TW200809856A - Recording system, recording device, and recording control signal generation device - Google Patents

Description

200809856 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於有使用到電子束、雷射光束、帶電光 束等之曝光光束的記錄裝置，尤其是有使用到曝光光束之 光碟、磁碟等之記錄媒體的原盤之製造的記錄裝置，對其 輸出控制訊號的記錄控制訊號生成裝置、記錄裝置、及具 備其之記錄系統。 【先前技術】 使用電子束或雷射光束等曝光光束來進行光微影的光 束記錄裝置，係被廣泛適用於數位多用途碟片（DVD : Digital Versatile Disc) 、Blue-ray Disc 等之光碟、磁性 記錄用之硬碟等大容量碟片的原盤製造裝置上。 例如，在光碟等製造之際，首先，將沿著軌道的所定 凹凸圖案，形成在原盤上，再由該原盤來形成碟片印模（ stamper )。然後，使用該碟片印模來將合成樹脂等施以加 熱擠壓加工或射出成形，圖案就從原盤轉印至記錄面上’ 將其進行金屬蒸著處理後，形成透光性基板等。 此處，對原盤的圖案記錄係藉由光束記錄裝置來進行 。在光束記錄裝置中，是一面令作爲原盤的基板載置於轉 盤（Θ平台）上而令其往旋轉方向（Θ方向）旋轉，一面 將該旋轉之轉盤本身載置於運送平台（X平台）上而適宜 地往包含旋轉中心的半徑方向（x方向）進行運送，藉此 以控制使得基板記錄面上描繪出螺旋狀（或同心圓狀）的 -4- 200809856 (2) 軌道軌跡（例如參照專利文獻1及專利文獻2 )。 〔專利文獻1〕日本特開2003-242924號公報 〔專利文獻2〕日本特開2003-241394號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 如上述，於光束記錄裝置中，當使運送平台往X方向 移動時’本來的意圖是使光束照射位置通過轉盤的旋轉中 心。可是在此同時，在現實中，因記錄裝置的各構成零件 之寸法誤差、組裝誤差等導致每台記錄裝置會發生偏誤， 而有不會通過旋轉中心的情形。又，射出光束的電子槍與 轉盤或運送平台即使配置成正確的位置關係，有時也會隨 著從電子槍射出之光束調整時的控制精度，導致照射位置 發生偏誤之情形，而且其偏誤量（即使在同一記錄裝置上 )也可能會每天改變。因爲此種原因，若保持在發生光束 照射位置和轉盤旋轉中心的位置偏誤（=誤差）的情況下 進行記錄，則記錄動作無法高精度進行，可能導致記錄圖 案的發生歪斜。 本發明所欲解決之課題，係舉出上記問題爲一例。 〔用以解決課題之手段〕 爲了解決上記課題，申請項1所記載之發明，係屬於 對具有：光束偏向手段，係對已形成有光阻層的基板，令 曝光光束之照射位置相對性地移動；和基板速度調整手段 -5- 200809856 (3) ，調整前記基板的周方向或徑方向移動速度；和斷續控制 手段，進行前記曝光光束之照射的斷續控制；且一面以前 記基板速度調整手段所調整過之前記周方向或徑方向移動 速度來促使前記基板移動，一面將被前記光束偏向手段移 動照射位置之曝光光束照射在前記光阻層，藉此而在前記 光阻層上形成潛像之記錄裝置，對其生成潛像形成所需之 控制訊號並加以輸出的記錄控制訊號生成裝置，其特徵爲 ，具有：記錄訊號輸入手段，將記錄訊號加以輸入；和個 性資訊訊號輸入手段，作爲訊號補正要素，而將前記記錄 裝置的個性資訊所對應之個性資訊訊號，加以輸入；和訊 號生成手段，隨應於前記記錄訊號輸入手段所輸入之前記 記錄訊號，及，前記個性資訊訊號輸入手段所輸入之前記 個性資訊訊號，至少生成給前記光束偏向手段及前記基板 速度調整手段的補正後控制訊號。 又申請項8所記載之發明，係一種記錄系統，係具有 記錄裝置及記錄控制訊號生成裝置，其中記錄裝置係具有 :光束偏向手段，係對已形成有光阻層的基板，令曝光光 束之照射位置相對性地移動；和基板速度調整手段，調整 前記基板的周方向或徑方向移動速度；和斷續控制手段， 進行前記曝光光束之照射的斷續控制；且一面以前記基板 速度調整手段所調整過之前記周方向或徑方向移動速度來 促使前記基板移動，一面將被前記光束偏向手段移動照射 位置之曝光光束照射在前記光阻層，藉此以在前記光阻層 形成潛像；記錄控制訊號生成裝置，係對該記錄裝置，生 -6 - 200809856 (4) 成前記潛像形成所需之控制訊號；其特徵爲’隨應於記錄 訊號、和前記記錄裝置之個性資訊所對應之作爲訊號補正 要素之個性資訊訊號，將至少生成給前記記錄裝置之前記 光束偏向手段及前記基板速度調整手段的補正後控制訊號 . 的訊號生成手段，設置在前記記錄裝置及前記記錄控制訊 / 號生成裝置之至少一方。 . 又申請項1 5所記載之發明，係於具有：光束偏向手 段，令曝光光束之照射位置移動；和基板速度調整手段， 調整基板的周方向或徑方向移動速度；和斷續控制手段， 進行前記曝光光束之照射的斷續控制；和記錄控制訊號生 成手段，生成前記潛像形成所需之控制訊號；且一面以前 I己基板速度§周整手段所調整過之則g己周方向或徑方向移動 速度來促使前記基板移動，一面將前記曝光光束照射至前 記基板上的光阻層，以形成潛像的記錄裝置中，前記控制 訊號’係隨應於前記記錄裝置之個性資訊所對應之個性資 訊訊號而被補正。 【實施方式】 • 以下’ 一面參照圖面，一面說明本發明之一實施形態 〇 圖1係具備了本實施形態之格式化器（記錄控制訊號 生成裝置）及其對象的記錄裝置（電子束記錄裝置）的記 錄系統S之構成的模式性區塊圖。本實施形態，係在使用 電子束製作光碟製造用之原盤的碟片刻錄裝置上，適用本 200809856 (5) 發明時的實施形態。 於圖1中，電子束記錄裝置10，係具有：真空氣密室 1 1、配置於該真空氣密室π內的轉台1 6、載置於該轉台 16上之表面塗佈有光阻的碟片原盤用基板15、使轉台16 以碟片基板主面的垂直軸繞行而旋轉驅動的轉軸馬達1 7、 設在轉軸馬達1 7上部的運送平台（以下亦稱作X平台） 18、被安裝在真空氣密室11內的電子束生成管20。 真空氣密室1 1，係隔著氣墊阻尼等之防振台（未圖示 )而設置，可抑制來自外部的振動傳達。又，真空氣密室 1 1係連接著真空泵（未圖示），藉此以將氣密室內排氣， 使真空氣密室 Π之內部設定成爲所定壓力之真空氛圍。 此外，在真空氣密室1 1中，係設有用來偵測基板1 5表面 之高度的光源 36A，和例如含有位置感測器或 CCD ( Charge Coupled Device)等之光偵測器36B (詳細機能將 於後述）。 轉台1 6係由介電體例如陶瓷所成，具有靜電吸附（ Electrostatic chucking )機構（未圖示）。該靜電吸附機 構，係具備用來使轉台1 6 (陶瓷）和設在轉台1 6內之引 發靜電分極之導體所成的電極。該當電極上係連接著高電 壓電源（未圖示），藉由從高電壓電源對該當電極施加電 壓，就可將基板1 5予以吸附保持。 X平台1 8，係被結合在屬於移送（並進驅動）裝置的 運送馬達1 9，可使轉軸馬達1 7及轉台1 6在和基板1 5主 面平行的面內之所定方向（X方向）上移動，是由該X平 -8- 200809856 (6) 台1 8、和上記轉軸馬達1 7及轉台1 6而構成了 X 0平台。 此時，在X平台1 8上，配有雷射干涉系3 5之一部份 亦即反射鏡3 5 A。雷射干涉系3 5，係使用來自未圖示之光 源的測距用雷射光所致之上記反射鏡3 5 A的反射光來測量 ， 至X平台1 8爲止的距離，並將該測距資料，亦即X平台 二 1 8的運送（X方向）位置資料，送至作爲基板速度調整手 、 段的平台旋轉·運送驅動部37A、37B。 又，轉軸馬達17的旋轉訊號，亦被送至平台旋轉· 運送驅動部37A、37B。該當旋轉訊號，係包含表示基板 1 5的基準旋轉位置的旋轉同步訊號，以及從基準旋轉位置 起算之每一所定旋轉角的脈衝訊號。平台旋轉·運送驅動 部3 7A、37B，係藉由該當旋轉訊號，獲得基板15的旋轉 角、旋轉速度、旋轉頻率等。 平台旋轉·運送驅動部3 7 A、3 7B，係基於如上記取 得之來自X平台1 8的運送位置資料和來自轉軸馬達1 7的 旋轉訊號，生成表示電子束點的基板上位置的位置資料， _ 供給至格式化器1〇〇。格式化器1〇〇係基於該位置資料而 向平台旋轉·運送驅動部37A、37B輸出控制訊號，平台 • 旋轉·運送驅動部37A、3 7B係基於該來自控制器100的 . 控制訊號，來驅動轉軸馬達1 7及運送馬達1 9。亦即，屬 於轉軸馬達1 7及X平台1 8的驅動量、亦即轉台1 6 (亦 即基板15)的旋轉角X及平台18的運送量，是透過平台 旋轉·運送驅動部37A、3 7B而被上記格式化器100所控 制。 -9- 200809856 (7) 此外，雖然以上係針對具有ΧΘ系平台的情 明，但亦可構成爲，使用ΧΥ系平台，由平台旋 驅動部37Α、37Β來驅動該當ΧΥ系平台以免除 X、Υ位置控制。 在電子束生成管20內，係依序配置有：射 的電子槍（射極）2 1、將所射出的電子束加以收 透鏡22、遮沒電極23、隙孔24、光束偏向電極 透鏡27、接物透鏡28 ;然後還含有，基於來自 100的光束位置補正訊號來進行電子束位置補正 極。 電子槍2 1，係藉由施加有加速高壓電源（未 供給來之高壓電的陰極（未圖示），射出加速至: 的電子束（ΕΒ )。 遮沒電極23，係基於受到來自格式化器100 號所控制的遮沒控制部3 1所送來的調變訊號， 子束的開/關切換（ΟΝ/OFF )。亦即，藉由在遮艺 間施加電壓而使通過之電子束較大偏向，就可阻 通過隙孔24，使電子束變成OFF狀態。 光束偏向電極2 5，係基於受到來自格式化器 制訊號所控制的光束偏向部3 3 (光束偏向手段） 控制訊號，將電子束進行高速偏向控制。藉由該 ，進行對基板1 5的電子束點的位置控制。 聚焦透鏡27，係基於受到來自格式化器100 號所控制的對焦控制部3 4所送來的驅動訊號而 形加以說 轉·運送 光束點的 出電子束 束的收束 25、聚焦 格式化器 的定位電 圖示）所 數 lOKeV 之控制訊 來進行電 J電極23 止電子束 100之控 所送來的 偏向控制 之控制訊 加以驅動 -10- 200809856 (8) ，進行電子束的對焦控制。 此時，對焦控制部3 4中係被輸入著來自高度偵測部 3 6的偵測訊號。亦即，上記光偵測器3 6 B，是將從光源 36A射出而被基板15表面反射的光束加以受光，將該受 光訊號供給至高度偵測部3 6。高度偵測部3 6，係基於該 受光訊號來測出基板1 5的表面高度然後生成偵測訊號， 聚焦控制部3 4係基於該當偵測訊號來進行電子束的對焦 控制。 對格式化器1〇〇，係透過未圖示的適宜介面（記錄訊 號輸入手段、個性資訊訊號輸入手段），而供給著欲記錄 之記錄資料（記錄訊號）RD，和代表各電子束記錄裝置 1 〇之個性的個性資訊訊號（詳細後述）S C。記錄資料RD ，係爲碟片記錄時所用之調變資料，例如在D V D碟片係 爲經過8/16調變等所致之調變資料。格式化器1〇〇，係基 於該記錄資料RD、和上記運送位置資料及旋轉位置資料 ，再加上基於上記個性資訊訊號S C，而對上記遮沒控制 部3 1、上記光束偏向部3 3、及上記對焦控制部3 4，分別 送出遮沒控制訊號S B (詳言之係後述之補正後控制訊號 SBm )、偏向控制訊號SD (後述之來自加算器46的訊號 及來自運送驅動部3 7B的訊號），及對焦控制訊號Sf， 進行記錄（曝光或描繪）控制。亦即，基於記錄資料而對 基板1 5上的光阻照射電子束，只有被電子束照射而曝光 的地點，會形成對應於記錄凹坑的潛像而被進行記錄。 此外，於圖1中，雖然關於遮沒控制部3 1、光束偏向 -11 - 200809856 (9) 部3 3、聚焦控制部3 4、平台旋轉·運送驅動部3 7 A、3 7B ，主要是針對訊號線來圖示，但這些各構成部係對格式化 器1〇〇雙向連接，而是構成爲可收送必要之訊號。 此處，格式化器1 〇〇，係具有訊號生成部，係用來隨 應於上記記錄資料RD及個性資訊訊號S C，來生成給光束 偏向部33及平台旋轉·運送驅動部37A、37B之補正後控 制訊號。 圖2係格式化器1 00當中，進行光束之偏向控制、遮 沒控制、基板1 5之位置控制的部份的詳細構成之一例的 機能區塊圖。圖2中，格式化器1 〇〇，在此例中係爲具備 訊號生成部30(訊號生成手段）、基板速度變換器38。 訊號生成部3 0，係具備：將記錄資料RD予以補正而 輸出成補正後記錄資料RDm的記錄訊號補正器47 (第1 訊號補正手段）、基於該補正後記錄資料RDm而生成光 束偏向訊號Vbeamm及基板速度訊號Vsubm的偏向·基板 速度訊號生成器41 (第1偏向•基板控制訊號生成手段） 、偏向量補正器45、加算器46、基於上記補正後記錄資 料RDm來生成遮沒控制訊號SBm (補正後）的遮沒訊號 生成器42。 記錄訊號補正器47，係將來自電子束記錄裝置1〇所 具備之未圖示的所定操作手段（或其他外部機器）的上記 記錄資料RD和上記個性資訊訊號SC分別加以輸入，將 記錄資料RD基於個性資訊訊號S C而加以補正，作爲補 正後記錄資料RDm而向偏向·基板速度訊號生成器4 1輸 -12- 200809856 (10) 出。 偏向·基板速度訊號生成器41，係被輸入著來自上記 記錄訊號補正器4 7的補正後記錄資料RDm，基於該資訊 ，生成指定光束偏向量的光束偏向訊號Vbeamm，和指定 基板15之動作速度的基板速度訊號VSUbm。又偏向·基 板速度訊號生成器4 1，係具備未圖示之低通濾波器。該低 通濾波器，係將基板速度訊號Vsiibm的基礎訊號當中已對 應於X 0平台系之機械性追從極限的所定之高頻截止頻率 fc (詳細後述）以下的成份加以抽出，將其當成基板速度 訊號Vsubm而供給至基板速度變換器38。此外，亦可取 代低通濾波器改用帶通濾波器（BPF )等。基板速度變換 器38係將基板速度訊號Vsubm分解成0成分及X成分，

