JP2003242924A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents

電子ビーム描画装置

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JP2003242924A
JP2003242924A JP2002044104A JP2002044104A JP2003242924A JP 2003242924 A JP2003242924 A JP 2003242924A JP 2002044104 A JP2002044104 A JP 2002044104A JP 2002044104 A JP2002044104 A JP 2002044104A JP 2003242924 A JP2003242924 A JP 2003242924A
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electron beam
apertures
electron
drawing apparatus
electron gun
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JP2002044104A
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Nobuki Yamaoka
信樹 山岡
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Pioneer Electronic Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 分解能を高め、かつ電子銃内のアパーチャに
より電子ビームが意図されない遮蔽作用を受けることを
確実に防止する。 【解決手段】 試料のディスク基板１５には、電圧源６
０から引き込まれた第１の所定の負電圧を印加し、試料
を載置するターンテーブル１６には、第１の所定の負電
圧よりも絶対値の大きい第２の所定の負電圧が印加し
て、高速の電子ビームの電子線速度を減じ、電子ビーム
が効率良く試料に吸収されるようにして分解能を高め
る。複数のアパーチャ４４ａ，４４ｂは、電子銃４１か
ら試料までの電子銃内の電子ビームの経路に、位置の調
整が可能であるように設置される。電流計７１，７２
は、アパーチャ４４ａ，４４ｂに電子ビームが接触する
ことにより生じる電流を検出する。これにより、アパー
チャ４４ａ，４４ｂが好ましい位置に設置されているか
否かを判定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置に関し、特に、音声データや画像データをデジタルデ
ータとして記録するための記録媒体である光ディスク等
のディスクに、電子ビームを照射して、ディスク原盤を
製造するために使用される電子ビーム描画装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、音声データや画像データをデジタ
ルデータとして記録するための記録媒体として、様々な
技術の開発がなされている。このような技術開発の一翼
を担うものとして、ＤＶＤ(Digital Versatile Disc)等
の光ディスクの開発がなされ、近年では、直径が１２
〔ｃｍ〕の光ディスクの記憶容量を３０〔ＧＢ(Giga-By
te)〕に高密度化する研究開発が進められている。
【０００３】磁気記録方式のハードディスク等のディス
ク基板の製造においても、同様に電子ビームが使用さ
れ、高密度化のための研究開発がなされている。
【０００４】このような高密度化を達成するためには、
従来の可視域や紫外域のレーザ光に代えて電子ビームを
用いることで、記録分解能が高められている。この場合
は、例えば、光ディスクの製造の場合、基板表面上に電
子線用のレジストを塗布した後、真空雰囲気中におい
て、この基板表面に電子ビームを照射し、その後、現像
処理、パターニング、及びレジスト除去等の工程を経
て、基板表面上に微細な凹凸パターンを得て、データの
記録を行っている。
【０００５】また、磁気記録方式のハードディスク等の
ディスク基板の製造においても、同様に電子ビームを用
いて微細パターンを形成する工程が実施される。
【０００６】このような電子ビーム露光の手段により、
高い分解能を得るためには、基板表面に照射する電子ビ
ームをできるだけ細く収束させる必要があるが、このよ
うに基板表面に照射する電子ビームをできるだけ細く収
