TW200951998A - PTC device - Google Patents

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TW200951998A
TW200951998A TW098118694A TW98118694A TW200951998A TW 200951998 A TW200951998 A TW 200951998A TW 098118694 A TW098118694 A TW 098118694A TW 98118694 A TW98118694 A TW 98118694A TW 200951998 A TW200951998 A TW 200951998A
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Hiroyuki Koyama
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Tyco Electronics Raychem Kk
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Description

200951998 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種具# pTC(p〇sitiv C〇efflclent:正溫度係 ρτ p 種具有用作電路保護元 尤其有關 罢,»目士# ^ 件之水合物PTC兀件的PTC裝 置以及具有該PTC裝置的電氣或電子裝置。 ❹ ❹ 【先前技術】 在各種電氣或電子驻罢由 . 電流流動之情況下,為;槿:電路等有過大的 故障〜為了預防構成袭置之重要部件發生 這樣的元件本身是眾所料^^目^路賴兀件。 配詈於Γ周的通常具有PTC要素以及 在聚合财有導電性填料(-= ϊΐ)電ΐ料合物組合物所組成,該金屬電極例如為金 例如:在作為電氣裴置之 PTC裝置,其具有上述 =式電池組使用一種 元件之引線。在電池組之連接到該PTC 端子經由引線紐連接著PTm有陰_子,該陰極 這樣的PTC元件應具備
平常時,PTC元件本身之電=之百要件之一是在電氣裝置 元件所用之PTC要素中電:J:。這樣的低電阻PTC 如鎳或鎳合金之填料來作2屬填料_al舰-)例 下為刀散在聚合物中的導電性 3 200951998 填,。這樣的金屬填料由於存在於PTC元件周邊氣氛中 的氡因而容易氧化,導致PTC要素之電阻値增加。這樣 的電阻値的增加不利於本來應為低電阻的PTC元件。 ^因此’對於使用這樣的金屬填料的聚合物PTC元件 採用了如下的對策:避免ptc要素之露出部分直接接觸 ,,氣氛,因此,為了防止金屬填料之氧化而形成至少 復蓋露出部分之樹脂塗層(resin coating)。PTC要素之主 鑤 表面如上所述被金屬電極覆蓋,所以這樣的露出部分是
PeTC要素之整個側面部分(亦即,規定層狀PTC要素之 厚度的侧面部分或周圍部分,因此是將PTC要素之相向 的主表面之外周部相互連接的面)。 這樣的樹脂塗層在防止金屬填料之氧化這一點上 基本上是有效的’但是隨著使用具有PTc元件之PTC 裝置的環境的不同有時候未必十分有效。例如:當pTC 元件存在於有溶劑(例如蒸氣或微細液滴形態的溶劑)存 在於周圍的環境内時,樹脂塗層由於溶媒而劣化,導致 © 局部被破壞,有時候氧能接近(access)pTC要素。此時, 金屬填料氧化,導致ptc元件可能不會適當地運作。 [先行技術文件] [專利文件] [專利文件一]國際公開WO1997/06538號公報 【發明内容】 [發明之概要] [發明所欲解決之課題] 4 200951998
