TW200829658A - Ink-jet ink and cured film obtained from same - Google Patents
Ink-jet ink and cured film obtained from same Download PDFInfo
- Publication number
- TW200829658A TW200829658A TW96138691A TW96138691A TW200829658A TW 200829658 A TW200829658 A TW 200829658A TW 96138691 A TW96138691 A TW 96138691A TW 96138691 A TW96138691 A TW 96138691A TW 200829658 A TW200829658 A TW 200829658A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- compound
- phenyl
- ink
- acid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
Description
200829658 ZJ/J^pu 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 嗜黑有關於—種包括具特定結構之含氟化合物的 ' 土 g有使用含氟化合物合成的共聚物的喷墨用 本發明咖於—種使用喷額墨水進行的墨=佈 /由喷墨用墨水所得的硬倾、硬化卿成方法以及 形成有硬化膜的電子線路基板。 【先前技術】 厂:種基板上描繪所需圖案的方法,廣泛使用喷 $ m 去。特別是近年來,藉由改良喷墨磁頭和墨水, "以進行鬲精細的描繪(例如參照w〇2〇〇4/_272)。 但疋,猎由基板與墨水的組合,有時自喷墨磁頭射出 pi7’液献基板上附著後發生蔓^進行高精細的 1例如,使用含有金屬微粒的墨水,於聚醯亞胺基板 延2微細配線時,就會出現上述情況。為了使液滴不蔓 法,了一種以氟系界面活性劑等處理基板表面的方 ㈣但是制這财法時,存在絲醯亞胺基板與金屬微 〜_合性降低、後製程中容易剥離的問題。 古鑒於上述狀況,需要開發一種例如可以藉由射出進行 田描!會的基板表面之處理方法,作為此處理方法,希 希所需部分進行表面處理的魅塗佈。因此, 黑t開^發一種以噴墨塗佈方法塗佈時塗佈性良好的喷墨用 =、、’該墨水可;X形成與基板的密合性良好的塗膜,並且, 、遺塗膜上以第二種喷墨用墨水進行描績時,墨水的蔓延 200829658 得到抑制,能夠進行宾杜&, 喷w用¥ γ + 精、、、田描繪,而且該塗膜與由第二種 貝墨用墨㈣成的_的密合性良好。 【發明内容】 含氣:ί;==:特定職^ 完成了本=、痛用於喷墨用墨水,基於此認識而 硬化:發的噴墨用墨水、墨水塗佈方法、 等。 、ν成方法、形成有硬化膜的電子線路基板 述含[氟]化二Γίί;用墨水,該墨水包括含氣化合物(C),上 氟化倍半^氧^ ^具有碳原子數為1〜·的有機基團的 ρ]會 + 元(打uorosilsesquioxane)。 合物(^)。 1〜用墨水,硪墨水包括通式(3)表示的含氟化
Rg——R (3)
Rf AA 中’ \表示單鍵或任意的亞甲基可以被氧取代 的=子數為1〜20的亞烧基;
Rf〜Rf7分別獨立表示:任意的亞甲基可以被氧取代 厌/、子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟烷基、一個或一 7 200829658 25759pif :固以上—的風可以被氟或_ c f 3取代的碳原子數為 6〜20的氟 =基、方基中—個或~個以上的氫可以被氣或-CF3取代的 反原^數為7 20的氟芳烧基、任意的亞甲基可以被氧取 = 為1〜2〇的直鏈狀或支鏈狀不含氟的烷基、 ΐ含氟的芳^^ ^不含氣的芳基或碳原子數為7〜20的 基或氟芳烧^’ f〜Rf7中至少有—個為氟烧基、氟芳
R表示氫或碳原子數為1〜100的有機基團。) [3][2]所述之噴墨用墨水,其中 能團的碳原子數為2 '有,、、、又%性吕 100的有機基團或具有雙鍵的碳原 子數為2〜100的有機基團。 [:把]所述之嘴墨用墨水,其中熱交聯性官能團為經 土墩氧乙蜣、氧雜環丁烷、羧基、異氰酸酯、胺基或酸 酐〇 [5] [3]或[4]所述之噴墨用墨水,其中具有雙鍵的碳原 =數為2〜100的有機基團具有丙_基、甲基丙稀酿基、 笨乙烯基、乙烯基或馬來醯亞胺。 [6] [2]〜[5]中任—項所述之喷墨用墨水,其中Rfl〜R^7 分別獨立表示:2,2,2_三1乙基、3,3,3、三氟丙基、2,2,3丄 四氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、3,3,4,4,4-五氟丁基或 3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟己基。 [7] [2]〜[5]中任—項所述之喷墨用墨水,其中^為亞 乙基、亞丙基或亞丁基。 [8] —種喷墨用墨水,該墨水包括··含氟化合物(c)與 8 200829658 其他自由基聚合性單體的共聚物斤 為具有碳原子數為1〜刚的有^ ^ 3亂化合物(c) [9]—種喷墨用墨水,該墨水包 千^虱烧 化合_與其他自由基聚合性單體的^物⑺:的含氟
Rg---R (3) 的碳中為ΐ:::任意的亞甲基可爾取代
Rf〜Rf7分別獨立表示··任意的 的碳原子數為i〜20的直鏈狀或支鏈代 =上的氳可以被氟或烟 碳^^基中—個或—個以上的氫可顺I或心3取代的 的氣繼、任意的亞甲基可‘ 錢狀或支鏈料含氟的燒基、 基〜中至少有一一、氟』 表示具有丙_基、f基轉雜、苯乙烯基、乙 4馬來醯亞胺的石炭原子數為^⑻白勺有機基團。) 9 200829658 /^ypir [10] [9]所述之噴墨用黑 .9 ο ο - ^ r ^ w必,其中Ilf1〜Rf7分別獨立表 不.2,2,2-二亂乙基、33λ 二 22333 _一鼠丙基、2,2,3,3-四氟丙基、 2,2,3,3,3_ 五鼠丙基、3 3 444π_ 九氟己基。 ,’,五氣丁基或3,3,4,4,5,5,6,6,6- [11] [9]或[10]所述之噴黑用 亞丙基或亞丁基。mi其中Rg為亞乙基、 自由任—項所述之噴祕墨水,其中其他 自由基XK 口 l'生早肢具有熱交聯性官能 -所[丄3上[^噴墨用墨水,其中其他自由基聚合性單 具=熱2性官能團為:趣基、環氧乙烧、氧雜環 丁煶、羧基、兴氰酸酯、胺基或酸酐。 〜匕1]中任一項所述之噴墨用墨水,其中其他 =t聚合性單體為··選自(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、3,4-=氧%己基(甲基)丙烯酸g旨、(甲基)丙稀酸甲基縮水甘油 酯、(3-乙基-3-環氧丙烷基)甲基(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙 烯酸2"*羧乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘油醚、1,4-環己烷二 甲醇單(甲基)丙婦酸酯所組成的組群的/種或一種以上。 [15][1]〜[14]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括化合物(B),上述化合物(b)具有下述通式(2)表示的構成 單7〇。 〇 II C、 0 II 'c—NH—R2——NH— HOOC C00H (式中,11]和R2分別獨立表示碳原孑數為2〜100的有 (2) 10 200829658 25759pif 機基團)。 [16] [15]所述之噴墨用墨水,其中化合物(B)至少使用 二胺(M)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物作幻而合 成。 [17] [16]所述之喷墨用墨水,其中二胺(Μ)為··選自至 少由4,4’-二胺基二苯颯、3,3,._二胺基二苯砜、3,4,—二胺基 二苯颯、雙[4_(4,苯氧基)苯基]颯、雙[4_(3_胺苯氧基)笨 基]砜、雙[3-(4-胺苯氧基)苯基μ風、[4-(4-胺苯氧基)笨 基][H4-胺苯氧基)苯基]砜、[4_(3_胺苯氧基)苯基][3_(4_胺 苯氧基)苯基]砜、4,4’-二胺基二苯醚、4,4,-二胺基二苯甲 烧、3,3’._二胺基二苯甲完、二曱基-4,4’-二胺基二苯甲 烧、2,2·雙[4_(4_胺苯氧基)苯基]丙烧、2,2、雙[‘⑷胺苯氧 基)苯基]六氟丙烧以及式(4)表示的化合物所組成的組群的 一種或一種以上; R4 R4 H2N —f-R6 分〒 i—〇}y—♦十 R6|^_NH2 R5 R5 ⑷ (式中,R4和R5獨立表示碳原子數為!〜3的烷基或苯 基;R6獨立表示亞甲基、亞笨基或烷基取代的亞苯基;χ 獨立表示1〜6的整數;y為1〜iq的整數。) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為:選自偏 苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、12,3/-丁烷四甲 酸一酐、1,2,4,5-環己烧四甲酸二酐、3,3’,4,4’_二苯醚四甲 酸二酐以及3,3’,4,4’-二苯碾四甲酸二酐所組成的組群的_ 種或一種以上。 200829658 [18] [15]〜[17]中任一項所述之噴墨用墨水,其中包 括:0.1〜50重量百分比(wt%)的含氟化合物(c)或含氣化人 物(C)與其他自由基聚合性單體的共聚物(C,);以及〇工二 50 wt%的化合物(B)。 [19] [1]〜[16]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括化合物(A),上述化合物(A)具有下述通式(1)和(2)表示的 構成罩元。
(式中,R1、R2和R3分別獨立表禾碳原子數為2〜1〇〇 的有機基團。) 基的化合物(a3)而合成。 [20][19]所述之喷墨用墨水,其中化合物(A)至少使用 I 夕元羥基化合物(al)、二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐 一種或一種以上。 [21][20]所述之噴墨用墨水,其中具有兩個或兩個以上 酉欠酐基的化合物(a3)為·選自四羧酸二酐以及具有酸酐基 的聚合性單體與其絲合性單體的共㈣馳成的組群的 Ρ2][21]所述之喷墨用墨水,其中具有酸酐基的聚合性 早體與其絲合性單體的奸物為苯乙爆喝來酸針共聚 12 200829658 25759pif [23][20]所述之喷墨用墨水,其中多元羥基化合物(al) 為:選自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、丙二醇、二 丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、丨,4_丁二醇、込孓戊二醇、 1,6-己二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇以及二季 戊四醇所組成的組群的一種或一種以上; 二胺(a2)為:選自4,4,-二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二 苯颯、3,4’·二胺基二苯砜、雙㈣‘胺苯氧基)苯基]砜、雙 [4-(3_胺苯氧基)苯基;|砜、雙[3-(4_胺苯氧基)苯基]砜、[‘(4_ ^苯氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]砜、[‘(弘胺苯氧基) 苯基][3_(4士苯氧基)苯基]硬、4,4,_二胺基二苯_、4,4,_ 二胺基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯曱烷、3,3,_二甲基_4,4,_ 二胺基二苯甲烷、2,2_雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、 雙[4-(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙烧以及式⑷表示的化合物 所組成的組群的一種或一種以上; R4 R4 R5 ⑷ (,中R和R獨立表示碳原子數為1〜3的烧基或苯 基’ R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯基,· X 獨立表不1〜6的整數;y為1〜1〇的整數。) X具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(&3)為:選自苯 乙烯-馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲 酸二野,、丨,2,3,4·7^四甲酸二酐、1,2,4,5·環己烧四甲酸二 酐、3,3,4,4’_二苯醚四甲酸二酐以及3,3,,4,4,_二苯石風四甲 13 200829658 25759pif 酸二酐所組成的組群的一種或一種以上。 [24][20]所述之喷墨用墨水,其中多元羥基化合物(al) 為·選自1,4-丁二醇、1,5-戊二醇以及丨,6_己二醇所組成的 組群的一種或一種以上; 二胺(a2)為:選自3,3’-二胺基二苯颯、4,4,_二胺基二 苯醚、4,4,_二胺基二苯甲垸以及式⑷表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上; f (. R4 R4 (式中,;R4和R5獨立表示碳眉早 () 其.只6件今本一 杜 反原子數為1〜3的燒基或苯 基,R獨立表不亞甲基、亞苯
獨立表示1〜6的整數;y為HG_ )❹本基’X 具有兩個或兩個以上酸軒基的化 苯三酸、苯乙稀-馬來酸軒共聚物、3,3H^自偏 —酐、3,3,4,4'二笨碾四曱酸二酐以 ::四甲^ 組成的組群的一種或—種以上。 丁烷四甲酸二酐所 [25][1]〜[24]中任.一 ^ , ν, + 括環氧_⑼。 綺奴m墨水,其中還包 岡[25]所述之噴墨用墨水, •c-〇-CH2—CH」CH2 〇 V/ 2 自下述式⑺〜⑻表示的化所且^树脂(D)為:選 種以上。 斤、、且成的組群的一種或一
14 (5) 200829658 ^3/3ypir
^ (7)
(式中,n為0〜10的整數。) [27] [1]〜[26]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括產酸劑(E)。 [28] —種硬化膜,該硬化膜經由以喷墨塗佈方法塗佈 [1]〜[27]中任一項戶斤述之喷墨用墨水以形成塗膜的製程而 得到。 [29] —種墨水塗佈方法,該方法包括:利用喷墨塗佈 方法塗佈[1]〜[27]中任一項所述之喷墨用墨水,之後使之 乾燥形成塗膜的製程;以及對該塗膜進行加熱處理形成硬 化膜的製程。 [30] —種硬化膜形成方法,該方法是使用[29]所述之墨 水塗佈方法形成硬化膜。 15 200829658 25759pif [31] —種電子線路基板,該基板上使用[3〇]所述之硬化 膜形成方法形成有硬化膜。 [32] —種電子部件,該電子部件包括[31]所述之電子線 路基板。 [33] 電子線路基板、顯示元件,其中包括[28]所述之硬 化膜。 阳上述式(4)中,R6的「烷基取代的亞苯基」中的「烷基」 優廷為碳原子數為2〜1〇的烧基,更優選為碳原子數為2 6的虼基。烧基的例子並沒有限定,可以列舉出:乙基、 丙基、兴丙基、丁基、第二級丁基、第三級丁基、戊基、 己基、十二烷基等。 應說明的是,本說明書中,「(甲基)丙稀酸」表示丙 烯酉欠和甲基丙烯酸的總稱。 本發明之優選方案所關於的噴墨用墨水,例如, 噴墨塗佈枝進行㈣時,塗純良好。w利用 例如:二月之優選方案所關於的喷墨用墨水, 4 、#土、主佈方法於基板上塗佈時,墨水的蔓延得到 =二良::也r接觸角,因此嶋^ 的嗔旨。另外’使用本發明之優選方案所關於 、于主膜的孩、合性變高。使用更優選的方安% 、’,田白、=會,亚且基板與所得塗膜的密合性變高。丁门;、月 ”、、讓本每明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 16 200829658 2D/^ypn 下下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細★兒 【實施方式】 用墨水 一本杳明之贺墨用墨水的第1方案為:包括以上述式(3) 表:的含氟化合物(C)的喷墨水。本發明之噴墨用墨水
、、方木為·包括含氟化合物(C)與其他自由基聚合性單 體的共聚物(C’)的喷墨用墨水。 h.l含龍Jtj合物 本發明之噴墨用墨水所包括的含氟化合物(〇,是具有 碳原子數為1〜HK)的有機侧的氟化倍半魏垸,優選為 上述式(3)表示的化合物。 一 、,(3)中,Rg表示單鍵或任意的亞甲基(methylene辟〇叩) 可被氧取代的碳原子數為!〜2〇的亞烷基(alk咖加抑叩)。 式(3)中,較佳的疋,Rg為碳原子數為1〜1 〇的亞烧基 (任思的亞甲基可以被氧取代,任意的氫可以被氟取代)。 Rg更優選為亞乙基(ethylene group)、亞丙基(pr〇pylene group)或亞丁基(butylene group),其中更佳的是亞丙基。 式(3)中,Rf〜Rf分別獨立表示任意的亞甲基可被氧 取代的碳原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟絲 alkyl group)、一個或一個以上的氫可被氟或七込取代的碳 原子數為6〜.20的鼠务基(fluoro aryl group)、芳基中一個 或一個以上的氫可被氟或-CF3取代的碳原子數為7〜2〇的 氟芳烷基(fluoro aiylalkyl group)、任意的亞甲基可被氧取 17 200829658 ZJ / J^pil 代的碳原子數為l〜2G的直鏈狀或支魏不含氟的炫基 ㈤kyl g_p)、麵子數為6〜2G料含氟的芳基㈣ group),或碳原子數為7〜2〇的不含氟的芳絲㈣脚】 Γρ);Rf〜Rf中的至少—個為氟燒基、氟芳基或氟芳炫 基0 f
式⑶中」較佳的是,Rfl〜Rf7分別獨立表示為,三氣 甲基、2,2,2^氟乙基、3,3,3,.三氣丙基、2,2,3,3-四氣丙基、 2,2,3,3,3_五氟丙基、2,2,2_三氟小三氟甲基乙基、 2,2,3,4,4,4-六氟丁基、2,2,3,354,4,5,5"\氟戊基、2^^^ 乙基、2,2,3,3-四氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、2,2,3,3,4,4,5,5- 八氟戊基、3,3,3-三氟丙基、九氟._1,1,2,2_四氫己基、十三 氟-1,1,2,2-四氳辛基、十七氟-u,2,孓四氳癸基、全氟 3,3,4,4,5,:>,6,6,6-九氟己基等氟烷基,或是苯基、丙基、丁 基、甲基苯基、乙基苯基、丙基苯基等烴基。其中,心〗 〜Rf7中的至少一個是選自上述的氟烷基。 八 式Pj中,Rf】〜Rf7分別獨立表示為2,2,2_三氟乙基、 3,3,3-三氟丙基、2,2,3,3_四氟丙基、2,2,3,3,3•五氟丙基、 3+,3,4,4,4-五氟丁基或3,3‘,4,4,5,5,6,6,6_九氟己基時,則藉由 噴墨而喷出的液滴在所得塗膜上的接觸角容易進一步變 焉’而能夠進行高精細的描緣,因此優選。 而且,Rf〗〜Rf7優選全部為2,2,2_三氟乙基、3,3,3_三 氣丙7基、2,2,3,3-四氟丙基或^仏^九卜九氟己基。〜】
