TW200906780A - Method for producing difluoromethanebis(sulfonylfluoride) - Google Patents

Description

200906780 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於二氟甲烷雙（磺醯氟）之製造方法。 【先前技術】 全氟鏈烷磺醯氟係可用爲製造烷基化劑、醫農藥品、 超強酸觸媒、及電化學材料等之中間體。 例如’使分子中具有2個磺醯氟基之全氟鏈烷雙（磺 醯氟）之以下式（F2)所示之化合物與nh3反應，可得下 式（A)所示之陰離子之銨鹽。該銨鹽係可用以作爲導電 性與化學安定性優異的電解質材料（參考專利文獻1 )。 [化1] /S〇2f '>so2-CF2l (cf2)2 < 1 so2f so2-cf2 * (F2) (A) 为子中具有1個涵醋氧基之全氟鍵院單（擴醯氟）之 製造方法方面’已知有以下之製造方法。 使 RF2CHFS02F (惟，R” 表示—F、一 CF3 或-CF2CF2 )於液相中與氟反應之RF2CF2SOzF的製造方法（參考專 利文獻2 )。 使CHsSC^F於液相或氣相中使用氟進行氟化反應之 CF3S〇2F、CHF2SO2F或CH2FS02F的製造方法（參考專利 文獻3)。 分子中具有2個磺醯氟基之全氟鏈院雙（磺醯氣）的 -4- 200906780 製造方法方面，已知有以下之製造方法。 使具有f(o)c—cf2—so2F等之氟磺醯基與羧基之化 合物藉由電極反應進行耦合反應而製造前述之式（F2)所 示之化合物等的方法（參考專利文獻4 )。 使下式（H3 )所示之化合物藉由電化學性進行氟化而 製造下式（F3)所示之化合物的方法（參考非專利文獻1 )° [化2]

/S02F /S02F (C«2)3 (CF2)3 so2f so2f (H3) (F3) 〔專利文獻1〕特表平01 - 501822號公報 〔專利文獻2〕國際公開第2004/ 096759號冊 〔專利文獻3〕特開2003 — 206272號公報 〔專利文獻4〕國際公開第2006/ 1 06960號冊 〔非專利文獻 1〕Journal of Fluorine Chemistry、 1 987 年、35 卷、329 — 34 1 頁 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 非專利文獻1中所記載之氟化反應的回收率係5.4〜 34.0%之低回收率。又顯示，鍵結於—S02F基之—CH2 — 的氫原子之氟取代反應難以發生。再者，該文獻之起始物 質之式（H3 )所示之化合物有難以取得之問題。 -5- 200906780 又，其他文獻（專利文獻1〜4)中，關於本發明之 式CF2(S〇2Fh所示之二氟甲烷雙（磺醯氟）之製造方法 中，並無具體的記載。 本發明之目的在於，提供分子中具有2個磺醯氟基、 或2個-S〇2鍵結之二氟甲烷雙（磺醯氟）的製造方法。 〔解決上述課題之方法〕 本發明具有下述要點。 〔1〕一種下述式（1)所示之化合物的製造方法，其 特徵爲，使下述式（2F)所示之化合物進行氟化反應； F S Ο 2 — CHF — S Ο 2 F (2F) F S Ο 2 — C F 2 — S Ο 2 F (1) 〔2〕一種下述式（^)所示之化合物的製造方法，其 特徵爲，使下述式（4)所示之化合物及/或下述式（3) 所示之化合物與ho反應後得到下述式（2F )所示之化 合物’接著使該化合物進行氟化反應； [化3] CF2—CF〆 I I 〇—s〇2 (4) so2f F(〇)C-»cf"S〇2F I SOjF (3)

