TW200829658A - Ink-jet ink and cured film obtained from same - Google Patents

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TW200829658A
TW200829658A TW96138691A TW96138691A TW200829658A TW 200829658 A TW200829658 A TW 200829658A TW 96138691 A TW96138691 A TW 96138691A TW 96138691 A TW96138691 A TW 96138691A TW 200829658 A TW200829658 A TW 200829658A
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Hiroyuki Satou
Yoshihiro Deyama
Mikio Yamahiro
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Chisso Corp
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    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions

Description

200829658 ZJ/J^pu 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 嗜黑有關於—種包括具特定結構之含氟化合物的 ' 土 g有使用含氟化合物合成的共聚物的喷墨用 本發明咖於—種使用喷額墨水進行的墨=佈 /由喷墨用墨水所得的硬倾、硬化卿成方法以及 形成有硬化膜的電子線路基板。 【先前技術】 厂:種基板上描繪所需圖案的方法,廣泛使用喷 $ m 去。特別是近年來,藉由改良喷墨磁頭和墨水, "以進行鬲精細的描繪(例如參照w〇2〇〇4/_272)。 但疋,猎由基板與墨水的組合,有時自喷墨磁頭射出 pi7’液献基板上附著後發生蔓^進行高精細的 1例如,使用含有金屬微粒的墨水,於聚醯亞胺基板 延2微細配線時,就會出現上述情況。為了使液滴不蔓 法,了一種以氟系界面活性劑等處理基板表面的方 ㈣但是制這财法時,存在絲醯亞胺基板與金屬微 〜_合性降低、後製程中容易剥離的問題。 古鑒於上述狀況,需要開發一種例如可以藉由射出進行 田描!會的基板表面之處理方法,作為此處理方法,希 希所需部分進行表面處理的魅塗佈。因此, 黑t開^發一種以噴墨塗佈方法塗佈時塗佈性良好的喷墨用 =、、’該墨水可;X形成與基板的密合性良好的塗膜,並且, 、遺塗膜上以第二種喷墨用墨水進行描績時,墨水的蔓延 200829658 得到抑制,能夠進行宾杜&, 喷w用¥ γ + 精、、、田描繪,而且該塗膜與由第二種 貝墨用墨㈣成的_的密合性良好。 【發明内容】 含氣:ί;==:特定職^ 完成了本=、痛用於喷墨用墨水,基於此認識而 硬化:發的噴墨用墨水、墨水塗佈方法、 等。 、ν成方法、形成有硬化膜的電子線路基板 述含[氟]化二Γίί;用墨水,該墨水包括含氣化合物(C),上 氟化倍半^氧^ ^具有碳原子數為1〜·的有機基團的 ρ]會 + 元(打uorosilsesquioxane)。 合物(^)。 1〜用墨水,硪墨水包括通式(3)表示的含氟化
Rg——R (3)
Rf AA 中’ \表示單鍵或任意的亞甲基可以被氧取代 的=子數為1〜20的亞烧基;
Rf〜Rf7分別獨立表示:任意的亞甲基可以被氧取代 厌/、子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟烷基、一個或一 7 200829658 25759pif :固以上—的風可以被氟或_ c f 3取代的碳原子數為 6〜20的氟 =基、方基中—個或~個以上的氫可以被氣或-CF3取代的 反原^數為7 20的氟芳烧基、任意的亞甲基可以被氧取 = 為1〜2〇的直鏈狀或支鏈狀不含氟的烷基、 ΐ含氟的芳^^ ^不含氣的芳基或碳原子數為7〜20的 基或氟芳烧^’ f〜Rf7中至少有—個為氟烧基、氟芳
R表示氫或碳原子數為1〜100的有機基團。) [3][2]所述之噴墨用墨水,其中 能團的碳原子數為2 '有,、、、又%性吕 100的有機基團或具有雙鍵的碳原 子數為2〜100的有機基團。 [:把]所述之嘴墨用墨水,其中熱交聯性官能團為經 土墩氧乙蜣、氧雜環丁烷、羧基、異氰酸酯、胺基或酸 酐〇 [5] [3]或[4]所述之噴墨用墨水,其中具有雙鍵的碳原 =數為2〜100的有機基團具有丙_基、甲基丙稀酿基、 笨乙烯基、乙烯基或馬來醯亞胺。 [6] [2]〜[5]中任—項所述之喷墨用墨水,其中Rfl〜R^7 分別獨立表示:2,2,2_三1乙基、3,3,3、三氟丙基、2,2,3丄 四氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、3,3,4,4,4-五氟丁基或 3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟己基。 [7] [2]〜[5]中任—項所述之喷墨用墨水,其中^為亞 乙基、亞丙基或亞丁基。 [8] —種喷墨用墨水,該墨水包括··含氟化合物(c)與 8 200829658 其他自由基聚合性單體的共聚物斤 為具有碳原子數為1〜刚的有^ ^ 3亂化合物(c) [9]—種喷墨用墨水,該墨水包 千^虱烧 化合_與其他自由基聚合性單體的^物⑺:的含氟
Rg---R (3) 的碳中為ΐ:::任意的亞甲基可爾取代
Rf〜Rf7分別獨立表示··任意的 的碳原子數為i〜20的直鏈狀或支鏈代 =上的氳可以被氟或烟 碳^^基中—個或—個以上的氫可顺I或心3取代的 的氣繼、任意的亞甲基可‘ 錢狀或支鏈料含氟的燒基、 基〜中至少有一一、氟』 表示具有丙_基、f基轉雜、苯乙烯基、乙 4馬來醯亞胺的石炭原子數為^⑻白勺有機基團。) 9 200829658 /^ypir [10] [9]所述之噴墨用黑 .9 ο ο - ^ r ^ w必,其中Ilf1〜Rf7分別獨立表 不.2,2,2-二亂乙基、33λ 二 22333 _一鼠丙基、2,2,3,3-四氟丙基、 2,2,3,3,3_ 五鼠丙基、3 3 444π_ 九氟己基。 ,’,五氣丁基或3,3,4,4,5,5,6,6,6- [11] [9]或[10]所述之噴黑用 亞丙基或亞丁基。mi其中Rg為亞乙基、 自由任—項所述之噴祕墨水,其中其他 自由基XK 口 l'生早肢具有熱交聯性官能 -所[丄3上[^噴墨用墨水,其中其他自由基聚合性單 具=熱2性官能團為:趣基、環氧乙烧、氧雜環 丁煶、羧基、兴氰酸酯、胺基或酸酐。 〜匕1]中任一項所述之噴墨用墨水,其中其他 =t聚合性單體為··選自(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、3,4-=氧%己基(甲基)丙烯酸g旨、(甲基)丙稀酸甲基縮水甘油 酯、(3-乙基-3-環氧丙烷基)甲基(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙 烯酸2"*羧乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘油醚、1,4-環己烷二 甲醇單(甲基)丙婦酸酯所組成的組群的/種或一種以上。 [15][1]〜[14]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括化合物(B),上述化合物(b)具有下述通式(2)表示的構成 單7〇。 〇 II C、 0 II 'c—NH—R2——NH— HOOC C00H (式中,11]和R2分別獨立表示碳原孑數為2〜100的有 (2) 10 200829658 25759pif 機基團)。 [16] [15]所述之噴墨用墨水,其中化合物(B)至少使用 二胺(M)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物作幻而合 成。 [17] [16]所述之喷墨用墨水,其中二胺(Μ)為··選自至 少由4,4’-二胺基二苯颯、3,3,._二胺基二苯砜、3,4,—二胺基 二苯颯、雙[4_(4,苯氧基)苯基]颯、雙[4_(3_胺苯氧基)笨 基]砜、雙[3-(4-胺苯氧基)苯基μ風、[4-(4-胺苯氧基)笨 基][H4-胺苯氧基)苯基]砜、[4_(3_胺苯氧基)苯基][3_(4_胺 苯氧基)苯基]砜、4,4’-二胺基二苯醚、4,4,-二胺基二苯甲 烧、3,3’._二胺基二苯甲完、二曱基-4,4’-二胺基二苯甲 烧、2,2·雙[4_(4_胺苯氧基)苯基]丙烧、2,2、雙[‘⑷胺苯氧 基)苯基]六氟丙烧以及式(4)表示的化合物所組成的組群的 一種或一種以上; R4 R4 H2N —f-R6 分〒 i—〇}y—♦十 R6|^_NH2 R5 R5 ⑷ (式中,R4和R5獨立表示碳原子數為!〜3的烷基或苯 基;R6獨立表示亞甲基、亞笨基或烷基取代的亞苯基;χ 獨立表示1〜6的整數;y為1〜iq的整數。) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為:選自偏 苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、12,3/-丁烷四甲 酸一酐、1,2,4,5-環己烧四甲酸二酐、3,3’,4,4’_二苯醚四甲 酸二酐以及3,3’,4,4’-二苯碾四甲酸二酐所組成的組群的_ 種或一種以上。 200829658 [18] [15]〜[17]中任一項所述之噴墨用墨水,其中包 括:0.1〜50重量百分比(wt%)的含氟化合物(c)或含氣化人 物(C)與其他自由基聚合性單體的共聚物(C,);以及〇工二 50 wt%的化合物(B)。 [19] [1]〜[16]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括化合物(A),上述化合物(A)具有下述通式(1)和(2)表示的 構成罩元。
(式中,R1、R2和R3分別獨立表禾碳原子數為2〜1〇〇 的有機基團。) 基的化合物(a3)而合成。 [20][19]所述之喷墨用墨水,其中化合物(A)至少使用 I 夕元羥基化合物(al)、二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐 一種或一種以上。 [21][20]所述之噴墨用墨水,其中具有兩個或兩個以上 酉欠酐基的化合物(a3)為·選自四羧酸二酐以及具有酸酐基 的聚合性單體與其絲合性單體的共㈣馳成的組群的 Ρ2][21]所述之喷墨用墨水,其中具有酸酐基的聚合性 早體與其絲合性單體的奸物為苯乙爆喝來酸針共聚 12 200829658 25759pif [23][20]所述之喷墨用墨水,其中多元羥基化合物(al) 為:選自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、丙二醇、二 丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、丨,4_丁二醇、込孓戊二醇、 1,6-己二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇以及二季 戊四醇所組成的組群的一種或一種以上; 二胺(a2)為:選自4,4,-二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二 苯颯、3,4’·二胺基二苯砜、雙㈣‘胺苯氧基)苯基]砜、雙 [4-(3_胺苯氧基)苯基;|砜、雙[3-(4_胺苯氧基)苯基]砜、[‘(4_ ^苯氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]砜、[‘(弘胺苯氧基) 苯基][3_(4士苯氧基)苯基]硬、4,4,_二胺基二苯_、4,4,_ 二胺基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯曱烷、3,3,_二甲基_4,4,_ 二胺基二苯甲烷、2,2_雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、 雙[4-(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙烧以及式⑷表示的化合物 所組成的組群的一種或一種以上; R4 R4 R5 ⑷ (,中R和R獨立表示碳原子數為1〜3的烧基或苯 基’ R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯基,· X 獨立表不1〜6的整數;y為1〜1〇的整數。) X具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(&3)為:選自苯 乙烯-馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲 酸二野,、丨,2,3,4·7^四甲酸二酐、1,2,4,5·環己烧四甲酸二 酐、3,3,4,4’_二苯醚四甲酸二酐以及3,3,,4,4,_二苯石風四甲 13 200829658 25759pif 酸二酐所組成的組群的一種或一種以上。 [24][20]所述之喷墨用墨水,其中多元羥基化合物(al) 為·選自1,4-丁二醇、1,5-戊二醇以及丨,6_己二醇所組成的 組群的一種或一種以上; 二胺(a2)為:選自3,3’-二胺基二苯颯、4,4,_二胺基二 苯醚、4,4,_二胺基二苯甲垸以及式⑷表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上; f (. R4 R4 (式中,;R4和R5獨立表示碳眉早 () 其.只6件今本一 杜 反原子數為1〜3的燒基或苯 基,R獨立表不亞甲基、亞苯
獨立表示1〜6的整數;y為HG_ )❹本基’X 具有兩個或兩個以上酸軒基的化 苯三酸、苯乙稀-馬來酸軒共聚物、3,3H^自偏 —酐、3,3,4,4'二笨碾四曱酸二酐以 ::四甲^ 組成的組群的一種或—種以上。 丁烷四甲酸二酐所 [25][1]〜[24]中任.一 ^ , ν, + 括環氧_⑼。 綺奴m墨水,其中還包 岡[25]所述之噴墨用墨水, •c-〇-CH2—CH」CH2 〇 V/ 2 自下述式⑺〜⑻表示的化所且^树脂(D)為:選 種以上。 斤、、且成的組群的一種或一
14 (5) 200829658 ^3/3ypir
^ (7)
(式中,n為0〜10的整數。) [27] [1]〜[26]中任一項所述之喷墨用墨水,其中還包 括產酸劑(E)。 [28] —種硬化膜,該硬化膜經由以喷墨塗佈方法塗佈 [1]〜[27]中任一項戶斤述之喷墨用墨水以形成塗膜的製程而 得到。 [29] —種墨水塗佈方法,該方法包括:利用喷墨塗佈 方法塗佈[1]〜[27]中任一項所述之喷墨用墨水,之後使之 乾燥形成塗膜的製程;以及對該塗膜進行加熱處理形成硬 化膜的製程。 [30] —種硬化膜形成方法,該方法是使用[29]所述之墨 水塗佈方法形成硬化膜。 15 200829658 25759pif [31] —種電子線路基板,該基板上使用[3〇]所述之硬化 膜形成方法形成有硬化膜。 [32] —種電子部件,該電子部件包括[31]所述之電子線 路基板。 [33] 電子線路基板、顯示元件,其中包括[28]所述之硬 化膜。 阳上述式(4)中,R6的「烷基取代的亞苯基」中的「烷基」 優廷為碳原子數為2〜1〇的烧基,更優選為碳原子數為2 6的虼基。烧基的例子並沒有限定,可以列舉出:乙基、 丙基、兴丙基、丁基、第二級丁基、第三級丁基、戊基、 己基、十二烷基等。 應說明的是,本說明書中,「(甲基)丙稀酸」表示丙 烯酉欠和甲基丙烯酸的總稱。 本發明之優選方案所關於的噴墨用墨水,例如, 噴墨塗佈枝進行㈣時,塗純良好。w利用 例如:二月之優選方案所關於的喷墨用墨水, 4 、#土、主佈方法於基板上塗佈時,墨水的蔓延得到 =二良::也r接觸角,因此嶋^ 的嗔旨。另外’使用本發明之優選方案所關於 、于主膜的孩、合性變高。使用更優選的方安% 、’,田白、=會,亚且基板與所得塗膜的密合性變高。丁门;、月 ”、、讓本每明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 16 200829658 2D/^ypn 下下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細★兒 【實施方式】 用墨水 一本杳明之贺墨用墨水的第1方案為:包括以上述式(3) 表:的含氟化合物(C)的喷墨水。本發明之噴墨用墨水