Rf "k运王部為3,3,3-二氟丙基或3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟己 18 200829658 oypif 基。 式(3)中,R為氳或碳原子數為1〜100的有機基團。 式(3)中,較佳的是,R為具有熱交聯性官能團或雙鍵 的碳原子數為1〜100的有機基團。熱交聯性官能團為羥基 (hydroxyl gr0Up)、環氧乙烷(oxirane)、氧雜環丁烷 (oxetane)、羧基(carb〇xy group)、異氰酸酯(isocyanate)、胺 基(amino group)或酸酐(anhydride)時,所得喷墨用墨水與基 板的密合性變高,因此優選。另外,具有雙鍵的碳原子數 為2〜100的有機基團,具有丙婦醒基(acjyloyl gr〇Up)、曱 基丙烯醯基(!1^1^71〇71§1^〇叩)、苯乙烯基(吻171§1«0111))、 乙細基(vinyl group)或馬來亞胺(maleimide group)時,所 得喷墨用墨水與基板的密合性變高,因此優選。 本發明中,喷墨用墨水中的含氟化合物(c)的濃度沒有 特別限定,優選為0.1〜50 wt°/。。該濃度為〇·5〜2〇 wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,容易以噴墨進行塗佈,因此更優 選。 應說明的是,含氟化合物(C)可以是一種單獨的化合 物’也可以是兩種或兩種以上化合物的混合物。 ι·2含氟化合物丄ς)與其合性箪體的共聚物 (c,) 本發明之第2讀的喷墨用墨水所包括的共聚物,是 上述式(3)表示的*氣化合物(C)與其他自由基聚合性單體 的共聚物(C’)。 本發明之第2方案的噴墨用墨水中,所使用的表示為 19 200829658 25759pif 含氟化合物(C)的式(3)中 基、苯乙稀基、乙if有丙稀酿基、甲基丙烯酿 的有機基團。其中,^ 亞胺的碳原子數為2〜100 的碳原子數為2〜1G() ^^_醯基或甲基_醯基 物,因此優選。應說明 基團,則可以容易地合成共聚 含氣化合物(C)的&3)巾、,於合成共聚物(C,)的 喰II用巽走φ你田 f f以及Rg與第1方荦的 u墨水中使用的含氣化合 方木的
能夠用於合成共聚物『、6乂斤的疋義相问。 只要是具有自由基聚===他自由基聚合性單體, 其他自由基聚合性===。八 =交聯性官能團的其他自由基聚合性單體的例子:: ;- Ti2'11 ^si^(^ ^ ^ ιι> (^ a」《曰卜‘%己烷二甲醇單(甲基) 胺乙基醋等(甲基)丙烯酸衍生物,以及縮水甘油基乙稀基 苄基醚等苯乙烯衍生物等。其中,可以列舉出··(甲基)丙 烯酸縮水甘油酯、3,4-環氧環己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基) 等(甲基)_酸細完基Μ甲基㈣酸縮水— 甘油;^4_ 琢桃己基(甲基)丙_§旨、(?基)丙稀酸f基縮水甘油 酉旨、4-經丁基(甲基)丙_縮水甘油趟、(3_乙基_3_環氧丙 烧基)曱基(甲基)丙烯酸_、2_(甲基)丙烯醯氧乙基異氯酸 醋、γ-(甲基丙烯醯氧丙基)三甲氧基石夕烧、(甲基)丙婦酸_2_ 丙婦酸甲基縮水甘油酯、(3-乙基-3-環氧丙烷基)甲基(甲基) 丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2_羥丙 酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘 20 200829658 25759ριί 1、,釦環已烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯等。若使用上述 單肢作為其他自由基聚合性單體,則所得喷墨用墨水與基 板的密合性變高,因此優選。 八〃共聚物(C’),優選將具有預定結構的上述式(3)表示的 含氟化合物(C)與其他自由基聚合性單體以重量比〇.5:99.5 〜50 : 50進行混合而得到。 · 一方面’從本發明之喷墨用墨水的耐化學性方面考 f 慮,優選高分子量者;另一方面,從相對於溶劑的溶解性 方面考慮,優選低分子量者,因此共聚物(c,)的重量平均 分子置優選為2,000〜1,〇〇〇,〇〇〇,更優選為3,〇〇〇〜 100,000另外’上述共聚物的分子量分佈Mw/Mn,通常 優選為1.2〜.20。 共聚物(C,)的濃度沒有特別限定,優選為 wt%。該濃度為0.5〜20 wt%時,從墨水的黏度方面考慮, 易於以喷墨進行塗佈,因此更優選。 ’ 另外,共聚物(C’)的排列樣式沒有特別限定,例如, \ 可以是嵌段共聚物(block copolymer)等有序性共聚物,也可 以是無規共聚物(random copolymer)。 共聚物(C’)可以是藉由將具有預定結構的上述含氣化 合物(C)與其他自由基聚合性單體混合,並使之加成聚合 (polyaddition)而製備。 加成聚合可以使用聚合起始劑來進行。聚合起始劑的 例子可以列舉出:2,2’-偶氮二異丁腈、2,2,_偶氮二__ 甲基戊腈)、2,2’-偶氮二(2_丁腈)、二甲基j,2,_偶氮二里丁 21 200829658 25759pif 醋、U’-偶氮二(環己烷小腈)等偶氮化合物;苯甲醯過氧 化物、十二烷基過氧化物、辛醯過氧化物、乙醯過氧化物、 二第二級丁基過氧化物、過氧化第三級丁基異丙苯、過氧 化二異丙苯、過氧乙酸第三級丁酯、過氧苯甲酸第三級丁 醋、過氧新癸酸第三級丁酯等過氧化物;以及二硫化四乙 基秋蘭姆荨—硫代胺基甲酸酯等。除此之外,聚合起始劑 的例子還可以列舉出··光聚合起始劑、活性自由基聚合起 始劑等。 ί 加成聚合中使用的聚合起始劑的量沒有特別限定,優 述相對於單體總重量為0.1〜10 Wt%。 ^ ^述加成聚合中可以使用鏈轉移劑。藉由使用鏈轉移 劑,可以適當控制分子量。鏈轉移劑的例子可以列舉出: 石^代令蔡.、笨硫酚、正丁硫醇、巯基乙酸乙酯、巯基乙 1、、二基乙酸、異丙硫醇、第三級丁基硫醇、十二烷硫醇、 一爪代滿果酉欠、李戊四醇四(3_疏基丙酸酯)、季戊四醇四 魏基=酸_)㈣_ ;以及二苯基二硫化物、二疏基乙酸 -—乙基一硫化物等二硫化物類等。除此之外,键 Γ多;以列舉出:甲苯、異刪、四氯化 r丁醆、土本、一乙基_、氯仿、乙基苯、丁基氯、第二 、、’ ί三丁酮、曱基異丁基酮、氯丙烯、曱基氯仿、第三 級丁土笨、正丁醇、異丁醇、乙酸、乙酸乙酯、丙酮、二 福烧HΜ、氯笨、¥基環己烧、第三級丁醇、笨等。 :轉:劑的例子中,優選硫醇類鏈轉移劑,特別是毓 基乙夂,其可使分子量分佈均句,因此優選。 22 200829658 25759pif 鏈轉移劑可以❿ 混合使用。 早镯使用,或者可以是兩種或兩種以上 行製備,其方法通常的加成聚合物的聚合方法來進 懸浮聚合法、本娜取可β使用··溶液聚合法、乳化聚合法、 C〇2進行的聚合合法、本體-懸浮聚合法、使用超臨界 採用溶液聚合法 ί 基聚合性單體、〜例如將含氟化合物(C)、其他自由 劍中,葬起始劑以及鏈轉移劑溶解於適當的溶 二;:加熱及/或光照射’使之發生加成聚合反應,得 子可聚合反應中所使用的溶劑的例 nt1,出.乙系洛劑(苯、甲苯等)、醚系溶劑(二乙醚、 以及大於等於6的HFCs等)、全氟碳系溶劑(全氟戊烷、全 氟己烷等)、脂環式氫氟碳系溶劑(氟代環戊烷、氟代琴^ 烧等)、含氧I系溶劑(氟醚、全氟聚越、說闕、氣醇等^、 芳香族系氟系溶劑(α,α,α-三氟甲苯、六氣苯等)、水等。 南丨祕料)、*代烴系溶 元、氣仿、氯苯等)' _溶劑(丙酮、丁綱、甲 基異丁基_等)、醇系溶劑(甲醇、乙醇、丙醇、里丙醇、 正丁醇、第三級丁醇等)、腈系溶劑(乙腈、丙腈、节猜等)、 醋系溶劑(乙酸乙s旨、乙酸·〇旨等)、碳酸g|系溶劑(碳酸亞 乙酯、碳酸亞丙酯等)、醯胺系溶劑(n,n_:甲基甲萨胺、 Ν,Ν-二甲基乙醯胺等)、氫氯氟碳系溶劑(HcFc_^ib、 HCFC-225等)、氫氟碳(HFCs)系溶劑(碳原子數為2〜4、5 23 200829658 25759pif 用 上述溶劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩種以上併 所使用的溶劑量,只要使單體濃度為1〇〜5〇感 聚合反應溫度沒有特別限定,優選G〜2⑻。c 4〇〜15(TC。聚合反應可以根據單體的種類及溶劑的種= 在減壓、常壓或加壓下進行。 、 聚合反應中,若產生的自由基與氧接觸而失活, =合速度下降,為了抑制上述情況,來 =制㈣合物,職選錢、鮮惰性氣體環境下進^ 人^ Γ隹Ϊ反應還可以在減壓下除去溶解的氧的聚 =内,丁,其可在減壓下除去溶解的氧後 的狀態下進行聚合反應。 溶液中得到的聚合物,可以利用常規方法進行純化 應說^是,用於得到共聚物(c,)的錢化合物⑹, Μ是-種早獨的化合物,也可以是兩種或兩種以上化合 =的,合物。同樣,用於得到共聚物(c,)的其他自由基聚 二!早體’可以是—種單獨的化合物,也可以是或兩 種Α上化合物的混合物。 的化合物蓉 本發敗嘴錢墨H包括含統合物(C)或共聚 C )、即可並沒有特別限定,其還可以任意包括··具有 ^式(ί)的構成單元的化合物(B)、具有上述式⑴和式(2) 、请成單元的化合物(A)、環氧樹脂(d)、產酸劑(e)等。 24 200829658 25759pif (聚醯胺酸) 本發明之噴墨用墨水中,還可以包括具有式(2)的構成 單元的化合物(B)。喷墨用墨水中包括化合物(B)時,該墨 水與基板、特別是聚醯亞胺基板的密合性變高,因此優選。 ⑴化合物⑻所包括的構成單元 上述式(2)中,R1表示碳原子數為2〜100的有機基 團’但疋此R為具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物的殘 基’優選為四羧酸二酐殘基或苯乙烯-馬來酸酐共聚物殘 基。上述式(2)中,R2表示碳原子數為2〜100的有機基團, 但是此R2為二胺殘基。 一方面,從本發明之熱硬化性組成物的耐化學性方面 考慮,優選高分子量者;另一方面,從相對於溶劑的溶解 性方面考慮,優選低分子量者,因此化合物(B)的重量平均 分子量優選為15000〜500,000,更優選為2,〇〇〇〜2〇〇,〇〇〇。 本發明中,熱硬化性組成物中的化合物(B)的濃度沒有 特別限定,優選為〇·1〜50wt%。此濃度為〇.5〜2〇wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,易於以噴墨進行塗佈,因此優選。 (.2)化合物(B)的製備方法 本發明之喷墨用墨水所包括的化合物(B ).,例如,至少 使二胺(M)與具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物作2)反 應而得到。 (3)二胺(bl) 本發明中,可以用於合成化合物(B)的二胺(b〗),只要 具有兩個胺基即可,並沒有特別限定,可以列舉如··通式 200829658 25759pif NH2_R-NH2(式中,R表示碳原子數為2〜100的有機基團) 表示的化合物。該通式表示的化合物的具體例子可以列舉 出:下述通式(II)〜(VIII)表示的化合物。 H2N-—A1—NH2 (ii) H2N nh2
[式(11)及(IV)中,a1表示-(CH2)m-,其中m為1〜6的 整數; 式(VI)〜(VIII)中,A1 表示單鍵、_〇_、_s_、-S-S-、-S02-、 -CO — -CONH-、-NHCO-、-C(CH3)r、-C(CF3)2-、-(CH2)m-、 -CKCI^H、—s_(CH2)m-S-,其中 m 為 1〜6 的整數;A2 表不單鍵、_〇•、-S_、_C0_、_C(CH3)2_、_C(CF3)2_ 或碳原 子數為1〜3的亞烷基;環己垸環或苯環上結合的氫可以被 26 200829658 /^ypn -F、-CH3 取代。] 通式(II)表不的二胺可以列舉如·式(II-1)〜(II-3)表不 的二胺。 B-1 Η2ΝΧΧχ ΝΗ2
通式(m)表示的二胺可以列舉如:式(ΠΙ-1)、(ΙΙΙ-2)表 示的二胺。
nh2
通式(IV)表示的二胺可以列舉如:式(IV-1)〜(IV-3)表 示的二胺。 IV-1 IV-2 IV-3
通式(V)表示的二胺可以列舉如··式(V-1)〜(V-5)表示 的二胺。 27 200829658 i V-1 V-2 V-3
通式(VI)表示的二胺可以列舉如:式(VI-1)〜(VI-30) f 表不的^一胺。
28 200829658 25759pif V I - 1 6 V I - 1 7 H2N_NH2 H2N— v I - 1 8 V I - 1 9 h2n-<QkC)v^^C)^}>-nh2 V I - 2 Ο V I - 2 1 h2n"^^3^s"s^C5k_nh2
\
通式(VII)表示的二胺可以列舉如:式(VII-l)〜(VII-6) 表不的二胺。 V I I- 1 V I I- 2
29 200829658
H2N
V丨卜Λ
h2n V I I- 6
NH 2 通式(VIII)表示的二胺可以列舉如:式(VIII-1)〜 (VIII-11)表示的二胺。
VI I 1-4 (CH2)3
NH 2
VI I 1-5
nh2 nh2
nh2
nh2
nh2 通式(n)〜(VIII)表示的二胺(bl)的上述具體例子中,更 30 200829658 25759pif 優選列舉:式(ν_υ〜(V_5)、式叫)〜(νι_12)、式(νι,、 式(VI-27)、式㈤⑴、式(VII_2)、式(νιι_6)、式(谓七〜 (VIII-5)表示的二胺;進一步優選列舉:式(v_6)、式、 式(VI-1)〜(VM2)表示的二胺。 本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(Μ)還可以列 出··通式(IX)表示的二胺。
[式(IX)中, A。表示單鍵、 _〇_、_C〇〇_、_〇CO_、_CO_、-CONH- 或-(⑶2)nr(式中,m為1〜6的整婁文); 山R表不碳原子數為1〜30的有機基團,該有機基團的 末端可以為或鹵素,該有機基團優選為:具類留醇 (steroid)骨架的基團、下式(χ)表示的基團;或者,當苯環 上結合的兩個胺基的位置關係為相對時,該有機基團表示 碳原子數為1〜2〇的烷基;或者,當上述位置關係為相間 時’該有機基團表示碳原子數為1〜1〇的烷基或苯基; 上述烷基中,任意的-CH2_可以被、-CHF·、_0— 或-CSC-取代卜CH3 可以被_ch2F、-chf2 或-cf3 取代; 形成上述笨環的碳上結合的氫可以被-F、-CH3、 -0CH3、-OCH2F、-OCHF2 或-〇CF3 取代。] 31 (X) 200829658 I jy])u
[式(x)中,
A4和A5分別獨立表示單鍵、_〇_、_c〇a、 -CONH·、-CH=CH-或碳原子數為的亞烷基; R7和R8分別獨立表示-F或-CH3 ; 環S表示1,4-亞苯基 ,、兑%己基、1,3_二噁惊_2 t 基、口密。定-2,5-二基、t定-2,5-二基、萘义二基、笑_2’7 .基或蒽-9,10-二基; 不' ’ R表不_H、_F、碳原子數為丨〜12的垸基、碳原子數 為1〜12的氟代烷基、碳原子數為丨〜丨〕的烷氧基、_cn、 -OCH2F、-OCHF2 或-OCF3 ; i Λ a和b分別獨立表示0〜4的整數; c、d和e分別獨立表示0〜3的整數;當e為2咬3 時,多個環S可以是相同的基團,也可以是二同=基^ ; f和g分別獨立表示0〜2的整數,且 c+d+ 1] 通式(IX)中,兩個胺基結合在苯環的碳上,但優選兩 個胺基的結合位置關係為相間或相對。並且,當以「p6_A3_ 的結合位置作為1位時,兩個胺基優選分別結合在3位和 5位或2位和5位上。 通式(IX)表示的二胺可以列舉如:下式 32 200829658f —^ ^ %Jxx 表示的二胺。
H2N
33 18 200829658 25759pif
18
I X- 1 Ο
19
19
上述式(IX-1)、(IX-2)、(IX-7)以及(IX-8)中,R18 表示 藏原子數為3〜12的烷基或碳原子數為3〜12的烷氧基, 其中優選碳原子數為5〜12的烷基或碳原子數為5〜12的 燃氧基。上述式(IX_3)〜(IX-6)以及(IX-9)〜(IX-11)中,R]9 表示碳原子數為1〜10的烷基或碳原子數為1〜10的烷氧 基,其中優選碳原子數為3〜10的烷基或碳原子數為3〜 10的烷氧基。 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-1.2)〜 (IX-17)表示的二胺。 34 200829658 25759pif
上述式(IX-12)〜(IX-15)中,R2Q表示碳原子數為4〜16 的烷基,優選碳原子數為6〜16的烷基。式(IX-16)和式 (IX-17)中,R21表示碳原子數為6〜20的烷基,優選碳原 子數為8〜20的烷基。 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-18)〜 (IX-38)表不的二胺。 35 200829658 25759pif
I X- 2 7
23 I X- 2 8 I X— 2 9
I X- 3 0 I X- 3
36 200829658 ZD/D^pil
H2N 上述式(IX-18)、(IX-19)、(IX-22)、(IX-24)、(Ιχ (IX-28)、(IX-30)、(IX-31)、(IX-36)以及(IX-37)中,j25)、 示碳原子數為1〜12的烧基或碳原子數為1〜η , 基,優選碳原子數為3〜12的烷基或碳原子數為3〜丨^氧 烷氧基。上述式(IX-20)、(IX-21)、(IX-23)、(ΐΧ-26)、(Ιχ_ 的 (ΙΧ-29)、(ΙΧ·32)〜(ΙΧ-35)以及(ΙΧ_38)中,R23 表示 _Η、ρ、 碳原子數為1〜12的烧基、碳原子數為1〜丨2的燒氧笑 cn、_och2f、-ochf2 或-ocf3,更優選碳原子=為土3二 12的烧基或碳原子數為3〜12的烷氧基。上述式(Ιχ_33) 和pX-34)中,Α9表示碳原子數為1〜12的亞烧美。 37 200829658 25759pif 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-39)〜 (IX-48)表示的二胺。
38 200829658 25759pif
通式(IX)表示的二胺(bl)中,優選式(IX-1)〜式(IX-11) 表示的二胺,更優選式(IX-2)、式(1X4)、式(IX-5)、式(IX-6) 表示的二胺。 本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(M),還可以列 舉:下述通式(XI)及(XII)表示的化合物。 pHR11
、〆=NH2-Ph-A6-0- 39 (XII)200829658 Z3/3^pif
=NH2-(R14-)Ph-A6-0-
H2N
[式(XI)和(XII)中, R1G 表示-H 或-CH3 ; R]1分別獨立表示-H或碳原子數為1〜20的烷基或碳 原子數為2〜20的烯基; Α6分別獨立表示單鍵、-C(=0)-或-CH2-;