束させるように制御すると、今度は、電子ビームの速度
が不必要に高速になってしまい、照射された電子ビーム
は、電子線用レジスト層で完全には吸収されずに、一部
が通り抜けてしまうために露光量が減少し、その結果と
して、記録分解能を低下させてしまうといった問題点が
生じる。
【０００７】以下では、前述の電子ビームの高速度化に
より生じる問題点を解決するための技術を採用した従来
の電子ビーム描画装置を説明する。図３は、従来の電子
ビーム描画装置の構成を示すブロック図である。
【０００８】図３に示す従来の電子ビーム描画装置は、
主要な要素として、ディスク基板９１５を真空雰囲気中
で加工するための真空チャンバ９１１と、ディスク基板
９１５の主面の高さを検出するための高さ検出部９２４
と、全体を制御するためのＣＰＵ９２５と、真空チャン
バ９１１内を真空の雰囲気に維持する真空ポンプ９２８
と、ディスク基板９１５のスピンドル制御を行う駆動制
御部９３０と、ディスク基板９１５の表面に照射する電
子ビームを作り出す電子ビーム射出ヘッド部９４０と、
後述の電子銃９４１に電力を供給する電子銃電源９５１
と、後述するブランキング駆動部９５４に動作信号を送
出する記録制御部９５２と、電子ビーム射出ヘッド部９
４０内の要素を制御する駆動部９５７と、電子ビームの
電子線速度を減速させるための電圧源９６０とを具備し
ている。
【０００９】また、真空チャンバ９１１は、ディスク基
板９１５の主面の高さを検出するための光源９２２及び
光検出器９２３と、ディスク基板９１５を搭載するため
のターンテーブル９１６と、ターンテーブル９１６を回
転させるエアースピンドルモータ９１７と、ターンテー
ブル９１６及びエアースピンドルモータ９１７を水平移
動させる送りステージ９１８とを具備している。
【００１０】また、電子ビーム射出ヘッド部９４０は、
電子ビームを照射する電子銃９４１と、電子ビームを絞
り込む収束レンズ９４２と、電子銃のオン・オフ制御を
行うブランキング電極９４３、及びアパーチャ９４４
ａ，９４４ｂと、ディスク基板９１５表面上に照射され
る電子ビームスポットの位置を制御するためのビーム偏
光電極９４５と、ディスク基板９１５表面上に照射され
る電子ビームのフォーカスを調整するためのフォーカス
調整レンズ９４６と、電子ビームを電子ビームスポット
に絞り込むための対物レンズ９４７と、これらの要素を
格納するための電子銃筒９４８と、電子ビームを電子銃
筒９４８から放出する電子ビーム照射口９４９とを具備
している。
【００１１】さらに、駆動部９５７は、ブランキング電
極９４３に電子銃のオン・オフ制御を行わせるための印
加電圧を制御するブランキング駆動部９５４と、ビーム
偏光電極９４５に電子ビームを偏向させるための印加電
圧を制御する偏向駆動部９５５と、フォーカス調整レン
ズ９４６に電子ビームスポットのフォーカスを調整させ
るための印加電圧を制御するフォーカス駆動部９５６と
を具備している。
【００１２】図４は、図３に示す従来の電子ビーム描画
装置のターンテーブルと送りステージの部分の構成を示
す模式図である。
【００１３】以下、図３、４に示す従来の電子ビーム描
画装置の特徴的な動作を説明する。ディスク基板９１５
の表面上において、電子ビーム露光を行う際、従来どお
りにディスク基板９１５の上部に形成された電子線用レ
ジスト層に電子ビームを高速で入射させると、前述のと
おり、照射された電子ビームが電子線用レジスト層を通
り抜けてしまって、ディスク基板９１５の表面層におけ
る露光量が減少し、分解能が低下してしまう。
【００１４】そこで、図３に示す従来の電子ビーム描画
装置では、ディスク基板９１５に、電子ビームの電子線
速度を減速させることができる大きさの、「リターディ
ング電圧」と呼称される負電圧（−ＶR）を電圧源９６
０から得て印加している。
【００１５】また、セラミック基板等で形成されたター
ンテーブル９１６には、図４に示すように静電分極を生
起させるための導体から成るチャッキング電極９２１が
設けられており、このチャッキング電極９２１にはコネ
クタ（図示は省略）を介して電圧源９６０から得た直流
の負電圧（−ＶR−ＶC）を、ターンテーブル９１６の回
転時においても常時、印加している（なお、−ＶCは
「チャッキング電圧」と呼称される）。これにより、セ
ラミック基板等で形成されたターンテーブル９１６に静
電分極を生起させ、ディスク基板９１５における電子線
ビームの吸着力を増加させている。
【００１６】このリターディング電圧とチャッキング電