、、方木為·包括含氟化合物(C)與其他自由基聚合性單 體的共聚物(C’)的喷墨用墨水。 h.l含龍Jtj合物 本發明之噴墨用墨水所包括的含氟化合物(〇,是具有 碳原子數為1〜HK)的有機侧的氟化倍半魏垸,優選為 上述式(3)表示的化合物。 一 、,(3)中,Rg表示單鍵或任意的亞甲基(methylene辟〇叩) 可被氧取代的碳原子數為!〜2〇的亞烷基(alk咖加抑叩)。 式(3)中,較佳的疋,Rg為碳原子數為1〜1 〇的亞烧基 (任思的亞甲基可以被氧取代,任意的氫可以被氟取代)。 Rg更優選為亞乙基(ethylene group)、亞丙基(pr〇pylene group)或亞丁基(butylene group),其中更佳的是亞丙基。 式(3)中,Rf〜Rf分別獨立表示任意的亞甲基可被氧 取代的碳原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟絲 alkyl group)、一個或一個以上的氫可被氟或七込取代的碳 原子數為6〜.20的鼠务基(fluoro aryl group)、芳基中一個 或一個以上的氫可被氟或-CF3取代的碳原子數為7〜2〇的 氟芳烷基(fluoro aiylalkyl group)、任意的亞甲基可被氧取 17 200829658 ZJ / J^pil 代的碳原子數為l〜2G的直鏈狀或支魏不含氟的炫基 ㈤kyl g_p)、麵子數為6〜2G料含氟的芳基㈣ group),或碳原子數為7〜2〇的不含氟的芳絲㈣脚】 Γρ);Rf〜Rf中的至少—個為氟燒基、氟芳基或氟芳炫 基0 f
式⑶中」較佳的是,Rfl〜Rf7分別獨立表示為,三氣 甲基、2,2,2^氟乙基、3,3,3,.三氣丙基、2,2,3,3-四氣丙基、 2,2,3,3,3_五氟丙基、2,2,2_三氟小三氟甲基乙基、 2,2,3,4,4,4-六氟丁基、2,2,3,354,4,5,5"\氟戊基、2^^^ 乙基、2,2,3,3-四氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、2,2,3,3,4,4,5,5- 八氟戊基、3,3,3-三氟丙基、九氟._1,1,2,2_四氫己基、十三 氟-1,1,2,2-四氳辛基、十七氟-u,2,孓四氳癸基、全氟 3,3,4,4,5,:>,6,6,6-九氟己基等氟烷基,或是苯基、丙基、丁 基、甲基苯基、乙基苯基、丙基苯基等烴基。其中,心〗 〜Rf7中的至少一個是選自上述的氟烷基。 八 式Pj中,Rf】〜Rf7分別獨立表示為2,2,2_三氟乙基、 3,3,3-三氟丙基、2,2,3,3_四氟丙基、2,2,3,3,3•五氟丙基、 3+,3,4,4,4-五氟丁基或3,3‘,4,4,5,5,6,6,6_九氟己基時,則藉由 噴墨而喷出的液滴在所得塗膜上的接觸角容易進一步變 焉’而能夠進行高精細的描緣,因此優選。 而且,Rf〗〜Rf7優選全部為2,2,2_三氟乙基、3,3,3_三 氣丙7基、2,2,3,3-四氟丙基或^仏^九卜九氟己基。〜】
Rf "k运王部為3,3,3-二氟丙基或3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟己 18 200829658 oypif 基。 式(3)中,R為氳或碳原子數為1〜100的有機基團。 式(3)中,較佳的是,R為具有熱交聯性官能團或雙鍵 的碳原子數為1〜100的有機基團。熱交聯性官能團為羥基 (hydroxyl gr0Up)、環氧乙烷(oxirane)、氧雜環丁烷 (oxetane)、羧基(carb〇xy group)、異氰酸酯(isocyanate)、胺 基(amino group)或酸酐(anhydride)時,所得喷墨用墨水與基 板的密合性變高,因此優選。另外,具有雙鍵的碳原子數 為2〜100的有機基團,具有丙婦醒基(acjyloyl gr〇Up)、曱 基丙烯醯基(!1^1^71〇71§1^〇叩)、苯乙烯基(吻171§1«0111))、 乙細基(vinyl group)或馬來亞胺(maleimide group)時,所 得喷墨用墨水與基板的密合性變高,因此優選。 本發明中,喷墨用墨水中的含氟化合物(c)的濃度沒有 特別限定,優選為0.1〜50 wt°/。。該濃度為〇·5〜2〇 wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,容易以噴墨進行塗佈,因此更優 選。 應說明的是,含氟化合物(C)可以是一種單獨的化合 物’也可以是兩種或兩種以上化合物的混合物。 ι·2含氟化合物丄ς)與其合性箪體的共聚物 (c,) 本發明之第2讀的喷墨用墨水所包括的共聚物,是 上述式(3)表示的*氣化合物(C)與其他自由基聚合性單體 的共聚物(C’)。 本發明之第2方案的噴墨用墨水中,所使用的表示為 19 200829658 25759pif 含氟化合物(C)的式(3)中 基、苯乙稀基、乙if有丙稀酿基、甲基丙烯酿 的有機基團。其中,^ 亞胺的碳原子數為2〜100 的碳原子數為2〜1G() ^^_醯基或甲基_醯基 物,因此優選。應說明 基團,則可以容易地合成共聚 含氣化合物(C)的&3)巾、,於合成共聚物(C,)的 喰II用巽走φ你田 f f以及Rg與第1方荦的 u墨水中使用的含氣化合 方木的
能夠用於合成共聚物『、6乂斤的疋義相问。 只要是具有自由基聚===他自由基聚合性單體, 其他自由基聚合性===。八 =交聯性官能團的其他自由基聚合性單體的例子:: ;- Ti2'11 ^si^(^ ^ ^ ιι> (^ a」《曰卜‘%己烷二甲醇單(甲基) 胺乙基醋等(甲基)丙烯酸衍生物,以及縮水甘油基乙稀基 苄基醚等苯乙烯衍生物等。其中,可以列舉出··(甲基)丙 烯酸縮水甘油酯、3,4-環氧環己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基) 等(甲基)_酸細完基Μ甲基㈣酸縮水— 甘油;^4_ 琢桃己基(甲基)丙_§旨、(?基)丙稀酸f基縮水甘油 酉旨、4-經丁基(甲基)丙_縮水甘油趟、(3_乙基_3_環氧丙 烧基)曱基(甲基)丙烯酸_、2_(甲基)丙烯醯氧乙基異氯酸 醋、γ-(甲基丙烯醯氧丙基)三甲氧基石夕烧、(甲基)丙婦酸_2_ 丙婦酸甲基縮水甘油酯、(3-乙基-3-環氧丙烷基)甲基(甲基) 丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2_羥丙 酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘 20 200829658 25759ριί 1、,釦環已烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯等。若使用上述 單肢作為其他自由基聚合性單體,則所得喷墨用墨水與基 板的密合性變高,因此優選。 八〃共聚物(C’),優選將具有預定結構的上述式(3)表示的 含氟化合物(C)與其他自由基聚合性單體以重量比〇.5:99.5 〜50 : 50進行混合而得到。 · 一方面’從本發明之喷墨用墨水的耐化學性方面考 f 慮,優選高分子量者;另一方面,從相對於溶劑的溶解性 方面考慮,優選低分子量者,因此共聚物(c,)的重量平均 分子置優選為2,000〜1,〇〇〇,〇〇〇,更優選為3,〇〇〇〜 100,000另外’上述共聚物的分子量分佈Mw/Mn,通常 優選為1.2〜.20。 共聚物(C,)的濃度沒有特別限定,優選為 wt%。該濃度為0.5〜20 wt%時,從墨水的黏度方面考慮, 易於以喷墨進行塗佈,因此更優選。 ’ 另外,共聚物(C’)的排列樣式沒有特別限定,例如, \ 可以是嵌段共聚物(block copolymer)等有序性共聚物,也可 以是無規共聚物(random copolymer)。 共聚物(C’)可以是藉由將具有預定結構的上述含氣化 合物(C)與其他自由基聚合性單體混合,並使之加成聚合 (polyaddition)而製備。 加成聚合可以使用聚合起始劑來進行。聚合起始劑的 例子可以列舉出:2,2’-偶氮二異丁腈、2,2,_偶氮二__ 甲基戊腈)、2,2’-偶氮二(2_丁腈)、二甲基j,2,_偶氮二里丁 21 200829658 25759pif 醋、U’-偶氮二(環己烷小腈)等偶氮化合物;苯甲醯過氧 化物、十二烷基過氧化物、辛醯過氧化物、乙醯過氧化物、 二第二級丁基過氧化物、過氧化第三級丁基異丙苯、過氧 化二異丙苯、過氧乙酸第三級丁酯、過氧苯甲酸第三級丁 醋、過氧新癸酸第三級丁酯等過氧化物;以及二硫化四乙 基秋蘭姆荨—硫代胺基甲酸酯等。除此之外,聚合起始劑 的例子還可以列舉出··光聚合起始劑、活性自由基聚合起 始劑等。 ί 加成聚合中使用的聚合起始劑的量沒有特別限定,優 述相對於單體總重量為0.1〜10 Wt%。 ^ ^述加成聚合中可以使用鏈轉移劑。藉由使用鏈轉移 劑,可以適當控制分子量。鏈轉移劑的例子可以列舉出: 石^代令蔡.、笨硫酚、正丁硫醇、巯基乙酸乙酯、巯基乙 1、、二基乙酸、異丙硫醇、第三級丁基硫醇、十二烷硫醇、 一爪代滿果酉欠、李戊四醇四(3_疏基丙酸酯)、季戊四醇四 魏基=酸_)㈣_ ;以及二苯基二硫化物、二疏基乙酸 -—乙基一硫化物等二硫化物類等。除此之外,键 Γ多;以列舉出:甲苯、異刪、四氯化 r丁醆、土本、一乙基_、氯仿、乙基苯、丁基氯、第二 、、’ ί三丁酮、曱基異丁基酮、氯丙烯、曱基氯仿、第三 級丁土笨、正丁醇、異丁醇、乙酸、乙酸乙酯、丙酮、二 福烧HΜ、氯笨、¥基環己烧、第三級丁醇、笨等。 :轉:劑的例子中,優選硫醇類鏈轉移劑,特別是毓 基乙夂,其可使分子量分佈均句,因此優選。 22 200829658 25759pif 鏈轉移劑可以❿ 混合使用。 早镯使用,或者可以是兩種或兩種以上 行製備,其方法通常的加成聚合物的聚合方法來進 懸浮聚合法、本娜取可β使用··溶液聚合法、乳化聚合法、 C〇2進行的聚合合法、本體-懸浮聚合法、使用超臨界 採用溶液聚合法 ί 基聚合性單體、〜例如將含氟化合物(C)、其他自由 劍中,葬起始劑以及鏈轉移劑溶解於適當的溶 二;:加熱及/或光照射’使之發生加成聚合反應,得 子可聚合反應中所使用的溶劑的例 nt1,出.乙系洛劑(苯、甲苯等)、醚系溶劑(二乙醚、 以及大於等於6的HFCs等)、全氟碳系溶劑(全氟戊烷、全 氟己烷等)、脂環式氫氟碳系溶劑(氟代環戊烷、氟代琴^ 烧等)、含氧I系溶劑(氟醚、全氟聚越、說闕、氣醇等^、 芳香族系氟系溶劑(α,α,α-三氟甲苯、六氣苯等)、水等。 南丨祕料)、*代烴系溶 元、氣仿、氯苯等)' _溶劑(丙酮、丁綱、甲 基異丁基_等)、醇系溶劑(甲醇、乙醇、丙醇、里丙醇、 正丁醇、第三級丁醇等)、腈系溶劑(乙腈、丙腈、节猜等)、 醋系溶劑(乙酸乙s旨、乙酸·〇旨等)、碳酸g|系溶劑(碳酸亞 乙酯、碳酸亞丙酯等)、醯胺系溶劑(n,n_:甲基甲萨胺、 Ν,Ν-二甲基乙醯胺等)、氫氯氟碳系溶劑(HcFc_^ib、 HCFC-225等)、氫氟碳(HFCs)系溶劑(碳原子數為2〜4、5 23 200829658 25759pif 用 上述溶劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩種以上併 所使用的溶劑量,只要使單體濃度為1〇〜5〇感 聚合反應溫度沒有特別限定,優選G〜2⑻。c 4〇〜15(TC。聚合反應可以根據單體的種類及溶劑的種= 在減壓、常壓或加壓下進行。 、 聚合反應中,若產生的自由基與氧接觸而失活, =合速度下降,為了抑制上述情況,來 =制㈣合物,職選錢、鮮惰性氣體環境下進^ 人^ Γ隹Ϊ反應還可以在減壓下除去溶解的氧的聚 =内,丁,其可在減壓下除去溶解的氧後 的狀態下進行聚合反應。 溶液中得到的聚合物,可以利用常規方法進行純化 應說^是,用於得到共聚物(c,)的錢化合物⑹, Μ是-種早獨的化合物,也可以是兩種或兩種以上化合 =的,合物。同樣,用於得到共聚物(c,)的其他自由基聚 二!早體’可以是—種單獨的化合物,也可以是或兩 種Α上化合物的混合物。 的化合物蓉 本發敗嘴錢墨H包括含統合物(C)或共聚 C )、即可並沒有特別限定,其還可以任意包括··具有 ^式(ί)的構成單元的化合物(B)、具有上述式⑴和式(2) 、请成單元的化合物(A)、環氧樹脂(d)、產酸劑(e)等。 24 200829658 25759pif (聚醯胺酸) 本發明之噴墨用墨水中,還可以包括具有式(2)的構成 單元的化合物(B)。喷墨用墨水中包括化合物(B)時,該墨 水與基板、特別是聚醯亞胺基板的密合性變高,因此優選。 ⑴化合物⑻所包括的構成單元 上述式(2)中,R1表示碳原子數為2〜100的有機基 團’但疋此R為具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物的殘 基’優選為四羧酸二酐殘基或苯乙烯-馬來酸酐共聚物殘 基。上述式(2)中,R2表示碳原子數為2〜100的有機基團, 但是此R2為二胺殘基。 一方面,從本發明之熱硬化性組成物的耐化學性方面 考慮,優選高分子量者;另一方面,從相對於溶劑的溶解 性方面考慮,優選低分子量者,因此化合物(B)的重量平均 分子量優選為15000〜500,000,更優選為2,〇〇〇〜2〇〇,〇〇〇。 本發明中,熱硬化性組成物中的化合物(B)的濃度沒有 特別限定,優選為〇·1〜50wt%。此濃度為〇.5〜2〇wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,易於以噴墨進行塗佈,因此優選。 (.2)化合物(B)的製備方法 本發明之喷墨用墨水所包括的化合物(B ).,例如,至少 使二胺(M)與具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物作2)反 應而得到。 (3)二胺(bl) 本發明中,可以用於合成化合物(B)的二胺(b〗),只要 具有兩個胺基即可,並沒有特別限定,可以列舉如··通式 200829658 25759pif NH2_R-NH2(式中,R表示碳原子數為2〜100的有機基團) 表示的化合物。該通式表示的化合物的具體例子可以列舉 出:下述通式(II)〜(VIII)表示的化合物。 H2N-—A1—NH2 (ii) H2N nh2
[式(11)及(IV)中,a1表示-(CH2)m-,其中m為1〜6的 整數; 式(VI)〜(VIII)中,A1 表示單鍵、_〇_、_s_、-S-S-、-S02-、 -CO — -CONH-、-NHCO-、-C(CH3)r、-C(CF3)2-、-(CH2)m-、 -CKCI^H、—s_(CH2)m-S-,其中 m 為 1〜6 的整數;A2 表不單鍵、_〇•、-S_、_C0_、_C(CH3)2_、_C(CF3)2_ 或碳原 子數為1〜3的亞烷基;環己垸環或苯環上結合的氫可以被 26 200829658 /^ypn -F、-CH3 取代。] 通式(II)表不的二胺可以列舉如·式(II-1)〜(II-3)表不 的二胺。 B-1 Η2ΝΧΧχ ΝΗ2
通式(m)表示的二胺可以列舉如:式(ΠΙ-1)、(ΙΙΙ-2)表 示的二胺。
nh2
通式(IV)表示的二胺可以列舉如:式(IV-1)〜(IV-3)表 示的二胺。 IV-1 IV-2 IV-3
通式(V)表示的二胺可以列舉如··式(V-1)〜(V-5)表示 的二胺。 27 200829658 i V-1 V-2 V-3
通式(VI)表示的二胺可以列舉如:式(VI-1)〜(VI-30) f 表不的^一胺。
28 200829658 25759pif V I - 1 6 V I - 1 7 H2N_NH2 H2N— v I - 1 8 V I - 1 9 h2n-<QkC)v^^C)^}>-nh2 V I - 2 Ο V I - 2 1 h2n"^^3^s"s^C5k_nh2
\
通式(VII)表示的二胺可以列舉如:式(VII-l)〜(VII-6) 表不的二胺。 V I I- 1 V I I- 2
29 200829658
H2N
V丨卜Λ
h2n V I I- 6
NH 2 通式(VIII)表示的二胺可以列舉如:式(VIII-1)〜 (VIII-11)表示的二胺。
VI I 1-4 (CH2)3
NH 2
VI I 1-5
nh2 nh2
nh2
nh2
nh2 通式(n)〜(VIII)表示的二胺(bl)的上述具體例子中,更 30 200829658 25759pif 優選列舉:式(ν_υ〜(V_5)、式叫)〜(νι_12)、式(νι,、 式(VI-27)、式㈤⑴、式(VII_2)、式(νιι_6)、式(谓七〜 (VIII-5)表示的二胺;進一步優選列舉:式(v_6)、式、 式(VI-1)〜(VM2)表示的二胺。 本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(Μ)還可以列 出··通式(IX)表示的二胺。
