TW200835306A - Control of stray light in camera systems employing an optics stack and associated methods - Google Patents

Description

200835306 九、發明說明： 、【發明所屬之技術領域】 本發明為-種攝影機系統和相财法的應用，尤指一種裝有 可降低散射光度的光學堆疊裝置之攝影機系統和相關方法的應 •用。 • 【先前技術】 攝影機可包含-彼此呈平面接合狀之光學基材之光學堆疊。這 •些複合光學堆疊可同時延伸如屬同一晶圓層的設計。 再者，因為光學系統可為垂直接合的固定架(Housing)結構的 筒形結構，無需在光學系統再加裝鏡頭。無需加裝固定架的設計， 即提供許多優點，包括簡化作業和降低成本，而光學系統本身也 有光學堆疊«置，即設計有分離式的透明裝置，如自晶圓托架的 •切片狀分離設計。 此裝置可讓光線自非光圈側進入光學堆疊，和/或讓光線跟入 射光圈（entrancepupil)呈高角度，自端緣將光線反射到感應器。 換言之，自該部位側外部進入的光線，可能增加其雜訊，和/或該 部位側内部的反射光度將會增加。 【發明内容】 本舍明係為光學堆疊和相關設計方法的攝影機系統，本系統 5 200835306 可貝際克服相關工勢限制和缺點的一或多個問題。 本發明的一功能裝置’就是提供某種材質，可防止外部散射光 線投射到攝影機系統的偵測器上。 • 本發明的另一功能裝置，就是提供某種材質，可防止内部散射 ^ 光線投射到攝影機系統的偵測器上。 藉由提供攝影機系統而至少有上述的一和其他功能裝置及優 • 點，该裝置設計有有一光學堆疊裝置、兩個彼此垂直接合的基材， 且在兩個基材設計有—光學纽，而辆個基獅成曝光侧，在 偵’u基材衣有-偵測益而散射光罩則直接位於光學堆疊的 某些部位側上。 至少某些部位侧’即包括有偵測器基材最遠處光學堆叠基材等 雜侧。散射鮮得位於光學堆疊的所有的部位侧。 該散射光罩的散射光驗值，缝料於某些部_基材的指 #數以上。該散射光罩可為密封劑材質，該散射光罩可為塗裝材質， 該散射光罩即屬債測器所無法偵測的光線波長。 在光學堆㈣基材表面積小於侧材的表面積，可同時設 ，計有這些光學堆疊基材。 . 爲則口.的基材至少在某個方向上，可延伸到光學堆疊上。侦 ^基材上的_片可延伸到光學堆疊上側。本攝影齡統得設 計有-基材，其元件可電性連結到黏附片上。 該散射光罩得為密封劑材質，自光學堆疊上侧表面延伸到偵測 6 200835306 器基材。該密封劑含有黏附片，在黏附片和基材設計有電性連結。 本攝影機系統的基材設計功能裝置可用於固定密封劑。 本攝影機纽在絲堆4厢設財—目綠(h_.ng)。街貞 測器基材至少在-方向上，得延伸到光學堆疊上側。侧器基材 上的黏附片可延制光學堆疊上側。本攝影機系統得設計有一基 材’其7G件可雜連結難則上。該光學堆疊周圍賴定架可 延伸到基材下側。 在光學堆疊中的基材無法同時延伸。該固定架可延伸到已延伸 到其他基材上㈣學堆疊的±方。該歸鮮得設計有一固定 架，位於上側開口和延伸到其他基材上側光學堆疊上方間距中。 该散射光罩在目定架和絲堆制得為㈣赌質。 光學堆__無_時_，概縣罩沿絲堆疊得為 密封劑材質。

田分隔基材的__計㈣細的_。該散射鮮沿光學堆 豐得為密封劑材質，讓其填補該間隙。 摘測為基材設計有電性連結。 該偵測器基材料板至少在某财向上，可延伸到光學堆曼 上。罩板_絲面林翻材質。該不翻的材質如同散射光 科材質。鮮板可騎㈣緣設計，屬不透明材f，可用於覆 盘罩板的料端緣。該不翻材質如同散射光罩的材質。 藉由提供攝影機系統製法 而至少有上述的一和其他功能裝置 7 200835306 及優點，該裝置有-光學堆縣置、兩個彼此垂直接合的基材， 且在兩個基材設計有曝光侧和—位於伽旧層上側的偵測器，而 散射光罩則位於光學堆疊的某些部位侧。 【實施方式】