分別供給至旋轉驅動部3 7 A及運送（X方向）驅動部3 7B 〇 遮沒訊號生成器42，係被輸入著來自上記記錄訊號補 正器47的補正後記錄資料RDm，基於該資訊，生成用來 ΟΝ/OFF切換電子束之遮沒控制訊號SBm (補正後），並 輸出至遮沒控制部3 1。 旋轉驅動部37A及運送驅動部37B，係如前述般地對 應於包含轉軸馬達17及X平台18之上記X0平台系是具 有機械性追從極限之事實，使用基板1 5的基板速度訊號 Vsubm之0成分及X成分當中的所定頻率成份來驅動轉軸 馬達1 7及X平台1 8。其詳細將使用圖3來說明。 圖3係0平台及X平台的追從頻帶，和上記低通濾波 -13- 200809856 (11) 器（lpf )的通過頻帶，和進行記錄動作之頻帶的 說明圖。 於圖3中，Θ平台及X平台的追從限制頻率係 f 1、f2表示，低通濾波器的高頻截止頻率係以fc 0平台及X平台於該當限制頻率以下則X 0平台系 機械性上追從。對應於此，旋轉驅動部3 7 A及運送 3 7B，係將基板15的基板速度訊號Vsubm之0成 成分當中，爲了驅動轉軸馬達17及X平台18，而 出限制頻率f 1、f2以下之頻率的旋轉成份（0 〇 ) 成份（X0 )。 返回圖2，如上記所抽出之基板15的基板速 Vsub之0成分及X成分的限制頻率fl、f2以下之 旋轉成份（Θ0 )及運送成份（χ〇 )，係從旋轉驅動 及運送驅動部3 7B，供給至轉軸馬達1 7及運送馬^ 另一方面，超過上記限制頻率（fl，f2 )的屬於殘 旋轉成份（θ 1 )及運送成份（X 1 )，係從旋轉驅動 供給至偏向量補正器45，或者從運送驅動部37B 光束偏向部3 3。 偏向量補正器45，係隨應於上記基板速度訊號 之旋轉方向的殘留成分（0 1 )和半徑位置，生成 ，輸出至加算器46。 加算器4 6，係將從前述偏向·基板速度訊號 4 1所供給過來的光束偏向訊號v b e a m，和來自上記 補正器45的補正訊號進行加算，並供給至光束偏作 模式性 :分別以 表示， 是可在 驅動部 分及X 分別抽 及運送 度訊號 頻率的 部3 7A 姜1 9 ° 留份的 部37A 供給至 V subm 偏向量 生成器 偏向量 5部33 -14- 200809856 (12) 如以上所述’動作頻帶狹窄的機械系（X0平台系） 的殘留誤差成份，係對光束偏向訊號Vbeamm以前饋加算 之，藉由光束的偏向來補正。又，前述低通濾波器（LPF )的截止頻率（fc )以上之頻率，係被使用於凹坑記錄。 圖4係上記記錄訊號補正器4 7中的記錄資料RD之補 正意義的模式性說明圖。 如上記，在光束記錄裝置基板記錄面上1 0中，是將 基板1 5載置於轉盤1 6上而以轉軸馬達1 7使其一面往旋 轉方向（Θ方向）旋轉，一面將該轉軸馬達1 7載置於X 平台18之上而適宜地往包含旋轉中心的半徑方向（X方 向）進行運送，藉此以控制使得基板記錄面上描繪出所定 之軌道軌跡。而於此時，在使上記X平台1 8往X方向移 動時，原本是希望光束照射位置會通過被轉軸馬達17旋 轉之轉台1 6的旋轉中心。 可是在此同時，在現實中，因光束記錄裝置10的各 構成零件之寸法誤差、組裝誤差等導致每台記錄裝置會發 生偏誤，在使X平台1 8往X方向移動時，光束照射位置 有可能不會通過旋轉中心。又，即使將射出光束的電子束 生成管20和轉軸馬達17或X平台18配置成適正的位置 關係，有時也會隨著從電子束生成管20射出之光束調整 時的控制精度，導致照射位置發生偏誤之情形，而且其偏 誤量（即使在同一光束記錄裝置1〇上）也可能會每天改 變。因爲此種原因，若保持在發生光束照射位置和轉軸馬 -15- 200809856 (13) 達1 7旋轉中心的位置偏誤（目標照射位置和實際照射位 置之間的偏差亦即偏移量（5 )的情況下進行記錄，則如圖 4所示，會有發生記錄圖案歪斜之可能性。 在格式化器1〇〇的訊號生成部30中，爲了消除起因 於上記位置偏誤之記錄圖案歪斜，以記錄裝置1 0的各零 件之組裝寸法精度或各控制機器之控制精度爲基礎之作爲 機械性誤差的誤差（上記偏移量5等。是隨著每個記錄裝 置1〇的個體而不同。又可能在同一個體也是每日改變。 )所對應之個性資訊訊號（誤差資訊訊號、偏差資訊訊號 )S C是從外部輸入，將記錄資料RD對應於該當個性資訊 訊號S C而加以補正，基於此而在偏向•基板速度訊號生 成器41上生成基板速度訊號Vsubm (補正後）及光束偏 向訊號Vbe am m，並且在遮沒訊號生成器42上生成遮沒訊 號 S B m 〇 此處，關於個性資訊訊號S C係表示更具體之一例。 如上述，個性資訊（光束照射位置和旋轉中心之位置偏移 )的主要發生原因如下。 1 )記錄裝置之各構成零件的寸法誤差·組裝誤差 2)電子光學系的調整所造成的誤差 則者無差係可達到數百// m〜數m m且其絕對値較 大，後者最大也有數百程度而作爲典型値係幾乎會達 到數// m左右。 1 )記錄裝置之各構成零件的寸法誤差·組裝旨吳差 寸法誤差·組裝誤差係可能達到數百# m〜數m m， -16- 200809856 (14) 但若不將其一度分解並再次進行組裝，就幾乎不會再改變 。因此， •電子束記錄裝置1 0的組裝 •光束照射位置和旋轉中心之位置偏移的測定 •對記錄訊號生成裝置1 00設定個性資訊SC 若令這些事情是在製造業者側進行，則只要是能夠容許後 述電子光學系所造成之誤差的使用者，就能以此狀態，半 固定地使用下去。換言之，使用者係將包含記錄訊號生成 裝置100的電子束記錄裝置10想成一體，只要給予其欲 進行記錄之訊號RD，就能獲得不發生誤差的曝光圖案。 2)電子光學系的調整 電子光學系的調整，係隨著所需之電子束的質（電子 束的光束直徑等），其頻繁程度會有所改變。例如，當欲 獲得以該電子光學系所能獲得之最細束徑的情況下，雖然 該束徑難以長時間維持，但若只要是考慮生產性而做某種 程度妥協後之束徑以下即可的話，則可長時間維持。 亦即隨著使用者不同，可能數個月一次、數週一次、 每週一次、每日、每張記錄基板、基板內的每幾個記錄區 域等等時間內，就會需要進行調整。因此， •光束調整 •光束照射位置和旋轉中心之位置偏移的測定 •對記錄訊號生成裝置1 0 0設定個性資訊s C •曝光 之循環是以一定期間而反覆進行。 -17- 200809856 (15) 此外，此處所述之光束調整’係表示關於電子束本身 的調整。具體而言，此處所謂的光束調整係有，例如存在 於電子束生成管之各部的複數電子透鏡（磁場透鏡、靜電 透鏡）之驅動電路的設定値之調整，或機械性地調整射極 之位置或隙孔之位置。藉由此類調整，就可使光束被聚焦 成適合記錄圖案的所望束徑以下。 圖5係當不考慮微細之照射位置偏移仍可時的調整方 法之一例的流程圖。 首先在步驟S1中，進行電子束記錄裝置10的組裝。 其次在步驟S2中，如上述般地測定光束照射位置和旋轉 中心的位置偏移。其次在步驟S3中，如上述般地設定給 記錄訊號生成裝置1〇〇的個性資訊（偏移量）SC。這些步 驟S 1〜步驟S 3，係爲裝置製造商（製造業者）側的作業 ，尤其是步驟S2極步驟S3，分別都是電子束記錄裝置10 組裝時所進行的步驟，是進行1次即可的步驟。 另一方面，接著在步驟S7中，使用電子束記錄裝置 1 〇進行曝光。接著在步驟S 8中，判斷是否經過一定時間 。若未經過一定時間，則再度執行上記步驟S 7，反之， 若已經過一定時間，則再度執行上記步驟S4。此步驟S4 (及步驟S7)，係爲購入該電子束記錄裝置10之使用者 所進行的步驟。 圖6係每次光束調整就調整照射位置偏移時的調整方 法之一例的流程圖。此外’圖6所示之各程序，係省略和 圖5所示各程序相同者的說明，以下主要是以相異點爲中 -18- 200809856 (16) 心來說明。 如圖5所示，在裝置製造商側係執行步驟s 1〜步驟 S 3，在使用者側執行步驟s 4後，於使用者側將執行接下 來所示之步驟S 5。在該步驟S 5中，測定光束照射位置和 • 旋轉中心的位置偏移。其次在步驟S 6中，設定了要給記 / 錄訊號生成裝置1 〇〇的個性資訊（偏移量）。接著在步驟 ^ s 7中，和上記同樣地使用電子束記錄裝置1 0進行曝光。 接著在步驟S 8中，判斷是否經過一定時間。若未經過一 定時間，則再度執行上記步驟S 7，反之，若已經過一定 時間，則再度執行上記步驟S 4〜步驟S 7。這些步驟S 4〜 步驟S6 (及步驟S7 )，係爲購入該電子束記錄裝置1〇之 使用者所進行的步驟。 此處，作爲光束照射位置和旋轉中心之位置偏移測定 方法，係可爲如下所例示者。 光束照射位置和旋轉中心之位置偏移測定法，係存在 有數種手法。 . 1 )圖案描繪所致之偏移量測定法 描繪如圖4的放射圖案，顯影後已測長顯微鏡等來觀 " 察圖案形狀，就可測定偏移量。 ' 2 )圖案觀察所致之偏移量測定法 參考文獻（Appl. Opt. Vol.33，No. 1 0,203 2 ( 1 994 ) ，Shiro Ogata 等，’’Electron-beam writing system and its application to large and high-density diffractive optic elements”），在真空室內的選轉平台上配置網格等，一面 -19- 200809856 (17) 令樣本旋轉一面觀察二次電子像，藉此可測定偏移量。 如以上說明，記錄訊號生成裝置100中的記錄訊號生 成裝置1 00，係對具有：光束偏向手段（此例中係爲光束 偏向部）3 3，係對已形成有光阻層的基板1 5，令曝光光束 • 之照射位置相對性地移動；和基板速度調整手段（此例中 / 係爲旋轉·運送驅動部）37A、37B，調整基板1 5的周方 . 向或徑方向移動速度；和斷續控制手段（此例中係爲遮沒 控制部）3 1，進行曝光光束之照射的斷續控制；一面以被 該基板速度調整手段37A、37B調整過之周方向或徑方向 移動速度來促使基板15移動，一面將被光束偏向手段33 移動照射位置之曝光光束照射在光阻層，藉此在光阻層中 形成潛像之記錄裝置（此例中係爲電子束記錄裝置）1 0， 對其生成潛像形成所需之控制訊號並加以輸出的記錄控制 訊號生成裝置1〇〇，其特徵爲，具有：記錄訊號輸入手段 ，將記錄訊號（此例中係爲記錄資料）RD加以輸入；和 個性資訊訊號輸入手段，作爲訊號補正要素，而將記錄裝 ， 置10的個性資訊（此例中係爲偏移量6 )所對應之個性 資訊訊號SC，加以輸入；和訊號生成手段（此例中係爲 * 訊號生成部）30，隨應於記錄訊號輸入手段所輸入之記錄 - 訊號RD及個性資訊訊號輸入手段所輸入之個性資訊訊號 s C，至少生成對光束偏向手段3 3及基板速度調整手段 3 7 A、3 7 B的補正後控制訊號（此例中係爲光束偏向訊號 Vbeamm及基板速度訊號Vsubm)。 於本實施形態之記錄控制訊號生成裝置1 0 0中，除了 -20- 200809856 (18) 將對應之記錄裝置1 〇的個性資訊訊號sc以個性資訊訊號 輸入手段加以輸入，另一方面，將記錄訊號RD以記錄訊 號輸入手段輸入，隨應於該記錄訊號RD、和作爲補正要 素的上記個性資訊訊號S C，在訊號生成手段3 0至少生成 對光束偏向手段33及基板速度調整手段37A、37B的補正 後控制訊號（此例中係爲光束偏向訊號Vbeamm、基板速 度訊號Vsubm)。 藉此，可對應於隨記錄裝置1 〇的每一個體而可能互 異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度所導 致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個體之該 當誤差之補正的補正後控制訊號 Vbeamm、Vsubm，向對 應之個體輸出。其結果爲，輸入該補正後控制訊號 Vbeamm、Vsubm的對應之記錄裝置10，係可以誤差被減 低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。又，即使 同一記錄裝置1 〇上每天的誤差特性不同的情況下，仍可 確實地對應該變化之特性，進行高精度的記錄動作。 甚至，即使不考慮誤差時，亦可爲，對於基礎部份的 控制樣態爲共通而其以外之附加部份的控制樣態爲不同的 複數種類之記錄裝置1 0，可使其分別具備對應上記基礎部 份的1個共通的控制程式，將對應上記部份的控制程式內 容視爲各記錄裝置1 〇的個性而當成補正要素，藉由記錄 控制訊號生成裝置1 00將補正後的控制訊號分別輸入至各 記錄裝置1 〇。此時，對複數種類之記錄裝置1 0，由於僅 需準備上記1個共通控制程式即可，因此可達成控制構成 -21 - 200809856 (19) 、控制程式的簡單化、簡略化，可降低製造成本。 上記實施形態中的記錄控制訊號生成裝置1 00中，其 特徵爲，訊號生成手段3 0，係具備：第1訊號補正手段（ 此例中係爲記錄訊號補正器）47，將記錄訊號輸入手段所 • 輸入之記錄訊號RD，基於個性資訊訊號輸入手段所輸入 .· 之個性資訊訊號SC而加以補正；和第1偏向•基板控制 . 訊號生成手段（此例中係爲偏向•基板速度訊號生成器） 4 1，隨應於該第1訊號補正手段47所補正過之記錄訊號 RD，生成給前記光束偏向手段3 3及基板速度調整手段 3 7 A、3 7 A的補正後控制訊號V s u b m、V b e a m m。 藉由將記錄訊號輸入手段所輸入之記錄訊號RD以第 1訊號補正手段4 7先行補正後再供給至第1偏向·基板控 制訊號生成手段4 1的構成，由於補正對象訊號是只需1 個記錄訊號RD即可，因此可達成控制構成的簡單化。 上記實施形態中的記錄控制訊號生成裝置1 00中，其 特徵爲，個性資訊訊號輸入手段，係作爲個性資訊訊號， • 是輸入誤差資訊訊號SC，其係對應於以記錄裝置1 〇之寸 法精度或控制精度爲基礎之誤差資訊（此例中係爲偏移量 ' 〇 )。 • 將記錄訊號RD、和作爲補正要素之誤差資訊訊號s C 以個性資訊訊號輸入手段進行輸入，並隨應於其，以訊號 生成手段3 0來生成給光束偏向手段3 3及基板速度調整手 段37A，37B的補正後控制訊號，藉此，就可對應於記錄 裝置10之每一個體可能不同之各零件之組裝寸法精度或 -22- 200809856 (20) 各控制機器之控制精度爲基礎之誤差（機械性誤差），生 成符合各個體之該當誤差的補正後控制訊號。 上記實施形態中的記錄控制訊號生成裝置1 0 0中，其 特徵爲，個性資訊訊號輸入手段，係作爲個性資訊訊號， . 是輸入偏差資訊訊號S C，其係對應於曝光光束所致之目 標照射位置與實際照射位置之偏差（此例中係爲偏移量5 - )° 藉此，可對應於隨記錄裝置10的每一個體而互異之 各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度所導致的 目標照射位置·實際照射位置間之偏移偏差，生成符合各 個體之該當誤差的補正後控制訊號Vsubm、Vbeamm。 此外，於上記實施形態的格式化器1 00中，於訊號生 成部3 0中，是先將記錄資料RD以記錄訊號補正器47補 正後，再將該補正過的記錄資料RD，輸入至偏向·基板 速度訊號生成器41及遮沒訊號生成器42，以生成光束偏 向訊號Vbeamm、基板速度訊號Vsubm、及遮沒訊號SBm :但是並非受限於此，亦可於之後進行補正。 圖7係此變形例所致之格式化器1 00A當中，進行光 • 束之偏向控制、遮沒控制、基板1 5之位置控制的部份的 . 詳細構成之一例的機能區塊圖，係相當於前述圖2的圖。 圖7中，此格式化器1 〇〇A，在此例中係爲具備相當於前 述訊號生成部30的訊號生成部3 0A(訊號生成手段）， 和與前述相同的基板速度變換器3 8。 訊號生成部30A，係具有：偏向·基板速度訊號生成 -23- 200809856 (21) 器4 1 A (第2偏向·基板控制訊號生成手段）、遮沒訊號 生成器42A、偏向·基板速度訊號補正器147、遮沒訊號 補正器148、和上記同樣的偏向量補正器45及加算器46 〇 - 偏向·基板速度訊號生成器4 1 A，係具備和上記偏向 • •基板速度訊號生成器41同等的機能，透過未圖示之介 ♦ 面，將記錄資料RD輸入而生成作爲基礎控制訊號的光束 偏向訊號Vbeam及基板速度訊號Vsub(未補正）。偏向 •基板速度訊號補正器147 (第2訊號補正手段），係透 過未圖示之介面來輸入前述個性資訊訊號SC，基於其而 將來自上記偏向·基板速度訊號生成器4 1 A的光束偏向訊 號Vbeam及基板速度訊號Vsub加以補正，然後生成作爲 補正後控制訊號的光束偏向訊號Vbeamm及基板速度訊號 Vsiibm，輸出至基板速度變換器38。 遮沒訊號生成器42A，係具備和上記遮沒訊號生成器 42同等之機能，係輸入記錄資料RD然後生成遮沒控制訊 號SB(未補正）。遮沒訊號補正器148，係透過未圖示之 介面來輸入前述個性資訊訊號SC，基於其而將來自上記 * 遮沒訊號生成器4 2 A的遮沒訊號S B加以補正，生成補正 . 後之遮沒訊號SBm並輸出至遮沒控制部3 1。 本變形例之記錄訊號生成裝置1 00 A，係對具有：光 束偏向手段3 3，係對已形成有光阻層的基板1 5，令曝光 光束之照射位置相對性地移動；和基板速度調整手段3 7 A， 37B，調整基板15的周方向或徑方向移動速度；和斷續控 -24- 200809856 (22) 制手段3 1，進行曝光光束之照射的斷續控制；且一面以被 該基板速度調整手段3 7A、37B調整過之周方向或徑方向 移動速度來促使基板15移動，一面將被光束偏向手段33 移動照射位置之曝光光束照射在光阻層，藉此在光阻層中 - 形成潛像之記錄裝置1 〇，對其生成潛像形成所需之控制訊 / 號並加以輸出的記錄控制訊號生成裝置1 00A，其特徵爲 . ，具有：記錄訊號輸入手段（此例中係爲前述之介面）， 將記錄訊號（此例中係爲記錄資料）RD加以輸入；和個 性資訊訊號輸入手段（此例中係爲前述之介面），作爲訊 號補正要素，而將記錄裝置1 0的個性資訊（此例中係爲 偏移量6 )所對應之個性資訊訊號S C，加以輸入；和訊 號生成手段3 0，隨應於記錄訊號輸入手段所輸入之記錄訊 號RD，及，個性資訊訊號輸入手段所輸入之個性資訊訊 號SC ’至少生成給光束偏向手段33及基板速度調整手段 3 7 A，3 7B的補正後控制訊號（此例中係爲光束偏向訊號 Vbeamm及基板速度訊號Vsubm)。 於本變形例之記錄控制訊號生成裝置1 00A中，除了 將對應之記錄裝置1 0的個性資訊訊號SC以個性資訊訊號 • 輸入手段加以輸入，另一方面，將記錄訊號RD以記錄訊 • 號輸入手段輸入，隨應於該記錄訊號RD、和作爲補正要 素的上記個性資訊訊號SC，在訊號生成手段3 0至少生成 對光束偏向手段33及基板速度調整手段37A、3 7B的補正 後控制訊號Vbeamm、Vsubm。 藉此’可對應於隨記錄裝置10的每一個體而可能互 -25- 200809856 (23) 異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度所導 致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個體之該 當誤差之補正的補正後控制訊號Vbeamm、Vsubm，向對 應之個體輸出。其結果爲，輸入該補正後控制訊號 Vbeamm、Vsubm的對應之記錄裝置10，係可以誤差被減 低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。又，即使 同一記錄裝置1 〇上每天的誤差特性不同的情況下，仍可 確實地對應該變化之特性，進行高精度的記錄動作。 甚至，即使不考慮誤差時，亦可爲，對於基礎部份的 控制樣態爲共通而其以外之附加部份的控制樣態爲不同的 複數種類之記錄裝置1 0，可使其分別具備對應上記基礎部 份的1個共通的控制程式，將對應上記部份的控制程式內 容視爲各記錄裝置1 〇的個性而當成補正要素，藉由記錄 控制訊號生成裝置1 00A將補正後的控制訊號分別輸入至 各記錄裝置1 〇。此時，對複數種類之記錄裝置1 0，由於 僅需準備上記1個共通控制程式即可，因此可達成控制構 成、控制程式的簡單化、簡略化，可降低製造成本。 於上記本變形例中的記錄控制訊號生成裝置1 00A中 ，其特徵爲，訊號生成手段3 0，係具備：第2偏向·基板 控制訊號生成手段4 1 A，隨應於記錄訊號輸入手段所輸入 之記錄訊號RD，生成給光束偏向手段3 3及基板速度調整 手段37A、3 7B的基礎控制訊號Vsub、Vbeam ;和第2訊 號補正手段1 4 7，將該第2偏向•基板訊號生成手段4 1 A 所生成之基礎控制訊號V s u b、V b e am，基於個性資訊訊號 -26- 200809856 (24) 輸入手段所輸入之個性資訊訊號SC而加以補正，然後生 成補正後控制訊號Vsubm、Vbeamm。 藉由在根據記錄訊號輸入手段所輸入之記錄訊號RD 而以第2偏向•基板控制訊號生成手段4 1 A作成了基礎控 制訊號Vsub、Vbeam之後，將其供給至第2訊號補正手 段1 47而加以補正之構成，由於最終從記錄訊號生成裝置 100A要進行輸出之前才進行補正，因此補正的正確效率 可以提升。 其次，說明上記實施形態或變形例之格式化器100、 100A中的補正處理。以下是針對在格式化器1〇〇中是在 記錄訊號補正器47上，於格式化器100A中是在偏向·基 板速度訊號補正器147及遮沒訊號補正器148上，基於個 性資訊訊號S C所執行之補正，說明該手法的例子。 (1)以座標轉換及訊號延遲來補正 圖8係用來說明此手法所作之補正的說明圖。圖8中 ’關於座標系是使用被雷射干涉系3 5所測出之運送方向 位置X，和基於前述個性資訊訊號S C的5値。 令 半徑 R=(X2+〇2) 1/2 關於角速度及運送速度，係令描繪速度爲V、運送狹距爲 P，