Ri3及R14分別獨立表示-H、碳原子數為1〜20的烷基 或苯基。] 上述通式(XI)中,優選兩個「NH2_Ph-A6_0」中的一 個結合在崔核的3位、另一個結合在错核的6位。兩個胺 基分別結合在苯環的碳上,優選相對於A6的結合位置結合 在間位或對位上。 通式(XI)表示的二胺可以列舉如:式(XI-1)〜(XI-4)表 不的 >一胺。 40 200829658 Z.J / J^pii
通式(XII)中,兩個「NH2-(R14-)Ph-A6-0-」分別結合在 苯環的碳上,優選相對於留核所結合的碳而言,結合在間 位或對位的碳上。兩個胺基分別結合在苯環的碳上,優選 相對於A6結合在間位或對位上。 通式(XII)表示的二胺可以列舉如:式(XII-1)〜(XII-8) 表不的二胺。 41 200829658 25759pif
本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(bl)還可以列 舉:通式(XIII)、(XIV)表示的化合物。 42 200829658 25759pif
[式(XIII)中,R15表示-H或碳原子數為1〜20的烷基, 該烷基中,碳原子數為2〜20的烷基的任意-CH2-可以被 -0-、-CH=CH-4_CeC-取代; A7分別獨立表示-0-或碳原子數為1〜6的亞烷基; A8表示單鍵或碳原子數為1〜3的亞烷基; 環T表示1,4-亞苯基或1,4-亞環己基; h為0或1。]
[式(XIV)中, R16表示碳原子數為2〜30的烷基; R17表示-H或碳原子數為1〜30的烷基; A7分別獨立表示-0-或碳原子數為1〜6的亞烷基。] 上述通式(XIII)中,兩個胺基分別結合在苯環的碳上, 優選相對於A7結合在間位或對位上。 通式(XIII)表示的二胺可以列舉如:式(XIII_1)〜 (XIII-9)表示的二胺。 43 200829658 25759pif
上述式(XIII-1)〜(XIII-3)中,R24優選-H、碳原子數為 1〜20的烷基;(ΧΙΙΙ-4)〜(ΧΙΙΙ-9)中,R25更優選-Η、碳原 子數為1〜10的炫基。 44 200829658 25759pif 上述通式(XIV)中,兩個胺基分別結合在苯環的碳上, 優選相對於A7結合在間位或對位上。 通式(XIV)表示的二胺可以列舉如·· 〜 表示的二胺。 XIV- R26 R27 X I V- 2 R26 R27
f % X I V-3 R26 R27
>式(XIV-1)〜(xIV-3)中,R26表示碳原子數為2〜3〇的 =基,其中優選碳原子數為6〜2〇的烷基,· R27表示_h或 碳原子數為1〜30眺基,其巾優選_H或碳料數〜 10的烷基。
如上所述,本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(bl) 可用例如通式(I)〜(XIV)表示的二胺,也可以使用除上 述二胺以=的二胺。例如,可以單獨使用具萘結構的萘系 =續的料、二胺或财概_魏统系q安 4,或者將它們與其他二胺混合使用。 夕氧&系一私沒有特別限定,本發明中,可以優選# 用下述.式_示⑽氧妹二胺。 使 45 200829658 25759pif R4 R4 H2N—f»R6細* 广。) 4 R5 ⑷ (ί中,R酿5獨立表示碳原子數為1〜3的焼基或笨 基;R6獨立表㈣甲基、技基或絲取代的亞苯土基^ 獨立表示1〜6的整數;y為卜7〇的整數。其中,更 的y為1〜15的整數。) 、
這晨,「烧基取代的亞苯基」中的「燒基」,優選為 碳原子數為.2〜1G的垸基,更優選為碳原子數為2〜6的燒 基。烧基的例子並沒有岐,可以列舉出:乙基、丙基、 異丙基、丁基、第二級丁基、第三級丁基、戊基、己^、 十二烧基等。 通式(I)〜(VIII)以及通式(4)表示的二胺中,若使用 4,4,·二胺基二苯職、3,3,_二胺基二苯颯、3,4,·二胺基二苯 颯、雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]砜、雙[4_(3_胺苯氧基)苯基] 砜、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]礙、[4_(4_胺苯氧基)苯基砂& 胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基) 苯基]砜、4,4’-二胺基二苯醚、七4,_二胺基二苯甲烷、3,3,_ 二胺基二苯甲烷、3,3,-二甲基-4,4,-二胺基二苯甲烷、2,2_ 雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基] /、氟丙烧、上述式(4)表示的化合物等,則所得喷墨用墨水 的硬化膜與聚醢亞胺基板等的密合性變高,因此優選。 其中,使用4,4,-二胺基二苯颯、3,3,-二胺基二苯碾、 4,4’-二胺基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基 Ά二胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙 46 200829658 25759pif 烷、4=4’-二胺基二苯醚v2,2’-二胺基二苯丙烷以及上述式 (4)表示的化合物時,所得噴墨用墨水的硬化膜盥醯 基板等的密合性變高,因此優選。 ,、 應祝明的是,可以用於合成本發明之噴墨用墨水所包 括的化合物(B)的二胺(M),並不限於本說明書的二胺,在 達到本發明之目的的範圍内,可以使用其他各種形離的二 胺。 〜 , 另外,可以用於合成本發明之喷墨用墨水所包括的化 合物(B)的二胺(M),可以單獨使甩一種,或者是兩種或雨 種以上組合使用。即,作為兩種或兩種以上二胺的組合, 可以使用··上述二胺之間的組合;上述二胺與除其之外的 一胺的組合,或者除上述二胺以外的二胺之間的組合。 (4)具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2) 本發明中,可以用於合成化合物(B)的具有兩個或雨個 以上酸酐基的化合物(b2)的具體例子可以列舉出··苯乙烯.一 ^ 馬來酸酐共聚物、苯乙烯-馬來酸酐K甲基)丙烯酸共聚物、 I (甲基)丙烤酸甲酯-馬來酸酐共聚物、(甲基)丙烯酸甲酿』 來酸針-(曱基)丙烯酸共聚物、苯乙烯_衣康酸酐共聚物、苯 乙烯-衣康酸酐-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲_一 衣康酸酐共聚物、(曱基)丙烯酸甲酯_衣康酸酐_(甲基)丙烯 酸共聚物、2,2’,3,3’_二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,3,,4,_二黎 甲酮四甲酸二酐、2,2,,3,3,_二苯砜四曱酸二酐’、二3,3,,4、 二苯砜四甲酸二酐、3,3,,4,4,-二苯醚四甲酸二酐、2,2,,3,3,-二苯醚四甲酸二酐、2二3,,4,_二苯醚四甲酸二酐、2,2一[雙 47 200829658 25759pif (3,4-^一叛基苯基)]六氣丙烧·一野以及乙 醇雙(偏笨一酉分 酐)(商品名;TMEG-100,新日本理化(股)製)等芳香族 酸二酐;乙烧四曱酸二酐、4-(2,5-二氧代四氫u夫喃一3一 基)_1,2,3,4_四風奈-1,2-二甲酸昕、5-(2,5_二氧代四氣π夫口南 基)-3-曱基-3 -壤己細-1,2-二曱酸軒、以及下述式b2、1〜 b2-73表示的化合物等四缓酸二酐。
48 200829658 25759pif f
b2-13
〇 O 49 200829658 25759pif
50 200829658 b2-21 b2-20 b2 - 22 0 0 O 〇 0 0
b2-23
CT
•O Ό b2-24
0, \_/ \_/ '0 b2 - 25 0 0 v V(° <xx XX° JX X;0 0 0 0 O
b2-28 b2-27
b2-31 b2-29 n
〇
51 200829658 25759pif
b2-32 b2-33
b2-34
b2-35 v(° b2-36 v 0 Jl X/° yy 0 1 1 必37 〇 1 0 b2-38 0 -O 〇hx 0 0 n O s^\\ 0 b2-39 b2-40
b2-41
52 200829658 25759pif b2-42 b2-44 b2-43
b2-45
b2-46 b2-48
O b2-47
53 200829658 25759pif b2-53 b2-51 b2-52 f
b2-54 b2>55 b2-56
b2-57 b2-58 b2-59
b2_6Q b2-61
b2-62 O
54 200829658 25759pif r
具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)的上述具體 例子中,使用苯乙烯-馬來酸酐共聚物、苯乙烯-馬來酸酐 -(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-馬來酸酐共聚 物、偏苯三酸二酐(b2-l)、.環丁烷四甲酸二酐(b2-14)、丁 烷四甲酸二酐(b2_18)、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐(b2-20)、 3,3’,454,-二苯砜四曱酸二酐(b2_8)、3,3·’,4,4’·二苯醚四甲酸 55 200829658 25759pif 一酐以及3,3,4,4-二笨甲酮四甲酸二酐(b2_6)等時, 喷墨用墨水的硬化膜與聚醯亞胺基板等的密因 此優選。 u ,、中使用苯乙稀_馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、 丁烷四甲:二酐、3,3,,4,4,_二苯砜四甲酸二酐以及 3,3 ^4 ·一相四甲酸二酐時,所得喷墨用墨水的硬化膜 與聚醯亞胺基板等的密合性變高,因此優選。 、 應,明的是,可以用於合成本發明之噴墨用墨水所包 白、化口物(B)的具有兩㈣兩個以上 _,並不限於本說明書的化合物,在
的1内,可α以使用其他各種形態的具有酸㈣的化合J 人物⑻的呈於合成本發明之嘴墨用墨水所包括的化 有兩個或兩個以上酸野基的化合物 ===一種’或者是兩種或兩種以上組合使用 為兩%或兩種以上化合物(b2)的組合,可卞 ,基的化合物之間的組合;上述具有兩個或兩二 :具有酸;基:;二 (5)—元醇 時,ΐ=力在分子末端具有酸肝基 」乂冰加兀知進仃反應。將一元醇i二脸々日 =個或兩個以上酸酐基的化合物㈣同時添加到反^ 、、’’或者添加二胺(bl)和具有兩個或兩個以上酸酐^的 56 200829658 25759pif :合物(b2)之後,向反應系統中添 化,平坦性變得良好二 J 、兀醇的具體例子可以列舉出:甲醇、乙醇、 1-丙醇、異丙醇、烯丙醇、苄 乙私 二醇單乙醚、丙二醇單f二^甲基,_乙醋、丙 單甲醚、乙二醇單乙醚,、:丙二醇早乙醚、二丙二醇 二甘醇單㈣單㈣、二甘醇單乙醚、
I 二甲其卑# 二冰片、麥牙糖醇、芳樟醇、松油醇、 了土卞土甲I?、乳酸乙酉旨、縮水甘油、 氧雜環丁烷等。 土JIT丞 醇if選異丙醇、苄醇、甲基丙烯酸羥乙酯、丙二 ::早义-乙基羥甲基氧雜環丁烷。使用苄醇時,所 件塗膜變得平坦,因此優選。 才 (6)其他原料 々a使胺丙基二甲氧基糾完、3_胺丙基三乙氧基石夕 、凡3胺丙基甲基二曱氧基石夕烧、3_胺丙基甲基二乙氧基 ,4胺丁基二甲氧基矽烷、‘胺丁基三乙氧基矽烷、 三月2丁基甲基二乙氧基矽烷、對胺苯基三曱氧基矽烷、對 f苯基二乙氧基矽烷、對胺苯基甲基二甲氧基矽烷、對胺 f基甲基—乙氧基②烧、間胺苯基三甲氧基々烧以及間胺 ,,甲基—乙氧基矽烷等含有矽烷的單胺或4_胺基苯甲酸 荨含有羧基的單胺與分子末端具有酸酐基的該聚醯胺酸反 γ則έ有所彳于化合物(B)的喷墨用墨水形成的塗膜的财化 孥性得到改善,因此優選。 (7)反應條件 57 200829658 25759pif 化合物⑼,優選使具有兩個或兩個以上酸肝基的化合 物_的⑽〜!.〕莫耳無水物與二胺㈣的】莫耳胺基反應 ,到,更優選使G.9〜U莫耳上述無水物與二胺‘的; 吴耳胺基反應而得到。 化合物(B)的合成反應中使用的溶劑沒有特別限定,優 選能夠溶解化合物(B)的溶劑。 用於合成化合物(B)的反應溶劑可以列舉如··二甘醇二 f '1 甲轉、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、二甘^單乙[ 乙酸醋、乙二醇單乙鱗乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、3_ 甲氧基丙酸甲酉旨、3-乙氧基丙酸乙醋、環己酉同、Ν_甲基-2_ 吡咯烷酮以及Ν,Ν-二曱基乙醯胺等。其中優選:丙二醇單 曱趟乙酸酯、3-曱氧基丙酸甲g旨、二甘醇甲基乙基驗以及 N-甲基-2-吼嘻烧酮。 上述反應溶劑可以單獨使用,或者以兩種或兩種以上 的混合溶劑使用。除了上述反應溶劑以外,也可使用小於 等於50 wt%的比例混合使用其他溶劑。 若相對於二胺(M)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化 合物(b2)以及任意包括的一元醇、單胺等總計1〇〇重^份, 使用大於等於1〇〇重量份的反應溶劑,則合成反應平穩進 行,因此優選。反應可以在40°C〜20〇。(:下進行〇·2〜20 小%。使含矽烷的單胺反應時,可以在二胺(bl)與具有兩 個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)的反應結束後,將反應 液冷部至40 C或40°C以下,之後添加含石夕烧的單胺,在 10〜4〇t:下反應〇·ΐ〜6小時。 58 200829658 25759pif 反應應說明的是,可叫聚醯麟(b)中添加—元醇來進行 (8)向反應系統内添加反應原料的順序 =反應系統内添加反應原料的順序沒 限定。 =可以使訂述任1方法:將 兩=酸:基的化合物(啊添W 一胺Ο3〗)〉谷解於反應溶齊彳中, 上酸酐基的化合物(b2); =加具有兩個或兩個以 基的化合綱溶解於反二:有兩個或兩個以上酸酐 法。 反應洛劍中,之後添加二胺(M)等方 ϋ 化合物 本發明之喷墨用墨水中, ' =物⑷具有式⑴和式(2二=括== 水中包括化合物二s 特別是聚輕麟㈣密糾⑼,基板、 (1)化合物(A)所包括的構成 上述式(1)和式(2)中,Rl分 的有機基團,但是此^為農/j表不石炭原子數為2〜⑽ 合物的祕,優選㈣上㈣基的化 聚物殘基。上述式⑴和式或苯乙參馬來酸酐共 數為2〜100的有機基團,但和&分別表示藏原子 元經基化合物殘基,優選為二 1醇殘^胺殘基;R3為多 一方面,從本發明之嘴墨u 慮,優選高分子量者;另一方心 &的耐化學性方面考 面’從相對於溶劑的溶解性 200829658 25759pif 方面考慮,優選低分子量者,因此該聚酯_聚醯胺酸的重量 平均分子量優選為1,〇〇〇〜500,000,更優選為2,〇〇〇〜 200,000 〇 本發明中,喷墨用墨水中的化合物(A)的濃度沒有特別 限定,優選為〇·1〜50 wt%。當其濃度為〇·5〜2〇 wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,易於以射出進行塗佈,因此優選。 (2)化合物(A)的製備方法 f
本發明之噴墨用墨水所包括的化合物(A),例如,至少 使多兀羥基化合物(al)、二胺(a2)與具有兩個或兩個以上酸 酐基的化合物(a3)反應而得到。本說明書中,多元羥基化 合物是指具有兩個或兩個以上羥基的化合物。 二利用上述方法得到的化合物,優選具有上述式〇) 和式(2)的構成單元,但並不限於具有該構成單元。 可以用於得到化合物⑷的二胺(a2),與可以用於得到 ==二胺(Μ)相同。另外’可以用於得到化合物⑷ 的具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣, =化合^)的具有兩個或兩個以上酸酐㈣綱 對可以用_^^ (3)多元羥基化合物(al) 的具 随、八;旦丨从斤 辱一甘醇、二甘醇、四甘 知刀子里小於等於1細的聚乙二醇H _ = 醇、三丙二醇、四丙二 =内—知、一丙一 刀子I小於專於1,〇〇〇的聚丙 60 200829658 25759pif 二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、i,2-戊二醇、 1,5-戊二醇、2,4-戊二醇、1,2,5-戊三醇、1,2-己二醇、1,心 己二醇、2,5-己二醇、1,2,6-己三醇、1,2-庚二醇、1,7-庚二 醇、1,2,7-庚三醇、1,2-辛二醇、1,8-辛二醇、3,6-辛二醇、 1,2,8-辛三醇、1,2-壬二醇、1,9-壬二醇、1,2,9-壬三醇、1,2-癸二醇、1,1〇-癸二醇、1,2,;1〇-癸三醇、1,2_月桂二醇、U2、 月桂二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四 醇、雙酚A(商品名)、雙酚S(商品名)、雙酚F(商品名)、 二乙醇胺以及三乙醇胺、SEO-2(商品名,曰華化學(股) 製)、SKY CHDM、Ricabinol HB(以上為商品名,新日本理 化(股)製)、SILAPLANEFM-4411(商品名,CHISS0(股)製) 等。 ’ 多元羥基化合物的上述具體例子中優選二元醇,特別 是使用乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、丙二醇、二丙 二醇、三丙二醇、四丙二醇、1,4-丁二醇、i,5_,戊二醇、} 6_ 己二醇時,包括所得化合物(A)的噴墨用墨水形成的硬化膜 與聚醯亞胺基板的密合性變高,因此優選。 、 應說明的是,可以用於合成本發明之噴墨用黑水所勺 括的化合物(A)的多元經基化合物(al),並不限於本★兒明责 的多元羥基化合物,在達到本發明之目的的範圍内,可: 使用其他各種形態的多元羥基化合物。 ^ 另外,可·以用於合成本發明之噴墨用墨水所包括 合物(A)的多元羥基化合物(al),可以單獨使用一種、、化 是兩種或兩種以上組合使用。即,作為兩種或兩種以 61 200829658 /3ypif 讀基化合物的組合.,可以使用:上述多元經基化合物之 間的組合;上述多元羥基化合物與除其之外的多元羥基化 合物的組合;或者除上述多元羥基化合物以外的多元羥基 化合物之間的組合。 (4)一元醇 士當本發明中使用的化合物(A)在分子末端具有酸酐基 時,優選添加-元醇。可使用的一元醇與用於合成化合物 (B)的一元醇相同。 ' (5)其他原料 與化合物(B)—樣,若使上述作為具體例子而列舉的含 矽烷的單胺或4-胺基苯甲酸等含羧基的單胺與分子末端具 有酸酐基的化合物(A)反應,朗得ffLjc形成的硬化 膜的耐化學性得到改善,因此優選。 (6)反應條件 化合物(A) ’優選使二胺(a2)的〇」〜1〇莫耳胺某、具 有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(&3)的丨〜忉莫&益^ ί 物與多元經基化合物⑹的!莫耳經基反應而得到。S 物(A) ’更優選使二胺(a2)的〇.2〜5莫耳胺基、具有兩個^ 兩個以上酸酐基的化合物(a3)的U〜6莫耳無水物與多元 經基化合物(al)的1莫耳羥基反應而得到。 上述反應中使用的溶劑沒有特別限定,優選能夠溶解 化合物(A)的溶劑,具體而言,可以使用與用於合成化合物 (B)的反應溶劑相同之溶劑。 口 若相對於多元經基化合物(ai)、Ka2)和具有兩個或 62 200829658 25759pif 兩個以上酸酐基的化合物(a3)以及任意包括的一元醇、單 胺等總計1〇〇重量份,使用大於等於100重量份的反應溶 劑,則合成反應平穩進行,因此優選。反應可以在4〇。〇〜 20CTC下進行〇.2〜20小時。
