JP5158073B2 - ジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法に関する。

ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドは、アルキル化剤、医農薬品、超強酸触媒、および電気化学材料等を製造するための中間体として有用である。
たとえば、分子中にスルホニルフルオリド基を２つ有するぺルフルオロアルカンビス（スルホニルフルオリド）である下式（Ｆ^２）で表される化合物とＮＨ_３を反応させると、下式（Ａ）で表されるアニオンのアンモニウム塩が得られる。該アンモニウム塩は、電気伝導性と化学的安定性とに優れた電解質材料として有用である（特許文献１参照。）。

分子中にスルホニルフルオリド基を１つ有するペルフルオロアルカンモノ（スルホニルフルオリド）の製造方法としては、以下の製造方法が知られている。
Ｒ^Ｆ２ＣＨＦＳＯ_２Ｆ（ただし、Ｒ^Ｆ２は−Ｆ、−ＣＦ_３または−ＣＦ_２ＣＦ_３を示す。）を液相中でフッ素と反応させるＲ^Ｆ２ＣＦ_２ＳＯ_２Ｆの製造方法（特許文献２参照。）。
ＣＨ_３ＳＯ_２Ｆを液相または気相でフッ素を用いてフッ素化反応するＣＦ_３ＳＯ_２Ｆ、ＣＨＦ_２ＳＯ_２ＦまたはＣＨ_２ＦＳＯ_２Ｆの製造方法（特許文献３参照。）。

分子中にスルホニルフルオリド基を２つ有するペルフルオロアルカンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法としては、以下の製造方法が知られている。
Ｆ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ_２−ＳＯ_２Ｆ等のフルオロスルホニル基とカルボキシル基を有する化合物を電極反応によりカップリング反応させて、前記の式（Ｆ^２）で表わされる化合物等を製造する方法（特許文献４参照。）。
下式（Ｈ^３）で表される化合物を電気化学的にフッ素化することにより下式（Ｆ^３）で表わされる化合物を製造する方法（非特許文献１参照。）。

特表平０１−５０１８２２号公報 国際公開第２００４／０９６７５９号パンフレット 特開２００３−２０６２７２号公報 国際公開第２００６／１０６９６０号パンフレット Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９８７年、３５巻、３２９−３４１頁

非特許文献１に記載されるフッ素化反応の収率は５．４〜３４．０％と低収率である。また、−ＳＯ_２Ｆ基に結合する−ＣＨ_２−の水素原子のフッ素置換反応は起こりにくいことが示されている。さらに、該文献の出発物質である式（Ｈ^３）で表される化合物の入手がしにくい問題がある。
また、他の文献(特許文献１〜４)には、本発明の式ＣＦ_２（ＳＯ_２Ｆ）_２で表されるジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法について、具体的な記載はない。
本発明の目的は、分子中に２つのスルホニルフルオリド基、または２つの‐ＳＯ₂結合を有するジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法を提供することにある。

本発明は、下記の要旨を有するものである。
［１］下式（２Ｆ）で表される化合物をフッ素化反応することを特徴とする下式（１）で表される化合物の製造方法。
ＦＳＯ_２−ＣＨＦ−ＳＯ_２Ｆ （２Ｆ）
ＦＳＯ_２−ＣＦ_２−ＳＯ_２Ｆ （１）
［２］下式（４）で表される化合物および／または下式（３）で表される化合物とＨ_２Ｏとを反応させて下式（２Ｆ）で表される化合物を得て、つぎに該化合物をフッ素化反応することを特徴とする下式（１）で表される化合物の製造方法。

［３］Ｈ_２Ｏを、前記式（４）で表される化合物および前記式（３）で表される化合物の総量に対して０．１〜１０倍モル用いて反応を行う上記［２］に記載の製造方法。
［４］フッ素化反応を液相中でフッ素と反応させることにより行う上記［１］〜［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］上記液相中の不活性溶媒が、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原子、窒素原子、および酸素原子からなる群から選ばれる１種以上の原子を構造中に有する有機溶剤用化合物をペルフルオロ化して得られた溶媒である上記［４］に記載の製造方法。
［６］上記［１］〜［５］のいずれかに記載の製造方法により前記式（１）で表される化合物を得て、該式（１）で表される化合物と、アンモニアとを反応させる下式（Ｃｙ）で表される化合物の製造方法。