因此’本發明所欲解決之課題係提供一種PTc I 置,即便在會給PTC元件帶來不良影響、像溶劑的物^ 存在的環境使用PTC裝置之情況下,PTC元件也會適二 地運作。 e 备 [用以解決課題之手段] 〇 Ο 有鑑於上述之課題,發明者不斷地致力研究後於 現,將PTC元件封入廣泛用於半導體裝置之陶瓷封裳^ 内,藉此,即使使用PTC裝置之環境包含像溶劑那^會 對PTC元件造成不良影響之物質,仍能有效防止Ρτ^ 几件所含之金屬填料之氧化,結果,能使PTC元件 低電阻。 、 因此,本發明提供一種PTC裝置,係具有:(1)聚 a物PTC元件’具有聚合物PTC要素、以及配置於其 之主表面的第一及第二金屬電極;(2)引線,連接^ =物PTC元件之至少一邊之金屬電極;以及⑶陶究 =體’具有容納聚合物PTC元件之開放空間部,該開 ϋ =間邛具有至少一個界定該開放空間部的開口部,其 邮徵為:該引線封閉著該開口部’使配置於該開放空間 π之,合物PTC it件與喊封裝體之周圍環境隔離。 所m發明之PTC裝置巾,由於則丨線封閉該開口部, PTC元件實質上密封於㈣封褒體内。該陶究封裝 溶為喊之材料所製成,已知這種材料-般具有耐 ί 1^種喊而言,例如為金屬(例如:銘、石夕、 機化i物 化物、碳化物、氮化物、硼化物等無 5 200951998 再者’本發明也提供-種PTC裝置之製造方法 及具有該PTC裝置之電氣或電子裝置。 [發明之功效] =明之PTC裝置巾,構成喊㈣體之
Ο 因此’在PTC元件密封㈣細雜内之ί 二二使在使用PTC裝置之環境含有溶劑,密封在内i 下之PTC元件也實質上不受到PTC裝置之周 i兄之影響。結果,能有效防止構成PTC元件之金屬^ 被存在於PTC裝置周邊環境之空氣或氧所氧化。因此, 不必將上述之樹脂塗層設置在PTC元件之周圍部分。結 果,不必考慮塗料流出(塗料流出到元件必須有電性導通 之處(例如:金屬電極面)有時無法確保元件必要的電性 $通)到PTC元件之金屬電極面上,其中該塗料係用於 在形成樹脂塗層時產生之PTC元件上形成樹脂塗層。因 此,PTC裝置或PTC元件之設計上之限制變得寬鬆,且 PTC裝置或PTC元件之良率提高。 樹脂塗層之尺寸精度未必足夠,相對於此,本發明 之PTC裝置中,能使用具有標準尺寸之陶瓷封裝體,陶 瓷封裝體實質上確定PTC裝置之尺寸,所以PTC裝置 之尺寸精度提高。結果,在PTC裝置之使用者將pTC 裝置裝進電氣裝置等時容易設定(setting)。再者,構成陶 瓷封裝體之陶瓷材料對於電池(例如:二次電池)之電解 液也是穩定的,所以能將本發明之ptc裝置裝進電池之 内部。結果,能在發熱源之旁邊配置ptc裝置,所以偵 測PTC裝置之異常的感度提高’電池之可靠性提高。 200951998 【實施方式】 [用以實施發明之形態] 本發明之PTC裝置所含之PTC元件本身為▼张由 知,構成該PTC元件之PTC要素及金屬電極也為眾ς ^知。本制書中,PTC元件之將是以在本技術領 中一般使用之用語之意思來使用。聚合物PTC元件具 ❹ ❹ 將所謂的聚合物PTC組合物形成為例如層狀的PTC、 素(亦即,聚合物PTC要素)’以及配置於其各主表面之 第一金屬電極(尤其是箔狀電極)及第二金屬電極(尤= 是箔狀電極)。此外,聚合物PTC要素由所謂的導電^ 聚合物組合物所構成,該導電性聚合物組合物係有金 填料(銅、鎳、鎳録合金等填料)分散在聚合物材料(例如 聚乙烯、聚偏二氟乙烯(P〇1yvinylidene fluoride)等)中。 通常,對這樣的組合物進行擠壓成形,藉此能獲得pTc 要素。 PTC元件在層狀PTC要素兩侧之整個主表面呈有 層疊狀態之金屬電極(通常是金屬落電極),通常整&來 說是層狀或圓盤狀要素。將金屬電極熱壓接在PTC要 素’或是在擠壓成形PTC要素時同時供給金屬電極或擠 壓成形後立刻做熱壓接,藉此能形成PTC元件(通常元 件之尺寸小,所以是PTC元件之集合體)。此外,pTC 要素可以例如為圓板狀或薄的矩形狀。 使用於本發明PTC元件之喊封裝體具有實質上 此谷納PTC S件的空間部。通常,冑竞封裝體整體上是 7 200951998 其内部能容納PTC元件之箱形態,因此是殼體。此空間 部具有至少一個其當中供PTC元件放入之開口部。因 此’空間部在開口部處於開放狀態。亦即,空間部是開 放空間部。 ❹