[式(IX)中, A。表示單鍵、 _〇_、_C〇〇_、_〇CO_、_CO_、-CONH- 或-(⑶2)nr(式中,m為1〜6的整婁文); 山R表不碳原子數為1〜30的有機基團,該有機基團的 末端可以為或鹵素,該有機基團優選為:具類留醇 (steroid)骨架的基團、下式(χ)表示的基團;或者,當苯環 上結合的兩個胺基的位置關係為相對時,該有機基團表示 碳原子數為1〜2〇的烷基;或者,當上述位置關係為相間 時’該有機基團表示碳原子數為1〜1〇的烷基或苯基; 上述烷基中,任意的-CH2_可以被、-CHF·、_0— 或-CSC-取代卜CH3 可以被_ch2F、-chf2 或-cf3 取代; 形成上述笨環的碳上結合的氫可以被-F、-CH3、 -0CH3、-OCH2F、-OCHF2 或-〇CF3 取代。] 31 (X) 200829658 I jy])u
[式(x)中,
A4和A5分別獨立表示單鍵、_〇_、_c〇a、 -CONH·、-CH=CH-或碳原子數為的亞烷基; R7和R8分別獨立表示-F或-CH3 ; 環S表示1,4-亞苯基 ,、兑%己基、1,3_二噁惊_2 t 基、口密。定-2,5-二基、t定-2,5-二基、萘义二基、笑_2’7 .基或蒽-9,10-二基; 不' ’ R表不_H、_F、碳原子數為丨〜12的垸基、碳原子數 為1〜12的氟代烷基、碳原子數為丨〜丨〕的烷氧基、_cn、 -OCH2F、-OCHF2 或-OCF3 ; i Λ a和b分別獨立表示0〜4的整數; c、d和e分別獨立表示0〜3的整數;當e為2咬3 時,多個環S可以是相同的基團,也可以是二同=基^ ; f和g分別獨立表示0〜2的整數,且 c+d+ 1] 通式(IX)中,兩個胺基結合在苯環的碳上,但優選兩 個胺基的結合位置關係為相間或相對。並且,當以「p6_A3_ 的結合位置作為1位時,兩個胺基優選分別結合在3位和 5位或2位和5位上。 通式(IX)表示的二胺可以列舉如:下式 32 200829658f —^ ^ %Jxx 表示的二胺。
H2N
33 18 200829658 25759pif
18
I X- 1 Ο
19
19
上述式(IX-1)、(IX-2)、(IX-7)以及(IX-8)中,R18 表示 藏原子數為3〜12的烷基或碳原子數為3〜12的烷氧基, 其中優選碳原子數為5〜12的烷基或碳原子數為5〜12的 燃氧基。上述式(IX_3)〜(IX-6)以及(IX-9)〜(IX-11)中,R]9 表示碳原子數為1〜10的烷基或碳原子數為1〜10的烷氧 基,其中優選碳原子數為3〜10的烷基或碳原子數為3〜 10的烷氧基。 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-1.2)〜 (IX-17)表示的二胺。 34 200829658 25759pif
上述式(IX-12)〜(IX-15)中,R2Q表示碳原子數為4〜16 的烷基,優選碳原子數為6〜16的烷基。式(IX-16)和式 (IX-17)中,R21表示碳原子數為6〜20的烷基,優選碳原 子數為8〜20的烷基。 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-18)〜 (IX-38)表不的二胺。 35 200829658 25759pif
I X- 2 7
23 I X- 2 8 I X— 2 9
I X- 3 0 I X- 3
36 200829658 ZD/D^pil
H2N 上述式(IX-18)、(IX-19)、(IX-22)、(IX-24)、(Ιχ (IX-28)、(IX-30)、(IX-31)、(IX-36)以及(IX-37)中,j25)、 示碳原子數為1〜12的烧基或碳原子數為1〜η , 基,優選碳原子數為3〜12的烷基或碳原子數為3〜丨^氧 烷氧基。上述式(IX-20)、(IX-21)、(IX-23)、(ΐΧ-26)、(Ιχ_ 的 (ΙΧ-29)、(ΙΧ·32)〜(ΙΧ-35)以及(ΙΧ_38)中,R23 表示 _Η、ρ、 碳原子數為1〜12的烧基、碳原子數為1〜丨2的燒氧笑 cn、_och2f、-ochf2 或-ocf3,更優選碳原子=為土3二 12的烧基或碳原子數為3〜12的烷氧基。上述式(Ιχ_33) 和pX-34)中,Α9表示碳原子數為1〜12的亞烧美。 37 200829658 25759pif 通式(IX)表示的二胺還可以列舉如:下述式(IX-39)〜 (IX-48)表示的二胺。
38 200829658 25759pif
通式(IX)表示的二胺(bl)中,優選式(IX-1)〜式(IX-11) 表示的二胺,更優選式(IX-2)、式(1X4)、式(IX-5)、式(IX-6) 表示的二胺。 本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(M),還可以列 舉:下述通式(XI)及(XII)表示的化合物。 pHR11
、〆=NH2-Ph-A6-0- 39 (XII)200829658 Z3/3^pif
=NH2-(R14-)Ph-A6-0-
H2N
[式(XI)和(XII)中, R1G 表示-H 或-CH3 ; R]1分別獨立表示-H或碳原子數為1〜20的烷基或碳 原子數為2〜20的烯基; Α6分別獨立表示單鍵、-C(=0)-或-CH2-;
Ri3及R14分別獨立表示-H、碳原子數為1〜20的烷基 或苯基。] 上述通式(XI)中,優選兩個「NH2_Ph-A6_0」中的一 個結合在崔核的3位、另一個結合在错核的6位。兩個胺 基分別結合在苯環的碳上,優選相對於A6的結合位置結合 在間位或對位上。 通式(XI)表示的二胺可以列舉如:式(XI-1)〜(XI-4)表 不的 >一胺。 40 200829658 Z.J / J^pii
通式(XII)中,兩個「NH2-(R14-)Ph-A6-0-」分別結合在 苯環的碳上,優選相對於留核所結合的碳而言,結合在間 位或對位的碳上。兩個胺基分別結合在苯環的碳上,優選 相對於A6結合在間位或對位上。 通式(XII)表示的二胺可以列舉如:式(XII-1)〜(XII-8) 表不的二胺。 41 200829658 25759pif
本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(bl)還可以列 舉:通式(XIII)、(XIV)表示的化合物。 42 200829658 25759pif
[式(XIII)中,R15表示-H或碳原子數為1〜20的烷基, 該烷基中,碳原子數為2〜20的烷基的任意-CH2-可以被 -0-、-CH=CH-4_CeC-取代; A7分別獨立表示-0-或碳原子數為1〜6的亞烷基; A8表示單鍵或碳原子數為1〜3的亞烷基; 環T表示1,4-亞苯基或1,4-亞環己基; h為0或1。]
[式(XIV)中, R16表示碳原子數為2〜30的烷基; R17表示-H或碳原子數為1〜30的烷基; A7分別獨立表示-0-或碳原子數為1〜6的亞烷基。] 上述通式(XIII)中,兩個胺基分別結合在苯環的碳上, 優選相對於A7結合在間位或對位上。 通式(XIII)表示的二胺可以列舉如:式(XIII_1)〜 (XIII-9)表示的二胺。 43 200829658 25759pif
上述式(XIII-1)〜(XIII-3)中,R24優選-H、碳原子數為 1〜20的烷基;(ΧΙΙΙ-4)〜(ΧΙΙΙ-9)中,R25更優選-Η、碳原 子數為1〜10的炫基。 44 200829658 25759pif 上述通式(XIV)中,兩個胺基分別結合在苯環的碳上, 優選相對於A7結合在間位或對位上。 通式(XIV)表示的二胺可以列舉如·· 〜 表示的二胺。 XIV- R26 R27 X I V- 2 R26 R27
f % X I V-3 R26 R27
>式(XIV-1)〜(xIV-3)中,R26表示碳原子數為2〜3〇的 =基,其中優選碳原子數為6〜2〇的烷基,· R27表示_h或 碳原子數為1〜30眺基,其巾優選_H或碳料數〜 10的烷基。
如上所述,本發明中,用於合成化合物(B)的二胺(bl) 可用例如通式(I)〜(XIV)表示的二胺,也可以使用除上 述二胺以=的二胺。例如,可以單獨使用具萘結構的萘系 =續的料、二胺或财概_魏统系q安 4,或者將它們與其他二胺混合使用。 夕氧&系一私沒有特別限定,本發明中,可以優選# 用下述.式_示⑽氧妹二胺。 使 45 200829658 25759pif R4 R4 H2N—f»R6細* 广。) 4 R5 ⑷ (ί中,R酿5獨立表示碳原子數為1〜3的焼基或笨 基;R6獨立表㈣甲基、技基或絲取代的亞苯土基^ 獨立表示1〜6的整數;y為卜7〇的整數。其中,更 的y為1〜15的整數。) 、
這晨,「烧基取代的亞苯基」中的「燒基」,優選為 碳原子數為.2〜1G的垸基,更優選為碳原子數為2〜6的燒 基。烧基的例子並沒有岐,可以列舉出:乙基、丙基、 異丙基、丁基、第二級丁基、第三級丁基、戊基、己^、 十二烧基等。 通式(I)〜(VIII)以及通式(4)表示的二胺中,若使用 4,4,·二胺基二苯職、3,3,_二胺基二苯颯、3,4,·二胺基二苯 颯、雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]砜、雙[4_(3_胺苯氧基)苯基] 砜、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]礙、[4_(4_胺苯氧基)苯基砂& 胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基) 苯基]砜、4,4’-二胺基二苯醚、七4,_二胺基二苯甲烷、3,3,_ 二胺基二苯甲烷、3,3,-二甲基-4,4,-二胺基二苯甲烷、2,2_ 雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基] /、氟丙烧、上述式(4)表示的化合物等,則所得喷墨用墨水 的硬化膜與聚醢亞胺基板等的密合性變高,因此優選。 其中,使用4,4,-二胺基二苯颯、3,3,-二胺基二苯碾、 4,4’-二胺基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基 Ά二胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙 46 200829658 25759pif 烷、4=4’-二胺基二苯醚v2,2’-二胺基二苯丙烷以及上述式 (4)表示的化合物時,所得噴墨用墨水的硬化膜盥醯 基板等的密合性變高,因此優選。 ,、 應祝明的是,可以用於合成本發明之噴墨用墨水所包 括的化合物(B)的二胺(M),並不限於本說明書的二胺,在 達到本發明之目的的範圍内,可以使用其他各種形離的二 胺。 〜 , 另外,可以用於合成本發明之喷墨用墨水所包括的化 合物(B)的二胺(M),可以單獨使甩一種,或者是兩種或雨 種以上組合使用。即,作為兩種或兩種以上二胺的組合, 可以使用··上述二胺之間的組合;上述二胺與除其之外的 一胺的組合,或者除上述二胺以外的二胺之間的組合。 (4)具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2) 本發明中,可以用於合成化合物(B)的具有兩個或雨個 以上酸酐基的化合物(b2)的具體例子可以列舉出··苯乙烯.一 ^ 馬來酸酐共聚物、苯乙烯-馬來酸酐K甲基)丙烯酸共聚物、 I (甲基)丙烤酸甲酯-馬來酸酐共聚物、(甲基)丙烯酸甲酿』 來酸針-(曱基)丙烯酸共聚物、苯乙烯_衣康酸酐共聚物、苯 乙烯-衣康酸酐-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲_一 衣康酸酐共聚物、(曱基)丙烯酸甲酯_衣康酸酐_(甲基)丙烯 酸共聚物、2,2’,3,3’_二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,3,,4,_二黎 甲酮四甲酸二酐、2,2,,3,3,_二苯砜四曱酸二酐’、二3,3,,4、 二苯砜四甲酸二酐、3,3,,4,4,-二苯醚四甲酸二酐、2,2,,3,3,-二苯醚四甲酸二酐、2二3,,4,_二苯醚四甲酸二酐、2,2一[雙 47 200829658 25759pif (3,4-^一叛基苯基)]六氣丙烧·一野以及乙 醇雙(偏笨一酉分 酐)(商品名;TMEG-100,新日本理化(股)製)等芳香族 酸二酐;乙烧四曱酸二酐、4-(2,5-二氧代四氫u夫喃一3一 基)_1,2,3,4_四風奈-1,2-二甲酸昕、5-(2,5_二氧代四氣π夫口南 基)-3-曱基-3 -壤己細-1,2-二曱酸軒、以及下述式b2、1〜 b2-73表示的化合物等四缓酸二酐。
48 200829658 25759pif f
b2-13
〇 O 49 200829658 25759pif
50 200829658 b2-21 b2-20 b2 - 22 0 0 O 〇 0 0
b2-23
CT
•O Ό b2-24
0, \_/ \_/ '0 b2 - 25 0 0 v V(° <xx XX° JX X;0 0 0 0 O
b2-28 b2-27
b2-31 b2-29 n
51 200829658 25759pif
b2-32 b2-33
b2-34
b2-35 v(° b2-36 v 0 Jl X/° yy 0 1 1 必37 〇 1 0 b2-38 0 -O 〇hx 0 0 n O s^\\ 0 b2-39 b2-40
b2-41
52 200829658 25759pif b2-42 b2-44 b2-43
b2-45
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53 200829658 25759pif b2-53 b2-51 b2-52 f
b2-54 b2>55 b2-56
b2-57 b2-58 b2-59
b2_6Q b2-61
b2-62 O
54 200829658 25759pif r
具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)的上述具體 例子中,使用苯乙烯-馬來酸酐共聚物、苯乙烯-馬來酸酐 -(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-馬來酸酐共聚 物、偏苯三酸二酐(b2-l)、.環丁烷四甲酸二酐(b2-14)、丁 烷四甲酸二酐(b2_18)、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐(b2-20)、 3,3’,454,-二苯砜四曱酸二酐(b2_8)、3,3·’,4,4’·二苯醚四甲酸 55 200829658 25759pif 一酐以及3,3,4,4-二笨甲酮四甲酸二酐(b2_6)等時, 喷墨用墨水的硬化膜與聚醯亞胺基板等的密因 此優選。 u ,、中使用苯乙稀_馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、 丁烷四甲:二酐、3,3,,4,4,_二苯砜四甲酸二酐以及 3,3 ^4 ·一相四甲酸二酐時,所得喷墨用墨水的硬化膜 與聚醯亞胺基板等的密合性變高,因此優選。 、 應,明的是,可以用於合成本發明之噴墨用墨水所包 白、化口物(B)的具有兩㈣兩個以上 _,並不限於本說明書的化合物,在
的1内,可α以使用其他各種形態的具有酸㈣的化合J 人物⑻的呈於合成本發明之嘴墨用墨水所包括的化 有兩個或兩個以上酸野基的化合物 ===一種’或者是兩種或兩種以上組合使用 為兩%或兩種以上化合物(b2)的組合,可卞 ,基的化合物之間的組合;上述具有兩個或兩二 :具有酸;基:;二 (5)—元醇 時,ΐ=力在分子末端具有酸肝基 」乂冰加兀知進仃反應。將一元醇i二脸々日 =個或兩個以上酸酐基的化合物㈣同時添加到反^ 、、’’或者添加二胺(bl)和具有兩個或兩個以上酸酐^的 56 200829658 25759pif :合物(b2)之後,向反應系統中添 化,平坦性變得良好二 J 、兀醇的具體例子可以列舉出:甲醇、乙醇、 1-丙醇、異丙醇、烯丙醇、苄 乙私 二醇單乙醚、丙二醇單f二^甲基,_乙醋、丙 單甲醚、乙二醇單乙醚,、:丙二醇早乙醚、二丙二醇 二甘醇單㈣單㈣、二甘醇單乙醚、