［７］下記（１Ａ)または（１Ｂ）により前記式（１）で表される化合物とアンモニアとを反応させて、前記式（Ｃｙ）で表される化合物を得る上記[６]に記載の製造方法。
（１Ａ）：２０〜３０℃の反応温度、大気圧にて、無水ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン存在下に前記式（１）で表される化合物とアンモニアを反応させる方法。
（１Ｂ）：−７８〜−３０℃の反応温度、大気圧にて、液体アンモニアを含むテトラヒドロフラン溶液中に、前記式（１）で表される化合物を含むテトラヒドロフラン溶液を添加することにより、前記式（１）で表される化合物とアンモニアを反応させる方法。

本発明の製造方法によれば、ジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）および式（Ｃｙ）で表される化合物を特別な装置や試薬を必要としない方法を用い、短工程かつ高収率で製造できる。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で表される化合物も同様に記す。明細書中の基の定義は特に記載しない限り、前記と同じ意味を示す。

本発明においては、上記化合物（２Ｆ）をフッ素化して上記化合物（１）を得る。

化合物（２Ｆ）は、ＳＯ_２Ｆに挟まれた構造がＣＨＦであり、対応する該構造がＣＨ_２である下記化合物（２Ｈ）に比べて、フッ素化反応時に炭素原子−硫黄原子結合の切断を抑制しながらフッ素化が実施できる利点がある。
本発明者は、公知の方法にしたがって化合物（２Ｈ）の製造を試みたが、化合物（２Ｈ）の原料であるＣｌＳＯ_２ＣＨ_２ＳＯ_２Ｃｌの生成は認められなかった。これに対して、化合物（２Ｆ）は、後述する方法により入手できるため、本発明の製造方法は、工業的な製造がしやすく、高い収率で化合物（２Ｆ）から目的化合物（１）を得る方法である。
ＦＳＯ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_２Ｆ （２Ｈ）

化合物（２Ｆ）のフッ素化反応は、液相反応で行うのが好ましい。フッ素化反応としては、化合物（２Ｆ）を液相中でフッ素（Ｆ_２）と反応させる方法（以下、液相フッ素化法という。）、または、化合物（２Ｆ）を溶解させて得られた無水フッ化水素酸溶液を電解槽中で電解してフッ素化する方法（電気化学的フッ素化方法ともいう。以下、電解フッ素化法と記す。）が挙げられる。副生成物が少なく反応収率が高い観点から、液相フッ素化法によって行うのが特に好ましい。

液相フッ素化法は、不活性溶媒中で化合物（２Ｆ）とフッ素とを反応させて行われる。フッ素は、そのままを用いても、不活性ガスで希釈されたフッ素を用いてもよい。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガスが好ましく、経済的な観点から、窒素ガスが特に好ましい。不活性ガスで希釈する場合のフッ素濃度（体積％）は、特に限定されず、希釈ガス中に１０体積％以上が好ましく、２０体積％以上が特に好ましく、２０〜５０体積％がとりわけ好ましい。

不活性溶媒は、フッ素に対して不活性な溶媒であり、かつ化合物（２Ｆ）との相溶性を有する溶媒であれば特に限定されず、Ｃ−Ｈ結合を含まずＣ−Ｆ結合を必須とする化合物からなる溶媒が好ましい。

不活性溶媒としては、化合物（２Ｆ）を１質量％以上溶解しうる溶媒が好ましく、５質量％以上溶解しうる溶媒が特に好ましい。溶解量の上限は特にないが、５０質量％が好ましい。
不活性溶媒は、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原子、窒素原子、および酸素原子からなる群から選ばれる１種以上の原子を構造中に有する公知の有機溶剤用化合物をペルフルオロ化して得られた溶媒が好ましい。

