAPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOBCQSCLOYGWMI-UHFFFAOYSA-N dibutyl-heptoxy-methylstannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](C)(CCCC)CCCC MOBCQSCLOYGWMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXUMXVJDYITNEC-UHFFFAOYSA-N dibutyl-hexoxy-methylstannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](C)(CCCC)CCCC OXUMXVJDYITNEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPSMORGBCDIWAO-UHFFFAOYSA-N dibutyl-hexoxy-octylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCCCC GPSMORGBCDIWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKVQCGUPSNHRL-UHFFFAOYSA-N dibutyl-methoxy-octylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OC DKKVQCGUPSNHRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVTQZRHKXKADAV-UHFFFAOYSA-N dibutyl-methoxy-propylstannane Chemical compound CCCC[Sn](CCC)(OC)CCCC OVTQZRHKXKADAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRJPTXZSDBMXBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl-methyl-octoxystannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](C)(CCCC)CCCC RRJPTXZSDBMXBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQGVJXIGPEVJZ-UHFFFAOYSA-N dibutyl-methyl-propoxystannane Chemical compound CCCC[Sn](C)(CCCC)OCCC ACQGVJXIGPEVJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWJHNZSNCIWEKN-UHFFFAOYSA-N dibutyl-octoxy-propylstannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCC)(CCCC)CCCC ZWJHNZSNCIWEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KASXHGQFOPKAIX-UHFFFAOYSA-N dibutyl-octyl-propoxystannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OCCC KASXHGQFOPKAIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOIHFNRUKCPOEN-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC.CCCC[Sn]CCCC VOIHFNRUKCPOEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical compound OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000006280 diesel fuel additive Substances 0.000 description 1
- GUCGRUPWRKOVLP-UHFFFAOYSA-N diethyl(octyl)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)CC GUCGRUPWRKOVLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GENOCUKMLNIEMJ-UHFFFAOYSA-N diethyl-hexoxy-octylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)(CC)OCCCCCC GENOCUKMLNIEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCSGVXAVYNCMJU-UHFFFAOYSA-N diethyl-octyl-propoxystannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)(CC)OCCC WCSGVXAVYNCMJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-O diethylammonium Chemical compound CC[NH2+]CC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- JJWUTEKZVJVODN-UHFFFAOYSA-N diheptoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(OCCCCCCC)OCCCCCCC JJWUTEKZVJVODN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVNBULWYQQKPFP-UHFFFAOYSA-N dihexoxy(dimethyl)stannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](C)(C)OCCCCCC UVNBULWYQQKPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTTCQHASVAWPGT-UHFFFAOYSA-N dihexyl(dioctyl)stannane Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCCCC MTTCQHASVAWPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHELOIOULYEKFL-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](C)(C)CCCCCCCC VHELOIOULYEKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSKAWWHFLOEUKW-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dipentoxy)stannane Chemical compound CCCCCO[Sn](C)(C)OCCCCC ZSKAWWHFLOEUKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNBOPGILVXIGJQ-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(2,3,4-triethylphenoxy)stannane Chemical compound CCC1=C(CC)C(CC)=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(CC)C(CC)=C1CC VNBOPGILVXIGJQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CAADFMNOPGKTOR-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(2,3,4-trimethylphenoxy)stannane Chemical compound CC1=C(C)C(C)=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=C(C)C(C)=C1C CAADFMNOPGKTOR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KNXVQYDZZHIUOF-UHFFFAOYSA-L dimethyl-bis(2-pentylphenoxy)stannane Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1O[Sn](C)(C)OC1=CC=CC=C1CCCCC KNXVQYDZZHIUOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ACTXEGMPBMGMNA-UHFFFAOYSA-N dimethyl-bis(phenylmethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Sn](C)(C)OCC1=CC=CC=C1 ACTXEGMPBMGMNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNZIUKBFJJAWBA-UHFFFAOYSA-N dimethyl-octoxy-octylstannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](C)(C)CCCCCCCC HNZIUKBFJJAWBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKPOVTYZGGYDIJ-UHFFFAOYSA-N dioctyl carbonate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)OCCCCCCCC PKPOVTYZGGYDIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPJJMILTDMZCEU-UHFFFAOYSA-L dioctyl-bis(2-pentylphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=C(CCCCC)C=1O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCC BPJJMILTDMZCEU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VSPYNWMZHCQZQT-UHFFFAOYSA-N dioctyl-bis(2-phenylethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCC1=CC=CC=C1 VSPYNWMZHCQZQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVQKEFURYWYRDC-UHFFFAOYSA-N dioctyl-bis(phenylmethoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCC1=CC=CC=C1 XVQKEFURYWYRDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWXGDHNJJFQCHN-UHFFFAOYSA-N dipropoxy(stannyloxy)stannane Chemical compound CCCO[SnH](O[SnH3])OCCC VWXGDHNJJFQCHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DFAIEQJHQDASGK-UHFFFAOYSA-N ethoxy(octyl)tin Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn]OCC DFAIEQJHQDASGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRDXOLRXOWFEAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy-diethyl-octylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)(CC)OCC HRDXOLRXOWFEAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KROZSRGRUFZUPC-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dioctyl-propylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCCCCCCC)OCC KROZSRGRUFZUPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMXTPJESZIEDJ-UHFFFAOYSA-N ethoxy-methyl-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](C)(CCCCCCCC)OCC ZBMXTPJESZIEDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTMLRHKKWDYROM-UHFFFAOYSA-N ethoxy-methyl-oxotin Chemical compound CCO[Sn](C)=O YTMLRHKKWDYROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPQNIYSDYJQDO-UHFFFAOYSA-N ethoxy-octyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCC)OCC NJPQNIYSDYJQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPXDTCOIRTVJIP-UHFFFAOYSA-N ethoxy-octyl-oxotin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)OCC MPXDTCOIRTVJIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FANAUDUYRDVPHX-UHFFFAOYSA-N ethoxytin Chemical compound CCO[Sn] FANAUDUYRDVPHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMYSULRFVWXBMB-UHFFFAOYSA-N ethyl-dioctyl-propoxystannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)(CCCCCCCC)OCCC XMYSULRFVWXBMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDVSLLBKRGMCHL-UHFFFAOYSA-N ethyl-methoxy-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CC)(CCCCCCCC)OC VDVSLLBKRGMCHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003505 heat denaturation Methods 0.000 description 1
- ZRJOCURSAMYFQE-UHFFFAOYSA-N heptan-3-yl hydrogen carbonate Chemical group CCCCC(CC)OC(O)=O ZRJOCURSAMYFQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JGCYBIWOAOXKGY-UHFFFAOYSA-N heptoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCCC JGCYBIWOAOXKGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXERZSNTWXUITI-UHFFFAOYSA-N heptoxy-[heptoxy(dimethyl)stannyl]oxy-dimethylstannane Chemical compound CCCCCCCO[Sn](C)(C)O[Sn](C)(C)OCCCCCCC RXERZSNTWXUITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKPHHJJRPVVRDO-UHFFFAOYSA-N heptoxy-methyl-oxotin Chemical compound CCCCCCCO[Sn](C)=O JKPHHJJRPVVRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTZHEMWABPLSSB-UHFFFAOYSA-N heptoxy-octyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCC)OCCCCCCC FTZHEMWABPLSSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHJAPHBSCQUNNC-UHFFFAOYSA-N heptoxy-octyl-oxotin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)OCCCCCCC XHJAPHBSCQUNNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFPKJDYAIRJMMW-UHFFFAOYSA-N heptyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCC UFPKJDYAIRJMMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEXORNZGIISGOG-UHFFFAOYSA-N hexane Chemical compound CCCCC[CH2-] AEXORNZGIISGOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZILMEHNWSRQIEH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O.CCCCCC(O)=O ZILMEHNWSRQIEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSZMHUUCVSCLFR-UHFFFAOYSA-N hexoxy(trimethyl)stannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](C)(C)C XSZMHUUCVSCLFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGXQKSGJLHUUPS-UHFFFAOYSA-N hexoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCCC MGXQKSGJLHUUPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPCALZZXOJPTIH-UHFFFAOYSA-N hexoxy-octyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCC)OCCCCCC JPCALZZXOJPTIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GECNIOWBEXHZNM-UHFFFAOYSA-N hexyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCCCCOC(O)=O GECNIOWBEXHZNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100463 hexyl laurate Drugs 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKHUSADXXDNRPW-UHFFFAOYSA-N malonic anhydride Chemical compound O=C1CC(=O)O1 KKHUSADXXDNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKEOZZYXWAIQFO-UHFFFAOYSA-M mercury(1+);iodide Chemical compound [Hg]I QKEOZZYXWAIQFO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- QGCCYBZITYJPJV-UHFFFAOYSA-N methoxy hydrogen carbonate Chemical group COOC(O)=O QGCCYBZITYJPJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUDYPXFSYJRWDP-UHFFFAOYSA-N methoxy methyl carbonate Chemical group COOC(=O)OC TUDYPXFSYJRWDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZQMPJDMPZAJRF-UHFFFAOYSA-N methoxy(methyl)tin Chemical compound CO[Sn]C MZQMPJDMPZAJRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWMHTPVNNZDTJP-UHFFFAOYSA-N methoxy(octyl)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]OC NWMHTPVNNZDTJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQYPABPYIYDRHQ-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-dioctylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](C)(CCCCCCCC)OC OQYPABPYIYDRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQBLWBBJLRXKT-UHFFFAOYSA-N methoxy-octyl-oxotin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)OC JLQBLWBBJLRXKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- QQKLEWWGQDVDND-UHFFFAOYSA-N methoxytin Chemical compound CO[Sn] QQKLEWWGQDVDND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USUBUUXHLGKOHN-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylidenehexanoate Chemical compound CCCCC(=C)C(=O)OC USUBUUXHLGKOHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTKSFBHUCRFZFU-UHFFFAOYSA-N methyl(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC RTKSFBHUCRFZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBGUBEMBBWFPOO-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentoxy)stannane Chemical compound CCCCCO[Sn](C)(OCCCCC)OCCCCC JBGUBEMBBWFPOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGCKYOKGOYLZEC-UHFFFAOYSA-N methyl-dioctyl-propoxystannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](C)(CCCCCCCC)OCCC MGCKYOKGOYLZEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 1
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBHQJXNXGGMASS-UHFFFAOYSA-N octoxy(octyl)tin Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn]OCCCCCCCC BBHQJXNXGGMASS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVMHXBJPJJNRIQ-UHFFFAOYSA-N octoxy(trioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CVMHXBJPJJNRIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PATHJOSYSJYIIE-UHFFFAOYSA-N octoxy-octyl-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCC)(CCC)CCCCCCCC PATHJOSYSJYIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBZAGOMQOSEWBH-UHFFFAOYSA-N octyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC BBZAGOMQOSEWBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUYCCOBIJYUMAK-UHFFFAOYSA-N octyl pentanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCC OUYCCOBIJYUMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBTZKFGDBYVYBW-UHFFFAOYSA-N octyl-oxo-propoxytin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)OCCC YBTZKFGDBYVYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQIVYWCHVVZXNR-UHFFFAOYSA-N octyl-pentoxy-dipropylstannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCC)(CCC)OCCCCC SQIVYWCHVVZXNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N octyldodecane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDIBCXIOECNX-UHFFFAOYSA-N octylhydrazine Chemical compound CCCCCCCCNN WSLDIBCXIOECNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMHZSHHZIKJFIR-UHFFFAOYSA-N octyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn] ZMHZSHHZIKJFIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000005324 oxide salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- SOQBSQLGTKQSGQ-UHFFFAOYSA-N oxo(oxostannanylidene)tin Chemical compound O=[Sn]=[Sn]=O SOQBSQLGTKQSGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJJMLLCUQDSZIZ-UHFFFAOYSA-N oxobismuth Chemical class [Bi]=O CJJMLLCUQDSZIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002927 oxygen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002972 pentoses Chemical class 0.000 description 1
- LCLOXRAKDJBSMN-UHFFFAOYSA-N pentyl hydrogen carbonate Chemical group CCCCCOC(O)=O LCLOXRAKDJBSMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N pentyl propanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)CC TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- NBJIUJJSNRFOMQ-UHFFFAOYSA-M phenoxy(stannyloxy)stannane Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)[SnH2]O[SnH3] NBJIUJJSNRFOMQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001692 polycarbonate urethane Polymers 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- BOBNBKILGZJTTM-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].CCC[O-].CCC[O-] BOBNBKILGZJTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- IEKUASBCHQFZCN-UHFFFAOYSA-J propyl carbonate tin(4+) Chemical compound C(OCCC)([O-])=O.[Sn+4].C(CC)OC([O-])=O.C(CC)OC([O-])=O.C(CC)OC([O-])=O IEKUASBCHQFZCN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FTBUKOLPOATXGV-UHFFFAOYSA-N propyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCC FTBUKOLPOATXGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEDZSLCZHWTGOR-UHFFFAOYSA-N propylcyclohexane Chemical compound CCCC1CCCCC1 DEDZSLCZHWTGOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBIVKLDWLAMJMB-UHFFFAOYSA-N propyltin Chemical compound CCC[Sn] FBIVKLDWLAMJMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- RADGOBKLTHEUQO-UHFFFAOYSA-N ruthenium(4+) Chemical compound [Ru+4] RADGOBKLTHEUQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 235000021003 saturated fats Nutrition 0.000 description 1
- BHZOKUMUHVTPBX-UHFFFAOYSA-M sodium acetic acid acetate Chemical compound [Na+].CC(O)=O.CC([O-])=O BHZOKUMUHVTPBX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- HHJVPVIZCHTFNO-UHFFFAOYSA-M stannyloxy-(2,3,4-triethylphenoxy)stannane Chemical compound C(C)C1=C(C(=C(O[SnH2]O[SnH3])C=C1)CC)CC HHJVPVIZCHTFNO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000912 stanozolol Drugs 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003432 sterols Chemical class 0.000 description 1
- 235000003702 sterols Nutrition 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- PYKSLEHEVAWOTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutoxystannane Chemical group CCCCO[Sn](OCCCC)(OCCCC)OCCCC PYKSLEHEVAWOTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005329 tetralinyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003535 tetraterpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000009657 tetraterpenes Nutrition 0.000 description 1
- RYSQYJQRXZRRPH-UHFFFAOYSA-J tin(4+);dicarbonate Chemical compound [Sn+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O RYSQYJQRXZRRPH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J tin(iv) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Sn+4] YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J tin(iv) iodide Chemical compound I[Sn](I)(I)I QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WXBXVVIUZANZAU-CMDGGOBGSA-N trans-2-decenoic acid Chemical compound CCCCCCC\C=C\C(O)=O WXBXVVIUZANZAU-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- QJQVDFARVDKRKQ-UHFFFAOYSA-N tributoxy(octyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCC)(OCCCC)OCCCC QJQVDFARVDKRKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTAGBUVRXOKAK-UHFFFAOYSA-N tributyl(ethoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OCC SDTAGBUVRXOKAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHZMPMMJVDRYQI-UHFFFAOYSA-N tributyl(hexoxy)stannane Chemical compound CCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC ZHZMPMMJVDRYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPXFLAIXNPGHKP-UHFFFAOYSA-N tributyl(octoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC NPXFLAIXNPGHKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRZKUMDKMJKIJO-UHFFFAOYSA-N tributyl-[butyl(dipropoxy)stannyl]oxystannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)O[Sn](CCCC)(OCCC)OCCC VRZKUMDKMJKIJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N tributyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)CCCC PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCSUQOHFBBQHQV-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)stannane Chemical compound CCO[Sn](C)(OCC)OCC VCSUQOHFBBQHQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOLLKCRWPPZUNF-UHFFFAOYSA-N trihexyl(methyl)stannane Chemical compound CCCCCC[Sn](C)(CCCCCC)CCCCCC NOLLKCRWPPZUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCDVMVSRLVGDML-UHFFFAOYSA-N trihexyl(octyl)stannane Chemical compound C(CCCCCCC)[Sn](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC RCDVMVSRLVGDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJWARDOLCXUDLG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC)(OC)OC VJWARDOLCXUDLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZDMLNUQFGQAK-UHFFFAOYSA-N trimethoxytin Chemical compound [Sn+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C LCZDMLNUQFGQAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBHNUXWZXFABQY-UHFFFAOYSA-N trimethyl(octoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](C)(C)C QBHNUXWZXFABQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTPGGCODTXXCPZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl(propoxy)stannane Chemical compound CCCO[Sn](C)(C)C FTPGGCODTXXCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- LJMXKZFQVNIUSF-UHFFFAOYSA-N trioctoxy(octyl)stannane Chemical compound CCCCCCCCO[Sn](CCCCCCCC)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC LJMXKZFQVNIUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPVVDBYJRDYGRY-UHFFFAOYSA-N trioctyl(pentoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCCCC PPVVDBYJRDYGRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIJGXZUDLIGCKX-UHFFFAOYSA-N trioctyl(propoxy)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OCCC OIJGXZUDLIGCKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021081 unsaturated fats Nutrition 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 238000012982 x-ray structure analysis Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/04—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from carbon dioxide or inorganic carbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/22—Tin compounds
- C07F7/2224—Compounds having one or more tin-oxygen linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
201008953 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於作為製造酯及碳酸酯時所使用之觸媒的二 烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷 化合物之製造，以及使用該二烷基錫二烷氧化物化合物及/ 或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之酯及碳酸酯之製造。 【先前技術】 二烧基錫二炫氧化物化合物或四烧基二烧氧基二錫氧烧 化合物可非常有效地用作酯合成觸媒、碳酸酯合成觸媒、 酯交換反應觸媒、聚矽氧聚合物或聚胺酯硬化觸媒等觸 媒。其中’碳酸酯係不僅可用作用以提高辛烷價之汽油添 加劑、用以減少排氣中之微粒之柴油燃料添加劑等添加 劑，亦可用作合成聚碳酸酯或聚胺酯、醫藥/農藥等有機 化合物時之烷基化劑、羰基化劑、溶劑等，或用作鋰電池 之電解液、潤滑油原料、鍋爐配管之防銹用脫氧劑之原料 等。二烷基錫二烷氧化物化合物或四烷基二烷氧基二錫氧 烷化合物作為該合成觸媒尤其受到矚目。例如，專利文獻 1中揭示有：使包含二烷基錫二烷氧化物之有機金屬化合 物與二氧化碳進行反應而形成加成物，再將該加成物熱分 解來製造碳酸酯之製造方法。 作為二烧基錫二燒氧化物化合物或四烧基二院氧基二錫 氧烧化合物之製造方法，已知有各種方法。 例如’專利文獻2中揭示有：使二烷基氡化錫與醇進行 脫水反應’自反應液去除包含所產生之水之低沸成分的方 134987.doc 201008953 法。該反應推測為下述式（丨）及（2)所示之伴隨脫水之逐次 平衡反應，為了以高產率獲得二烷基錫二烷氧化物，而一 面將由各脫水反應所生成之水排出至反應體系之外，一面 進行製&並且，由於係能量上不利之反應，因此需要高 溫(例如為18(TC)下長時間反應’而存在下述情形：由於高 > 皿下之長時間加熱’而發生產物即二烧基錫二院氧化物化 合物或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之熱變性反應。
又’由於二烷基錫化合物為固體，故而存在會對藉由連續 製程進行製造時之操作帶來障礙的情形。 [化1]
。R、 2 Sn=0 + 2R'〇h K
OR· 、s<RI、 OR， + H2〇
(式中： R及R·分別獨立表示烷基。） •[化 2]
OR， OR' R OR. Sn( r/ OR' + h2〇 (2) (式中： R及R'分別獨立表示烷基。） 一氣化錫與丁氧 之方法。該反應 又’非專利文獻1中揭示有：使二乙基 化納進行反應，來製造二乙基二丁氧化錫 134987.doc 201008953 中’由於作為副產物之氣化鈉生成為固體，故而反應後之 液體成為漿料狀，而存在實施錫化合物之純化等時在操作 方面有困難的情形。 另一方面’專利文獻3中記載有：再生碳酸酯之製造步 驟中所生成之錫觸媒的失活體組合物，將其再次用作製造 碳酸醋時之觸媒的方法。該再生方法係下述方法：使碳酸 醋之製造步驟中所生成之包含二烷基錫烷氧化物化合物之 失活體之組合物與酸及/或酸酐進行反應而製造化合物， 對該化合物進行熱處理，藉此製造出二烷基錫化合物，進 而將该二烧基錫化合物再生成二烷基錫烷氧化物化合物。 [專利文獻1]國際公開第2003/055840號 [專利文獻2]美國專利第5545600號說明書 [專利文獻3]國際公開第2008/044575號 [非專利文獻 l]journal 〇f Chemical Society,第 740 頁， 1964 年 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而’將二烷基錫化合物再生成二烷基錫二烷氧化物化 合物之步驟係使二烷基錫化合物與鹼性水溶液進行反應， 而獲知含有二烧基氧化錫之組合物’使該組合物與醇進行 反應’再將包含所產生之水之成分自反應液中去除的方 法’但該方法伴隨上述式（丨）及式（2)所表示之脫水反應， 故而存在伴隨有上述之二烷基錫二烷氧化物化合物或四烷 基一烧氧基二錫氧烧化合物之熱變性反應的情形。進而， 134987.doc 201008953 β 該步驟中，由於二烷基氧化錫為固體，故而存在液體之操 作步驟與固體之操作步驟混在一起，而在工業實施上有困 難的情形。 如以上所述，開發出一種不使用固體狀態之化合物，而 簡便地製造二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四垸基二烧 氧基二錫氧烷化合物之技術，仍係目前尚未解決之問題。 因此，本發明之目的在於提供一種不使用固體之錫化合 物’而製造二院基錫烧氧化物化合物之方法。本發明之另 _ 一目的在於提供一種將所製造之二烷基錫烷氧化物化合物 用於製造碳酸酯之方法。 [解決問題之技術手段] 本發明者針對上述課題而反覆潛心研究，結果發現：藉 由使特定之二烧基錫化合物及/或四烧基二錫氧烧化合物 與碳酸酯及/或醇進行反應，來製造二烷基錫烷氧化物化 〇物及/或四烧基二烧氧基二錫氧院化合物之方法可解決 ❹ 上述課題，從而完成本發明。 即，本發明係下述各項： π]—種製造方法，其係在無觸媒存在下，使選自由下述卩 及π)所組成之群中的至少一種烷基錫化合物： 0具有一個錫原子，且具有兩個Sn_Ri(Ri表示烷基）鍵與 兩個Sn-OX鍵（OX基係〇χ之共軛酸即h〇x係pKa為〇以上、 6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化合物， η)具有一個Sn-0-Sn鍵’且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn-ΟΧ鍵（0X基係〇χ之共輛酸即Ηοχ係pKa為〇以 134987.doc 201008953 上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）的四烷基二錫氧烷化合 物，與 R2OCOOR2(R2表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2_ 基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烧醚基））所表示之碳酸酯及/或 R2OH(R2表示與上述R2相同之基團）所表示之醇進行反 應， 而製造XOR2所表示之化合物，與 具有一個錫原子，且具有兩個Sn-R1鍵與兩個Sn_〇R2鍵 之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或 具有一個Sn-O-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵與 一個Sn-OR2鍵的四烷基二烷氧基二錫氡烷化合物。 [2] 如[1]之製造方法’其中該碳酸醋R2〇c〇〇R2及/或該醇 R OH中’ R為直鍵狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、 或飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基。 [3] 如[1]或[2]之製造方法，其中該碳酸二烷基酯 R2OCOOR2及/或該醇R2〇H中，R2為直鏈狀或支鏈狀之碳 數為1〜8之烷基。 [4] 如[1]至[3]中任一項之製造方法，其中該二烷基錫化合 物係下述式（3)所表示之化合物， [化3] 134987.doc 201008953
(式中： R刀别獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； 〇表示氧原子； OX及οχ係〇χι及〇χ2之共軛酸即Η〇χΐ&Η〇χ2係pKa 為0以上、1 2 3 4.5以下之布忍斯特酸的OX1及OX2 ; a及b分別為〇〜2之整數，a+b=2)。 [5]如[1]至[4]中任一項之製造方法，其中該四烷基二錫氧 烷化合物係下述式（4)所表示之化合物， [化4] R1
134987.doc -9- 1 ' (式中： φ Rl分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； 2 〇表示氧原子； OX3及OX4係OX3及〇X4之共輛酸即Η〇χ3及Η〇χ4係pKa 為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的οχ3及〇χ4)。 3 如[1]至[5]中任一項之製造方法，其中〇χ基為醯氧基。 4 如[1]至[6]中任一項之製造方法，其係使該二烷基錫化 5 合物及/或四燒基—錫乳院化合物、與碳酸醋及/或醇之反 應在20°C以上、250。(：以下之溫度下實施。 201008953 [8]如[1]之製造方法，其中該二烷基錫二烷氧化物化合物 係下述式（5)所表示之化合物， [化5] OR2 R1 —si—-OR2 r1 (5) (式中： R1分別獨立表示源自二烷基錫化合物及/或四烷基二錫 氧烧化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜12之烷基； 2 R分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇的，直鏈狀或支鍵 狀之飽和或不飽和之烴基、飽和或不飽和之具有環狀烴取 代基之烴基、或Υ-CH2·基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳 香族基、或環狀飽和或不飽和伸烷醚基））。 [9]如[1]至[8]中任一項之製造方法，其中該四烧基二燒氧 基一錫氧烧化合物係下述式（6)所表示之化合物， [化6] OR2 R1