本段將參考附圖完整本發明的内容，更詳細的具體說明如圖 浮使用不同的方法加以具體說明，且不得視為對本文 在圖面中，即加大各裝置層的厚度和部位以便_。也岸了 解到’所某織置層錄另—裝置層或基材的上側，得為直 •接位於其他裝置層或基材的上側，或表示係位於中介裝晉居^

依據本文的具體說明，即為使用鏡 晶圓層得至少有兩個基材。光學堆疊有 即為使用鏡頭裝置的攝影機系統， 光學堆疊有一来墨影 一光學影像系統，此裝置 8 200835306 々土材上衣有光像系統，設計有曝光的透明端緣，可強化散 射光投射到偵測器的性能，而強化其雜訊。至少在某些端緣部 位叹计有光罩材質，可藉此_或·該散射光度。 如圖9的上視圖’攝影機系統60得裝有光學堆叠4〇和密封 -設計輸龍^。該光學堆疊40得設計有第-透材1〇、第 们透月基材20和第二個透明基材3〇。光罩材質的裝置位 籲於第透明基材1〇的表面上側，構成一入射光圈㈣咖卿切 裝置，且阻絕散射光進入攝影機系統6〇。但光學堆疊4〇的其餘 透明表面雜，仍謂祕進人_人射細㈣&卿η)部位 上的光學堆疊40，和/或可讓光線縣裝置設計的入射光圈 (_ancepupil)和偵测器的端緣呈高角度入射的設計。例如，光束 1可自外部進入光學堆疊40，和/或第二個光束可自光學堆疊4〇 的内部反射光線’其中的任何一光束得用於強化攝影機系統60 φ中_訊。這些可朗為光學系馳成的紐尺寸引發的性能惡 化問題，讓裝置側更靠近感應器來解決。 依據本發明紐細_容，攝影機系統 100即如圖1所 不、。在圖1中’就各種影像色彩即可使用單—鏡頭系統，也可在 偵測為裝置列上直接安裝色彩渡鏡。另外，可提供任何數量的 本鏡頭系統’如各台攝影機系統裝有3台或4台的附屬攝影機裝 置’其設計蝴色糖鏡的钱位置各有獨。例如，可發現到 -般在美國地11㈣遍使用’而專财射的此賴影機系統的 200835306 鏡頭設計。2_年1M 31日專利中請_55,365、屬年7 月Π曰美國專利申請職入，和2〇〇4年9月Μ曰專利申請 案，在此即提供所有申請内容以備參考。如圖i，依據本發明的第 * 1條具體說明内容的攝影機系統100，得裝有-光學堆4 140和 --偵測器的基材170。該光學堆疊14〇得設計有第一基材11〇、第 二個基材120和第三個基材⑽，彼此接合分別由隔層sn和S23 籲力乂間|^也可在基材11〇再加裝一隔層謝，作為光學堆疊刚 的間隙止擋。 第-基材110得設計有第一折射凸透鏡表面112，可協助光線 影像的輸入。第-基材110的第二個折射凸透鏡表面114，可為平 面幵/也可在其上侧裝有一紅外線濾鏡心該紅外線濾鏡ns可 在光學堆疊140的任何表面部位上。 在第二個基材的第—表面部位上，得裝有-繞射it件123，可 •用於色办和攝影機偏光的修正。第二個基材·120的第二個表面部 f丄’可⑶找第二個折射凸透鏡表面丨％，協助絲影像的輸入。 第三個基材13〇得裝有一凹面鏡表面m。凹面鏡面也可將影像 ’區域扁平化處理，讓所有的影像點得位於偵測器基材削上，屬 偵測益作用部位的相同平面上。 罩板150和支架160,可藉此提供光學堆疊140和價測器基材 携精確的間距。罩板150和支架16〇得密封作用區域。除了作用 區域外，偵測器基材Π0裝有一列微鏡頭Μ和打線墊口2。 200835306 支架160如本文說明，即為偵測器基材17〇和罩板15〇的間隔元 件’支架160得裝有其中一或兩個細器基材17〇和罩板15〇的 裝置。再者，支架160的側壁設計如圖即屬直式設計，例如可使 用間隔或模造架構，安裝角度則依據支架16〇的設計而定，例如， ，支架160可設計有特殊材質所需的安裝角度。最後，此支架16〇 可使用黏附性的材質，可用於精確_在侧器基材m和罩板 ⑩15〇其巾或兩個的裝置上，如美國地區所普遍使關裝置。專 利案6,669,803如本文所附内容提供參考。 