不活性溶媒の具体例としては、ペルフルオロアルカン類、ペルフルオロエーテル類、ペルフルオロポリエーテル類、クロロフルオロカーボン類、クロロフルオロポリエーテル類、ペルフルオロアルキルアミン、フッ素系不活性流体（３Ｍ社商品名：フロリナート）等が挙げられる。

液相フッ素化反応における不活性溶媒の量は、化合物（２Ｆ）に対して、５倍質量以上が好ましく、１０〜１００倍質量が特に好ましい。

液相フッ素化反応における反応温度は、−６０℃以上が好ましく、反応収率、選択率、および工業的実施のしやすさの観点から、−５０〜１００℃がより好ましく、−２０〜５０℃が特に好ましい。液相フッ素化反応における反応圧力は、特に限定されず、常圧〜２ＭＰａが好ましい。

液相フッ素化反応の形式は、バッチ方式であってもよく、連続方式であってもよく、連続方式が好ましい。
バッチ方式による液相フッ素化反応の態様としては、反応器に化合物（２Ｆ）と不活性溶媒とを仕込んだ後に、反応器内を撹拌しながら、フッ素ガスを連続的に反応器中に供給して、化合物（２Ｆ）をフッ素化反応する態様が挙げられる。

連続方式による液相フッ素化反応の態様としては、反応器に不活性溶媒を仕込んだ後に、反応器内を撹拌しながら、化合物（２Ｆ）とフッ素ガスとを連続的に反応器中に供給して、化合物（２Ｆ）をフッ素化する態様が挙げられる。化合物（２Ｆ）の供給は、選択率を向上させ、副生成物量を抑制させる観点から、不活性溶媒で希釈した化合物（２Ｆ）を用いるのが好ましい。この場合、化合物（２Ｆ）に対する不活性溶媒の量は、５倍質量以上が好ましく、１０倍質量以上が特に好ましい。

連続方式においては、液相フッ素化反応に用いるフッ素の量を、化合物（２Ｆ）中の水素原子に対して常に過剰当量とするのが好ましく、１．５倍当量以上とするのが好ましく、１．５〜５倍当量にするのが特に好ましい。
本発明によれば、２つのＳＯ_２Ｆ基に挟まれたＣＨＦ部分の水素原子をフッ素原子に置換する反応を、高収率で実施できる。また、化合物（１）の回収率も高い利点がある。

本発明における液相フッ素化反応においては、化合物（２Ｆ）中の水素原子をフッ素原子に置換する反応が起きるため、ＨＦが副生する。そのため、副生したＨＦを除去するために反応系中にＨＦの捕捉剤を共存させる、または、反応器ガス出口でＨＦ捕捉剤と出口ガスを接触させる、のが好ましい。ＨＦ捕捉剤としては、ＮａＦが好ましい。

化合物（２Ｆ）の入手方法としては、下記化合物（４）および／または下記化合物（３）とＨ_２Ｏとを反応させる方法が好ましい。

また、化合物（４）と化合物（３）は、それぞれ単独で用いても、混合物として用いてもよく、混合物として用いる場合のそれぞれの比率は限定されない。化合物（２Ｆ）の原料としては、化合物（４）が好ましい。化合物（４）および／または化合物（３）とＨ_２Ｏとの反応における水の量は、化合物（４）および化合物（３）の総量に対して、反応率と容積効率の点で０．１〜１０倍モルとするのが好ましく、０．５〜２倍モルとするのが特に好ましい。

化合物（４）および／または化合物（３）とＨ_２Ｏとの反応は、溶媒の存在下に行ってもよく、溶媒の不存在下に行ってもよいが、溶媒の不存在下に行うのが好ましい。溶媒を用いる場合には、−ＳＯ_２Ｆ基との反応性を有する求核性官能基を持たず、かつ副生するフッ化水素に対しても安定で、かつ水と化合物（４）および／または（３）を共に溶解する化合物からなる溶媒を用いるのが好ましい。該溶媒としては、ニトリル類、環状エーテル、鎖状エーテルが好ましく、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム等が特に好ましい。溶媒を用いる場合の量は、化合物（４）および化合物（３）の総量に対して、０．１〜１０倍容量が好ましく、特に０．５〜５．０倍容量が好ましい。