Ri -Sn--〇——Jn—R1 R1 OR2 (6) (式中： R刀別獨立表示源自一院基錫化合物及/或四烧基二錫 氧烷化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烧基； R刀別獨立表示源自碳酸醋及/或醇的，直鍵狀或支鍵 狀之飽和或不飽和之烴基、飽和或不飽和之具有環狀烴取 134987.doc -10· 201008953 代基之烴基、或y_CH2_基（式中，γ表示烷基聚伸烷基芳 香族基、或環狀飽和或不飽和伸院醚基））。 [10]如[1]至[9]中任一項之製造方法，其中該二烷基錫化合 物及/或該四烷基二錫氧烷化合物係藉由包括以下步驟 (1)〜(2)之方法所製造的化合物， 步驟（1): 藉由選自由具有一個錫原子且具有兩個Sn_Ri鍵與兩個 Sn-OR鍵之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或具有一個Sn_ O-Sn鍵且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵與一個Sn_〇R2鍵的 四烧基一烧氧基二錫氧炫化合物所組成之群中之至少一種 烧基錫烧氧化物之烷基歧化反應（鍵結於錫上之尺！基之數 量為2個即為二烧基錫烧氧化物化合物之情形時，在2分子 間進行歧化’鍵結於錫上之Ri基之數量為4個即為四烷基 二燒氧基二錫氧烷化合物時，在分子内及/或分子間進行 歧化’由此轉化為具有一個Sn_Ri鍵之單烷基錫烷氧化物 化合物與具有三個Sn-R1鍵之三烷基錫烷氧化物化合物的 反應）生成包含單烷基錫烷氧化物化合物與三烷基錫烷氧 化物化合物之烷基錫組合物， 使該烷基錫組合物與通式1^〇乂(？尺&為0以上、6.8以下之 布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式χ〇χ(〇χ基係〇χ之共輛 酸即ΗΟΧ係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的ΟΧ基）所 表示之酸酐進行反應’而製造具有源自該酸及/或該酸酐 之基團（0X基）的有機錫化合物之混合物的步驟； 步驟（2): 134987.doc 201008953 對該步驟（1)中所獲得之該有機錫化合物之混合物進行 加熱處理’進行烧基再分配反應，而由該烧基錫組合物中 之該單烷基錫烷氧化物化合物與三烷基錫烷氧化物化合 物，獲得 選自i)具有一個錫原子且上述—個錫原子具有兩個Sn_ R^R1表示烷基）鍵與兩個Sn-ΟΧ鍵（0χ基係〇χ之共輛酸即 HOX係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）的二烷 基錫化合物、 Π)具有一個Sn-0-Sn鍵且各個錫原子具有兩個Sn_Rl鍵與 _ 一個Sn-OX鍵（OX基係〇χ之共軛酸即Η〇χ係pKa為〇以上、 6.8以下之布忍斯特酸的OX基）的四烷基二錫氧烷化合物之 群中的至少一種烷基錫化合物的步驟； 其中，直接鍵結在該二烷基錫化合物、該四烷基二錫氧 烷化合物、該二烷基錫二烷氧化物化合物、該四烷基二烷 氧基二錫氧烷化合物、該單烷基錫烷氧化物化合物、該三 烷基錫烷氧化物化合物之錫上之…為相同之烷基。 [11]如[10]之製造方法，其中該烷基錫組合物係依序進行_ 下述步驟（a)〜步驟（C)所獲得之製造碳酸醋之過程中所生成 之基錫組合物， 步驟（a) ·使下述通式（7)所表示之二烷基錫二烷氧化物 與二氧化碳加以反應’而獲得包含碳酸醋與下述通式（8)所 表不之四烧基二院氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基 二錫氧院與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； [化7] 134987.doc •12· 201008953 OR2 R1 -Sn—-〇R2 R1 (7) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烧基’ R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之煙 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y-CH2· 基（式中’ Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 籲 不飽和伸烷醚基））。 [化8] OR2 R1 R1 -Sn-〇-Jn—R1 R1 OR2 (8) (式中： R1表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為！〜12之烷基； • R表示直鍵狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、飽和或 不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2_* (式中，γ 表不烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或不飽和伸烷 醚基））； 步驟（b):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，而獲得 包含該四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基 二錫氧烷與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟⑷：使㈣留液與下述通式（9)所表k醇加以反 應’去除所產生之副產物水’再生二燒基錫二燒氧化物， 134987.doc -13- 201008953 而將該二烷基錫二烷氧化物用作步驟（a)之二烷基錫二烷氧 化物的步驟， [化9]
WOH (9) (式中：
W表示直鍵狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、飽和或 不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2_基（式中，Y 表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或不飽和伸烷 醚基））。 [12] 如[11]之製造方法，其係在如[u]之步驟（b)及/或步驟 (c)後實施進行如[10]之方法之步驟：由製造該碳酸酯之過 程所生成之烷基錫組合物，再生二烷基錫二烷氧化物及/ 或四烷基二烷氧基二錫氧烷； 並將再生之一烧基錫二烧氧化物及/或四烧基二院氧基 二錫氧烷 用作步驟（a)之二烷基錫二烷氧化物， 與步驟（b)之殘留液混合而用作步驟（c)之原料。 [13] —種碳酸酯之製造方法，其在如π]之方法中進而包括 下述步驟（Α)〜步驟（Β): 步驟（Α):使如請求項丨之二烷基錫二烷氧化物化合物及/ 或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物與二氧化碳進行反應， 而獲得包含碳酸酯與四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物及/ 或該四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物與二氧化碳之結合體 134987.doc -14· 201008953 的反應液之步驟； 步驟（B):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，而獲得 包含四烧基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基二 錫氧烷與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟。 [14] 一種碳酸酯之製造方法，其在如[13]之方法中進而包 括下述步驟（C) ’且將該步驟（C)所製造之烷基錫化合物用 作如[1]之烷基錫化合物； 步驟（C):使該步驟（B)之殘留液與通式H〇X(pKa為0以 上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式χ〇χ(〇χ 基係ΟΧ之共輛酸即ΗΟΧ係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯 特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製造選自下述 i)、ii)之群中的至少一種烧基錫化合物之步驟； i)具有一個錫原子，且具有兩個Sn_Ri(Ri表示烷基）鍵與 兩個Sn-ΟΧ鍵（〇χ基係OX之共軛酸即H〇Xs pK# 〇以上、 6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化合物， U)具有一個Sn-0-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵 與一個Sn-OX鍵（OX基係0X之共軛酸即Η〇χ係pKa為〇以 上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之四烷基二錫氧烷化合 物。 Π5]如[1]之製造方法，其中該二烷基錫化合物及/或該四 烷基二錫氧烷化合物係藉由包括以下步驟⑴〜步驟（ΠΙ)之 方法所製造的化合物： 步驟（I):使下述通式（10)所表示之二烷基錫二烷氧化物 與二氧化碳進行反應，而獲得包含碳酸酯與下述通式（11) 134987.doc 201008953 所表示之四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧 基二錫氧烷與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； [化 10] OR2 R1 -si-〇R2 R1 (10) (式中： R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_CH2- 基（式中’ Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸燒醚基））^ [化 11] OR2 R1 R1 Sn-〇—Jn—R1 R1 〇R2 (11) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為i〜12之烷基； 2 R分別獨立表示直鍵狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_ch2-基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烧醚基））。 步驟（II):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，而獲得 包含該四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基 134987.doc -16 - 201008953 二錫氧烧與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟（III):使該步驟（Π)之殘留液與通式H〇x(pKa為〇以 上、0.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式χ〇χ(〇χ 基係ΟΧ之共扼酸即ΗΟΧ係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯 特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製造具有源自該 酸及/或該酸酐之基團（〇χ基），且以下述式（12)表示之二烷 氧基錫化合物及/或以下述式（13)表示之四烷基二錫氧烷化 合物之步驟； [化 12]
OX R1 -Sn-οχ R1 (12) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜12之烷基； Ο表示氧原子； OX表示OX之共軛酸即HOX係pKa為0以上、6.8以下之布 忍斯特酸的OX基）。 [化 13] 〇X R1 R1 -Sn--〇___Jn—R1 R1 OX (13) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜12之烷基； Ο表示氧原子； 134987.doc -17- 201008953 OX表示OX之共軛酸即HOX係pKa為0以上、6·8以下之布 忍斯特酸的ΟΧ基）。 [16] 如[1]至[15]中任一項之製造方法，其中該烷基Rl為碳 數為1〜8之直鍵烧基。 [17] 如[16]之製造方法，其中該烷基R1為正丁基或正辛 基。 [18] 如[10]、[14]、[15]中任一項之製造方法，其中該酸 HOX係羧酸。 [19] 如[18]之製造方法，其中該羧酸係選自由乙酸、丙 酸、順丁烯二酸所組成之群中之羧酸。 [20] 如[10]、[14]、[15]中任一項之製造方法，其中該酸射： XOX係選自由乙酸針、丙酸肝、順丁稀二酸酐所組成之群 中之酸酐。 [發明之效果] 根據本發明，可不使用固體之錫化合物，而簡便地將二 烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物轉化成二烷基 錫烧氧化物化合物及/或四烧基二烧氧基二錫氧院化合 物。可將該二烷基錫烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧 基二錫氧烷化合物用作碳酸酯之製造用觸媒。又，藉由製 造碳酸酯時所使用之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四 烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之烷基歧化反應而生成單烷 基錫烷氧化物化合物與四烷基錫烷氧化物，由該單烷基錫 烷氧化物化合物與四烷基錫烷氧化物可製造出作為有用成 分之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二 134987.doc -18- 201008953 錫氧烷化合物，可再使用於碳酸醋之製造，因此在工業領 域非常有用。 【實施方式】 以下，就用以實施本發明之形態（以下稱作「本實施形 態、」）加以詳細說明。㈣，本發明並$限於以下之實施 形態，可在其主旨之範圍内實施各種變形。 本實施形態之製造方法係如下之方法：在無觸媒存在 下，使 ^ 選自由下述iWi)所組成之群中的至少-種院基錫化合 物· i)具有一個錫原子’且具有兩個811_尺1(尺1表示烧基）鍵與 兩個Sn-OX鍵（〇χ基係0χ之共軛酸即Η〇χ係ρΚ&為〇以上、 6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化合物， 11)具有一個Sn-0-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn-OX鍵（〇χ基係〇χ之共軛酸即Ηοχ係pKa為〇以 φ 上、6.8以下之布忍斯特酸的OX基）的四烷基二錫氧烷化合 物，與 R2OCOOR2(R2表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 • 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y-ch2- , 基（式中’ Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烷醚基））所表示之碳酸酯及/或 R2OH(R2表示與上述R2相同之基團）所表示之醇進行反 應， 而製造XOR2所表示之化合物，與 134987.doc -19- 201008953 具有個錫原子，且具有兩個Sn-R1鍵與兩個Sn_OR2鍵 之二烧基錫一貌氧化物化合物及/或 具有個811-0-811鍵，且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵與 一個Sn-OR2鍵的四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物。 <二烧基錫化合物> 首先，就屬於i)之二烷基錫化合物加以說明。 該二烷基錫化合物係下述式（14)所表示之化合物。 [化 14] ?Xa ⑩ R1 -Sn-〇x2b 丄1 (14) (式中： R,分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烧基； 〇表示氧原子； OX及OX係OX及〇X2之共耗酸即Η〇χ1及肋χ2係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的οχ〗及〇χ2 ; a及b分別為〇〜2之整數，a+b=2) _ 作為上述式（14)中之r1的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十二烧基（各異構物）等構成該’ 基團之故原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族烴基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數中之數字的直鏈狀或支鏈狀之烧基”亦可使用構成該基 134987.doc •20- 201008953 團之碳原子數在以上所示之範圍以外之炫基的二燒基錫化 σ物’但存在流動性變差，或有損生產性n考慮到 在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 關2於上述式（14)中之οχΐ及〇χ2 ,若其共概酸即Η〇χ1& 110又為布忍斯特酸，且該共軛酸之口^^為〇以上、68以 了 ’則無❹m制，較好的是選自㈣氧基、芳氧基所組 成之群中的至種取代基，且其共輛酸之响為〇以上、 6.8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自〇〜12 之4·數中之數字的基團。作為如此之基團的具體例，可列 舉·乙酿氧基、丙酿氧基、丁酿氧基、戍酿氧基、月桂酿 氧基等由直鏈狀或支鏈狀之飽和烧基、幾基及氧原子所構 成之酿氧基；苯氧基、甲基苯氧基（各異構物）、乙基苯氧 基（各異構物）、丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異 構物）、戊基苯氧基（各異構物）、己基苯氧基（各異構物）、 二甲基苯氧基(各異構物)、甲基乙基苯氧基(各異構物)、 馨？基丙基4：氧基（各異構物）、甲基丁基苯氧基（各異構 物曱基戊基苯氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構 物)、乙基丙基苯氧基(各異構物)、乙基丁基苯氧基(各異 構物）、二丙基笨氧基（各異構物）、三曱基苯氧基（各異構 物)、二甲基乙基苯氧基(各異構物)、二甲基丙基笨氧基 (各異構物)、二甲基丁基苯氧基(各異構物)、甲基乙基丙 等甲基二甲基苯氧基、三乙基苯氧基(各異構物) 作為上述式（14)所表示之二燒基錫化合物的具體例，可 134987.doc -21- 201008953 列舉：二甲基-二乙醯氧基 構物)、-甲其 1基錫-甲基·二丙酿氧基錫(各異 構物）—子基_二丁酿氧基錫(各異構物)、二甲 氧基錫（各異構物）、二甲 ， 土 一戊醯 二丁其… 甲基--月桂酿氧基錫(各異構物)、 一丁基-一乙醯虱基錫（各異構物二 r各異椹腩、-τ* 〗基丙醯氧基錫 異構物)、一丁基·二丁醯氧基錫(各異 戊醢氧基錫（各異構物）、二 A _ —』丞_一 _ 一丁基·一月桂醯氧基錫（各異構 物）一辛基-二乙醢氧基錫(各異構物)、二辛基 基錫（各異構物）、二辛臬——r m » ά … 辛基_ 一丁醯氧基錫(各異構物）、二辛 基-戊酿氧基錫（各異構物）、辛 _ 辛基月桂醯氧基錫（各異 構物)等二烷基·二醯氧基錫；二甲基二苯氧基錫、二甲 基_二⑽苯氧基）錫（各異構物）、二甲基二（乙基苯氧基） 錫(各異構物)、二甲基-二(丙基苯氧基)錫(各異構物)、二 甲基-二（丁基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基 ❿ 基）錫（各異構物）、二甲基二（己基苯氧基）錫（各異構物）、 一甲基-雙（二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二曱基-二（甲基 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（甲基丙基苯氧基）錫 (各異構物）、二甲基·二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、 一曱基-二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物卜二曱基-雙（二 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（乙基丙基苯氧基）錫 (各異構物）、"甲基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、 二曱基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二曱基-二（三曱 基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基·雙（二甲基乙基$氧基）錫 (各異構物）、二甲基_雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二甲基-雙（二甲基丁基笨氧基）錫（各異構物）、二甲 134987.doc -22- 201008953 ❹ 基-二（甲基乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二^基二（乙 基一甲基本氧基）錫（各異構物）、二甲基-二（三乙基苯氧基） 錫（各異構物）、二丁基-二苯氧基錫（各異構物）、二丁基_二 (甲基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（乙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基-二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_ 二（丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基·二（戊基苯氧基）錫 (各異構物）、二丁基-二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-雙（一甲基本氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（甲基乙基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（甲基丙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基_二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-二基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基雙（二乙基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（乙基丙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物卜二丁 基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基二（三甲基苯 氧基）錫（各異構物）、二丁基_雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基_雙（二f基丙基苯氧基）錫（各異構物卜二 丁基-雙（二甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（甲 基乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二了基二（乙基二甲基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（三乙基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基-二苯氧基錫（各異構物）、二辛基-二（甲基苯 氧基)錫(各異構物）、二辛基_二(乙基笨氧基)錫(各異構 物L、二辛基_二（丙基苯敦基）锡（各異構物）、·=*辛基二（丁 基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（戊基苯氧基）錫（各異 構物）、r辛基·二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-雙 134987.doc •23- 201008953 (二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基二（甲基乙基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基_二（甲基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基-二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_ 二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_雙（二乙基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基_二（乙基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基-二（乙基丁基笨氧基）錫（各異構物）、二辛基_ 二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（三甲基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基·雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛 基-雙（二曱基丁基苯氧基）錫（各異構物）、三辛基·二（甲基 乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基二（乙基二甲基二 氧基）錫（各異構物）、二辛基.二（三乙基苯氧基）錫（各異構 物）等烷基-二芳氧基錫等。 <四烷基二錫氧烷化合物> 其次，就屬於⑴之四院基二錫氧烧化合物加以說明。 該四烧基二錫氧烧化合物係下述式（15)所表示之化合 物。 [化 15]
(式中： R1
OX4 0—— 05) R分別獨立表示直鍵狀或支鏈狀之碳數為卜 〇表示氧原子； 烷基 134987.doc 201008953 ox及OX4係⑽及〇χ4之共輕酸即Η〇χ3及肋X4係— 為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的ΟΧ3及ΟΧ4。） 為述式（15)中之R1的例子，可列舉：甲基、乙基、 土 (各異構物)、丁基(各異構物)、戊基(各異構物)、己基 (各異構物)、庚基(各異構物)、辛基(各異構物)、壬基(各 異構物)、癸基(各異構物)、十二烷基(各異構物)等構成該 基團之竣原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 • t烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數中之數子的直鍵狀或支鏈狀之院基。亦可使用構成該基 團之碳原子數在以上所示範圍以外之院基的四烧基二錫氧 烧化合物’但存在流動性變差，或有損生產性之情形。考 慮到在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 關，上述式⑽中之〇χ3及〇χ4,若其共輛酸即h‘及 Η〇Χ4為布忍斯特酸，且該共輛酸之pKa為〇以上、68以 下，則無特別限制，較好的是選自由酿氧基、芳氧基所組 ❹力之群中的至少-種取代基，且其共輕酸之pKa為㈣上、 6.8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自〇〜η 之整數中之數字的基團。作為如此之基團的具體例，可列 . 舉：乙酿氧基、丙酿氧基、丁酿氧基、戊酿氧基、月桂酿 • 氧基等由直鏈狀或支鏈狀之飽和院基、幾基及氧原子所構 成之酿氧基；苯氧基、甲基苯氧基（各異構物）、乙基苯氧 基（各異構物）、丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異 構物）、戊基苯氧基（各異構物）、己基苯氧基（各異構物）、、 二甲基苯氧基（各異構物）、甲基乙基苯氧基（各異構物）、 134987.doc -25· 201008953 甲基丙基苯氧基（各異構物）、甲基丁基苯氧基（各異構 物）、甲基戊基苯氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構 物）、乙基丙基苯氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異 構物）、二丙基苯氧基（各異構物）、三甲基苯氧基（各異構 物）、二甲基乙基苯氧基（各異構物）、二甲基丙基苯氧基 (各異構物）、二曱基丁基苯氧基（各異構物）、曱基乙基丙 基苯氧基、甲基二甲基苯氧基、三乙基苯氧基（各異構物） 等芳氧基等。 作為上述式（15)所表示之化合物的具體例，可列舉：_ 1,1,3,3-四甲基- i，3-一乙醯氧基二錫氧院、in 3_四甲基_ 丄，3-二丙醯氧基二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基-n 一丁醯氧基二錫氧烷（各異構物）、四甲基_13-二戊 醯氧基二錫氧烷（各異構物）、u，3,3_四甲基_1>3_二月桂醯 氧基二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四丁基二乙醯氧基 二錫氧烷（各異構物）、i山3,3_四丁基]，3_二丙醯氧基二錫 氧燒（各異構物）、U，3,3·四丁基]，3_二丁醯氧基二錫氧烷 (各異構物）、丨，1，3,3-四丁基-1，3-二戊醯氧基二錫氧烷（各〇 異構物）、1，1，3,3-四丁基π二月桂醯氧基二錫氧燒（各異 物）1’1，3,3-四辛基·ι，3·二乙醯氧基二錫氧燒（各異構 物）、1’1，3’3-四辛基-υ-二丙醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基+3-二丁醯氧基二錫氧烷（各異構. 物）、1，1，3,3-四辛基-u-二戊醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3·四辛基#二月桂醯氧基二錫氧烧（各異構 物）等1，1，3,3-四烧基]，3_二醯氧基二錫氧燒；i i 3 3四甲 134987.doc -26- 201008953 1，1，3,3-四甲基-13·二（甲基苯 1，1，3,3-四甲基乙基笨 1，1，3,3-四甲基“，弘二^丙基苯 1，1，3,3-四甲基丁基苯 基-1,3-二苯氧基二錫氧貌、 氧基）二錫氧烷（各異構物）、 氧基）_一錫氧烧（各異構物）、 氧基）二錫氧院（各異構物）、
氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基_153_二（戊基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基―丨^-二（己基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、u，3,3_四甲基〇-雙（二甲基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四曱基_13-二（甲基 乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基u-二 (甲基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四曱基_ 1，3-二（甲基丁基笨氧基）二錫氧烷（各異構物）、^丄弘四 甲基1，3-一（甲基戊基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、 1，1，3,3-四甲基+3-雙（二乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四曱基-i，3-二（乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）、1,1，3,3-四甲基-L3-二（乙基丁基苯氧基）二錫氧 烷（各異構物）、丨，^，％四甲基(二丙基苯氧基）二錫 乳烧（各異構物）、1，1，3,3_四曱基二（三甲基苯氧基）二 錫氧烷（各異構物）、四甲基_1，3_雙（二甲基乙基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、113,3 —四甲基_1，3_雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四曱基-u —雙 (一甲基丁基苯氧基）二錫氧炫(各異構物）、1，1，3,3-四甲基_ 1，3 一（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、 1’1，3,3-四甲基_13_二（乙基二甲基笨氧基）二錫氧烷（各異 構物）、U，3,3-四甲基-1，3-二（三乙基苯氧基）二錫氧烧（各 134987.doc 27· 201008953 異構物）、1，1，3,3-四丁基―丨，％二苯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基心—工（甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構 )，，’3四丁基-1，3-二（乙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基-^―二（丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 )，，’3四丁基-1，3_二（丁基苯氧基）二錫氧院（各異構 )，，’3四丁基-1，3-二（戊基苯氧基）二錫氧燒（各異構 )，，’3四丁基-1,3-二（己基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、四丁基+3·雙（二甲基苯氧基）二錫氧烧（各異 構物）、1，1，3,3-四丁基.π二（甲基乙基苯氧基）二錫氧燒 (各異構物）、U，3,3·四丁基-1，3·二（甲基丙基苯氧基）二錫 氧烧（各異構物）、U，3,3_四丁基_1,3·二（甲基了基苯氧基） 二錫氧院(各異構物）、^3—四丁基]，二(甲基戊基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、i山3,3•四丁基-〗，3雙（二乙基 苯氧基）一錫氧烷（各異構物）、四丁基二（乙基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁基_ι,3·二 (乙基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁基_ 1,3-二（二丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）' 四丁 基-ι，3-二（三甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構物弘四 丁基-1，3-雙（二甲基乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四丁基-1，3-雙（二甲基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四丁基-1，3·雙（二曱基丁基苯氧基）二錫氧 烷（各異構物）、1，1，3,3-四丁基_丨，3_二（甲基乙基丙基笨氧 基）二錫氧炫（各異構物）、1，1，3,3-四丁基·ι，3·二（乙基二甲 基苯氧基）二錫氧烧（各異構物）、1，1，3,3 -四丁基 •28-
134987.doc 201008953 苯氧基二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 乙基苯氧基)二錫氧烷(各異構物）、u 3 贫备-仰长•… T巫 1，1，3,3-四辛基_153_二（甲基 1，1，3,3-四辛基-Ι3·二（乙基 1，1，3,3-四辛基_Μ·二（丙基 Μ，3,3·四辛基 _1，3-二（丁基 1，1，3,3-四辛基d，、二（戊基 U，3,3·四辛基_1，3-二（己基 ，1，3,3_四辛基_1，3_雙（二甲 參 基苯氧基）二錫氧烧（各異構物）、1，1，3,3-四辛基]，3_二一(甲 基乙基苯氧基）二踢氧院（各異構物）、u，3,3_四辛基Γ13_ 二（甲基丙基苯氧基）二錫氧烧（各異構物）、四土辛基_ 1，3_二(甲基丁基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、Μ』二 辛基二（甲基戊基苯氧基）二錫氧垸（各異構物）、 U，3,3-四辛基少弘雙(二乙基苯氧基)二錫氧烷(各異構 物）、1，1，3,3-四辛基{3-二（乙基丙基苯氧基）二錫氧燒（各 異構物）、1，1，3,3·四辛基·M•二（乙基丁基苯氧基）二錫氧 烧（各異構物）、U，3,3·四辛基W·二（二丙基苯氧基錫 氧烷(各異構物）、1，1，3,3-四辛基w·二(三甲基苯氧基)二 錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3·四辛基_13雙（二甲基乙基苯 氧基）一錫氧垸（各異構物）、1，1，3,3_四辛基_1，3_雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、H3，％四辛基_13_雙 (一甲基丁基本氧基）一錫氧烧（各異構物）、1,1,3，3-四辛基_ 1，3-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1’1，3,3-四辛基_ι，3-二（乙基二曱基苯氧基）二錫氧烷（各異 134987.doc -29· 201008953 構物）、1,1,3，3-四辛基-1，3-二（三乙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）等1，1，3,3-四烷基-1,3-二芳氧基二錫氧烷。 已知，有機錫化合物一般容易形成締合結構，例如二烷 基錫二烷氧化物形成二聚物結構而存在，或四烷基二烷氧 基二錫氧烷形成由2分子或3分子締合而成之梯狀結構而存 在。即使如此之締合狀態發生變化時，從業者一般亦以單 體結構來表示化合物。 <碳酸5旨> 本實施形態中所使用之碳酸酯並無特別限制，可較好地 ❿ 使用下述式（16)所表示之碳酸酯。 [化 16] R OCOOR2 (16) (式中： R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_CH2_ ❿ 基（式中，y表不烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烷醚基））。 作為上述式（16)所表示之碳酸酯，r2可為脂肪族烴基、 亦2可為芳香族烴基，構成碳酸酯之R2基上鍵結有〇H基之 ROH結構之經基化合物的酸性較低時，易於以r2〇x之形 式脫離g此上述R2中，與氧鍵結之碳較好 甲基結構。作為該^可列舉：甲基、乙基、：基= 構物)、丁基(各異構物)、戊基(各異構物)、己基(各異構 134987.doc -30· 201008953 ❹ 物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各異構 物）、癸基（各異構物）、十二烷基（各異構物）' 十六烷基（各 異構物）、十八烷基（各異構物）等烷基；環戊基、環己基、 環庚基、環辛基（各異構物）、甲基環戊基、甲基環己基、 甲基％庚基、甲基環辛基(各異構物）、乙基環戊基、乙基 環己基、乙基環庚基、乙基環辛基（各異構物）、丙基環戍 基、丙基環己基、丙基環庚基、丙基環辛基（各異構物）、 環戊基甲基、環己基甲基、環庚基甲基、環辛基甲基（各 異構物）、環戊基乙基、環己基乙基、環庚基乙基、環辛 基乙基（各異構物）、環戊基丙基、環己基丙基、環庚基丙 基、環辛基丙基（各異構物）等環燒基；環戍基甲基、環戍 基乙基、環己基甲基、環己基乙基等具有環狀煙取代基之 烴基；苯基甲基、苯基乙基、甲笨基甲基、甲苯基乙基 (各’、構物）—甲苯基甲基(各異構物）、二甲苯基乙基(各 異構物）等經芳基取代之烴基；曱氧基甲基、甲氧基乙 基、甲氧基丙基（各異構物）、甲氧基丁基（各異構物）、甲 氧基戊基（各異構物）、甲氧基$基（各異構物）、乙氧基甲 基、乙氧基乙基、乙氧基丙基（各異構物）、乙氧基丁基（各 異構物）、乙t基戊基（各異構物）、〔氧基己基（各異構 物）、聚氧乙烯基等聚氧料基。該等中，考慮到流動性 及反應後之分離，更好的是上述式⑽中碳數為卜8 之碳酸醋。最好的是煙W為選自燒基、環燒基中之基團 的碳酸醋。作為上述式⑽所表示之碳酸醋的具體例，可 列舉：碳酸二甲醋、碳酸二乙醋、碳酸二丙醋(各異構 134987.doc -31 · 201008953 物）、碳醆二丁酯（各 酸二己叫異構物)=二戊醋(各異構物)、碳 酯（各異構物）等碳酸賴。—庚醋（各異構物）、碳酸二辛 <醇> 作為本實施形態之醇並益 所表示之醇。 ‘、，、特靠制，可列舉下述式（17) [化 17] (17) r2〇h (式中： R2具有與上述式⑽十之r2相同之定義 作為上述式Π7)所表示之醇，r2 為芳香族烴基，其中較心日肪族k基、亦可 、 的疋R係為選自烷基、環烷基中 =的酵。作為㈣，可列舉：甲基、乙基、丙基(各 ^ )、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基（各異構 參 )、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各異構物、 癸基（各異構物）、十二院基（各異構物）、十六烧基（各異構 物）、十八烧基（各異構物）等炫基；環戊基、環己基、環庚 基、環辛基(各異構物)、甲基環戊基、f基環己基、甲基 環庚基、甲基環辛基（各異構物）、乙基環戊基、乙基環己 基、乙基環庚基、乙基環辛基（各異構物）、丙基環戊基、 丙基環己基、丙基環庚基、丙基環辛基（各異構物）、環戊 基甲基、環己基甲基、環庚基甲基、環辛基甲基（各異構 物）、環戊基乙基、環己基乙基、環庚基乙基、環辛基乙 基（各異構物）、環戊基丙基、環己基丙基、環庚基丙基、 134987.doc •32· 201008953 環辛基丙基（各異構物）等環烧基。該等中，更好的是上述 式（17)中，碳數為卜8之院基的醇。作為該醇的具體 例，可列舉：甲醇、乙醇、丙酵（各異構物）、丁醇（各異構 物）、戊醇（各異構物）、[醇（各異構物）、庚醇（各異構 物）、辛醇（各異構物）等醇。 又’本發明之其他形態中’可使用下述式(18)所表示之 酵。 [化 18]
WOH (18) (式中： W表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、飽和或 不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2_基（式中，γ 表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或不飽和伸烧 醚基））。 式（18)所表示之醇並無限制，可使用上述式（17)所例示 • 之醇。作為較好的例子，亦可適當使用作為上述式（17)之 較好的例子而例示的醇。如下所述，為了使與水之分離變 得容易’更好的是常壓下之沸點高於水的醇，作為如此之 醇的例子’可列舉：正丁醇、3-甲基丙醇、戊醇（各異構 物）、己醇（各異構物）、庚醇（各異構物）、辛醇（各異構 物）。 <二炫基錫化合物及/或四烧基二錫氧燒化合物、與碳酸酯 之反應> 134987.doc •33- 201008953 其久’對本實施形態中之二烧基錫化合物及/或四统基 二錫氧烧化合物、與碳酸酯之反應進行說明。 對於該反應，二烧基錫化合物及/或四燒基二錫氧院化 合物、與碳酸酯之反應中，關於該等化合物之組成比，二 烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物、與碳酸6旨之 化學計量比較好的是1 : 〇·1〜1 : 100。為了提高反應速 度、快速結束反應，較好的是使用大量過剩之碳酸酯，但 若使用過多量之碳酸酯，則需使用過大之反應器，因此較 好的是以1 : 0.3-1 : 50 ’更好的是以1 : 1〜1 : 30之範圍的 組成比實施反應。 反應溫度根據所使用之反應劑之種類或組成比而有所不 同，較好的是20°C〜250°C之溫度範圍。為了儘早結束反 應’較好的是在高溫下實施反應，但存在下述情形：若在 過高溫度下實施反應，則會引起反應原料即二烷基錫化合 物及/或四烷基二錫氧烷化合物、及/或、反應產物即二烷 基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化 合物之熱變性反應等，使得該反應之目標化合物之產率降 低’因此更好的是在30°C〜230°C之溫度範圍，更好的是在 50°C〜200°C之溫度範圍内實施反應。又，該反應中無需使 用觸媒。 該反應中無需使用溶媒，但為了提高流動性、或使反應 操作變得容易，亦可使用溶媒。可使用之溶媒，若為不與 反應原料即二烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合 物、及碳酸酯、或反應產物即二烷基錫二烷氧化物化合物 134987.doc -34- 201008953 及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物發生反應者，則可 為任何溶媒。作為該溶媒，例如可列舉：碳數為μ之直 鍵狀、分支狀、環狀之烴；包含碳數為4以之直鍵狀、分 支狀、環狀之烴的醚類；碳數為1〜16之直鏈狀、分支狀、 環狀之函代烴類等。具體而言，可使用：選自戊烧（各異 構物）、[烧（各異構物）、庚燒（各異構物）、辛烧（各異構 物）、壬烧（各異構物）、癸燒（各異構物）、+六烧（各異構 參 物）、環己烧、環庚烧、環辛烧、苯、甲苯、二甲苯（各異 構物）、乙苯等中之鏈狀、環狀之烴；選自乙醚、丙謎（各 異構物）、頂（各異構物）、[醚（各異構物）、辛醚（各異構 物）、苯醚等中之醚類；選自二氯甲烷、氯仿、四氯化 碳、氯苯、四虱乙烷、二氯苯(異構物)等中之鹵代烴類。 又，該反應中’使用過剩量之碳酸醋時，亦可將剩餘之碳 酸醋用作溶媒。該等溶媒可單獨使用，亦可以兩種以上之 混合物之形式使用。 除了溶媒以外，無需添加添加劑，但為了調整流動性、 或調整反應速度，亦可添加添加劍。可使用之添加劑只要 為不會對反應m良影響者，則可無限制地添加。作為 如此之添加劑，可列舉路易斯酸性之化合物、路易斯鹼性 之化合物。例如，可使用SnF2、*SnBr2等化合物。 實施該反應之壓力並無特別限制，可在減壓、大氣壓、 加壓之任一條件下進行，當一面將該反應之反應產物即二 烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷 化合物、及/或、下述之XOR2所表示之化合物之一部分或 I34987.doc •35· 201008953 全部自反應系中去除，一面實施該反應時，較好的是在減 壓下進行。在減壓下實施反應時，較好的是在1〇 pa〜1 MPa之範圍内實施，更好的是在i kpa〜〇.5 MPa之範圍内實 施。又’該反應較好的是在氬氣、氖氣、氮氣等惰性氣體 之環境下進行，該等惰性氣體可較好地使用利用脫水管柱 等而經乾燥之狀態者。 實施該反應之反應時間（連續法中為滯留時間）根據該反 應中所使用之化合物或反應器、溫度或壓力而有所不同， 並無特別限制’較好的是在〇 · 〇 1〜3 0小時之範圍内，更好 ® 的是在0.1〜20小時之範圍内實施反應。又，確認已生成所 需量之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基 一錫氧烧化合物後，亦可結束反應。反應之進行可藉由如 下方法加以確認：對反應器内之反應液進行抽樣，藉由 n9Sn-NMR或氣相層析法等方法，對二烷基錫二烷氧化物 化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之生成量進 行分析等。例如，二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷 基一烷氧基二錫氧烷化合物，相對於二烷基錫化合物及/ @ 或四烷基二錫氧烷化合物之莫耳數，若生成1〇%以上則可 結束反應，亦可繼續反應，直至該值達到9〇%以上後再結 束反應。 又，二烧基錫化合物及/或四烧基二錫氧燒化合物、與 ' 碳酸醋R2〇C〇〇R2之反應中，亦生成下述之職2所表示之 化合物時’亦可藉由氣相層析法或液相層析法等公知方法 對該等化合物進行定量，並在確認生成所需量後結束反 134987.doc -36· 201008953 應。 本貫施形態之各反應中所使用之反應器並無特別限制， 可使用公知之反應器。例如可適當組合使用擾拌槽、加壓 式攪拌槽、減壓式攪拌槽、塔型反應器、蒸餾塔、填充 塔、薄膜蒸餾器等先前公知之反應器。反應器之材質亦無 特別限制，可使用公知之材質。例如亦可使用玻璃製、不 鏽鋼製、碳鋼製、赫史特合金製、或對基材施加玻璃襯裡 而成者、或塗佈鐵氟龍（Teflon)(註冊商標）者。存在由酸所 ❹ 引起之腐餘會因步驟或條件而變得顯著的情況，因此於該 情形時，亦可適當選用玻璃製或施加玻璃襯裡、塗佈鐵氟 龍（Teflon)(註冊商標）者’或選用赫史特合金製反應器。 <二院基錫化合物及/或四烧基二錫氧烧化合物、與醇之反 應> 其次，對本實施形態之二烷基錫化合物及/或四烷基二 錫氧烧化合物、與醇之反應進行說明。 對於該反應，二烧基錫化合物及/或四烧基二錫氧烧化 9 合物、與醇之反應中，關於該等化合物之組成比，二烷基 錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物、與醇之化學計量 ’ 比較好的是1 : 0.1〜1 : 100。為了提高反應速度、快速結 . 束反應，較好的是使用大量過剩之醇，但若使用過多量之 醇’則需使用過大之反應器，因此較好的是以1: 〇.3~1 : 50，更好的是以1 : 1~1 : 30之範圍之組成比實施反應。 反應溫度根據所使用之反應劑的種類或組成比而有所不 同，較好的是2(TC ~250°c之溫度範圍。為了儘早結束反 134987.doc -37- 201008953 應，較好的是在高溫下實施反應，但存在下述情形：若在 過高溫度下實施反應，則會引起反應原料即二烷基錫化合 物及/或四院基一錫氧烧化合物、及/或、反應產物即二烧 基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烧化 合物之熱變性反應等，使得該反應之目標化合物之產率降 低，因此更好的是在30。(：~230。(：之溫度範圍，更好的是在 50°C〜20‘0°C之溫度範圍内實施反應。又，該反應中無需使 用觸媒。 該反應中無需使用溶媒，但為了提高流動性、或使反應 操作變得容易，亦可使用溶媒。可使用之溶媒，若為不與 反應原料即二烷基錫化合物及/或四燒基二錫氧烷化合 物、及碳酸酯、或反應產物即二烷基錫二烷氧化物化合物 及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物發生反應者’則亦 了為任何洛媒。作為该溶媒，例如可列舉··碳數為5〜16之 直鏈狀刀支狀、環狀之烴，包含碳數為4〜16之直鏈狀、 分支狀、環狀之烴之醚類；碳數為卜16之直鏈狀、分支 狀、環狀之鹵代烴類等。具體而言，可使用選自戍烷（各 異構物）、己烷（各異構物）、庚烷（各異構物）、辛烷（各異構 物）、壬烷（各異構物）、癸烷（各異構物）、十六烷（各異構 物）、環己垸、環庚烧、環辛燒、苯、甲笨、二甲苯（各異 構物）、乙基苯等中的鏈狀、環狀之烴；選自乙醚、丙峻 仏異構物τ醚（各異構物^(各異構物）、辛縫（各 異構物）、苯_中的_ ;選自二氣甲院、氣仿、四氣 化碳氣苯、四氣乙烷、二氣苯（異構物）等中的鹵代烴 134987.doc -38- 201008953 之醇時，亦可將剩餘之 ’亦可以兩種以上之混 類。又，該反應中，當使用過剩量 醇用作溶媒。該等溶媒可單獨使用 合物之形式使用。
除了溶媒以外，無需添加添加劑’但為了調整流動性、 或調整反應速度，亦可添加添加劑。可使用之添加劑若為 不會對反應造成不良影響者，則可無限㈣添加叫乍為該 添加劑，可列舉路易斯酸性之化合物、路易斯㈣之化合 物。例如，可使用SnF2、或SnBr2等化合物。 實施該反應之壓力並無特別限制，亦可在減壓、大氣 壓、加壓之任-條件下進行，當一面將該反應之反應產物 即二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫 氧烷化合物、及/或、下述之X0R2所表示之化合物、及/ 或所產生之副產物水之一部分或全部自反應系中去除， 一面實施該反應時，較好的是在減壓下進行。在減壓下實 施反應時’較好的是在10 MPa之範圍内實施，更好 的是在1 kPa〜0.5 MPa之範圍内實施。又，該反應較好的是 在氬氣、氖氣、氮氣等惰性氣體之環境下進行，該等惰性 氣體可較好地使用利用脫水管柱等而經乾燥之狀態者。 實施該反應之反應時間（連續法中為滞留時間）根據該反 應中所使用之化合物或反應器、溫度或壓力而有所不同， 並無特別限制，較好的是在0·01〜30小時之範圍内，更好 的是在0·1〜20小時之範圍内實施反應。又，在確認已生成 所需量之二烧基錫二焼氧化物化合物及/或四院基二燒氧 基二錫氧烷化合物後，亦可結束反應。反應之進行可藉由 134987.doc -39- 201008953 下述方法加以確認：對反應器内之反應液進行抽樣，藉由
Sn-NMR或氣相層析法等方法，對二烷基錫二烷氧化物 化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之生成量進 行分析等。例如，二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷 基二烷氧基二錫氧烷化合物，相對於二烷基錫化合物及/ 或四烷基二錫氧烷化合物之莫耳數，若生成1〇%以上則可 結束反應，亦可繼續反應，直至該值達到9〇%以上後再結 束反應。 又，二烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物與 醇RAH之反應中，，亦±成下述之咖2所表示之化合物 時，亦可藉由氣相層析法或液相層析法等公知方法對該等 化合物進行定量，確認生成所需量後，結束反應。或者亦 可採用如下之方式：該反應不僅生成職2所表示之化合 物，亦生成副產物水，例如利用卡氏水分計等對該水之生 成量進行定量，並在確財成與生成所需量之目標化合物 相對應之水後’再結束反應。 本實施形態之各反應中所使用之反應器並無特別限制， 可使用公知之反應器。例如可適當組合使用攪拌槽、加壓 式授掉槽、減壓錢拌槽、塔型反應器、㈣塔、填充 塔、薄膜蒸德器等先前公知之反應器。反應器之材質亦無 特別限制，可使用公知之材質。例如亦可使用玻璃製、不 2鋼製、錢製、敎特合金製、或對歸施加玻璃概裡 、或塗佈鐵氟龍（Teflon)(註冊商標）者。存在由酸所引起 之腐姓會因步驟或條件而變得顯著的情況，因此於該情形 134987.doc 201008953 時’亦可適當選用玻璃製或施加玻璃概裡、塗佈鐵氟龍 (Teflon)(註冊商標）者，或選用赫史特合金製反應器。 以上所示^--烧基錫二烧氧化物化合物及/或四院基二 烧氧基二錫氧烷化合物之製造中，二烷基錫化合物及/或 四烷基二錫氧烷化合物與碳酸酯之反應、二烷基錫化合物 及/或四烧基二錫氧烧化合物與醇之反應中，可僅實施其 中之任一反應，亦可同時實施。 < 一院基錫二燒氧化物化合物> 對藉由上述製造方法所生成之二烷基錫二烷氧化物化合 物進行說明。 該二烧基錫二烷氧化物化合物係具有一個錫原子，且具 有兩個Sn-R1鍵與兩個Sn_OR2鍵之化合物，具體而言，係 下述式（19)所表示之化合物。 [化 19]