H-CF .so2f I so2f (2F) /S02F?F2 so2f (1) 〔3〕如上述〔2〕：>细、斗+ _ & _造方法，其係相對於前述式（ 4)所示之化合物及前沭1 $ ( 3 )所示之化合物的總含量而 言，使用〇_1〜10倍莫苴队 耳的H20進行反應。 〔4〕如上述〔1〕〜 、 200906780 中’前述氟化反應係藉由於液相中與氟反應而進行。 〔5〕如上述〔4〕之製造方法，其中，上述液相中的 惰性溶劑係全氟鏈烷類、或將構造中具有由氯原子、氮原 子、及氧原子所成之群選出之1種以上之原子的有機溶劑 化合物經全氟化所得之溶劑。 〔6〕一種以下述式（Cy)所示之化合物的製造方法 ’其特徵爲’藉由如上述〔1〕〜〔5〕中任一項之製造方 法獲得前述式（1 )所示之化合物後，使該式（1 )所示之 化合物與氨反應； [化4] [νη4Γ ,S02 '>2 (Cy) so, 〔7〕如上述〔6〕之製造方法，其係以下述（ΙΑ) 或（1Β)之方法，使前述式（1)所示之化合物與氨反應 後，獲得前述式（C y )所示之化合物； (1A) : 20〜30 °C之反應溫度、大氣壓下，於無水 二乙醚或四氫呋喃存在下，使前述式（1)所示之化合物 與氨反應之方法、 (1B ) : — 78〜一30°C之反應溫度、大氣壓下，於含 液體氨之四氫呋喃溶液中，藉由添加含前述式（1)所示 化合物之四氫呋喃溶液，使前述式（1)所示之化合物與 氨反應之方法。 〔發明之效果〕 200906780 根據本發明之製造方法，即可利用無需特別裝置或試 劑之方法，以簡短的步驟及高回收率來製造二氟甲烷雙（ 磺醯氟）及式（Cy)所示之化合物。 【實施方式】 〔實施發明之最佳型態〕 本說明書中，式（1 )所示之化合物亦記爲化合物（1 )。其他式所示之化合物亦同樣地記載。說明書中之基的 定義若無特別記載，則與前述意思相同。 本發明中，使上述化合物（2F )氟化後而得上述化合 物（1 )。 化合物（2F )中，被S02F所挾持之構造爲CHF ’比 較對應之該構造爲CH2之下述化合物（2H )，於氟化反 應時，有可邊抑制切斷碳原子-硫原子鍵結邊實施氟化之 優點。 本發明者係依周知的方法，嘗試製造化合物（2H ) ，但卻未能生成化合物（2H )之原料C1S02CH2S02C1。 相對於此，因化合物（2F )可藉由後述之方法取得，故本 發明之製造方法係易於工業性製造、且可以高回收率自化 合物（2F )獲得目的化合物（1 )之方法。 FS〇2- CH2- S02F ( 2H ) 化合物（2F )之氟化反應係以液相反應進行者爲佳。 氟化反應方面係可舉出有：使化合物（2F )於液相中與氟 (F2 )反應之方法（以下稱爲液相氟化法）、或、使溶解 * 8 - 200906780 化合物（2 F )而得之無水氟化氫溶液於電解槽中電解進行 氟化之方法（亦稱爲電化學性氟化方法。以下，記爲電解 氟化法）。由副生成物少且反應回收率高之觀點來看，藉 由液相氟化法進行者特別佳。 液相氟化法係於惰性溶劑中，使化合物（2 F )與氟反 應而進行。氟可直接使用，亦可使用以惰性氣體稀釋之氟 。惰性氣體方面，以氮氣、氦氣爲佳，由經濟性之觀點來 看’氮氣特別佳。以惰性氣體稀釋時之氟濃度（體積％ ) 並無特別限定，但以佔稀釋氣體中1 〇體積％以上爲佳， 20體積％以上特佳，其中20〜50體積％又更佳。 惰性溶劑，若爲對氟而言惰性之溶劑、且與化合物（ 2 F )具有相溶性之溶劑則無特別限定，但以不含c - Η鍵 結而必須有C - F鍵結之化合物所成之溶劑爲佳。 惰性溶劑方面，以可使化合物（2 F )溶解1質量％以 上之溶劑爲佳，可溶解5質量％以上之溶劑則特別佳。溶 解量並無特別之上限，但以5 0質量％爲佳。 惰性溶劑係以全氟鏈烷類、或使構造中具有選自氯原 子、氮原子及氧原子所成之群之1種以上的原子之周知的 有機溶劑用化合物全氟化所得之溶劑爲佳。 惰性溶劑之具體例方面，係可舉出全氟鏈烷類、全氟 醚類、全氟聚醚類、氯氟碳類、氯氟聚醚類、全氟烷基胺 、氟系惰性流體（3Μ公司商品名：Florinat )等。 液相氟化反應中之惰性溶劑的量，相對於化合物（2F )而言，以5倍質量以上爲佳，1 〇〜1 〇 〇倍質量則特別佳 -9- 200906780 液相氟化反應中之反應溫度’以一 6(TC以上爲佳，由 反應回收率、選擇率、及易於工業性實施之觀點來看，以 一 50〜100 °C更佳，而—20〜50 °C特別佳。液相氟化反應 中之反應壓力並無特別限定，但以常壓〜2MPa爲佳。 液相氟化反應之形式可爲批次方式，亦可爲連續方式 ，其中以連續方式爲佳。 以批次方式進行之液相氟化反應的樣態方面，可舉出 於反應器中置入化合物（2F )與惰性溶劑後，邊攪拌反應 器内，邊連續地於反應器中供給氟氣體，而使化合物（2F )進行氟化反應之樣態。 以連續方式進行之液相氟化反應的樣態方面，係可舉 出於反應器中置入惰性溶劑後，邊攪拌反應器内，邊連續 地於反應器中供給化合物（2F )與氟氣體，而使化合物（ 2F )氟化之樣態。化合物（2F )之供給，若由提高選擇率 、抑制副生成物量之觀點來看，以使用經惰性溶劑稀釋之 化合物（2F )者爲佳。此時，相對於化合物（2F )之惰性 溶劑的量，係以5倍質量以上爲佳，而1 0倍質量以上特 別佳。 連續方式中，相對於化合物（2F)中之氫原子而言， 以令用於液相氟化反應之氟的量經常爲過剩當量者爲佳， 其中較佳爲1 · 5倍當量以上，若爲1 · 5〜5倍當量則特別 佳。 根據本發明，係可以高回收率實施令被2個S Ο 2 F基 -10 - 200906780 所挾持之CHF部分的氫原子以氟原子取代之反應。又有 化合物（1 )之回收率也高之優點。 本發明之液相氟化反應中，爲了引發使化合物（2F) 中的氫原子以氟原子取代之反應，會有HF之副產物生成 (以下’副產物生成簡稱爲副生）。因此，爲了去除副生 之HF，係以於反應系中使HF捕捉劑共存，或是於反應 器氣體出口使HF捕捉劑與出口之氣體接觸爲佳。HF捕 捉劑方面，以NaF爲佳。 在化合物（2F )之取得方法上，係以使下述化合物（ 4)及/或下述化合物（3)與H20反應之方法爲佳。 [化5] zS02F CF I SOjF (2F) ,so2f ,so2f