角速度 ω =V/R = V/ ( X2+5 2 ) 1/2 運送速度 dX/dt= ( ω /2 7τ ) P •27- 200809856 (25) = VP/2 π ( X2 + δ 2 ) 1/2 藉此而從ΧΥ座標系（X，Υ )轉換成半徑方向座標系（R， 0 )的空間座標。此時，關於Θ方向之位置，係只要進行 時間座標之轉換（此例中係爲延遲處理）即可。亦即， 法線和X軸所夾之角度a =arctan ( 5 /X )

根據此，則訊號延遲時間△ T爲 Δ Τ= α / ω =R a /V =a r c t a n ( 5 / X ) * ( X2 + 5 2 ) 1 /2 / V 於圖2所示之上記實施形態中，在記錄訊號補正器47 上以上記手法讀取記錄資料RD而生成記錄資料RDm。於 圖7所示之上記變形例中，在遮沒訊號補正器1 4 8及偏向 •基板速度訊號補正器1 47上藉由上記手法，讀取遮沒控 制訊號SB及光束偏向訊號Vbeam及基板速度訊號Vsub， 而生成遮沒控制訊號SBm或光束偏向訊號Vbeamm及基 板速度訊號Vsubm。 於本變形例之記錄控制訊號生成裝置1 00中，其特徵 爲，第1或第2訊號補正手段47，147，148，係使用：用 到偏差資訊訊號之座標轉換處理，和用到斷續控制手段3 1 中之偏差資訊訊號的斷續控制的時序之延遲處理，來進行 基於個性資訊訊號S C之補正；相對於此，具備該當第1 或第2訊號補正手段47、147、148的訊號生成手段30， 係生成要給光束偏向手段3 3、基板速度調整手段3 7 A、 3 7 B、及斷續控制手段3 1的補正後控制訊號（此例中係爲 -28- 200809856 (26) 光束偏向訊號 Vbeamm、基板速度訊號Vsubm、及遮沒控 制訊號SBm)。 藉此，就可對應於記錄裝置1 〇的隨每一個體不同之 目標照射位置·實際照射位置間的偏移偏差而轉換成不同 - 體系的座標，然後使照射開始·結束的斷續控制之時序， / 對應於上記偏差而延遲，藉此，就可生成能夠抵消各個體 • 之該當誤差的補正後控制訊號Vbeamm、Vsubm、SBm。 (1 > )以近似式進行座標轉換時的情形 於上記（1 )所說明之手法中，座標轉換亦可藉由近 似式來進行。例如當進行n = 0項爲止的近似時，如圖9所 示，上述各式係爲： 半徑 R= ( X2+ d 2 ) 1/2

=X ( 1+ 5 2/X2 ) 1/2 =X

角速度ω =V/R =V/ ( X2+ δ 2 ) 1/2 =(V/X ) ( 1+ δ 2/X2 ) 1/2

- 与 V/X * 法線和X軸所夾之角度a =arctan ( δ /X )

=ο /X 訊號延遲時間△ T= a / ω

=R a /V

=X ( ο /X ) /V •29- 200809856 (27)

=(5 /V 只要使用如上近似即可。 又例如當進行1項爲止的近似時，如圖1 〇所示， 上述各式係爲： 半徑 R= ( χ2+ 5 2 ) 1/2 =X ( 1 + ο 2/X2 ) 1/2 与 X ( 1 + 5 2/2X2 )

角速度ω =V/R =V/ ( χ2+ 5 2) 1/2 =(V/X ) ( 1+ 5 2/X2) _W2 -(V/X ) ( 1 - (5 2/2X2 ) 法線和X軸所夾之角度a=arctan( (5/X) =δ /X ( \ - δ 2/3X2 ) 訊號延遲時間△ T = a / ω

=R a / V =(X/V)( 5 /X)(l + (5 2/2X2)(l- 5 2/3X2) 与（δ/ν)(1+δ2/6Χ2) 只要使用如上近似即可。 甚至例如當進行η = 2項爲止的近似時，如圖1 1所示 ’上述各式係爲： 半徑 R= ( Χ2+ (5 2 ) 1/2 =Χ ( 1 + (5 2/X2 ) 1/2 与 X ( 1 + ο 2/2X2- 5 4/8X4 )

角速度ω =V/R -30- 200809856 (28) =V/ ( X2+ 5 2 ) 1/2 =(V/X ) ( 1+ (5 2/X2 ) ·1/2 与(V/X ) (1-5 2/2X2 + 3 5 4/8X4 ) 法線和X軸所夾之角度a =arctan ( ά /X ) =δ /X ( δ 2/3X2+ δ 4/5X4) 訊號延遲時間△ T= α / ω

=R a /V 与（X/V) (5/X) ( 1+5 2/2X2-(5 4/8X4) (1-5 2/3X2+ 5 4/5X4 ) ^ ( (5 /V ) ( 1+(5 2/6X2-l 1 5 4/120X4) 只要使用如上近似即可。 藉由使用上記圖9〜圖1 1所說明之各近似手法，就可 獲得和上記（1 )所說明之手法同樣的效果。 (2)以簡略化之座標轉換·訊號延遲（延遲時間一定） 和XY方向之偏向來進行補正 依據本案發明人們的檢討，在進行線速一定的描繪（ CLV ·· constant linear velocity)時，即使座標轉換簡略化 (關於時間座標是使延遲時間一定化），若將XY方向的 偏向加以組合，就可看到比較良好的契合。圖1 2係用來 說明此手法所作之補正的說明圖。 圖1 2中，關於座標系是使用被雷射干涉系3 5所測出 之運送方向位置X，和基於前述個性資訊訊號S C的6値 -31 - 200809856 (29) 令

半徑R = X 關於角速度及運送速度，係令描繪速度爲V、運送狹距爲 P，

角速度ω =V/R = V/X 運送速度 dX/dt= ( ω /2 ττ ) P

= VP/2 π X 藉此而從XY座標系（X，Y)轉換成半徑方向座標系（R， Θ )的空間座標。此時，關於0方向之位置，係只要進行 時間座標之轉換（此例中係爲延遲時間一定之延遲處理） 即可。亦即，

法線和X軸所夾之角度0 6 /X

根據此，則訊號延遲時間△T爲 Δ T= (5 /V = const · 可爲如此（常數）。 然後，上記式子中剩下的些微部份是藉由XY方向之 偏向（=移動照射位置）來調整，而其x方向偏向量△ P 及Y方向偏向量△q，係可藉由以下之近似式來加以補正 〇 亦即X方向偏向量△ P，若爲n = 0項爲止之近似則爲 △ p = X ( 1 -cos yS ) -32- =0 200809856 (30) n=l項爲止之近似下係爲 △ p = X ( 1 -cos 冷) ^ ( 1/2 ) X β 2 =ά 2/2Χ η = 2項爲止之近似下係爲 Δ ρ = Χ ( 1 -cos β ) =(1 /2 ) X /3 2 ( 1 - yS 2/1 2 ) =(1/2X ) (5 2 ( 1- (5 2/12X2 ) 關於Y方向偏向量△ q則是，若爲n = 0項爲止之近似 則爲： Δ q = Xsin /3-(5 =0 η = 1項爲止之近似下係爲 △ q = Xsin/3 -5 = -(1/6) (5 3/X2 n = 2項爲止之近似下係爲 Δ q = Xsin /3-(5 =-δ 3/6Χ2+ δ 5/1 20Χ4 =-δ 3/6Χ2 ( 1 - (5 2/2 0Χ2 ) 即可。 於圖2所示之上記實施形態中，在記錄訊號補正器47 上以上記手法讀取記錄資料RD而生成記錄資料RDm。於 圖7所示之上記變形例中，在遮沒訊號補正器1 48及偏向 •基板速度訊號補正器1 47上藉由上記手法，讀取遮沒控 -33- 200809856 (31) 制訊號SB及光束偏向訊號Vbearn及基板速度訊號Vsub， 而生成遮沒控制訊號SBm或光束偏向訊號 Vbeamm及基 板速度訊號Vsubm。 於本變形例之記錄控制訊號生成裝置100中，其特徵 爲，第1或第2訊號補正手段47，147，148，係使用：所 定之（此例中係爲簡略化之）座標轉換處理，和用到斷續 控制手段3 1中之偏差資訊訊號的斷續控制的時序之延遲 處理，和這些座標轉換處理及時序延遲處理所對應之樣態 的光束偏向手段3 3所致之曝光光束的照射位置移動演算 處理，來進行基於個性資訊訊號S C之補正；相對於此， 具備該當第1或第2訊號補正手段47、147、148的訊號 生成手段3 0 ’係生成要給光束偏向手段3 3、基板速度調 整手段37A、3 7B、及斷續控制手段31的補正後控制訊號 (此例中係爲光束偏向訊號 Vbeamm、基板速度訊號 V s u b m、及遮沒控制訊號S B m )。 藉此，就可對應於記錄裝置1〇的隨每一個體不同之 目標照射位置·實際照射位置間的偏移偏差（5而轉換成不 同體系的座標，並且使照射開始·結束的斷續控制之時序 ，對應於上記偏差5而延遲，然後更對應於這2個處理來 進行促使光束照射位置移動之演算處理，藉此，就可生成 能夠抵消各個體之該當誤差的補正後控制訊號Vbeamm、 Vsubm、及遮沒控制訊號SBm。 此外，當本案發明人等代入實際數値進行確認計算後 發現到， -34- 200809856 (32) △ p係至n = 0項爲止，Aq係至n = 0項爲止（無偏向 ) △ p係至n=l項爲止，△ q係至n = 0項爲止（僅X偏 向補正） △ p係至n=l項爲止，△ q係至n=l項爲止 △ p係至n = 2項爲止，△ q係至n=l項爲止 △ p係至n = 2項爲止，△ q係至n = 2項爲止 的程度，即爲有效。 (2 ’）以未簡略化之座標轉換·訊號延遲（延遲時間一定 )和X Y方向之偏向來進行補正 上記（2 )所說明之手法當中，和上記（1 )同樣地， 關於座標轉換係無簡略化，而是使用被雷射干涉系3 5所 測出之運送方向位置X，和基於前述個性資訊訊號S C的 (5値， 半徑 R= ( X2+ 5 2 ) 1/2 進行如此轉換亦可。圖1 3係用來說明此手法所作之補正 的說明圖。 圖1 3中，關於座標系，係如上記般地， 令 半徑 R= ( X2+ 5 2 ) 1/2 關於角速度及運送速度，係令描繪速度爲V、運送狹距爲 P， 角速度 ω =V/R = v/ ( x2+ 5 2 ) 1/2 -35- 200809856 (33)

運送速度 dX/dt= ( ω /2 7Γ ) P = VP/ { 2 π ( X2+ δ 2 ) 1/2 } 藉此而從XY座標系（X，Y )轉換成半徑方向座標系（R, 0 )的空間座標。此時，關於0方向之位置，係只要進行 * 時間座標之轉換（此例中係爲延遲時間一定之延遲處理） * 即可。亦即， , 無偏向時的光束照射位置和 X軸所成的夾角α = arctan ( δ /X) 根據此，則訊號延遲時間△ Τ爲 Δ T= (5 /V = const. 可爲如此（常數）。

然後，上記式子中剩下的些微部份是藉由XY方向之 偏向（=移動照射位置）來調整，而偏向後欲照射光束位 置和X軸所成之夾角r係爲： r =νΔ τ/R =δ /R 因此，其X方向偏向量Δρ及Υ方向偏向量Aq，係可藉 ” 由以下近似式來補正。 * 亦即X方向偏向量△ P，在至n = 0項爲止之近似下係 爲 △ p = R ( cosy -cosa )

