TW201001600A - Boat - Google Patents

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TW201001600A
TW201001600A TW098104183A TW98104183A TW201001600A TW 201001600 A TW201001600 A TW 201001600A TW 098104183 A TW098104183 A TW 098104183A TW 98104183 A TW98104183 A TW 98104183A TW 201001600 A TW201001600 A TW 201001600A
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TW
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Byung-Il Lee
Yong-Kun Cho
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Tera Semicon Corp
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Description

201001600 六、發明說明: 【發明所屬技術領域3 發明領域 本發明係有關於一種批次式熱處理裝置,且係有關於 5 承載支撐有基板之承載體者。更詳而言之,本發明係有關 於一種批次式熱處理裝置,且係有關於含有用以支撐基板 之長板側而可防止基板在熱處理之進行途中因自身重量而 變形之第1及第2支撐道之承載體者。 t先前技術:J 10 發明背景 使用於製造平板顯示器時之大面積基板之處理系統分 為蒸氣沉積裝置與退火裝置。 热氣沉積裝置係負責形成構成平板顯示器之核心結構 之透明傳導層、絕緣層、金屬層或矽層階段的裝置,例如: 15 LPCVD(低壓化學氣相沉積)或PECVD(電漿加強化學氣相 沉積)等的化學氣相蒸氣沉積裝置、及濺鍍(spmtering)等的 物理氣相蒸氣沉積裝置。又,退火裝置係負責在蒸氣沉積 製程後提升業經蒸氣沉積之膜之特性階段的裝置,例如, 用以使業經蒸氣沉積之膜固定化或相轉變之熱處理裝置。 2〇 通常,熱處理裝置有對一個基板執行熱處理之單片式 與對多數基板執行熱處理之批次式。單片式具有裝置結構 簡單的優點,但亦具有生產性低的缺點。故,為了大量生 產’批次式便受到注目。 在批次式熱處理裝置中,於提供可同時對多數基板進 201001600 行熱處理之熱處理空間的室内必須具有用以承載支撐多數 基板之承載體。 另一方面,隨著最近平板顯示器之尺寸的增加,也更 增加了可穩定地承載且支撐大面積基板之承載體的必要 5 性。特別是在習知承載體的情況下,因產生如基板在熱處 理途中因自身重量而彎曲等的變形,而有平板顯示器之顯 示特性下降且不平均的問題。 L發明内容3 發明揭示 10 發明欲解決之問題 因此,為了解決前述問題而製成之本發明之目的在於 提供一種承載體,其係在對於承載於批次式熱處理裝置之 多數基板執行熱處理製程時,藉由利用第1及第2道支撐所 承載之基板之長邊側而分散基板之重量,進而防止基板之 15 變形者。 用以欲解決問題之手段 為了達成前述目的,本發明之承載體係配置於提供用 以在批次式熱處理裝置執行熱處理製程之空間的室内並承 載有多數基板者,包含有:下部框體;上部框體;及連結 20 前述下部框體與前述上部框體並形成有多數延伸於前述所 承載之基板之内側方向之第1支撐道的多數垂直框體,且更 包含有:互相連結前述各垂直框體之前述第1支撐道的第2 支撐道。 其中,前述第1支撐道與前述第2支撐道以互相垂直為佳。 201001600 ,v第支撐道與前述第2支撐道以支撐前述基板 之長邊側為佳。 又 ;土反以由前述第1支撐道及前述第2支撐道中 之至少一者接觸迷支撐為佳。 5 述基板以由前述第1支撐道及前述第2支撐道 同時接觸並支撐為佳。 