JPH0676293A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH0676293A JPH0676293A JP4252117A JP25211792A JPH0676293A JP H0676293 A JPH0676293 A JP H0676293A JP 4252117 A JP4252117 A JP 4252117A JP 25211792 A JP25211792 A JP 25211792A JP H0676293 A JPH0676293 A JP H0676293A
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- Japan
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- signal
- frequency
- optical disc
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス原盤の回転及び横移動を高精度に検出
し、かつ、変動量に応じて、高精度にピット情報を記録
する。 【構成】 光ディスク原盤２２をモータ３２で回転させ
る。レーザ光源１２から出射されたレーザ光ＬａにＡＯ
Ｍ１６で光変調を施す。ＡＯＭ１６からのレーザ光Ｌｂ
を対物レンズ２０で集光して光ディスク原盤２２に照射
して表面にピット情報を記録する。この際、光ディスク
原盤２２の回転変動を、この光ディスク原盤２２のスリ
ット部４７を通じ、レーザ光源４６、受光素子４９で検
出する。この検出した回転変動量に基づいて、レーザ光
源１２からのレーザ光Ｌａの照射時間を制御して記録す
るピット長と、ピット間隔を所定長さ及び所定間隔に配
置する。
し、かつ、変動量に応じて、高精度にピット情報を記録
する。 【構成】 光ディスク原盤２２をモータ３２で回転させ
る。レーザ光源１２から出射されたレーザ光ＬａにＡＯ
Ｍ１６で光変調を施す。ＡＯＭ１６からのレーザ光Ｌｂ
を対物レンズ２０で集光して光ディスク原盤２２に照射
して表面にピット情報を記録する。この際、光ディスク
原盤２２の回転変動を、この光ディスク原盤２２のスリ
ット部４７を通じ、レーザ光源４６、受光素子４９で検
出する。この検出した回転変動量に基づいて、レーザ光
源１２からのレーザ光Ｌａの照射時間を制御して記録す
るピット長と、ピット間隔を所定長さ及び所定間隔に配
置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録情報をレーザ光で
光ディスク原盤に書き込む光ディスク原盤露光装置に関
する。
光ディスク原盤に書き込む光ディスク原盤露光装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク原盤に露光を施して情報を書
き込む装置として、特開昭５９−３３６６８号公報に記
載された「情報記録装置」を挙げることができる。この
「情報記録装置」では、記録する情報で変調されたレー
ザ光をフォトレジスト塗布されたガラス原盤に照射して
いる。この際、ガラス原盤を回転させ、同時に回転軸方
向に横移動させて、ガラス原盤上にスパイラル状にピッ
ト情報を記録している。同時に円板上のガラス原盤の重
量の相違による回転変動に従属した制御で横送り駆動を
行い、ガラス原盤への記録情報の位置精度を高めてい
る。
き込む装置として、特開昭５９−３３６６８号公報に記
載された「情報記録装置」を挙げることができる。この
「情報記録装置」では、記録する情報で変調されたレー
ザ光をフォトレジスト塗布されたガラス原盤に照射して
いる。この際、ガラス原盤を回転させ、同時に回転軸方
向に横移動させて、ガラス原盤上にスパイラル状にピッ
ト情報を記録している。同時に円板上のガラス原盤の重
量の相違による回転変動に従属した制御で横送り駆動を
行い、ガラス原盤への記録情報の位置精度を高めてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来例
の光ディスク原盤では、記録されるピット情報の配置が
高精度に要求されるものである。しかしながら光ディス
ク原盤露光装置の回転及び横移動の駆動部は多くの機械
部品で構成されているため、回転ワウフラッタ、回転ジ
ッタが発生し易い。横移動の駆動はボールネジの送り変
動が発生し易くガラス原盤への高精度なピット情報の記
録が困難である。
の光ディスク原盤では、記録されるピット情報の配置が
高精度に要求されるものである。しかしながら光ディス
ク原盤露光装置の回転及び横移動の駆動部は多くの機械
部品で構成されているため、回転ワウフラッタ、回転ジ
ッタが発生し易い。横移動の駆動はボールネジの送り変
動が発生し易くガラス原盤への高精度なピット情報の記
録が困難である。
【０００４】本発明は、このような従来の課題を解決す
るものであり、ガラス原盤の回転及び回転軸方向への横
移動を高精度に検出し、その変動量に応じてガラス原盤
上に記録するピット情報を所望の所定位置に記録できる
光ディスク原盤露光装置の提供を目的とする。
るものであり、ガラス原盤の回転及び回転軸方向への横
移動を高精度に検出し、その変動量に応じてガラス原盤