R1 OR2 Sn-or2 (19) (式中 R分別獨立表示源自二烷基錫化合物及/或四烷基二錫 氧烧1化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； R分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇之烴基。） 作為上述式（19)所表示之化合物的具體例，可列舉：二 甲基-二甲氧基錫、二甲基-二乙氧基錫、二甲基_二丙氧基 錫（各異構物）、二甲基_二丁氧基錫（各異構物）、二曱基_二 134987.doc -41 - 201008953 戍氧基錫（各異構物）、二曱基_二己氧基錫（各異構物）、二 甲基-二庚氧基錫（各異構物）、二甲基_二辛氧基錫（各異構 物)、二甲基-二苯氧基錫、二甲基二(甲基苯氧基)錫(各異 構物)、r甲基·二(乙基苯氧基)錫、二甲基，二甲基苯氧 基）錫（各異構物）、二甲基_二（苯基甲氧基）錫、二甲基-二 鲁 ❿ #基乙氧基_各異構二曱基·二（甲基苯基甲氧幻 錫（各異構物）、二丁基·二甲氧基錫（各異構物）、二丁基_二 乙氧基錫（各異構物）、二丁基.二丙氧基錫（各異構物）、二 丁基-二丁氧基錫(各異構物)、二丁基-二戊氧基錫(各異構 物）、二丁基-二己氧基錫（各異構物）、二丁基·二庚氧基錫 (各異構物)、二丁基-二辛氧基錫(各異構物)、二丁基-二苯 氧基錫（各異構物）、二丁基_二（甲基苯氧基）锡（各異構 物）、二丁基-二（乙基苯氧基）錫（各異構物）、三丁基雙（二 甲基·苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（苯基甲氧基）錫Γ 一丁基-二（苯基乙氧基）錫（各異構物）、：丁基·二（甲芙笨 基甲氧基)錫(各異構物)、二辛基-二甲氧基錫、二辛基二 乙氧基錫、二辛基-二丙氧基錫(各異構物）、二辛基-二丁 氧基錫(各異構物)'二辛基·二戊氧基錫(各異構物)、二辛 基-一己氧基錫（各異構物）、二辛基_二庚氧基錫（各異構 物）、二辛基-二辛氧基踢（各異構物）、二辛基-二苯氧基錫 (各異構物）、二辛基-二（甲基笨氧基）錫（各異構物）、二辛 基-一（乙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_雙（二甲基-苯氧 :)錫(各異構物)、一辛基-二(苯基甲氧基)錫(各異構物)、 二辛基-二（苯基乙氧基）錫（各異構物）' 二辛基二（甲基苯 134987.doc -42- 201008953 基甲氧基）錫（各異構物）等。 <四燒基二烷氧基二錫氡烷化合物> 對藉由上述製造方法所生成之四烷基二烷氧基二錫氧烷 化合物進行說明。 該四燒基二烧氧基二錫氧烷化合物係具有一個Sn_〇_Sn 鍵且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵與一個Sn-OR2鍵的四 烷基一烷氧基二錫氧烷化合物。具體而言係下述式（2〇) 所表示之化合物。 [化 20] OR2 R1 r1 Sn-0 Sn—R1 R1 OR2 (20) (式中： R1分別獨立表示源自四烷基二錫氧烷化合物及/或二烷 基錫化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； r2分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇之烷基。） 作為上述式（20)所表示之化合物的具體例，可列舉： 1，1，3’3-四曱基·ι，3_二乙氧基二錫氧烷、u，3,3·四曱基_ 二丙氧基二錫氧烷（各異構物）、四甲基_丨，3_二 丁氧基二錫氧烧（各異構物）、lj，3,3·四〒基_丨，3_二戊氧基 二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基己氧基二錫氧 烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基-1，3-二庚氧基二錫氧烷（各 異構物）、1，1，3,3-四甲基_i，3_二辛氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1,3,3-四曱基-1，3_二（苯氧基）二錫氧烷、u，3,3_四 134987.doc -43· 201008953 曱基-ι，3_二（甲基笨氧基）二錫氧烷、四曱基^^雙 (二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、i四曱基-n 二（乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1^,3-四甲基_丨，3· 二（苯基曱氧基）二錫氧烷、〗，^弘四曱基_丨，3二（苯基乙 氧基）二錫氧烷（各異構物）、H33·四甲基_丨，3_二（曱基苯 基甲氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁基丨，^二乙 氧基二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四丁基-1,3-二丙氧基二 錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3_四丁基_13_二丁氧基二錫氧烷 (各異構物）、u，3,3_四丁基_13_二戊氧基二錫氧烷(各異 構物）、1，1，3,3-四丁基二己氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基·1，3_二庚氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3四丁基-L3·二辛氧基二錫氧烷（各異構物）、 1,1,3,3四丁基_ι，3_二（苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四丁基^3·二（甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）' 1，1，3,3-四丁基'3-雙（二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、U，3,3-四了基二（乙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、U，3,3_四丁基{[二（苯基曱氧基）二踢氧烧（各異構 物）1’1，3,3-四了基-1，3-二(苯基乙氧基)二錫氧烷(各異構 物）、U，3,3-四丁基]，3_二（曱基苯基甲氧基）二錫氧烧（各 異構物）、1，！，3,3_四辛基]，3·二乙氧基二錫氧烧（各異構 物）1 四辛基-1，3·二丙氧基二錫氧烷（各異構物）、 1’1，3,3-四辛基十弘二丁氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基十弘二戊氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基-13·二己氧基二錫氧烷（各異構物）、 134987.doc -44- 201008953 1，1，3,3-四辛基-U3-二庚氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1’3,3-四辛基-1，3-二辛氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基-U3-二（苯氧基）二錫氧烷（各異構物卜 1’1’3’3-四辛基+3-二（甲基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基-1，3-雙（二曱基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1,3_二（乙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-二（苯基曱氧基）二錫氧燒（各異構
物）、1，1，3,3_四辛基-1，3-二（苯基乙氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基二(曱基苯基曱氧基)二錫氧烷(各 異構物）等。 如上文所述，已知有機錫化合物一般容易形成締合結 構，例如存在二烷基錫二烷氧化物化合物形成二聚物結構 而存在，或者四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物形成由2分 子或3分子締合而成之梯狀結構而存在的情況，但即使該 締合狀態發生變化，從業者一般亦以單體結構來表示化= 物。 <化合物xor2> 又，藉由上述製造方法，除了可生成二烷基錫二烷氧化 物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物以外，亦 可生成下述式（21)所表示之化合物。 [化 21] XOR2 (21) (式中： X表示源自二烧基錫化合物及/或四院基二錫氧烧化合物 134987.doc •45· 201008953 之基團； R表示源自碳酸醋及/或醇之燒基； 〇表示氧原子。） 上述式（21)中，OX基係源自反應中所使用之二烷基錫化 合物及/或四烧基二錫氧烷化合物之基團，當使用上述式 (14)所表示之二烷基錫化合物時，〇χ基係源自〇χ基1、〇χ 基2之基團’當使用上述式（15)所表示之四烷基二錫氧烷化 合物時’ OX基係源自〇χ基3、〇χ基4之基團。 述式（21)中’ R基係源自反應中所使 又 及/或醇，當使用R2OCO〇R2所表示之碳酸酯時，係源自構 成該碳酸酯之R2基的基團，當使用尺2〇11所表示之醇時， 係源自構成該醇之R2基的基團。 具體而言，當OX基為醯氧基時，上述式（21)所表示之化 合物為酯化合物，例如相當於下述化合物：乙酸乙酯、乙 酸丙酯(各異構物）、乙酸丁酯(各異構物)、乙酸戊酯(各異 構物）、乙酸己醋（各異構物）、乙酸庚醋（各異構物）、乙酸 辛Μ各異構物)、丙酸乙酯、丙酸丙酯(各異構物广丙酸 丁醋（各異構物）、丙酸戊_(各異構物）、丙酸己酿（各異構 物）、丙酸庚醋（各異構物）、丙酸辛醋（各異構物）、丁酸乙 酯、丁酸丙醋(各異構物)、丁酸丁酯(各異構物)、丁酸戊 醋(各異構物)、丁酸己醋(各異構物)、丁酸庚醋(各異構 物卜丁酸蝴各異構物）、戊酸⑽、戊酸 = 異構)、戍酸庚酿(各異構物)、戊酸辛各異構 134987.doc -46- 201008953 物）、月桂酸乙酯、月桂酸丙酯（各異構物）、月桂酸丁酯 (各異構物）、月桂酸戊酯（各異構物）、月桂酸己酯（各異構 物）、月桂酸庚酯（各異構物）、月桂酸辛酯（各異構物）等。 藉由以上所示之方法，可利用二烷基錫化合物及/或四 烷基二錫氧烷化合物，來製造二烷基錫二烷氧化物化合物 及/或四烧基一烧乳基二錫氧院化合物。此時，可藉由二 烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物、與碳酸酯及/ 或醇之反應，直接製造所需之二烷基錫二烷氧化物化合物 及/或四烧基二烷氡基二錫氧烷化合物；亦可使二烷基錫 化合物及/或四烧基二錫氧烧化合物與第丨碳酸酯及/或第】 醇進行反應，來製造第1二烷基錫二烷氧化物化合物及/或 第1四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物，接著使第丨二烷基錫 二烷氧化物化合物及/或第丨四烷基二烷氧基二錫氧烷化合 物與第2碳酸酯及/或第2醇進行反應，來製造所需之第2二 烷基錫二烷氧化物化合物及/或第2四烷基二烷氧基二錫氧 烧化合物。 以上之說明中，對本實施形態中之使烷基錫化合物與碳 酸醋及/或醇進行反應，而製造XOR2所表示之化合物與二 炫基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧燒 化合物之方法進行了說明。再者’將實施該製造方法之步 驟定義為步驟（Z)。該製造方法可較好地用於使用有二貌 基錫二院氧化物化合物之碳酸酯之製造方法中。以下，對 組合有該製造方法之碳酸酯之製造方法進行說明。 <二烧基錫化合物/四烷基二錫氧烷化合物之製造方法> 134987.doc • 47- 201008953 上述之本實施形態之二烷基錫化合物及四烷基二錫氧燒 化合物’較好的是使用藉由以下所說明之步驟（丨）及步驟 (2)方法所製造之二烷基錫化合物及四烷基二錫氧烷化合 物。 步驟（1):藉由選自由具有一個錫原子且具有兩個Sn_Ri 鍵與兩個Sn-OR2鍵之二烷基錫二烷氧化物化合物、及/或 具有一個Sn-O-Sn鍵且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵與一個 Sn-OR2鍵之四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物所組成之群中 之至少一種烧基錫烧氧化物之烧基歧化反應（鍵結於錫上 之R基之數量為2個即為二院基錫炫氧化物化合物之情形 時’在2分子間進行歧化，鍵結於錫上之Ri基之數量為4個 即為四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物時，在分子内及/或 分子間進行歧化’由此轉化為具有一個Sn_Ri鍵之單烷基 錫烷氧化物化合物與具有三個Sn-R1鍵之三烷基錫烷氧化 物化合物的反應），而生成包含單烷基錫烷氧化物化合物 與三烷基錫烷氧化物化合物之烷基錫組合物，使該烷基錫 組合物與 通式HOX(pKa為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之 酸、及/或通式XOX(〇X基係〇χ之共軛酸即HOX係pKa為〇 以上、6.8以下之布忍斯特酸的οχ基）所表示之酸酐進行反 應’而製造具有源自該酸及/或該酸酐之基團（〇χ基）的有 機錫化合物之混合物的步驟； 步驟（2):對步驟（1)中所獲得之該有機錫化合物之混合 物進行加熱處理’進行烷基再分配反應，並由該烷基錫組 134987.doc -48- 201008953 合物中之該單烧基錫烧氧化物化合物與三燒基錫烧氧化物 化合物，獲得 選自i)具有一個錫原子，且上述一個錫原子具有兩個Sn_ R^R1表示烷基）鍵與兩個Sn_ox鍵（ox基係OX之共軛酸即 HOX係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇Χ基）之二烧 基踢化合物；及 Π)具有一個Sn-O-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn_0X鍵（〇χ基係〇χ之共軛酸即HOX係pKa為〇以 上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之四烷基二錫氧烷化合 物之群中之至少一種烷基錫化合物的步驟。 <烷基歧化反應> 首先，對上述步驟（1)之「炫基錫烧氧化物化合物之燒 基歧化反應」進行說明。 此處所謂烷基錫烷氧化物化合物，係指上述中所說明之 二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧 烷化合物，具體而言，係指下述式（22)所表示之二烷基錫 化合物及/或下述式（23)所表示之四烷基二烷氧基二錫氧燒 化合物。 [化 22] OR2 R1 -Sn-OR2 R1 (22) (式中： R1分別獨立表示源自二烧基錫化合物及/或四烧基二錫 134987.doc -49· 201008953 氧烧化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； r2分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇之烴基。） [化 23] OR2 R1 R1
Sn-〇-Sn—R1 (23) L 12 R1 OR2 (式中 ❹ R1分別獨立表示源自四烷基二錫氧烷化合物及/或二烷 基錫化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； R表示源自碳酸酯及/或醇之烷基。） 作為上述式（22)所表示之化合物的具體例，可列舉：二 曱基-二甲氧基錫、二甲基_二乙氧基錫、二曱基二丙氧基 錫（各異構物）、二甲基-二丁氧基錫（各異構物）、二甲基二 戊氧基錫（各異構物）、二曱基_二己氧基錫（各異構物）、二 甲基·二庚氧基錫（各異構物）、二曱基-二辛氧基錫（各異構 物）、二甲基-二苯氧基錫、二甲基·二（甲基苯氧基）錫（各異 構物）、三甲基-二（乙基苯氧基）錫、二甲基雙（二甲基苯氧 基）錫（各異構物）、二子基_二（苯基甲氧基）錫二甲基二 (苯基乙氧基）錫（各異構物）、二甲基二（甲基苯基甲氧幻 錫(各異構物)、二丁基-二甲氧基錫(各異構物)、二丁基-二 乙氧基錫(各異構物)、二丁基•二丙氧基錫(各異構物)、二 丁基二丁氧基錫(各異構物)、二丁基-二戊氧基錫(各異構 物)、二丁基-二己氧基錫(各異構物)、二丁基二庚氧基錫 (各異構物）、二路二辛氧基錫（各異構物）、二丁基二苯 134987.doc -50- 201008953 氧基錫（各異構物）、二丁甚-r m « 一 再初)一丁基_—(甲基苯氧基）錫（各異構 乙氧基錫 辛基-二丙氧基錫（各異構物）、二 物）一丁基-_(乙基苯氧基)錫(各異構物卜二丁基雙(二 甲基-苯氧基)錫(各異構物)、二丁基_二(苯基f氧基)錫、 一丁基-二（苯基乙氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（甲基苯 基甲氧基）錫（各異構物）、二辛基_二甲氧基錫、二辛基_二 辛基-二丁 氧基·異構物）、二辛基_二戊氧基錫（各異構物）、二辛 基-二己氧基錫（各異構物）、二辛某-电备# μ • - 一庚軋基錫（各異構 (各異：:I 異構物)、二辛基二苯氧基錫 Α )、一辛基-二（甲基苯氧基）錫（各異構物）、二辛 二：(乙基苯氧基)錫(各異構物)、二辛基-雙(二甲基-苯氧 =各異構物)、二辛基-二(苯基甲氧基)錫(各異構物)、 -辛基-一(本基乙氧基)錫(各異構物)、二辛基-二( 基甲氧基）錫（各異構物）等。 作為上述式(23)所表示之化合物的具體例可列舉. # ϋ，3,3·四//_1，3·"乙氧基：錫氧统、U，3,3·四甲基_ ，-—丙氧基二錫氧垸(各異構物)、U，3,3-四甲基_ • 丁氧基二錫氧烧(各異構物〜从四甲基 氧： 二錫氧烧（各異構物）、U，3,3_ 土 燒（各異構物）、U，3,3-四甲基_13 1氣—/乳基二錫氧 異構物)、U，3,3-四甲基…=氧：二錫氧貌(各 物)、U，3,3-四甲基仏二:苯：^氧基二錫氧別各異構 甲基二(甲基苯氧基)二錫氧院、I 基:，： (二甲基苯氧基)二锡氧燒(各異構物…，3-二 134987.doc -51- 201008953 二（乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、M,3,3四甲基i，％ 二（苯基甲氧基）二錫氧烷、四甲基2,3二（苯美乙 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基_丨，3二（甲基苯 基甲氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四丁基'3·^乙 氧基二錫氧院（各異構物）、u，3,3•四丁基·U ’ ^ 錫氧燒(各異構物）、 ί各里椹舲、 丞^ —丁氧基二錫氧烷 (各異構物）、u，3,3 構物# 戊巩基-錫虱烷(各異 物）、丨133,， 丁土 _1，3-二己氧基二錫氧烷（各異構 )山3,3-四丁基二庚氧基二錫氧燒（各異構物）、 ，，’四丁基-1，3-二辛氧基二錫氧烷（各異構物）、 上，1，*^，·^"" |Ί 1 _ _，_二（苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 ，，四了基-1，3·二（甲基笨氧基）二錫氧烧（各異構物 1，1，3,3 -四丁 且, 丁基-1，3-雙（二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構 ，四丁基-1，3·二（乙基苯氧基）二錫氧垸（各異構 ,四丁基_1，3-二（苯基甲氧基）二錫氧烷（各異構 ，四丁基_1，3_二（苯基乙氧基）二錫氧烧（各異構 ^接:’以少四丁基十夂二⑽苯基甲氧基仁錫氧烷仏 異構物^ ，，:3,3-四辛基4,3-二乙氧基二錫氧烷（各異構 )’1’3’3_四辛基-1，3-二丙氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1’3,3-四辛基·13•二丁氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四妄盆 1 ^ 节基-1，3-二戊氧基二錫氧烷（各異構物）、 1,1ί3,3-四 -貧 节丞-1，3-二己氧基二錫氧烷（各異構物）、 四奈龙,. _ 节丞-1，3-二庚氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛其,， ^ 节基-1，3-二辛氧基二錫氧烷（各異構物）、 134987.doc •52· 201008953 U，3,3-四辛基4,3-二（笨氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基“,3-二（甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 U，3,3-四辛基13-雙（二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3_四辛基-1，3-二（乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、U，3,3-四辛基-1，3-二（苯基曱氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-二（苯基乙氧基）二錫氧烷（各異構 物）1，1，3,3 -四辛基-1,3- 一（曱基苯基甲氧基）二錫氧烧（各 異構物）等。 如上文所述，已知有機錫化合物一般容易形成締合結 構’例如存在二烷基錫二烷氧化物化合物形成二聚物結構 而存在’或四烧基二院氧基二錫氧烧化合物形成由2分子 或3分子締合而成之梯狀結構而存在的情況，但即使該締 合狀態變化，從業者一般亦以單體結構來表示化合物。 上述步驟（1)之「院基錫烧氧化物化合物之院基歧化反 應」係指下述反應：當鍵結於錫上之2個Ri基（Rl表示烧基） 之數置為2即為·一烧基錫一烧氧化物化合物時，在2分子間 進行歧化，當R1基之數量為4即為四烧基二烧氧基二錫氧 燒化合物時，在分子内及/或分子間進行歧化，由此轉化 為具有一個Sn-R1鍵之單烷基錫烷氧化物化合物、與具有 二個Sn-R1鍵之三烷基錫烷氧化物化合物。 例如可推測：當為四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物時， 會產生下述式（24)所示之烷基歧化反應；當為二烷基錫二 燒氧化物化合物時，會產生下述式（25)所示之烷基歧化反 應0 134987.doc •53- 201008953 [化 24]
OR' OR， 2 OR， OR'
(2 4) (2 5) (式中： R及R分別獨立表示直鏈狀或分支狀之碳數為卜以之烷 基。） 關於該烷基歧化反應中之所有產物，難以鑑定其結構， 但產物之至少一種為下述所示之三烷基錫烷氧化物化合 物。例如，該烷基歧化反應中，下述式（26)所表示之三烷 基錫烷氧化物化合物，相對於二烷基錫二烷氧化物化合物 及/或四院基二烷氧基二錫氧烷化合物之減少量，以化學 計量比計大致生成一半左右之情況較多。本實施形態中之 二烧基錫院氧化物化合物具有三個Sn_Ri鍵，該烷基Ri係 源自二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二 錫氧烧化合物之烧基。 [化 25] (式中
(26) R分別獨立表示源自二烷基錫二烷氧化物化合物及/或 134987.doc •54- 201008953 四烧基一烧氧基二錫氧炫化合物之炫基； 2 R表示源自二烧基錫二院氧化物化合物及/或四燒基一 烧氧基二錫氧烧化合物之烧基。） 作為上述式（26)所表示之三烷基錫烷氧化物化合物的例 子，可列舉：三甲基-曱氧基錫、三曱基_乙氧基錫、三甲 基-丙氧基錫（各異構物）、三曱基-丁氧基錫（各異構物）、三 • 曱基-戊氧基錫（各異構物）、三甲基-己氧基錫（各異構物）、 二甲基-庚氧基錫（各異構物）、三甲基-辛氧基錫（各異構 ❹ 物）、丁基-二曱基-曱氧基錫（各異構物）、丁基_二曱基-乙 氧基錫（各異構物）、丁基-二甲基_丙氧基錫（各異構物卜丁 基-二甲基-丁氧基錫（各異構物）、丁基_二甲基_戊氧基錫 (各異構物）、丁基·二曱基-己氧基錫（各異構物）、丁基-二 甲基-庚氧基錫（各異構物）、丁基-二甲基_辛氧基錫（各異構 物）、丁基-二曱基·壬氧基錫（各異構物）、丁基二甲基癸 氧基錫（各異構物）、二丁基_f基_甲氧基錫、二丁基-甲基'_ ❹乙氧基錫（各異構物）、二丁基-甲基-丙氧基錫（各異構物）、 一丁基-甲基-丁氧基錫（各異構物）、二丁基甲基·戊氧基錫 - (各異構物）、二丁基-甲基-己氧基錫（各異構物）、二丁基_ - 甲基-庚氧基錫（各異構物）、二丁基-甲基-辛氧基錫（各異構 物）、丁基-二乙基-甲氧基錫（各異構物）、丁基-二乙基-乙 氧基錫（各異構物）、丁基_二乙基_丙氧基錫（各異構物）、丁 基-二乙基-丁氧基錫（各異構物）、丁基_二乙基_戊氧基錫 (各異構物）、丁基-二乙基-己氧基錫（各異構物）、丁基__ 乙基-庚氧基錫（各異構物）、丁基_二乙基_辛氧基錫（各 I34987.doc •55· 201008953 物）、二丁基-乙基-甲氧基錫（各異構物）、二丁基·乙基-乙 氧基錫（各異構物）、二丁基_乙基_丙氧基錫（各異構物）、二 丁基-乙基-丁氧基錫（各異構物）、二丁基_乙基_戊氧基錫 (各異構物）、二丁基_乙基_己氧基錫（各異構物）、二丁基_ 乙基-庚氧基錫（各異構物）、三丁基_乙基_辛氧基錫（各異構 物）、丁基-二丙基-甲氧基錫（各異構物）、丁基·二丙基-乙 氧基錫（各異構物）、丁基.二丙基-丙氧基錫（各異構物）、丁 基-二丙基-丁氧基錫（各異構物）、丁基_二丙基·戊氧基錫 (各異構物）、丁基-二丙基_己氧基錫（各異構物卜丁基-二 丙基-庚氧基錫（各異構物）、丁基·二丙基辛氧基錫（各⑽ 物）、二丁基·丙基-甲氧基錫（各異構物）、二丁基丙基乙 氧基錫（各異構物）、二丁基_丙基_丙氧基錫（各異構物)土、二 Γ各基異=丁氧基錫(各異構物)、二丁基·丙基'戊氧基踢 、冓物）、一丁基-丙基-己氧基錫（各異構物）、二丁 Λ 2基-庚氧基錫（各異構物）、二丁基_丙基_辛氧基锡（各異土構 物）、二丁基-甲氧基錫、三丁基·乙氧基錫、 基錫(各異構物)、三丁基丁氧基錫(各異構物二：基丙： 乳基錫（各異構物）、三丁基-己氧基錫（各異構物）、三丁農 庚乳基錫（各異構物）、三丁基·辛氧基錫（各 土 二甲基-甲氧基錫（各異構物）、辛 、基- 構物）、辛Α -甲h “ 氧基錫（各異 辛土 一甲基-丙氧基錫（各異構物）
丁氧基錫（各異構物）、辛基·二甲基.戍氧 土-H 辛基·二甲基·己氧基錫(各異構物)、辛基-二甲基二構物)、 (各異構物)、辛基-二甲基_辛氧基錫(各異構物)、辛：： I34987.doc -56 - 201008953 甲基壬氧基錫（各異構物）、辛基·二甲基-癸氧基錫（各異構 物）、二辛基-甲基-甲氧基錫（各異構物）、二辛基-甲基-乙 氧基錫（各異構物）、二辛基-甲基-丙氧基錫（各異構物)土、二 辛基-曱基-丁氧基錫（各異構物）、二辛基_甲基-戊氧基 (各異構物）、二辛基.甲基_己氧基錫（各異構物）、二辛芙 基=基錫(各異_、二辛基-甲基-辛_各異； )辛基-一乙基-甲氧基錫（各異構物）、辛基_二乙基-乙 氧基錫（各異構物）、辛基-二乙基丙氧基錫（各異構物)土、辛 广各 氧基錫(各異構物)、辛基-二乙基-戍氧基錫 、）、辛基-二乙基-己氧基錫（各異構物）、辛基_二 乙基-庚氧基錫(各異構物)' 辛基_二乙基_辛氧基錫(各異： 物）、二辛基-乙基-甲氧基錫（各異構物）、二辛基乙基·乙 氧基錫（各異構物）、二辛基-乙基_丙氧基錫（各異構物）、二 Γ各基異=:丁氧基錫(各異構物)、二辛基乙基-戊氧基： 構物）、一辛基-乙基-己氧基錫（各異構物）、二辛基 乙基.庚氧基錫（各異構物）、二辛基·乙基_辛氧基錫（各異構 物)' 辛基·二丙基·甲氧基锡(各異構物)、辛基-二丙基-乙 氧基錫（各異構物）、辛基_二丙基-丙氧基錫（各異構物）、辛 基-二丙基·丁氧基錫（各異構物）、辛基-二丙基-戊氧基錫 (各異構物)、辛基-二丙基_己氧基錫(各異構物)、辛基-二 丙基-庚氧基錫（各異構物）、辛基-二丙基_辛氧基錫（各異構 物)、一辛基-丙基-甲氧基錫(各異構物）、二辛基-丙基-乙 氧基錫（各異構物）、二辛基_丙基-丙氧基⑽異_、二 辛基-丙基.丁氧基錫（各異構物）、二辛基_丙基·戊氧基錫 134987.doc -57- 201008953 (各異構物）'二辛基_丙基·己氧基錫(各異構物)、二辛 丙基-庚氧基錫(各異構物)、^辛基_丙基_辛氧基錫(各異構 物）、辛基-二丁基-甲氧基錫（各異構物）、辛基_二丁美乙 氧基錫(各異構物)、辛基-二丁基_丙氧基錫(各異構物二： 基一丁基-丁氧基錫（各異構物）、辛基·二丁基_戊氧 (各異構物）、辛基-二丁基-己氧基錫（各異構物）、辛基·二 丁基-庚氧基錫（各異構物）、辛基二丁基辛氧基錫（各異構 物）、二辛基-丁基_甲氧基錫（各異構物）'二辛基丁基乙 氧基錫（各異構物）、二辛基_丁基丙氧基錫（各異構物）、二 辛基-丁基-丁氧基錫(各異構物)、二辛基丁基戊氧基錫 (各異構物）、二辛基-丁基_己氧基錫（各異構物）、二辛基· 丁基-庚氧基錫（各異構物）、二辛基-丁基_辛氧基錫（各異構 物）一辛基-甲氧基錫（各異構物）、三辛基-乙氧基錫、三 辛基-丙氧基錫（各異構物）、三辛基_丁氧基錫（各異構物）、 三辛基-戊氧基錫（各異構物）、三辛基_己氧基錫（各異構 物）、三辛基-庚氧基錫（各異構物）、三辛基·辛氧基錫（各異 構物）等三烷基-烷氧基錫。 ' 如上述所示，由於烷基歧化反應中生成三烷基錫烷氧化 物化合物，因此若考慮到烷基之平衡，則推測如上述式 (22)及/或上述式（23)中所示，在生成上述三烷基錫烷氧化 物化合物之同時，會生成具有一個811_；^鍵之單烷基錫烷 氧化物化合物。作為該單烷基錫烷氧化物化合物，可例 示：曱基-曱氧基錫氧化物、甲基-乙氧基錫氧化物、曱基_ 丙氧基錫氧化物（各異構物）、甲基_丁氧基錫氧化物（各異 134987.doc -58 - 201008953 構物）、甲基-戊氧基錫氧化物（各異構物）、甲基己氧基锡 =化物(各異構物)、甲基_庚氧基錫氧化物(各異構物卜甲 ^辛氧基錫氧化物（各異構物）、丁基_甲氧基錫氧 異構物)、丁基-乙氧基錫氧化物(各異構物)、丁基-丙氧A 錫氧化物(各異構物)、丁基丁氧基錫氧化物(各異構物)： 丁基-戊氧基錫氧化物（各異構物）、丁基_己氧基錫氧化物 (各異構物）、丁基庚氧基錫氧化物（各異構物）、丁基_ ❿ ❹ 基錫氧化物（各異構物）、辛基·甲氧基錫氧化物（各異構 物”辛基-乙氧基錫氧化物(各異構物)、辛基丙氧基錫氧 化物（各異構物）、辛基-丁氧基錫氧化物（各異構物）、辛基 戊氧基錫氧化物（各異構物）、辛基·己氧基錫氧化物（各異 構物)、辛基-庚氧基錫氧化物(各異構物)、辛基-辛氧基錫 氧化物（各異構物）等單烧基燒氧基錫氧化物；甲基·三甲氧 基錫、甲基-三乙氧基錫、甲基_三丙氧基錫(各異構物)、 曱基-二丁乳基錫（各異構物）、甲基_三戊氧基錫（各異構 物）、甲基-三己氧基錫（各異構物）、甲基_三庚氧基錫（各異 構物）、甲基-三辛氧基錫（各異構物）、丁基-三f氧基錫（各 異構物)、丁基-三乙氧基錫(各異構物)、丁基_三丙氧基錫 (各異構物)、丁基-三丁氧基錫(各異構物)、丁基·三戊氧基 錫（各異構物）、丁基-三己氧基錫（各異構物）、丁基·三庚氧 基錫(各異構物)、丁基_三辛氧基錫(各異構物)、辛基-三甲 氧基錫（各異構物）、辛基-三乙氧基錫（各異構物）、辛基二 丙氧基錫(各異構物)、辛基-三丁氧基錫(各異構物)、辛基-_ 三戊氧基錫(各異構物)、辛基-三己氧基錫(各異構物)、辛 134987.doc -59· 201008953 基-三庚氧基錫（各異構物）、辛基_三辛氧基錫（各異構物）等 單烷基-三烷氧基錫等。 關於該單烷基錫烷氧化物化合物，難以鑑定其結構，但 除了上述之「具有一個Sn-R1鍵」以外，可藉由mSnNMR 中之化學位移來確定其特徵。即，具有下述特徵：藉由二 烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷 化合物之烷基歧化反應所生成的化合物之至少一種為單烷 基錫烷氧化物化合物，該單烷基錫烷氧化物化合物在氘化 氣仿溶液中藉由n9Sn-NMR進行分析時，以四甲基錫為基 準，檢測出在-220〜-610 ppm中顯示出化學位移之錫原 子。 即’該烧基歧化反應所產生之產物係具有三個Sn_Rl鍵 之二烧基錫院氧化物化合物、及具有一個Sn_Ri鍵之單烧 基錫烷氧化物化合物，且該單烷基錫烷氧化物化合物含有 在;ίΐΐ化氣仿溶液中藉由n9Sn-NMR進行分析時，以四甲基 錫為基準，在-220〜-610 ppm中顯示出化學位移的踢原 子。本實施形態中，將包含該等三烷基錫烷氧化物化合物 及單烧基錫烷氧化物化合物之組合物稱作「烷基錫組合 物j。 上述式（22)所表示之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或上 述式（2 3)所表示之四烧基二焼氧基二錫氧院化合物，在較 多情形時具有在氘化氣仿溶液中，藉由119Sn-NMR進行分 析時’以四甲基錫為基準’在200〜-200 ppm中顯示出化學 位移的錫原子’並且二烷基錫二垸氧化物化合物及/或四 134987.doc -60· 201008953 烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之烷基歧化反應之結果為， 檢測出上述在-220 ppm〜-610 ppm之範圍内顯示出化學位 移之錫原子。在多數情況下，由烷基歧化反應所生成之產 物在該-220…610 ppm之範圍内具有複數個訊號，因此推 測烷基歧化反應所產生之產物中，不僅含有式（24)及/或式 (25)所例示之單烷基烷氧基錫氧化物、單烷基錫三烷氧基 錫’較多情形時亦含有其他結構。如此，由烧基歧化反應 所生成之產物係由結構不明之化合物所組成，但該等結構 不明之化合物包含於步驟（1)中所使用之烷基錫組合物中並 無問題。又，烷基錫組合物含有二烷基錫二烷氧化物化合 物及/或四烧基一烧氧基二錫氧烧化合物亦無問題。 可推測.二烧基錫二烧氧化物化合物及/或四烧基二院 氧基二錫氧烧化合物在燒基歧化反應中所生成的產物亦容 易形成上述例以外之結構。進而，藉由形成二錫氧烷骨 架’亦可生成包含在錫上鍵結有2個烷基之單元、與在錫 上鍵結有2以外之整數個烷基之單元的化合物。將由烷基 歧化反應所生成之產物的推測結構與上述例一併示於如 下。 [化 26] R13—Sn-OR2 R13—Sn~0一Sn-R13 Ri R2〇-Sn-〇R2 OR2
134987.doc -6U 201008953 OR2 OR2 OR2 R1-Sn^a 、I 1 Sn-R1 R1-Jn〆。 OR2 OR2 OR2 R1 OR2 R1 R1-Sn/〇、sn-Ri pi J/〇 R’一Sn OR2 OR2 OR2 \ Sn-R13 、Sn-R1, (27) (式中： R1分別獨立表示源自二烷基錫二烷氧化物化合物及/或 四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之烷基； R2分別獨立表示源自二烷基錫二烷氧化物化合物及/或 四院基一炫·氧基二錫氧烧化合物之院基。） 如上述所示’本實施形態之烷基錫組合物係包含三烷基 錫烧氧化物化合物與單烷基錫烷氧化物化合物之組合物， 但可為僅包含三烷基錫烷氧化物化合物與單烷基錫烷氧化 物化合物之組合物’亦可包含四烧基二院氧基二錫氡烧化 合物及/或一烧基錫二炫1氧化物化合物。又，亦可含有上 述由烧基歧化反應所生成之產物。 本實施形態中可較好地使用的烷基錫組合物係如下之組 合物：相對於該烧基錫組合物中所含有之所有錫原子的莫 耳數，以莫耳表示烷基錫組合物中之鍵結於錫原子上之 院基個數為2以外之化合物的含量，而含有1〇 m〇i%以上， 較好的是含有30 mol%以上，更好的是含有5〇m〇1%以上之 燒基錫組合物。 該烷基錫組合物根據情況有時亦包含二烷基錫二烷氧化 物化合物、四烧基二烧氧基二錫氧院化合物、四烧基錫、 134987.doc •62- 201008953 六烷基二錫氧烷、氧化錫（Sn02)等，並且可在不違反本發 明之主旨的程度下含有該等化合物。 又，亦可使用自烷基錫組合物將包含三烷基錫烷氧化物 化合物之組合物、與包含單烷基錫烷氧化物化合物之組合 物分離而成的組合物。作為該分離方法，可使用各種公知 之方法。例如可使用選自蒸餾分離、萃取分離、膜分離中 之至少一種方法’其中可較好地使用蒸餾分離之方法。 步驟（1)係下述步驟：使上述烷基錫組合物與通式Ηοχ (pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸、及/或 通式XOX(OX基係OX之共軛酸即HOX係pKa為0以上、6.8 以下之布忍斯特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製 造具有源自該酸及/或該酸酐之基團（OX基）的有機錫化合 物之混合物。 步驟（1)中’作為通式HOX所表示之酸，可較好地使用 有機酸。作為有機酸’可例示：緩酸、續酸、苯紛等，較 好的是使用羧酸。作為羧酸’例如可列舉：甲酸、乙酸、 丙酸、正丁酸、異丁酸、戊酸、異戊酸、2_甲基丁酸、三 甲基乙酸、己酸、異己酸、2-乙基丁酸、2,2_二甲基丁 酸、庚酸（各異構物）、辛酸（各異構物）、壬酸（各異構物）、 癸酸（各異構物）、十一烷酸（各異構物）、十二烷酸（各異構 物）、十四烷酸（各異構物）、十六烷酸（各異構物）、丙烯 酸、丁烯酸、異丁烯酸、乙烯基乙酸、曱基丙烯酸、當歸 酸、順至酸、烯丙基乙酸、十一烯酸(各異構物)等飽和或 不飽和脂肪族單叛酸化合物；乙二酸、丙二酸、 134987.doc •63· 201008953 戊二酸、己二酸、庚二酸（各異構物）、辛二酸（各異構 物）、壬二酸（各異構物）、癸二酸（各異構物）、順丁稀二 酸、反丁烯二酸、甲基順丁烯二酸、甲基反丁烯二酸、戊 烯二酸（各異構物）、亞甲基丁二酸、烯丙基丙二酸等飽和 或不餘和脂肪族二羧酸·，1，2,3-丙烷三甲酸、υ，％丙烯三 曱酸、2,3-二甲基丁烷4,2,3-三甲酸等飽和或不飽和脂肪 族三羧酸化合物；苯曱酸、甲基苯曱酸（各異構物）、乙基 苯曱酸（各異構物）、丙基苯甲酸（各異構物）、二甲基苯曱 酸（各異構物）、三甲基苯曱酸（各異構物）等芳香族單羧酸 化0物，鄰本一甲酸、間苯二曱酸、對苯二甲酸、甲基間 本甲酸（各異構物）等芳香族二緩酸化合物；ι，2,3_苯三甲 酸、1，2,4-苯三甲酸、l53,5•苯三甲酸等芳香族三羧酸化合 物等。該等緩酸中，可較好地使用飽和單繞酸。更好的是 使用標準沸點為3〇〇t以下之飽和單羧酸，更好的是使用 標=彿點為25代以下之飽和單叛酸。所謂標準彿點如 ❿ 化學大辭典（共立出版股份有限公司、2003年1()月i日發行） 之記載所示，係指在1個氣壓下之沸點。具體而言，可較 好地使用乙酸、 丙酸正丁酸、異丁酸、戊酸、異戊酸、 2-甲基丁酸、三甲基乙酸、己酸。 又，步驟（1)中，作為通式χ〇χ所表示之酸軒，可列 酸酐6酸酐、丁酸酐、異丁酸酐、戊酸酐、異戊 酸軒丁 —酸軒、順了烯二㈣、丙二酸軒、戊二酸針等 脂肪族肝；苯甲酸肝、鄰苯二甲酸奸、均笨四甲酸針等芳 香族酸肝°該等中’較好的是使用標準沸點為3G(TC以下 134987.doc -64 - 201008953 之酸酐，由於反應後可容易地去除過剩之酸酐，故而更好 的是使用標準沸點為200。(：以下之酸酐。進而，就可容易 地將所產生之副產物羧酸酯等排出至系統外，並且在工業 上可容易地獲得方面而言，較好的是順丁烯二酸酐、乙酸 針。 該等酸及酸酐可單獨使用，亦可混合使用複數種，使用 酸時，使烷基錫組合物與酸進行反應時，會生成水之情形 較多。為了去除該水，亦可進行蒸餾分離或膜分離，或使 ^ 用脫水劑。又，作為脫水劑，較好的是組合使用酸酐者。 進而’僅使用酸酐時’烷基錫組合物與乙酸酐之反應中不 生成水之情形較多，因此僅使用酸酐之方法亦較好。 對步驟（1)中之反應進行說明。 考慮到步驟（1)中之反應速度或最終有機錫化合物之混 合物（後文加以詳細說明）之產率，酸及/或酸酐之使用量相 對於烷基錫組合物中所含有之錫原子，以化學計量比計， Φ 較好的是使用ο·1〜50倍之範圍；若考慮到反應器之大小、 或反應速度，更好的是使用0.5〜20倍之範圍。酸及/或酸酐 之使用量以化學計量比計而少於0.1時，存在難以進行反 應之情形；相反，以化學計量比計，即使使用大於5〇倍 時’不會影響該步驟中之反應速度或最終有機錫化合物之 產率的情況亦較多。 步驟（1)之反應較好的是在-20eC以上、300°C以下之反應 皿度下實施’更好的是在-1 〇°C以上、25(TC以下之反應溫 度下實施’為了提高反應速度，反應溫度較好的是高溫， 134987.doc -65- 201008953 但另一方面，亦存在高溫下會引起分解等（例如，鍵結於 錫上之烷基脫離為烷烴或烯烴之反應）不良反應的情況， 亦會導致產率降低，因此更好的是在ot：以上、23〇它以下 之反應溫度下實施反應。又，步驟（1)之反應較好的是在氬 氣、氖氣、氮氣等惰性氣體之環境下進行。 步驟（1)中無需使用溶媒，但為了提高流動性、或使反 應操作變得容易、或在反應中生成水時將該水有效地排出 至反應體系外，亦可使用溶媒。作為該溶媒，例如可列 舉：碳數為5〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴；包含碳數 為4〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴的醚類；碳數為卜“ 之直鏈狀、分支狀、環狀之鹵代烴類等。具體而言，可使 用選自戊烷（各異構物）、己烷（各異構物）、庚烷（各異構 物）、辛烷（各異構物）、壬烷（各異構物）、癸烷（各異構 物）、十六烷（各異構物）、環己烷、環庚烷、環辛烷、苯、 甲本、一甲本（各異構物）、乙基苯等中的鍵狀、環狀之 烴；選自乙醚、丙醚（各異構物）、丁醚（各異構物）、己醚 (各異構物）、辛謎（各異構物）、苯醚等中的醚類；選自二 氯甲烷、氣仿、四氯化碳、氣苯、四氣乙烷、二氣苯（異 構物）等中的鹵代烴類。該等溶媒可單獨使用，亦可以兩 種以上之混合物之形式使用。 如下所述’步驟（2)之烷基再分配反應係平衡反應，根 據平衡反應之一般性質’較好的是以高濃度（例如，相對 於烷基錫組合物之所有錫原子之莫耳數，將單烷基錫烷氧 化物化合物及三烧基錫烧氧化物化合物之含量以莫耳％表 134987.doc •66· 201008953 不，而含有10 mol%以上，較好的是含有3〇 m〇1%以上更 好的是含有50 mol%以上的烷基錫組合物）使用將單烷基錫 烷氧化物化合物及三烷基錫烷氧化物化合物蓄積及/或濃 縮而成的烷基錫組合物，進行步驟（1)之反應，而進行步驟 (2)之烧基再分配反應。 <自烷基錫組合物中分離三烷基錫烷氧化物化合物之情形> 在實施步驟（1)之前，亦可自烷基錫組合物中分離包含 二烷基錫烷氧化物化合物之組合物、與包含單烷基錫烷氧 化物化合物之組合物。再者，自烧基錫組合物中分離包含 二烷基錫烷氧化物化合物之組合物、與包含單烷基錫烷氧 化物化合物之組合物時，可使各個組合物在不同溫度條件 下與酸及/或酸酐進行反應。 該分離可使用蒸餾分離、晶析、膜分離、過濾、溶媒萃 取等各種公知方法，較好的是藉由蒸餾分離實施分離。 <未反應物、副產物之去除> 步驟（1)中所獲得之有機錫化合物之混合物，亦可直接 用作步驟（2)之原料；亦可將未反應之酸及/或酸酐、及/或 由反應所生成之不含有錫原子之有機化合物等去除後，再 用作步驟（2)之原料。較好的是將未反應之酸及/或酸肝去 除後再用作步驟（2)之原料。其原因在於：若不去除未反應 之酸及/或酸酐而進行步驟（2)，則產生下述之脫烷基反應 之情形較多，而所生成之二烷基錫化合物及/或四烷基二 錫氧烷化合物之產量會因該脫烷基反應而降低。作為未反 應之酸及/或酸酐、及/或由反應所生成之不含有錫原子之 134987.doc •67- 201008953 有機化合物之去除方法，可使用過濾、蒸餾分離、膜分 離、晶析、溶媒萃取等公知方法。 又，在該步驟（1)及/或去除未反應之酸及/或酸酐之操作 中’存在同時產生下述之脫烷基反應的情況，但若在本實 施形態之主旨的範圍内則無妨。 進而，在步驟（1)中，存在生成包含錫原子之固體狀化 合物的情況。本發明者等人經研究後發現：例如使烷基錫 組合物與乙酸進行反應時，存在根據烷基錫組合物所含有 之化合物或反應條件等，而生成具有昇華性之白色固體的 情況。根據NMR(nUclear magnetic res〇nance，核磁共掁） 分析等的結果推測該白色固體為2價之二乙醯氧基錫對 於該化合物，可自步驟（1)中所獲得之混合物中去除後再進 行步驟（2)，亦可不去除該化合物而進行步驟（2)。 又，根據该步驟（1)之反應條件，存在於該步驟〇)中除 了生成具有源自該酸及/或該酸酐之基（〇χ基）之有機錫化 合物之混合物以外，亦生成源自烷基錫組合物所含有之烷 氧基之醇的情況，較好的是將該醇分離回收。所回收之醇 可用作本實施形態之其他步驟中之醇（例如，式（17)、式 (18)、式（36)之醇）。作為將該醇分離回收之方法，可使用 蒸館分離、膜分離等公知方法’較好的是蒸餾分離。 使酸及/或酸酐與烷基錫組合物進行反應後，利用蒸餾 將所生成之副產物醇分離回收的溫度，較好的是 0C〜100C之範圍，更好的是(TC〜8(rc之範圍。在高溫下 存在引起分解、或酸與醇之脫水縮合反應的情況，而存在 134987.doc •68- 201008953 所回收之醇之產率降低的情況；在低溫下，存在有機錫化 合物成為固體而導致流動性惡化的情況，因此更好的是在 20。(：〜60°C之範圍内實施反應。壓力根據所使用之化合物 之種類或反應溫度等而有所不同，較好的是在1 Pa〜1 MPa 之範圍内實施反應，更好的是在1〇 pa〜1〇 kpa之範圍内實 施反應。若壓力較鬲，則存在將醇蒸館分離之時間變長， 引起酸與酵之脫水縮合反應的情況，而存在所回收之醇之 產率降低的情況，因此更好的是在丨〇 Pbi kPa之範圍内實 β 施反應。 藉由蒸餾將醇回收之操作，亦可在酸及/或酸酐與烷基 錫組合物之反應操作結束後進行，亦可和酸及/或酸酐與 烧基錫組合物之反應同時進行。 酸及/或酸酐與⑨基錫、组合物之反應、、及醇之分離回收 中所使用之反應器並無特別限制，可使用公知之反應器。 例如可適當組合使用授拌槽、加壓式㈣槽、減壓式授掉 眷槽4型反應器、蒸館塔、填充塔、薄膜蒸德器等先前公 知之反應器。反應器之材質亦無特別限制，可使用公知之 材質。例如可使用玻璃製、不鏽鋼製、碳鋼製、赫史特合 金製、或對基材施加玻璃襯裡而成者、或塗佈鐵氟龍 (Teflon)(註冊商標）者。亦存在由酸所引起之錢因步驟或 條件而變得顯著的情況，因此於該情形時，亦可適當選用 玻璃製或施加玻墙雜Ϊ細 ... 裡、塗佈鐵氟龍（Teflon)(註冊商標） 者，或選用赫史特合金製反應器。 <有機錫化合物> 134987.doc -69- 201008953 此處，對由Jt. /-is 7驟（1)之反應所生成之有機錫化合物之混 合物進行說明。 本實施形皞Φ 4 「丄 /1甲之「有機錫化合物」係指由步驟（1)之反 應所生成之具有源自該酸及/或酸酐之基團（OX基）的有機 錫化合物。如上述所示，步驟（1)之原料即烷基錫化合物含 有上述式（25)所表示之三烷基錫烷氧化物化合物，利用該 二烧基錫烧氧化物化合物’藉由步驟（1)之反應，來生成具 有3個Sn_Rl鍵（Rl表示烷基）且具有一個Sn-OX鍵（OX表示源 自酸及/或酸酐之基）之化合物。具體而言，係下述式（28) 所表示之化合物。 [化 27] ox (式中
R>V (28) R1分別獨立表示烷基； X表示源自酸及/或酸酐之基團； 0表不氧原子。） 另一方面’利用上述單烷基錫烷氧化物化合物，藉由步 驟（1)之反應’來生成具有一個Sn-R1鍵且具有1〜3個Sn-OX 基之化合物。如上文所述：單烷基錫烷氧化物化合物具有 在氘化氣仿溶液中藉由119Sn-NMR進行分析時，以四曱基 錫為基準而在200〜-200 ppm中顯示出化學位移的錫原子， 難以對該等化合物之結構加以完全鏗定。因此，對於由該 等單烧基錫烧氧化物化合物所生成之化合物，亦難以鐘定 134987.doc -70^ 201008953 全部結構。然而，單烧基錫烧氧化物化合物、與酸及/或 酸酐之反應，較多情形主要係1)將單烷基錫烷氧化物化合 物之Sn-OR2鍵之R2〇基取代為XO基之反應、及2) sn_〇-Sn 所表示之二錫氧烧鍵裂解而生成Sn-OX鍵之反應組合而成 的反應之情形較多，並且生成下述式（29)所表示之化合物 之情形較多。 [化 28]
(式中： R1分別獨立表示烷基， X表不源自酸及/或酸酐之基團； Ο表示氧原子。） 又’如上述所示’推測由二烷基錫二烷氧化物化合物及/ 或四烧基一燒氧基二錫氧烧化合物之烧基歧化反應所生成 之產物具有各種結構’作為由烷基歧化反應所生成之產 物’推測為上述式（27)所表示之結構之化合物。亦推測該 等如上述式（27)之化合物在步驟（1)中與酸及/或酸酐進行 反應，例如進行下述式(30)所表示之反應。 [化 29] 134987.doc -71- 201008953 R13—Sn-〇R2# 驟⑴._ r13—sn-OX R13—Sn-〇-Sn-Ri3 .步驟 C〇 _ 2 r、—Sn_ox R13—Sn-0—Sn-R1,步驟(0 R13—Sn-0—Sn~R1 R1Ή:0)· OR2 '
亦存在不發生反應之情況 步驟CO (3〇) *Sn—〇-OR2 y 步驟α)
R1 I XO-Sn-OX I OX
Ri
OX OX 2 务十 Rl_sl，sln_Rl ix
OX (式中： R1及R2與式（27)中之定義相同 〇表示氧原子。） <步驟（2)> 其次’對步驟（2)進行說明。 步驟（2)係如下之步驟：對步驟〇)中所獲得之該有機錫 化合物之混合物進行加熱處理，進行烷基再分配反應，利 用該烷基錫組合物中之該單烷基錫烷氧化物化合物與三烷 基錫烧氧化物化合物， 獲得選自i)具有一個錫原子，且上述一個錫原子具有兩 個Sn-R (R1表不烷基）鍵與兩個Sn_〇x鍵⑴χ基係〇χ之共軛 酸即HOX係pKa為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之 二院基錫化合物，及 Π)具有一個Sn-〇-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個“-…鍵 與一個Sn-OX鍵（0X基係OX之共軛酸即Η〇χ係？1^為〇以 134987.doc -72- 201008953 上6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之四烷基二錫氧烷化合 物之群中的至少一種烷基錫化合物。 此處之烷基再分配反應，係指使鍵結於丨個錫原子上之 燒基數量為2以上之不同的兩種以上的有機錫化合物進行 反應，使鍵結於1個錫原子上之烷基數量平均化之反應， 該烷基再分配反應係平衡反應。詳細反應機理不明，推測 為.如下述式（31)所示，藉由鍵結於丨個錫原子上之烷基為 3個之有機錫化合物、與鍵結於〖個錫原子上之烷基為“固 之有機錫化合物的反應，而生成鍵結於〗個錫原子上之烷 基為2個之有機錫化合物。 [化 30] R1
R1 2 R1-Sn-〇X OX (31) R1
R~S|n~R1 + XO-Sn-OX OX OX (式中：
Rl分別獨立表示烷基， x表示源自酸及/或酸酐之基團； 〇表示氧原子。） 該烷基再分配反應係藉由對鍵結於丨個錫原子上之烷基 數量為2以上之不同的兩種以上之有機錫化合物之混合物 進行加熱處理而進行。 該加熱處理較好的是在2(rc〜300t之溫度範圍内進行， 欲快速反應時、或欲獲得更高之二烷基體(具有2個_ 134987.doc •73- 201008953 鍵之錫化合物）之遭度時’為了使平衡偏向右側，反應溫 度較高時較為有利，更好的是贼〜赋，為了提高反應 速度，較好的是加熱處理溫度為高溫，但另一方面，亦存 在於…皿下亦引起分解等不良反應的情況，而導致產率降 低，因此更好的是在8(rc 〜26〇<t之溫度範圍内進行加熱處 理。低於2(TC之較低溫度時，存在反應時間變長之情況； 南於300°C時’存在由於分解等有機錫化合物之改質，而 導致二烷基錫化合物之產率降低之情況。反應時間根據所 使用之化合物、或加熱處理溫度而有所不同，宜為 0.001 50小時’較好的是〇 〇1〜1〇小時；若考慮到工業生產 性’則以反應時間達到0.W小時之方式來設定反應溫度 等而進行。可藉由n9Sn_NMR等確認獲得所需之二烷基錫 化合物後結束反應。如下述所示，推測本實施形態之烧基 再分配反應為平衡反應’為了以高於反應系之濃度來獲得 鍵結於1個錫原子上之烷基為2個之錫化合物，可根據不同 溫度來測定所使用之化合物的平衡濃度，並在生成系之濃 度尚於反應系的溫度區域内實施反應，或藉由下述方法來 轉換取代基，以使生成系中的二烷基錫化合物濃度增高。 又，在高溫（例如，150。(：以上）下進行加熱處理時，存在反 應後冷卻需要時間及二烧基錫化合物之產帛降低的情況。 其原因在於.反應系在冷卻過程中接近低溫下之平衡濃 度，因此較好的是在高溫下加熱處理後迅速進行冷卻。反 應液之冷卻方法可較好地使用公知方法，例如可較好地使 用利用鹽水之方法、或向壓力低於加熱處理槽之反應器中 134987.doc •74- 201008953 急速冷卻之方法等。 該烷基再分配反應可在金屬齒化物觸媒存在下亦可在 無觸媒存在下進行。作為金屬ώ化物觸媒之例子，可列 舉：氣化錫（π)、氯化汞（11)、氯化錯（11)、氣化果（11)、氣 化鉛（II)、氟化錫（Π)、碘化錫（11)、碘化鉛（ΪΙ)碘化汞 (II)、漠化錫（II)、漠化汞（„)、漢化紹（11)等，該等金屬齒 化物可單獨使用’亦可以兩種以上之混合物之形式使用。 該等金屬齒化物相對於熱處理中所使用之溶液可在01 重量％〜1〇重量。/〇之範圍内適當使用。 該燒基再分配反應中無需使用溶媒，但為了提高流動 性、或使反應操作變得容易’亦可使用溶I作為該溶 媒:例如可列舉：碳數為5〜16之直鍵狀、分支狀、環狀之 烴’包含碳數為4〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之煙㈣ 類，碳數為1〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之#代烴類等。 你而口可使用選自戊烧（各異構物）、己燒（各異構 =、庚燒（各異構物）、辛烧（各異構物）、壬炫（各異構 院、：垸(各異構物)' 十六炫(各異構物)' 環己炫、環庚 、元本甲本、—甲苯(各異構物)、乙基苯等中 異構物、、環狀之烴’選自乙醚、丙醚(各異構物)、丁醚(各 ㈣1自㈣（各異構物）、辛醚（各異構物）'笨喊等中的 烷、二二一氣甲烷、氣仿、四氯化碳、氣苯、四氣乙 用，:（異構物）#t的自代烴類。該等溶媒可單獨使 戈兩種以上之混合物之形式使用。為了提高流動 或使反應操作變得容易、或在反應中生成水時將該水 134987.doc •75- 201008953 有效地排出至反應㈣外，亦可使㈣媒。作為該溶媒， 例如可列舉··碳數為5〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之煙，· 包含碳數為4〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴之醚類；碳 數為1〜16之直鍵⑯、分支狀、環狀之齒代烴類等。具體而 言，可使用選自戊烷（各異構物）、己烷（各異構物）、、庚烷 (各異構物）、辛烷（各異構物）、壬烷（各異構物）、癸烷 異構物）、十六烷（各異構物）、環己烷、環庚烷、環辛烷、 苯、甲苯、二甲苯（各異構物）、乙基苯等中的鏈狀、環狀 之烴；選自乙醚、丙醚（各異構物）、丁醚（各異構物）、己 醚（各異構物）、辛醚（各異構物）、苯醚等中的醚類；選自 二氣甲烷、氣仿、四氯化碳、氣苯、四氣乙烷、二氣苯 (異構物）等中的_代烴類。該等溶媒可單獨使用，亦可以 兩種以上之混合物之形式使用。 又，在步驟（2)中，亦可同時產生下述之脫烷基反應。 如上所述，推測該烷基再分配反應為平衡反應。本發明 者等人經潛心研究，結果發現：該烷基再分配反應依賴於 鍵結於錫原子上之取代基及/或實施該烷基再分配反應之 溫度。若對鍵結於錫原子上之取代基進行說明，例如關於 鍵結於錫原子上之烷基（例如，上述式（3〗）中相當於基Rl) 以外之基團（例如，上述式（31)中相當於οχ基），該基團之 共軛酸的pKa為0〜6.8時，較多情形時平衡偏向生成系；相 反’該基團之共輛*酸的pKa為6_8〜25時，較多情形時平衡 偏向反應系。另外發現·共輛酸之pKa為0〜6,8時，溫度越 高，平衡越偏向生成系側。 134987.doc •76· 201008953 即，一般上述式（24)、（25)中之OR2基的pKa大於6.8，在 步驟（1)中將OR2基轉化成〇χ基，藉此可在步驟（2)中產生 烷基再分配反應。 上文中使用了「脫烧基反應」一詞，所謂脫烧基反應’ 係指使具有至少一個Sn-R1鍵（R1表示烷基）之化合物、與 HOX所表示之酸及/或XOX所表示之酸酐（OX基係OX之共 輕酸即HOX係pKa為0以上、6,8以下之布忍斯特酸的OX基） 進行反應，使鍵結於錫原子上之烷基脫離，而生成在 錫原子上鍵結有源自酸及/或酸酐之〇χ基的，具有Sn_〇x 鍵之有機錫化合物。脫烷基反應之詳細反應機理尚不明 確’推測為：例如下述式（32)所示，藉由三烷基錫化合物 與酸HOX之反應，生成具有Sn_〇x鍵之化合物。 [化 31]
R1 R1-Sn-〇X OX (32) R1
R1-Sn-R1 + HOX OX
(式中： R1分別獨立表示烷基； X表示源自酸及/或酸酐之基團； 〇表示氧原子。） 又，例如亦存在如下之情形：如下述式（33)所示，藉由 三烷基錫烷氧化物化合物與酸H0X之反應，同時產生如上 述之脫烷基反應、與三烷基錫烷氧化物化合物之烷氧基之 取代反應。 134987.doc -77- (33) 201008953 [化 32] R1 R1-Sn-〇X I ox R1
R1-Sn-R1 + 2 HOX I 2 OR2 (式中 R1分別獨立表示烷基； R2表示烷基； X表示源自酸及/或酸酐之基團； 〇表示氧原子。） 存在根據反應條件’而在步驟（1)及步驟（2)中引起以上 所示之脫烷基反應之情形。然而，存在下述情形：在脫烷 基反應中經脫附之烷基較多情形時不會再與錫原子鍵結， 因此使得步驟（2)之烷基再分配反應中之二烷基錫化合物及/ 或四烷基二錫氧烷化合物之產率降低，因此作為步驟（丨）及 步驟（2)之反應條件’較好的是設定不易產生脫烷基反應之 條件。 藉由將以上所說明之步驟（1)〜步驟（2)、及步驟（z)加以 組合，例如可產生如下之方法：將由二烷基錫二烷氧化物 化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之烷基歧化 反應所生成之單烷基錫烷氧化物化合物及三烷基錫烷氧化 物化合物，再生為二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷 基二烧氧基二錫氧燒化合物（參照圖〇。 <烧基錫組合物之製造方法> 對上述步驟（1)中之烷基錫組合物之製造方法進行說 134987.doc -78- 201008953 明。 該烧基錫組合物若為包含& μ 3早烷基錫烷氧化物化合物與三 烧基錫院氧化物化合物之、a 之烷基錫組合物，則並無特別限 制’較好的是依序進行下诚舟聰r、止 下这步驟（a)〜步驟（C)而獲得的在製 造碳酸酯之過程中所生成之烷基錫組合物。 步驟⑷：使下述通式（3例表*之二燒基錫二烧氧化物 與二氧化碳進行反應，獲得包含碳酸醋與下述通式⑼所