= Rcos7 -X 与R-X -36- 200809856 (34) η=1項爲止之近似下係爲 Ap = R ( cos 7" -cosa ) =R-X- δ 2/2R n = 2項爲止之近似下係爲 - Δ p = R ( cos^ -cosa ) .· = R-X- ά 2/2R+ (5 4/24R3 . 關於Y方向偏向量△ q則是，在n = 0項爲止之近似下 係爲 Δ q = R ( sin γ -sina ) =0 n=l項爲止之近似下係爲 Aq = R ( sinx -sina ) =-δ 3/6R2 n = 2項爲止之近似下係爲 △ q = R ( sin 7 -sina ) =-δ 3/6R2+ δ 5/l 20R4 艮P可。 於圖2所示之上記實施形態中，在記錄訊號補正器4 7 • 上以上記手法讀取記錄資料RD而生成記錄資料RDm。於 ， 圖7所示之上記變形例中，在遮沒訊號補正器1 4 8及偏向 •基板速度訊號補正器1 4 7上藉由上記手法，讀取遮沒控 制訊號SB及光束偏向訊號Vbeam及基板速度訊號Vsub， 而生成遮沒控制訊號SBm或光束偏向訊號Vbeamm及基 板速度訊號Vsubm。 -37- 200809856 (35) 於本變形例之記錄控制訊號生成裝置1 00中，其特徵 爲，第1或第2訊號補正手段47，147，148，係使用：所 定之（此例中係爲未簡略化之）座標轉換處理，和用到斷 續控制手段3 1中之偏差資訊訊號的斷續控制的時序之延 ^ 遲處理，和這些座標轉換處理及時序延遲處理所對應之樣 / 態的光束偏向手段3 3所致之曝光光束的照射位置移動演 . 算處理，來進行基於個性資訊訊號SC之補正；相對於此 ，具備該當第1或第2訊號補正手段47、147、148的訊 號生成手段3 0，係生成要給光束偏向手段3 3、基板速度 調整手段37A、37B、及斷續控制手段31的補正後控制訊 號（此例中係爲光束偏向訊號 Vbeamm、基板速度訊號 Vsubm、及遮沒控制訊號SBm)。 藉此，就可對應於記錄裝置1 〇的隨每一個體不同之 目標照射位置·實際照射位置間的偏移偏差δ而轉換成不 同體系的座標，並且使照射開始·結束的斷續控制之時序 ，對應於上記偏差δ而延遲，然後更對應於這2個處理來 進行促使光束照射位置移動之演算處理，藉此，就可生成 能夠抵消各個體之該當誤差的補正後控制訊號Vbeamm、 • Vsubm、及遮沒控制訊號SBm。 • 此外，上記情況下，相較於上記（2 )之手法，雖然 座標轉換未簡略化的計算是較爲繁雜，但本案發明人等將 實際數値輸入而檢討後的結果，發現可較上記（2 )之手 法使偏向量（AP, Aq )的絕對値變小，可使因偏向所帶來 之光束劣化較難發生。 -38- 200809856 (36) (3 ) (5之値爲負的時候 於上記（1 ) ( 2 ) ( 2 —)中雖然說明了，圖8〜圖 1 2所示之偏移量6之値是在圖示座標系中取正値時的情形 爲例，但不限於此，偏移量（5爲負値時，仍可適用。 圖1 4係用來說明此時之補正槪念的說明圖。如圖示 ，此時，原理上是和訊號延遲所致之補正相反，是藉由將 訊號的送出時序提早，來進行補正即可。可是在此其中， 實際上，在時間的流動上當然無法回朔來提早時序，因此 ，只要在比（5=0之時序提早一定時間（T0)之時序處， 預先設定基準時序，從該處起以延遲量（圖中表示爲「 Delay」）來進行調整即可。亦即，上記（1 ) ( 2 ) ( 2 " )所說明過之> 0時，係藉由從基準時序起恰好經過相 對較大之延遲量「Del ay2」之時間來進行補正；5 < 〇時 ，係藉由從基準時序起恰好經過相對較小之延遲量「 De 1 ay 1」之時間來進行補正即可。 (4 )其他 以上雖然是以基於記錄訊號RD、個性資訊訊號SC， 而將促使X平台1 8往X方向移動時的光束照射位置和旋 轉中心之偏移量δ加以補正時的情形爲例來說明，但不限 於此，亦可考慮補正因光束記錄裝置1 〇之各構成零件的 寸法務差、組裝誤差等導致各記錄裝置1 0上所發生之其 他誤差（機械性誤差）。例如，可考慮如下之誤差。 -39- 200809856 (37) (4-1) 0平台的旋轉不均 亦即，當轉軸馬達1 7所帶動之轉台1 6發生旋轉不均 (不均勻）時，亦可將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動 部3 7A、37B的轉軸馬達17之旋轉訊號的轉台16 (換言 之係爲基板1 5 )的角度位置偵測訊號，輸入至格式化器 1 00，藉由改變時脈等手法來執行對應上記旋轉不均之補 正。 (4-2) 0平台的旋轉振動 亦即，當轉軸馬達1 7所帶動之轉台1 6的旋轉中，發 生了旋轉軸搖動（振動）時，亦可將例如基於被輸入至平 台旋轉·運送驅動部37A、37B的轉軸馬達17之旋轉訊號 的轉台1 6 (換言之係爲基板1 5 )的角度位置偵測訊號， 輸入至格式化器100，藉由對光束偏向部33中之往X方 向的偏向量重疊上該當補正量的手法，執行對應於上記旋 轉振動之補正。 (4-3) X平台的俯仰（pitching)所致之高度位置變動 亦即，於運送馬達19所致之X平台18的並進移動中 ，往移動方向之傾斜（前屈、或反之）等之俯仰發生時， 亦可例如將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部3 7 A、 3 7 B的轉軸馬達1 7之旋轉訊號的轉台1 6 (換言之係爲基 板1 5 )的角度位置偵測訊號，或將基於被輸入至平台旋轉 -40- 200809856 (38) •運送驅動部37A、37B的雷射干涉系35之運送位置資料 的X平台1 8位置偵測訊號，輸入至格式化器1 00，藉由 透過聚焦控制部3 4之高度補正手法，來執行補正。 • ( 4-4 ) X平台的俯仰所致之X方向位置的誤差 • 亦即，於運送馬達1 9所致之X平台1 8的並進移動中 , ，往移動方向之傾斜（前屈、或反之）等之俯仰發生時， 亦可將例如基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部3 7 A、 3 7B的雷射干涉系3 5之運送位置資料的X平台1 8位置偵 測訊號，輸入至格式化器1 〇〇，藉由對光束偏向部3 3中的 往X方向之偏向量，重疊上該當補正量等之手法，來執行 對應上記X方向位置誤差之補正。 (4-5 ) X平台的滾轉（rolling )所致之0 ( Y )方向位置 的誤差（其1 ) 亦即，於運送馬達19所致之X平台18的並進移動中 ，對移動方向往左右方向之傾斜（橫搖）等之滾轉發生時 ，亦可例如將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部3 7 A、 • 37B的轉軸馬達17之旋轉訊號的轉台16 (換言之係爲基 , 板〗5 )的角度位置偵測訊號，或將基於被輸入至平台旋轉 •運送驅動部37A、3 7B的雷射干涉系35之運送位置資料 的X平台1 8位置偵測訊號，輸入至格式化器1 〇〇，藉由 調種前述延遲處理中的延遲時間之手法，來執行補正。 -41 - 200809856 (39) (4-6) X平台的滾轉（r〇lling)所致之0 (Y)方向 的誤差（其2 ) 上記同樣之滾轉發生時，亦可例如將基於被輸入 台旋轉·運送驅動部3 7 A、3 7 Β的轉軸馬達1 7之旋轉