I 二甲其卑# 二冰片、麥牙糖醇、芳樟醇、松油醇、 了土卞土甲I?、乳酸乙酉旨、縮水甘油、 氧雜環丁烷等。 土JIT丞 醇if選異丙醇、苄醇、甲基丙烯酸羥乙酯、丙二 ::早义-乙基羥甲基氧雜環丁烷。使用苄醇時,所 件塗膜變得平坦,因此優選。 才 (6)其他原料 々a使胺丙基二甲氧基糾完、3_胺丙基三乙氧基石夕 、凡3胺丙基甲基二曱氧基石夕烧、3_胺丙基甲基二乙氧基 ,4胺丁基二甲氧基矽烷、‘胺丁基三乙氧基矽烷、 三月2丁基甲基二乙氧基矽烷、對胺苯基三曱氧基矽烷、對 f苯基二乙氧基矽烷、對胺苯基甲基二甲氧基矽烷、對胺 f基甲基—乙氧基②烧、間胺苯基三甲氧基々烧以及間胺 ,,甲基—乙氧基矽烷等含有矽烷的單胺或4_胺基苯甲酸 荨含有羧基的單胺與分子末端具有酸酐基的該聚醯胺酸反 γ則έ有所彳于化合物(B)的喷墨用墨水形成的塗膜的财化 孥性得到改善,因此優選。 (7)反應條件 57 200829658 25759pif 化合物⑼,優選使具有兩個或兩個以上酸肝基的化合 物_的⑽〜!.〕莫耳無水物與二胺㈣的】莫耳胺基反應 ,到,更優選使G.9〜U莫耳上述無水物與二胺‘的; 吴耳胺基反應而得到。 化合物(B)的合成反應中使用的溶劑沒有特別限定,優 選能夠溶解化合物(B)的溶劑。 用於合成化合物(B)的反應溶劑可以列舉如··二甘醇二 f '1 甲轉、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、二甘^單乙[ 乙酸醋、乙二醇單乙鱗乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、3_ 甲氧基丙酸甲酉旨、3-乙氧基丙酸乙醋、環己酉同、Ν_甲基-2_ 吡咯烷酮以及Ν,Ν-二曱基乙醯胺等。其中優選:丙二醇單 曱趟乙酸酯、3-曱氧基丙酸甲g旨、二甘醇甲基乙基驗以及 N-甲基-2-吼嘻烧酮。 上述反應溶劑可以單獨使用,或者以兩種或兩種以上 的混合溶劑使用。除了上述反應溶劑以外,也可使用小於 等於50 wt%的比例混合使用其他溶劑。 若相對於二胺(M)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化 合物(b2)以及任意包括的一元醇、單胺等總計1〇〇重^份, 使用大於等於1〇〇重量份的反應溶劑,則合成反應平穩進 行,因此優選。反應可以在40°C〜20〇。(:下進行〇·2〜20 小%。使含矽烷的單胺反應時,可以在二胺(bl)與具有兩 個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)的反應結束後,將反應 液冷部至40 C或40°C以下,之後添加含石夕烧的單胺,在 10〜4〇t:下反應〇·ΐ〜6小時。 58 200829658 25759pif 反應應說明的是,可叫聚醯麟(b)中添加—元醇來進行 (8)向反應系統内添加反應原料的順序 =反應系統内添加反應原料的順序沒 限定。 =可以使訂述任1方法:將 兩=酸:基的化合物(啊添W 一胺Ο3〗)〉谷解於反應溶齊彳中, 上酸酐基的化合物(b2); =加具有兩個或兩個以 基的化合綱溶解於反二:有兩個或兩個以上酸酐 法。 反應洛劍中,之後添加二胺(M)等方 ϋ 化合物 本發明之喷墨用墨水中, ' =物⑷具有式⑴和式(2二=括== 水中包括化合物二s 特別是聚輕麟㈣密糾⑼,基板、 (1)化合物(A)所包括的構成 上述式(1)和式(2)中,Rl分 的有機基團,但是此^為農/j表不石炭原子數為2〜⑽ 合物的祕,優選㈣上㈣基的化 聚物殘基。上述式⑴和式或苯乙參馬來酸酐共 數為2〜100的有機基團,但和&分別表示藏原子 元經基化合物殘基,優選為二 1醇殘^胺殘基;R3為多 一方面,從本發明之嘴墨u 慮,優選高分子量者;另一方心 &的耐化學性方面考 面’從相對於溶劑的溶解性 200829658 25759pif 方面考慮,優選低分子量者,因此該聚酯_聚醯胺酸的重量 平均分子量優選為1,〇〇〇〜500,000,更優選為2,〇〇〇〜 200,000 〇 本發明中,喷墨用墨水中的化合物(A)的濃度沒有特別 限定,優選為〇·1〜50 wt%。當其濃度為〇·5〜2〇 wt%時, 從墨水的黏度方面考慮,易於以射出進行塗佈,因此優選。 (2)化合物(A)的製備方法 f
本發明之噴墨用墨水所包括的化合物(A),例如,至少 使多兀羥基化合物(al)、二胺(a2)與具有兩個或兩個以上酸 酐基的化合物(a3)反應而得到。本說明書中,多元羥基化 合物是指具有兩個或兩個以上羥基的化合物。 二利用上述方法得到的化合物,優選具有上述式〇) 和式(2)的構成單元,但並不限於具有該構成單元。 可以用於得到化合物⑷的二胺(a2),與可以用於得到 ==二胺(Μ)相同。另外’可以用於得到化合物⑷ 的具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣, =化合^)的具有兩個或兩個以上酸酐㈣綱 對可以用_^^ (3)多元羥基化合物(al) 的具 随、八;旦丨从斤 辱一甘醇、二甘醇、四甘 知刀子里小於等於1細的聚乙二醇H _ = 醇、三丙二醇、四丙二 =内—知、一丙一 刀子I小於專於1,〇〇〇的聚丙 60 200829658 25759pif 二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、i,2-戊二醇、 1,5-戊二醇、2,4-戊二醇、1,2,5-戊三醇、1,2-己二醇、1,心 己二醇、2,5-己二醇、1,2,6-己三醇、1,2-庚二醇、1,7-庚二 醇、1,2,7-庚三醇、1,2-辛二醇、1,8-辛二醇、3,6-辛二醇、 1,2,8-辛三醇、1,2-壬二醇、1,9-壬二醇、1,2,9-壬三醇、1,2-癸二醇、1,1〇-癸二醇、1,2,;1〇-癸三醇、1,2_月桂二醇、U2、 月桂二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四 醇、雙酚A(商品名)、雙酚S(商品名)、雙酚F(商品名)、 二乙醇胺以及三乙醇胺、SEO-2(商品名,曰華化學(股) 製)、SKY CHDM、Ricabinol HB(以上為商品名,新日本理 化(股)製)、SILAPLANEFM-4411(商品名,CHISS0(股)製) 等。 ’ 多元羥基化合物的上述具體例子中優選二元醇,特別 是使用乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、丙二醇、二丙 二醇、三丙二醇、四丙二醇、1,4-丁二醇、i,5_,戊二醇、} 6_ 己二醇時,包括所得化合物(A)的噴墨用墨水形成的硬化膜 與聚醯亞胺基板的密合性變高,因此優選。 、 應說明的是,可以用於合成本發明之噴墨用黑水所勺 括的化合物(A)的多元經基化合物(al),並不限於本★兒明责 的多元羥基化合物,在達到本發明之目的的範圍内,可: 使用其他各種形態的多元羥基化合物。 ^ 另外,可·以用於合成本發明之噴墨用墨水所包括 合物(A)的多元羥基化合物(al),可以單獨使用一種、、化 是兩種或兩種以上組合使用。即,作為兩種或兩種以 61 200829658 /3ypif 讀基化合物的組合.,可以使用:上述多元經基化合物之 間的組合;上述多元羥基化合物與除其之外的多元羥基化 合物的組合;或者除上述多元羥基化合物以外的多元羥基 化合物之間的組合。 (4)一元醇 士當本發明中使用的化合物(A)在分子末端具有酸酐基 時,優選添加-元醇。可使用的一元醇與用於合成化合物 (B)的一元醇相同。 ' (5)其他原料 與化合物(B)—樣,若使上述作為具體例子而列舉的含 矽烷的單胺或4-胺基苯甲酸等含羧基的單胺與分子末端具 有酸酐基的化合物(A)反應,朗得ffLjc形成的硬化 膜的耐化學性得到改善,因此優選。 (6)反應條件 化合物(A) ’優選使二胺(a2)的〇」〜1〇莫耳胺某、具 有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(&3)的丨〜忉莫&益^ ί 物與多元經基化合物⑹的!莫耳經基反應而得到。S 物(A) ’更優選使二胺(a2)的〇.2〜5莫耳胺基、具有兩個^ 兩個以上酸酐基的化合物(a3)的U〜6莫耳無水物與多元 經基化合物(al)的1莫耳羥基反應而得到。 上述反應中使用的溶劑沒有特別限定,優選能夠溶解 化合物(A)的溶劑,具體而言,可以使用與用於合成化合物 (B)的反應溶劑相同之溶劑。 口 若相對於多元經基化合物(ai)、Ka2)和具有兩個或 62 200829658 25759pif 兩個以上酸酐基的化合物(a3)以及任意包括的一元醇、單 胺等總計1〇〇重量份,使用大於等於100重量份的反應溶 劑,則合成反應平穩進行,因此優選。反應可以在4〇。〇〜 20CTC下進行〇.2〜20小時。
使含矽烷的單胺反應時,可以在多元羥基化合物(al) 與二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)反 應結束後,將反應液冷卻至4CTC或4CTC以下,之後添加含 矽烷的單胺,在l〇°C〜4〇t:下反應〜6小時。優選將 一元醇與多元經基化合物同時加入。 (7)向反應系統内添加反應原料的順序 向反應系統内添加反應原料的順序沒有特別限定。 即,可以使用下述任-種方法:將多元錄化合物(al)、 二胺(a2)和具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)同時 加入到反應㈣巾;將二胺(a2)和多元減化合物⑹溶解 於反應溶劑中,之後添加具有兩個或兩個以上酸酐基的化 合物(a3);預先使多祕基化合物⑷)與具有兩個或兩個以 上酸酐基的化合物(a3)反應合成共聚物,之後向此丘聚物 中添加二胺卿以及預先使二胺㈣與具有兩個或兩個以 上酸酐基的化合师3)反應合成料物,之後向此共聚物 中添加多元經基化合物(al)等方法。 2.3聚酯聚醯亞胺化合物 私Γ 嘴 水,可以包括聚^聚酿亞胺化合 物。XKS曰-聚亞版化合物,例如可以藉由將化合物⑷醯 亞胺化而制。聚醯亞祕,例如藉由將化合物⑷於· 63 200829658 25759pif 3〇〇°C下加熱1〜20小時等來進行 2ΛΜΜΜΜΜ 奉杳明之喷墨用墨水,還可以包 明中使用的環氧樹脂(D),只要具有環氧旨(D) °本發 別限定,«具有兩個或峡m二沒有特 環氧樹剛可以列舉如:物 =聚合物、以及具有縣w之單體與其鱗體的共ί 環氧樹脂(D)的具體例子可以列舉出: 「肥⑽蘭」、「職〇伽5」、「Epic〇AT^名
「EPICOAT827 ,、上诫 $ ⑻士- AA 」 丄迷式(8)衣不的化合物
J 「EPICOAT828」、「EPIC0AT19()P」、「EPIC0AT191p C以上,油化Shdl Epoxy (股)製)、商品名Γ Epic〇AT1 〇〇4」 「EPICOAT1256」(以上,japanEp〇xy Resin(股)製)、商品 名「Arardite-CY177」、上述式(5)表示的化合物
「Arardite-CY184」(日本CibaGaigy(股)製)、上述式⑹表 示的化合物即商品名「Ceroxide 2021P」、「EHPE_3150」 (DAICEL化學工業(股)製)、上述式⑺表示的化合物即商品 名「TECHMOREVG3101L」(三井化學(股)製)等。 其中,使用上述式⑻表示的化合物「EPICOAT828」、 上述式(5)表示的化合物「Arardite-CY184」(日本CibaGaigy (股)製)、上述式(6)表示的化合物即商品名「Ceroxide2021P」 (DAICEL化學工業(股)製)、上述式⑺表示的化合物即商品 64 200829658 25759pif 名「TECHMORE VGMOIL」(三井化學(股)製)時,由嗔墨 用墨水所得的塗膜的耐熱性良好,因此優選。 用於得到環氧樹脂(D)的具有環氧乙烷之單體的具體 例子可以列舉出:(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、3,4_環氧環己 基(甲基)丙烯酸酯以及(甲基)丙烯酸曱基縮水甘油酯。 與具有環氧乙烷之單體進行共聚以得到環氧樹脂(D) 之其他單體的具體例子可以列舉出:(甲基)丙烯酸、(曱基) 丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲 基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(曱基)丙烯酸第三 級丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基) 丙稀酉欠2-每乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、苯乙稀、甲基 苯?烯、氯甲基苯乙烯、(3·乙基環氧丙烧基)曱基(甲基) =烯酸酯、N-環己基馬來醯亞胺以及队苯基馬來醯亞胺 可以用作環氧樹脂(D)的、具有環氧乙烷之單體的聚合 物的優選频例子可關料:聚?基丙職縮水甘油: (P〇ly glycidyl methacrylate,PGMA)等。可以用作環氧樹脂 的、具有環氧乙烷之單體與其他單體的共聚物的優選呈體 例子可以列舉出:甲基丙烯酸甲I甲基_酸縮水甘油酯 共聚物、甲基丙烯酸苄酯-曱基丙烯酸縮水甘油酯妓聚物、 :基丙烯酸丁酯-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、曱基丙烯 ,乙酷-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、(3_乙基^_環 =丙垸基)甲基甲基丙烯酸酯1基丙烯酸縮水甘油醋丑聚 物以及苯乙烯-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物。 、 65 200829658 25759pif 二了使:喷,水所得的硬化膜的耐熱性變得良 好’本發明巾,m脉Μ縣魏喊度優選〇1 〜20 wt%,更優選〇·2〜10 wt%。 2.5產酸劑(E) 本發明之喷频墨水包域酸 對於產酸劑⑹而言,優選在熱硬化性組成物中均勾溶 J隊Γ使喷墨用墨水分解’也錢噴11用墨水之覆膜透明 性降低的物質。產酸删可以列舉如 族蛾鑌⑽_m)鹽、二芳基硬鐵鹽等: 鹽、續酸的祕f基酯等_子性起始十 -寺知 本發明中,喷墨用墨水中的產酸劑^的濃度 牙於10 wt%,更優選小於等於5 wt%。 ’、; 2.6溶劍 本發狀喷墨用墨水,可轉—步包括溶劑 中使用的溶劑,只要能夠溶解含氟化合 ^ (C,)、化合刪、化合物㈧、環可、:: 特別限定。 /又有 上述溶劑例示如下。相對於化合物( 讎劑的非質子性極性有機溶劑的例子可以°物(A)為 基f各烧酮、二甲基,邮甲基己=胺N-甲
Jr_、N,N-二乙基甲_、二乙基乙二 用於改善塗佈性等的溶劑的例子可以列舉出:乳酸貌 66 200829658 25759pif 基酯、3_曱基-3-甲氧基丁醇、萘滿、異佛爾酮、乙二醇單 丁醚等乙二醇單烷基醚;二甘醇單乙醚等二甘醇單烷基 醚;乙二醇單烷基乙酸酯或乙二醇單苯基乙酸酯、三甘醇 單烷基醚、丙二醇單丁醚等丙二醇單烷基醚;丙二酸二乙 酯等丙二酸二烷基酯;二丙二醇單曱醚等二丙二醇單烷基 醚;上述乙酸醋類等酯化合物。上述溶劑中,可以特別優 選使用:N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基咪唑烷酮、γ-丁内脂、 乙二醇單丁醚、二甘醇單乙醚、丙二醇單丁_、二丙二醇 單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、二甘醇曱基乙基醚、3-曱 氧基丙酸曱酯等。 溶劑可以僅使用一種,還可以是兩種或兩種.以上混合 使用。溶劑的使用比例優選為:使喷墨用墨水中除溶劑以 外的成分的濃度為2〜100 wt%。 2.7自由基聚合性單體 本發明之喷墨用墨水,還可以包括自由基聚合性單 體。本發明中使用的自由基聚合性單體,只要是具有自由 基聚合性雙鍵的化合物即可,沒有特別限定。