界定此開放空間部之開口部至少有一個,別的態樣 中可以有二個。前者之態樣中,陶瓷封裝體在其一個主 表面形成開口,陶瓷封裝體本身是有底殼體。後者之態 樣中,陶瓷封I體在其相向成對之主表面形成開口,因 此’陶瓷封裝體具有貫通空間部。 為了保護半導體晶片、水晶振盪器等微小元件不受 其周邊環境的影響而使用陶瓷封裝體,但是能將與這樣 的陶瓷封裝體類似的物體使用於本發明之裝置。陶瓷封 裝體可以由任何適當的陶瓷材料所形成,可以例如由氧 化銘(八丨2〇3)、富鋁紅柱石(3A12〇3及2Si〇2),氮化鋁(A1N) 等所形成。 本發明之PTC裝置中,為了在pTC元件位於陶瓷 封裝體内之狀態將PTC元件密封在陶瓷封裝體之空間 部内’因而藉由與PTC裝置連接之引線來封閉開口部。 此引線,在使用PTC裝置之電氣裝置中是為了將pTC π件電性連制預設之電路,更具體而言連接到配線、 ,件、焊墊(_、焊接部(land)、端子(termi㈣等而存 2,只要能封關口部,可以為任何適當的形態。引 卜為丨方形或矩形金屬箱、或金屬片等狹長形 :體,,構成引線之材料可以為任何的導電性材 〆歹’如此由鎳、可乏(K〇var :鐵、鎳、銘的合金)、42 8 200951998 合金(Fe與42%Νι的合金)等材料來形成引線。 Ο ❹ 也可以藉由任何的適當方法將這樣的引線以 陶瓷封裝體開口部之方式黏接在陶瓷封裝體上。例如: 如後所述,可以使用連接材料(焊錫材料、導 劑、導電性漿+料等)來黏接引線與陶瓷封裝體。別的^ 中,也可以藉由所謂的銀合金硬焊來黏接引線與陶封 裝體。例如在陶瓷封裝體上擺放作為連接材料之銀合合 部件’在其上配置引線,將銀合金部件定位於 ^ 瓷封裝體之間,使銀合金熔融,將這些部件熔 ^一 體。有關銀合金部件,例如為由AgCu合金、 合金等所形成的部件’或是由可乏等所形成的部件 =為包_⑽裝體開口部之形狀之部件(例如為環(圓 %)形狀或矩形環狀之部件)。在像焊錫材料、銀合金部 件這樣的連接材料介於引線與㈣封裝體之間之狀^ 下,.熱(此外,視情況同時施力)’藉此能使連接: 料溶融,㈣成將引線黏制㈣封裝體之連接部件。 封裝體中’較佳為開口部之周圍具有金屬層, 虽引線配置成引線封閉開放空間部之開口部時,較佳為 3成引線之周緣部位於此金屬層上q樣的金屬層更 成緊貼於界定陶㈣裝體開口部之面之周緣 二這樣的緊貼,可以藉由例如燒結、鍍覆等 在陶是封裝體之周緣部設置那樣的金屬層。 址、查所述,在引線位於金屬層上之狀態下將這些部 體。為了做此連接’在金屬層上配置焊錫材 “陡黏接劑、㈣性漿料或銀合金部件等連接材 200951998 料,較佳為配置焊錫材料。此外,在其上 後,例如藉由加熱手段做加熱或放 &打二 材義而形成連接部件,藉 邛牛連在起,良好地封閉陶瓷封裝體 ,樣令,可以在引線直接位於陶; 之,層上之狀態下(亦即,⑨有如上所述配置^二 二:些::熔接為一體而形成連接部件,藉此連接這也 Ο 接部作為連接部件發揮作用。為了做這 能使f電阻溶接(例如:接縫溶接)或雷射炫接ί。例如 士田連接材料介於引線與陶瓷封裝體之金屬声之 牯’、即,使用焊錫材料、銀合金部件等 材料^ =接時?=?㈣刪 樣這樣:金屬層可以由任何適當的:料所=封; =樣的材料,例如是錮與錳之合金、鎢、Ag_cu_Ti合 =可以^如於陶究封裝體之預設處塗布,形成金屬 =屬”之漿料,對此漿料進行燒結,而形成與陶 瓷封襄體緊貼之金屬層。 ,上所述陶i封㈣具有金屬層之態樣中,將 =焊錫材料、銀合金部件等連接材料間接連接到金屬 層時,或是將㈣部絲接直接做連接時,為了更促進 5?啟可以使气屬層之上具有別的金屬層。那樣的別的 一蜀層是可以猎由例如鍍覆、蒸鍍等來形成。具體來 10 200951998 說,可以例如於作為金屬層之錮與猛之合金層或鶴層等 之上形成鎳鍍層、錫鍍層等以作為別的金屬層,接著, 於此別的金屬層形成金色閃標(gold flash)鑛層。 其次,參照圖式更詳細說明本發明之PTC裝置。第 一圖(a)顯示本發明PTC裝置之一個態樣的示意側視剖 面圖。此外,第一圖(b)係用於第一圖(a)所示PTC裝置 之陶瓷封裝體之示意立體圖。此外,第二圖及第三圖中, (a)及(b)之圖式分別類似於第一圖(a)及第一圖(b)。此 © 外,圖式中,相同的符號顯示具有實質上相同機能的元 件。 第一圖所示之態樣之PTC裝置100具有:(1)聚合 物PTC元件108,具有層狀聚合物PTC要素102、以及 配置於其兩側之主表面的第一金屬電極104及第二金屬 電極106 ; (2)第一引線110及第二引線112,連接到聚 合物PTC元件108之各個金屬電極104,106 ;以及(3)陶 瓷封裝體120,具有容納聚合物PTC元件108的開放空 ©間部114,該開放空間部114具有界定該開放空間部114 之上側開口部116及下側開口部118(因此有二個開口 部),該引線110及112封閉著該上側開口部116及該下 側開口部118,使配置於該開放空間部114之聚合物PTC 元件108與陶瓷封裝體120周圍之環境隔離。 