圧の作用により、ディスク基板９１５の表面層における
露光量が減少し、分解能が低下してしまうといった従来
の一般的な電子ビーム描画装置の欠陥を除去している。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述のとお
り、従来の電子ビーム描画装置は、分解能を上げるため
に電子ビームをできるだけ細く収束させるように制御す
ると、今度は、電子ビームの速度が不必要に高速になっ
てしまって、照射された電子ビームは、電子線用レジス
ト層で完全には吸収されずに、一部が通り抜けてしま
う。そのため露光量が減少することになり、意図に反し
て記録分解能を低下させてしまうといった問題点を有し
ている。
【００１８】この問題点を解決するために、前述の従来
技術のように、ディスク基板９１５にリターディング電
圧と呼称される負電圧を印加したり、ターンテーブル９
１６に設けられたチャッキング電極にリターディング電
圧より絶対値の大きい負電圧を印加したりする方法は、
分解能の向上に大きく寄与する方法ではあったが、それ
でも、電子銃内を通過する電子ビームが、アパーチャの
取り付け精度の不良に起因して、途中で遮られてしまう
といった問題点が残されていた。
【００１９】すなわち、一般に、電子ビーム描画装置で
は、電子ビームを射出する電子ビーム射出ヘッド部の電
子銃筒内に、電子銃、収束レンズ、ブランキング電極、
アパーチャ、偏向電極、対物レンズなどが配置されてい
る。このアパーチャとは、電子ビームのスポットの形状
や面積を制御するためなどに使用される構成要素であ
り、電子銃筒内の複数箇所に配置されている。この複数
のアパーチャの各々の中心軸は、電子ビームの中心軸と
一致するように調整して配置される必要があるが、電子
ビームが各アパーチャを通過して、ターンテーブル上に
載置されたディスク基板の被露光面に到達するまでの経
路で、取り付け精度の悪いアパーチャが存在すると、そ
のアパーチャの作用によって、電子ビームの一部または
全てが遮られ（撥ねつけられ）て、被露光面におけるビ
ームスポットの形状が変形してしまったり、最悪の場合
は、電子ビームが被露光面に到達しなかったりする。
【００２０】また、前述の複数のアパーチャのうちか
ら、この遮蔽作用を及ぼす問題のアパーチャを特定する
ことができないといった問題点を有していた。
【００２１】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
もので、その目的は、分解能を高め、かつ電子ビーム出
射ヘッド部のアパーチャにより電子ビームが意図されな
い遮蔽作用を受けることを確実に防止することができる
電子ビーム描画装置を提供することである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電子ビーム
描画装置は、請求項１に記載したように、電子銃筒内の
電子銃から射出された電子ビームを試料表面に照射する
ことにより該試料表面に微小な凹凸の模様を描画する電
子ビーム描画装置であって、前記電子銃から前記試料ま
での電子ビームの経路に複数のアパーチャが配置された
電子ビーム出射ヘッド部を具備し、前記複数のアパーチ
ャ各々を導電性材料で構成すると共に、絶縁体を介して
前記電子ビーム出射ヘッド部に位置調整可能に保持する
調整機構と、前記複数のアパーチャの各々について、接
地との間に流れる電流の電流量を測定する電流量測定手
段と、を具備したことを特徴とする。これにより、分解
能を高め、かつ電子ビーム出射ヘッド部のアパーチャの
設置位置を、電子ビームが意図されない遮蔽作用を受け
ることがないように調整することができる電子ビーム描
画装置を実現できる。
【００２３】また、本発明に係る電子ビーム描画装置
は、請求項２に記載したように、前記調整機構は、前記
複数のアパーチャを前記電子銃筒の水平切断面内の所定
の直角座標のＸ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ自在に調整
可能とすることを特徴とする。これにより、電子銃内の
アパーチャの設置位置を前記電子銃筒の水平切断面内に
おいて自在に調整することができる。
【００２４】また、本発明に係る電子ビーム描画装置
は、請求項３に記載したように、前記電流量測定手段
が、前記アパーチャに対応した複数の電流計を使用する
ことを特徴とする。これにより、前記複数のアパーチャ
の各々について、前記電子銃筒内で好ましい位置に設置
されているか否かを同時点で判定できるようにし、電子