同樣地，罩板150如本文說明，有斜角端緣，該設計即為用 於作成罩_的工序，細序而異。特別是在表面 下側的間隔元件，則加以保護，不會切割損壞所有已固定的晶圓， 也可使用有角度的間隔切割刀面。再者，罩板15〇可為透明材質， 如攝影機系統100上的玻璃材質。 、 如圖1，基材11〇、12〇和130得^日料认11 光學元件m、m、123、ί24和1321相對的平面’其中各裝有 幻J4和132。使用平面設計更 了用於元件的雄疊，且言挺妓人u τ 立。平面可产结L 面上，即有助於晶圓層的組 四千面TU個元件或可構辭面，藉由使料备的 而環繞各個鏡頭裝置周園。 田、Μ 在先學堆疊140的基基材± 件。在未有其他的結構設計下，即可讓美牙透的光學元 j縣材鱗曝光。所以，如 11 200835306 、上（内谷外部的散射光即使在裝有不透明的隔層下，仍可進入 =些基材的端緣，也可讓作用區域感應到影像。此外，光線以 " 進如攝影機視線的外部範圍，也可在這些端緣内部反 、光Λ讓作用區域感應到影像。但可藉由在端緣裝有阻絕光 線的材貝，可降低到達作用區域的散射光量。 如圖1中的第一具體說明，光線阻絕材質即為一密封劑192， 該裝置可由固定架携加以固定。不像是未裝有光學堆疊裝置所 使用的固疋架—樣，本發明的固定架觸設計非常簡單，而光學 το件則未直接固定於該裝置上。@定架卿為不透明的裝置。 密=劑192可為不透_設計，其折射指數類似光學堆疊基材的 材貝心數。例如，在使用融合處理的二氧化娃材質基材，其折 射指數约為U，該密封劑192可為二氧化麵密封膠，如 Coming公司的mpEC⑧刪2半導體保護膠。依據使用密封 劑的厚度，本已知的密封劑可為不透明的材質。所以，例如可 將礙加到傳統的密封劑上，讓傳統的密封劑更不透明。該密封 剑192可為低係數材質，不會造成其他元件過多的壓力，例如， 可避免線職奸176的龍。當使用不_或可吸光的材質作 為密封劑192日夺，可使用折射指數類似可在光學堆疊14〇降低内 部放射強度_緣折射減晴f，降低非屬人縣圈(ent_e pupil)部位的光學堆疊14〇的外部光線裝入。 在打線塾m已經由_接合器m電性連結到另一基材 12 200835306 180 ’如寬頻晶片（c〇B)時，則密封劑194可用於保護線路接合器 176。基材180上得提供有某些功能裝置裝置，如用於固定密封劑 194的周邊裝置。這些功能裝置裝置可平版印刷架構在基材上，高 度至少為50微米。該密封劑194可跟密封劑192相同或不同。 可同時或依序提供密封劑192和194等。 依據所使用密封劑材質的黏度，密封劑可提供整個攝影機系 _統的晶圓使用，其方法類似黏附固定材質的使用方法。例如， 密封劑的材f如美國的使用方法，可依序提供。專利案6,096，155 或如美國專利案6,669,803的相關内容，如本文所附内容提供參考。 叙如益封#1的材質係同日械供時，即可使用光學堆疊⑽上側表 面的某些包覆防護設計。也可使用其他的技術如注射成型。再 者，良好的包覆可能需使用多步驟的密封劑的加工處理，如密封 劑的使用和修復處理。 • 如圖2，依據本發明的第2條具體說明内容的攝影機系統 2〇〇 ’可免除使用峽架⑽，兩個攝影機系統也可使用相同的密 封d 192，用於降低光學堆疊14〇中的散射光度，且保護線路連結 '益176 °第二個具體說明的其他元件，如同第-具體說明中的元 - 件’本文即省略其詳細内容。 依據第二個具體說明，在攝影機系統3〇〇中，可在裝置表面 裝有-偵測器基材370，如使用球型格架接到另一基材，因此， 即無需使用線路連結器。但仍可使用如圖以同的固定架⑽ 13 200835306 和密封劑192。再者，如圖3，罩板35〇的端緣可為垂直型。同樣 地’如圖3’得同時裝有固定架19〇、罩板35〇和偵測器基材37〇。 第三個具體說明的其他元件如同第一具體說明，本文省略詳細内 - 容。 - 依據第4個具體說明，在攝影機系統400中，如圖4，可使 用-層塗裝膜來替代第三個具體說明中的固定架19〇和密封劑 192。塗裝膜490的性質得類似密封齊U92，如不透明材質，跟基 材有類似的折射指數，也可使用跟密封劑192相同的材質。 如本文所用塗裝膜」一詞即為可實際控制表面厚度的材 質，而「密封劑」即為可均勻堆疊的材f。塗裝膜可使用蒸 鍍、塗裝或浸鍍，如染料液劑處理等。啊吏同時有光學堆疊14〇 和谓測器基材470的設計中，仍可使用塗裝膜柳。 在光學堆疊140有塗裝處理的情況下，如圖4，490未同時f 鲁有侧器基材或罩板⑼，也可在罩板ls〇上裝有光線阻絕 ’如跟塗裝膜490相同的材質，《不同的材質如金屬膜 等^再者，光線阻絕元件152得安裝在斜角端緣處，可跟光線阻 絕元件154相同或不同。 ,g4個具體說明的其他元件如同第三個具體說明，本文省略 詳細内容。 如圖5,依據本發明的第5條具體說明内容的攝影機系統 ，裝有取架590，例如，可為不透明的財架設計，可月 200835306 保護線路連結器176，且含密封劑的材質592。光學堆疊54〇的第 三個基材53〇可延伸到第1和第二個基材11〇和⑽上侧。第三 個基材530可加裝某些功能襄置，以協助固定密封劑观。可形 '成光學堆疊540的分層式架構，例如，可將第一和第二個基材11〇 和m堆豐在晶圓層上，可將該成對堆疊層分離，確保這些成對 堆疊層接合到第三個基材530，或在分離前’以切片狀處理方式， •如使用跟接合基材不同的刀寬來進行切片狀的處理，先堆疊全部 的三個基材m、12〇和530。在本文中，密封劑592也可用於保 ，攝影餘统5⑻的元件’以免受潮和其他環境的污染物所污染。 第5個具體說明的其他元件如同第—具體說明，本文省略其詳細 内容。 如圖6 ’依據本發明的第6條具體說明内容的攝影機系統 _ ’有-E]定架69G，例如，可為不翻_定架輯，可用於 φ保護線路連結器m ’且含有密封劑的材質。光學堆疊姻的 第一基材6U)相較於第2和第三個基材62〇和63〇，可有較少的 表面積。第二個基材62〇可加裝某些功能裝置，以協助固定密封 _。即可形成光學堆__式賴，例如，可將分離的 -基材堆疊在第二個和第三個基材上，或在分離前，以切片狀 处方式’如使料同跟接合紐刀寬切祕理，先堆疊 =的—個基材。在本文巾’密賴也可作為攝織系統繼 的㈣膠。光學堆疊640跟其他的具體說明一樣，適用任何光學 15 200835306 堆疊。 如圖7 ’依據第7條具體說明的攝影機系統7〇〇，分層式光風 堆疊740可作為密封劑792使用，該分層式光學堆疊74〇有助於 -固定密封劑792，確保提供良好的包覆功能裝置。在第7條具體 - 說明的光學堆疊74〇中，第一基材710可更小於第二個基材' 720，然後第二個基材可更小於第三個基材73〇。 本文所指的包覆結構750得裝有一凹面鏡頭732。包覆結構 ❿75〇得裝有某些功能裝置’有助於固定密封劑792。即可形成光學 堆740的刀層式岔封劑處理的結構，例如，可從第三個基材將 第-基材分賴後再接合，或在分離前，以切片狀處理方式，如 使用跟接合基材不_刀寬進行切片狀的處H堆疊所有的三 個基材。 一 如圖8，依據本發明第8條的具體說明的内容，攝影機系統 #则得裝有光學堆疊840,該裝置設計有如同第1和5條具體說明 的第1到第三個的基材。但在第—和第二個基材間的隔層si2， 及第2和第三個基材間的隔層得延伸到這些基材的端緣。在隔層 S12和S23使用如無法以切割分離的材質時，即屬有用的設計。 例如，當隔層S12和S23使用SU8的材質時，這些隔層m和S23 即自各別的基材將其分離出來。可將密封劑填充在隔層sl2 和S23的間隙中，以及基材的端緣部位，而用於降低散射光。包 覆結構150得裝有某些功能裝置158，用於固定密封劑脱。 200835306 本發明的具體說明在此即已揭露，且附上所使用的專有名 詞，其使用和字義即屬一般說明而無特定目的上的意羲。