上に記録するピット情報を所望の所定位置に記録できる
光ディスク原盤露光装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光ディスク原盤露光装置にあって、請求項
１は、レーザ光源と、上記レーザ光源から出射されたレ
ーザ光に光変調を施す光変調手段と、光ディスク原盤を
回転させる回転手段と、上記光変調手段からのレーザ光
を上記光ディスク原盤に照射し、表面にピット情報を記
録するための対物レンズと、上記光ディスク原盤の回転
変動を検出した回転変動信号を出力する回転変動検出手
段と、上記回転変動検出手段で検出した回転変動量に基
づいて上記光変調手段からのレーザ光の照射時間を制御
して上記光ディスク原盤に記録する少なくともピット長
と、ピット間隔を所定長さ及び所定間隔に配置を行う制
御手段とを備える構成である。
に、本発明の光ディスク原盤露光装置にあって、請求項
１は、レーザ光源と、上記レーザ光源から出射されたレ
ーザ光に光変調を施す光変調手段と、光ディスク原盤を
回転させる回転手段と、上記光変調手段からのレーザ光
を上記光ディスク原盤に照射し、表面にピット情報を記
録するための対物レンズと、上記光ディスク原盤の回転
変動を検出した回転変動信号を出力する回転変動検出手
段と、上記回転変動検出手段で検出した回転変動量に基
づいて上記光変調手段からのレーザ光の照射時間を制御
して上記光ディスク原盤に記録する少なくともピット長
と、ピット間隔を所定長さ及び所定間隔に配置を行う制
御手段とを備える構成である。
【０００６】請求項２は、請求項１における制御手段
を、基準クロック信号を発生させる基準クロック信号発
生手段と、上記基準クロック信号発生手段からの基準ク
ロック信号を分周する分周手段と、回転変動検出手段か
らの回転変動信号と上記分周手段からの分周信号との位
相比較を行った位相ずれ量に応じて光変調手段からのレ
ーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調整手段とで
構成している。
を、基準クロック信号を発生させる基準クロック信号発
生手段と、上記基準クロック信号発生手段からの基準ク
ロック信号を分周する分周手段と、回転変動検出手段か
らの回転変動信号と上記分周手段からの分周信号との位
相比較を行った位相ずれ量に応じて光変調手段からのレ
ーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調整手段とで
構成している。
【０００７】請求項３は、請求項１における制御手段
を、位相比較器、ローパスフィルタ、電圧制御発振器、
分周手段とからなる閉ループのＰＬＬと、光変調手段か
らのレーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調整手
段とで構成し、回転変動検出手段で検出した回転変動量
の信号を分周信号とともに上記位相比較器で位相比較を
行い、比較した位相差に相当する電圧をローパスフィル
タを通じて得るとともに、この電圧で電圧制御発振器の
発振周波数を制御し、この制御した発振周波数でレーザ
光照射調整手段を通じて光変調手段からのレーザ光の照
射時間を調整する構成である。
を、位相比較器、ローパスフィルタ、電圧制御発振器、
分周手段とからなる閉ループのＰＬＬと、光変調手段か
らのレーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調整手
段とで構成し、回転変動検出手段で検出した回転変動量
の信号を分周信号とともに上記位相比較器で位相比較を
行い、比較した位相差に相当する電圧をローパスフィル
タを通じて得るとともに、この電圧で電圧制御発振器の
発振周波数を制御し、この制御した発振周波数でレーザ
光照射調整手段を通じて光変調手段からのレーザ光の照
射時間を調整する構成である。
【０００８】請求項４では、求項１における制御手段
が、基準クロック信号発生手段と、この基準クロック発
生手段からの基準クロック信号を周波数／電圧変換する
第１の周波数／電圧変換手段と、回転変動検出手段から
の回転変動信号を周波数／電圧変換する第２の周波数／
電圧変換手段と、第１及び第２の周波数／電圧変換手段
からの電圧を加算する加算手段と、上記加算手段からの
電圧に対応する周波数を生成する電圧／周波数変換手段
と、上記電圧／周波数変換手段からの周波数で光変調手
段からのレーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調
整手段とで構成している。
が、基準クロック信号発生手段と、この基準クロック発
生手段からの基準クロック信号を周波数／電圧変換する
第１の周波数／電圧変換手段と、回転変動検出手段から
の回転変動信号を周波数／電圧変換する第２の周波数／
電圧変換手段と、第１及び第２の周波数／電圧変換手段
からの電圧を加算する加算手段と、上記加算手段からの
電圧に対応する周波数を生成する電圧／周波数変換手段
と、上記電圧／周波数変換手段からの周波数で光変調手
段からのレーザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調