ビームが意図されない遮蔽作用を受けることがないよう
に素早く調整することができる。
【００２５】また、本発明に係る電子ビーム描画装置
は、請求項４に記載したように、前記電流量測定手段
が、同一の電流計を前記アパーチャ毎に切り換えて使用
することを特徴とする。これにより、前記複数のアパー
チャの各々について、前記電子銃筒内で好ましい位置に
設置されているか否かを順次に判定できるようにし、電
子ビームが意図されない遮蔽作用を受けることがないよ
うに確実に調整することができ、コストを低減できる。
【００２６】また、本発明に係る電子ビーム描画装置
は、請求項５に記載したように、前記試料が、ディスク
基板であることを特徴とする。これにより、ディスク基
板へのディジタルデータの高密度記録が可能な電子ビー
ム描画装置を実現できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電子ビーム描
画装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム描画装置
の構成を示すブロック図である。
【００２８】電子ビーム描画装置は、図１に示すよう
に、主要な要素として、ディスク基板１５を真空雰囲気
中で加工するための真空チャンバ１１と、ディスク基板
１５の主面の高さを検出するための高さ検出部２４と、
全体を制御するためのＣＰＵ２５と、真空チャンバ１１
内を真空の雰囲気に維持する真空ポンプ２８と、ディス
ク基板１５のスピンドル制御を行う駆動制御部３０と、
ディスク基板１５の表面に照射する電子ビームを作り出
す電子ビーム射出ヘッド部４０と、後述の電子銃４１に
電力を供給する電子銃電源５１と、後述するブランキン
グ駆動部５４に動作信号を送出する記録制御部５２と、
電子ビーム射出ヘッド部４０内の要素を制御する駆動部
５７と、電子ビームの電子線速度を減速させるための電
圧源６０と、後述のアパーチャ４４ａに落ちる電子ビー
ム成分の大きさを電流値として検出するための電流計７
１と、後述のアパーチャ４４ｂに落ちる電子ビーム成分
の大きさを電流値として検出するための電流計７２とを
具備している。
【００２９】また、真空チャンバ１１は、ディスク基板
１５の主面の高さを検出するための光源２２及び光検出
器２３と、ディスク基板１５を搭載するためのターンテ
ーブル１６と、ターンテーブル１６を回転させるエアー
スピンドルモータ１７と、ターンテーブル１６及びエア
ースピンドルモータ１７を水平移動させる送りステージ
１８と、並進駆動装置である送りモータ１９とを具備し
ている。
【００３０】また、電子ビーム射出ヘッド部４０は、電
子ビームを照射する電子銃４１と、電子ビームを収束さ
せる収束レンズ４２と、電子銃のオン・オフ制御を行う
ブランキング電極４３、及びアパーチャ４４ａ，４４ｂ
と、ディスク基板１５表面上に照射される電子ビームス
ポットの位置を制御するためのビーム偏光電極４５と、
ディスク基板１５表面上に照射される電子ビームのフォ
ーカスを調整するためのフォーカス調整レンズ４６と、
電子ビームを電子ビームスポットに絞り込むための対物
レンズ４７と、これらの要素を格納するための電子銃筒
４８と、電子ビームを電子銃筒４８から放出する電子ビ
ーム照射口４９とを具備している。
【００３１】さらに、駆動部５７は、ブランキング電極
４３に電子銃のオン・オフ制御を行わせるための印加電
圧を制御するブランキング駆動部５４と、ビーム偏光電
極４５に電子ビームを偏向させるための印加電圧を制御
する偏向駆動部５５と、フォーカス調整レンズ４６に電
子ビームスポットのフォーカスを調整させるための印加
電圧を制御するフォーカス駆動部５６とを具備してい
る。
【００３２】ここで、アパーチャ４４ａ，４４ｂは、円
形の開口部を有する金属板で構成され、絶縁体６１ａ，
６１ｂを介して、かつ電子銃筒４８の水平方向切り口
（水平断面）内の所定の直角座標において、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向に自在に移動可能にする調整機構６２ａ，６２
ｂに保持されるものとする。
【００３３】図２は、本発明の実施の形態に係る電子ビ
ーム描画装置のターンテーブルと送りステージの部分の
構成を示す模式図である。以下、図１、２に示す電子ビ
ーム描画装置について、まず、前述の従来の電子ビーム
描画装置と同じ構成要素についての動作を説明する。
【００３４】まず、全体を制御するためのＣＰＵ２５
は、装置内の主要な構成要素を制御する。ディスク基板
１５を真空雰囲気中で加工するための真空チャンバ１１