發明效果 根據本發明,由於具有用以支撐承載於批次式熱處理 裝置之承載體之基板之長板側的第1及第2道,因此可在對 10基板進行熱處理製程時分散基板之重量,而具有防止基板 Ή〆的效I X ,根據本發明,由於可在基板不變开)的情 況下對承載於抵次式熱處理裝置之承載體之基板進行熱處 理製程’因此具有可提升形成於基板上之平板顯示器之顯 示特性的效果。 15 【實施方式】 用以實施發明之最佳形態 、下 面參照添附圖式一面詳細地說明本發明之結構。 本發明之承載體可使用於用以同時對多數基板進行熱 >0 之批'"人式熱處理裝置。批次式熱處理裝置可由於内部 &供熱處理办Μ 排出 1間之至;用以加熱基板之加熱器;及供給或 體棑氣體以調節熱處理製程之大氣之氣體供給管及氣 用有t g所構成。由於前述批次式熱處理裝置之結構與使 之技人式熱處理裝置之熱處理製程係在該領域眾所周知 因此省略該部分詳細的說明。 201001600 第1圖係顯示本發明一實施型態之承載體10 0之結構的 透視圖,第2圖係顯示本發明一實施型態之承載體100之第1 及第2支撐道210、220之結構的透視圖,而第3圖係顯示本 發明一實施型態之承载體100承載有基板10之狀態的透視圖。 5 如第1圖所示,承載體100之結構包含有:下部及上部 框體110、120 ;設置成連結框體11〇、ρο之垂直框體200 ; 形成於前述垂直框體200之多數第1道210;及與各第1道210 垂直並互相連結第1道210之多數第2支撐道220。 在批次式熱處理裝置中,可在提供熱處理空間之室之 10 内部設置有承載體1〇〇之狀態下,並在承載基板10後進行熱 處理製程。依照情況’亦可在將基板10承載於設置於室之 外部之承載體1〇〇,並在該狀態下將承載體1〇〇插入室之内 部後進行熱處理製程。 下部框體11〇與上部框體12〇係與後述之垂直框體2〇〇 15 一起構成承載體100之基本骨架者。 下部框體11〇與上部框體12〇以分別呈具有預定尺寸之 長方狀’且互相隔有預定距離,並且平行地配置承載體1〇〇 兩側之同一方向為佳。 此時’下部框體110與上部框體12〇之尺寸通常可考慮 20 承載於平板顯示器製造用批次式熱處理裝置之長方狀基板 10之尺寸再作決定。 垂直框體200係連結前述下部框體110及上部框體120 炎構成承载體100之基本骨架者。 垂直框體200之兩端分別連結於下部框體11〇及上部框 201001600 體12〇。此時,垂直框體200係配置於承载於承載體ι〇〇之基 板10之長邊側並連結於下部及上部框體11〇、12〇。 通常,承載體100設有多數垂直框體200,在該情況下, 框體200的形狀及長度以全部相同為佳。如第1圖所示,該 5 圖係舉例說明設置於承載體100之垂直框體200之數量為基 板10之兩長邊側各設置有3個,即,全部設置有6個者,但 並非一定限定於此,亦可依需要進行各式各樣的改變。又, r 垂直框體2〇〇以至少設置4個而可連結配置於承載體丨〇〇之 兩側之下部框體110與上部框體120之四角為佳,以穩定地 10 支撐承載於承載體100之基板10。 第1支撐道210形成於垂直框體200之一側,並具有支撐 氣載於承載體之基板1〇之長邊侧的作用。此時,第1支 樓道210形成延伸於基板1〇之内側方向的樣子。 各垂直框體200以隔相同間隔形成有相同數量之第1支 15 撐道210為佳。形成於各垂直框體200之第1支撐道21〇的數 I 量以與承載體100可承載之基板10的總數量相同為佳。因 此’形成於承載體1〇〇之第i支撐道210之總數量可為基板1〇 之數里的6倍。例如,如第1及第2圖所示,當設想承載體1 〇〇 可承載27個基板時,形成於垂直框體2〇〇之第1支撐道21〇之 20 總數量則為162個。 第1支撐道210之長度與寬度可在可穩定地支撐基板1〇 之長邊側之範圍内進行各式各樣的改變。 第2支撐道220藉由互相連結多數設於各垂直框體2〇〇 之第1支撐道210,而具有與第1支撐道210 —起支撐承載於 201001600 承載體100之基板10之長邊側的作用。此時,第2支撐道220 形成與各第1支撐道210垂直。 第2支撐道220係藉由在其一側面緊貼接觸於各第1支 撐道210之前端後,以熔接等方式與第丨支撐道21〇接合,而 5 可連結第1支撐道210,但並非一定限定於此。