整手段とで構成している。
【０００９】請求項５は、請求項１における回転変動検
出手段を、光ディスク原盤に設けたレーザ光を通過又は
非通過させるスリット部にレーザ光を照射するレーザ光
照射手段と、光ディスク原盤のスリットを通過するレー
ザ光を受光する受光手段とで構成し、受光手段からのレ
ーザ光を受光した際に出力するパルス数を上記回転変動
信号として出力するものである。
出手段を、光ディスク原盤に設けたレーザ光を通過又は
非通過させるスリット部にレーザ光を照射するレーザ光
照射手段と、光ディスク原盤のスリットを通過するレー
ザ光を受光する受光手段とで構成し、受光手段からのレ
ーザ光を受光した際に出力するパルス数を上記回転変動
信号として出力するものである。
【００１０】請求項６では、レーザ光源と、上記レーザ
光源から出射されたレーザ光に光変調を施す光変調手段
と、光ディスク原盤を回転させる回転手段と、上記光デ
ィスク原盤と回転手段とを上記光ディスク原盤の回転軸
方向線で横移動させる横移動手段と、上記光変調手段か
らのレーザ光を集光して上記光ディスク原盤に照射して
表面にピット情報を記録するための対物レンズと、上記
光ディスク原盤の回転軸方向に沿った横移動変動を検出
した横移動変動信号を出力する横方向移動変動検出手段
と、上記横移動変動信号に基づいて、光ディスク原盤が
一回転した際の上記光変調手段からのレーザ光の照射開
始を制御して上記光ディスク原盤に記録するピット情報
のピッチ間隔を所定間隔に配置するための制御手段とを
備える構成である。
光源から出射されたレーザ光に光変調を施す光変調手段
と、光ディスク原盤を回転させる回転手段と、上記光デ
ィスク原盤と回転手段とを上記光ディスク原盤の回転軸
方向線で横移動させる横移動手段と、上記光変調手段か
らのレーザ光を集光して上記光ディスク原盤に照射して
表面にピット情報を記録するための対物レンズと、上記
光ディスク原盤の回転軸方向に沿った横移動変動を検出
した横移動変動信号を出力する横方向移動変動検出手段
と、上記横移動変動信号に基づいて、光ディスク原盤が
一回転した際の上記光変調手段からのレーザ光の照射開
始を制御して上記光ディスク原盤に記録するピット情報
のピッチ間隔を所定間隔に配置するための制御手段とを
備える構成である。
【００１１】請求項７では、請求項６の横方向移動変動
検出手段は移動量をパルス信号で検出する構成としてい
る。
検出手段は移動量をパルス信号で検出する構成としてい
る。
【００１２】
【作用】このような構成により、本発明の光ディスク原
盤露光装置は、回転変動検出手段で検出した回転変動量
に基づいて光変調手段からのレーザ光の照射時間を制御
しているため、記録するピット長と、ピット間隔を所定
長さ及び所定間隔に精度良く配置できる。また、回転変
動信号と分周信号との位相ずれ量に応じてレーザ光の照
射時間を調整しているので、大回転変動にも十分対応で
きる。さらに、閉ループのＰＬＬ、すなわち、アナログ
回路によって、レーザ光の照射時間を調整しているの
で、回路構成が容易、かつ、高速変動に対して十分応答
できる。また、スリット部を通じて光ディスク原盤の回
転変動を直接検出しているため、レーザ光の照射時間を
精度良く制御できる。さらに、横移動変動信号に基づい
て、光ディスク原盤が一回転した際のレーザ光の照射開
始を制御してピット情報のピッチ間隔を所定間隔に制御
を行っているので、ピット情報のピッチ間隔を高精度に
できる。
盤露光装置は、回転変動検出手段で検出した回転変動量
に基づいて光変調手段からのレーザ光の照射時間を制御
しているため、記録するピット長と、ピット間隔を所定
長さ及び所定間隔に精度良く配置できる。また、回転変
動信号と分周信号との位相ずれ量に応じてレーザ光の照
射時間を調整しているので、大回転変動にも十分対応で
きる。さらに、閉ループのＰＬＬ、すなわち、アナログ
回路によって、レーザ光の照射時間を調整しているの
で、回路構成が容易、かつ、高速変動に対して十分応答
できる。また、スリット部を通じて光ディスク原盤の回
転変動を直接検出しているため、レーザ光の照射時間を
精度良く制御できる。さらに、横移動変動信号に基づい
て、光ディスク原盤が一回転した際のレーザ光の照射開
始を制御してピット情報のピッチ間隔を所定間隔に制御
を行っているので、ピット情報のピッチ間隔を高精度に
できる。
【００１３】
【実施例】次に、本発明の光ディスク原盤露光装置の実
施例を図面を参照して詳細に説明する。図１は実施例の
構成を示している。図１において、この例は、レーザ光
源１２と、このレーザ光源１２からのレーザ光Ｌａを反
射するミラー１４ａと、レーザ光Ｌａに変調を施すＡＯ
Ｍ（電気信号／光変換器）１６と、ＡＯＭ１６からのレ
ーザ光Ｌｂを反射するミラー１４ｂ，１４ｃとが設けら
れている。さらに、この例は記録情報、例えば、画像・
音声信号の変調信号Ｍ１をＡＯＭ１６に供給する変調信
号発生装置１８と、ミラー１４ａ〜１４ｃで導かれたレ
ーザ光Ｌｂが入射される対物レンズ２０とを有してい
る。また、記録情報をスパイラル状のピット情報として
記録するための光ディスク原盤２２と、この光ディスク
原盤２２を配置するためのテーブル３０と、このテーブ
ル３０の軸と固定され、回転させるためのモータ３２