• 的轉台1 6 (換言之係爲基板1 5 )的角度位置偵測訊 / 或將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部37A、37B ‘ 射干涉系3 5之運送位置資料的X平台1 8位置偵測訊 輸入至格式化器100，藉由對光束偏向部33中的往 向之偏向量，重疊上該當補正量等之手法，來執行對 記0 (Y)方向位置誤差之補正。 (4-7) X平台的偏搖（yawing)所致之0 (Y)方向 的誤差（其1 ) 亦即，於運送馬達1 9所致之X平台1 8的並進移 ，發生了移動方向軸線之搖擺亦即偏搖（ yawing)時 可例如將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部3 7 A、 ， 的轉軸馬達17之旋轉訊號的轉台16 (換言之係爲基;f )的角度位置偵測訊號，或將基於被輸入至平台旋轉 ， 送驅動部37A、37B的雷射干涉系35之運送位置資料 • 平台1 8位置偵測訊號，輸入至格式化器1 0 0，藉由調 述延遲處理中的延遲時間之手法，來執行補正。 (4-8) X平台的偏搖（yawing)所致之0 (γ)方向 的誤差（其2 ) 位置 至平 訊號 號， 的雷 號， γ方 應上 位置 動中 ，亦 37B 反15 .運 的X 種前 位置 -42· 200809856 (40) 上記同樣之偏搖發生時，亦可例如將基於 台旋轉·運送驅動部37A、37B的轉軸馬達17 的轉台1 6 (換言之係爲基板1 5 )的角度位置 或將基於被輸入至平台旋轉·運送驅動部37A 射干涉系3 5之運送位置資料的X平台1 8位置 輸入至格式化器100，藉由對光束偏向部33 c 向之偏向量，重疊上該當補正量等之手法，來 記Y ( Y )方向位置誤差之補正。 (4-9)氣壓變動所致之高度測定誤差 亦即，被輸入至聚焦控制部3 4的光偵測毫 板高度偵測訊號中發生了因氣壓變動所致之測 則將被輸入至該當聚焦控制部34的光偵測器 高度偵測訊號，輸入至格式化器1 〇〇，藉由對 制部34之高度調整量重疊上該當補正量等之 行對應上記高度位置誤差之補正。 (4-10 )溫度變動所致之光束位置·高度位置；$ 亦即，對電子束記錄裝置1 〇的周邊溫度 光束位置（X方向或Y方向）之變動及高度位 感度（相關），將其當成個性資訊訊號S C而 化器1 00並設定之。然後，將隨應於時時刻刻 的溫度訊號，輸入至格式化器1 〇〇，藉由對光身 中的往X方向或Y方向之偏向量重疊上基於 被輸入至平 之旋轉訊號 偵測訊號， 、3 7 B的雷 偵測訊號， =的往 Y方 執行對應上 § 36B之基 定誤差時， 36B之基板 透過聚焦控 手法，來執 L誤差 ，預先求出 置之變動的 輸入至格式 之溫度變化 C偏向部3 3 該當周邊溫 -43- 200809856 (41) 度之補正量等之手法，來執行對應上記X方向或Y方向 位置誤差之補正，或者，藉由對透過聚焦控制部3 4之高 度調整量重疊上基於該當周邊溫度之補正量等之手法，來 執行對應上記高度位置誤差之補正。又，此時，亦可非單 一點之溫度，可加入考慮複數點之溫度，來進行計算、補 正。 (4-11)音響振動所致之光束位置·高度位置之誤差 亦即，對電子束記錄裝置1 〇的周邊音響振動，預先 求出光束位置（X方向或Υ方向）之變動及高度位置之變 動的感度（相關），將其當成個性資訊訊號S C而輸入至 格式化器1 0 0並設定之。然後，將隨應於時時刻刻之周邊 音響振動變化的音響振動訊號，輸入至格式化器1 00，藉 由對光束偏向部33中的往X方向或Υ方向之偏向量重疊 上基於該當音響振動之補正量等之手法，來執行對應上記 X方向或Υ方向位置誤差之補正，或者，藉由對透過聚焦 控制部34之高度調整量重疊上基於該當音響振動之補正 量等之手法，來執行對應上記高度位置誤差之補正。又， 此時，亦可非單一點之單一方向的音響振動，可加入考慮 複數點之複數方向的音響振動，來進行計算、補正。 (4- 1 2 )磁場變動所致之光束位置·高度位置之誤差 亦即，對電子束記錄裝置1 〇的周邊磁場振動，預先 求出光束位置（X方向或Υ方向）之變動及高度位置之變 -44- 200809856 (42) 動的感度（相關），將其當成個性資訊訊號S C而輸入至 格式化器1 00並設定之。然後，將隨應於時時刻刻之周邊 磁場振動變化的磁場訊號，輸入至格式化器1 00，藉由對 光束偏向部33中的往X方向或γ方向之偏向量重疊上基 - 於該當磁場變動之補正量等之手法，來執行對應上記X方 / 向或γ方向位置誤差之補正，或者，藉由對透過聚焦控制 、 部34之高度調整量重疊上基於該當磁場變動之補正量等 之手法’來執行對應上記高度位置誤差之補正。又，此時 ，亦可非單一點之單一方向的磁場變動，可加入考慮複數 點之複數方向的磁場變動，來進行計算、補正。 (4-13 )基板的安裝位置偏移 亦即，嚴謹來說，每一基板1 5對轉台1 6的安裝狀態 是會有所變化。於是，亦可將作爲個性資訊的安裝位置偏 移資訊（具體而言係爲偏芯量或偏芯的方向等），和將基 於被輸入至平台旋轉·運送驅動部37Α、3 7Β的轉軸馬達 17之旋轉訊號的轉台16(換言之係爲基板15)的角度位 置偵測訊號（或者是被輸入至平台旋轉·運送驅動部3 7 A * 、3 7B的雷射干涉系3 5之運送位置資料爲基礎的X平台 ‘ 18之位置偵測訊號），輸入至格式化器1〇〇，隨應於旋轉 方向（或運送方向）之位置，來調整對光束偏向部3 3上 的往X、Y方向之偏向量所重疊之前述延遲處理中的延遲 時間，藉由這類手法來執行對應於上記安裝位置偏移的補 正。 -45- 200809856 (43) 此外，以上所說明之格式化器100、100A 爲，至少訊號生成部3 0的機能，是被設在電 置1 〇側，而構成記錄系統S。或者，亦可爲 化器100、100A和電子束記錄裝置10 ( —部 • 化器1〇〇、100A上，另一部份是在電子束記飼 ; )的方式而加以設置。 . 此情況下，於該記錄系統s中，係屬於具 和記錄控制訊號生成裝置之記錄系統S ，記 例中係爲電子束記錄裝置）1 〇，係具有：光束 此例中係爲光束偏向部）3 3，係對已形成有光 1 5，令曝光光束之照射位置相對性地移動；和 整手段（此例中係爲旋轉·運送驅動部）3 7 A、 基板1 5的周方向或徑方向移動速度；和斷續 此例中係爲遮沒控制部）3 1，進行曝光光束之 控制；且一面以被該基板速度調整手段3 7 A、 之周方向或徑方向移動速度來促使基板15移 被光束偏向手段3 3移動照射位置之曝光光束 層，藉此在光阻層中形成潛像；記錄控制訊號 • 係對此記錄裝置1 〇，生成前記潛像形成所需之 • 輸出；其特徵爲，隨應於記錄訊號（此例中係 )RD、和記錄裝置1 〇之個性資訊（此例中係 )所對應之作爲訊號補正要素之個性資訊訊號 少生成給記錄裝置1 〇之光束偏向手段3 3及基 手段3 7 A、3 7B的補正後控制訊號（此例中係 當中，亦可 子束記錄裝 ’跨越格式 份是在格式 ^裝置10上 有記錄裝置 錄裝置（此 偏向手段（ 阻層的基板 基板速度調 37B，調整 控制手段（ 照射的斷續 37B調整過 動，一面將 照射在光阻 生成裝置， 控制訊號並 爲記錄資料 爲偏移量5 S C，將至 板速度調整 爲光束偏向 -46- 200809856 (44) 訊號Vbeamm及基板速度訊號Vsubm)的訊號生成孝 此例中係爲訊號生成部）3 0，設置在記錄裝置1 0及 訊號生成裝置100之至少一方。 於上記記錄系統S中，記錄裝置1 00及記錄控制 生成裝置100之至少一方中所設之訊號生成手段30， 應於該記錄訊號RD、和作爲補正要素的個性資訊訊$ ’至少生成對光束偏向手段3 3及基板速度調整手段 、3 7B的補正後控制訊號（此例中係爲光束偏向 Vbeamm、基板速度訊號Vsubm )。 藉此，可對應於隨記錄裝置1 0的每一個體而可 異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度 致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個體 當誤差之補正的補正後控制訊號 Vbeamm、Vsubm， 應之個體輸出。其結果爲，輸入該補正後控制 Vbeamm、Vsubm的對應之記錄裝置1 0，係可以誤差 低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。又， 同一記錄裝置1 〇上每天的誤差特性不同的情況下， 確實地對應該變化之特性，進行高精度的記錄動作。 甚至，即使不考慮誤差時，亦可爲，對於基礎部 控制樣態爲共通而其以外之附加部份的控制樣態爲不 複數種類之記錄裝置1 0，可使其分別具備對應上記基 份的1個共通的控制程式，將對應上記部份的控制程 容視爲各記錄裝置1 〇的個性而當成補正要素，藉由 生成手段3 0將補正後的控制訊號分別輸入至各記錄 •段（ 記錄 訊號 是隨 虎SC 37A 訊號 能互 所導 之該 向對 訊號 被減 即使 仍可 份的 同的 礎部 式內 訊號 裝置 -47- 200809856 (45) 1 0。此時，對複數種類之記錄裝置1 ο，由於僅需準備上記 1個共通控制程式即可’因此可達成控制構成、控制程式 的簡單化、簡略化，可降低製造成本。 於上記記錄系統S中，其特徵爲，訊號生成手段3 0 • ，係具備：第1訊號補正手段（此例中係爲記錄訊號補正 ; 器）47，將記錄訊號RD，基於個性資訊訊號SC加以補正 . ;和第1偏向•基板控制訊號生成手段（此例中係爲偏向 •基板速度訊號生成器）41，隨應於該第1訊號補正手段 47所補正過之記錄訊號RD，生成給前記光束偏向手段33 及基板速度調整手段37A、37A的補正後控制訊號Vsubm 、V beamm 〇 藉由將記錄訊號RD以第1訊號補正手段47先行補正 後再供給至第1偏向•基板控制訊號生成手段4 1的構成 ’由於補正對象訊號是只需1個記錄訊號RD即可，因此 可達成控制構成的簡單化。 於上記記錄系統S中，其特徵爲，訊號生成手段3 0 ^ ，係隨應於作爲個性資訊訊號的誤差資訊訊號SC，其係 對應於以記錄裝置1 〇之寸法精度或控制精度爲基礎之誤 - 差資訊（此例中係爲偏移量δ )，生成補正後控制訊號 • Vsubm、Vbeamm 〇 隨應於記錄訊號RD、和作爲補正要素之誤差資訊訊 號SC ’以訊號生成手段30來生成給光束偏向手段33及 基板速度調整手段3 7 A, 3 7B的補正後控制訊號，藉此， 就可對應於記錄裝置10之每一個體可能不同之各零件之 -48- 200809856 (46) 組裝寸法精度或各控制機器之控制精度爲基礎之誤差（機 械性誤差），生成符合各個體之該當誤差的補正後控制訊 號 V s u b m、V b e a m m 〇 於上記記錄系統S中，其特徵爲，訊號生成手段30 ’係隨應於作爲誤差資訊訊號的偏差資訊訊號SC，其係 對應於曝光光束所致之目標照射位置和實際照射位置之偏 差（此例中係爲偏移量5 )，生成補正後控制訊號Vsubm 、Vbeamm 〇 藉此，可對應於隨記錄裝置1 〇的每一個體而互異之 各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度所導致的 目標照射位置·實際照射位置間之偏移偏差，生成符合各 個體之該當誤差的補正後控制訊號Vsubm、Vbeamm。 又，於圖7所示之構成中，記錄系統S係具有記錄裝 置10及記錄控制訊號生成裝置100A，記錄裝置10係具 有：光束偏向手段3 3，係對已形成有光阻層的基板15， 令曝光光束之照射位置相對性地移動；和基板速度調整手 段37A，37 B，調整基板15的周方向或徑方向移動速度； 和斷續控制手段，進行曝光光束之照射的斷續控制；且一 面以被該基板速度調整手段37A、37B調整過之周方向或 徑方向移動速度來促使基板15移動，一面將被光束偏向 手段3 3移動照射位置之曝光光束照射在光阻層，藉此以 在光阻層形成潛像；記錄控制訊號生成裝置1 〇〇A係對此 記錄裝置1 〇，生成前記潛像形成所需之控制訊號並輸出； 其特徵爲，隨應於記錄訊號RD、和記錄裝置1 0之個性資 -49- 200809856 (47) 訊所對應之作爲訊號補正要素之個性資訊訊號S C，將至 少生成給記錄裝置1 0之光束偏向手段3 3及基板速度調整 手段37A、37B的補正後控制訊號Vbeamm、Vsubm的訊 號生成手段30，設置在記錄裝置1〇及記錄控制訊號生成 - 手段100A之至少一方。 ： 於上記記錄系統S中，記錄裝置丨〇及記錄控制訊號 . 