化合物（４）および／または化合物（３）とＨ_２Ｏとの反応の温度は、化合物（４）および化合物（３）の沸点のうち低い沸点以下の温度が好ましく、０〜５０℃が特に好ましい。前記反応における反応圧力は、減圧、常圧、または加圧のいずれであってもよい。

本発明の製造方法で得られた化合物（１）は、そのまま所望の用途に用いてもよく、精製して高純度した後に、所望の用途に用いてもよい。精製方法としては、蒸留法等が挙げられる。

さらに、前記の方法で得た化合物（１）は、アンモニアと反応させることにより下記化合物（Ｃｙ）を製造できる。

化合物（１）とアンモニアとの反応方法としては、つぎの方法（１Ａ）または方法（１Ｂ）によるのが好ましい。
方法（１Ａ）：２０〜３０℃の反応温度、大気圧にて、無水ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン存在下に化合物（１）とアンモニアを反応させる方法。
方法（１Ｂ）：−７８〜−３０℃の反応温度、大気圧にて、液体アンモニアを含むテトラヒドロフラン溶液中に、化合物（１）を含むテトラヒドロフラン溶液を添加することにより、化合物（１）とアンモニアを反応させる方法。

本発明の製造方法で得られた化合物（Ｃｙ）は、それ自身が導電性材料として有用な化合物である。
また、化合物（Ｃｙ）は種々の有用な化合物の出発原料としても有用である。たとえば、化合物（Ｃｙ）を出発原料として、下記の製造ルートを用いることにより、下記化合物（Ｃｙ^ｈ）、下記化合物（Ｃｙ^ｍ）、下記化合物（Ｃｙ^ｎ）、下記化合物（Ｃｙ^ｆ）等の化合物を製造できる（ただし、Ｍはアルカリ金属原子を、Ｒは１価有機基を、Ｘは一価のアニオンを示す。）。

Ｍは、リチウム原子であるのが好ましい。Ｍが、リチウム原子である化合物（Ｃｙ^ｍ）は、電解質材料として有用である。
Ｒは、炭素数１〜１０の１価炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基が特に好ましい。また、４個のＲは、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、２または３個のＲは、互いに連結して、Ｎ^＋を含む環構造を形成していてもよい。Ｒが環構造を形成する場合は、その環構造は芳香族性を有していてもよい。環構造を形成しない残余のＲは、炭素数１〜１０の１価炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基が特に好ましい。
（ＮＲ_４）^＋（Ｘ）⁻のＸは、ＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩが好ましい。化合物（Ｃｙ^ｈ）と（ＮＲ_４）^＋（Ｘ）⁻との反応は、水溶液中で行うのが好ましい。理由は、化合物（Ｃｙ^ｎ）は水に難溶性であり、副生するＨＸまたはＭＸは水溶性であることから、反応後の両者の分離が容易になるからである。
化合物（Ｃｙ^ｎ）は、導電性材料、反応溶媒、熱媒体材料等として有用である。化合物（Ｃｙ^ｈ）は、中間体として有用であるだけでなく、超強酸触媒として有用である。
化合物（Ｃｙ^ｆ）はフッ素化剤（ＤｅｓＭａｒｔｅａｕ試薬）として有用である。

本発明を、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されない。
なお、以下においてガスクロマトグラフィをＧＣと、ガスクロマトグラフィ質量分析をＧＣ−ＭＳと、ＣＣｌ_２ＦＣＣｌＦ_２をＲ−１１３と記す。純度および収率は、ＧＣ分析によるピーク面積比、または^１９Ｆ−ＮＭＲによる積分比（内部標準：パーフルオロベンゼン）から求めた。