と、このモータ３２の回転を制御する回転モータ制御装
置３４とを備えている。この例は、モータ３２の回転量
を検出した検出信号Ｅ１を出力するロータリ式のエンコ
ーダ３６と、モータ３２とエンコーダ３６とが乗せ置い
て固定され、回転軸方向への横移動を行う横移動台３８
とを有している。さらに、この例は横移動台３８の横移
動を駆動するボールネジ４０と、このボールネジ４０と
固定され、このボールネジ４０を回転させるモータ４２
と、モータ４２の回転を制御する横移動モータ制御装置
４４と、モータ４２の回転量を検出して、その検出信号
Ｅ２を出力するロータリ式のエンコーダ４５とを有して
いる。さらに、この構成に加え、レーザ光源４６と、こ
こからのレーザ光Ｌｆを光ディスク原盤２２のスリット
部４７に照射するために反射させるミラー４８と、スリ
ット部４７からのレーザ光Ｌｆを受光し、その受光信号
Ｅ３を送出する受光素子４９とを有している。
施例を図面を参照して詳細に説明する。図１は実施例の
構成を示している。図１において、この例は、レーザ光
源１２と、このレーザ光源１２からのレーザ光Ｌａを反
射するミラー１４ａと、レーザ光Ｌａに変調を施すＡＯ
Ｍ（電気信号／光変換器）１６と、ＡＯＭ１６からのレ
ーザ光Ｌｂを反射するミラー１４ｂ，１４ｃとが設けら
れている。さらに、この例は記録情報、例えば、画像・
音声信号の変調信号Ｍ１をＡＯＭ１６に供給する変調信
号発生装置１８と、ミラー１４ａ〜１４ｃで導かれたレ
ーザ光Ｌｂが入射される対物レンズ２０とを有してい
る。また、記録情報をスパイラル状のピット情報として
記録するための光ディスク原盤２２と、この光ディスク
原盤２２を配置するためのテーブル３０と、このテーブ
ル３０の軸と固定され、回転させるためのモータ３２
と、このモータ３２の回転を制御する回転モータ制御装
置３４とを備えている。この例は、モータ３２の回転量
を検出した検出信号Ｅ１を出力するロータリ式のエンコ
ーダ３６と、モータ３２とエンコーダ３６とが乗せ置い
て固定され、回転軸方向への横移動を行う横移動台３８
とを有している。さらに、この例は横移動台３８の横移
動を駆動するボールネジ４０と、このボールネジ４０と
固定され、このボールネジ４０を回転させるモータ４２
と、モータ４２の回転を制御する横移動モータ制御装置
４４と、モータ４２の回転量を検出して、その検出信号
Ｅ２を出力するロータリ式のエンコーダ４５とを有して
いる。さらに、この構成に加え、レーザ光源４６と、こ
こからのレーザ光Ｌｆを光ディスク原盤２２のスリット
部４７に照射するために反射させるミラー４８と、スリ
ット部４７からのレーザ光Ｌｆを受光し、その受光信号
Ｅ３を送出する受光素子４９とを有している。
【００１４】図２は、この光ディスク原盤２２のスリッ
ト部４７を示す斜視図である。図２において、スリット
部４７は回転中心からピット情報が記録されない部分の
一円上に設けられている。スリット部４７はスリットが
等間隔で一円状に配置され、このスリットではレーザ光
Ｌｆが通過し、スリットとスリットの間でレーザ光Ｌｆ
を遮断する。
ト部４７を示す斜視図である。図２において、スリット
部４７は回転中心からピット情報が記録されない部分の
一円上に設けられている。スリット部４７はスリットが
等間隔で一円状に配置され、このスリットではレーザ光
Ｌｆが通過し、スリットとスリットの間でレーザ光Ｌｆ
を遮断する。
【００１５】次に、この実施例の構成における動作につ
いて説明する。レーザ光源１２からのレーザ光ＬａをＡ
ＯＭ１６に入射し、ＡＯＭ１６に入力される変調信号発
生装置１８からの変調信号Ｍ１で光変調を施す。ＡＯＭ
１６で変調されたレーザ光Ｌｂをミラー１４ｂ，１４ｃ
で反射し、さらに、対物レンズ２０で集光して光ディス
ク原盤２２に照射して、表面上にピット情報を記録す
る。同時に光ディスク原盤２２は、モータ３２に固定さ
れたテーブル３０の回転とともに回転する。この回転は
エンコーダ３６からの検出信号Ｅ１が供給される回転モ
ータ制御装置３４で制御される。また、光ディスク原盤
２２は横移動台３８の移動で横移動する。この横移動は
モータ４２で駆動され、この駆動は検出信号Ｅ２が横移
動モータ制御装置４４に供給され、その検出信号Ｅ２に
基づいて制御される。この状態で、レーザ光源４６から
のレーザ光Ｌｆがミラー４８で反射されてスリット部４
７を通過して受光素子４９に入射される。この入射数を
パルス数、すなわち、光ディスク原盤２２の回転量に比
例したパルス数の受光信号Ｅ３を送出する。検出信号Ｅ
１，Ｅ２及び受光信号Ｅ３が変調信号発生装置１８に入
力される。変調信号発生装置１８では、検出信号Ｅ１、
受光信号Ｅ３のパルス数、すなわち、光ディスク原盤２
２の回転量に基づいて、ＡＯＭ１６に送出する変調信号
Ｍ１の送出時間を調整する。すなわち、ピット情報のピ
ットの長さと、ピットとピットの間隔とを、所定規格の
長さ及び間隔に調整する。この場合、検出信号Ｅ１、受
光信号Ｅ３のいずれか一方を用いても良く、また、両方
を相加加算して変調信号Ｍ１の送出時間を調整するよう
にしても良い。
いて説明する。レーザ光源１２からのレーザ光ＬａをＡ
ＯＭ１６に入射し、ＡＯＭ１６に入力される変調信号発