例如,亦可 在一體形成位於同一層之多數的第1支撐道2〗0與前述第2 支撐道220之後,將其設置於各垂直框體2〇〇之一側。 如第1圖及第2圖所示,由於1個第2支撐道220連結有3 個第1支撐道210,因此形成於丨個承載體1〇〇之第2支撐道 10 22〇之數量以為承載體100可承載之基板1〇的數量之2倍為 佳。例如,若承載體1〇〇可承載27個基板1〇,第2支撐道220 之總數量則為54個。 第2支撐道220之長度與寬度可在可穩定地支撐基板10 之長邊側之範圍内進行各式各樣的改變。 15 藉此,每個承載於承載體100之基板10對應有用以支撐 該基板10之第1及第2支撐道210、220。在該情況下,第1及 第2支撐道210、220之各上段部實質的排列於同一面上,並 可藉由第1及第2支撐道210、220同時地支撐基板10之長邊 側。然而,本發明並非一定限定於此,依照情況亦可將第2 2〇 支撐道220之上段部支持成較第1支撐道210之上段部高,並 以第2支撐道220支撐基板1〇之長邊側。 又,第1及第2支撐道210、220之抵接於基板1〇之底面 的部分以加工成平面狀而可以第1及第2支撐道210、220之 上面更穩定地支樓基板10為佳。 201001600 垂直框體
結設置下部及上部框體1〇〇、120與垂直框體200 , 但亦可依 構成承載體100之下部及上部框體110、12〇、 20< 5 情況以熔接方式連接設置。 如第3圖所示,具有前述結構之本發明一實施型態之承 載體100係藉由第1及第2支撐道210、220支撐基板1〇之長邊 側,而可分散基板之重量。故,可防止基板1〇在熱處理途 中因自身重量而變形,這樣一來則具有可控制平板顯示器 10 之顯示特性下降的優點。 特別地,由於本發明之承載體100在基板10與第丨及第2 支轉道210、220間為線接觸,因此在基板1〇之熱處理製程 中預定之應力(或熱應力)會集中於承載體1〇〇與基板1〇之間 的镇觸部分,而可防止對於基板1〇造成損害(損傷),這樣一 15 來則具有可控制平板顯示器之顯示特性下降的優點。 如上所述,根據本發明,藉由具有可支撐承載於批次 式熱處理裝置之承載體之基板之長邊側的第1及第2支撐 道, 可在對於基板進行熱處理製程時分散基板之重量,而 可防止基板變形。又,由於可在基板不變形的情況下對承 戟於抵次式熱處理裝置之承載體之基板進行熱處理製程, 此具有可提升形成於基板上之平板顯示器之顯示特性的 文果。故,本發明之產業利用性可說是非常高。 以上,關於本發明之詳細說明已針對具體的實施型態 進仃6兒明,但亦可在不脫離本發明要旨之範圍内進行各式 201001600 各樣的改變。因此,本發明之權利範圍並非限定於前述實 施型態,應當根據申請專利範圍之記載及與其均等者而決定。 L圖式簡單說明3 第1圖係顯示本發明一實施型態之承載體之結構的立 5 體圖。 第2圖係顯示本發明一實施型態之承載體之第1及第2 支撐道之結構的立體圖。 第3圖係顯示本發明一實施型態之承載體承載有基板 之狀態的立體圖。 10 【主要元件符號說明】 10…基板 200...垂直框體 100…承載體 210…第1支樓道 110.. .下部框體 220…第2支樓道 120.. .上部框體 10

Claims (1)

  1. 201001600 七、申請專利範圍: 1. 10 種氣载體’係配置於提供用 置執 包含 Λ在抵次式熱處理; 订…、處理I程之空間的室内 有. 儿承载有多數基板者 下部框體; 上部框體;及 體係連結有述下部框體及前述上部框 數延伸於前—基板之_向 且更包含有: 之前述第1支撐道的第2 互相連結前述各垂直框體 支標道。 2.如申請專利範圍第i項之承载體,其中前述第A撐道盘 前述第2支撐道互相垂直。 15 3. Μ請專利範圍第1項之承載體,其中前述第丨支撐道與 前述第2支撐道支撐前述基板之長邊側。 4. 如申請專職圍第丨項之承細,其中前絲板由前述 第!支撐道及前述第2支撐道中之至少—者機並支撐。 5. 如申請專利範圍第1項之承載體,其中前述基板由前述 20 第1支撐道及第2支撐道同時接觸並支撐。
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