1分子中可 以具有一個自由基聚合性雙鍵,也可以具有兩個或兩個以 1分子中具有一個自由基聚合性雙鍵的自由基聚合性 單體的具體例子有:(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、 肉桂酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸、甲基馬來酸、中康酸、 單(甲基)丙烯酸〇>羧基聚己酸内酯、琥珀酸單[2-(甲基)丙 烯醯氧乙基]酯、馬來酸單[2-(曱基)丙烯醯氧乙基]酯、環 67 200829658 25759pif =稀-3,4_二甲酸單[2_(f基)_醯氧 :縮水侧、(甲基)两稀酸甲基縮 、 動旨、”基·聰)丙觸= 規(甲甲基)丙稀酿氧甲基氧雜環丁 乙縣甲苯、氣甲=穴丁焼、苯乙稀、甲基苯乙稀、 酉旨、(甲基)丙_平異^51基()==、/甲基)丙婦㈣ 烯酸環己酉旨、(甲幻」(甲基)丙細酸甲醋、(甲基)丙 (f 〇 ^烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、 嘛勒旨、爾謂 甲基丙稀酸甲醋;二烯大分子單體、聚 丙_㈣丁酿、早^嗎琳、茚、(甲基) 環已;完=甲醇單(甲基縮水編、… 由基聚合性ϋιι或兩個以上自由基聚合性雙鍵的自 -、二甘醇二 ==有甲以 酯、甲氧基聚乙-醇基一甘辱(甲基)丙烯酸 酸酉旨、甲氧基三=基)丙騎醋、三甘醇二(甲基)丙烯 酸酉旨、聚乙二基)丙稀酸醋、四甘醇二(甲基)丙烯 基)内稀_旨、壬丙^酸輯:壬基笨氧基乙二醇(甲 氯兩貌改性乙氧基♦乙一醇(甲基)两稀酸醋、環氧 —醇二(甲基)賴酸S旨、環氧氯狀改性二 68 200829658 25759pif 甘醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性三甘醇二(甲基) 丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、環 氧氯丙燒改性聚乙二醇二(甲基)肉缔酸酯、丙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、曱氧基二丙二醇 (甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二 (甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙稀酸酯、壬基苯氧基 聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性丙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性二丙二醇二(甲基)丙烯酸 酯、環氧氯丙烷改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯 丙烷改性四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改性聚 丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸 醋、環氧乙炫改性三羥甲基丙院三(甲基)丙烯酸酯、環氧 丙虼改性二羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷改 性三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、乙氧化三羥曱基丙烷 ^(甲基)丙烯酸酯、丙氧化三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸 酉曰、二三羥曱基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羥曱基丙烷四 (甲基)丙烯酸酯、四羥甲基曱烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲 基甲文元四(甲基)丙烯酸酯、甘油丙烯酸曱基丙烯酸酯、甘 油一(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、環氧氯丙烷 改性甘油三(曱基)丙烯酸酯、丨,6_乙二醇二(甲基)丙烯酸 酉曰環氧氯丙烧改性1,6-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲氧 化%己基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(曱基)丙烯酸酯、 =基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性羥基 寸戊酉欠才斤戊二醇一(甲基)丙稀酸酯、二甘油四(甲基)丙婦酸 69 200829658 25759pif 醋、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸 醋、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四(甲基) 丙稀酸g旨、丙氧化季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、硬脂酸改 性季戊四醇二(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸 酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二 季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、己内酯改性二 f ^戊四醇六(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸 酯、烯丙基化環己基二(▼基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯 氧^新戊二醇]己二酸酯、雙酚A二(曱基)丙烯酸酯、環氧 ^浼改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯 曰、%氧乙烷改性雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲 基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚S二(曱基)丙烯酸酯、i,4- =二醇二(甲基)丙烯酸酯、、甲基-1,5-戊二醇二(甲基)丙烯 酸醋、1,9-壬二醇二(曱基)丙烯酸酯、2,4_二乙基戊二 …醇了(曱基)丙烯酸酯、1,3_丁二醇(甲基)丙烯酸酯、二環戊 i 基一丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環 ^浼改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、己内酯/環氧乙烷改性 4酉欠一(甲基)丙烯酸酯、己内酯/環氧乙烧改性磷酸三(曱基) 丙烯酸fe、%氧氯丙烷改性鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸 酉曰、四溴雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯 酸酯、新巧二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三 [(甲基)丙烯fe氧乙基]異氰脲酸酯、己内酯改性三[(甲基) 丙烯醯氧乙基]異氰脲酸g旨、(甲基)丙稀酸化異氰脈酸醋、 70 200829658 25759pif 聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、2-羥基4 3_二甲 烧、2,2.(甲基丙烯喊基乙“ [4·(甲基丙稀酿氧基.二乙氧基)笨基]丙燒、 丙烯醯氧基·聚乙氧基)苯基]丙烷、,又I /甲基 二乙氧基關丙烧、2,2-雙[4-(輪氧二· 丙烧、2-經基小丙烯_基-3_甲基‘二:=] 環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三产八孔基丙烷、^ 丙烯酸酯、2,2-加氫雙[4-(丙烯醯氣^^曱醇甲基) 烧、2,2-雙[4-(丙烯醯氧基.聚丙氣基二二氧基)苯基]丙 三(乙烧丙烯酸酯)、異氰脲酸三缚^丙燒:兴氛脲酸 六氫-s_三嗪、三婦丙基+3,5.笨甲^、:^三_酿基 酸三稀丙酯、顧三烯㈣、-2Sg 胺、枸櫞 二烯丙基二甲基魏、二稀丙;妥、二烯丙胺、 間苯二曱酸二稀丙g旨、對苯二=、—稀丙基謎、 -^ 0 _ 次一烯丙酯、1,3-二烯丙 虱基_2_丙醇、二烯丙基硫醚、馬來酸二 丙基雙酚二(甲基)丙烯酸酯等。 -曰、,-兴亞 而且,自由基聚合性單體可以是具〜 丙烯醯基的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。、古— (土〉 丙稀嶋動(曱基旨切^ H U-15HA、同 U-4H 以及同 U-6H。 =自由,合性單體可以單獨使用,也可以是兩種 或兩種以上混合使用。 若添加自由基聚合性單體,則由喷墨用墨水所得的塗 200829658 25759pif 膜的耐熱性變得良好,因此本發明中,喷墨用墨水中的自 由基聚合性單體優選為0」〜90 wt%,更優選為0.2〜80
Wt〇/o。 2·8光聚合起始劑 本發明之噴墨用墨水,可以進一步包括光聚合起始 劑。本發明中使用的光聚合起始劑,只要是藉由紫外線照 射可以引發自由基聚合性單體的聚合反應的化合物即可, 沒有特別限定。 本發明中使用的光聚合起始劑,例如有:二苯曱酮、 米歇勒酮(Michier’sketone)、4,4'雙(二乙胺基)二苯曱画、 咕ϋ酮(xanthone)、售嘲酮、異丙基咕嘲酮、2,4-二乙基售 噸酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥 基-2-曱基-4’-異丙基笨丙S同、1-經基孩己基二苯甲嗣、異 丙基苯偶姻醚、異丁基苯偶姻醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、 2,2-二曱氧基-2·苯基苯乙酮、camphaquinone、苯並蒽酮、 2-甲基-1 - [4-(甲硫基)本基]-2-嗎淋代丙烧-1 -S同、2 -卞基-2, 二曱胺基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1,4-二甲胺基苯甲酸乙 酯、4-二甲胺基苯甲酸異戊酯、4,4’-二(第三級丁基過氧羰 基)二苯甲酮、3,4,4,-三(第三級丁基過氧羰基)二苯甲酮、 2,4,6-三甲基苯曱醯基二苯基氧化膦、.2-(4’ -甲氧基苯乙烯 基)-4,6-雙(三氯甲基)+三嗪、2-(3’,4’-二曱氧基苯乙烯 基)_4,6_雙(三氯甲基三嗪、2_(2’,4’-二曱氧基苯乙烯 基)_4,6-雙(三氯甲基;hs-三嗪、甲氧基苯乙烯基>4,6-雙(三氯甲基:hs-三嗪、2-(4’-戊氧基苯乙婦基)_4,6_雙(三氯 72 200829658 25759pif 甲基)-s_三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧羰基曱基)}-2,6-二(三氯甲 基)*"S-二σ秦、1,3-雙(二氯甲基)-5-(2’-氯苯基)-s-二嘻、1,3_ 雙(三氯甲基)-5-(4甲氧基苯基)-s-三嗪、.2-(對二甲胺基苯 乙烯基)苯並噁唑、2-(對二甲胺基苯乙烯基)苯並噻唑、2-巯基苯並噻唑、3,3’-羰基雙(7-二乙胺基香豆素)、2-(鄰氯 苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’_雙(2_氯苯 基)_4,4’,5,5’-四(4-乙氧羰基苯基)-1,2’-二咪唑、.2,2,-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2,_二咪唑、2,2’-雙(2,4-二溴 苯基)_4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、.2,2’-雙(254,6-三氯苯 基)_4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、3-(2-甲基-2-二甲胺基丙 醯基)噚唑、3,6-雙(2-曱基-2-嗎啉代丙醢基)-9-正十二烷基 噚唑、1-羥基環己基二苯甲酮、雙(η5-2,4-環戊二烯小基)-雙(2,6-二氟-3_(1Η^比咯小基)_苯基)鈦、下述通式(2)表示的 化合物、2-曱基-1-[4-(甲石,u基)苯基]-2-嗎淋代丙燒-1-嗣、 以及2 -卞基-2-二曱胺基-1 -(4_嗎琳代苯基)-丁嗣-1、1,2 -辛 二酮小[4-(苯硫基)苯基]-2-(對苯甲醯肟)等。上述光聚合起 始劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩種以上混合使用。 其中,若光聚合起始劑為選自下述通式(9)表示的化合 物、1,2_辛二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]_2-(0-苯曱醯肟)、2-甲 基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲 胺基-1_(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1中的一種或一種以上,則靈 敏度高,因此優選。 73 200829658 25759pif r9i—〇—〇—y
II ,c—O-O—R92 -c- c II 〇 c~x92-r94 It o
II 〇 、 w (9) 為 (式中,R9〗、R92、R93以及R94分別獨立表示瘦原子數 〜13的烷基;X9]以及X92分別獨立表示_〇_、 或-ΝΗ-)。 上述通式(9)表示的化合物,例如有:3,3,,4,4、四(第三 過氧化羰基)二苯甲酮、3,3,,4,4、四(第三級已基過i 基過㈣基)二苯甲酮、4,4,·二(甲氧錄)_3,3 、、及丁基過氧化羰基)二苯甲酮等。 一 種以起始劑可以單獨使用,也可以是兩種或兩
V 墨水,藉由昭射》=:自,基聚合性單體兩者的噴墨用 選。-料、外線而件到硬化膜,製程簡化,因此優 本發明中,噴墨用墨水中 〇·01〜1Gwt%,更優選G.G2〜5wt%r ϋ的濃度優選 本發明之噴墨用墨水 (C’),而且’根據目標特性,本發明之口物(。)或共聚物 據需要還可以選擇添加界面活性劑、抗靜^墨水中,根 '巧褐合劑、 74 200829658 25759pif 環氧硬化劑、胺基石夕:i:完化合物、溶劑、其他添加副’並將 其均勻混合溶解而得到。 (1)界面活性劑 例如,當希望提高噴墨用墨水的塗佈性時,可以添加 遵循此目的之界面活性劑。本發明之喷墨用墨水中所添加 的界面活性劑的具體例子可以列舉出:商品名「Byk-300」、 「Byk-306」、「Byk-335」、「Byk-310」、「Byk-341」、 「Byk-344」、「Byk,370」、(BICK,CHEMI(股)製)等矽系 (silcone)界面活性劑;商品名rByk_354」、「ByK-358」、 「Byk、36l」(BICK · CHEMI(股)製)等丙烯酸系界面活性 劑,商品名「DFX_ 18」、「ftergent 250」、「ftergent 251」 (NEOS(股)製)等氟系界面活性劑。 ^上述界面活性劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩 種以上混合使用。 力淨二t j是用於提高對底層基板的潤濕性、平坦'1 =1:質,喷墨用墨水中優選添力一〜 (2)抗靜電劑 限定本添加的抗靜電劑沒有特另 總气几处 吊的抗靜電劑。具體可以列兴屮·〆 錫、乳化錫·氧化録複合氧化 歹J牛出·偏 物等金屬氧化物或第四_鹽# 锡.社銦複合- 上述抗靜電劑可以僅 以上混合使用。 ’也可以是兩種或兩稽 200829658 25759pif 抗靜電劑是用於防止帶電的物質,喷墨用墨水中優選 添加使用0.01〜1 wt%的抗靜電劑。 (3)耦合劑 本發明之喷墨用墨水中可以添加的耦合劑沒有特別限 定,可以使用通常的耦合劑。所添加的耦合劑優選矽烷耦 合劑,具體可以列舉出:三烷氧基矽烷化合物或二烷氧基 矽烷化合物等。可以優選列舉如:γ-乙烯基丙基三曱氧基 矽烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基甲基 二甲氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯 基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三乙氧基矽 烷、γ-甲基丙烯醯基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯 醯基丙基三曱氧基矽烷、γ-曱基丙烯醢基丙基曱基二乙氧 基矽烷、γ-曱基丙晞醯基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油 氧丙基甲基二曱氧基矽烷、γ-縮水甘油氧丙基三曱氧基矽 院、γ-縮水甘油氧丙基甲基二乙氧基石夕烧、γ-縮水甘油氧 丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基曱基二甲氧基矽烷、γ-胺丙 基三曱氧基矽烷、γ-胺丙基曱基二曱氧基矽烷、γ-胺丙基 三乙氧基矽烷、Ν-胺乙基个亞胺基丙基甲基二曱氧基矽 烧、Ν-胺乙基-γ-胺丙基二甲氧基碎烧、Ν-胺乙基-了-胺丙基 二乙氧基梦娱*、Ν-苯基-γ-胺丙基二甲氧基珍炫、Ν-苯基 胺丙基二乙氧ί基梦炫、Ν-笨基-γ-胺丙基甲基二甲氧基梦 烧、Ν-苯基-γ-胺丙基曱基二乙氧基梦烧、γ-疏基丙基甲基 二甲氧基石夕焼、y-胺丙基三曱氧基石夕燒、γ-魏基丙基曱基 二乙氧基矽烷、γ-巯基丙基三乙氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙 76 200829658 25759pif 基曱基二乙氧基碎院、γ-異氮酸酯丙基三乙氧基梦烧等。 其中可以列舉出:γ-乙烯基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯 基丙基三甲氧基矽烷、γ-曱基丙烯醯基丙基三曱氧基矽 院、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基石夕烧等。 上述麵合劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩種以 上混合使用。 喷墨用墨水中,優選添加使用0.01〜3 wt%的耦合劑。 (4)環氧硬化劑 本發明之喷墨用墨水中可以添加的環氧硬化劑沒有特 別限定,可以使用通常的環氧硬化劑。具體可以列舉出: 有機酸二醯肼化合物、咪唑及其衍生物、雙氰胺、芳香族 胺、多元羧酸、多元羧酸酐等。更具體而言,可以列舉出: 雙氰胺等雙氰胺類;己二酸二醯肼、1,3-雙(肼基羧乙基)-5-異丙基乙内醯脲等有機酸二醯肼;2,4-二胺基-6-[2'乙基咪 唑基-(Γ)]乙基三嗪、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥曱基咪唑等咪唑衍生物;鄰苯二甲酸酐、 偏苯三酸酐、1,2,4-環己烷三甲酸-1,2-酐等酸酐等。其中優 選透明性良好的偏苯三酸酐、1,2,4-環己烷三曱酸-1,2-酐。 上述環氧硬化劑可以僅使用一種,也可以是兩種或兩 種以上混合使用。 喷墨用墨水中優選添加使用0.2〜5 wt%的環氧硬化 劑。 (5)胺基矽烷化合物 本發明之喷墨用墨水中,可以添加胺基矽烷化合物。 77 200829658 25759pif 胺^餘^物可以轉出:對胺笨基三f氧基魏、對 胺苯,三乙氧基魏、間胺苯基三甲氧絲[間胺苯基 一乙氧基奶1、胺丙基二ψ氧基糾完、胺丙基三乙氧基石夕 烷等。 上述胺基石夕烧化合物可以僅使用一種,也可以是兩種 或兩種以上混合使用。 月女基石夕:Μ匕合物是用於使墨水與基板的密合性良好的