如第一圖(b)所示,陶瓷封裝體120中,其相向之主 表面122及124分別具有上側開口部116及下側開口部 118,因此,開放空間部114成為在其兩侧形成開口之貫 通空間部。此外,於主表面之上側開口部116配置有金 11 200951998 屬層126,此金屬層126包圍上侧開口部116(此外,第 一圖(b)中,僅繪示上側之金屬層126,但是如第一圖(a) =不,陶瓷封裝體12〇在其下侧也具有金屬層128)。這 樣的金屬層由於各種目的而設置於半導體晶片等所用 之陶竟封裝體’那樣的陶瓷封裝體已在市面上販賣。例 如為了確保封裝體之内部與外部之間之電性連接而設 置。本發明之ptc裝置100中,使用陶瓷封裝體12〇之 金屬層126,128作為直接連接引線11〇,112的對象,引 線110,112能藉由此連接來封閉陶瓷封裝體120之開放 空間部114。 具體來說’這樣的各金屬層(126及128)與各引線 (110及112)之間存在連接部件130,因此,引線ΐι〇,ιΐ2 與金屬層126,128黏接,進而引線110,112與陶瓷封裝 體120黏接。如上所述’金屬層126,128包圍開放空間 部114之上側開口部I16及下側開口部118,所以將引 線110,112以覆蓋上側開口部116及下側開口部118、放 在上側開口部116及下侧開口部118之周緣部上之方式 擺放在陶瓷封裝體12〇之主表面122,124,在上侧開口 部116及下側開口部I18之周圍黏接金屬層126,128與 引線110,112,於是,陶瓷封裴體120之開放空間部114 被引線110,112封閉。 在陶瓷封裝體I20主表面122,124兩侧之上側開口 部116及下侧開口部I18’如此黏接引線110,112與金屬 層126,128,於是,配置於開放空間部114内之PTC元 件108成為與陶瓷封裝體120之外部實質上隔離的狀 12 200951998 態,能使陶莞封裝體12〇周邊之氣氛之 結果,能盡可能地抑制PTC元件108所含之;:取小, 之氧化。 所3之導電性填料 此外’所緣示之態樣中,PTC元件1〇 104—及106與引線11〇及112分別電性連 主屬電極 係藉由配置於這些部件間之由焊錫等導電性遠, ❹ ❹ 導電,接劑或導電性漿料使用於這=將 第圖(a)所示之PTC裝置100是可以例接。 的方法來製造。首先,在第二引線112上2 2下 材料之焊錫材料(相當於連接部# i '作為3接 物)’在那樣的烊錫材料上將PTC元 之前驅 第二引線112及PTC元件1〇8之 -己置成面對 外,配置陶兗封裝體120之金屬層電極106。此 12。之下側開口;"弟「引進= 二it:;:::引線112與陶究封== 爻周緣邛之金屬層128。
-一人’在第一金屬電極W 作為連接材料之焊錫材料 8曰26之上擺放 之前驅物)。此外,在陶究^虽於連接部件132及130 擺放第-引線11〇,使第一:,120之金屬層126之上 第一金屬電極104面對該與PTC元件⑽之 异錫材料,且使第一引線110 200951998 封閉陶兗封裝體12G之上側開口部116。亦即,進行以 下部件之定位,使焊錫材料(對應於連 一引線110與第一金屬電極1〇4之„ Μ立於弟 應於連接於第,m 上侧開口部ιΐό之周緣部之金屬層ι26之間。 獲得如此形成由第-引線110及第: 曼封裝體12G、PTC元件⑽以及位於這些 ^
連接材料之焊錫材料所構成之組件(或褒 (assembly)),將此組件放進加熱爐(例如:回 錫材料溶融,然後冷卻,將焊錫材料轉換為連接; 藉此能獲得第一圖之PCT裂置1 〇〇。 第二圖以與第一圖類似之方式顯示別的態樣的本 發明之PTC裝置。第二圖所示之態樣之PTC裝置2 具有與第一圖類似的聚合物PTC元件1〇8,又^有第— 引線110。第一引線11〇藉由連接部件132電^ 聚合物PTC元件108作為第一金屬電極之一邊之金屬電 極104,且藉由連接部件13〇連接到陶瓷封骏體2〇ι之 金屬層126。此PTC元件108配置於第二圖(b) 瓷封裝體201内。 