表示之四&基二烧氧基二錫氧炫及/或該四烧基二烧氧基 二錫氧烷與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； [化 33] OR2 R1 -Sn-〇R2 R1 (34) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_Ch2_ 基（式中’ Y表示院基聚伸燒基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烧醚基））。 [化 34] 〇R2 R1 R1 -Sn-〇-Jn—R1 (35) L 12 R1 OR2 (式中： 134987.doc -79- 201008953 R1分別獨立表示直鍵狀或支鏈狀之；ε炭數為1~12之烧基’ R2分別獨立表示直鍵狀或支鏈狀之飽和或不飽和之煙 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之煙基、或Y-CH2· 基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烧趟基））。 步驟（b):藉由蒸餾自該反應液中分離礙酸酯’獲得包 含四院基二烧氧基二錫氧烧及/或該四院基二炫氧基二錫 氧烧與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟（c) ··使該殘留液與下述通式（36)所表示之醇進行反 春 應’藉由蒸餾去除產生之副產物水，再生二烷基錫二烷氧 化物’並將該二烷基錫二烷氧化物用作步驟（a)之二烷基錫 二炫氧化物的步驟。 [化 35] (式中： R表不直鏈狀或支鏈狀之碳數為2〜8之烷基）。 首先’對步驟（a)進行說明。 _ 作為步驟（a)中所使用之上述式（34)中之Rl的例子，可列 舉：甲基、乙基、丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊 基（各異構物）、己基（各異構物）、庚基（各異構物）、辛基 (各異構物）、壬基（各異構物）、癸基（各異構物）、十二烧基 (各異構物）等構成s亥基團之碳原子數為選自丨〜12之整數中 之數字的作為脂肪族烴基之燒基。較好的是構成該基團之 碳原子數為選自1〜8之整數中之數字的直鏈狀或支鍵狀之 134987.doc -80· 201008953 烷基。亦可使用構成該基團之碳原子數為以上所示之範圍 以外之烷基的二垸基錫化合物，但存在流動性變差，或有 損生產性的情況。考慮到在工業生產時容易獲得 是正丁基、正辛基。 的 作為上述式（34)中之R2基的例子，可列舉：甲基、 基、丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）乙 己基(各異構物)、庚基(各異構物)、辛基(各異構物)、壬基 (各異構物）、癸基（各異構物）、十二燒基（各異構物）等、^ 成該基團之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的作為脂 肪族烴基的焼基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自曰 2〜8之整數中之數字的直鏈狀或支鍵狀之烧基。因此，作 為上述式（34)中之〇R2基，較好的是甲氧基、乙氧基、丙 氧基（各異構物）、丁氧基（各異構物）、戊氧基（各異構土物）、 己氧基（各異構物）、庚氧基（各異構物）、辛氧基（各異構 物）、壬氧基（各異構物）、癸氧基（各異構物）、十二烷氧= (各異構物)等烷氧基’更好的是乙氧基、丙氧基J異： 物）、丁氧基（各異構物）、戊氧基（各異構物）、己氧基（各異 構物）、庚氧基（各異構物）、辛氧基（各異構物）。 異 作為上述式（34)所表示之二烧基錫二燒氧化物的 例，可列舉··二甲基-二甲氧基錫、二甲基_二乙氧基錫、 一甲基·二丙氧基錫（各異構物）、二甲基_二丁氧基錫（各異 構物）、二甲基·二戊氧基錫（各異構物）、二甲基二己氧美 錫（各異構物）、二甲基-二庚氧基錫（各異構物）、二甲^基 辛氧基錫(各異構物)、二丁基-二甲氧基錫(各異構物广、二 134987.doc • 81 - 201008953 丁基-一乙乳基錫(各異構物)、二丁基二丙氧基錫( 物)、二丁基-二丁氧基錫(各異構物)、二丁基 美 A異構物)、二丁基_二己氧基錫(各異構物)、二了基氧：錯 氧基錫(各異構物)、二丁基二辛氧基錫(各異構物二：： 基-二曱氧基錫、二辛基-二乙氧基錫、二辛基-二丙氧基錫 (各異構物）、二辛基-二丁氧基錫（各異構物卜二辛基-二戊 氧基錫(各異構物)、二辛基二己氧基錫(各異構物卜二辛 基-二錢基錫(各異構物)、二辛基_二辛氧基錫(各異物 等。 如上文所述，已知有機錫化合物一般容易形成缔合結 構’例如存在二烷基錫二烷氧化物化合物形成二聚物結構 而存在，或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物形成由2分子 或3刀子締合而成之梯狀結構而存在的情況，但即使該締 合狀態變化，從業者一般亦以單體結構來表示化合物。 步驟（a)中所使用之二烷基錫二烷氧化物之製造方法並無 特別限制，可較好地使用已經揭示之二烷基錫二烷氧化物 之製造方法（WO 2005/111049等）。其係利用二烷基氧化錫 與醇來製造一烧基錫二烧氧化物之步驟。以下，對該製造 方法進行說明。 作為醇，可較好地使用：曱醇、乙醇、丙醇（各異構 物）、丁醇（各異構物）、戊醇（各異構物）、己醇（各異構 物）、庚醇（各異構物）、辛醇（各異構物）、壬醇（各異構 物）、癸醇（各異構物）等醇、構成該醇之碳原子數為選自 1〜12之整數中之數字的醇。更好的是乙醇、丙醇（各異構 134987.doc -82 - 201008953 物）、丁醇（各異構物）、戊醇（各異構物）、己醇（各異構 物）、庚醇（各異構物）、辛醇（各異構物）等構成該醇之碳原 子數為選自2〜8之整數中之數字的醇。 二烷基錫二烧氧化物之製造中所使用之二烷基氧化錫可 使用下述式（37)所表示之二烷基氡化錫。 [化 36]
冬1_。 ❹4 h 響（式中： w分別獨立表示直鍵狀或分支狀之碳數為H2之烧基） 作為上述式（37)中之R1的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基(各異構物)、丁基(各異構物)、戊基(各異構物)、己基 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十一烷基（各異構物）、十二烷 基（各異構物）等碳數為1〜12之脂肪族烴基之烷基。更好的 ❹ 是碳數為1〜8之直鏈狀或支鏈狀之飽和烷基，更好的是正 丁基、正辛基。 使醇與一燒基氧化錫進行脫水反應，一面將所生成之水 排出至反應體系外，一面獲得四烷基二烷氧基二錫氧烷及 /或一烷基錫二烷氧化物。實施該反應之溫度例如為 80〜180°C之範圍’為了將所生成之水蒸餾排出至反應體系 外’雖亦取決於反應壓力，但反應溫度較好的是 1〇〇 C〜180'°C ;為了提高反應速度，較好的是反應溫度為 同溫’但另一方面，亦存在於高溫下亦產生分解等不良反 134987.doc -83- 201008953 應的情況，而導致產率降低，因此更好的*1〇(rc〜16〇^ 之範圍。反應壓力係可將所生成之水排出至反應體系外之 壓力，雖然亦取決於反應溫度，但宜在20〜lxl〇6Pa下進行 反應。脫水反應之反應時間並無特別限制，通常為 0.001〜50小時，較好的是0 01〜10小時，更好的是〇丨〜2小 時。若可獲得含有所需量之二烷基錫二烷氧化物之組合 物，則亦可結束反應。反應之進行可藉由測定排出至系統 外之水量而得知，亦可採用對反應液進行抽樣並利用
Sn-NMR之方法得知。 含有一烧基錫二烧氧化物之組合物主要含有二烧基錫二 烷氧化物與四烷基二烷氧基二錫氧烷，以將兩者合併之莫 耳％來表示該組合物所含有之四烷基二烷氧基二錫氧貌與 二烷基錫二烷氧化物之莫耳比率，在確認獲得莫耳比率在 0 : 100〜80 : 20之範圍内的組合物，更好的是在1〇: 90〜70 : 30之範圍内的組合物後，結束反應。所使用之醇 可直接在共存之狀態下使用’亦可視情況將醇蒸餾去除後 再使用。由於具有可縮小其他步驟之反應器的優點，因此 較好的是儘可能地去除醇◊去除方法較好的是公知之蒸顧 去除，又’蒸餾中所使用之蒸餾器可使用公知之蒸餾設 備。作為較好的蒸餾裝置’由於可以短時間加以去除，因 此可較好地使用薄膜蒸餾裝置。脫水反應之反應器之形式 並無特別限制，可使用公知之槽狀、塔狀之反應器。含水 之低彿點反應混合物’可藉由蒸餾而以氣體狀自反應器排 出，並所製造之包含二烷基錫二烷氧化物之高沸點反應混 134987.doc -84- 201008953 合物自反應器下部以液狀排出。作為該反應器，例如可使 用·使用包含授拌槽、多級授拌槽、蒸館塔、多級蒸館 塔、多管式反應器、連續多級蒸餾塔、填充塔、薄膜蒸發 裔、内部具備支持體之反應器、$制循環反應器、落膜蒸 發盗、滴落蒸發器、細流相反應器、泡罩塔中之任意者的 反應器之方式，及將該等組合之方式等公知之各種方法。 '就可有效地使平衡向生成系側移動方面而言，較好的是使 用塔狀反應器之方法，X，較好的是可使所形成之水迅速 移動至氣相之氣-液接觸面積較大的結構。亦可利用使用 有多官式反應器、多級蒸餾塔、填充有填充劑之填充塔的 連續法，但由於本步驟中所使用之二烷基氧化錫通常為固 體狀，因此最好的是首先在槽狀反應器中實施反應，繼而 在塔型反應器中提高二烷基錫二烷氧化物之含量之方法。 反應器及管線之材質只要不會造成不良影響，則亦可採用 公知之任何材質’而SUS3〇4或SUS316、SUS316L等較為 φ 廉價，可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等 測量儀器，再沸器 '栗、冷凝器等公知之加工裝置，加熱 亦可利用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷 卻、冷卻水、鹽水等公知方法。 再者，以上述製造方法所獲得之含有二烷基錫二烷氧化 物之組合物主要含有二烧基錫二院氧化物與四院基二烧氧 基二錫氧烷’且四烷基二烷氧基二錫氧烷係上述式（35)所 表示之化合物。 作為上述式（3 5)中之R1的例子，可列舉：甲基、乙基、 134987.doc • 85 · 201008953 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 (各異構物)、庚基(各異構物)、辛基(各異構物)、壬基(各 異構物）、癸基（各異構物）、十一烷基（各異構物）、十二烷 基（各異構物）等碳數為卜12之脂肪族烴基之烧基。更好的 是碳數為1〜8之錢㈣支鏈狀之鮮㈣，更好的是正 丁基、正辛基。 作為上述式(35)所表示之化合物的具體例，可列舉： U，3,3-四甲基十3-二乙氧基二錫氧烷、1，1，3,3·四曱基_ 以·二丙氧基二錫氧烷(各異構物)、匕以义四甲基十％二 丁氧基二錫氧烧（各異構物）、u，3,3•四甲基]，3二戊氧基 二锡氧燒（各異構物卜1，1，3,3·四甲基]，3·:己氧基二錫氧 ^異_' U’3，％四甲基丄3_二庚氧基二錫氧院（各
異構物四甲A 土 ，3一辛氧基二錫氧烷（各異構 、U，3,3-四丁基十夂二乙氧基二錫氧烷(各異構物广 ^3-四丁基二丙氧基二錫氧烷（各異構物广 U，3,3_四丁基十3-二丁氧基二錫氧烷（各異構物）、 1山3,3-四丁基二戊氧基二錫氧烷（各異構物）、 1山3,3-四丁基-Μ·二己氧基二錫氧烷（各異構物厂 U，3,3-四丁基'3-二庚氧基二錫氧烷（各異構物）、 U，3,3·四丁基_1，3·二辛氧基二錫氧烷（各異構物）、 U，3,3·四辛基_1，3_二乙氧基二錫氧烷（各異構物）、 :’Μ’3·四辛基w·二丙氧基二錫氧烷(各異構物）、 /，3,3·四辛基_1，3·二丁氧基二錫氧燒(各異構物）、 ，四辛基1’3-_戊氧基二錫氧烷（各異構物）、 134987.doc 201008953 1，1，3’3-四辛基-l，3-一己氧基二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基-ΐ，3·二庚氧基二錫氧烷（各異構物）、 1,1，3,3-四辛基-1，3-二辛氧基二錫氧烷（各異構物）等。 如上文所述，已知有機錫化合物一般易於形成締合結 構，例如存在二院基錫二烧氧化物化合物形成二聚物結構 而存在’或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物形成由2分子 或3分子締合而成之梯狀結構而存在的情況，但即使該缔 合狀態變化，業者一般亦以單體結構來表示化合物。 步驟（a)係下述步驟：使上述式（34)所表示之二烷基錫二 烷氧化物與二氧化碳進行反應，獲得包含碳酸酯、與上述 式（35)所表示之四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二 烷氧基二錫氧烷與二氧化碳之結合體的反應液。 本步驟可較好地使用已揭示之碳酸酯之製造方法（w〇 03/055840、WO 04/014840等）。 本步驟中所使用之二烷基錫二烷氧化物存在下述兩種情 开藉由上述之二垸基氧化錫與醇之反應而製造之二烧基 錫二烷氧化物之情形，及連續製造時在下述之步驟（c)中所 再生之二烷基錫二烷氧化物之情形，又，亦存在由下述之 再生二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二 錫氧烧之步驟中供給之情形。 步驟（a)中，首先，使上述二烷基錫二烷氧化物中吸收氣 體狀二氧化碳，而使其進行化學反應，獲得包含二烷基錫 二烧氧化物與二氧化碳之結合體之混合物。 進行該化學反應時，可使該二烷基錫二烷氧化物製成液 134987.doc •87· 201008953 狀、或利用溶媒等製成.液狀後再進行反應。為了製成液 狀，可較好地使用藉由加熱而製成液狀之方法，又，亦可 利用溶媒等製成液狀。使之反應的壓力取決於使之反應的 溫度，較好的是常壓〜1 MPa之範圍，更好的是常壓〜〇 6 MPa之犯圍。該反應溫度亦取決於反應壓力較好的是 -40 C〜80 C之範圍，若考慮到輸送時之流動性，更好的是 Ot〜80°C，最好的範圍為常溫（例如2〇〇c)〜8〇t：。關於反 應時間，可在數秒〜1〇〇小時之範圍内實施反應，若考慮到 生產性等，較好的是數分鐘〜i 〇小時。反應器可使用公知 之槽型反應器、塔型反應器。又，亦可組合使用複數個反 應器。反應係二氧化碳氣體（氣體）與含有二烷基錫二烷氧 化物之組合物（液體）之反應，因此為了有效地進行反應， 較好的是增大氣液界面，而增大氣體與液體之接觸面積。 增大該氣液界面而進行反應之方法可利用公知之知識見 解，例如採用槽型反應器時，較好的是提高攪拌速度、或 在液中產生氣泡之方法；採用塔型反應器時，較好的是利 用填充塔、或利用層板塔之方法。作為該塔型反應器的例 子，例如可利用：使用泡罩塔板、多孔板塔板、浮閥塔 板、逆流塔板等塔板之層板塔式反應器，或填充有拉西 環、勒辛環、鮑爾環、貝爾鞍形填料、矩鞍環填料、狄克 松填料、網鞍填料、螺旋填料、Sulzer填料、孔板波紋填 料（Mellapak)等各種填充物之填充塔式反應器等。反應器 及管線之材質若不會造成不良影響，則可採用公知之任何 反應器及管線，SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉 134987.doc -88- 201008953 價，可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測 量儀器，再沸器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦 可利用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷 卻、冷卻水、鹽水等公知方法。由於反應通常為發熱反 應，因此亦可冷卻，或亦可藉由反應器之散熱而加以冷 卻。或者，為了使碳酸酯化反應同時進行，亦可進行加 熱。反應器之冷卻、加熱可採用利用套管之方法、利用内 部線圈之方法等公知方法。亦可將供給至反應器之二氧化 碳氣體與含有二烷基錫二烷氧化物之組合物分別向反應器 供給，亦可在向反應器供給之前加以混合。亦可自反應器 之複數個部分進行供給。反應之結束例如可藉由,丨、。 NMR分析來決定。 其次，利用上述所獲得之二烷基錫二烷氧化物與二氧化 碳之結合體，藉由以下方法，獲得包含碳酸酯之反應液。 反應條件為liot〜20(TC之範圍，為了提高反應速度， φ 較好的是反應溫度為高溫，但另一方面，亦存在於高溫下 亦引起分解等不良反應的情況，而導致產率降低，因此較 好的是120°C〜180°C之範圍，（U小時〜10小時之範圍，反 應壓力為1.5 MPa〜20 MPa，較好的是2.0 MPa〜10 MPa之範 圍。若在反應器中生成了所需之碳酸酯，則亦可結束反 應。反應之進行可藉由如下之方法確認：對反應器内之反 應液進行抽樣，藉由〗H-NMR或氣相層析法等方法，對生 成之碳酸酯進行分析等。例如，相對於二烷基錫二烷氧化 物化〇物及/或一烧基錫二燒氧化物與二氧化碳之結合體 134987.doc -89- 201008953 中所包含之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或二烷基錫二 烷氧化物與二氧化碳之結合體之莫耳數，若生成10%以上 則可結束反應’欲增加碳酸酯之產量時，可繼續反應直至 該值達到90〇/〇以上後再結束反應。反應器可使用公知之反 應器，可較好地併用塔型反應器、槽型反應器。反應器及 官線之材質若不會造成不良影響，則亦可採用公知之任何 反應器及管線’ SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉 價’可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測 量儀器’再沸器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦 可利用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷 卻、冷卻水、鹽水等公知方法。 其次’對步驟（b)進行說明。本步驟係下述步驟：自步 驟（a)中所獲得之包含碳酸酯之反應液 中分離碳酸酯，獲得 包含四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或四烷基二烷氧基二錫 氧烷與一氧化碳之結合體之殘留液。分離方法可適當使用 公知之方法或裝置。較好的方法是藉由蒸餾之方法。 對自步驟（a)所轉移之反應液分批或半分批、或連續地蒸 餾而獲得碳酸酯與殘留液。較好的蒸餾方法為如下之方 法將該反應液供給至蒸餾器，將碳酸酯作為氣相成分而 自蒸館器上部分離至系統外，將殘留液作為液狀成分而自 、'館器底σ卩排出。本步驟之溫度雖取決於該碳酸醋之沸點 或^力，亦可為常溫（例如20。〇〜200。(：之範圍，由於存在 下引起殘留液中之錫化合物之改質之情形、或碳酸 S曰因逐^及^1 $ μ 減y之情形’因此較好的是常溫（例如 134987.doc 201008953 20 C )〜150°C之範圍^壓力雖取決於碳酸酯之種類、或實 施溫度，通常在常壓〜減壓條件下進行，若考慮到生產 性，更好的是100 Pa〜80 KPa之範圍，最好的範圍是1〇〇 Pa〜5〇 KPa。關於時間’可在〇 〇1小時〜1〇小時之範圍内實 施’若在高溫下長時間實施，亦存在該反應液所包含之錫 化合物發生改質之情形、或碳酸酯因逆反應而減少之情 形，因此較好的是0.01小時〜0.5小時之範圍，最好的是 0.01小時〜0.3小時之範圍。蒸餾器可使用公知之蒸餾器， 亦可較好地使用塔型蒸餾器、槽型蒸餾器，亦可將複數種 組合使用。更好的蒸餾器係薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器，最 好的是具備蒸餾塔之薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器。蒸餾器及 管線之材質若不會造成不良影響，則亦可為公知之任何反 應器及管線，SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價， 可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀 器，再沸器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦可利 用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷 卻水、鹽水等公知方法。 以上所說明之步驟（a)及步驟（b)中，使用有二烷基錫二 烷氧化物與二氧化碳之結合體、四烷基二烷氧基二錫氧烷 與一氧化兔之結合禮之術語’以下對該等加以說明。 此處所述之一娱*基錫一烧氧化物與二氧化碳之結合體係 指將二院基錫二烧氧化物之院氧基部分的一部分或全部取 代（或變化）為碳酸醋鍵而成的結構。關於四烧基二燒氧基 二錫氧烷與二氧化碳之結合體，亦同樣係將四烷基二烷氧 134987.doc -91 - 201008953 基二錫氧烷之烷氧基部分的一部分或全部取代（或變化）為 碳酸酯鍵而成的結構。 進而，關於本實施形態之二烷基錫二烷氧化物與二氧化 礙之結合體、及四烧基二烧氧基二錫氧烧與二氧化碳之結 合體，以下舉例進行說明。如上述所示，二烷基錫二烷氧 化物與二氧化碳之結合體係指將上述二烷基錫二烷氧化物 之烷氧基部分的一部分或全部取代（或轉化）為上述碳酸酯 鍵而成的結構。對於此種與二氧化碳之結合體之鍵的存 在，可組合119Sn-NMR或13C-NMR、iH-NMR、X射線結構 解析等，藉由公知方法來確認，但二烷基錫二烷氧化物與 二氧化碳之結合體之結構為複雜結構之情形較多，利用目 前分析技術無法鑑定之情形亦較多，而本實施形態之二烷 基錫二烷氧化物與二氧化碳之結合體並不限定於下述結構 例。四烷基二烷氧基二錫氧烷與二氧化碳之結合體之結 構，亦同樣為複雜結構之情形較多，利用目前分析技術無 法鑑定之情形亦較多，而本實施形態之四烷基二烷氧基二 錫氧烷與二氧化碳之結合體並不限定於下述結構例。 作為對應於上述式（34)所表示之二烷基錫二烷氧化物的 二烷基錫二烷氧化物與二氧化碳之結合體的例子，可列舉 下述式（38)、（39)、（40)所代表之結構式。再者，該等化合 物可為單體，亦可為締合體，亦可為多聚體、聚合物。 [化 37] 134987.doc -92- 201008953 R1 Ο R1—Sn—〇-^\〇_〇r2 OR2
(38) (39) (式中：
❿
Rl分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜12之院基， r2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2- 基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸垸醚基））。 -V β /嗎π丄遴式所表示之 烷的四烷基二烷氧基二錫氧 ' 氣 旱，i $丨斑 /、一氧化碳之結人髀以 子，可列舉下述式⑷）、（42 。口體合 者，該等化合物可為單體、亦二)所代表之結構式。 體、聚合物。 為締合體，亦可為多 [化 38]
201008953
(43) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之炫•基， R分別獨立表示直鍵狀或支鏈狀之飽和或不館和之經 · 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y-CH2· 基（式中’ Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸燒謎基））。 φ 上述式（38)至（43)中所示之結合體的Ri及R2的例子如上 述所示’作為該種與二氧化碳之結合體的例子，可列舉： 甲氧基基碳酸酯基_二丁基_錫、乙氧基-乙基碳酸酯基_ 一丁基-錫、丙氧基_丙基碳酸酯基_二丁基·錫（各異構物）、 丁氧基丁基碳酸酯基·二丁基·錫（各異構物卜戊氧基-戊基 碳酸醋基·二丁基_錫（各異構物）、己氧基_己基碳酸醋基-二 丁基錫（各異構物）、庚氧基_庚基碳酸酯基-二丁基-錫（各 八構物）、节氧基·节基碳酸醋基_二丁基·錫 碳酸酯基_ -奈某锯r备丫礼丞T基 —辛基錫、乙氧基·乙基碳酸醋基_二辛基錫、 丙氧基-丙基碳酸醋基_二辛基_錫(各異 =二辛基-錫(各異構物)、戊氧基·戊基碳：丁: 辛基-踢（各異構物）、己氧基_己基碳酸醋基·二辛基錫（各 134987.doc •94· 201008953 異構物）、庚氧基-庚基碳酸酯基-二辛基-錫（各異構物）、苄 氧基-节基碳酸醋基-二辛基-錫等烷氧基_烷基碳酸酯基_二 烷基-錫、芳烷氧基-芳烷基碳酸酯基-二烷基_錫；或丨_甲 氧基-3-甲基碳酸酯基，3_四丁基-二錫氧烧、卜乙氧 基-3-乙基碳酸酯基-^^四丁基-二錫氧烷〜^丙氧基· 3-丙基碳酸酯基·ι，ι，3,3_四丁基_二錫氧烷（各異構物）、卜 丁氧基-3-丁基碳酸酯基四丁基_二錫氧烷（各異構 物）、卜戊氧基-3-戊基碳酸酯基四丁基-二錫氧烷 (各異構物）、1-己氧基·3_己基碳酸醋基_ι,ι,3,3_四丁基_二 錫氧烷（各異構物）、1-庚氧基_3_庚基碳酸酯基四 丁基-二錫氧烷（各異構物）、苄氧基-3-苄基碳酸酯基_ 1，1，3,3-四丁基-二錫氧烷、丨·甲氧基甲基碳酸酯基_ 1，1，3,3四辛基-一錫氧烷、乙氧基_3_乙基碳酸酯基一 1’1，3,3-四辛基-二錫氧烷、丙氧基丙基碳酸酯基_
1’1，3,3-四辛基-二錫氧烷（各異構物）、^ 丁氧基_3_ 丁基碳 酸酯基-1，1，3,3-四辛基-二錫氧烷（各異構物）、^戊氧基·^ 戊基碳酸酯基-1，1，3,3_四辛基·二錫氧烷（各異構物卜卜己 氧基-3-己基碳酸酯基3 3_辛基 ， 甲丞—錫氧烷（各異構 物）、1-庚氧基-3-庚基碳酸酯基^弘四 _ ^ ( r " 一 錫取i ’元、（各異構物）、1-节氧基_3_节基碳酸醋基·丨山]弘四辛 基-二錫氧烷等1-烷氧基_3_烷基碳酸酯基_丨 ， ，义，）’ j -四基- 一錫氧烷、1-芳烷氧基-3_芳烷基碳酸酯基 _ Λ Α 1, J，j -四烧基 _ 等。可採用單獨選自上述群中者，亦可採 上述群中之混合物。 134987.doc -95- 201008953 式（38)至（43)所表示之與二氧化碳之結合體中，較好的 疋R1為選自正丁基、正辛基之中者。 如上述所不’烷基錫組合物含有四烷基錫烷氧化物化合 物單烷基錫烷氧化物化合物，但存在生成該等與二氧化 碳之結合體之情形。 例如’將上述式（26)所表示之三烷基錫烷氧化物化合物 與一氧化碳之結合體的例子示於下述式（44)。 [化 39] R1 R1—Sn—〇 〇—r2
T (44) (式中： R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； R刀別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_ch2- 基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烷醚基））。 上述式（44)所表示之結合體的R1、R2的例子如上述所 不’作為該種與二氧化碳之結合體的例子，可列舉：三丁 基-甲基碳酸酯基_錫、三丁基-乙基碳酸酯基_錫、三丁基、 丙基碳酸酯基-錫（各異構物）、三丁基-丁基碳酸酯基·錫（各 異構物）、三丁基-戊基碳酸酯基-錫（各異構物）、三丁基-已 基碳酸酸基-锡（各異構物）、三丁基_庚基碳酸酯基錫、= B4987.doc 201008953 丁基-苄基碳酸酯基-錫、三辛基_甲基碳酸酯基-錫、三辛 基-乙基碳酸酯基•錫、三辛基_丙基碳酸酯基-錫（各異構 物）、三辛基-丁基碳酸酯基-錫（各異構物）、三辛基_戊基碳 酸酯基-錫（各異構物）、三辛基-己基碳酸酯基_錫（各異構 物）、二辛基-庚基碳酸酯基-錫（各異構物）、三辛基_苄基碳 酸醋基-錫等三烧基-烧基碳酸酯基-錫或三烧基-芳烧基破 酸醋基-錫等。可採用單獨選自上述群中者，亦可採用選 自上述群中之混合物。 又’上述式（27)所表示之單院基錫烧氧化物化合物與二 氧化碳之結合體的結構例，可列舉為下述式（45)、（46)、 (47)。式（45)、（46)、（47)所表示之化合物之二氧化碳結合 體容易形成多種結構，並不限定於下述式（45)、（46)、 (47) 〇 [化 40]
(45) (46) 134987.doc •97- 201008953 ο R2、
Ο ο ο-0、 Ό- -R2 R1——Sn: 'Sn—R1 丨、OR2 R1 (47) (式中
Rl分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、餘和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_ch2- 基（式中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或 不飽和伸烷醚基））。 φ 作為該種單烧基錫烧氧化物化合物與二氧化碳之結合體 的例子，可列舉：丁基-甲氡基-二·甲基碳酸酯基_錫、丁 基·乙氧基-二_乙基碳酸醋基_錫、丁基_丙氧基_二_丙基碳 酸醋基-錫（各異構物）、丁基_ 丁氧基_二_ 丁基碳酸酯基-錫 (各異構物）、丁基-戊氧基_二戍基碳酸酯基-錫（各異構 物）、丁基-己氧基-二-己基碳酸酯基_錫（各異構物广丁基_ 庚氧基·二-庚基碳酸酯基-錫（各異構物）、丁基-节氧基_二_ 节基碳酸醋基·錫、辛基-甲氧基_二曱基碳酸醋基錫、辛 基-乙氧基-二·乙基碳酸醋基-錫、辛基_丙氧基二·丙基碳 酸醋基-錫（各異構物）、辛基_ 丁氧基·二丁基碳酸醋基·錫 異構物）、辛基_戊氧基戊基碳酸自旨基錫（各異構 134987.doc -98. 201008953 物）、辛基-己氧基-二-己基碳酸酯基·錫（各異構物）、辛基_ 庚氧基-二-庚基碳酸酯基_錫（各異構物）、辛基-苄氧基_二_ 节基碳酸酯基-錫等烷基-烷氧基_二_烷基碳酸酯基_錫或烷 基-方烷氧基-二-芳烷基碳酸酯基_錫；丁基_甲基碳酸酯基_ 錫氧化物、丁基_乙基碳酸酯基_錫氧化物、丁基-丙基碳酸 酯基·錫氧化物（各異構物）、丁基-丁基碳酸酯基-錫氧化物 (各異構物）、丁基-戊基碳酸酯基_錫氧化物（各異構物）、丁 基-己基碳酸酯基-錫氧化物（各異構物）、丁基_庚基碳酸酯 基-錫氧化物（各異構物）、丁基-苄基碳酸酯基錫氧化物、 辛基-甲基碳酸酯基-錫氧化物、辛基_乙基碳酸酯基_錫氧 化物、辛基-丙基碳酸酯基-錫氧化物（各異構物卜辛基-丁 基碳酸酯基-錫氧化物（各異構物）、辛基_戊基碳酸酯基-錫 氧化物（各異構物）、辛基-己基碳酸酯基_錫氧化物（各異構 物）、辛基-庚基碳酸酯基-錫氧化物（各異構物）、辛基-苄美 碳酸酯基-錫氧化物等烷基·烷基碳酸酯基_錫氧化物或烷 基烧基碳酸醋基-錫氧化物；1，1，3_三丁基_丨3__甲笑 碳酸酯基-3 -甲氧基-二錫氧烷、i，i，3_三丁基_丨，3二-乙基 碳酸酯基-3-乙氧基-二錫氧烷、i，i，3_三丁基^，夂二-丙基 碳酸酯基-3-丙氧基-二錫氧烷（各異構物）、^，夂三丁美 1，3-二-丁基碳酸酯基_3_丁氧基-二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3-二丁基-l，3-二-戊基碳酸酯基-3-戊氧基-二錫氧炫（各 異構物）、1，1，3-二丁基-1，3 - 一 _己基碳酸醋基-3 -己氧基_ _ 錫氧烷（各異構物）、1,1,3-三丁基-1,3 ·二-庚基碳酸酯基_3_ 庚氧基-二錫氧烷（各異構物）、1，1，3-三丁基“，^二.节基碳 134987.doc -99- 201008953 酸酯基-3-苄氧基-二錫氧烷、m，3_三辛基]，3二曱基碳 酸酯基-3-甲氧基-二錫氧烷、u，3_三辛基]，3•二-乙基碳 酸醋基-3-乙氧基-二錫氧院、U1，3_三辛基],3二-丙基碳 酸酯基-3-丙氧基-二錫氧烷（各異構物）、u，3_三辛基— I 3· 二-丁基碳酸酯基-3-丁氧基-二錫氡烷（各異構物）、^，弘三 辛基-1，3-二-戊基碳酸酯基_3_戊氧基-二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3-三辛基-以-二·己基碳酸醋基_3己氧基_二錫氧 烧（各異構物）、1，1，3-三辛基-13-二·庚基碳酸酯基_3-庚氧 基-二錫氧烷（各異構物）、三辛基“少二―节基碳酸酯 基-3-节氧基-二錫氧烷等三烷基_二_烷基碳酸酯基_烷氧基_ 一錫氧烷或三烷基·二芳烷基碳酸酯基_芳烷氧基-二錫氧烷 等。可採用單獨選自上述群中者，亦可採用選自上述群中 之混合物。 最好的例子為：（正丁基二（正丁基碳酸酯基正丁氧 基）-錫、（正丁基）-二（正戊基碳酸酯基）_(正戊氧基）錫、 (正丁基）-雙（3 -甲基丁基碳酸酯基）_(3_甲基丁氧基）_錫、 (正丁基）-二-(正己基碳酸酯基）_(正己氧基）_錫、（正丁基）· 雙-(2-乙基丁基碳酸酯基）_(2_乙基丁氧基）_錫、（正辛基）_ 二（正丁基碳酸酯基）-(正丁氧基）_錫、（正辛基）_二（正戊基 碳酸酯基）-(正戊氧基）_錫、（正辛基）_二_(正己基碳酸酯 基Η正己氧基）-錫、（正辛基）_雙（3_甲基丁基碳酸酯基）_(3_ 甲基丁氧基）-錫、（正辛基）_雙_(2_乙基丁基碳酸酯基）_(2_ 乙基丁氧基）-錫、（正丁基(正丁基碳酸酯基）·錫氧化物、 (正丁基Η正戊基碳酸酯基）-錫氧化物、（正丁基）-(3-甲基 134987.doc -100- 201008953 y基碳酸s旨基）_錫氧化物、（正丁基）·(正己基碳酸醋基）_錫 乳化物、（正丁基）_(2_乙基丁基碳酸醋基錫氧化物、（正 辛基Η正丁基碳酸醋基）_錫氧化物、（正辛基）_(正戍基碳 酸醋基）-錫氧化物、（正辛基Η正己基碳酸g旨基）_錫氧化 . *、（正辛基）-(3-甲基丁基碳酸醋基）_錫氧化*、（正辛基）· (2-乙基丁基碳酸醋基）_錫氧化物、u，3_三_(正丁基 二（正丁基碳酸酯基）_3_(正丁氧基）_二錫氧烷、u，3_三-(正丁基）·1,3-二（正戊基碳酸酯基）-3-(正戊氧基）_二錫氧 烷' 1，1，3-三(正丁基）^3-雙（3_甲基丁基碳酸酯基 甲基丁氧基）-二錫氧垸' 正丁基）_13_二_(正己基 碳酸酯基）-3-(正己氧基）·二錫氧烷、丨•三（正丁基卜 I，3,3-雙_(2_乙基丁基碳酸醋基）_3_(2_乙基丁氧基）_二錫氧 烷、1，1，3-三-(正辛基）^3-二（正丁基碳酸酯基）3(正丁氧 基）-二錫氧烷、1，1，3-三-(正辛基二（正戊基碳酸酯 基）-3-(正戊氧基）-二錫氧烷、丨丄^三气正辛基卜丨’夂雙^ φ 甲基丁基碳酸酯基）-3_(3-甲基丁氧基）-二錫氧烷、u，3_ 二-(正辛基）-l，3-二-(正己基碳酸酯基）_3_(正己氧基）_二锡 氧烷、1，1，3-二-(正辛基乙基丁基碳酸酯基）_夂 (2-乙基丁氧基）-二錫氧烷。 上述二烧基錫二燒氧化物、四燒基二烧氧基二錫氧燒、 三烷基錫烷氧化物化合物、單烷基錫烷氧化物化合物與二 氧化碳之結合體可分別為混合物，亦可單獨物，亦可相互 配位、締合。一般而言，烷基錫烷氧化物容易交換配位 基’難以鑑定結構’或除上述以外亦存在經配位、締合之 134987.doc 101 - 201008953 包含二氧化碳之結合體的可能性。但是，只是利用目前之 解析技術無法鑑定其結構，故而基於上述烷基、烷氧基、 厌酸s日基之規疋的一烧基錫二统氧化物、四貌基二烧氧基 一錫氧烷、三烷基錫烷氧化物化合物、單烷基錫烷氧化物 化σ物與—氧化碳之結合體可用於本實施形態中。 其次，對步驟⑷進行說明。本步驟⑷係下述步驟：使 步驟（b)中所獲得之殘留液與上述式（36)所表示之醇進行反 應’藉由蒸館而去除所產生之副產物水，再生二烧基錫二— 烷氧化物，並將該二烷基錫二烷氧化物用作步驟（a)之二烷 〇 基錫-燒氧化物。 作為上述式（36)所表示之醇，可較好地使用甲醇、乙 醇、丙醇（各異構物）、丁醇（各異構物）、戊醇（各異構物）、 己醇（各異構物）、庚醇（各異構物）、辛醇（各異構物）、壬醇 (各異構物)、癸醇(各異構物)等醇、構成該醇之碳原子數 為選自1〜12之整數中之數字㈣。更好的是乙醇、丙醇 (各異構物）、丁醇（各異構物）、戊醇（各異構物）、己醇（各 異構物庚醇（各異構物）、辛醇（各異構物），更好的是使 用與上述二烷基錫二烷氧化物之製造中所使用之醇相同的 醇〇 藉由蒸館而去除該反應中所產生之副產物水的條件，較 好的是在與上述製造二烧基錫二炫氧化物時之水之蒸館相 2的條件下實施。若獲得W量的4絲二燒氧化 物，則亦可結束反應。反應之進行，可藉由測定 至系統外之水量而得知，亦可藉由對反應液進行抽樣 134987.doc 201008953 並進行119Sn-NMR之方法而得知。為了在步驟（a)中使用含 有該二烷基錫二烷氧化物之組合物，係於確認獲得含有二 烧基錫一烧氧化物之組合物中所含有之四烧基二统氧基二 錫氧烷與二烷基錫二烷氧化物之莫耳比率，以將兩者合併 之莫耳％表示，在〇 : 100〜80 : 2〇之範圍的組合物，更好 的是在10 : 90〜70 : 30之範圍的組合物後，結束反應。所 使用之醇可直接在共存之狀態下使用，亦可視情況將醇蒸 餾去除後再使用。由於具有可縮小其他步驟之反應器的優 點，因此較好的是儘可能地去除醇。去除方法較好的是公 知之蒸餾去除，又，蒸餾中所使用之蒸餾器可使用公知之 蒸館设備。作為較好之蒸館裝置，由於可在短時間内進行 去除，因此可較好地使用薄膜蒸餾裝置。 本步驟（c)與藉由二烷基氧化錫與醇之反應來製造二烷基 錫二烷氧化物的製造步驟不同，不使用通常為固體之二烷 基氧化錫，故而受反應器之限制較少。即，脫水反應之反 應器之形式並無特別限制，可使用公知之槽狀、塔狀之反 應器。含水之低沸點反應混合物可藉由蒸餾而以氣體狀自 反應器排出，而包含所製造之二烷基錫二烷氧化物及/或 四烷基二烷氧基二錫氧烷之高沸點反應混合物可自反應器 下部以液狀排出。作為該反應器，例如可使用：使用包含 攪拌槽、多級攪拌槽、蒸餾塔、多級蒸餾塔、多管式反應 器、連續多級蒸餾塔、填充塔、薄膜蒸發器、内部具備支 持體之反應器、強制循環反應器、落膜蒸發器、滴落蒸發 器、細流相反應器、泡罩塔中之任意者的反應器之方式， B4987.doc •103· 201008953 及將該等組合之方式等公知之各種方法。就有效地使平衡 移動至生成系側方面而言，較好的是使用塔狀之反應器之 方法，又，較好的是使所形成之水迅速移動至氣相之氣_ 液接觸面積較大之結構。尤好的是使用有多管式反應器、 多級蒸餾塔、填充有填充劑之填充塔的連續法。反應器及 管線之材質若不會造成不良影響，則亦可為公知之任何反 應器及管線，SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價， 可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀 器’再沸器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦可利 用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷 卻水、鹽水等公知方法。 以上例示了使用有二烷基錫二烷氧化物之碳酸酯之製造 例’且該碳酸酯之製造過程中生成單烷基錫烷氧化物化合 物與三烷基錫烷氧化物化合物。該單烷基錫烷氧化物化合 物及該三烷基錫烷氧化物化合物存在下述情形：在反覆進 行上述碳酸醋之製造中，會逐漸蓄積在反應系内，而導致 反應速度降低，或碳酸酯之產率降低。因此，較好的是： 自反應系中排出包含單烷基錫烷氧化物化合物及三烷基錫 烧氧化物化合物之烷基錫組合物之一部分，用作上述步驟 (1)之烧基錫組合物，藉由步驟（2)而獲得烧基錫化合物， 藉由該烷基錫化合物、與碳酸酯及/或醇之反應，再生二 烷基錫二烷氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷。該二 烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷 之再生較好的是在上述步驟（b)及/或步驟（c)後實施，將所 134987.doc -104- 201008953 再生之二烧基錫二烧氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧 烷與步驟（a)之二烷基錫二烷氧化物、及/或、步驟（b)之殘 留液混合，而用作步驟（c)之原料。 圖2係表示用以說明將碳酸酯之製造方法與本實施形態 之二炫基錫化合物之製造方法組合而成的經改良之碳酸酯 之製造方法之流程圖。如上述所示，將自碳酸酯之製造方 法之步驟（b)及/或步驟（c)所排出之烷基錫組合物之一部分 或全部用作步驟（1)之原料。經由步驟（丨）〜步驟（2)及步驟 ❿ （Z)而獲得之二烷基錫二烷氧化物及/或四烷基二烷氧基二 錫氧烷，可用作步驟（a)之二烷基錫二烷氧化物，亦可與步 驟（b)之殘留液混合而作為步驟（c)之原料。碳酸酯之製造 中’由二烧基錫二烷氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧 烧之烧基歧化反應所生成之單烷基錫烷氧化物化合物及三 烷基錫烷氧化物化合物，無作為用以製造碳酸酯之觸媒的 /舌性’需要作為所謂失活體而排出至反應體系外，且必須 φ 將排出至反應體系外的失活體廢棄。若利用本實施形態之 方法之經改良之碳酸酯之製造方法，則具有下述優點：可 將單烷基錫烷氧化物及三烷基錫烷氧化物再生為二烷基錫 二烷氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷，可再次用作 碳酸酯製造用觸媒，因此可絕對地減少廢棄物之生成量。 如以上說明所示，本實施形態之二烷基錫二烷氧化物化 合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之製造方法（步 驟（z)) ’具有作為由該碳酸酯之製造步驟中所生成之單烷 基錫烷氧化物化合物及/或三烷基錫二烷氧化物再生二烷 134987.doc 201008953 基錫二烷氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷之步驟中 之一個步驟之側面，與其不同的是，該製造方法係將藉由 本實施形態之方法所製造之二烷基錫二烷氧化物化合物及/ 或四貌基二烷氧基二錫氧烷化合物作為原料，並實施下述 步驟（A)〜步驟（B)之碳酸酯之製造方法，且具有與上述方 法不同之碳酸酯之製造方法中之步驟之一的側面。 步驟（A):使藉由本實施形態之製造方法所製造之二院 基錫二院氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烧化 合物、與二氧化碳進行反應，獲得包含碳酸酯、及四烧基 二院氧基二錫氧烧化合物及/或該四炫基二院氧基二錫氧 烧化合物與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； 步驟（B):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，獲得& 含四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基二錫 氧烷與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟。 步驟（A)除了代替二烷基錫二烷氧化物而使用步驟（z)所 製造之二烷基錫二烷氧化物化合物以外，係與上述步驟（a) 相同之步驟’可藉由以下所示之方法來實施。作為步驟 (Z)所製造之二烧基錫二烷氧化物化合物，例如可使用圖1 及2所例示之流程表中步驟（Z)所製造之二烷基錫二烷氧化 物化合物，亦可使用下述之使用步驟（C)所獲得之院基錫 化合物來實施步驟（Z)而製造之二烷基錫二烷氧化物化合 物。 步驟（A)中，首先使步驟（Z)所製造之二烷基錫二烷氧化 物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物吸收氣體 134987.doc -106 · 201008953 狀之二氧化碳，使其進行化學反應，獲得包含二烷基錫二 烧乳化物化合物與二氧化碳之結合體之混合物。 進行该化學反應時，可將該二烷基錫二烷氧化物化合物 製成液狀，或利用溶媒等製成液狀後進行反應。為了製成 液狀，較好地可使用藉由加熱而製成液狀之方法，又，亦 可利用溶媒等而製成液狀。反應壓力雖取決於反應溫度， 但較好的是常壓〜1 MPa之範圍，更好的是常壓〜〇 6 Mpai 範圍。該反應溫度亦取決於反應壓力，較好的是 _ -4〇°C〜80°C之範圍，若考慮到輸送時之流動性，更好的是 〇°C〜80°C，最好的範圍為常溫（例如2〇。〇〜8(rc。反應時 間亦可在數秒〜100小時之範圍内實施，若考慮到生產性 等，較好的是數分鐘〜1〇小時。反應器可使用公知之槽型 反應器、塔型反應器。又，亦可組合複數個反應器來使 用反應係一氧化碳氣趙（氣體）與含有二燒基錫二烧氧化 物化合物之組合物（液體）之反應，因此為了有效地進行反 φ 應肖#的疋增大氣液卩面、冑大氣體與液體之接觸面 積。增大該氣液界面而進行反應之方法可藉由公知之知識 見解，例如採用槽型反應器時，較好的是提高授掉速度， 或在液體中產生氣泡之方法；採用塔型反應器時，較好的 是利用填充塔、或利用層板塔之方法。作為該塔型反應器 的例子，例如可利用：使用有泡罩塔板、多孔板塔板、浮 ㈣板、逆流塔板等塔板之層板塔方式者，或填充有拉西 環、勒辛環、鲍爾環、貝爾鞍形填料、矩鞍環填料、狄克 松填料、網鞍填料、螺旋填料、Sulzer填料、孔板波紋填 I34987.doc 201008953 料等各種填充物之填充塔方式者等。反應器及管線之材質 若不會造成不良影響，則亦可為公知之任何反應器及管 線’ SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價，可較好地 使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀器，再沸 器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦可利用蒸汽、 加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷卻水、鹽 水等公知方法。由於反應通常為發熱反應，因此亦可冷 卻’或亦可藉由反應器之散熱而加以冷卻。或者，若為了 使碳酸醋化反應同時進行，亦可進行加熱。反應器之冷 卻、加熱可使用利用套管之方法、利用内部線圈之方法等 公知方法。亦可將供給至反應器之二氧化碳氣體與含有二 烷基錫二烷氧化物化合物之組合物分別向反應器供給，亦 可在向反應器供給之前加以混合。亦可自反應器之複數個 部位進行供給。反應之結束例如可藉由u9Sn_NMR分析來 決定。 其次’利用上述所獲得之二烷基錫二烷氧化物化合物與 二氧化碳之結合體，藉由以下方法，獲得包含碳酸酯之反 應液。 反應條件為11 (TC〜20(TC之範圍，為了提高反應速度， 較好的疋反應溫度為高溫，但另一方面，亦存在於高溫下 亦引起分解等不良反應的情況，而導致產率降低，因此較 好的是120 c〜1801之範圍，01小時〜10小時之範圍，反 應壓力為1.5 MPa〜20 MPa，較好的是2.0 MPa〜10 MPa之範 圍。若在反應器中生成所需之碳酸酯，則亦可結束反應。 134987.doc 201008953 反應之進行可藉由如下之方法來確認：對反應器内之反應 液進行抽樣，藉由ih_nmr或氣相層析法等方法，對生成 之碳酸酯進行分析等。例如，相對於二烧基錫二烧氧化物 化合物及/或二烷基錫二烷氧化物化合物與二氧化碳之結 纟體之莫耳數，若生成1()%以上則可結束反應欲增加碳 酸醋之產量時，可繼續反應直至該值達到9〇%以上後再結 束反應。反應器可使用公知之反應器，可較好地併用塔型 &應器、槽型反應器。反應器及管線之材質若不會造成不 良影響，則亦可為公知之任何反應器及管線，sus3〇4或 SUS316、SUS316L等較為廉價，可較好地使用。視需要亦 可附加流量計、溫度計等測量儀器，再沸器、泵、冷凝器 等公知之加工裝置，加熱亦可利用蒸汽、加熱器等公知方 法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷卻水、鹽水等公知方法。 其次，對步驟（B)加以說明。本步驟係下述步驟：自步 驟（A)中所獲得之包含碳酸酯之反應液中分離碳酸酯，獲 參 得包含四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物及/或四烷基二烷 氧基二錫氧烷化合物與二氧化碳之結合體之殘留液。分離 方法可適當使用公知之方法或裝置。較好的方法是藉由蒸 餾之方法。 ' 對自步驟（A)所轉移之反應液分批或半分批、或連續地 蒸餾，獲得碳酸酯與殘留液。較好的蒸餾方法係下述方 法：將該反應液供給至蒸餾器，將碳酸酯作為氣相成分而 自蒸餾器上部分離至系統外，將殘留液作為液狀成分而自 蒸餾器底部排出。本步驟之溫度雖取決於該碳酸酯之沸點 134987.doc -109- 201008953 或壓力，但可為常溫（例如2〇°C)〜200°C之範圍，由於在高 溫下會產生殘留液中之錫化合物發生改質之情形、或碳酸 酯因逆反應而減少之情形，目此較好的是常溫（例如 20 C)〜150。。之範圍。壓力亦取決於碳酸酯之種類、或實 施溫度，但通常在常壓〜減壓條件下進行，若考慮到生產 性，更好的是100 Pa〜8〇 KPa之範圍，最好的範圍是1〇〇 Pa〜5〇 KPa。關於時間，可在〇〇1小時〜1〇小時之範圍内實 施，若在高溫下長時間實⑯，亦存在減應液所包含之錫 化合物發生改質之情形、或碳酸酯因逆反應而減少之情 形，因此較好的是〇.01小時〜0·5小時之範圍，最好的是 〇.〇1小時〜0.3小時之範圍。蒸餾器可使用公知之蒸餾器， 亦可較好地使用塔型蒸餾器、槽型蒸餾器，亦可將複數種 組合使用。更好的蒸餾器係薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器，最 好的是具備蒸餾塔之薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器。蒸餾器及 管線之材質若不會造成不良影響，則亦可為公知之任何反 應器及管線，SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價， 可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀 器，再沸器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦可利 用蒸汽、加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷 卻水、鹽水等公知方法。 進而，本實施形態中，亦可在上述步驟卜步驟（Β)中 附加下述步驟（C)’可將該步驟（c)所製造之烷基錫化合物 用作步驟（Ζ)之烷基錫化合物。 步驟（C):使步驟（Β)之殘留液與通式Η〇χ(ρκ&為0以 134987.doc -110. 201008953 上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式xox(〇x 基係〇X之共軛酸即HOX係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯 特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製造選自下述 0、η)之群中的至少一種烷基錫化合物的步驟； 0具有一個錫原子，且具有兩個Sn_Ri(Ri表示烷基。）鍵 與兩個Sn-〇X鍵（OX基係OX之共軛酸即HOX係pKa為0以 上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化合物， U)具有一個Sn-〇-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn_〇X鍵（〇X基係OX之共軛酸即HOX係pKa為0以 上、6·8以下之布忍斯特酸的OX基）之四烷基二錫氧烷化合 物。 該步驟（C)係與上文中所說明之步驟（1)類似，可藉由以 下方法實施。 步驟（C)中’作為通式HOX所表示之酸，可較好地使用 有機酸作為該酸。作為有機酸，可例示：羧酸 '磺酸、苯 ❹ 盼等較好的是使用缓酸。作為叛酸，例如可列舉：曱 酸、乙酸、丙酸、正丁酸、異丁酸、戊酸、異戊酸、2_甲 基丁酸、三甲基乙酸、己酸、異己酸、2·乙基丁酸、2,2_ 一曱基丁酸、庚酸（各異構物）、辛酸（各異構物）、壬酸（各 /、構物）、癸酸（各異構物）、--烧酸（各異構物）、十二烧 酸（各異構物）、十四烷酸（各異構物）、十六烷酸（各.異構 物）、丙烯酸、丁烯酸、異丁烯酸、乙烯基乙酸、曱基丙 稀酸、當歸酸、順芷酸、稀丙基乙酸、十一婦酸（各異構 物）等飽和或不飽和脂肪族單羧酸化合物；乙二酸、丙二 134987.doc • 111 - 201008953 =、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸（各異構物）、辛二 酸（各異構物）、壬二酸（各里構物 丁略 }夂一酸（各異構物）、順 甲基順丁婦二酸、甲基反丁缚二 、戊稀二酸(各異構物)、亞甲基丁二酸，丙基丙二酸 飽和或不飽和脂肪族二羧酸；ls2,3_M三甲酸、12,3_
烯甲酸2,3-一甲基丁烷^3-三甲酸等飽和或不飽 和脂肪族三叛酸化合物；苯甲酸、甲基笨甲酸(各異構 物）乙基苯曱酸（各異構物）、丙基苯甲酸（各異構物）、二 甲基苯甲酸（各異構物）、2甲基苯甲酸（各異構物）等芳香 族單羧酸化合物；鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲 酸、曱基間苯二甲酸（各異構物）等芳香族二叛酸化合物； 1’2’3笨二曱酸、苯三曱酸、苯三甲酸等芳香 知二羧酸化合物等。該等羧酸中，較好的是使用飽和單羧 酸。更好的是使用標準沸點為3〇〇t>c以下之飽和單羧酸，