使含矽烷的單胺反應時,可以在多元羥基化合物(al) 與二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)反 應結束後,將反應液冷卻至4CTC或4CTC以下,之後添加含 矽烷的單胺,在l〇°C〜4〇t:下反應〜6小時。優選將 一元醇與多元經基化合物同時加入。 (7)向反應系統内添加反應原料的順序 向反應系統内添加反應原料的順序沒有特別限定。 即,可以使用下述任-種方法:將多元錄化合物(al)、 二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)同時 加入到反應㈣巾;將二胺(a2)和多元減化合物⑹溶解 於反應溶劑中,之後添加具有兩個或兩個以上酸酐基的化 合物(a3);預先使多祕基化合物⑷)與具有兩個或兩個以 上酸酐基的化合物(a3)反應合成共聚物,之後向此丘聚物 中添加二胺卿以及預先使二胺㈣與具有兩個或兩個以 上酸酐基的化合师3)反應合成料物,之後向此共聚物 中添加多元經基化合物(al)等方法。 2.3聚酯聚醯亞胺化合物 私Γ 嘴 水,可以包括聚^聚酿亞胺化合 物。XKS曰-聚亞版化合物,例如可以藉由將化合物⑷醯 亞胺化而制。聚醯亞祕,例如藉由將化合物⑷於· 63 200829658 25759pif 3〇〇°C下加熱1〜20小時等來進行 2ΛΜΜΜΜΜ 奉杳明之喷墨用墨水,還可以包 明中使用的環氧樹脂(D),只要具有環氧旨(D) °本發 別限定,«具有兩個或峡m二沒有特 環氧樹剛可以列舉如:物 =聚合物、以及具有縣w之單體與其鱗體的共ί 環氧樹脂(D)的具體例子可以列舉出: 「肥⑽蘭」、「職〇伽5」、「Epic〇AT^名
「EPICOAT827 ,、上诫 $ ⑻士- AA 」 丄迷式(8)衣不的化合物
J 「EPICOAT828」、「EPIC0AT19()P」、「EPIC0AT191p C以上,油化Shdl Epoxy (股)製)、商品名Γ Epic〇AT1 〇〇4」 「EPICOAT1256」(以上,japanEp〇xy Resin(股)製)、商品 名「Arardite-CY177」、上述式(5)表示的化合物
「Arardite-CY184」(日本CibaGaigy(股)製)、上述式⑹表 示的化合物即商品名「Ceroxide 2021P」、「EHPE_3150」 (DAICEL化學工業(股)製)、上述式⑺表示的化合物即商品 名「TECHMOREVG3101L」(三井化學(股)製)等。 其中,使用上述式⑻表示的化合物「EPICOAT828」、 上述式(5)表示的化合物「Arardite-CY184」(日本CibaGaigy (股)製)、上述式(6)表示的化合物即商品名「Ceroxide2021P」 (DAICEL化學工業(股)製)、上述式⑺表示的化合物即商品 64 200829658 25759pif 名「TECHMORE VGMOIL」(三井化學(股)製)時,由嗔墨 用墨水所得的塗膜的耐熱性良好,因此優選。 用於得到環氧樹脂(D)的具有環氧乙烷之單體的具體 例子可以列舉出:(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、3,4_環氧環己 基(甲基)丙烯酸酯以及(甲基)丙烯酸曱基縮水甘油酯。 與具有環氧乙烷之單體進行共聚以得到環氧樹脂(D) 之其他單體的具體例子可以列舉出:(甲基)丙烯酸、(曱基) 丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲 基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(曱基)丙烯酸第三 級丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基) 丙稀酉欠2-每乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、苯乙稀、甲基 苯?烯、氯甲基苯乙烯、(3·乙基環氧丙烧基)曱基(甲基) =烯酸酯、N-環己基馬來醯亞胺以及队苯基馬來醯亞胺 可以用作環氧樹脂(D)的、具有環氧乙烷之單體的聚合 物的優選频例子可關料:聚?基丙職縮水甘油: (P〇ly glycidyl methacrylate,PGMA)等。可以用作環氧樹脂 的、具有環氧乙烷之單體與其他單體的共聚物的優選呈體 例子可以列舉出:甲基丙烯酸甲I甲基_酸縮水甘油酯 共聚物、甲基丙烯酸苄酯-曱基丙烯酸縮水甘油酯妓聚物、 :基丙烯酸丁酯-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、曱基丙烯 ,乙酷-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、(3_乙基^_環 =丙垸基)甲基甲基丙烯酸酯1基丙烯酸縮水甘油醋丑聚 物以及苯乙烯-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物。 、 65 200829658 25759pif 二了使:喷,水所得的硬化膜的耐熱性變得良 好’本發明巾,m脉Μ縣魏喊度優選〇1 〜20 wt%,更優選〇·2〜10 wt%。 2.5產酸劑(E) 本發明之喷频墨水包域酸 對於產酸劑⑹而言,優選在熱硬化性組成物中均勾溶 J隊Γ使喷墨用墨水分解’也錢噴11用墨水之覆膜透明 性降低的物質。產酸删可以列舉如 族蛾鑌⑽_m)鹽、二芳基硬鐵鹽等: 鹽、續酸的祕f基酯等_子性起始十 -寺知 本發明中,喷墨用墨水中的產酸劑^的濃度 牙於10 wt%,更優選小於等於5 wt%。 ’、; 2.6溶劍 本發狀喷墨用墨水,可轉—步包括溶劑 中使用的溶劑,只要能夠溶解含氟化合 ^ (C,)、化合刪、化合物㈧、環可、:: 特別限定。 /又有 上述溶劑例示如下。相對於化合物( 讎劑的非質子性極性有機溶劑的例子可以°物(A)為 基f各烧酮、二甲基,邮甲基己=胺N-甲
Jr_、N,N-二乙基甲_、二乙基乙二 用於改善塗佈性等的溶劑的例子可以列舉出:乳酸貌 66 200829658 25759pif 基酯、3_曱基-3-甲氧基丁醇、萘滿、異佛爾酮、乙二醇單 丁醚等乙二醇單烷基醚;二甘醇單乙醚等二甘醇單烷基 醚;乙二醇單烷基乙酸酯或乙二醇單苯基乙酸酯、三甘醇 單烷基醚、丙二醇單丁醚等丙二醇單烷基醚;丙二酸二乙 酯等丙二酸二烷基酯;二丙二醇單曱醚等二丙二醇單烷基 醚;上述乙酸醋類等酯化合物。上述溶劑中,可以特別優 選使用:N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基咪唑烷酮、γ-丁内脂、 乙二醇單丁醚、二甘醇單乙醚、丙二醇單丁_、二丙二醇 單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、二甘醇曱基乙基醚、3-曱 氧基丙酸曱酯等。 溶劑可以僅使用一種,還可以是兩種或兩種.以上混合 使用。溶劑的使用比例優選為:使喷墨用墨水中除溶劑以 外的成分的濃度為2〜100 wt%。 2.7自由基聚合性單體 本發明之喷墨用墨水,還可以包括自由基聚合性單 體。本發明中使用的自由基聚合性單體,只要是具有自由 基聚合性雙鍵的化合物即可,沒有特別限定。1分子中可 以具有一個自由基聚合性雙鍵,也可以具有兩個或兩個以 1分子中具有一個自由基聚合性雙鍵的自由基聚合性 單體的具體例子有:(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、 肉桂酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸、甲基馬來酸、中康酸、 單(甲基)丙烯酸〇>羧基聚己酸内酯、琥珀酸單[2-(甲基)丙 烯醯氧乙基]酯、馬來酸單[2-(曱基)丙烯醯氧乙基]酯、環 67 200829658 25759pif =稀-3,4_二甲酸單[2_(f基)_醯氧 :縮水侧、(甲基)两稀酸甲基縮 、 動旨、”基·聰)丙觸= 規(甲甲基)丙稀酿氧甲基氧雜環丁 乙縣甲苯、氣甲=穴丁焼、苯乙稀、甲基苯乙稀、 酉旨、(甲基)丙_平異^51基()==、/甲基)丙婦㈣ 烯酸環己酉旨、(甲幻」(甲基)丙細酸甲醋、(甲基)丙 (f 〇 ^烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、 嘛勒旨、爾謂 甲基丙稀酸甲醋;二烯大分子單體、聚 丙_㈣丁酿、早^嗎琳、茚、(甲基) 環已;完=甲醇單(甲基縮水編、… 由基聚合性ϋιι或兩個以上自由基聚合性雙鍵的自 -、二甘醇二 ==有甲以 酯、甲氧基聚乙-醇基一甘辱(甲基)丙烯酸 酸酉旨、甲氧基三=基)丙騎醋、三甘醇二(甲基)丙烯 酸酉旨、聚乙二基)丙稀酸醋、四甘醇二(甲基)丙烯 基)内稀_旨、壬丙^酸輯:壬基笨氧基乙二醇(甲 氯兩貌改性乙氧基♦乙一醇(甲基)两稀酸醋、環氧 —醇二(甲基)賴酸S旨、環氧氯狀改性二 68 200829658 25759pif 甘醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性三甘醇二(甲基) 丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、環 氧氯丙燒改性聚乙二醇二(甲基)肉缔酸酯、丙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、曱氧基二丙二醇 (甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二 (甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙稀酸酯、壬基苯氧基 聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性丙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性二丙二醇二(甲基)丙烯酸 酯、環氧氯丙烷改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯 丙烷改性四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性聚 丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸 醋、環氧乙炫改性三羥甲基丙院三(甲基)丙烯酸酯、環氧 丙虼改性二羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改 性三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、乙氧化三羥曱基丙烷 ^(甲基)丙烯酸酯、丙氧化三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸 酉曰、二三羥曱基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羥曱基丙烷四 (甲基)丙烯酸酯、四羥甲基曱烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲 基甲文元四(甲基)丙烯酸酯、甘油丙烯酸曱基丙烯酸酯、甘 油一(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷 改性甘油三(曱基)丙烯酸酯、丨,6_乙二醇二(甲基)丙烯酸 酉曰環氧氯丙烧改性1,6-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲氧 化%己基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(曱基)丙烯酸酯、 =基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性羥基 寸戊酉欠才斤戊二醇一(甲基)丙稀酸酯、二甘油四(甲基)丙婦酸 69 200829658 25759pif 醋、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸 醋、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四(甲基) 丙稀酸g旨、丙氧化季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、硬脂酸改 性季戊四醇二(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸 酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二 季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、己内酯改性二 f ^戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸 酯、烯丙基化環己基二(▼基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯 氧^新戊二醇]己二酸酯、雙酚A二(曱基)丙烯酸酯、環氧 ^浼改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯 曰、%氧乙烷改性雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲 基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚S二(曱基)丙烯酸酯、i,4- =二醇二(甲基)丙烯酸酯、、甲基-1,5-戊二醇二(甲基)丙烯 酸醋、1,9-壬二醇二(曱基)丙烯酸酯、2,4_二乙基戊二 …醇了(曱基)丙烯酸酯、1,3_丁二醇(甲基)丙烯酸酯、二環戊 i 基一丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環 ^浼改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、己内酯/環氧乙烷改性 4酉欠一(甲基)丙烯酸酯、己内酯/環氧乙烧改性磷酸三(曱基) 丙烯酸fe、%氧氯丙烷改性鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸 酉曰、四溴雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯 酸酯、新巧二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三 [(甲基)丙烯fe氧乙基]異氰脲酸酯、己内酯改性三[(甲基) 丙烯醯氧乙基]異氰脲酸g旨、(甲基)丙稀酸化異氰脈酸醋、 70 200829658 25759pif 聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、2-羥基4 3_二甲 烧、2,2.(甲基丙烯喊基乙“ [4·(甲基丙稀酿氧基.二乙氧基)笨基]丙燒、 丙烯醯氧基·聚乙氧基)苯基]丙烷、,又I /甲基 二乙氧基關丙烧、2,2-雙[4-(輪氧二· 丙烧、2-經基小丙烯_基-3_甲基‘二:=] 環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三产八孔基丙烷、^ 丙烯酸酯、2,2-加氫雙[4-(丙烯醯氣^^曱醇甲基) 烧、2,2-雙[4-(丙烯醯氧基.聚丙氣基二二氧基)苯基]丙 三(乙烧丙烯酸酯)、異氰脲酸三缚^丙燒:兴氛脲酸 六氫-s_三嗪、三婦丙基+3,5.笨甲^、:^三_酿基 酸三稀丙酯、顧三烯㈣、-2Sg 胺、枸櫞 二烯丙基二甲基魏、二稀丙;妥、二烯丙胺、 間苯二曱酸二稀丙g旨、對苯二=、—稀丙基謎、 -^ 0 _ 次一烯丙酯、1,3-二烯丙 虱基_2_丙醇、二烯丙基硫醚、馬來酸二 丙基雙酚二(甲基)丙烯酸酯等。 -曰、,-兴亞 而且,自由基聚合性單體可以是具〜 丙烯醯基的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。、古— (土〉 丙稀嶋動(曱基旨切^ H U-15HA、同 U-4H 以及同 U-6H。 =自由,合性單體可以單獨使用,也可以是兩種 或兩種以上混合使用。 若添加自由基聚合性單體,則由喷墨用墨水所得的塗 200829658 25759pif 膜的耐熱性變得良好,因此本發明中,喷墨用墨水中的自 由基聚合性單體優選為0」〜90 wt%,更優選為0.2〜80
Wt〇/o。 2·8光聚合起始劑 本發明之噴墨用墨水,可以進一步包括光聚合起始 劑。本發明中使用的光聚合起始劑,只要是藉由紫外線照 射可以引發自由基聚合性單體的聚合反應的化合物即可, 沒有特別限定。 本發明中使用的光聚合起始劑,例如有:二苯曱酮、 米歇勒酮(Michier’sketone)、4,4'雙(二乙胺基)二苯曱画、 咕ϋ酮(xanthone)、售嘲酮、異丙基咕嘲酮、2,4-二乙基售 噸酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥 基-2-曱基-4’-異丙基笨丙S同、1-經基孩己基二苯甲嗣、異 丙基苯偶姻醚、異丁基苯偶姻醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、 2,2-二曱氧基-2·苯基苯乙酮、camphaquinone、苯並蒽酮、 2-甲基-1 - [4-(甲硫基)本基]-2-嗎淋代丙烧-1 -S同、2 -卞基-2, 二曱胺基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1,4-二甲胺基苯甲酸乙 酯、4-二甲胺基苯甲酸異戊酯、4,4’-二(第三級丁基過氧羰 基)二苯甲酮、3,4,4,-三(第三級丁基過氧羰基)二苯甲酮、 2,4,6-三甲基苯曱醯基二苯基氧化膦、.2-(4’ -甲氧基苯乙烯 基)-4,6-雙(三氯甲基)+三嗪、2-(3’,4’-二曱氧基苯乙烯 基)_4,6_雙(三氯甲基三嗪、2_(2’,4’-二曱氧基苯乙烯 基)_4,6-雙(三氯甲基;hs-三嗪、甲氧基苯乙烯基>4,6-雙(三氯甲基:hs-三嗪、2-(4’-戊氧基苯乙婦基)_4,6_雙(三氯 72 200829658 25759pif 甲基)-s_三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧羰基曱基)}-2,6-二(三氯甲 基)*"S-二σ秦、1,3-雙(二氯甲基)-5-(2’-氯苯基)-s-二嘻、1,3_ 雙(三氯甲基)-5-(4甲氧基苯基)-s-三嗪、.2-(對二甲胺基苯 乙烯基)苯並噁唑、2-(對二甲胺基苯乙烯基)苯並噻唑、2-巯基苯並噻唑、3,3’-羰基雙(7-二乙胺基香豆素)、2-(鄰氯 苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’_雙(2_氯苯 基)_4,4’,5,5’-四(4-乙氧羰基苯基)-1,2’-二咪唑、.2,2,-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2,_二咪唑、2,2’-雙(2,4-二溴 苯基)_4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、.2,2’-雙(254,6-三氯苯 基)_4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、3-(2-甲基-2-二甲胺基丙 醯基)噚唑、3,6-雙(2-曱基-2-嗎啉代丙醢基)-9-正十二烷基 噚唑、1-羥基環己基二苯甲酮、雙(η5-2,4-環戊二烯小基)-雙(2,6-二氟-3_(1Η^比咯小基)_苯基)鈦、下述通式(2)表示的 化合物、2-曱基-1-[4-(甲石,u基)苯基]-2-嗎淋代丙燒-1-嗣、 以及2 -卞基-2-二曱胺基-1 -(4_嗎琳代苯基)-丁嗣-1、1,2 -辛 二酮小[4-(苯硫基)苯基]-2-(對苯甲醯肟)等。上述光聚合起 始劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩種以上混合使用。 其中,若光聚合起始劑為選自下述通式(9)表示的化合 物、1,2_辛二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]_2-(0-苯曱醯肟)、2-甲 基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲 胺基-1_(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1中的一種或一種以上,則靈 敏度高,因此優選。 73 200829658 25759pif r9i—〇—〇—y