CF2—CF F(0)C-CF

II I 〇—so2 so2f (4) (3) 又，化合物（4 )與化合物（3 )可分別單獨使用，亦 可作爲混合物後使用，作爲混合物使用時其分別之比率並 無限定。化合物（2 F )之原料方面，係以化合物（4 )爲 佳。化合物（4)及/或化合物（3)與H2〇反應中之水 的量’相對於化合物（4 )及化合物（3 )之總量，在反應 率與容積效率之點，係使其爲0.1〜10倍莫耳爲佳’其中 若爲0.5〜2倍莫耳又特別佳。 化合物（4)及/或化合物（3)與H2〇之反應’可 於溶劑存在下進行，亦可於溶劑不存在下進行’但以溶劑 不存在下進行爲佳。使用溶劑的情況時，係以使用不具有 與- S02F基有反應性之親核性官能基，且即使對於副生 -11 - 200906780 之氟化氫仍爲安定，且由使水與化合物（4)及/或（3) 一起溶解之化合物所成之溶劑爲佳。該溶劑方面，係以腈 類、環狀醚、鎖狀醚爲佳，乙腈、丙腈、丁腈、四氫呋喃 、1、4一二噁烷、二乙醚、t一丁基甲基醚、二甲氧基乙 烷、二直鏈聚醚、三直鏈聚醚等特別佳。使用溶劑時的量 ，相對於化合物（4 )及化合物（3 )之總量，係以〇. i〜 1 0倍容量爲佳，特別是〇 _ 5〜5 · 0倍容量爲佳。 化合物（4 )及/或化合物（3 )與H2◦之反應的溫 度，係以化合物（4 )及化合物（3 )之沸點中較低沸點以 下的溫度爲佳，以〇〜5 0 °C特別佳。前述反應中之反應壓 力可爲減壓、常壓、或加壓之任一。 以本發明之製造方法所得之化合物（1 )，係可直接 用於所希望之用途上，亦可經純化提高純度後，用於所希 望之用途。純化方法方面，係可舉出蒸餾法等。 再者，以前述之方法所得之化合物（1 ) ’係可藉由 與氨反應而製造下述化合物（Cy)。 [化6]