生成裝置1〇 〇A之至少一方中所設之訊號生成手段30，是 隨應於該記錄訊號RD、和作爲補正要素的記錄裝置1 〇的 個性資訊訊號S C，至少生成對光束偏向手段3 3及基板速 度S周整手段37A、37B的補正後控制訊號vbeamm、Vsubm ο 藉此，可對應於隨記錄裝置10的每一個體而可能互 異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精度所導 致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個體之該 當誤差之補正的補正後控制訊號 Vbeamm、Vsubm，向對 應之個體輸出。其結果爲，輸入該補正後控制訊號 ， Vbeamm、Vsubm的對應之記錄裝置10，係可以誤差被減 低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。又，即使 * 同一記錄裝置1 0上每天的誤差特性不同的情況下，仍可 • 確實地對應該變化之特性，進行高精度的記錄動作。 甚至，即使不考慮誤差時，亦可爲，對於基礎部份的 控制樣態爲共通而其以外之附加部份的控制樣態爲不同的 複數種類之記錄裝置1 0，可使其分別具備對應上記基礎部 份的1個共通的控制程式，將對應上記部份的控制程式內 -50- 200809856 (48) 容視爲各記錄裝置1 〇的個性而當成補正要素，藉由訊號 生成手段3 0將補正後的控制訊號分別輸入至各記錄裝置 1 〇。此時，對複數種類之記錄裝置1 0，由於僅需準備上記 1個共通控制程式即可，因此可達成控制構成、控制程式 ^ 的簡單化、簡略化，可降低製造成本。 : 於上記記錄系統S中，其特徵爲，訊號生成手段3 0 - ’係具備：第2偏向·基板控制訊號生成手段4 1 A，隨應 於記錄訊號RD，生成給光束偏向手段3 3及基板速度調整 手段37A、37B的基礎控制訊號Vsub、Vbeam ;和第2訊 號補正手段1 47，將該第2偏向·基板訊號生成手段41 A 所生成之基礎控制訊號Vsub、Vbeam，基於個性資訊訊號 SC而加以補正，然後生成補正後控制訊號 Vsubm、 Vbeamm 〇 藉由在根據記錄訊號RD而以第2偏向·基板控制訊 號生成手段41 A作成了基礎控制訊號Vsub、Vbeam之後 ，將其供給至第2訊號補正手段1 47而加以補正之構成， 由於最終輸出之前才進行補正，因此補正的正確效率可以 提升。 " 此外，以上雖然使用X 0平台系的光束記錄裝置爲例 • 來說明，但不限於此，亦可適用於具備XY平台系的光束 記錄裝置。 又，以上雖然針對使用電子束的光束記錄裝置來說明 ’但亦可適用於具備偏向裝置的雷射光束記錄裝置、或者 其他帶電粒子光束記錄裝置。 -51 - 200809856 (49) 上記實施形態中的格式化器1 00，係對具有：光束偏 向部3 3，係對已形成有光阻層的基板1 5，令曝光光束之 照射位置相對性地移動；和旋轉·運送驅動部3 7 A、3 7B ，調整基板1 5的周方向或徑方向移動速度；和遮沒控制 部3 1，進行曝光光束之照射的斷續控制；且一面以被旋轉 •運送驅動部37A、37B調整過之周方向或徑方向移動速 度來促使基板1 5移動，一面將被光束偏向部3 3移動照射 位置之曝光光束照射在光阻層，藉此以在光阻層中形成潛 像之記錄裝置1 〇，對其生成潛像形成所需之控制訊號並加 以輸出的格式化器1 00，其係具有：輸入記錄資料RD的 介面；和作爲訊號補正要素，而將電子束記錄裝置1〇的 個性資訊（此例中係爲偏移量（5 )所對應之個性資訊訊號 SC，加以輸入之介面；和訊號生成部30，隨應於介面所 輸入之記錄訊號RD，及，介面所輸入之個性資訊訊號SC ，至少生成給光束偏向部33及旋轉·運送驅動部37A、 3 7B的光束偏向訊號Vbeamm及基板速度訊號Vsubm。 藉此，可對應於隨電子束記錄裝置1〇的每一個體而 可能互異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精 度所導致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個 體之該當誤差之補正的光束偏向訊號Vbeamm及基板速度 訊號Vsubm，向對應之個體輸出。其結果爲，輸入這些訊 號Vbeamm、Vsubm的對應之電子束記錄裝置10，係可以 誤差被減低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。 又，即使同一電子束記錄裝置1 〇上每天的誤差特性不同 -52- 200809856 (50) 的情況下，仍可確實地對應該變化之特性，進行高精度的 記錄動作。 具備上記實施形態之記錄訊號生成裝置1 00的記錄系 統s ’係具有電子束記錄裝置1 0和格式化器1 00，電子束 • 記錄裝置1 〇係具有··光束偏向部3 3，係對已形成有光阻 ; 層的基板15，令曝光光束之照射位置相對性地移動；和旋 . 轉·運送驅動部37A、37B，調整基板15的周方向或徑方 向移動速度；和遮沒控制部3 1，進行曝光光束之照射的斷 續控制；且一面以被旋轉·運送驅動部37A、3 7B調整過 之周方向或徑方向移動速度來促使基板15移動，一面將 被光束偏向部3 3移動照射位置之曝光光束照射在光阻層 ’藉此以在光阻層形成潛像；格式化器1 00係對此電子束 記錄裝置1 0，生成潛像形成所需之控制訊號並輸出；其特 徵爲’隨應於記錄資料RD、和對應於電子束記錄裝置10 之偏移量δ的作爲訊號補正要素的個性資訊訊號SC，至 少生成要給電子束記錄裝置1 0之光束偏向部3 3及旋轉· 運送驅動部37Α、37Β的光束偏向訊號Vbeamm及基板速 度訊號Vsiibm的訊號生成部30,是被設在電子束記錄裝 • 置及格式化器100之至少一方中。 • 藉此，可對應於隨電子束記錄裝置1〇的每一個體而 可能互異之各零件的組裝寸法精度或各控制機器的控制精 度所導致的誤差（機械性誤差），生成可施以符合於各個 體之該當誤差之補正的光束偏向訊號Vbeamm及基板速度 訊號Vsiibm，向對應之個體輸出。其結果爲，輸入這些訊 -53- 200809856 (51) 號Vbeamm、Vsubm的對應之電子束記錄裝置10，係可以 誤差被減低（或消除）的樣態，進行高精度的記錄動作。 又’即使同一電子束記錄裝置1 〇上每天的誤差特性不同 的情況下，仍可確實地對應該變化之特性，進行高精度的 • 記錄動作。 ； 如以上，雖然針對用來製作形成有光碟之描繪圖案的 • 原盤的電子束記錄裝置1 〇、記錄控制訊號生成裝置1 〇〇加 以說明，但上記實施形態，係亦可適用於，被記錄之磁性 體是呈空間性分離之所謂離散軌道（Discrete Track)媒體 或是圖案記錄媒體（patterned media)之製造時。 亦即，以下的說明中，係針對使用上記電子束記錄裝 置1 〇，來製作離散軌道媒體的溝形狀、或圖案記錄媒體之 點陣形狀之際的圖案描繪方法，加以說明。 上記電子束記錄裝置1 〇，係具有：對已塗佈光阻之基 板（相當於上記基板1 5 )，令該基板在水平方向上移動之 機構（相當於上記X平台1 8等），和令基板旋轉的選轉 平台（相當於上記轉台1 6 )，係爲對光阻照射電子線之曝 光光束以進行描繪之X-θ型之電子束記錄裝置。 • 使用該電子束記錄裝置10，一面令平台旋轉同時往半 • 徑方向移動，一面以一定間隔進行描繪來形成點陣圖案。 此時，雖然在旋轉中可不使電子束偏向，也能螺紋狀地設 置點陣列，但是如日本特開2002-3 6724 1號公報所揭露， 以每1旋轉就將光阻描繪成同心圓的方式使電子線的偏向 量呈鋸齒狀逐次變化而進行曝光，也就可描繪出同心圓狀 -54- 200809856 (52) 的點陣列。此外，除了資料用點陣圖案以外，亦可爲了位 址抽出或軌道位置控制用而製作設置有伺服圖案的領域。 通常，圖案磁性記錄媒體，係被稱作硬碟或作爲經過 圖案化之硬碟的圖案媒體。如圖1 5所示，該圖案磁性記 錄媒體8 0，係可分成伺服圖案部8 1和經過圖案化之資料 軌部82。此外，圖示例子中，雖然資料軌部82的點陣圖 案是僅圖示了外周部和內周部，但這只是省略畫法，實際 上是跨越整個碟片有效半徑而存在。又，伺服圖案部81 亦存在於圖示以外處。 擺臂讀寫頭8 3，係構成爲可在磁性記錄媒體8 〇的徑 方向上搖動，可將磁性記錄媒體8 0的磁性記錄領域中所 記錄之資料加以讀出或寫入。 資料軌部8 2，係形成有被排列成同心圓狀的點陣列之 §己錄媒體圖案。伺服圖案部8 1上係被形成有，表示位址 資訊或軌道偵測資訊的方形圖案、將抽出時脈時序的軌道 予以橫切之在徑方向上延伸的線狀圖案等。此處，伺服圖 案部8 1，雖然是和現行的硬碟記錄媒體同樣形態，但是亦 可爲，採用了被最佳化成圖案媒體用之新格式化器的伺服 圖案，並採用和現行硬碟媒體不同之圖案形狀、形態。 爲了使這些伺服圖案部8 1及資料軌部8 2藉由電子束 記錄裝置1 〇來形成圖案，必須要在各領域中，以不同的 描繪圖案密度進行描繪。此處，用先前的遮沒來進行圖案 形成時，在伺服圖案部8 1和資料軌部8 2中，周方向的每 單位長度（時間）中進行遮沒的長度（時間），係彼此互 -55- 200809856 (53) 異。例如在伺服圖案部8 1中是在周方向上4 0 %、在資料 軌部82中係60%遮沒的情況下，伺服圖案部8 1係周方向 相對較密，資料軌部82係周方向相對較疏。因此，可用 描繪速度一定時的要領，或描繪速度可變時的要領，來形 成圖案。 甚至也不否定則述變形例的適用。甚至也不否定，對 於控制訊號部內之表示軌道位址的領域、獲得軌道伺服訊 號之域、抽出錄再生時脈之領域等的細部領域，分別 進行隨應其粗密的記錄控制。 其次說明圖案記錄媒體之製作時所用的壓印（imprint )的轉印模具（鑄模））之製造方法。 1 ·壓印之轉印模具（亦即所謂的鑄模）之製造方法 本製造方法，係使用光阻遮罩，先製造出壓印用轉印 模具（鑄模），再用該壓印用轉印模具進行轉印，以構成 製造圖案記錄媒體的方法的前半部。使用該壓印方式的圖 案記錄媒體之製造方法，係相較於在磁性記錄媒體用之基 底基板上成膜的記錄膜層（記錄材料）直接進行蝕刻的方 法’對每一媒體所減少的不須描繪、曝光的部份，就可用 來使量產效率提高，而可用於量產工程。 <壓印用轉印模具之製造方法> 本應用例中，說明壓印用轉印模具之製造方法的具體 例子。此外，本應用例中，係爲以電子束記錄裝置1 0製 -56- 200809856 (54) 造壓印用轉印模具，再以壓印用轉印模具以用來製造作爲 磁性記錄媒體之一例的圖案磁性記錄媒體的實施例。 圖1 6〜圖2 1，係本應用例所致之壓印轉印模具製造 工程之一例的剖面圖。 * 首先最初，將適切尺寸之玻璃或是矽（S i )晶圓等備 ; 妥以作爲基板7 1。其次如圖1 6所示，在該基板7 1上，將 . 圖案化所必須之光阻材料，以旋塗等方法加以成膜。本應 用例中，因爲是藉由電子束記錄裝置10進行電子束之曝 光，而形成電子束光阻膜72。其次因應需要，電子束光阻 膜72可進行預烤等。 其次，上記實施形態的電子束記錄裝置1 0，係藉由如 圖17所示之電子束進行曝光而描繪，在該電子束光阻膜 72上形成潛像72a (潛像形成）。其次因應需要，在如此 曝光後，進行烘烤（PEB: Post Exposure Bake)。一旦將 該電子束光阻膜72予以顯影，則在該電子束光阻膜72上 ，會形成如圖1 8所示的溝部72b。其後，因應需要，該電 子束光阻膜72係可進行後烤。 其次，在該電子束光阻膜72及基板71的表面，藉由 ^ 未圖示的濺鍍裝置等，如圖19所示，作爲初期導電膜而 - 將鎳等進行濺鍍，形成鎳合金薄膜73。 其次，在該鎳合金薄膜7 3的表面，如圖2 0所示，將 該鎳合金薄膜73當成電極使用而施以電鑄（電鍍），形 成鎳層74 (轉印模具基材）。然後將鎳層74從基板7 1去 除，就可獲得如圖2 1所示，由鎳等所成之母印模（m a s t e r -57- 200809856 (55) 要 轉 圖 程 部 1 8 成 氧 鍍 濺 表 施 71 ( 因 印 是 圖 stamper ) 74A (壓印轉印模具；鑄模）。此時可因應需 而將母印模74A的表面予以洗淨。 <壓印用轉印模具之另一製造方法> 圖2 2〜圖2 6，係本應用例之另一形態所致之壓印 印模具製造工程之一例的剖面圖。此外，這些圖2 2〜 26，係分別表示取代上述圖19〜圖21之替代的製造工 〇 如圖1 8所示，一旦在電子束光阻膜72上形成溝 7 2 b ’則如圖2 2所示，基板71 (基板材料），係如圖 所示般地以藉由電子束光阻膜72所構成之光阻圖案當 遮罩’進行蝕刻。然後剩餘的電子束光阻膜72，係藉由 電漿灰化等加以去除，如圖2 3所示般地，露出基板7 1。 