生装置１８からの変調信号Ｍ１で光変調を施す。ＡＯＭ
１６で変調されたレーザ光Ｌｂをミラー１４ｂ，１４ｃ
で反射し、さらに、対物レンズ２０で集光して光ディス
ク原盤２２に照射して、表面上にピット情報を記録す
る。同時に光ディスク原盤２２は、モータ３２に固定さ
れたテーブル３０の回転とともに回転する。この回転は
エンコーダ３６からの検出信号Ｅ１が供給される回転モ
ータ制御装置３４で制御される。また、光ディスク原盤
２２は横移動台３８の移動で横移動する。この横移動は
モータ４２で駆動され、この駆動は検出信号Ｅ２が横移
動モータ制御装置４４に供給され、その検出信号Ｅ２に
基づいて制御される。この状態で、レーザ光源４６から
のレーザ光Ｌｆがミラー４８で反射されてスリット部４
７を通過して受光素子４９に入射される。この入射数を
パルス数、すなわち、光ディスク原盤２２の回転量に比
例したパルス数の受光信号Ｅ３を送出する。検出信号Ｅ
１，Ｅ２及び受光信号Ｅ３が変調信号発生装置１８に入
力される。変調信号発生装置１８では、検出信号Ｅ１、
受光信号Ｅ３のパルス数、すなわち、光ディスク原盤２
２の回転量に基づいて、ＡＯＭ１６に送出する変調信号
Ｍ１の送出時間を調整する。すなわち、ピット情報のピ
ットの長さと、ピットとピットの間隔とを、所定規格の
長さ及び間隔に調整する。この場合、検出信号Ｅ１、受
光信号Ｅ３のいずれか一方を用いても良く、また、両方
を相加加算して変調信号Ｍ１の送出時間を調整するよう
にしても良い。
【００１６】このようにすると、複数の光ディスク原盤
２２に画像・音声信号の記録情報をピット情報として記
録する際に、その光ディスク原盤２２の個々の重量差に
よって回転変動が生じても、ピットの長さとピットとピ
ットの間隔とが常に所定規格の長さ及び間隔で正確に記
録できることになる。また、一枚の光ディスク原盤２２
に記録を行う際にも、記録途中で回転変動が生じても同
様にピットの長さとピットとピットの間隔とを所定規格
の長さ及び間隔にできる。さらに、変調信号発生装置１
８では、検出信号Ｅ２のパルス数、すなわち、光ディス
ク原盤２２の横移動量に基づいて、スパイラル状に配置
されるピット情報のピッチ間隔を調整する。すなわち、
ピット情報のピッチ間隔が所定の間隔になるように、一
回転ごとのＡＯＭ１６からの変調信号Ｍ１の送出開始時
間を調整する。このようにすると、複数の光ディスク原
盤２２に画像・音声信号の記録情報をピット情報として
記録する際のピット情報のピッチが常に所定の間隔にな
る。
２２に画像・音声信号の記録情報をピット情報として記
録する際に、その光ディスク原盤２２の個々の重量差に
よって回転変動が生じても、ピットの長さとピットとピ
ットの間隔とが常に所定規格の長さ及び間隔で正確に記
録できることになる。また、一枚の光ディスク原盤２２
に記録を行う際にも、記録途中で回転変動が生じても同
様にピットの長さとピットとピットの間隔とを所定規格
の長さ及び間隔にできる。さらに、変調信号発生装置１
８では、検出信号Ｅ２のパルス数、すなわち、光ディス
ク原盤２２の横移動量に基づいて、スパイラル状に配置
されるピット情報のピッチ間隔を調整する。すなわち、
ピット情報のピッチ間隔が所定の間隔になるように、一
回転ごとのＡＯＭ１６からの変調信号Ｍ１の送出開始時
間を調整する。このようにすると、複数の光ディスク原
盤２２に画像・音声信号の記録情報をピット情報として
記録する際のピット情報のピッチが常に所定の間隔にな
る。
【００１７】次に、この変調信号発生装置１８を詳細に
説明する。図３は変調信号発生装置１８の詳細な構成を
示すブロック図である。図３において、この例は基準ク
ロック信号発生回路５０と、位相比較器５２と、アップ
ダウン（Ｕ／Ｄ）カウンタ５４と、変調信号発生回路５
６と、遅延回路５８と、信号セレクト回路５９とを有し
ている。
説明する。図３は変調信号発生装置１８の詳細な構成を
示すブロック図である。図３において、この例は基準ク
ロック信号発生回路５０と、位相比較器５２と、アップ
ダウン（Ｕ／Ｄ）カウンタ５４と、変調信号発生回路５
６と、遅延回路５８と、信号セレクト回路５９とを有し
ている。
【００１８】次に、この構成の動作について説明する。
エンコーダ３６からの検出信号Ｅ１は、基準クロック信
号発生回路５０からの基準クロック信号とともに位相比
較器５２に入力される。位相比較器５２では、この二つ
の信号を比較して、基準クロック信号発生回路５０から
の基準クロック信号より検出信号Ｅ１のパルスが位相進
みの場合、その進相分だけＵ（アップ）信号を出し、位
相遅れの場合、その遅相分だけＤ（ダウン）信号を出力
する。アップダウンカウンタ５４では、Ｕ信号、Ｄ信号
の幅をカウントした基準カウント値、すなわち、基準ク
ロック信号と検出信号Ｅ１の位相ずれがない場合を中心
にしてＵ信号、Ｄ信号に応じてカウント値を増減させ
る。このアップダウンカウンタ５４の出力は、例えば、
８ビット幅の信号セレクト回路へのセレクト信号とな
る。遅延回路５８は、信号遅延素子群で遅延量が少しづ
つ変化するようにＮ個まで並べてある。その結果、遅延
された変調信号Ｄ1 ，Ｄ2 ，Ｄ3 ，Ｄ4 ，Ｄ5 …Ｄn が
発生し、信号セレクト回路５９で検出信号Ｅ１の変動に