II ,c—O-O—R92 -c- c II 〇 c~x92-r94 It o
II 〇 、 w (9) 為 (式中,R9〗、R92、R93以及R94分別獨立表示瘦原子數 〜13的烷基;X9]以及X92分別獨立表示_〇_、 或-ΝΗ-)。 上述通式(9)表示的化合物,例如有:3,3,,4,4、四(第三 過氧化羰基)二苯甲酮、3,3,,4,4、四(第三級已基過i 基過㈣基)二苯甲酮、4,4,·二(甲氧錄)_3,3 、、及丁基過氧化羰基)二苯甲酮等。 一 種以起始劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩
V 墨水,藉由昭射》=:自,基聚合性單體兩者的噴墨用 選。-料、外線而件到硬化膜,製程簡化,因此優 本發明中,噴墨用墨水中 〇·01〜1Gwt%,更優選G.G2〜5wt%r ϋ的濃度優選 本發明之噴墨用墨水 (C’),而且’根據目標特性,本發明之口物(。)或共聚物 據需要還可以選擇添加界面活性劑、抗靜^墨水中,根 '巧褐合劑、 74 200829658 25759pif 環氧硬化劑、胺基石夕:i:完化合物、溶劑、其他添加副’並將 其均勻混合溶解而得到。 (1)界面活性劑 例如,當希望提高噴墨用墨水的塗佈性時,可以添加 遵循此目的之界面活性劑。本發明之喷墨用墨水中所添加 的界面活性劑的具體例子可以列舉出:商品名「Byk-300」、 「Byk-306」、「Byk-335」、「Byk-310」、「Byk-341」、 「Byk-344」、「Byk,370」、(BICK,CHEMI(股)製)等矽系 (silcone)界面活性劑;商品名rByk_354」、「ByK-358」、 「Byk、36l」(BICK · CHEMI(股)製)等丙烯酸系界面活性 劑,商品名「DFX_ 18」、「ftergent 250」、「ftergent 251」 (NEOS(股)製)等氟系界面活性劑。 ^上述界面活性劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩 種以上混合使用。 力淨二t j是用於提高對底層基板的潤濕性、平坦'1 =1:質,喷墨用墨水中優選添力一〜 (2)抗靜電劑 限定本添加的抗靜電劑沒有特另 總气几处 吊的抗靜電劑。具體可以列兴屮·〆 錫、乳化錫·氧化録複合氧化 歹J牛出·偏 物等金屬氧化物或第四_鹽# 锡.社銦複合- 上述抗靜電劑可以僅 以上混合使用。 ’也可以是兩種或兩稽 200829658 25759pif 抗靜電劑是用於防止帶電的物質,喷墨用墨水中優選 添加使用0.01〜1 wt%的抗靜電劑。 (3)耦合劑 本發明之喷墨用墨水中可以添加的耦合劑沒有特別限 定,可以使用通常的耦合劑。所添加的耦合劑優選矽烷耦 合劑,具體可以列舉出:三烷氧基矽烷化合物或二烷氧基 矽烷化合物等。可以優選列舉如:γ-乙烯基丙基三曱氧基 矽烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基甲基 二甲氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯 基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三乙氧基矽 烷、γ-甲基丙烯醯基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯 醯基丙基三曱氧基矽烷、γ-曱基丙烯醢基丙基曱基二乙氧 基矽烷、γ-曱基丙晞醯基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油 氧丙基甲基二曱氧基矽烷、γ-縮水甘油氧丙基三曱氧基矽 院、γ-縮水甘油氧丙基甲基二乙氧基石夕烧、γ-縮水甘油氧 丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基曱基二甲氧基矽烷、γ-胺丙 基三曱氧基矽烷、γ-胺丙基曱基二曱氧基矽烷、γ-胺丙基 三乙氧基矽烷、Ν-胺乙基个亞胺基丙基甲基二曱氧基矽 烧、Ν-胺乙基-γ-胺丙基二甲氧基碎烧、Ν-胺乙基-了-胺丙基 二乙氧基梦娱*、Ν-苯基-γ-胺丙基二甲氧基珍炫、Ν-苯基 胺丙基二乙氧ί基梦炫、Ν-笨基-γ-胺丙基甲基二甲氧基梦 烧、Ν-苯基-γ-胺丙基曱基二乙氧基梦烧、γ-疏基丙基甲基 二甲氧基石夕焼、y-胺丙基三曱氧基石夕燒、γ-魏基丙基曱基 二乙氧基矽烷、γ-巯基丙基三乙氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙 76 200829658 25759pif 基曱基二乙氧基碎院、γ-異氮酸酯丙基三乙氧基梦烧等。 其中可以列舉出:γ-乙烯基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯 基丙基三甲氧基矽烷、γ-曱基丙烯醯基丙基三曱氧基矽 院、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基石夕烧等。 上述麵合劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩種以 上混合使用。 喷墨用墨水中,優選添加使用0.01〜3 wt%的耦合劑。 (4)環氧硬化劑 本發明之喷墨用墨水中可以添加的環氧硬化劑沒有特 別限定,可以使用通常的環氧硬化劑。具體可以列舉出: 有機酸二醯肼化合物、咪唑及其衍生物、雙氰胺、芳香族 胺、多元羧酸、多元羧酸酐等。更具體而言,可以列舉出: 雙氰胺等雙氰胺類;己二酸二醯肼、1,3-雙(肼基羧乙基)-5-異丙基乙内醯脲等有機酸二醯肼;2,4-二胺基-6-[2'乙基咪 唑基-(Γ)]乙基三嗪、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥曱基咪唑等咪唑衍生物;鄰苯二甲酸酐、 偏苯三酸酐、1,2,4-環己烷三甲酸-1,2-酐等酸酐等。其中優 選透明性良好的偏苯三酸酐、1,2,4-環己烷三曱酸-1,2-酐。 上述環氧硬化劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩 種以上混合使用。 喷墨用墨水中優選添加使用0.2〜5 wt%的環氧硬化 劑。 (5)胺基矽烷化合物 本發明之喷墨用墨水中,可以添加胺基矽烷化合物。 77 200829658 25759pif 胺^餘^物可以轉出:對胺笨基三f氧基魏、對 胺苯,三乙氧基魏、間胺苯基三甲氧絲[間胺苯基 一乙氧基奶1、胺丙基二ψ氧基糾完、胺丙基三乙氧基石夕 烷等。 上述胺基石夕烧化合物可以僅使用一種,也可以是兩種 或兩種以上混合使用。 月女基石夕:Μ匕合物是用於使墨水與基板的密合性良好的
物質,噴墨用墨水中優選添加使q.Q5〜2 wt%的胺基石夕 院化合物。 的塗佈 本發明之噴墨用墨水,可以用於喷墨塗佈方法,上述 =巧方法包括以公知的射出方法進行塗佈的製程。喷 '土、土佈力〜例如有H、水料動能以塗佈墨水的方法; 以及f墨水施予熱能以㈣墨水的塗佈方法等。 时墨塗佈方法,可以將噴墨用墨水塗佈成預 ,二木 < 自此’ %夠僅於所需位置塗佈墨水,從而降 低成本。 本發明之墨水進㈣料所優翻塗佈裝置(unit) 二你二^ ί備I纟社述墨水的墨水收容部和塗佈磁頭的 &佈裝置可列舉如··根據塗佈信號對墨水施予 熱此涂;彻上述能量產生墨水液滴的塗佈裝置。 1八^ ^ =如有·具有含金屬及/或金屬氧化物的發熱 子可以列舉如:Ta、Zr、^屬及/或金魏化物的具體例 Τι、Νι或A1等金屬或這些金屬 78 200829658 25759pif 的氧化物等。 詩H本發明之墨水進行塗佈的塗佈裝置可以列舉如: 墨水收容i液滴的裝置,上述塗佈磁頭具有收納墨水的 形式:置並不限於塗佈磁頭和墨水收容部為分體 八μ Γ &衣置’也可以使帛塗佈萄和墨水收容部不可
::地成 體的塗佈裝置。墨水收容部可以和塗佈磁頭 刀· 2者兩者不可分離地成為一體而搭載在承載器 carnage)上,除此之外,射以將墨水收容部設置在 的固定部位上,藉由墨水供給構件例如導管, 磁 供應墨水。 〃一师磁项 成 使用公知的噴墨塗佈方法,向基板等基材的表面 本發明之贺墨用墨水,使用熱板或烘箱等進行加熱除去溶 浏,彳之而可以在所需的基板表面範圍内形成塗臈。加埶 件因各成分的種類及配比而不同,通常在7(rc〜i2^g 下,使用烘箱加熱5〜15分鐘或使用熱板加熱丨〜八 而形成塗膜。 〇刀知 形成塗膜後,根據需要對該塗膜照射紫外線,並、隹一 步在150°C〜250°C、優選160。(:〜23CTC下,使用烘从 處理5〜30分鐘或使用熱板加熱處理2〜20分鐘,口…、 到本發明之硬倾。 1 *而得 基材沒有特別限定,可以列舉如:聚對笨_ 〜τ酸λ - 79 200829658 25759pif 醇酷(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇@旨 聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂;聚^ 寻:^曰糸树脂; ;系樹脂、綱、聚抓 $、乙_旨、金㈣、具有填充效果的朗麵紙、 ^或以聚乙烯、黏土(day)黏合劑、聚乙稀醇、殿粉 :基纖維素(CMC)料行了填域理的崎。應說明的 $ ’構成上述基材的物質巾,在不損及本發明效果的 ,:T可以包括」顏料:染料、抗氧劑、抗劣化劑、填充 θ、I外線吸收制、抗靜電劑及/或防電磁波劑等添加劑。 上述基材的厚度沒有特別限定,通常為10pm〜2mm 、:右,根據使用目的而適當調整,優選15〜500 μηι,更優 % 2〇 〜200 μπι。 、/上述基材的用於形成硬化膜的面,可以使用根據需要 進订了電暈處理、等離子體處理、噴砂處理等易黏合處理 的面、以及表面設有易黏合層的面。 \ 實施例 、,以下,藉由實施例及比較例來說明本發明,但本發明 龙不受限於這些實施例。 實施例及比較例中使用的含氟化合物(C)、二胺、具有 兩個或兩個以上酸酐基的化合物及溶劑的名稱以略語表 示。以下記述中使用此略語。 全氟化含物(C)
下式(30)表示的化合物(γ_甲基丙烯醒氧丙基七(三氟 兩基>Τ8-倍半矽氧烷):F-PSQ 80 200829658 25759pif
Rf
Si Sii、 Si Rf Rf
fV kglf〇c
Rf
Rf! C2H4CF3 (30) 二胺
4,4’-二胺基二苯醚:APE
3,3’-二胺基二苯砜:DDS
具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物
偏苯三酸二酐:PMDA 3,3,,4,4’-二苯醚四甲酸二酐:00?入 溶劑 N-甲基-2-吼口各:!:完酮·· NMP 二甘醇甲基乙基醚·· EDM [合成例1]共聚物(C’)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的300 ml四頸燒瓶中,裝入150 g的2_丁酮(2_butanone), 加熱至回流狀態。再將下述成分: 2-丁酮 50.0 g F-PSQ 10.0 g 甲基丙烯酸縮水甘油酯 40.0 g 2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈) 2.0 g 混合溶解,且用.2小時滴加所得試劑,滴加結束後再 回流2小時。 冷卻後,將反應液加入到2 L己烧中,生成沉澱,棄 去上層澄清液,之後在40°C下真空乾燥10小時。然後, 81 200829658 25759pif 利用混合器將所得乾燥聚合物進行粉碑,在4〇。匚下進+ 真空乾燥15小時,得到41·3 g的F-PSQ與甲基丙烯酸 水甘油酯的共聚物(以下稱作共聚物1)。利用Gpc測^兮 共聚物,以聚氧乙稀為標準,該共聚物的重量平均八子b Mw為5,200。 刀里 [合成例2]化合物(B)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的1000 ml四頸燒瓶中,裝入21·81 g的PMDa、的1=7 的APE以及400 g的脫水純化的NMP,且在乾燥氮氣炙 下於25 C攪拌30小時。然後,向該反應液中加入^ ^ 的脫水純化的NMP,在60°C下攪拌8小時,得到淡普g 透明的化合物(B)的5 wt%溶液(以下稱作PA酸溶液 溶液的黏度為38 mPa.s(E型黏度計,25。〇。利用GPc ^ 定所得化合物(B),其重量平均分子量為41,〇〇〇。 測 [合成例3]化合物(A)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的500 ml四頸燒瓶中,裝入65 〇〇 g的〇DpA、Μ* & = 丁二醇以及1U·66 g的脫水純化的NMP,在乾燥氮氘 氣抓下於13GC攪拌1小時。然後,將此反應液冷卻至 c,向冷卻的反應液中加入26 〇1 g DDS和122·72名脫水 純化的NMP,乾燥氮氣流下於4〇t攪拌2小時。之後, 再加入167.42 g脫水純化的NMp,並進行攪拌,得到淡黃 82 200829658 25759pif 。所得化2awt%溶液㈨下稱作PE-PA酸溶液 i)所付化合物⑷的溶液黏度為 = 定所得化合物(A),並重1 mPaS。利用GPC測 ;一垔里千均分子量為14,000。 的合^朗4]未使料⑴表示的化合物而制的聚合物 ,了使用曱基丙稀酸曱酉旨代替F_psQ以外,利用與合 成例1相同的條件,得至“ 2.2 g的甲基丙稀酸甲醋與甲基 _酸縮水甘油_絲物(以下稱作共㈣2)。所得聚合 物的重量平均分子量“〜為4,5〇〇。 [實施例1] ,氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成分 fPSQ 1 〇 σ 丙烯酸4-羥丁酯 8 〇 3 CEROXIDE 2021Ρ ' 1.0 g 90.0 g (DAICEL化學工業(股)製,上述式⑹ 的環氧樹脂)
EDM 如此操作所得的溶液,用〇·2μιη的氟樹脂製薄膜過濾 器過濾,製備喷墨用墨水。 將此贺墨用墨水注入到墨水(inkjet cartridge)中,並 固定在喷墨裝置DMP-2811(商品名)(Dimatix社製)中。然 後,在聚醯亞胺膜Kapton (注冊商標)(DU PONT-TORAY(股)製,厚 150 μπι,Η 型)(以下稱作「Kapton」 基板)上整面塗佈上述喷墨用墨水。此基板經8〇。〇的熱板 83 200829658 25759pif 乾燥5分鐘後,用22叱触箱燒結3()分鐘, 發明之硬化膜的KaptGn基板。使用大轉子(賴反射八 光膜厚計FE-3_測定膜厚,此硬化膜的厚度為約㈣勝 以下,例如描繪條件設定成線的寬度與線之間的寬度皆為 ΙΟΟμιη時,簡記為線&間距的寬度設定為ω〇μιη。 接下來,將設置㈣墨裝置_墨水輯換成注入有 Cabot(股)製銀InkAG_IJ<M〇〇_sl的墨水匣,進行直線描 繪。此時,描繪條件設定成線的寬度與線之間的寬度相同。 關於線&間隔的1度設定,自1〇〇 起,以每2q 為一個等級,逐步變化至500 μιη,設定輪出電壓和頻率, 進行銀配線的描繪’使設置於上述基板上的硬化膜上形成 2 μιη的膜厚。 / 此基板經l〇〇°C的熱板乾燥5分鐘,之後用.220。(:的烘 箱燒結30分鐘,得到形成有銀配線的線&間隔圖案的 Kapton基板。用顯微鏡觀察此基板時,發現當線&間隔的 寬度設定為1〇〇〜140 μιη時,由於液體蔓延,間隔部分被 損壞;該寬度設定為大於等於160 μιη時,可以進行描繪 而不會損壞間隔部分。在此基板上貼附玻璃紙帶(JIS D〇2〇2_1988規定的玻璃紙帶,NICHIBAN(股)製CT24), 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例1] 除了使用未整面塗佈喷墨用墨水的KaPton基板進行 銀配線的描繪以外,按照與實施例1相同的條件進行銀配 84 200829658 25759pif 線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察描繪有銀配線的基 板時,發現當線&間隔的寬度設定為10〇〜28〇 μιη時,二 於液體曼延,間隔部分被損壞。在此基板上貼附玻璃紙帶 (JIS D0202-1988規定的玻璃紙帶,NICHIBAN(股)製 CT24),之後一 口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例2]
在乾燥氮氣氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成八 氟系界面活性劑NEOS(股)製DFX_18 ’、刀 丙烯酸4-經丁醋 ,§ CEROXIDE 202IP &〇g 脂) (DAICEL化學工業(股)製,上述式(6)的環氧樹h〇g 90.0
EDM g 如此操作所得的溶液,用0·2 μπι的氟樹脂製薄膜過滅 器過濾,製備噴墨用墨水。 7 除了使用該噴墨用墨水以外,按照與實施例丨相同的 條件於Kapton基板上塗佈喷墨用墨水,得到具有約% 厚的硬化膜的Kapton基板。 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描緣、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板奸 ^ 現當線&間隔的寬度設定為100〜140 μιη時,由於=體二 延,間隔部分被損壞;但是該寬度設定為大於等於|6〇更 時,可以進行描繪而不會損壞間隔部分。但是,在此美^^ 上貼附破璃紙帶(JIS D0202-1988規定的破璃紙^, NICHIBAN(股)製CT24) ’之後一口氣剝離時,銀配線大部 85 200829658 25759pif 分被剝離。 [實施例2] 在乾燥氮氣氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成分。 共聚物1 9.0 g 偏本三酸 1 · 〇 g EDM 90.0 g 如此操作所得的溶液’用〇·2 μιη的氟樹脂製薄膜過液 器過濾,製備噴墨用墨水。 使用此喷墨用墨水,按照與實施例1相同的條件於 Kapton基板上整面塗饰,得到具有約125 nm厚的硬化膜 的Kapton基板。 使用此Kapton基板5按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,旅 現即使線&間隔的寬度設定為140 μπι,也可以進行描參_ 不會損壞間隔部分。射卜,在此基板上軸 :