(〇y) 化合物（1 )與氨之反應方法方面，係以後續β $》去 (1 A )或方法（1 Β )爲佳。 方法（1A) : 20〜30 °C之反應溫度' 大氣壓^ ’於 無水二乙醚或四氫呋喃存在下，使前述式（1)所示之化 合物與氨反應之方法。 -12- 200906780 方法（1B) : — 78--30 °C之反應溫度、大氣壓下， 於含液體氨之四氫呋喃溶液中’藉由添加含前述式（1 ) 所示化合物之四氫呋喃溶液’使前述式（1 )所示之化合 物與氨反應之方法。 以本發明之製造方法所得之化合物（C y )’其本身係 用爲導電性材料之化合物。 又，化合物（Cy)亦可用爲種種有用的化合物之起始 原料。例如，使化合物（Cy )作爲起始原料，係可藉由下 述之製造流程的利用而製造下述化合物（Cyh )、下述化 合物（Cym )、下述化合物（Cyn )、下述化合物（Cyf ) 等之化合物（惟，Μ表示鹼金屬原子、R表示1價有機基 、Χ表示一價的陰離子）。 [化7] 流程圖1

Μ較佳爲鋰原子。μ爲鋥原子之化合物（Cym)可用 爲電解質材料。 R較佳爲碳數1〜10之1價烴基，其中以碳數1〜10 之烷基特別佳。又，4個R可相同或相異。又，其中2或 -13- 200906780 3個R亦可相互連結形成含有N +之環構造° R充 造時，其環構造亦可具有芳香族性。不形成環構缝 的R係以碳數1〜1 0之1價烴基爲佳，其中以碳霍 之烷基特別佳。 (NR4) + (X)-之 X 以 OH、Cl、Br 或 I 爲佳。介 Cyh )與（NR4) + (Xr之反應以於水溶液中進行爲佳 由在於，因化合物（Cyn )難溶於水，副生之HX 爲水溶性，而致反應後之兩者容易分離。 化合物（Cy11 )係可用爲導電性材料、反應箱 媒體材料等。化合物（Cyh )不僅可用爲中間體， 爲超強酸觸媒。 化合物（Cyf)可用爲氟化劑（DesMarteau試 〔實施例〕 本發明係舉出實施例以具體說明，但本發明3 於此等而解釋之。 此外，下述中，氣體色層分析記爲GC、氣骨 析質量分析記爲GC— MS、CC12FCC1F2記爲R — 度及回收率係由GC分析之波峰面積比、或19F-積分比（内部標準：全氟苯）求得。 〔例1〕 化合物（1 )係依下式所示之流程圖來合成。 >成環構 ί之殘餘 纹1〜1 0 :合物（ :。其理 或 MX :劑、熱 亦可用 劑）° ^非限定 【色層分 11 3。純 NMR之 -14- 200906780 [化8] so3 + cf2*cfcf2oso2f xCF20S02F?F2*T — 〇-S〇2 ⑺

^CF20S02F CF2*CFS02F (5) -►

F(0)C-CF so2f ~ (6) CF2—CF丄 I 〇-S〇2⑷ ,so2f F(0)C-CF S02F (3)

,so2F H-CF I so2f (2F)