更好的疋使用標準彿點為2 5 〇。匚以下之飽和單緩酸。標準 '弗點如化學大辭典（共立出版股份有限公司、2003年1〇月1 曰發行）中之記載所示，係指在丨個氣壓下之沸點。具體而 。，可較好地使用乙酸、丙酸、正丁酸、異丁酸、戊酸、 異戊酸、2-甲基丁酸、三甲基乙酸、己酸。 又’步驟（C)中，作為通式χοχ所表示之酸酐，可列 舉.乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、異丁酸酐、戊酸酐、異戊 酸軒、丁 —酸酐、順丁稀二酸酐、丙二酸酐、戊二酸酐等 脂肪族酐；苯甲酸酐、鄰苯二甲酸酐、均苯四子酸酐等芳 香族酸酐。該等中，較好的是使用標準沸點為3〇〇。〇以下 134987.doc •112- 201008953 之酸酐，由於反應後可容易地去除過剩之酸酐，因此更好 的是使用標準沸點為20CTC以下之酸酐。進而，就容易將 生成之副產物羧酸酯等排出至反應體系外，在工業上可容 易獲得方面而言，較好的是順丁稀二酸酐、乙酸酐。 該等酸及酸酐可單獨使用，亦可將複數種混合使用，在 使用酸時，例如使四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物與酸進 行反應時，生成水之情形較多。為了去除該水，亦可進行 蒸餾分離或膜分離，或使用脫水劑。又，作為脫水劑，較 β 好的疋組合使用酸酐者。進而，在僅使用酸酐時，例如四 烷基二烷氧基二錫氧烷化合物與乙酸酐之反應中不生成水 之情形較多，因此亦較好的是僅使用酸酐之方法。 考慮到步驟（C)中之反應速度或最終二烷基錫化合物之 產率，酸及/或酸酐之使用量相對於步驟中所獲得之殘 留物中所含有之錫原子’以化學計量比表示，較好的是使 用0.1〜50倍之範圍’若考慮到反應器之大小、或反應速 ❷度’更好1是使敎5〜20倍之範圍。酸及/或酸酐之使用量 以化學计量比表示而少於〇 i時，存在難以進行反應之情 形’相反’以化學計量比表示即使使用大於50倍時，亦不 會對該步驟中之反應速度或最終二烷基錫化合物之產率產 生影響之情形較多。 步驟（C)之反應較好的是在-20°C以上、300。(：以下之反 應溫度下實施，更好的是在-10°C以上、250〇C以下之反應 溫度下實施’為了提高反應速度，較好的是反應溫度為高 溫’但另一方面，亦存在於高溫下亦引起分解等不良反應 134987.doc • 113- 201008953 之情形，而導致產率降低，因此更好的是在〇。〇以上、 230°C以下之反應溫度下實施。又，步驟（c)之反應較好的 是在氬氣、氖氣、氮氣等惰性氣體之環境下進行。 步驟（C)中無需使用溶媒，但為了提高流動性、使反應 操作變得容易、或在反應中生成水時將該水有效地排出至 反應體系外，亦可使用溶媒。作為該溶媒，例如可列舉： 碳數為5〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴；包含碳數為 4〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴之醚類；碳數為丨〜“之 直鏈狀、分支狀、環狀之齒代烴類等。具體而言，可使用 選自戊烷（各異構物）、己烷（各異構物）、庚烷（各異構物）、 辛垸（各異構物）、壬烷（各異構物）、癸烷（各異構物）、十六 院（各異構物）、環己烧、環庚院、環辛燒、苯、甲苯、二 甲苯(各異構物)、乙基笨等中的鏈狀、環狀之烴；選自乙 ^、㈣（各異構物）、頂（各異構物）、己趟（各異構物）、 (各異構物）、苯謎等中的_類；選自二氣甲烷、氣 氣化碳、氯苯、四氣乙燒、二氣苯（異構物）等中的 :代烴類。該等溶媒可單獨使用，亦可以兩種 物之形式使用。 口 :步驟⑹所製造之烧基錫化合物係選自下述式( '、之—燒基錫化人物、下、十/ 又 烷化Μ 式（49)所表*之㈣基二錫氡 ，化合物之群中的至少-種燒基錫化合物。 氧 [化 41] 〇X1a R1 -S9 — 〇χ2κ R1 134987.doc (48) 201008953 (式中： t R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； 0表示氧原子； 0X及0x2係OX1及ox2之共輛酸即HOX1及HOX2係pKa 為0以上' 6,8以下之布忍斯特酸的〇χι及〇χ2 ; a及b分別為〇〜2之整數，a+b=2) [化 42] 〇x3 R1 _ 〇1 I | Φ R S|J-。-Sn—R1 (49) R1 OX4 (式中： R为別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； 〇表示氧原子； 〇X及〇χ4係0χ3及OX4之共扼酸即HOX3及HOX4係pKa 為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ3及〇χ4)。 作為上述式（48)中之Ri的例子，可列舉：甲基、乙基、 參丙基（各異構物）、丁基(各異構物）、戊基(各異構物）、己基 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）' 癸基（各異構物）、十二烧基（各異構物）等構成該 基團之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自丨〜8之整 數中之數子的直鍵狀或支鏈狀之垸基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示之範圍以外之烧基之二烧基錫化 合物，但存在流動性變差，或有損生產性的情況。考慮到 134987.doc -115. 201008953 在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 關於上述式（48)中之oxi&OX2，若其共軛酸即Η〇χ1& ΗΟΧ為布忍斯特酸且該共輕酸之為〇以上、6 8以下， 則並無特別限制，較好的是選自由醯氧基、芳氧基所組成 之群中的至少一種取代基，且其共軛酸之}?1(；：3為〇以上、 6.8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自〇〜-之整數中之數字的基團。作為該基的具體例，可列舉：乙 ' 酿氧基丙醯氧基、丁醯氧基、戊醯氧基、月桂酿氧基等 由直鍵狀或支鍵狀之飽和院基、幾基及氧原子所構成之酿@ 氧基；苯氧基、甲基苯氧基（各異構物）、乙基苯氧基（各異 構物）、丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異構物）、 戊基苯氧基（各異構物）、己基笨氧基（各異構物）、二甲基 苯氧基（各異構物）、甲基乙基苯氧基（各異構物）、甲基丙 基苯氧基（各異構物）、曱基丁基苯氧基（各異構物）、曱基 戊基苯氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構物）、乙基 丙基苯氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異構物）、二 丙基苯氧基（各異構物）、三曱基苯氧基（各異構物）、二甲❿ 基乙基苯氧基(各異構物）、二甲基丙基苯氧基(各異構 物）、二甲基丁基苯氧基(各異構物）、甲基乙基丙基苯氧. 基、曱基二曱基笨氧基、三乙基苯氧基(各異構物)等芳氧: 作為上述式（48)所表示之二炫基錫化合物的具體例，可 列舉：二一甲基·二乙酿氧基錫、二甲基_二丙醯氧基錫(各異 構物）甲基—丁酿氧基錫（各異構物）、二曱基_二成酿 134987.doc -116- 201008953 乳基錫（各異構物）、二甲基-二月桂酿氧基锡（各異構物）、 乙醯氧基錫(各異構物)、二丁基-二丙醢氧基錫 (各異構物）、二丁基-二丁酿氧基錫（各異構物）、二丁基-二 2酿乳基錫（各異構物）、二丁基_二月桂酿氧基錫（各異構 物)、二辛基-二乙酿氧基錫(各異構物)、二辛基·二丙醯氧 基錫（各異構物）、-— 一辛基-二丁酿氧基錫（各異構物）、二辛 基-戊醯氧基錫（各異槿物1 -立# 物）一辛基-二月桂醯氧基錫（各異 構物)等二烷基-二醯氧基錫；二甲基_二苯氧基錫、二甲 基-二（甲基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-二（乙基苯氧基） 錫（各異構物）、二甲基_二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二 甲基一(丁基笨氧基)錫(各異構物）、二甲基-二(戊基苯氧 基）錫（各異構物）、二甲基.二（己基苯氧基）錫（各異構物）、 一甲基-雙（一曱基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-二（甲基 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（曱基丙基苯氧細 (各異構物一甲基_二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、 二甲基-二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-雙（二 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基.二（乙基丙基苯氧基）錫 (各異構物）—甲基-二(乙基丁基苯氧基)錫(各異構物)、 二曱基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-二（三曱 基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-雙（二甲基乙基苯氧基）錫 (各異構物）、二甲基-雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二甲基-雙（二甲基丁基苯氧基）锡（各異構物）、二甲 基-二（甲基乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基·二（乙 基二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（三乙基苯氧基） 134987.doc •117· 201008953 參 ❹ 錫（各異構物）、二丁基·二苯氧基錫（各異構物）、二丁基-二 (甲基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（乙基苯氧基）錫（各 異構物）、一丁基-二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_ 二（丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（戊基苯氧基）錫 (各異構物）、二丁基-二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-雙（一曱基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（甲基乙基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（甲基丙基苯氧基）錫（各 異構物）、一丁基-二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基一（甲基戊基本氧基）錫（各異構物）、二丁基_雙（二乙基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（乙基丙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基二（三甲基苯 氧基）錫（各異構物）、二丁基-雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各 異構物）、一丁基-雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二 丁基-雙（二甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基二（甲 基乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基二（乙基二▼基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基，二（三乙基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基_二苯氧基錫（各異構物）、二辛基·二（甲基苯 氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（乙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基-二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-二（丁 基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（戍基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基_二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-雙 (二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基二基乙基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基_二（甲基丙基苯氧基）錫（各異構 134987.doc -118- 201008953 物）、二辛基-二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基. 二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-雙（二乙基笨氧 基）錫（各異構物）、二辛基_二（乙基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基_二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_ 二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（三甲基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基-雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基-雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛 基-雙（二子基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-二（甲基 ❹&基丙基苯氧基)錫(各異構物)、二辛基-二(乙基二甲基： 氧基）踢（各異構物）、二辛基·二（三乙基苯氧基）锡（各異構 物）等烷基-二芳氧基錫等。 作為上述式（49)中之Ri的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基(各異構物)、丁基(各異構物)、戊基(各異構物)、I基 (各異構物）、庚基(各異構物)、辛基(各異構物）、壬基(各 異構物）、癸基（各異構物）、十二烧基（各異構物）等構成該 參錢之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數中之數字的直鏈狀或支鏈狀之烧基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示範圍以外之烧基之四烧基二錫氧 烷化口物’但存在流動性變差’或有損生產性的情況。考 慮到在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 述式（49)中之〇χ3及〇χ4若其共輛酸即Η〇χ3及為 布斯特&、且該共輊酸之pKa為0以上、6.8以下，則並 無特別限制，較好的是選自由酿氧基 '芳氧基所組成之群 134987.doc -119- 201008953 中的至少一種取代基，且其共軛酸之pKa為〇以上、6.8以 下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自〇〜12之整數 中之數字的基。作為該基的具體例’可列舉：乙醯氧基、 丙醯氧基、丁醯氧基、戊醢氧基、月桂酿氧基等由直鍵狀 或支鏈狀之飽和烧基、幾基及氧原子所構成之酿氧基；苯 氧基、甲基苯氧基(各異構物）、乙基苯氧基(各異構物广 丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異構物）、戊基苯 氧基（各異構物）、己基苯氧基（各異構物）、二甲基苯氧基 (各異構物）、曱基乙基苯氧基（各異構物广甲基丙基苯氧❹ 基（各異構物）、曱基丁基苯氧基（各異構物）、甲基戊基苯 氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構物）、乙基丙基苯 氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異構物）、二丙基苯 氧基（各異構物）、三甲基苯氧基（各異構物）、二甲基乙基 苯氧基（各異構物）、二曱基丙基苯氧基（各異構物）、二曱 基丁基苯氧基（各異構物）、甲基乙基丙基笨氧基、甲基二 甲基苯氧基、三乙基苯氧基（各異構物）等芳氧基等。 作為上述式（49)所表示之化合物的具體例，可列舉：❹ 1，1，3,3-四甲基-1，3-二乙醯氧基二錫氧烷、113,3_四子基_ ι，3-二丙醯氧基二錫氧烷（各異構物）、四甲基-丨，^ 二丁醯氧基二錫氧烷（各異構物）、四甲基二戊 . 醯氧基二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3_四曱基·-二月桂醯 ’ 氧基二錫氧烷（各異構物）、LL3，％四丁基d，％二乙醯氧基 二錫氧烷（各異構物）、四丁基]，3_二丙醯氧基二錫 氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四丁基_1，3_二丁醯氧基二錫氧烷 134987.doc •120· 201008953 ❹ 氧基）二錫氧烷（各異構物） 氧基）一锡氧院（各異構物） 氧基）一錫氧院（各異構物） 氧基）一錫乳烧（各異構物） 氧基）一踢乳院（各異構物） 氧基）二錫氧烧（各異構物） (各異構物）、1，1，3,3-四丁基二戊醯氧基二錫氧烷（各 異構物）、1，1，3,3-四丁基-1，3-二月桂醯氧基二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四辛基-1,3-二乙醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基- I，3·二丙醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-二丁醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3·二戊醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-二月桂醯氧基二錫氧烷（各異構 物）等1，1，3,3-四烷基-1,3-二醯氧基二錫氧烷；Μ，3,3_四曱 基-1,3-二苯氧基二錫氧烷、l四曱基-^3•二（甲基笨 1，1，3,3-四甲基_ι，3_二（乙基苯 1，1，3,3-四甲基4,3 —二（丙基笨 1,1,3,3-四甲基 _1，3_二（丁基笨 U，3,3-四甲基+3·二（戊基笨 U，3,3·四甲基」，3-二（己基笨 •四甲基-1，3 -雙（二曱茂 苯氧基）一錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基-丨’3·二（甲基 四 乙基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、1，1，3,3·四甲基]，二 (甲基丙基笨氧基)二錫氧烷(各異構物）、川二^四甲基_ …二(甲基丁基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、U，3,3: 甲基·1，3·—(甲基戊基苯氧基）二錫氧烧（各異構物）、 ，，3’3 E9f基_1，3_雙（二乙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）U’3’3-四甲基_1，3-二（乙基丙基苯氧基）二錫氧燒（各 異構物)、U，3,3·四甲基-1，3-二(乙基丁基苯氧基)二錫氧 烧（各異構物）、U，3,3·四甲基-以-二（二丙基苯氧基）二踢 134987.doc 121· 201008953
氧烷（各異構物）、四甲基“，^二（三曱基苯氧基）二 錫氧烷（各異構物）、m3—四甲基_153_雙（二甲基乙美苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基二曱基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基4,3-雙 (二甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1^3-四曱基_ 1，3-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3’3-四曱基二（乙基二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四甲基{3-二（三乙基苯氧基）二錫氧燒（各 異構物）、1，1，3,3-四丁基-Μ —二苯氧基二錫氧烷（各異構 物）、U，3,3-四了基.仏二（甲基苯氧基）二錫氧貌（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基'3-二（乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基_1，3_二（丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基-u-二（丁基笨氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四了基{3.二（戊基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基二（己基苯氧基）二錫氧炫（各異構 物）、1，M，3-四丁基+3-雙（二甲基苯氧基）二錫氧烧（各異 構物）、1，1，3,3-四丁基{3-二（甲基乙基苯氧基）二錫氧燒 (各異構物）、U，3,3-四丁基+3·二(甲基丙基苯氧基)二錫 氧烧（各異構物）、U’3’3-四丁基+3.二（甲基丁基苯氧基） 二錫氧烷(各異構物）、…少四丁基汔弘二(甲基戊基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、^弘四丁基·丨，3-雙（二乙基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1133四丁基_13二（乙^ 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁基_ι，3_二 (乙基丁基苯氧基）二錫氧貌（各異構物）、ι ΐ33·四丁基_ 134987.doc -122- 201008953 1’3-二（二丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁 基-1，3-二（三f基苯氧基）二錫氧院（各異構物）、ι山3,3_四 丁基_1，3_雙（二甲基乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1’1’3’3 E9 丁基ή (二甲基丙基苯氧基)二錫氧烷(各異 構物）、1，1，3,3-四丁基]，3.雙（二f基丁基苯氧基）二錫氧 烷（各異構物）、以从四丁基十^二（甲基乙基丙基苯氧 基）二錫氧烷（各異構物）、Μ，3,3·四丁基_1>3_二（乙基二甲 基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、u，3,3四丁基4,3-二（三 參 6基苯氧基）二錫氧院（各異構物）、1，1，3,3-四辛基_1，3_二 苯氧基二錫氧烷（各異構物）、1133四辛基_13二（甲基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、Μ,3,3•四辛基丨，3_二（乙基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、L四辛基_13二（丙基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、mi四辛基_丨，3二（丁基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、丨，^，、四辛基U二（戊基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、.m3四辛基_丨，3_二（己基 φ 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基雙（二甲 基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四辛基_丨,3二（甲 基乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四辛基_1，3_ 二（曱基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、M，3,3•四辛基_ ι，3-二（甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四 辛基-1，3-二（曱基戊基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基-1，3-雙（二乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-1,3-二（乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）、1，1，3,3-四辛基·ι，3-二（乙基丁基苯氧基）二錫氧 134987.doc •123· 201008953 烧（各異構物）、1，1，3,3_四辛基_丨，3_二（二丙基苯氧基）二錫 氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-二（三甲基苯氧基）二 錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基-i，3-雙（二甲基乙基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3_四辛基_丨，3_雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、M，3,3_四辛基^弘雙 (二甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、i，13,3_四辛基_ 1，3-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基二（乙基二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四辛基-1,3-二（三乙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）等1，1，3,3-四烷基-1，3-二芳氧基二錫氧烷。 已知’有機錫化合物一般容易形成締合結構，例如存在 二院基錫二烷氧化物形成二聚物結構而存在，或四烷基二 烧氧基二錫氧烷形成由2分子或3分子締合而成之梯狀結構 而存在的情況。即使該締合狀態發生變化，從業者一般亦 以單體結構來表示化合物。 圖3係表示用以說明將上文中所說明之步驟（A卜步驟 及步驟（Z)組合而成的碳酸酯之製造方法之流程圖。 進而，作為上述圖3中所示之碳酸酯之新造方法之其他 方法，對下述方法進行說明：藉由包含下述步驟（丨)〜步驟 (III)之方法來製造_一烧基錫化合物及/或四烧基二踢氧烧化 合物’使用該二烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合 物來進行步驟（Z)。 步驟（I):使下述通式（50)所表示之二烷基錫二烷氧化物 與二氧化碳進行反應’獲得包含碳酸酯、及下述通式（51) 134987.doc •124· 201008953 表之四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧 基一錫氣烷與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； [化 43] R1 〜sA、 I -OR2 (式中： (50) Rl分别镯 r2分别镯 [化 44] 立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜丨2之烷基 立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為2〜8之烷基） OR2 R1 ~~-sL I R1 | —〇-Sn一R1 R1 (式中： | OR2 (51) R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之破數為丨〜丨2之烷基； 參 R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為2〜8之烷基）。 步驟（Π):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，獲得包 含四炫*基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基二錫 氧烧與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟（III):使該步驟（II)之殘留液、與通式H〇X(pKa為0 以上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式 XOX(OX基係OX之共扼酸即HOX係pKa為0以上、6.8以下 之布忍斯特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，製造具有 134987.doc •125· 201008953 源自該酸及/或該酸酐之基團（OX基）的下述式（52)所表示 二烷氧基錫化合物及/或下述式（53)所表示之四烷基二 烧化合物之步驟。 [化 45]
OX
R1 -si-OX R1 (52) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； 〇表示氧原子； OX表示OX之共軛酸即HOX係pKa為〇以上、6 8以下之布 忍斯特酸的OX基）。 [化 46] 〇x R1 R1 -Sn-〇-Jn一R1
L I R οχ (53) (式中： R为別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為〗〜ΐ2之烷基； 〇表示氧原子； 〇x表示οχ之共軛酸即Η〇χ係pKa為〇以上、6 8以下之布 忍斯特酸的OX基）。 首先，對以上所示之化合物進行說明。 作為上述式（50)中之R1的例子，可列舉：甲基乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 134987.doc 201008953 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十三絲（各異構物）等構成該 基團之炭原子數為選自1〜12之整數中之數字的脂肪族烴基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數子的直鏈狀或支鏈狀之烧基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示之範圍以外之燒基之二垸基錫化 合物’但存在流動性變差，&有損生產性的情況。考慮到 在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。
作為上述式（5〇)中之R2的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 (各異構物)、庚基(各異構物)、辛基(各異構物^壬基(各 異構物）、癸基（各異構物）、十二烧基（各異構物）等構成該 基團之碳原子數為選自1〜12之整數中之數字的脂肪族烴基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自2〜8之整 數中之數字的直鏈狀或支鏈狀之烧基。因此，作為上述式 ⑽中之W基’較好的是甲氧基、乙氧基、丙氧基(各異 構物）、丁氧基（各異構物）、戊氧基（各異構物）、己氧基（各 異構物）、庚氧基（各異構物）、辛氧基（各異構物）、壬氧基 (各異構物）、癸氧基（各異構物）、十二烧氧基（各異構物）等 烧氧基，更好的是乙氧基、丙氧基（各異構物）、了氧基（各 異構物）、戊氧基（各異構物）、己氧基（各異構物）、庚土氧基 (各異構物）、辛氧基（各異構物）。 作為上述式（50)所表 ,1、〜 〜A…啊的具篮 例’可列舉·二甲基·二甲蓋某 T氧基錫、一甲基-二乙氧基錫 134987.doc -127- 201008953 二甲基-二丙氧基錫（各異構物）、二甲基_二了氧基錫（各異 構物）、一曱基-二戊氧基錫（各異構物）、二曱基_二己氧基 錫（各異構物）、二甲基-二庚氧基錫（各異構物）、二甲基-二 辛氧基錫（各異構物）、二丁基·二曱氧基錫（各異構物）、二 丁基·二乙氧基錫(各異構物)、二丁基·二丙氧基錫(各異構 物)、二丁基-二丁氧基錫(各異構物)、二丁基二戊氧基錫 (各異構物）、二丁基-二己氧基錫（各異構物）、二丁基-二庚 氧基錫（各異構物）、二丁基-二辛氧基錫（各異構物）、二辛 基-二曱氧基錫、二辛基_二乙氧基錫、二辛基二丙氧基錫 t各異構物）、二辛基-二丁氧基錫（各異構物）、二辛基-二戊 乳基錫（各異構物）、二辛基_二己氧基錫（各異構物广二辛 A庚氧基錫（各異構物）、二辛基_二辛氧基錫（各異構物） 等。 作為上述式（5丨）中之Ri的例子，可列舉：甲基乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戍基（各異構物）、己基 (各異構物）庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十二烧基（各異構物）等構成該 基團之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數中之數字的直鍵狀或支鏈狀之烧基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示範圍以外之烷基之四烷基二錫氧 院化合物’但存在流動性變差，或有損生產性的情況。考 慮到在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基正辛基。 關於上述式（51)中之〇χ3及〇χ4，若其共軛酸即Η〇χ3及 134987.doc 201008953 臓4為布㈣特酸且該共輛酸之PKa為0以上、68以下， 則並無特別限制，較好的是選自由酿氧基、芳氧基所组成 之群中的至少-種取代基，且其共輛酸之此為〇以上、 6.8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自〇〜12 之整數中之數字的基。作為該基的具體例，可列舉：乙酿 氧基、丙酿氧基、丁酿氧基、戍酿氧基、月桂酿氧基等由 直鏈狀或支鏈狀之飽和燒基、幾基及氧原子所構成之酿氧 基，苯氧基、甲基苯氧基（各異構物）、乙基苯氧基（各異構 物丙基苯氧基(各異構物)、丁基苯氧基(各異構物)、戊 基苯氧基(各異構物)、己基苯氧基(各異構物)、二甲基笨 氧基（各異構物）、曱基乙基苯氧基（各異構物）、甲基^基 苯氧基(各異構物)、甲基丁基苯氧基(各異構物)、？基^ 基^基(各異構物)、二乙基苯氧基(各異構物)、乙基丙 基苯氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異構物）、二丙 基苯氧基（各異構物）、三甲基苯氧基（各異構物卜二甲基 乙基苯氧基(各異構物）、二曱基丙基苯氧基(各異構物卜 二甲基丁基苯氧基（各異構物）、甲基乙基丙基苯氧基、甲 基二甲基苯氧基、三乙基苯氧基（各異構物）等芳氧基等。 作為上述式（51)所表示之化合物的具體例，可列舉： 1，1，3,3-四甲基-a二乙醯氧基二錫氧烷、四甲基· 1,3_二丙醢氧基二錫氧烷(各異構物）、1，1，3,3-四甲基]，3· 二丁醯氧基二錫氧烷（各異構物）、u，3,3_四甲基·1，3_二戊 酿氧基二錫氧燒（各異構物）、四甲基_1>3_二月桂酿 氧基二錫氧貌（各異構物）、1，1’3,3-四了基_;ι，3_二乙酿氧基 134987.doc •129- 201008953 錫氧燒（各異構物）、Μ,3,3.四丁基十3_二丙酿氧基二錫 氧烷(各異構物)、Μ，3,3·四丁基-Μ-二丁醯氧基二錫氧烷 (各異構物)、…义四丁基]，3_二戊酿氧基二錫氧烷(： 異構物)、1，1，3’3-四丁基-l，3-二月桂醯氧基二錫氧烷(各異 構物）、1，1，3,3-四辛基-以-二乙醯氧基二錫 ❿ 物卜一辛一丙酿氧基二錫氧燒(各= 物）、1，1，3,3-四辛基-U3-二丁醯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，I，3,3-四辛基^3-二戊醯氧基二錫氧垸（各異構 物）、1，1，3,3-四辛基-!,3_二月_氧基二錫氧炫（各異構 物）等1，1，3,3-四烷基_1，3-二醯氧基二錫氧烷；四甲 基-1，3-二苯氧基二錫氧烷、113 3四甲基、ΐ 3·二（甲基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、M，3,3四甲基_丨，3•二（乙基笨 氧基)二錫氧烷(各異構物）、U 3,3四甲基]，％二⑺基笨 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基二（丁基笨 氧基）二錫氧烷（各異構物）、U，3,3-四甲基二（戊基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、mi四甲基_〗，3二（己基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基-雙（二子基 苯氧基）二錫氧炫（各異構物）、1，1，3,3-四甲基'3.二（甲i 乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、u，3,3•四甲基-^-二 (甲基丙基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、m)·四甲基— 1’3-二(甲基丁基苯氧基)二錫氧烷(各異構物）、以从四 甲土 1，3 一（甲基戊基笨氧基)二錫氧烷(各異構物）、 1，1，3,3·四甲基-i’3·雙(二乙基苯氧基)二錫氧烷(各異構 物）1’1’3’3 ra甲基_ι’3-二（乙基丙基笨氧基）二錫氧烧（各 134987.doc -130. 201008953 物） 物） 物） 物） 物） 異構物）、1，1，3,3-四甲基-u-二（乙基丁基苯氧基）二錫氡 烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基-u-二（二丙基苯氧基）二錫 氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基二（三曱基苯氧基）二 錫氧烧（各異構物）、1，1，3,3-四甲基- i，3-雙（二甲基乙基笨 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四甲基“，弘雙丨二曱基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、m3四甲基_i，3•雙 (二甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、113,3_四曱基· 1，3-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1’1，3,3-四曱基-1，3_二（乙基二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四甲基二（三乙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）、1，1，3,3-四丁基二苯氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基_1，3_二（甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四了基二（乙基苯氧基）二錫氧燒（各異構 1，1，3,3-四丁基4,3-二（丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 1，1，3,3-四丁基-丨口-二（丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構 1，1’3’3-四丁基-丨，^二（戊基苯氧基）二錫氧烷（各異構 1，1，3,3-四丁基二（己基苯氧基）二錫氧烷（各異構 1，1，3,3·四丁基_;ι，3_雙（二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、四丁基+3-二（甲基乙基苯氧基）二錫氧燒 (各異構物）、l5l，3,3-四丁基二（甲基丙基苯氧基）二錫 氧烷(各異構物)、“1，3,3·四丁基-1，3-二(甲基丁基苯氧基) 二錫氧燒（各異構物）、u，3,3_四丁m二（甲基戊基笨 氧基）二錫氧烷（各異構物）、μ，3,3·四丁基],3_雙（二乙基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1山3,3·四丁基二（乙^ 134987.doc -131 - 201008953 丙基苯氧基）二錫氧炫（各異構物）、U，3,3-四丁基十3_二 (乙基丁基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、丨，…四丁基 以二丙基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、U，3,3_四丁 基-1,3-一(二甲基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、Μ) 3·四 丁基*雙(二甲基乙基苯氧基)二錫氧燒(各異構物）、 ❹ ’ ’3’3四丁基_1>3_雙(二甲基丙基苯氧基)二錫氧烷(各異 構物）、U，3,3^ 丁基]，3·雙（二甲基丁基苯氧基）二錫氧 院（各異構物四丁基]，3_二（甲基乙基丙基苯氧 基）二錫氧院（各異構物）、u，33_四丁基^-二（乙基二甲 基苯氧基）二錫氧烧（各異構物）、i山3,3_四丁m(三 乙基苯氧基)二錫氧烷(各異構物）、…，弘四辛基 1’1，3,3-四辛基_1>3_二（乙基 1，1’3,3-四辛基-I%二（丙基 1’1,3,3_四辛基_1，3_二（丁基 U，3,3-四辛基_i，3·二（戊基 1，1，3,3-四辛基-丨，3_二（己基 1’1,3,3 -四辛基-1,3 -雙（二甲 苯氧基二錫氧烷(各異構物)、u，3,3_四辛基“,3二(甲： 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 土 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 笨氧基）二錫氧烷（各異構物） Θ 苯氧基）二錫氧烧（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1^3-四辛基 基乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、U3,3_四辛基_丨，3· 二（甲基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、113 3四辛基_ 1，3_二（甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、，弘四 辛基-1，3· 一（曱基戊基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基^3-雙（二乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 134987.doc •132· 201008953 物）、1，1，3,3-四辛基-1，3_二（乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）、1’1，3,3-四辛基_丨，3_二（乙基丁基苯氧基）二錫氧 烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基-u-二（二丙基苯氧基）二錫 氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基二（三甲基苯氧基）二 錫氧烷（各異構物）、四辛基_153_雙（二甲基乙基笨 氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四辛基-1，3-雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四辛基•雙 (二曱基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四辛基_ —（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基二（乙基二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 ㈣卜1’1’3’3_四辛基+3·二（三乙基苯氧基）二錫氧烧（各 異構物）等1，1，3,3-四燒基-仏二芳氧基二錫氧烷。 已知，有機錫化合物一般容易形成締合結構，例如存在 二烷基錫二烷氧化物形成二聚物結構而存在，或四烷基二 燒氧基-踢氧烧形成由2分子或3分子締合而成之梯狀結構 而存在的情況。即使該締合狀態發生變化，從業者一般亦 以單體結構來表示化合物。 關於上述式（52)所表示之二烷基錫化合物及上述式（53) 所表示之四燒基二錫氧燒化合物，在下文中進行說明。 其次，對各步驟進行說明。 :驟⑴係下述步驟：使上述式(5〇)所表示之二烷基錫二 院乳化物與二氧化碳進行反應，獲得包含碳酸酯、及上述 」)表示之四燒基二燒氧基二錫氧院及/或四烧基二烧 氧基二錫氧燒與二氧化碳之結合體的反應液。 134987.doc -133- 201008953 該步驟（I)與上述步驟（a)類似’可藉由相同之方法來實 施。 步驟（I)中所使用之二烷基錫二烷氧化物可藉由上述中所 說明之方法來製造，本步驟中所使用之二烷基錫二烷氧化 物，亦可適當使用由二烷基氧化錫與醇之反應所製造之二 烷基錫二烷氧化物。將其製造方法示於如下。 作為醇，可較好地使用曱醇、乙醇、丙醇（各異構物卜 丁醇（各異構物）、&醇（各異構物）、〔醇（各異構物）、庚醇 (各異構物）、辛醇（各異構物）、壬醇（各異構物）、癸醇（各 異構物）等構成該醇之碳原子數為選自1〜12之整數中之數 子的醇。更好的是乙醇、丙醇(各異構物）、丁醇(各異構 物）、戊醇（各異構物）、己醇（各異構物）、庚醇（各異構 物）辛醇（各異構物）等構成該醇之碳原子數為選自2〜8之 整數中之數字的醇。 二烷基錫二烷氧化物之製造中所使用之二垸基氧化錫， 可使用下述式(54)所表示之二烷基氧化錫。 [化 47] (54) (式中： 2別獨立表不直鏈狀或分支狀之碳數為W之统基）。 丙各上異Γ(54)中之R,的例子，可列舉：甲 物）、丁基（各異構物）、戍基（各異構物）、己基 I34987.doc 201008953 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十一烷基（各異構物）、十二烷 基（各異構物）等碳數為卜12之脂肪族烴基之烷基。更好的 疋碳數為1〜8之直鏈狀或支鏈狀之飽和烷基，更好的是正 丁基、正辛基。 使醇與二烷基氧化錫進行脫水反應，一面將所生成之水 排出至反應體系外，一面獲得四烷基二烷氧基二錫氧烷及/ 或二烷基錫二烷氧化物。實施該反應之溫度例如為 ⑩ 80〜180 C之範圍，為了將所生成之水蒸德排出至反應體系 外，雖然亦取決於反應壓力，但實施該反應之溫度較好的 疋100 C〜180°c，為了提高反應速度，較好的是反應溫度 為高溫，但另一方面，亦存在於高溫下亦引起分解等不良 反應的情況，而導致產率降低，因此更好的是 100°C〜160°c之範圍。反應壓力係可將所生成之水排出至 反應體系外之壓力，雖亦取決於反應溫度，但宜在 ❿ 20〜lxl〇6Pa下進行反應。脫水反應之反應時間並無特別限 制，通常為0.001〜50小時，較好的是〇〇1〜1〇小時，更好的 是〇·1〜2小時。若可獲得含有所需量之二烷基錫二烷氧化 物之組合物，則亦結束反應。反應之進行，可藉由測定排 出至系統外之水量而得知，亦可藉由對反應液進行抽樣並 進行119Sn-NMR之方法而得知。 含有二烷基錫二烷氧化物之組合物主要含有二烷基錫二 烷氧化物與四烷基二烷氧基二錫氧烷’在確認獲得該組合 物所含有之四烷基二烷氧基二錫氧烷與二烷基錫二烷氧化 134987.doc -135. 201008953 物之莫耳比率’以將兩者合併之莫耳。/。表示，在〇: 100〜80 : 20之範圍内的組合物，更好的是10 : 9〇〜7〇 : 3〇 之範圍之組合物後’結束反應。所使用之醇可直接在共存 之狀態下使用，亦可視情況將醇蒸餾去除後再使用。由於 具有可減小其他步驟之反應器之優點，因此較好的是儘可 能地去除醇。去除方法較好的是公知之蒸餾去除，又，蒸 顧中所使用之蒸餾器可使用公知之蒸餾設備。作為較好之 蒸餾裝置’由於可以短時間加以去除，因此可較好地使用 薄膜蒸餾裝置。脫水反應之反應器之形式並無特別限制， 可使用公知之槽狀、塔狀之反應器。含水之低沸點反應混 合物可藉由蒸館而以氣體狀自反應器排出，並將包含所製 造之二烷基錫二烷氧化物之高沸點反應混合物自反應器下 部以液狀排出。作為該反應器，例如可使用：使用包含攪 拌槽、多級攪拌槽、蒸館塔、多級蒸餾塔、多管式反應 器、連續多級蒸餾塔、填充塔、薄膜蒸發器、内部具備支 持體之反應器、強制循環反應器、落膜蒸發器、滴落蒸發 器、細流相反應器、泡罩塔之任意者的反應器之方式，及 將該等組合之方式等公知之各種方法。就可有效地使平衡 移動至生成系侧方面而言，較好的是使用塔狀之反應器之 方法，又，較好的是使所形成之水迅速移動至氣相之氣_ 液接觸面積較大之結構。亦可利用使用有多管式反應器' 多級蒸餾塔、填充有填充劑之填充塔之連續法，但由於本 步驟中所使用之二烷基氧化錫通常為固體狀，因此最好的 疋首先在槽狀反應器中實施反應，繼而在塔型反應器中提 134987.doc -136- 201008953 高二烧基錫二烧氧化物之含1的方法。反應器及管線之材 質若不會造成不良影響’則亦可為公知之任何反應器及管 線’ SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價，可較好地 使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀器，再沸 器、泵、冷凝器等公知之加工裝置，加熱亦可利用蒸汽、 加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷卻水、鹽 水等公知方法。 在步驟（I)中，使二烷基錫二烷氧化物吸收氣體狀二氧化 ® 碳，使其進行化學反應，獲得包含二烷基錫二烷氧化物與 二氧化碳之結合體的混合物。 進行該化學反應時，可將該二烷基錫二烷氧化物製成液 狀’或利用溶媒等製成液狀後進行反應。為了製成液狀， 較好的疋使用藉由加熱而製成液狀之方法，又，亦可利用 溶媒等而製成液狀。反應壓力雖取決於反應溫度，但較好 的是常壓〜1 MPa之範圍，更好的是常壓〜〇.6 MPa之範圍。 該反應溫度雖亦取決於反應壓力，但較好的是_40°C ~8(TC 之範圍’若考慮到輸送時之流動性，更好的是〇〇C〜8〇乞， 最好的範圍是常溫（例如2〇。〇)〜80°C。關於反應時間，可 在數秒〜100小時之範圍内實施，若考慮到生產性等，較好 的是數分鐘〜10小時。反應器可使用公知之槽型反應器、 塔型反應器。又，亦可將複數個反應器組合使用。反應係 二氧化碳氣體（氣體）與含有二烷基錫二烷氧化物之組合物 (液體）之反應，因此為了有效地進行反應，較好的是增大 氣液界面，而增大氣體與液體之接觸面積。增大該氣液界 134987.doc •137- 201008953 面而進行反應之方法，可囍ώ八 藉由公知之知識見解，例如採用 槽型反應器時，較好的是据离撙 j疋捉间攪拌速度、或在液體中產生 氣泡之方法；採用塔型反應器時，較好的是利用填充塔、 或利用層板塔之方法。作為料型反應㈣例子例如可 利用：使时料塔板、多孔板塔板、浮料板、逆流塔 板等塔板之層板塔方式者，或填充有拉西環、勒辛環、鮑 爾環、貝爾鞍形填料、矩鞍環填料、狄克松填料、網鞍填 料、螺旋填料、Sulzer填料、孔板波紋填料等各種填充物 之填充塔方式者等。反應器及管線之材質若不會造成不良 影響，則亦可為公知之任何反應器及管線，sus3〇4或 SUS316、SUS316L等較為廉價，可較好地使用。視需要亦 可附加流量計、溫度計等測量❹，再沸器、纟、冷凝器 等公知之加工裝置，加熱亦可利用蒸汽、加熱器等公知方 法冷卻亦可使用自然冷卻、冷卻水、鹽水等公知方法。 由於反應通常為發熱反應，因此可進行冷卻，或亦可藉由 反應器之散熱來進行冷卻。或者，若為了使碳酸酯化反應 同時進行，亦可進行加熱。反應器之冷卻、加熱可使用利 用套管之方法、利用内部線圈之方法等公知方法。可將供 給至反應器之二氧化碳氣體與含有二烷基錫二烷氧化物之 組合物分別供給至反應器’亦可在供給至反應器之前加以 混合。亦可自反應器之複數個部位進行供給。反應之結 束’例如可藉由119Sn-NMR分析來決定。 其次’利用上述所獲得之二烷基錫二烷氧化物與二氧化 碳之結合體’藉由以下方法，獲得包含碳酸酯之反應液。 134987.doc •138· 201008953 反應條件為110°C ~20〇°C之誌Λ L之耗圍，為了提高反應速度， 較好的是反應溫度為高溫，但另—方面，亦存在於高溫下 亦引起分解等不良反應的情況，而導致產率降低，因此較 好的是㈣^贼之範圍^小時〜叫時之範^反 應壓力為1.5 MPa〜20 MPa，較好的是2 〇 Μρ&〜ι〇 Mpa之範 圍。若在反應器中生成所需之碳酸醋，則亦可結束反應。 反應之進行可藉由如下之方法來確認：對反應器内之反應 液進行抽樣，利用iH-NMR或氣相層析法等方法，對生成 瘳 Μ㈣進行分析等。例如，相對於二烧基錫二烧氧化物 化合物及/或二烷基錫二烷氧化物與二氧化碳之結合體之 莫耳數，若生成10%以上則可結束反應，欲增加碳酸酯之 產量時，可繼續反應直至該值達到90%以上後再結束反 應。反應器可使用公知之反應器，可較好地併用塔型反應 器、槽型反應器。反應器及管線之材質若不會造成不良影 響，則亦可為公知之任何反應器及管線，SUS304或 ❹ 8聰16、SUS316L等較為廉價，可較好地使用。視需要亦 可附加流量計、溫度計等測量儀器，再沸器、泵、冷凝器 等公知之加工裝置，加熱亦可利用蒸汽、加熱器等公知方 法，冷卻亦可使用自然冷卻、冷卻水、鹽水等公知方法。 對下一步驟（Π)進行說明。本步驟（11)係與上文中所說明 之步驟（b)類似之步驟，可藉由相同之方法來實施。 步驟（II)係下述步驟：自步驟⑴中所獲得之包含碳酸酯 之反應液中分離碳酸酯，獲得包含四烧基二烧氧基二錫氧 烧及/或四烧基二院氧基二錫氧炫與二氧化碳之結合體的 134987.doc -139- 201008953 殘留液。分離方法可適當使用公知之方法或裝置。較好的 方法是藉由蒸館之方法。 對自步驟（a)所轉移之反應液分批或半分批、或連續地蒸 餾，而獲得碳酸酯與殘留液。較好的蒸餾方法係下述方 法：將該反應液供給至蒸餾器，將碳酸酯作為氣相成分而 自蒸餾器上部分離至系統外，並將殘留液作為液狀成分而 ，- 自蒸餾器底部排出。本步驟之溫度雖取決於該碳酸醋^弗 . 點或壓力，但可為常溫（例如2〇°c )〜2〇〇°c之範圍，由於在 高溫下存在殘留液中之錫化合物發生改質之情形、或碳酸❿ 酯因逆反應而減少之情形，因此較好的是常溫（例如 20 C )〜150 C之範圍。壓力雖亦取決於碳酸酯之種類或 實施溫度，通常在常壓〜減壓條件下進行，若考慮到生產 性，更好的是100 Pa〜80 KPa之範圍，最好的範圍是1〇〇 Pa〜50 KPa。關於時間，可在〇_〇1小時〜1〇小時之範圍内實 施，若在高溫下長時間實施，亦存在該反應液所包含之錫 化〇物發生改質之情形、或碳酸酯因逆反應而減少之情 形，因此較好的是0.01小時〜0.5小時之範圍，最好的是鬱 0.01小時〜0.3小時之範圍。蒸餾器可使用公知之蒸餾器， 亦可較好地使用塔型蒸餾器、槽型蒸餾器，亦可將複數種 . 組合使用。更好的蒸餾器係薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器，最 . 好的是具備蒸餾塔之薄膜蒸發器、薄膜蒸餾器。蒸餾器及 管線之材質若不會造成不良影響，則亦可為公知之任何反 應器及管線’ SUS304或SUS316、SUS316L等較為廉價， 可較好地使用。視需要亦可附加流量計、溫度計等測量儀 134987.doc .140· 201008953 用基，弗@纟、冷凝器等公知之加工裝置’加熱亦可利 μ'加熱器等公知方法，冷卻亦可使用自然冷卻、a 卻水、鹽水等公知方法。 v 下-步驟（III)係與上述所示之步驟（c)類似之步驟， 施相同之方法。
該步驟（III)中，作為通式Η〇χ所表示之酸，可較好地使 用+有機酸作為該酸。作為有機酸，可例示：㈣、續酸、 苯酚等，較好的是使用羧酸。作為羧酸，例如可列舉：甲 酸、乙酸、丙酸、正丁酸、異丁酸、纽、異戊酸、2_甲 基丁酸、三甲基乙酸、己酸、異己酸、2_乙基丁酸、2,2_ 二曱基丁酸、庚酸（各異構物）、辛酸（各異構物）、壬酸（各 異構物）、癸酸（各異構物）、十一烷酸（各異構物）、十二烷 酸（各異構物）、十四烷酸（各異構物）、十六烷酸（各異構 物）、丙烯酸、丁烯酸、異丁烯酸、乙烯基乙酸、曱基丙 烯酸、當歸酸、順芷酸、烯丙基乙酸、十—烯酸（各異構 物）等飽和或不飽和脂肪族單羧酸化合物；乙二酸、丙二 酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸（各異構物）、辛二 酸（各異構物）、壬二酸（各異構物）、癸二酸（各異構物）、順 丁烯二酸、反丁烯二酸、甲基順丁烯二酸、曱基反丁烯二 酸、戊烯二酸（各異構物）、亞曱基丁二酸、烯丙基丙二酸 等飽和或不飽和脂肪族二羧酸；1，2,3-丙烷三甲酸、〖,2,3-丙烯三甲酸、2,3-二曱基丁烷-1,2,3-三曱酸等飽和或不飽 和脂肪族三羧酸化合物；苯甲酸、甲基笨甲酸（各異構 物）、乙基苯甲酸（各異構物）、丙基苯甲酸（各異構物）、二 134987.d〇c -141· 201008953 甲基苯甲酸（各異構物）、三甲基苯曱酸（各異構物）等芳香 族單羧酸化合物；鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲 酸、甲基間苯二甲酸（各異構物）等芳香族二羧酸化合物； i’2,3苯一甲酸、丨，2,4_苯三甲酸、丨，3,5·苯三甲酸等芳香 族三羧酸化合物等。該等羧酸中，較好的是使用飽和單羧 酸更好的是使用標準沸點為300。(：以下之飽和單羧酸， 更好的是使用標準沸點為25〇t以下之飽和單羧酸。標準 沸點如化學大辭典（共立出版股份有限公司、2003年10月1 日發行）中之記載所示，係指在丨個氣壓下之彿點。具體而 言，可較好地使用乙酸、丙酸、正丁酸、異丁酸、戊酸、 異戊酸、2_甲基丁酸、三曱基乙酸、己酸。 又
芡驟（m)中，作為通式χ〇χ所表示之酸酐，可歹 舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、異丁酸酐、戊酸酐、異/ 酸肝、丁二料、順m丙二酸酐、戊二酸肝考 脂肪族酐；苯甲酸軒、鄰苯二甲酸肝、均苯四甲酸酐等突 香族酸酐。該等中’較好的是使用標準沸點為贿以1 鲁
酸酐由於反應後，可容易地去除過剩之酸酐，因此J 好的是使用標準沸點為2_以下之酸軒。進而，就可笔 易地將生成之副產物羧酸酯等排出至反應體系外、在工含 上可容易地獲得方面而言，較好的是順丁缚二酸針、乙画 酐。 該等酸及酸酐可單獨制，亦可混合複數種進行使用， 使用酸時，例如使四m氧基二錫氧燒化合物與酸進 打反應時，生成水之情形較多了去除該水，亦可進行 134987.doc •142- 201008953 蒸餾分離或膜分離，或使用脫水劑。又，作為脫水劑，較 好的是組合使用酸酐者。進而，僅使用酸酐時，例如四烷 基二烷氧基二錫氧烷化合物與乙酸酐之反應中不生成水之 情形較多，因此較好的是僅使用酸酐之方法。 考慮到步驟（III)中之反應速度或最終二烷基錫化合物之 產率，酸及/或酸酐之使用量，相對於步驟（π)甲所獲得之 殘留物中所含有之錫原子’以化學計量比表示，較好的是 使用0.1〜50倍之範圍，若考慮到反應器之大小、或反應速 ® 度，更好的是使用〇.5〜20倍之範圍。酸及/或酸酐之使用量 以化學計量比表示而少於〇.i時，存在難以進行反應之情 形，相反，以化學計量比表示即使使用大於50倍時，亦不 會對該步驟中之反應速度或最終二烷基錫化合物之產率產 生影響之情形較多。 步驟（III)之反應較好的是在_2(rc以上、3〇〇t以下之反 應溫度下實施，更好的是在_1(rc以上、250t以下之反應 參 溫度下實施，為了提高反應速度，較好的是反應溫度為高 溫，但另一方面，亦存在於高溫下會引起分解等不良反應 之情形，而導致產率降低，因此更好的是在0£>c以上、 23〇^C以下之反應溫度下實施。又’步驟（ΙΠ)之反應較好 的是在氬氣、氖氣、氮氣等惰性氣體之環境下進行。 步驟（III)中無需使用溶媒，但為了提高流動性、或使反 應操作變得容易、或在反應中生成水時將該水有效地排出 至反應體系外’亦可使用溶媒。作為該溶媒，例如可列 舉：碳數為5〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴；包含碳數 134987.doc •143· 201008953 為4〜16之直鏈狀、分支狀、環狀之烴之醚類；碳數為丨〜^ 之直鏈狀、分支狀、環狀之鹵代烴類等。具體而言，可使 用選自戊烷（各異構物）、己烷（各異構物）、庚烷（各異構 物）、辛院（各異構物）、壬烷（各異構物）、癸烷（各異構 物）、十六烧（各異構物）、環己烷、環庚烷、環辛烷、苯、 甲苯、一甲苯（各異構物）、乙基苯等中的鍵狀、環狀之 烴；選自乙醚、丙醚（各異構物）、丁醚（各異構物）、己醚 (各異構物）、辛^|(各異構物）、苯謎等中的_類·，選自二 氣甲烷、氣仿、四氣化碳、氣苯、四氯乙烷、二氣苯（異❹ 構物）等中的鹵代烴類。該等溶媒可單獨使用，亦可以兩 種以上之混合物之形式使用。 該步驟（III)所製造之烷基錫化合物係選自下述式（52)所 表示之二烷基錫化合物、下述式（53)所表示之四烷基二錫 氧烧化合物之群中的至少一種烷基錫化合物。 [化 48] ox1.