物質,噴墨用墨水中優選添加使q.Q5〜2 wt%的胺基石夕 院化合物。 的塗佈 本發明之噴墨用墨水,可以用於喷墨塗佈方法,上述 =巧方法包括以公知的射出方法進行塗佈的製程。喷 '土、土佈力〜例如有H、水料動能以塗佈墨水的方法; 以及f墨水施予熱能以㈣墨水的塗佈方法等。 时墨塗佈方法,可以將噴墨用墨水塗佈成預 ,二木 < 自此’ %夠僅於所需位置塗佈墨水,從而降 低成本。 本發明之墨水進㈣料所優翻塗佈裝置(unit) 二你二^ ί備I纟社述墨水的墨水收容部和塗佈磁頭的 &佈裝置可列舉如··根據塗佈信號對墨水施予 熱此涂;彻上述能量產生墨水液滴的塗佈裝置。 1八^ ^ =如有·具有含金屬及/或金屬氧化物的發熱 子可以列舉如:Ta、Zr、^屬及/或金魏化物的具體例 Τι、Νι或A1等金屬或這些金屬 78 200829658 25759pif 的氧化物等。 詩H本發明之墨水進行塗佈的塗佈裝置可以列舉如: 墨水收容i液滴的裝置,上述塗佈磁頭具有收納墨水的 形式:置並不限於塗佈磁頭和墨水收容部為分體 八μ Γ &衣置’也可以使帛塗佈萄和墨水收容部不可
::地成 體的塗佈裝置。墨水收容部可以和塗佈磁頭 刀· 2者兩者不可分離地成為一體而搭載在承載器 carnage)上,除此之外,射以將墨水收容部設置在 的固定部位上,藉由墨水供給構件例如導管, 磁 供應墨水。 〃一师磁项 成 使用公知的噴墨塗佈方法,向基板等基材的表面 本發明之贺墨用墨水,使用熱板或烘箱等進行加熱除去溶 浏,彳之而可以在所需的基板表面範圍内形成塗臈。加埶 件因各成分的種類及配比而不同,通常在7(rc〜i2^g 下,使用烘箱加熱5〜15分鐘或使用熱板加熱丨〜八 而形成塗膜。 〇刀知 形成塗膜後,根據需要對該塗膜照射紫外線,並、隹一 步在150°C〜250°C、優選160。(:〜23CTC下,使用烘从 處理5〜30分鐘或使用熱板加熱處理2〜20分鐘,口…、 到本發明之硬倾。 1 *而得 基材沒有特別限定,可以列舉如:聚對笨_ 〜τ酸λ - 79 200829658 25759pif 醇酷(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇@旨 聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂;聚^ 寻:^曰糸树脂; ;系樹脂、綱、聚抓 $、乙_旨、金㈣、具有填充效果的朗麵紙、 ^或以聚乙烯、黏土(day)黏合劑、聚乙稀醇、殿粉 :基纖維素(CMC)料行了填域理的崎。應說明的 $ ’構成上述基材的物質巾,在不損及本發明效果的 ,:T可以包括」顏料:染料、抗氧劑、抗劣化劑、填充 θ、I外線吸收制、抗靜電劑及/或防電磁波劑等添加劑。 上述基材的厚度沒有特別限定,通常為10pm〜2mm 、:右,根據使用目的而適當調整,優選15〜500 μηι,更優 % 2〇 〜200 μπι。 、/上述基材的用於形成硬化膜的面,可以使用根據需要 進订了電暈處理、等離子體處理、噴砂處理等易黏合處理 的面、以及表面設有易黏合層的面。 \ 實施例 、,以下,藉由實施例及比較例來說明本發明,但本發明 龙不受限於這些實施例。 實施例及比較例中使用的含氟化合物(C)、二胺、具有 兩個或兩個以上酸酐基的化合物及溶劑的名稱以略語表 示。以下記述中使用此略語。 全氟化含物(C)
下式(30)表示的化合物(γ_甲基丙烯醒氧丙基七(三氟 兩基>Τ8-倍半矽氧烷):F-PSQ 80 200829658 25759pif
Rf
Si Sii、 Si Rf Rf
fV kglf〇c
Rf
Rf! C2H4CF3 (30) 二胺
4,4’-二胺基二苯醚:APE
3,3’-二胺基二苯砜:DDS
具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物
偏苯三酸二酐:PMDA 3,3,,4,4’-二苯醚四甲酸二酐:00?入 溶劑 N-甲基-2-吼口各:!:完酮·· NMP 二甘醇甲基乙基醚·· EDM [合成例1]共聚物(C’)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的300 ml四頸燒瓶中,裝入150 g的2_丁酮(2_butanone), 加熱至回流狀態。再將下述成分: 2-丁酮 50.0 g F-PSQ 10.0 g 甲基丙烯酸縮水甘油酯 40.0 g 2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈) 2.0 g 混合溶解,且用.2小時滴加所得試劑,滴加結束後再 回流2小時。 冷卻後,將反應液加入到2 L己烧中,生成沉澱,棄 去上層澄清液,之後在40°C下真空乾燥10小時。然後, 81 200829658 25759pif 利用混合器將所得乾燥聚合物進行粉碑,在4〇。匚下進+ 真空乾燥15小時,得到41·3 g的F-PSQ與甲基丙烯酸 水甘油酯的共聚物(以下稱作共聚物1)。利用Gpc測^兮 共聚物,以聚氧乙稀為標準,該共聚物的重量平均八子b Mw為5,200。 刀里 [合成例2]化合物(B)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的1000 ml四頸燒瓶中,裝入21·81 g的PMDa、的1=7 的APE以及400 g的脫水純化的NMP,且在乾燥氮氣炙 下於25 C攪拌30小時。然後,向該反應液中加入^ ^ 的脫水純化的NMP,在60°C下攪拌8小時,得到淡普g 透明的化合物(B)的5 wt%溶液(以下稱作PA酸溶液 溶液的黏度為38 mPa.s(E型黏度計,25。〇。利用GPc ^ 定所得化合物(B),其重量平均分子量為41,〇〇〇。 測 [合成例3]化合物(A)的合成 向具備溫度計、攪拌機、原料投入口以及氮氣導入口 的500 ml四頸燒瓶中,裝入65 〇〇 g的〇DpA、Μ* & = 丁二醇以及1U·66 g的脫水純化的NMP,在乾燥氮氘 氣抓下於13GC攪拌1小時。然後,將此反應液冷卻至 c,向冷卻的反應液中加入26 〇1 g DDS和122·72名脫水 純化的NMP,乾燥氮氣流下於4〇t攪拌2小時。之後, 再加入167.42 g脫水純化的NMp,並進行攪拌,得到淡黃 82 200829658 25759pif 。所得化2awt%溶液㈨下稱作PE-PA酸溶液 i)所付化合物⑷的溶液黏度為 = 定所得化合物(A),並重1 mPaS。利用GPC測 ;一垔里千均分子量為14,000。 的合^朗4]未使料⑴表示的化合物而制的聚合物 ,了使用曱基丙稀酸曱酉旨代替F_psQ以外,利用與合 成例1相同的條件,得至“ 2.2 g的甲基丙稀酸甲醋與甲基 _酸縮水甘油_絲物(以下稱作共㈣2)。所得聚合 物的重量平均分子量“〜為4,5〇〇。 [實施例1] ,氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成分 fPSQ 1 〇 σ 丙烯酸4-羥丁酯 8 〇 3 CEROXIDE 2021Ρ ' 1.0 g 90.0 g (DAICEL化學工業(股)製,上述式⑹ 的環氧樹脂)
EDM 如此操作所得的溶液,用〇·2μιη的氟樹脂製薄膜過濾 器過濾,製備喷墨用墨水。 將此贺墨用墨水注入到墨水(inkjet cartridge)中,並 固定在喷墨裝置DMP-2811(商品名)(Dimatix社製)中。然 後,在聚醯亞胺膜Kapton (注冊商標)(DU PONT-TORAY(股)製,厚 150 μπι,Η 型)(以下稱作「Kapton」 基板)上整面塗佈上述喷墨用墨水。此基板經8〇。〇的熱板 83 200829658 25759pif 乾燥5分鐘後,用22叱触箱燒結3()分鐘, 發明之硬化膜的KaptGn基板。使用大轉子(賴反射八 光膜厚計FE-3_測定膜厚,此硬化膜的厚度為約㈣勝 以下,例如描繪條件設定成線的寬度與線之間的寬度皆為 ΙΟΟμιη時,簡記為線&間距的寬度設定為ω〇μιη。 接下來,將設置㈣墨裝置_墨水輯換成注入有 Cabot(股)製銀InkAG_IJ<M〇〇_sl的墨水匣,進行直線描 繪。此時,描繪條件設定成線的寬度與線之間的寬度相同。 關於線&間隔的1度設定,自1〇〇 起,以每2q 為一個等級,逐步變化至500 μιη,設定輪出電壓和頻率, 進行銀配線的描繪’使設置於上述基板上的硬化膜上形成 2 μιη的膜厚。 / 此基板經l〇〇°C的熱板乾燥5分鐘,之後用.220。(:的烘 箱燒結30分鐘,得到形成有銀配線的線&間隔圖案的 Kapton基板。用顯微鏡觀察此基板時,發現當線&間隔的 寬度設定為1〇〇〜140 μιη時,由於液體蔓延,間隔部分被 損壞;該寬度設定為大於等於160 μιη時,可以進行描繪 而不會損壞間隔部分。在此基板上貼附玻璃紙帶(JIS D〇2〇2_1988規定的玻璃紙帶,NICHIBAN(股)製CT24), 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例1] 除了使用未整面塗佈喷墨用墨水的KaPton基板進行 銀配線的描繪以外,按照與實施例1相同的條件進行銀配 84 200829658 25759pif 線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察描繪有銀配線的基 板時,發現當線&間隔的寬度設定為10〇〜28〇 μιη時,二 於液體曼延,間隔部分被損壞。在此基板上貼附玻璃紙帶 (JIS D0202-1988規定的玻璃紙帶,NICHIBAN(股)製 CT24),之後一 口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例2]
在乾燥氮氣氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成八 氟系界面活性劑NEOS(股)製DFX_18 ’、刀 丙烯酸4-經丁醋 ,§ CEROXIDE 202IP &〇g 脂) (DAICEL化學工業(股)製,上述式(6)的環氧樹h〇g 90.0
EDM g 如此操作所得的溶液,用0·2 μπι的氟樹脂製薄膜過滅 器過濾,製備噴墨用墨水。 7 除了使用該噴墨用墨水以外,按照與實施例丨相同的 條件於Kapton基板上塗佈喷墨用墨水,得到具有約% 厚的硬化膜的Kapton基板。 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描緣、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板奸 ^ 現當線&間隔的寬度設定為100〜140 μιη時,由於=體二 延,間隔部分被損壞;但是該寬度設定為大於等於|6〇更 時,可以進行描繪而不會損壞間隔部分。但是,在此美^^ 上貼附破璃紙帶(JIS D0202-1988規定的破璃紙^, NICHIBAN(股)製CT24) ’之後一口氣剝離時,銀配線大部 85 200829658 25759pif 分被剝離。 [實施例2] 在乾燥氮氣氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成分。 共聚物1 9.0 g 偏本三酸 1 · 〇 g EDM 90.0 g 如此操作所得的溶液’用〇·2 μιη的氟樹脂製薄膜過液 器過濾,製備噴墨用墨水。 使用此喷墨用墨水,按照與實施例1相同的條件於 Kapton基板上整面塗饰,得到具有約125 nm厚的硬化膜 的Kapton基板。 使用此Kapton基板5按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,旅 現即使線&間隔的寬度設定為140 μπι,也可以進行描參_ 不會損壞間隔部分。射卜,在此基板上軸 :
DO皿·携8規定的麵紙帶,NICHIB IS 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離衣CT24), [實施例3] 氣流下 溶解以下所示各成分
PA酸溶液 NMP 6.0 g 40.0 g 54.0 g 5" °'2μιη 86 200829658 25759pif 使用此噴墨用墨水,按照與實施例丨相同的條件於 Kapton基板上整面塗佈,得到具有約1〇〇腿厚的硬化膜 的Kapton基板。 、 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,考^ 現即使線&間隔的览度設定為140 μπι,也能夠進行插纷而 不會損壞間隔部分。在此基板上貼附玻璃紙帶卬s , D0202-1988規定的玻璃紙帶.,NICHIBAN(股)製^乃句, 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [實施例4] 在乾燥氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成八。 共聚物1 6.0 g 刀 ΡΕ-PA 酸溶液 1 10.0 g NMP 84.0 g 如此操作所得的溶液,用0.2 μπι的氟樹脂製薄膜過滤 器過濾,製備喷墨用墨水。 、 使用此喷墨用墨水,按照與實施例1相同的條件於
Kapton基板上整面塗佈,得到具有約75 nm厚的硬化膜的 Kapton 基板。 使用此Kapton基板,按照與實施例1相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時,發 現即使線&間隔的寬度設定為160 μπι,也能夠進行描繪而 不會損壞間隔部分。在此基板上貼附破j离紙帶(jis D0202-1988規定的玻璃紙帶,NICHffiAN(股)製CT24), 87 200829658 25759pif 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 [比較例3] 在乾燥氮氣流下,室溫下混合溶解以下所示各成 共聚物2 6.0 g PE-PA 酸溶液 1· 10.0 g NMP 84.0 g (
如此操作所得的溶液,用0·2μιη的氟樹脂製薄膜過濾 器過濾,製備喷墨用墨水。 使用此喷墨用墨水,按照與實施例丨相同的條件於
Kaptcm基板上整面塗佈,得到具有約8〇nm厚的硬化膜的 Kapton 基板。 使用此Kaptcm基板,按照與實施例丨相同的條件進行 銀配線的描繪、乾燥、燒結。用顯微鏡觀察此基板時, 現即使線關隔的寬度設定為,_,但由於液體^ 延,間隔部分被損壞。在此基板上貼附玻璃紙帶 D0202-1988規定的破璃紙帶,NICHffiAN(股)製c , 之後一口氣剝離時,未見銀配線發生剝離。 本發明之喷墨用墨水,例如可以用於電子線路基 使用的聚醯亞胺絕緣膜的表面改質。 —雖然本發明已哺佳#施綱露如上,财並非 ,定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫 當可作些許之更_,因此本發= 祀圍虽視伽之巾請專職_界定者為準。 、邊 【圖式簡單說明】 88 200829658 25759pif 益 【主要元件符號說明】 益

Claims (1)

  1. 200829658 25759pif 十、申請專利範圍: 1·一種喷墨用墨水,包括··含氟化合物(c),上述含氟 化合物(C)是具有碳原子數為1〜100的有機基團的氟化倍 半矽氧烷。 口 2·如申請專利範圍第1項所述之噴墨用墨水,其中還 包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成單元, f? f?