,S02F cf2 so2f (1) ,so2f 〔例1 — 1〕化合物（7 )之製造例 於裝設有熱電偶（Thermocouples)與電容器之3 口 燒瓶（内容積2 L )中，置入單蒸餾6 0 %發煙硫酸所得之 S03 ( 461g)，再來，在 25°C 滴下 CF2=CFCF20S02F( 1 4 5 8 g )。滴下過程中，可觀測到燒瓶内溫稍微降低。 滴下終了後，使燒瓶内加熱到7 〇 °C止，開始燒瓶内 溶液之回流。接著，燒瓶内溫即隨著反應的進行而上昇。 維持該狀態1 9個小時，加熱燒瓶内使燒瓶内溫到達1 0 5 °C時停止加熱。 以GC - MS與19F - NMR分析燒瓶内溶液之結果’確 認了以7 9 %之回收率生成了化合物（7 )。而有1 4 %之 cf2=cfcf2oso2f 殘存。 〔例1 一 2〕化合物（6 )之製造例 例1 - 1所得之燒瓶内溶液中，添加以噴霧乾燥呈微 -15- 200906780 粉末狀之KF ( 5 Ο 0 g )。此添加之動作，係將燒瓶以冰冷 卻，邊注意燒瓶内溫的上昇邊進行。添加終了後，於燒瓶 内溫25 °C並攪拌燒瓶内6日。接著，直接進行燒瓶内溶 液的精密蒸餾，129〜131 °C可得餾出成分爲GC純度99% 以上之純化合物（6 ) ( 1 080g )。以起始原料之CF2 = CFCF20S02F爲基準之回收率爲60%。 〔例1 一 3〕化合物（5 )之製造例 於内徑lcm之管狀反應器（Inconel製）塡充玻璃微 粒（中心粒徑105〜125μηι、岳南光機公司製玻璃微粒# 150 )至塡充高度4〇cm爲止後’加熱管狀反應器至25 0 °C。 準備經過氮氣稀釋而使例1 - 2所得化合物（6 )之氣 體成爲含25莫耳％之混合氣體。邊加熱管狀反應器’使 管狀反應器内之混合氣體的線速達2.〇cm/s由管狀反應 器之底部導入。此外，管狀反應器之上端部裝設乾冰放置 裝置（trap )。如此，在直接供給前述混合氣體2小時後 ，僅使氮氣流通1小時。導入管狀反應器中之化合物（6 )的量爲2 9 9 g。

回收到乾冰放置裝置（traP )之液體（12 · )於GC 分析之結果，無法確認爲化合物（6 ) ’而確認了存在純 度9 0 %之化合物（5 )。包括前述液體的回收率在內’化 合物（5 )的回收率爲6 9 %。 〔例1 一 4〕化合物（4 )與化合物（3 )之製造例 -16- 200906780 於裝設有電容器之20 OmL的4 口茄型燒瓶中，置入 例1 ~ 3所得之化合物（5 ) ( 69.0g、0.42mol )以及反應 前才剛自6 0 %發煙硫酸以單蒸餾餾出而得之三氧化硫（ 31.8g > 0.40mol) ’以1 4 0 °C使其反應1 5個小時。反應終 了後’進行蒸餾純化，回收主要餾出成分6 4.7 g。使所得 之主要餾出成分以19F- NMR進行分析之結果，得到含有 化合物（4)與化合物（3)爲4: 1(NMR中之面積比） 之混合物。相對於化合物（5 )之投入量而言，化合物（4 )與化合物（3 )之合計回收率爲6 3 %。 〔例1 一 5〕化合物（2F )之製造例 將例1 一 4所得之化合物（4 )與化合物（3 )之混合 物（63.5g、0_26mol)以及氧化鈉（21.8g、0.52mol) ’ 置入lOOmL之4 口燒瓶中，冰域冷卻下，緩慢滴下7.02g (0.3 9mol )的水。滴下終了後，於室溫下攪拌過夜後， 以單蒸餾餾出目的物之結果，回收水相（2.63g )與有機 相（4 1 . 5 g )。有機相經GC分析之結果，確認爲GC純度 99%以上之純化合物（2F )。化合物（2F )的回收率爲 8 0.5%。 〔例1 一 6〕化合物（1 )之製造例