(52)
I (式中 R1 ——Sn ——〇X2b R1 R分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； 0表示氧原子； 0X及0x2係OX1及OX2之共軛酸即HOX1及HOX2係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的οχι及〇χ2 ; a及b分別為〇〜2之整數，a+b=2) [化 49] 134987.doc -144- (53) 201008953 〇x3 R1 , I ι R -Sn-O--Sn—R1 R1 OX4 (式中： R刀別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； 〇表示氧原子； ❼ OX及OX係οχ3及〇χ4之共輕酸即恥又3及Η〇χ4係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的οχ3及of)。 作為上述式（52)中之R1的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）、十二烷基（各異構物）等構成該 基團之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 之烷基較好的是構成該基團之碳原子數為選自i〜8之整 φ 之數子的直鍵狀或支鏈狀之烷基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示之範圍以外之烷基之二烷基錫化 合物，但存在流動性變差，或有損生產性之情形。考慮到 在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 關广上述式（52)中之0χΙ及0χ2，若其共輛酸即HOX1及 Η〇Χ為布忍斯特酸，且該共輛酸之pKa為0以上、6.8以 下，則並無特別限制，較好的是選自由醯氧基、芳氧基所 成之群中的至少一種取代基，且其共軛酸之pKa為〇以 6_8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自 134987.doc •145· 201008953 〇〜12之整數中之數字的基團。作為該基的具體例，可列 舉：乙醯氧基、丙醢氧基、丁酿氧基、戊酿氧基、月㈣ 氧基等由直鍵狀或支鏈狀之飽和燒基、幾基及氧原子所構 成之醯氧基；苯氧基、甲基苯氧基（各異構物）、乙基笨氧 基（各異構物）、丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異 構物)、戊基笨氧基(各異構物)、己基苯氧基(各異構物)、 二甲基苯氧基(各異構物)、甲基乙基苯氧基(各異構物）、 甲基丙基苯氧基（各異構物）、甲基丁基苯氧基（各異構 物）、甲基戊基苯氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構 物）、乙基丙基苯氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異 2物、)：二丙基苯氧基(各異構物)、三甲基苯氧基(各異構 、一甲基乙基苯氧基(各異構物)'二甲基丙基苯氧基 (各異構物)、二甲基丁基苯氧基(各異構物)、甲基乙基丙 基本氧基、甲基二甲基苯氧= 等芳氧基等。 -乙基本氧基(各異構物) ❿ :為上述式（52)所表示之二燒基錫化合物的具體例，可 '二甲基_二丙酿氧基錫（各異 =二 醮氧基錫(各異構物)、二甲基-二戊酿 一丁I —月桂醯氧基錫（各異構物）、 Γ各^物二)乙酿1錫（各異構物）、二丁基-二丙酿氧基錫 (各異構物)、二丁基-二丁醯氧基 戊酿氧基錫（各異構…、二 構物）—丁基-一 物）、-在1 —月桂酿氧基錫（各異構 ==乙酿氧基錫(各異構物)、二辛基-二丙醯氧 踢（各異構物）、二辛基·二丁酿氧基锡（各異構物）、二辛 134987.doc -146- 201008953 ❹ 基-戊醯氧基錫（各異構物）、二辛基_二月桂醯氧基錫（各異 構物）等二烷基-二醯氧基錫；二甲基_二苯氧基錫、二甲 基-二（甲基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（乙基苯氧基） 錫（各異構物）、二甲基-二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二 甲基-一（丁基苯氧基）錫（各異構物二二 賴各異構物）'二甲基-二（己基笨氧基）錫（各(異戍構土^ 二甲基-雙（二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二曱基-二（甲基 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（甲基丙基苯氧基）錫 (各異構物）、二甲基二（甲基丁基笨氧基）錫（各異構物）、 二甲基-二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基-雙（二 乙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基_二（乙基丙基苯氧基）錫 (各異構物）、二甲基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、 二甲基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基二（三甲 基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基·雙（二甲基乙基苯氧基）錫 (各異構物）、二甲基·雙（二甲基丙基苯氧基⑷各異構 物）、二甲基-雙（二甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二甲 基-二（甲&乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二甲基二（乙 基二甲基苯氧基）錫（各異構物）' 二甲基·二（三乙基苯氧基） 錫（各異構物）匕丁基_二苯氧基錫（各異構物）、二丁基-二 (甲基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（乙基苯氧基）錫（各 異構物)、二丁基-二(丙基苯氧基)錫(各異構物）、二丁基_ 二（丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（戊基笨氧基）錫 (各異構物）、二丁基-二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-雙(二曱基苯氧基)錫(各異構物)、二丁基-二(甲基乙基 134987.doc -147- 201008953 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（曱基丙基苯氧基）錫（各 異構物）—丁基_二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基雙（二乙基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（乙基丙基苯氧基）錫（各 異構物）、一丁基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁 基-二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（三甲基苯 氧基）錫（各異構物）、二丁基_雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各 異構物）、二丁基-雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二 丁基-雙（二曱基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基-二（甲❿ 基乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二丁基·二（乙基二甲基 苯氧基）錫（各異構物）、二丁基_二（三乙基苯氧基）錫（各異 構物）、二辛基-二苯氧基錫（各異構物）、二辛基_二（甲基苯 氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（乙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基·二（丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基二（丁 基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（戊基笨氧基）錫（各異 構物）、二辛基-二（己基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-雙 (二甲基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（甲基乙基苯氧_ 基）錫（各異構物）、二辛基-二（甲基丙基苯氧基）錫（各異構 物）、二辛基·二（甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_ . 二（甲基戊基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_雙（二乙基苯氧 · 基）錫（各異構物）、二辛基-二（乙基丙基苯氧基）錫（各異構 · 物）、二辛基-二（乙基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_ 二（二丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基_二（三甲基苯氧 基）錫（各異構物）、二辛基-雙（二甲基乙基苯氧基）錫（各異 134987.doc •148· 201008953 構物）、—辛基-雙（二甲基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛 基又（一甲基丁基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-二（甲基 乙基丙基苯氧基）錫（各異構物）、二辛基-二（乙基二甲基苯 乳基）錫（各異構物）、二辛基-二（三乙基苯氧基）錫（各異構 物）等烷基-二芳氧基錫等。 作為上述式（53)中之R1的例子，可列舉：甲基、乙基、 丙基（各異構物）、丁基（各異構物）、戊基（各異構物）、己基 (各異構物）、庚基（各異構物）、辛基（各異構物）、壬基（各 異構物）、癸基（各異構物）' 十二垸基（各異構物）等構成該 基團之碳原子數為選自卜12之整數中之數字的脂肪族煙基 之烷基。較好的是構成該基團之碳原子數為選自1〜8之整 數中之數字的直鏈狀或支鏈狀之院基。亦可使用構成該基 團之碳原子數為以上所示範圍以外之燒基之四燒基二錫氧 烷化合物，但存在流動性變差，或有損生產性之情形❶考 慮到在工業生產時容易獲得，更好的是正丁基、正辛基。 參 關4於上述式（53)中之OX3及OX4，若其共軛酸即ΗΟΧ3及 Η〇χ4為布忍斯特酸，且該共輛酸之pKa為〇以上、68以 下，則並無特別限制，較好的是選自由醯氧基、芳氧基所 組成之群中的至少—種取代基’且其共輕酸之PKa為^以 上6.8以下者。更好的是構成該基團之碳原子數為選自 〇〜12之整數中之數字的基團。作為該基的具體例，可列 舉··乙酿氧基、丙醯氧基、丁酿氧基、戊酿氧基、月桂酿 氧基等由直鏈狀或支鏈狀之飽和燒基、幾基及氧原子所構 成之醯氧基；苯氧基、甲基苯氧基(各異構物)、乙基苯氧 134987.doc -149- 201008953 基（各異構物）、丙基苯氧基（各異構物）、丁基苯氧基（各異 構物）、戊基苯氧基（各異構物）、己基苯氧基（各異構物）、 二曱基苯氧基（各異構物）、甲基乙基苯氧基（各異構物）、 曱基丙基苯氧基（各異構物）、曱基丁基苯氧基（各異構 物）、曱基戊基苯氧基（各異構物）、二乙基苯氧基（各異構 物）、乙基丙基苯氧基（各異構物）、乙基丁基苯氧基（各異 構物）、二丙基苯氧基（各異構物）、三曱基苯氧基（各異構 物）、二甲基乙基苯氧基（各異構物）、二甲基丙基苯氧基 (各異構物）、二曱基丁基苯氧基（各異構物）、甲基乙基丙 基苯氧基、甲基二甲基苯氧基、三乙基苯氧基（各異構物） 等芳氧基等。 作為上述式（53)所表示之化合物的具體例，可列舉： 1，1，3,3-四甲基+3·二乙醯氧基二錫氧烷、四甲基_ 1,3_二丙醯氧基二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基 二丁酿氧基二錫氧燒（各異構物）、1，1，3,3_四甲基+3.二戊 醯氧基二錫氧烧（各#構物）、u,3,3.四f^，3二月桂酿 氧基二錫氧烷(各異構物)、】，M，3-四丁基“，二乙醯氧基 二錫氧烷(各異構物）、u，3,3_四丁基•二丙醯氧基二錫 氧院（各異構物）、四丁基]，3_二了酿氧基二錫氧院 (各異構物）、U，3,3-四丁基{3·二戊醯氧基二錫氧燒（各 異構物）1,1,3’3-四丁基-以-二月桂醯氧基二錫氧烷(各昱 構物卜1，1，3,3·四辛基]，3-二乙酿氧基二錫氧烧(各異構 物）l1，3’3·四辛基_1，3-二丙醯氧基二錫氧烷（各異構 物）^^四辛基-丨义二丁醯氧基二錫氧烷^各異構 134987.doc 201008953 物）、 物）、 1，1，3,3_四辛基-1，3-二戊醯氧基二錫氧烷（各異構 1，1，3,3-四辛基-1，3-二月桂醯氧基二錫氧烷（各異構 物）等1，1，3,3-四烷基-1，3-二醯氧基二錫氡烷；四甲 基-1，3-二苯氧基二錫氧烷、1，1，3,3-四曱基_13_二（曱基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四甲基-丨’夂二（乙某苯 氧基）二錫氧烧（各異構物）、1，1，3,3-四曱基丙基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四曱基“，、二^丁某苯
氧基）二錫氧烷（各異構物）、1，1，3,3-四曱基二（戊芙苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、四曱基_丨，3二（己基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、l5l，3,3_四甲基]，3•雙（二甲基 笨氧基）二錫氧烧（各異構物）、1,13,3-四甲基q 3二（曱基 乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、M，3,3_四甲基4,3-二 (甲基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1133•四曱基_ 1，3-二（曱基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、^二^四 甲基-1’3-二（甲基戊基笨氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四曱基-1，3-雙（二乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四曱基« ’一（乙基丙基本氧基）二錫氧烧（各 異構物）、^3,3-四甲基]，3_二（乙基丁基苯氧基）二锡氧 坑（各異構物）、1’1，3,3·四甲基·13·二（二丙基苯氧基）二錫 氧院（各異構物卜1，1，3,3·四甲基]，3·二（三甲基苯氧基）二 錫氧烧（各異構物）、U，3,3-四甲基-1,3-雙（二曱基乙基苯 氧基）二錫氧院（各異構物）、U，3,3-四甲基雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧炫（各異構物）、1，1，3,3-四曱基+3.雙 (-甲基丁基本氧基）二錫氧燒（各異構物）、mi四甲基_ 134987.doc -151 - 201008953 Μ-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1’1’3’3_四甲基_u·二（乙基二甲基苯氣基）二锡氧烧（各異 構物)、1，1，3,3-四甲基]，3_二(三乙基苯氧基)二錫氧烷(各 異構物）、1，1，3,3-四丁基-is·二笨氧基二錫氧烷（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基二（曱基笨氧基）二锡氧烧（各異構 )，，’3四丁基^1，3-二（乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構 )5 四丁基·1,3_一（丙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、U，3,3-四丁基汄^二（丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構 )，，，四丁基-1，3-一（戊基苯氧基）二錫氧烷（各異構 物）、1’1，3,3-四丁基·ΐ53_二（己基苯氧基）二錫氧烧（各異構 物）、1，1，3,3-四丁基ή(二甲基苯氧基）二錫氧烧（各異 構物)、U’3’3-四丁基_】，3_二(甲基乙基苯氧基)二錫氧烷 (各異構物）、ι，ΐ53,3·四丁基_13二（甲基丙基苯氧基）二錫 氧烷(各異構物）、u，3,3-四丁基-π二(甲基丁基苯氧基) 二錫氧烧(各異構物）、⑽四丁基基戍基苯 氧基）二錫氧烷（各異構物）、M，3,3_ra 丁基·丨，3-雙（二乙基 苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、u，3,3·四丁基_i，3二（乙= 丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四丁基I，％二 (乙基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、1^3四丁基_ 1，3-二（二丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、u，3,3•四丁 基-ι，3-—（二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、m3·四 丁基-1，3·雙（二甲基乙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四丁基-1，3-雙（二甲基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四丁基·ι，3_雙（二f基丁基苯氧基）二錫氧 -152· 134987.doc 201008953 炫（各異構物）、1，1，3,3·四丁其_丨 基)二錫氧烷(各異構物)、u，3,3:四基乙基丙基苯氧 基苯氧基）二錫氧烷（各異構物 ^ 乙基二甲 } m3-四丁基·1 3-二 f = 1，1，3,3-四辛基_13_二（甲基 1,1,3，3_四辛基-1，3-二（乙基 M’3,3-四辛基。，夂二（丙基 M’3,3-四辛基 _13_二（丁基 1，1，3,3-四辛基_13_二（戊基 ，1，3,3-四辛基_ι，3_二（己基 =氧基)二錫氧燒(各異構物)、u，3,3四辛 本氧基二錫氧烷（各異構物） 笨氧基）二錫氧燒（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 二基)二錫氧烷(各異構物）‘，……四卞丞十3 苯氧基）二錫氧烷（各異構物） 甘从匕 上’1，3,3·四辛基-1，3-雙（二甲 :本氧基）二錫氧燒（各異構物）、U，3,3-四辛基+3.二（甲 :乙基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、m3.四辛基_】，3_ -（甲基丙基苯氧基）二錫氧院（各異構物）、m3.四辛基_ 二3_二(甲基丁基苯氧基)二錫氧烷(各異構物)、U，3,3-四 基-1，3-二（甲基戊基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 ’’ ’3四辛基-1，3-雙（二乙基苯氧基）二錫氧烧（各異構 )，1，3,3四辛基(乙基丙基苯氧基）二踢氧燒（各 -構物）、1，1，3,3-四辛基(乙基丁基苯氧基）二錫氧 烧（各異構物）、mi四辛基―以-二（二丙基苯氧基）二錫 氧燒（各異構物）、i山3,3_四辛基(三甲基苯氧幻二 ，氧院（各異構物）、Μ，3,3·四辛基-1，3·雙（二甲基乙基苯 氧基）一錫氧烷（各異構物）、mi四辛基—13-雙（二甲基 丙基苯氧基）二錫氧燒（各異構物）、UA3·四辛基H雙 134987.doc -153- 201008953 (二甲基丁基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、四辛基_ 13-二（甲基乙基丙基苯氧基）二錫氧烷（各異構物）、 1，1，3,3-四辛基汔弘二（乙基二甲基苯氧基）二錫氧烷（各異 構物）、1，1，3,3-四辛基乙基苯氧基）二錫氧烷（各 異構物）等1，1，3,3·四烷基_;ι，3_二芳氧基二錫氧烷。 已知，有機錫化合物一般容易形成締合結構，例如存在 二烷基錫二烷氧化物形成二聚物結構而存在，或四烷基二 烷氧基一錫氧烷形成2分子或3分子締合而成之梯狀結構而 存在的情況。即使該締合狀態發生變化，從業者一般亦以 單體結構來表示化合物。 將實施上述步驟（I)〜步驟（111)而獲得之二烷基錫化合物 及/或四烧基二錫氧烧化合物用作步驟（Z)之二烷基錫化合 物及/或四炫基二錫氧烧化合物，藉此可製造二烧基錫二 院氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物， 且該二烧基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二 錫氧院化合物可較好地用作上述步驟⑴之二烷基錫二烷氧 化物。圖4係表示說明將上述步驟（1)〜步驟（ΠΙ)及步驟（z) 進行組合而成之碳酸酯之新造方法之流程圖。 本實施形態之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基 二炫氧基二錫氧烷化合物之製造方法（步驟（z))係下述一種 製造方法：藉由使二烷基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷 化合物、與酸及/或酸酐進行反應，而不使用固體之錫化 合物’可製造二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基二 烷氧基二錫氧烷化合物，因此比先前之方法更簡便。 134987.doc -154- 201008953 又，如上述所示’藉由在步驟（z)中組合各種步驟，可 將步驟（z)用作新的碳酸酯之製造步驟之一部分。該等新 的碳酸酯之製造方法包括將該碳酸酯之製造方法中所生成 之失去碳酸酯合成之觸媒活性之單烷基錫烷氧化物化合物 及三烷基錫烷氧化物化合物再生為二烷基錫二烷氧化物化 合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物的步驟，因此 可解決碳酸酯製造步驟中之成本及廢棄物之問題。因此， 本實施形態之製造方法在產業上非常重要。 ❿ 實施例 以下藉由實施例及比較例更加具體地說明本實施形態， 但本實施形態並不僅限於該等實施例。 再者’本實施形態所使用之分析方法如下所述。 <分析方法> 1) NMR分析方法 裝置： 日本電子（股）公司製JNM-A400 FT-NMR系統 H、 c及119Sn-NMR分析樣品之製備
所獲得之溶液作為NMR分析樣品。 (2)定量分析法 (1) JH、 正曲線，基於該校正曲 對各標準物質實施分析而製作校正曲線 線來實施分析樣品溶液之定量分析。 2)氣相層析分析法 134987.doc •155- 201008953 裝置：曰本島津公司製GC-2010 管柱·美國 Agilent Technologies公司製 DB-1 長度30 m、内徑0.250 mm、膜厚i.oo μη 管柱溫度：在5(TC下保持5分鐘後，以1〇°c/分鐘之升溫 速度升溫至200。(：
在200°C下保持5分鐘後，以l〇°c /分鐘之升 溫速度升溫至3 〇 〇。匚 檢測器：FID (1) 氣相層析法分析樣品 稱取約0.05 g的樣品，添加丙酮（日本和光純藥工業公司 製，脫水）約1 g，及作為内標物之甲苯（日本和光純藥工業 公司製，脫水）約0.02 g，將該等均勻地混合，並將所獲得 之溶液作為氣相層析法分析之樣品。 (2) 定量分析法 對各標準物質實施分析而製作校正曲線，依據該校正曲 線來實施分析樣品溶液之定量分析。 3)電感耦合型電漿質譜法 裝置：日本精工（Seik〇)電子公司製，spQ8〇〇〇 (1) 電感耦合型電漿質譜分析樣品 利用稀硫酸使約G.15g試料灰化後，溶於㈣酸中。 (2) 定量分析法 對各標準物質實施分析而製作校正曲線，基㈣校正曲 線來實施分析樣品溶液之定量分析。 [參考例1 ]碳酸雙（3 _甲基丁基）酯之製造 134987.doc -156- 201008953 步驟（A-1):二烷基錫觸媒之製造 在容積5000 mL之茄型燒瓶中，投入二丁基氧化錫（曰本 三共有機合成公司製）627 g(2.7 mol)及3-甲基-1-丁醇（日本 Kuraray公司製）2000 g(22.7 mol)。將該燒瓶安裝在連接有 附帶溫度調節器之油浴（日本增田理化工業公司製，〇bh_ 24)、真空泵（曰本ULVAC公司製，G-.50A)及真空控制器 (曰本岡野製作所公司製，VC-10S)之蒸發器（曰本柴田公 司製’ R-144)上。蒸發器之沖洗閥出口係與常壓下流通之 氮氣的管線相連接。關閉蒸發器之沖洗閥而進行系統内的 減壓後，緩慢打開沖洗閥向系統内通入氮氣，而恢復至常 壓。將油浴溫度設定為約145。〇，將該燒瓶浸潰於該油浴 中並開始旋轉蒸發器。以打開蒸發器之沖洗閥之狀態，在 大氣Μ氮氣下加熱約40分鐘後，開始蒸餾含水之3_曱基 丁醇。將該狀態保持7小時後，關閉沖洗閥，緩慢地對系 統内進行減壓，在系統内之壓力為74〜35 kPa之狀態下， 對過剩之3-甲基-i_丁醇進行蒸餾。不再產生餾份後，自油 浴取出該燒瓶。將該燒瓶冷卻至室溫（25。〇）附近後，自油 >合取出該燒航’緩慢打開沖洗閥將系統内之壓力恢復至大 氣壓。該燒瓶中獲得1173 g之反應液。根據u9Sn、》H、 C-NMR之分析結果可確認··相對於二丁基氧化錫，以 99%之產率獲得113 3四正丁基-13雙甲基丁氧基）·二 錫氧烧。重複相同操作12次，獲得合計10345 g之1，1，3,3· 四正丁基-1,3-雙（3·甲基丁氧基）_二錫氧烷。 步驟（A-2):碳酸酯之製造及烷基錫組合物之回收 134987.doc •157- 201008953 利用圖5所示之連續製造裝置，製造碳酸酯。在填充有 填充物 Metal Gauze CY(瑞士 Sulzer Chemtech Ltd.製）之内 徑151 mm、有效長度5040 mm之塔型反應器102中，自輸 送管線4以4388 g/hr供給上述所製造之丨山），^四丁基_i，3_ 雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷，自輸送管線2以14953 g/hr供 給在蒸餾塔101中純化之3_曱基·丁醇（日本Kuraray公司 製）。利用加熱器及再沸器112對該反應器内1〇2進行調 整，以使液溫度達到160。(：，並利用壓力調節閥進行調整 以使壓力達到約120 kPa-G。該反應器内之滯留時間約為 17分鐘。自反應器上部經由輸送管線6以15〇37 g/hr將含水 之3-曱基-1-丁醇，及經由供給管線1α 825 §/1^將3_甲基-卜 丁醇（日本Kuraray公司製），輸送至填充有填充物Metai Gauze CY(瑞士 Sulzer Chemtech Ltd.公司製）且具備再沸器 111及冷凝器121的蒸餾塔101中，來進行蒸餾純化。在蒸 餾塔101之上部，利用冷凝器121高濃度之含水餾份冷凝， 並自回收管線3將其回收。經由位於蒸餾塔1〇1之下部之輸 送管線2將經純化之3_甲基小丁醇輸送至塔型反應器而。 自塔型反應器102之下部獲得包含二正丁基_雙（3_曱基丁氧 基）錫與四正了基]，3-雙（3_甲基丁氧基）二錫氧烧 之組合物（以下稱作觸媒組合物），經由輸送管線5供給至薄 膜蒸發裝置103(日本神鋼環境SOLUTi〇n公司製）。在薄膜 蒸發裝置1〇3中將3·甲基小丁醇蒸餾去除，經由冷凝器 123、輸it管線8及輸送管線4返回至塔型反應器自薄 膜蒸發裝置Η)3之下部，經由輸送管線7輪送觸媒組合物， 134987.doc •158· 201008953 以二正丁基-雙（3-曱基丁氧基）錫與1133四丁基_13雙 (3-甲基丁氧基）-二錫氧烷之流量達到約513〇岁^之方式進 行調節，供給至尚壓爸1 〇4。自輸送管線9以973 g/hr向高 壓爸供給二氧化碳’將高壓釜内壓維持在4 MPa-G。將高 壓釜中之溫度設定為120。(：，將滯留時間調整為約4小時， 進行二氧化碳與觸媒組合物之反應，而獲得包含碳酸雙（3_ 甲基丁基）酯之反應液。經由輸送管線1〇與調節閥將該反 應液轉移至除碳槽105中’去除殘存二氧化碳，自輸送管 ❹ 線11回收二氧化碳。其後，經由輸送管線12將該反應液轉 移至約142°C、約0.5 kPa之薄膜蒸發裝置106(日本神鋼環 境SOLUTION公司製），以四正丁基·13_雙（3_甲基 丁氧基）-二錫氧烷之流量達到約4388 g/hr之方式進行調 節、供給，而獲得包含碳酸雙（3_甲基丁基）酯之餾份，另 一方面經由輸送管線13與輸送管線4 ’以1,1,3,3-四丁基_ 1 ’3-雙（3-曱基丁氧基）_二錫氧烧之流量達到約4388 之 ❹ 方式進行調節，使蒸發殘渣在塔型反應器102中循環。經 由冷凝器126及輸送管線14將包含碳酸雙（3 _甲基丁基）酯之 館伤’以959 g/hr供給至填充有填充物Metal Gauze CY(瑞 士 Sulzer Chemtech Ltd.公司製）且具備再沸器117及冷凝器 127之蒸餾塔107中，進行蒸餾純化後，自回收管線15以 944 g/hr獲得99 wt%之碳酸雙（3-甲基丁基）酯。 [參考例2]碳酸雙（2-乙基丁基）酯之製造 步驟（B-1):二烧基錫化合物觸媒之製造 在容積5000 mL之茄型燒瓶中，投入二正辛基錫氧化物 134987.doc -159- 201008953 (日本二共有機合成公司製）893 g(2.48 mol)及2-乙基-1-丁 醇2403 g(23.6 mol)。將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度調節 器之油浴、真空泵及真空控制器之蒸發器上。蒸發器之沖 洗閥出口係與常壓下流通之氮氣的管線相連接。關閉蒸發 1§之沖洗閥而進行系統内之減壓後，緩慢打開沖洗閥向系 統内通入氮氣’而恢復至常壓。將油浴溫度設定為約 165它’將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始旋轉蒸發器。以 打開蒸發器之沖洗閥之狀態，在大氣壓氮氣下加熱約4〇分 鐘後’開始蒸館含水之2-乙基-1 - 丁醇。將該狀態保持7小 時後，關閉沖洗閥，緩慢地對系統内進行減壓，以系統内 之壓力達到74〜25 kPa之狀態，對過剩之2-乙基-1-丁醇進 行蒸顧。不再產生餾份後，自油浴取出該燒瓶。將該燒疏 冷卻至室溫（25°C )附近後，自油浴取出該燒瓶，緩慢打開 沖洗閥而將系統内之壓力恢復至大氣壓。在該燒瓶中獲得 反應液1114 g。根據1丨9Sn、iH、i3C_NMR^分析結果可確 認：相對於二正辛基錫氧化物，以99%之產率獲得1，1，3,3 _ 四正辛基-1，3·雙（2-乙基丁氧基）-二錫氧烷。重複相同操作 12次’獲得合計13380 g之1，1，3,3-四正辛基-ΐ，3_雙（2-乙基 丁氧基）-二錫氧烷。 步驟（B-2):碳酸醋之製造及烧基錫組合物之回收 在圖5所示之連續製造裝置中’製造碳酸酯。向填充有 填充物Metal Gauze CY之内徑151 mm、有效長度5040 mm 之塔型反應器102中，自輸送管線4以6074 g/hr供給上述所 製造之1，1，3,3-四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷， 134987.doc .160- 201008953 自輪送管線2以12260 g/hr供給在蒸餾塔1〇1中經純化之2 乙基-1-丁醇。利用加熱器及再沸器112調整該反應器内 102，以使液溫度達到16(rc，並利用壓力調節閥進行調 整，以使壓力達到約120 kPa_G。該反應器内之滞留時間 、力為17刀鐘。自反應器上部經由輸送管線6以丨輸 送包含水之2-乙基-1-丁醇，及經由供給管線丨以958 g/hr輸 送2乙基丁醇，至填充有填充物CY且具備 再沸器111及冷凝器121之蒸餾塔101中，並進行蒸餾純 化。在蒸餾塔101之上部，利用冷凝器121使高濃度之包含 水之餾份冷凝，並自回收管線3進行回收。經純化之2_乙 基-1-丁醇經由位於蒸館塔101之下部之輸送管線2，而輸送 至塔型反應器102。自塔型反應器1〇2之下部獲得包含二正 辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫與！山3 3_四正辛基—丨，3•雙（2_乙 基丁氧基）二錫氧烷之組合物（以下稱作觸媒組合物”經由 輸送管線5供給至薄膜蒸發裝置1〇3。在薄膜蒸發裝置103 φ 中將2_乙基丁醇蒸餾去除，經由冷凝器123、輸送管 線8及輸送管線4返回至塔型反應器⑽。自薄膜蒸發裝置 103之下部，經由輸送管線7輸送觸媒組合物，以二正辛 基雙（2_乙基丁氧基）錫與i，l，3,3-四正辛基_ι，3_雙（2-乙基 丁氧基）一錫氧烷之流量達到約6945 之方式進行調 即，而將其供給至高壓釜1〇4。自輸送管線9以973 gZk向 咼壓釜供給二氧化碳，將高壓蚤内壓維持在4 MPa-G。將 间壓釜中之溫度設定為丨2〇它，將滯留時間調整為約4小 夺進行一氧化碳與觸媒組合物之反應，而獲得包含碳酸 134987.doc -161 - 201008953 雙（2-乙基丁基）S旨之反應液。經由輸送管線i()與調節間將 該反應液轉移至除碳槽1()5中，去除殘存二氧化碳，自輸 送管線U回收二氧化碳。其後，經由輸送管線⑽該反應 液轉移至約142。〇、約〇_5 kPa之薄膜蒸發裝置1〇6中以 1，1，3,3·四正辛基_1，3_雙（2·乙基丁氧基）二錫氧烧之流量達 到約6074 g/hr之方式進行調節、供給，而獲得包含碳酸雙 (2-乙基丁基）酯之餾份，另一方面經由輸送管線13與輸送 管線4，以1,1，3,3-四正辛基雙（2_乙基丁氧基）二錫氧 烷之流量達到約6074 g/hr之方式進行調節，而使蒸發殘渣 在塔型反應器102中循環。將包含碳酸雙（2_乙基丁基）酷之 餾份經由冷凝器126及輸送管線14，以959 g/hr供給至填充 有填充物Metal Gauze CY且具備再沸器117及冷凝器127之 蒸館塔107中，進行蒸館純化後，自回收管線16以1〇75 g/hr獲得99 wt%之碳酸雙（2-乙基丁基）酯。 [參考例3]碳酸二（正丁基）酯之製造 步驟（C-1):四烷基二烷氧基二錫氧烷之製造 在容積3000 mL之茄型燒瓶中，投入二正丁基錫氧化物 692 g(2.78 mol)及1-丁酵（曰本和光純藥工業公司製）2〇〇〇 g (27 mol)。將投入有白色漿料狀之該混合物之燒瓶安裝在 連接有附帶溫度調節器之油浴、真空泵及真空控制器的蒸 發器上。蒸發器之沖洗閥出口係與常壓下流通之氮氣的管 線相連接。關閉蒸發器之沖洗閥而進行系統内的減壓後， 緩慢打開沖洗閥向系統内通入氮氣，並恢復至常壓。將油 浴溫度設定為126。(：，將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始旋 134987.doc •162· 201008953 轉蒸發器。以打開蒸發器之沖洗閥之狀態，在常壓下進行 約30分鐘之旋轉攪拌與加熱後，混合液沸騰，開始蒸餾低 沸成分。將該狀態保持8小時後，關閉沖洗閥，緩慢地對 系統内進行減壓，以系統内之壓力達到76〜54 kpa之狀 態，蒸餾殘存低沸成分。不再生成低沸成分後，自油浴取 出該燒瓶。反應液為透明液體。其後，自油浴取出該燒 瓶，緩慢打開沖洗閥而將系統内壓力恢復至常壓。在該燒 瓶中獲得反應液952 g»藉由"9Sn、1]H、13c_NMR進行分 ❹ 析可知，反應液為i，l，3,3_E9正丁基-1,3-二（丁氧基）_二錫 氧烷，以二正丁基錫氧化物基準計，產率為99%。重複相 同操作12次，獲得合計11488 gims四正丁基·丨，3-二 (丁乳基）-二锡氧燒。 步驟（C-2):碳酸醋之製造 在圖5所不之連續製造裝置中，製造碳酸酯。向填充有 填充物Mellapak 750γ之内徑151 mm，有效長度5〇4〇 mm φ 之塔型反應器，自供給管線4以4201 g/hr供給步驟1中所製 、 ，，，3四丁基_ι，3_ 一（ 丁乳基）-二錫氧烧，自供給管 良X 24717 g/hr供給在蒸館塔中經純化之丁醇，至 塔型反應器102中。利用加熱器及再沸器112對該反應器内 進行調整’以使液溫度達到i 6〇〇C，並利用塵力調節間進 行調整α使壓力達到約25〇 kPa_G。該反應器内之滞留 時門約為1 〇为鐘。自反應器上部經由輸送管線6以24715 ⑽輸送包含水之h 丁醇，及經由供給管線W 824 g/hr輸 送丁醇至填充有填充物Metal Gauze CY且具備再沸器 1349874ος •163- 201008953 111及冷凝器121之蒸餾塔101中，而進行蒸餾純化。在蒸 餾塔101之上部，利用冷凝器121使高濃度之含水餾份冷 凝，並自輸送管線3進行回收。經由位於蒸餾塔1〇1之下部 之輸送管線2，輸送經純化之i_ 丁醇。自塔型反應器】”之 下部獲得包含二丁基二丁氧化錫與m3·四正丁基H 二（丁氧基）-二錫氧烷之組合物（以下稱作觸媒組合物），經 由輸送管線5供給至薄膜蒸發裝置103。在薄膜蒸發裝置 103中，將1-丁醇蒸餾去除，經由冷凝器123、輸送管線8 及輸送管線4返回至塔型反應器10卜自薄膜蒸發裝置ι〇3❿ 之下部’經由輸送管線7輸送觸媒組合物，以二丁基二丁 氧化錫與1，1，3,3-四正丁基二（丁氧基）_二錫氧烷之活 性成分之流量達到約4812 g/hr之方式進行調節，而供給至 高壓釜104。經由供給管線9以973 g/hr向高壓釜供給二氧 化碳，將高壓釜内壓維持在4 MPa-G。將高壓蚤中之溫度 設定為120。(：，將滯留時間設定為約4小時，進行二氧化碳 與觸媒組合物之反應，而獲得包含碳酸二丁酯之反應液。 經由輸送管線ίο與調節閥將該反應液轉移至除碳槽1〇5 _ 中，去除殘存二氧化碳，自輸送管線u回收二氧化碳。其 後，經由輸送管線12將該反應液輸送至i4(rc、約14让〜 之薄膜蒸發裝置106中，以1，1，3,3-四正丁基十3_二（丁氧 基二錫氧烷之流量達到約4201 g/匕之方式進行調節、供 給’而獲得包含碳酸二丁醋之館份’另一方面經由輸送管 線13與輸送管線4，以四正丁基+3•二（丁氧基）_二 錫氧烷流量達到約4201 g/hr之方式進行調節，而使蒸發殘 134987.doc •164- 201008953 渣在塔型反應器102中循環。經由冷凝器126及輸送管線14 將包含碳酸二丁酯之餾份，以830 g/hr供給至填充有填充 物Metal Gauze CY且具備再沸器117及冷凝器127之蒸館塔 107中，並進行蒸德純化後，自輸送管線16以814 g/hr獲得 99 wt%之碳酸雙（3-甲基丁基）酯。 [實施例1] 在大氣壓氮氣環境下，向容積2 L之茄型燒瓶中投入二 乙酸二正丁基錫（美國Aldrich公司製）240 g、及參考例j之 β 步驟（Α-2)中所製造之碳酸雙（3-曱基丁基）酯692 g，在該燒 瓶上安裝戴氏冷卻器與三通旋塞。將該燒瓶浸漬於加熱至 150C之油浴中’一面授掉内容物一面加熱5小時。將該燒 瓶女裝在連接有附帶溫度調郎器之油浴、真空泵及真空_ 制器的旋轉蒸發器上。旋轉蒸發器之沖洗閥出口係與大氣 壓下流通之氮氣管線相連接。將系統内置換為氮氣後，將 油浴溫度設定為150°C ’將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始 旋轉蒸發器之旋轉。以打開旋轉蒸發器之沖洗閥之狀陳， 在大氣壓氮氣下進行約7小時之低沸成分之蒸餾去除，繼 而緩慢地對系統内進行減壓，以系統内壓力達到％ • kPa〜10 kPa之狀態，對殘存低沸成分進行蒸餾去除。不再 蒸餾出低沸成分後，自油浴取出該燒瓶並將其冷卻。在該 燒瓶中獲得殘留液287 g。根據1Η、13C、"9Sn_NMR之分 析結果可知，該燒瓶中之殘留液係含有92 〇 wt%之二
1 J 基-雙（3-甲基丁氧基）錫的溶液。 另一方面，低沸成分回收了 598 g。藉由氣相層析法分 134987.doc -165- 201008953 析該低沸成分時，該低沸成分含有約28 wt%之乙酸異戊 醋。 [實施例2] 代替二乙酸二正丁基錫而使用1,1，3,3-四正丁基3__ 乙醯氧基二錫氧烷（美國Aldrich公司製）3 10 g，代替後酸雙 (3-曱基丁基）醋而使用碳酸二（正丁基）醋900 g，除此以 外，進行與實施例1相同之方法，獲得殘留液399 g。該殘 留液含有93.4 wt%的二正丁基-二（正丁氧基）錫。又，低彿 成分含有29.4 wt%的乙酸丁酯。 [實施例3] 代替二乙酸二正丁基錫而使用二月桂酸二正丁基錫（美 國Aldrich公司製）290 g，代替碳酸雙（3 -曱基丁基）酯而使 用碳酸二乙酯（美國Aldrich公司製）326 g，將油浴溫度設為 1 30°C，除此以外’進行與實施例1相同之方法，獲得殘留 液165 g。該殘留液含有83.5 wt%的二正丁基-二乙基錫。 又，低沸成分含有47.3 wt%的月桂酸乙酯。 [實施例4] 代替二乙酸二正丁基錫而使用二月桂酸二正丁基錫300 g，代替碳酸雙（3-曱基丁基）酯而使用碳酸二曱酯（美國 Aldrich公司製）343 g，將油浴溫度設為90°C，進行20小時 加熱，除此以外，進行與實施例1相同之方法，獲得殘留 液206 g。該殘留液含有40.8 wt%的二正丁基-二甲基錫。 又，低沸成分含有3 0 wt%的月桂酸甲酯。 [實施例5] 134987.doc -166- 201008953 使用二乙酸二正丁基錫135 g，且代替碳酸雙（3-甲基丁 基）醋而使用碳酸二苯酯（美國Aldrich公司製）494 g ’除此 以外’進行與實施例1相同之方法，獲得殘留液丨62 ^。該 殘留液含有95.4wt%的二正丁基·二苯基錫。又，低沸成分 含有23 wt%的乙酸苯酯。 [實施例6] 在大氣壓氮氣環境下，向容積2 L之茄型燒瓶内投入二 乙酸二正丁基錫221 g、及2-乙基_1_丁醇（日本和光純藥工 Ο 業公司製，特級）515 g，將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度 調節器之油浴、真空泵及真空控制器之旋轉蒸發器上。旋 轉蒸發器之沖洗閥出口係與大氣壓下流通之氮氣管線相連 接。將系統内置換為氮氣後’將油浴溫度設定為14〇。匚， 將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始旋轉蒸發器之旋轉。以打 開旋轉蒸發器之沖洗閥之狀態，在大氣壓氮氣下進行約7 小時低沸成分之蒸餾去除，繼而緩慢地對系統内進行減 參 壓，以系統内壓力達到76 kPa〜10 kPa之狀態，對殘存低沸 成分進行蒸餾去除。不再蒸餾出低沸成分後，自油浴取出 • 該燒瓶並將其冷卻。在該燒瓶中獲得殘留液274 g。根據 ; lH、13c、119sn_NMR之分析結果可知，該燒瓶中之殘留液 係含有96.0 wt。/◦的二正丁基-雙（2_乙基丁氧基）錫之溶液。 另一方面，低沸成分回收了 563 g。藉由氣相層析法分 析該低沸成分時，該低沸成分含有約3〇 9 wt%的乙酸_2_乙 基丁酯。 [實施例7] 134987.doc -167· 201008953 使用二乙酸二正丁基錫255 g，且代替2-乙基-1-丁醇而 使用3_甲基丁醇（日本東京化成公司製）961 g，除此以 外’進行與實施例6相同之方法而獲得殘留液306 g。該殘 留液含有92.7 wt%的二正丁基_雙（3_甲基丁氧基）錫。又， 低/弗成分含有18.0 wt%的乙酸異戊酯。 [實施例8] 代替二乙酸二正丁基錫而使用込^弘四正丁基_丨，3_二 乙酿氧基二錫氧烷322 g，代替2_乙基-1· 丁醇而使用正丁 醇1034 g ’除此以外，進行與實施例6相同之方法而獲得 殘留液424 g。該殘留液含有77 3 wt%的二正丁基二（正丁 氧基）錫、及19.9 wt%的1，1，3,3-四正丁基-ΐ，3·二（正丁氧 基）一錫氧烧。又’低沸成分含有17.2 wt%的乙酸丁醋。 [實施例9] 代替二乙酸二正丁基錫而使用二月桂酸二正丁基錫341 g’代替2-乙基-1-丁醇而使用曱醇（美國Aldrich公司製）363 g，除此以外’進行與實施例6相同之方法，獲得殘留液 206 g。該殘留液含有59.5 wt%的二正丁基-二甲氧基錫、 及3 8 · 1 wt%的二月桂酸二正丁基錫。又，低沸成分含有 34.8 wt%的月桂酸曱酯。 [實施例1〇] 使用二乙酸二正丁基錫320 g，且代替2_乙基-丁醇而 使用苯酚（日本和光純藥工業公司製，核酸萃取用）1029 g，除此以外’進行與實施例6相同之方法，獲得殘留液 389 g。該殘留液含有95.3 wt%的二正丁基·二苯氧基錫。 134987.doc -168- 201008953 又’低彿成分含有22 wt%的乙酸苯醋。 [實施例11] 在大氣壓氮氣環境下，向容積2 L之茄型燒瓶中投入二 乙酸二正丁基錫289 g、及碳酸雙（2-乙基丁基）酯1〇24 g， 將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度調節器之油浴、真空果及 真空控制器之旋轉蒸發器上。旋轉蒸發器之沖洗閥出口係 與大氣壓下流通之氮氣管線相連接。將系統内置換為氮氣 後’將油浴溫度設定為280°C，將該燒瓶浸潰於該油浴中 ® 而開始旋轉蒸發器之旋轉。以打開旋轉蒸發器之沖洗閥之 狀態，在大氣壓氮氣下進行約7小時低沸成分之蒸餾去 除，繼而緩慢地對系統内進行減壓，以系統内壓力達到76 kPa〜10 kPa之狀態，對殘存低沸成分進行蒸餾去除。不再 蒸德出低沸成分後，自油浴取出該燒瓶並將其冷卻。在該 燒瓶中獲得殘留液365 g。根據1Η、13C、"9Sn-NMR之分 析結果可知，該燒瓶中之殘留液係含有79 7 wt%的二正丁 基-雙（2 -乙基丁氧基）錫、及7.6 wt%的三正丁基_(2_乙芙丁 氧基）錫之溶液。 另一方面，低沸成分回收了 888 g。藉由氣相層析法分 析該低沸成分時’該低沸成分含有約25.2 wt%的乙酸_2-乙 基丁酯。 [實施例12] 使用·一乙酸·一正丁基錫310 g’且使用3-曱基丁醇934 g ’將油浴溫度設為3 0 °C ’除此以外，進行與實施例11相 同之方法’獲得殘留液356 g。該殘留液含有53.5 wt%的二 134987.doc -169- 201008953 正丁基-雙（3-甲基丁基）錫。又 的乙酸異戊酯。 低沸成分含有約i 2 wt% [實施例13] 步驟（13-1):二烷基錫觸媒之製造 向容積5000 mL之茄型燒瓶中，投入二正辛基錫氧化 (曰本三共有機合成公司製）972 g(2 7 m〇1)&3甲基丁物 2100 g(23.9m斗將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度調2 之油浴、真空泵及真空控制器之蒸發器上。蒸發器之沖洗 閥出口係與常壓下流通之氮氣的管線相連接。關閉蒸發器 之沖洗閥而進行系統内的減壓後，緩慢打開沖洗閥向系統 内通入氮氣，而恢復至常壓。將油浴溫度設定為約 145°C ’將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始旋轉蒸發器。以 打開蒸發器之沖洗閥之狀態，在大氣壓氮氣下加熱約4〇分 鐘後，開始蒸餾含水之3 -甲基-1 - 丁醇。將該狀態保持7小 時後’關閉沖洗閥’緩慢地對系統内進行減壓，在系統内 之壓力達到74〜35 kPa之狀態下，對過剩之3_甲基_丨_ 丁醇 進行蒸顧。不再產生餾份後，自油浴取出該燒瓶。將該燒 瓶冷卻至室溫（25 °C )附近後，自油浴取出該燒瓶，緩慢打 開沖洗閥而將系統内之壓力恢復至大氣壓。在該燒瓶中獲 得反應液1176 g。根據"9sn、4、13C-NMR之分析結果可 確認：相對於二正辛基錫氧化物，以99%之產率獲得 1，1，3,3 -四正辛基- i，3-雙（3 -甲基丁氧基）_二錫氧烧。重複 相同操作12次，獲得合計14120 g之1,1，3,3-四正辛基-1，3-雙（3-甲基丁氧基）·二錫氧烷。 134987.doc • 170· 201008953 步驟（13-2):碳酸酯之製造及烷基錫組合物之回收 在圖5所示之連續製造裝置中，製造碳酸酯。向填充有 填充物Metal Gauze CY之内徑151 mm、有效長度5040 mm 之塔型反應器102中，自輸送管線4以5887 g/hr供給上述中 所製造之1，1，3,3-四正辛基-1，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧 烷，自輸送管線2以14953 g/hr供給在蒸餾塔101中經純化 之3-甲基-1-丁醇。利用加熱器及再沸器U2調整該反應器 内102 ’以使液溫度達到160〇c，並利用壓力調節閥進行調 整’以使壓力達到約120 kPa-G。該反應器内之滯留時間 約為17分鐘。自反應器上部經由輸送管線6以15〇37 g/匕輸 送含水之3-曱基-1-丁醇，及經由供給管線1以824 g/hr輸送 3-甲基-1-丁醇至填充有填充物Metai 〇叫找CY且具備再沸 器111及冷凝器121的蒸餾塔1〇1中，並進行蒸餾純化。在 蒸餾塔101之上部，利用冷凝器121使高濃度之包含水之餾 伤冷凝，並自回收管線3進行回收。經由位於蒸餾塔之 下邛之輸送管線2將經純化之3_甲基小丁醇輸送至塔型反 〜'器02自塔型反應器102之下部獲得包含二正辛基-雙 (3-甲基丁氧基）錫與四正辛基·^-雙（3甲基丁氧 土）二踢氧炫之組合物（以下稱作觸媒組合物），經由輸送管 線5供給至薄膜蒸發裝置⑻。在薄膜蒸發裝置⑼中，將 甲基-1-丁醇蒸餾去除， 逆其绐丄由冷凝器123、輸送管線8及輸 送e線4返回至塔型反靡 邻，麵… ！反應斋102。自薄膜蒸發裝置103之下 邛，經由輸送管線7輸送觸 其丁备#、 σ物，以二正辛基-雙（3_甲 土 乳基）錫與1,13 3- 辛基-1，3~雙（3·甲基丁氧基）二 134987.doc • 171 - 201008953 錫氧烷之流量達到約6627 g/hri方式進行調節，而供給至 高麼蚤104。自輸送管線9以973 g/hr向高磨蚤供給二氧化 碳，將高廢爸内磨維持在4 MPa_G。將高塵釜中之溫度設 定為12(TC ’將滯留時間調整為約4小時，進行二氧化碳與 觸媒組合物之反應，而獲得包含碳酸雙（3_甲基丁基）酯之 反應液。經由輸送管線10與調節閥將該反應液轉移至除碳 槽105中’去除殘存二氧化碳’自輸送管線^回收二氧化 碳。其後，經由輸送管線12將該反應液轉移至約142它、 約0.5 kPa之薄膜蒸發裝置106中，以1133·四正辛基_13_❿ 雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷之流量達到約5887 之方式 進行調節、供給，而獲得包含碳酸雙（3_甲基丁基）酯之餾 份，另一方面經由輸送管線13與輸送管線4，以ιΐ33四 正辛基-1，3-雙（3_甲基丁氧基）二錫氧烷之流量達到約5887 g/hr之方式進行調節，而使蒸發殘渣在塔型反應器ι〇2中循 環。經由冷凝器126及輸送管線14將包含碳酸雙（3_甲基丁 基）醋之餾份，以959 g/hr供給至填充有填充物Metal cy且具備再沸器117及冷凝器127之蒸餾塔1〇7中，而進行⑩ 蒸餾純化後，自回收管線15以944 g/hr獲得99 m%之碳酸 雙（3-曱基丁基）酯。藉由119sn、iH、nc_NMR對輸送管線 13之烷基錫烷氧化物觸媒組合物進行分析後可知該烷基 · 錫烷氧化物觸媒組合物包含H3，％四正辛基_13雙（3曱 ‘ 基丁氧基）二錫氧烷，不包含二正辛基_雙（3甲基丁氧基） 錫。將上述連續運轉約240小時後，自排出管線16以18 g/hr排出觸媒組合物，另一方面自供給管線”以18呂/心供 134987.doc -172- 201008953 給上述方法中所製造iU，3,3_四正辛基·丨^雙^·曱基丁 氧基）二錫氧烷，自排出管線16排出包含1，1，3,3-四正辛基_ 1，3雙（3甲基丁氧基）一錫氧院之烧基錫組合物居。藉 由U9Sn-NMR進行分析後可知，該烷基錫組合物除了包含 約60 wt〇/。之1,1，3,3_四正辛基_153_雙（3_甲基丁氧基）二錫氧 炫以外，亦可見三正辛基.甲基丁氧基）錫及在_24〇〜__ ppm中之1，1，3,3-四正辛基+3^(3-甲基丁氧基）二錫氧烷 之失活成分的複數個NMR位移。 β 步驟:13·3):包含i，1，3,四正辛基]，3-雙(3-甲基丁氧基) 二錫氧烷之烷基錫組合物的取代基交換反應 在氣氣環境下’將步驟（13_2)中所獲得之包含u，3,3_w 正辛基-1,3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷之烷基錫組合物35〇 g投入1 L茄型燒瓶中，其次添加乙酸（日本和光純藥工業 公司製，特級）95 g與乙酸酐（日本和光純藥工業公司製， 特級）325 g’在25C下授拌1小時。在該燒瓶上安裝與館液 ❹接受器相連接之附帶回流冷卻器之分儀頭、及溫度計，對 該燒瓶内進行真空-氮氣置換後，將該燒瓶浸潰於加熱至 5〇°C之油浴中。緩慢地對容器内進行減壓，將剩餘之乙酸 及乙fee酐等蒸館去除，而獲得館出物。對該餾出物進行氣 相層析法分析後可知，該餾出物含有乙酸、乙酸酐、3甲 基-1-丁醇。該燒瓶内獲得殘留物368 g。對殘留物進行咕 及119Sn-NMR測定後可知，該殘留物係三正辛基乙醯氧基 錫、一正辛基二乙醯氡基錫、及含有在n9Sn_NMR中在 -240〜-605 ppm下顯示出複數個化學位移之錫原子的有機 134987.doc •173- 201008953 錫化合物之混合物。該混合物中，三正辛基乙醯氧基錫為 27.9 wt%，二正辛基二乙醯氧基錫為5〇 〇 wt〇/〇。 步驟（13-4):烷基再分配反應 在氮氣環境下，將步驟（13-3)中所獲得之混合物365 g投 入500 mL金屬製壓力容器（日本耐壓琐子工業公司製， TSV-N2型）中。將該金屬製壓力容器浸潰於加熱至2001之 油浴中，加熱3小時。將該耐壓反應容器冷卻至室溫附近 後’回收反應液。對反應液進行ιΗ及mSn_NMR測定後玎 知’该反應液係含有二正辛基二乙醯氧基錫、三正辛基乙 瘳 醯氧基錫的有機錫化合物之混合物，且二正辛基_二乙醯 氧基錫為94.0 wt% ’三正辛基乙醯氧基錫約為3 wt%。 步驟（13-5):二烧基錫化合物之烧氧基化 將步驟（13-4)中所獲得之混合物363 g、及3-甲基-1-丁酵 366 g投入2L的4 口燒瓶中。在該燒瓶上安裝與餾液接受器 相連接之附帶回流冷卻器之分餾頭、及溫度計，對該燒瓶 内進行真空-氮氣置換後，將該燒瓶浸潰於加熱至14〇。匸之 油浴中。用約5小時一面攪拌一面加熱後，將系統内逐漸〇 減麼’將低沸成分蒸餾去除，在該燒瓶中獲得殘留物41〇 g。對該殘留物進行1η及ii9Sn_NMR測定後可知，該殘留物 係含有二正辛基-雙（3_甲基丁氧基）錫、三正辛基_(3_甲基 * 丁氧基）錫之有機錫化合物之混合物，二正辛基·雙（3-甲基 丁氧基）錫為93.3 wt%、三正辛基_(3_甲基丁氧基）錫為約 3 · 1 wt%。 另一方面，低沸成分回收了 453 g’該低沸成分含有45 134987.doc -174- 201008953 wt%的乙酸異戊酯。 [實施例14] 步驟（14_1):三正辛基（3-甲基丁氧基）錫之分離 將藉由與實施例13之步驟（13_2)相同之方法而獲得之包 含1，1，3,3-四正辛基-13-雙（3_甲基丁氧基）二錫氧烷之烷基 錫組合物180 g投入500 mL茄型燒瓶中，在該燒瓶上安裝 e