其次在該露出之基板71的表面，藉由未圖示的濺 裝置等，如圖24所示，作爲初期導電膜而將鎳等進行 鍍’形成鎳合金薄膜73。其次，在該鎳合金薄膜73的 面’如圖25所示，將該鎳合金薄膜73當成電極使用而 以電纟#(電鍍），形成鎳層7 4。然後將鎳層7 4從基板 去除’就可獲得如圖2 6所示，由鎳等所成之母印模 master stamper ) 74A (壓印轉印模具；鑄模）。此時可 應需要而將母印模7 4 A的表面予以洗淨。 順便一提，本實施形態中的壓印轉印模具及壓印轉 物’係例如密度爲500Gbpsi(Gbit/inch2)以上，尤甘 相當於1〜lOTbpsi程度之面記錄密度非常高的超微細 -58- 200809856 (56) 案時，最爲有效。具體而言，藉由使用約25nm之凹坑間 隔的圖案之轉印模具，就可由其轉印物製作出記錄密度大 約lTbpsi的高密度圖案記錄媒體。 爲了實現此事，上記應用例的轉印模具之製造方法中 ，形成有凹凸部之遮罩的製造方法中裡頭，使用可形成高 精細圖案之電子束記錄裝置1 0等，較爲理想。 <圖案磁性記錄媒體之製作> 其次說明使用壓印裝置來製造圖案磁性記錄媒體之實 施例。 圖2 7〜圖3 0，係分別爲圖案磁性記錄媒體之製造方 法之一例的剖面圖。 圖案磁性記錄媒體的製作工程，大致是由轉印物形成 工程、壓印工程、蝕刻工程、非磁性材料充塡工程、保護 膜（潤滑膜）形成工程所成，這些工程是被依序進行。 首先，在該轉印物形成工程中，備妥由特殊加工化學 強化玻璃、Si晶圓、鋁板、其他材料所成之磁性記錄媒體 用的基底基板（相當於後述的基板Π 6 )。 其次如圖2 7所示，在基板1 1 6上，以濺鍍等形成記 錄膜層1 01。此外，若是欲製造垂直磁性記錄媒體時，該 記錄膜層1 〇 1係爲軟磁性基底層、中間層及強磁性記錄層 等之層積構造體。 然後在該記錄膜層1 〇 1上，如圖2 7所示以濺鍍等形 成Ta或Ti等之金屬遮罩層〗02，製作轉印基板3。然後 -59- 200809856 (57) ，在該金屬遮罩層1 02上，使用旋塗法等，形成例如聚甲 基丙烯酸甲酯（PMMA )這類熱可塑性樹脂的光阻，當作 轉印材料202。 其次在壓印工程中，如圖2 8所示，將上記轉印模具 . 74A，以凹凸面是朝向轉印材料202的方式，安裝在未圖 ； 示的壓印裝置。亦即，轉印模具74A，係藉由未圖示之鑄 • 模保持機構加以支持安裝。 於未圖示的壓印裝置中，因應需要而在作業用氣密室 (未圖示）內進行減壓。其後，於該壓印裝置中，因應需 要而加熱轉印材料2 0 2至使其具有流動性後，進行擠壓。 此處，例如聚甲基丙烯酸甲酯（ρ Μ Μ A )的玻璃轉移點爲 1 〇〇 °C前後，因此該壓印裝置，係加熱至玻璃轉移溫度以 上之120〜20 0 °C (例如160X：左右）使其帶有流動性後， 以1〜lOOOOkPa (例如lOOOkPa左右）的擠壓力，將轉印 模具74A擠壓至轉印基板3上。此時，由於從轉印材料 2 0 2會產生出在塗佈時殘留的溶媒或樹脂中所含的水分等 . 排放氣體，因此該作業用氣密室內部，是以達成真空度爲 數百Pa以下（例如i〇pa左右）的真空狀態，較爲理想。 • 然後，將該作業用氣密室的內部的氛圍予以還原，將 • 轉印模具7 4 A剝離，藉此就製造了如圖2 9所示，轉印模 具74A的凹凸圖案是被轉印至轉印材料202上的轉印物 2 1 7。如以上，壓印工程就結束。 接著在蝕刻工程中，如圖3 0所示將作爲蝕刻遮罩而 不要的轉印材料202，以使用〇2氣體等之軟性灰化等加以 -60- 200809856 (58) 摘除。接著如圖3 1所示，金屬遮罩層1 02，是以轉印材料 2 02爲蝕刻遮罩，使用CHF3氣體等而被蝕刻加工。 其次如圖3 2所示，殘存的轉印材料2 0 2是藉由淫製 程或使用〇2氣體之乾式灰化而加以去除。然後，如圖33 所示，記錄膜層101，是以金屬遮罩層102爲蝕刻遮罩， 使用Ar氣體等而以乾蝕刻進行鈾刻加工。然後，殘存的 金屬遮罩層102，是如圖34所示般地藉由溼製程或是乾触 刻而去除。 然後在非磁性材料充塡工程中，如圖3 5所示，不被 記錄的材料（若爲磁性記錄媒體則是Si02等非磁性材料 104) ’是藉由濺鍍或塗佈工程等，而被塡充在圖案的溝 部份。 其次如圖3 6所示，非磁性材料1 04的表面是藉由回 蝕（etch back )或化學硏磨等進行硏磨而平坦化。藉此就 成爲記錄材料是被非記錄性材料1 04分離的構造。 接著在保護膜（潤滑膜）形成工程中，如圖3 7所示 ，例如將記錄膜層1 0 1之保護膜1 05或潤滑膜1 〇6藉由塗 佈方式或浸漬方式而形成在表面，就完成了圖案記錄媒體 。然後藉由將該圖案記錄媒體組裝至硬碟機框體中，就構 成了在該硬碟機框體中內藏該圖案記錄媒體的圖案媒體。 經過以上工程，就可製作圖案磁性記錄媒體。 2 ·直接描繪所成之圖案磁性媒體之製造方法 此圖案磁性記錄媒體，係藉由前述之圖案製作方法而 -61 - 200809856 (59) 進行描繪、曝光而作成潛像，經過顯影而形成的光阻遮罩 ’使用其而直接將gS錄材料予以触刻，即可製作。 圖3 8〜圖40，係分別爲圖案磁性記錄媒體之製造方 法之一例的剖面圖。此外，這些圖3 8〜圖4 0，係構成上 述轉印物形成工程之一部份（相當於上述圖27〜圖29等 )° 首先，在轉印物形成工程中，和上述之轉印物形成工 程同樣地，如圖3 8所示，在由特殊加工化學強化玻璃、 Si晶圓、鋁板、其他材料所成之磁性記錄媒體用的作爲基 底之基板1 1 6上，以濺鍍等形成記錄膜層1 〇 1。 然後在該記錄膜層101上，以濺鐽等形成Ta或Ti等 之金屬遮罩層102，形成轉印基板3。然後，在該金屬遮 罩層102上，係有電子束光阻膜72，是藉由旋塗法等，被 成膜來作爲圖案化所必須之光阻材料。該電子束光阻膜72 係可因應需要而進行預烤。 其次，電子束記錄裝置1〇，係對該電子束光阻膜72 進行描繪。此處，該電子束記錄裝置10對該電子束光阻 膜72所進行描繪者，係圖15所示之資料軌部82中，欲 形成磁性體之圖案所對應之所定圖案。形成有圖3 9所示 之所定圖案的電子束光阻膜72，係因應需要而在曝光後進 行烘烤(Post Exposure Bake ^ PEB)。 其次如圖40所示般地，電子束光阻膜72是藉由顯影 而進行圖案形成。此外，此種已形成好圖案的電子束光阻 膜72，係可因應需要而進行後烤。其以降之工程，係將圖 -62- 200809856 (60) 30及圖3 1所示的轉印材料202，置換成電子束光阻膜72 ’然後和圖3 0〜圖3 7所示的蝕刻工程、非磁性材料塡充 工程及保護膜（潤滑膜）形成工程相同。 • 【圖式簡單說明】 ； 〔圖1〕具備了本發明之一實施形態的格式化器及其 - 對象的記錄裝置的記錄系統S之構成的模式性區塊圖。 〔圖2〕格式化器當中，進行光束之偏向控制、遮沒 控制、基板之位置控制的部份的詳細構成之一例的機能區 塊圖。 〔圖3〕Θ平台及X平台的追從頻帶，和低通濾波器 的通過頻帶，和進行記錄動作之頻帶的模式性說明圖。 〔圖4〕記錄訊號補正器中的記錄資料RD之補正意 義的模式性說明圖。 〔圖5〕當不考慮微細之照射位置偏移仍可時的調整 方法之一例的流程圖。 . 〔圖6〕每次光束調整就調整照射位置偏移時的調整 方法之一例的流程圖。 ‘ 〔圖7〕光束偏向訊號、基板速度訊號、及遮蔽訊號 ' 生成後進行補正之變形例中的格式化器，進行光束之偏向 控制、遮沒控制、基板之位置控制的部份的詳細構成之一 例的機能區塊圖。 〔圖8〕用來說明以座標轉換及訊號延遲進行補正的 說明圖。 -63- 200809856 (61) 〔圖9〕用來說明於座標轉換中，進行至n = 〇項爲止 的近似時的說明圖。 〔圖10〕用來說明於座標轉換中，進行至n=l項爲 止的近似時的說明圖。 〔圖1 1〕用來說明於座標轉換中，進行至n = 2項爲 止的近似時的說明圖。 〔圖12〕用來說明藉由簡略化之座標轉換·訊號延遲 (延遲時間一定）和XY方向之偏向來進行補正的說明圖 〇 〔圖13〕用來說明藉由未簡略化之座標轉換·訊號延 遲（延遲時間一定）和XY方向之偏向來進行補正的說明 圖。 〔圖1 4〕偏移量爲負値時的補正槪念之說明圖。 〔圖1 5〕使用轉印模具所製作之圖案磁性記錄媒體之 一例的平面圖。 〔圖1 6〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖1 7〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖1 8〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖1 9〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖2 0〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 -64- 200809856 (62) Ο 〔圖2 1〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖2 2〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 * 〇 / 〔圖2 3〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 ^ 〇 〔圖24〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖2 5〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖2 6〕壓印用轉印模具之製造方法之一例的剖面圖 〇 〔圖27〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 圖。 〔圖2 8〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 * 圖。 〔圖29〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 * 圖。 * 〔圖3 0〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 圖。 〔圖3 1〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 圖。 〔圖3 2〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 -65- 200809856 (63) 圖 圖 圖 圖 圖 圖 圖 圖 圖 〔圖3 3〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖3 4〕圖案磁性記錄媒體之製、造方法之一例的剖面 〔圖3 5〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖3 6〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖3 7〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖3 8〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖3 9〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 〔圖40〕圖案磁性記錄媒體之製造方法之一例的剖面 【主要元件符號說明】 10:電子束記錄裝置（記錄裝置） 1 5 :基板 3 0 :訊號生成部（訊號生成手段） 3 0A :訊號生成部（訊號生成手段） 3 1 :遮沒控制部（斷續控制手段） -66 - 200809856 (64) 3 3 :光束偏向部（光束偏向手段） 3 7 A :旋轉驅動部（基板速度調整手段） 3 7B :運送驅動部（基板速度調整手段） 41 :偏向·基板速度訊號生成器（第1偏向·基板控 制訊號生成手段） 41A:偏向·基板速度訊號生成器（第2偏向·基板 控制訊號生成手段） 42 :遮沒訊號生成器 42A :遮沒訊號生成器 47 :記錄訊號補正器（第1訊號補正手段） 1 00 :格式化器（記錄控制訊號生成裝置） 1 00A :格式化器（記錄控制訊號生成裝置） 147:偏向·基板速度訊號補正器（第2訊號補正手 段） 1 4 8 :遮沒訊號補正器 -67-