    HOOC COOH (2) (式中,R]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜丨 機基團)。 1⑻的有 3.如申請專利範圍第2項所述之喷墨用墨水,其中化 合物(B)至少使用二胺(bi)和具有兩個或兩個以上酸酐其 的化合物(b2)而合成。 土 4·如申請專利範圍第3項所述之噴墨用墨水,其中二 胺(M)為··選自至少由4,4,_二胺基二苯颯、3,3,_二胺基二 笨砜、二胺基二苯砜、雙㈣心胺苯氧基)苯基]砜 胺苯氧基)苯基]砜、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]砜、 =苯氧基)苯基][3普胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基) 笨基][3作胺苯氧基)苯基]砜、4,4,-二胺基二苯醚、4,4,_ 了胺基二苯甲烷、3,3,—二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_七4,· 一胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、22 雙[‘(‘胺苯氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合物 所組成的組群的一種或一種以上, 90 200829658 AN—fR6 分 〇^_〒^6^_阳2 R5 R5 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為ι〜3的烷基 或苯基,R獨立表示亞甲基、亞苯基或燒基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜]〇的整數), 而具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為··選自 偏苯三酸二酐、1,2,3,4_環丁烷四甲酸二酐、丁烷四 甲酸二酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、3,3,,4,4,_二苯醚四 甲酸二酐以及3,3’,4,4’-二苯颯四甲酸二酐所組成的組群的 一種或一種.以上。 5·如申請專利範圍第2項至第4項中任一項所述之噴 墨用墨水,其中喷墨用墨水包括: 、 〇·1〜50wt%的含氟化合物(c),或具有含氟化合物(c) 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 〇·1〜50 wt%的化合物(B)。 6·如申請專利範圍第1項所述之喷墨用墨水,其中還 包括化合物具有下述通式⑴和(2)表示的構成單元: II II
    (式中,R、R和R3分別獨立表示碳原子數為 91 200829658 25759pif 的有機基團)。 7. 如申凊專利範圍第6項所述之噴墨用墨水, 口物⑷至錢用多兀絲化合物(al)、二胺夏2 個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 不具有兩 8. 如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,
    \ 有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣為:選自四ς :具 酐以及具錢酐基的聚合料體與其絲纽二酸二 物所組成的組群的一種或一種以上。 &勺共聚 9·如申請專利翻第8項所述之喷墨用墨水 令酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單體的 、具 缔-馬來酸酐共聚4勿。 4物為苯乙 一 10·如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,复夕 兀羥基化合物(al)為選自乙二醇、二甘醇、三 /、夕 醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇' 四丙二^ =、1,5·戊二醇、ι,6_己二醇、丙三醇、三經甲基丙燒、= 戊四醇以及二季戊四醇所組成的組群的一種或一種以上卞 一胺(a2)為選自4,4’_二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二# = 二胺基二苯礙、雙[4_(4-胺苯氧基)苯基]碾、^ 胺苯氧基)苯基]颯、雙[3♦胺苯氧基)苯基]礪、[4_(‘胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺苯氧基)苯 基][3·(4·胺笨氧基)苯基]硪、4,4’_二胺基二苯鍵、4,4,—二胺 基一苯甲烷、3,3 二胺基二苯甲烷、3,3,·二甲基_4,4,_二胺 基二苯甲烷ν2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2_雙[4_(4_ 胺苯氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合物所組成的 92 200829658 25759pif 組群的一種或一種以上; R4 H2NH-R6^Si~〇^^fR6)_NH2 R4 或苯k大A中猫獨表示石炭原子數為1〜3的烧基 亞甲基、亞苯基或烧基取代的亞苯 基’ χ獨立表不1〜6的整數;y為1〜ίο的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(沾)為選自苯乙 添馬來_共聚物、偏苯三酸二軒、u,3,4•環丁燒四甲酸 一酐、1,2,3,4-丁垸四曱酸二軒、⑶士環己烧四甲酸二 =、3,3,,4,4,_二苯輕四甲酸二酐以及3,3,,4,4,-二苯礙四甲 酉文二酐所組成的組群的一種或一種以上。 η.如申請專利範圍第7項所述之噴墨用墨水,苴中多 化合物(al)為選自Μ•丁二醇、以戊二醇以及π 一醇所組成的組群的一種或一種以上; 4胺㈣為選自3Ρ ·—胺基二苯颯、4,4,.二胺基二苯 組群的一種或一種以上; H2N-fR6^ff•-叫 R5 R5 " R4 R4 (4) 或苯R5駐絲碳軒料1〜3的貌基 某.:獨立# - 1 π亞^基、亞苯基或貌基取代的亞苯 基,X獨立表不卜6的整數;y為U的整數) 具有兩個或兩仙上酸酐基的化合物㈣為選自偏苯 93 200829658 25759pif 三酸、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、3,3’,4,4’-二苯醚四甲酸二 酐、3,3’,4,4匕二苯颯四甲酸二酐以及丁烷四甲酸二酐所組 成的組群的一種或一種以上。 12. 如申請專利範圍第1項所述之喷墨用墨水,其中還 包括環氧樹脂(D)。 13. 如申請專利範圍第12項所述之喷墨用墨水,其中 環氧樹脂(D)為:選自下述式(5)〜(8)表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上,
    94 200829658 25759pif (式中’n為〇〜的整數)。 14·如申请專利範圍第}項所述之喷墨用墨水, 包括產酸劑(Ε) \ ^ ^ ^ ^ ^ 15·-種喷墨用墨水,包括··以通式⑶表示的含氣化合
    % (式(3)中’Rg表示單鍵或任意的亞甲基可被氧取代的 碳原子數為1〜20的亞纟完基; Rf1〜Rf7分別獨立表示為,任意的亞曱基可被氧取代 的石反原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀氟烷基、一個或一 個以上的氫可被氟或〜CF3取代的碳原子數為6〜20的氟芳 基、芳基中一個或一個以上的氫可被氟或_CF3取代的碳原 子數為7〜20的氣方烧基、任意的亞甲基可被氧取代的碳 原子數為1〜20的直鏈狀或支鏈狀不含氟的烷基、碳原子 數為6〜20的不含氟的芳基或碳原子數為7〜20的不含氟 的芳烷基;Rf]〜R/中的至少一個為氟烷基、氟芳基或氟 芳烷基; R表示氫或碳原子數為1〜100的有機基團)。 95 200829658 25759pif 16. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 R為具有熱交聯性官能團的碳原子數為.2〜100的有機基 團,或具有雙鍵的碳原子數為2〜100的有機基團。 17. 如申請專利範圍第16項所述之喷墨用墨水,其中 熱交聯性官能團為:羥基、環氧乙烷、氧雜環丁烷、羧基、 異氰酸酯、胺基或酸酐。 18. 如申請專利範圍第16項或第17項所述之喷墨用墨 水,其中具有雙鍵的碳原子數為2〜100的有機基團,具有 丙烯醯基、甲基丙烯醯基、苯乙烯基、乙烯基或馬來醯亞 胺。 19. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 〜Rf7分別獨立表示為,2,2,2-三氟乙基、3,3>三氟丙 基、2,2,3,3-四鼠丙基、2,2,3,3,3-五鼠丙基、3,3,4,4,4-五氣 丁基或 3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氣己基。 20. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 Rg為亞乙基、亞丙基或亞丁基。 21. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 還包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成單元, 〇 〇 II II 9 —Cv /C—NH—R2——NH - R1 / \ HOOC COOH (2) (式中,R]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜100的有 機基團)。 22. 如申請專利範圍第21項所述之喷墨用墨水,其中 96 200829658 25759pif 化合物(B)至少使用二胺(bl)和具有兩㈣兩個以上酸針 基的化合物(b2)而合成。 23.如申明專利範圍第2.2項所述之喷墨用墨水,其中 二胺(M)為:選自至少由4,4,_二胺基二苯砜、3 3,_二^其 二苯颯、Μ,:二胺基二苯颯 '雙[4外胺苯氧基)苯基]石風: 雙[4-(3-胺苯氧基)苯基μ風、雙[3_(4·胺苯氧基)苯基]石風、 [4-(4-胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基)笨基]則((I胺苯氧 基)苯基][3♦胺苯氧基)苯基]石風、4,4,_二胺基二苯鱗、4,4,_ 二胺基二苯甲燒、3,3,-二胺基二苯甲垸、3,3,_二罗基射· =二她、2,2_娜胺苯氧基)苯基]丙燒、以 基)苯基]六氣丙院以及式(4)表示的化合物 所,、且成的、、且群的一種或一種以上, f Μ h2n 〜 R5 r5 /Λ 、 (4) (式(4)中,R4和r5獨立表 或苯基;R6獨立表示亞甲基^具,其2的燒基 基h獨立表示卜6的整數· 基或絲取代的亞苯 ’ y為1〜ίο的整數), 偏苯:酸上酸軒基的化合物咖^ 偏本一I一酐、U,3,4-環丁烷四甲 、曰 甲酸二酐、胁環己烧四甲:甲&一野观 ,衣四浐酸二酐、3 3, 4 4,-一贫融 喷墨2用則幡-項所述之 97 200829658 25759pif 0.1 g氟化合物(c),或具有含氟化合物(c) 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 0·1〜50 wt%的化合物(B)。 25.如中請專利範圍第15項所述之噴墨用墨水, 2括化合物⑷,其具有下述通式⑴和⑺表示的構成單 〇 0 II II 〇 /C Ο--〇— Ο) (2) HOOC COOH o II -a 〇 II .C—NH- HOOC COOH (式中,R]、R2和r3分別獨立表 的有機基團)。 讀數為2〜100 .26.如中請專利範㈣25項所述m ==)至少❹合物(al)、二师2) i 兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 有 .27.如t請專姆圍第%賴述之喷墨帛 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物 = 以及具有酸軒基的聚合性單體與 ^ = 聚物所組成的組群的—種或—種以上。 早體的共 28. 如申請專利範圍第27項所述之噴墨用 具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合 2 ^ 乙烯-馬來酸酐共聚物。 h、永物為本 29. 如申請專利範圍第%項所述之喷墨用墨水,其中 98 200829658 25759pif 多元羥基化合物(al)為選自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四 甘醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、1,4-丁 二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、丙三醇、三羥曱基丙烷、 季戊四醇以及二季戊四醇所組成的組群的一種或一種以 上; 二胺(a2)為選自4,4’-二胺基二苯颯、3,3’-二胺基二苯 颯、3,4’-二胺基二苯颯、雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]颯、雙[4-(3-胺苯氧基)苯基]颯、雙[3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4-(4-胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4-(3-胺苯氧基)苯 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、4,4’_二胺基二苯醚、4,4’-二胺 基二苯甲烷、3,3’-二胺基二苯曱烷、3,3’-二甲基-4,4’-二胺 基二苯曱烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]六氟丙完以及式(4)表示的化合物所組成的 組群的一種或一種。以上; R4 R4 H2N—f-R^Si-O^y-Sif-R^NHs r5 r5 (4) (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為1〜3的烷基 或苯基;R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙 烯-馬來酸酐共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸 二酐、1,2,3,4-丁烷四曱酸二酐、1,2,4,5-環己烷四曱酸二 酐、3,3’,4,4,-二苯醚四曱酸二酐以及3,3’,4,4,_二苯颯四甲 99 200829658 25759pif 酸二酐所組成的組群的-種或-種以上。 夕一 3,〇’如申请專利範圍帛%項所述之喷墨用墨水,其中 夕兀4^基化合物(al)為選自丨,‘丁二醇、1,5_戍二醇以及 ,-己二p醇所組成的組群的一種或—種以上; ^fec(a2)為選自3,3’_二胺基二笨砜、4,4,_二胺基二笨 二t j _一胺基二苯曱烷以及式(4)表示的化合物所組成的 組群的一種或一種以上; H2N^R6^?i-〇hrSifRVNH2 、 R R5 ⑷ 或苯’ R和R細立表示石炭原子數為1〜3的烧基 主獨立表示0基、亞苯基或絲取代的亞苯 表示1〜6的整數Wwo的整數) 三酸H㈣兩_上酸酐_化合物㈣為選自偏苯 軒、3 3本^馬來酸酐共聚物、3,3,,4,4,_二苯咖曱酸二 成的組-的 還包=^^範®第15項所述之喷錢墨水,其中 環氧所述之喷墨用墨水,其中 的組群的1、、.:自、广广5)〜⑻表示的化合物所組成 4里攻一種以> 1〇〇 (5)200829658 25759pif 〇
    c-o-ch2-ch-ch2 C 一〇一CH2—CH—CH2 II ^ \ / z 〇 〇 f
    〇:
    Ό (6) ch2-oc II 〇
    ⑺ (式中,n為0〜10的整數)。 (8) 33. 如申請專利範圍第15項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 34. —種喷墨用墨水,包括:含氟化合物(C)與其他自 由基聚合性單體的共聚物(C’),其中上述含氟化合物(C)為 具有碳原子數為1〜100的有機基團的氟化倍半矽氧烷。 35. 如申請專利範圍第34項所述之噴墨用墨水,其中 其他自由基聚合性單體具有熱交聯性官能團。 ]〇1 200829658 25759pif 甘A 申睛專利範圍第35項所述之喷墨用墨水,其中 .、浐$基,合性單體所具有的熱交聯性官能團為:羥 昕/^ 7 ^氧雜環丁炫、幾基、異氰酸酯、胺基或酸 ^7·如申清專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 ^他3自聚合性單體為:選自(甲基)丙稀酸縮水甘油 酉曰、’匕衣氧祗己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲基縮