DO皿·携8規定的麵紙帶,NICHIB IS 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離衣CT24), [實施例3] 氣流下 溶解以下所示各成分
PA酸溶液 NMP 6.0 g 40.0 g 54.0 g 5" °'2μιη 86 200829658 25759pif 使用此噴墨用墨水,按照與實施例丨相同的條件於 Kapton基板上整面塗佈,得到具有約1〇〇腿厚的硬化膜 的Kapton基板。 、 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,考^ 現即使線&間隔的览度設定為140 μπι,也能夠進行插纷而 不會損壞間隔部分。在此基板上貼附玻璃紙帶卬s , D0202-1988規定的玻璃紙帶.,NICHIBAN(股)製^乃句, 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [實施例4] 在乾燥氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成八。 共聚物1 6.0 g 刀 ΡΕ-PA 酸溶液 1 10.0 g NMP 84.0 g 如此操作所得的溶液,用0.2 μπι的氟樹脂製薄膜過滤 器過濾,製備喷墨用墨水。 、 使用此喷墨用墨水,按照與實施例1相同的條件於
Kapton基板上整面塗佈,得到具有約75 nm厚的硬化膜的 Kapton 基板。 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,發 現即使線&間隔的寬度設定為160 μπι,也能夠進行描繪而 不會損壞間隔部分。在此基板上貼附破j离紙帶(jis D0202-1988規定的玻璃紙帶,NICHffiAN(股)製CT24), 87 200829658 25759pif 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例3] 在乾燥氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成 共聚物2 6.0 g PE-PA 酸溶液 1· 10.0 g NMP 84.0 g (
如此操作所得的溶液,用0·2μιη的氟樹脂製薄膜過濾 器過濾,製備喷墨用墨水。 使用此喷墨用墨水,按照與實施例丨相同的條件於
Kaptcm基板上整面塗佈,得到具有約8〇nm厚的硬化膜的 Kapton 基板。 使用此Kaptcm基板,按照與實施例丨相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時, 現即使線關隔的寬度設定為,_,但由於液體^ 延,間隔部分被損壞。在此基板上貼附玻璃紙帶 D0202-1988規定的破璃紙帶,NICHffiAN(股)製c , 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 本發明之喷墨用墨水,例如可以用於電子線路基 使用的聚醯亞胺絕緣膜的表面改質。 —雖然本發明已哺佳#施綱露如上,财並非 ,定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫 當可作些許之更_,因此本發= 祀圍虽視伽之巾請專職_界定者為準。 、邊 【圖式簡單說明】 88 200829658 25759pif 益 【主要元件符號說明】 益
Claims (1)
- 200829658 25759pif 十、申請專利範圍: 1·一種喷墨用墨水,包括··含氟化合物(c),上述含氟 化合物(C)是具有碳原子數為1〜100的有機基團的氟化倍 半矽氧烷。 口 2·如申請專利範圍第1項所述之噴墨用墨水,其中還 包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成單元, f? f?HOOC COOH (2) (式中,R]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜丨 機基團)。 1⑻的有 3.如申請專利範圍第2項所述之喷墨用墨水,其中化 合物(B)至少使用二胺(bi)和具有兩個或兩個以上酸酐其 的化合物(b2)而合成。 土 4·如申請專利範圍第3項所述之噴墨用墨水,其中二 胺(M)為··選自至少由4,4,_二胺基二苯颯、3,3,_二胺基二 笨砜、二胺基二苯砜、雙㈣心胺苯氧基)苯基]砜 胺苯氧基)苯基]砜、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]砜、 =苯氧基)苯基][3普胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基) 笨基][3作胺苯氧基)苯基]砜、4,4,-二胺基二苯醚、4,4,_ 了胺基二苯甲烷、3,3,—二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_七4,· 一胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、22 雙[‘(‘胺苯氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合物 所組成的組群的一種或一種以上, 90 200829658 AN—fR6 分 〇^_〒^6^_阳2 R5 R5 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為ι〜3的烷基 或苯基,R獨立表示亞甲基、亞苯基或燒基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜]〇的整數), 而具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為··選自 偏苯三酸二酐、1,2,3,4_環丁烷四甲酸二酐、丁烷四 甲酸二酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、3,3,,4,4,_二苯醚四 甲酸二酐以及3,3’,4,4’-二苯颯四甲酸二酐所組成的組群的 一種或一種.以上。 5·如申請專利範圍第2項至第4項中任一項所述之噴 墨用墨水,其中喷墨用墨水包括: 、 〇·1〜50wt%的含氟化合物(c),或具有含氟化合物(c) 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 〇·1〜50 wt%的化合物(B)。 6·如申請專利範圍第1項所述之喷墨用墨水,其中還 包括化合物具有下述通式⑴和(2)表示的構成單元: II II(式中,R、R和R3分別獨立表示碳原子數為 91 200829658 25759pif 的有機基團)。 7. 如申凊專利範圍第6項所述之噴墨用墨水, 口物⑷至錢用多兀絲化合物(al)、二胺夏2 個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 不具有兩 8. 如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,\ 有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣為:選自四ς :具 酐以及具錢酐基的聚合料體與其絲纽二酸二 物所組成的組群的一種或一種以上。 &勺共聚 9·如申請專利翻第8項所述之喷墨用墨水 令酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單體的 、具 缔-馬來酸酐共聚4勿。 4物為苯乙 一 10·如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,复夕 兀羥基化合物(al)為選自乙二醇、二甘醇、三 /、夕 醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇' 四丙二^ =、1,5·戊二醇、ι,6_己二醇、丙三醇、三經甲基丙燒、= 戊四醇以及二季戊四醇所組成的組群的一種或一種以上卞 一胺(a2)為選自4,4’_二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二# = 二胺基二苯礙、雙[4_(4-胺苯氧基)苯基]碾、^ 胺苯氧基)苯基]颯、雙[3♦胺苯氧基)苯基]礪、[4_(‘胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基)苯 基][3·(4·胺笨氧基)苯基]硪、4,4’_二胺基二苯鍵、4,4,—二胺 基一苯甲烷、3,3 二胺基二苯甲烷、3,3,·二甲基_4,4,_二胺 基二苯甲烷ν2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2_雙[4_(4_ 胺苯氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合物所組成的 92 200829658 25759pif 組群的一種或一種以上; R4 H2NH-R6^Si~〇^^fR6)_NH2 R4 或苯k大A中猫獨表示石炭原子數為1〜3的烧基 亞甲基、亞苯基或烧基取代的亞苯 基’ χ獨立表不1〜6的整數;y為1〜ίο的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(沾)為選自苯乙 添馬來_共聚物、偏苯三酸二軒、u,3,4•環丁燒四甲酸 一酐、1,2,3,4-丁垸四曱酸二軒、⑶士環己烧四甲酸二 =、3,3,,4,4,_二苯輕四甲酸二酐以及3,3,,4,4,-二苯礙四甲 酉文二酐所組成的組群的一種或一種以上。 η.如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,苴中多 化合物(al)為選自Μ•丁二醇、以戊二醇以及π 一醇所組成的組群的一種或一種以上; 4胺㈣為選自3Ρ ·—胺基二苯颯、4,4,.二胺基二苯 組群的一種或一種以上; H2N-fR6^ff•-叫 R5 R5 " R4 R4 (4) 或苯R5駐絲碳軒料1〜3的貌基 某.:獨立# - 1 π亞^基、亞苯基或貌基取代的亞苯 基,X獨立表不卜6的整數;y為U的整數) 具有兩個或兩仙上酸酐基的化合物㈣為選自偏苯 93 200829658 25759pif 三酸、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、3,3’,4,4’-二苯醚四甲酸二 酐、3,3’,4,4匕二苯颯四甲酸二酐以及丁烷四甲酸二酐所組 成的組群的一種或一種以上。 12. 如申請專利範圍第1項所述之喷墨用墨水,其中還 包括環氧樹脂(D)。 13. 如申請專利範圍第12項所述之喷墨用墨水,其中 環氧樹脂(D)為:選自下述式(5)〜(8)表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上,94 200829658 25759pif (式中’n為〇〜的整數)。 14·如申请專利範圍第}項所述之喷墨用墨水, 包括產酸劑(Ε) \ ^ ^ ^ ^ ^ 15·-種喷墨用墨水,包括··以通式⑶表示的含氣化合% (式(3)中’Rg表示單鍵或任意的亞甲基可被氧取代的 碳原子數為1〜20的亞纟完基; Rf1〜Rf7分別獨立表示為,任意的亞曱基可被氧取代 的石反原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟烷基、一個或一 個以上的氫可被氟或〜CF3取代的碳原子數為6〜20的氟芳 基、芳基中一個或一個以上的氫可被氟或_CF3取代的碳原 子數為7〜20的氣方烧基、任意的亞甲基可被氧取代的碳 原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀不含氟的烷基、碳原子 數為6〜20的不含氟的芳基或碳原子數為7〜20的不含氟 的芳烷基;Rf]〜R/中的至少一個為氟烷基、氟芳基或氟 芳烷基; R表示氫或碳原子數為1〜100的有機基團)。 95 200829658 25759pif 16. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 R為具有熱交聯性官能團的碳原子數為.2〜100的有機基 團,或具有雙鍵的碳原子數為2〜100的有機基團。 17. 如申請專利範圍第16項所述之喷墨用墨水,其中 熱交聯性官能團為:羥基、環氧乙烷、氧雜環丁烷、羧基、 異氰酸酯、胺基或酸酐。 18. 如申請專利範圍第16項或第17項所述之喷墨用墨 水,其中具有雙鍵的碳原子數為2〜100的有機基團,具有 丙烯醯基、甲基丙烯醯基、苯乙烯基、乙烯基或馬來醯亞 胺。 19. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 〜Rf7分別獨立表示為,2,2,2-三氟乙基、3,3>三氟丙 基、2,2,3,3-四鼠丙基、2,2,3,3,3-五鼠丙基、3,3,4,4,4-五氣 丁基或 3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氣己基。 20. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 Rg為亞乙基、亞丙基或亞丁基。 21. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 還包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成單元, 〇 〇 II II 9 —Cv /C—NH—R2——NH - R1 / \ HOOC COOH (2) (式中,R]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜100的有 機基團)。 22. 如申請專利範圍第21項所述之喷墨用墨水,其中 96 200829658 25759pif 化合物(B)至少使用二胺(bl)和具有兩㈣兩個以上酸針 基的化合物(b2)而合成。 23.如申明專利範圍第2.2項所述之喷墨用墨水,其中 二胺(M)為:選自至少由4,4,_二胺基二苯砜、3 3,_二^其 二苯颯、Μ,:二胺基二苯颯 '雙[4外胺苯氧基)苯基]石風: 雙[4-(3-胺苯氧基)苯基μ風、雙[3_(4·胺苯氧基)苯基]石風、 [4-(4-胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基)笨基]則((I胺苯氧 基)苯基][3♦胺苯氧基)苯基]石風、4,4,_二胺基二苯鱗、4,4,_ 二胺基二苯甲燒、3,3,-二胺基二苯甲垸、3,3,_二罗基射· =二她、2,2_娜胺苯氧基)苯基]丙燒、以 基)苯基]六氣丙院以及式(4)表示的化合物 所,、且成的、、且群的一種或一種以上, f Μ h2n 〜 R5 r5 /Λ 、 (4) (式(4)中,R4和r5獨立表 或苯基;R6獨立表示亞甲基^具,其2的燒基 基h獨立表示卜6的整數· 基或絲取代的亞苯 ’ y為1〜ίο的整數), 偏苯:酸上酸軒基的化合物咖^ 偏本一I一酐、U,3,4-環丁烷四甲 、曰 甲酸二酐、胁環己烧四甲:甲&一野观 ,衣四浐酸二酐、3 3, 4 4,-一贫融 喷墨2用則幡-項所述之 97 200829658 25759pif 0.1 g氟化合物(c),或具有含氟化合物(c) 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 0·1〜50 wt%的化合物(B)。 25.如中請專利範圍第15項所述之噴墨用墨水, 2括化合物⑷,其具有下述通式⑴和⑺表示的構成單 〇 0 II II 〇 /C Ο--〇— Ο) (2) HOOC COOH o II -a 〇 II .C—NH- HOOC COOH (式中,R]、R2和r3分別獨立表 的有機基團)。 讀數為2〜100 .26.如中請專利範㈣25項所述m ==)至少❹合物(al)、二师2) i 兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 有 .27.如t請專姆圍第%賴述之喷墨帛 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物 = 以及具有酸軒基的聚合性單體與 ^ = 聚物所組成的組群的—種或—種以上。 早體的共 28. 如申請專利範圍第27項所述之噴墨用 具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合 2 ^ 乙烯-馬來酸酐共聚物。 h、永物為本 29. 如申請專利範圍第%項所述之喷墨用墨水,其中 98 200829658 25759pif 多元羥基化合物(al)為選自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四 甘醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、1,4-丁 二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、丙三醇、三羥曱基丙烷、 季戊四醇以及二季戊四醇所組成的組群的一種或一種以 上; 二胺(a2)為選自4,4’-二胺基二苯颯、3,3’-二胺基二苯 颯、3,4’-二胺基二苯颯、雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]颯、雙[4-(3-胺苯氧基)苯基]颯、雙[3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4-(4-胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4-(3-胺苯氧基)苯 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、4,4’_二胺基二苯醚、4,4’-二胺 基二苯甲烷、3,3’-二胺基二苯曱烷、3,3’-二甲基-4,4’-二胺 基二苯曱烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]六氟丙完以及式(4)表示的化合物所組成的 組群的一種或一種。