Claims (1)

1. 200809856 (1) 十、申請專利範圍 1 · 一種錄控制訊號生成裝置係對具有：光束偏向 手段’令曝光光束之照射位置移動；和基板速度調整手段 ’調整基板的周方向或徑方向移動速度；和斷續控制手段 ’進行前記曝光光束之照射的斷續控制；一面以前記基板 速度調整手段所調整過之前記周方向或徑方向移動速度來 促使前記基板移動，一面將前記曝光光束照射至前記基板 上的光阻層，以形成潛像的記錄裝置，對其生成潛像形成 所需之控制訊號並加以輸出的記錄控制訊號生成裝置，其 特徵爲，具有： 記錄訊號輸入手段，將記錄訊號加以輸入；和 個性資訊訊號輸入手段，作爲訊號補正要素，而將前 記記錄裝置的個性資訊所對應之個性資訊訊號，加以輸入 :和 訊號生成手段，隨應於前記記錄訊號輸入手段所輸入 之前記記錄訊號，及，前記個性資訊訊號輸入手段所輸入 之前記個性資訊訊號，至少生成給前記光束偏向手段及前 記基板速度調整手段的補正後控制訊號。 2.如申請專利範圍第1項所記載之記錄控制訊號生 成裝置，其中， 前記訊號生成手段’係具備： 第1訊號補正手段，將前記記錄訊號輸入手段所輸入 之前記記錄訊號’基於前記個性資訊訊號輸入手段所輸入 之前記個性資訊訊號而加以補正；和 -68- 200809856 (2) 第1偏向·基板控制訊號生成手段，隨應於該第1訊 號補正手段所補正過之記錄訊號，生成給前記光束偏向手 段及前記基板速度調整手段的前記補正後控制訊號。 3 .如申請專利範圍第1項所記載之記錄控制訊號生 成裝置，其中， 前記訊號生成手段，係具備： 第2偏向·基板控制訊號生成手段，隨應於前記記錄 訊號輸入手段所輸入之前記記錄訊號，生成給前記光束偏 向手段及前記基板速度調整手段的基礎控制訊號；和 第2訊號補正手段，將該第2偏向•基板訊號生成手 段所生成之前記基礎控制訊號，基於前記個性資訊訊號輸 入手段所輸入之前記個性資訊訊號而加以補正，然後生成 前記補正後控制訊號。 4·如申請專利範圍第2項或第3項所記載之記錄控 制訊號生成裝置，其中， 前記個性資訊訊號輸入手段，係 作爲前記個性資訊訊號，是輸入誤差資訊訊號，其係 對應於以前記記錄裝置之寸法精度或控制精度爲基礎之誤 差資訊。 5 ·如申請專利範圍第4項所記載之記錄控制訊號生 成裝置，其中， 前記個性資訊訊號輸入手段，係 作爲前記誤差資訊訊號，是輸入偏差資訊訊號，其係 對應於前記曝光光束所致之目標照射位置和實際照射位置 -69- 200809856 (3) 之偏差。 6. 如申請專利範圍第5項所記載之記錄控制訊號生 成裝置，其中， 前記第1或第2訊號補正手段’係 * 使用：用到前記偏差資訊訊號之座標轉換處理’和用 ; 到前記斷續控制手段中之前記偏差資訊訊號的前記斷續控 - 制的時序之延遲處理，來進行基於前記個性資訊訊號之補 正； 對應於此，具備該當第1或第2訊號補正手段的前記 訊號生成手段，係生成給前記光束偏向手段、前記基板速 度調整手段、及前記斷續控制手段的補正後控制訊號。 7. 如申請專利範圍第5項所記載之記錄控制訊號生 成裝置，其中， 前記第1或第2訊號補正手段，係 使用：所定之座標轉換處理，和用到前記斷續控制手 段中之前記偏差資訊訊號的前記斷續控制的時序之延遲處 _ 理，和這些座標轉換處理及時序延遲處理所對應之樣態的 前記光束偏向手段所致之前記曝光光束的照射位置移動演 * 算處理，來進行基於前記個性資訊訊號之補正； * 對應於此，具備該當第1或第2訊號補正手段的前記 訊號生成手段，係生成給前記光束偏向手段、前記基板速 度調整手段、及前記斷續控制手段的補正後控制訊號。 8 . —種記錄系統，係屬於具有： 記錄裝置，其係具有··光束偏向手段，令曝光光束之 -70- 200809856 (4) 照射位置移動；和基板速度調整手段，調整基板的周方向 或徑方向移動速度；和斷續控制手段，進行前記曝光光束 之照射的斷續控制；一面以前記基板速度調整手段所調整 過之前記周方向或徑方向移動速度來促使前記基板移動， • 一面將前記曝光光束照射至前記基板上的光阻層，以形成 ： 潛像；和 ， 記錄控制訊號生成裝置，對此記錄裝置，生成前記潛 像形成所需之控制訊號； 之記錄系統，其特徵爲， 隨應於記錄訊號及前記記錄裝置之個性資訊所對應之 個性資訊訊號，將至少生成給前記記錄裝置之前記光束偏 向手段及前記基板速度調整手段的補正後控制訊號的訊號 生成手段，設置在前記記錄裝置及前記記錄控制訊號生成 裝置之至少一方。 9 ·如申請專利範圍第8項所記載之記錄系統，其中 前記訊號生成手段，係具備： 第1訊號補正手段，基於前記個性資訊訊號來補正前 記記錄訊號；和 第1偏向·基板控制訊號生成手段，隨應於該第1訊 號補正手段所補正過之記錄訊號，生成給前記光束偏向手 段及前記基板速度調整手段的前記補正後控制訊號。 10.如申請專利範圍第8項所記載之記錄系統，其中 -71 - 200809856 (5) 前記訊號生成手段，係具備： 第2偏向•基板控制訊號生成手段，隨應於前記記錄 訊號，生成給前記光束偏向手段及前記基板速度調整手段 的基礎控制訊號；和 第2訊號補正手段，將該第2偏向•基板訊號生成手 段所生成之前記基礎控制訊號，基於前記個性資訊訊號而 加以補正，然後生成前記補正後控制訊號。 11·如申請專利範圍第9項或第1 0項所記載之記錄 系統，其中， 前記訊號生成手段，係 隨應於作爲前記個性資訊訊號之、基於前記記錄裝置 之寸法精度或控制精度的誤差資訊所對應之誤差資訊訊號 ，來生成前記補正後控制訊號。 12·如申請專利範圍第1 1項所記載之記錄系統，其 中， 則記訊號生成手段，係 隨應於作爲前記誤差資訊訊號之、前記曝光光束所致 之目標照射位置和實際照射位置之偏差所對應之偏差資訊 訊號，來生成前記補正後控制訊號。 13·如申請專利範圍第1 2項所記載之記錄系統，其 中， 前記訊號生成手段的前記第1或第2訊號補正手段， 係 使用：用到前記偏差資訊訊號之座標轉換處理，和用 -72- 200809856 (6) 到前記斷續控制手段中之前記偏差資訊訊號的前記斷續控 制的時序之延遲處理，來進行基於前記個性資訊訊號之補 正； 對應於此，具備該當第1或第2訊號補正手段的前記 訊號生成手段，係生成給前記光束偏向手段、前記基板速 度調整手段、及前記斷續控制手段的補正後控制訊號。 14·如申請專利範圍第1 2項所記載之記錄系統，其 中， 前記訊號生成手段的前記第1或第2訊號補正手段， 係 使用：所定之座標轉換處理，和用到前記斷續控制手 段中之前記偏差資訊訊號的前記斷續控制的時序之延遲處 理，和這些座標轉換處理及時序延遲處理所對應之樣態的 前記光束偏向手段所致之前記曝光光束的照射位置移動處 理，來進行基於前記個性資訊訊號之補正； 對應於此，具備該當第1或第2訊號補正手段的前記 訊號生成手段，係生成給前記光束偏向手段、前記基板速 度調整手段、及前記斷續控制手段的補正後控制訊號。 15. —種記錄裝置，係屬於具有： 光束偏向手段，令曝光光束之照射位置移動；和 基板速度調整手段，調整基板的周方向或徑方向移動 速度；和 斷續控制手段，進行前記曝光光束之照射的斷續控制 :和 -73- 200809856 (7) 記錄控制訊號生成手段，生成前記潛像形成所需之控 制訊號；且 一面以前記基板速度調整手段所調整過之前記周方向 或徑方向移動速度來促使前記基板移動，一面將前記曝光 • 光束照射至前記基板上的光阻層，以形成潛像的記錄裝置 ； ，其特徵爲， . 前記控制訊號，係 隨應於前記記錄裝置之個性資訊所對應之個性資訊訊 號而被補正。 -74-