μ 网 陶瓷封裝體201如第二圖(b)所示具有容納聚人 PTC元件108之開放空間部114。所繪示之態樣中: 開放空間部114由底部2〇2以及包圍底部2〇2之四二 204,206,208及210所界定,具有對陶瓷封裝體2〇ι 一^ 之主表面開放之開口部116。亦即,陶瓷封裝體b 有底殼體,開放空間部114具有一個開口部丨16。 疋 14 200951998 與第一圖所示之態樣類似地,陶瓷封裝體201具有 包圍開口部116之金屬層126,更具有電導體212(可以 例如為金屬層、金屬線、金屬帶(metal strip)等任何適當 之形態)’以確保界定開放空間部114之底部202之内側 (上侧)與外侧(下侧)之間之電性導通。所繪示之態樣中, =第二圖(b)得知,電導體212是金屬層212之形態,實 貝i覆蓋底部202之整個上側露出面,從底部202上側 之露出表面延伸到陶瓷封裝體2〇1之側邊,然後,從側 邊繞到陶瓷封裝體201底部202下側之表面(此外,第二 圖(b)僅繪不金屬層212以露出狀態位於底部2〇2上側之 2L。因此,從第二圖⑷理解,電導體212將界定陶 竟封裝體2〇1底部202之部件214加以包圍。此外 -引線與第一圖之情況相比實質上是相同的。 二圖⑷所示,上述之電導體2 空間部114之底部202之外侧八 202之藉2i4之下側的部分2ΐ6 連接著。第二引線112與電導辦二弟一引線112電性 二引線112與電導體212之部分之間’詳言之是第 可以類似於第-引線11()與金^之間之那樣的連接 可以例如使用焊錫、導電性黏0 26之間之連接’是 材料來形成連接部件130導電性漿料等連接 由連接部件132電性連接到聚:這樣的電導體212藉 二電極之另一邊之金屬電極1〇°6匆PTC元件1〇8作為第 因此’對照第一圖所示之 電極1〇6與第二引線112直 ^衣置1〇〇中第二金屬 電性連接著,第二圖所示 15 200951998 第二圖所示之態樣中,優:n::;仏線ιΐ2。 110(事先容納著ΡΤΓ ★彼1Λ優之疋八要將第一弓丨線 更詳言之是讀^裝於陶㈣裝體加, 密封在陶究_=層===_ 當;線上隔著焊錫等連接材料(相 二I ΪΓ; L130之前驅物)擺放陶堯封裝體2〇卜ΐ 人在陶是封裝體201底部 /、 上擺放焊錫材料以日术认ϋ 之路出狀怨之上侧表面 焊錫材料均放Ρτ^接部件132之前驅物),在該 之第-丄=π件108 ’其次,在PTC元件⑽ 放焊錫絲%u上及陶瓷封裴體201之金屬層126上擺 目當於連接部件132及請之前驅 體。擺放第一引線110,如此形成裝配 冷物,#,將此裝配體放進加熱爐使焊錫材料熔融後做 V因精此々能獲得本發明第二圖之PTC裝置200。 步驟而ίr第二:i·斤示之PTC裝置200是能藉由以下 锡材料:;第一引線112上擺放作為連接材料之焊 上押仿目當於連接部件130之前驅物),於該焊錫材料 隔陶瓷封裝體201,於陶瓷封裝體201之底部202 : 為連接材料之焊錫材料擺放PTC元件1〇8,其 201之八元件1〇8之第一金屬電極104及陶瓷封裝體 當於連金1層126之上擺放作為連接材料之焊錫材料(相 二閉p接部件132及130之前驅物),於該焊錫材料上以 才竭〇部116之方式擺放第一引線no,如此獲得組 16 200951998 件(或裝配體)。此外, 爐)使焊錫材料熔融, 進加減 第三圖以與第—圖類似之方式顯示 Μ ° $巧所示之態樣之二V13QQ 具有與弟-圖類似之聚合物PTc元件· Ί =π)。第-引、線110藉由連接部件132心= 聚合物PTC元件108作為第一金屬電極 = ❹ ❹ 極104qptc元件10 1之金屬電 内讓人^易理解,第三圖之第一引線Η -金S電極104之連接以及第一引線11{)與 穿、 3〇1之連接在第一圖或第二圖之態樣上是類似的裝體 陶瓷封裝體301類似於第一圖及第二圖所 而具有包圍開口部116之金屬層126,但是如第 所不L與第二圖(b)所示之陶瓷封裝體201相比,差異點 之一,將容納聚合物PTC元件108之開放空間部114加 以界^的底部302具有貫通孔3〇4。結果,為了確保將 開放空間部114加以界定之底部302之内側(上側)與外 側(下側)之間之電性導通’如第三圖(a)所示’將電導體 306设置成經過貫通孔304之内壁。 