応じて最適の変調信号Ｍ１が選択される。
エンコーダ３６からの検出信号Ｅ１は、基準クロック信
号発生回路５０からの基準クロック信号とともに位相比
較器５２に入力される。位相比較器５２では、この二つ
の信号を比較して、基準クロック信号発生回路５０から
の基準クロック信号より検出信号Ｅ１のパルスが位相進
みの場合、その進相分だけＵ（アップ）信号を出し、位
相遅れの場合、その遅相分だけＤ（ダウン）信号を出力
する。アップダウンカウンタ５４では、Ｕ信号、Ｄ信号
の幅をカウントした基準カウント値、すなわち、基準ク
ロック信号と検出信号Ｅ１の位相ずれがない場合を中心
にしてＵ信号、Ｄ信号に応じてカウント値を増減させ
る。このアップダウンカウンタ５４の出力は、例えば、
８ビット幅の信号セレクト回路へのセレクト信号とな
る。遅延回路５８は、信号遅延素子群で遅延量が少しづ
つ変化するようにＮ個まで並べてある。その結果、遅延
された変調信号Ｄ1 ，Ｄ2 ，Ｄ3 ，Ｄ4 ，Ｄ5 …Ｄn が
発生し、信号セレクト回路５９で検出信号Ｅ１の変動に
応じて最適の変調信号Ｍ１が選択される。
【００１９】図４は変調信号発生装置１８の他の例の構
成を示すブロック図である。図４において、この他の例
は位相比較器６０と、ＬＰＦ（ローパスフィルタ）６２
と、ＶＣＯ（電圧制御発振器）６４と、１／Ｎ分周器６
５とからなる閉ループのＰＬＬ回路と、変調信号発生器
６６とを有している。
成を示すブロック図である。図４において、この他の例
は位相比較器６０と、ＬＰＦ（ローパスフィルタ）６２
と、ＶＣＯ（電圧制御発振器）６４と、１／Ｎ分周器６
５とからなる閉ループのＰＬＬ回路と、変調信号発生器
６６とを有している。
【００２０】次に、この構成の動作について説明する。
ＰＬＬ回路では、検出信号Ｅ１に同期した同期クロック
信号ＣＬＫを変調信号発生器６６に出力する。すなわ
ち、検出信号Ｅ１が、例えば、光ディスク原盤２２の回
転が遅くなった場合、ＶＣＯ６４の出力周波数は低下
し、変調信号発生器６６に入力される同期クロック信号
ＣＬＫが遅くなるので結果として変調信号Ｍ１に遅れが
発生する。
ＰＬＬ回路では、検出信号Ｅ１に同期した同期クロック
信号ＣＬＫを変調信号発生器６６に出力する。すなわ
ち、検出信号Ｅ１が、例えば、光ディスク原盤２２の回
転が遅くなった場合、ＶＣＯ６４の出力周波数は低下
し、変調信号発生器６６に入力される同期クロック信号
ＣＬＫが遅くなるので結果として変調信号Ｍ１に遅れが
発生する。
【００２１】図５は変調信号発生装置１８の他の例の構
成を示すブロック図である。この例は、Ｆ／Ｖ（周波数
／電圧）変換器７０と、基準クロック信号発生回路７２
と、１／Ｎ分周器７４と、Ｆ／Ｖ（周波数／電圧）変換
器７６とを有している。さらに、加算器７７と、Ｖ／Ｆ
（電圧／周波数）変換器７８と、変調信号発生器７９と
を有している。
成を示すブロック図である。この例は、Ｆ／Ｖ（周波数
／電圧）変換器７０と、基準クロック信号発生回路７２
と、１／Ｎ分周器７４と、Ｆ／Ｖ（周波数／電圧）変換
器７６とを有している。さらに、加算器７７と、Ｖ／Ｆ
（電圧／周波数）変換器７８と、変調信号発生器７９と
を有している。
【００２２】この構成の動作について説明する。基準ク
ロック信号発生回路７２からの基準クロック信号ＣＬＫ
を１／Ｎ分周器７４で１／Ｎに分周する。この１／Ｎ分
周信号と、Ｆ／Ｖ（周波数／電圧）変換器７０からの検
出信号Ｅ１をＦ／Ｖ変換したＦ／Ｖ信号とを加算する。
さらに、Ｖ／Ｆ（電圧／周波数）変換器７８で基準クロ
ック信号ＣＬＫを生成する。この場合も検出信号Ｅ１
が、例えば、光ディスク原盤２２の回転が遅くなった場
合、Ｖ／Ｆ変換の出力周波数が高くなり、変調信号発生
器７９の動作クロックが早くなるので変調信号Ｍ１が検
出信号Ｅ１に比例して進むようになる。
ロック信号発生回路７２からの基準クロック信号ＣＬＫ
を１／Ｎ分周器７４で１／Ｎに分周する。この１／Ｎ分
周信号と、Ｆ／Ｖ（周波数／電圧）変換器７０からの検
出信号Ｅ１をＦ／Ｖ変換したＦ／Ｖ信号とを加算する。
さらに、Ｖ／Ｆ（電圧／周波数）変換器７８で基準クロ
ック信号ＣＬＫを生成する。この場合も検出信号Ｅ１
が、例えば、光ディスク原盤２２の回転が遅くなった場
合、Ｖ／Ｆ変換の出力周波数が高くなり、変調信号発生
器７９の動作クロックが早くなるので変調信号Ｍ１が検
出信号Ｅ１に比例して進むようになる。
【００２３】なお、上記実施例ではガラス原盤２２のピ
ット情報部にスリット部４７を設けているが、内部でな
く最外周部分にレーザ光Ｌｆを通過又は遮断するスリッ
ト列、例えば、１周１０００〜４０００スリットを設け
ても良い。この場合もレーザ光Ｌｆを、このスリット列
に照射し、その通過光を受光素子４９で受光して、画像
・音声信号の記録情報をピット情報として記録する際の
ピット情報のピッチが常に所定の間隔にできる。この場
合、スリット数が多数配置できるため、回転変動をより
高精度で検出できる。すなわち、より正確にピット情報
を記録できることになる。
ット情報部にスリット部４７を設けているが、内部でな
く最外周部分にレーザ光Ｌｆを通過又は遮断するスリッ
ト列、例えば、１周１０００〜４０００スリットを設け
ても良い。この場合もレーザ光Ｌｆを、このスリット列