例如， 光學堆疊中的基材可能屬相同或不同材質。當使用不同的基材材 質時，光線阻絕材質的折射指數可最接近基材材質的折射指數， ’ 或屬基材折射指數的平均值水準。此外，光學堆疊的部份或全部 元件可為塑膠成型製品，非屬基材的組立元件設計。因此，可了 _ 解本發明的工藝，即使製造型態改變，其製作詳細仍無違本文下 列專利聲明的基本精神和範圍。 本案所揭露之技術，得由熟習本技術人士據以實施，而其前 所未有之作法亦具備專利性，爰依法提出專利之申請。.惟上述之 貫施例尚不足以涵蓋本案所欲保護之專利範圍，因此，提出申請 專利範圍如附。 . 17 200835306 【圖式簡單說明】 本發明上述和其他的魏裝置和優點，藉由本文 含兒明，夕圖面的詳細 ^即可頭示明顯優於其他工藝的性能，其中： 圖1係為依據本發明第一實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖2係為依據本發明第二個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖3係為依據本發明第三個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖4係為依據本發明第4個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖5係為依據本發明第5個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖6係為依據本發明第6個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖7係為依據本發明第7個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖8係為依據本發明第8個實例的攝影機系統剖面圖參考； 圖9係為說明一般散射光的攝影機系統上視圖電路設計參考。 【主要元件符號說明】 1〇〇:攝影機系統 110:基材 112·折射凸透鏡表面 115:光學元件 120:基材 123:光學元件 124:光學元件 130:基材 132:光學元件 140:光學堆疊 200835306 150:罩板 160:支架 170:偵測器基材 172:打線墊 174:微鏡頭 176:保護線路連結器 - 180:基材 190:固定架 192:密封劑 Β 194·.密封劑 200:攝影機系統 · 300:攝影機系統 400:攝影機系統 490:塗裝膜 500:攝影機系統 540:光學堆疊 590:固定架 610:基材 620:基材 • 630:基材 640:光學堆疊 690:固定架 692:密封劑的材質 ，710:基材 720:基材 730:基材 732:凹面鏡頭 740:光學堆疊 750:包覆結構 200835306 792:固定密封劑 S12:隔層 S23:隔層

Claims (1)

1. 200835306 十、申請專利範圍： 1· 一種攝影機系統，包含: 一光學堆疊裝置，係具兩個垂直接合的基材，及裝在該二基材上 之一光學系統，該二基材係具曝光部位侧； 一偵測器，係位於一偵測器基材上；以及 一散射光罩(Stray Light blocker)，係至少位於該光學堆疊的某 $ 些側。 2·如申請專利範圍第丨項所述之攝影機系統，其中至少有某些部 位側，在偵測器基材部位的最遠處，係設計有光學堆疊的一基材。 3·如申明專利範圍第1項所述之攝影機系統，其中該散射光罩位 於光學堆疊所有部位側上。 4·如申4利細第丨項所述之攝影齡統，其中該散射光罩折 射指數約等於某些部位側基材的折射指數。 -5·如申請專利範圍第工項所述之攝影機系統，其中該光學堆疊的 基材其表面積係小於偵測器基材的表面積。 6·如申請專利範圍第，項所述之攝影機系統，其中該散射光罩係 21 200835306 為密封劑材質。 