［例１］
化合物（１）を下式で示すスキームにしたがって合成した。

［例１−１］化合物（７）の製造例
熱電対とコンデンサーとを据え付けた３つ口フラスコ（内容積２Ｌ）に、６０％発煙硫酸を単蒸留して得られたＳＯ_３（４６１ｇ）を仕込み、さらにＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＯＳＯ_２Ｆ（１４５８ｇ）を２５℃にて滴下して仕込んだ。滴下中、わずかなフラスコ内温の低下が観測された。
滴下終了後、フラスコ内を７０℃まで加熱するとフラスコ内溶液の還流が始まった。さらに、反応の進行に伴ってフラスコ内温が上昇した。そのまま１９時間、フラスコ内を加熱し、フラスコ内温が１０５℃に達した時点で加熱を停止した。
フラスコ内溶液をＧＣ−ＭＳと^１９Ｆ−ＮＭＲで分析した結果、化合物（７）が７９％の収率で生成していることを確認した。ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＯＳＯ_２Ｆは１４％で残存していた。

［例１−２］化合物（６）の製造例
例１−１で得たフラスコ内溶液に、スプレードライで微粉末状にされたＫＦ（５００ｇ）を添加した。添加は、フラスコを氷冷し、フラスコ内温の上昇に注意しながら行った。添加終了後、フラスコ内温２５℃にて６日間、フラスコ内を撹拌した。つぎに、そのままフラスコ内溶液の精密蒸留を行い、１２９〜１３１℃の留分としてＧＣ純度が９９％以上である純粋な化合物（６）（１０８０ｇ）を得た。出発原料のＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＯＳＯ_２Ｆを基準とした収率は６０％であった。

［例１−３］化合物（５）の製造例
内径１ｃｍの管状反応器（インコネル製）にガラスビーズ（中心粒径１０５〜１２５μｍ、岳南光機社製ガラスビーズ＃１５０）を充填高が４０ｃｍになるまで充填した後に、管状反応器を２５０℃に加熱した。
例１−２で得た化合物（６）の気体を２５モル％含むように窒素ガスで希釈した混合ガスを用意した。管状反応器を加熱しながら、管状反応器内における混合ガスの線速が２．０ｃｍ／ｓになるように、管状反応器の底部から導入した。なお、管状反応器の上端部にはドライアイストラップを据え付けた。そのまま、前記混合ガスを２時間供給した後に、窒素ガスのみを１時間流通させた。管状反応器に導入した化合物（６）の量は、２９．９ｇであった。
ドライアイストラップに回収した液（１２．７ｇ）をＧＣにて分析した結果、化合物（６）は確認されず、純度９０％の化合物（５）の存在が確認された。前記液の回収率も加味した、化合物（５）の収率は６９％であった。

［例１−４］化合物（４）と化合物（３）の製造例
コンデンサーを据え付けた２００ｍＬの４つ口ナスフラスコに、例１−３で得た化合物（５）（６９．０ｇ、０．４２ｍｏｌ）と、反応直前に６０％発煙硫酸から単蒸留により留出させて得た三酸化硫黄（３１．８ｇ、０．４０ｍｏｌ）を仕込み、１４０℃で１５時間反応させた。反応終了後、蒸留精製を行い、主留分６４．７ｇを回収した。得られた主留分を^１９Ｆ−ＮＭＲによって分析を実施した結果、化合物（４）と化合物（３）を４：１（ＮＭＲにおける面積比）で含有する混合物を得た。化合物（５）の仕込み量に対する、化合物（４）と化合物（３）の合計収率は６３％であった。

［例１−５］化合物（２Ｆ）の製造例
例１−４で得た化合物（４）と化合物（３）の混合物（６３．５ｇ、０．２６ｍｏｌ）と、フッ化ナトリウム（２１．８ｇ、０．５２ｍｏｌ）を、１００ｍＬの４つ口フラスコに仕込み、氷冷下、７．０２ｇ（０．３９ｍｏｌ）の水を徐々に滴下した。滴下終了後、室温で一晩撹拌した後、目的物を単蒸留で留去した結果、水相（２．６３ｇ）と有機相（４１．５ｇ）を回収した。有機相をＧＣ分析した結果、ＧＣ純度が９９％以上である純粋な化合物（２Ｆ）であることを確認した。化合物（２Ｆ）の収率は８０．５％であった。