内では、ターンテーブル１６の上部に試料であるディス
ク基板１５が載置される。送りステージ１８は、ターン
テーブル１６及びエアースピンドルモータ１７を水平方
向に移動させることができる。このエアースピンドルモ
ータ１７は、ターンテーブル１６を回転させる。
【００３５】真空チャンバ１１の周辺では、高さ検出部
２４が、光検出器２３の受光信号に基づいてディスク基
板１５の主面の高さを検出する。この光検出器２３は、
光源２２からの光がディスク基板１５に反射された反射
光を検知する。
【００３６】また、真空ポンプ２８は、真空チャンバ１
１内を真空の雰囲気にして維持する。さらに、送りモー
タ１９は、送りステージ１８を水平方向に移動させるた
めの並進駆動装置として機能する。
【００３７】駆動制御部３０は、ＣＰＵ２５からの指令
に基づいてディスク基板１５のスピンドル制御を行う。
電圧源６０は、電子ビームの電子線速度を減速させるた
めにディスク基板１５及びターンテーブル１６に印加さ
れる電圧を供給する（この部分についての詳細は後述す
る）。
【００３８】次に、ディスク基板１５の表面に照射する
電子ビームを作り出す電子ビーム射出ヘッド部４０で
は、電子銃４１が電子銃電源５１から供給される電力を
使用して電子ビームを電子銃筒４８の中心部に射出す
る。
【００３９】収束レンズ４２は、電子銃４１から射出さ
れた電子ビームを収束させてアパーチャ４４ａ，４４ｂ
へと導く。ブランキング電極４３は、記録制御部５２の
制御に基づいてブランキング駆動部５４から引き込まれ
た電圧が、電極間に印加される否かに応じて電子銃のオ
ン・オフ制御を行う。
【００４０】より具体的には、ブランキング電極４３の
電極間に電圧が印加されない場合は、電子銃４１から射
出された電子ビームは収束レンズ４２を介してアパーチ
ャ４４ａ，４４ｂへと導かれオン状態が具現する。
【００４１】しかし、ブランキング電極４３の電極間に
電圧が印加される場合は、この電極間を通過する電子ビ
ームが大きく偏向されて、アパーチャ４４ｂの絞り孔に
収束されない状態となり、その結果、電子ビームがアパ
ーチャ４４ｂを通過することが阻止されてオフ状態が具
現する。
【００４２】ビーム偏光電極４５は、偏向駆動部５５に
より制御され、かつ引き込まれて電極間に印加される電
圧に基づいてディスク基板１５表面上に照射される電子
ビームスポットの位置を制御する。
【００４３】また、フォーカス調整レンズ４６は、フォ
ーカス駆動部５６により制御され、かつ引き込まれる印
加電圧に基づいて電子ビームスポットのフォーカスを調
整する。最後に、電子ビーム照射口４９が、前述の制御
を受けた電子ビームを電子銃筒４８から放出する。
【００４４】駆動部５７内のブランキング駆動部５４
は、記録制御部５２の制御に基づき、ブランキング電極
４３に電子銃のオン・オフ制御を行わせるための電圧を
印加する。また、偏向駆動部５５は、ビーム偏光電極４
５に電子ビームを偏向させるために印加される電圧を制
御する。
【００４５】さらに、フォーカス駆動部５６は、フォー
カス調整レンズ４６に電子ビームスポットのフォーカス
を調整させるために印加される電圧を制御する。
【００４６】記録制御部５２は、ブランキング駆動部５
４に動作信号を送出し、ブランキング駆動部５４が出力
する印加電圧を制御する。
【００４７】電流計７１は、アパーチャ４４ａに落ちる
電子ビーム成分の大きさを電流値として検出し、電流計
７２は、アパーチャ４４ｂに落ちる電子ビーム成分の大
きさを電流値として検出する（この部分についての詳細
は後述する）。
【００４８】なお、電子銃４１は、電子銃電源５１から
の電力を使用して電子ビームを射出し、この電子ビーム
は、電子銃筒４８内の中心部を通ってディスク基板１５
の上部に形成された電子線用レジスト層に入射される
が、ディスク基板１５の表面上において、電子ビーム露
光を行う際、従来どおりディスク基板１５の上部に形成
された電子線用レジスト層に電子ビームを高速で入射さ
せると、前述のとおり、照射された電子ビームが、電子
線用レジスト層を通り抜けてしまって、ディスク基板１
５の表面層における露光量が減少し、分解能が低下して
しまう。
【００４９】そこで、ディスク基板１５に、電子ビーム
の電子線速度を減速させることができる大きさのリター
ディング電圧（−ＶR）を電圧源６０から得て印加す
る。
【００５０】また、セラミック基板等で形成されたター
ンテーブル１６には、図２に示すように静電分極を生起
させるための導体から成るチャッキング電極２１が設け