如第三圖(a)所示,上述之電導體306位於界定開放 空間部114之底部302之外側(下側)的部分308與第二 弓^線112電性連接著。第二引線112與電導體306之部 分308之間之連接可以類似於第一引線110與金屬層 之間之連接’是可以藉由例如焊錫、導電性黏接劑、 導電性漿料等來實施。 17 200951998 因此,對照第〆圖所示之PTC裝置100之第二金屬 電極106與第二弓丨線112直接連接著,在第三圖所示之 態樣之PTC裝置也類似於第二圖,ptc元件jog 之第二金屬電極1〇6隔著電導體306間接連接到第二引 線112。此態樣中,在不經過陶瓷封裝體3〇丨之側邊之 前提下,能確保陶篆封襄體301之内側與外側之電性導 通,所以容易製造陶兗封裝體301。例如在陶变封裝體 301底部302之内側及外側配置延伸到貫通孔3〇4周緣 的電導體部分(例如:金屬層、金屬線、金屬帶等),對 貫通孔304之内壁進行金屬鍍覆,藉此將内侧及外側之 電導體部分連接為/體。如此能形成電導體306。 此外’第三圖(a)所示之PTC裝置300在具有貫通孔 3〇4這點上不同,但是有關裝配體之形成,實質上類似 於先前說明過的第二圖(a)之PTC裝置200之形成。因 此’第三圖⑻之PTC裝置300之製造類似於第二圖⑷ 之情況。 第四圖顯示別的態樣之本發明之PTC裝置。第四圖 所示之態樣之PTC裝置400具有類似於第一圖之聚合物 PTC元件1〇8,又具有第一引線ι10。第一引線連 接到聚合物PTC元件108作為第一金屬電極之一邊之金 屬電極104。此態樣中’陶瓷封裝體401内配置有PTc 元件108 ’陶瓷封裝體401類似於第二圖(b)所示之陶瓷 封裝體201,但是在底部具有階梯部分(或段差部)4〇2這 點上不同。 此陶瓷封裝體401中,底部具有段差部402,在段 18 200951998 差部402之兩側設有二個獨立之電導體404及4〇6(例 如:金屬層、金屬線、金屬帶等)。一邊之電導體4〇4 類似於第二圖之金屬層212,位於陶瓷封裝體4〇1底部 之上侧’電性連接到PTC元件1〇8之第二金屬電極1〇6, 並且電性連接到位於底部外側(或下側)之第二引線 112:另一邊之電導體406電性連接到第一引線,並 且藉由接合引線(bonding wire)408電性連接到PTC元件 Ο
108之弟一金屬電極1〇4。因此,第四圖之態樣中,pTC 元件108之各金屬電極104,1〇6均間接連接到引 (110,112)。 第四圖之態樣中,第-引線U〇直接連接到陶竟封 裝體401作為電導體406之金屬層,且第二引線112直 接連接到陶瓷封裝體401之電導體4〇4,結果,這些引 線110,112間接連接到pTC元件1〇8之金屬電極 104,106。因此,將引線連接到金屬層或電導體,也能夢 由可能對PTC元件108有不良影響的更嚴苛的敎的條^ 下之連接方法來實施。 因此^四圖所示之PTCM_是能例如#_ :之方法來β造。I先’於第二引線112上以別的金屬 f 能位於此處之方式擺放喊封裝體4(Π,將這些 縣熔接為—體㈣成料部彻,其次, =4〇1、底部之上側擺放焊锡材料(對應於連接部^ 元:擺放PTC元件108,加熱使ptc 2 弟二金屬電極1〇6連接到 猎由接合引線408來連接PTC元件觀之第一電極、f04 19 200951998 =金屬層402,其次,以封閉陶瓷封裝體4〇1之開口部 6之方式將第一引線110隔著別的金屬層409擺放在 陶瓷封裝體401周圍之金屬層4〇6上,將第一引線11〇 =接在別的金屬層409而形成熔接部41〇,如此能獲得 裝置400。此外,較佳為別的金屬層事先例如藉由 X是、燒結等黏接到陶瓷封裝體之金屬層。 金屬電極薄的情況(通常是金屬箔之形態)是常見