7·如申請專利範圍第丨項所述之攝影機系統，其中該散射光 為塗裝劑材質。 '、 8.如中請專概圍第1項所述之攝影齡統，其中該散射光罩係 • 為阻絕偵測器可偵測波長到的光線。 9·如申請專利範圍第丨項所述之攝影機系統，其中該絲堆疊的 基材係為有共同空間者。 I申^專利細第丨彻述之攝影齡統，其巾該彳貞測器基材 至少在-方向上，可延伸到光學堆疊的上側。 ’ ％專利範圍第1〇項所述之攝影機系統，其巾於延伸到光 學堆疊上側之偵測器基材上，更包含打線墊(B〇nding她）。 12·如申凊專利範圍第11項所述之攝影機系統，其中更包含一基 材，具有可電性連結到該打線墊的元件。 13·如申睛專利範圍第12項所述之攝影機系統，其中該散射光罩 22 200835306 包含一密封劑，其係自光學堆疊 的上表面延伸到偵測器基材。 統，其中該密封劑係 結器。 14·如申請專利範圍第13項所述之攝影機系 覆蓋打線墊及位於打線墊和基材間的電性連

   15·如申請專利範圍第13項所述之 材固定密封劑的特性。 攝影機系統，其巾更包含該基 16.如申請專利範圍第1項所述之攝影機系統，其中更包含-固定 架，其係位於光學堆疊周圍。 17·如申請專利範圍第16項所述之攝影機系統，其中該侧器基 材至少在—方向上，可延制光學轉的上側。 18. 如申睛專利範圍第17項所述之攝影機祕，更包含打線塾， 其係位於延伸到光學堆疊上侧之偵測器基材上。 19. 如申請專利範圍第18項所述之攝影機系統，其中更包含一基 材’其係具可紐連接到打雜上的元件。 〇·如申#專利圍第19項所述之攝影機系統，其中包圍該光學 23 200835306 堆疊之該固定架係延伸到基材下側。 21·如申請專利範圍第2〇項所述之攝影機系統，其中位於該光學 堆疊内之該基材係為不具共同空間者。 22·如申請專利酬第21項所述之攝影齡統，其中該固定架係 ❿延伸遮健光學堆疊的上面，補光學堆疊係延伸他基材上。 23.如申請專利細第22項所述之攝影齡統，其中該散射光罩 係包含-密封劑(encapsulant)，該密封劑係位於該固定架之上表面 之-開口及延伸於其他基材上之該光學堆疊之—上部位之間^ 24八如q專圍第16顧述之攝影機錢，其中該散射 包含1咖，其餘於定架和光學堆疊之間。 25.如申請專利範圍第j · 延伸到可# / 統’財制定架係 ‘住一位於該侧器基材上的覆蓋罩板。 ’其中該光學堆疊之 汍如申請專利範圍第1項所述之攝影機系統 该基材係為不具共同空間者。 24 200835306 其中該散射光罩 27·如申請專利範圍第26項所述之攝影機系統 係包含一密封劑，其係沿著該光學堆疊而設。 ^申請專利範圍第丨項所述之攝_統，其中一可隔離光學 _之基材她躲置(s障r)係設財跟曝光部賴間隔的間 ?9.如申請專利範圍第28項所述之攝影機系統，其中該散射光罩 沿光學堆疊得裝有密封劑，用於填充間隙。 0·如申明專利範圍第j項所述之攝影機系統，其中更包含穿過伯 測絲材的電性互連裝置⑻说计㈣^細⑺廳也⑻^ φ 31 ·如申睛專利範圍第1項所述之攝影機系統，其中-·則器基材 之一罩板，至少在一方向上，可延伸到光學堆疊的上側。 ^ 32·如申明專利範圍第31項所述之攝影機系統，其中更包含-不 •透明㈣，其係位於鮮板之—曝絲面。 33·如申請專利範圍第32項所述之攝影機系統，其中該不透明材 質係與該散射光罩的材質相同。 25 200835306 34.如申請翻細第3ι斯述之攝職系統，其巾該罩板設計 有言角端緣，得再使用不透明的材質用於覆蓋罩板的彎角端緣。 35·如申請專利範圍第34項所述之攝影機系統，其中該不透明材 質跟散射光罩的材質相同。 36· —種攝影機系統的製造方法，包含： 連接一光學堆疊，其包含二垂直接合的基材及一位於該兩個基材 上的光+系統，該一基材設計有曝光部位侧及位於债測器基材 上之一偵測器；以及 直接在光學堆疊的至少一部位側上提供一散射光罩。 26