に照射し、その通過光を受光素子４９で受光して、画像
・音声信号の記録情報をピット情報として記録する際の
ピット情報のピッチが常に所定の間隔にできる。この場
合、スリット数が多数配置できるため、回転変動をより
高精度で検出できる。すなわち、より正確にピット情報
を記録できることになる。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光ディスク原盤露光装置は、回転変動検出手段で検出
した回転変動量に基づいて光変調手段からのレーザ光の
照射時間を制御しているため、記録するピット長と、ピ
ット間隔を所定長さ及び所定間隔に精度良く配置できる
という効果を有する。また、回転変動信号と分周信号と
の位相ずれ量に応じてレーザ光の照射時間を調整してい
るので、大回転変動にも十分対応できるという効果を有
する。さらに、閉ループのＰＬＬ、すなわち、アナログ
回路によって、レーザ光の照射時間を調整しているの
で、回路構成が容易、かつ、高速変動に対して十分応答
できるという効果を有する。また、スリット部を通じて
光ディスク原盤の回転変動を直接検出しているため、レ
ーザ光の照射時間を精度良く制御できるという効果を有
する。さらに、横移動変動信号に基づいて、光ディスク
原盤が一回転した際のレーザ光の照射開始を制御してピ
ット情報のピッチ間隔を所定間隔に制御を行っているの
で、ピット情報のピッチ間隔を高精度にできるという効
果を有する。
の光ディスク原盤露光装置は、回転変動検出手段で検出
した回転変動量に基づいて光変調手段からのレーザ光の
照射時間を制御しているため、記録するピット長と、ピ
ット間隔を所定長さ及び所定間隔に精度良く配置できる
という効果を有する。また、回転変動信号と分周信号と
の位相ずれ量に応じてレーザ光の照射時間を調整してい
るので、大回転変動にも十分対応できるという効果を有
する。さらに、閉ループのＰＬＬ、すなわち、アナログ
回路によって、レーザ光の照射時間を調整しているの
で、回路構成が容易、かつ、高速変動に対して十分応答
できるという効果を有する。また、スリット部を通じて
光ディスク原盤の回転変動を直接検出しているため、レ
ーザ光の照射時間を精度良く制御できるという効果を有
する。さらに、横移動変動信号に基づいて、光ディスク
原盤が一回転した際のレーザ光の照射開始を制御してピ
ット情報のピッチ間隔を所定間隔に制御を行っているの
で、ピット情報のピッチ間隔を高精度にできるという効
果を有する。
【図１】本発明の光ディスク原盤露光装置の実施例にお
ける構成を示すブロック図である。
ける構成を示すブロック図である。
【図２】実施例における光ディスク原盤のスリット部を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】図１中の変調信号発生装置の詳細な構成を示す
ブロック図である。
ブロック図である。
【図４】図１中の変調信号発生装置の詳細な他の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図５】図１中の変調信号発生装置の詳細な、さらに他
の構成を示すブロック図である。
の構成を示すブロック図である。
１２ レーザ光源 １４ａ，１４ｂ，１４ｃ ミラー １６ ＡＯＭ １８ 変調信号発生装置 ２０ 対物レンズ ２２ 光ディスク原盤 ３０ テーブル ３２ モータ ３４ 回転モータ制御装置 ３６ エンコーダ ３８ 横移動台 ４０ ボールネジ ４２ モータ ４４ 横移動モータ制御装置 ４５ エンコーダ ４６ レーザ光源 ４７ スリット部 ４８ ミラー ４９ 受光素子 ５０ 基準クロック信号発生回路 ５２ 位相比較器 ５４ Ｕ／Ｄカウンタ ５６ 変調信号発生回路 ５８ 遅延回路 ５９ 信号セレクト回路 ６０ 位相比較器 ６２ ＬＰＦ ６４ ＶＣＯ ６５ １／Ｎ分周器 ６６ 変調信号発生器 ７０，７６ Ｆ／Ｖ変換器 ７２ 基準クロック信号発生回路 ７４ １／Ｎ分周器 ７７ 加算器 ７８ Ｖ／Ｆ変換器 ７９ 変調信号発生器
Claims (7)
- 【請求項１】 レーザ光源と、上記レーザ光源から出射
されたレーザ光に光変調を施す光変調手段と、光ディス
ク原盤を回転させる回転手段と、上記光変調手段からの
レーザ光を上記光ディスク原盤に照射し、表面にピット
情報を記録するための対物レンズと、上記光ディスク原
盤の回転変動を検出した回転変動信号を出力する回転変
動検出手段と、上記回転変動検出手段で検出した回転変
動量に基づいて上記光変調手段からのレーザ光の照射時
間を制御して上記光ディスク原盤に記録する少なくとも
ピット長と、ピット間隔を所定長さ及び所定間隔に配置
する制御手段とを備える光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 請求項１における制御手段を、基準クロ
ック信号を発生させる基準クロック信号発生手段と、上
記基準クロック信号発生手段からの基準クロック信号を
分周する分周手段と、回転変動検出手段からの回転変動
信号と上記分周手段からの分周信号との位相比較を行っ
た位相ずれ量に応じて光変調手段からのレーザ光の照射
時間を調整するレーザ光照射調整手段とで構成すること