［例１−６］化合物（１）の製造例
オートクレーブ（内容積５００ｍＬ、ニッケル製）に、Ｒ−１１３（３１２ｇ）を加えて撹拌しながら、２５℃に保持した。オートクレーブのガス出口には、５℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層を直列に設置した。窒素ガスを１．０時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、流速１０．７０Ｌ／ｈで３０分間、吹き込んだ。さらにオートクレーブ内の圧力を０．１０ＭＰａまで加圧して、同じ流速で２０％フッ素ガスを３０分間、吹き込んだ。つぎに２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、上記化合物（２Ｆ）（５０．０ｇ）をＲ−１１３（１３０ｇ）に溶解した溶液を４．１時間かけて注入した。
つぎに２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブ圧力を０．１０ＭＰａに保ち、ベンゼン濃度が０．０１ｇ／ｍＬのＲ−１１３溶液３３ｍＬを、１．５時間かけて注入し、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、１．０時間撹拌した。ついで、オートクレーブ内温度を２５℃から４０℃まで加熱しながら、さらに１．０時間撹拌を続けた。つづいて、窒素ガスを１．０時間吹き込んでからオートクレーブ内の内容物を回収した。
内容物を^１９Ｆ−ＮＭＲにより分析した結果、目的化合物（１）の生成が確認された（ＮＭＲ収率５２．５％）。
化合物（１）の^１９Ｆ−ＮＭＲのスペクトルデータ（２８２．６５ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：４７．７（２Ｆ），−９７．４（２Ｆ）。

本発明の製造方法は、特別な装置や試薬を必要としない簡便な、短い工程で、高効率に目的化合物であるＣＦ_２（ＳＯ_２Ｆ）_２が製造でき、工業的に有用である。また、本発明の製造方法によって得られるＣＦ_２（ＳＯ_２Ｆ）_２は、アルキル化剤、医農薬中間体、超強酸触媒、電気化学材料等の用途に使用する材料に誘導可能であり、該材料を工業的に製造する上でも有用である。

なお、２００７年３月１２日に出願された日本特許出願２００７−０６１９４２号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (7)

1. 下式（２Ｆ）で表される化合物をフッ素化反応することを特徴とする下式（１）で表される化合物の製造方法。
   ＦＳＯ_２−ＣＨＦ−ＳＯ_２Ｆ （２Ｆ）
   ＦＳＯ_２−ＣＦ_２−ＳＯ_２Ｆ （１）
2. 下式（４）で表される化合物および／または下式（３）で表される化合物とＨ_２Ｏとを反応させて下式（２Ｆ）で表される化合物を得て、つぎに該化合物をフッ素化反応することを特徴とする下式（１）で表される化合物の製造方法。
   

   
3. Ｈ_２Ｏを、前記式（４）で表される化合物および前記式（３）で表される化合物の総量に対して０．１〜１０倍モル用いて反応を行う請求項２に記載の製造方法。
4. 前記フッ素化反応を液相中でフッ素と反応させることにより行う請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
5. 上記液相中の不活性溶媒が、ペルフルオロアルカン類、または、塩素原子、窒素原子、および酸素原子からなる群から選ばれる１種以上の原子を構造中に有する有機溶剤用化合物をペルフルオロ化して得られた溶媒である請求項４に記載の製造方法。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法により前記式（１）で表される化合物を得て、該式（１）で表される化合物と、アンモニアとを反応させる下式（Ｃｙ）で表される化合物の製造方法。
   

   
7. 下記（１Ａ)または（１Ｂ）の方法により前記式（１）で表される化合物とアンモニアとを反応させて、前記式（Ｃｙ）で表される化合物を得る請求項６に記載の製造方法。
   方法（１Ａ）：２０〜３０℃の反応温度、大気圧にて、無水ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン存在下に前記式（１）で表される化合物とアンモニアを反応させる方法。
   方法（１Ｂ）：−７８〜−３０℃の反応温度、大気圧にて、液体アンモニアを含むテトラヒドロフラン溶液中に、前記式（１）で表される化合物を含むテトラヒドロフラン溶液を添加することにより、前記式（１）で表される化合物とアンモニアを反応させる方法。