    水甘油S曰、(3_乙基_3_環氧丙烷基)曱基(曱基)丙烯酸酯、(甲 =)丙烯H备乙酯、(甲基)丙烯酸2_輕丙酯、(甲基)丙稀 ·' #工丁知1輕丁基(曱基)丙烯酸縮水甘油醚、1,4-環己 烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯所組成的組群的一種或一種以 上。 〇8·如申凊專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 遂包括化合物(B),其具有下述通式(2)表示的構成罩元,
    〇 II c—NH—R2——NH- HOOC COOH (2) 機基(團式)t,R> R2分別獨立表示碳原子數為2〜100的有 39. 如申請專利範圍第38項所述之噴墨用墨水,其中 化合物(B)至少使用二胺⑽和具有兩個或兩個以上酸酐 基的化合物(b2)而合成。 40. 如申請專利範圍帛39項所述之嗔墨用墨水,其中 二胺帅為:選自至少由4,4,_二胺基二笨碉、3义二胺基 102 200829658 25759pif 二苯颯、3,4’-二胺基二苯砜、雙[4_(4-胺苯氧基)苯基]颯、 雙[4-(3-胺苯氧基)苯基]颯、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基]颯、 [4_(4_胺苯氧基)苯基][3-(4·胺苯氧基)苯基博、[4♦胺笨氧 基)苯基][3-(4_胺苯氧基)苯基]颯、4,4,_二胺基二苯醚、4,4,、 二胺基二苯甲烷、3,3,-二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_4,4,_ 二胺基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、n f 雙[4_(4_胺苯氧基)苯基]六氟丙院以及式⑷表示的化合物 所組成的組群的一種或一種.以上, R4 R4 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為i〜3 =苯基;示亞甲基、亞笨基或院基取代的亞^ 基,X钿立表不1〜6的整數;y為1〜10的整數), ^具有兩個或兩触上酸縣的化合物(&為 偏笨二酸一酐、1,2,3,4_環丁燒四甲酸二軒、工 甲酸二酐、U,4,5-環己烷四甲酸二酐、3 ,,,,一^元四 甲酸:酐以及”,从二苯邮甲酸:軒組茲: 一種或一種以上。 取日h且群的 之 41 ·如申請專利範圍第38項至第4〇喟中任一項 喷墨用墨水,其中噴墨用墨水包括: 、斤处 0.1〜50 wt°/〇的含氟化合物(c),或農 與其他自由絲合性單體的絲錄,化合物(Q 0·1〜50 Wt%的化合物(B)。 42.如申請專概㈣34销述之噴_墨水,其中 103 200829658 25759pif 還包括化合物(A) ’其具有下述通式(])和(2)表示的構成單 元, 5? •C
    HOOC COOH 〇 II , C—〇-R --〇— (1) (2) —c、】/C-NH—r2 —NH-HOOC COOH (式中,R!、R2和R3分別獨立表示碳原子數為2〜 的有機基團)。 43·如申請專利範圍第42項所述之噴墨用墨水,其中 化合物(A)至少使用多元羥基化合物(al)、二胺(a2)和^有 陶個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 ’、 44.如申請專利範圍第43項所述之噴墨闬墨水,其 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物⑻)為:選自四_ \ ::以及具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單體白 Ϊ: -物所組成的組群的—種或一種以上。 ^的共 請專概㈣44項所述之噴墨 具有酸酐基的聚合性單體與其他聚合性單二其中 乙缔-馬來_絲物。 &早翻妓物為笨 多元利範圍第43項所述之嘴墨用墨水,其中 甘醇、丙二醇、二丙坪甘和—甘醇、四 二醇、α戊二醇、四丙二醇、认丁 季戊四醇以及_牽A /内一醇、二羥曱基丙烷、 及—季戊四醇所組成的組群的一種或—種以 104 200829658 25759pif 上; 石。一胺(a2)為選自4,4’一二胺基二苯砜、3,3、二胺基二苯 j _一,基二苯颯、雙胺苯氧基)苯基]颯、雙[4-(3-乳基}苯基]職、雙[3,_胺苯氧基}苯基]颯、Μ*胺苯 '一)才基][3 (4"*版本氧基)苯基]石風、[4-(3、胺装氯美)装 基]叫4還苯氧基)苯某w、4 4,_ _ J A & ^基)本 一」风4,4 一胺基一求醚、4,4,-二胺 :二茇甲:、I—胺基二苯曱烷、3,3'二甲基_4,4'二胺 二 、^ 2,2_雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙垸、2,2_雙[4_(4_ 本基]六氣丙烧以及式⑷表#的化合物所組成的 、、且群的一種或一種以上; R4 R4 H2N—一。^r6^_nH2 R5 R5 或笨i式.(〗6中獨立表示碳原子數為1〜3 f的烧基 基;X獨立矣獨^表r亞曱基、亞苯基或垸基取代的亞苯 勹立衣不1〜6的整數;y為1〜1〇的整數) 〃有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙 二―軒來酸軒共聚物、偏苯三酸二酐、1,2,3,4·環丁院四甲酸 3、U,3,4·丁烧四曱酸二酐、1,2,4,5_環己垸四甲酸二 酸二,3’,4,4’-二苯醚四曱酸二酐以及3,3,,4,4,_二苯砜四曱 欠一酐所組成的組群的一種或一種以上。 多一 如申請專利範圍第43 ·項所述之喷墨用墨水,其中 1 6_已一土^匕合物(al)為選自1,4-丁二醇、1,5·戊二醇以及 ’ 一醇所組成的組群的一種或一種以上; 105 200829658 25759pif —胺(a2)為選自3 g,一 醚、4,4,-二胺基二苯甲;;=基二苯礙、4,4’·二胺基二苯 組群的一種或一種以上“及式⑷表示的化合物所組成的 。)^r6 浍叫 基,表示1〜 具有兩_兩_讀酐絲化合帅 —馱、本乙烯-馬來酸酐共聚物、 k自偏本 :3,3’,4,4’二—酸二㈣及^四甲酸二 成的組群的一種或一種以上。 ,馱二酐所組 48‘如申請專利範圍第34項所述 遇包括環氧樹脂⑼。 之H墨水,其中 / \ 專纖圍第48顿述之 〇 〆〇
    c-。-CH2—CH - CH2 c 一 Ο-CH2—CH - CH2 (5) π V/ 〇 〇
    106 (6) 200829658 /jypir
    50, 如申請專利範圍第34項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 51. —種喷墨用墨水,包括:共聚物(C’),上述共聚物 (C’)包含有以通式(3)表示的含氟化合物(C)與其他自由基 聚合性單體, I 、 Rf1
    (式(3)中,Rg表示單鍵或任意的亞甲基可以被氧取代 107 200829658 25759pjf 的石反原1子數為l〜2〇的亞烷基; 代的ίϋΐ賴立表4 基可以被氧取 1U:數ί 1二0 =狀或支鏈狀氟烧基、-個或 氟芳基、^可以被__CF3取代的碳原子數為6〜20的 的石炭原中—個或―個以上的氫可以被氟或_CF3取代 取代的^為7〜Μ的氟芳烧基、任意的亞甲基可以被氧 基、聲广、子數為1〜2G的直鏈狀或支鏈狀不含敦的燒 2〇的^數為6〜2〇的不含氟的芳基或碳原子數為7〜 氟芳含氟的芳烷基;Rf】〜Rf?中至少有一個為氟烷基、 氧方卜亨芳烷基; 烯基每ΐΐ具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、苯乙烯基、乙 馬來醯亞胺的碳原子數為2〜100的有機基邱團土)。乙 >2.7如曱請專利範圍第5][項所述之喷墨用墨水,其中 / 了Rf7分別獨立表示:2,2,2_三敦乙基、3,3,3_三氟丙基、 :,〇,3’氟丙基、2,2,3,3,3_五氟丙基、3,3,4,4,4_五氟丁美 3W,4,5,5,6,6,6-九氟己基。 )3·如申請專利範圍第51項或第52项所述之噴墨用墨 水,其中Rg為亞乙基、亞丙基或亞丁基。 54·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 其他自由基聚合性單體具有熱交聯性官能團。 55.如申请專利範圍第54項所述之喷墨用墨水,其中 其他自由基t合性單體所具有的熱交聯性官此團為:經 基、環氧乙烷、氧雜環丁烷、羧基、異氰酸酯、胺基或酸 酐。 56·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 108 200829658 25759pif 1他自^基聚合性單體為··選自(甲基)丙稀酸縮水甘油 酉曰、3,4’氧環己基(甲基)丙稀酸醋、(甲基)丙婦酸甲基縮 =甘,、(3-乙基各環氧丙烧基)甲基(甲基)丙賊醋、(甲 =丙二I 2-羥乙酯、(曱基)丙烯酸2_羥丙酯、(甲基)丙烯 酯、羥丁基(甲基)丙烯酸縮水甘油醚、丨,‘環己 烧二曱轉單(甲基)丙烯酸酯所組成的組群的—種或一種以 上° - t 一 57.如申印專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,苴中 還包括化合物⑻,其具有下述通式(2)表示的構成單元、, one I / ONC
    (2) HOOC COOH 機基(團1^]和R2分別獨立表示碳原子數為2〜⑽存 58.如申明專利範圍第57項所述之喷墨用墨水,^ I 1 匕合物⑻至少使用二胺(Μ)和具有兩個或兩個以上酸 基的化合物(b2)而合成。 _ '59·如申請專利範圍第58項所述之喷墨用墨水: =,(b】)為··選自至少由4,4,_二胺基二苯碾、二用 胺3ί&胺ίΐ苯硬、雙叫胺苯氧基)苯基]码 r:L二 ]硬、雙[3*胺苯氧基〗苯基]码 胺苯氧基)苯基][3_(4_胺苯氧基)苯基]則4分胺] 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]硬、4,4,_二胺基二苯鱗、心 -胺基二苯甲炫、3,3’_二胺基二苯f貌、3,3,-二甲基士 109 200829658 25759pif 二胺基二笨甲烷、Μ·雙[4_(4_胺笨氧基)苯基㈤烷、 雙[4-(4-胺笨氧基)苯基]六氟丙烷以及式(4)表示的化合’物 所組成的組群的一種或一種以上, 〇 R4 R4 H2N—和一〇^_令06^_叫 R5 R5 f ⑷
    £ #(式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為}〜3的烷美 或苯基,R6獨立表示亞曱基、亞笨基或烷基取代的亞^ 基,X獨立表示1〜6的整數;y為1〜1〇的整數), 而具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(b2)為:選自 偏苯二酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、丁烷四 甲酸二酐、1,2,4,5_環己烧四甲酸二酐、3,3,,4,4,·二笨鱗四 甲酸二酐以及3,3,,4,4,、二苯礙四曱酸二軒所組成的組群的 一種或一種以上。 60.如申請專利範圍第57項至第59項中任一項所述之 喷墨用墨水,其中喷墨用墨水包括: • 3 wt/°的含氟化合物(C),或具有含氟化合物 與其他自由基聚合性單體的共聚物(c,);以及 〇·1〜50 wt%的化合物(B)。 、进6L如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 通包括化合物(A),其具有下述通式⑴和⑺表示的構成單 兀, 110 200829658 iy/^ριί ? ? c χ—o- —1 I晒 I ο- α) HOOC COOH 〇 II -c o II x- -NH- (2) R] HOOC COOH (式t ’R3、R2和RH獨立表示碳原子數為 的有機基團)。 100 62. 如申請專利範圍第61項所述之喷墨用墨水,发 化合物㈧至少使用多元經基化合物⑻)、二胺㈣和^ 兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)而合成。 ·-负 63. 如申請專利範圍第62項所述之噴墨用墨水,发, 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物㈣為:^干 二肝以及具有㈣基㈣合性單體與其 ^ 聚物所組成的組群的—種或一種以上。 早, ^如中請專利範㈣63項所述之噴墨用墨水, /乙烯單體與其他聚合性單體的共聚物為笨 甘醇、丙二醇、Li為廷自乙二醇、二甘醇、三甘醇、四 二醇、!,5·戊二醇—、=、三丙.二醇、四丙二醇、认丁 季戊四醇以及二季“己二醇、丙三醇、三經甲基丙燒、 上· 戍四醇所組成的組群的一種或一種以 一胺^2)為砥自4,4,、二胺基二苯砜、3,3,_二胺基二笨 111 200829658 25759pif 砜、3^4’-二胺基二苯颯、雙[4_(4_胺苯氡基)苯基]碾、雙[心(1 胺苯氧基)苯基]颯、雙[3_(4_胺苯氧基)苯基風、[4_二_胺苯 氧基)苯基][3-(4-胺苯氧基)苯基]颯、[4_(3_胺笨氧基 基][3-(4-胺苯氧基)苯基]砜、4,4,_二胺基二苯醚、«,-二胺 基二苯甲烷、3,3,_二胺基二苯甲烷、3,3,_二甲基_4,4,_二胺 基二苯甲烷、2,2-雙[4-(4-胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2_雙 胺苯氧基)苯基]六氟丙烧以及式⑷表示的化合物所組成的 組群的一種或一種以上; 或苯ϋ)ϋ和一1表示碳原子數為i〜H完基 Α χ獨々V i rfJ基、亞苯基或焼基取代的亞苯 基,X獨立表不1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自苯乙
    H2N~^R6-M-f'~〇}y-SifR6)^NH2 R5 p5 烯-馬來酸軒共聚物、偏苯三酸二肝、1A3,4環丁炫四f酸 二酐、1,2,3,4-丁院四甲酸二㉛、以❻環己烧四甲酸二 酐、3,3’,4,4,-二苯醚四甲酸二酐以及3,3,,4,4',_二苯砜四甲 酸二酐所組成的組群的—種或一種以上。 —66.如申請專利範圍第62項所述之喷墨用墨水,其中 多兀經基化合物⑹為選自】,4_丁二醇、D-戍工醇以及 1,6-己二醇所組成的組群的一種或一種以上; ,一胺(a2)為選自3,3,-二胺基二苯砜、4,4,_二胺基二苯 _、4,4’-二腔基二苯甲燒以及式(句表示的化合物所組成的 112 200829658 25759pif 組群的一種或一種以上; R4 R4 H2N—(-R6^Si-O^SifR6)^NH2 R5 R5 ⑷ (式(4)中,R4和R5獨立表示碳原子數為1〜3的烷基 或苯基;R6獨立表示亞甲基、亞苯基或烷基取代的亞苯 基;X獨立表示1〜6的整數;y為1〜10的整數) 具有兩個或兩個以上酸酐基的化合物(a3)為選自偏苯 三酸、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、3,3’,4,4、二苯醚四甲酸二 酐、3,3’,4,4’-二苯颯四甲酸二酐以及丁烷四曱酸二酐所組 成的組群的一種或一種以上。 67. 如申請專利範圍第51項所述之喷墨闬墨水,其中 還包括環氧樹脂(D)。 68. 如申請專利範圍第67項所述之喷墨用墨水,其中 環氧樹脂〇D)為:選自下述式(5)〜(8)表示的化合物所組成 的組群的一種或一種以上, 〇 /〇 /x.C-〇-CH2-CH-CH2 一〇—ch2 - 卬 -ρη2
    (5) (6) 113 200829658 25759pif
    (式中,n為〇〜10的整數)。 ⑻ ^ 69·如申請專利範圍第51項所述之喷墨用墨水,其中 還包括產酸劑(E)。 ’、
    7〇·—種硬化膜,該硬化膜是經由以喷墨塗佈方法塗佈 如申凊專利範圍第1項至第69項中任一項所述之噴墨用黑 水以形成塗膜的製程而得到。 一 土 71·—種墨水塗佈方法,包括: 利用噴墨塗佈方法塗佈如申請專利範圍第 任:Γ斤述之嘴墨用墨水,之後使之乾燥形成塗膜的 對該塗膜進行加熱處理以形成硬化膜的製程 72. —種硬化膜形成方法,該 ^二。 圍”彻述之墨水㈣方法形成請專利範 73. 一種電子線路基板,該基板上配置有硬化膜,而該 114 200829658 25759pif 硬化膜是使用如申請專利範圍第72項所述之硬化膜形成 方法所形成。 74. —種電子部件,該電子部件包括如申請專利範圍第 73項所述之電子線路基板。 75. —種電子線路基板,其包括如申請專利範圍第70 項所述之硬化膜。 76. —種顯示元件,其包括如申請專利範圍第70項所 述之硬化膜。 115 200829658 七、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:無 八、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 益
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