田所以在引線直接連接到金屬電極之情況下,一般使 以加熱爐加熱焊錫、導電性黏接劑、導電性漿料等的 去。對此,在將引線直接連接到金屬層或電導體之情 =,能=熔接連接這些部件間’故在這些部件之間能確 的連接。亦即’能將PTC元件更確實地密封在 陶瓷封裝體内。 第四圖中,陶瓷封裝體401在其上侧之主表 =層4。6,又為了使溶接容易,在金屬= 肀无具有別的金屬層(例如:Ag_Cu層、可乏層等。 此外,所繪示之態樣中,也顯示著熔接部41^。下側之 金屬層404也同樣地具有別的金屬層409,也給卜 接部410。 乜、、曰不了熔 知〆,,上述之各種態樣中,在非活性氣體氣氛下例如 虱軋汛下或真空下,實施藉由引線來封閉陶瓷 ,口部的程序,在此情況下,支撐PTC元件之開^空間 部在充滿非活性氣體之狀態下被引線封閉,所以 件所含之金屬填料之氧化之相關問題點更進一步減_。 使用以下之陶瓷封裝體、PTC元件及引線來模^了 20 200951998 第四圖所示之本發明之PTC裝置400。 •陶瓷封裝體(日本特殊陶業公司製’氧化銘製) 尺寸(外尺寸):4.8mmx9.1mmxl.3mm(高度) 開放空間部尺寸:3.411111〇<7.7111111><1.05111111(高度) 金屬層:於Mo/Mn層(相當於第四圖之404及406) 上鍍覆Ni,在Ni上鍍覆Au(這些部件之鍍覆層相當於 第四圖之409) • PTC 元件(Tyco Electronics Raychem K.K.製,商品名 ® 為 PolySwitch) 尺寸:2.3mmx3.0mmx0.43mm(厚度) •引線(錄製,尺寸:5mmx20mmx0.125mm(厚度)) 於陶瓷封裝體内之開放空間部内配置PTC元件 後,於陶瓷封裝體上配置引線,於陶瓷封裝體之周緣部 熔接其金屬層(406+ 409)與引線,藉此將界定該開放空 間部之開口部加以封閉,因而將PTC元件密封在陶究封 裝體内。 * ❹ 其次,將所獲得的陶瓷封裝體保持在40大氣壓(atm) 之空氣氣氛下七天後,將引線從陶瓷封裝體剝下並取出 PTC元件。測量所取出的pTc元件之電阻値(R1)後,以 6V/50A之施加條件使PTC元件跳脫(trip)保持5分鎊 後,停止施加,再過一小時後測量PTC元件之電阻 =2)。此外,在比較例方面,在不利用引線進行密封= 前提下,同樣地測量了相同條件下支撐在陶瓷封裝體内 之PTC元件之電阻値。將其結果顯示於表一及表二。 21 200951998
[表一] 表一:實施例(單位:πιΩ) R1(跳脫前電阻值) R2(跳脫後電阻值) 1 6.3 8.0 2 7.8 9.8 3 9.3 11.1 4 7.2 9.6 5 7.9 10.3 6 8.3 10.9 7 6.5 8.8 8 10.3 12.4 9 8.0 9.5 10 6.8 8.8 11 7.4 10.2 12 7.7 9.9 13 7.5 9.9 14 6.8 9.0 15 7.1 9.0 16 8.0 9.9 17 7.4 10.0 18 6.9 8.5 平均 7.6 9.8 最小值 6.3 8.0 最大值 10.3 12.4 標準偏差 0.95 1.01 22 200951998 [表二] —表二:比較例(單位LjnQ) R1(跳脫前電阻佶) R2(跳脫後電阳/古、 1 6.2 64.0 2 5.7 57.1 ^^ 3 6.0 54.2 〜-—- 4 ——— 7.3 56.0 ^ ^ 5 7.2 80.2 - 6 6.7 97.0 〜~~^ 7 6.8 70.1 ^~ 8 •---— 7.5 59.0 〜~~- 9 — 6.7 71.8 ~~~~ 10 7.8 69.6 ^ 平均 .gL » /士 6.8 67.9 ^ 取小值 5.7 54.2 "〜 最大值 標準偏差 —--- 7.8 A CA "------- 97.0 本實施例中 U,〇4 ,未實施引線與PTC 12.50 ~~~-—-—1 元件之金屬電核夕 β Ϊ : : 1有關使用化線將PTC元件密封在陶瓷封 内精以抑制PTC元件之金屬填料之氧化這件事的 搂M +比較表一及表二之結果就清楚得知,不必實施那 撼、,性連接:*於有這個看法,所以前面記載著「模 了第四圖所示之本發明之PTC裝置」。 尤其’本發明之PTC裂置能抑制使pTC元件跳脫 値之增加。意味著,*於有效地防止導電性 八j之氧化,所以長期保持PTC元件進而 PTC裝置之 可罪性,結果,提高使肖PTC裝置之裝置等之可靠性、 23 200951998 安全性。 [產業上之利用可能性] 明由於能抑制構成PTC裝置之PTC元件之 、所含之金屬填料的氧化,所以能減輕PTC元件 之龟阻隨著時間變化而增加的問題點。 〇此外’本案主張基於曰本特許出願第2008-148888 號(2008年6月6日申請,發明名稱為「pTC裝置」)的 優先權,在此參照這個優先權文件,藉以將其在日本申 凊所揭露之事項全部納入本說明書之揭露事項。 