二通旋塞、填充有螺旋填料Νο·3之長度為45 cm之蒸餾管 柱及與館液接受器相連接之附帶回流冷卻器之分餾頭、及 溫度計，對容器内進行真空-氮氣置換。使容器内處於大 氣塵氮氣下’將該燒瓶浸潰於加熱至約23〇〇c之油浴中。 約20分鐘後’當該燒瓶之内容物的溫度達到約21 Ot後， 緩慢地對容器内進行減壓，回收餾出之成分。最終，當容 器内之壓力達到約〇·01 kPa時結束蒸餾。對餾出液及燒瓶 内之殘存物進行4及⑴Sn_NMR測定。餾出液為三正辛基 (3甲基丁氧基）錫。燒瓶内之殘存物係含有的 1，1丨’丨^3-四正辛基Μ —雙（3·曱基丁氧基）_二錫氧烷、含有 在Sn-NMR中纟.240〜-605 ppm下顯示出複數個化學位移 之錫原子之有機錫化合物之混合物。所獲得之餾出液為 33.2 g，燒瓶内的殘存物為146 8 ^ 步驟（14-2):取代基交換反應 將步驟（M-d中所獲得之三正辛基（3_甲基丁氧基）錫321 g投入谓型燒瓶中’其次添加乙酸酐27々，在抑 下撥摔1小時。在該嫁你t〜壯也 燒瓶上t裝與餾液接受器相連接之附 帶回流冷卻器之分德通 a . 貝、及度計，對該燒瓶内進行真 134987.doc •175· 201008953 空-氮氣置換後，將該燒瓶浸潰於加熱至50°C之油浴中。 緩慢地對容器内進行減壓，將剩餘之乙酸酐等蒸餾去除， 該燒瓶内獲得殘留物30.5 g。對殘留物進行士及11^!!··!^!!^ 測定後可知’該殘留物係三正辛基乙醯氧基錫。 另一方面，將步驟（14-1)中所獲得之含有73 5 wt〇/〇之 1，1，3,3-四正辛基-1，3-雙（3-甲基丁氧基）_二錫氧烧的殘存 物145 g投入500 mL金屬製壓力容器中，其次添加乙酸酐 180.6 g，進行攪拌。將該金屬製壓力容器浸潰於加熱至
200°C之油浴中，加熱3小時。將該金屬製壓力容器冷卻至 室溫（約25°C)附近後，將内容物移至5〇〇 mL茄型燒瓶中。 在該燒瓶上安裝與餾液接受器相連接之附帶回流冷卻器之 分餾頭、及溫度計，對該燒瓶内進行真空_氮氣置換後， 將該燒瓶浸潰於加熱至5(TC之油浴中。緩慢地對容器内3 仃減Μ ’冑乙酸異戊6旨與剩餘之乙酸奸蒸館去除，該燒并 内獲得殘留物155 g。對殘留物進行士及、姻尺測定相 可知，該殘留物係含有二正辛基二乙酿氧基錫與正辛基工
乙醯氧基錫之混合物，該混合物中之二正辛基二乙㈣違 踢為78.wm，正辛基三乙酿氧基錫為213⑽。將制 合物與上述所獲得之三正辛基乙酿氧基㈣合，作為下一 步驟（14-3)之原料。 步驟（14-3):烷基再分配反應 除了在氮氣環境下，代替步驟r 八管乂驟（13_3)中所獲得之混合物 而使用步驟（14-2)中所獲得之現人 把。物183 g以外，進行與實 施例1之步驟（13-4)相同之方法， 回收反應液。對反應液進 134987.doc •176- 201008953 行1Η及119Sn-NMR測定後可知，該反應液係含有二正辛基 二乙醯氧基錫與正辛基三乙酿氧基錫之混合物，該混合物 中之—£辛基·一乙醯氧基錫為94.5 wt %。 步驟（14-4):二炫基錫化合物之烧氧基化 代替步驟（13-4)中所獲得之混合物而使用步驟（丨4_3)中所 獲得之混合物182 g，且使用3_甲基_丨_丁醇213 g，除此以 外，進行與實施例13之步驟（13_5)相同之方法，而獲得殘 留物210 g。對該殘留物進行ιΗ及msn-NMR測定後可知， ❹ 該殘留物含有91 wt%之二正辛基·雙（3_曱基丁氧基）錫。另 一方面，回收低沸成分239 g，該低沸成分含有42.2 wt%的 乙酸異戊酯。 [實施例15] 步驟（15-1):二烷基錫觸媒之製造 向谷積為5000 mL之茄型燒瓶中，投入二正辛基錫氧化 物（曰本二共有機合成公司製）893 g(2.48 mol)及2-乙基_1_ 丁醇2403 g(23.6 m〇l)。將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度調 節器之油浴、真空泵及真空控制器的蒸發器上。蒸發器之 沖洗閥出口係與常壓下流通之氮氣的管線相連接。關閉蒸 發器之沖洗閥而進行系統内的減壓後，緩慢打開沖洗閥向 系統内通入氮氣，而恢復至常壓。將油浴溫度設定為約 165°C ’將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始旋轉蒸發器。以 打開蒸發器之沖洗閥之狀態，在大氣壓氮氣下加熱約4〇分 鐘後’開始蒸餾含水之2-乙基-1 - 丁醇。將該狀態保持7小 時後’關閉沖洗閥，緩慢地對系統内進行減壓，以系統内 134987.doc .177 - 201008953 之壓力達到74〜25 kPa之狀態，對過剩之2-乙基-1-丁醇進 行蒸餾。不再產生餾份後，自油浴取出該燒瓶。將該燒瓶 冷卻至室溫（25°C )附近後，自油浴取出該燒瓶，緩慢打開 沖洗閥而將系統内的壓力恢復為大氣壓。在該燒瓶中獲得 反應液1114 g。根據"9Sn、〗H、i3C-NMR之分析結果可確 認：相對於二正辛基錫氧化物，以99%之產率獲得1，1，3,3_ 四正辛基-1，3-雙（2-乙基丁氧基）-二錫氧烧。重複相同操作 12次’獲得合計13380 gim%四正辛基」，％雙（2_乙基 丁氧基）-二錫氧烧。 步驟（15-2):碳酸酯之製造及烷基錫組合物之回收 在圖5所示之連續製造裝置中，製造碳酸酯。向填充有 填充物Metal Gauze CY之内徑151 mm、有效長度5040 mm 之塔型反應器102中，自輸送管線4以6074 g/hr供給上述中 所製造之1,1，3,3-四正辛基-1，3-雙（2·乙基丁氧基）二錫氧 烧，自輸送管線2以12260 g/hr供給在蒸餾塔1 〇 1中經純化 之2-乙基-1-丁醇。利用加熱器及再沸器112調整該反應器 内102，以使液溫度達到16〇°c，並利用壓力調節閥進行調 整’以使壓力達到約120 kPa-G。該反應器内之滯留時間 約為17分鐘。自反應器上部經由輸送管線6以12344岁匕輸 送包含水之2-乙基-1-丁醇，及經由供給管線丨而以958 g/hr 輸送2-乙基-1-丁醇至填充有填充物Metal Gauze CY且具備 再沸器111及冷凝器121之蒸餾塔1〇1中，而進行蒸館純 化。在蒸餾塔101之上部，利用冷凝器121使高濃度之包含 水之德份冷凝，並自回收管線3進行回收。經由位於蒸館 134987.doc -178. 201008953 塔101之下部之輸送管線2將經純化之2_乙基_丨_ 丁醇輸送至 塔型反應器102。自塔型反應器1〇2之下部獲得包含二正辛 基-雙（2-乙基丁氧基）錫與1，；1，3,3_四正辛基乙基 丁氧基）二錫氧烷之組合物（以下稱作觸媒組合物），經由輸 送管線5將其供給至薄膜蒸發裝置1〇3。在薄膜蒸發裝置 103中，將2-乙基-1-丁醇蒸餾去除，經由冷凝器123、輸送 管線8及輸送管線4返回至塔型反應器1〇2。自薄膜蒸發裝 置103之下部，經由輸送管線7輸送觸媒組合物，以二正辛 ❹基雙（2·乙基丁氧基）錫與1，1，3,3-四正辛H,3_雙（2_乙基 丁氧基）二錫氧烷之流量達到約6945 g/hr之方式進行調 節，而供給至高壓釜104〇自輸送管線9以973 g/hr向高壓 釜供給二氧化碳，將高壓釜内壓維持在4 MPa_G ^將高壓 釜中之溫度設定為120。(：，將滞留時間調整為約4小時，進 行二氧化碳與觸媒組合物之反應，而獲得包含碳酸雙（2_乙 基丁基）酯之反應液。經由輸送管線1〇與調節閥將該反應 粵液轉移至除碳槽105中，去除殘存二氧化碳，自輸送管線 11回收二氧化碳。其後，經由輸送管線12將該反應液轉移 至約142°C、約0.5 kPa之薄膜蒸發裝置1〇6中，以1133_ 四正辛基山3-雙（2_乙基丁氧基）二錫氧烧之流量達到約 6074 g/hr之方式進行調節、供給，而獲得包含碳酸雙（2_乙 基丁基）酯之餾份，另一方面經由輸送管線13與輸送管線 4，以1，1，3,3-四正辛基汔弘雙^•乙基丁氧基）二錫氧烷之 流量達到約6G74 g/hi·之方式進行調節，而使蒸發殘逢在塔 型反應器102中循環。經由冷凝器126及輸送管線14將包含 134987.doc •179- 201008953 碳酸雙（2-乙基丁基）酯之餾份，以959 g/hr供給至填充有填 充物Metal Gauze CY且具備再沸器117及冷凝器127之蒸館 塔107中’進行蒸餾純化後，自回收管線15以1075 g/hr獲 得99 wt%之碳酸雙（2-乙基丁基）醋。藉由U9Sn、】H、13C_ NMR對輸送管線13之觸媒組合物進行分析後可知，該觸媒 組合物包含1，1，3,3_四正辛基_1，3_雙（2_乙基丁氧基）二錫氧 烷’不包含二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫。將上述連續運 轉約220小時後，自排出管線16以18 g/hr排出觸媒組合 物’另一方面自供給管線17以18 g/hr供給上述方法中所製 造之1，1，3,3-四正辛基-1，3_雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷，自 排出管線16排出包含ι，ι，3,3-四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧 基）二錫氧烷之烷基錫組合物180 g。藉由119sn-NMR進行 分析後可知，該烧基錫組合物除了包含約55 wt%之 1，1’3,3-四正辛基-丨，3_雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷以外，亦 可見三正辛基（2-乙基丁氧基）錫及在_240〜-605 ppm下之 M，3,3-四正辛基4,3-雙（2_乙基丁氧基）二錫氧烷之失活成 分的複數個NMR位移。 步驟（15-3):包含1，1，3,3-四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧基） 二錫氧烷之烷基錫組合物之取代基交換反應 代替步驟（13-2) t所獲得之烷基錫組合物而使用步驟 (15_2)中所獲得之包含1，1，3,3-四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧 基）二錫氧烷之烷基錫組合物195 g，且使用乙酸酐220 g (不使用乙酸），除此以外，進行與實施例13之步驟（133) 相同之方法，而獲得三正辛基乙醯氧基錫、二正辛基二乙 134987.doc -180- 201008953 醯氧基錫、及含有在119Sn-NMR中在-240〜-605 ppm下顯示 出複數個化學位移之錫原子的有機錫化合物之混合物198 g。該混合物中，三正辛基乙醯氧基錫為25.1 wt%，二正 辛基二乙酿氧基錫為54.9 wt %。 步驟（15-4):烷基再分配反應 在氮氣環境下’代替步驟（13-3)中所獲得之混合物而使 用步驟（15-3)中所獲得之混合物196 g，除此以外，進行與 實施例1之步驟（13-4)相同之方法回收反應液。對反應液進 行1Η及119Sn-NMR測定後可知，該反應液係含有二正辛基 二乙醯氧基錫與正辛基三乙醯氧基錫之混合物，該混合物 中之一正辛基一乙酿氧基錫為96.3 wt%。 步驟（15-5):二烧基錫化合物之烧氧基化 代替步驟（13-4)中所獲得之混合物而使用步驟（15·4)中所 獲得之混合物195 g，且代替3_曱基丁醇而使用2_乙基_ 1-丁醇258 g，除此以外，進行與實施例13之步驟（13_5)相 同之方法’而獲得殘留物232 g。對該殘留物進行1η及 119Sn-NMR測定後可知，該殘留物含有95 7 wt%的二正辛 基-雙（2-乙基丁氧基）錫。 [實施例16] 步驟（16-1):取代基交換反應 使用如圖6之裝置進行反應。 將藉由與實施例13之步驟（13_2)相同之方法所獲得之失 活體組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽201經由管線21 而向具備蒸餾塔之攪拌槽2〇4中投入失活體組合物427 134987.doc • 181 - 201008953 kg。將該攪拌槽204加熱約為4〇t，自貯藏槽202經由管線 22而將乙酸0.93 kg投入攪拌槽204中。攪拌約1小時後，將 攪拌槽204之系統内減壓至約〇 13 kpa，將攪拌槽2〇4大約 加熱至80 C，進行低沸成分之蒸餾，自管線24回收低沸成 分0.94 kg。繼而，利用氮氣將該攪拌槽2〇4内之壓力恢復 至大氣壓，加熱至約10(TC，自貯藏槽2〇3經由管線23而投 入乙酸酐1.87 kg。攪拌約3小時後’將攪拌槽2〇4内減壓至 約1 kPa，將該攪拌槽204加熱至約12〇〇c，將未反應之乙 酸針等低沸成分進行蒸館，自管線24回收低沸成分約176 kg。攪拌槽204中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉 由Sn、H-NMR進行分析後可知，該殘留物含有45 2
Wt%的二乙酸二正辛基錫、及25.4 wt%的乙酸三正辛基 錫。 步驟（16-2):烷基再分配反應 繼續使用圖6之裝置進行反應。 利用氮氣將包含殘留物之攪拌槽2〇4調整至大氣壓，加 熱至約200 C，並攪拌約2小時。對攪拌槽2〇4中所獲得之 殘留物進行抽樣，藉由⑴“、1h_nmr進行分析後可知’ 忒殘留物含有90.2 wt%的二乙酸二正辛基錫、約〇 5 wt%的 乙酸一正辛基锡。繼而’經由管線25，將該殘留物進料至 加熱至約200eC、將系統内減壓至約〇·26 kpa之薄膜蒸發裝 置205中，進行蒸餾分離。經由管線27而用冷凝器冷凝 氣相成分，回收至攪拌槽2〇8中。將另一液相成分經由管 線26而回收至貯藏槽2〇6中。藉由Μ%、1h_nmr對回收至 134987.doc •182- 201008953 援样槽208中之化合物進行分析後可知，該殘留物含有 98.4 wt°/。的二乙酸二正辛基錫、及約〇 3 wt%的乙酸三正辛 基錫。另一方面’回收至貯藏槽2〇6中之液相成分為〇 28 kg °經由管線20將該液相成分轉移至貯藏槽2〇1中，再用 作步驟（16-1)之原料。 步驟（16-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 自貯藏槽210經由管線3〇,向具備蒸餾塔之攪拌槽2〇8中 投入正丙醇（日本和光純藥工業公司製，脫水）15 33 kg。 β 將攪拌槽208在經密封之狀態下加熱至約1〇〇。(：，並反應約 40小時後，自管線28蒸餾回收未反應之正丙醇。該蒸餾成 分為15.3 3 kg，含有86.8 wt%的正丙醇、11.2 wt%的乙酸 丙酯。 繼而’自貯藏槽211經由管線31向攪拌槽208中投入3-曱 基-1-丁醇3.74 kg。將攪拌槽208加熱至約130。(：，攪拌約3 小時後’對攪拌槽208進行系統内減壓’自管線28回收包 ^ 含未反應之3 -曱基_1· 丁醇等的低沸成分。回收3.28 kg的該 低沸成分，且該低沸成分中含有69 5 wt%的3_曱基·丨_ 丁 醇、30.5 wt%的正丙醇。 經由管線29將該攪拌槽208中所獲得之殘留物回收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由mSn、1h_nmr進 行分析後可知，該回收物含有97.1 wt%的二正辛基_雙（3_ 曱基丁氧基）錫。 [實施例17] 步驟（17-1):取代基交換反應 134987.doc -183- 201008953 使用如圖6之裝置進行反應。 藉由”實把例13之步驟（13_2)相同之方法所獲得的包 1 ,1,3’3·四正辛基]，3·雙（3_甲基丁氧基）二錫氧垸之炫基 錫組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽2Q1經由管線_ 具備蒸餘塔之攪拌槽204中投入包含U’3’3-四正辛基妙 雙(3-甲基丁氧基)二錫氧烷之烷基錫組合物4 % kg，代替 乙酸而使用丙酸（日本和光純藥公司製）i23 kg，且代 替乙酸^使用丙_2.54 kg’除此以外，進行與實施例 16之步驟（16-1)相同之方法，對未反應之丙酸肝等低沸成 分進仃蒸餾，而自管線24回收低沸成分約2.37 kg。對該低 沸成分進行氣相層析法分析後可知，該低沸成分含有丙 酸、丙酸酐、3-曱基-1-丁醇。攪拌槽2〇4中獲得殘留物。 對該殘留物進行抽樣，藉由u9Sn、iH_NMR進行分析後可 知，該殘留物含有46.8 wt。/。的二正辛基_二（丙醯氧基）錫、 及25.3 wt%的三正辛基-(丙醯氧基）錫。 步驟（17-2):院基再分配反應 繼續使用圖6之裝置進行反應。 除了將薄膜蒸發裝置205之壓力調整為約0.13 kPa以外， 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，在授拌槽2〇 8中 獲得含有98.5 wt%的二正辛基-二（丙醯氧基）錫、及約〇4 wt%的三正辛基-丙醯氧基錫之混合物。另一方面，在貯藏 槽206中回收液相成分0.31 kg，經由管線20將該液相成分 轉移至貯藏槽201中’再用作步驟（17-1)之原料。 步驟（17-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 134987.doc •184· 201008953 代替正丙醇而使用乙酵（曰本和光純藥工業公司製，脫 水）12.73 kg，將攪拌槽208加熱至約80°C，進行約80小時 反應，除此以外，進行與實施例16之步驟（16-3)相同之方 法，自管線28蒸德回收未反應之乙醇。該蒸館成分為 13.21 kg，含有83·7 wt°/0的乙醇、及13_9 wt%的丙酸乙 酯。 繼而，將3-曱基-1-丁醇3·99 kg投入擾拌槽208中，進行 與實施例16之步驟（16-3)相同之方法，自管線28回收包含 未反應之3 -甲基-1-丁酵等之低彿成分β該低濟成分為3.% kg，該低沸成分中含有74.5 wt%的3-曱基-1-丁醇、及25 5 wt%的乙醇。 經由管線29將該攪拌槽208中所獲得之殘留物回收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由n9Sn、巾…厘汉進 行分析後可知，該回收物含有97.9 wt%的二正辛基_雙（3_ 曱基丁氧基）錫。 [實施例18] 步驟（18-1):取代基交換反應 使用圖6之裝置進行反應。 代替藉由與實施例13之步驟（13_2)相同之方法所獲得的 包含1，1，3,3-四正辛基屮弘雙(”基丁氧基)二錫氧烷之烷 基錫組合物，而將藉由與實施例15之步驟(15_2)相同之方 法所獲得的包含以从四正辛基〇雙（2_乙基丁氧基）二 1氧燒之烧基錫組合物貯藏在貯藏槽洲中。自貯藏槽2〇ι 經由管線21向具備蒸館塔之授摔槽綱中投人包含^^ 134987.doc -185- 201008953 四正辛基-1，3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷之垸基錫組合物 3.95 kg ’使用乙酸〇_83 kg、乙酸酐1.68 kg，除此以外， 進行與實施例16之步驟（16-1)相同之方法，對未反應之乙 酸酐等低沸成分進行蒸館’自管線24回收低沸成分約1.59 kg °對該低沸成分進行氣相層析法分析後可知，該低沸成 分含有乙酸、乙酸針、2-乙基-1-丁醇。授摔槽2〇4中獲得 殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉由"9Sn、ih_nmr進行 分析後可知’該殘留物含有44.8 wt%的二乙酸二正辛基 錫、及25.2 wt%的乙酸三正辛基錫。 步驟（18-2):院基再分配反應 繼續使用如圖6之裝置進行反應。 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，攪拌槽2〇8中 獲得含有98·9 wt%的二乙酸二正辛基錫之混合物。另一方 面，貯藏槽206中回收液相成分〇·24 kg，經由管線2〇將該 液相成分轉移至貯藏槽201中，而用作步驟（丨^彡之原料。 步驟（18-3):二院基錫化合物之炫氧基化 除了代替正丙醇而使用乙醇1〇.75 kg，且將攪拌槽2〇8加 熱至約80。(：並進行約1 50小時之反應以外，進行與實施例 16之步驟（16-3)相同之方法，自管線28蒸餾回收未反應之 乙醇。該蒸餾成分為10.94 kg，含有85.2 wt%的乙醇、及 12.2 wt%的乙酸乙酯。 繼而，代替3-曱基-1-丁醇而將2_乙基丁醇3 91 “投 入攪拌槽208中，進行與實施例16之步驟（163)相同之方 法，自管線28回收包含未反應之2·乙基_丨_丁醇等之低沸成 134987.doc • 186 · 201008953 分。該低沸成分為3.29 kg，該低沸成分中含有72.3 wt%的 2-乙基-1-丁醇、及21.3 wt0/。的乙醇。 將該攪拌槽208中所獲得之殘留物經由管線29回收至貯 藏槽209中》對該回收物進行抽樣，藉由ii9Sn、iH_NN1R進 行分析後可知，該回收物含有97.4 wt%的二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫。 [實施例19] 步驟（19-1):取代基交換反應 使用如圖6之裝置進行反應。 代替藉由與實施例13之步驟（13-2)相同之方法而獲得之 包含1，1，3,3-四正辛基-1，3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷之烷 基錫組合物’將藉由與參考例3之步驟（3_2)相同之方法而 獲得之包含1，1，3,3-四正丁基-1，3-二丁氧基二錫氧烷之燒 基錫組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽2〇1經由管線21 而向具備蒸餾塔之攪拌槽2〇4中投入包含^弘四正丁基 1’3 - — 丁氧基二錫氧烧之烧基錫組合物5.41 kg，並且代替 乙酸而使用己酸3.21 kg，代替乙酸酐而使用己酸酐6 81 kg ’除此以外，進行與實施例16之步驟（16_1}相同之方 法，對未反應之己酸肝荨低彿成分進行蒸館，自管線24 口 收低沸成分約6.29 kg。對該低沸成分進行氣相層析法分析 後可知，該低沸成分含有己酸、己酸酐、正丁醇。授掉槽 204中獲得殘留物。對該殘留物進行柚樣，藉由"9 ! n、Η- NMR進行分析後可知，該殘留物含有47 3 wt%的二正丁 基-二丙酿氧基錫、及20_7 wt%的三正丁基-丙醯氧基锡。 134987.doc -187- 201008953 步驟（19-2):烷基再分配反應 繼續使用如圖6之裝置進行反應。 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，在攪拌槽208 中獲得含有90.2 wt%的二正丁基-二丙醯氧基錫之混合物。 另一方面，在貯藏槽206中回收液相成分0.46 kg，經由管 線20將該液相成分轉移至貯藏槽201中，而用作步驟ο、。 之原料。 步驟（19-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 代替正丙醇而使用正丁醇32.57 kg ’將攪拌槽2〇8加熱至 約12 0 C，進行約8 0小時之反應，除此以外，進行與實施 例16之步驟（16_3)相同之方法，自管線28蒸餾回收未反應 之正丁醇。該蒸餾成分為33.97 kg ’含有83.8 wt%的正丁 醇、及14.7 wt%的己酸丁醋。 將該攪拌槽208中所獲得之殘留物經由管線29而回收至 貯藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由mSn、1h_nmr 進行分析後可知，該回收物含有761 wt%的二正丁基-二 (正T氧基）錫、及10·9 wt%的三正丁基_(正丁氧基）錫。 [實施例20] 步驟（2(M):取代基交換反應 使用圖6之裝置進行反應。 同之方法所獲得的
四正丁基-1,3-二 代替藉由與實施例13之步驟（丨3_2)相 包含1，〗，3,3-四 基錫組合物， 匀相同之方法所 丁氧基二錫氧燒之炫 獲得的包含1，1，3,3_四正丁某 134987.doc 201008953 基錫組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽2〇1經由管線以 向具備蒸餾塔之攪拌槽204中投入包含丨，^，％四正丁基_ 1，3-二丁氧基二錫氧烷之烷基錫組合物又4〗kg，並且代替 乙酸而使用己酸3.21 kg ’代替乙酸酐而使用己酸酐6 81 kg，除此以外，進行與實施例16之步驟（丨卜”相同之方 法，對未反應之己酸酐等低沸成分進行蒸餾，而自管線24 ： 回收低沸成分約6.29 4。對該低沸成分進行氣相層析法分 析後可知，該低沸成分含有己酸、己酸酐、正丁醇。攪拌 ⑩ 槽204中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉由n9Sn、 W-NMR進行分析後可知’該殘留物含有47 3 wt%的二正 丁基-一丙酿氧基錫、及20.7 wt%的三正丁基·丙酿氧基 錫。 步驟（20-2):烷基再分配反應 繼續使用如圖6之裝置進行反應。 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，在授拌槽2〇8 中獲得含有90.2 wt%的二正丁基-二丙醯氧基錫之混合物。 另一方面，在貯藏槽206中回收液相成分0.46 kg，經由管 線20將該液相成分轉移至貯藏槽201中，而用作步驟（Μ」） 之原料。 步驟（20-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 代替正丙醇而使用正丁醇32.57 kg’將攪拌槽2〇8加熱至 約120°C，進行約8〇小時之反應，除此以外，進行與實施 例16之步驟（16_3)相同之方法，自管線28蒸餾回收未反應 之正丁醇。該蒸德成分為33.97 kg ’含有83.8 wt%的正丁 134987.doc •189- 201008953 醇、及14.7 wt%的己酸丁酯。 *將該授拌槽208中所獲得之殘留物經由管線洲收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由⑴如、 行分析後可知，該回收物含有76」wt%的二正丁基二（正 丁氧基）錫、及10.9 wt%的三正丁基_(正丁氧基）錫。 [實施例21] 步驟(21-1):使用再生之二烷基錫二烷氧化物化合物來製 造碳酸醋 在實施例15之步驟（15_2)中，自排出管線16以18 g/hr排 出烷基錫烷氧化物觸媒組合物，另一方面自供給管線17以 18 g/hr供給實施例18之步驟（18_3)中所獲得之含有97 * wt/D的一正辛基_雙（2_乙基丁氧基）錫之混合物。將再生之 一正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫經由管線4供給至塔型反應 器1〇2。藉由與實施例15之步驟（15_2)相同之方法來進行運 轉，自管線15以約1075 g/hr回收99 wt°/〇的碳酸雙（2-乙基 丁基）Sg。峻酸雙（2-乙基丁基）酯之回收量在使用所再生之 二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫之前後並無變化。 [實施例22] 步驟（22-1):碳酸酯之製造 藉由如圖7所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。 經由管線41，以6944 g/hr將實施例16之步驟（16-3)中所 獲得之含有97.1 wt%的二正辛基-雙（3_甲基丁氧基）錫之混 合物進料至高壓釜4〇1中。自管線42以1390 g/Hr將二氧化 碳供給至該高壓蚤中，將高壓爸内壓維持在4 MPa-G。將 134987.doc -190- 201008953 高虔爸中之溫度設定為120°C，將滯留時間調整為約4小 時’進行二氧化碳與二正辛基-雙（3-曱基丁氧基）錫之反 應’而獲得包含碳酸雙（3_甲基丁基）酯之反應液。經由管 線43與調節閥以7253 g/hr將該反應液轉移至除碳槽402 中’去除殘存之二氧化碳，自管線44回收二氧化碳。其 後’經由管線45將該反應液轉移至約142°C、約0.5 kPa之 薄膜蒸發裝置403中’而獲得包含碳酸雙（3_曱基丁基）酯之 儀份。經由冷凝器405及管線47將包含碳酸雙（3 -曱基丁基） 酉曰之館份供給至填充有填充物Metal Gauze CY且具備再沸 器408及冷凝器407的蒸销塔406中，而進行蒸顧純化。自 管線49以1351 g/hr獲得99 wt%之碳酸雙（3-甲基丁基）酯。 另一方面，經由管線46以約58990 g/Hr將利用薄膜蒸發裝 置4 03所分離之液相成分回收至貯藏槽404中。對該液相成 为進行抽樣，藉由119Sn、h-NMR進行分析後可知，該液 相成分係含有約98 wt%的1，1，3,3 -四正辛基_1，3 -雙（3 -甲基 丁氧基）二錫氧烧的混合物。 步驟（22-2):取代基交換反應 經由管線53 ’將步驟（22-1)中回收至貯藏槽4〇4中之液相 成分向具備蒸镏塔之授拌槽405中進料4. Π kg。將該授摔 槽405加熱至約40°C，自管線55將乙酸丨.18 kg投入至授拌 槽405中。攪拌約1小時後，將攪拌槽4〇5之系統内減壓至 約0.13 kPa，將攪拌槽405加熱至約8(rc，進行低沸成分之 蒸館’自管線5 5回收低沸成分〇 · 9 8 kg。繼而，利用氮氣將 該攪拌槽405内之壓力恢復至大氣壓，加熱至約i〇(rc，並 134987.doc •191- 201008953 經由管線55投入乙酸肝1.67 kg。擾掉約3小時後，.將搜竹 槽405内減壓至約1 kPa，並將該攪拌槽405加熱至約 120°C ’對未反應之乙酸酐等低沸成分進行蒸餾，自管線 5 5回收低沸成分約1 · 8 2 k g。對該低彿成分進行氣相層析法 分析後可知’該低沸成分含有乙酸、乙酸酐、3-曱基丁 醇。攪拌槽405中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉 由119Sn、iH-NMR進行分析後可知，該殘留物含有9〇 7 wt%的二乙酸二正辛基錫。 步驟（22-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 在具備蒸餾塔之攪拌槽405中，自管線55投入正丙醇 14.56 kg。以將攪拌槽405密封之狀態，加熱至約100〇c、 進行約40小時反應後’自管線55蒸餾回收未反應之正丙 醇。該蒸館成分為14.56 kg，含有86.9 wt%的正丙醇、及 11 ·2 wt%的乙酸丙酯。 繼而，自管線55向攪拌槽405中投入3-甲基-1-丁醇3.55 kg。將攪拌槽405加熱至約130。(：，攪拌約3小時後，對擾 拌槽405進行系統内減壓，自管線55回收包含未反應之3_ 甲基-1 - 丁醇等之低沸成分。回收3.11 kg的該低沸成分， 該低沸成分中含有69.5 wt%的3-甲基-1-丁醇、及30.5 wt% 的正丙醇。 經由管線56將該攪拌槽405中所獲得之殘留物回收至貯 藏槽406中。對該回收物進行抽樣，藉由119Sn、W-NMR進 行分析後可知，該回收物含有96.0 wt%的二正辛基-雙（3-曱基丁氧基）錫。 134987.doc -192- 201008953 步驟（22-4):碳酸酯之製造 代替實施例16之步驟（16-3)中所獲得之含有97.1 wt%的 二正辛基-雙（3·甲基丁氧基）錫之混合物’而使用步驟（22_ 3)中所獲得之含有二正辛基-雙（3_甲基丁氧基）錫之回收 物’除此以外，實施與步驟（21-1)相同之方法，自管線49 以1350 g/hr獲得99 wt%之碳酸雙（3-甲基丁基）酯。 [實施例23] 步驟（23-1):碳酸酯之製造 利用如圖7所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。 經由管線41，以7318 g/hr將實施例18之步驟（18-3)中所 獲得之含有97.4 wt%的二正辛基-雙（2_乙基丁氧基）錫之混 合物進料至高壓釜401。自管線42以973 g/hr將二氧化碳供 給至該高壓釜，將高壓釜内壓維持在4 MPa-G。將高壓爸 中之溫度設定為12〇°C，將滯留時間調整為約4小時，進行 二氧化碳與二正辛基-雙（2_乙基丁氧基）錫之反應，而獲得 包含碳酸雙（2-乙基丁基）酯之反應液。經由管線43與調節 閥以8188 g/hr將該反應液轉移至除碳槽4〇2中，去除殘存 之二氧化碳，自管線44回收二氧化碳.其後，將該反應液 經由管線45而轉移至約150°C、約0.5 kPa之薄膜蒸發裝置 4〇3中，而獲得包含碳酸雙（2_乙基丁基）酯之餾份。將包含 碳酸雙（2-乙基丁基）酯之餾份經由冷凝器4〇5及管線47供給 至填充有填充物Metal Gauze CY且具備再沸器4〇8及冷凝 器407的蒸德塔406中，而進行蒸館純化。自管線49以ι35丄 g/hr獲得99 wt%的碳酸雙（2_乙基丁基）酯。另一方面，經 134987.doc -193- 201008953 由s線46以約6074 g/hr將利用薄膜蒸發裝置4〇3所分離之 液相=分回收至貯藏槽4〇4中。對該液相成分進行抽樣， 藉由Sn、H-NMR進行分析後可知，該液相成分係含有 約98 wt%的U，3,3_四正辛基.以雙⑺乙基丁氧基）二錫氧 烧之混合物。 步驟（23-2):取代基交換反應 代替步驟（21-1)中回收至貯藏槽4〇4中之液相成分，而將 步驟（23-1)中回收至貯藏槽4〇4中之液相成分進料2 〇4 kg， 並且使用乙酸0·55 kg，使用乙酸酐〇 78 kg，除此以外，進 行與實施例22之步驟（22-2)相同之方法，自管線55回收低 沸成分約0.86 kg。對該低沸成分進行氣相層析法分析後可 知’該低沸成分含有乙酸、乙酸酐、2_乙基-丨_ 丁醇。搜拌 槽405中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉由"、打、 W-NMR進行分析後可知，該殘留物含有88丨wt〇/〇的二乙 酸^正辛基錫。 步驟（23-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 除了代替正丙醇而使用乙醇5.28 kg以外，進行與實施例 22之步驟（22-3)相同之方法，自管線55回收蒸餾成分5.38 kg。該蒸餾成分含有85.3 wt%的乙醇、及12·3 wt°/〇的乙酸 乙酯。 繼而’除了代替3 -甲基-1-丁醇而使用2 -乙基-1-丁醇1.92 kg以外，進行與實施例22之步驟（22-3)相同之方法，回收 低沸成分1.52 kg。經由管線56將該攪拌槽405中所獲得之 殘留物回收至貯藏槽406中。對該回收物進行抽樣，藉由 134987.doc -194- 201008953 H NMR進行分析後可知，該回收物含有96.5 wt% 的二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫。 步驟（23-4):碳酸酯之製造 代替實施例16之步驟（16_3)中所獲得之含有97 4 wt%的 一正辛基-雙（2·乙基丁氧基）錫之混合物，而使用步驟（23_ 3)中所獲得之含有二正辛基_雙（2_乙基丁氧基）錫之回收 物，除此以外，實施與步驟相同之方法，自管線49 以1350 g/hr獲得99 wt%的碳酸雙（2-乙基丁基）酯。 Φ [實施例24] 步驟（24_ 1):碳酸醋之製造 利用如圖7所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。 經由管線41，以6666 g/hr將實施例19之步驟（19-3)中所 獲得之含有76.1 wt%的二正丁基-二（正丁氧基）錫之混合物 進料至高壓爸401中。自管線42以970 g/hr向該高壓釜供給 一乳化碳’將南壓爸内壓維持在4 MPa-G。將高壓爸中之 溫度設定為120°C ’將滯留時間調整為約4小時，並進行二 ® 氧化碳與二正丁基-二（正丁氡基）錫之反應，而獲得包含碳 酸二（正丁基）酯之反應液。經由管線43與調節閥，以7722 g/hr將該反應液轉移至除碳槽402中，去除殘存之二氧化 碳，自管線44回收二氧化碳。其後，將該反應液經由管線 45而轉移至約150°C、約0.5 kPa之薄膜蒸發裝置403中，而 獲得包含破酸二（正丁基）酯之館份。經由冷凝器405及管線 47將包含碳酸二（正丁基）S旨之館份供給至填充有填充物 Metal Gauze CY且具備再沸器408及冷凝器407的蒸館塔 134987.doc -195- 201008953 406中’而進行蒸餾純化。自管線49以1165 g/hr獲得99 wt%的碳酸二（正丁基）酯。另一方面，經由管線46將利用 薄膜蒸發裝置403所分離之液相成分回收至貯藏槽404中。 對該液相成分進行抽樣，藉由"9Sn、^-NMR進行分析後 可知’該液相成分係含有約77 wt%的1，1，3,3-四正丁基· 1，3 - —（正丁氧基）二錫氧烧的混合物。 步驟（24_2):取代基交換反應 代替步驟（21-1)中回收至貯藏槽404中之液相成分，而將 步驟（24-1)中回收至貯藏槽404中之液相成分進料4 〇6 kg， 並且代替乙酸而使用己酸2.55 kg，代替乙酸酐而使用己酸 酐4.99 kg，除此以外，進行與實施例22之步驟（22_2)相同 之方法，自管線55回收低沸成分約4.74 kg。對該低沸成分 進行氣相層析法分析後可知，該低沸成分含有己酸、己酸 肝、正丁醇。攪拌槽405中獲得殘留物。對該殘留物進行 抽樣，藉由1〗9Sn、i-NMR進行分析後可知，該殘留物含 有56.4 wt%的二正丁基·二丙醯氧基錫。 步驟（24-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 除了代替正丙醇而使用正丁醇24.59 kg以外，進行與實 施例22之步驟（22-3)相同之方法，自管線55回收蒸餾成分 25.51 kg。該蒸餾成分含有83 7 wt%的正丁醇 '及14 8 wt%的己酸丁酯。另一方面，經由管線％將該攪拌槽 中所獲得之殘留物回收至貯藏槽406中。對該回收物進行 抽樣，藉由119Sn、】H-NMR進行分析後可知，該回收物含 有77.2 wt%的二正丁基-二（正丁氧基）錫。 134987.doc -196- 201008953 步驟（24-4):碳酸酯之製造 代替實施例16之步驟（16-3)中所獲得之含有二正丁基_二 (正丁氧基）錫之混合物，而使用步驟（24-3)中所獲得之含 有二正丁基-二（正丁氡基）錫之回收物，除此以外，實施與 步驟（24-1)相同之方法，自管線49以U65 g/hr獲得99加％ 之碳酸二（正丁基）酯。 [實施例25] 步驟（25-1):二烷基錫觸媒之製造 除了使用二正辛基錫氧化物890 g及2 -乙基-1-丁醇2803 g 以外，進行與實施例15之步驟（15-1)相同之方法，獲得含 有1，1，3,3-四正辛基·ι，3-雙（2-乙基丁氧基）·二錫氧烷之溶 液。相對於一正辛基錫氧化物，以99%之產率獲得1，1,3,3· 四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧基）-二錫氧烷。重複相同操作 12次’合計獲得ι，ι，3,3-四正辛基-ΐ，3-雙（2-乙基丁氧基）_ 二錫氧烷13400 g。 步驟（25_2):碳酸醋之製造 利用如圖8所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。向填充 有填充物Metal Gauze CY之内徑151 mm、有效長度5040 mm之塔型反應器604中，自管線60以6074 g/hr供給上述中 所製造之1，1，3,3-四正辛基-1，3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧 烷，自管線62以12260 g/hr供給蒸餾塔601中所純化之2-乙 基-1-丁醇。利用加熱器及再沸器605對該反應器内604進 行’以使液溫度達到16〇。(：，利用壓力調節閥進行調整， 以使壓力達到約120 kPa-G。自反應器上部，經由管線64 134987.doc • 197· 201008953 以12344 g/hr輸送含水之2-乙基-1-丁醇，及經由管線61以 958 g/hr輸送2-乙基-1-丁醇至填充有填充物Metal CY且具備再沸器603及冷凝器602的蒸餾塔6〇1中，而進行 蒸餾純化。在蒸餾塔601之上部，藉由冷凝器6〇2使高濃度 之含水餘份冷凝’並自管線63進行回收。經由位於蒸餾塔 601之下部之官線62將經純化之2-乙基_丨·丁醇輸送至塔型 反應盗604中。自塔型反應器604之下部，獲得包含二正辛 基-雙（2-乙基丁氧基）錫與l，i，3,3-四正辛基—丨一-雙^·乙基 丁氧基）二錫氧烷之烷基錫烷氧化物觸媒組合物，並經由 管線65將其供給至薄膜蒸發裝置6〇6中。在薄膜蒸發裝置 606中蒸餾去除2-乙基-1-丁醇。自薄膜蒸發裝置6〇6之下部 經由管線66輸送烷基錫烷氧化物觸媒組合物，以二正辛 基-雙（2·乙基丁氧基）錫與M，3,3_四正辛基^弘雙^-乙基 丁氧基）二錫氧烷之流量達到約6945 g/hr之方式進行調 節，而供給至高壓釜608中。自管線69以973 g/hr向高壓釜 供給二氧化碳，將高壓爸内壓維持在4 MPa_G。將高壓釜 中之溫度設定為12()^：，將滞留時間調整為約4小時，進行 二氧化碳與烷基錫烷氧化物觸媒組合物之反應，而獲得包 含碳酸雙（2-乙基丁基）醋之反應液。經由管線川與調節閥 將該反應液轉移至除碳槽6〇9中，去除殘存二氧化碳自 管線71回收：氧化碳。其後，經由管線⑽該反應液轉移 至約142。。、約0‘5 kPa之薄膜蒸發裝置61〇中以113 3_ 四正辛基-1,3-雙(2-乙基丁氧基)二錫氧烷之流量達到約 6074 g/hr之方式進行調節、供給，而獲得包含碳酸雙乙 134987.doc -198· 201008953 基丁基）醋之餾份，另一方面經由管線73將蒸發殘渣回收 至貯藏槽615中。該回收成分為丨，^〗-四正辛基-l，3-雙（2-乙基丁氧基）二锡氧烷。經由冷凝器611及管線74以959 g/hr將包含碳酸雙（2-乙基丁基）酯之餾份供給至填充有填 充物Metal Gauze CY且具備再沸器613及冷凝器612的蒸餾 塔614中’而進行蒸餾純化後，自管線75以1〇75 g/hr獲得 99 wt%的碳酸雙（2-乙基丁基）酯。 步驟（25-3):取代基交換反應 經由管線76，將步驟（25-2)中回收至貯藏槽61 5中之蒸發 殘渣向具備蒸餾塔之攪拌槽616中進料3· 16 kg。將該攪拌 槽61 6加熱至約40。(：，自管線77將乙酸1.03 kg投入攪拌槽 6 16中。攪拌約1小時後，將攪拌槽616之系統内減壓至約 〇·13 kPa，將攪拌槽616加熱至約80°C ’並進行低沸成分之 蒸餾，自管線79回收低沸成分0.85 kg。對該低沸成分進行 氣相層析法分析後可知，該低沸成分含有乙酸、2-甲基-1 -丁醇。繼而，利用氮氣將該授拌槽616内之壓力恢復至大 氣壓，加熱至約l〇〇°C，經由管線77投入乙酸酐1.46 kg。 授拌約3小時後，將攪拌槽616内減壓至約1 kPa，將該搜 拌槽616加熱至約120〇C，對未反應之乙酸酐等低沸成分進 行蒸餾，自管線79回收低沸成分約1.59 kg。在攪拌槽616 中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉由H9Sn、 NMR進行分析後可知’該殘留物含有9〇 5 wt%的二乙酸二 正辛基踢。 步驟（25-4):二烷基錫化合物之烷氧基化 134987.doc -199- 201008953 自管線77向具備蒸餾塔之攪拌槽616中投入正丙醇13 73 kg。將授拌槽405以經密封之狀態加熱至約i〇(rc，並進行 約40小時之反應後，自管線79蒸館回收未反應之正丙醇。 該蒸餾成分為13.73 kg，含有87.8 wt%的正丙醇、及1〇 4 wt°/〇的乙酸丙酯。 繼而’自管線77向攪拌槽616中投入2_乙基-丨_丁醇3 u kg。將攪拌槽616加熱至約13〇。(：，攪拌約3小時後，對授 拌槽616進行系統内減壓’自管線79回收包含未反應之弘 曱基-1 - 丁醇等的低沸成分。回收2.80 kg的該低沸成分， 該低沸成分中含有70.1 wt%的2-乙基-1-丁醇、及28.9 wt0/。 的正丙醇。 經由管線78將該授拌槽616中所獲得之殘留物回收至貯 藏槽617中。對該回收物進行抽樣，藉由mSn、士…河尺進 行分析後可知，該回收物含有97.0 wt%的二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫。 步驟（25_5):碳酸醋之製造 代替步驟（25-1)中所獲得之含有^弘四正辛基雙 (2-乙基丁氧基）二錫氧烷之混合物，而使用步驟（25_句中所 獲得之含有二正辛基-雙（2-乙基丁氧基）錫之回收物，除此 以外’實施與步驟（24-1)相同之方法，自管線75以1075 g/hr獲得99wt%的碳酸雙（2_乙基丁基）酯。 [實施例26] 步驟（26-1):二烧基錫觸媒之製造 除了使用二正辛基錫氧化物963 g及3-曱基-1-丁醇2120 g 134987.doc -200- 201008953 以外，進行與實施例13之步驟（13_1}相同之方法而獲得 反應液1120 g。根據mSn、lH、分析結果可確 認.相對於二正辛基錫氧化物，以99%之產率獲得m]· 四正辛基-1，3-雙（3-曱基丁氧基）_二錫氧烷。重複相同操作 12次，獲得合計13990 g。 步驟（26-2):碳酸酯之製造 利用如圖8所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。 代替1，1，3,3-四正辛基乙基丁氧基）二錫氧烷而 ® 使用步驟（26_1)中所獲得之1，1，3,3-四正辛基-1,3-雙（3-甲基 丁氧基）-二錫氧烷並自管線60進行供給，且代替2胃乙基-N 丁醇而使用3-曱基-i_ 丁醇，除此以外，進行與實施例以之 步驟（24-2)相同之方法，自管線75以94〇 g/hr獲得99〜以之 碳酸雙（3 -甲基丁基）酯。另一方面，經由管線73將薄膜蒸 發裝置610中之蒸發殘渣貯藏在貯藏槽615中。該蒸發殘渣 係1，1，3,3-四正辛基_ι，3_雙（3_甲基丁氧基）二錫氧烷。 步驟（26-3):取代基交換反應 參 經由管線76 ’將步驟（26-2)中回收至貯藏槽615中之蒸發 殘〉查向具備黑·館塔之擾拌槽616中進料2.8 6 kg，並且代替 -乙酸而使用丙酸1.00 kg，代替乙酸酐而使用丙酸酐147 kg，除此以外，進行與實施例24之步驟（24-3)相同之方 法’在攪拌槽616中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣， 藉由119Sn、W-NMR進行分析後可知，該殘留物含有9〇 2 wt%的二正辛基-二丙醯氧基錫。 步驟（26-4) ··二烧基錫化合物之燒氧基化 134987.doc •201 · 201008953 除了代替正丙醇而使用乙醇7.78 kg以外，進行與實施例 24之步驟（24-4)相同之方法，自管線79進行蒸餾回收。該 蒸餾成分為8.07 kg，含有83.0 wt%的乙醇、及14 〇 wt%的 丙酸乙醋。 繼而’代替2-乙基-1-丁醇而使用3-曱基丁酵2.44 kg ’自管線79回收包含未反應之3-甲基-1-丁醇等之低沸成 分。回收2.05 kg的該低沸成分，該低沸成分中含有72 2 wt%的3-曱基-1-丁醇、及24.9 wt%的乙醇。 經由管線78將該攪拌槽616中所獲得之殘留物回收至貯 藏槽617中。對該回收物進行抽樣，藉由"9Sn、士…厘尺進 行分析後可知，該回收物含有9 5 · 0 wt%的二正辛基-雙（3_ 甲基丁氧基）錫。 