られており、このチャッキング電極２１にはコネクタ
（図示は省略）を介して電圧源６０から得た直流の負電
圧（−ＶR−ＶC）を、ターンテーブル１６の回転時にお
いても常時印加する（なお、−ＶCは前述のとおり「チ
ャッキング電圧」と呼称される）。これにより、セラミ
ック基板等で形成されたターンテーブル１６に静電分極
を生起させ、ディスク基板１５における電子線ビームの
吸着力を増加させることができる。
【００５１】このリターディング電圧とチャッキング電
圧の作用により、ディスク基板１５の表面層における露
光量が減少し、分解能が低下してしまうといった事態を
抑止している。
【００５２】以上に説明した機能は、前述の従来技術の
機能と同じである。以下では、本発明に特徴的な機能を
説明する。
【００５３】電子ビーム射出ヘッド部４０の電子銃筒４
８に設置される複数のアパーチャ４４ａ，４４ｂは、円
形の開口部を有する金属板で構成されるものとし、絶縁
体６１ａ，６１ｂを介して電子ビーム射出ヘッド部４０
の電子銃筒４８に設置位置の調整が可能であるように保
持される。
【００５４】すなわち、アパーチャ４４ａ，４４ｂは、
前述のとおり、円形の開口部を有する金属板で構成さ
れ、絶縁体６１ａ，６１ｂを介して、電子銃筒４８の水
平方向切り口（水平切断面）内の所定の直角座標におい
て、Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ自在に移動可能にす
る調整機構６２ａ，６２ｂを介して保持されているの
で、前述の設置位置の調整は、このＸ軸方向とＹ軸方向
への移動により行う。すなわち、この移動により、原理
的にはアパーチャ４４ａ，４４ｂの中心軸が、電子ビー
ムの中心と一致するように調整することができる。
【００５５】しかし、電子銃筒４８は透明体ではないの
で、調整時の様子を外部から観察してアパーチャ４４
ａ，４４ｂの中心軸の設置位置を確認することはできな
い。
【００５６】そこで、アパーチャ４４ａ，４４ｂと接地
との間に（電線により）それぞれ接続されている電流計
７１，７２に電流が流れるか否か、及び、流れる場合は
その電流量で、電子ビームの中心とアパーチャの中心と
の一致の程度を判定する。アパーチャ４４ａ，４４ｂの
最も好ましい設置位置は、電流計７１，７２が電流量０
を検出する位置である。
【００５７】電流計７１，７２の検出する電流量が０で
はない場合は、電子ビームとアパーチャとの好ましくな
い接触が生じていると判定し、アパーチャ４４ａ，４４
ｂの設置位置の調整を、電流計７１，７２が電流量０を
検出するまで続行する。
【００５８】なお、この調整は、ターンテーブル１６上
にダミーの試料（ディスク基板）を載置して本工程の前
に実施することができる。
【００５９】本実施の形態では、アバーチャの個数をア
パーチャ４４ａとアパーチャ４４ｂとの２個としたが、
一般に本発明では、任意の複数個のアパーチャを電子銃
筒４８内に設置することが可能である。
【００６０】また、本実施の形態では、電流計をアパー
チャ４４ａとアパーチャ４４ｂに対応して設置し、それ
故、２個の電流計（電流計７１，７２）を使用したが、
一般に本発明では、同一の電流計を前記アパーチャ毎に
切り換えて使用することが可能である。
【００６１】
【発明の効果】以上詳記したように、請求項１に記載し
た発明によれば、電子銃筒内の電子銃から射出された電
子ビームを試料表面に照射することにより該試料表面に
微小な凹凸の模様を描画する電子ビーム描画装置であっ
て、前記電子銃から前記試料までの電子ビームの経路に
複数のアパーチャが配置された電子ビーム出射ヘッド部
を具備し、前記複数のアパーチャ各々を導電性材料で構
成すると共に、絶縁体を介して前記電子ビーム出射ヘッ
ド部に位置調整可能に保持する調整機構と、前記複数の
アパーチャの各々について、接地との間に流れる電流の
電流量を測定する電流量測定手段とを具備したことによ
り、分解能を高め、かつ電子銃筒内のアパーチャの設置
位置を、電子ビームが意図されない遮蔽作用を受けるこ
とがないように調整することができる電子ビーム描画装
置を提供することができる。
【００６２】さらに、請求項２に記載した発明によれ
ば、前記調整機構は、前記複数のアパーチャを前記電子
銃筒の水平切断面内の所定の直角座標のＸ軸方向とＹ軸
方向にそれぞれ自在に調整可能とすることにより、電子
銃内のアパーチャの設置位置を前記電子銃筒の水平切断
面内において自在に調整することができる電子ビーム描
画装置を提供することができる。
【００６３】また、請求項３に記載した発明によれば、