以上; R4 R4 H2N—f-R^Si-O^y-Sif-R^NHs r5 r5 (4) (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為1〜3的烷基 或苯基;R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙 烯-馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸 二酐、1,2,3,4-丁烷四曱酸二酐、1,2,4,5-環己烷四曱酸二 酐、3,3’,4,4,-二苯醚四曱酸二酐以及3,3’,4,4,_二苯颯四甲 99 200829658 25759pif 酸二酐所組成的組群的-種或-種以上。 夕一 3,〇’如申请專利範圍帛%項所述之喷墨用墨水,其中 夕兀4^基化合物(al)為選自丨,‘丁二醇、1,5_戍二醇以及 ,-己二p醇所組成的組群的一種或—種以上; ^fec(a2)為選自3,3’_二胺基二笨砜、4,4,_二胺基二笨 二t j _一胺基二苯曱烷以及式(4)表示的化合物所組成的 組群的一種或一種以上; H2N^R6^?i-〇hrSifRVNH2 、 R R5 ⑷ 或苯’ R和R細立表示石炭原子數為1〜3的烧基 主獨立表示0基、亞苯基或絲取代的亞苯 表示1〜6的整數Wwo的整數) 三酸H㈣兩_上酸酐_化合物㈣為選自偏苯 軒、3 3本^馬來酸酐共聚物、3,3,,4,4,_二苯咖曱酸二 成的組-的 還包=^^範®第15項所述之喷錢墨水,其中 環氧所述之喷墨用墨水,其中 的組群的1、、.:自、广广5)〜⑻表示的化合物所組成 4里攻一種以> 1〇〇 (5)200829658 25759pif 〇c-o-ch2-ch-ch2 C 一〇一CH2—CH—CH2 II ^ \ / z 〇 〇 f〇:Ό (6) ch2-oc II 〇⑺ (式中,n為0〜10的整數)。 (8) 33. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 34. —種喷墨用墨水,包括:含氟化合物(C)與其他自 由基聚合性單體的共聚物(C’),其中上述含氟化合物(C)為 具有碳原子數為1〜100的有機基團的氟化倍半矽氧烷。 35. 如申請專利範圍第34項所述之噴墨用墨水,其中 其他自由基聚合性單體具有熱交聯性官能團。 ]〇1 200829658 25759pif 甘A 申睛專利範圍第35項所述之喷墨用墨水,其中 .、浐$基,合性單體所具有的熱交聯性官能團為:羥 昕/^ 7 ^氧雜環丁炫、幾基、異氰酸酯、胺基或酸 ^7·如申清專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 ^他3自聚合性單體為:選自(甲基)丙稀酸縮水甘油 酉曰、’匕衣氧祗己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油S曰、(3_乙基_3_環氧丙烷基)曱基(曱基)丙烯酸酯、(甲 =)丙烯H备乙酯、(甲基)丙烯酸2_輕丙酯、(甲基)丙稀 ·' #工丁知1輕丁基(曱基)丙烯酸縮水甘油醚、1,4-環己 烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯所組成的組群的一種或一種以 上。 〇8·如申凊專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 遂包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成罩元,〇 II c—NH—R2——NH- HOOC COOH (2) 機基(團式)t,R> R2分別獨立表示碳原子數為2〜100的有 39. 如申請專利範圍第38項所述之噴墨用墨水,其中 化合物(B)至少使用二胺⑽和具有兩個或兩個以上酸酐 基的化合物(b2)而合成。 40. 如申請專利範圍帛39項所述之嗔墨用墨水,其中 二胺帅為:選自至少由4,4,_二胺基二笨碉、3义二胺基 102 200829658 25759pif 二苯颯、3,4’-二胺基二苯砜、雙[4_(4-胺苯氧基)苯基]颯、 雙[4-(3-胺苯氧基)苯基]颯、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]颯、 [4_(4_胺苯氧基)苯基][3-(4·胺苯氧基)苯基博、[4♦胺笨氧 基)苯基][3-(4_胺苯氧基)苯基]颯、4,4,_二胺基二苯醚、4,4,、 二胺基二苯甲烷、3,3,-二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_4,4,_ 二胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、n f 雙[4_(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙院以及式⑷表示的化合物 所組成的組群的一種或一種.以上, R4 R4 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為i〜3 =苯基;示亞甲基、亞笨基或院基取代的亞^ 基,X钿立表不1〜6的整數;y為1〜10的整數), ^具有兩個或兩触上酸縣的化合物(&為 偏笨二酸一酐、1,2,3,4_環丁燒四甲酸二軒、工 甲酸二酐、U,4,5-環己烷四甲酸二酐、3 ,,,,一^元四 甲酸:酐以及”,从二苯邮甲酸:軒組茲: 一種或一種以上。 取日h且群的 之 41 ·如申請專利範圍第38項至第4〇喟中任一項 喷墨用墨水,其中噴墨用墨水包括: 、斤处 0.1〜50 wt°/〇的含氟化合物(c),或農 與其他自由絲合性單體的絲錄,化合物(Q 0·1〜50 Wt%的化合物(B)。 42.如申請專概㈣34销述之噴_墨水,其中 103 200829658 25759pif 還包括化合物(A) ’其具有下述通式(])和(2)表示的構成單 元, 5? •CHOOC COOH 〇 II , C—〇-R --〇— (1) (2) —c、】/C-NH—r2 —NH-HOOC COOH (式中,R!、R2和R3分別獨立表示碳原子數為2〜 的有機基團)。 43·如申請專利範圍第42項所述之噴墨用墨水,其中 化合物(A)至少使用多元羥基化合物(al)、二胺(a2)和^有 陶個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 ’、 44.如申請專利範圍第43項所述之噴墨闬墨水,其 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物⑻)為:選自四_ \ ::以及具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單體白 Ϊ: -物所組成的組群的—種或一種以上。 ^的共 請專概㈣44項所述之噴墨 具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單二其中 乙缔-馬來_絲物。 &早翻妓物為笨 多元利範圍第43項所述之嘴墨用墨水,其中 甘醇、丙二醇、二丙坪甘和—甘醇、四 二醇、α戊二醇、四丙二醇、认丁 季戊四醇以及_牽A /内一醇、二羥曱基丙烷、 及—季戊四醇所組成的組群的一種或—種以 104 200829658 25759pif 上; 石。一胺(a2)為選自4,4’一二胺基二苯砜、3,3、二胺基二苯 j _一,基二苯颯、雙胺苯氧基)苯基]颯、雙[4-(3-乳基}苯基]職、雙[3,_胺苯氧基}苯基]颯、Μ*胺苯 '一)才基][3 (4"*版本氧基)苯基]石風、[4-(3、胺装氯美)装 基]叫4還苯氧基)苯某w、4 4,_ _ J A & ^基)本 一」风4,4 一胺基一求醚、4,4,-二胺 :二茇甲:、I—胺基二苯曱烷、3,3'二甲基_4,4'二胺 二 、^ 2,2_雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙垸、2,2_雙[4_(4_ 本基]六氣丙烧以及式⑷表#的化合物所組成的 、、且群的一種或一種以上; R4 R4 H2N—一。^r6^_nH2 R5 R5 或笨i式.(〗6中獨立表示碳原子數為1〜3 f的烧基 基;X獨立矣獨^表r亞曱基、亞苯基或垸基取代的亞苯 勹立衣不1〜6的整數;y為1〜1〇的整數) 〃有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙 二―軒來酸軒共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4·環丁院四甲酸 3、U,3,4·丁烧四曱酸二酐、1,2,4,5_環己垸四甲酸二 酸二,3’,4,4’-二苯醚四曱酸二酐以及3,3,,4,4,_二苯砜四曱 欠一酐所組成的組群的一種或一種以上。 多一 如申請專利範圍第43 ·項所述之喷墨用墨水,其中 1 6_已一土^匕合物(al)為選自1,4-丁二醇、1,5·戊二醇以及 ’ 一醇所組成的組群的一種或一種以上; 105 200829658 25759pif —胺(a2)為選自3 g,一 醚、4,4,-二胺基二苯甲;;=基二苯礙、4,4’·二胺基二苯 組群的一種或一種以上“及式⑷表示的化合物所組成的 。)^r6 浍叫 基,表示1〜 具有兩_兩_讀酐絲化合帅 —馱、本乙烯-馬來酸酐共聚物、 k自偏本 :3,3’,4,4’二—酸二㈣及^四甲酸二 成的組群的一種或一種以上。 ,馱二酐所組 48‘如申請專利範圍第34項所述 遇包括環氧樹脂⑼。 之H墨水,其中 / \ 專纖圍第48顿述之 〇 〆〇c-。-CH2—CH - CH2 c 一 Ο-CH2—CH - CH2 (5) π V/ 〇 〇106 (6) 200829658 /jypir50, 如申請專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 51. —種喷墨用墨水,包括:共聚物(C’),上述共聚物 (C’)包含有以通式(3)表示的含氟化合物(C)與其他自由基 聚合性單體, I 、 Rf1(式(3)中,Rg表示單鍵或任意的亞甲基可以被氧取代 107 200829658 25759pjf 的石反原1子數為l〜2〇的亞烷基; 代的ίϋΐ賴立表4 基可以被氧取 1U:數ί 1二0 =狀或支鏈狀氟烧基、-個或 氟芳基、^可以被__CF3取代的碳原子數為6〜20的 的石炭原中—個或―個以上的氫可以被氟或_CF3取代 取代的^為7〜Μ的氟芳烧基、任意的亞甲基可以被氧 基、聲广、子數為1〜2G的直鏈狀或支鏈狀不含敦的燒 2〇的^數為6〜2〇的不含氟的芳基或碳原子數為7〜 氟芳含氟的芳烷基;Rf】〜Rf?中至少有一個為氟烷基、 氧方卜亨芳烷基; 烯基每ΐΐ具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、苯乙烯基、乙 馬來醯亞胺的碳原子數為2〜100的有機基邱團土)。乙 >2.7如曱請專利範圍第5][項所述之喷墨用墨水,其中 / 了Rf7分別獨立表示:2,2,2_三敦乙基、3,3,3_三氟丙基、 :,〇,3’氟丙基、2,2,3,3,3_五氟丙基、3,3,4,4,4_五氟丁美 3W,4,5,5,6,6,6-九氟己基。 )3·如申請專利範圍第51項或第52项所述之噴墨用墨 水,其中Rg為亞乙基、亞丙基或亞丁基。 54·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 其他自由基聚合性單體具有熱交聯性官能團。 55.如申请專利範圍第54項所述之喷墨用墨水,其中 其他自由基t合性單體所具有的熱交聯性官此團為:經 基、環氧乙烷、氧雜環丁烷、羧基、異氰酸酯、胺基或酸 酐。 56·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 108 200829658 25759pif 1他自^基聚合性單體為··選自(甲基)丙稀酸縮水甘油 酉曰、3,4’氧環己基(甲基)丙稀酸醋、(甲基)丙婦酸甲基縮 =甘,、(3-乙基各環氧丙烧基)甲基(甲基)丙賊醋、(甲 =丙二I 2-羥乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、(甲基)丙烯 酯、羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘油醚、丨,‘環己 烧二曱轉單(甲基)丙烯酸酯所組成的組群的—種或一種以 上° - t 一 57.如申印專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,苴中 還包括化合物⑻,其具有下述通式(2)表示的構成單元、, one I / ONC(2) HOOC COOH 機基(團1^]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜⑽存 58.如申明專利範圍第57項所述之喷墨用墨水,^ I 1 匕合物⑻至少使用二胺(Μ)和具有兩個或兩個以上酸 基的化合物(b2)而合成。 _ '59·如申請專利範圍第58項所述之喷墨用墨水: =,(b】)為··選自至少由4,4,_二胺基二苯碾、二用 胺3ί&胺ίΐ苯硬、雙叫胺苯氧基)苯基]码 r:L二 ]硬、雙[3*胺苯氧基〗苯基]码 胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基)苯基]則4分胺] 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]硬、4,4,_二胺基二苯鱗、心 -胺基二苯甲炫、3,3’_二胺基二苯f貌、3,3,-二甲基士 109 200829658 25759pif 二胺基二笨甲烷、Μ·雙[4_(4_胺笨氧基)苯基㈤烷、 雙[4-(4-胺笨氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合’物 所組成的組群的一種或一種以上, 〇 R4 R4 H2N—和一〇^_令06^_叫 R5 R5 f ⑷£ #(式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為}〜3的烷美 或苯基,R6獨立表示亞曱基、亞笨基或烷基取代的亞^ 基,X獨立表示1〜6的整數;y為1〜1〇的整數), 而具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為:選自 偏苯二酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、丁烷四 甲酸二酐、1,2,4,5_環己烧四甲酸二酐、3,3,,4,4,·二笨鱗四 甲酸二酐以及3,3,,4,4,、二苯礙四曱酸二軒所組成的組群的 一種或一種以上。 60.如申請專利範圍第57項至第59項中任一項所述之 喷墨用墨水,其中喷墨用墨水包括: • 3 wt/°的含氟化合物(C),或具有含氟化合物 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 〇·1〜50 wt%的化合物(B)。 、进6L如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 通包括化合物(A),其具有下述通式⑴和⑺表示的構成單 兀, 110 200829658 iy/^ριί ? ? c χ—o- —1 I晒 I ο- α) HOOC COOH 〇 II -c o II x- -NH- (2) R] HOOC COOH (式t ’R3、R2和RH獨立表示碳原子數為 的有機基團)。 100 62. 如申請專利範圍第61項所述之喷墨用墨水,发 化合物㈧至少使用多元經基化合物⑻)、二胺㈣和^ 兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 ·-负 63. 如申請專利範圍第62項所述之噴墨用墨水,发, 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣為:^干 二肝以及具有㈣基㈣合性單體與其 ^ 聚物所組成的組群的—種或一種以上。 早, ^如中請專利範㈣63項所述之噴墨用墨水, /乙烯單體與其他聚合性單體的共聚物為笨 甘醇、丙二醇、Li為廷自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四 二醇、!,5·戊二醇—、=、三丙.二醇、四丙二醇、认丁 季戊四醇以及二季“己二醇、丙三醇、三經甲基丙燒、 上· 戍四醇所組成的組群的一種或一種以 一胺^2)為砥自4,4,、二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二笨 111 200829658 25759pif 砜、3^4’-二胺基二苯颯、雙[4_(4_胺苯氡基)苯基]碾、雙[心(1 胺苯氧基)苯基]颯、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基風、[4_二_胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺笨氧基 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]砜、4,4,_二胺基二苯醚、«,-二胺 基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_4,4,_二胺 基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2_雙 胺苯氧基)苯基]六氟丙烧以及式⑷表示的化合物所組成的 組群的一種或一種以上; 或苯ϋ)ϋ和一1表示碳原子數為i〜H完基 Α χ獨々V i rfJ基、亞苯基或焼基取代的亞苯 基,X獨立表不1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙H2N~^R6-M-f'~〇}y-SifR6)^NH2 R5 p5 烯-馬來酸軒共聚物、偏苯三酸二肝、1A3,4環丁炫四f酸 二酐、1,2,3,4-丁院四甲酸二㉛、以❻環己烧四甲酸二 酐、3,3’,4,4,-二苯醚四甲酸二酐以及3,3,,4,4',_二苯砜四甲 酸二酐所組成的組群的—種或一種以上。 —66.如申請專利範圍第62項所述之喷墨用墨水,其中 多兀經基化合物⑹為選自】,4_丁二醇、D-戍工醇以及 1,6-己二醇所組成的組群的一種或一種以上; ,一胺(a2)為選自3,3,-二胺基二苯砜、4,4,_二胺基二苯 _、4,4’-二腔基二苯甲燒以及式(句表示的化合物所組成的 112 200829658 25759pif 組群的一種或一種以上; R4 R4 H2N—(-R6^Si-O^SifR6)^NH2 R5 R5 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為1〜3的烷基 或苯基;R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自偏苯 三酸、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、3,3’,4,4、二苯醚四甲酸二 酐、3,3’,4,4’-二苯颯四甲酸二酐以及丁烷四曱酸二酐所組 成的組群的一種或一種以上。 67. 如申請專利範圍第51項所述之喷墨闬墨水,其中 還包括環氧樹脂(D)。 68. 如申請專利範圍第67項所述之喷墨用墨水,其中 環氧樹脂〇D)為:選自下述式(5)〜(8)表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上, 〇 /〇 /x.C-〇-CH2-CH-CH2 一〇—ch2 - 卬 -ρη2(5) (6) 113 200829658 25759pif(式中,n為〇〜10的整數)。 ⑻ ^ 69·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 ’、7〇·—種硬化膜,該硬化膜是經由以喷墨塗佈方法塗佈 如申凊專利範圍第1項至第69項中任一項所述之噴墨用黑 水以形成塗膜的製程而得到。 一 土 71·—種墨水塗佈方法,包括: 利用噴墨塗佈方法塗佈如申請專利範圍第 任:Γ斤述之嘴墨用墨水,之後使之乾燥形成塗膜的 對該塗膜進行加熱處理以形成硬化膜的製程 72. —種硬化膜形成方法,該 ^二。 圍”彻述之墨水㈣方法形成請專利範 73. 一種電子線路基板,該基板上配置有硬化膜,而該 114 200829658 25759pif 硬化膜是使用如申請專利範圍第72項所述之硬化膜形成 方法所形成。 74. —種電子部件,該電子部件包括如申請專利範圍第 73項所述之電子線路基板。 75. —種電子線路基板,其包括如申請專利範圍第70 項所述之硬化膜。 76. —種顯示元件,其包括如申請專利範圍第70項所 述之硬化膜。 115 200829658 七、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:無 八、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 益