步驟（26-5):碳酸酯之製造 代替步驟（26-1)中所獲得之含有1，1,3,3-四正辛基-l，3-雙 (2-乙基丁氧基）二錫氧烷之混合物，而使用步驟（26-4)中所 獲得之含有二正辛基-雙（3-甲基丁氧基）錫之回收物，除此 以外，實施與步驟（26-1)相同之方法，自管線75以940 g/hr 獲得99wt°/〇之碳酸雙（3_曱基丁基）酯。 [實施例27] 步驟（27-1):包含ΐ5ΐ,3,3·四正丁基-1,3-雙（3-甲基丁氧基） 一錫氧烧之烧基錫組合物之回收 在參考例1之步驟（Α-2)中，連續運轉約230小時後，自 排出管線16以18 g/hr排出包含1，1,3,3-四正丁基-1,3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧院之炫基錫組合物，另一方面自供給 134987.doc -202- 201008953 管線17以18 g/hr供給參考例丄之步驟（A_1}中所製造之 1，1，3,3-四正丁基-1，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷。藉由 119Sn-NMR之分析後可知，除包含約5〇 wt%之込丨^^-四正 丁基-1，3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷以外，可見三正丁基 (3 -甲基丁乳基）錫及在_ 240605 ppm中的1,1,3,3-四正丁 基-1,3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷之失活成分的複數個 NMR位移。 步驟（27-2):取代基交換反應 使用圖6之裝置進行反應。 代替藉由與實施例13之步驟（13-2)相同之方法而獲得之 包含1，1，3,3-四正丁基-i，3-雙（3-甲基丁氧基）二錫氧烷之烷 基錫組合物，而將藉由與步驟（2Ί)相同之方法而獲得之 包含1，1，3,3-四正丁基_1，3_雙（3_曱基丁氧基）二錫氧烷之烷 基錫組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽201經由管線21 向具備蒸餾塔之攪拌槽204中投入包含1,1，3,3-四正丁基-1，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷之烷基錫組合物5 96 kg， 且使用乙酸1 _66 kg、乙酸酐3.24 kg，除此以外，進行與實 施例16之步驟（16_υ相同之方法，對未反應之乙酸酐等低 彿成分進行蒸餾，自管線24回收低沸成分約3.〇8 kge授拌 槽204中獲得殘留物。對該殘留物進行抽樣，藉由 H-NMR進行分析後可知’該殘留物含有46.1 wt°/〇的二乙 酸二正丁基錫、及23.0 wt%的乙酸三正丁基錫。 步驟（27-3):烷基再分配反應 繼續使用如圖6之裝置進行反應。 134987.doc •203· 201008953 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，在授拌槽2〇8 中獲得含有87.7 wt%的二乙酸二正丁基錫之混合物。另一 方面，貯藏槽206中回收液相成分0.44 kg，經由管線20將 該液相成分轉移至貯藏槽201中，再用作步驟（27_2)之原 料。 步驟（27-4):二烷基錫化合物之烷氧基化 代替正丙醇而使用碳酸雙（3-曱基丁基）酯n 89 kg，將授 拌槽208加熱至約80 C ’進行約1 50小時反應，除此以外， 進行與實施例16之步驟（16-3)相同之方法，自管線28蒸顧 回收未反應之碳酸雙（3 -曱基丁基）。該蒸館成分為I].I? kg，含有67.4 wt〇/〇的碳酸雙（3·甲基丁基）酯、及42 3 wt% 的乙酸異戊酯。 將該撲拌槽208中所獲得之殘留物經由管線29回收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由"9Sn、1h_nmr進 行分析後可知，該回收物含有98.4 wt%的二正丁基_雙（3_ 甲基丁氧基）錫。 [實施例28] 步驟（28-1):包含1，1，3,3-四正丁基d，％雙（2_乙基丁氧基） 二錫氧烧之烧基錫組合物之回收 在參考例2之步驟（B-2)中，連續運轉約21〇小時後，自 排出管線16以18 g/hr排出包含込^，、四正丁基“，、雙（2_ 乙基丁乳基）一錫氧烧之烧基錫組合物’另一方面自供终 管線17以18 g/hr供給參考例丨之步驟（Bq)中所製造之 1,1,3,3-四正丁基-1,3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷。藉由 134987.doc •204- 201008953 119Sn-NMR進行分析後可知，除包含約5〇 wt%的四 正丁基-1，3-雙（2_乙基丁氧基）二錫氧烷以外，可見三正丁 基（2乙基丁乳基）锡及在_24〇〜_605 ppm中之1，1，3，3-四正丁 基-1，3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷之失活成分的複數個 NMR位移。 步驟（28_2):取代基交換反應 使用如圖6之裝置進行反應。 代替藉由與實施例13之步驟（13_2)相同之方法所獲得的 β 包含1,1，3,3-四正辛基-1，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷之烷 基錫組合物，將藉由與步驟（28-1)相同之方法所獲得的包 含U，3,3-四正丁基乙基丁氧基）二錫氧烷之烷基 錫組合物貯藏在貯藏槽201中。自貯藏槽2〇1經由管線21向 具備瘵餾塔之攪拌槽204中投入失活體組合物4·42 kg，並 且代替乙酸而使用丙酸丨.43 kg，代替乙酸酐而使用丙酸酐 2.94 kg，除此以外，進行與實施例16之步驟（丨心丨）相同之 φ 方法，對未反應之乙酸酐等低沸成分進行蒸餾，自管線24 回收低沸成分約2.75 kg。攪拌槽204中獲得殘留物。對該 殘留物進行抽樣，藉由n9Sn、lH_NMR進行分析後可知， 該殘留物含有45.3 Wt%的二正丁基·二丙醯氧基錫、及218 wt%的三正丁基-丙醯氧基錫。 步驟（28-3):烧基再分配反應 繼續使用如圖6之裝置進行反應。 進行與實施例16之步驟（16-2)相同之方法，在攪拌槽2〇8 中獲得含有88.4 Wt%的二正丁基二丙酿氧基錫之混合物。 134987.doc -205- 201008953 另一方面，在貯藏槽206中回收液相成分0.32 kg，經由管 線20將該液相成分轉移至貯藏槽201中，而用作步驟（28_2) 之原料。 步驟（28-4):二烷基錫化合物之烷氧基化 代替正丙醇而使用碳酸雙（2-乙基丁基）酯23.30 kg，將攪 拌槽208加熱至約80。(： ’進行約1 50小時之反應，除此以 外’進行與實施例16之步驟（16-3)相同之方法，自管線28 蒸館回收未反應之碳酸雙（2-乙基丁基）酯。該蒸餾成分為 18.29 kg ’含有79.2 wt°/。的碳酸雙（2-乙基丁基）醋、及16.3 wt°/〇的丙酸（2-乙基丁基）。 將該搜拌槽208中所獲得之殘留物經由管線29回收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣，藉由mSn、ih_nmr進 行分析後可知，該回收物含有98.4 wt%的二正丁基-雙（2_ 乙基丁氧基）錫。 [實施例29] 步驟（29-1):取代基交換反應 使用圖6之裝置進行反應。 代替藉由與實施例13之步驟（13_2)相同之方法所獲得的 包含1，1，3,3-四正辛基-l，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷之烷 基錫組合物，而將藉由與實施例丨5之步驟（丨5_2)相同之方 法所獲得的包含l，i，3,3-四正辛基雙（2_乙基丁氧基）二 錫氧烷之烷基錫組合物貯藏在貯藏槽2〇1中。自貯藏槽2〇1 經由管線21向具備蒸餾塔之攪拌槽204中投入包含 四正辛基-1,3-雙（2-乙基丁氧基）二錫氧烷之烷基錫組合物 134987.doc -206· 201008953 3.95 kg ’並且使用乙酸〇99 kg、乙酸酐2· 19 kg，除此以 外’進行與實施例18之步驟（18_1}相同之方法，對未反應 之乙酸酐等低沸成分進行蒸餾，自管線24回收低沸成分約 2·09 kg。攪拌槽204中獲得殘留物。對該殘留物進行抽 樣’藉由119Sn、h-NMR進行分析後可知，該殘留物含有 49_1 wt%的二乙酸二正辛基錫、及25 5 wt%的乙酸三正辛 基錫。 步驟（29-2):烷基再分配反應
繼續使用如圖6之裝置進行反應。 進行與實施例16之步驟（16_2)相同之方法，在攪拌槽2〇8 中獲得含有89.8 wt%的二乙酸二正辛基錫之混合物。另一 方面在貯藏槽2〇6中回收液相成分kg，經由管線2 〇 將該液相成分轉移至貯藏槽2〇1中，而用作步驟（29_丨）之原 料。 步驟（29-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 代替正丙醇而使用乙醇14 85 kg，將攪拌槽2〇8加熱至約 8〇t，進行約150小時之反應，除此以外，進行與實施例 16之步驟（16_3)相同之方法，自管線28蒸館回收未反應之 乙醇。該蒸館成分為15.08 kg，含有87 4 wt%的乙醇、及 1〇·4 wt%的乙酸乙酯。 將該攪拌槽208中所獲得之殘留物經由管線”回收至貯 藏槽209中。對該回收物進行抽樣 行分析後可知，該回收物含有91.1 基錫。 ，藉由 119Sn、ill-NMR進 wt%的二正辛基_二乙氧 134987.doc -207- 201008953 步驟（29·4):碳酸酯之製造 利用如圖7所示之連續製造裝置而製造碳酸酯。 經由管線41，以5073 g/hr將步驟（29_3)中所獲得之含有 wt%的二正辛基-二乙氧基錫之混合物進料至高1釜 4〇1中。自管線42以973 g/hr將二氧化碳供給至該高壓釜， 將高壓蚤内壓維持在4 MPa-G。將高壓釜中之溫度設定為 120C，將滯留時間調整為約4小時，進行二氧化碳與二正 辛基-二乙氧基錫之反應，而獲得包含碳酸二乙酯之反應 液。經由管線43與調節閥以6129 g/hr將該反應液轉移至除 碳槽402中，去除殘存之二氧化碳，自管線料回收二氧化 碳。其後，將該反應液經由管線45轉移至約15(rc、約〇 5 kPa之薄膜蒸發裝置403中，而獲得包含碳酸二乙酯之餾 伤。經由冷凝器405及管線47’將包含碳酸二乙醋之館份 供給至填充有填充物Metal Gauze CY且具備再沸器408及 冷凝器407的蒸餾塔406中，而進行蒸餾純化。自管線49以 1165 g/hr獲得99 wt%的碳酸二乙酯。另一方面，經由管線 Μ將利用薄膜蒸發裝置4〇3所分離之液相成分回收至貯藏 槽404中。對該液相成分進行抽樣，藉由mSn、士小厘汉進 行分析後可知，該液相成分係含有約98 wt%的l，l，3,3-四 正辛基-1,3 -二乙氧基-二錫氧院之混合物。 [比較例1] 步驟（1-1):取代基交換反應 在氮氣環境下，向1 L茄型燒瓶中投入藉由與實施例13 之步驟（13-2)相同之方法所獲得的包含四正辛基_ 134987.doc -208- 201008953 1，3-雙（3-曱基丁氧基）二錫氧烷之烷基錫組合物39〇经，其 次添加乙酸106 g與乙酸酐361 g，在25。(：下攪拌1小時。在 該燒瓶上安裝與館液接受器相連接之附帶回流冷卻器之分 餾頭、及溫度計，對該燒瓶内進行真空_氮氣置換後，將 該燒瓶浸潰於加熱至50。(：之油浴中。緩慢地對容器内進行 減壓，將剩餘之乙酸及乙酸酐等蒸餾去除，該燒瓶内獲得 殘留物410 g。對殘留物進行ιΗ及"9Sn_NMR測定後可知， 該殘留物係三正辛基乙醯氧基錫、二正辛基二乙醯氧基 ® 錫、及含有在〗19Sn-NMR中在-240〜-605 ppm下顯示出複數 個化學位移之錫原子的有機錫化合物之混合物。該混合物 中，二正辛基乙酿氧基錫為27.9 wt%，二正辛基二乙酿氧 基錫為49.9 wt%。 步驟（1-2):燒基再分配反應 在氮氣環境下’向500 mL金屬製壓力容器中投入步驟（1_ 2)中所獲得之混合物408 g。將該金屬製壓力容器浸潰於加 熱至200°C之油浴中，加熱3小時。將該耐壓反應容器冷卻 至室溫附近後’回收反應液。對反應液進行及119sn-NMR測定後可知’該反應液係含有二正辛基二乙醯氧基 錫、三正辛基乙醯氧基錫之有機錫化合物之混合物，二正 辛基-二乙酿氧基錫為91.5 wt% ’三正辛基乙酿氧基錫為約 5 wt%。 步驟（1-3):二烷基錫化合物之烷氧基化 向容積1 L之茄型燒瓶中投入步驟（1-2)中所獲得之混合 物405 g，並將燒瓶浸潰於加熱至50之油浴中。一面授 134987.doc •209- 201008953 掉内容物，-面添加(M mol/L氫氧化卸水溶液（和光純藥 工業公司製）500 mL，結果產生白色沈澱。利用渡紙過渡 混合液，並以80。(：乾燥過濾殘渣後，回收3〇2 §之白色固 體。該白色固體為二辛基氧化錫。 將該白色固體扇成3_甲基]•丁醇1836 g投入容心L 之祐型燒觀中。將該燒瓶安裝在連接有附帶溫度調節器之 油/谷真二泵及真二控制器之旋轉蒸發器上。旋轉蒸發器 之沖洗閥出口係與大氣麼下流通之氣氣管線相連接。將系 統内置換為氮氣後，將油浴溫度設定為146t：，將該燒瓶 浸潰於該油浴中並開始旋轉蒸發器之旋轉。在打開旋轉蒸 發器之沖洗閥的狀態下’在大氣壓氮氣下進行約7小時之 低沸成分之蒸餾去除，繼而緩慢地對系統内進行減壓，以 系統内壓力為76 kPa〜30 kPa之狀態，對殘存低沸成分進行 蒸餾去除。不再蒸餾出低沸成分後，自油浴取出該燒瓶並 將其冷卻。該燒瓶中獲得殘留液366 g。根據]H、、
Sn-NMR之分析結果可知，該燒瓶中之殘留液中所含有 之1，1,3,3-四正辛基'u-雙（3·甲基丁氧基）二錫氧燒為％ 4 wt% 〇 在該步驟（1-3)中，不使步驟（1_2)申所獲得之二正辛基_ 二乙醯氧基錫與3_甲基_丨_ 丁醇直接反應，而使二正辛基一 二乙醯氧基錫與鹼性水溶液（氫氧化鉀水溶液）進行反應， 生成二辛基氧化錫後，再使該二辛基氧化錫與3甲基_丨_ 丁 醇進行反應，而獲得1，1，3,3_四正辛基·丨’弘雙丨弘甲基丁氧 基）二錫氧烷，該二辛基氧化錫為固體，必須進行藉由過 134987.doc •210· 201008953 遽來回收固體之操作，因此工業實施時操作繁璃。 [比較例2] 步驟（II-1):四（二甲基胺基）錫與碳酸酯之反應 在大氣壓氮氣環境下，向容積2 L之茄型燒瓶中投入四 (二甲基胺基）錫（美國Gelest公司製）290 g、及參考例j之步 驟（A-2)中所製造之碳酸雙（3_曱基丁基）酯1〇1〇 g，在該燒 瓶上安裝戴氏冷卻器與三通旋塞。將該燒瓶浸潰於加熱至 150°C之油浴中，一面攪拌内容物一面加熱5小時。將該燒 瓶安裝在連接有附帶溫度調節器之油浴、真空泵及真空控 制器的旋轉蒸發器上。旋轉蒸發器之沖洗閥出口係與大氣 壓下流通之氮氣管線相連接。將系統内置換為氮氣後，將 油浴溫度設定為150°C ’將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始 旋轉蒸發器之旋轉。在打開旋轉蒸發器之沖洗閥的狀態 下’在大氣壓氮氣下進行約7小時低沸成分之蒸餾去除， 繼而緩慢地對系統内進行減壓，以系統内壓力為76 kPa〜10 kPa之狀態，對殘存低沸成分進行蒸餾去除。不再 蒸餾出低沸成分後’自油浴取出該燒瓶並將其冷卻。該燒 瓶中獲得殘留液292 g。根據1Η、13C、"9Sn-NMR之分析 結果可知’該燒瓶中之殘留液係含有98.0 wt%的四（二甲基 胺基）錫之溶液，未獲得錫烧氧化物。 [比較例3 ] 步驟（ΠΙ-l):四（二曱基胺基）錫與醇之反應 在大氣壓氮氣環境下’向容積2 L之茄型燒瓶中投入四 (二甲基胺基）錫285 g、及3-甲基·ι_丁醇1320 g，在該燒瓶 134987.doc •211· 201008953 上安裝戴氏冷部器與三通旋塞。將該燒瓶浸潰於加熱至 之油洛中，一面撲拌内容物一面加熱5小時。將該燒 瓶安裝在連接有附帶溫度調節器之油浴、真空泵及真空控 制器的旋轉蒸發II上。旋轉蒸發器之沖洗閥出。係與大氣 壓下流通之氮氣管線相連接。將系統内置換為氮氣後，將 油洽溫度設定為15(TC，將該燒瓶浸潰於該油浴中並開始 旋轉蒸發H之旋轉。在打開旋轉蒸發器之沖洗閥的狀態 下’在大氣壓t氣下S行約7小時低沸成分之蒸館去除， 繼而緩慢地對系統内進行減壓，以系統内壓力為％ kPa〜10 kPa之狀態，對殘存低沸成分進行蒸餾去除。不再 蒸餾出低沸成分後，自油浴取出該燒瓶並將其冷卻。該燒 瓶中獲得殘留液288 g。根據iH、13C、mSn_NMR之分析 結果可知，該燒瓶中之殘留液係含有98 〇 wt%的四（二甲基 胺基）錫之溶液，未獲得錫烷氧化物。 [產業上之可利用性] 本實施形態之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或四烷基 二烷氧基二錫氧烷化合物之製造方法（步驟係可藉由使 二垸基錫化合物及/或四烷基二錫氧烷化合物、與酸及/或 酸酐進行反應，不使用固體之錫化合物，而製造二烷基錫 二烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烧化合 物，因此較先前之方法更為簡便。 又，如上述所示，藉由在步驟（z)中組合各種步驟，可 將步驟（Z)用作新的碳酸酯之製造步驟之一部分。該等新 的碳酸酯之製造方法包括將該碳酸酯之製造方法中所生成 134987.doc -212· 201008953 之失去合成碳酸酯之觸媒活性的單烷基錫烷氧化物化合物 及三烷基錫烷氧化物化合物再生為二烷基錫二烷氧化物化 合物及/或四院基一院氧基二錫氡院化合物之步驟，因此 可解決碳酸酯製造步驟中之成本及廢棄物之問題。因此， 本發明在產業上極為重要。 【圖式簡單說明】 圖1係表示用以說明本實施形態中之將藉由二烧基錫二 烷氧化物化合物及/或四烷基二烷氧基二錫氧院化合物之 ⑩ 烧基歧化反應所生成之早燒基錫院氧化物化合物及三烧基 錫烷氧化物化合物，再生為二烷基錫二烷氧化物化合物及/ 或四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物之流程圖； 圖2係表示用以說明將碳酸酯之製造方法與本實施形態 之二烧基錫化合物之製造方法組合而成的經改良之碳酸醋 之製造方法之流程圖； 圖3係表示用以說明將本實施形態中之步驟（A)〜步驟（C) 及步驟（Z)組合而成的碳酸酯之製造方法之流程圖； 〇 ’ 圖4係表示用以說明將本實施形態中之步驟（I)〜步驟（III) 及步驟（Z)組合而成的碳酸酯之製造方法之流程圖； 圖5係表示顯示實施例中之碳酸酯之製造裝置之概念 圃， 圖6係表示顯示實施例中之二烷基錫二烷氧化物及/或四 烷基二烷氧基二錫氧烷之製造裝置之概念圖； 圖7係表示顯示實施例中之碳酸醋以及二烷基錫二烷氧 化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烧之製造裝置之概念 134987.doc -213- 201008953 圖；及 圖8係表示顯示實施例中之碳酸酯以及二烷基錫二烷氧 化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧烷之製造裝置之概念 圖。 【主要元件符號說明】 1、2、3、4、5、 6、 7、 8、 9、 10、 11 、 12 、 13 、 14 、 15 、 16 、 17 管線 101 、 107 蒸餾塔 102 塔型反應器 103 ' 106 薄膜蒸發裝置 104 高壓釜 105 除碳槽 111 、 112 、 117 再沸器 121 ' 123、126 ' 127 (圖6) 冷凝器 20 、 21 、 22 、 23 、 24 、 25 、 26 、 27 、 28 、 29 、 30 、 31 管線 201 ' 202 ' 203 ' 206 ' 209 ' 210 ' 211 貯藏槽 204 ' 208 具備蒸餾塔之攪拌槽 134987.doc -214- 201008953
205 薄膜蒸發裝 置 207 冷凝器 (圖7) 41、 42 ' 43 、44、 管線 45、 46 ' 47 、48、 49 ' 50、 51 、52、 53 ' 54、 55 、56 401 高壓釜 402 除碳槽 403 薄膜蒸發裝 置 404 ' 409 貯藏槽 405 ' 407 冷凝器 406 蒸餾塔 408 再沸器 (圖8) 61、 62、 63 、64、 管線 65、 66 ' 67 、68、 69、 70 ' 71 、72、 73 ' 74、 75 '16、 77 ' 78 ' 79 601 、614 蒸餾塔 602 > 607 611 、 612 冷凝器 603 、605 613 再沸器 604 塔型反應器 134987.doc •215· 201008953 606 ' 610 薄膜蒸發裝置 608 高壓釜 609 除碳槽 615 、 617 貯藏槽 616 具備蒸餾塔之攪拌槽 134987.doc -216-
Claims (1)
- 201008953 七、申請專利範圍： 1· 一種製造方法，其係在無觸媒存在下，使 選自由下述1)及11)所組成之群中的至少一種烷基錫化 合物： i)具有一個錫原子，且具有兩個Sn_Rl(Ri表示烷基） 鍵、與兩個Sn-OX鍵（〇χ基係〇χ之共軛酸即Η〇χ係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化 合物， ® 11)具有一個Sn-O-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn_Ri 鍵與一個Sn-OX鍵（οχ基係ox之共軛酸即Η〇χ係pKa為〇 以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）的四烷基二錫氧烷 化合物，與 R2OCO〇R2(R2表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之 煙基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或γ_ CIV基（式中，γ表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀 飽和或不飽和伸烷醚基））所表示之碳酸酯及/或 ^ R oh(r2表示與上述R2相同之基團）所表示之醇進行反 應， 而製造XOR2所表示之化合物，與 具有一個錫原子’且具有兩個Sn-R1鍵與兩個Sn-OR2 鍵之二垸基錫二烷氧化物化合物及/或 具有一個Sn-〇-Sn鍵，且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn-OR2鍵的四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物。 2·如請求項1之製造方法，其中該碳酸酯r2〇c〇〇r2及/或 134987.doc 201008953 該醇R2〇H中，R2為直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之煨 基、或飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基。 3. 如請求項2之製造方法，其中該碳酸二烷基酯r2〇c〇〇B·2 及/或該醇R2〇H中’ R2為直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜8之 燒基。 4. 如請求項1之製造方法，其中該二烷基錫化合物係下述 式（1)所表示之化合物， [化1] 〇X1a r1--Sn-0X2b R1 (1) (式中： Rl分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜；^之烷 基； 〇表示氧原子； OX1及OX2係〇χΐ及ox2之共軛酸即HOX1及HOX2係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ丨及〇χ2 ; a及b分別為〇〜2之整數，a+b=2)。 5·如請求項1之製造方法，其中該四烷基二錫氧烷化合物 係下述式（2)所表示之化合物， [化2] R1R1 0"—Sn·—Ri όχ4 (2) 134987.doc 201008953 (式中： Rl分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷 基； 〇表示氧原子； 〇X3及OX4係OX3及OX4之共軛酸即HOX3及HOX4係pKa 為〇以上、6.8以下之布忍斯特酸的OX3及OX4)。 6. 如請求項1之製造方法，其中OX基為醮氧基。 7. 如請求項1之製造方法，其中該二烷基錫化合物及/或四 炫基二錫氧烷化合物、與碳酸酯及/或醇之反應係在2〇°C 以上、25〇。〇以下之溫度實施。 8. 如請求項丨之製造方法，其中該二烷基錫二烷氧化物化 合物係下述式（3)所表示之化合物， [化3] OR2 R1 --Sn-or2 i1 (3) (式中： R1分別獨立表示源自二烷基錫化合物及/或四烷基二錫 氧烧化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷基； R2分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇的直鏈狀或支鏈狀 之飽和或不飽和之烴基、飽和或不飽和之具有環狀烴取 代基之烴基、或Y-CH2基（式中，γ表示烷基聚伸烷基、 芳香族基、或環狀飽和或不飽和伸烷醚基））。 9.如請求項1之製造方法，其中該四烷基二烷氧基二錫氧 134987.doc 201008953 院化合物係下述式（4)所表示之化合物 [化4] 〇R2 R1 R1 -Sn-0-Jn一R1 R1 OR2 (4) (式中： R1分別獨立表示源自二烷基錫化合物及/或四烷基二錫 氧焼化合物的直鏈狀或支鏈狀之碳數為丨〜12之烷基； R分別獨立表示源自碳酸酯及/或醇的直鏈狀或支鏈狀 之飽和或不飽和之烴基、飽和或不飽和之具有環狀烴取 代基之烴基、或Y_CH2-基（式中，γ表示烷基聚伸烷基、 芳香族基、或環狀飽和或不飽和伸烷醚基））。 ίο. 如請求項1之製造方法，其中該二烷基錫化合物及/或該 四垸基二錫氧烷化合物係藉由包括以下步驟（1)〜(2)之方 法所製造的化合物， 步驟（1): 藉由選自由具有一個錫原子且具有兩個Sn_Ri鍵與兩個 Sn-OR鍵之二烷基錫二烷氧化物化合物及/或具有一個 Sn-0-Sn鍵且各個錫原子具有兩個Sn_Ri鍵與一個Sn_〇R2 鍵的四烧基二烷氧基二錫氧烷化合物所組成之群中之至 少一種烷基錫烷氧化物之烷基歧化反應（鍵結於錫上之尺！ 基之數量為2個即為二烷基錫烷氧化物化合物之情形 時’在2分子間進行歧化’鍵結於錫上之R1基之數量為4 個即為四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物時，在分子内及/ 134987.doc 201008953 或分子間進行歧化，由此轉化為具有一個Sn-R1鍵之單烷 基錫烷氧化物化合物與具有三個Sn-R1鍵之三烷基錫烷氧 化物化合物的反應）生成包含單烷基錫烷氧化物化合物與 三烧基錫烧氧化物化合物之烧基錫組合物， 使該烷基錫組合物與 通式HOX(pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示 之酸及/或通式XOX(OX基係OX之共輛酸即HOX係pKa為 0以上、6.8以下之布忍斯特酸的OX基）所表示之酸酐進 參 行反應，而製造具有源自該酸及/或該酸酐之基團（OX基） 的有機錫化合物之混合物之步驟； 步驟（2): 對該步驟（1)中所獲得之該有機錫化合物之混合物進行 加熱處理，進行炫基再分配反應，而由該烧基錫組合物 中之該單烷基錫烷氧化物化合物與三烷基錫烷氧化物化 合物，獲得 選自i)具有一個錫原子且上述一個錫原子具有兩個Sn-® R^R1表示烷基）鍵與兩個Sn-OX鍵（OX基係OX之共軛酸 即HOX係pKa為0以上、6.8以下之布忍斯特酸的OX基）之 二烷基錫化合物、 ii)具有一個Sn-0-Sn鍵且各個錫原子具有兩個Sn-R1鍵 與一個Sn-OX鍵（OX基係OX之共軛酸即HOX係pKa為0以 上、6.8以下之布忍斯特酸的OX基）的四烷基二錫氧烷化 合物之群中之至少一種烷基錫化合物之步驟； 其中，直接鍵結在該二烷基錫化合物、該四烷基二錫 134987.doc 201008953 氧烷化合物、該二烷基錫二烷氧化物化合物、該四烷基 二烷氧基二錫氧烷化合物、該單烷基錫烷氧化物化合 物、該二炫基錫炫氧化物化合物之錫上之R1為相同之院 基。 11 ·如請求項10之製造方法，其中該烷基錫組合物係依序進 行下述步驟（a)〜步驟（c)所獲得之製造碳酸酯之過程中所 生成之烷基錫組合物， 步驟（a) ··使下述通式（5)所表示之二烷基錫二垸氧化 物與二氧化碳加以反應，而獲得包含碳酸酯與下述通式 (6)所表示之四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二 烷氧基二錫氧烷與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； [化5] OR2 R1 -Sn-OR2 丄1 (5) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜以之烷 基； & R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y CH2·基（式中，γ表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀 飽和或不飽和伸燒趟基）） [化6] 134987.doc -6 - 201008953 OR2 Ri R1 Sn-0 Sn—R1 R1 OR2 (6) (式中： R表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜丨2之院基； R2表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、飽和 或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或y_ch2_*(式 中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或不 飽和伸烧醚基））； 步驟（b):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，而獲得 包含該四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基 一錫軋烧與一氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟（c):使該殘留液與下述通式（7)所表示之醇加以 反應，去除所產生之副產物水，再生二烷基錫二烷氧化 物，而將該二烧基錫二烧氧化物用作步驟（a)之二烧基錫 二烷氧化物的步驟； [化7] WOH (7) (式中： W表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴基、飽和 或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或Y_CH2·基（式 中，Y表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀飽和或不 飽和伸烷醚基））。 12 ·如請求項11之製造方法，其係在如請求項1 i之步驟（b)及/ 134987.doc 201008953 或步驟（C)後實施進行如請求項1〇之方法 < v鄉：由製造 該碳酸酯之過程所生成之烷基錫組合物， 丹生一院基錫 二院氧化物及/或四烷基二烷氧基二錫氧燒； 並將所再生之二烷基錫二烷氧化物及/或四烷基二烷氧 基二錫氧烷 用作步驟（a)之二烷基錫二烷氧化物， 與步驟（b)之殘留液混合而用作步驟（(〇之原料。 13. —種碳酸酯之製造方法，其在如請求項〗之方法中進而 包括下述步驟（A)〜步驟（B): 步驟（A):使如請求項1之二烷基錫二烷氧化物化合物 及/或四烧基一烧氧基二錫.氧烧化合物與二氧化碳進行反 應’而獲得包含碳酸酯與四烧基二烧氧基二錫氧烧化合 物及/或該四烷基二烷氧基二錫氧烷化合物與二氧化碳之 結合體的反應液之步驟； 步驟（B):藉由蒸餾自該反應液中分離峻酸酯，而獲得 包含四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧基二 錫氧烷與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟。 14. 一種碳酸酯之製造方法，其在如請求項13之方法中進而 包括下述步驟（C)，且將該步驟（C)所製造之烷基錫化合 物用作如請求項1之烷基錫化合物； 步驟（C):使該步驟（B)之殘留液與通式HOX(pKa為0以 上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸及/或通式 XOX(OX基係OX之共軛酸即HOX係pKa為〇以上、6.8以 下之布忍斯特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製 134987.doc 201008953 ’ 造選自下述〇、⑴之群中的至少一種烷基錫化合物之步 驟； 〇具有一個錫原子，且具有兩個811_尺1(111表示烷基）鍵 與兩個Sn-ΟΧ鍵（〇χ基係〇χ之共軛酸即Η〇：χ^ pKa為〇以 上、6_8以下之布忍斯特酸的〇χ基）之二烷基錫化合物， ⑴具有一個Sn-0-Sn鍵’且各個錫原子具有兩個Sn_Ri 鍵與一個Sn-OX鍵（OX基係〇χ之共軛酸即H〇x係pKa為〇 以上、6.8以下之布忍斯特酸的〇χ基）的四烷基二錫氧烷 〇 化合物。 15·如請求項1之製造方法，其中該二烷基錫化合物及/或該 四烧基二錫氧烷化合物係藉由包括以下步驟（I)〜步驟 (III)之方法所製造的化合物： 步驟（I):使下述通式（8)所表示之二烷基錫二烷氧化物 與二氧化碳進行反應’而獲得包含碳酸酯與下述通式（9) 所表示之四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氧 基一錫氧燒與二氧化碳之結合體的反應液之步驟； • HbS] OR2 R1 -Sn-〜〇r2 R1 (8) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為卜12之烷 基； R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 134987.doc -9- 201008953 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之释基、或γ_ CHZ-基（式中，Υ表示烷基聚伸烷基、芳香族基、或環狀 飽和或不飽和伸烷醚基）） [化9] OR2 R1 | | R1 -Sn-Ο-Sn——R1 R1 OR2 (9) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鍵狀之碳數為l〜12之烷 基； R2分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之飽和或不飽和之烴 基、飽和或不飽和之具有環狀烴取代基之烴基、或γ_ CH2_基（式中，Υ表示燒基聚伸烧基、芳香族基、或環狀 飽和或不飽和伸烷醚基）） 步驟（II):藉由蒸餾自該反應液中分離碳酸酯，而獲 得包含該四烷基二烷氧基二錫氧烷及/或該四烷基二烷氡 基二錫氧烷與二氧化碳之結合體的殘留液之步驟； 步驟（III):使該步驟（II)之殘留液與通式H〇X(pKa為0 以上、6.8以下之布忍斯特酸）所表示之酸、及/或通式 又〇又（〇又基係〇乂之共軛酸即11〇又係？1^為0以上、6.8以 下之布忍斯特酸的OX基）所表示之酸酐進行反應，而製 造具有源自該酸及/或該酸針之基團（OX基），且以下述式 (10)表示之二烷氧基錫化合物及/或以下述式（u)表示之 四烷基二錫氧烷化合物之步驟； 134987.doc -10- 201008953 [化 ίο] ox B1 I R Sn ox R1 (10) (式中： R1分別獨立表示直鏈狀或支鏈狀之碳數為1〜12之烷 基； 0〇表示氧原子； OX表示OX之共輛酸即HOX係pKa為0以上、6.8以下之 布忍斯特酸的〇χ基） [化 11] OX R1 R1 —-Sn-—〇——Jn—R1 R1 όχ (11) (式中： • Rl分別獨立表示直鏈狀或 支鏈狀之碳數為1〜12之烷 基； 〇表示氧原子； OX表示OX之共軛酸即HOX係pKa為〇以上、6.8以下之 布忍斯特酸的〇χ基）。 16.如請求们至15中任―項之製造方法，其中該院基^為 碳數為1〜8之直鏈烷基。 17.如請求項16之製造方法，其中該烷基…為正丁基或正辛 134987.doc 201008953 基。 18.如請求項10、丨4、15中任一項之製造方法’其中該酸 HOX係羧酸。 I9·如請求項18之製造方法’其中該羧酸係選自由乙酸、丙 酸、順丁烯二酸所組成之群中之羧酸。 2〇.如請求項10、14、I5中任一項之製造方法，其中該酸肝 XOX係選自由乙酸酐、丙酸酐、順丁烯二酸軒所組成 群中之酸酐。 134987.doc -12-
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008206205 | 2008-08-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201008953A true TW201008953A (en) | 2010-03-01 |
| TWI374145B TWI374145B (zh) | 2012-10-11 |
Family
ID=41663523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW098111521A TW201008953A (en) | 2008-08-08 | 2009-04-07 | Process for production of alkyl tin alkoxide compound, and process for production of carbonate ester using the compound |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8168812B2 (zh) |
| EP (1) | EP2226328B1 (zh) |
| JP (1) | JP5069793B2 (zh) |
| KR (1) | KR101169163B1 (zh) |
| CN (2) | CN102112482B (zh) |
| BR (1) | BRPI0907002B1 (zh) |
| CA (1) | CA2710923C (zh) |
| EA (1) | EA024850B1 (zh) |
| ES (1) | ES2399852T3 (zh) |
| TW (1) | TW201008953A (zh) |
| WO (1) | WO2010016297A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9844775B2 (en) | 2013-09-26 | 2017-12-19 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Alkyl tin compound |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2662379A1 (en) | 2012-05-07 | 2013-11-13 | Universiteit Antwerpen | Recycling of organotin compounds |
| JP2015530998A (ja) * | 2012-08-24 | 2015-10-29 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | テトラメチルスタンノキシ化合物 |
| ITMI20131026A1 (it) * | 2013-06-20 | 2014-12-20 | Dow Global Technologies Llc | Processo per la produzione di un espanso poliuretanico che utilizza un catalizzatore tetraalchilstannossi |
| EP2964658A4 (en) | 2013-03-08 | 2016-11-02 | Univ British Columbia | SUBSTITUTED ORGANOFLUOROBORATES AS IMAGING AGENTS |
| KR101627018B1 (ko) * | 2013-10-01 | 2016-06-03 | 제일모직주식회사 | 유기금속화합물을 이용한 탄산에스테르의 제조방법 |
| KR101659645B1 (ko) | 2013-10-02 | 2016-09-26 | 롯데첨단소재(주) | 방향족 탄산에스테르의 제조방법 |
| CN112547313B (zh) * | 2020-11-18 | 2021-10-22 | 东北大学 | 一种羟基柠檬酸在锡石矿物浮选中的应用 |
| CN112480164A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-12 | 安徽金禾实业股份有限公司 | 一种蔗糖-6-乙酯生产中回收制备有机锡催化剂的方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5545600A (en) | 1994-12-21 | 1996-08-13 | Knudsen; George A. | Process for the preparation of dialkyltin dialkoxide |
| US6414174B1 (en) * | 2001-03-22 | 2002-07-02 | Sandia Corporation | Tin(II) alkoxide hydrolysis products for use as base catalysts |
| KR100545615B1 (ko) * | 2001-12-27 | 2006-01-24 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 탄산에스테르의 제조 방법 |
| JP4397810B2 (ja) * | 2002-08-07 | 2010-01-13 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 炭酸エステルの製造方法 |
| JP2005298433A (ja) | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ジアルキルスズアルコキシド |
| BRPI0511251B1 (pt) * | 2004-05-19 | 2014-12-09 | Asahi Kasei Chemicals Corp | "processo para produção de alcóxidos de alquil- estanho e processo para produção de um éster de carbonato" |
| US7147284B2 (en) | 2004-06-10 | 2006-12-12 | Virco Mgmt. Corporation | Student desk chair with rockers rails |
| JP4678753B2 (ja) * | 2004-07-14 | 2011-04-27 | 三菱レイヨン株式会社 | カルボン酸エステルの製造方法 |
| US8008518B2 (en) * | 2006-10-11 | 2011-08-30 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Process for producing dialkyl tin dialkoxides |
-
2009
- 2009-03-31 KR KR1020107022511A patent/KR101169163B1/ko active IP Right Grant
- 2009-03-31 BR BRPI0907002-8A patent/BRPI0907002B1/pt active IP Right Grant
- 2009-03-31 CA CA2710923A patent/CA2710923C/en active Active
- 2009-03-31 ES ES09804784T patent/ES2399852T3/es active Active
- 2009-03-31 CN CN200980129670.0A patent/CN102112482B/zh active Active
- 2009-03-31 CN CN201410330825.XA patent/CN104151162B/zh active Active
- 2009-03-31 WO PCT/JP2009/056756 patent/WO2010016297A1/ja active Application Filing
- 2009-03-31 US US12/811,335 patent/US8168812B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-03-31 EP EP09804784A patent/EP2226328B1/en active Active
- 2009-03-31 EA EA201070792A patent/EA024850B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-03-31 JP JP2010523783A patent/JP5069793B2/ja active Active
- 2009-04-07 TW TW098111521A patent/TW201008953A/zh unknown
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9844775B2 (en) | 2013-09-26 | 2017-12-19 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Alkyl tin compound |
| TWI660963B (zh) * | 2013-09-26 | 2019-06-01 | 旭化成股份有限公司 | 烷基錫化合物、含有該化合物之組成物及觸媒、以及此等之用途 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2010016297A1 (ja) | 2010-02-11 |
| TWI374145B (zh) | 2012-10-11 |
| KR20100120721A (ko) | 2010-11-16 |
| CA2710923A1 (en) | 2010-02-11 |
| CN104151162A (zh) | 2014-11-19 |
| CN102112482A (zh) | 2011-06-29 |
| CN102112482B (zh) | 2016-01-20 |
| BRPI0907002B1 (pt) | 2021-02-09 |
| EA024850B1 (ru) | 2016-10-31 |
| EP2226328A4 (en) | 2012-02-22 |
| ES2399852T3 (es) | 2013-04-03 |
| EA201070792A1 (ru) | 2011-02-28 |
| CA2710923C (en) | 2014-07-08 |
| JP5069793B2 (ja) | 2012-11-07 |
| KR101169163B1 (ko) | 2012-07-30 |
| EP2226328B1 (en) | 2012-12-26 |
| US20100292496A1 (en) | 2010-11-18 |
| CN104151162B (zh) | 2016-08-24 |
| US8168812B2 (en) | 2012-05-01 |
| BRPI0907002A2 (pt) | 2020-08-18 |
| EP2226328A1 (en) | 2010-09-08 |
| JPWO2010016297A1 (ja) | 2012-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201008953A (en) | Process for production of alkyl tin alkoxide compound, and process for production of carbonate ester using the compound | |
| JP4257798B2 (ja) | アルキルスズアルコキシド類の製造方法 | |
| JP3413613B2 (ja) | ジアルキルカーボネート類からジアリールカーボネート類を連続的に製造する方法 | |
| KR101363232B1 (ko) | 탄산디아릴을 이용하는 이소시아네이트의 제조 방법 | |
| JP4981997B2 (ja) | カルバミン酸エステルおよび芳香族ヒドロキシ化合物を含む組成物を用いるイソシアネートの製造方法、ならびにカルバミン酸エステル移送用および貯蔵用組成物 | |
| WO2009139062A1 (ja) | イソシアネートの製造方法 | |
| KR101042664B1 (ko) | 디알킬주석 디알콕시드의 제조 방법 | |
| TW201141832A (en) | Method for producing diaryl carbonate | |
| TW200803984A (en) | Method for separating out and recovering dialkyltin dialkoxide | |
| TWI354576B (zh) | ||
| JP2012140355A (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
| CN105579461B (zh) | 烷基锡化合物 | |
| TW200948759A (en) | Process for producing isocyanate | |
| TW200948760A (en) | Process for producing isocyanate using diaryl carbonate | |
| JP2007254366A (ja) | テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン | |
| JP2007254367A (ja) | テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン | |
| JP2007254365A (ja) | テトラアルキルジアルコキシジスタンオキサン |