前記電流量測定手段は、前記アパーチャに対応した複数
の電流計を使用する構成としたので、前記複数のアパー
チャの各々について、前記電子銃筒内で好ましい位置に
設置されているか否かを同時点で判定できるようにし、
電子ビームが意図されない遮蔽作用を受けることがない
ように素早く調整することができる電子ビーム描画装置
を提供することができる。
【００６４】また、請求項４に記載した発明によれば、
前記電流量測定手段は、同一の電流計を前記アパーチャ
毎に切り換えて使用する構成としたので、前記複数のア
パーチャの各々について、前記電子銃筒内で好ましい位
置に設置されているか否かを順次に判定できるように
し、電子ビームが意図されない遮蔽作用を受けることが
ないように確実に調整することができるコストの安い電
子ビーム描画装置を提供することができる。
【００６５】さらに、請求項５に記載した発明によれ
ば、前記試料が、ディスク基板であることを可能とする
構成としたので、ディスク基板へのディジタルデータの
高密度記録が可能な電子ビーム描画装置を提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る電子ビーム描画装置
の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る電子ビーム描画装置
のターンテーブルと送りステージの部分の構成を示す模
式図である。
【図３】従来の電子ビーム描画装置の構成を示すブロッ
ク図である。
【図４】図３に示す従来の電子ビーム描画装置のターン
テーブルと送りステージの部分の構成を示す模式図であ
る。
【符号の説明】
１１ 真空チャンバ １５ ディスク基板 １６ ターンテーブル １７ エアースピンドルモータ １８ 送りステージ １９ 送りモータ ２１ チャッキング電極 ２２ 光源 ２３ 光検出器 ２４ 高さ検出部 ２５ ＣＰＵ ２８ 真空ポンプ ３０ 駆動制御部 ４０ 電子ビーム射出ヘッド部 ４１ 電子銃 ４２ 収束レンズ ４３ ブランキング電極 ４４ａ，４４ｂ アパーチャ ４５ ビーム偏光電極 ４６ フォーカス調整レンズ ４７ 対物レンズ ４８ 電子銃筒 ４９ 電子ビーム照射口 ５１ 電子銃電源 ５２ 記録制御部 ５４ ブランキング駆動部 ５５ 偏向駆動部 ５６ フォーカス駆動部 ５７ 駆動部 ６１ａ，６１ｂ 絶縁体 ６２ａ，６２ｂ 調整機構 ７１，７２ 電流計 −ＶR リターディング電圧 −ＶC チャッキング電圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｒ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電子銃筒内の電子銃から射出された電子
    ビームを試料表面に照射することにより該試料表面に微
    小な凹凸の模様を描画する電子ビーム描画装置であっ
    て、 前記電子銃から前記試料までの電子ビームの経路に複数
    のアパーチャが配置された電子ビーム出射ヘッド部を具
    備し、 前記複数のアパーチャ各々を導電性材料で構成すると共
    に、絶縁体を介して前記電子ビーム出射ヘッド部に位置
    調整可能に保持する調整機構と、前記複数のアパーチャ
    の各々について、接地との間に流れる電流の電流量を測
    定する電流量測定手段と、を具備したことを特徴とする
    電子ビーム描画装置。
  2. 【請求項２】 前記調整機構は、前記複数のアパーチャ
    を前記電子銃筒の水平切断面内の所定の直角座標のＸ軸
    方向とＹ軸方向にそれぞれ自在に調整可能とすることを
    特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置。
  3. 【請求項３】 前記電流量測定手段は、前記アパーチャ
    に対応した複数の電流計を使用することを特徴とする請
    求項１または２に記載の電子ビーム描画装置。
  4. 【請求項４】 前記電流量測定手段は、同一の電流計を
    前記アパーチャ毎に切り換えて使用することを特徴とす
    る請求項１または２に記載の電子ビーム描画装置。
  5. 【請求項５】 前記試料が、ディスク基板であることを
    特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子ビ
    ーム描画装置。
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