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006290740A JP2008106165A (ja) | 2006-10-26 | 2006-10-26 | インクジェット用インクおよび当該インクにより得られる硬化膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200829658A true TW200829658A (en) | 2008-07-16 |
Family
ID=39331113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW96138691A TW200829658A (en) | 2006-10-26 | 2007-10-16 | Ink-jet ink and cured film obtained from same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080103280A1 (zh) |
JP (1) | JP2008106165A (zh) |
KR (1) | KR20080037523A (zh) |
TW (1) | TW200829658A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103391979A (zh) * | 2011-02-28 | 2013-11-13 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物、图像形成方法及印相物 |
US10954329B2 (en) | 2018-09-25 | 2021-03-23 | Industrial Technology Research Institute | Modified copolymer, method for preparing the same, and method for preparing paste |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008133336A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Chisso Corp | インクジェット用インクおよび当該インクにより得られる硬化膜形成方法 |
JP5394003B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2014-01-22 | 株式会社ダイセル | 共重合体 |
US8240838B2 (en) * | 2007-11-29 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material |
AT507258A1 (de) * | 2008-08-28 | 2010-03-15 | Durst Phototech Digital Tech | Verbundwerkstoff |
JP5488175B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2014-05-14 | Jnc株式会社 | インクジェット用インク |
JP5416725B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2014-02-12 | 積水化学工業株式会社 | インクジェット用硬化性組成物及びプリント配線板の製造方法 |
JP2012180389A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Fujifilm Corp | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
JP5819616B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2015-11-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
JP5928129B2 (ja) * | 2012-04-25 | 2016-06-01 | Jnc株式会社 | インクジェットインク |
US9683119B2 (en) * | 2014-07-03 | 2017-06-20 | Corning Incorporated | Jet ink composition, method and coated article |
EP3271430A1 (en) * | 2015-03-20 | 2018-01-24 | Corning Incorporated | Inkjet ink composition, ink coating method, and coated article |
WO2017039857A1 (en) | 2015-08-31 | 2017-03-09 | Kateeva, Inc. | Di- and mono(meth)acrylate based organic thin film ink compositions |
JP2018005088A (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | Jnc株式会社 | 感光性組成物 |
JP7144864B2 (ja) | 2017-04-21 | 2022-09-30 | カティーバ, インコーポレイテッド | 有機薄膜を形成するための組成物および技術 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62250081A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-10-30 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 記録液 |
US5939576A (en) * | 1998-01-05 | 1999-08-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of functionalizing polycyclic silicones and the compounds so formed |
US7553904B2 (en) * | 1999-08-04 | 2009-06-30 | Hybrid Plastics, Inc. | High use temperature nanocomposite resins |
US6927270B2 (en) * | 2001-06-27 | 2005-08-09 | Hybrid Plastics Llp | Process for the functionalization of polyhedral oligomeric silsesquioxanes |
WO2001081487A1 (en) * | 2000-04-21 | 2001-11-01 | Science & Technology Corporation @ Unm | Prototyping of patterned functional nanostructures |
US6517958B1 (en) * | 2000-07-14 | 2003-02-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic-inorganic hybrid light emitting devices (HLED) |
US6899999B2 (en) * | 2001-03-28 | 2005-05-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing composite member, photosensitive composition, porous base material, insulating body and composite member |
US6767930B1 (en) * | 2001-09-07 | 2004-07-27 | Steven A. Svejda | Polyhedral oligomeric silsesquioxane polyimide composites |
DE10156619A1 (de) * | 2001-11-17 | 2003-05-28 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Verfahren zur Herstellung funktionalisierter oligomerer Silasesquioxane sowie deren Verwendung |
JP4019254B2 (ja) * | 2002-04-24 | 2007-12-12 | 信越化学工業株式会社 | 導電性樹脂組成物 |
JP4742212B2 (ja) * | 2002-08-06 | 2011-08-10 | Jnc株式会社 | シルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体 |
US20060159849A1 (en) * | 2002-09-19 | 2006-07-20 | Daikin Industries Ltd. | Material with pattern surface for use as template and process for producing the same |
JP4483344B2 (ja) * | 2003-03-13 | 2010-06-16 | チッソ株式会社 | シルセスキオキサン骨格を有する化合物およびその重合体 |
JP4114064B2 (ja) * | 2003-05-27 | 2008-07-09 | 信越化学工業株式会社 | 珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4203385B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2008-12-24 | 東芝テック株式会社 | インクジェット用インク |
JP2005272506A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Daikin Ind Ltd | 含フッ素シルセスキオキサン重合体 |
EP1849788A1 (en) * | 2004-12-28 | 2007-10-31 | Chisso Corporation | Organosilicon compound |
JP4050752B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2008-02-20 | 東芝テック株式会社 | インクジェットインク、および印字方法 |
KR101248532B1 (ko) * | 2005-02-28 | 2013-04-02 | 제이엔씨 주식회사 | 액정 배향막 형성용 니스 및 그것을 사용한 액정 표시소자 |
US7687593B2 (en) * | 2005-09-28 | 2010-03-30 | Chisso Corporation | Fluorinated polymer and polymer composition |
JP5162861B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2013-03-13 | Jnc株式会社 | フッ素を含有した光硬化性重合体組成物 |
TWI405036B (zh) * | 2005-09-29 | 2013-08-11 | Jnc Corp | 含氟光固性聚合物組成物 |
JP5315629B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2013-10-16 | Jnc株式会社 | 光硬化性インクジェットインク |
-
2006
- 2006-10-26 JP JP2006290740A patent/JP2008106165A/ja active Pending
-
2007
- 2007-10-16 TW TW96138691A patent/TW200829658A/zh unknown
- 2007-10-16 KR KR20070103899A patent/KR20080037523A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-10-26 US US11/976,689 patent/US20080103280A1/en not_active Abandoned
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103391979A (zh) * | 2011-02-28 | 2013-11-13 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物、图像形成方法及印相物 |
US10407582B2 (en) | 2011-02-28 | 2019-09-10 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method, and printed matter |
US10954329B2 (en) | 2018-09-25 | 2021-03-23 | Industrial Technology Research Institute | Modified copolymer, method for preparing the same, and method for preparing paste |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080037523A (ko) | 2008-04-30 |
US20080103280A1 (en) | 2008-05-01 |
JP2008106165A (ja) | 2008-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200829658A (en) | Ink-jet ink and cured film obtained from same | |
TW200811253A (en) | Ink for inkjet | |
JP5691508B2 (ja) | ジイミド化合物ならびにインクジェット用インクおよびその用途 | |
TWI458754B (zh) | 液晶配向劑、液晶配向膜以及液晶顯示元件 | |
TW200819477A (en) | Amic acid ester oligomer, precursor composition for polyimide resin containing the same, and uses | |
TW201024337A (en) | Precursor composition for polyimide and use thereof | |
TW200848924A (en) | Photobase generator and photocurable resin composition | |
TW201028445A (en) | Ink for inkjet | |
KR20090071395A (ko) | 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자 | |
JP4983262B2 (ja) | ナノインプリント用組成物 | |
TWI432531B (zh) | 噴墨用墨水 | |
KR101442841B1 (ko) | 폴리이미드용 전구체 및 그 용도 | |
TW200835754A (en) | Ink-jet ink | |
JP2008007623A (ja) | ナノインプリント用組成物 | |
JP5282414B2 (ja) | インクジェット用インク | |
JP5858128B1 (ja) | 光学的立体造形活性エネルギー線重合性樹脂組成物、及び立体造形物 | |
TWI341851B (en) | Precursor composition for polyimide and use thereof | |
JP2009185213A (ja) | 熱硬化性組成物 | |
TWI554564B (zh) | 熱硬化性噴墨墨水及其用途 | |
JP5282415B2 (ja) | インクジェット用インク | |
JP5942348B2 (ja) | 熱硬化性インクジェット用インクおよびその用途 | |
TW201114855A (en) | Non-aqueous inkjet ink, method for coating ink | |
TW200918615A (en) | Inkjet ink | |
JP5540483B2 (ja) | 熱硬化性組成物、該組成物の製造方法および該組成物の用途 | |
JP5699457B2 (ja) | インクジェット用インクおよびその用途 |