於高壓蒸汽爐（内容積5 00mL、NICKEL製）中’加 入R — 113(312g)邊攪拌邊保持在25°C。於高壓蒸汽爐 的氣體出口，直列式地設置了保持於5 °C之冷卻器、NaF -17- 200906780 造粒塡充層。吹入氮氣1.0小時之後，以流速l〇. 70L/ h 吹入以氮氣稀釋成20體積％之氟氣體（以下記爲20 %氟 氣體）30分鐘。再使高壓蒸汽爐内的壓力加壓至0.1 OMPa 止，而後以相同的流速吹入20%氟氣體30分鐘。接著以 相同流速邊吹入20%氟氣體，邊花費4.1個小時注入使上 述化合物（2F ) ( 50.0g )溶解於R— 1 13 ( 130g )之溶液 〇 接著邊以相同的流速吹入20%氟氣體，邊使高壓蒸汽 爐壓力保持在0.1 OMPa，花費1.5小時注入33mL之苯濃 度爲0.01g/mL的R — 113溶液，之後關閉高壓蒸汽爐的 苯注入口，且攪拌1 . 〇小時。然後，使高壓蒸汽爐内溫度 自25°C至40°C爲止邊進行加熱，邊再持續攪拌1.〇小時 。接著，吹入氮氣1. 〇小時之後，回收高壓蒸汽爐内的内 容物。 以1 9 F - N M R分析内容物的結果，確認生成目的化合 物（1 ) ( N M R 回收率 5 2.5 % )。 化合物（1 )之19F — NMR的光譜數據（2 82.65MHz、 溶劑：CDC13、基準：CFC13) δ ( ppm ) ： 47.7 ( 2F )- -97.4 ( 2F )。 〔產業上之可應用性〕 本發明之製造方法，係無須特別裝置或試劑’且爲簡 便、步驟少而可高效率地製造目的化合物cf2(so2f)2 ’可 用於工業性之製造方法。又’根據本發明之製造方法所得 -18- 200906780 之cf2(so2f)2，可衍生爲用於 超強酸觸媒、電化學材料等之 料之工業性製造上。 此外，在此引用2007年： 請2007— 0619 42號之說明書 部内容，其中所收錄的內容則 烷基化劑、醫農藥中間體、 用途的材料，且可用於該材 1月1 2日申請之曰本專利申 、申請專利範圍及摘要之全 作爲本發明之說明書的揭示 -19-

Claims (1)

1. 200906780 十、申請專利範園 1. 一種下述式（1)所示之化合物的製造方法，其特 徵爲，使下述式（2F)所示之化合物進行氟化反應； FS〇2 — CHF~ S02F (2F) fs〇2—cf2- so2f (1)。 2. —種下述式（1)所示之化合物的製造方法，其特 徵爲’使下述式（4)所示之化合物及/或下述式（3)所 示之化合物與Η2〇反應後得到下述式（2F)所示之化合 物’接著使該化合物進行氟化反應； [化1] .S02F H-CF I so2f .so2f so2f /S〇2f CF 广 CF I I 〇—so： ⑷ ^so2f F(0)C-CF S02F (3) (2F) (1) 3 .如申請專利範圍第2項之製造方法，其係相對於前 述式（4 )所示之化合物及前述式（3 )所示之化合物的總 含量而言，使用0.1〜10倍莫耳的H20進行反應。 4 ·如申請專利範圍第1〜3項中任一項之製造方法， 其中，前述氟化反應係藉由於液相中與氟反應而進行。 5. 如申請專利範圍第4項之製造方法，其中，上述液 相中的惰性溶劑係全氟鏈烷類、或將構造中具有由氯原子 、氮原子、及氧原子所成之群選出之1種以上之原子的有 機溶劑化合物經全氟化所得之溶劑。 6. —種以下述式（Cy)所示之化合物的製造方法，其 特徵爲，藉由如申請專利範圍第1〜5項中任一項之製造 -20- 200906780 方法獲得前述式⑴戶斤示之化合物後，使該式（"所示 之化合物與氨反應； [化2]

   7·如申請專利範圍第6項之製造方法，其係以下述（ 1A)或（1B)之方法’使前述式（1)所示之化合物與氨 反應後’獲得前述式（C y )所示之化合物； 方法（1A) : 20〜30 °C之反應溫度、大氣壓下，於 無水二乙醚或四氫呋喃存在下，使前述式（1)所示之化 合物與氨反應之方法、 方法（1B) : —78--30。(：之反應溫度、大氣壓下’ 於含液體氨之四氫呋喃溶液中，藉由添加含前述式（1) 所示化合物之四氫呋喃溶液，使前述式（1)所示之化合 物與氨反應之方法。 -21 - 200906780 無 明 說 單 無簡 knew •.號 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 代 定一二 匕曰 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：第（2F)(1)式 CFj so2f (1) so2f /S〇2f H-CF I so2f (2F)