【圖式簡單說明】 第一圖(a)係顯示本發明ptc裝置之示意側視剖面 圖,此外,第一圖(b)係顯示第一圖(a)之PTc裝置所用 之陶瓷封裝體之示意立體圖。 第二圖(a)係顯示本發明別的態樣之pTc裝置之示 意側視剖面圖,此外,第二圖(b)係顯示第二圖(a)2PTC 裝置所用之陶瓷封裝體之示意立體圖。 弟二圖(a)係顯不本發明別的態樣之pTc裝置之示 ,側視剖面圖’此外,第三圖(b)係顯示第三圖(:)之pTC 衣置所用之陶瓷封裝體之示意立體圖。 第四圖係顯示本發明別的態樣之PTC裝置之示意 側視剖面圖。 【主要元件符號說明】 100 PTC裝置 24 200951998
102 PTC元件 104 第一金屬電極 106 第二金屬電極 108 PTC元件 110 第一引線 112 第二引線 114 開放空間部 116,118 開口部 120 陶瓷封裝體 122,124主表面 126,128金屬層 130,132連接部件 200 PTC裝置 201 陶瓷封裝體 202 底部 204,206,208,210 界定空間部之隔牆 212 電導體 300 PTC裝置 301 陶瓷封裝體 302 底部 304 貫通孔 306 電導體 400 PTC裝置 401 陶瓷封裝體 402 段差部 25 200951998
404,406電導體 408 接合引線 409 別的金屬層 410 熔接部 26

Claims (1)

  1. 200951998 七、申請專利範圍: 1. 一種PTC裝置,係具有: (1) 聚合物PTC元件,具有聚合物PTC要素、以及配 置於其兩側之主表面的第一及第二金屬電極; (2) 引線,連接到聚合物PTC元件之至少一邊之金屬 電極;以及 (3) 陶瓷封裝體,具有容納聚合物PTC元件之開放空 間部,該開放空間部具有至少一個界定該開放空間 ❹ 部的開口部,其特徵為: 該引線封閉著該開口部,使配置於該開放空間部 之聚合物PTC元件與陶瓷封裝體之周圍環境隔離。 2. 如申請專利範圍第1項之PTC裝置,其特徵為:該 開放空間部是具有第一開口部及第二開口部的貫通 空間部,該第一開口部及該第二開口部位於陶瓷封裝 體面對面之第一主表面及第二主表面,與聚合物PTC 元件一邊之金屬電極連接之第一引線封閉著第一開 口部,與聚合物PTC元件另一邊之金屬電極連接之 w 第二引線封閉著第二開口部。 3. 如申請專利範圍第1項之PTC裝置,其特徵為:陶 瓷封裝體係在其一個主表面具有開口部的有底殼體 之形態,又具有將該有底殼體之底部之内側與外側連 接的電導體,與聚合物PTC元件之第一金屬電極連 接、作為第一引線之引線封閉陶瓷封裝體之開口部, 聚合物PTC元件之第二金屬電極在陶瓷封裝體之底 部連接到該電導體,因此,第二金屬電極連接到與該 27 200951998 :導體連接之第二引線。 =專利範圍第3項之ρτ 是封農體在底部具有 f」 寸欲為.陶 部之内側與外侧連接的具有經由貫通孔將底 第二1線連接到該電導導體,配置於該底部外側之 如申請專利範圍第C亚且封閉著該貫通孔。 f特徵為··陶£縣體在^中任—項之PTC裝置, 金屬層,封閉開口部之^表面具有包圍開口部之 體主表面之金屬層上=則線配置於陶竟封裝 的連接部件連接到陶^於該引線與金屬層之間 如申請專利範圍第5頊,體。 接部件由焊錫所形成。、PTc裝置,其特徵為··連 如申請專利範圍第5項 ,係位於引線與金屬層Τ之 部。 θ间的廷些部件之熔接 如申凊專利範圍第丨至7 其特徵為·· PTC元件之Μ項^任—項之PTC裝置, 一引線。 之弟-金屬電極連接到引線或第 =申睛專利範g第5項< PTC 圍陶瓷封裝體開口部之 if,其特徵為:包 延伸之部分,PTC元件 二:在開放空間部内 分,藉此連接到該引線。一、屬電極連接到該部 1〇·如申凊專利範圍第i至 其特徵為:在開放空間 氣—項之PTC装置, ptc元件。 相氣錢下或真空下密封著 4. 5. 6. 8. 9. 200951998 11. 一種電氣裝置,具有申請專利範圍第1至10項中任 一項之PTC裝置。
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