を特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項３】 請求項１における制御手段を、位相比較
器、ローパスフィルタ、電圧制御発振器、分周手段とか
らなる閉ループのＰＬＬと、光変調手段からのレーザ光
の照射時間を調整するレーザ光照射調整手段とで構成
し、回転変動検出手段で検出した回転変動量の信号を分
周信号とともに上記位相比較器で位相比較を行い、比較
した位相差に相当する電圧をローパスフィルタを通じて
得るとともに、この電圧で電圧制御発振器の発振周波数
を制御し、この制御した発振周波数でレーザ光照射調整
手段を通じて光変調手段からのレーザ光の照射時間を調
整することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】 請求項１における制御手段が、基準クロ
ック信号発生手段と、この基準クロック発生手段からの
基準クロック信号を周波数／電圧変換する第１の周波数
／電圧変換手段と、回転変動検出手段からの回転変動信
号を周波数／電圧変換する第２の周波数／電圧変換手段
と、第１及び第２の周波数／電圧変換手段からの電圧を
加算する加算手段と、上記加算手段からの電圧に対応す
る周波数を生成する電圧／周波数変換手段と、上記電圧
／周波数変換手段からの周波数で光変調手段からのレー
ザ光の照射時間を調整するレーザ光照射調整手段とで構
成されることを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項５】 請求項１における回転変動検出手段を、
光ディスク原盤に設けたレーザ光を通過又は非通過させ
るスリット部にレーザ光を照射するレーザ光照射手段
と、光ディスク原盤のスリットを通過するレーザ光を受
光する受光手段とで構成し、受光手段からのレーザ光を
受光した際に出力するパルス数を上記回転変動信号とし
て出力することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項６】 レーザ光源と、上記レーザ光源から出射
されたレーザ光に光変調を施す光変調手段と、光ディス
ク原盤を回転させる回転手段と、上記光ディスク原盤と
回転手段とを上記光ディスク原盤の回転軸方向線で横移
動させる横移動手段と、上記光変調手段からのレーザ光
を集光して上記光ディスク原盤に照射して表面にピット
情報を記録するための対物レンズと、上記光ディスク原
盤の回転軸方向に沿った横移動変動を検出した横移動変
動信号を出力する横方向移動変動検出手段と、上記横移
動変動信号に基づいて、光ディスク原盤が一回転した際
の上記光変調手段からのレーザ光の照射開始を制御して
上記光ディスク原盤に記録するピット情報のピッチ間隔
を所定間隔に配置するための制御手段とを備える光ディ
スク原盤露光装置。 - 【請求項７】 請求項６の横方向移動変動検出手段は移
動量をパルス信号で検出することを特徴とする光ディス
ク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252117A JPH0676293A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252117A JPH0676293A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676293A true JPH0676293A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=17232714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4252117A Pending JPH0676293A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676293A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2007111261A1 (ja) * | 2006-03-27 | 2009-08-13 | パイオニア株式会社 | 電子ビーム記録装置及びビーム調整方法 |
| JPWO2007116741A1 (ja) * | 2006-03-28 | 2009-08-20 | パイオニア株式会社 | 記録システム、記録装置及び記録制御信号生成装置 |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP4252117A patent/JPH0676293A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2007111261A1 (ja) * | 2006-03-27 | 2009-08-13 | パイオニア株式会社 | 電子ビーム記録装置及びビーム調整方法 |
| JPWO2007116741A1 (ja) * | 2006-03-28 | 2009-08-20 | パイオニア株式会社 | 記録システム、記録装置及び記録制御信号生成装置 |
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